JP2001195897A - 半導体記憶装置 - Google Patents

半導体記憶装置

Info

Publication number
JP2001195897A
JP2001195897A JP2000007912A JP2000007912A JP2001195897A JP 2001195897 A JP2001195897 A JP 2001195897A JP 2000007912 A JP2000007912 A JP 2000007912A JP 2000007912 A JP2000007912 A JP 2000007912A JP 2001195897 A JP2001195897 A JP 2001195897A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
signal
refresh
circuit
output
test mode
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2000007912A
Other languages
English (en)
Inventor
Yayoi Nakamura
弥生 中村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP2000007912A priority Critical patent/JP2001195897A/ja
Priority to US09/697,155 priority patent/US6349066B1/en
Priority to KR10-2000-0081896A priority patent/KR100397901B1/ko
Publication of JP2001195897A publication Critical patent/JP2001195897A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C11/00Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
    • G11C11/21Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements
    • G11C11/34Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices
    • G11C11/40Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors
    • G11C11/401Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors forming cells needing refreshing or charge regeneration, i.e. dynamic cells
    • G11C11/402Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors forming cells needing refreshing or charge regeneration, i.e. dynamic cells with charge regeneration individual to each memory cell, i.e. internal refresh
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C11/00Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
    • G11C11/21Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements
    • G11C11/34Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices
    • G11C11/40Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors
    • G11C11/401Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors forming cells needing refreshing or charge regeneration, i.e. dynamic cells
    • G11C11/406Management or control of the refreshing or charge-regeneration cycles

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Dram (AREA)
  • For Increasing The Reliability Of Semiconductor Memories (AREA)
  • Read Only Memory (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 リフレッシュを起動する内部信号の波形を検
出し、該波形をモニタすることができる半導体記憶装置
を提供する。 【解決手段】 DRAM(半導体記憶装置)の出力回路
6には、実質的にNANDゲートNA1とANDゲート
A1とPch−Tr2とNch−Tr4とで構成され、
TMSELF信号(テストモード信号)及びint.ZRA
S信号(リフレッシュを起動する内部信号)が入力され
るリフレッシュモニタ回路が付設されている。このリフ
レッシュモニタ回路は、セルフリフレッシュ時にTMS
ELF信号がHになったときに、出力回路6の出力ノー
ドDQに、int.ZRAS信号と同一波形のモニタ信号を
出力するようになっており、このモニタ信号に基づいて
int.ZRAS信号をモニタすることができるようになっ
ている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、リフレッシュ回路
を備えたDRAM等の半導体記憶装置に関するものであ
って、とくに内部アドレスカウンタを自動的にカウント
アップしつつメモリセルを自動的にリフレッシュするセ
ルフリフレッシュ回路を備えた半導体記憶装置に関する
ものである。
【0002】
【従来の技術】半導体記憶装置の1つであるDRAM
(ダイナミック・ランダム・アクセス・メモリ;Dynami
c Random Access Memory)は、各メモリセルの占有面積
が小さく高集積化に適していることから、パーソナルコ
ンピュータ等の各種電子機器のメモリデバイスとして広
く用いられている。ただ、DRAMでは、各メモリセル
内に蓄積されている電荷が時間の経過に伴って減衰する
ので、メモリセルにデータを記憶した後そのまま放置す
ると、ついには記憶データが消失してしまうことにな
る。
【0003】このため、DRAMでは、このような記憶
データの消失を防止するため、適宜メモリセルに電荷を
再注入するといったリフレッシュ(再書き込み)を行う
ようにしている。そして、かかるリフレッシュとして
は、内部でリフレッシュ要求信号を発生させる一方、内
部アドレスカウンタによって起動されたアドレスを用い
て自動的にメモリセルを順次リフレッシュするセルフリ
フレッシュが広く用いられている。以下、普通のDRA
Mにおけるセルフリフレッシュ手法の一例を説明する。
図9は、従来のDRAMのセルフリフレッシュ回路及び
これに関連する回路を示すブロック図である。また、図
10はこのDRAMのセルフリフレッシュ時における各
信号の経時変化を示すタイミングチャートである。
【0004】図9に示すように、このDRAMは、実質
的にセルフインタイマ1とセルフリフレッシュタイマ2
と内部アドレスカウンタ3とからなるセルフリフレッシ
ュ回路と、ロウ系制御回路4と、メモリセル5(メモリ
アレイ)とを備えている。図9又は図10において、ex
t.ZRAS信号はロウアドレスストローブ信号であり、
ext.ZCAS信号はコラムアドレスストローブ信号であ
り、両信号はいずれも外部入力信号である。また、ZC
BR信号、ZSELFS信号、ZREFS信号、int.Z
RAS信号、REFA信号及びQ信号はいずれも内部信
号である。上記各信号中、記号名に「Z」を含むものは
Lアクティブ(ロウアクティブ)の信号である。なお、
ZCBR信号は、まずext.ZCAS信号がL(ロウレベ
ル)になりこの後ext.ZRAS信号がLになると、Lに
なる信号である。
【0005】セルフインタイマ1は、ZCBR信号を受
けてから一定時間t0だけ経過した後、その出力ノード
(ZSELFSノード)へ出力するZSELFS信号を
Lにする回路である。セルフリフレッシュタイマ2は、
ZSELFSノードを介してセルフインタイマ1に接続
され、ZSELFS信号のLを受けた後一定周期でint.
ZRAS信号をLにするとともに、REFA信号にH
(ハイレベル)パルスを発生させる回路である。内部ア
ドレスカウンタ3は、セルフリフレッシュタイマ2から
出力されるREFA信号のHパルスを受けてQ信号をカ
ウントアップし、これをその出力ノード(Qノード)に
出力する回路である。
【0006】なお、Q信号は複数ビットを有する内部ア
ドレス信号、すなわちセルフリフレッシュすべきメモリ
セル5(メモリアレイ)のアドレスを指定する信号であ
る。ロウ系制御回路4は、セルフリフレッシュタイマ2
から出力されたint.ZRAS信号と内部アドレスカウン
タ3から出力されたQ信号とを受けて、該ロウ制御回路
4に接続されたメモリセル5を活性化(リフレッシュ)
し、制御する回路である。
【0007】以下、図9に示すセルフリフレッシュ回路
の動作を、図10に示すタイミングチャートを用いて説
明する。最初、ext.ZRAS信号及びext.ZCAS信号
はともにH(ハイレベル)である。次に、ext.ZCAS
信号がL(ロウレベル)になり、この後ext.ZRAS信
号がLになると、ZCBR信号がLになる。このZCB
R信号のLを受けてセルフインタイマ1が活性化され
る。そして、ZCBR信号の活性化(立ち下り)から一
定時間t0だけ、ext.ZRAS信号及びext.ZCAS信
号がLの状態を保持すると、ZSELFS信号がLとな
り、これに伴ってセルフリフレッシュがスタートする。
【0008】ZSELFS信号は、セルフリフレッシュ
タイマ2を活性化し、一定の周期tBでZREFS信号
をLにする。これに伴って、int.ZRAS信号がLにな
る。そして、int.ZRAS信号がLになると、REFA
にHパルスが発生し、これを受けて内部アドレスカウン
タ3が活性化され、Q信号(内部アドレス)は1ずつカ
ウントアップする。セルフリフレッシュタイマ2から出
力されるint.ZRAS信号と内部アドレスカウンタ3か
ら出力されるQ信号(内部アドレス)とを受けて、ロウ
系制御回路4が活性化され、メモリセル5(メモリアレ
イ)に対してリフレッシュが行われる。ここで、int.Z
RAS信号がLになってから一定時間tAが経過する
と、ZREFS信号がHになり、このZREFS信号の
Hを受けて、int.ZRAS信号もHになる。
【0009】このように、ZSELFS信号がLとなっ
ている期間、ZREFS信号及びint.ZRAS信号がH
からL、あるいはLからHへと変化する前記の動作が繰
り返され、DRAMが自動的にリフレッシュされる。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】ところで、このような
DRAMにおいては、セルフリフレッシュが設計どおり
に正しく行われるか否か等の各種テストが行われる。そ
して、このようなテストを行う場合、リフレッシュを起
動する内部信号、すなわちint.ZRAS信号の波形を検
出し、その波形をモニタするのが最も優れた手法といえ
る。しかしながら、従来のDRAMの回路構成では、内
部発生したint.ZRASの波形を検出することはできな
い。要するに、従来のDRAMでは、リフレッシュを起
動するint.ZRAS信号をモニタすることができないと
いった問題がある。
【0011】なお、特開平6−236682号公報に
は、テストモード時に、CAS系非活性化信号発生部に
テスト信号φTESTを印加することにより、あるいは
出力回路にテスト信号φTESTを印加することによ
り、I/Oピンからリフレッシュ周期を検出することが
可能な信号を出力させるようにした記憶装置(DRA
M)が開示されている。しかしながら、この記憶装置で
は、リフレッシュを起動するint.ZRAS信号の波形を
モニタすることはできない。
【0012】また、特開平2−105389号公報に
は、セルフリフレッシュ時に、リフレッシュ回数を内部
アドレスカウンタでカウントし、このリフレッシュ回数
とセルフリフレッシュに要した時間とに基づいて、リフ
レッシュ周期の平均値を算出するようにしたダイナミッ
ク型記憶装置(DRAM)が開示されている。しかしな
がら、このダイナミック型記憶装置でも、リフレッシュ
を起動するint.ZRAS信号の波形をモニタすることは
できない。
【0013】本発明は、上記従来の問題を解決するため
になされたものであって、リフレッシュを起動する内部
信号の波形を検出し、該波形をモニタすることができる
半導体記憶装置を提供することを解決すべき課題とす
る。
【0014】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
になされた本発明の第1の態様にかかる半導体記憶装置
は、(i)リフレッシュ(すなわち、再書き込み動作)
を起動する所定の内部信号(例えば、int.ZRAS信
号)に基づいてメモリセル(ないしは、メモリアレイ)
にセルフリフレッシュを行うようになっている半導体記
憶装置(例えば、DRAM)であって、(ii)出力回路
に付設されていて、H(ハイレベル)又はL(ロウレベ
ル)のテストモード信号を受け、セルフリフレッシュ時
にテストモード信号がHであるときには、上記所定の内
部信号と同一波形のモニタ信号をデータ出力ピン(ない
しは、データ出力ノード)に出力するリフレッシュモニ
タ回路が設けられていることを特徴とするものである。
【0015】この半導体記憶装置においては、セルフリ
フレッシュ時に、リフレッシュモニタ回路に印加される
テストモード信号をHにすれば、データ出力ピンにリフ
レッシュを起動する内部信号と同一波形のモニタ信号が
出力される。したがって、セルフリフレッシュ時にテス
トモード信号をHにすることにより、随時リフレッシュ
を起動する内部信号の波形を検出し、モニタすることが
できる。
【0016】本発明の第2の態様にかかる半導体記憶装
置は、第1の態様にかかる半導体記憶装置において、
(i)出力回路が、第1のデータ信号がゲート入力され
るPチャンネル電界効果トランジスタと第2のデータ信
号がゲート入力されるNチャンネル電界効果トランジス
タとを有し、両電界効果トランジスタのドレーン同士が
接続され、かつPチャンネル電界効果トランジスタのソ
ースが高電圧部(例えば、電源)に接続される一方Nチ
ャンネル電界効果トランジスタのソースが低電圧部(例
えば、アース)に接続された回路構造とされていて、
(ii)リフレッシュモニタ回路が、Pチャンネル電界効
果トランジスタとNチャンネル電界効果トランジスタと
に対してそれぞれ並列に接続されるモニタ用Pチャンネ
ル電界効果トランジスタとモニタ用Nチャンネル電界効
果トランジスタとを有するとともに、(iii)テストモ
ード信号及び上記所定の内部信号を受け、セルフリフレ
ッシュ時においてテストモード信号がHであるときに
は、両モニタ用電界効果トランジスタからデータ出力ピ
ンに上記所定の内部信号と同一波形の出力信号を出力さ
せる一方、テストモード信号がLであるときには、両モ
ニタ用電界効果トランジスタをハイインピーダンス状態
にする論理回路を有することを特徴とするものである。
【0017】この半導体記憶装置においては、基本的に
は、第1の態様にかかる半導体記憶装置の場合と同様の
作用が生じる。さらに、出力回路に対して、モニタ用P
チャンネル電界効果トランジスタとモニタ用Nチャンネ
ル電界効果トランジスタと論理回路とを付設するだけの
簡素な構成で、セルフリフレッシュ時にテストモード信
号をHにすることにより、随時リフレッシュ動作を起動
する内部信号の波形を検出し、モニタすることができ
る。
【0018】本発明の第3の態様にかかる半導体記憶装
置は、第1又は第2の態様にかかる半導体記憶装置にお
いて、外部入力信号に基づいて、H又はLのテストモー
ド信号を発生させるテストモード信号発生回路が設けら
れ、該テストモード信号がリフレッシュモニタ回路に入
力されるようになっていることを特徴とするものであ
る。この半導体記憶装置においては、基本的には、第1
又は第2の態様にかかる半導体記憶装置の場合と同様の
作用が生じる。さらに、テストモード信号発生回路に所
定の外部入力信号を印加することにより、リフレッシュ
モニタ回路に入力されているテストモード信号のH、L
を容易に切り替えることができる。
【0019】本発明の第4の態様にかかる半導体記憶装
置は、第3の態様にかかる半導体記憶装置において、テ
ストモード信号発生回路が、Lアクティブである外部ロ
ウアドレスストローブ信号(ext.ZRAS信号)が、そ
れぞれLアクティブである外部コラムアドレスストロー
ブ信号(ext.ZCAS)及び外部ライトイネーブル信号
(ext.ZWE信号)よりも遅れてLになったときに、テ
ストモード信号をHにするようになっていることを特徴
とするものである。この半導体記憶装置においては、基
本的には、第3の態様にかかる半導体記憶装置の場合と
同様の作用が生じる。さらに、ext.ZWE信号がLにな
った後でテストモード信号がHになるので、リフレッシ
ュが不可能な状態(ext.ZWE信号がHの状態)でテス
トモード信号がHになるのが確実に防止される。
【0020】本発明の第5の態様にかかる半導体記憶装
置は、第1〜第4の態様のいずれか1つにかかる半導体
記憶装置において、ext.ZRAS信号がext.ZCAS信
号よりも遅れてLになった後、所定時間経過してからセ
ルフリフレッシュを実行するようになっていることを特
徴とするものである。この半導体記憶装置においては、
基本的には、第1〜第4の態様のいずれか1つにかかる
半導体記憶装置の場合と同様の作用が生じる。さらに、
ext.ZRAS信号がLになった後、所定時間経過してか
らセルフリフレッシュが実行されるので、該半導体記憶
装置が確実にセルフリフレッシュ可能な状態となってか
らリフレッシュが開始される。
【0021】本発明の第6の態様にかかる半導体記憶装
置は、第1〜第4の態様のいずれか1つにかかる半導体
記憶装置において、ext.ZRAS信号がext.ZCAS信
号よりも遅れてLになったときにセルフリフレッシュを
実行するようになっていることを特徴とするものであ
る。この半導体記憶装置においては、基本的には、第1
〜第4の態様のいずれか1つにかかる半導体記憶装置の
場合と同様の作用が生じる。さらに、ext.ZRAS信号
がLになったときにセルフリフレッシュが実行されるの
で、セルフリフレッシュに要する時間が短縮される。ま
た、第5の態様にかかる半導体記憶装置の場合に比べ
て、タイマが1つ少なくてすむ。
【0022】
【発明の実施の形態】実施の形態1.以下、本発明の実
施の形態1を具体的に説明する。図1は、実施の形態1
にかかるDRAMのセルフリフレッシュ回路及びこれに
関連する回路を示すブロック図である。なお、図1に示
すDRAMにおいて、図9に示す従来のDRAMと共通
する構成要素については、説明の重複を避けるため、図
9の場合と同一の番号を付してその詳細な説明は省略す
る。
【0023】図1に示すように、実施の形態1にかかる
DRAMでは、出力回路6に、メモリセル5(ないし
は、メモリアレイ)から読み出された読み出しデータに
対応するZODH信号(データ信号)及びZODL信号
(データ信号)に加えて、セルフリフレッシュタイマ2
からロウ系制御回路4側に出力されるint.ZRAS信号
と、TMSELF信号とが入力されるようになってい
る。また、出力回路6の出力信号(DQ信号)は、出力
ノードDQ(DQピン)に出力されるようになってい
る。ここで、TMSELF信号、ZODH信号及びZO
DL信号はいずれも内部信号である。また、TMSEL
F信号は、セルフリフレッシュ時に、int.ZRAS信号
と同一波形のモニタ信号、ないしは、int.ZRAS信号
そのものを出力ノードDQに出力するためのテストモー
ド信号である。
【0024】図2に示すように、出力回路6は、実質的
に、インバータI1〜I2(NOTゲート)と、NAN
DゲートNA1と、ANDゲートA1と、Pチャンネル
MOSトランジスタTr1〜Tr2(以下、「Pch−
Tr1〜2」という。)と、NチャンネルMOSトラン
ジスタTr3〜Tr4(以下、「Nch−Tr3〜4」
という。)とで構成されている。なお、従来のDRAM
の出力回路では、NANDゲートNA1、ANDゲート
A1、Pch−Tr2及びNch−Tr4からなるリフ
レッシュモニタ回路は設けられていない。そして、イン
バータI1の出力端子がPch−Tr1のゲートに接続
され、インバータI2の出力端子がNch−Tr3のゲ
ートに接続され、Pch−Tr1のドレーンとNch−
Tr3のドレーンとが接続された回路構造とされてい
る。
【0025】すなわち、図2に示す出力回路6は、従来
の出力回路のPch−Tr1とNch−Tr3とに対し
て、それぞれ、Pch−Tr2とNch−Tr4とが並
列に接続された回路である。そして、TMSELF信号
及びint.ZRAS信号を入力信号とするNANDゲート
NA1の出力信号は、Pch−Tr2のゲートに入力さ
れるようになっている。また、NANDゲートNA1の
出力信号及びTMSELF信号を入力信号とするAND
ゲートA1の出力信号は、Nch−Tr4のゲートに入
力されるようになっている。
【0026】この出力回路6において、セルフリフレッ
シュが行われていないとき、すなわちint.ZRAS信号
が常時Hとなるときには、TMSELF信号がLにセッ
トされる。このとき、TMSELF信号がLであり、か
つint.ZRAS信号がHであるので、NANDゲートN
A1の出力信号はHとなる。このH信号がPch−Tr
2のゲートに入力されるので、Pch−Tr2はOFF
となる。また、NANDゲートNA1の出力信号がHで
あり、かつTMSELF信号がLであるので、ANDゲ
ートA1の出力信号はLとなる。このL信号がNch−
Tr4のゲートに入力されるので、Nch−Tr4はO
FFとなる。したがって、出力回路6は、実質的には、
前記従来のDRAMの出力回路と同様の構成となり、普
通の出力回路と同様に機能し、データ信号を出力ノード
DQに出力する。
【0027】他方、出力回路6において、セルフリフレ
ッシュが行われているときには、int.ZRAS信号が周
期的にH又はLとなり、int.ZRAS信号がLとなる度
に、内部アドレスカウンタ3によって指定されたアドレ
スのメモリセル5がリフレッシュされる。このとき、T
MSELF信号がHであれば、int.ZRAS信号と同一
波形のモニタ信号ないしはint.ZRAS信号そのものが
出力ノードDQ(DQピン)に出力される。逆に、TM
SELF信号がLであれば、出力回路6は、実質的には
前記従来のDRAMの出力回路と同様の構成となる(ハ
イインピーダンス状態になる)。
【0028】以下、セルフリフレッシュ時における、出
力回路6の上記動作をより詳しく説明する。なお、セル
フリフレッシュ時においては、Pch−Tr1及びNc
h−Tr3はいずれもOFF状態にある。まず、TMS
ELF信号がHである場合を説明する。この場合、int.
ZRAS信号がHであれば、NANDゲートNA1の出
力信号はLとなり、このL信号がPch−Tr2のゲー
トに入力され、Pch−Tr2はONとなる。また、N
ANDゲートNA1の出力信号がLであり、かつTMS
ELF信号がHであるので、ANDゲートA1の出力信
号はLとなり、このL信号がNch−Tr4のゲートに
入力され、Nch−Tr4はOFFとなる。したがっ
て、電源Ext.Vccの電位すなわちH信号が、Pc
h−Tr2を経由して出力ノードDQに出力される。
【0029】他方、int.ZRAS信号がLであれば、N
ANDゲートNA1の出力信号はHとなり、このH信号
がPch−Tr2のゲートに入力され、Pch−Tr2
はOFFとなる。また、NANDゲートNA1の出力信
号がHであり、かつTMSELF信号がHであるので、
ANDゲートA1の出力信号はHとなり、このH信号が
Nch−Tr4のゲートに入力され、Nch−Tr4は
ONとなる。したがって、アース電位すなわちL信号
が、Nch−Tr4を経由して出力ノードDQに出力さ
れる。
【0030】つまり、セルフリフレッシュ時においてT
MSELF信号がHである場合は、int.ZRAS信号が
Hであれば出力ノードDQにH信号が出力され、int.Z
RAS信号がLであれば出力ノードDQにL信号が出力
される。すなわち、int.ZRAS信号と同一波形のモニ
タ信号、ないしはint.ZRAS信号そのものが出力ノー
ドDQに出力される。
【0031】次に、TMSELF信号がLである場合を
説明する。この場合、int.ZRAS信号がHであれば、
NANDゲートNA1の出力信号はHとなり、このH信
号がPch−Tr2のゲートに入力され、Pch−Tr
2はOFFとなる。また、NANDゲートNA1の出力
信号がHであり、かつTMSELF信号がLであるの
で、ANDゲートA1の出力信号はLとなり、このL信
号がNch−Tr4のゲートに入力され、Nch−Tr
4はOFFとなる。したがって、出力回路6は、実質的
には、前記従来のDRAMの出力回路と同様の構成とな
る。
【0032】逆に、int.ZRAS信号がLであれば、N
ANDゲートNA1の出力信号はHとなり、このH信号
がPch−Tr2のゲートに入力され、Pch−Tr2
はOFFとなる。また、NANDゲートNA1の出力信
号がHであり、TMSELF信号がLであるので、AN
DゲートA1の出力信号はLとなり、このL信号がNc
h−Tr4のゲートに入力され、Nch−Tr4はOF
Fとなる。したがって、この場合も、出力回路6は、実
質的には、前記従来のDRAMの出力回路と同様の構成
となる。したがって、セルフリフレッシュ時においてT
MSELF信号がLである場合は、出力回路6はハイイ
ンピーダンスとなり、int.ZRAS信号の波形は出力ノ
ードDQには出力されない。
【0033】以下、出力回路6に印加されるTMSEL
F信号(テストモード信号)を発生させるテストモード
信号発生回路の具体的な構成及び機能を説明する。図3
は、かかるテストモード信号発生回路の一例を示すブロ
ック図である。図3に示すように、テストモード設定回
路Tには、WCBR判定回路7と、スーパーVIH判定
回路8と、アドレス判定回路9とが設けられている。こ
こで、WCBR判定回路7には、内部回路10を介し
て、ext.ZCAS信号とext.ZRAS信号とext.ZWE
信号とが入力される。スーパーVIH判定回路8には、
内部回路11を介して、ext.A1信号が入力される。ま
た、アドレス判定回路9には、内部回路12を介して、
ext.A2信号とext.A3信号とが入力される一方、リセ
ット信号が直接入力される。
【0034】ここで、WCBR判定回路7からWCBR
信号が出力され、このWCBR信号はスーパーVIH判
定回路8に入力される。そして、スーパーVIH判定回
路8からSVIH信号が出力され、このSVIH信号は
アドレス判定回路9に入力される。また、アドレス判定
回路9からはTMSELF信号とTM2信号とが出力さ
れる。なお、ext.ZWE信号、ext.A1信号、ext.A2
信号及びext.A3信号はいずれも外部入力信号である。
また、リセット信号、WCBR信号、SVIH信号、T
MSELF信号及びTM2信号はいずれも内部発生信号
である。
【0035】図4に示すように、WCBR判定回路7に
は、インバータI3〜I7と、NANDゲートNA2〜
NA7と、OR回路を利用したNANDゲートIO1〜
IO2と、ANDゲートA2とが設けられている。な
お、このWCBR判定回路7において、内部回路10
は、各入力信号ext.ZCAS、ext.ZRAS、ext.ZW
E毎の内部回路10a、10b、10cに分割されてい
る。
【0036】WCBR判定回路7において、破線7aで
囲まれた部分は、ext.ZRAS信号がext.ZCAS信号
よりも遅れて立ち下がったとき(すなわち、活性化され
たとき)に、AND回路A2にH信号を出力する。ま
た、一点鎖線7bで囲まれた部分は、ext.ZRAS信号
がext.ZWE信号よりも遅れて立ち下がったときに、A
ND回路A2にH信号を出力する。つまり、WCBR判
定回路7は、ext.ZRAS信号が、ext.ZCAS信号及
びext.ZWE信号よりも遅れて立ち下がったとき、すな
わちWCBRのタイミングで、内部信号WCBRをHに
する回路である。
【0037】図5に示すように、スーパーVIH判定回
路8には、レベル変換回路13と、コンパレータC1
と、NチャンネルMOSトランジスタTr5(以下、
「Nch−Tr5」という。)とが設けられている。こ
のスーパーVIH判定回路8は、WCBR判定回路7か
ら出力されたWCBR信号を受けて活性化され、かつex
t.A1信号がリファレンス電位(基準電位)より高い電
位を伴っているとき、すなわちスーパーVIHレベルの
電位を伴っているときには、SVIH信号をHにする回
路である。
【0038】図6に示すように、アドレス判定回路9に
は、インバータI8〜I10と、スリーステートインバ
ータF1〜F2と、ANDゲートA3〜A4と、バッフ
ァゲートB1〜B2と、NORゲートNO1〜NO2と
が設けられている。なお、このアドレス判定回路9にお
いて、内部回路12は、各入力信号ext.A2、ext.A3
毎の内部回路12a、12bに分割されている。
【0039】このアドレス判定回路9は、TMSELF
信号及びTM2信号の出力ノードの前にラッチを備えた
回路構成とされている。そして、アドレス判定回路9
は、SVIH信号がHになるとノードND1のデータ信
号をノードND2(ラッチ)に伝える一方、SVIH信
号がLになるとノードND1のデータをノードND2に
伝えないようになっている。ラッチされたデータは、リ
セット信号がHになるとリセットされ、これによりTM
SELF信号及びTM2信号はLになる。
【0040】ノードND1はアドレスの組み合わせによ
りHになるが、このノードND1のHのデータ信号は、
SVIH信号がHのときにノードND2に伝えられ、T
MSELF信号がHになる。リセット信号は、CBR
(CAS before RAS)やROR(RAS only
Refresh)のタイミングでHになり、ラッチされたデー
タをリセットする。
【0041】かくして、アドレス判定回路9から出力さ
れたTMSELF信号が、出力回路6(図2参照)に入
力され、セルフリフレッシュ時においてTMSELF信
号がHの場合は、前記のとおり、出力回路6の出力ノー
ドDQに、int.ZRAS信号と同一波形のモニタ信号、
ないしはint.ZRAS信号そのものが出力される。他
方、TMSELF信号がLの場合は、出力回路6は、Z
ODH信号及びZODL信号を受けて、H又はLの読み
出しデータを出力ノードDQに出力する。
【0042】以下、図7に示すタイミングチャートを参
照しつつ、前記各回路の動作の一例を説明する。図7に
示すように、最初、これらの回路が動作していない状態
では、外部入力信号であるext.ZRAS信号、ext.ZC
AS信号及びext.ZWE信号はいずれもHである。この
後、ext.ZRAS信号が、ext.ZCAS信号及びext.Z
WE信号よりも遅れてLになると、WCBR判定回路7
から出力されるWCBR信号がHになる。ここで、ext.
A1信号は、スーパーVIHレベルの電位(リファレン
ス電位より高い電位)を伴っているので、スーパーVI
H判定回路8から出力されるSVIH信号がHになる。
【0043】また、ext.A2信号及びext.A3信号がい
ずれもHであるので、アドレス判定回路9のノードND
1はHである。この状態で、前記のようにSVIH信号
がHになると、ノードND1のデータ信号がノードND
2に伝えられ、アドレス判定回路9から出力されるTM
SELF信号がHになる。なお、このとき、出力信号T
M2信号は、Lのまま変化しない。
【0044】ここで、TMSELF信号がHであり、か
つint.ZRASもHである場合は、出力回路6のPch
−Tr2はONとなり、Nch−Tr4はOFFとなる
ので、出力ノードDQにHが出力される。他方、TMS
ELF信号がHであり、かつint.ZRAS信号がLであ
る場合は、出力回路6のPch−Tr2はOFFとな
り、Nch−Tr4はONとなるので、出力ノードDQ
にLが出力される。ここで、CBR(CAS Before
RAS)やROR(RAS Only Refresh)のタイミ
ングでアドレス判定回路9のリセット信号がHになる
と、TMSELF信号がLになる。このとき、出力回路
6のPch−Tr2及びNch−Tr4がともにOFF
となり、出力ノードDQにハイ・インピーダンス(Hi
−Z)が出力される。
【0045】なお、この実施の形態1では、テストモー
ド信号発生回路(TMSELF信号発生回路)は、WC
BRのタイミングとアドレスキーによる制御とを利用す
る回路構成とされているが、この回路構成はテストモー
ド信号発生回路の単なる一例を示すだけものであり、テ
ストモード信号発生回路の回路構成はこれに限定される
ものではない。前記テストモード信号発生回路と同様に
TMSELF信号を発生させることができる回路であれ
ば、どのようなものでも用いることができる。
【0046】以上、実施の形態1にかかるDRAMで
は、セルフリフレッシュ時にTMSELF信号をHにす
れば、出力ノードDQ(DQピン)にint.ZRAS信号
と同一波形のモニタ信号ないしはint.ZRAS信号その
ものが出力される。したがって、セルフリフレッシュ時
にTMSELF信号をHにすることにより、随時リフレ
ッシュを起動するint.ZRAS信号の波形を検出しモニ
タすることができる。
【0047】実施の形態2.以下、本発明の実施の形態
2を説明するが、この実施の形態2にかかるDRAMの
基本構成は、実施の形態1にかかるDRAMの場合と共
通である。このため、以下では説明の重複を避けるた
め、実施の形態1と異なる点のみ説明する。
【0048】図8に示すように、実施の形態2にかかる
DRAMでは、実施の形態1におけるセルフインタイマ
1は設けられていない。このためセルフリフレッシュタ
イマ2には、Lになるとセルフリフレッシュ動作をスタ
ートさせるZSELF信号が入力されるようになってい
る。ここで、ZSELF信号として、例えばZCBR信
号を用いれば、ext.ZCAS信号が立ち下がった後、ex
t.ZRAS信号が立ち下がったときにセルフリフレッシ
ュが開始されるので、セルフリフレッシュに要する時間
が短縮される。
【0049】実施の形態2にかかるセルフインタイマを
用いないDRAMにおいても、実施の形態1にかかるD
RAMの場合と同様に、セルフリフレッシュ時にTMS
ELF信号をHにすれば、出力ノードDQ(DQピン)
にint.ZRAS信号と同一波形のモニタ信号ないしはin
t.ZRAS信号そのものが出力される。したがって、セ
ルフリフレッシュ時にTMSELF信号をHにすること
により、随時リフレッシュを起動するint.ZRAS信号
の波形を検出しモニタすることができる。
【0050】
【発明の効果】本発明の第1の態様にかかる半導体記憶
装置によれば、セルフリフレッシュ時にテストモード信
号をHにすることにより、随時リフレッシュを起動する
内部信号の波形を検出し、モニタすることができる。し
たがって、該半導体記憶装置が設計どおりのセルフリフ
レッシュ機能を備えているか否かなどといったセルフリ
フレッシュに関連する各種テストを容易かつ正確に行う
ことができる。
【0051】本発明の第2の態様にかかる半導体記憶装
置によれば、基本的には第1の態様にかかる半導体記憶
装置の場合と同様の効果が得られる。さらに、リフレッ
シュモニタ回路の構成が簡素なものとなるので、該半導
体記憶装置の製造コストが低減される。
【0052】本発明の第3の態様にかかる半導体記憶装
置によれば、基本的には第1又は第2の態様にかかる半
導体記憶装置の場合と同様の効果が得られる。さらに、
リフレッシュモニタ回路に入力されているテストモード
信号のH、Lを容易に切り替えることができるので、セ
ルフリフレッシュに関連する各種テストをより容易に行
うことができる。
【0053】本発明の第4の態様にかかる半導体記憶装
置によれば、基本的には第3の態様にかかる半導体記憶
装置の場合と同様の効果が得られる。さらに、リフレッ
シュが不可能な状態でテストモード信号がHになるのが
確実に防止されるので、セルフリフレッシュに関連する
各種テストの精度が高められる。
【0054】本発明の第5の態様にかかる半導体記憶装
置によれば、基本的には第1〜第4の態様のいずれか1
つにかかる半導体記憶装置の場合と同様の効果が得られ
る。さらに、該半導体記憶装置が確実にセルフリフレッ
シュ可能な状態となってからリフレッシュが開始される
ので、該半導体記憶装置の信頼性が高められる。
【0055】本発明の第6の態様にかかる半導体記憶装
置によれば、基本的には第1〜第4の態様のいずれか1
つにかかる半導体記憶装置の場合と同様の効果が得られ
る。さらに、セルフリフレッシュに要する時間が短縮さ
れるので、該半導体記憶装置の動作性能が高められる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の実施の形態1にかかるDRAMのセ
ルフリフレッシュ回路及びこれに関連する回路のブロッ
ク図である。
【図2】 図1に示すDRAMの出力回路の構成を示す
回路図である。
【図3】 図2に示す出力回路にTMSELF信号を印
加するためのテストモード信号発生回路の構成を示すブ
ロック図である。
【図4】 図3に示すテストモード信号発生回路のWC
BR判定回路の構成を示す回路図である。
【図5】 図3に示すテストモード信号発生回路のスー
パーVIH判定回路の構成を示す回路図である。
【図6】 図3に示すテストモード信号発生回路のアド
レス判定回路の構成を示す回路図である。
【図7】 図1に示すDRAMのセルフリフレッシュ時
における各種信号の経時変化を示すタイミングチャート
である。
【図8】 本発明の実施の形態2にかかるDRAMのセ
ルフリフレッシュ回路及びこれに関連する回路のブロッ
ク図である。
【図9】 従来のDRAMのセルフリフレッシュ回路及
びこれに関連する回路のブロック図である。
【図10】 図9に示す従来のDRAMのセルフリフレ
ッシュ時における各種信号の経時変化を示すタイミング
チャートである。
【符号の説明】
1 セルフインタイマ、 2 セルフリフレッシュタイ
マ、 3 内部アドレスカウンタ、 4 ロウ系制御回
路、 5 メモリセル(メモリアレイ)、 6出力回
路、 7 WCBR判定回路、 8 スーパーVIH判
定回路、 9アドレス判定回路、 10 内部回路、
10a 内部回路、 10b 内部回路、 10c 内
部回路、 11 内部回路、 12 内部回路、 12
a 内部回路、 12b 内部回路、 13 レベル変
換回路、 T テストモード信号発生回路、 A1〜A
4 ANDゲート、 C1 コンパレータ、 I1〜I
10 インバータ(NOTゲート)、 IO1〜IO2
OR回路を利用したNANDゲート、 NA1〜NA
7 NANDゲート、 NO1〜NO2 NOR回路、
Tr1〜Tr2 PチャンネルMOSトランジスタ、
Tr3〜Tr5NチャンネルMOSトランジスタ。

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 リフレッシュを起動する所定の内部信号
    に基づいてメモリセルにセルフリフレッシュを行うよう
    になっている半導体記憶装置であって、 出力回路に付設されていて、ハイレベル又はロウレベル
    のテストモード信号を受け、セルフリフレッシュ時に上
    記テストモード信号がハイレベルであるときには、上記
    所定の内部信号と同一波形のモニタ信号をデータ出力ピ
    ンに出力するリフレッシュモニタ回路が設けられている
    ことを特徴とする半導体記憶装置。
  2. 【請求項2】 上記出力回路は、第1のデータ信号がゲ
    ート入力されるPチャンネル電界効果トランジスタと第
    2のデータ信号がゲート入力されるNチャンネル電界効
    果トランジスタとを有し、上記両電界効果トランジスタ
    のドレーン同士が接続され、かつ上記Pチャンネル電界
    効果トランジスタのソースが高電圧部に接続される一方
    上記Nチャンネル電界効果トランジスタのソースが低電
    圧部に接続された回路構造とされていて、 上記リフレッシュモニタ回路は、上記Pチャンネル電界
    効果トランジスタと上記Nチャンネル電界効果トランジ
    スタとに対してそれぞれ並列に接続されるモニタ用Pチ
    ャンネル電界効果トランジスタとモニタ用Nチャンネル
    電界効果トランジスタとを有するとともに、 上記テストモード信号及び上記所定の内部信号を受け、
    セルフリフレッシュ時において上記テストモード信号が
    ハイレベルであるときには、上記両モニタ用電界効果ト
    ランジスタからデータ出力ピンに上記所定の内部信号と
    同一波形の出力信号を出力させる一方、上記テストモー
    ド信号がロウレベルであるときには、上記両モニタ用電
    界効果トランジスタをハイインピーダンス状態にする論
    理回路を有することを特徴とする請求項1に記載の半導
    体記憶装置。
  3. 【請求項3】 外部入力信号に基づいてハイレベル又は
    ロウレベルの上記テストモード信号を発生させるテスト
    モード信号発生回路が設けられ、該テストモード信号が
    上記リフレッシュモニタ回路に入力されるようになって
    いることを特徴とする請求項1又は2に記載の半導体記
    憶装置。
  4. 【請求項4】 上記テストモード信号発生回路が、ロウ
    アクティブである外部ロウアドレスストローブ信号が、
    それぞれロウアクティブである外部コラムアドレススト
    ローブ信号及び外部ライトイネーブル信号よりも遅れて
    ロウレベルになったときに、上記テストモード信号をハ
    イレベルにするようになっていることを特徴とする請求
    項3に記載の半導体記憶装置。
  5. 【請求項5】 ロウアクティブである外部ロウアドレス
    ストローブ信号が、ロウアクティブである外部コラムア
    ドレスストローブ信号よりも遅れてロウレベルになった
    後、所定時間経過してからセルフリフレッシュを実行す
    るようになっていることを特徴とする請求項1〜4のい
    ずれか1つに記載の半導体記憶装置。
  6. 【請求項6】 ロウアクティブである外部ロウアドレス
    ストローブ信号が、ロウアクティブである外部コラムア
    ドレスストローブ信号よりも遅れてロウレベルになった
    ときにセルフリフレッシュを実行するようになっている
    ことを特徴とする請求項1〜4のいずれか1つに記載の
    半導体記憶装置。
JP2000007912A 2000-01-17 2000-01-17 半導体記憶装置 Pending JP2001195897A (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000007912A JP2001195897A (ja) 2000-01-17 2000-01-17 半導体記憶装置
US09/697,155 US6349066B1 (en) 2000-01-17 2000-10-27 Semiconductor storage device having a self-refresh circuit for automatically refreshing memory cell
KR10-2000-0081896A KR100397901B1 (ko) 2000-01-17 2000-12-26 반도체 기억 장치

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000007912A JP2001195897A (ja) 2000-01-17 2000-01-17 半導体記憶装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2001195897A true JP2001195897A (ja) 2001-07-19

Family

ID=18536265

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000007912A Pending JP2001195897A (ja) 2000-01-17 2000-01-17 半導体記憶装置

Country Status (3)

Country Link
US (1) US6349066B1 (ja)
JP (1) JP2001195897A (ja)
KR (1) KR100397901B1 (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100442966B1 (ko) * 2001-12-28 2004-08-04 주식회사 하이닉스반도체 로오 어드레스 카운터의 동작 모니터링 장치
US7266033B2 (en) 2005-06-30 2007-09-04 Hynix Semiconductor Inc. Semiconductor memory device
JP2008077816A (ja) * 2006-09-21 2008-04-03 Hynix Semiconductor Inc 半導体メモリ装置の内部信号モニタ装置及びモニタ方法

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0787034B2 (ja) * 1984-05-07 1995-09-20 株式会社日立製作所 半導体集積回路装置
US5157634A (en) * 1990-10-23 1992-10-20 International Business Machines Corporation Dram having extended refresh time
JP3143950B2 (ja) * 1991-04-30 2001-03-07 日本電気株式会社 ダイナミックメモリー
JP3001342B2 (ja) 1993-02-10 2000-01-24 日本電気株式会社 記憶装置
JP3260583B2 (ja) * 1995-04-04 2002-02-25 株式会社東芝 ダイナミック型半導体メモリおよびそのテスト方法
JP3311260B2 (ja) * 1996-12-17 2002-08-05 富士通株式会社 半導体装置及び半導体記憶装置
JP3556446B2 (ja) * 1997-10-31 2004-08-18 株式会社東芝 半導体集積回路
KR100363108B1 (ko) * 1998-12-30 2003-02-20 주식회사 하이닉스반도체 반도체 메모리장치와 그 장치의 리프레쉬주기 조절방법
JPH11345486A (ja) * 1998-06-01 1999-12-14 Mitsubishi Electric Corp セルフ・リフレッシュ制御回路を備えたdramおよびシステムlsi

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100442966B1 (ko) * 2001-12-28 2004-08-04 주식회사 하이닉스반도체 로오 어드레스 카운터의 동작 모니터링 장치
US7266033B2 (en) 2005-06-30 2007-09-04 Hynix Semiconductor Inc. Semiconductor memory device
JP2008077816A (ja) * 2006-09-21 2008-04-03 Hynix Semiconductor Inc 半導体メモリ装置の内部信号モニタ装置及びモニタ方法
US8356214B2 (en) 2006-09-21 2013-01-15 Hynix Semiconductor Inc. Internal signal monitoring device in semiconductor memory device and method for monitoring the same

Also Published As

Publication number Publication date
KR20010076233A (ko) 2001-08-11
US6349066B1 (en) 2002-02-19
KR100397901B1 (ko) 2003-09-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7184362B2 (en) Page access circuit of semiconductor memory device
US6912169B2 (en) Synchronous semiconductor memory device
US7379369B2 (en) Semiconductor device
JP2843481B2 (ja) リフレッシュアドレステスト回路を備えた半導体メモリ装置
US6219292B1 (en) Semiconductor memory device having reduced power requirements during refresh operation by performing refresh operation in a burst method
JP2762833B2 (ja) ダイナミック型ランダムアクセスメモリ装置
US6542426B2 (en) Cell data protection circuit in semiconductor memory device and method of driving refresh mode
US5270982A (en) Dynamic random access memory device improved in testability without sacrifice of current consumption
US6707744B2 (en) Apparatus for controlling refresh of memory device without external refresh command and method thereof
US6657920B2 (en) Circuit for generating internal address in semiconductor memory device
WO1996028825A1 (fr) Memoire a semi-conducteur
US7327631B2 (en) Semiconductor memory device and method of operating semiconductor memory device
US5150329A (en) Dynamic memory with a refresh control circuit
JP2006092640A (ja) メモリ
JP2013097853A (ja) セルフリフレッシュパルス生成回路
JP2001195897A (ja) 半導体記憶装置
US7679981B2 (en) Semiconductor device
JP2009151903A (ja) 半導体記憶装置
JPH08297969A (ja) ダイナミック型半導体記憶装置
KR100858876B1 (ko) 리프레쉬 모드를 갖는 반도체메모리소자 및 그의 구동 방법
JP2004185686A (ja) 半導体記憶装置
JP3415248B2 (ja) セルフリフレッシュ回路、半導体記憶装置及びセルフリフレッシュ方法
KR100656425B1 (ko) 반도체 메모리의 리프레쉬 제어장치 및 방법
KR20070120655A (ko) 반도체 메모리 장치 및 이에 따른 셀프 리프레쉬 방법
JPH1064259A (ja) 半導体記憶装置