JP2001192900A - 改良された表面性状を有するステンレススチールストリップを製造する方法 - Google Patents
改良された表面性状を有するステンレススチールストリップを製造する方法Info
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- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25F—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC REMOVAL OF MATERIALS FROM OBJECTS; APPARATUS THEREFOR
- C25F3/00—Electrolytic etching or polishing
- C25F3/16—Polishing
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- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Treatment Of Metals (AREA)
- Heat Treatment Of Sheet Steel (AREA)
Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【課題】ステンレススチールストリップの機械的加工が
従来に比べて格段に容易になると共に、加工特性も改善
され、工具の寿命も延びるという、改良された表面形状
を有するステンレススチールストリップを製造する方法
を提供する。 【解決手段】ステンレススチールに対して、光輝焼なま
し処理を施し、然る後、２００Ａ／ｄｍ2 以下の電流密
度で電気化学的処理を施すこと、上記電気化学的処理
を、硫酸塩（ＳＯ４ ２−）を含む電解質中で行う。また
電解質としてＮａ２ＳＯ４を用い、ｐＨ４〜１２の範囲
内、望ましくは約ｐＨ７であり、電解質の温度を３０℃
〜９５℃の範囲内、望ましくは８５℃で行う。
従来に比べて格段に容易になると共に、加工特性も改善
され、工具の寿命も延びるという、改良された表面形状
を有するステンレススチールストリップを製造する方法
を提供する。 【解決手段】ステンレススチールに対して、光輝焼なま
し処理を施し、然る後、２００Ａ／ｄｍ2 以下の電流密
度で電気化学的処理を施すこと、上記電気化学的処理
を、硫酸塩（ＳＯ４ ２−）を含む電解質中で行う。また
電解質としてＮａ２ＳＯ４を用い、ｐＨ４〜１２の範囲
内、望ましくは約ｐＨ７であり、電解質の温度を３０℃
〜９５℃の範囲内、望ましくは８５℃で行う。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、改良された表面性
状を有するステンレススチールストリップを製造する方
法に関する。
状を有するステンレススチールストリップを製造する方
法に関する。
【０００２】
【従来の技術】光輝焼なまし（bright-annealing）プラ
ントは、基本的に、グリース除去装置の後段に設けられ
る光輝焼なまし炉によって構成される。この炉は、高い
焼なまし温度によってストリップが酸化しないように、
水素雰囲気下で運転される。然しながら、炉室内には、
僅かではあるが酸素も存在する。そのため、露点のレベ
ルに依存して、ストリップの表面に酸素層が形成され
る。特にスタート時に酸素が集中しやすいため、この集
中酸素によって目に見える焼なましカラーが形成され
る。このような問題点を解決するため、多くの光輝焼な
ましプラントは、硝酸による電気化学的処理を行う脱色
セクションを設けている。然しながら、この脱色処理を
常に成功させ得る条件の正確な数量化は不可能であり、
この処理を行った後でも一層顕著な焼なましカラーが発
現することがしばしばである。そのため、新たに設計、
建造される光輝焼なましプラントの殆どは、上記硝酸に
よる電気化学的な後処理段階を設けていないのが現実で
ある。それは、炉内の雰囲気を以前に比べて格段に効果
的に制御できるようになったことと、以前のように露点
が変動するのを抑制できるようになったことが主な理由
である。
ントは、基本的に、グリース除去装置の後段に設けられ
る光輝焼なまし炉によって構成される。この炉は、高い
焼なまし温度によってストリップが酸化しないように、
水素雰囲気下で運転される。然しながら、炉室内には、
僅かではあるが酸素も存在する。そのため、露点のレベ
ルに依存して、ストリップの表面に酸素層が形成され
る。特にスタート時に酸素が集中しやすいため、この集
中酸素によって目に見える焼なましカラーが形成され
る。このような問題点を解決するため、多くの光輝焼な
ましプラントは、硝酸による電気化学的処理を行う脱色
セクションを設けている。然しながら、この脱色処理を
常に成功させ得る条件の正確な数量化は不可能であり、
この処理を行った後でも一層顕著な焼なましカラーが発
現することがしばしばである。そのため、新たに設計、
建造される光輝焼なましプラントの殆どは、上記硝酸に
よる電気化学的な後処理段階を設けていないのが現実で
ある。それは、炉内の雰囲気を以前に比べて格段に効果
的に制御できるようになったことと、以前のように露点
が変動するのを抑制できるようになったことが主な理由
である。
【０００３】光輝焼なましプラントの利点は、得られる
表面性状が、極めて高い光沢性を有し、面粗度が極めて
低いことである。然しながら、その欠点（焼なましと酸
洗いを行う従来のプラントにより得られるコールドロー
ルド・ステンレススチールストリップに比べた場合）
は、光輝焼なましプラントにより得られる材料は通常と
は異なった表面組成を有し、これがその後段で行われる
機械的処理において不都合をもたらすことである。機械
的処理とは、テンション・レベリング、スキンパス・ロ
ーリング、パンチング、深絞り（deep-drawing）、等々
である。
表面性状が、極めて高い光沢性を有し、面粗度が極めて
低いことである。然しながら、その欠点（焼なましと酸
洗いを行う従来のプラントにより得られるコールドロー
ルド・ステンレススチールストリップに比べた場合）
は、光輝焼なましプラントにより得られる材料は通常と
は異なった表面組成を有し、これがその後段で行われる
機械的処理において不都合をもたらすことである。機械
的処理とは、テンション・レベリング、スキンパス・ロ
ーリング、パンチング、深絞り（deep-drawing）、等々
である。
【０００４】光輝焼なまし材料（光輝焼なまし炉で処理
した材料）は、その平坦性を改善するためにストレッチ
ャー／ローラー型のレベリングマシンを通過させる際、
多くの問題を生じる。即ち、ストリップ表面の物質がロ
ールに付着、堆積してロール表面にコーティング層を形
成したり、ストリップの表面に微細なクラックが発生し
て光沢性に悪影響をもたらしたりする。また、光輝焼な
まし材料の表面の硬い粒子が、スキンパス・ミルの加工
ロールの寿命を大幅に縮める。
した材料）は、その平坦性を改善するためにストレッチ
ャー／ローラー型のレベリングマシンを通過させる際、
多くの問題を生じる。即ち、ストリップ表面の物質がロ
ールに付着、堆積してロール表面にコーティング層を形
成したり、ストリップの表面に微細なクラックが発生し
て光沢性に悪影響をもたらしたりする。また、光輝焼な
まし材料の表面の硬い粒子が、スキンパス・ミルの加工
ロールの寿命を大幅に縮める。
【０００５】工具の寿命を縮めるという同様の問題は、
光輝焼なまし材料を裁断したり、深絞り加工する場合に
も生じる。近年の裁断プレス機は、毎分１０００カット
近くの作動性能を有するものであるが、光輝焼なまし材
料に対しては多くの場合その生産効率を充分に発揮する
ことができない。また、深絞り加工においては、光輝焼
なまし材料の表面の摩擦係数が通常の場合と異なるた
め、加工精度が損なわれることが多い。
光輝焼なまし材料を裁断したり、深絞り加工する場合に
も生じる。近年の裁断プレス機は、毎分１０００カット
近くの作動性能を有するものであるが、光輝焼なまし材
料に対しては多くの場合その生産効率を充分に発揮する
ことができない。また、深絞り加工においては、光輝焼
なまし材料の表面の摩擦係数が通常の場合と異なるた
め、加工精度が損なわれることが多い。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明は上記の問題点
を解決するためなされたものであり、その目的とすると
ころは、後段で行われるステンレススチールストリップ
の機械的加工が従来に比べて格段に容易になると共に、
加工特性も改善され、工具の寿命も延びるという、改良
された表面性状を有するステンレススチールストリップ
を製造する方法を提供することにある。
を解決するためなされたものであり、その目的とすると
ころは、後段で行われるステンレススチールストリップ
の機械的加工が従来に比べて格段に容易になると共に、
加工特性も改善され、工具の寿命も延びるという、改良
された表面性状を有するステンレススチールストリップ
を製造する方法を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め、本発明は、ステンレススチールに対して、最初に光
輝焼なまし処理を施し、然る後、２００Ａ／ｄｍ2 以下
の電流密度で電気化学的処理を施すことを特徴とする。
高い電流密度で処理を行う利点は、主に、ストリップの
表面が電気化学的に研磨されるという点にあり、更にま
た、ストリップの表面が高電位となり、それによって洗
浄効果が得られるという点にある。
め、本発明は、ステンレススチールに対して、最初に光
輝焼なまし処理を施し、然る後、２００Ａ／ｄｍ2 以下
の電流密度で電気化学的処理を施すことを特徴とする。
高い電流密度で処理を行う利点は、主に、ストリップの
表面が電気化学的に研磨されるという点にあり、更にま
た、ストリップの表面が高電位となり、それによって洗
浄効果が得られるという点にある。
【０００８】本発明の好適な実施態様においては、上記
電気化学的処理を、硫酸塩（ＳＯ4 2-）を含む電解質中
で行うことを特徴とする。この処理の利点は、ストリッ
プ表面の硬い付着物の洗浄が、所望の光沢度を得る上で
の除去率と表面粗さとの観点から最も好適に行われ得る
という点、並びに、陽極材料がその特有の問題（鉛やシ
リコンのキャスティング）を生じさせないという点にあ
る。
電気化学的処理を、硫酸塩（ＳＯ4 2-）を含む電解質中
で行うことを特徴とする。この処理の利点は、ストリッ
プ表面の硬い付着物の洗浄が、所望の光沢度を得る上で
の除去率と表面粗さとの観点から最も好適に行われ得る
という点、並びに、陽極材料がその特有の問題（鉛やシ
リコンのキャスティング）を生じさせないという点にあ
る。
【０００９】本発明の更に好適な実施態様にあっては、
上記電気化学的処理において、電解質としてＮａ2 ＳＯ
4 を用い、ｐＨ４〜１２の範囲内、望ましくは約ｐＨ７
で行うことを特徴とする。ｐＨ値の低い領域においては
除去率が高いという効果が得られ、また、ｐＨ値の高い
領域、即ち、中性及びアルカリ領域においては、電気的
研磨効果によりストリップ表面から硬い不純物が除去さ
れると共に、光沢度が増大するという効果がある。
上記電気化学的処理において、電解質としてＮａ2 ＳＯ
4 を用い、ｐＨ４〜１２の範囲内、望ましくは約ｐＨ７
で行うことを特徴とする。ｐＨ値の低い領域においては
除去率が高いという効果が得られ、また、ｐＨ値の高い
領域、即ち、中性及びアルカリ領域においては、電気的
研磨効果によりストリップ表面から硬い不純物が除去さ
れると共に、光沢度が増大するという効果がある。
【００１０】本発明の好適な実施態様においては、上記
電気化学的処理を、温度３０℃〜９５℃の範囲内、望ま
しくは約８５℃で行うことを特徴とする。温度を正確に
設定することにより、電解液のｐＨ値を、高い除去率が
得られるようにするか、良好な電気的研磨効果が得られ
るようにするかの調整が可能である。
電気化学的処理を、温度３０℃〜９５℃の範囲内、望ま
しくは約８５℃で行うことを特徴とする。温度を正確に
設定することにより、電解液のｐＨ値を、高い除去率が
得られるようにするか、良好な電気的研磨効果が得られ
るようにするかの調整が可能である。
【００１１】本発明の好適な実施態様においては、上記
電気化学的処理を、電荷密度１００Ｃ／ｄｍ2 〜３００
０Ｃ／ｄｍ2 の範囲内、望ましくは約５００Ｃ／ｄｍ2
で行うことを特徴とする。電解質の設定を、例えば、ｐ
Ｈ＝７、電流密度約５０Ａ／ｄｍ2 となるようにした場
合には、電気的研磨効果が顕著である。処理時間を長く
し、ストリップ処理のための電荷密度を増大させればさ
せるほど、光沢度が増大する。
電気化学的処理を、電荷密度１００Ｃ／ｄｍ2 〜３００
０Ｃ／ｄｍ2 の範囲内、望ましくは約５００Ｃ／ｄｍ2
で行うことを特徴とする。電解質の設定を、例えば、ｐ
Ｈ＝７、電流密度約５０Ａ／ｄｍ2 となるようにした場
合には、電気的研磨効果が顕著である。処理時間を長く
し、ストリップ処理のための電荷密度を増大させればさ
せるほど、光沢度が増大する。
【００１２】本発明の好適な実施態様においては、上記
電気化学的処理を、電流密度２０Ａ／ｄｍ2 〜２００Ａ
／ｄｍ2 の範囲内、望ましくは約５０Ａ／ｄｍ2 で行う
ことを特徴とする。
電気化学的処理を、電流密度２０Ａ／ｄｍ2 〜２００Ａ
／ｄｍ2 の範囲内、望ましくは約５０Ａ／ｄｍ2 で行う
ことを特徴とする。
【００１３】本発明の更に好適な実施態様にあっては、
上記電気化学的処理において、遊離酸濃度が少なくとも
５ｇ／ｌ以上の硫酸（Ｈ2 ＳＯ4 ）を用いると共に、レ
ドックス電位を変化させるための物質（金属イオン、酸
化物）、望ましくはクロムイオン（Ｃｒ6+）を添加する
ことにより、レドックス電位を約８６０ｍＶに設定して
行うことを特徴とする。電解質として純粋な硫酸を用い
るのと比べて、より高い除去率が得られ、しかも光沢度
が全く低下しないという利点がある。
上記電気化学的処理において、遊離酸濃度が少なくとも
５ｇ／ｌ以上の硫酸（Ｈ2 ＳＯ4 ）を用いると共に、レ
ドックス電位を変化させるための物質（金属イオン、酸
化物）、望ましくはクロムイオン（Ｃｒ6+）を添加する
ことにより、レドックス電位を約８６０ｍＶに設定して
行うことを特徴とする。電解質として純粋な硫酸を用い
るのと比べて、より高い除去率が得られ、しかも光沢度
が全く低下しないという利点がある。
【００１４】本発明の好適な実施態様においては、上記
電気化学的処理を、温度２０℃〜９５℃の範囲内、望ま
しくは約５０℃で行うことを特徴とする。温度を正確に
設定することにより、電解液のｐＨ値を、高い除去率が
得られるようにするか、良好な電気的研磨効果が得られ
るようにするかの調整が可能となる。
電気化学的処理を、温度２０℃〜９５℃の範囲内、望ま
しくは約５０℃で行うことを特徴とする。温度を正確に
設定することにより、電解液のｐＨ値を、高い除去率が
得られるようにするか、良好な電気的研磨効果が得られ
るようにするかの調整が可能となる。
【００１５】本発明の更に好適な実施態様にあっては、
上記電気化学的処理において、電荷密度１００Ｃ／ｄｍ
2 〜３０００Ｃ／ｄｍ2 の範囲内、望ましくは約３５０
Ｃ／ｄｍ2 で処理を行うことを特徴とする。電解質の設
定を、例えば、ｐＨ＝７、電流密度約５０Ａ／ｄｍ2 と
なるようにした場合には、電気的研磨効果が顕著であ
る。処理時間を長くし、ストリップ処理のための電荷密
度を増大させればさせるほど、光沢度が増大する。電荷
密度を非常に高くすることにより、比較的低品質の光輝
焼なまし材料の表面性状（光沢度）を高品質化すること
ができる。
上記電気化学的処理において、電荷密度１００Ｃ／ｄｍ
2 〜３０００Ｃ／ｄｍ2 の範囲内、望ましくは約３５０
Ｃ／ｄｍ2 で処理を行うことを特徴とする。電解質の設
定を、例えば、ｐＨ＝７、電流密度約５０Ａ／ｄｍ2 と
なるようにした場合には、電気的研磨効果が顕著であ
る。処理時間を長くし、ストリップ処理のための電荷密
度を増大させればさせるほど、光沢度が増大する。電荷
密度を非常に高くすることにより、比較的低品質の光輝
焼なまし材料の表面性状（光沢度）を高品質化すること
ができる。
【００１６】本発明の好適な実施態様においては、上記
電気化学的処理を、電流密度５Ａ／ｄｍ2 〜１００Ａ／
ｄｍ2 の範囲内、望ましくは約４０Ａ／ｄｍ2 で行うこ
とを特徴とする。
電気化学的処理を、電流密度５Ａ／ｄｍ2 〜１００Ａ／
ｄｍ2 の範囲内、望ましくは約４０Ａ／ｄｍ2 で行うこ
とを特徴とする。
【００１７】本発明の更に好適な実施態様にあっては、
上記電気化学的処理において、電解質として、遊離酸濃
度が少なくとも５ｇ／ｌ以上の硫酸（Ｈ2 ＳＯ4 ）を用
いることを特徴とする。そうすることにより、比較的高
い除去率を得ることが可能となる。
上記電気化学的処理において、電解質として、遊離酸濃
度が少なくとも５ｇ／ｌ以上の硫酸（Ｈ2 ＳＯ4 ）を用
いることを特徴とする。そうすることにより、比較的高
い除去率を得ることが可能となる。
【００１８】本発明の好適な実施態様においては、上記
電気化学的処理を、電荷密度１００Ｃ／ｄｍ2 〜３００
０Ｃ／ｄｍ2 の範囲内、望ましくは約１５０Ｃ／ｄｍ2
で行うことを特徴とする。
電気化学的処理を、電荷密度１００Ｃ／ｄｍ2 〜３００
０Ｃ／ｄｍ2 の範囲内、望ましくは約１５０Ｃ／ｄｍ2
で行うことを特徴とする。
【００１９】本発明の好適な実施態様においては、上記
電気化学的処理を、温度２０℃〜９５℃の範囲内、望ま
しくは約３０℃で行うことを特徴とする。
電気化学的処理を、温度２０℃〜９５℃の範囲内、望ま
しくは約３０℃で行うことを特徴とする。
【００２０】本発明の好適な実施態様においては、上記
電気化学的処理を、電流密度５Ａ／ｄｍ2 〜１００Ａ／
ｄｍ2 の範囲内、望ましくは約３０Ａ／ｄｍ2 で行うこ
とを特徴とする。
電気化学的処理を、電流密度５Ａ／ｄｍ2 〜１００Ａ／
ｄｍ2 の範囲内、望ましくは約３０Ａ／ｄｍ2 で行うこ
とを特徴とする。
【００２１】本発明の更に好適な実施態様にあっては、
上記電気化学的処理において、リン酸塩、硫酸塩、フッ
化物、硝酸塩、塩化物又はそれらの混合物等のアニオン
を含む電解質を用いることを特徴とする。そうすること
によって、ステンレススチールの表面の電解研磨におい
て用いられている各種公知の電解質を利用することも可
能となる。
上記電気化学的処理において、リン酸塩、硫酸塩、フッ
化物、硝酸塩、塩化物又はそれらの混合物等のアニオン
を含む電解質を用いることを特徴とする。そうすること
によって、ステンレススチールの表面の電解研磨におい
て用いられている各種公知の電解質を利用することも可
能となる。
【００２２】本発明の好適な実施態様にあっては、上記
電気化学的処理において、溶解金属イオンを酸化もしく
は還元するための物質を添加することを特徴とする。
電気化学的処理において、溶解金属イオンを酸化もしく
は還元するための物質を添加することを特徴とする。
【００２３】本発明の更に好適な実施態様にあっては、
上記電気化学的処理において、電解質として、アルカリ
硫酸塩、アルカリ土類硫酸塩又はアンモニア硫酸塩を用
いることを特徴とする。
上記電気化学的処理において、電解質として、アルカリ
硫酸塩、アルカリ土類硫酸塩又はアンモニア硫酸塩を用
いることを特徴とする。
【００２４】
【発明の実施の形態】試験の一部として、ステンレスス
チールの電気化学的酸洗いプロセスによる酸洗い試験を
行うと共に、本発明に従って、光輝焼なまし材料を電気
化学的に処理する試験を行った。その場合、さまざまな
処理条件下でさまざまな電解質についての試験も行っ
た。個々の電解質に関する主要なデータは、下記の試験
例中に要約して示してある。
チールの電気化学的酸洗いプロセスによる酸洗い試験を
行うと共に、本発明に従って、光輝焼なまし材料を電気
化学的に処理する試験を行った。その場合、さまざまな
処理条件下でさまざまな電解質についての試験も行っ
た。個々の電解質に関する主要なデータは、下記の試験
例中に要約して示してある。
【００２５】光輝焼なまし材料においては、多くの場
合、その表面性状（光沢度や色彩）の良否が最優先事項
とされるものであるから、試験は、電解質のさまざまな
条件設定（ｐＨ値、温度、レドックス電位）が光沢度
（表面粗さ）に及ぼす影響の範囲を明確にすることを方
針として行った。
合、その表面性状（光沢度や色彩）の良否が最優先事項
とされるものであるから、試験は、電解質のさまざまな
条件設定（ｐＨ値、温度、レドックス電位）が光沢度
（表面粗さ）に及ぼす影響の範囲を明確にすることを方
針として行った。
【００２６】製造例 〔試験１〕光輝焼なまし材料（ステンレススチールを光
輝焼なまし炉で処理して取り出したもの）を、硫酸の電
解液（Ｈ2 ＳＯ4 ＝５０ｇ／ｌ、Ｆｅ2+＝７ｇ／ｌ、Ｆ
ｅ3+＝７ｇ／ｌ、Ｔ＝７０℃、レドックス電位＝４８０
ｍＶ）を用いて電気化学的処理を行った。電荷密度１０
００Ｃ／ｄｍ2 以下で処理したとき、測定角６０°にお
ける光沢計数値は４００から３３０に減少した。この光
沢測定は、ＲＥＦＯ 3−Ｄ（Ｄｒ．Ｌａｎｇｅ社の反射
率計）を用いて行った。この場合、Ｍモードを適用し、
ユニットをＩＳＯ 7６６８に基づき標準金属により較正
して行った。光沢測定は、測定角６０°で行った。各測
定作業に先立って、光沢測定装置を、標準金属（種別番
号ＬＺＭ 1５５）に対応するよう較正した。標準金属
は、ベルリンの材料試験所（ＢＡＭ）において検定済み
のもの、即ち、ＩＳＯ 7６６８（２０°ａｐｐｒｏｘ．
１９００、６０°ａｐｐｒｏｘ．８００、８５°ａｐｐ
ｒｏｘ．１５０）に基づき、くさび型石英板を用いて検
定済みのものを用いた。レドックス電位は、水素電極に
より対照測定を行った。
輝焼なまし炉で処理して取り出したもの）を、硫酸の電
解液（Ｈ2 ＳＯ4 ＝５０ｇ／ｌ、Ｆｅ2+＝７ｇ／ｌ、Ｆ
ｅ3+＝７ｇ／ｌ、Ｔ＝７０℃、レドックス電位＝４８０
ｍＶ）を用いて電気化学的処理を行った。電荷密度１０
００Ｃ／ｄｍ2 以下で処理したとき、測定角６０°にお
ける光沢計数値は４００から３３０に減少した。この光
沢測定は、ＲＥＦＯ 3−Ｄ（Ｄｒ．Ｌａｎｇｅ社の反射
率計）を用いて行った。この場合、Ｍモードを適用し、
ユニットをＩＳＯ 7６６８に基づき標準金属により較正
して行った。光沢測定は、測定角６０°で行った。各測
定作業に先立って、光沢測定装置を、標準金属（種別番
号ＬＺＭ 1５５）に対応するよう較正した。標準金属
は、ベルリンの材料試験所（ＢＡＭ）において検定済み
のもの、即ち、ＩＳＯ 7６６８（２０°ａｐｐｒｏｘ．
１９００、６０°ａｐｐｒｏｘ．８００、８５°ａｐｐ
ｒｏｘ．１５０）に基づき、くさび型石英板を用いて検
定済みのものを用いた。レドックス電位は、水素電極に
より対照測定を行った。
【００２７】〔試験２〕光輝焼なまし材料を、レドック
ス電解液（Ｈ2 ＳＯ4 ＝５０ｇ／ｌ、Ｆｅ3+＝１４ｇ／
ｌ、Ｃｒ6+＝１ｇ／ｌ、レドックス電位＝８６０ｍＶ）
を用いて電気化学的処理を行った。電荷密度１０００Ｃ
／ｄｍ2 以下で処理したとき、測定角６０°における光
沢計数値は４００から３７０に減少した。
ス電解液（Ｈ2 ＳＯ4 ＝５０ｇ／ｌ、Ｆｅ3+＝１４ｇ／
ｌ、Ｃｒ6+＝１ｇ／ｌ、レドックス電位＝８６０ｍＶ）
を用いて電気化学的処理を行った。電荷密度１０００Ｃ
／ｄｍ2 以下で処理したとき、測定角６０°における光
沢計数値は４００から３７０に減少した。
【００２８】〔試験３〕光輝焼なまし材料を、中性電解
液（Ｎａ2 ＳＯ4 、ｐＨ＝６、Ｔ＝８５℃）を用いて電
気化学的処理を行った。電荷密度１０００Ｃ／ｄｍ2 以
下で処理したとき、測定角６０°における光沢計数値は
４００から４４０に増大した。
液（Ｎａ2 ＳＯ4 、ｐＨ＝６、Ｔ＝８５℃）を用いて電
気化学的処理を行った。電荷密度１０００Ｃ／ｄｍ2 以
下で処理したとき、測定角６０°における光沢計数値は
４００から４４０に増大した。
【００２９】中性ｐＨ値の電解液（Ｎａ2 ＳＯ4 ）によ
り電荷密度約１０００Ｃ／ｄｍ2 以下で電気化学的処理
を行ったものについて実験テストを行った結果、光輝焼
なまし材料が実質的に深絞りに適した特性を有するとい
う確証が得られた。更にまた、電子顕微鏡による１５０
００倍の影像を観察したところ、ストリップの表面に付
着物（残存酸素等によるもの）の存在はもはや認められ
なかった。次に、オージェ電子のスパッタリングによ
り、深さ方向の特性を調べたところ、層の成分的に以下
のような相違が認められた。即ち、酸素と鉄の間の交差
領域は略同等である。酸素の浸透は、処理を行わないサ
ンプルの方が処理を行ったサンプルに比べて格段に深か
った（前者が約１５ｎｍ以下であるのに対して、後者は
約８ｎｍ以下であった）。また、炭素濃度は未処理のサ
ンプルの方が処理を行ったサンプルに比べて高かった。
り電荷密度約１０００Ｃ／ｄｍ2 以下で電気化学的処理
を行ったものについて実験テストを行った結果、光輝焼
なまし材料が実質的に深絞りに適した特性を有するとい
う確証が得られた。更にまた、電子顕微鏡による１５０
００倍の影像を観察したところ、ストリップの表面に付
着物（残存酸素等によるもの）の存在はもはや認められ
なかった。次に、オージェ電子のスパッタリングによ
り、深さ方向の特性を調べたところ、層の成分的に以下
のような相違が認められた。即ち、酸素と鉄の間の交差
領域は略同等である。酸素の浸透は、処理を行わないサ
ンプルの方が処理を行ったサンプルに比べて格段に深か
った（前者が約１５ｎｍ以下であるのに対して、後者は
約８ｎｍ以下であった）。また、炭素濃度は未処理のサ
ンプルの方が処理を行ったサンプルに比べて高かった。
【００３０】これらの肯定的な予備試験を行ったのち、
光輝焼なまし材料で作製した幾つかのコイルについて、
テストプラントで電気化学的処理を行った。これにより
得られた材料（約１０トン）に対して、次に、２種類の
試験を行った。第１の試験は、上記材料をストレッチャ
ー／ローラー型のレベリングマシンにより加工するとい
うものである。その結果、表面分析により既に示されて
いたことが確認された。即ち、柔らかい材料は、ロール
に対して殆ど損傷を与えず、また、ストリップ表面のい
わゆるマイクロスクラッチからも何ら損傷は見出されな
かった。第２の試験においては、上記新たな電気化学的
処理が深絞り工具の寿命に対して与える影響を調べた。
この試験は、予期したとおり、上記電気化学的処理が深
絞り工具の寿命に対して肯定的な効果をもたらすことを
示した。
光輝焼なまし材料で作製した幾つかのコイルについて、
テストプラントで電気化学的処理を行った。これにより
得られた材料（約１０トン）に対して、次に、２種類の
試験を行った。第１の試験は、上記材料をストレッチャ
ー／ローラー型のレベリングマシンにより加工するとい
うものである。その結果、表面分析により既に示されて
いたことが確認された。即ち、柔らかい材料は、ロール
に対して殆ど損傷を与えず、また、ストリップ表面のい
わゆるマイクロスクラッチからも何ら損傷は見出されな
かった。第２の試験においては、上記新たな電気化学的
処理が深絞り工具の寿命に対して与える影響を調べた。
この試験は、予期したとおり、上記電気化学的処理が深
絞り工具の寿命に対して肯定的な効果をもたらすことを
示した。
【００３１】図１及び図２は表面電子顕微鏡（ＳＥＭ：
surface electron microscope ）による１０００倍の影
像を示す写真であり、図１は本発明の処理を行わない材
料を示し、図２は本発明方法により処理済みの材料を示
している。この場合の処理は、電流密度７０Ａ／ｄｍ
2 、温度８５℃、電荷密度５００Ｃ／ｄｍ2 で行った。
図３及び図４は、同様の材料についての１５０００倍の
影像を示す写真である。これらの写真により、処理後に
はストリップ表面の粒子が消えていることが明瞭に確認
できる。
surface electron microscope ）による１０００倍の影
像を示す写真であり、図１は本発明の処理を行わない材
料を示し、図２は本発明方法により処理済みの材料を示
している。この場合の処理は、電流密度７０Ａ／ｄｍ
2 、温度８５℃、電荷密度５００Ｃ／ｄｍ2 で行った。
図３及び図４は、同様の材料についての１５０００倍の
影像を示す写真である。これらの写真により、処理後に
はストリップ表面の粒子が消えていることが明瞭に確認
できる。
【００３２】すべての試験において、深絞り特性は改善
された。いくぶん粗目のサンプル（試験１及び２）にお
いては、オイルの付着性が改善されたことによる付随的
効果が得られた。
された。いくぶん粗目のサンプル（試験１及び２）にお
いては、オイルの付着性が改善されたことによる付随的
効果が得られた。
【００３３】
【発明の効果】このように、本発明に係る方法によると
きは、処理後のステンレススチールストリップの機械的
加工が格段に容易になると共に、加工特性も改善され、
工具の寿命も延びるものであるから、一方では、光輝焼
なまし材料のストリップ表面の化学的組成に関して、ま
た他方では、その物理的特性に関して有益な効果がもた
らされるものである。
きは、処理後のステンレススチールストリップの機械的
加工が格段に容易になると共に、加工特性も改善され、
工具の寿命も延びるものであるから、一方では、光輝焼
なまし材料のストリップ表面の化学的組成に関して、ま
た他方では、その物理的特性に関して有益な効果がもた
らされるものである。
【図１】 本発明の処理を行わない材料の表面の電子顕
微鏡写真（１０００倍）である。
微鏡写真（１０００倍）である。
【図２】 本発明による処理を施した材料の表面の電子
顕微鏡写真（１０００倍）である。
顕微鏡写真（１０００倍）である。
【図３】 本発明の処理を行わない図１と同一の材料の
表面の電子顕微鏡写真（１５０００倍）である。
表面の電子顕微鏡写真（１５０００倍）である。
【図４】 本発明による処理を施した図２と同一の材料
の表面の電子顕微鏡写真（１５０００倍）である。
の表面の電子顕微鏡写真（１５０００倍）である。
Claims (17)
- 【請求項１】ステンレススチールに対して、光輝焼なま
し処理を施し、然る後、２００Ａ／ｄｍ2 以下の電流密
度で電気化学的処理を施すこと、を特徴とする改良され
た表面性状を有するステンレススチールストリップを製
造する方法。 - 【請求項２】上記電気化学的処理を、硫酸塩（ＳＯ
4 2-）を含む電解質中で行うことを特徴とする請求項１
に記載の方法。 - 【請求項３】電解質としてＮａ2 ＳＯ4 を用い、ｐＨ４
〜１２の範囲内、望ましくは約ｐＨ７で行うことを特徴
とする請求項２に記載の方法。 - 【請求項４】温度３０℃〜９５℃の範囲内、望ましくは
約８５℃で行うことを特徴とする請求項３に記載の方
法。 - 【請求項５】電荷密度１００Ｃ／ｄｍ2 〜３０００Ｃ／
ｄｍ2 の範囲内、望ましくは約５００Ｃ／ｄｍ2 で処理
を行うことを特徴とする請求項３に記載の方法。 - 【請求項６】電流密度２０Ａ／ｄｍ2 〜２００Ａ／ｄｍ
2 の範囲内、望ましくは約５０Ａ／ｄｍ2 で行うことを
特徴とする請求項３に記載の方法。 - 【請求項７】遊離酸濃度が少なくとも５ｇ／ｌ以上の硫
酸（Ｈ2 ＳＯ4 ）を用いると共に、レドックス電位を変
化させるための物質（金属イオン、酸化物）、望ましく
はクロムイオン（Ｃｒ6+）を添加することにより、レド
ックス電位を約８６０ｍＶに設定して行うことを特徴と
する請求項２に記載の方法。 - 【請求項８】温度２０℃〜９５℃の範囲内、望ましくは
約５０℃で行うことを特徴とする請求項７に記載の方
法。 - 【請求項９】電荷密度１００Ｃ／ｄｍ2 〜３０００Ｃ／
ｄｍ2 の範囲内、望ましくは約３５０Ｃ／ｄｍ2 で処理
を行うことを特徴とする請求項７に記載の方法。 - 【請求項１０】電流密度５Ａ／ｄｍ2 〜１００Ａ／ｄｍ
2 の範囲内、望ましくは約４０Ａ／ｄｍ 2 で行うことを
特徴とする請求項７に記載の方法。 - 【請求項１１】電解質として、遊離酸濃度が少なくとも
５ｇ／ｌ以上の硫酸（Ｈ2 ＳＯ4 ）を用いることを特徴
とする請求項２に記載の方法。 - 【請求項１２】電荷密度１００Ｃ／ｄｍ2 〜３０００Ｃ
／ｄｍ2 の範囲内、望ましくは約１５０Ｃ／ｄｍ2 で処
理を行うことを特徴とする請求項１１に記載の方法。 - 【請求項１３】温度２０℃〜９５℃の範囲内、望ましく
は約３０℃で行うことを特徴とする請求項１１に記載の
方法。 - 【請求項１４】電流密度５Ａ／ｄｍ2 〜１００Ａ／ｄｍ
2 の範囲内、望ましくは約３０Ａ／ｄｍ 2 で行うことを
特徴とする請求項１１に記載の方法。 - 【請求項１５】リン酸塩、硫酸塩、フッ化物、硝酸塩、
塩化物又はそれらの混合物等のアニオンを含む電解質を
用いることを特徴とする請求項１に記載の方法。 - 【請求項１６】溶解金属イオンを酸化もしくは還元する
ための物質、又は、電解質のレドックス電位をも変化さ
せるための物質を添加することを特徴とする請求項１に
記載の方法。 - 【請求項１７】電解質として、アルカリ硫酸塩、アルカ
リ土類硫酸塩又はアンモニア硫酸塩を用いることを特徴
とする請求項２に記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| AT0194999A AT408451B (de) | 1999-11-18 | 1999-11-18 | Verfahren zur herstellung von edelstahlbändern mit verbesserten oberflächeneigenschaften |
| AT1949/99 | 1999-11-18 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001192900A true JP2001192900A (ja) | 2001-07-17 |
Family
ID=3524534
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000350814A Pending JP2001192900A (ja) | 1999-11-18 | 2000-11-17 | 改良された表面性状を有するステンレススチールストリップを製造する方法 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6921443B1 (ja) |
| EP (1) | EP1101840B1 (ja) |
| JP (1) | JP2001192900A (ja) |
| AT (2) | AT408451B (ja) |
| DE (1) | DE50015902D1 (ja) |
| ES (1) | ES2344336T3 (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN101684556A (zh) * | 2008-09-25 | 2010-03-31 | 深圳富泰宏精密工业有限公司 | 壳体的表面处理方法 |
| JP2014517871A (ja) * | 2011-04-20 | 2014-07-24 | トプサー・フューエル・セル・アクチエゼルスカベット | ステンレス鋼のプレート又はシートの表面調整及び該表面上への層の適用、該方法によって製造されたインターコネクトプレート、及び燃料電池スタックにおける該インターコネクトプレートの使用 |
| CN103358104A (zh) * | 2012-04-06 | 2013-10-23 | 富泰华工业（深圳）有限公司 | 金属壳体成型方法 |
| CN114232065B (zh) * | 2021-11-05 | 2023-09-15 | 西安赛隆金属材料有限责任公司 | 一种去除不锈钢表面变质层的方法 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0559600A (ja) * | 1991-08-28 | 1993-03-09 | Sanai Sekiyu Kk | 金属パイプ内面の電解処理用電線と電極及び電解研磨法 |
| JPH06257000A (ja) * | 1993-03-04 | 1994-09-13 | Kawasaki Steel Corp | 防眩性と耐食性を兼ね備えた外装用ステンレス鋼板の製造方法 |
| JPH10147900A (ja) * | 1996-11-15 | 1998-06-02 | Kawasaki Steel Corp | オーステナイト系ステンレス光輝焼鈍鋼帯の表面性状調整方法 |
Family Cites Families (17)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB1576195A (en) | 1977-03-22 | 1980-10-01 | Sumitomo Metal Ind | Apparatus for continuous electrolytic descaling of steel wire with mill scales |
| US4391685A (en) | 1981-02-26 | 1983-07-05 | Republic Steel Corporation | Process for electrolytically pickling steel strip material |
| US4363709A (en) * | 1981-02-27 | 1982-12-14 | Allegheny Ludlum Steel Corporation | High current density, acid-free electrolytic descaling process |
| US4450058A (en) * | 1983-07-29 | 1984-05-22 | Allegheny Ludlum Steel Corporation | Method for producing bright stainless steel |
| US4713154A (en) | 1985-08-08 | 1987-12-15 | Kawasaki Steel Corporation | Continuous annealing and pickling method and apparatus for steel strips |
| JPS6386899A (ja) * | 1986-09-29 | 1988-04-18 | Kawasaki Steel Corp | ステンレス冷延・焼鈍鋼帯の電解酸洗方法 |
| AT387406B (de) | 1987-05-07 | 1989-01-25 | Andritz Ag Maschf | Verfahren zum elektrolytischen beizen von chromhaeltigem edelstahl |
| JPH01147100A (ja) | 1987-12-03 | 1989-06-08 | Kawasaki Steel Corp | ステンレス冷延・焼鈍鋼帯の脱スケール方法 |
| JPH0759759B2 (ja) * | 1988-10-29 | 1995-06-28 | 株式会社日立製作所 | 焼鈍されたステンレス鋼帯の脱スケール方法及び装置 |
| US5248372A (en) | 1992-09-08 | 1993-09-28 | Production Machinery Corporation | Apparatus for pickling a metal sheet material |
| SE501561C2 (sv) | 1993-05-09 | 1995-03-13 | Swedish Pickling Ab | Förfarande och anordning vid betning av rostfritt stål varvid strömmen leds igenom stålbandet i dess tjockleksriktning |
| CA2192834C (en) | 1995-04-14 | 2001-02-13 | Shinichi Teraoka | Apparatus for producing strip of stainless steel |
| ES2142018T3 (es) | 1995-09-15 | 2000-04-01 | Mannesmann Ag | Procedimiento e instalacion para el tratamiento de productos en forma de fleje de acero inoxidable. |
| IT1276954B1 (it) | 1995-10-18 | 1997-11-03 | Novamax Itb S R L | Processo di decapaggio e di passivazione di acciaio inossidabile senza impiego di acido nitrico |
| FR2740061B1 (fr) | 1995-10-19 | 1997-11-28 | Ugine Sa | Procede d'elaboration, sur une ligne, en continu, d'une bande de tole laminee d'acier inoxydable presentant un etat de surface amelioree |
| US5830291C1 (en) | 1996-04-19 | 2001-05-22 | J & L Specialty Steel Inc | Method for producing bright stainless steel |
| US5879465A (en) | 1996-12-20 | 1999-03-09 | Mckevitt; Patrick | Method and apparatus for descaling hot rolled stainless steel strip |
-
1999
- 1999-11-18 AT AT0194999A patent/AT408451B/de not_active IP Right Cessation
-
2000
- 2000-11-06 ES ES00124068T patent/ES2344336T3/es not_active Expired - Lifetime
- 2000-11-06 EP EP00124068A patent/EP1101840B1/de not_active Expired - Lifetime
- 2000-11-06 DE DE50015902T patent/DE50015902D1/de not_active Expired - Lifetime
- 2000-11-06 AT AT00124068T patent/ATE464406T1/de not_active IP Right Cessation
- 2000-11-17 US US09/714,670 patent/US6921443B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2000-11-17 JP JP2000350814A patent/JP2001192900A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0559600A (ja) * | 1991-08-28 | 1993-03-09 | Sanai Sekiyu Kk | 金属パイプ内面の電解処理用電線と電極及び電解研磨法 |
| JPH06257000A (ja) * | 1993-03-04 | 1994-09-13 | Kawasaki Steel Corp | 防眩性と耐食性を兼ね備えた外装用ステンレス鋼板の製造方法 |
| JPH10147900A (ja) * | 1996-11-15 | 1998-06-02 | Kawasaki Steel Corp | オーステナイト系ステンレス光輝焼鈍鋼帯の表面性状調整方法 |
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| Publication number | Publication date |
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| EP1101840A1 (de) | 2001-05-23 |
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