JP2001191022A - 化粧板の製造方法 - Google Patents

化粧板の製造方法

Info

Publication number
JP2001191022A
JP2001191022A JP2000004810A JP2000004810A JP2001191022A JP 2001191022 A JP2001191022 A JP 2001191022A JP 2000004810 A JP2000004810 A JP 2000004810A JP 2000004810 A JP2000004810 A JP 2000004810A JP 2001191022 A JP2001191022 A JP 2001191022A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
resin
diisocyanate
applying
compound
decorative board
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2000004810A
Other languages
English (en)
Inventor
Mitsuhiro Matsuda
充弘 松田
Makoto Emi
眞 江見
Tomohiro Jomaru
智洋 城丸
Hiroshi Maeda
浩志 前田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dai Nippon Toryo KK
Original Assignee
Dai Nippon Toryo KK
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dai Nippon Toryo KK filed Critical Dai Nippon Toryo KK
Priority to JP2000004810A priority Critical patent/JP2001191022A/ja
Publication of JP2001191022A publication Critical patent/JP2001191022A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 基材表面に模様印刷層を能率よく且つ精度よ
く描画でき、しかも耐久性に優れた化粧板の製造方法を
提供する。 【解決手段】 下層塗膜を施した基材表面に、活性水素
を有する化合物及びポリイソシアネート化合物を樹脂成
分とするベースコートを塗装する工程、前記ベースコー
トの反応率が20〜80%の状態で、前記ベースコート
上に紫外線硬化型被覆組成物を塗布しスクリーン印刷に
て所望の模様状に形成させ、紫外線照射により模様塗膜
を形成する工程、更にトップコートを塗装する工程から
なる化粧板の製造方法。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、意匠性に優れ、繊
細な模様を有する化粧板の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、建築物の内壁用化粧板、外壁用化
粧板に模様を付ける方法は種々知られている。内壁用化
粧板としては、基材の表面にアルカリ防止と強化処理と
を施し、該処理層の表面にグラビア印刷した化粧紙を接
着剤で貼合し、化粧紙の表面に不飽和ポリエステル樹脂
を塗布したものがあるが、この化粧紙により多色の模様
を表現することができるが、化粧紙の印刷、接着剤を貼
合するという手間とコストがかかっていた。
【0003】また、上記化粧板を建築物の内壁として取
付けた場合に、裏面からまたは側端面から水分が侵入す
ると、基材に含まれているアルカリ分が溶けてアルカリ
防止処理層から透出し、化粧紙を有するため、カビや汚
れを生じ、変色させることになる。したがって、長期間
の経過により化粧板の表面が著しく汚れるばかりでなく
劣化し、また化粧紙が基材から剥離するという問題点が
あった。
【0004】外壁用化粧板としては、レンガやタイルあ
るいは自然石を並べて積み上げた様な外観を呈するもの
が好まれ、普及する傾向が増大している。しかしなが
ら、このような外観を有する化粧板の生産においては、
未硬化の状態にある水硬性板材の表面を、凹凸模様が形
成されている型板を介してプレス機で押圧してレンガ、
タイル、自然石肌等を表現する凹凸模様を該板材表面に
形成し、次いで硬化養生工程を経、その後公知の塗装機
等で塗料を塗装する表面化粧工程を経て化粧板としてい
る。しかし、このような方法で得られた建築板はその表
面化粧が単一色であるか、または高低差を利用した2色
仕上げであるかのいずれかであり、いずれも本物のレン
ガやタイル、あるいは自然石からなる建築材料の外観と
は全く異なり、意匠性に乏しいという問題点があった。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記のよう
な諸問題を解決するものであり、基材表面に模様印刷層
を能率よく且つ精度よく描画でき、しかも耐久性に優れ
た化粧板の製造方法を提供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明者等は、上記の目
的を達成するために鋭意検討の結果、活性水素を有する
化合物及びポリイソシアネート化合物を樹脂成分とする
ベースコート及び紫外線硬化型被覆組成物を用いたスク
リーン印刷を組み合わせて用いることにより上記目的が
達成されることを見出し、本発明に到達した。
【0007】即ち、本発明は、下層塗膜を施した基材表
面に、活性水素を有する化合物及びポリイソシアネート
化合物を樹脂成分とするベースコートを塗装する工程、
前記ベースコートの反応率が20〜80%の状態で、前
記ベースコート上に紫外線硬化型被覆組成物を塗布しス
クリーン印刷にて所望の模様状に形成させ、紫外線照射
により模様塗膜を形成する工程、更にトップコートを塗
装する工程からなる化粧板の製造方法である。
【0008】
【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
【0009】本発明において使用される基材とは、鋼
板、非鉄金属、無機建材、木質系材料、プラスチック、
陶磁器類、ガラス等が挙げられる。例えば、鋼板として
は、黒皮鋼板、ダル鋼板、みがき鋼板、ステンレス鋼
板、鋳物鋼板の他に、ブリキ板、亜鉛メッキ鋼板、塗装
鋼板、ラミネート鋼板等の表面処理鋼板を含み、非金属
としてアルミニウム、銅等とそれらの合金板を含む。無
機建材としては石綿スレート板、ケイカル板、石膏スラ
グ板、押し出し成形石綿セメント板、GRC板、石膏ボ
ード、モルタル板、軽量気泡コンクリート板、ロックウ
ール板、ガラス板、セラミック板に適用できる。木質系
材料としてはブナ、ラワン、アガチス等の天然木板の他
にベニヤ合板、パーティクルボード、ハードボード、チ
ップボード、化粧合板等を用いることができる。プラス
チックとしてはアクリル樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリス
チレン、ABS、ナイロン、ポリプロピレン、フェノー
ル樹脂、ガラス繊維強化のエポキシ樹脂、ポリフェニレ
ンオキサイド等を用いることができる。
【0010】本発明の製造方法における、下層塗膜の塗
料は、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アクリル樹脂、ア
クリルシリコン樹脂、シリコン樹脂、フッ素樹脂を結合
剤とし、さらに着色顔料、体質顔料、水、有機溶剤及び
その他の各種添加剤等を配合することができる。前記着
色顔料としては、酸化チタン、亜鉛華、酸化鉄、黄鉛、
フタロシアニンブルー、ベンジジンイエロー、カーボン
ブラック等が代表的な例として挙げられる。前記体質顔
料としては、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、タルク、
石英粉等が代表的な例として挙げられる。また、前記有
機溶剤としては、トルエン、キシレン等の炭化水素系溶
剤、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶剤、メチ
ルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン系
溶剤等が代表的な例として挙げられる。前記その他の各
種添加剤としては、分散剤、沈殿防止剤、増粘剤、防カ
ビ剤等が挙げられる。
【0011】本発明で用いられる活性水素を有する化合
物としては、ポリエーテルポリオール、ポリエステルポ
リオール、アクリルポリオール、ポリウレタンポリオー
ル等が挙げられる。
【0012】ポリエーテルポリオールとしては、例えば
ポリアルキレングリコール(例えばポリエチレングリコ
ール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレン
グリコール、ポリヘキサメチレングリコール)あるいは
アルキレンオキシド(例えばエチレンオキシド、プロピ
レンオキシド、テトラヒドロフラン)をポリオール(例
えばエチレングリコール、ジエチレングリコール、プロ
ピレングリコール、ジプロピレングリコール、グリセロ
ール、トリメチロールプロパン、1,3−ブタンジオー
ル、1,4−ブタンジオール、1,5−ヘキサンジオー
ル、1,2,6−ヘキサントリオール、ペンタエリスリ
トール、ソルビトール、ソルビタン、シュークロース)
に付加せしめて得られる。
【0013】ポリエステルポリオールとしては、例えば
多塩基酸(例えばフタル酸、イソフタル酸、テレフタル
酸、テトラヒドロフタル酸、テトラクロルフタル酸、テ
トラブロムフタル酸、ヘキサヒドロフタル酸、ハイミッ
ク酸、ヘット酸、コハク酸、マレイン酸、フマール酸、
アジピン酸、セバシン酸、ドデセニルコハク酸、トリメ
リット酸、ピロメリット酸)またはその無水物と多価ア
ルコール(例えばエチレングリコール、ジエチレングリ
コール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコー
ル、グリセロール、トリメチロールプロパン、1,3−
ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、1,6−ヘ
キサンジオール、ネオペンチルグリコール、1,2,6
−ヘキサントリオール、ペンタエリスリトール、ソルビ
トール、ビスフェノールA)との縮合反応により得られ
るポリエステルポリオール、上記多価アルコールとエポ
キシ化合物(例えばn−ブチルグリシジルエーテル、ア
リルグリシジルエーテル)と上記多塩基酸の反応によっ
て得られるポリエステルポリオール、上記エポキシ化合
物と上記多塩基酸との反応によって得られるポリエステ
ルポリオール、高級脂肪酸(例えば大豆油、アマニ油、
サフラワー油、ヤシ油、脱水ヒマシ油、キリ油、ロジ
ン)と上記多塩基酸と上記多価アルコールとの反応によ
り得られるアルキッド型ポリオール、ε−カプロラクタ
ムと上記多価アルコールとを開環重合させて得られる重
合型ポリエステルポリオール等がある。
【0014】アクリルポリオールとしては、例えば水酸
基を有するエチレン性不飽和モノマー(例えば2−ヒド
ロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプ
ロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル
(メタ)アクリレート)を必須単量体とし、必要に応じ
他の単量体(例えばメチル(メタ)アクリレート、エチ
ル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレ
ート、イソブチル(メタ)アクリレート、エチルヘキシ
ル(メタ)アクリレート、スチレン、α−メチルスチレ
ン、ビニルトルエン、t−ブチルスチレン、エチレン、
プロピレン、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、(メ
タ)アクリロニトリル、ジメチルアミノエチル(メタ)
アクリレート)との重合反応により得られる。
【0015】ポリウレタンポリオールとしては、例えば
イソシアネート化合物(例えばエチレンジイソシアネー
ト、プロピレンジイソシアネート、テトラメチレンジイ
ソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、1−
メチル−2,4−ジイソシアネートシクロヘキサン、1
−メチル−2,6−ジイソシアネートシクロヘキサン、
ω,ω′−ジイソシアネートジエチルベンゼン、ω,
ω′−ジイソシアネートメチルアミノトルエン、ω,
ω′−ジイソシアネートジメチルキシレン、ω,ω′−
ジイソシアネートジエチルキシレン、リジンジイソシア
ネート、4,4′−メチレンビス(シクロヘキシルイソ
シアネート)、4,4′−エチレンビス(シクロヘキシ
ルイソシアネート)、ω,ω′−ジイソシアネート−
1,3−ジメチルベンゼン、ω,ω′−ジイソシアネー
ト−1,4−ジメチルベンゼン、イソホロンジイソシア
ネート、2,4−トリレンジイソシアネート、2,6−
トリレンジイソシアネート、1,5−ナフチレンジイソ
シアネート、4,4−メチレンビス(フェニルイソシア
ネート)、トリフェニルメタントリイソシアネート)ま
たはその多量体とこれらに対して過剰量の低分子ポリオ
ール(例えばエチレングリコール、プロピレングリコー
ル、1,3−ブチルグリコール、ネオペンチルグリコー
ル、2,2,4−トリメチル−1,3−ペンタンジオー
ル、ヘキサメチレングリコール、シクロヘキサンジメタ
ノール、トリメチロールプロパン、ヘキサントリオー
ル、グリセリン、ソルビトール、ソルビタン、シューク
ロース、ペンタエリスリトール等)との付加反応によっ
て得られるポリウレタンポリオール、前記のようなポリ
エーテルポリオール、ポリエステルポリオール、重合型
ポリエステルポリオール及びアクリルポリオールの中で
比較的低分子量のポリオール化合物とモノイソシアネー
ト、ジイソシアネート、トリイソシアネートのようなイ
ソシアネート化合物との付加反応によって得られるポリ
ウレタンポリオール等が挙げられる。
【0016】また、活性水素を有する化合物は、その骨
格中に不飽和二重結合を有していても良く、具体例とし
て、アリルアルコール、アクリル酸、メタクリル酸、3
−シクロヘキセンメタノール、テトラヒドロフタル酸等
がある。
【0017】これら活性水素を有する化合物であればど
のようなものでも用いることができ、それら2種以上を
混合して用いてもよい。
【0018】本発明で用いられるポリイソシアネート化
合物としては、炭素数(NCO基中の炭素を除く)6〜
20の芳香族ポリイソシアネート、炭素数2〜18の脂
肪族ポリイソシアネート、炭素数4〜15の脂環式ポリ
イソシアネート、炭素数8〜15の芳香脂肪族ポリイソ
シアネート及びこれらのポリイソシアネートの変性物
(ウレタン基、カルボジイミド基、アロファネート、ウ
レア基、ビューレット基、ウレトジオン基、ウレトイミ
ン基、イソシアヌレート基、オキサゾリドン基含有変性
物等)が使用できる。このようなポリイソシアネートの
具体例としては1,3−及び1,4−フェニレンジイソ
シアネート、2,4−及び2,6−トリレンジイソシア
ネート(TDI)、ジフェニルメタン−2,4′−及び
4,4′−ジイソシアネート(MDI)、ナフチレン−
1,5−ジイソシアネート、トリフェニルメタン、4,
4′,4″−トリイソシアネート、アニリン−ホルムア
ルデヒド縮合後ホスゲン化することにより得られるポリ
フェニレンポリイソシアネート(PAPI)、m−及び
p−イソシアナトフェニルスルホニルイソシアネート等
の芳香族ポリイソシアネート;エチレンジイソシアネー
ト、テトラメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレン
ジイソシアネート、ドデカメチレンジイソシアネート、
1,6,11−ウンデカントリイソシアネート、2,
3,4−トリメチルヘキサンジイソシアネート、リジン
ジイソシアネート、2,6−ジイソシアネートメチルカ
プロエート、ビス(2−イソシアネートエチル)フマレ
ート、ビス(2−イソシアネートエチル)カーボネー
ト、2−イソシアネートエチル−2,6−ジイソシアネ
ートヘキサノエート等の脂肪族ポリイソシアネート;イ
ソホロンジイソシアネート、ジシクロヘキシルジイソシ
アネート、シクロヘキシレンジイソシアネート、ビス
(2−イソシアネートエチル)4−シクロヘキセン−
1,2−ジカルボキシレート等の脂環式ポリイソシアネ
ート;キシリレンジイソシアネート、ジエチルベンゼン
ジイソシアネート等の芳香脂肪族ポリイソシアネート;
ウレタン変性MDI、カルボジイミド変性MDI、ウレ
タン変性TDI等のポリイソシアネートの変性物及びこ
れらの2種以上の混合物が挙げられる。
【0019】本発明でいう活性水素を有する化合物及び
ポリイソシアネート化合物を樹脂成分とするベースコー
トの反応率とは、塗膜中に存在する未反応イソシアネー
ト量を定量することにより求められるが、Lamber
t−Beerの法則によると光の通過距離xはある波数
の光に対して光の吸収を起こす物質の濃度cに比例す
る。即ち、 x=c×L L:物質の厚さ (1) また、入射光の強さをI0 、透過光の強さをIとする
と、 で表わされる。ここで、kは濃度に無関係な量でモル吸
光係数と呼ばれる。また、ln (I0 /I)は吸光度で
あり光を吸収する物質の濃度に比例する。今、波数a,
bにおいて光を吸収する成分がある場合、 Aa =ka ×ca ×La (3) Ab =kb ×cb ×Lb (4) で表わされる。ところが、同一試料においてその分子構
造により吸収が起こるときの二波数の吸収度の比は、 であり、 となる。このことによりcb が一定になる場合には吸収
度を求めることにより、ca なる成分の濃度を敏速に知
ることが可能になる。
【0020】ウレタン塗料の硬化は主として、 R・NCO+R′OH→R・NHCOOR′ (6) の反応によってウレタンを生成する。即ち、分子構造の
変化としては反応の進行とともにイソシアネート基とオ
キシ基の濃度が減少し、一方ではウレタン結合が生成す
る。また、炭化水素による鎖状部分は全く変化しないこ
ととガス発生等による減量がないことから、(5)式を
適用することが可能である。
【0021】ウレタン結合試料の赤外線吸収スペクトル
における特徴的な吸収として、OH,NHの吸収、CH
2 結合による吸収、NCOによる吸収、ウレタン結合に
よる吸収が認められる。特に、NCOの吸収強度の変化
から活性水素化合物との反応を追跡することできる。
【0022】ところで、特性吸収のうちCH2 結合によ
る吸収は反応によって変化しない吸収であり、この吸収
と標準吸収として(5)式よりイソシアネート基の変化
量を比較法で求めることができる。
【0023】即ち、図1に示すように特性吸収の肩を結
ぶベースラインを引き、(7)式に従って透過率を求め
る。
【0024】 %T=T1 /T0 ×100 (7) %Tは(8)式により吸光度に変換できる。
【0025】 A=2−log(%)T (8) 2950cm-1 CH2 結合の吸光度をACH2 、226
0cm-1 NCOの吸光度をANCO で表わすと(5)式
により吸光度が得られる。
【0026】 この吸光度比を比較することによりイソシアネート基の
変化量を知ることができる。
【0027】しかし、以上説明した赤外線吸収法による
定量はすべて透過法によるスペクトルによって行なわれ
ているが、塗膜のような固体試料では容易に粉末にでき
ず、また多くの場合pigmentation(着色)
されているので、透過法によるスペクトル測定は困難で
ある。
【0028】そこで、赤外線吸収法と同様のスペクトル
が得られる赤外全反射スペクトル法(ATR法)が採用
される。ATR法というのは従来透過法の試料を置くと
ころにプリズムを置き、このプリズムに赤外線を入れる
とプリズム底面で全反射し光束エネルギーの一部が反射
面からはみだした状態が得られる。そして、プリズムに
密着させた試料に赤外波長領域の吸収をもっている場
合、その波長の赤外線は一部吸収される。したがって、
ATRスペクトルは前記赤外線吸収法と同様のスペクト
ルが得られる。
【0029】本発明で用いられる紫外線硬化型被覆組成
物の成分は、従来から通常使用されているものが特に制
限なく使用出来る。即ち、本発明における紫外線硬化型
被覆組成物は、紫外線重合性化合物、光開始剤を必須成
分とし、さらに必要に応じ体質顔料、溶剤、添加剤等か
らなるものである。
【0030】さらに詳しく説明すると、前記「紫外線重
合性化合物」としては、分子内にラジカル重合可能な不
飽和二重結合を有する化合物が用いられる。具体的に
は、比較的低分子量のポリエステル樹脂、アルキド樹
脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、
ウレタン樹脂、シリコン樹脂、ポリブタジエン樹脂、ア
クリル系オリゴマーまたはプレポリマー及び2−エチル
ヘキシル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル
(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メ
タ)アクリレート、ジプロピレングリコールモノ(メ
タ)アクリレート、(メタ)アクリルアミド、N−ビニ
ルピロリドン、トリエチレングリコールジ(メタ)アク
リレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリ
レート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリ
レート等の反応性モノマーの単独または混合物が代表的
なものとして挙げられる。また紫外線重合性化合物とし
てカチオン開環重合型のビニル−2−エチルヘキシルエ
ーテル、ビニルデシルエーテル、1,2−エポキシシク
ロヘキサン、ジシクロペンタジエンジオキサイド、ソル
ビトールポリグリシジルエーテル等も使用できる。
【0031】また、「光開始剤」としてはベンゾイン、
ベンゾフェノンまたはこれらエステル、過酸化ベンゾイ
ル、アゾビスイソブチロニトリル、ジフェニルジサルフ
ァイド、N−メチルジエタノールアミン、アシルフォス
フィンオキサイド、2,5−ジエトキシ−4−(p−ト
リルチオ)ベンゼンアゾニウムヘキサフルオロホスフェ
ート、ベンジルジメチルケタール、α−ヒドロキシイソ
ブチロフェノン、α,α−ジメチル−αヒドロキシアセ
トフェノン等の通常の反応開始剤が例として挙げられ
る。
【0032】体質顔料としては、珪砂、珪酸塩、タル
ク、カオリン、硫酸バリウム、炭酸カルシウム、粉末
状、フレーク状、ファイバー状のガラス、ポリウレタ
ン、ポリエステル、ポリエチレン、ポリスチレン等の樹
脂粉末等が代表的なものとして挙げられる。
【0033】さらに「溶剤」としては、トルオール、キ
シロール、アセトン、メチルエチルケトン、酢酸エチル
等が代表的なものとして挙げられる。
【0034】本発明の紫外線硬化型被覆組成物は、必要
に応じて着色顔料を配合することも可能であり、上記着
色顔料としては、通常の無機・有機染顔料が使用でき
る。具体的には、酸化チタン、硫化亜鉛、亜鉛華、鉛
白、リトポン、カーボンブラック、油煙、紺青、フタロ
シアニンブルー、群青、カーミンFB、黄鉛、亜鉛黄、
ハンザイエロー、オーカー、ベンガラ、不溶性含金属ア
ゾ染料等が代表的なものとして挙げられる。
【0035】本発明で用いるクリヤー塗料としては、前
記下層塗膜用塗料から着色顔料を除いた組成のものを使
用する。
【0036】次に、本発明の化粧板の製造方法について
説明する。本発明においては、まず、基材表面に前記の
下層塗膜用塗料を塗布、硬化させて下層塗膜を形成す
る。下層塗膜用塗料の塗布は、具体的には、基材表面
に、前記下層塗膜用塗料を塗布、含浸させ、素地固めを
し、かつ、基材中の空隙部の空気を塗料で置換、充填す
ることにより行われる。前記下層塗膜用塗料にはシーラ
ーとしての機能を持たせているが、場合により、無機質
基材に予めシーラーを塗布、含浸させ、その後前記下層
塗膜用塗料を塗布してもよく、そのような態様も本発明
の製造方法に含まれるものである。塗布された下層塗膜
用塗料は、常温乾燥または強制乾燥により硬化させる
が、予熱した基材を使用することにより乾燥を早めるこ
とも可能である。このようにして下層塗膜が形成され
る。
【0037】次いで得られた下層塗膜上に全面もしくは
部分的に前記紫外線硬化型被覆組成物を塗布しスクリー
ン印刷し、所望の模様状凹凸塗膜を形成する。なお、ス
クリーン印刷法とは、適当なメッシュ数の紗に、必要な
模様部分以外を樹脂等にて隠蔽したスクリーン版上を、
スキージを用いて塗料を移動させ、隠蔽されていない模
様部分の紗の網の目のみ塗料をすり込んだ後、スクリー
ン版を上げる方法により盛り上げ模様状凹凸を形成させ
る方法である。
【0038】本発明で使用するスクリーン版のメッシュ
数は、350メッシュ以上であることが望ましく、前記
メッシュ数の紗を使用することにより、微細な凹凸表面
を有する下塗塗膜上にも過大な負荷をかけることなく、
平滑な塗膜を形成することができる。メッシュ数の上限
は特に制限がないが、あまり大きいと微細な模様塗膜が
表現できなくなるので、400メッシュ程度までが適当
である。なお、メッシュ数が500メッシュを越える
と、1回のスキージングでは印刷抜けや飛びを生じ、ま
た塗膜表面が平滑にならないので、好ましくない。
【0039】スクリーン印刷の後、紫外線を照射して光
重合反応を誘起させて、塗膜を硬化させ、スクリーン印
刷塗膜を形成する。なお、紫外線を照射するために用い
られる光源としては、低圧水銀灯、高圧水銀灯、メタル
ハライドランプ、カーボンアーク灯、キセノンランプ、
ケミカルランプ等を使用することができる。
【0040】このようにして、凹凸模様塗膜を形成さ
せ、その後、クリヤー塗料を全面に仕上げ塗装し、意匠
性に優れ、微細な模様を有する化粧板を製造することが
できる。
【0041】なお、本発明においては、下層塗膜、ベー
スコート及びトップコートは通常のスプレー、静電霧
化、ロールコーター、フローコーター等の手段により塗
装することができる。
【0042】
【実施例】以下、本発明を実施例により更に詳細に説明
する。なお、実施例中「部」、「%」は重量基準であ
る。
【0043】<アクリルポリオール樹脂ワニス(A)>
メチルメタクリレート;70部、ブチルアクリレート;
15部、βヒドロキシエチルメタクリレート;15部、
キシレン;50部、酢酸ブチル;50部、AIBN(ア
ゾビスイソブチロニトリル)開始剤;1部からなる配合
物を常法にて重合して、重量平均分子量;40,00
0、加熱残分50%、水酸基価(固形分)65のアクリ
ルポリオール樹脂ワニス(A)を調整した。
【0044】<ポリエステルポリオール樹脂ワニス
(B)>脱脂ひまし油;40部、トリメチロールプロパ
ン;20部、エチレングリコール;10部、無水フタル
酸;30部を、常法により縮合反応させ、反応終了後、
キシレン;30部、酢酸ブチル;30部を加え、重量平
均分子量5,000、加熱残分60%、水酸基価(固形
分)100のポリエステルポリオール樹脂ワニス(B)
を調整した。
【0045】<アクリルウレタンオリゴマー(i)>イ
ソホロンジイソシアネート1モルと2−ヒドロキシエチ
ルアクリレート2モルを常法により付加反応させ、平均
分子量500のアクリルウレタンオリゴマー(i)を調
整した。
【0046】<エポキシアクリレート樹脂オリゴマー
(ii)>エピコート828(油化シェルエポキシ社製ビ
スフェノールA型ジエポキシ化合物、分子量380)1
モルとアクリル酸2モルを常法により付加反応させ、酸
価20のエポキシアクリレート樹脂オリゴマー(ii)を
調整した。
【0047】<着色紫外線硬化型塗料(I)>アクリル
ウレタンオリゴマー(i);50部にN−ビニルピロリ
ドン;5部、酸化チタン;30部、トリメチロールプロ
パントリアクリレート;14部、Lucirin TP
O(BASFジャパン社製;リン系光重合開始剤);1
部を調合混合し、着色紫外線硬化型塗料(I)を調整し
た。
【0048】<着色紫外線硬化型塗料(II)>エポキシ
アクリレート樹脂オリゴマー(ii);50部、1,6−
ヘキサンジオールジアクリレート;9部、α,α−ジメ
チル−αヒドロキシアセトフェノン;1部、炭酸カルシ
ウム;20部、カーボンブラック;20部を調合混合
し、着色紫外線硬化型塗料(II)を調整した。
【0049】(実施例1)Aワニス;60部、酸化チタ
ン;30部、キシレン;10部で練合し白エナメルを作
成した。
【0050】石綿ストート板に、Vセラン#100シー
ラー(大日本塗料株式会社製、商品名;ウレタン樹脂系
下塗り塗料)を塗装、乾燥後、上記白エナメルに、スミ
ジュールN75(住友バイエルウレタン株式会社製、商
品名;HDI系ポリイソシアネート樹脂、NCO含量1
6%)を上記白エナメルの水酸基価に対して1当量とな
る量を添加混合し、0.1kg/m2 の塗布量となるよ
うに塗装し、80℃×30分間乾燥した。このものの反
応率は、40%であった。乾燥後、前述の着色紫外線硬
化型塗料(I)を350メッシュの石目模様のスクリー
ン版を用い、膜厚10μmの立体柄スクリーン印刷を行
い、紫外線照射により硬化させ塗膜を形成させた。
【0051】この塗膜上に更に、クリヤー塗料としてV
フロン#200クリヤー(大日本塗料株式会社製フッ素
樹脂塗料)を塗装し、乾燥し、大理石調化粧板を作成し
た。
【0052】(実施例2)Bワニス;50部、酸化チタ
ン;20部、炭酸カルシウム;20部、キシレン;10
部で練合し、白エナメルを作成した。
【0053】ケイ酸カルシウム板表面にVトップ#10
0 白(大日本塗料株式会社製ウレタン樹脂塗料)を塗
装し、乾燥後、上記白エナメルにコロネートHX(日本
ポリウレタン株式会社製、商品名;HDI系ポリイソシ
アネート樹脂、NCO含量21%)を上記白エナメルの
水酸基価に対して1当量となる量を添加混合し、0.1
kg/m2 の塗布量となるように塗装し、200℃×2
0分乾燥した。このものの反応率は65%であった。こ
の塗膜上に更に、前述の着色紫外線硬化型塗料(II)を
350メッシュの木目模様のスクリーン版を用い、膜厚
10μmの立体柄スクリーン印刷を行い、紫外線照射に
より硬化させ塗膜を形成させた。
【0054】その後ルーセン#300クリヤー(大日本
塗料株式会社製、商品名;アクリルウレタン樹脂系紫外
線硬化型クリヤー)を0.05kg/m2 の塗布量とな
るように塗装し、紫外線照射により乾燥を行い、木目調
化粧板を作成した。
【0055】(比較例1)実施例1において、ウレタン
樹脂塗料の塗装後、加熱乾燥せず常温で10分間放置
し、溶剤が蒸発した時点で、同様のスクリーン印刷及び
トップコート塗装を行った。転写前の反応率は、8%で
あった。
【0056】(比較例2)実施例2において、ポリエス
テル樹脂塗料の塗装後、150℃×60分間乾燥し、更
に、常温で7日間放置後、同様のスクリーン印刷及びト
ップコート塗装を行った。転写前の反応率は、95%で
あった。結果は表1に示す。
【0057】
【表1】
【0058】表1の結果から明らかなように、本発明の
化粧板の製造方法である実施例1、2は、製造工程、仕
上がり外観、耐水性、共に良好であった。しかし転写前
のベースコートの反応率が8%であった比較例1は、製
造上に問題があり、仕上がり外観においてもシャープな
模様が再現できないなどの不具合が生じた。また、転写
前の反応率が95%の比較例2は、製造工程及び仕上が
り外観には問題がないが、耐水性に問題が生じ塗膜下か
ら剥離するという不具合が生じた。
【0059】
【発明の効果】本発明の化粧板の製造方法においては、
模様印刷層を能率よく且つ精度よく描画でき、しかも耐
久性に優れる化粧板を製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】CH2 結合、NCO等の特性吸収を示す図であ
る。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 前田 浩志 大阪府吹田市朝日町15−27 クラウンハイ ムあさひまち203号 Fターム(参考) 4D075 AC45 AE08 AE13 AE15 BB42Y BB46Y CB11 DA06 DB01 DB11 DB21 DB31 DC01 DC32 EA07 EA21 EA27 EA43 EB22 EB24 EB33 EB35 EB37 EB38 4F100 AA21H AE10 AK01C AK01E AK25 AK25J AK51 AK51B AK51J AL01 AT00A BA05 BA07 BA10A BA10E CA13 CC00E EH462 EJ422 EJ542 EJ65A GB08 HB00D HB31D JB14C JL00

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 下層塗膜を施した基材表面に、活性水素
    を有する化合物及びポリイソシアネート化合物を樹脂成
    分とするベースコートを塗装する工程、前記ベースコー
    トの反応率が20〜80%の状態で、前記ベースコート
    上に紫外線硬化型被覆組成物を塗布しスクリーン印刷に
    て所望の模様状に形成させ、紫外線照射により模様塗膜
    を形成する工程、更にトップコートを塗装する工程から
    なる化粧板の製造方法。
JP2000004810A 2000-01-13 2000-01-13 化粧板の製造方法 Pending JP2001191022A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000004810A JP2001191022A (ja) 2000-01-13 2000-01-13 化粧板の製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000004810A JP2001191022A (ja) 2000-01-13 2000-01-13 化粧板の製造方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2001191022A true JP2001191022A (ja) 2001-07-17

Family

ID=18533549

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000004810A Pending JP2001191022A (ja) 2000-01-13 2000-01-13 化粧板の製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2001191022A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009028942A (ja) * 2007-07-25 2009-02-12 Oota:Kk 意匠材
JP2019023276A (ja) * 2017-02-07 2019-02-14 アイカ工業株式会社 窯業系無機基材の目止め方法および窯業系無機基材化粧板の製造方法

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009028942A (ja) * 2007-07-25 2009-02-12 Oota:Kk 意匠材
JP2019023276A (ja) * 2017-02-07 2019-02-14 アイカ工業株式会社 窯業系無機基材の目止め方法および窯業系無機基材化粧板の製造方法
JP7133933B2 (ja) 2017-02-07 2022-09-09 アイカ工業株式会社 窯業系無機基材の目止め方法および窯業系無機基材化粧板の製造方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
WO2008038703A1 (fr) Feuille décorée
RU2719224C1 (ru) Декорированная поверхностно-структурированная стеновая или напольная панель на основе цементно-волокнистой плиты
US4269869A (en) Method for improving surface properties of porous inorganic material by coating
JP2010064939A (ja) 無機質系化粧建築板およびその製造方法
JP2001191022A (ja) 化粧板の製造方法
JP2005238035A (ja) 化粧板の製造方法
JP2000263735A (ja) 化粧板及び製造方法
JP3048328B2 (ja) 化粧板の製造方法
JP2002038056A (ja) 活性エネルギー線硬化型塗料用組成物
JP4166337B2 (ja) エンボス調意匠仕上げ塗装の可能な光硬化性塗料組成物、エンボス調意匠仕上げ塗装された基材、および基材表面にエンボス調意匠仕上げを施す塗装方法
JP2946192B2 (ja) 凹凸模様を有する化粧板の製造方法
JP3356760B2 (ja) 化粧板の製造方法
JP2005178328A (ja) 化粧材
JP2932766B2 (ja) セメント質硬化体のコーティング方法
JP3483179B2 (ja) 凹凸模様を有する化粧板の製造方法
JP2004314466A (ja) 化粧板の製造方法
JP4827259B2 (ja) 凹凸模様を有する化粧板の製造方法
JP2700729B2 (ja) コンクリート型枠用木製合板
JP2008189943A (ja) エンボス調意匠仕上げ塗装の可能な光硬化性塗料組成物、エンボス調意匠仕上げ塗装された基材、および基材表面にエンボス調意匠仕上げを施す塗装方法
JP3760030B2 (ja) 紫外線硬化性塗膜が形成された化粧板およびその製造方法
JPH0679845B2 (ja) 化粧板の製造方法
JPH0639959A (ja) セメント質硬化体の表面化粧方法
JP2004149776A (ja) 骨材着色用組成物、着色骨材及び外装用クリヤー仕上げ塗装板
JP2001002959A (ja) 梨地調意匠仕上げ塗装の可能な光硬化性塗料組成物、梨地調意匠仕上げ塗装された基材、および基材表面に梨地調意匠仕上げを施す塗装方法
JP2747881B2 (ja) 浴室用立体模様塗板の製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A625 Written request for application examination (by other person)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A625

Effective date: 20050225

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20070625

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20070706

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20070904

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20081216