JP2001181475A - エポキシ樹脂組成物、樹脂付き金属箔及び多層板 - Google Patents

エポキシ樹脂組成物、樹脂付き金属箔及び多層板

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JP2001181475A JP36498099A JP36498099A JP2001181475A JP 2001181475 A JP2001181475 A JP 2001181475A JP 36498099 A JP36498099 A JP 36498099A JP 36498099 A JP36498099 A JP 36498099A JP 2001181475 A JP2001181475 A JP 2001181475A
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裕記 田宮
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 燃焼時に有害な物質を生成しない難燃性組成
物であり、また、樹脂付き金属箔の樹脂層を形成するた
めに使用した場合には、得られる樹脂付き金属箔の樹脂
層が割れたり、剥がれたりし難く、かつこの樹脂付き金
属箔を用いて製造される多層プリント配線板が優れた電
気的信頼性及び耐熱性を有するものとなるエポキシ樹脂
組成物を提供する 【解決手段】 リン含有化合物及び重合度300〜15
00のポリビニルアセタール樹脂を必須成分として含有
する。このポリビニルアセタール樹脂成分をエポキシ樹
脂成分の総量に対して3〜15質量%含有する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、多層プリント配線
板の製造に用いられるエポキシ樹脂組成物、このエポキ
シ樹脂組成物を用いて得られる樹脂付き金属箔及びこの
樹脂付き金属箔を用いて得られる多層板に関するもので
ある。
【0002】
【従来の技術】従来、難燃性エポキシ樹脂組成物として
は、樹脂に難燃性を付与するために臭素を主とするハロ
ゲン系化合物を含有させたものが用いられていた。この
難燃性エポキシ樹脂組成物は、自己消火性、良好な機械
的強度、電気的特性等を有しており、様々な電気絶縁材
料の成形材料として使用されてきた。
【0003】しかし、この従来の難燃性エポキシ樹脂組
成物はハロゲン系化合物を含有するため、難燃性エポキ
シ樹脂を含む成形材料が火災等で燃焼した際に、燃焼条
件によってはポリ臭素化されたジベンゾダイオキシン及
びフラン等、人体に悪影響を及ぼす化合物が発生してし
まうものであった。
【0004】さらに、特に臭素含有エポキシ樹脂組成物
は、加熱された際に臭素が分解しやすく、長期耐熱性が
悪いものであった。
【0005】そのため臭素等のハロゲン系化合物を添加
しないで、要求される難燃性を達成することの出来るエ
ポキシ樹脂組成物が要望されていた。
【0006】一方、多層プリント配線板の製造方法とし
て、従来から、導電用の金属箔の表面にエポキシ樹脂組
成物等の絶縁用樹脂を塗布し、半硬化して樹脂層を形成
して樹脂付き金属箔を形成し、この樹脂付き金属箔を、
回路パターンが形成された内層用回路基板に積層成形し
て樹脂付き金属箔の樹脂層を絶縁層として形成すると共
に金属箔を導体層として形成して多層板を製造し、更に
この多層板の導体層にエッチング処理等を施して外層回
路を形成し、多層プリント配線板を製造する方法が知ら
れている。
【0007】しかし、樹脂付き金属箔における半硬化状
態の樹脂層は一般に脆く、取扱い等において樹脂層に大
きな力が加わると樹脂層が割れ、その樹脂層から割れた
樹脂粉が金属箔から剥がれる場合があった。そして、樹
脂層が割れたり剥がれたりした樹脂付き金属箔を用いて
製造したプリント配線板は、樹脂層が割れたり剥がれた
部分において絶縁層に空洞が生じ、内層回路と外層回路
の間の絶縁性が低下する場合があった。また、樹脂層が
剥がれた樹脂付き金属箔を使用した場合、樹脂層から剥
がされた樹脂粉が積層成形時に浮遊して、金属箔の樹脂
層を形成していない側の面に付着し、得られる多層板の
導体層上に微細な樹脂硬化物が形成される場合があっ
た。そして、このような多層板の外層の導体層をエッチ
ング処理して外層回路を形成することにより多層プリン
ト配線板を製造した場合、樹脂硬化物が形成された部分
がエッチングされずに残って、外層回路の配線間にショ
ート不良が発生する場合があり、多層プリント配線板製
造の歩留まりが低いという問題もあった。
【0008】そこで、樹脂付き金属箔の樹脂層を形成す
るための樹脂組成物中に、フェノキシ樹脂や非架橋のゴ
ムを可撓性付与成分を適当量配合することにより、樹脂
組成物を柔構造とし、樹脂付き金属箔の樹脂層が割れた
り、剥がれたりし難くすることが検討されている。
【0009】しかし、このような可撓性付与成分が配合
された樹脂組成物を用いた樹脂付き金属では、樹脂層の
硬化物のガラス転移温度が低く、それらを積層成形して
製造した多層プリント配線板の耐熱性が低いという問題
があった。
【0010】また、その他の可撓性付与成分としてブチ
ラール樹脂があるが、従来ではブチラール樹脂の添加量
が少ないと、樹脂層が割れたり、剥がれたりしやすくな
り、逆にこの添加量が多いと、多層プリント配線板とし
ての吸湿特性が低下し、吸湿時の電気的信頼性(特に層
間絶縁信頼性)が低下するものであった。また、添加す
るブチラール樹脂の重合度が低いと、樹脂層が割れた
り、剥がれたりしやすくなり、逆にこの重合度が高い
と、樹脂層の割れや剥がれが抑制されて樹脂付き金属箔
としての取扱い性が向上するが、樹脂層を構成する樹脂
成分との相溶性が低下し、吸湿時の電気的信頼性が低下
するものであった。
【0011】そのため、樹脂層が割れたり、剥がれたり
し難く、かつ、電気的信頼性及び耐熱性に優れた多層プ
リント配線板を製造することができる樹脂付き金属箔が
求められていた。
【0012】
【発明が解決しようとする課題】本発明は上記のような
問題に鑑みてなされたものであって、その目的とすると
ころは、燃焼時に有害な物質を生成しない難燃性組成物
であり、また、樹脂付き金属箔の樹脂層を形成するため
に使用した場合には、得られる樹脂付き金属箔の樹脂層
が割れたり、剥がれたりし難く、かつこの樹脂付き金属
箔を用いて製造される多層板が優れた電気的信頼性及び
耐熱性を有するものとなるエポキシ樹脂組成物、このエ
ポキシ樹脂組成物を用いて製造される樹脂付き金属箔、
及びこの樹脂付き金属箔を用いて製造される多層板を提
供することにある。
【0013】
【課題を解決するための手段】本発明の請求項1に係る
エポキシ樹脂組成物は、リン含有化合物及び重合度30
0〜1500のポリビニルアセタール樹脂を必須成分と
して含有し、このポリビニルアセタール樹脂成分をエポ
キシ樹脂成分の総量に対して3〜15質量%含有して成
ることを特徴とするものである。
【0014】また請求項2の発明は、請求項1の構成に
加えて、粒子径が1.0μm以下の架橋エラストマーを
エポキシ樹脂成分の総量に対して3〜15質量%含有し
て成ることを特徴とするものである。
【0015】また請求項3の発明は、請求項1又は2の
構成に加えて、リン含有量をエポキシ樹脂成分の総量の
0.8〜5.0質量%として成ることを特徴とするもの
である。
【0016】また本発明の請求項4に係る樹脂付き金属
箔は、請求項1乃至3のいずれかに記載のエポキシ樹脂
組成物を金属箔に塗布した後、乾燥半硬化させることに
よりエポキシ樹脂組成物のBステージ樹脂からなる樹脂
層を形成して成ることを特徴とするものである。
【0017】また本発明の請求項5に係る多層板は、内
層用回路基板と、請求項4に記載の樹脂付き金属箔とを
積層成形して成ることを特徴とするものである。
【0018】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を説明
する。尚、本明細書中において、エポキシ樹脂を加熱乾
燥することにより半硬化させたものをBステージ樹脂、
これを更に加熱硬化させたものを硬化物と呼称する。
【0019】エポキシ樹脂成分としては、分子内に平均
して2個のエポキシ基を有するものを用いた場合、Bス
テージ樹脂及び硬化物の可塑性を効果的に向上すること
ができる。
【0020】この分子内に平均して2個のエポキシ基を
有するエポキシ樹脂として、ビスフェノールA型エポキ
シ樹脂を用いると、接着力等の良好な硬化物を得ること
ができる。また、ビスフェノールF型エポキシ樹脂を用
いた場合、エポキシ樹脂組成物やその硬化物の難燃性が
得られ易くなる。また、ビフェニル型エポキシ樹脂を用
いた場合、吸水率が低く、ガラス転移温度が高い硬化物
を得ることができる。また、ナフタレン型エポキシ樹脂
を用いると、ガラス転移温度が高い硬化物を得ることが
できる。
【0021】また、エポキシ樹脂成分として、分子内に
平均3個のエポキシ基を有するエポキシ樹脂を用いる
と、ガラス転移温度が更に高い硬化物を得ることができ
る。
【0022】この分子内に平均3個のエポキシ基を有す
るエポキシ樹脂として、3官能型エポキシ樹脂を用いる
と、低吸水性を有すると共にガラス転移温度が高い硬化
物を得ることができる。また、フェノールノボラック型
エポキシ樹脂を用いた場合には、ガラス転移温度が高
く、かつ難燃性に優れた硬化物を得ることができる。
【0023】これらのエポキシ樹脂の硬化剤としては、
ジシアンジアミドを用いると、接着性、耐熱性、電気絶
縁性、高ガラス転移温度等の、性能バランスの良好な硬
化物を得ることができる。硬化剤の配合量は、エポキシ
樹脂に対する当量比で0.3〜0.7の範囲とすること
が好ましい。
【0024】リン含有化合物としては、下記化学構造式
(1)〜(3)に示すようなリン化合物を用いることが
できる。尚、化学構造式(3)に示すリン化合物は、二
種の構造が平衡状態となって共存するものである。
【0025】
【化1】
【0026】また、リン含有化合物としては、既述のよ
うなエポキシ樹脂を上記のようなリン化合物にて変性し
たリン変性エポキシ樹脂を用いることもできる。このと
き、リン変性エポキシ樹脂は、エポキシ樹脂成分とリン
含有化合物の双方を兼ねるものとして配合される。この
場合は、エポキシ樹脂組成物に配合されるエポキシ樹脂
の全部又は一部と、フェノール性水酸基又はカルボキシ
ル基を有する化学構造式(1)〜(3)に示すようなリ
ン化合物とを、予め3級アミン又はトリフェニルホスフ
ィン等の促進剤を用いて加熱、反応させてリン含有エポ
キシ樹脂を生成するものである。このようなリン変性エ
ポキシ樹脂を用いると、硬化物の耐熱、耐水特性が大幅
に向上するものであり、更に、Bステージ樹脂の長期保
存時の粘度上昇が抑制されて保存安定性が良くなり、樹
脂付き金属箔等の状態で長期保管しても成形性等が悪化
することが防止される。
【0027】このリン含有エポキシ樹脂を生成するため
の予備反応に供されるエポキシ樹脂とリン化合物との割
合は特に限定するものではないが、反応に供されるエポ
キシ樹脂のエポキシ基のモル数1.0に対してリン化合
物のフェノール性水酸基及びカルボン酸の総モル数0.
4〜1.0の範囲で行うことが好ましく、この場合、特
に優れた保存安定性を有する良好なBステージ樹脂や硬
化物を得ることができる。
【0028】また、この予備反応に供されるエポキシ樹
脂としては、2官能又は3官能のエポキシ樹脂が望まし
く、これらの官能基数の少ないエポキシ樹脂を予備反応
に供した場合、特に安定した生成物が得られる。
【0029】エポキシ樹脂組成物中におけるリン含有化
合物の最適な配合量は使用するエポキシ樹脂により異な
るものではあるが、リン含有化合物中のリン原子がエポ
キシ樹脂組成物のエポキシ樹脂成分の総量に対して0.
8〜5.0質量%の範囲となるようにすることが好まし
く、この場合、安定した難燃性を付与することができ
る。リン原子の含有量が、エポキシ樹脂成分の総量の
0.8%以下の場合、安定した難燃性が得られ難く、逆
に5.0%を超える場合は、硬化物の特性が悪化した
り、可撓剤として配合されるブチラール樹脂との相溶性
や、架橋エラストマー成分との分散性が悪化するおそれ
がある。
【0030】また、ポリビニルアセタール樹脂は、特に
限定するものではないが、重合度が300〜1500で
あるものが用いられる。この重合度が300未満である
と、Bステージ樹脂や硬化物の可撓性を向上することが
できず、Bステージ樹脂にて樹脂付き金属箔の樹脂層を
形成した場合、樹脂層が割れたり、剥がれたりし易くな
る。逆にこの重合度が1500を超えると、エポキシ樹
脂組成物にて樹脂付き金属箔の樹脂層を形成した場合、
樹脂層が割れたり、剥がれたりし難いものが得られるも
のの、リン化合物やリン変性エポキシ樹脂等のリン含有
化合物との相溶性が低下し、樹脂付き金属箔の樹脂層に
て多層板の絶縁層を形成した場合の電気的信頼性(層間
絶縁信頼性)が著しく低下する。
【0031】また、このポリビニルアセタール樹脂の添
加量は、エポキシ樹脂成分の総量に対して3〜15質量
%とするものである。この添加量が3質量%未満である
と、Bステージ樹脂や硬化物の可撓性を向上することが
できず、Bステージ樹脂にて樹脂付き金属箔の樹脂層を
形成した場合、樹脂層が割れたり、剥がれたりし易くな
る。逆にこの添加量が15質量%を超えると、エポキシ
樹脂組成物にて樹脂付き金属箔の樹脂層を形成した場
合、樹脂層が割れたり、剥がれたりし難いものが得られ
るものの、樹脂層の吸湿特性が低下すると共にリン化合
物やリン変性エポキシ樹脂等のリン含有化合物との相溶
性も低下し、樹脂付き金属箔の樹脂層にて多層板の絶縁
層を形成した場合の電気的信頼性(層間絶縁信頼性)が
低下する。
【0032】また、エポキシ樹脂組成物は、ゴム成分と
して粒子径が1.0μm以下の架橋エラストマーを配合
すると、Bステージ樹脂や硬化物の可撓性を更に効果的
に向上することができて好ましい。ここで、架橋エラス
トマーとは、溶媒に分散させた場合に溶解せずにゲルと
して存在するエラストマーを意味し、少なくともメチル
エチルケトン(MEK)、メトキシプロパノール(M
P)、又はジメチルホルムアミド(DMF)中に分散さ
せた状態においてゲルとして存在するものである。例え
ば通常NBR(ニトリル・ブタジエン・ラバー)骨格を
有する線状エラストマー(非架橋エラストマー)は、M
EK、MP、DMF、MIBK(メチルイソブチルケト
ン)、クロロフォルム等の溶媒に溶解するものであり、
それに対して、このNBR骨格を有する線状エラストマ
ーを架橋させた例えば日本合成ゴム社製の商品名「XE
R−91」は、これらの溶媒に分散させた場合に溶解せ
ず、ゲル含有量90数%で存在するものである。
【0033】この架橋エラストマーとしては、特に限定
するものではないが、例えばスチレン・ブタジエンゴム
(SBR)、ブタジエンゴム(BR)、ブチルゴム等、
あるいは構造式中にこれらのゴムの構造を有する共重合
体等を使用することができる。特にブタジエン−アクリ
ロニトリル共重合ゴムを用いた場合、Bステージ樹脂
や、硬化物において適正な可塑性が得られると共に、B
ステージ樹脂や硬化物の成形後のガラス転移温度(T
g)の低下を抑制することができ、更に架橋エラストマ
ーのエポキシ樹脂組成物やそのBステージ樹脂及び硬化
物中における分散性等も良好なものである。
【0034】ここで、架橋エラストマーの粒径が1.0
μmを超える場合は、エポキシ樹脂組成物やそのBステ
ージ樹脂及び硬化物中における架橋エラストマーの分散
性が低下して、均一な可塑性を得ることが困難となる。
従って、この架橋エラストマーの粒径はより微細な方が
望ましく、特に0.5μm以下であることが更に望まし
い。ただし、可塑性を効果的に付与するためには、架橋
エラストマーの粒径は0.02μm以上であることが好
ましい。
【0035】この粒子径が1.0μm以下の架橋エラス
トマーの、エポキシ樹脂組成物中における添加重量は、
エポキシ樹脂成分の総量に対して3質量%以上である
と、充分な可撓性付与の効果を得ることができて好まし
く、添加量が3質量%に満たないと可塑化付与の効果が
小さくなる。またこの添加量をエポキシ樹脂成分の総量
に対して15質量%以下とすると、適正な可塑性が得ら
れると共に、成形後のガラス転移点温度(Tg)の低下
を更に抑制することができ、添加量が15質量%を超え
ると硬化物の強度が低下するおそれがる。
【0036】一方、ゴム成分として非架橋エラストマー
を用いた場合は、成形後のガラス転移温度(Tg)が低
下したり、加熱時に強度が低下したりするおそれがあ
る。
【0037】また、上記以外の他の添加剤として、2−
エチル−4−メチルイミダゾール等の硬化促進剤や、そ
の他の特性付与剤を必要に応じて添加しても良い。特
に、可撓剤とてブチラール樹脂を配合すると、Bステー
ジ樹脂や硬化物の可撓性を更に効果的に向上することが
できる。
【0038】上記の各成分を充分に混合することによ
り、エポキシ樹脂組成物を調製することができる。ここ
で、リン含有エポキシ樹脂を用いる場合は、予め既述の
ような予備反応によるリン含有エポキシ樹脂の生成を行
った後、他の配合成分を加えて充分に混合するものであ
る。このとき必要に応じて粘度調整等のためにメチルエ
チルケトン(MEK)、メトキシプロパノール(M
P)、ジメチルホルムアミド(DMF)等の溶剤を用い
ることもできるが、必ずしも溶剤を用いる必要はない。
【0039】エポキシ樹脂組成物の調製方法を例示する
と、リン含有エポキシ樹脂を用いない場合は、リン化合
物、エポキシ樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、並びに
予めメチルエチルケトン溶媒等に均一に分散した架橋エ
ラストマー粒子を、溶媒中に投入して充分に撹拌混合し
た後、更に硬化促進剤を配合して更に撹拌混合した、そ
の後、脱気して、25℃における粘度が500〜100
0poiseであるエポキシ樹脂組成物を得るものであ
る。
【0040】またリン含有エポキシ樹脂を用いる場合
は、リン含有エポキシ樹脂、ポリビニルアセタール樹
脂、及び予めメチルエチルケトン溶媒等に均一に分散し
た架橋エラストマー粒子、並びに必要に応じて他のエポ
キシ樹脂及びリン化合物を溶媒中に投入して充分に撹拌
混合した後、硬化促進剤をを配合して更に撹拌混合し、
その後、脱気することにより、25℃における粘度が5
00〜1000poiseであるエポキシ樹脂組成物を
得るものである。
【0041】このようにして得られたエポキシ樹脂組成
物を、コンマコーター、転写コーター、カーテンコータ
ー、ダイコータ等を使用して銅箔、アルミニウム箔等の
金属箔に塗布し、連続又は非連続的に加熱乾燥してBス
テージ化して、Bステージ樹脂からなる樹脂層を形成し
て、樹脂付き金属箔を得ることができる。
【0042】この際の金属箔厚及び形成される樹脂層の
厚みは任意であるが、金属箔の厚みとしてはは3μm〜
80μm、樹脂層の厚みとしては20μm〜200μm
が一般的である。
【0043】このようにして得られる樹脂付き金属箔
を、回路パターンが形成された内層用回路基板の片面又
は両面に、樹脂付き金属箔の樹脂層が内層用回路基板の
回路層と重なるように積層加熱成形して、樹脂付き金属
箔の樹脂層の硬化物にて絶縁層を形成すると共に金属箔
にて導体層を形成し、多層板を製造することができる。
そして多層板の外面の導体層に、回路成形を施すことに
より、多層プリント配線板が得られる。
【0044】
【実施例】以下、本発明を実施例によって詳述する。
【0045】エポキシ樹脂としては、次に示すものを用
いた ・エポキシ樹脂1:エポキシ当量190のビスフェノー
ルA型2官能エポキシ樹脂(油化シェルエポキシ株式会
社製;商品名「エピコート828」) ・エポキシ樹脂2:エポキシ当量172のビスフェノー
ルF型2官能エポキシ樹脂(大日本インキ化学工業株式
会社製;商品名「EPICLON−830」) ・エポキシ樹脂3:エポキシ当量195のビフェニル型
2官能エポキシ樹脂(油化シェルエポキシ株式会社製;
商品名「YX4000H」) ・エポキシ樹脂4:エポキシ当量150のナフタレン型
2官能エポキシ樹脂(大日本インキ化学工業株式会社
製;商品名「EPICLON−HP4032」) ・エポキシ樹脂5:エポキシ当量210の3官能エポキ
シ樹脂(三井化学株式会社製;商品名「VG310
1」) ・エポキシ樹脂6:エポキシ当量190のフェノールノ
ボラック型官能エポキシ樹脂(大日本インキ化学工業株
式会社製;商品名「EPICLON−N770」) ・エポキシ樹脂7:エポキシ当量220の蛍光を発する
4官能エポキシ樹脂(米国シェル株式会社製;商品名
「Epon1031」) ・エポキシ樹脂8:エポキシ当量400の臭素化ビスフ
ェノールA型エポキシ樹脂(東都化成株式会社製;商品
名「YDB400」;臭素化率約48%) ・エポキシ樹脂9:エポキシ当量220のクレゾールノ
ボラック型エポキシ樹脂(東都化成株式会社製;商品名
「YDCN704」) 硬化剤としては、次に示すものを用いた ・硬化剤1:ジシアンジアミド(分子量84;理論活性
水素当量21g/eq) ・硬化剤2:フェノールノボラック樹脂(群栄化学工業
株式会社製;商品名「PSM6200」;水酸基当量1
05g/eq;融点約80℃) リン化合物としては、次に示すものを用いた。 ・リン化合物1:上記化学構造式(1)に示すリン化合
物(三光株式会社製;商品名「HCA−HQ」;水酸基
当量約162g/eq;リン含有量約9.6質量%) ・リン化合物2:上記化学構造式(2)に示すリン化合
物(三光株式会社製;商品名「HCA−NQ」;水酸基
当量約188g/eq;リン含有量約8.2質量%) ・リン化合物3:上記化学構造式(3)に示すリン化合
物(カルボキシル基当量約173g/eq;リン含有量
約9.0質量%) ポリビニルアセタール樹脂としては、次に示すものを用
いた。 ・ポリビニルアセタール樹脂1:積水化学工業株式会社
製;商品名「KS1」;重合度500 ・ポリビニルアセタール樹脂2:積水化学工業株式会社
製;商品名「KS3」;重合度2000 架橋エラストマーとしては、ブタジエン−アクリロニト
リル共重合体の粒径0.5μm以下の架橋エラストマー
粒子(日本合成ゴム社製;商品名「XER−91」)を
用いた。
【0046】溶媒としては、次に示すものを用いた。 ・溶媒1:メチルエチルケトン(MEK) ・溶媒2:メトキシプロパノール(MP) ・溶媒3:ジメチルホルムアミド(DMF) (リン含有エポキシ樹脂1の調製)エポキシ樹脂1(7
0質量部)と、リン化合物1(30質量部)を無溶媒で
130℃でフラスコ内で加熱撹拌し、その後、促進剤と
してトリフェニルホスフィン(0.2質量部)を添加
し、3時間加熱撹拌を継続した。その結果、エポキシ当
量約540g/eq、150℃における溶融粘度約40
poise、リン含有量約2.9質量%の、リン含有エ
ポキシ樹脂1を得た。
【0047】(リン含有エポキシ樹脂2の調製)エポキ
シ樹脂2(70質量部)と、リン化合物1(30質量
部)を無溶媒で130℃でフラスコ内で加熱撹拌し、そ
の後、促進剤としてトリフェニルホスフィン(0.2質
量部)を添加し、4時間加熱撹拌を継続した。その結
果、エポキシ当量約580g/eq、150℃における
溶融粘度約100poise、リン含有量約2.5質量
%の、リン含有エポキシ樹脂2を得た。
【0048】(実施例1〜19、比較例1〜7)各実施
例及び比較例につき、表1乃至3に示す各成分にて、次
のA法又はB法によりエポキシ樹脂組成物を調製した。
【0049】<A法>リン化合物、エポキシ樹脂、ポリ
ビニルアセタール樹脂、並びに予めメチルエチルケトン
溶媒に約20%の含有率で均一に分散した架橋エラスト
マー粒子を、溶媒中に投入して、特殊機化工工業社製の
「ホモミキサー」にて、1000rpmの回転速度で9
0分間混合した。その後、硬化促進剤として2−エチル
−4−メチルイミダゾールを配合し、更に15分間撹拌
した後、脱気して、25℃における粘度が500〜10
00poiseであるエポキシ樹脂組成物を得た。
【0050】<B法>リン含有エポキシ樹脂、ポリビニ
ルアセタール樹脂、及び予めメチルエチルケトン溶媒に
約20%の含有率で均一に分散した架橋エラストマー粒
子、並びに必要に応じて他のエポキシ樹脂及びリン化合
物を溶媒中に投入して、特殊機化工工業社製の「ホモミ
キサー」にて、1000rpmの回転速度で90分間混
合した。その後、硬化促進剤として2−エチル−4−メ
チルイミダゾールを配合し、更に15分間撹拌した後、
脱気して、25℃における粘度が500〜1000po
iseであるエポキシ樹脂組成物を得た。
【0051】このようにして得られたエポキシ樹脂組成
物を、厚み0.018mmの銅箔(古河サーキットフォ
イル株式会社製;商品名「GT」)の粗化面に、室温に
てコンマコーターで塗布し、その後、非接触タイプの加
熱ユニットにより160℃で加熱することにより組成物
中の溶媒を乾燥すると共にBステージ化させ、樹脂層の
厚みが75μmの樹脂付き銅箔を得た。
【0052】(評価試験) ・樹脂付き銅箔の樹脂割れ角度試験 各実施例及び比較例にて得られた樹脂付き銅箔を、10
0×100mmの寸法に切断した。この樹脂付き銅箔1
を、図1に示すように、樹脂層側が下面側となるように
試験台2上に載置し、上面の銅箔表面に、直径10mm
の円棒状の折曲治具3を、その外周面が銅箔表面に接触
するように配置し、この折曲治具3に沿って樹脂付き金
属箔1を上方に向けて折り曲げた。このときの、樹脂層
に割れ(クラック)が発生する最低折り曲げ角度θを測
定した。
【0053】・樹脂付き銅箔の樹脂保存安定性試験 各実施例及び比較例にて得られた樹脂付き銅箔を40℃
の乾燥機内に放置して加熱した後、その樹脂層のみを削
り落として得られる試料の130℃における溶融粘度を
測定した。この溶融粘度が、加熱前における初期の試料
の溶融粘度に対して50%増加するまでに要する加熱時
間を測定した。
【0054】・難燃性評価 難燃性の厚み0.2mm両面銅張積層板(松下電工株式
会社製;「CR1766」)の両面の銅箔を全面除去し
たものを内層板とした。この内層板の両面に、各実施例
及び比較例にて得られた樹脂付き銅箔を、樹脂層が内層
板側を向くようにそれぞれ一枚ずつ重ね、170℃、
2.94MPaの条件で90分間加熱加圧成形した。こ
の成形板の表面の銅箔を除去した後、125mm×13
mmの寸法に切断し、Underwriters La
boratoriesの”Testfor Flamm
ability of Plastic Materi
als−UL94”に従って、燃焼挙動のテストを実施
した。また消炎性の差異を把握するために、消炎までに
要する平均時間を導出した。
【0055】・耐熱性試験 厚み0.2mm、銅箔厚み35μmの両面銅張積層板
(松下電工株式会社製;「CR1766」)の表面の銅
箔に黒化処理を施したものを内層用回路基板とした。こ
の内層用回路基板の両面に、各実施例及び比較例にて得
られた樹脂付き銅箔を、樹脂層が内層用回路基板側を向
くようにそれぞれ一枚ずつ重ね、170℃、2.94M
Paの条件で90分間加熱加圧成形して多層板を得た。
この多層板を切断して50mm×50mmの寸法の四枚
のサンプルを得た。このサンプルをオーブンにて60分
間加熱した後、サンプル表面を観察し、四枚共にフクレ
等の外観異常が発生しない最高温度を測定した。
【0056】・吸水率評価 各実施例及び比較例にて得られた2枚の樹脂付き銅箔
を、樹脂層同士の対向させ重ね、170℃、2.94M
Paの条件で90分間加熱加圧成形した後、両面の銅箔
を除去して、樹脂厚約160μmの硬化物を得た。この
硬化物を500mm×400mmの寸法に切断し、水中
で100℃にて2時間煮沸し、煮沸後の吸水率を測定し
た。ここで吸水率は、次の計算式にて導出した。 吸水率={(吸水後の重量−吸水前の重量)/吸水前の
重量}×100(%) ・ガラス転移温度測定 吸水率評価に供したサンプルと同様の硬化物を、30m
m×5mmの寸法に切断し、粘弾性スペクトロメータ装
置にて温度変化に対する動的粘弾性及び損失正接tan
δの変化を測定し、tanδのピーク温度からガラス転
移温度を求めた。
【0057】・層間絶縁信頼性(HAST)試験 厚み0.5mm、銅箔厚み18μmのFR−4タイプの
両面銅張積層板(松下電工株式会社製;「CR176
6」)の一面の銅箔を除去すると共に他面の銅箔に回路
形成を施して内層回路を形成し、内層用回路基板を形成
した。この内層用回路基板の内層回路形成面に、各実施
例及び比較例にて得られた樹脂付き銅箔を樹脂層が回路
形成面側に向くように重ね、170℃、2.94MPa
の条件で90分間加熱加圧成形して多層板を得た。この
多層板の表面の銅箔に、ライン幅150μm、ライン間
隔150μmの格子状の外層回路を形成した。これによ
り、図2に示すような、内層用回路基板の絶縁層にて形
成された内層絶縁層4、外層回路5、樹脂付き金属箔の
樹脂層にて形成された外層絶縁層6及び外層回路7が順
に積層成形された多層プリント配線板9を形成し、更に
その外層回路7形成面の全面にソルダーレジスト8を形
成した。
【0058】この多層プリント配線板9について、温度
121℃、湿度85%の雰囲気下で、外層回路7と内層
回路5の間にDC20Vの電圧を印加し、そのときの外
層回路7と内層回路5の層間の絶縁抵抗を、連続電圧印
加時間50時間ごとに測定した。この絶縁抵抗が108
Ω以上であるものを合格、それ未満のものを不合格とし
て、合格となる最大連続電圧印加時間にて層間絶縁信頼
性を評価した。
【0059】以上の結果を表1乃至3に示す。
【0060】
【表1】
【0061】
【表2】
【0062】
【表3】
【0063】表1乃至3から明らかなように、比較例1
では、リン化合物を混入せずにブロム化エポキシ樹脂を
配合したため、難燃性を優れているがハロゲン含有量が
高く、燃焼時において有毒ガスが発生する危険がある。
また比較例2,3では、リン化合物を含有せず、難燃性
が低いものである。また比較例3,4ではポリビニルア
セタール樹脂含まず、比較例6ではポリビニルアセター
ル樹脂の含有量が低いため、いずれも樹脂割れ角度の評
価が低く、樹脂層の可撓性が低いものである。また比較
例5,7ではポリビニルアセタール樹脂を含有してはい
るが、比較例5ではその重合度が高すぎ、比較例7では
その配合量が高すぎるため、層間絶縁信頼性の評価が低
く、特に比較例7では吸水性の評価も低くなっている。
【0064】それに対して、実施例1乃至19では、ハ
ロゲン含有量が低く、エポキシ樹脂組成物からなる樹脂
層の可撓性、絶縁層の難燃性、層間絶縁信頼性におい
て、いずれも優れた評価結果が得られ、また他の評価項
目についても、良好な結果が得られた。
【0065】更に、架橋エラストマーを配合した実施例
9及び実施例17では、樹脂層の可撓性が特に優れたも
のとなった。
【0066】
【発明の効果】上記のように、本発明の請求項1に係る
エポキシ樹脂組成物は、リン含有化合物及び重合度30
0〜1500のポリビニルアセタール樹脂を必須成分と
して含有し、このポリビニルアセタール樹脂成分をエポ
キシ樹脂成分の総量に対して3〜15質量%含有するも
のであり、ハロゲンを含有していないにも係わらず優れ
た難燃性を有し、またこのエポキシ樹脂組成物を半硬化
させたBステージ樹脂や、その硬化物の可撓性を向上す
ることができるものであり、しかも硬化物の絶縁信頼性
を向上することができるものである。
【0067】また請求項2の発明は、請求項1の構成に
加えて、粒子径が1.0μm以下の架橋エラストマーを
エポキシ樹脂成分の総量に対して3〜15質量%含有す
るため、このエポキシ樹脂組成物を半硬化させたBステ
ージ樹脂や、その硬化物の可撓性を更に向上することが
できるものである。
【0068】また請求項3の発明は、請求項1又は2の
構成に加えて、リン含有量をエポキシ樹脂成分の総量の
0.8〜5.0質量%とするため、難燃性を更に向上す
ることができるものである。
【0069】また本発明の請求項4に係る樹脂付き金属
箔は、請求項1乃至3のいずれかに記載のエポキシ樹脂
組成物を金属箔に塗布した後、乾燥半硬化させることに
よりエポキシ樹脂組成物のBステージ樹脂からなる樹脂
層を形成するため、樹脂層はハロゲンを含有していない
にも係わらず優れた難燃性を有すると共に優れた可撓性
を有し、しかも樹脂層の硬化物にて絶縁層を形成した場
合の絶縁層の絶縁信頼性を向上することができるもので
ある。
【0070】また本発明の請求項5に係る多層板は、内
層用回路基板と、請求項4に記載の樹脂付き金属箔とを
積層成形するため、樹脂付き金属箔の樹脂層からなる絶
縁層は、ハロゲンを含有していないにも係わらず優れた
難燃性を有すると共に優れた可撓性を有し、しかもこの
絶縁層の絶縁信頼性を向上することができるものであ
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】実施例における樹脂付き銅箔の樹脂割れ角度試
験の試験方法を説明する断面図である。
【図2】実施例における層間絶縁信頼性試験の試験方法
を説明するものであり、(a)は正面の断面図、(b)
は(a)のソルダーレジストを設けていない状態の平面
図である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) C08L 29:14 C08L 29:14 21:00) 21:00) Fターム(参考) 4F100 AB01B AB33B AH10A AK23A AK27 AK29 AK53A AL01 AL05A AL09A BA02 DE01A GB43 JA07A JG00 JJ03 JJ07 JK08 YY00A 4J002 AC033 AC073 AC083 BB183 BE062 CD031 CD051 CD201 EW016 FD206 GF00 GQ01 GQ05

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 リン含有化合物及び重合度300〜15
    00のポリビニルアセタール樹脂を必須成分として含有
    し、このポリビニルアセタール樹脂成分をエポキシ樹脂
    成分の総量に対して3〜15質量%含有して成ることを
    特徴とするエポキシ樹脂組成物。
  2. 【請求項2】 粒子径が1.0μm以下の架橋エラスト
    マーをエポキシ樹脂成分の総量に対して3〜15質量%
    含有して成ることを特徴とする請求項1に記載のエポキ
    シ樹脂組成物。
  3. 【請求項3】 リン含有量をエポキシ樹脂成分の総量の
    0.8〜5.0質量%として成ることを特徴とする請求
    項1又は2に記載のエポキシ樹脂組成物。
  4. 【請求項4】 請求項1乃至3のいずれかに記載のエポ
    キシ樹脂組成物を金属箔に塗布した後、乾燥半硬化させ
    ることによりエポキシ樹脂組成物のBステージ樹脂から
    なる樹脂層を形成して成ることを特徴とする樹脂付き金
    属箔。
  5. 【請求項5】 内層用回路基板と、請求項4に記載の樹
    脂付き金属箔とを積層成形して成ることを特徴とする多
    層板。
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