JP2001185607A5 - - Google Patents

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100804006B1 (ko) * 2000-01-28 2008-02-18 히다치 도쿄 에렉트로닉스 가부시키가이샤 웨이퍼 척
JP4288694B2 (ja) * 2001-12-20 2009-07-01 株式会社ニコン 基板保持装置、露光装置及びデバイス製造方法
KR100533586B1 (ko) * 2002-10-14 2005-12-06 주식회사 테라세미콘 반도체 기판 지지용 기판 홀더
JP2005175016A (ja) * 2003-12-08 2005-06-30 Canon Inc 基板保持装置およびそれを用いた露光装置ならびにデバイス製造方法
KR100818842B1 (ko) * 2006-12-27 2008-04-01 주식회사 실트론 웨이퍼의 열처리시 슬립을 방지할 수 있는 웨이퍼 지지 핀및 웨이퍼의 열처리 방법
JP4899879B2 (ja) * 2007-01-17 2012-03-21 東京エレクトロン株式会社 基板処理装置、基板処理方法及び記憶媒体
JP5126662B2 (ja) * 2007-10-31 2013-01-23 Toto株式会社 静電チャック
JP2009212344A (ja) * 2008-03-05 2009-09-17 Nsk Ltd ワークチャック、露光装置及びフラットパネル製造方法
JP2009212345A (ja) * 2008-03-05 2009-09-17 Nsk Ltd ワークチャック、露光装置及びフラットパネル製造方法
US8913230B2 (en) * 2009-07-02 2014-12-16 Canon Nanotechnologies, Inc. Chucking system with recessed support feature
JP5656392B2 (ja) * 2009-11-27 2015-01-21 キヤノン株式会社 基板保持装置、それを用いた露光装置、及びデバイスの製造方法
JP6001675B2 (ja) * 2012-11-28 2016-10-05 京セラ株式会社 載置用部材およびその製造方法
JP5538613B1 (ja) * 2013-11-13 2014-07-02 東京エレクトロン株式会社 接合装置及び接合システム
CN105934715B (zh) * 2014-01-20 2019-01-01 Asml荷兰有限公司 衬底保持件、用于光刻设备的支撑台、光刻设备和器件制造方法
US11104057B2 (en) * 2015-12-11 2021-08-31 Canon Kabushiki Kaisha Imprint apparatus and method of imprinting a partial field
JP6588367B2 (ja) * 2016-03-22 2019-10-09 日本特殊陶業株式会社 基板支持部材
CN110268331B (zh) * 2017-02-10 2021-12-07 Asml控股股份有限公司 掩模版夹持设备
JP7543617B2 (ja) * 2020-06-09 2024-09-03 日本特殊陶業株式会社 基板保持装置
JP7581146B2 (ja) * 2021-03-02 2024-11-12 キヤノン株式会社 チャック、基板保持装置、基板処理装置、及び物品の製造方法
JP2022133783A (ja) * 2021-03-02 2022-09-14 キヤノン株式会社 チャック、基板保持装置、基板処理装置、及び物品の製造方法
US20220351951A1 (en) * 2021-04-29 2022-11-03 Applied Materials, Inc. Substrate support apparatus, methods, and systems having elevated surfaces for heat transfer
JP7733531B2 (ja) * 2021-10-08 2025-09-03 日本特殊陶業株式会社 基板保持部材
JPWO2023144993A1 (enrdf_load_stackoverflow) * 2022-01-28 2023-08-03

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