JP2001188104A - 反射防止膜、偏光板、及び画像表示装置 - Google Patents
反射防止膜、偏光板、及び画像表示装置Info
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- JP2001188104A JP2001188104A JP2000297159A JP2000297159A JP2001188104A JP 2001188104 A JP2001188104 A JP 2001188104A JP 2000297159 A JP2000297159 A JP 2000297159A JP 2000297159 A JP2000297159 A JP 2000297159A JP 2001188104 A JP2001188104 A JP 2001188104A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 強度が優れ、かつ屈折率が非常に低い低屈折
率層を有して、面状故障（点欠陥）が発生しない反射防
止膜を提供する。 【解決手段】 短繊維状無機微粒子（１１）を５０〜９
５質量％、およびポリマー（１２）を５〜５０質量％含
み、該短繊維状無機微粒子間に微細な空隙（１３）が形
成されている屈折率が１．３０〜１．５５の低屈折率層
（１）を有する反射防止膜。
率層を有して、面状故障（点欠陥）が発生しない反射防
止膜を提供する。 【解決手段】 短繊維状無機微粒子（１１）を５０〜９
５質量％、およびポリマー（１２）を５〜５０質量％含
み、該短繊維状無機微粒子間に微細な空隙（１３）が形
成されている屈折率が１．３０〜１．５５の低屈折率層
（１）を有する反射防止膜。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、短繊維状無機微粒
子間に微細な空隙が形成されている低屈折率層を有する
反射防止膜並びにそれを用いた偏光板および画像表示装
置に関する。
子間に微細な空隙が形成されている低屈折率層を有する
反射防止膜並びにそれを用いた偏光板および画像表示装
置に関する。
【０００２】
【従来の技術】反射防止膜は、液晶表示装置（ＬＣ
Ｄ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレク
トロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）や陰極管表
示装置（ＣＲＴ）のような様々な画像表示装置に設けら
れている。眼鏡やカメラのレンズにも反射防止膜が設け
られている。反射防止膜としては、金属酸化物の透明薄
膜を積層させた多層膜が従来から普通に用いられてい
る。複数の透明薄膜を用いるのは、様々な波長の光の反
射を防止するためである。金属酸化物の透明薄膜は、化
学蒸着（ＣＶＤ）法や物理蒸着（ＰＶＤ）法、特に物理
蒸着法の一種である真空蒸着法により形成されている。
金属酸化物の透明薄膜は、反射防止膜として優れた光学
的性質を有しているが、蒸着による形成方法は、生産性
が低く大量生産に適していない。蒸着法に代えて、無機
微粒子の塗布により反射防止膜を形成する方法が提案さ
れている。
Ｄ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレク
トロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）や陰極管表
示装置（ＣＲＴ）のような様々な画像表示装置に設けら
れている。眼鏡やカメラのレンズにも反射防止膜が設け
られている。反射防止膜としては、金属酸化物の透明薄
膜を積層させた多層膜が従来から普通に用いられてい
る。複数の透明薄膜を用いるのは、様々な波長の光の反
射を防止するためである。金属酸化物の透明薄膜は、化
学蒸着（ＣＶＤ）法や物理蒸着（ＰＶＤ）法、特に物理
蒸着法の一種である真空蒸着法により形成されている。
金属酸化物の透明薄膜は、反射防止膜として優れた光学
的性質を有しているが、蒸着による形成方法は、生産性
が低く大量生産に適していない。蒸着法に代えて、無機
微粒子の塗布により反射防止膜を形成する方法が提案さ
れている。
【０００３】特公昭６０−５９２５０号公報は、微細な
空隙と微粒子状無機物とを有する反射防止層を形成する
ことを開示している。ここで反射防止層は、塗布により
形成される。微細な空隙は、層の塗布後に活性化ガス処
理を行ない、ガスが層から離脱することによって形成さ
れる。特開昭５９−５０４０１号公報は、支持体、高屈
折率層および低屈折率層の順に積層した反射防止膜を開
示している。同公報は、支持体と高屈折率層の間に中屈
折率層を設けた反射防止膜も開示している。低屈折率層
は、ポリマーまたは無機微粒子の塗布により形成されて
いる。特開平２−２４５７０２号公報は、二種類以上の
超微粒子（例えば、ＭｇＦ2とＳｉＯ2）を混在させて、
膜厚方向にその混合比を変化させた反射防止膜を開示し
ている。混合比を変化させることにより屈折率を変化さ
せ、上記特開昭５９−５０４０１号公報に記載されてい
る高屈折率層と低屈折率層を設けた反射防止膜と同様の
光学的性質を得ている。超微粒子は、エチルシリケート
の熱分解で生じたＳｉＯ2により接着している。エチル
シリケートの熱分解では、エチル部分の燃焼によって、
二酸化炭素と水蒸気も発生する。同公報の第１図に示さ
れているように、二酸化炭素と水蒸気が層から離脱する
ことにより、超微粒子の間に空隙が生じている。特開平
５−１３０２１号公報は、上記特開平２−２４５７０２
号公報記載の反射防止膜に存在する超微粒子間の空隙を
バインダーで充填することを開示している。特開平７−
４８５２７号公報は、多孔質シリカよりなる無機微粉末
とバインダーとを含有する反射防止膜を開示している。
空隙と微粒子状無機物とを有する反射防止層を形成する
ことを開示している。ここで反射防止層は、塗布により
形成される。微細な空隙は、層の塗布後に活性化ガス処
理を行ない、ガスが層から離脱することによって形成さ
れる。特開昭５９−５０４０１号公報は、支持体、高屈
折率層および低屈折率層の順に積層した反射防止膜を開
示している。同公報は、支持体と高屈折率層の間に中屈
折率層を設けた反射防止膜も開示している。低屈折率層
は、ポリマーまたは無機微粒子の塗布により形成されて
いる。特開平２−２４５７０２号公報は、二種類以上の
超微粒子（例えば、ＭｇＦ2とＳｉＯ2）を混在させて、
膜厚方向にその混合比を変化させた反射防止膜を開示し
ている。混合比を変化させることにより屈折率を変化さ
せ、上記特開昭５９−５０４０１号公報に記載されてい
る高屈折率層と低屈折率層を設けた反射防止膜と同様の
光学的性質を得ている。超微粒子は、エチルシリケート
の熱分解で生じたＳｉＯ2により接着している。エチル
シリケートの熱分解では、エチル部分の燃焼によって、
二酸化炭素と水蒸気も発生する。同公報の第１図に示さ
れているように、二酸化炭素と水蒸気が層から離脱する
ことにより、超微粒子の間に空隙が生じている。特開平
５−１３０２１号公報は、上記特開平２−２４５７０２
号公報記載の反射防止膜に存在する超微粒子間の空隙を
バインダーで充填することを開示している。特開平７−
４８５２７号公報は、多孔質シリカよりなる無機微粉末
とバインダーとを含有する反射防止膜を開示している。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】微粒子間に微細な空隙
を形成することで、屈折率が非常に低い低屈折率層が得
られるが、この低屈折率層は、画像表示装置の表示面や
レンズの外側表面に配置される。そのため、低屈折率層
には高い強度が要求される。さらにまた、画像表示装置
の表示面やレンズの外側表面に配置されるため、視認性
悪化の原因になる面状故障(点欠陥など)を無くすことが
要求される。しかし、特開平２−２４５７０２号公報に
記載の低屈折率層は、積み重なった微粒子間に空隙が生
じており屈折率は非常に低いが、実質的に無機化合物の
みで構成されているため非常に脆いという問題があっ
た。特開平１１−００６９０２号に記載の低屈折率層
は、無機微粒子を少なくとも２個以上積み重ねて微粒子
間に空隙を形成することで、屈折率が非常に低く、高い
強度の低屈折率層が得られた。一方で、特開平２−２４
５７０２号公報などに記載された低屈折率層を基材上に
構築して反射防止膜を作製すると、面状故障（点欠陥）
を発生しやすいという難点があり反射防止膜としてはま
だ満足できるものではなかった。また、偏光板は液晶表
示装置（ＬＣＤ）において不可欠な光学材料である。偏
光板は、一般に、偏向膜が二枚の保護膜によって保護さ
れている構造をしている。これらの保護膜に反射防止機
能を付与することで大幅なコスト削減、表示装置の薄手
化が可能となる。
を形成することで、屈折率が非常に低い低屈折率層が得
られるが、この低屈折率層は、画像表示装置の表示面や
レンズの外側表面に配置される。そのため、低屈折率層
には高い強度が要求される。さらにまた、画像表示装置
の表示面やレンズの外側表面に配置されるため、視認性
悪化の原因になる面状故障(点欠陥など)を無くすことが
要求される。しかし、特開平２−２４５７０２号公報に
記載の低屈折率層は、積み重なった微粒子間に空隙が生
じており屈折率は非常に低いが、実質的に無機化合物の
みで構成されているため非常に脆いという問題があっ
た。特開平１１−００６９０２号に記載の低屈折率層
は、無機微粒子を少なくとも２個以上積み重ねて微粒子
間に空隙を形成することで、屈折率が非常に低く、高い
強度の低屈折率層が得られた。一方で、特開平２−２４
５７０２号公報などに記載された低屈折率層を基材上に
構築して反射防止膜を作製すると、面状故障（点欠陥）
を発生しやすいという難点があり反射防止膜としてはま
だ満足できるものではなかった。また、偏光板は液晶表
示装置（ＬＣＤ）において不可欠な光学材料である。偏
光板は、一般に、偏向膜が二枚の保護膜によって保護さ
れている構造をしている。これらの保護膜に反射防止機
能を付与することで大幅なコスト削減、表示装置の薄手
化が可能となる。
【０００５】本発明の目的は、大量生産に適した反射防
止膜を提供することである。また、本発明の目的は、強
度が優れ、かつ屈折率が非常に低い低屈折率層を有する
反射防止膜を提供することである。さらに、本発明の目
的は、面状故障（点欠陥）が発生しない低屈折率層を有
する反射防止膜を提供することでもある。さらにまた、
本発明の目的は、適切な手段により反射防止処理されて
いる偏光板、画像表示装置を提供することにある。
止膜を提供することである。また、本発明の目的は、強
度が優れ、かつ屈折率が非常に低い低屈折率層を有する
反射防止膜を提供することである。さらに、本発明の目
的は、面状故障（点欠陥）が発生しない低屈折率層を有
する反射防止膜を提供することでもある。さらにまた、
本発明の目的は、適切な手段により反射防止処理されて
いる偏光板、画像表示装置を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明の課題は、下記
（１）から（１４）の反射防止膜、下記（１５）の偏光
板、および下記（１６）の画像表示装置により達成され
た。 （１）短繊維状無機微粒子を５０〜９５質量％、および
ポリマーを５〜５０質量％含み、該短繊維状無機微粒子
間に微細な空隙が形成されている屈折率が１．３０〜
１．５５の低屈折率層を有することを特徴とする反射防
止膜。 （２）該短繊維状無機微粒子がシリカからなり、該低屈
折率層が１〜５０体積％の空隙率を有することを特徴と
する（１）項に記載の反射防止膜。 （３）該短繊維状無機微粒子が実質的に架橋しているこ
とを特徴とする（１）または（２）項に記載の反射防止
膜。 （４）前記の該低屈折率層と、平均粒径１〜２００ｎｍ
の無機微粒子を５〜６５体積％および架橋しているアニ
オン性基を有するポリマーを３５〜９５体積％含む高屈
折率層を有することを特徴とする（１）〜（３）項のい
ずれか１項に記載の反射防止膜。 （５）該高屈折率層のアニオン性基を有するポリマー
が、リン酸基またはスルホン酸基をアニオン性基として
有することを特徴とする（１）〜（４）項のいずれか１
項に記載の反射防止膜。 （６）該高屈折率層のアニオン性基を有するポリマー
が、さらにアミノ基またはアンモニウム基を有すること
を特徴とする（１）〜（５）項のいずれか１項に記載の
反射防止膜。 （７）該高屈折率層の無機微粒子が、１．８０乃至２．
８０の屈折率を有することを特徴とする（１）〜（６）
項のいずれか１項に記載の反射防止膜。 （８）該アニオン性基を有するポリマーが高屈折率層の
塗布と同時または塗布後に、重合反応により形成された
ポリマーであることを特徴とする（１）〜（７）項のい
ずれか１項に記載の反射防止膜。 （９）該低屈折率層の上に含フッ素化合物を含むオーバ
ーコート層が積層されていることを特徴とする（１）〜
（８）項のいずれか１項に記載の反射防止膜。 （１０）該オーバーコート層の材料が低屈折率層の空隙
を占有している割合が７０体積％未満であることを特徴
とする（１）〜（９）項のいずれか１項に記載の反射防
止膜。 （１１）該含フッ素化合物がフッ素ポリマーであり、該
含フッ素ポリマーがオーバーコート層の塗布と同時また
は塗布後に、架橋反応、又は、重合反応により形成され
たポリマーであることを特徴とする（１）〜（１０）項
のいずれか１項に記載の反射防止膜。 （１２）反射防止膜が、トリアセチルセルロースから形
成される透明支持体上に形成されていることを特徴とす
る（１）〜（１１）のいずれか１項に記載の反射防止
膜。 （１３）該低屈折率層を有する側の表面の動摩擦係数が
０．２５以下であることを特徴とする請求項（１）〜
（１２）のいずれか１項に記載の反射防止膜。 （１４）該低屈折率層を有する側の表面の、水に対する
接触角が９０°以上であることを特徴とする請求項
（１）〜（１３）のいずれか１項に記載の反射防止膜。 （１５）請求項（１）〜（１４）のいずれか１項に記載
の反射防止膜を偏向膜の保護膜の少なくとも一方に有す
ることを特徴とする偏光板。 （１６）画像表示面上に請求項（１）〜（１４）のいず
れか１項に記載の反射防止膜、又は、（１５）に記載の
偏光板を配置していることを特徴とする画像表示装置。 本発明の反射防止膜とは、少なくとも低屈折率層を有す
る膜をいう。
（１）から（１４）の反射防止膜、下記（１５）の偏光
板、および下記（１６）の画像表示装置により達成され
た。 （１）短繊維状無機微粒子を５０〜９５質量％、および
ポリマーを５〜５０質量％含み、該短繊維状無機微粒子
間に微細な空隙が形成されている屈折率が１．３０〜
１．５５の低屈折率層を有することを特徴とする反射防
止膜。 （２）該短繊維状無機微粒子がシリカからなり、該低屈
折率層が１〜５０体積％の空隙率を有することを特徴と
する（１）項に記載の反射防止膜。 （３）該短繊維状無機微粒子が実質的に架橋しているこ
とを特徴とする（１）または（２）項に記載の反射防止
膜。 （４）前記の該低屈折率層と、平均粒径１〜２００ｎｍ
の無機微粒子を５〜６５体積％および架橋しているアニ
オン性基を有するポリマーを３５〜９５体積％含む高屈
折率層を有することを特徴とする（１）〜（３）項のい
ずれか１項に記載の反射防止膜。 （５）該高屈折率層のアニオン性基を有するポリマー
が、リン酸基またはスルホン酸基をアニオン性基として
有することを特徴とする（１）〜（４）項のいずれか１
項に記載の反射防止膜。 （６）該高屈折率層のアニオン性基を有するポリマー
が、さらにアミノ基またはアンモニウム基を有すること
を特徴とする（１）〜（５）項のいずれか１項に記載の
反射防止膜。 （７）該高屈折率層の無機微粒子が、１．８０乃至２．
８０の屈折率を有することを特徴とする（１）〜（６）
項のいずれか１項に記載の反射防止膜。 （８）該アニオン性基を有するポリマーが高屈折率層の
塗布と同時または塗布後に、重合反応により形成された
ポリマーであることを特徴とする（１）〜（７）項のい
ずれか１項に記載の反射防止膜。 （９）該低屈折率層の上に含フッ素化合物を含むオーバ
ーコート層が積層されていることを特徴とする（１）〜
（８）項のいずれか１項に記載の反射防止膜。 （１０）該オーバーコート層の材料が低屈折率層の空隙
を占有している割合が７０体積％未満であることを特徴
とする（１）〜（９）項のいずれか１項に記載の反射防
止膜。 （１１）該含フッ素化合物がフッ素ポリマーであり、該
含フッ素ポリマーがオーバーコート層の塗布と同時また
は塗布後に、架橋反応、又は、重合反応により形成され
たポリマーであることを特徴とする（１）〜（１０）項
のいずれか１項に記載の反射防止膜。 （１２）反射防止膜が、トリアセチルセルロースから形
成される透明支持体上に形成されていることを特徴とす
る（１）〜（１１）のいずれか１項に記載の反射防止
膜。 （１３）該低屈折率層を有する側の表面の動摩擦係数が
０．２５以下であることを特徴とする請求項（１）〜
（１２）のいずれか１項に記載の反射防止膜。 （１４）該低屈折率層を有する側の表面の、水に対する
接触角が９０°以上であることを特徴とする請求項
（１）〜（１３）のいずれか１項に記載の反射防止膜。 （１５）請求項（１）〜（１４）のいずれか１項に記載
の反射防止膜を偏向膜の保護膜の少なくとも一方に有す
ることを特徴とする偏光板。 （１６）画像表示面上に請求項（１）〜（１４）のいず
れか１項に記載の反射防止膜、又は、（１５）に記載の
偏光板を配置していることを特徴とする画像表示装置。 本発明の反射防止膜とは、少なくとも低屈折率層を有す
る膜をいう。
【０００７】
【発明の実施の形態】本発明の反射防止膜の好ましい実
施態様を図面を参照して説明する。図１は、反射防止膜
が多層の場合の例の層構成を示す断面模式図である。図
１の（ａ）に示す態様は、透明支持体（３）、ハードコ
ート層（２）、そして低屈折率層（１）の順序の層構成
を有する。透明支持体（３）と低屈折率層（１）は以下
の関係を満足する屈折率を有する。 透明支持体の屈折率＞低屈折率層の屈折率 なお、ガラスのような堅い物質の表面（ＣＲＴの画像表
面や眼鏡やカメラのレンズ表面）に、反射防止膜を設け
る場合は、透明支持体（３）なしで、低屈折率層（１）
やハードコート層（２）を直接、画像表示面あるいはレ
ンズ表面に形成してもよい。図１の（ｂ）に示す態様
は、透明支持体（３）、ハードコート層（２）、低屈折
率層（１）、そしてオーバーコート層（６）の順序の層
構成を有する。透明支持体（３）と低屈折率層（１）は
以下の関係を満足する屈折率を有する。透明支持体の屈
折率＞低屈折率層の屈折率図１の（ｃ）に示す態様は、
透明支持体（３）、ハードコート層（２）、高屈折率層
（４）、低屈折率層（１）、そしてオーバーコート層
（６）の順序の層構成を有する。透明支持体（３）と高
屈折率層（４）と低屈折率層（１）は以下の関係を満足
する屈折率を有する。 高屈折率層の屈折率＞透明支持体の屈折率＞低屈折率層
の屈折率 （ｃ）のような層構成の反射防止膜は、特開昭５９−５
０４０１号公報に記載されているように、高屈折率層が
下記式（Ｉ）、低屈折率層が下記式（II）をそれぞれ満
足することが好ましい。
施態様を図面を参照して説明する。図１は、反射防止膜
が多層の場合の例の層構成を示す断面模式図である。図
１の（ａ）に示す態様は、透明支持体（３）、ハードコ
ート層（２）、そして低屈折率層（１）の順序の層構成
を有する。透明支持体（３）と低屈折率層（１）は以下
の関係を満足する屈折率を有する。 透明支持体の屈折率＞低屈折率層の屈折率 なお、ガラスのような堅い物質の表面（ＣＲＴの画像表
面や眼鏡やカメラのレンズ表面）に、反射防止膜を設け
る場合は、透明支持体（３）なしで、低屈折率層（１）
やハードコート層（２）を直接、画像表示面あるいはレ
ンズ表面に形成してもよい。図１の（ｂ）に示す態様
は、透明支持体（３）、ハードコート層（２）、低屈折
率層（１）、そしてオーバーコート層（６）の順序の層
構成を有する。透明支持体（３）と低屈折率層（１）は
以下の関係を満足する屈折率を有する。透明支持体の屈
折率＞低屈折率層の屈折率図１の（ｃ）に示す態様は、
透明支持体（３）、ハードコート層（２）、高屈折率層
（４）、低屈折率層（１）、そしてオーバーコート層
（６）の順序の層構成を有する。透明支持体（３）と高
屈折率層（４）と低屈折率層（１）は以下の関係を満足
する屈折率を有する。 高屈折率層の屈折率＞透明支持体の屈折率＞低屈折率層
の屈折率 （ｃ）のような層構成の反射防止膜は、特開昭５９−５
０４０１号公報に記載されているように、高屈折率層が
下記式（Ｉ）、低屈折率層が下記式（II）をそれぞれ満
足することが好ましい。
【０００８】
【数１】
【０００９】式中、ｍは正の整数（一般に１、２または
３）であり、ｎ1は高屈折率層の屈折率であり、そし
て、ｄ1は高屈折率層の層厚（ｎｍ）である。λは可視
光線の波長であり、３８０〜６８０ｎｍの範囲の値であ
る。
３）であり、ｎ1は高屈折率層の屈折率であり、そし
て、ｄ1は高屈折率層の層厚（ｎｍ）である。λは可視
光線の波長であり、３８０〜６８０ｎｍの範囲の値であ
る。
【００１０】
【数２】
【００１１】式中、ｎは正の奇数（一般に１）であり、
ｎ2は低屈折率層の屈折率であり、そして、ｄ2は低屈折
率層の層厚（ｎｍ）である。λは可視光線の波長であ
り、３８０〜６８０ｎｍの範囲の値である。図１の
（ｄ）に示す態様は、透明支持体（３）、ハードコート
層（２）、中屈折率層（５）、高屈折率層（４）、低屈
折率層（１）、そしてオーバーコート層（６）の順序の
層構成を有する。透明支持体（３）と中屈折率層（５）
と高屈折率層（４）と低屈折率層（１）は以下の関係を
満足する屈折率を有する。 高屈折率層の屈折率＞中屈折率層の屈折率＞透明支持体
の屈折率＞低屈折率層の屈折率 （ｄ）のような層構成の反射防止膜は、特開昭５９−５
０４０１号公報に記載されているように、中屈折率層が
下記式（III)、高屈折率層が下記式（IV）、低屈折率層
が下記式（Ｖ）をそれぞれ満足することが好ましい。
ｎ2は低屈折率層の屈折率であり、そして、ｄ2は低屈折
率層の層厚（ｎｍ）である。λは可視光線の波長であ
り、３８０〜６８０ｎｍの範囲の値である。図１の
（ｄ）に示す態様は、透明支持体（３）、ハードコート
層（２）、中屈折率層（５）、高屈折率層（４）、低屈
折率層（１）、そしてオーバーコート層（６）の順序の
層構成を有する。透明支持体（３）と中屈折率層（５）
と高屈折率層（４）と低屈折率層（１）は以下の関係を
満足する屈折率を有する。 高屈折率層の屈折率＞中屈折率層の屈折率＞透明支持体
の屈折率＞低屈折率層の屈折率 （ｄ）のような層構成の反射防止膜は、特開昭５９−５
０４０１号公報に記載されているように、中屈折率層が
下記式（III)、高屈折率層が下記式（IV）、低屈折率層
が下記式（Ｖ）をそれぞれ満足することが好ましい。
【００１２】
【数３】
【００１３】式中、ｈは正の整数（一般に１、２または
３）であり、ｎ3は中屈折率層の屈折率であり、そし
て、ｄ3は中屈折率層の層厚（ｎｍ）である。λは可視
光線の波長であり、３８０〜６８０ｎｍの範囲の値であ
る。
３）であり、ｎ3は中屈折率層の屈折率であり、そし
て、ｄ3は中屈折率層の層厚（ｎｍ）である。λは可視
光線の波長であり、３８０〜６８０ｎｍの範囲の値であ
る。
【００１４】
【数４】
【００１５】式中、ｊは正の整数（一般に１、２または
３）であり、ｎ4は高屈折率層の屈折率であり、そし
て、ｄ4は高屈折率層の層厚（ｎｍ）である。λは可視
光線の波長であり、３８０〜６８０ｎｍの範囲の値であ
る。
３）であり、ｎ4は高屈折率層の屈折率であり、そし
て、ｄ4は高屈折率層の層厚（ｎｍ）である。λは可視
光線の波長であり、３８０〜６８０ｎｍの範囲の値であ
る。
【００１６】
【数５】
【００１７】式中、ｋは正の奇数（一般に１）であり、
ｎ5は低屈折率層の屈折率であり、そして、ｄ5は低屈折
率層の層厚（ｎｍ）である。λは可視光線の波長であ
り、３８０〜６８０ｎｍの範囲の値である。ここで記載
した高屈折率、中屈折率、低屈折率とは層相互の相対的
な屈折率の高低をいう。
ｎ5は低屈折率層の屈折率であり、そして、ｄ5は低屈折
率層の層厚（ｎｍ）である。λは可視光線の波長であ
り、３８０〜６８０ｎｍの範囲の値である。ここで記載
した高屈折率、中屈折率、低屈折率とは層相互の相対的
な屈折率の高低をいう。
【００１８】［低屈折率層の短繊維状無機微粒子］短繊
維状無機微粒子は例えば図２に示すような（ａ）針状、
（ｂ）複数の球状粒子がつながって鎖状になったもの、
（ｃ）複数の球状粒子がつながってパールスライク（パ
ールネックレス状）になったものなどが好ましい。特
に、（ｂ）複数の球状粒子がつながって鎖状になったも
のが好ましい。サイズは、平均直径（Ｄ）が５〜３０ｎ
ｍ、長さ（Ｌ）が１５〜１００ｎｍであり、アスペクト
比（Ｌ／Ｄ）が３〜２０であることが好ましく、更に好
ましくは平均直径（Ｄ）が５〜２５ｎｍ、長さ（Ｌ）が
２０〜８０ｎｍであり、アスペクト比（Ｌ／Ｄ）が４〜
１５、特に好ましくは平均直径（Ｄ）が５〜２０ｎｍ、
長さ（Ｌ）が３０〜６０ｎｍであり、アスペクト比（Ｌ
／Ｄ）が３〜１０である。短繊維状無機微粒子（無機短
繊維）は、金属の酸化物から形成することが好ましい。
金属原子としては、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｂａ、Ａ
ｌ、Ｚｎ、Ｚｒ、Ｆｅ、Ｃｕ、Ｔｉ、Ｓｎ、Ｉｎ、Ｗ、
Ｙ、Ｓｂ、Ｍｎ、Ｇａ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ａｇ、Ｓｉ、
Ｂ、Ｂｉ、Ｍｏ、Ｃｅ、Ｃｄ、Ｂｅ、ＰｂおよびＮｉが
好ましく、Ａｌ、Ｓｎ、Ｆｅ、Ｉｎ、Ｔｉ、Ｚｎ、Ｚｒ
およびＳｉがさらに好ましい。特に、Ｓｉが好ましい。
二種類以上の金属を含む無機化合物を用いてもよい。例
えば、二酸化珪素（シリカ）、酸化アルミニウム（アル
ミナ）、酸化錫、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム、二酸化
チタン（例、ルチル、ルチル／アナターゼの混晶、アナ
ターゼ、アモルファス構造）、酸化インジウム、および
酸化鉄などが挙げられる。短繊維状無機微粒子は、これ
らの金属酸化物を主成分とし、さらに他の元素を含むこ
とができる。主成分とは、粒子を構成する成分の中で最
も含有量（質量％）が多い成分を意味する。他の元素の
例には、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｍｎ、
Ｐｂ、Ｃｄ、Ａｓ、Ｃｒ、Ｈｇ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｓ
ｉ、ＰおよびＳが含まれる。短繊維状無機微粒子は、非
晶質であることが好ましい。特に好ましい短繊維状無機
微粒子はシリカである。短繊維状無機微粒子は、ゾル−
ゲル法、または析出法により、分散物として直接合成す
ることができる。また、乾燥・沈殿法で得られた短繊維
状無機微粒子の粉体を機械的に粉砕して分散物を得るこ
ともできる。市販の短繊維状無機微粒子（例えば、二酸
化珪素ゾル）を用いてもよい。例えば、短繊維状シリカ
微粒子の合成は特開平１１−６１０４３号公報に記載さ
れているように、（１）水、有機溶媒、及びアルコキシ
シランを含む混合溶液に、アンモニアを添加してアルコ
キシシランの加水分解を行い、５〜３０ｎｍの粒径を有
するシリカ微粒子を生成した後、（２）反応後の混合溶
液から、未反応のアルコキシシラン、有機溶媒及び触媒
を除去して、シリカ微粒子の水分散液を作製し、（３）
該水分散液中のシリカ微粒子の固形分濃度が０．１〜５
質量％、アンモニア濃度が５０〜４００ｐｐｍとなるよ
うに調整し、（４）該水分散液を２５０゜C以上の温度
で水熱処理することによって製造することができる。短
繊維状無機微粒子は、低屈折率層の形成のため、適当な
媒体に分散した状態で使用することが好ましい。分散媒
としては、水、アルコール（例、メタノール、エタノー
ル、イソプロピルアルコール、１−、又は２−ブタノー
ル）およびケトン（例、メチルエチルケトン、メチルイ
ソブチルケトン）が好ましい。短繊維状無機微粒子の量
は、低屈折率層の５０乃至９５質量％である。好ましく
は５０乃至９０質量％、更に好ましくは６０乃至９０質
量％、特に好ましくは７０乃至９０質量％である。これ
が少なすぎると空隙が形成されず、多すぎると十分な強
度が得られない。
維状無機微粒子は例えば図２に示すような（ａ）針状、
（ｂ）複数の球状粒子がつながって鎖状になったもの、
（ｃ）複数の球状粒子がつながってパールスライク（パ
ールネックレス状）になったものなどが好ましい。特
に、（ｂ）複数の球状粒子がつながって鎖状になったも
のが好ましい。サイズは、平均直径（Ｄ）が５〜３０ｎ
ｍ、長さ（Ｌ）が１５〜１００ｎｍであり、アスペクト
比（Ｌ／Ｄ）が３〜２０であることが好ましく、更に好
ましくは平均直径（Ｄ）が５〜２５ｎｍ、長さ（Ｌ）が
２０〜８０ｎｍであり、アスペクト比（Ｌ／Ｄ）が４〜
１５、特に好ましくは平均直径（Ｄ）が５〜２０ｎｍ、
長さ（Ｌ）が３０〜６０ｎｍであり、アスペクト比（Ｌ
／Ｄ）が３〜１０である。短繊維状無機微粒子（無機短
繊維）は、金属の酸化物から形成することが好ましい。
金属原子としては、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｂａ、Ａ
ｌ、Ｚｎ、Ｚｒ、Ｆｅ、Ｃｕ、Ｔｉ、Ｓｎ、Ｉｎ、Ｗ、
Ｙ、Ｓｂ、Ｍｎ、Ｇａ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ａｇ、Ｓｉ、
Ｂ、Ｂｉ、Ｍｏ、Ｃｅ、Ｃｄ、Ｂｅ、ＰｂおよびＮｉが
好ましく、Ａｌ、Ｓｎ、Ｆｅ、Ｉｎ、Ｔｉ、Ｚｎ、Ｚｒ
およびＳｉがさらに好ましい。特に、Ｓｉが好ましい。
二種類以上の金属を含む無機化合物を用いてもよい。例
えば、二酸化珪素（シリカ）、酸化アルミニウム（アル
ミナ）、酸化錫、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム、二酸化
チタン（例、ルチル、ルチル／アナターゼの混晶、アナ
ターゼ、アモルファス構造）、酸化インジウム、および
酸化鉄などが挙げられる。短繊維状無機微粒子は、これ
らの金属酸化物を主成分とし、さらに他の元素を含むこ
とができる。主成分とは、粒子を構成する成分の中で最
も含有量（質量％）が多い成分を意味する。他の元素の
例には、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｍｎ、
Ｐｂ、Ｃｄ、Ａｓ、Ｃｒ、Ｈｇ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｓ
ｉ、ＰおよびＳが含まれる。短繊維状無機微粒子は、非
晶質であることが好ましい。特に好ましい短繊維状無機
微粒子はシリカである。短繊維状無機微粒子は、ゾル−
ゲル法、または析出法により、分散物として直接合成す
ることができる。また、乾燥・沈殿法で得られた短繊維
状無機微粒子の粉体を機械的に粉砕して分散物を得るこ
ともできる。市販の短繊維状無機微粒子（例えば、二酸
化珪素ゾル）を用いてもよい。例えば、短繊維状シリカ
微粒子の合成は特開平１１−６１０４３号公報に記載さ
れているように、（１）水、有機溶媒、及びアルコキシ
シランを含む混合溶液に、アンモニアを添加してアルコ
キシシランの加水分解を行い、５〜３０ｎｍの粒径を有
するシリカ微粒子を生成した後、（２）反応後の混合溶
液から、未反応のアルコキシシラン、有機溶媒及び触媒
を除去して、シリカ微粒子の水分散液を作製し、（３）
該水分散液中のシリカ微粒子の固形分濃度が０．１〜５
質量％、アンモニア濃度が５０〜４００ｐｐｍとなるよ
うに調整し、（４）該水分散液を２５０゜C以上の温度
で水熱処理することによって製造することができる。短
繊維状無機微粒子は、低屈折率層の形成のため、適当な
媒体に分散した状態で使用することが好ましい。分散媒
としては、水、アルコール（例、メタノール、エタノー
ル、イソプロピルアルコール、１−、又は２−ブタノー
ル）およびケトン（例、メチルエチルケトン、メチルイ
ソブチルケトン）が好ましい。短繊維状無機微粒子の量
は、低屈折率層の５０乃至９５質量％である。好ましく
は５０乃至９０質量％、更に好ましくは６０乃至９０質
量％、特に好ましくは７０乃至９０質量％である。これ
が少なすぎると空隙が形成されず、多すぎると十分な強
度が得られない。
【００１９】［低屈折率層の短繊維状無機粒子間の微細
な空隙］図３は低屈折率層の断面模式図である。図３の
反射防止膜の上側が表面であり、下側に画像表示装置ま
たはレンズがある。反射防止膜は、この低屈折率層のみ
からなるものでもよい。図３に示すように、低屈折率層
（１）には短繊維状無機微粒子（１１）の粒子間に微細
な空隙（１３）が形成されている。低屈折率層（１）
は、さらにポリマー（１２）を５〜５０質量％の量で含
む。ポリマー（１２）は、短繊維状無機微粒子（１１）
を接着しているが、粒子間の空隙（１３）を充填してい
ない。図３に示すように、粒子間の空隙（１３）は、ポ
リマー（１２）と短繊維状無機微粒子（１１）により閉
じている（開口ではない）ことが好ましい。低屈折率層
の空隙率は、１〜５０体積％であり、好ましくは３〜４
５体積％、更に好ましくは５〜３５体積％である。空隙
率を増加させると、低屈折率層の屈折率が低下する。本
発明では、短繊維状無機微粒子の粒径を調整すること
で、粒子間の微細な空隙の大きさも適度の（光を散乱さ
せず、低屈折率層の強度に問題を生じない）値に容易に
調節できる。これにより、低屈折率層は微視的には微細
な空隙を含有する多孔質膜であるが、光学的あるいは巨
視的には均一な膜にすることができる。微細な空隙を形
成することにより、低屈折率層の巨視的屈折率は、低屈
折率層を構成する微粒子とポリマーとの屈折率の総和よ
りも低い値になる。層の屈折率は、層の構成要素の体積
当たりの屈折率の和になる。微粒子とポリマーの屈折率
は１よりも大きな値であるのに対して、空気の屈折率は
１．００である。そのため、微細な空隙を形成すること
によって、屈折率が非常に低い低屈折率層を得ることが
できる。粒子間の微細な空隙は、無機微粒子およびポリ
マーによって低屈折率層内で閉じていることが好まし
い。閉じている空隙は、低屈折率層表面に開かれた開口
と比較して、低屈折率層の表面に汚れが付着しにくい利
点がある。 ［低屈折率層のポリマー］低屈折率層は、５乃至５０質
量％の量のポリマーを含む。ポリマーは、短繊維状無機
微粒子を接着し、粒子間の微細な空隙を含む低屈折率層
の構造を維持する機能を有する。ポリマーの使用量は、
空隙を充填することなく低屈折率層の強度を維持できる
ように調整する。ポリマーの量は、低屈折率層の全量の
１０乃至５０質量％が好ましく、更に好ましくは１０乃
至４０質量％、特に好ましくは１０乃至３０質量％であ
る。ポリマーで短繊維状無機微粒子を接着するために
は、（１）短繊維状無機微粒子の表面処理剤にポリマー
を結合させるか、あるいは（２）短繊維状無機微粒子間
のバインダーとして、ポリマーを使用することが好まし
い。（１）の表面処理剤に結合させるポリマーは、
（２）のバインダーポリマーであることが好ましい。
（２）のポリマーは、低屈折率層の塗布液にモノマーを
添加し、低屈折率層の塗布と同時または塗布後に、重合
反応により形成することが好ましい。（１）と（２）を
組み合わせて、実施することが好ましい。（１）表面処
理および（２）バインダーについて、順次説明する。
な空隙］図３は低屈折率層の断面模式図である。図３の
反射防止膜の上側が表面であり、下側に画像表示装置ま
たはレンズがある。反射防止膜は、この低屈折率層のみ
からなるものでもよい。図３に示すように、低屈折率層
（１）には短繊維状無機微粒子（１１）の粒子間に微細
な空隙（１３）が形成されている。低屈折率層（１）
は、さらにポリマー（１２）を５〜５０質量％の量で含
む。ポリマー（１２）は、短繊維状無機微粒子（１１）
を接着しているが、粒子間の空隙（１３）を充填してい
ない。図３に示すように、粒子間の空隙（１３）は、ポ
リマー（１２）と短繊維状無機微粒子（１１）により閉
じている（開口ではない）ことが好ましい。低屈折率層
の空隙率は、１〜５０体積％であり、好ましくは３〜４
５体積％、更に好ましくは５〜３５体積％である。空隙
率を増加させると、低屈折率層の屈折率が低下する。本
発明では、短繊維状無機微粒子の粒径を調整すること
で、粒子間の微細な空隙の大きさも適度の（光を散乱さ
せず、低屈折率層の強度に問題を生じない）値に容易に
調節できる。これにより、低屈折率層は微視的には微細
な空隙を含有する多孔質膜であるが、光学的あるいは巨
視的には均一な膜にすることができる。微細な空隙を形
成することにより、低屈折率層の巨視的屈折率は、低屈
折率層を構成する微粒子とポリマーとの屈折率の総和よ
りも低い値になる。層の屈折率は、層の構成要素の体積
当たりの屈折率の和になる。微粒子とポリマーの屈折率
は１よりも大きな値であるのに対して、空気の屈折率は
１．００である。そのため、微細な空隙を形成すること
によって、屈折率が非常に低い低屈折率層を得ることが
できる。粒子間の微細な空隙は、無機微粒子およびポリ
マーによって低屈折率層内で閉じていることが好まし
い。閉じている空隙は、低屈折率層表面に開かれた開口
と比較して、低屈折率層の表面に汚れが付着しにくい利
点がある。 ［低屈折率層のポリマー］低屈折率層は、５乃至５０質
量％の量のポリマーを含む。ポリマーは、短繊維状無機
微粒子を接着し、粒子間の微細な空隙を含む低屈折率層
の構造を維持する機能を有する。ポリマーの使用量は、
空隙を充填することなく低屈折率層の強度を維持できる
ように調整する。ポリマーの量は、低屈折率層の全量の
１０乃至５０質量％が好ましく、更に好ましくは１０乃
至４０質量％、特に好ましくは１０乃至３０質量％であ
る。ポリマーで短繊維状無機微粒子を接着するために
は、（１）短繊維状無機微粒子の表面処理剤にポリマー
を結合させるか、あるいは（２）短繊維状無機微粒子間
のバインダーとして、ポリマーを使用することが好まし
い。（１）の表面処理剤に結合させるポリマーは、
（２）のバインダーポリマーであることが好ましい。
（２）のポリマーは、低屈折率層の塗布液にモノマーを
添加し、低屈折率層の塗布と同時または塗布後に、重合
反応により形成することが好ましい。（１）と（２）を
組み合わせて、実施することが好ましい。（１）表面処
理および（２）バインダーについて、順次説明する。
【００２０】（１）表面処理 短繊維状無機微粒子には、表面処理を実施して、ポリマ
ーとの親和性を改善することが好ましい。表面処理は、
プラズマ放電処理やコロナ放電処理のような物理的表面
処理と、カップリング剤を使用する化学的表面処理に分
類できる。化学的表面処理のみ、または物理的表面処理
と化学的表面処理の組み合わせで実施することが好まし
い。カップリング剤としては、オルガノアルコキシメタ
ル化合物（例、チタンカップリング剤、シランカップリ
ング剤）が好ましく用いられる。無機微粒子が二酸化ケ
イ素からなる場合は、シランカップリング剤による表面
処理が特に有効に実施できる。好ましいシランカップリ
ング剤を、下記式（Ｉａ）および（Ｉｂ）で示す。
ーとの親和性を改善することが好ましい。表面処理は、
プラズマ放電処理やコロナ放電処理のような物理的表面
処理と、カップリング剤を使用する化学的表面処理に分
類できる。化学的表面処理のみ、または物理的表面処理
と化学的表面処理の組み合わせで実施することが好まし
い。カップリング剤としては、オルガノアルコキシメタ
ル化合物（例、チタンカップリング剤、シランカップリ
ング剤）が好ましく用いられる。無機微粒子が二酸化ケ
イ素からなる場合は、シランカップリング剤による表面
処理が特に有効に実施できる。好ましいシランカップリ
ング剤を、下記式（Ｉａ）および（Ｉｂ）で示す。
【００２１】
【化１】
【００２２】式中、Ｒ1、Ｒ5およびＲ6は、それぞれ独
立に、炭素原子数が１乃至１０のアルキル基、炭素原子
数が６乃至１０のアリール基、炭素原子数が２乃至１０
のアルケニル基、炭素原子数が２乃至１０のアルキニル
基または炭素原子数が７乃至１０のアラルキル基であ
り、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ7およびＲ8は、それぞれ独立
に、炭素原子数が１乃至６のアルキル基または炭素原子
数が２乃至６のアシル基である。式（Ｉａ）および式
（Ｉｂ）において、Ｒ1、Ｒ5およびＲ6は、アルキル
基、アリール基、アルケニル基またはアラルキル基であ
ることが好ましく、アルキル基、アリール基またはアル
ケニル基であることがさらに好ましく、アルキル基また
はアルケニル基であることが最も好ましい。アルキル
基、アリール基、アルケニル基、アルキニル基およびア
ラルキル基は、置換基を有していてもよい。置換基の例
には、グリシジル基、グリシジルオキシ基、アルコキシ
基、ハロゲン原子、アシルオキシ基（例、アクリロイル
オキシ、メタクリロイルオキシ）、メルカプト、アミ
ノ、カルボキシル、シアノ、イソシアナトおよびアルケ
ニルスルホニル基（例、ビニルスルホニル）が含まれ
る。
立に、炭素原子数が１乃至１０のアルキル基、炭素原子
数が６乃至１０のアリール基、炭素原子数が２乃至１０
のアルケニル基、炭素原子数が２乃至１０のアルキニル
基または炭素原子数が７乃至１０のアラルキル基であ
り、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ7およびＲ8は、それぞれ独立
に、炭素原子数が１乃至６のアルキル基または炭素原子
数が２乃至６のアシル基である。式（Ｉａ）および式
（Ｉｂ）において、Ｒ1、Ｒ5およびＲ6は、アルキル
基、アリール基、アルケニル基またはアラルキル基であ
ることが好ましく、アルキル基、アリール基またはアル
ケニル基であることがさらに好ましく、アルキル基また
はアルケニル基であることが最も好ましい。アルキル
基、アリール基、アルケニル基、アルキニル基およびア
ラルキル基は、置換基を有していてもよい。置換基の例
には、グリシジル基、グリシジルオキシ基、アルコキシ
基、ハロゲン原子、アシルオキシ基（例、アクリロイル
オキシ、メタクリロイルオキシ）、メルカプト、アミ
ノ、カルボキシル、シアノ、イソシアナトおよびアルケ
ニルスルホニル基（例、ビニルスルホニル）が含まれ
る。
【００２３】式（Ｉａ）および式（Ｉｂ）において、Ｒ
2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ7およびＲ8は、アルキル基であること
が好ましい。アルキル基は、置換基を有していてもよ
い。置換基の例には、アルコキシ基が含まれる。シラン
カップリング剤は、分子内に二重結合を有し、その二重
結合の反応によりポリマーと結合させることが好まし
い。二重結合は、式（Ｉａ）と式（Ｉｂ）のＲ1、Ｒ5ま
たはＲ6の置換基中に存在していることが好ましい。特
に好ましいシランカップリング剤を、下記式（IIａ）お
よび（IIｂ）で示す。
2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ7およびＲ8は、アルキル基であること
が好ましい。アルキル基は、置換基を有していてもよ
い。置換基の例には、アルコキシ基が含まれる。シラン
カップリング剤は、分子内に二重結合を有し、その二重
結合の反応によりポリマーと結合させることが好まし
い。二重結合は、式（Ｉａ）と式（Ｉｂ）のＲ1、Ｒ5ま
たはＲ6の置換基中に存在していることが好ましい。特
に好ましいシランカップリング剤を、下記式（IIａ）お
よび（IIｂ）で示す。
【００２４】
【化２】
【００２５】式中、Ｒ11およびＲ15は、それぞれ独立
に、水素原子またはメチルであり、Ｒ 16は、炭素原子数
が１乃至１０のアルキル基、炭素原子数が６乃至１０の
アリール基、炭素原子数が２乃至１０のアルケニル基、
炭素原子数が２乃至１０のアルキニル基または炭素原子
数が７乃至１０のアラルキル基であり、Ｒ12、Ｒ13、Ｒ
14、Ｒ17およびＲ18は、それぞれ独立に、炭素原子数が
１乃至６のアルキル基または炭素原子数が２乃至６のア
シル基であり、Ｌ1およびＬ2は二価の連結基である。式
（IIｂ）において、Ｒ16は、式（Ｉａ）および式（Ｉ
ｂ）のＲ1、Ｒ5およびＲ6と同様の意味を有する。式（I
Iａ）式（IIｂ）において、Ｒ12、Ｒ13、Ｒ14、Ｒ17お
よびＲ18は、式（Ｉａ）および式（Ｉｂ）のＲ2、Ｒ3、
Ｒ4、Ｒ7およびＲ8と同様の意味を有する。式（IIａ）
式（IIｂ）において、Ｌ1およびＬ2は、アルキレン基で
あることが好ましく、炭素原子数が１乃至１０のアルキ
レン基であることがさらに好ましく、炭素原子数が１乃
至６のアルキレン基であることが最も好ましい。
に、水素原子またはメチルであり、Ｒ 16は、炭素原子数
が１乃至１０のアルキル基、炭素原子数が６乃至１０の
アリール基、炭素原子数が２乃至１０のアルケニル基、
炭素原子数が２乃至１０のアルキニル基または炭素原子
数が７乃至１０のアラルキル基であり、Ｒ12、Ｒ13、Ｒ
14、Ｒ17およびＲ18は、それぞれ独立に、炭素原子数が
１乃至６のアルキル基または炭素原子数が２乃至６のア
シル基であり、Ｌ1およびＬ2は二価の連結基である。式
（IIｂ）において、Ｒ16は、式（Ｉａ）および式（Ｉ
ｂ）のＲ1、Ｒ5およびＲ6と同様の意味を有する。式（I
Iａ）式（IIｂ）において、Ｒ12、Ｒ13、Ｒ14、Ｒ17お
よびＲ18は、式（Ｉａ）および式（Ｉｂ）のＲ2、Ｒ3、
Ｒ4、Ｒ7およびＲ8と同様の意味を有する。式（IIａ）
式（IIｂ）において、Ｌ1およびＬ2は、アルキレン基で
あることが好ましく、炭素原子数が１乃至１０のアルキ
レン基であることがさらに好ましく、炭素原子数が１乃
至６のアルキレン基であることが最も好ましい。
【００２６】式（Ｉａ）で示されるシランカップリング
剤の例には、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエ
トキシシラン、メチルトリメトキシエトキシシラン、メ
チルトリアセトキシシラン、メチルトリブトキシシラ
ン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシ
ラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシ
シラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリメト
キシエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フ
ェニルトリエトキシシラン、フェニルトリアセトキシシ
ラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、γ−ク
ロロプロピルトリエトキシシラン、γ−クロロプロピル
トリアセトキシシラン、３，３，３−トリフルオロプロ
ピルトリメトキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピ
ルトリメトキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピル
トリエトキシシラン、γ−（β−グリシジルオキシエト
キシ）プロピルトリメトキシシラン、β−（３，４−エ
ポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、β
−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリエト
キシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルトリメト
キシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルトリメ
トキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラ
ン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−メル
カプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプ
ロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）
−γ−アミノプロピルトリメトキシシランおよびβ−シ
アノエチルトリエトキシシランが含まれる。分子内に二
重結合を有するビニルトリメトキシシラン、ビニルトリ
エトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニル
トリメトキシエトキシシラン、γ−アクリロイルオキシ
プロピルトリメトキシシランおよびγ−メタクリロイル
オキシプロピルトリメトキシシランが好ましく、式(II
ａ）で示されるγ−アクリロイルオキシプロピルトリメ
トキシシランおよびγ−メタクリロイルオキシプロピル
トリメトキシシランが特に好ましい。
剤の例には、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエ
トキシシラン、メチルトリメトキシエトキシシラン、メ
チルトリアセトキシシラン、メチルトリブトキシシラ
ン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシ
ラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシ
シラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリメト
キシエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フ
ェニルトリエトキシシラン、フェニルトリアセトキシシ
ラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、γ−ク
ロロプロピルトリエトキシシラン、γ−クロロプロピル
トリアセトキシシラン、３，３，３−トリフルオロプロ
ピルトリメトキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピ
ルトリメトキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピル
トリエトキシシラン、γ−（β−グリシジルオキシエト
キシ）プロピルトリメトキシシラン、β−（３，４−エ
ポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、β
−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリエト
キシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルトリメト
キシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルトリメ
トキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラ
ン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−メル
カプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプ
ロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）
−γ−アミノプロピルトリメトキシシランおよびβ−シ
アノエチルトリエトキシシランが含まれる。分子内に二
重結合を有するビニルトリメトキシシラン、ビニルトリ
エトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニル
トリメトキシエトキシシラン、γ−アクリロイルオキシ
プロピルトリメトキシシランおよびγ−メタクリロイル
オキシプロピルトリメトキシシランが好ましく、式(II
ａ）で示されるγ−アクリロイルオキシプロピルトリメ
トキシシランおよびγ−メタクリロイルオキシプロピル
トリメトキシシランが特に好ましい。
【００２７】式（Ｉｂ）で示されるシランカップリング
剤の例には、ジメチルジメトキシシラン、フェニルメチ
ルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、フェ
ニルメチルジエトキシシラン、γ−グリシジルオキシプ
ロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシジルオキシ
プロピルメチルジメトキシシラン、γ−グリシジルオキ
シプロピルフェニルジエトキシシラン、γ−クロロプロ
ピルメチルジエトキシシラン、ジメチルジアセトキシシ
ラン、γ−アクリロイルオキシプロピルメチルジメトキ
シシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルメチルジエ
トキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルメチ
ルジメトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピ
ルメチルジエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメ
チルジメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチル
ジエトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキ
シシラン、γ−アミノプロピルメチルジエトキシシラ
ン、メチルビニルジメトキシシランおよびメチルビニル
ジエトキシシランが含まれる。
剤の例には、ジメチルジメトキシシラン、フェニルメチ
ルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、フェ
ニルメチルジエトキシシラン、γ−グリシジルオキシプ
ロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシジルオキシ
プロピルメチルジメトキシシラン、γ−グリシジルオキ
シプロピルフェニルジエトキシシラン、γ−クロロプロ
ピルメチルジエトキシシラン、ジメチルジアセトキシシ
ラン、γ−アクリロイルオキシプロピルメチルジメトキ
シシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルメチルジエ
トキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルメチ
ルジメトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピ
ルメチルジエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメ
チルジメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチル
ジエトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキ
シシラン、γ−アミノプロピルメチルジエトキシシラ
ン、メチルビニルジメトキシシランおよびメチルビニル
ジエトキシシランが含まれる。
【００２８】分子内に二重結合を有するγ−アクリロイ
ルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アクリ
ロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メ
タクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、
γ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシ
ラン、メチルビニルジメトキシシランおよびメチルビニ
ルジエトキシシランが好ましく、式(IIｂ）で示される
γ−アクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラ
ン、γ−アクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシ
シラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジメ
トキシシランおよびγ−メタクリロイルオキシプロピル
メチルジエトキシシランが特に好ましい。
ルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アクリ
ロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メ
タクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、
γ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシ
ラン、メチルビニルジメトキシシランおよびメチルビニ
ルジエトキシシランが好ましく、式(IIｂ）で示される
γ−アクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラ
ン、γ−アクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシ
シラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジメ
トキシシランおよびγ−メタクリロイルオキシプロピル
メチルジエトキシシランが特に好ましい。
【００２９】二種類以上のカップリング剤を併用しても
よい。式（Ｉａ）および式（Ｉｂ）で示されるシランカ
ップリング剤に加えて、他のシランカップリングを用い
てもよい。他のシランカップリング剤には、オルトケイ
酸のアルキルエステル（例、オルトケイ酸メチル、オル
トケイ酸エチル、オルトケイ酸ｎ−プロピル、オルトケ
イ酸ｉ−プロピル、オルトケイ酸ｎ−ブチル、オルトケ
イ酸sec-ブチル、オルトケイ酸ｔ−ブチル）およびその
加水分解物が含まれる。カップリング剤による表面処理
は、短繊維状無機微粒子の分散物に、カップリング剤を
加え、室温から６０℃までの温度で、数時間から１０日
間分散物を放置することにより実施できる。表面処理反
応を促進するため、無機酸（例、硫酸、塩酸、硝酸、ク
ロム酸、次亜塩素酸、ホウ酸、オルトケイ酸、リン酸、
炭酸）、有機酸（例、酢酸、ポリアクリル酸、ベンゼン
スルホン酸、フェノール、ポリグルタミン酸）、または
これらの塩（例、金属塩、アンモニウム塩）を分散物に
添加してもよい。また、加熱処理してもよい。
よい。式（Ｉａ）および式（Ｉｂ）で示されるシランカ
ップリング剤に加えて、他のシランカップリングを用い
てもよい。他のシランカップリング剤には、オルトケイ
酸のアルキルエステル（例、オルトケイ酸メチル、オル
トケイ酸エチル、オルトケイ酸ｎ−プロピル、オルトケ
イ酸ｉ−プロピル、オルトケイ酸ｎ−ブチル、オルトケ
イ酸sec-ブチル、オルトケイ酸ｔ−ブチル）およびその
加水分解物が含まれる。カップリング剤による表面処理
は、短繊維状無機微粒子の分散物に、カップリング剤を
加え、室温から６０℃までの温度で、数時間から１０日
間分散物を放置することにより実施できる。表面処理反
応を促進するため、無機酸（例、硫酸、塩酸、硝酸、ク
ロム酸、次亜塩素酸、ホウ酸、オルトケイ酸、リン酸、
炭酸）、有機酸（例、酢酸、ポリアクリル酸、ベンゼン
スルホン酸、フェノール、ポリグルタミン酸）、または
これらの塩（例、金属塩、アンモニウム塩）を分散物に
添加してもよい。また、加熱処理してもよい。
【００３０】（２）バインダー バインダーポリマーは、飽和炭化水素またはポリエーテ
ルを主鎖として有するポリマーであることが好ましく、
飽和炭化水素を主鎖として有するポリマーであることが
さらに好ましい。バインダーポリマーは架橋しているこ
とが好ましい。飽和炭化水素を主鎖として有するポリマ
ーは、エチレン性不飽和モノマーの重合反応により得る
ことが好ましい。架橋しているバインダーポリマーを得
るためには、二以上のエチレン性不飽和基を有するモノ
マーを用いることが好ましい。
ルを主鎖として有するポリマーであることが好ましく、
飽和炭化水素を主鎖として有するポリマーであることが
さらに好ましい。バインダーポリマーは架橋しているこ
とが好ましい。飽和炭化水素を主鎖として有するポリマ
ーは、エチレン性不飽和モノマーの重合反応により得る
ことが好ましい。架橋しているバインダーポリマーを得
るためには、二以上のエチレン性不飽和基を有するモノ
マーを用いることが好ましい。
【００３１】二以上のエチレン性不飽和基を有するモノ
マーの例には、多価アルコールと（メタ）アクリル酸と
のエステル（例、エチレングリコールジ（メタ）アクリ
レート、１，４−シクロヘキサンジアクリレート、ペン
タエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタ
エリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロ
ールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロー
ルエタントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリ
トールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリ
トールペンタ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリト
ールヘキサ（メタ）アクリレート、１，２，３−シクロ
ヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアク
リレート、ポリエステルポリアクリレート、ビニルベン
ゼンおよびその誘導体（例、１，４−ジビニルベンゼ
ン、４−ビニル安息香酸−２−アクリロイルエチルエス
テル、１，４−ジビニルシクロヘキサノン）、ビニルス
ルホン（例、ジビニルスルホン）、アクリルアミド
（例、メチレンビスアクリルアミド）およびメタクリル
アミドが含まれる。ポリエーテルを主鎖として有するポ
リマーは、多官能エポシキ化合物の開環重合反応により
合成することが好ましい。二以上のエチレン性不飽和基
を有するモノマーの代わりまたはそれに加えて、架橋性
基の反応により、架橋構造をバインダーポリマーに導入
してもよい。架橋性官能基の例には、イソシアナート
基、エポキシ基、アジリジン基、オキサゾリン基、アル
デヒド基、カルボニル基、ヒドラジン基、カルボキシル
基、メチロール基および活性メチレン基が含まれる。ビ
ニルスルホン酸、酸無水物、シアノアクリレート誘導
体、メラミン、エーテル化メチロール、エステルおよび
ウレタンも、架橋構造を導入するためのモノマーとして
利用できる。ブロックイソシアナート基のように、分解
反応の結果として架橋性を示す官能基を用いてもよい。
マーの例には、多価アルコールと（メタ）アクリル酸と
のエステル（例、エチレングリコールジ（メタ）アクリ
レート、１，４−シクロヘキサンジアクリレート、ペン
タエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタ
エリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロ
ールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロー
ルエタントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリ
トールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリ
トールペンタ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリト
ールヘキサ（メタ）アクリレート、１，２，３−シクロ
ヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアク
リレート、ポリエステルポリアクリレート、ビニルベン
ゼンおよびその誘導体（例、１，４−ジビニルベンゼ
ン、４−ビニル安息香酸−２−アクリロイルエチルエス
テル、１，４−ジビニルシクロヘキサノン）、ビニルス
ルホン（例、ジビニルスルホン）、アクリルアミド
（例、メチレンビスアクリルアミド）およびメタクリル
アミドが含まれる。ポリエーテルを主鎖として有するポ
リマーは、多官能エポシキ化合物の開環重合反応により
合成することが好ましい。二以上のエチレン性不飽和基
を有するモノマーの代わりまたはそれに加えて、架橋性
基の反応により、架橋構造をバインダーポリマーに導入
してもよい。架橋性官能基の例には、イソシアナート
基、エポキシ基、アジリジン基、オキサゾリン基、アル
デヒド基、カルボニル基、ヒドラジン基、カルボキシル
基、メチロール基および活性メチレン基が含まれる。ビ
ニルスルホン酸、酸無水物、シアノアクリレート誘導
体、メラミン、エーテル化メチロール、エステルおよび
ウレタンも、架橋構造を導入するためのモノマーとして
利用できる。ブロックイソシアナート基のように、分解
反応の結果として架橋性を示す官能基を用いてもよい。
【００３２】また、本発明において架橋基とは、上記化
合物に限らず上記官能基が分解した結果反応性を示すも
のであってもよい。バインダーポリマーは、低屈折率層
の塗布液にモノマーを添加し、低屈折率層の塗布と同時
または塗布後に重合反応（必要ならばさらに架橋反応）
により形成することが好ましい。重合反応および架橋反
応に使用する熱重合開始剤の例には、無機過酸化物
（例、過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウム）、アゾニ
トリル化合物（例、アゾビスシアノ吉草酸ナトリウ
ム）、アゾアミジン化合物（例、２，２’−アゾビス
（２−メチルプロピオンアミド）塩酸塩）、環状アゾア
ミジン化合物（例、２，２’−アゾビス〔２−（５−メ
チル−２−イミダゾリン−２−イル）プロパン塩酸
塩〕）、アゾアミド化合物（例、２，２’−アゾビス
｛２−メチル−Ｎ−〔１，１’−ビス（ヒドロキシメチ
ル）−２−ヒドロキシエチル〕プロピオンアミド｝）、
アゾ化合物（例、２，２’−アゾビスイソブチロニトリ
ル、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニト
リル）、ジメチル−２，２’−アゾビス（２−メチルプ
ロピオネート）、ジメチル−２，２’−アゾビスイソブ
チレート）および有機過酸化物（例、ラウリルパーオキ
シド、ベンゾイルパーオキシド、tert−ブチルパーオク
トエート）が含まれる。
合物に限らず上記官能基が分解した結果反応性を示すも
のであってもよい。バインダーポリマーは、低屈折率層
の塗布液にモノマーを添加し、低屈折率層の塗布と同時
または塗布後に重合反応（必要ならばさらに架橋反応）
により形成することが好ましい。重合反応および架橋反
応に使用する熱重合開始剤の例には、無機過酸化物
（例、過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウム）、アゾニ
トリル化合物（例、アゾビスシアノ吉草酸ナトリウ
ム）、アゾアミジン化合物（例、２，２’−アゾビス
（２−メチルプロピオンアミド）塩酸塩）、環状アゾア
ミジン化合物（例、２，２’−アゾビス〔２−（５−メ
チル−２−イミダゾリン−２−イル）プロパン塩酸
塩〕）、アゾアミド化合物（例、２，２’−アゾビス
｛２−メチル−Ｎ−〔１，１’−ビス（ヒドロキシメチ
ル）−２−ヒドロキシエチル〕プロピオンアミド｝）、
アゾ化合物（例、２，２’−アゾビスイソブチロニトリ
ル、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニト
リル）、ジメチル−２，２’−アゾビス（２−メチルプ
ロピオネート）、ジメチル−２，２’−アゾビスイソブ
チレート）および有機過酸化物（例、ラウリルパーオキ
シド、ベンゾイルパーオキシド、tert−ブチルパーオク
トエート）が含まれる。
【００３３】重合反応および架橋反応に使用する光重合
開始剤の例には、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベ
ンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、
アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過
酸化物類、２，３−ジアルキルジオン化合物類、ジスル
フィド化合物類、フルオロアミン化合物類や芳香族スル
ホニウム類がある。アセトフェノン類の例には、２，２
−ジエトキシアセトフェノン、ｐ−ジメチルアセトフェ
ノン、１−ヒドロキシジメチルフェニルケトン、１−ヒ
ドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−
４−メチルチオ−２−モルフォリノプロピオフェノンお
よび２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モ
ルフォリノフェニル）−ブタノンが含まれる。ベンゾイ
ン類の例には、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾイン
エチルエーテルおよびベンゾインイソプロピルエーテル
が含まれる。ベンゾフェノン類の例には、ベンゾフェノ
ン、２，４−ジクロロベンゾフェノン、４，４−ジクロ
ロベンゾフェノンおよびｐ−クロロベンゾフェノンが含
まれる。ホスフィンオキシド類の例には、２，４，６−
トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキシド
が含まれる。光重合反応によりポリマーを形成する場
合、光源として低圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、超高
圧水銀ランプ、ケミカルランプあるいはメタルハライド
ランプを用いることができる。照射効率が良好な高圧水
銀ランプの使用が、最も好ましい。低屈折率層の塗布液
に、少量のポリマー（例、ポリビニルアルコール、ポリ
オキシエチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリメチ
ルアクリレート、ジアセチルセルロース、トリアセチル
セルロース、ニトロセルロース、ポリエステル、アルキ
ド樹脂）を添加してもよい。
開始剤の例には、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベ
ンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、
アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過
酸化物類、２，３−ジアルキルジオン化合物類、ジスル
フィド化合物類、フルオロアミン化合物類や芳香族スル
ホニウム類がある。アセトフェノン類の例には、２，２
−ジエトキシアセトフェノン、ｐ−ジメチルアセトフェ
ノン、１−ヒドロキシジメチルフェニルケトン、１−ヒ
ドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−
４−メチルチオ−２−モルフォリノプロピオフェノンお
よび２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モ
ルフォリノフェニル）−ブタノンが含まれる。ベンゾイ
ン類の例には、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾイン
エチルエーテルおよびベンゾインイソプロピルエーテル
が含まれる。ベンゾフェノン類の例には、ベンゾフェノ
ン、２，４−ジクロロベンゾフェノン、４，４−ジクロ
ロベンゾフェノンおよびｐ−クロロベンゾフェノンが含
まれる。ホスフィンオキシド類の例には、２，４，６−
トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキシド
が含まれる。光重合反応によりポリマーを形成する場
合、光源として低圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、超高
圧水銀ランプ、ケミカルランプあるいはメタルハライド
ランプを用いることができる。照射効率が良好な高圧水
銀ランプの使用が、最も好ましい。低屈折率層の塗布液
に、少量のポリマー（例、ポリビニルアルコール、ポリ
オキシエチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリメチ
ルアクリレート、ジアセチルセルロース、トリアセチル
セルロース、ニトロセルロース、ポリエステル、アルキ
ド樹脂）を添加してもよい。
【００３４】［低屈折率層］低屈折率層は、以上の短繊
維状無機微粒子およびポリマーを含み、粒子間に微細な
空隙を有する層である。短繊維状無機微粒子を用いるこ
とで、例えば球状、不定形状などの無機微粒子を用いて
粒子間に微細な空隙を形成させた低屈折率層と比較し面
状故障（点欠陥）を発生しにくくなる。点欠陥の発生
は、低屈折率層を構築する基材の表面特性（凹凸など）
に影響され、基材表面に微粒子を含む層（例えば、ハー
ドコート層、中屈折率層、高屈折率層などに無機微粒子
を含む場合）が構築されているときに発生しやすい。短
繊維状無機微粒子は、粒子間に微細な空隙を有する低屈
折率層の点欠陥の発生を抑える効果を有し、さらにまた
非常に高い強度を有する皮膜を形成する。低屈折率層の
屈折率は、１．３０乃至１．５５であることが好まし
く、１．３５乃至１．５０であることがさらに好まし
い。低屈折率層の膜厚は、３０ｎｍ乃至２００ｎｍであ
ることが好ましく、５０ｎｍ乃至１５０ｎｍであること
がさらに好ましく、６０ｎｍ乃至１２０ｎｍであること
が最も好ましい。低屈折率層のヘイズは、５％以下であ
ることが好ましく、３％以下であることがさらに好まし
く、１％以下であることが最も好ましい。低屈折率層の
強度は、ＪＩＳ Ｋ ５４００に従う鉛筆硬度試験で、
Ｈ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがさ
らに好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。
維状無機微粒子およびポリマーを含み、粒子間に微細な
空隙を有する層である。短繊維状無機微粒子を用いるこ
とで、例えば球状、不定形状などの無機微粒子を用いて
粒子間に微細な空隙を形成させた低屈折率層と比較し面
状故障（点欠陥）を発生しにくくなる。点欠陥の発生
は、低屈折率層を構築する基材の表面特性（凹凸など）
に影響され、基材表面に微粒子を含む層（例えば、ハー
ドコート層、中屈折率層、高屈折率層などに無機微粒子
を含む場合）が構築されているときに発生しやすい。短
繊維状無機微粒子は、粒子間に微細な空隙を有する低屈
折率層の点欠陥の発生を抑える効果を有し、さらにまた
非常に高い強度を有する皮膜を形成する。低屈折率層の
屈折率は、１．３０乃至１．５５であることが好まし
く、１．３５乃至１．５０であることがさらに好まし
い。低屈折率層の膜厚は、３０ｎｍ乃至２００ｎｍであ
ることが好ましく、５０ｎｍ乃至１５０ｎｍであること
がさらに好ましく、６０ｎｍ乃至１２０ｎｍであること
が最も好ましい。低屈折率層のヘイズは、５％以下であ
ることが好ましく、３％以下であることがさらに好まし
く、１％以下であることが最も好ましい。低屈折率層の
強度は、ＪＩＳ Ｋ ５４００に従う鉛筆硬度試験で、
Ｈ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがさ
らに好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。
【００３５】［透明支持体］反射防止膜をＣＲＴ画像表
示面やレンズ表面に直接設ける場合を除き、反射防止膜
は透明支持体を有することが好ましい。透明支持体とし
ては、プラスチックフイルムを用いることが好ましい。
プラスチックフイルムの材料の例には、セルロースエス
テル（例、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロ
ース、プロピオニルセルロース、ブチリルセルロース、
アセチルプロピオニルセルロース、ニトロセルロー
ス）、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエステル
（例、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフ
タレート、ポリ−１，４−シクロヘキサンジメチレンテ
レフタレート、ポリエチレン−１，２−ジフェノキシエ
タン−４，４’−ジカルボキシレート、ポリブチレンテ
レフタレート）、ポリスチレン（例、シンジオタクチッ
クポリスチレン）、ポリオレフィン（例、ポリプロピレ
ン、ポリエチレン、ポリメチルペンテン）、ポリスルホ
ン、ポリエーテルスルホン、ポリアリレート、ポリエー
テルイミド、ポリメチルメタクリレートおよびポリエー
テルケトンが含まれる。トリアセチルセルロース、ポリ
カーボネート、ポリエチレンテレフタレートおよびポリ
エチレンナフタレートが好ましく用いられ、特に好まし
いのはトリアセチルセルロースである。鹸化処理したト
リアセチルセルロースフィルムも好ましく用いることが
できる。透明支持体の膜厚は１〜３００μmが好まし
く、より好ましくは３０〜１５０μm、特に好ましくは
５０〜１２０μmである。透明支持体の光透過率は、８
０％以上であることが好ましく、８６％以上であること
がさらに好ましい。透明支持体のヘイズは、２．０％以
下であることが好ましく、１．０％以下でありことがさ
らに好ましい。透明支持体の屈折率は、１．４乃至１．
７であることが好ましい。 ［ハードコート層］透明支持体に耐傷性を付与するため
に、ハードコート層を支持体表面に設けることが好まし
い。ハードコート層は、架橋しているポリマーを含むこ
とが好ましい。架橋しているポリマーを含むハードコー
ト層は、多官能モノマーと重合開始剤を含む塗布液を透
明支持体上に塗布し、多官能モノマーを重合させること
により形成できる。多官能モノマーは、多価アルコール
とアクリル酸またはメタクリル酸とのエステルであるこ
とが好ましい。多価アルコールの例には、エチレングリ
コール、１，４−シクロヘキサノール、ペンタエリスリ
トール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタ
ン、ジペンタエリスリトール、１，２，４−シクロヘキ
サノール、ポリウレタンポリオールおよびポリエステル
ポリオールが含まれる。トリメチロールプロパン、ペン
タエリスリトール、ジペンタエリスリトールおよびポリ
ウレタンポリオールが好ましい。二種類以上の多官能モ
ノマーを併用してもよい。多官能モノマーの重合反応に
は、光重合開始剤を用いることが好ましい。光重合開始
剤の例には、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミ
ヒラーのベンゾイルベンゾエート、α−アミロキシムエ
ステル、テトラメチルチウラムモノサルファイドおよび
チオキサントン類が含まれる。光重合開始剤に加えて、
光増感剤を用いてもよい。光増感剤の例には、ｎ−ブチ
ルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフ
ィン、ミヒラーのケトンおよびチオキサントンが含まれ
る。
示面やレンズ表面に直接設ける場合を除き、反射防止膜
は透明支持体を有することが好ましい。透明支持体とし
ては、プラスチックフイルムを用いることが好ましい。
プラスチックフイルムの材料の例には、セルロースエス
テル（例、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロ
ース、プロピオニルセルロース、ブチリルセルロース、
アセチルプロピオニルセルロース、ニトロセルロー
ス）、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエステル
（例、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフ
タレート、ポリ−１，４−シクロヘキサンジメチレンテ
レフタレート、ポリエチレン−１，２−ジフェノキシエ
タン−４，４’−ジカルボキシレート、ポリブチレンテ
レフタレート）、ポリスチレン（例、シンジオタクチッ
クポリスチレン）、ポリオレフィン（例、ポリプロピレ
ン、ポリエチレン、ポリメチルペンテン）、ポリスルホ
ン、ポリエーテルスルホン、ポリアリレート、ポリエー
テルイミド、ポリメチルメタクリレートおよびポリエー
テルケトンが含まれる。トリアセチルセルロース、ポリ
カーボネート、ポリエチレンテレフタレートおよびポリ
エチレンナフタレートが好ましく用いられ、特に好まし
いのはトリアセチルセルロースである。鹸化処理したト
リアセチルセルロースフィルムも好ましく用いることが
できる。透明支持体の膜厚は１〜３００μmが好まし
く、より好ましくは３０〜１５０μm、特に好ましくは
５０〜１２０μmである。透明支持体の光透過率は、８
０％以上であることが好ましく、８６％以上であること
がさらに好ましい。透明支持体のヘイズは、２．０％以
下であることが好ましく、１．０％以下でありことがさ
らに好ましい。透明支持体の屈折率は、１．４乃至１．
７であることが好ましい。 ［ハードコート層］透明支持体に耐傷性を付与するため
に、ハードコート層を支持体表面に設けることが好まし
い。ハードコート層は、架橋しているポリマーを含むこ
とが好ましい。架橋しているポリマーを含むハードコー
ト層は、多官能モノマーと重合開始剤を含む塗布液を透
明支持体上に塗布し、多官能モノマーを重合させること
により形成できる。多官能モノマーは、多価アルコール
とアクリル酸またはメタクリル酸とのエステルであるこ
とが好ましい。多価アルコールの例には、エチレングリ
コール、１，４−シクロヘキサノール、ペンタエリスリ
トール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタ
ン、ジペンタエリスリトール、１，２，４−シクロヘキ
サノール、ポリウレタンポリオールおよびポリエステル
ポリオールが含まれる。トリメチロールプロパン、ペン
タエリスリトール、ジペンタエリスリトールおよびポリ
ウレタンポリオールが好ましい。二種類以上の多官能モ
ノマーを併用してもよい。多官能モノマーの重合反応に
は、光重合開始剤を用いることが好ましい。光重合開始
剤の例には、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミ
ヒラーのベンゾイルベンゾエート、α−アミロキシムエ
ステル、テトラメチルチウラムモノサルファイドおよび
チオキサントン類が含まれる。光重合開始剤に加えて、
光増感剤を用いてもよい。光増感剤の例には、ｎ−ブチ
ルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフ
ィン、ミヒラーのケトンおよびチオキサントンが含まれ
る。
【００３６】光重合開始剤は、多官能モノマー１００重
量部に対して、０．１乃至１５重量部の範囲で使用する
ことが好ましく、１乃至１０重量部の範囲で使用するこ
とがさらに好ましい。光重合反応は、ハードコート層の
塗布および乾燥後、紫外線照射により実施することが好
ましい。ハードコート層には、充填剤を添加することが
好ましい。充填剤はハードコート層の硬度を高くし、多
官能モノマーの硬化収縮を抑える機能がある。充填剤と
しては、無機微粒子または有機微粒子を用いることが好
ましい。無機微粒子の例には、二酸化ケイ素粒子、二酸
化チタン粒子、酸化アルミニウム粒子、酸化ジルコニウ
ム粒子、酸化錫粒子、炭酸カルシウム粒子、硫酸バリウ
ム粒子、タルク、カオリンおよび硫酸カルシウム粒子が
含まれる。有機微粒子の例には、メタクリル酸−メチル
アクリレートコポリマー、シリコン樹脂、ポリスチレ
ン、ポリカーボネート、アクリル酸−スチレンコポリマ
ー、ベンゾグアナミン樹脂、メラミン樹脂、ポリオレフ
ィン、ポリエステル、ポリアミド、ポリイミドおよびポ
リフッ化エチレンが含まれる。充填剤として使用する微
粒子の平均粒子径は、０．０１乃至２μｍであることが
好ましく、０．０２乃至０．５μｍであることがさらに
好ましい。ハードコート層またはその塗布液には、さら
に、着色剤（顔料、染料）、消泡剤、増粘剤、レベリン
グ剤、難燃剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤や改質用樹脂
を添加してもよい。ハードコート層の厚さは、１乃至１
５μｍであることが好ましい。ハードコート層の強度
は、ＪＩＳ Ｋ５４００に従う鉛筆硬度試験で、Ｈ以上
であることが好ましく、２Ｈ以上であることがさらに好
ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。
量部に対して、０．１乃至１５重量部の範囲で使用する
ことが好ましく、１乃至１０重量部の範囲で使用するこ
とがさらに好ましい。光重合反応は、ハードコート層の
塗布および乾燥後、紫外線照射により実施することが好
ましい。ハードコート層には、充填剤を添加することが
好ましい。充填剤はハードコート層の硬度を高くし、多
官能モノマーの硬化収縮を抑える機能がある。充填剤と
しては、無機微粒子または有機微粒子を用いることが好
ましい。無機微粒子の例には、二酸化ケイ素粒子、二酸
化チタン粒子、酸化アルミニウム粒子、酸化ジルコニウ
ム粒子、酸化錫粒子、炭酸カルシウム粒子、硫酸バリウ
ム粒子、タルク、カオリンおよび硫酸カルシウム粒子が
含まれる。有機微粒子の例には、メタクリル酸−メチル
アクリレートコポリマー、シリコン樹脂、ポリスチレ
ン、ポリカーボネート、アクリル酸−スチレンコポリマ
ー、ベンゾグアナミン樹脂、メラミン樹脂、ポリオレフ
ィン、ポリエステル、ポリアミド、ポリイミドおよびポ
リフッ化エチレンが含まれる。充填剤として使用する微
粒子の平均粒子径は、０．０１乃至２μｍであることが
好ましく、０．０２乃至０．５μｍであることがさらに
好ましい。ハードコート層またはその塗布液には、さら
に、着色剤（顔料、染料）、消泡剤、増粘剤、レベリン
グ剤、難燃剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤や改質用樹脂
を添加してもよい。ハードコート層の厚さは、１乃至１
５μｍであることが好ましい。ハードコート層の強度
は、ＪＩＳ Ｋ５４００に従う鉛筆硬度試験で、Ｈ以上
であることが好ましく、２Ｈ以上であることがさらに好
ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。
【００３７】［高屈折率層および中屈折率層の無機微粒
子］高屈折率層、及び中屈折率層に用いる無機微粒子
は、屈折率が１．８０乃至２．８０であることが好まし
く、１．９０乃至２．８０であることがさらに好まし
い。無機微粒子の一次粒子の重量平均径は、１乃至１５
０ｎｍであることが好ましく、１乃至１００ｎｍである
ことがさらに好ましく、１乃至８０ｎｍであることが最
も好ましい。形成される高屈折率層、中屈折率層に含ま
れる無機微粒子の重量平均径は、１乃至２００ｎｍであ
る。好ましくは５乃至１５０ｎｍ、更に好ましくは１０
乃至１００ｎｍ、特に好ましくは１０乃至８０ｎｍであ
る。無機微粒子の平均粒径は、光散乱法や電子顕微鏡写
真により測定できる。無機微粒子の比表面積は、１０乃
至４００ｍ2／ｇであることが好ましく、２０乃至２０
０ｍ2／ｇであることがさらに好ましく、３０乃至１５
０ｍ2／ｇであることが最も好ましい。無機微粒子は、
金属の酸化物または硫化物から形成することが好まし
い。金属の酸化物または硫化物の例には、二酸化チタン
（例、ルチル、ルチル／アナターゼの混晶、アナター
ゼ、アモルファス構造）、酸化錫、酸化インジウム、酸
化亜鉛、酸化ジルコニウムおよび硫化亜鉛が含まれる。
二酸化チタン、酸化錫および酸化インジウムが特に好ま
しい。無機微粒子は、これらの金属の酸化物または硫化
物を主成分とし、さらに他の元素を含むことができる。
主成分とは、粒子を構成する成分の中で最も含有量（質
量％）が多い成分を意味する。他の元素の例には、Ｔ
ｉ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｍｎ、Ｐｂ、Ｃ
ｄ、Ａｓ、Ｃｒ、Ｈｇ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｓｉ、Ｐお
よびＳが含まれる。
子］高屈折率層、及び中屈折率層に用いる無機微粒子
は、屈折率が１．８０乃至２．８０であることが好まし
く、１．９０乃至２．８０であることがさらに好まし
い。無機微粒子の一次粒子の重量平均径は、１乃至１５
０ｎｍであることが好ましく、１乃至１００ｎｍである
ことがさらに好ましく、１乃至８０ｎｍであることが最
も好ましい。形成される高屈折率層、中屈折率層に含ま
れる無機微粒子の重量平均径は、１乃至２００ｎｍであ
る。好ましくは５乃至１５０ｎｍ、更に好ましくは１０
乃至１００ｎｍ、特に好ましくは１０乃至８０ｎｍであ
る。無機微粒子の平均粒径は、光散乱法や電子顕微鏡写
真により測定できる。無機微粒子の比表面積は、１０乃
至４００ｍ2／ｇであることが好ましく、２０乃至２０
０ｍ2／ｇであることがさらに好ましく、３０乃至１５
０ｍ2／ｇであることが最も好ましい。無機微粒子は、
金属の酸化物または硫化物から形成することが好まし
い。金属の酸化物または硫化物の例には、二酸化チタン
（例、ルチル、ルチル／アナターゼの混晶、アナター
ゼ、アモルファス構造）、酸化錫、酸化インジウム、酸
化亜鉛、酸化ジルコニウムおよび硫化亜鉛が含まれる。
二酸化チタン、酸化錫および酸化インジウムが特に好ま
しい。無機微粒子は、これらの金属の酸化物または硫化
物を主成分とし、さらに他の元素を含むことができる。
主成分とは、粒子を構成する成分の中で最も含有量（質
量％）が多い成分を意味する。他の元素の例には、Ｔ
ｉ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｍｎ、Ｐｂ、Ｃ
ｄ、Ａｓ、Ｃｒ、Ｈｇ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｓｉ、Ｐお
よびＳが含まれる。
【００３８】無機微粒子を表面処理してもよい。表面処
理は、無機化合物または有機化合物を用いて実施する。
表面処理に用いる無機化合物の例には、アルミナ、シリ
カ、酸化ジルコニウムおよび酸化鉄が含まれる。アルミ
ナおよびシリカが好ましい。表面処理に用いる有機化合
物の例には、ポリオール、アルカノールアミン、ステア
リン酸、シランカップリング剤およびチタネートカップ
リング剤が含まれる。シランカップリング剤が最も好ま
しい。二種類以上の表面処理を組み合わせて実施しても
よい。無機微粒子の形状は、米粒状、球形状、立方体
状、紡錘形状あるいは不定形状であることが好ましい。
二種類以上の無機微粒子を高屈折率層、及び中屈折率層
で併用してもよい。高屈折率層、及び中屈折率層の無機
微粒子の割合は、５乃至６５体積％である。１０乃至６
０体積％であることが好ましく、２０乃至５５体積％で
あることがさらに好ましい。無機微粒子は、分散物の状
態で高屈折率層、及び中屈折率層の形成に使用する。高
屈折率層の無機微粒子の分散媒体は、沸点が６０乃至１
７０℃の液体を用いることが好ましい。分散媒体の例に
は、水、アルコール（例、メタノール、エタノール、イ
ソプロパノール、ブタノール、ベンジルアルコール）、
ケトン（例、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイ
ソブチルケトン、シクロヘキサノン）、エステル（例、
酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、
蟻酸メチル、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ブチ
ル）、脂肪族炭化水素（例、ヘキサン、シクロヘキサ
ン）、ハロゲン化炭化水素（例、メチレンクロライド、
クロロホルム、四塩化炭素）、芳香族炭化水素（例、ベ
ンゼン、トルエン、キシレン）、アミド（例、ジメチル
ホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ｎ−メチルピロ
リドン）、エーテル（例、ジエチルエーテル、ジオキサ
ン、テトラハイドロフラン）、エーテルアルコール
（例、１−メトキシ−２−プロパノール）が含まれる。
トルエン、キシレン、メチルエチルケトン、メチルイソ
ブチルケトン、シクロヘキサノンおよびブタノールが特
に好ましい。無機微粒子は、分散機を用いて媒体中に分
散できる。分散機の例には、サンドグラインダーミル
（例、ピン付きビーズミル）、高速インペラーミル、ペ
ッブルミル、ローラーミル、アトライターおよびコロイ
ドミルが含まれる。サンドグラインダーミルおよび高速
インペラーミルが特に好ましい。また、予備分散処理を
実施してもよい。予備分散処理に用いる分散機の例に
は、ボールミル、三本ロールミル、ニーダーおよびエク
ストルーダーが含まれる。
理は、無機化合物または有機化合物を用いて実施する。
表面処理に用いる無機化合物の例には、アルミナ、シリ
カ、酸化ジルコニウムおよび酸化鉄が含まれる。アルミ
ナおよびシリカが好ましい。表面処理に用いる有機化合
物の例には、ポリオール、アルカノールアミン、ステア
リン酸、シランカップリング剤およびチタネートカップ
リング剤が含まれる。シランカップリング剤が最も好ま
しい。二種類以上の表面処理を組み合わせて実施しても
よい。無機微粒子の形状は、米粒状、球形状、立方体
状、紡錘形状あるいは不定形状であることが好ましい。
二種類以上の無機微粒子を高屈折率層、及び中屈折率層
で併用してもよい。高屈折率層、及び中屈折率層の無機
微粒子の割合は、５乃至６５体積％である。１０乃至６
０体積％であることが好ましく、２０乃至５５体積％で
あることがさらに好ましい。無機微粒子は、分散物の状
態で高屈折率層、及び中屈折率層の形成に使用する。高
屈折率層の無機微粒子の分散媒体は、沸点が６０乃至１
７０℃の液体を用いることが好ましい。分散媒体の例に
は、水、アルコール（例、メタノール、エタノール、イ
ソプロパノール、ブタノール、ベンジルアルコール）、
ケトン（例、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイ
ソブチルケトン、シクロヘキサノン）、エステル（例、
酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、
蟻酸メチル、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ブチ
ル）、脂肪族炭化水素（例、ヘキサン、シクロヘキサ
ン）、ハロゲン化炭化水素（例、メチレンクロライド、
クロロホルム、四塩化炭素）、芳香族炭化水素（例、ベ
ンゼン、トルエン、キシレン）、アミド（例、ジメチル
ホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ｎ−メチルピロ
リドン）、エーテル（例、ジエチルエーテル、ジオキサ
ン、テトラハイドロフラン）、エーテルアルコール
（例、１−メトキシ−２−プロパノール）が含まれる。
トルエン、キシレン、メチルエチルケトン、メチルイソ
ブチルケトン、シクロヘキサノンおよびブタノールが特
に好ましい。無機微粒子は、分散機を用いて媒体中に分
散できる。分散機の例には、サンドグラインダーミル
（例、ピン付きビーズミル）、高速インペラーミル、ペ
ッブルミル、ローラーミル、アトライターおよびコロイ
ドミルが含まれる。サンドグラインダーミルおよび高速
インペラーミルが特に好ましい。また、予備分散処理を
実施してもよい。予備分散処理に用いる分散機の例に
は、ボールミル、三本ロールミル、ニーダーおよびエク
ストルーダーが含まれる。
【００３９】［高屈折率層および中屈折率層のポリマ
ー］高屈折率層、及び中屈折率層は架橋しているアニオ
ン性基を有するポリマーをバインダーとして用いること
が好ましい。架橋しているアニオン性基を有するポリマ
ーは、アニオン性基を有するポリマーの主鎖が架橋して
いる構造を有する。アニオン性基は、無機微粒子の分散
状態を維持する機能を有する。架橋構造は、ポリマーに
皮膜形成能を付与して皮膜を強化する機能を有する。ポ
リマーの主鎖の例には、ポリオレフィン（飽和炭化水
素）、ポリエーテル、ポリウレア、ポリウレタン、ポリ
エステル、ポリアミン、ポリアミドおよびメラミン樹脂
が含まれる。ポリオレフィン主鎖、ポリエーテル主鎖お
よびポリウレア主鎖が好ましく、ポリオレフィン主鎖お
よびポリエーテル主鎖がさらに好ましく、ポリオレフィ
ン主鎖が最も好ましい。ポリオレフィン主鎖は、飽和炭
化水素からなる。ポリオレフィン主鎖は、例えば、不飽
和重合性基の付加重合反応により得られる。ポリエーテ
ル主鎖は、エーテル結合（−Ｏ−）によって繰り返し単
位が結合している。ポリエーテル主鎖は、例えば、エポ
キシ基の開環重合反応により得られる。ポリウレア主鎖
は、ウレア結合（−ＮＨ−ＣＯ−ＮＨ−）によって、繰
り返し単位が結合している。ポリウレア主鎖は、例え
ば、イソシアネート基とアミノ基との縮重合反応により
得られる。ポリウレタン主鎖は、ウレタン結合（−ＮＨ
−ＣＯ−Ｏ−）によって、繰り返し単位が結合してい
る。ポリウレタン主鎖は、例えば、イソシアネート基
と、水酸基（Ｎ−メチロール基を含む）との縮重合反応
により得られる。ポリエステル主鎖は、エステル結合
（−ＣＯ−Ｏ−）によって、繰り返し単位が結合してい
る。ポリエステル主鎖は、例えば、カルボキシル基（酸
ハライド基を含む）と水酸基（Ｎ−メチロール基を含
む）との縮重合反応により得られる。ポリアミン主鎖
は、イミノ結合（−ＮＨ−）によって、繰り返し単位が
結合している。ポリアミン主鎖は、例えば、エチレンイ
ミン基の開環重合反応により得られる。ポリアミド主鎖
は、アミド結合（−ＮＨ−ＣＯ−）によって、繰り返し
単位が結合している。ポリアミド主鎖は、例えば、イソ
シアネート基とカルボキシル基（酸ハライド基を含む）
との反応により得られる。メラミン樹脂主鎖は、例え
ば、トリアジン基（例、メラミン）とアルデヒド（例、
ホルムアルデヒド）との縮重合反応により得られる。な
お、メラミン樹脂は、主鎖そのものが架橋構造を有す
る。
ー］高屈折率層、及び中屈折率層は架橋しているアニオ
ン性基を有するポリマーをバインダーとして用いること
が好ましい。架橋しているアニオン性基を有するポリマ
ーは、アニオン性基を有するポリマーの主鎖が架橋して
いる構造を有する。アニオン性基は、無機微粒子の分散
状態を維持する機能を有する。架橋構造は、ポリマーに
皮膜形成能を付与して皮膜を強化する機能を有する。ポ
リマーの主鎖の例には、ポリオレフィン（飽和炭化水
素）、ポリエーテル、ポリウレア、ポリウレタン、ポリ
エステル、ポリアミン、ポリアミドおよびメラミン樹脂
が含まれる。ポリオレフィン主鎖、ポリエーテル主鎖お
よびポリウレア主鎖が好ましく、ポリオレフィン主鎖お
よびポリエーテル主鎖がさらに好ましく、ポリオレフィ
ン主鎖が最も好ましい。ポリオレフィン主鎖は、飽和炭
化水素からなる。ポリオレフィン主鎖は、例えば、不飽
和重合性基の付加重合反応により得られる。ポリエーテ
ル主鎖は、エーテル結合（−Ｏ−）によって繰り返し単
位が結合している。ポリエーテル主鎖は、例えば、エポ
キシ基の開環重合反応により得られる。ポリウレア主鎖
は、ウレア結合（−ＮＨ−ＣＯ−ＮＨ−）によって、繰
り返し単位が結合している。ポリウレア主鎖は、例え
ば、イソシアネート基とアミノ基との縮重合反応により
得られる。ポリウレタン主鎖は、ウレタン結合（−ＮＨ
−ＣＯ−Ｏ−）によって、繰り返し単位が結合してい
る。ポリウレタン主鎖は、例えば、イソシアネート基
と、水酸基（Ｎ−メチロール基を含む）との縮重合反応
により得られる。ポリエステル主鎖は、エステル結合
（−ＣＯ−Ｏ−）によって、繰り返し単位が結合してい
る。ポリエステル主鎖は、例えば、カルボキシル基（酸
ハライド基を含む）と水酸基（Ｎ−メチロール基を含
む）との縮重合反応により得られる。ポリアミン主鎖
は、イミノ結合（−ＮＨ−）によって、繰り返し単位が
結合している。ポリアミン主鎖は、例えば、エチレンイ
ミン基の開環重合反応により得られる。ポリアミド主鎖
は、アミド結合（−ＮＨ−ＣＯ−）によって、繰り返し
単位が結合している。ポリアミド主鎖は、例えば、イソ
シアネート基とカルボキシル基（酸ハライド基を含む）
との反応により得られる。メラミン樹脂主鎖は、例え
ば、トリアジン基（例、メラミン）とアルデヒド（例、
ホルムアルデヒド）との縮重合反応により得られる。な
お、メラミン樹脂は、主鎖そのものが架橋構造を有す
る。
【００４０】アニオン性基は、ポリマーの主鎖に直接結
合させるか、あるいは連結基を介して主鎖に結合させ
る。アニオン性基は、連結基を介して側鎖として、主鎖
に結合させることが好ましい。アニオン性基の例には、
カルボン酸基（カルボキシル）、スルホン酸基（スル
ホ）およびリン酸基（ホスホノ）が含まれる。スルホン
酸基およびリン酸基が好ましい。アニオン性基は、塩の
状態であってもよい。アニオン性基と塩を形成するカチ
オンは、アルカリ金属イオンであることが好ましい。ま
た、アニオン性基のプロトンは、解離していてもよい。
アニオン性基とポリマーの主鎖とを結合する連結基は、
−ＣＯ−、−Ｏ−、アルキレン基、アリーレン基、およ
びこれらの組み合わせから選ばれる二価の基であること
が好ましい。架橋構造は、二以上の主鎖を化学的に結合
（好ましくは共有結合）する。架橋構造は、三以上の主
鎖を共有結合することが好ましい。架橋構造は、−ＣＯ
−、−Ｏ−、−Ｓ−、窒素原子、リン原子、脂肪族残
基、芳香族残基およびこれらの組み合わせから選ばれる
二価以上の基からなることが好ましい。ポリマーは、ア
ニオン性基を有する繰り返し単位と、架橋構造を有する
繰り返し単位とを有するコポリマーであることが好まし
い。コポリマー中のアニオン性基を有する繰り返し単位
の割合は、２乃至９６質量％であることが好ましく、４
乃至９４質量％であることがさらに好ましく、６乃至９
２質量％であることが最も好ましい。繰り返し単位は、
二以上のアニオン性基を有していてもよい。コポリマー
中の架橋構造を有する繰り返し単位の割合は、４乃至９
８質量％であることが好ましく、６乃至９６質量％であ
ることがさらに好ましく、８乃至９４質量％であること
が最も好ましい。
合させるか、あるいは連結基を介して主鎖に結合させ
る。アニオン性基は、連結基を介して側鎖として、主鎖
に結合させることが好ましい。アニオン性基の例には、
カルボン酸基（カルボキシル）、スルホン酸基（スル
ホ）およびリン酸基（ホスホノ）が含まれる。スルホン
酸基およびリン酸基が好ましい。アニオン性基は、塩の
状態であってもよい。アニオン性基と塩を形成するカチ
オンは、アルカリ金属イオンであることが好ましい。ま
た、アニオン性基のプロトンは、解離していてもよい。
アニオン性基とポリマーの主鎖とを結合する連結基は、
−ＣＯ−、−Ｏ−、アルキレン基、アリーレン基、およ
びこれらの組み合わせから選ばれる二価の基であること
が好ましい。架橋構造は、二以上の主鎖を化学的に結合
（好ましくは共有結合）する。架橋構造は、三以上の主
鎖を共有結合することが好ましい。架橋構造は、−ＣＯ
−、−Ｏ−、−Ｓ−、窒素原子、リン原子、脂肪族残
基、芳香族残基およびこれらの組み合わせから選ばれる
二価以上の基からなることが好ましい。ポリマーは、ア
ニオン性基を有する繰り返し単位と、架橋構造を有する
繰り返し単位とを有するコポリマーであることが好まし
い。コポリマー中のアニオン性基を有する繰り返し単位
の割合は、２乃至９６質量％であることが好ましく、４
乃至９４質量％であることがさらに好ましく、６乃至９
２質量％であることが最も好ましい。繰り返し単位は、
二以上のアニオン性基を有していてもよい。コポリマー
中の架橋構造を有する繰り返し単位の割合は、４乃至９
８質量％であることが好ましく、６乃至９６質量％であ
ることがさらに好ましく、８乃至９４質量％であること
が最も好ましい。
【００４１】ポリマーの繰り返し単位は、アニオン性基
と架橋構造の双方を有していてもよい。ポリマーには、
その他の繰り返し単位（アニオン性基も架橋構造もない
繰り返し単位）が含まれていてもよい。その他の繰り返
し単位としては、アミノ基または四級アンモニウム基を
有する繰り返し単位およびベンゼン環を有する繰り返し
単位が好ましい。アミノ基または四級アンモニウム基
は、アニオン性基と同様に、無機微粒子の分散状態を維
持する機能を有する。ベンゼン環は、高屈折率層の屈折
率を高くする機能を有する。なお、アミノ基、四級アン
モニウム基およびベンゼン環は、アニオン性基を有する
繰り返し単位あるいは架橋構造を有する繰り返し単位に
含まれていても、同様の効果が得られる。アミノ基また
は四級アンモニウム基を有する繰り返し単位では、アミ
ノ基または四級アンモニウム基は、ポリマーの主鎖に直
接結合させるか、あるいは連結基を介して主鎖に結合さ
せる。アミノ基または四級アンモニウム基は、連結基を
介して側鎖として、主鎖に結合させることが好ましい。
アミノ基または四級アンモニウム基は、二級アミノ基、
三級アミノ基または四級アンモニウム基であることが好
ましく、三級アミノ基または四級アンモニウム基である
ことがさらに好ましい。二級アミノ基、三級アミノ基ま
たは四級アンモニウム基の窒素原子に結合する基は、ア
ルキル基であることが好ましく、炭素原子数が１乃至１
２のアルキル基であることが好ましく、炭素原子数が１
乃至６のアルキル基であることがさらに好ましい。四級
アンモニウム基の対イオンは、ハライドイオンであるこ
とが好ましい。アミノ基または四級アンモニウム基とポ
リマーの主鎖とを結合する連結基は、−ＣＯ−、−ＮＨ
−、−Ｏ−、アルキレン基、アリーレン基、およびこれ
らの組み合わせから選ばれる二価の基であることが好ま
しい。ポリマーが、アミノ基または四級アンモニウム基
を有する繰り返し単位を含む場合、その割合は、０．０
６乃至３２質量％であることが好ましく、０．０８乃至
３０質量％であることがさらに好ましく、０．１乃至２
８質量％であることが最も好ましい。
と架橋構造の双方を有していてもよい。ポリマーには、
その他の繰り返し単位（アニオン性基も架橋構造もない
繰り返し単位）が含まれていてもよい。その他の繰り返
し単位としては、アミノ基または四級アンモニウム基を
有する繰り返し単位およびベンゼン環を有する繰り返し
単位が好ましい。アミノ基または四級アンモニウム基
は、アニオン性基と同様に、無機微粒子の分散状態を維
持する機能を有する。ベンゼン環は、高屈折率層の屈折
率を高くする機能を有する。なお、アミノ基、四級アン
モニウム基およびベンゼン環は、アニオン性基を有する
繰り返し単位あるいは架橋構造を有する繰り返し単位に
含まれていても、同様の効果が得られる。アミノ基また
は四級アンモニウム基を有する繰り返し単位では、アミ
ノ基または四級アンモニウム基は、ポリマーの主鎖に直
接結合させるか、あるいは連結基を介して主鎖に結合さ
せる。アミノ基または四級アンモニウム基は、連結基を
介して側鎖として、主鎖に結合させることが好ましい。
アミノ基または四級アンモニウム基は、二級アミノ基、
三級アミノ基または四級アンモニウム基であることが好
ましく、三級アミノ基または四級アンモニウム基である
ことがさらに好ましい。二級アミノ基、三級アミノ基ま
たは四級アンモニウム基の窒素原子に結合する基は、ア
ルキル基であることが好ましく、炭素原子数が１乃至１
２のアルキル基であることが好ましく、炭素原子数が１
乃至６のアルキル基であることがさらに好ましい。四級
アンモニウム基の対イオンは、ハライドイオンであるこ
とが好ましい。アミノ基または四級アンモニウム基とポ
リマーの主鎖とを結合する連結基は、−ＣＯ−、−ＮＨ
−、−Ｏ−、アルキレン基、アリーレン基、およびこれ
らの組み合わせから選ばれる二価の基であることが好ま
しい。ポリマーが、アミノ基または四級アンモニウム基
を有する繰り返し単位を含む場合、その割合は、０．０
６乃至３２質量％であることが好ましく、０．０８乃至
３０質量％であることがさらに好ましく、０．１乃至２
８質量％であることが最も好ましい。
【００４２】ベンゼン環を有する繰り返し単位では、ベ
ンゼン環は、ポリマーの主鎖に直接結合させるか、ある
いは連結基を介して主鎖に結合させる。ベンゼン環は、
連結基を介して側鎖として、主鎖に結合させることが好
ましい。ベンゼン環は、置換基（例、アルキル基、ヒド
ロキシ、ハロゲン原子）を有していてもよい。ベンゼン
環とポリマーの主鎖とを結合する連結基は、−ＣＯ−、
−Ｏ−、アルキレン基、アリーレン基、およびこれらの
組み合わせから選ばれる二価の基であることが好まし
い。ポリマーが、ベンゼン環を有する繰り返し単位を含
む場合、その割合は、２乃至９８質量％であることが好
ましく、４乃至９６質量％であることがさらに好まし
く、６乃至９４質量％であることが最も好ましい。架橋
しているアニオン性基を有するポリマーは、高屈折率
層、及び中屈折率層の塗布液（前述した無機微粒子の分
散液）にモノマーとして添加し、層の塗布と同時または
塗布後に、重合反応によって形成することが好ましい。
アニオン性基を有するモノマーは、塗布液中で無機微粒
子の分散剤として機能する。アニオン性基を有するモノ
マーの無機微粒子に対する使用量は、１乃至５０質量％
の範囲であることが好ましく、５乃至４０質量％の範囲
であることが好ましく、１０乃至３０質量％であること
が最も好ましい。また、アミノ基または四級アンモニウ
ム基を有するモノマーは、塗布液中で分散助剤として機
能する。アミノ基または四級アンモニウム基を有するモ
ノマーのアニオン性基を有するモノマーに対する使用量
は、３乃至３３質量％であることが好ましい。層の塗布
と同時または塗布後に、重合反応によってポリマーを形
成すれば、層の塗布前にこれらのモノマーを有効に機能
させることができる。アニオン性基を有するモノマー、
およびアミノ基または四級アンモニウム基を有するモノ
マーは市販のモノマーを用いてもよい。好ましく用いら
れる市販のアニオン性基を有するモノマーとしては、KA
YAMARPM-21、PM-2（日本化薬（株）製）、Antox MS-6
0、MS-2N、MS-NH4（日本乳化剤（株）製）、アロニック
ス M-5000、M-6000、M-8000シリーズ（東亞合成化学工
業（株）製）、ビスコート#2000シリーズ（大阪有機化
学工業（株）製）、ニューフロンティアGX-8289（第一
工業製薬（株）製）、NKエステル CB-1、A-SA（新中村
化学工業（株）製）、AR-100、MR-100、MR-200（第八化
学工業（株）製）など（以上、いずれも商品名であ
る。）が挙げられる。また、好ましく用いられる市販の
アミノ基または四級アンモニウム基を有するモノマーと
してはＤＭＡＡ（大阪有機化学工業（株）製）、ＤＭＡ
ＥＡ、ＤＭＡＰＡＡ（興人（株）製）、ブレンマーＱＡ
（日本油脂（株）製）、ニューフロンティアＣ−１６１
５（第一工業製薬（株）製）など（以上、いずれも商品
名である。）が挙げられる。
ンゼン環は、ポリマーの主鎖に直接結合させるか、ある
いは連結基を介して主鎖に結合させる。ベンゼン環は、
連結基を介して側鎖として、主鎖に結合させることが好
ましい。ベンゼン環は、置換基（例、アルキル基、ヒド
ロキシ、ハロゲン原子）を有していてもよい。ベンゼン
環とポリマーの主鎖とを結合する連結基は、−ＣＯ−、
−Ｏ−、アルキレン基、アリーレン基、およびこれらの
組み合わせから選ばれる二価の基であることが好まし
い。ポリマーが、ベンゼン環を有する繰り返し単位を含
む場合、その割合は、２乃至９８質量％であることが好
ましく、４乃至９６質量％であることがさらに好まし
く、６乃至９４質量％であることが最も好ましい。架橋
しているアニオン性基を有するポリマーは、高屈折率
層、及び中屈折率層の塗布液（前述した無機微粒子の分
散液）にモノマーとして添加し、層の塗布と同時または
塗布後に、重合反応によって形成することが好ましい。
アニオン性基を有するモノマーは、塗布液中で無機微粒
子の分散剤として機能する。アニオン性基を有するモノ
マーの無機微粒子に対する使用量は、１乃至５０質量％
の範囲であることが好ましく、５乃至４０質量％の範囲
であることが好ましく、１０乃至３０質量％であること
が最も好ましい。また、アミノ基または四級アンモニウ
ム基を有するモノマーは、塗布液中で分散助剤として機
能する。アミノ基または四級アンモニウム基を有するモ
ノマーのアニオン性基を有するモノマーに対する使用量
は、３乃至３３質量％であることが好ましい。層の塗布
と同時または塗布後に、重合反応によってポリマーを形
成すれば、層の塗布前にこれらのモノマーを有効に機能
させることができる。アニオン性基を有するモノマー、
およびアミノ基または四級アンモニウム基を有するモノ
マーは市販のモノマーを用いてもよい。好ましく用いら
れる市販のアニオン性基を有するモノマーとしては、KA
YAMARPM-21、PM-2（日本化薬（株）製）、Antox MS-6
0、MS-2N、MS-NH4（日本乳化剤（株）製）、アロニック
ス M-5000、M-6000、M-8000シリーズ（東亞合成化学工
業（株）製）、ビスコート#2000シリーズ（大阪有機化
学工業（株）製）、ニューフロンティアGX-8289（第一
工業製薬（株）製）、NKエステル CB-1、A-SA（新中村
化学工業（株）製）、AR-100、MR-100、MR-200（第八化
学工業（株）製）など（以上、いずれも商品名であ
る。）が挙げられる。また、好ましく用いられる市販の
アミノ基または四級アンモニウム基を有するモノマーと
してはＤＭＡＡ（大阪有機化学工業（株）製）、ＤＭＡ
ＥＡ、ＤＭＡＰＡＡ（興人（株）製）、ブレンマーＱＡ
（日本油脂（株）製）、ニューフロンティアＣ−１６１
５（第一工業製薬（株）製）など（以上、いずれも商品
名である。）が挙げられる。
【００４３】ポリマーの重合反応は、光重合反応または
熱重合反応を用いることができる。光重合反応が好まし
い。重合反応のため、重合開始剤を使用することが好ま
しい。例えば、前述した熱重合開始剤、及び光重合開始
剤が挙げられる。
熱重合反応を用いることができる。光重合反応が好まし
い。重合反応のため、重合開始剤を使用することが好ま
しい。例えば、前述した熱重合開始剤、及び光重合開始
剤が挙げられる。
【００４４】市販の重合開始剤を使用してもよい。重合
開始剤に加えて、重合促進剤を使用してもよい。重合開
始剤と重合促進剤の添加量は、モノマーの全量の０．２
乃至１０質量％の範囲であることが好ましい。塗布液
（モノマーを含む無機微粒子の分散液）を加熱して、モ
ノマー（またはオリゴマー）の重合を促進してもよい。
また、塗布後の光重合反応の後に加熱して、形成された
ポリマーの熱硬化反応を追加処理してもよい。アニオン
性基を有するポリマーは、架橋しているため分子量の規
定は困難である。高屈折率層中の架橋しているアニオン
性基を有するポリマーの割合は、３５乃至９５体積％で
ある。好ましくは４０乃至９０体積％、更に好ましくは
４５乃至８０体積％である。 ［高屈折率層および中屈折率層の構造］図４は、好まし
い高屈折率層（４）（又は中屈折率層）の断面模式図で
ある。図４の高屈折率層（４）の上側に低屈折率層があ
り、下側に画像表示装置またはレンズがある。図４に示
すように、高屈折率層（４）は、空孔がなく、無機微粒
子（４１）の間にポリマー（４２）が充填されている層
である。高屈折率層（４）内では、平均粒径が１乃至２
００ｎｍの無機微粒子（４１）が（図４では３個）積み
重なっている。そして、無機微粒子（４１）の間に架橋
しているアニオン性基を有するポリマー（４２）が充填
されている。高屈折率層の屈折率は、１．５５乃至２．
４０であることが好ましい。屈折率は、１．７０乃至
２．２０であることがさらに好ましい。中屈折率層の屈
折率は、１．５５乃至１．８５であることが好ましい。
１．６５乃至１．７５であることがさらに好ましい。高
屈折率層及び中屈折率層の屈折率は、無機微粒子とアニ
オン性基を有するポリマーの体積比を変えることで上記
の範囲に調整することができる。屈折率は、アッベ屈折
率計を用いる測定や、層表面からの光の分光反射率の測
定から得られる分光反射率曲線の形状から求めることが
できる。高屈折率層、及び中屈折率層の厚さは、５ｎｍ
乃至２００ｎｍであることが好ましく、１０ｎｍ乃至１
５０ｎｍであることがさらに好ましく、３０ｎｍ乃至１
００ｎｍであることが最も好ましい。高屈折率層、及び
中屈折率層のヘイズは、５％以下であることが好まし
く、３％以下であることがさらに好ましく、１％以下で
あることが最も好ましい。高屈折率層、及び中屈折率層
の強度は、ＪＩＳ Ｋ５４００に従う鉛筆硬度試験で、
Ｈ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがさ
らに好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。
開始剤に加えて、重合促進剤を使用してもよい。重合開
始剤と重合促進剤の添加量は、モノマーの全量の０．２
乃至１０質量％の範囲であることが好ましい。塗布液
（モノマーを含む無機微粒子の分散液）を加熱して、モ
ノマー（またはオリゴマー）の重合を促進してもよい。
また、塗布後の光重合反応の後に加熱して、形成された
ポリマーの熱硬化反応を追加処理してもよい。アニオン
性基を有するポリマーは、架橋しているため分子量の規
定は困難である。高屈折率層中の架橋しているアニオン
性基を有するポリマーの割合は、３５乃至９５体積％で
ある。好ましくは４０乃至９０体積％、更に好ましくは
４５乃至８０体積％である。 ［高屈折率層および中屈折率層の構造］図４は、好まし
い高屈折率層（４）（又は中屈折率層）の断面模式図で
ある。図４の高屈折率層（４）の上側に低屈折率層があ
り、下側に画像表示装置またはレンズがある。図４に示
すように、高屈折率層（４）は、空孔がなく、無機微粒
子（４１）の間にポリマー（４２）が充填されている層
である。高屈折率層（４）内では、平均粒径が１乃至２
００ｎｍの無機微粒子（４１）が（図４では３個）積み
重なっている。そして、無機微粒子（４１）の間に架橋
しているアニオン性基を有するポリマー（４２）が充填
されている。高屈折率層の屈折率は、１．５５乃至２．
４０であることが好ましい。屈折率は、１．７０乃至
２．２０であることがさらに好ましい。中屈折率層の屈
折率は、１．５５乃至１．８５であることが好ましい。
１．６５乃至１．７５であることがさらに好ましい。高
屈折率層及び中屈折率層の屈折率は、無機微粒子とアニ
オン性基を有するポリマーの体積比を変えることで上記
の範囲に調整することができる。屈折率は、アッベ屈折
率計を用いる測定や、層表面からの光の分光反射率の測
定から得られる分光反射率曲線の形状から求めることが
できる。高屈折率層、及び中屈折率層の厚さは、５ｎｍ
乃至２００ｎｍであることが好ましく、１０ｎｍ乃至１
５０ｎｍであることがさらに好ましく、３０ｎｍ乃至１
００ｎｍであることが最も好ましい。高屈折率層、及び
中屈折率層のヘイズは、５％以下であることが好まし
く、３％以下であることがさらに好ましく、１％以下で
あることが最も好ましい。高屈折率層、及び中屈折率層
の強度は、ＪＩＳ Ｋ５４００に従う鉛筆硬度試験で、
Ｈ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがさ
らに好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。
【００４５】［オーバーコート層］図５は、本発明の好
ましい態様における低屈折率層（１）とオーバーコート
層（６）の断面模式図である。低屈折率層（１）には、
本発明の短繊維状無機微粒子（１１）およびポリマー
（１２）が含まれ、粒子間に空隙（１３）が形成されて
いる。図５（ａ）のオーバーコート層（６）は、含フッ
素化合物の微粒子（６１）を含む。含フッ素化合物の微
粒子（６１）により、低屈折率層（１）の空隙（１３）
の開口が塞がれるため、オーバーコート層（６）形成後
も、低屈折率層（１）の空隙（１３）が維持されてい
る。図５（ｂ）のオーバーコート層（６）は、低屈折率
層（１）の空隙をすべて埋めてしまわない程度にオーバ
ーコート層の素材の塗布量が調整されている。そのた
め、オーバーコート層（６）の形成後も、低屈折率層
（１）の空隙（１３）が維持されている。図５（ｃ）は
本発明の最も好ましい態様における低屈折率層とオーバ
ーコート層の断面模式図である。オーバーコート層
（６）は重量平均分子量２万以上の含フッ素ポリマーか
らなり、低屈折率層の表面の凹凸は覆うが、低屈折率層
内部の空隙（１３）には侵入しない。従って、オーバー
コート層（６）の形成後も、低屈折率層（１）の空隙
（１３）が維持される。この態様の場合、オーバーコー
ト層（６）の塗布量を低屈折率層（１）の空隙（１３）
の容積以上に塗布しても空隙が維持される。そのため、
図５（ｃ）に示す態様では、オーバーコート層（６）が
連続層として、低屈折率層（１）の表面を覆っている。
オーバーコート層は、含フッ素化合物を含む塗布液を、
低屈折率層の上に塗布して形成する。本発明では、オー
バーコート層の材料が低屈折率層の空隙を占有している
割合を７０体積％未満とする。オーバーコート層の材料
が低屈折率層の空隙を占有している割合は、５０体積％
未満であることが好ましく、４０体積％未満であること
がより好ましく、３０体積％未満であることがさらに好
ましく、２０体積％未満であることが最も好ましい。オ
ーバーコート層に用いる含フッ素化合物の屈折率は、
１．３５〜１．５０であることが好ましい。より好まし
くは１．３６〜１．４７、さらに好ましくは１．３８〜
１．４５である。また、含フッ素化合物はフッ素原子を
３５〜８０質量％の範囲で含むことが好ましく、４５〜
７５質量％の範囲で含むことがさらに好ましい。含フッ
素化合物には、含フッ素ポリマー、含フッ素シラン化合
物、含フッ素界面活性剤、含フッ素エーテルなどが挙げ
られる。
ましい態様における低屈折率層（１）とオーバーコート
層（６）の断面模式図である。低屈折率層（１）には、
本発明の短繊維状無機微粒子（１１）およびポリマー
（１２）が含まれ、粒子間に空隙（１３）が形成されて
いる。図５（ａ）のオーバーコート層（６）は、含フッ
素化合物の微粒子（６１）を含む。含フッ素化合物の微
粒子（６１）により、低屈折率層（１）の空隙（１３）
の開口が塞がれるため、オーバーコート層（６）形成後
も、低屈折率層（１）の空隙（１３）が維持されてい
る。図５（ｂ）のオーバーコート層（６）は、低屈折率
層（１）の空隙をすべて埋めてしまわない程度にオーバ
ーコート層の素材の塗布量が調整されている。そのた
め、オーバーコート層（６）の形成後も、低屈折率層
（１）の空隙（１３）が維持されている。図５（ｃ）は
本発明の最も好ましい態様における低屈折率層とオーバ
ーコート層の断面模式図である。オーバーコート層
（６）は重量平均分子量２万以上の含フッ素ポリマーか
らなり、低屈折率層の表面の凹凸は覆うが、低屈折率層
内部の空隙（１３）には侵入しない。従って、オーバー
コート層（６）の形成後も、低屈折率層（１）の空隙
（１３）が維持される。この態様の場合、オーバーコー
ト層（６）の塗布量を低屈折率層（１）の空隙（１３）
の容積以上に塗布しても空隙が維持される。そのため、
図５（ｃ）に示す態様では、オーバーコート層（６）が
連続層として、低屈折率層（１）の表面を覆っている。
オーバーコート層は、含フッ素化合物を含む塗布液を、
低屈折率層の上に塗布して形成する。本発明では、オー
バーコート層の材料が低屈折率層の空隙を占有している
割合を７０体積％未満とする。オーバーコート層の材料
が低屈折率層の空隙を占有している割合は、５０体積％
未満であることが好ましく、４０体積％未満であること
がより好ましく、３０体積％未満であることがさらに好
ましく、２０体積％未満であることが最も好ましい。オ
ーバーコート層に用いる含フッ素化合物の屈折率は、
１．３５〜１．５０であることが好ましい。より好まし
くは１．３６〜１．４７、さらに好ましくは１．３８〜
１．４５である。また、含フッ素化合物はフッ素原子を
３５〜８０質量％の範囲で含むことが好ましく、４５〜
７５質量％の範囲で含むことがさらに好ましい。含フッ
素化合物には、含フッ素ポリマー、含フッ素シラン化合
物、含フッ素界面活性剤、含フッ素エーテルなどが挙げ
られる。
【００４６】含フッ素ポリマーとしては、フッ素原子を
含むエチレン性不飽和モノマーの架橋反応、又は、重合
反応により合成されたものが挙げられる。フッ素原子を
含むエチレン性不飽和モノマーの例には、フルオロオレ
フィン（例、フルオロエチレン、ビニリデンフルオライ
ド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレ
ン、パーフルオロ−２,２−ジメチル−１,３−ジオキソ
ール）、フッ素化ビニルエーテルおよびフッ素置換アル
コールとアクリル酸またはメタクリル酸とのエステルが
含まれる。含フッ素ポリマーとしてフッ素原子を含む繰
り返し単位とフッ素原子を含まない繰り返し構造単位か
らなる共重合体も用いることができる。上記共重合体
は、フッ素原子を含むエチレン性不飽和モノマーとフッ
素原子を含まないエチレン性不飽和モノマーの重合反応
により得ることができる。フッ素原子を含まないエチレ
ン性不飽和モノマーとしては、オレフィン（例、エチレ
ン、プロピレン、イソプレン、塩化ビニル、塩化ビニリ
デン等）、アクリル酸エステル（例、アクリル酸メチ
ル、アクリル酸エチル、アクリル酸−２−エチルヘキシ
ル等）、メタクリル酸エステル（例、メタクリル酸メチ
ル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、エチレ
ングリコールジメタクリレート等）、スチレンおよびそ
の誘導体（例、スチレン、ジビニルベンゼン、ビニルト
ルエン、α−メチルスチレン等）、ビニルエーテル
（例、メチルビニルエーテル等）、ビニルエステル
（例、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、桂皮酸ビニル
等）、アクリルアミド（例、Ｎ−tertブチルアクリルア
ミド、Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミド等）、メタク
リルアミドおよびアクリロニトリルが挙げられる。含フ
ッ素シラン化合物としては、パーフルオロアルキル基を
含むシラン化合物（例、（ヘプタデカフルオロ−１,２,
２,２−テトラデシル）トリエトキシシラン等）が挙げ
られる。含フッ素界面活性剤は、その親水性部分がアニ
オン性、カチオン性、ノニオン性および両性のいずれで
あってもよい。そして疎水性部分を構成する炭化水素の
水素原子の一部または全部が、フッ素原子により置換さ
れている。
含むエチレン性不飽和モノマーの架橋反応、又は、重合
反応により合成されたものが挙げられる。フッ素原子を
含むエチレン性不飽和モノマーの例には、フルオロオレ
フィン（例、フルオロエチレン、ビニリデンフルオライ
ド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレ
ン、パーフルオロ−２,２−ジメチル−１,３−ジオキソ
ール）、フッ素化ビニルエーテルおよびフッ素置換アル
コールとアクリル酸またはメタクリル酸とのエステルが
含まれる。含フッ素ポリマーとしてフッ素原子を含む繰
り返し単位とフッ素原子を含まない繰り返し構造単位か
らなる共重合体も用いることができる。上記共重合体
は、フッ素原子を含むエチレン性不飽和モノマーとフッ
素原子を含まないエチレン性不飽和モノマーの重合反応
により得ることができる。フッ素原子を含まないエチレ
ン性不飽和モノマーとしては、オレフィン（例、エチレ
ン、プロピレン、イソプレン、塩化ビニル、塩化ビニリ
デン等）、アクリル酸エステル（例、アクリル酸メチ
ル、アクリル酸エチル、アクリル酸−２−エチルヘキシ
ル等）、メタクリル酸エステル（例、メタクリル酸メチ
ル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、エチレ
ングリコールジメタクリレート等）、スチレンおよびそ
の誘導体（例、スチレン、ジビニルベンゼン、ビニルト
ルエン、α−メチルスチレン等）、ビニルエーテル
（例、メチルビニルエーテル等）、ビニルエステル
（例、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、桂皮酸ビニル
等）、アクリルアミド（例、Ｎ−tertブチルアクリルア
ミド、Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミド等）、メタク
リルアミドおよびアクリロニトリルが挙げられる。含フ
ッ素シラン化合物としては、パーフルオロアルキル基を
含むシラン化合物（例、（ヘプタデカフルオロ−１,２,
２,２−テトラデシル）トリエトキシシラン等）が挙げ
られる。含フッ素界面活性剤は、その親水性部分がアニ
オン性、カチオン性、ノニオン性および両性のいずれで
あってもよい。そして疎水性部分を構成する炭化水素の
水素原子の一部または全部が、フッ素原子により置換さ
れている。
【００４７】含フッ素エーテルは、一般に潤滑剤として
使用されている化合物である。含フッ素エーテルとして
は、パーフルオロポリエーテル等が挙げられる。オーバ
ーコート層には、架橋構造が導入された含フッ素ポリマ
ーを用いることが特に好ましい。架橋構造が導入された
含フッ素ポリマーは、架橋性基、又は、重合性基を有す
る含フッ素ポリマーを架橋、又は、重合させることによ
り得られる。架橋性基、又は、重合性基を有する含フッ
素ポリマーは、架橋性基、又は、重合性基を有さない含
フッ素ポリマーに架橋性基、又は、重合性基を側鎖とし
て導入することにより得ることができる。架橋性基、又
は、重合性基としては、光、好ましくは紫外線照射、電
子ビーム（ＥＢ）照射あるいは加熱により反応して含フ
ッ素ポリマーが架橋構造を有するようになる官能基であ
ることが好ましい。架橋性基、又は、重合性基として
は、アクリロイル、メタクリロイル、イソシアナート、
エポキシ、アジリジン、オキサゾリン、アルデヒド、カ
ルボニル、ヒドラジン、カルボキシル、メチロールおよ
び活性メチレン等の基が挙げられる。架橋性基、又は、
重合性基を有する含フッ素ポリマーとして、市販品を用
いてもよい。オーバーコート層は、含フッ素化合物以外
に充填剤（例えば、無機微粒子や有機微粒子等）、滑り
剤（ジメチルシリコンなどのシリコン化合物等）、界面
活性剤等を含有することができる。オーバーコート層
は、含フッ素化合物、その他所望により含有される任意
成分を溶解あるいは分散させた塗布液を塗布と同時、ま
たは塗布後に光照射、電子線ビーム照射や加熱すること
による架橋反応、又は、重合反応により形成することが
好ましい。オーバーコート層の膜厚は、３〜５０ｎｍが
好ましく、より好ましくは５〜３５ｎｍ、特に好ましく
は７〜２５ｎｍである。
使用されている化合物である。含フッ素エーテルとして
は、パーフルオロポリエーテル等が挙げられる。オーバ
ーコート層には、架橋構造が導入された含フッ素ポリマ
ーを用いることが特に好ましい。架橋構造が導入された
含フッ素ポリマーは、架橋性基、又は、重合性基を有す
る含フッ素ポリマーを架橋、又は、重合させることによ
り得られる。架橋性基、又は、重合性基を有する含フッ
素ポリマーは、架橋性基、又は、重合性基を有さない含
フッ素ポリマーに架橋性基、又は、重合性基を側鎖とし
て導入することにより得ることができる。架橋性基、又
は、重合性基としては、光、好ましくは紫外線照射、電
子ビーム（ＥＢ）照射あるいは加熱により反応して含フ
ッ素ポリマーが架橋構造を有するようになる官能基であ
ることが好ましい。架橋性基、又は、重合性基として
は、アクリロイル、メタクリロイル、イソシアナート、
エポキシ、アジリジン、オキサゾリン、アルデヒド、カ
ルボニル、ヒドラジン、カルボキシル、メチロールおよ
び活性メチレン等の基が挙げられる。架橋性基、又は、
重合性基を有する含フッ素ポリマーとして、市販品を用
いてもよい。オーバーコート層は、含フッ素化合物以外
に充填剤（例えば、無機微粒子や有機微粒子等）、滑り
剤（ジメチルシリコンなどのシリコン化合物等）、界面
活性剤等を含有することができる。オーバーコート層
は、含フッ素化合物、その他所望により含有される任意
成分を溶解あるいは分散させた塗布液を塗布と同時、ま
たは塗布後に光照射、電子線ビーム照射や加熱すること
による架橋反応、又は、重合反応により形成することが
好ましい。オーバーコート層の膜厚は、３〜５０ｎｍが
好ましく、より好ましくは５〜３５ｎｍ、特に好ましく
は７〜２５ｎｍである。
【００４８】［反射防止膜］反射防止膜の反射率は低い
ほど好ましい。具体的には４５０乃至６５０ｎｍの波長
領域での平均反射率が２％以下であることが好ましく、
１％以下であることがさらに好ましく、０．７％以下で
あることが最も好ましい。反射防止膜のヘイズは、３％
以下であることが好ましく、１％以下であることがさら
に好ましく、０．５％以下であることが最も好ましい。
反射防止膜は、物理的強度（耐磨耗性など）を改良する
ために、低屈折率層を有する側の表面の動摩擦係数は
０．２５以下であることが好ましい。ここで記載した動
摩擦係数は、ステンレス剛球に１００ｇの荷重をかけ、
速度６０ｃｍ/分で低屈折率層を有する側の表面を移動
させたときの、低屈折率層を有する側の表面と直径5ｍ
ｍのステンレス剛球の間の動摩擦係数をいう。好ましく
は０．１７以下であり、特に好ましくは０．１５以下で
ある。反射防止膜の強度は、ＪＩＳＫ５４００に従う鉛
筆硬度試験で、Ｈ以上であることが好ましく、２Ｈ以上
であることがさらに好ましく、３Ｈ以上であることが最
も好ましい。また、反射防止膜は、防汚性能を改良する
ために、低屈折率層を有する側の表面の、水に対する接
触角が９０°以上であることが好ましい。更に好ましく
は９５°以上であり、特に好ましくは１００°以上であ
る。動摩擦係数、水に対する接触角は、本発明の反射防
止膜を偏光板に適用した後も保たれていることが好まし
い。反射防止膜は、外光を散乱させる防眩機能を有して
いてもよい。防眩機能は、反射防止膜の表面に凹凸を形
成することにより得られる。例えば、低屈折率層、高屈
折率層、中屈折率層あるいはハードコート層に比較的大
きな粒子（例えば、平均粒径が１〜５μｍの粒子）を少
量（添加する層に対し０.１〜５０質量％）添加しても
よい。反射防止膜が防眩機能を有する場合、反射防止膜
のヘイズは、３乃至３０％であることが好ましく、５乃
至２０％であることがさらに好ましく、７乃至２０％で
あることが最も好ましい。 [反射防止膜の形成法等]反射防止膜には、以上述べた以
外の層を設けてもよい。例えば、透明支持体の上には、
ハードコート層に加えて、接着層、シールド層、滑り層
や帯電防止層を設けてもよい。シールド層は電磁波や赤
外線を遮蔽するために設けられる。反射防止膜の各層ま
たはその塗布液には、前述した成分（無機微粒子、ポリ
マー、分散媒体、重合開始剤、重合促進剤）以外に、重
合禁止剤、レベリング剤、増粘剤、着色防止剤、紫外線
吸収剤、シランカップリング剤、帯電防止剤や接着付与
剤を添加してもよい。レベリング剤の例には、フッ素化
アルキルエステル（例えば、住友３Ｍ（株）のＦＣ-４
３０、ＦＣ-４３１、以上商品名）およびポリシロキサ
ン（例えば、General Electric（株）のＳＦ１０２３、
ＳＦ１０５４、ＳＦ１０７９、Dow Corning（株）のＤ
Ｃ１９０、ＤＣ２００、ＤＣ５１０、ＤＣ１２４８、BY
K Chemie（株）のＢＹＫ３００、ＢＹＫ３１０、ＢＹＫ
３２０、ＢＹＫ３２２、ＢＹＫ３３０、ＢＹＫ３７０、
以上商品名）が含まれる。反射防止膜の各層は、ディッ
プコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート
法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビ
アコート法やエクストルージョンコート法（米国特許第
２６８１２９４号明細書記載）により、塗布により形成
することができる。二層以上を同時に塗布してもよい。
同時塗布の方法については、米国特許第２７６１７９１
号、同２９４１８９８号、同３５０８９４７号、同３５
２６５２８号の各明細書および原崎勇次著、コーティン
グ工学、２５３頁、朝倉書店（1973）に記載がある。 [画像表示装置]反射防止膜は、液晶表示装置（ＬＣ
Ｄ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレク
トロルミネッセンスディスプレー（ＥＬＤ）や陰極管表
示装置（ＣＲＴ）のような画像表示装置に適用する。反
射防止膜は、反射防止膜の透明支持体側を画像表示装置
の画像表示面に接着する。図6は本発明の反射防止膜を
画像表示装置に適用する様々な態様を模式的に示す概略
断面図である。図６（ａ）は、反射防止膜をＰＤＰ、Ｅ
ＬＤ、ＣＲＴに適用する好ましい態様である。反射防止
膜は、透明支持体（３）を粘着剤層（７）を介して画像
表示装置の画像表示面に接着している。図６（ｂ）、
（ｃ）および（ｄ）は、反射防止膜をＬＣＤに適用する
好ましい態様である。図６（ｂ）では、反射防止膜は透
明支持体（３）が粘着剤層（７）を介して偏光膜（９）
の保護膜（８）に接着しており、もう一方の偏光膜
（９）の保護膜（８）は粘着剤層（７）を介して画像表
示装置の画像表示面に接着している。図６（ｃ）では、
反射防止膜は透明支持体（３）が粘着剤層（７）を介し
て偏光膜（９）に接着しており、偏光膜（９）の保護膜
（８）を粘着剤層（７）を介して画像表示装置の画像表
示面に接着している。図６（ｄ）では、反射防止膜は透
明支持体（３）が直接偏光膜（９）に接着しており、偏
光膜（９）の保護膜（８）を粘着剤層（７）を介して画
像表示装置の画像表示面に接着している。
ほど好ましい。具体的には４５０乃至６５０ｎｍの波長
領域での平均反射率が２％以下であることが好ましく、
１％以下であることがさらに好ましく、０．７％以下で
あることが最も好ましい。反射防止膜のヘイズは、３％
以下であることが好ましく、１％以下であることがさら
に好ましく、０．５％以下であることが最も好ましい。
反射防止膜は、物理的強度（耐磨耗性など）を改良する
ために、低屈折率層を有する側の表面の動摩擦係数は
０．２５以下であることが好ましい。ここで記載した動
摩擦係数は、ステンレス剛球に１００ｇの荷重をかけ、
速度６０ｃｍ/分で低屈折率層を有する側の表面を移動
させたときの、低屈折率層を有する側の表面と直径5ｍ
ｍのステンレス剛球の間の動摩擦係数をいう。好ましく
は０．１７以下であり、特に好ましくは０．１５以下で
ある。反射防止膜の強度は、ＪＩＳＫ５４００に従う鉛
筆硬度試験で、Ｈ以上であることが好ましく、２Ｈ以上
であることがさらに好ましく、３Ｈ以上であることが最
も好ましい。また、反射防止膜は、防汚性能を改良する
ために、低屈折率層を有する側の表面の、水に対する接
触角が９０°以上であることが好ましい。更に好ましく
は９５°以上であり、特に好ましくは１００°以上であ
る。動摩擦係数、水に対する接触角は、本発明の反射防
止膜を偏光板に適用した後も保たれていることが好まし
い。反射防止膜は、外光を散乱させる防眩機能を有して
いてもよい。防眩機能は、反射防止膜の表面に凹凸を形
成することにより得られる。例えば、低屈折率層、高屈
折率層、中屈折率層あるいはハードコート層に比較的大
きな粒子（例えば、平均粒径が１〜５μｍの粒子）を少
量（添加する層に対し０.１〜５０質量％）添加しても
よい。反射防止膜が防眩機能を有する場合、反射防止膜
のヘイズは、３乃至３０％であることが好ましく、５乃
至２０％であることがさらに好ましく、７乃至２０％で
あることが最も好ましい。 [反射防止膜の形成法等]反射防止膜には、以上述べた以
外の層を設けてもよい。例えば、透明支持体の上には、
ハードコート層に加えて、接着層、シールド層、滑り層
や帯電防止層を設けてもよい。シールド層は電磁波や赤
外線を遮蔽するために設けられる。反射防止膜の各層ま
たはその塗布液には、前述した成分（無機微粒子、ポリ
マー、分散媒体、重合開始剤、重合促進剤）以外に、重
合禁止剤、レベリング剤、増粘剤、着色防止剤、紫外線
吸収剤、シランカップリング剤、帯電防止剤や接着付与
剤を添加してもよい。レベリング剤の例には、フッ素化
アルキルエステル（例えば、住友３Ｍ（株）のＦＣ-４
３０、ＦＣ-４３１、以上商品名）およびポリシロキサ
ン（例えば、General Electric（株）のＳＦ１０２３、
ＳＦ１０５４、ＳＦ１０７９、Dow Corning（株）のＤ
Ｃ１９０、ＤＣ２００、ＤＣ５１０、ＤＣ１２４８、BY
K Chemie（株）のＢＹＫ３００、ＢＹＫ３１０、ＢＹＫ
３２０、ＢＹＫ３２２、ＢＹＫ３３０、ＢＹＫ３７０、
以上商品名）が含まれる。反射防止膜の各層は、ディッ
プコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート
法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビ
アコート法やエクストルージョンコート法（米国特許第
２６８１２９４号明細書記載）により、塗布により形成
することができる。二層以上を同時に塗布してもよい。
同時塗布の方法については、米国特許第２７６１７９１
号、同２９４１８９８号、同３５０８９４７号、同３５
２６５２８号の各明細書および原崎勇次著、コーティン
グ工学、２５３頁、朝倉書店（1973）に記載がある。 [画像表示装置]反射防止膜は、液晶表示装置（ＬＣ
Ｄ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレク
トロルミネッセンスディスプレー（ＥＬＤ）や陰極管表
示装置（ＣＲＴ）のような画像表示装置に適用する。反
射防止膜は、反射防止膜の透明支持体側を画像表示装置
の画像表示面に接着する。図6は本発明の反射防止膜を
画像表示装置に適用する様々な態様を模式的に示す概略
断面図である。図６（ａ）は、反射防止膜をＰＤＰ、Ｅ
ＬＤ、ＣＲＴに適用する好ましい態様である。反射防止
膜は、透明支持体（３）を粘着剤層（７）を介して画像
表示装置の画像表示面に接着している。図６（ｂ）、
（ｃ）および（ｄ）は、反射防止膜をＬＣＤに適用する
好ましい態様である。図６（ｂ）では、反射防止膜は透
明支持体（３）が粘着剤層（７）を介して偏光膜（９）
の保護膜（８）に接着しており、もう一方の偏光膜
（９）の保護膜（８）は粘着剤層（７）を介して画像表
示装置の画像表示面に接着している。図６（ｃ）では、
反射防止膜は透明支持体（３）が粘着剤層（７）を介し
て偏光膜（９）に接着しており、偏光膜（９）の保護膜
（８）を粘着剤層（７）を介して画像表示装置の画像表
示面に接着している。図６（ｄ）では、反射防止膜は透
明支持体（３）が直接偏光膜（９）に接着しており、偏
光膜（９）の保護膜（８）を粘着剤層（７）を介して画
像表示装置の画像表示面に接着している。
【００４９】
【実施例】次に本発明を実施例に基づきさらに詳細に説
明する。 ［実施例１］ （ハードコート層用塗布液の調製）市販のハードコート
材料（デソライトＺ７５０３、ＪＳＲ（株）製）のメチ
ルエチルケトン溶液（固形分濃度；７２質量％、シリカ
含有量；３８質量％）６２５ｇに、メチルエチルケトン
１５５．０ｇとシクロヘキサノン２２０．０ｇを添加し
て攪拌した。孔径０．４μmのポリプロピレン製フィル
ターで濾過してハードコート層の塗布液を調製した。 （短繊維状微粒子分散液の調製）純水１３９．０ｇとメ
タノール１６７．０ｇとを混合した混合溶媒を６０゜C
に保持し、これにテトラエトキシシランの水／メタノー
ル溶液（水／メタノール（重量比２／８）混合溶媒２４
５０ｇに、テトラエトキシシランを５３３．０ｇ溶解し
たもの）２９８２．５ｇおよび０．２５％のアンモニア
水５９６．４ｇを同時に１５時間かけて添加した。添加
終了後、さらにこの温度で３時間熟成した。その後、限
外濾過膜で未反応のテトラエトキシシラン、メタノー
ル、アンモニアをほぼ完全に除去して、純水を添加して
シリカ濃度１質量％に調製した。イオン電極のアンモニ
ア濃度は８０ｐｐｍであった。次いで、３００゜Cのオ
ートクレーブ中で１０時間、水熱処理を行った。処理
後、両性イオン交換樹脂で精製して、平均直径約１５ｎ
ｍ、長さ約６０ｎｍの短繊維状シリカ微粒子分散液を調
製した。このようにして得られた短繊維状シリカ微粒子
の水分散液から溶媒置換により、濃度２０質量％の短繊
維状シリカ微粒子のメタノール分散液を調製した。 （低屈折率層用塗布液の調製）上記で調製した短繊維状
シリカ微粒子のメタノール分散液５００ｇに、シランカ
ップリング剤（ＫＢＭ−５０３、信越化学工業（株）
製）５．０ｇおよび０．１Ｎ塩酸５．０ｇを加え、室温
で５時間撹拌した後、５日間室温で放置して、シランカ
ップリング剤処理した短繊維状シリカ微粒子のメタノー
ル分散液を調製した。シランカップリング剤処理した短
繊維状シリカ微粒子のメタノール分散液１３８．１ｇ
に、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰ
ＨＡ、日本化薬（株）製）を１３．３５ｇ、光重合開始
剤（イルガキュア９０７、チバガイギー社製）を０．５
３４ｇ、光増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬
（株）製）を０．２６７ｇ、メチルイソブチルケトンを
３００ｇ、２−ブタノールを３００ｇ添加して攪拌し
た。孔径０．４μmのポリプロピレン製フィルターで濾
過して低屈折率層用の塗布液を調製した。 （反射防止膜の作製）反射防止膜は、空気中に含まれる
０．３μm以上の塵埃の数が、１ｍ3当たり３個以下の環
境下で作製した。８０μｍの厚さのトリアセチルセルロ
ースフイルム（ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ、富士写真フイルム
（株）製）上に、上記のハードコート層用塗布液を、バ
ーコーターを用いて塗布した。９０℃で乾燥した後、紫
外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ６μｍのハード
コート層を形成した。ハードコート層の上に、上記の低
屈折率層用塗布液をバーコーターを用いて塗布した。６
０゜Cで乾燥した後、紫外線を照射して塗布層を硬化さ
せ、低屈折率層（厚さ；９５ｎｍ）を形成した。このよ
うにして反射防止膜を作製した。 （反射防止膜の評価）作製した反射防止膜について、以
下の項目の評価を行った。結果を表１に示す。
明する。 ［実施例１］ （ハードコート層用塗布液の調製）市販のハードコート
材料（デソライトＺ７５０３、ＪＳＲ（株）製）のメチ
ルエチルケトン溶液（固形分濃度；７２質量％、シリカ
含有量；３８質量％）６２５ｇに、メチルエチルケトン
１５５．０ｇとシクロヘキサノン２２０．０ｇを添加し
て攪拌した。孔径０．４μmのポリプロピレン製フィル
ターで濾過してハードコート層の塗布液を調製した。 （短繊維状微粒子分散液の調製）純水１３９．０ｇとメ
タノール１６７．０ｇとを混合した混合溶媒を６０゜C
に保持し、これにテトラエトキシシランの水／メタノー
ル溶液（水／メタノール（重量比２／８）混合溶媒２４
５０ｇに、テトラエトキシシランを５３３．０ｇ溶解し
たもの）２９８２．５ｇおよび０．２５％のアンモニア
水５９６．４ｇを同時に１５時間かけて添加した。添加
終了後、さらにこの温度で３時間熟成した。その後、限
外濾過膜で未反応のテトラエトキシシラン、メタノー
ル、アンモニアをほぼ完全に除去して、純水を添加して
シリカ濃度１質量％に調製した。イオン電極のアンモニ
ア濃度は８０ｐｐｍであった。次いで、３００゜Cのオ
ートクレーブ中で１０時間、水熱処理を行った。処理
後、両性イオン交換樹脂で精製して、平均直径約１５ｎ
ｍ、長さ約６０ｎｍの短繊維状シリカ微粒子分散液を調
製した。このようにして得られた短繊維状シリカ微粒子
の水分散液から溶媒置換により、濃度２０質量％の短繊
維状シリカ微粒子のメタノール分散液を調製した。 （低屈折率層用塗布液の調製）上記で調製した短繊維状
シリカ微粒子のメタノール分散液５００ｇに、シランカ
ップリング剤（ＫＢＭ−５０３、信越化学工業（株）
製）５．０ｇおよび０．１Ｎ塩酸５．０ｇを加え、室温
で５時間撹拌した後、５日間室温で放置して、シランカ
ップリング剤処理した短繊維状シリカ微粒子のメタノー
ル分散液を調製した。シランカップリング剤処理した短
繊維状シリカ微粒子のメタノール分散液１３８．１ｇ
に、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰ
ＨＡ、日本化薬（株）製）を１３．３５ｇ、光重合開始
剤（イルガキュア９０７、チバガイギー社製）を０．５
３４ｇ、光増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬
（株）製）を０．２６７ｇ、メチルイソブチルケトンを
３００ｇ、２−ブタノールを３００ｇ添加して攪拌し
た。孔径０．４μmのポリプロピレン製フィルターで濾
過して低屈折率層用の塗布液を調製した。 （反射防止膜の作製）反射防止膜は、空気中に含まれる
０．３μm以上の塵埃の数が、１ｍ3当たり３個以下の環
境下で作製した。８０μｍの厚さのトリアセチルセルロ
ースフイルム（ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ、富士写真フイルム
（株）製）上に、上記のハードコート層用塗布液を、バ
ーコーターを用いて塗布した。９０℃で乾燥した後、紫
外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ６μｍのハード
コート層を形成した。ハードコート層の上に、上記の低
屈折率層用塗布液をバーコーターを用いて塗布した。６
０゜Cで乾燥した後、紫外線を照射して塗布層を硬化さ
せ、低屈折率層（厚さ；９５ｎｍ）を形成した。このよ
うにして反射防止膜を作製した。 （反射防止膜の評価）作製した反射防止膜について、以
下の項目の評価を行った。結果を表１に示す。
【００５０】
【表１】
【００５１】（１）点欠陥の評価 作製した反射防止膜において、直径１０μm以上の点欠
陥が１ｍ2当たり何個有るかを数えた。点欠陥のサイズ
は顕微鏡観察から求めた。肉眼では点欠陥は輝点のよう
に見える。 （２）平均反射率の評価 分光光度計（日本分光（株）製）を用いて、３８０〜７
８０ｎｍの波長領域において、入射角５゜における分光
反射率を測定した。４５０〜６５０ｎｍにおける平均反
射率を求めた。 （３）低屈折率層の屈折率の評価 低屈折率層の分光反射率曲線の形状から計算して屈折率
を見積もった。 （４）低屈折率層の空隙率の評価 低屈折率層に含有される素材から求まる屈折率と上記の
分光反射率曲線から求まる屈折率の比較から空隙率を算
出した。 （５）鉛筆硬度の評価 反射防止膜を温度２５℃、相対湿度６０％の条件で２時
間調湿した後、ＪＩＳＳ ６００６が規定する試験用鉛
筆を用いて、ＪＩＳ Ｋ ５４００に規定される鉛筆硬
度の評価方法に従い、１ｋｇ加重における鉛筆硬度を評
価した。
陥が１ｍ2当たり何個有るかを数えた。点欠陥のサイズ
は顕微鏡観察から求めた。肉眼では点欠陥は輝点のよう
に見える。 （２）平均反射率の評価 分光光度計（日本分光（株）製）を用いて、３８０〜７
８０ｎｍの波長領域において、入射角５゜における分光
反射率を測定した。４５０〜６５０ｎｍにおける平均反
射率を求めた。 （３）低屈折率層の屈折率の評価 低屈折率層の分光反射率曲線の形状から計算して屈折率
を見積もった。 （４）低屈折率層の空隙率の評価 低屈折率層に含有される素材から求まる屈折率と上記の
分光反射率曲線から求まる屈折率の比較から空隙率を算
出した。 （５）鉛筆硬度の評価 反射防止膜を温度２５℃、相対湿度６０％の条件で２時
間調湿した後、ＪＩＳＳ ６００６が規定する試験用鉛
筆を用いて、ＪＩＳ Ｋ ５４００に規定される鉛筆硬
度の評価方法に従い、１ｋｇ加重における鉛筆硬度を評
価した。
【００５２】［比較例１］ （球状無機微粒子分散液の調製）実施例１と同様にテト
ラエトキシシランの加水分解を行い、限外濾過法で精製
してシリカ濃度１質量％、アンモニア濃度１１０ｐｐｍ
に調製した。２００゜Cのオートクレーブ中で、１０時
間水熱処理を行い、平均直径約１５ｎｍの球状シリカ微
粒子分散液を調製した。このようにして得られた球状シ
リカ微粒子の水分散液から溶媒置換により、濃度２０質
量％の球状シリカ微粒子のメタノール分散液を調製し
た。 （低屈折率層用塗布液の調製）上記で調製した球状シリ
カ微粒子のメタノール分散液５００ｇに、シランカップ
リング剤（ＫＢＭ−５０３、信越化学工業（株）製）
５．０ｇおよび０．１Ｎ塩酸５．０ｇを加え、室温で５
時間撹拌した後、５日間室温で放置して、シランカップ
リング剤処理した球状シリカ微粒子のメタノール分散液
を調製した。シランカップリング剤処理した球状シリカ
微粒子のメタノール分散液１８１．５ｇに、ジペンタエ
リスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ、日本化薬
（株）製）を７．４３ｇ、光重合開始剤（イルガキュア
９０７、チバガイギー社製）を０．２９７ｇ、光増感剤
（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）を０．１
４９ｇ、メチルイソブチルケトンを３００ｇ、２−ブタ
ノールを３００ｇ添加して攪拌した。孔径０．４μmの
ポリプロピレン製フィルターで濾過して低屈折率層用の
塗布液を調製した。 （反射防止膜の作製）反射防止膜は、空気中に含まれる
０．３μm以上の塵埃の数が、１ｍ3当たり３個以下の環
境下で作製した。実施例１で作製したハードコート層の
上に、上記の低屈折率層用塗布液をバーコーターを用い
て塗布した。６０゜Cで乾燥した後、紫外線を照射して
塗布層を硬化させ、低屈折率層（厚さ；９５ｎｍ）を形
成した。このようにして反射防止膜を作製した。 （反射防止膜の評価）作製した反射防止膜について、実
施例１と同様に評価を行った。結果を表１に示す。
ラエトキシシランの加水分解を行い、限外濾過法で精製
してシリカ濃度１質量％、アンモニア濃度１１０ｐｐｍ
に調製した。２００゜Cのオートクレーブ中で、１０時
間水熱処理を行い、平均直径約１５ｎｍの球状シリカ微
粒子分散液を調製した。このようにして得られた球状シ
リカ微粒子の水分散液から溶媒置換により、濃度２０質
量％の球状シリカ微粒子のメタノール分散液を調製し
た。 （低屈折率層用塗布液の調製）上記で調製した球状シリ
カ微粒子のメタノール分散液５００ｇに、シランカップ
リング剤（ＫＢＭ−５０３、信越化学工業（株）製）
５．０ｇおよび０．１Ｎ塩酸５．０ｇを加え、室温で５
時間撹拌した後、５日間室温で放置して、シランカップ
リング剤処理した球状シリカ微粒子のメタノール分散液
を調製した。シランカップリング剤処理した球状シリカ
微粒子のメタノール分散液１８１．５ｇに、ジペンタエ
リスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ、日本化薬
（株）製）を７．４３ｇ、光重合開始剤（イルガキュア
９０７、チバガイギー社製）を０．２９７ｇ、光増感剤
（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）を０．１
４９ｇ、メチルイソブチルケトンを３００ｇ、２−ブタ
ノールを３００ｇ添加して攪拌した。孔径０．４μmの
ポリプロピレン製フィルターで濾過して低屈折率層用の
塗布液を調製した。 （反射防止膜の作製）反射防止膜は、空気中に含まれる
０．３μm以上の塵埃の数が、１ｍ3当たり３個以下の環
境下で作製した。実施例１で作製したハードコート層の
上に、上記の低屈折率層用塗布液をバーコーターを用い
て塗布した。６０゜Cで乾燥した後、紫外線を照射して
塗布層を硬化させ、低屈折率層（厚さ；９５ｎｍ）を形
成した。このようにして反射防止膜を作製した。 （反射防止膜の評価）作製した反射防止膜について、実
施例１と同様に評価を行った。結果を表１に示す。
【００５３】［比較例２］ （低屈折率層用塗布液の調製）比較例１で作製したシラ
ンカップリング剤処理した球状シリカ微粒子のメタノー
ル分散液１３８．１ｇに、ジペンタエリスリトールヘキ
サアクリレート（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）を１
３．３５ｇ、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバ
ガイギー社製）を０．５３４ｇ、光増感剤（カヤキュア
ーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）を０．２６７ｇ、メチ
ルイソブチルケトンを３００ｇ、２−ブタノールを３０
０ｇ添加して攪拌した。孔径０．４μmのポリプロピレ
ン製フィルターで濾過して低屈折率層用の塗布液を調製
した。 （反射防止膜の作製）反射防止膜は、空気中に含まれる
０．３μm以上の塵埃の数が、１ｍ3当たり３個以下の環
境下で作製した。実施例１で作製したハードコート層の
上に、上記の低屈折率層用塗布液をバーコーターを用い
て塗布した。６０゜Cで乾燥した後、紫外線を照射して
塗布層を硬化させ、低屈折率層（厚さ；９５ｎｍ）を形
成した。このようにして反射防止膜を作製した。 （反射防止膜の評価）作製した反射防止膜について、実
施例１と同様に評価を行った。結果を表１に示す。 ［実施例２］ （短繊維状無機微粒子分散液の調製）市販の短繊維状シ
リカ微粒子の水分散液（スノーテックスＰＳ−Ｍ、日産
化学（株）製）から溶媒置換により、濃度２０質量％の
短繊維状シリカ微粒子のメタノール分散液を調製した。 （低屈折率層用塗布液の調製）上記で調製した短繊維状
シリカ微粒子のメタノール分散液５００ｇに、シランカ
ップリング剤（ＫＢＭ−５０３、信越化学工業（株）
製）５．０ｇおよび０．１Ｎ塩酸５．０ｇを加え、室温
で５時間撹拌した後、５日間室温で放置して、シランカ
ップリング剤処理した短繊維状シリカ微粒子のメタノー
ル分散液を調製した。シランカップリング剤処理した短
繊維状シリカ微粒子のメタノール分散液１３８．１ｇ
に、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰ
ＨＡ、日本化薬（株）製）を１３．３５ｇ、光重合開始
剤（イルガキュア９０７、チバガイギー社製）を０．５
３４ｇ、光増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬
（株）製）を０．２６７ｇ、メチルイソブチルケトンを
３００ｇ、２−ブタノールを３００ｇ添加して攪拌し
た。孔径０．４μmのポリプロピレン製フィルターで濾
過して低屈折率層用の塗布液を調製した。 （反射防止膜の作製）反射防止膜は、空気中に含まれる
０．３μm以上の塵埃の数が、１ｍ3当たり３個以下の環
境下で作製した。実施例１で作製したハードコート層の
上に、上記の低屈折率層用塗布液をバーコーターを用い
て塗布した。６０゜Cで乾燥した後、紫外線を照射して
塗布層を硬化させ、低屈折率層（厚さ；９５ｎｍ）を形
成した。このようにして反射防止膜を作製した。 （反射防止膜の評価）作製した反射防止膜について、実
施例１と同様に評価を行った。結果を表１に示す。
ンカップリング剤処理した球状シリカ微粒子のメタノー
ル分散液１３８．１ｇに、ジペンタエリスリトールヘキ
サアクリレート（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）を１
３．３５ｇ、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバ
ガイギー社製）を０．５３４ｇ、光増感剤（カヤキュア
ーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）を０．２６７ｇ、メチ
ルイソブチルケトンを３００ｇ、２−ブタノールを３０
０ｇ添加して攪拌した。孔径０．４μmのポリプロピレ
ン製フィルターで濾過して低屈折率層用の塗布液を調製
した。 （反射防止膜の作製）反射防止膜は、空気中に含まれる
０．３μm以上の塵埃の数が、１ｍ3当たり３個以下の環
境下で作製した。実施例１で作製したハードコート層の
上に、上記の低屈折率層用塗布液をバーコーターを用い
て塗布した。６０゜Cで乾燥した後、紫外線を照射して
塗布層を硬化させ、低屈折率層（厚さ；９５ｎｍ）を形
成した。このようにして反射防止膜を作製した。 （反射防止膜の評価）作製した反射防止膜について、実
施例１と同様に評価を行った。結果を表１に示す。 ［実施例２］ （短繊維状無機微粒子分散液の調製）市販の短繊維状シ
リカ微粒子の水分散液（スノーテックスＰＳ−Ｍ、日産
化学（株）製）から溶媒置換により、濃度２０質量％の
短繊維状シリカ微粒子のメタノール分散液を調製した。 （低屈折率層用塗布液の調製）上記で調製した短繊維状
シリカ微粒子のメタノール分散液５００ｇに、シランカ
ップリング剤（ＫＢＭ−５０３、信越化学工業（株）
製）５．０ｇおよび０．１Ｎ塩酸５．０ｇを加え、室温
で５時間撹拌した後、５日間室温で放置して、シランカ
ップリング剤処理した短繊維状シリカ微粒子のメタノー
ル分散液を調製した。シランカップリング剤処理した短
繊維状シリカ微粒子のメタノール分散液１３８．１ｇ
に、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰ
ＨＡ、日本化薬（株）製）を１３．３５ｇ、光重合開始
剤（イルガキュア９０７、チバガイギー社製）を０．５
３４ｇ、光増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬
（株）製）を０．２６７ｇ、メチルイソブチルケトンを
３００ｇ、２−ブタノールを３００ｇ添加して攪拌し
た。孔径０．４μmのポリプロピレン製フィルターで濾
過して低屈折率層用の塗布液を調製した。 （反射防止膜の作製）反射防止膜は、空気中に含まれる
０．３μm以上の塵埃の数が、１ｍ3当たり３個以下の環
境下で作製した。実施例１で作製したハードコート層の
上に、上記の低屈折率層用塗布液をバーコーターを用い
て塗布した。６０゜Cで乾燥した後、紫外線を照射して
塗布層を硬化させ、低屈折率層（厚さ；９５ｎｍ）を形
成した。このようにして反射防止膜を作製した。 （反射防止膜の評価）作製した反射防止膜について、実
施例１と同様に評価を行った。結果を表１に示す。
【００５４】［実施例３］ （高屈折率層用無機微粒子分散液の調製）ＡＴＯ（アン
チモン含有酸化錫、比表面積：９５ｍ2／ｇ、粉体比抵
抗：２Ω・ｃｍ）２０重量部、市販のアニオン性モノマ
ー（ＰＭ−２１、日本化薬（株）製）６重量部、シクロ
ヘキサノン７４重量部を、サンドグラインダーミルによ
り分散し、重量平均径３０ｎｍのＡＴＯ分散液を調製し
た。 （高屈折率層用塗布液の調製）上記のＡＴＯ分散液１０
０．０ｇに、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレー
ト（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）を３１．１ｇ、光重
合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギー社製）を
１．６７０ｇ、光増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本
化薬（株）製）を０．５５７ｇ、メチルエチルケトンを
７６．０ｇ添加して攪拌した。孔径０．４μmのポリプ
ロピレン製フィルターで濾過して高屈折率層用の塗布液
を調製した。 （低屈折率層用塗布液の調製）市販の短繊維状シリカ微
粒子のメタノール分散液（MA-ST-UP、濃度20質量％、日
産化学（株）製）５００ｇに、シランカップリング剤
（ＫＢＭ−５０３、信越化学工業（株）製）５．０ｇお
よび０．１Ｎ塩酸５．０ｇを加え、室温で５時間撹拌し
た後、５日間室温で放置して、シランカップリング剤処
理した短繊維状シリカ微粒子のメタノール分散液を調製
した。シランカップリング剤処理した短繊維状シリカ微
粒子のメタノール分散液１３８．１ｇに、ジペンタエリ
スリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ、日本化薬
（株）製）を１３．３５ｇ、光重合開始剤（イルガキュ
ア９０７、チバガイギー社製）を０．５３４ｇ、光増感
剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）を０．
２６７ｇ、メチルイソブチルケトンを３００ｇ、２−ブ
タノールを３００ｇ添加して攪拌した。孔径０．４μm
のポリプロピレン製フィルターで濾過して低屈折率層用
の塗布液を調製した。 （オーバーコート層用塗布液の調製）熱架橋性含フッ素
ポリマー（ＪＮ−７２１４、ＪＳＲ（株））の低分子量
成分を精製し、除去した。精製した含フッ素ポリマーの
分子量は、数平均分子量で５万、重量平均分子量で７万
であった。精製した含フッ素ポリマー溶液（固形分濃度
６質量％、メチルイソブチルケトン溶液）５０．０ｇに
メチルイソブチルケトン１１０．６ｇ、シクロヘキサノ
ン３９．４ｇを添加して攪拌した。孔径０．４μmのポ
リプロピレン製フィルターで濾過してオーバーコート層
用の塗布液を調製した。 （反射防止膜の作製）反射防止膜は、空気中に含まれる
０．３μm以上の塵埃の数が、１ｍ3当たり３個以下の環
境下で作製した。８０μｍの厚さのトリアセチルセルロ
ースフイルム（ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ、富士写真フイルム
（株）製）上に、上記の高屈折率層用塗布液を、バーコ
ーターを用いて塗布した。９０℃で乾燥した後、紫外線
を照射して塗布層を硬化させ、高屈折率層（屈折率１．
５９、厚さ；４μm）を形成した。高屈折率層の上に、
上記の低屈折率層用塗布液をバーコーターを用いて塗布
した。６０゜Cで乾燥した後、紫外線を照射して塗布層
を硬化させ、低屈折率層（屈折率１．４０、厚さ；７５
ｎｍ）を形成した。低屈折率層の空隙率は、１７．４％
であった。低屈折率層の上に、上記のオーバーコート層
用塗布液をバーコーターを用いて固形分塗布量が３５ｍ
ｇ／ｍ2になるように塗布した。１２０゜Cで１０分加熱
して、オーバーコート層を形成した。このようにして反
射防止膜を作製した。 （反射防止膜の評価）作製した反射防止膜について、実
施例１と同様にして点欠陥の評価、平均反射率の評価、
低屈折率層の屈折率の評価、低屈折率層の空隙率の評
価、鉛筆硬度の評価を行った。さらに、下記の評価を行
った。結果を表２に示す。
チモン含有酸化錫、比表面積：９５ｍ2／ｇ、粉体比抵
抗：２Ω・ｃｍ）２０重量部、市販のアニオン性モノマ
ー（ＰＭ−２１、日本化薬（株）製）６重量部、シクロ
ヘキサノン７４重量部を、サンドグラインダーミルによ
り分散し、重量平均径３０ｎｍのＡＴＯ分散液を調製し
た。 （高屈折率層用塗布液の調製）上記のＡＴＯ分散液１０
０．０ｇに、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレー
ト（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）を３１．１ｇ、光重
合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギー社製）を
１．６７０ｇ、光増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本
化薬（株）製）を０．５５７ｇ、メチルエチルケトンを
７６．０ｇ添加して攪拌した。孔径０．４μmのポリプ
ロピレン製フィルターで濾過して高屈折率層用の塗布液
を調製した。 （低屈折率層用塗布液の調製）市販の短繊維状シリカ微
粒子のメタノール分散液（MA-ST-UP、濃度20質量％、日
産化学（株）製）５００ｇに、シランカップリング剤
（ＫＢＭ−５０３、信越化学工業（株）製）５．０ｇお
よび０．１Ｎ塩酸５．０ｇを加え、室温で５時間撹拌し
た後、５日間室温で放置して、シランカップリング剤処
理した短繊維状シリカ微粒子のメタノール分散液を調製
した。シランカップリング剤処理した短繊維状シリカ微
粒子のメタノール分散液１３８．１ｇに、ジペンタエリ
スリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ、日本化薬
（株）製）を１３．３５ｇ、光重合開始剤（イルガキュ
ア９０７、チバガイギー社製）を０．５３４ｇ、光増感
剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）を０．
２６７ｇ、メチルイソブチルケトンを３００ｇ、２−ブ
タノールを３００ｇ添加して攪拌した。孔径０．４μm
のポリプロピレン製フィルターで濾過して低屈折率層用
の塗布液を調製した。 （オーバーコート層用塗布液の調製）熱架橋性含フッ素
ポリマー（ＪＮ−７２１４、ＪＳＲ（株））の低分子量
成分を精製し、除去した。精製した含フッ素ポリマーの
分子量は、数平均分子量で５万、重量平均分子量で７万
であった。精製した含フッ素ポリマー溶液（固形分濃度
６質量％、メチルイソブチルケトン溶液）５０．０ｇに
メチルイソブチルケトン１１０．６ｇ、シクロヘキサノ
ン３９．４ｇを添加して攪拌した。孔径０．４μmのポ
リプロピレン製フィルターで濾過してオーバーコート層
用の塗布液を調製した。 （反射防止膜の作製）反射防止膜は、空気中に含まれる
０．３μm以上の塵埃の数が、１ｍ3当たり３個以下の環
境下で作製した。８０μｍの厚さのトリアセチルセルロ
ースフイルム（ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ、富士写真フイルム
（株）製）上に、上記の高屈折率層用塗布液を、バーコ
ーターを用いて塗布した。９０℃で乾燥した後、紫外線
を照射して塗布層を硬化させ、高屈折率層（屈折率１．
５９、厚さ；４μm）を形成した。高屈折率層の上に、
上記の低屈折率層用塗布液をバーコーターを用いて塗布
した。６０゜Cで乾燥した後、紫外線を照射して塗布層
を硬化させ、低屈折率層（屈折率１．４０、厚さ；７５
ｎｍ）を形成した。低屈折率層の空隙率は、１７．４％
であった。低屈折率層の上に、上記のオーバーコート層
用塗布液をバーコーターを用いて固形分塗布量が３５ｍ
ｇ／ｍ2になるように塗布した。１２０゜Cで１０分加熱
して、オーバーコート層を形成した。このようにして反
射防止膜を作製した。 （反射防止膜の評価）作製した反射防止膜について、実
施例１と同様にして点欠陥の評価、平均反射率の評価、
低屈折率層の屈折率の評価、低屈折率層の空隙率の評
価、鉛筆硬度の評価を行った。さらに、下記の評価を行
った。結果を表２に示す。
【００５５】
【表２】
【００５６】（１）オーバーコート層材料の低屈折率層
の空隙占有率の評価 オーバーコート層塗布前後の分光反射率曲線の形状から
塗布前後の屈折率変動を見積もり、オーバーコート層材
料の低屈折率層の空隙占有率を求めた。 （２）接触角の評価 反射防止膜を温度２５℃、相対湿度６０％の条件で2時
間調湿した。反射防止膜の低屈折率層を有する側の表面
の水に対する接触角を評価した。 （３）指紋拭き取り性の評価 反射防止膜の表面に指紋を付着させて、それをクリーニ
ングクロスで拭き取った時の状態を観察して、以下の３
段階で評価した。 Ａ：指紋が完全に拭き取れた Ｂ：指紋の一部が拭き取れずに残った Ｃ：指紋のほとんどが拭き取れずに残った （４）マジック（登録商標）拭き取り性の評価 反射防止膜の表面に油性マジック（ＺＥＢＲＡマッキ
ー、赤）を付着させて３０分経時させ、それをクリーニ
ングクロスで拭き取った時の状態を観察して、以下の３
段階で評価した。 Ａ：マジックが完全に拭き取れた Ｂ：マジックの一部が拭き取れずに残った Ｃ：マジックのほとんどが拭き取れずに残った （５）動摩擦係数の評価 反射防止膜の表面の滑り性の指標として動摩擦係数を評
価した。動摩擦係数は試料を温度２５℃、相対湿度６０
％の条件で２時間調湿した後、動摩擦測定機（ＨＥＩＤ
ＯＮ−１４）で、直径５ｍｍのステンレス剛球を用い、
荷重１００ｇ、速度６０ｃｍ／分で測定した。 （６）スチールウール擦り耐性の評価 ＃００００のスチールウールに５００ｇ／ｃｍ2の荷重
をかけ、５０往復したときの傷の発生状態を観察して、
以下の３段階で評価した。 Ａ：傷が全く付かない Ｂ：少し傷が付くが見えにくい Ｃ：顕著に傷が付く ［比較例３］ （低屈折率層用塗布液の調製）市販の球状シリカ微粒子
のメタノール分散液（メタノールシリカゾル、濃度30質
量％、日産化学（株）製）５００ｇに、シランカップリ
ング剤（ＫＢＭ−５０３、信越化学工業（株）製）７．
５ｇおよび０．１Ｎ塩酸５．０ｇを加え、室温で５時間
撹拌した後、５日間室温で放置して、シランカップリン
グ剤処理した球状シリカ微粒子のメタノール分散液を調
製した。シランカップリング剤処理した球状シリカ微粒
子のメタノール分散液１２１．０ｇに、ジペンタエリス
リトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ、日本化薬
（株）製）を７．４３ｇ、光重合開始剤（イルガキュア
９０７、チバガイギー社製）を０．２９７ｇ、光増感剤
（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）を０．１
４９ｇ、メチルイソブチルケトンを３００ｇ、２−ブタ
ノールを３００ｇ添加して攪拌した。孔径０．４μmの
ポリプロピレン製フィルターで濾過して低屈折率層用の
塗布液を調製した。 （反射防止膜の作製）反射防止膜は、空気中に含まれる
０．３μm以上の塵埃の数が、１ｍ3当たり３個以下の環
境下で作製した。実施例３で作製した高屈折率層の上
に、上記の低屈折率層用塗布液をバーコーターを用いて
塗布した。６０゜Cで乾燥した後、紫外線を照射して塗
布層を硬化させ、低屈折率層（屈折率；１．４０、厚
さ；７５ｎｍ）を形成した。低屈折率層の空隙率は、１
６．１体積％であった。低屈折率層の上に、実施例３で
調製したオーバーコート層用塗布液をバーコーターを用
いて固形分塗布量が３５ｍｇ／ｍ2になるように塗布し
た。１２０゜Cで１０分加熱して、オーバーコート層を
形成した。このようにして反射防止膜を作製した。 （反射防止膜の評価）作製した反射防止膜について、実
施例３と同様にして評価した。結果を表２に示す。
の空隙占有率の評価 オーバーコート層塗布前後の分光反射率曲線の形状から
塗布前後の屈折率変動を見積もり、オーバーコート層材
料の低屈折率層の空隙占有率を求めた。 （２）接触角の評価 反射防止膜を温度２５℃、相対湿度６０％の条件で2時
間調湿した。反射防止膜の低屈折率層を有する側の表面
の水に対する接触角を評価した。 （３）指紋拭き取り性の評価 反射防止膜の表面に指紋を付着させて、それをクリーニ
ングクロスで拭き取った時の状態を観察して、以下の３
段階で評価した。 Ａ：指紋が完全に拭き取れた Ｂ：指紋の一部が拭き取れずに残った Ｃ：指紋のほとんどが拭き取れずに残った （４）マジック（登録商標）拭き取り性の評価 反射防止膜の表面に油性マジック（ＺＥＢＲＡマッキ
ー、赤）を付着させて３０分経時させ、それをクリーニ
ングクロスで拭き取った時の状態を観察して、以下の３
段階で評価した。 Ａ：マジックが完全に拭き取れた Ｂ：マジックの一部が拭き取れずに残った Ｃ：マジックのほとんどが拭き取れずに残った （５）動摩擦係数の評価 反射防止膜の表面の滑り性の指標として動摩擦係数を評
価した。動摩擦係数は試料を温度２５℃、相対湿度６０
％の条件で２時間調湿した後、動摩擦測定機（ＨＥＩＤ
ＯＮ−１４）で、直径５ｍｍのステンレス剛球を用い、
荷重１００ｇ、速度６０ｃｍ／分で測定した。 （６）スチールウール擦り耐性の評価 ＃００００のスチールウールに５００ｇ／ｃｍ2の荷重
をかけ、５０往復したときの傷の発生状態を観察して、
以下の３段階で評価した。 Ａ：傷が全く付かない Ｂ：少し傷が付くが見えにくい Ｃ：顕著に傷が付く ［比較例３］ （低屈折率層用塗布液の調製）市販の球状シリカ微粒子
のメタノール分散液（メタノールシリカゾル、濃度30質
量％、日産化学（株）製）５００ｇに、シランカップリ
ング剤（ＫＢＭ−５０３、信越化学工業（株）製）７．
５ｇおよび０．１Ｎ塩酸５．０ｇを加え、室温で５時間
撹拌した後、５日間室温で放置して、シランカップリン
グ剤処理した球状シリカ微粒子のメタノール分散液を調
製した。シランカップリング剤処理した球状シリカ微粒
子のメタノール分散液１２１．０ｇに、ジペンタエリス
リトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ、日本化薬
（株）製）を７．４３ｇ、光重合開始剤（イルガキュア
９０７、チバガイギー社製）を０．２９７ｇ、光増感剤
（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）を０．１
４９ｇ、メチルイソブチルケトンを３００ｇ、２−ブタ
ノールを３００ｇ添加して攪拌した。孔径０．４μmの
ポリプロピレン製フィルターで濾過して低屈折率層用の
塗布液を調製した。 （反射防止膜の作製）反射防止膜は、空気中に含まれる
０．３μm以上の塵埃の数が、１ｍ3当たり３個以下の環
境下で作製した。実施例３で作製した高屈折率層の上
に、上記の低屈折率層用塗布液をバーコーターを用いて
塗布した。６０゜Cで乾燥した後、紫外線を照射して塗
布層を硬化させ、低屈折率層（屈折率；１．４０、厚
さ；７５ｎｍ）を形成した。低屈折率層の空隙率は、１
６．１体積％であった。低屈折率層の上に、実施例３で
調製したオーバーコート層用塗布液をバーコーターを用
いて固形分塗布量が３５ｍｇ／ｍ2になるように塗布し
た。１２０゜Cで１０分加熱して、オーバーコート層を
形成した。このようにして反射防止膜を作製した。 （反射防止膜の評価）作製した反射防止膜について、実
施例３と同様にして評価した。結果を表２に示す。
【００５７】［実施例４］ （反射防止膜の作製）反射防止膜は、空気中に含まれる
０．３μm以上の塵埃の数が、１ｍ3当たり３個以下の環
境下で作製した。実施例３で作製した高屈折率層の上
に、実施例２で調製した低屈折率層用塗布液をバーコー
ターを用いて塗布した。６０゜Cで乾燥した後、紫外線
を照射して塗布層を硬化させ、低屈折率層（屈折率；
１．４２、厚さ；７５ｎｍ）を形成した。低屈折率層の
空隙率は、１５．０体積％であった。低屈折率層の上
に、実施例３で調製したオーバーコート層用塗布液をバ
ーコーターを用いて固形分塗布量が３５ｍｇ／ｍ2にな
るように塗布した。１２０゜Cで１０分加熱して、オー
バーコート層を形成した。このようにして反射防止膜を
作製した。 （反射防止膜の評価）作製した反射防止膜について、実
施例３と同様にして評価した。結果を表２に示す。 ［実施例５］ （短繊維状無機微粒子分散液の調製）市販の短繊維状酸
化錫の粉末（ＦＳ−１０Ｐ、石原産業（株）製）３０重
量部とゼラチン５重量部、純水６５重量部をサンドグラ
インダーミルにより分散し、針状酸化錫の水分散液を調
製した。 （低屈折率用塗布液の調製）上記針状酸化錫の水分散液
５０ｇに、純水５０ｇ、ホルマリン水溶液（濃度５質量
％）２．５ｇ、エタノール１５０ｇ、ジアセトンアルコ
ール１５０ｇを添加して攪拌した。孔径０．４μmのポ
リプロピレン製フィルターで濾過して低屈折率層用の塗
布液を調製した。 （反射防止膜の作製）反射防止膜は、空気中に含まれる
０．３μm以上の塵埃の数が、１ｍ3当たり３個以下の環
境下で作製した。実施例３で作製した高屈折率層の上
に、上記の低屈折率層用塗布液をバーコーターを用いて
塗布した。６０゜Cで乾燥した後、紫外線を照射して塗
布層を硬化させ、低屈折率層（屈折率；１．５０、厚
さ；７５ｎｍ）を形成した。低屈折率層の空隙率は、３
６．１体積％であった。低屈折率層の上に、実施例３で
調製したオーバーコート層用塗布液をバーコーターを用
いて固形分塗布量が３５ｍｇ／ｍ2になるように塗布し
た。１２０゜Cで１０分加熱して、オーバーコート層を
形成した。このようにして反射防止膜を作製した。 （反射防止膜の評価）作製した反射防止膜について、実
施例３と同様にして評価した。結果を表２に示す。
０．３μm以上の塵埃の数が、１ｍ3当たり３個以下の環
境下で作製した。実施例３で作製した高屈折率層の上
に、実施例２で調製した低屈折率層用塗布液をバーコー
ターを用いて塗布した。６０゜Cで乾燥した後、紫外線
を照射して塗布層を硬化させ、低屈折率層（屈折率；
１．４２、厚さ；７５ｎｍ）を形成した。低屈折率層の
空隙率は、１５．０体積％であった。低屈折率層の上
に、実施例３で調製したオーバーコート層用塗布液をバ
ーコーターを用いて固形分塗布量が３５ｍｇ／ｍ2にな
るように塗布した。１２０゜Cで１０分加熱して、オー
バーコート層を形成した。このようにして反射防止膜を
作製した。 （反射防止膜の評価）作製した反射防止膜について、実
施例３と同様にして評価した。結果を表２に示す。 ［実施例５］ （短繊維状無機微粒子分散液の調製）市販の短繊維状酸
化錫の粉末（ＦＳ−１０Ｐ、石原産業（株）製）３０重
量部とゼラチン５重量部、純水６５重量部をサンドグラ
インダーミルにより分散し、針状酸化錫の水分散液を調
製した。 （低屈折率用塗布液の調製）上記針状酸化錫の水分散液
５０ｇに、純水５０ｇ、ホルマリン水溶液（濃度５質量
％）２．５ｇ、エタノール１５０ｇ、ジアセトンアルコ
ール１５０ｇを添加して攪拌した。孔径０．４μmのポ
リプロピレン製フィルターで濾過して低屈折率層用の塗
布液を調製した。 （反射防止膜の作製）反射防止膜は、空気中に含まれる
０．３μm以上の塵埃の数が、１ｍ3当たり３個以下の環
境下で作製した。実施例３で作製した高屈折率層の上
に、上記の低屈折率層用塗布液をバーコーターを用いて
塗布した。６０゜Cで乾燥した後、紫外線を照射して塗
布層を硬化させ、低屈折率層（屈折率；１．５０、厚
さ；７５ｎｍ）を形成した。低屈折率層の空隙率は、３
６．１体積％であった。低屈折率層の上に、実施例３で
調製したオーバーコート層用塗布液をバーコーターを用
いて固形分塗布量が３５ｍｇ／ｍ2になるように塗布し
た。１２０゜Cで１０分加熱して、オーバーコート層を
形成した。このようにして反射防止膜を作製した。 （反射防止膜の評価）作製した反射防止膜について、実
施例３と同様にして評価した。結果を表２に示す。
【００５８】［実施例６］ （高屈折率層用無機微粒子分散液の調製）ＩＴＯ（錫含
有酸化インジウム、比表面積：４０ｍ2／ｇ、粉体比抵
抗：１Ω・ｃｍ）２０重量部、市販のアニオン性モノマ
ー（ＰＭ−２１、日本化薬（株）製）６重量部、シクロ
ヘキサノン７４重量部を、サンドグラインダーミルによ
り分散し、重量平均径３５ｎｍのＩＴＯ分散液を調製し
た。 （高屈折率層用塗布液の調製）上記のＩＴＯ分散液に、
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨ
Ａ、日本化薬（株）製）を３１．１ｇ、光重合開始剤
（イルガキュア９０７、チバガイギー社製）を１．６７
０ｇ、光増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬
（株）製）を０．５５７ｇ、メチルエチルケトンを７
６．０ｇ添加して攪拌した。孔径０．４μmのポリプロ
ピレン製フィルターで濾過して高屈折率層用の塗布液を
調製した。 （反射防止膜の作製）反射防止膜は、空気中に含まれる
０．３μm以上の塵埃の数が、１ｍ3当たり３個以下の環
境下で作製した。８０μｍの厚さのトリアセチルセルロ
ースフイルム（ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ、富士写真フイルム
（株）製）上に、上記の高屈折率層用塗布液を、バーコ
ーターを用いて塗布した。９０℃で乾燥した後、紫外線
を照射して塗布層を硬化させ、高屈折率層（屈折率１．
５９、厚さ；４μm）を形成した。高屈折率層の上に、
実施例３で調製した低屈折率層用塗布液をバーコーター
を用いて塗布した。６０゜Cで乾燥した後、紫外線を照
射して塗布層を硬化させ、低屈折率層（屈折率；１．４
０、厚さ；７５ｎｍ）を形成した。低屈折率層の空隙率
は、１７．２体積％であった。低屈折率層の上に、実施
例３で調製したオーバーコート層用塗布液をバーコータ
ーを用いて固形分塗布量が３５ｍｇ／ｍ2になるように
塗布した。１２０゜Cで１０分加熱して、オーバーコー
ト層を形成した。このようにして反射防止膜を作製し
た。 （反射防止膜の評価）作製した反射防止膜について、実
施例３と同様に評価を行った。結果を表２に示す。
有酸化インジウム、比表面積：４０ｍ2／ｇ、粉体比抵
抗：１Ω・ｃｍ）２０重量部、市販のアニオン性モノマ
ー（ＰＭ−２１、日本化薬（株）製）６重量部、シクロ
ヘキサノン７４重量部を、サンドグラインダーミルによ
り分散し、重量平均径３５ｎｍのＩＴＯ分散液を調製し
た。 （高屈折率層用塗布液の調製）上記のＩＴＯ分散液に、
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨ
Ａ、日本化薬（株）製）を３１．１ｇ、光重合開始剤
（イルガキュア９０７、チバガイギー社製）を１．６７
０ｇ、光増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬
（株）製）を０．５５７ｇ、メチルエチルケトンを７
６．０ｇ添加して攪拌した。孔径０．４μmのポリプロ
ピレン製フィルターで濾過して高屈折率層用の塗布液を
調製した。 （反射防止膜の作製）反射防止膜は、空気中に含まれる
０．３μm以上の塵埃の数が、１ｍ3当たり３個以下の環
境下で作製した。８０μｍの厚さのトリアセチルセルロ
ースフイルム（ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ、富士写真フイルム
（株）製）上に、上記の高屈折率層用塗布液を、バーコ
ーターを用いて塗布した。９０℃で乾燥した後、紫外線
を照射して塗布層を硬化させ、高屈折率層（屈折率１．
５９、厚さ；４μm）を形成した。高屈折率層の上に、
実施例３で調製した低屈折率層用塗布液をバーコーター
を用いて塗布した。６０゜Cで乾燥した後、紫外線を照
射して塗布層を硬化させ、低屈折率層（屈折率；１．４
０、厚さ；７５ｎｍ）を形成した。低屈折率層の空隙率
は、１７．２体積％であった。低屈折率層の上に、実施
例３で調製したオーバーコート層用塗布液をバーコータ
ーを用いて固形分塗布量が３５ｍｇ／ｍ2になるように
塗布した。１２０゜Cで１０分加熱して、オーバーコー
ト層を形成した。このようにして反射防止膜を作製し
た。 （反射防止膜の評価）作製した反射防止膜について、実
施例３と同様に評価を行った。結果を表２に示す。
【００５９】［実施例７］ （高屈折率層用無機微粒子分散液の調製）二酸化チタン
（一次粒子の重量平均径：３０ｎｍ）３０．０重量部、
市販のアニオン性モノマー（ＰＭ−２１、日本化薬
（株）製）４．５重量部、市販のカチオン性モノマー
（ＤＭＡＥＡ、（株）興人）０．３重量部およびシクロ
ヘキサノン６５．２重量部を、サンドグラインダーミル
により分散し、重量平均径５３ｎｍの二酸化チタン分散
液を調製した。 （高屈折率層用塗布液の調製）上記の二酸化チタン分散
液１５．０ｇに、ジペンタエリスリトールヘキサアクリ
レート（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）を４．４４ｇ、
光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギー社
製）を０．２３２ｇ、光増感剤（カヤキュアーＤＥＴ
Ｘ、日本化薬（株）製）を０．０７８ｇ、メチルエチル
ケトンを３５０ｇおよびシクロヘキサノンを３５０ｇを
添加して攪拌した。孔径０．４μmのポリプロピレン製
フィルターで濾過して高屈折率層用の塗布液を調製し
た。 （オーバーコート層用塗布液の調製）熱架橋性含フッ素
ポリマー（ＴＮ−０２０Ｃ、固形分濃度６質量％、メチ
ルイソブチルケトン溶液、ＪＳＲ（株）製）５０．０ｇ
に、メチルイソブチルケトンを１１０．６ｇ、シクロヘ
キサノンを３９．４ｇ添加して攪拌した。孔径０．４μ
mのポリプロピレン製フィルターで濾過してオーバーコ
ート層用の塗布液を調製した。 （反射防止膜の作製）反射防止膜は、空気中に含まれる
０．３μm以上の塵埃の数が、１ｍ3当たり３個以下の環
境下で作製した。実施例１で作製したハードコート層の
上に、上記の高屈折率層用塗布液をバーコーターを用い
て塗布した。６０゜Cで乾燥し、紫外線を照射して塗布
層を硬化させ、高屈折率層（屈折率１．７５、膜厚６０
ｎｍ）を形成した。高屈折率層の上に、実施例３で調製
した低屈折率層用塗布液をバーコーターを用いて塗布し
た。６０゜Cで乾燥した後、紫外線を照射して塗布層を
硬化させ、低屈折率層（屈折率；１．４０、厚さ；８０
ｎｍ）を形成した。低屈折率層の空隙率は、１７．２体
積％であった。低屈折率層の上に、上記のオーバーコー
ト層用塗布液をバーコーターを用いて固形分塗布量が３
５ｍｇ／ｍ2になるように塗布した。１２０゜Cで１０分
加熱して、オーバーコート層を形成した。このようにし
て反射防止膜を作製した。 （反射防止膜の評価）作製した反射防止膜について、実
施例３と同様に評価を行った。結果を表３に示す。
（一次粒子の重量平均径：３０ｎｍ）３０．０重量部、
市販のアニオン性モノマー（ＰＭ−２１、日本化薬
（株）製）４．５重量部、市販のカチオン性モノマー
（ＤＭＡＥＡ、（株）興人）０．３重量部およびシクロ
ヘキサノン６５．２重量部を、サンドグラインダーミル
により分散し、重量平均径５３ｎｍの二酸化チタン分散
液を調製した。 （高屈折率層用塗布液の調製）上記の二酸化チタン分散
液１５．０ｇに、ジペンタエリスリトールヘキサアクリ
レート（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）を４．４４ｇ、
光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギー社
製）を０．２３２ｇ、光増感剤（カヤキュアーＤＥＴ
Ｘ、日本化薬（株）製）を０．０７８ｇ、メチルエチル
ケトンを３５０ｇおよびシクロヘキサノンを３５０ｇを
添加して攪拌した。孔径０．４μmのポリプロピレン製
フィルターで濾過して高屈折率層用の塗布液を調製し
た。 （オーバーコート層用塗布液の調製）熱架橋性含フッ素
ポリマー（ＴＮ−０２０Ｃ、固形分濃度６質量％、メチ
ルイソブチルケトン溶液、ＪＳＲ（株）製）５０．０ｇ
に、メチルイソブチルケトンを１１０．６ｇ、シクロヘ
キサノンを３９．４ｇ添加して攪拌した。孔径０．４μ
mのポリプロピレン製フィルターで濾過してオーバーコ
ート層用の塗布液を調製した。 （反射防止膜の作製）反射防止膜は、空気中に含まれる
０．３μm以上の塵埃の数が、１ｍ3当たり３個以下の環
境下で作製した。実施例１で作製したハードコート層の
上に、上記の高屈折率層用塗布液をバーコーターを用い
て塗布した。６０゜Cで乾燥し、紫外線を照射して塗布
層を硬化させ、高屈折率層（屈折率１．７５、膜厚６０
ｎｍ）を形成した。高屈折率層の上に、実施例３で調製
した低屈折率層用塗布液をバーコーターを用いて塗布し
た。６０゜Cで乾燥した後、紫外線を照射して塗布層を
硬化させ、低屈折率層（屈折率；１．４０、厚さ；８０
ｎｍ）を形成した。低屈折率層の空隙率は、１７．２体
積％であった。低屈折率層の上に、上記のオーバーコー
ト層用塗布液をバーコーターを用いて固形分塗布量が３
５ｍｇ／ｍ2になるように塗布した。１２０゜Cで１０分
加熱して、オーバーコート層を形成した。このようにし
て反射防止膜を作製した。 （反射防止膜の評価）作製した反射防止膜について、実
施例３と同様に評価を行った。結果を表３に示す。
【００６０】
【表３】
【００６１】［比較例４］ （反射防止膜の作製）反射防止膜は、空気中に含まれる
０．３μm以上の塵埃の数が、１ｍ3当たり３個以下の環
境下で作製した。実施例７で作製した高屈折率層の上
に、比較例３で調製した低屈折率層用塗布液をバーコー
ターを用いて塗布した。６０゜Cで乾燥した後、紫外線
を照射して塗布層を硬化させ、低屈折率層（屈折率；
１．４０、厚さ；８０ｎｍ）を形成した。低屈折率層の
空隙率は、１６．３体積％であった。低屈折率層の上
に、実施例７で調製したオーバーコート層用塗布液をバ
ーコーターを用いて固形分塗布量が３５ｍｇ／ｍ2にな
るように塗布した。１２０゜Cで１０分加熱して、オー
バーコート層を形成した。このようにして反射防止膜を
作製した。 （反射防止膜の評価）作製した反射防止膜について、実
施例３と同様に評価を行った。結果を表３に示す。 ［実施例８］ （オーバーコート層用塗布液の調製）紫外線架橋性含フ
ッ素ポリマー（ＴＮ−０１１、固形分濃度６質量％、メ
チルイソブチルケトン溶液、ＪＳＲ（株）製）５０．０
ｇに、メチルイソブチルケトンを１１０．６ｇ、シクロ
ヘキサノンを３９．４ｇ添加して攪拌した。孔径０．４
μmのポリプロピレン製フィルターで濾過してオーバー
コート層用の塗布液を調製した。 （反射防止膜の作製）反射防止膜は、空気中に含まれる
０．３μm以上の塵埃の数が、１ｍ3当たり３個以下の環
境下で作製した。実施例７で作製した低屈折率層の上
に、上記のオーバーコート層用塗布液をバーコーターを
用いて固形分塗布量が３５ｍｇ／ｍ2になるように塗布
した。６０゜Cで乾燥した後、紫外線を照射して塗布層
を硬化させ、オーバーコート層を形成した。このように
して反射防止膜を作製した。 （反射防止膜の評価）作製した反射防止膜について、実
施例３と同様に評価を行った。結果を表３に示す。 ［実施例９］ （オーバーコート層用塗布液の調製）重量平均分子量が
２０万である市販の含フッ素ポリマー（サイトップＣＴ
Ｘ−８０９Ａ、旭硝子（株）製）３．０ｇに、市販のフ
ッ素系溶剤（フロリナートＦＣ７７、住友３Ｍ（株）
製）を１９７．０ｇ添加して攪拌した。孔径０．４μm
のポリプロピレン製フィルターで濾過してオーバーコー
ト層用の塗布液を調製した。 （反射防止膜の作製）反射防止膜は、空気中に含まれる
０．３μm以上の塵埃の数が、１ｍ3当たり３個以下の環
境下で作製した。実施例７で作製した低屈折率層の上
に、上記のオーバーコート層用塗布液をバーコーターを
用いて固形分塗布量が３５ｍｇ／ｍ2になるように塗布
した。１２０゜Cで１０分加熱して、オーバーコート層
を形成した。このようにして反射防止膜を作製した。 （反射防止膜の評価）作製した反射防止膜について、実
施例３と同様に評価を行った。結果を表３に示す。
０．３μm以上の塵埃の数が、１ｍ3当たり３個以下の環
境下で作製した。実施例７で作製した高屈折率層の上
に、比較例３で調製した低屈折率層用塗布液をバーコー
ターを用いて塗布した。６０゜Cで乾燥した後、紫外線
を照射して塗布層を硬化させ、低屈折率層（屈折率；
１．４０、厚さ；８０ｎｍ）を形成した。低屈折率層の
空隙率は、１６．３体積％であった。低屈折率層の上
に、実施例７で調製したオーバーコート層用塗布液をバ
ーコーターを用いて固形分塗布量が３５ｍｇ／ｍ2にな
るように塗布した。１２０゜Cで１０分加熱して、オー
バーコート層を形成した。このようにして反射防止膜を
作製した。 （反射防止膜の評価）作製した反射防止膜について、実
施例３と同様に評価を行った。結果を表３に示す。 ［実施例８］ （オーバーコート層用塗布液の調製）紫外線架橋性含フ
ッ素ポリマー（ＴＮ−０１１、固形分濃度６質量％、メ
チルイソブチルケトン溶液、ＪＳＲ（株）製）５０．０
ｇに、メチルイソブチルケトンを１１０．６ｇ、シクロ
ヘキサノンを３９．４ｇ添加して攪拌した。孔径０．４
μmのポリプロピレン製フィルターで濾過してオーバー
コート層用の塗布液を調製した。 （反射防止膜の作製）反射防止膜は、空気中に含まれる
０．３μm以上の塵埃の数が、１ｍ3当たり３個以下の環
境下で作製した。実施例７で作製した低屈折率層の上
に、上記のオーバーコート層用塗布液をバーコーターを
用いて固形分塗布量が３５ｍｇ／ｍ2になるように塗布
した。６０゜Cで乾燥した後、紫外線を照射して塗布層
を硬化させ、オーバーコート層を形成した。このように
して反射防止膜を作製した。 （反射防止膜の評価）作製した反射防止膜について、実
施例３と同様に評価を行った。結果を表３に示す。 ［実施例９］ （オーバーコート層用塗布液の調製）重量平均分子量が
２０万である市販の含フッ素ポリマー（サイトップＣＴ
Ｘ−８０９Ａ、旭硝子（株）製）３．０ｇに、市販のフ
ッ素系溶剤（フロリナートＦＣ７７、住友３Ｍ（株）
製）を１９７．０ｇ添加して攪拌した。孔径０．４μm
のポリプロピレン製フィルターで濾過してオーバーコー
ト層用の塗布液を調製した。 （反射防止膜の作製）反射防止膜は、空気中に含まれる
０．３μm以上の塵埃の数が、１ｍ3当たり３個以下の環
境下で作製した。実施例７で作製した低屈折率層の上
に、上記のオーバーコート層用塗布液をバーコーターを
用いて固形分塗布量が３５ｍｇ／ｍ2になるように塗布
した。１２０゜Cで１０分加熱して、オーバーコート層
を形成した。このようにして反射防止膜を作製した。 （反射防止膜の評価）作製した反射防止膜について、実
施例３と同様に評価を行った。結果を表３に示す。
【００６２】［実施例１０］ （オーバーコート層用塗布液の調製）含フッ素シランカ
ップリング剤（ＫＰ−８０１Ｍ、信越化学（株）製）
１．０ｇに、市販のフッ素系溶剤（フロリナートＦＣ７
７、住友３Ｍ（株）製）を３３０ｇ添加して攪拌した。
孔径０．４μmのポリプロピレン製フィルターで濾過し
てオーバーコート層用の塗布液を調製した。 （反射防止膜の作製）反射防止膜は、空気中に含まれる
０．３μm以上の塵埃の数が、１ｍ3当たり３個以下の環
境下で作製した。実施例７で作製した高屈折率層の上
に、実施例３で調製した低屈折率層用塗布液をバーコー
ターを用いて塗布した。６０゜Cで乾燥した後、紫外線
を照射して塗布層を硬化させ、低屈折率層（屈折率；
１．４０、厚さ；１００ｎｍ）を形成した。低屈折率層
の空隙率は、１７．１体積％であった。低屈折率層の上
に、上記のオーバーコート層用塗布液をバーコーターを
用いて固形分塗布量が５ｍｇ／ｍ2になるように塗布し
た。１２０゜Cで３０分加熱して、オーバーコート層を
形成した。このようにして反射防止膜を作製した。 （反射防止膜の評価）作製した反射防止膜について、実
施例３と同様に評価を行った。結果を表３に示す。 ［実施例１１］ （中屈折率層用塗布液の調製）実施例７で調製した二酸
化チタン分散液４９．６０ｇに、ジペンタエリスリトー
ルヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）
を１８．０８ｇ、光重合開始剤（イルガキュア９０７、
チバガイギー社製）を０．９２０ｇ、光増感剤（カヤキ
ュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）を０．３０７ｇ、
メチルエチルケトンを２３０．０ｇおよびシクロヘキサ
ノンを５００ｇ添加して攪拌した。孔径０．４μmのポ
リプロピレン製フィルターで濾過して中屈折率層用の塗
布液を調製した。 （高屈折率層用塗布液の調製）実施例７で調製した二酸
化チタン分散液１１０．０ｇに、ジペンタエリスリトー
ルヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）
を６．２９ｇ、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チ
バガイギー社製）を０．５２０ｇ、光増感剤（カヤキュ
アーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）を０．１７３ｇ、メ
チルエチルケトンを２３０．０ｇおよびシクロヘキサノ
ンを４６０．０ｇ添加して攪拌した。孔径０．４μmの
ポリプロピレン製フィルターで濾過して高屈折率層用の
塗布液を調製した。 （反射防止膜の作製）反射防止膜は、空気中に含まれる
０．３μm以上の塵埃の数が、１ｍ3当たり３個以下の環
境下で作製した。実施例１で作製したハードコート層の
上に、上記の中屈折率層用塗布液をバーコーターを用い
て塗布した。６０゜Cで乾燥した後、紫外線を照射して
塗布層を硬化させ、中屈折率層（屈折率１．７０、膜厚
７０ｎｍ）を形成した。中屈折率層の上に、上記の高屈
折率層用塗布液をバーコーターを用いて塗布した。６０
゜Cで乾燥した後、紫外線を照射して塗布層を硬化さ
せ、高屈折率層（屈折率１．９５、膜厚５０ｎｍ）を形
成した。高屈折率層の上に、実施例３で調製した低屈折
率層用塗布液をバーコーターを用いて塗布した。６０゜
Cで乾燥した後、紫外線を照射して塗布層を硬化させ、
低屈折率層（屈折率；１．４０、厚さ；７５ｎｍ）を形
成した。低屈折率層の空隙率は、１７．２体積％であっ
た。低屈折率層の上に、実施例７で調製したオーバーコ
ート層用塗布液をバーコーターを用いて固形分塗布量が
３５ｍｇ／ｍ2になるように塗布した。１２０゜Cで１０
分加熱して、オーバーコート層を形成した。このように
して反射防止膜を作製した。 （反射防止膜の評価）作製した反射防止膜について、実
施例３と同様に評価を行った。結果を表４に示す。
ップリング剤（ＫＰ−８０１Ｍ、信越化学（株）製）
１．０ｇに、市販のフッ素系溶剤（フロリナートＦＣ７
７、住友３Ｍ（株）製）を３３０ｇ添加して攪拌した。
孔径０．４μmのポリプロピレン製フィルターで濾過し
てオーバーコート層用の塗布液を調製した。 （反射防止膜の作製）反射防止膜は、空気中に含まれる
０．３μm以上の塵埃の数が、１ｍ3当たり３個以下の環
境下で作製した。実施例７で作製した高屈折率層の上
に、実施例３で調製した低屈折率層用塗布液をバーコー
ターを用いて塗布した。６０゜Cで乾燥した後、紫外線
を照射して塗布層を硬化させ、低屈折率層（屈折率；
１．４０、厚さ；１００ｎｍ）を形成した。低屈折率層
の空隙率は、１７．１体積％であった。低屈折率層の上
に、上記のオーバーコート層用塗布液をバーコーターを
用いて固形分塗布量が５ｍｇ／ｍ2になるように塗布し
た。１２０゜Cで３０分加熱して、オーバーコート層を
形成した。このようにして反射防止膜を作製した。 （反射防止膜の評価）作製した反射防止膜について、実
施例３と同様に評価を行った。結果を表３に示す。 ［実施例１１］ （中屈折率層用塗布液の調製）実施例７で調製した二酸
化チタン分散液４９．６０ｇに、ジペンタエリスリトー
ルヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）
を１８．０８ｇ、光重合開始剤（イルガキュア９０７、
チバガイギー社製）を０．９２０ｇ、光増感剤（カヤキ
ュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）を０．３０７ｇ、
メチルエチルケトンを２３０．０ｇおよびシクロヘキサ
ノンを５００ｇ添加して攪拌した。孔径０．４μmのポ
リプロピレン製フィルターで濾過して中屈折率層用の塗
布液を調製した。 （高屈折率層用塗布液の調製）実施例７で調製した二酸
化チタン分散液１１０．０ｇに、ジペンタエリスリトー
ルヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）
を６．２９ｇ、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チ
バガイギー社製）を０．５２０ｇ、光増感剤（カヤキュ
アーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）を０．１７３ｇ、メ
チルエチルケトンを２３０．０ｇおよびシクロヘキサノ
ンを４６０．０ｇ添加して攪拌した。孔径０．４μmの
ポリプロピレン製フィルターで濾過して高屈折率層用の
塗布液を調製した。 （反射防止膜の作製）反射防止膜は、空気中に含まれる
０．３μm以上の塵埃の数が、１ｍ3当たり３個以下の環
境下で作製した。実施例１で作製したハードコート層の
上に、上記の中屈折率層用塗布液をバーコーターを用い
て塗布した。６０゜Cで乾燥した後、紫外線を照射して
塗布層を硬化させ、中屈折率層（屈折率１．７０、膜厚
７０ｎｍ）を形成した。中屈折率層の上に、上記の高屈
折率層用塗布液をバーコーターを用いて塗布した。６０
゜Cで乾燥した後、紫外線を照射して塗布層を硬化さ
せ、高屈折率層（屈折率１．９５、膜厚５０ｎｍ）を形
成した。高屈折率層の上に、実施例３で調製した低屈折
率層用塗布液をバーコーターを用いて塗布した。６０゜
Cで乾燥した後、紫外線を照射して塗布層を硬化させ、
低屈折率層（屈折率；１．４０、厚さ；７５ｎｍ）を形
成した。低屈折率層の空隙率は、１７．２体積％であっ
た。低屈折率層の上に、実施例７で調製したオーバーコ
ート層用塗布液をバーコーターを用いて固形分塗布量が
３５ｍｇ／ｍ2になるように塗布した。１２０゜Cで１０
分加熱して、オーバーコート層を形成した。このように
して反射防止膜を作製した。 （反射防止膜の評価）作製した反射防止膜について、実
施例３と同様に評価を行った。結果を表４に示す。
【００６３】
【表４】
【００６４】［比較例５］ （反射防止膜の作製）反射防止膜は、空気中に含まれる
０．３μｍ以上の塵埃の数が、１ｍ3当たり３個以下の
環境下で作製した。実施例１１で作製した高屈折率層の
上に、比較例３で調製した低屈折率層用塗布液をバーコ
ーターを用いて塗布した。６０゜Cで乾燥した後、紫外
線を照射して塗布層を硬化させ、低屈折率層（屈折率；
１．４０、厚さ；７５ｎｍ）を形成した。低屈折率層の
空隙率は１６．４体積％であった。低屈折率層の上に実
施例７で調製したオーバーコート層用塗布液をバーコー
ターを用いて固形分塗布量が３５ｍｇ／ｍ2になるよう
に塗布した。１２０゜Cで１０分加熱して、オーバーコ
ート層を形成した。このようにして反射防止膜を作製し
た。 （反射防止膜の評価）作製した反射防止膜について、実
施例３と同様に評価を行った。結果を表４に示す。 ［実施例１２］ （オーバーコート層用塗布液の調製）熱架橋性含フッ素
ポリマー（ＪＮ−７２１４、固形分濃度６質量％、メチ
ルイソブチルケトン溶液、ＪＳＲ（株）製）５０．０ｇ
に、メチルイソブチルケトンを１１０．６ｇ、シクロヘ
キサノンを３９．４ｇ添加して攪拌した。孔径０．４μ
ｍのポリプロピレン製フィルターで濾過してオーバーコ
ート層用の塗布液を調製した。 （反射防止膜の作製）反射防止膜は、空気中に含まれる
０．３μｍ以上の塵埃の数が、１ｍ3当たり３個以下の
環境下で作製した。実施例１１で作製した低屈折率層の
上に、上記のオーバーコート層用塗布液をバーコーター
を用いて固形分塗布量が３５ｍｇ／ｍ2になるように塗
布した。１２０゜Cで１０分加熱して、オーバーコート
層を形成した。このようにして反射防止膜を作製した。 （反射防止膜の評価）作製した反射防止膜について、実
施例３と同様に評価を行った。結果を表４に示す。 ［実施例１３］ （反射防止膜の作製）反射防止膜は、空気中に含まれる
０．３μｍ以上の塵埃の数が、１ｍ3当たり３個以下の
環境下で作製した。実施例１１で作製した高屈折率層の
上に、実施例２で調製した低屈折率層用塗布液をバーコ
ーターを用いて塗布した。６０゜Cで乾燥した後、紫外
線を照射して塗布層を硬化させ、低屈折率層（屈折率；
１．４２、厚さ；７５ｎｍ）を形成した。低屈折率層の
空隙率は１５．２体積％であった。低屈折率層の上に、
実施例７で調製したオーバーコート層用塗布液をバーコ
ーターを用いて固形分塗布量が３５ｍｇ／ｍ2になるよ
うに塗布した。１２０゜Cで１０分加熱して、オーバー
コート層を形成した。このようにして反射防止膜を作製
した。 （反射防止膜の評価）作製した反射防止膜について、実
施例３と同様に評価を行った。結果を表４に示す。
０．３μｍ以上の塵埃の数が、１ｍ3当たり３個以下の
環境下で作製した。実施例１１で作製した高屈折率層の
上に、比較例３で調製した低屈折率層用塗布液をバーコ
ーターを用いて塗布した。６０゜Cで乾燥した後、紫外
線を照射して塗布層を硬化させ、低屈折率層（屈折率；
１．４０、厚さ；７５ｎｍ）を形成した。低屈折率層の
空隙率は１６．４体積％であった。低屈折率層の上に実
施例７で調製したオーバーコート層用塗布液をバーコー
ターを用いて固形分塗布量が３５ｍｇ／ｍ2になるよう
に塗布した。１２０゜Cで１０分加熱して、オーバーコ
ート層を形成した。このようにして反射防止膜を作製し
た。 （反射防止膜の評価）作製した反射防止膜について、実
施例３と同様に評価を行った。結果を表４に示す。 ［実施例１２］ （オーバーコート層用塗布液の調製）熱架橋性含フッ素
ポリマー（ＪＮ−７２１４、固形分濃度６質量％、メチ
ルイソブチルケトン溶液、ＪＳＲ（株）製）５０．０ｇ
に、メチルイソブチルケトンを１１０．６ｇ、シクロヘ
キサノンを３９．４ｇ添加して攪拌した。孔径０．４μ
ｍのポリプロピレン製フィルターで濾過してオーバーコ
ート層用の塗布液を調製した。 （反射防止膜の作製）反射防止膜は、空気中に含まれる
０．３μｍ以上の塵埃の数が、１ｍ3当たり３個以下の
環境下で作製した。実施例１１で作製した低屈折率層の
上に、上記のオーバーコート層用塗布液をバーコーター
を用いて固形分塗布量が３５ｍｇ／ｍ2になるように塗
布した。１２０゜Cで１０分加熱して、オーバーコート
層を形成した。このようにして反射防止膜を作製した。 （反射防止膜の評価）作製した反射防止膜について、実
施例３と同様に評価を行った。結果を表４に示す。 ［実施例１３］ （反射防止膜の作製）反射防止膜は、空気中に含まれる
０．３μｍ以上の塵埃の数が、１ｍ3当たり３個以下の
環境下で作製した。実施例１１で作製した高屈折率層の
上に、実施例２で調製した低屈折率層用塗布液をバーコ
ーターを用いて塗布した。６０゜Cで乾燥した後、紫外
線を照射して塗布層を硬化させ、低屈折率層（屈折率；
１．４２、厚さ；７５ｎｍ）を形成した。低屈折率層の
空隙率は１５．２体積％であった。低屈折率層の上に、
実施例７で調製したオーバーコート層用塗布液をバーコ
ーターを用いて固形分塗布量が３５ｍｇ／ｍ2になるよ
うに塗布した。１２０゜Cで１０分加熱して、オーバー
コート層を形成した。このようにして反射防止膜を作製
した。 （反射防止膜の評価）作製した反射防止膜について、実
施例３と同様に評価を行った。結果を表４に示す。
【００６５】［実施例１４］ （反射防止膜の作製）反射防止膜は、空気中に含まれる
０．３μｍ以上の塵埃の数が、１ｍ3当たり３個以下の
環境下で作製した。実施例１１で作製した低屈折率層の
上に、実施例８で調製したオーバーコート層用塗布液を
バーコーターを用いて固形分塗布量が３５ｍｇ／ｍ2に
なるように塗布した。６０゜Cで乾燥した後、紫外線を
照射して塗布層を硬化させ、オーバーコート層を形成し
た。このようにして反射防止膜を作製した。 （反射防止膜の評価）作製した反射防止膜について、実
施例３と同様に評価を行った。結果を表４に示す。 ［実施例１５］ （オーバーコート層用塗布液の調製）下記の含フッ素ポ
リマーを合成した。
０．３μｍ以上の塵埃の数が、１ｍ3当たり３個以下の
環境下で作製した。実施例１１で作製した低屈折率層の
上に、実施例８で調製したオーバーコート層用塗布液を
バーコーターを用いて固形分塗布量が３５ｍｇ／ｍ2に
なるように塗布した。６０゜Cで乾燥した後、紫外線を
照射して塗布層を硬化させ、オーバーコート層を形成し
た。このようにして反射防止膜を作製した。 （反射防止膜の評価）作製した反射防止膜について、実
施例３と同様に評価を行った。結果を表４に示す。 ［実施例１５］ （オーバーコート層用塗布液の調製）下記の含フッ素ポ
リマーを合成した。
【００６６】
【化３】
【００６７】含フッ素ポリマーの分子量は、数平均分子
量で２．５万、重量平均分子量で４万であった。含フッ
素ポリマーの粉末３．０ｇに、メチルイソブチルケトン
を１５７．６ｇ、シクロヘキサノンを３９．４ｇ添加し
て攪拌した。孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィル
ターで濾過してオーバーコート層用の塗布液を調製し
た。 （反射防止膜の作製）反射防止膜は、空気中に含まれる
０．３μｍ以上の塵埃の数が、１ｍ3当たり３個以下の
環境下で作製した。実施例１１で作製した低屈折率層の
上に、上記のオーバーコート層用塗布液をバーコーター
を用いて固形分塗布量が３５ｍｇ／ｍ2になるように塗
布した。１２０゜Cで１０分加熱して、オーバーコート
層を形成した。このようにして反射防止膜を作製した。 （反射防止膜の評価）作製した反射防止膜について、実
施例３と同様に評価を行った。結果を表４に示す。 ［実施例１６］ （反射防止膜の作製）反射防止膜は、空気中に含まれる
０．３μｍ以上の塵埃の数が、１ｍ3当たり３個以下の
環境下で作製した。実施例１１で作製した低屈折率層の
上に、実施例９で調製したオーバーコート層用塗布液を
バーコーターを用いて固形分塗布量が３５ｍｇ／ｍ2に
なるように塗布した。１２０゜Cで１０分加熱して、オ
ーバーコート層を形成した。このようにして反射防止膜
を作製した。 （反射防止膜の評価）作製した反射防止膜について、実
施例３と同様に評価を行った。結果を表４に示す。 [実施例１７] （反射防止膜の作製）反射防止膜は、空気中に含まれる
０.３μｍ以上の塵埃の数が、１ｍ3当たり３個以下の環
境下で作製した。膜厚８０μｍのトリアセチルセルロー
スフィルム（ＴＡＣ-ＴＤ８０ＵＦ、富士写真フイルム
（株）製）の片面のみを鹸化処理した。鹸化されていな
い側の面に実施例1で調製したハードコート層用塗布液
をバーコーターを用いて塗布した。９０℃で乾燥した
後、紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ６μｍの
ハードコート層を形成した。ハードコート層の上に、実
施例１１と同様に中屈折率層、高屈折率層、低屈折率
層、オーバーコート層を形成した。このようにして、反
射防止膜を作製した。 （偏光板の作製）膜厚７５μｍのポリビニルアルコール
フィルム（（株）クラレ製）を水１０００質量部、ヨウ
素７質量部、ヨウ化カリウム１０５質量部からなる水溶
液に５分間浸漬し、ヨウ素を吸着させた。次いで、この
フィルムを４０℃の４質量％ホウ酸水溶液中で、４．４
倍に縦方向に１軸延伸をした後、緊張状態のまま乾燥し
て偏向膜を作製した。接着剤としてポリビニルアルコー
ル系接着剤を用いて、上記偏向膜の一方の面に反射防止
膜のトリアセチルセルロースフィルムの鹸化処理された
側の面を貼り合わせた。さらに、偏向膜のもう片方の面
に、鹸化処理したトリアセチルセルロースフィルムを同
じポリビニルアルコール系接着剤を用いて貼り合わせ
た。このようにして、偏光板を作製した。 （偏光板の評価）作製した偏光板について、実施例３と
同様に評価を行った。結果を表４に示す。
量で２．５万、重量平均分子量で４万であった。含フッ
素ポリマーの粉末３．０ｇに、メチルイソブチルケトン
を１５７．６ｇ、シクロヘキサノンを３９．４ｇ添加し
て攪拌した。孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィル
ターで濾過してオーバーコート層用の塗布液を調製し
た。 （反射防止膜の作製）反射防止膜は、空気中に含まれる
０．３μｍ以上の塵埃の数が、１ｍ3当たり３個以下の
環境下で作製した。実施例１１で作製した低屈折率層の
上に、上記のオーバーコート層用塗布液をバーコーター
を用いて固形分塗布量が３５ｍｇ／ｍ2になるように塗
布した。１２０゜Cで１０分加熱して、オーバーコート
層を形成した。このようにして反射防止膜を作製した。 （反射防止膜の評価）作製した反射防止膜について、実
施例３と同様に評価を行った。結果を表４に示す。 ［実施例１６］ （反射防止膜の作製）反射防止膜は、空気中に含まれる
０．３μｍ以上の塵埃の数が、１ｍ3当たり３個以下の
環境下で作製した。実施例１１で作製した低屈折率層の
上に、実施例９で調製したオーバーコート層用塗布液を
バーコーターを用いて固形分塗布量が３５ｍｇ／ｍ2に
なるように塗布した。１２０゜Cで１０分加熱して、オ
ーバーコート層を形成した。このようにして反射防止膜
を作製した。 （反射防止膜の評価）作製した反射防止膜について、実
施例３と同様に評価を行った。結果を表４に示す。 [実施例１７] （反射防止膜の作製）反射防止膜は、空気中に含まれる
０.３μｍ以上の塵埃の数が、１ｍ3当たり３個以下の環
境下で作製した。膜厚８０μｍのトリアセチルセルロー
スフィルム（ＴＡＣ-ＴＤ８０ＵＦ、富士写真フイルム
（株）製）の片面のみを鹸化処理した。鹸化されていな
い側の面に実施例1で調製したハードコート層用塗布液
をバーコーターを用いて塗布した。９０℃で乾燥した
後、紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ６μｍの
ハードコート層を形成した。ハードコート層の上に、実
施例１１と同様に中屈折率層、高屈折率層、低屈折率
層、オーバーコート層を形成した。このようにして、反
射防止膜を作製した。 （偏光板の作製）膜厚７５μｍのポリビニルアルコール
フィルム（（株）クラレ製）を水１０００質量部、ヨウ
素７質量部、ヨウ化カリウム１０５質量部からなる水溶
液に５分間浸漬し、ヨウ素を吸着させた。次いで、この
フィルムを４０℃の４質量％ホウ酸水溶液中で、４．４
倍に縦方向に１軸延伸をした後、緊張状態のまま乾燥し
て偏向膜を作製した。接着剤としてポリビニルアルコー
ル系接着剤を用いて、上記偏向膜の一方の面に反射防止
膜のトリアセチルセルロースフィルムの鹸化処理された
側の面を貼り合わせた。さらに、偏向膜のもう片方の面
に、鹸化処理したトリアセチルセルロースフィルムを同
じポリビニルアルコール系接着剤を用いて貼り合わせ
た。このようにして、偏光板を作製した。 （偏光板の評価）作製した偏光板について、実施例３と
同様に評価を行った。結果を表４に示す。
【００６８】
【発明の効果】本発明の反射防止膜は、強度が優れ、か
つ屈折率が非常に低い低屈折率層を有してなり、面状故
障（点欠陥）の発生防止の点で著しく改良されている。
本発明の反射防止膜は、塗布により簡単に製造すること
ができ、大量生産に適している。このような反射防止膜
を用いることで、画像表示装置の画像表示面における光
の反射を有効に防止することができる。
つ屈折率が非常に低い低屈折率層を有してなり、面状故
障（点欠陥）の発生防止の点で著しく改良されている。
本発明の反射防止膜は、塗布により簡単に製造すること
ができ、大量生産に適している。このような反射防止膜
を用いることで、画像表示装置の画像表示面における光
の反射を有効に防止することができる。
【図１】本発明の反射防止膜の多層の例（ａ）、
（ｂ）、（ｃ）、（ｄ）を示す断面模式図である。
（ｂ）、（ｃ）、（ｄ）を示す断面模式図である。
【図２】本発明に用いられる短繊維状無機微粒子の例
（ａ）、（ｂ）、（ｃ）の電子顕微鏡写真である。
（ａ）、（ｂ）、（ｃ）の電子顕微鏡写真である。
【図３】本発明の好ましい態様である低屈折率層からな
る反射防止膜の断面模式図である。
る反射防止膜の断面模式図である。
【図４】本発明の他の好ましい態様における高屈折率層
の断面模式図である。
の断面模式図である。
【図５】本発明の他の好ましい態様における低屈折率層
とオーバーコート層の断面模式図である。
とオーバーコート層の断面模式図である。
【図６】反射防止膜を画像表示装置に適用する態様
（ａ）〜（ｄ）を示す断面模式図である。
（ａ）〜（ｄ）を示す断面模式図である。
１ 低屈折率層 ２ ハードコート層 ３ 透明支持体 ４ 高屈折率層 ５ 中屈折率層 ６ オーバーコート層 ７ 粘着剤層 ８ 保護膜 ９ 偏向膜 １１ 低屈折率層内の短繊維状無機微粒子 １２ 低屈折率層内のポリマー １３ 低屈折率層内の空隙 ４１ 高屈折率層内の無機微粒子 ４２ 高屈折率層内のポリマー ６１ オーバーコート層内の含フッ素微粒子
フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ０２Ｂ 5/30 Ｇ０２Ｆ 1/1335 ５００ Ｇ０２Ｆ 1/1335 ５００ ５１０ ５１０ Ｇ０９Ｆ 9/00 ３１３ Ｇ０９Ｆ 9/00 ３１３ Ｇ０２Ｂ 1/10 Ａ
Claims (16)
- 【請求項１】 短繊維状無機微粒子を５０〜９５質量
％、およびポリマーを５〜５０質量％含み、該短繊維状
無機微粒子間に微細な空隙が形成されている屈折率が
１．３０〜１．５５の低屈折率層を有することを特徴と
する反射防止膜。 - 【請求項２】 該短繊維状無機微粒子がシリカからな
り、該低屈折率層が１〜５０体積％の空隙率を有するこ
とを特徴とする請求項１に記載の反射防止膜。 - 【請求項３】 該短繊維状無機微粒子が実質的に架橋し
ていることを特徴とする請求項１または２に記載の反射
防止膜。 - 【請求項４】 前記の低屈折率層と、平均粒径１〜２０
０ｎｍの無機微粒子を５〜６５体積％および架橋してい
るアニオン性基を有するポリマーを３５〜９５体積％含
む高屈折率層を有することを特徴とする請求項１〜３の
いずれか１項に記載の反射防止膜。 - 【請求項５】 該高屈折率層のアニオン性基を有するポ
リマーが、リン酸基またはスルホン酸基をアニオン性基
として有することを特徴とする請求項１〜４のいずれか
１項に記載の反射防止膜。 - 【請求項６】 該高屈折率層のアニオン性基を有するポ
リマーが、さらにアミノ基またはアンモニウム基を有す
ることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載
の反射防止膜。 - 【請求項７】 該高屈折率層の無機微粒子が、１．８０
乃至２．８０の屈折率を有することを特徴とする請求項
１〜６のいずれか１項に記載の反射防止膜。 - 【請求項８】 該アニオン性基を有するポリマーが高屈
折率層の塗布と同時または塗布後に、重合反応により形
成されたポリマーであることを特徴とする請求項１〜７
のいずれか１項に記載の反射防止膜。 - 【請求項９】 該低屈折率層の上に含フッ素化合物を含
むオーバーコート層が積層されていることを特徴とする
請求項１〜８のいずれか１項に記載の反射防止膜。 - 【請求項１０】 該オーバーコート層の材料が低屈折率
層の空隙を占有している割合が７０体積％未満であるこ
とを特徴とする請求項１〜９のいずれか１項に記載の反
射防止膜。 - 【請求項１１】 該含フッ素化合物がフッ素ポリマーで
あり、該含フッ素ポリマーがオーバーコート層の塗布と
同時または塗布後に、架橋反応、又は、重合反応により
形成された含フッ素ポリマーであることを特徴とする請
求項１〜１０のいずれか１項に記載の反射防止膜。 - 【請求項１２】 該反射防止膜が、トリアセチルセルロ
ースから形成される透明支持体上に形成されていること
を特徴とする請求項１〜１１のいずれか１項に記載の反
射防止膜。 - 【請求項１３】 該低屈折率層を有する側の表面の動摩
擦係数が０．２５以下であることを特徴とする請求項１
〜１２のいずれか１項に記載の反射防止膜。 - 【請求項１４】 該低屈折率層を有する側の表面の、水
に対する接触角が９０°以上であることを特徴とする請
求項１〜１３のいずれか１項に記載の反射防止膜。 - 【請求項１５】 請求項１〜１４のいずれか１項に記載
の反射防止膜を偏向膜の保護膜の少なくとも一方に有す
ることを特徴とする偏光板。 - 【請求項１６】 画像表示面上に請求項１〜１４のいず
れか１項に記載の反射防止膜、又は、請求項１５に記載
の偏光板を配置していることを特徴とする画像表示装
置。
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|---|---|---|---|
| JP2000297159A JP4836316B2 (ja) | 1999-09-29 | 2000-09-28 | 反射防止膜、偏光板、及び画像表示装置 |
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1999277486 | 1999-09-29 | ||
| JP27748699 | 1999-09-29 | ||
| JP11-277486 | 1999-09-29 | ||
| JP2000297159A JP4836316B2 (ja) | 1999-09-29 | 2000-09-28 | 反射防止膜、偏光板、及び画像表示装置 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001188104A true JP2001188104A (ja) | 2001-07-10 |
| JP2001188104A5 JP2001188104A5 (ja) | 2007-07-05 |
| JP4836316B2 JP4836316B2 (ja) | 2011-12-14 |
Family
ID=26552411
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000297159A Expired - Fee Related JP4836316B2 (ja) | 1999-09-29 | 2000-09-28 | 反射防止膜、偏光板、及び画像表示装置 |
Country Status (1)
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|---|---|
| JP (1) | JP4836316B2 (ja) |
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