JP2001177124A - 太陽電池モジュ−ル - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 耐候性、耐熱性、耐水性、耐湿性、耐風圧
性、耐降雹性、その他等の諸特性に優れ、極めて耐久性
に富み、かつ、長期間の使用に対し極めて優れた信頼性
を有する太陽電池モジュ−ルを提供することである。 【解決手段】 表面保護層、充填剤層、太陽電池素子の
表面に、少なくとも、水蒸気、酸素ガス、分解物、また
は、添加剤の１種以上の透過を阻止する障壁層を設けた
構成からなる保護層付太陽電池素子、充填剤層、およ
び、裏面保護層を順次に積層し、更に、層上あるいは層
間のいずれかに、少なくとも、防汚層、紫外線遮蔽層、
または、耐候性層の１層あるいはそれ以上を積層し、一
体化したことを特徴とする太陽電池モジュ−ルに関する
ものである。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、太陽電池モジュ−
ルに関し、更に詳しくは、耐候性、耐熱性、耐水性、耐
湿性、耐風圧性、耐降雹性、防汚性、その他等の諸特性
に優れ、極めて耐久性に富み、かつ、長期間の使用に対
し極めて優れた信頼性を有する太陽電池モジュ−ルに関
するものである。

【０００２】

【従来の技術】近年、環境問題に対する意識の高まりか
ら、クリ−ンなエネルギ−源としての太陽電池が注目さ
れ、現在、種々の形態からなる太陽電池モジュ−ルが開
発され、提案されている。一般に、上記の太陽電池モジ
ュ−ルは、例えば、結晶シリコン太陽電池素子あるいは
アモルファスシリコン太陽電池素子等を製造し、そのよ
うな太陽電池素子を使用し、表面保護層、充填剤層、光
起電力素子としての太陽電池素子、充填剤層、および、
裏面保護層等の順に積層し、次いで、それらを真空吸引
して加熱圧着するラミネ−ション法等を利用して製造さ
れている。而して、上記の太陽電池モジュ−ルは、当
初、電卓への適用を始めとし、その後、各種の電子機器
等に応用され、民生用の利用として、その応用範囲は急
速に広まりつつあり、更に、今後、最も重要な課題とし
て、大規模集中型太陽電池発電の実現であるとされてい
る。

【０００３】ところで、太陽電池が具備しなければなら
ない特性としては、光エネルギ−から電気エネルギ−へ
の変換効率が高いこと、および、長期間の使用に対し信
頼性に優れていること等が挙げられる。例えば、使用条
件として、屋外環境において、少なくとも２０〜３０年
間の長期間にわたり安定して発電を行うことができるこ
とが必要であり、そのために、太陽電池の構造や製作工
程において、太陽電池を構成する材料自体の安定性と共
にそのような材料を使用して製造した太陽電池の構造自
体の安定性等が充足されなければならないものである。
例えば、一般に、太陽電池モジュ−ルを構成する表面保
護層としては、太陽光が入射し、これを透過する透過性
に優れていると共に耐候性、耐熱性、耐水性等の諸堅牢
性に優れ、かつ、水分、酸素等の侵入を防止する防湿性
に優れ、更に、表面硬度が高く、かつ、表面の汚れ、ゴ
ミ等の蓄積を防止し、その保護能力性が高いこと、その
他等の条件を充足することが必要なものである。また、
太陽電池モジュ−ルを構成する充填剤層としては、太陽
光が入射し、これを透過する透明性、更に、表面保護層
および裏面保護層との接着性、また、光起電力素子とし
ての太陽電池素子の表面の平滑性を保持する機能を果た
すために熱可塑性、更には、光起電力素子としての太陽
電池素子の保護とういことから、耐スクラッチ性、衝撃
吸収性等に優れていることが必要である。更に、太陽電
池モジュ−ルを構成する裏面保護層としては、絶縁性を
有すると共に耐候性、耐熱性、耐光性、耐水性等を有
し、物理的あるいは化学的強度に優れ、かつ、強靱性等
に優れ、更に、光起電力素子としての太陽電池素子の保
護とういことから、耐スクラッチ性、衝撃吸収性等に優
れていることが必要である。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、現在、
太陽電池を構成する材料、素材等においては、上記のよ
うな条件の総てを充足し得るものはなく、一長一短があ
り、太陽電池を構成する材料自体の安定性と共にそのよ
うな材料を使用して製造した太陽電池の構造自体の安定
性等を十分に満足し得るものであるとは言い得ないもの
であるというのが実状である。例えば、太陽電池モジュ
−ルを構成する表面保護層として、現在、最も一般的に
使用されているガラス板等は、太陽光の透過性に優れ、
かつ、耐候性、耐熱性、耐水性等の諸堅牢性に優れ、ま
た、防湿性にも優れ、更に、表面硬度が硬く、その保護
能力性が高い等の利点を有するが、可塑性、耐衝撃性、
軽量化等に欠け、更に、その加工性、施工性等に劣り、
かつ、低コスト化等に欠けるという問題点がある。ま
た、上記の太陽電池モジュ−ルを構成する表面保護層と
して、フッ素系樹脂等の樹脂シ−トを使用することが提
案されているが、該フッ素系樹脂シ−トの場合には、ガ
ラス板等と比較して、可塑性、耐衝撃性、軽量化、低コ
スト化等に富むものではあるが、耐光性、耐熱性、耐水
性等の諸堅牢性に劣り、特に、防湿性等に欠けるという
問題点がある。更に、上記のフッ素系樹脂シ−トを使用
する場合には、その表面にゴミ等が蓄積し、表面が汚染
するという問題点もある。また、太陽電池モジュ−ルを
構成する充填剤層においては、長期間の使用に対し、充
填剤層を構成する充填剤が変質し、あるいは、それが劣
化ないし分解し、それに含まれる充填剤等が溶出した
り、あるいは、劣化ないし分解物を生成し、それらが太
陽電池素子自体に作用し、その機能、性能等を著しく劣
化させ、太陽電池としての信頼性を損なうという問題点
がある。また、太陽電池モジュ−ルを構成する裏面保護
層等においても、それを形成する材料、素材等におい
て、上記の表面保護層と同様に、一長一短があり、特
に、防湿性等に欠けるという問題点があり、十分に満足
し得るものであるとは言い得ないものである。更に、そ
れらのコストの低減化も欠かせないものである。そこで
本発明は、耐候性、耐熱性、耐水性、耐湿性、耐風圧
性、耐降雹性、防汚性、その他等の諸特性に優れ、極め
て耐久性に富み、かつ、長期間の使用に対し極めて優れ
た信頼性を有する太陽電池モジュ−ルを提供することで
ある。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明者は、上記のよう
な問題点を解決すべく種々研究した結果、太陽電池素子
の表面に、少なくとも、水蒸気、酸素ガス、充填剤層を
構成する充填剤の劣化ないし分解物、あるいは、充填剤
層から溶出する添加剤等の１種以上の透過を阻止する障
壁層を設けて保護層付太陽電池素子を製造し、次いで、
該保護層付太陽電池素子を使用し、表面保護層、充填剤
層、保護層付太陽電池素子、充填剤層、および、裏面保
護層の順に順次に積層し、更に、上記の層上あるいは層
間のいずれかに、少なくとも、防汚層、紫外線遮蔽層、
または、耐候性層の１層あるいはそれ以上を積層し、次
いで、それらを真空吸引して加熱圧着するラミネ−ショ
ン法等を利用して一体化して太陽電池モジュ−ルを製造
したところ、耐候性、耐熱性、耐水性、耐湿性、耐風圧
性、耐降雹性、防汚性、その他等の諸特性に優れ、極め
て耐久性に富み、その長期的な性能劣化を最小限に抑
え、極めて安定性に優れ、長期間の使用に対し極めて優
れた信頼性を有し、特に、水分、酸素等の侵入を防止す
る防湿性を著しく向上させ、かつ、その製造工程を簡略
化し、より低コストで安全な太陽電池モジュ−ルを製造
し得ることを見出して本発明を完成したものである。

【０００６】すなわち、本発明は、表面保護層、充填剤
層、太陽電池素子の表面に、少なくとも、水蒸気、酸素
ガス、分解物、または、添加剤の１種以上の透過を阻止
する障壁層を設けた構成からなる保護層付太陽電池素
子、充填剤層、および、裏面保護層を順次に積層し、更
に、上記の層上あるいは層間のいずれかに、少なくと
も、防汚層、紫外線遮蔽層、または、耐候性層の１層あ
るいはそれ以上を積層し、一体化したことを特徴とする
太陽電池モジュ−ルに関するものである。

【０００７】

【発明の実施の形態】上記の本発明について図面等を用
いて以下に更に詳細に説明する。まず、本発明にかかる
太陽電池モジュ−ルについて図面等を用いて説明する
と、図１は、本発明にかかる保護層付太陽電池素子を使
用して製造した太陽電池モジュ−ルの層構成についてそ
の一例を示す概略的断面図である。

【０００８】まず、本発明にかかる太陽電池モジュ−ル
は、図１に示すように、まず、太陽電池素子１の表面Ｐ
に、少なくとも、水蒸気、酸素ガス、充填剤層を構成す
る充填剤の劣化あるいは分解物、または、充填剤層を構
成する充填剤から溶出する添加剤の１種以上の透過を阻
止する障壁層２を設けた構成からなる保護層付太陽電池
素子３を製造し、次いで、上記で製造した保護層付太陽
電池素子３を使用し、表面保護層４、充填剤層５、保護
層付太陽電池素子３、充填剤層５、裏面保護層６の順で
順次に積層し、更に、例えば、上記の表面保護層４の上
に、少なくとも、防汚層７、紫外線遮蔽層８、または、
耐候性層９の１層あるいはそれ以上を積層し、次いで、
それらを真空吸引して加熱圧着するラミネ−ション法等
を利用して一体化した構成からなる太陽電池モジュ−ル
Ａを製造することができるものである。上記の例示は、
本発明にかかる太陽電池モジュ−ルについてその一例を
例示したものであり、本発明は、上記の例示に限定され
るものではないことは言うまでもないことである。例え
ば、本発明においては、図示しないが、本発明にかかる
太陽電池モジュ−ルにおいて、防汚層、紫外線遮蔽層、
または、耐候性層等は、個々別々に、あるいは、その一
層ないし２層以上を同時に、表面保護層、充填剤層、保
護層付太陽電池素子、充填剤層、裏面保護層のいずれの
層間あるいは層上に任意に設けることができるものであ
る。例えば゛本発明においては、図示しないが、防汚
層、耐候性層等を表面保護層の上に設け、紫外線遮蔽層
を表面保護層と充填剤層との層間に設けることができる
ものである。而して、本発明においては、防汚層は、太
陽電池モジュ−ルを構成する最表面に位置して設けるこ
とが望ましいものである。また、本発明において、図示
しないが、障壁層としては、一層のみならず２層以上の
複合膜から構成することもできるものである。更に、本
発明において、図示しないが、本発明にかかる太陽電池
モジュ−ルにおいては、必要ならば、難燃剤層、強化剤
層、その他の任意の基材等を任意に積層することができ
るものである。

【０００９】次に、本発明において、上記の本発明にか
かる太陽電池モジュ−ルを構成する材料、その製造法等
について説明すると、まず、本発明において、本発明に
かかる太陽電池モジュ−ルを構成する太陽電池素子とし
ては、従来公知のもの、例えば、単結晶シリコン型太陽
電池素子、多結晶シリコン型太陽電池素子等の結晶シリ
コン太陽電子素子、シングル接合型あるいはタンデム構
造型等からなるアモルファスシリコン太陽電池素子、ガ
リウムヒ素（ＧａＡｓ）やインジウム燐（ＩｎＰ）等の
III −V 族化合物半導体太陽電子素子、カドミウムテル
ル（ＣｄＴｅ）や銅インジウムセレナイド（ＣｕＩｎＳ
ｅ₂ ）等のII−VI族化合物半導体太陽電子素子、その他
等を使用することができる。更に、薄膜多結晶性シリコ
ン太陽電池素子、薄膜微結晶性シリコン太陽電池素子、
薄膜結晶シリコン太陽電池素子とアモルファスシリコン
太陽電池素子とのハイブリット素子等も使用することが
できる。而して、本発明において、太陽電池素子は、例
えば、ガラス基板、プラスチック基板、金属基板、その
他等の基板の上に、ｐｎ接合構造等の結晶シリコン、ｐ
−ｉ−ｎ接合構造等のアモルファスシリコン、化合物半
導体等の起電力部分が形成されて太陽電池素子を構成す
るものである。そして、本発明においては、上記の太陽
電池素子を構成する基板と反対の面、すなわち、太陽電
池素子を構成する表面部分の面に、障壁層等を形成する
ものである。

【００１０】次に、本発明において、本発明にかかる太
陽電池モジュ−ルを構成する障壁層について説明する
と、かかる障壁層としては、例えば、少なくとも、水蒸
気、酸素ガス、充填剤層を構成する充填剤の劣化ないし
分解物、あるいは、充填剤層を構成する充填剤から溶出
する添加剤等の物質の１種以上が、表面保護層、裏面保
護層、あるいは、充填剤層等を透過して太陽電池素子の
表面（太陽電子素子部分）に悪影響を与えるのを阻止す
るものであり、従って、太陽電池素子の表面に直接ある
いは直接的に設けることができ、かつ、太陽光を透過す
る性質を有し、更に、少なくとも、水蒸気、酸素ガス、
充填剤層を構成する充填剤の劣化ないし分解物、あるい
は、充填剤層を構成する充填剤から溶出する添加剤等の
物質の１種以上が透過するのを阻止し得る性質を有する
被膜を使用することができる。具体的には、本発明にお
いて、上記の障壁層としては、例えば、各種の樹脂によ
る樹脂膜、バリア性樹脂によるバリア性樹脂膜、機酸化
物の蒸着膜、無機酸化物の蒸着膜を設けた樹脂フィル
ム、ケイ素化合物の加水分解による重縮合物からなる組
成物によるコ−ティング膜、または、それらの２種以上
からなる複合膜等からなる被膜を使用することができ
る。

【００１１】まず、本発明において、上記の障壁層を構
成する樹脂による樹脂膜について更に詳しく説明する
と、かかる樹脂膜としては、例えば、ポリエチレン系樹
脂、ポリプロピレン系樹脂、環状ポリオレフィン系樹
脂、フッ素系樹脂、ポリスチレン系樹脂、アクリロニト
リル−スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）、アクリロニトリ
ルル−ブタジエン−スチレン共重合体（ＡＢＳ樹脂）、
ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、ポ
リ酢酸ビニル系樹脂、ポリビニルアルコ−ル系樹脂、エ
チレン−ビニアルコ−ル共重合体、ポリ（メタ）アクリ
ル系樹脂、ポリカ−ボネ−ト系樹脂、ポリエチレンテレ
フタレ−ト、ポリエチレンナフタレ−ト等のポリエステ
ル系樹脂、各種のナイロン等のポリアミド系樹脂、ポリ
イミド系樹脂、ポリアミドイミド系樹脂、ポリアリ−ル
フタレ−ト系樹脂、シリコ−ン系樹脂、ポリスルホン系
樹脂、ポリフェニレンスルフィド系樹脂、ポリエ−テル
スルホン系樹脂、ポリウレタン系樹脂、フェノ−ル系樹
脂、メラミン系樹脂あるいは尿素樹脂等のアミノプラス
ト系樹脂、キシレン系樹脂、エポキシ系樹脂、アセタ−
ル系樹脂、セルロ−ス系樹脂、その他等の各種の樹脂か
らなる樹脂膜を使用することができる。而して、本発明
において、上記の障壁層としての樹脂膜の形成法として
は、例えば、上記の樹脂の１種ないし２種以上を使用
し、常法により、その樹脂のフィルムないしシ−トを製
造し、次いで、該樹脂のフィルムないしシ−トを、太陽
電池素子の表面に、例えば、ラミネ−ト用接着剤層等を
介して積層するドライラミネ−ト積層法、あるいは、ア
ンカ−コ−ト剤層等を介して溶融押し出し樹脂層等を使
用して積層する溶融押し出し積層法等を用いて形成する
ことができるものである。あるいは、本発明において
は、上記の樹脂の１種ないし２種以上を使用し、これを
主成分とする樹脂組成物を調製し、次いで、太陽電池素
子の表面に、上記の樹脂組成物を、通常の塗布法ないし
印刷法等を用いて、あるいは、溶融押し出しコ−ト法等
を用いて樹脂膜を形成する方法等により、障壁層として
の樹脂膜を形成することができる。本発明において、上
記の障壁層を構成する樹脂膜の厚さとしては、１〜１０
０μｍ位、好ましくは、５〜５０μｍ位が望ましいもの
である。

【００１２】次に、本発明において、上記の障壁層を構
成するバリア性樹脂によるバリア性樹脂膜について更に
詳しく説明すると、かかるバリア性樹脂膜としては、酸
素ガスあるいは水蒸気等の透過を阻止する性質を有する
樹脂、例えば、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、ポリ塩化ビ
ニル系樹脂、ポリビニルアルコ−ル系樹脂、エチレン−
ビニアルコ−ル共重合体、ＭＸＤナイロン樹脂、ポリエ
ステル系樹脂、その他等のバリア性を有する樹脂を使用
して形成することができる。而して、本発明において、
上記のバリア性樹脂膜の形成法としては、例えば、上記
の樹脂の１種ないし２種以上を使用し、常法により、そ
の樹脂のフィルムないしシ−トを製造し、次いで、該樹
脂のフィルムないしシ−トを、太陽電池素子の表面に、
前述と同様に、例えば、ラミネ−ト用接着剤層等を介し
て積層するドライラミネ−ト積層法、あるいは、アンカ
−コ−ト剤層等を介して溶融押し出し樹脂層等を使用し
て積層する溶融押し出し積層法等を用いて形成すること
ができる。あるいは、本発明においては、上記の樹脂の
１種ないし２種以上を使用し、これを主成分とする樹脂
組成物を調製し、次いで、太陽電池素子の表面に、通常
の塗布法ないし印刷法等を用いて、あるいは、溶融押し
出しコ−ト法等を用いてバリア性樹脂層を形成すること
ができる。更に、本発明においては、上記の樹脂の１種
ないし２種以上を使用し、これを主成分とする樹脂組成
物を調製し、次いで、例えば、ポリエステル系樹脂のフ
ィルム、あるいは、ポリアミド系樹脂のフィルム等の通
常の樹脂のフィルムないしシ−トの一方の面に、上記の
樹脂組成物を、通常の塗布法ないし印刷法等を用いて、
あるいは、溶融押し出しコ−ト法等を用いてバリア性樹
脂膜を形成し、しかる後、該バリア性樹脂膜を有する樹
脂のフィルムないしシ−トを、太陽電池素子の表面に、
前述と同様のドライラミネ−ト積層法、あるいは、溶融
押し出し積層法等を用いて形成することができる。本発
明において、上記の障壁層を構成するバリア性樹脂膜の
厚さとしては、１〜１００μｍ位、好ましくは、５〜３
０μｍ位が望ましいものである。

【００１３】次にまた、本発明において、上記の障壁層
を構成する無機酸化物の蒸着膜について更に詳しく説明
すると、かかる無機酸化物の蒸着膜としては、例えば、
酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化
カルシウム、酸化カリウム、酸化スズ、酸化ホウ素、酸
化チタン、酸化鉛、酸化ジルコニウム、酸化イットリウ
ム、その他等の無機酸化物の蒸着膜を使用することがで
きる。而して、本発明において、上記の障壁層としての
無機酸化の蒸着膜を設ける方法としては、例えば、太陽
電池素子の表面に、前述と同様に、真空蒸着法、スパッ
タリング法、イオンプレ−ティング法等の物理気相成長
法（ＰｈｙｓｉｃａｌＶａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏ
ｎ法、ＰＶＤ法）、あるいは、例えば、プラズマ化学気
相成長法、熱化学気相成長法、光化学気相成長法等の化
学気相成長法（Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐ
ｏｓｉｔｉｏｎ法、ＣＶＤ法）等を用いて無機酸化物の
蒸着膜を形成して設けることができる。本発明におい
て、上記の無機酸化物の蒸着膜の厚さとしては、５０〜
５０００Å位、好ましくは、１００〜１０００Å位が望
ましいものである。

【００１４】次にまた、本発明において、上記の障壁層
を構成する無機酸化物の蒸着膜を設けた樹脂フィルムに
ついて更に詳しく説明すると、かかる無機酸化物の蒸着
膜を設けた樹脂フィルムとしては、例えば、酸化珪素、
酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化カルシウ
ム、酸化カリウム、酸化スズ、酸化ホウ素、酸化チタ
ン、酸化鉛、酸化ジルコニウム、酸化イットリウム、そ
の他等の無機酸化物の蒸着膜を設けた樹脂フィルムを使
用することができる。而して、本発明において、無機酸
化物の蒸着膜を設けた樹脂フィルムの製造法としては、
例えば、樹脂のフィルムないしシ−トの一方の面に、例
えば、前述と同様に、真空蒸着法、スパッタリング法、
イオンプレ−ティング法等の物理気相成長法、あるい
は、例えば、プラズマ化学気相成長法、熱化学気相成長
法、光化学気相成長法等の化学気相成長法等を用いて無
機酸化物の蒸着膜を形成することができる。

【００１５】具体的には、金属の酸化物を原料とし、こ
れを加熱して樹脂のフィルムないしシ−トの上に蒸着す
る真空蒸着法、または、原料として金属または金属の酸
化物を使用し、酸素を導入して酸化させて樹脂のフィル
ムないしシ−トの上に蒸着する酸化反応蒸着法、更に酸
化反応をプラズマで助成するプラズマ助成式の酸化反応
蒸着法等を用いて無機酸化物の蒸着薄膜を形成すること
ができる。上記において、蒸着材料の加熱方式として
は、例えば、抵抗加熱方式、高周波誘導加熱方式、エレ
クトロンビ−ム加熱方式（ＥＢ）等にて行うことができ
る。また、本発明においては、樹脂のフィルムないしシ
−トの一方の面に、有機珪素化合物等の蒸着用モノマ−
ガスを原料とし、キャリヤ−ガスとして、アルゴンガ
ス、ヘリウムガス等の不活性ガスを使用し、更に、蒸着
用モノマ−ガスとの反応ガスとして、酸素ガス等を使用
し、低温プラズマ発生装置等を利用する低温プラズマ化
学気相成長法（ＣＶＤ法）を用いて酸化珪素等の無機酸
化物の蒸着膜を形成することができる。上記において、
低温プラズマ発生装置としては、例えば、高周波プラズ
マ、パルス波プラズマ、マイクロ波プラズマ等の発生装
置を使用することがてき、而して、本発明においては、
高活性の安定したプラズマを得るためには、高周波プラ
ズマ方式による発生装置を使用することが望ましい。な
お、本発明において、無機酸化物の蒸着膜としては、例
えば、物理気相成長法、または、化学気相成長法、ある
いは、その両者を併用して、無機酸化物の蒸着膜の１層
からなる単層膜、無機酸化物の蒸着膜の２層以上からな
る多層膜、または、異種の無機酸化物の蒸着膜の２層以
上からなる複合膜等を形成して製造することができるも
のである。

【００１６】本発明において、物理気相成長法による無
機酸化物の薄膜膜を形成する方法について、その具体例
を挙げると、図２は、巻き取り式真空蒸着装置の一例を
示す概略的構成図である。図２に示すように、巻き取り
式真空蒸着装置２１の真空チャンバ−２２の中で、巻き
出しロ−ル２３から繰り出す樹脂のフィルムないしシ−
ト２４は、ガイドロ−ル２５、２６を介して、冷却した
コ−ティングドラム２７に案内される。而して、上記の
冷却したコ−ティングドラム２７上に案内された樹脂の
フィルムないしシ−ト２４の上に、るつぼ２８で熱せら
れた蒸着源２９、例えば、金属アルミニウム、あるい
は、酸化アルミニウム等を蒸発させ、更に、必要なら
ば、酸素ガス吹出口３０より酸素ガス等を噴出し、これ
を供給しながら、マスク３１、３１を介して、例えば、
酸化アルミニウム等の無機酸化物の蒸着膜を成膜化し、
次いで、上記において、例えば、酸化アルミニウム等の
無機酸化物の蒸着膜を形成した樹脂のフィルムないしシ
−ト２４を、ガイドロ−ル２６′、２５′を介して送り
出し、巻き取りロ−ル３２に巻き取ることによって、本
発明にかかる物理気相成長法による無機酸化物の蒸着膜
を形成することができる。なお、本発明においては、上
記のような巻き取り式真空蒸着装置を用いて、まず、第
１層の無機酸化物の蒸着膜を形成し、次いで、同様にし
て、該無機酸化物の蒸着膜の上に、更に、無機酸化物の
蒸着膜を形成するか、あるいは、上記のような巻き取り
式真空蒸着装置を用いて、これを２連に連接し、連続的
に、無機酸化物の蒸着膜を形成することにより、２層以
上の多層膜からなる無機酸化物の蒸着膜を形成すること
ができる。

【００１７】上記において、無機酸化物の蒸着膜として
は、基本的に金属の酸化物を蒸着した薄膜であれば使用
可能であり、例えば、ケイ素（Ｓｉ）、アルミニウム
（Ａｌ）、マグネシウム（Ｍｇ）、カルシウム（Ｃ
ａ）、カリウム（Ｋ）、スズ（Ｓｎ）、ナトリウム（Ｎ
ａ）、ホウ素（Ｂ）、チタン（Ｔｉ）、鉛（Ｐｂ）、ジ
ルコニウム（Ｚｒ）、イットリウム（Ｙ）等の金属の酸
化物の蒸着膜を使用することができる。而して、好まし
いものとしては、ケイ素（Ｓｉ）、アルミニウム（Ａ
ｌ）等の金属の酸化物の蒸着膜を挙げることができる。
而して、上記の金属の酸化物の蒸着膜は、ケイ素酸化
物、アルミニウム酸化物、マグネシウム酸化物等のよう
に金属酸化物として呼ぶことができ、その表記は、例え
ば、ＳｉＯ_X 、ＡｌＯ_X 、ＭｇＯ_X 等のようにＭＯ
_X （ただし、式中、Ｍは、金属元素を表し、Ｘの値は、
金属元素によってそれぞれ範囲がことなる。）で表され
る。また、上記のＸの値の範囲としては、ケイ素（Ｓ
ｉ）は、０〜２、アルミニウム（Ａｌ）は、０〜１．
５、マグネシウム（Ｍｇ）は、０〜１、カルシウム（Ｃ
ａ）は、０〜１、カリウム（Ｋ）は、０〜０．５、スズ
（Ｓｎ）は、０〜２、ナトリウム（Ｎａ）は、０〜０．
５、ホウ素（Ｂ）は、０〜１、５、チタン（Ｔｉ）は、
０〜２、鉛（Ｐｂ）は、０〜１、ジルコニウム（Ｚｒ）
は０〜２、イットリウム（Ｙ）は、０〜１．５の範囲の
値をとることができる。上記において、Ｘ＝０の場合、
完全な金属であり、透明ではなく全く使用することがで
きない、また、Ｘの範囲の上限は、完全に酸化した値で
ある。本発明において、一般的に、ケイ素（Ｓｉ）、ア
ルミニウム（Ａｌ）以外は、使用される例に乏しく、ケ
イ素（Ｓｉ）は、１．０〜２．０、アルミニウム（Ａ
ｌ）は、０．５〜１．５の範囲の値のものを使用するこ
とができる。本発明において、上記のような無機酸化物
の蒸着膜の膜厚としては、使用する金属、または金属の
酸化物の種類等によって異なるが、例えば、５０〜２０
００Å位、好ましくは、１００〜１０００Å位の範囲内
で任意に選択して形成することが望ましい。また、本発
明においては、無機酸化物の蒸着膜としては、使用する
金属、または金属の酸化物としては、１種または２種以
上の混合物で使用し、異種の材質で混合した無機酸化物
の蒸着膜を構成することもできる。

【００１８】次にまた、本発明において、具体的に、上
記の低温プラズマ化学気相成長法による無機酸化物の蒸
着膜の形成法についてその一例を例示して説明すると、
図３は、上記のプラズマ化学気相成長法による無機酸化
物の蒸着膜の形成法についてその概要を示す低温プラズ
マ化学気相成長装置の概略的構成図である。上記の図３
に示すように、本発明においては、プラズマ化学気相成
長装置４１の真空チャンバ−４２内に配置された巻き出
しロ−ル４３から樹脂のフィルムないしシ−ト４４を繰
り出し、更に、該樹脂のフィルムないしシ−ト４４を、
補助ロ−ル４５を介して所定の速度で冷却・電極ドラム
４６周面上に搬送する。而して、本発明においては、ガ
ス供給装置４７、４８および、原料揮発供給装置４９等
から酸素ガス、不活性ガス、有機珪素化合物等の蒸着用
モノマ−ガス、その他等を供給し、それらからなる蒸着
用混合ガス組成物を調整しなから原料供給ノズル５０を
通して真空チャンバ−４２内に該蒸着用混合ガス組成物
を導入し、そして、上記の冷却・電極ドラム４６周面上
に搬送された樹脂のフィルムないしシ−ト４４の上に、
グロ−放電プラズマ５１によってプラズマを発生させ、
プラズマ雰囲気下にて蒸着用混合ガスを反応させて、酸
化珪素等の無機酸化物の蒸着膜を形成し、製膜化する。
本発明においては、その際に、冷却・電極ドラム４６
は、チャンバ−外に配置されている電源５２から所定の
電力が印加されており、また、冷却・電極ドラム４６の
近傍には、マグネット５３を配置してプラズマの発生が
促進されており、次いで、上記で酸化珪素等の無機酸化
物の蒸着膜を形成した樹脂のフィルムないしシ−ト４４
は、補助ロ−ル５４を介して巻き取りロ−ル５５に巻き
取って、本発明にかかるプラズマ化学気相成長法による
無機酸化物の蒸着膜を製造することができるものであ
る。なお、図中、５６は、真空ポンプを表す。

【００１９】上記の例示は、その一例を例示するもので
あり、これによって本発明は限定されるものではないこ
とは言うまでもないことである。なお、本発明において
は、上記のような低温プラズマ化学気相成長装置を用い
て、まず、第１層の無機酸化物の蒸着膜を形成し、次い
で、同様にして、該無機酸化物の蒸着膜の上に、更に、
無機酸化物の蒸着膜を形成するか、あるいは、上記のよ
うな低温プラズマ化学気相成長装置を用いて、これを２
連に連接し、連続的に、無機酸化物の蒸着膜を形成する
ことにより、２層以上の多層膜からなる無機酸化物の蒸
着膜を形成することができる。

【００２０】上記において、酸化珪素等の無機酸化物の
蒸着膜を形成する有機珪素化合物等の蒸着用モノマ−ガ
スとしては、例えば、１．１．３．３−テトラメチルジ
シロキサン、ヘキサメチルジシロキサン、ビニルトリメ
チルシラン、メチルトリメチルシラン、ヘキサメチルジ
シラン、メチルシラン、ジメチルシラン、トリメチルシ
ラン、ジエチルシラン、プロピルシラン、フェニルシラ
ン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシ
ラン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、
フェニルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラ
ン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、その他等を
使用することができる。本発明において、上記のような
有機珪素化合物の中でも、１．１．３．３−テトラメチ
ルジシロキサン、または、ヘキサメチルジシロキサンを
原料として使用することが、その取り扱い性、形成され
た蒸着膜の特性等から、特に、好ましい原料である。ま
た、上記において、不活性ガスとしては、例えば、アル
ゴンガス、ヘリウムガス等を使用することができる。

【００２１】本発明において、上記で形成される酸化珪
素の蒸着膜は、有機珪素化合物等のモノマ−ガスと酸素
ガス等とが化学反応し、その反応生成物がプラスチック
シ−トの上に密接着し、緻密な、柔軟性等に富む薄膜を
形成することができ、通常、一般式ＳｉＯ_X （ただし、
Ｘは、０〜２の数を表す）で表される酸化珪素を主体と
する連続状の蒸着膜である。而して、上記の酸化珪素の
蒸着膜としては、透明性、バリア性等の点から、一般式
ＳｉＯ_X （ただし、Ｘは、１．３〜１．９の数を表
す。）で表される酸化珪素の蒸着膜を主体とする薄膜で
あることが好ましいものである。上記において、Ｘの値
は、モノマ−ガスと酸素ガスのモル比、プラズマのエネ
ルギ−等により変化するが、一般的に、Ｘの値が小さく
なればガス透過度は小さくなるが、膜自身が黄色性を帯
び、透明性が悪くなる。また、上記の酸化珪素の蒸着膜
は、珪素（Ｓｉ）と酸素（Ｏ）を必須構成元素として有
し、更に、炭素（Ｃ）と水素（Ｈ）のいずれが一方、ま
たは、その両者の元素を微量構成元素として含有する酸
化珪素の蒸着膜からなり、かつ、その膜厚が、５０Å〜
５００Åの範囲であり、更に、上記の必須構成元素と微
量構成元素の構成比率が、膜厚方向において連続的に変
化しているものである。更に、上記の酸化珪素の蒸着膜
は、炭素からなる化合物を含有する場合には、その膜厚
の深さ方向において炭素の含有量が減少していることを
特徴とするものである。

【００２２】而して、本発明において、上記の酸化珪素
の蒸着膜について、例えば、Ｘ線光電子分光装置（Ｘｒ
ａｙ Ｐｈｏｔｏｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｓｐｅｃｔｒｏｓ
ｃｏｐｙ、ＸＰＳ）、二次イオン質量分析装置（Ｓｅｃ
ｏｎｄａｒｙ Ｉｏｎ Ｍａｓｓ Ｓｐｅｃｔｒｏｓｃ
ｏｐｙ、ＳＩＭＳ）等の表面分析装置を用い、深さ方向
にイオンエッチングする等して分析する方法を利用し
て、酸化珪素の蒸着膜の元素分析を行うことより、上記
のような物性を確認することができる。また、本発明に
おいて、上記の酸化珪素の蒸着膜の膜厚としては、膜厚
５０Å〜２０００Å位であることが望ましく、具体的に
は、その膜厚としては、１００〜１０００Å位が望まし
く、而して、上記において、１０００Å、更には、２０
００Åより厚くなると、その膜にクラック等が発生し易
くなるので好ましくなく、また、１００Å、更には、５
０Å未満であると、バリア性の効果を奏することが困難
になることから好ましくないものである。上記のおい
て、その膜厚は、例えば、株式会社理学製の蛍光Ｘ線分
析装置（機種名、ＲＩＸ２０００型）を用いて、ファン
ダメンタルパラメ−タ−法で測定することができる。ま
た、上記において、上記の酸化珪素の蒸着膜の膜厚を変
更する手段としては、蒸着膜の体積速度を大きくするこ
と、すなわち、モノマ−ガスと酸素ガス量を多くする方
法や蒸着する速度を遅くする方法等によって行うことが
できる。

【００２３】ところで、本発明において、本発明にかか
る無機酸化物の蒸着膜として、例えば、物理気相成長法
と化学気相成長法の両者を併用して異種の無機酸化物の
蒸着膜の２層以上からなる複合膜を形成して使用するこ
ともできるものである。而して、上記の異種の無機酸化
物の蒸着膜の２層以上からなる複合膜としては、まず、
樹脂のフィルムないしシ−トの上に、化学気相成長法に
より、緻密で、柔軟性に富み、比較的にクラックの発生
を防止し得る無機酸化物の蒸着膜を設け、次いで、該無
機酸化物の蒸着膜の上に、物理気相成長法による無機酸
化物の蒸着膜を設けて、２層以上からなる複合膜からな
る無機酸化物の蒸着膜を構成することが望ましいもので
ある。勿論、本発明においては、上記とは逆くに、樹脂
のフィルムないしシ−トの上に、先に、物理気相成長法
により、無機酸化物の蒸着膜を設け、次に、化学気相成
長法により、緻密で、柔軟性に富み、比較的にクラック
の発生を防止し得る無機酸化物の蒸着膜を設けて、２層
以上からなる複合膜からなる無機酸化物の蒸着膜を構成
することもできるものである。なお、本発明において
は、後述する充填剤層等との密接着性、親和性等を向上
させるために、無機酸化物の蒸着膜面に、例えば、気体
をア−ク放電により電離させることにより生じるプラズ
マガスを利用して表面改質を行なうプラズマ表面処理法
等を利用してプラズマ処理面、あるいは、コロナ放電処
理法等を利用してコロナ処理面等を形成することができ
るものである。

【００２４】次に、本発明において、上記の無機酸化物
の蒸着膜を設けた樹脂フィルムを構成する樹脂フィルム
としては、基本的には、無機酸化物の蒸着膜等を形成す
る際の蒸着条件等に耐え、かつ、それらの無機酸化物の
蒸着膜等との密接着性に優れ、それらの膜の特性を損な
うことなく良好に保持し得ることができ、また、基材と
しての強度、耐久性等に優れた各種の樹脂のフィルムな
いしシ−トを使用することができる。具体的には、上記
の各種の樹脂のフィルムないしシ−トとしては、例え
ば、ポリエチレン系樹脂、ポリプロピレン系樹脂、環状
ポリオレフィン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、アクリロ
ニトリル−スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）、アクリロニ
トリルル−ブタジエン−スチレン共重合体（ＡＢＳ樹
脂）、ポリ塩化ビニル系樹脂、フッ素系樹脂、ポリ（メ
タ）アクリル系樹脂、ポリカ−ボネ−ト系樹脂、ポリエ
チレンテレフタレ−ト、ポリエチレンナフタレ−ト等の
ポリエステル系樹脂、各種のナイロン等のポリアミド系
樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリアミドイミド系樹脂、ポ
リアリ−ルフタレ−ト系樹脂、シリコ−ン系樹脂、ポリ
スルホン系樹脂、ポリフェニレンスルフィド系樹脂、ポ
リエ−テルスルホン系樹脂、ポリウレタン系樹脂、アセ
タ−ル系樹脂、セルロ−ス系樹脂、その他等の各種の樹
脂のフィルムないしシ−トを使用することができる。本
発明においては、上記の樹脂のフィルムないしシ−トの
中でも、フッ素系樹脂シ−ト、環状ポリオレフィン系樹
脂シ−ト、ポリカ−ボネ−ト系樹脂シ−ト、ポリ（メ
タ）アクリル系樹脂シ−ト、ポリアミド系樹脂シ−ト、
または、ポリエステル系樹脂シ−トを使用することが好
ましいものである。

【００２５】本発明において、上記の各種の樹脂のフィ
ルムないしシ−トとしては、例えば、上記の各種の樹脂
の１種ないしそれ以上を使用し、押し出し法、キャスト
成形法、Ｔダイ法、切削法、インフレ−ション法、その
他等の製膜化法を用いて、上記の各種の樹脂を単独で製
膜化する方法、あるいは、２種以上の各種の樹脂を使用
して多層共押し出し製膜化する方法、更には、２種以上
の樹脂を使用し、製膜化する前に混合して製膜化する方
法等により、各種の樹脂のフィルムないしシ−トを製造
し、更に、要すれば、例えば、テンタ−方式、あるい
は、チュ−ブラ−方式等を利用して１軸ないし２軸方向
に延伸してなる各種の樹脂のフィルムないしシ−トを使
用することができる。本発明において、各種の樹脂のフ
ィルムないしシ−トの膜厚としては、６〜３００μｍ
位、より好ましくは、１０〜２００μｍ位が望ましい。

【００２６】なお、上記において、上記の各種の樹脂の
１種ないしそれ以上を使用し、その製膜化に際して、例
えば、フィルムの加工性、耐熱性、耐候性、機械的性
質、寸法安定性、抗酸化性、滑り性、離形性、難燃性、
抗カビ性、電気的特性、その他等を改良、改質する目的
で、種々のプラスチック配合剤や添加剤等を添加するこ
とができ、その添加量としては、極く微量から数十％ま
で、その目的に応じて、任意に添加することができる。
また、上記において、一般的な添加剤としては、例え
ば、滑剤、架橋剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定
剤、充填剤、強化剤、補強剤、帯電防止剤、難燃剤、耐
炎剤、発泡剤、防カビ剤、顔料、その他等を使用するこ
とができ、更には、改質用樹脂等も使用することがてき
る。

【００２７】また、本発明において、各種の樹脂のフィ
ルムないしシ−トの表面は、無機酸化物の蒸着膜等との
密接着性等を向上させるために、必要に応じて、予め、
所望の表面処理層を設けることができる。本発明におい
て、上記の表面処理層としては、例えば、コロナ放電処
理、オゾン処理、酸素ガス若しくは窒素ガス等を用いた
低温プラズマ処理、グロ−放電処理、化学薬品等を用い
て処理する酸化処理、その他等の前処理を任意に施し、
例えば、コロナ処理層、オゾン処理層、プラズマ処理
層、酸化処理層、その他等を形成して設けることができ
る。上記の表面前処理は、別工程で実施してもよく、ま
た、例えば、低温プラズマ処理やグロ−放電処理等によ
る表面前処理の場合は、上記の無機酸化物の蒸着膜等を
形成する前処理としてインライン処理により前処理で行
うことができ、このような場合は、その製造コストを低
減することができるという利点がある。上記の表面前処
理は、各種の樹脂のフィルムないしシ−トと無機酸化物
の蒸着膜等との密接着性を改善するための方法として実
施するものであるが、上記の密接着性を改善する方法と
して、その他、例えば、各種の樹脂のフィルムないしシ
−トの表面に、予め、プライマ−コ−ト剤層、アンダ−
コ−ト剤層、アンカ−コ−ト剤層、接着剤層、あるい
は、蒸着アンカ−コ−ト剤層等を任意に形成して、表面
処理層とすることもできる。上記の前処理のコ−ト剤層
としては、例えば、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系
樹脂、ポリウレタン系樹脂、エポキシ系樹脂、フェノ−
ル系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、ポリ酢酸ビニル系
樹脂、ポリエチレンあるいはポリプロピレン等のポリオ
レフィン系樹脂あるいはその共重合体ないし変性樹脂、
セルロ−ス系樹脂、その他等をビヒクルの主成分とする
樹脂組成物を使用することができる。

【００２８】而して、本発明においては、上記の無機酸
化物の蒸着膜を設けた樹脂フィルムを使用し、これを、
例えば、太陽電池素子の表面に、前述と同様に、ラミネ
−ト用接着剤層等を介して積層するドライラミネ−ト積
層法、あるいは、アンカ−コ−ト剤層等を介して溶融押
し出し樹脂層等を使用して積層する溶融押し出し積層法
等を用いて積層して、障壁層としての無機酸化物の蒸着
膜を設けた樹脂フィルムを太陽電池素子の表面に形成す
ることができる。

【００２９】次にまた、本発明において、上記の障壁層
を構成するケイ素化合物の加水分解による重縮合物から
なる組成物によるコ−ティング膜について更に詳しく説
明すると、かかるコ−ティング膜を形成するには、ま
ず、ケイ素化合物を主成分とし、その原料をそのまま、
または、エタノ−ルやイソプロパノ−ルのような適当な
溶剤に溶解し、それを化学量論的に必要な水、好ましく
は、１部または数部過剰の水と接触させて加水分解を行
い、該加水分解による重縮合物からなる組成物を調製す
る。上記の加水分解は、一般に、−２０〜１３０℃、好
ましくは、０℃〜３０℃の温度、あるいは、選択的に使
用する溶剤の沸点等において行うことが好ましい。ま
て、上記において、水と接触させる最良の方法として
は、とりわけ、使用する原料の反応性により異なる。そ
のため、例えば、溶解した原料を過剰の水にゆっくりと
滴下することもできるし、あるいは、水を選択的に溶解
した原料に一度に、または、数回に分けて加えることも
できる。また、水をそのまま加えるのではなく、その代
わりに、水を含む有機系あるいは無機系溶剤を使用し、
水を反応混合物に導入するのも有利である。多くの場
合、水分を含む吸着材、例えば、分子ふるい、および、
水を含む有機溶剤、例えば、３０％濃度のエタノ−ルを
使って水を反応混合物に導入するのが特にていしている
ことが分かっている。また、水が形成される反応、例え
ば、酸とアルコ−ルからエステルを形成する反応により
水を加えることができる。溶剤を使用する場合は、上記
の、効果的に使用できる低級脂肪族アルコ−ルの他に、
ケトン類、好ましくはアセトンやメチルイソブチルケト
ンのような低級ジアルキルケトン類、エステル類、好ま
しくはジエチルエ−テルのような低級ジアルキルエ−テ
ル、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、アミド類、エステ
ル類、特に、酢酸エチル、ジメチルホルムアミドおよび
それらの混合物が適している。

【００３０】上記の 加水分解による重縮合は、選択的
に、触媒、例えば、プロトンまたはヒドロキシルイオン
を放出する化合物、または、アミン類を加えて行うこと
ができる。適当な触媒の暦としては、塩酸や酢酸のよう
な有機または無機酸、アンモニア、アルカリ金属水酸化
物およびアルカリ土類金属水酸化物、例えば、水酸化ナ
トリウム、水酸化カリウム、または、水酸化カルシウム
のような有機、または、無機塩類、および、反応媒体に
可溶なアミン類、例えば、低級アルキルアミン類または
アルタノ−ルアミン類がある。揮発性の酸および塩基、
特に、塩酸、アンモニアおよびトリエチルアミンが特に
好ましい。触媒の全濃度は、例えば、１リットル当たり
３モルまででよい。原料化合物のすべてが加水分解（重
縮合）開始時に既に存在している必要はなく、実際、特
定の場合には、これらの化合物の一部だけを最初に水と
接触させ、残りの化合物は、、後で加えるのが有利であ
ることがある。加水分解による重縮合の際に沈殿をでき
るだけ避けるために、水を何段階かに、例えば、３段階
に分けて加えるのが好ましい。第一段階では、例えば、
加水分解による化学量論的に必要な水の量の十分の一か
ら二十分の一を加える。短時間の攪拌後、化学量論的量
の水の五分の一から十分の一を加え、さらに短時間攪拌
後、最終的に化学量論的にやや過剰の水が存在するよう
な量の水を加える。加水分解による重縮合時間は、特定
の原料成分およびその量的比率、選択的に使用する触
媒、反応温度、等により異なる。一般的に、加水分解に
よる重縮合は大気圧で行うが、加圧または減圧下で行う
こともできる。水の添加が完了したら、混合物を好まし
くは長時間、例えば、２〜３時間、室温またはやや高い
温度で攪拌して、ケイ素化合物の加水分解による重縮合
物からなる組成物を調製する。

【００３１】次に、本発明においては、上記で調整した
組成物を、例えば、フロ−ティングナイフコ−ト法、ナ
イフオ−バ−ロ−ルコ−ト法、インバ−ティドナイフコ
−ト法、スクイ−ズロ−ルコ−ト法、リバ−スロ−ルコ
−ト法、ロ−ルコ−ト法、グラビアロ−ルコ−ト法、キ
スロ−ルコ−ト法、エア−ブレ−ドコ−ト法、ディップ
コ−ト法、フロ−コ−ト法、スピンコ−ト法、スプレイ
コ−ト法、バ−コ−ト法、カ−テンフロ−コ−ト法、そ
の他等のコ−ティング法、あるいは、グラビア印刷、オ
フセット印刷、シルクスクリ−ン印刷、転写印刷、その
他等の印刷法を用いて、太陽電池素子の表面に塗布ない
し印刷し、次いで、乾燥、更には、エ−ジング処理等を
施して、本発明にかかるコ−ティング膜を形成すること
ができるものである。上記において、コ−ティング膜の
膜厚としては、０．１〜７５ｇ／ｍ² （乾燥状態）位、
より好ましくは、１．０〜５０ｇ／ｍ² （乾燥状態）位
が望ましい。

【００３２】なお、本発明において、上記のケイ素化合
物の加水分解による重縮合物からなる組成物によるコ−
ティング膜を熱的手段あるいは電離放射線等を照射して
硬化させる場合には、ケイ素化合物の加水分解による重
縮合物からなる組成物中に、予め、開始剤等を添加して
おくことが好ましいものである。上記の開始剤として
は、市販の光重合反応開始剤を使用することができる。
これらの開始剤の例としては、例えば、スイス、チバガ
イギ−社製のイルガキュア１８５（１−ヒドロキシシク
ロヘキシル フェニル ケトン）、イルガキュア５００
（１−ヒドロキシシクロヘキシル フェニル ケトン＋
ベンゾフェノン）、および、その他のイルガキュア型の
光反応開始剤、グロキュア１１７３、１１１６、１３９
６、１１７４および１０２０（スイス、メルク社製）、
ベンゾフェノン、２−クロロチオキサントン、２−メチ
ルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、
ベンゾイン、４．４′−ジメトキシベンゾイン、ベンゾ
イン エチル エ−テル、ベンゾイン イソプロピル
エ−テル、ベンゾイン ジメチル エ−テル、１．１．
１−トリクロロアセトフェノン、ジエトキシアセトフェ
ノンおよびジベンゾスベロンを使用することができる。
適当な熱反応開始剤は、特に、過酸化ジアシル、ペルオ
キシニ炭酸塩、アルキルペルエステル、過酸化ジアルキ
ル、ペルケタ−ル、過酸化ケトンおよびアルキルペルオ
キシドの形の有機性過酸化物を使用することができる。
熱的反応開始剤の特定の、および、好ましい例として
は、過酸化ジベンゾイル、過安息香ｔｅｒｔ−ブチルお
よびアゾビスイソブチロニトリルを使用することができ
る。勿論、イオン重合反応を開始する開始剤の使用も可
能である。特に、エポキシ基を持つ基Ｒ′（例えば、グ
リシジルオキシプロピルトリメトキシシラン）を含む、
後述する一般式（１）で示す化合物では、陽イオン重合
反応を開始させるＵＶ開始剤が有効であることが分かっ
ている。これらの場合、同じ条件下で陽イオンによる硬
化結果は、フリ−ラジカル開始剤による硬化より良いこ
とが多いものである。反応開始剤は、通常の量で、組成
物中に添加することができ、例えば、３０〜５０重量％
の固形分を含む組成物中には、０．５〜２重量％（全量
に対して）の量で開始剤を加えることができる。

【００３３】また、本発明において、コ−ティング膜の
硬化方法としては、塗布ないし印刷後、乾燥してから硬
化させるものである。次いで、使用した開始剤の形に応
じて、コ−ティング膜を熱的、または、照射により（例
えば、紫外線ランプ、レ−ザ−、等を使用して）公知の
方法で硬化させることができる。後述するエポキシ基を
持つ基Ｒ′を含むコ−ティング膜の場合には、熱的硬化
が特に有利であり、一方、不飽和Ｃ−Ｃ結合を持つ基
Ｒ′を含むコ−ティング膜の場合には、照射による硬化
が、通常、より有利であることが分かっている。

【００３４】ところで、本発明において、上記のケイ素
化合物としては、一般式Ｒ′ＳｉＲ ₃ （ただし、式中、
Ｒ′は、加水分解に対して安定で、熱および／または電
離放射線の照射により重合可能な基を表し、Ｒは、ＯＨ
基および／または加水分解を受けやすい基を表す。）で
表されるケイ素化合物の１種ないし２種以上を使用する
ことができる。上記において、一般式Ｒ′ＳｉＲ₃ 中の
Ｒ′が、エポキシ原子団、または、Ｃ−Ｃの二重結合を
持つ原子団を含む基からなることが望ましいものであ
る。上記のエポキシ原子団を含む基としては、具体的に
は、グリシジルオキシアルキル基、特に、アルキル部分
に１〜４個の炭素原子団を持つ基であり、特に好ましい
例としては、γ−グリシジルオキシプロピル基を使用こ
とができる。また、上記において、一般式Ｒ′ＳｉＲ₃
中のＲ′が、Ｃ−Ｃの二重結合を持つ原子団を含む基と
しては、選択的に置換したアルケニルおよびアルキニル
基で、例えば、２〜２０個の、好ましくは、２〜１０個
の炭素原子および少なくとも一つのＣ−Ｃ二重結合を持
つ直鎖、側鎖または環状基で、特に、ビニル、１−およ
び２−プロペニル、ブテニル、イソブテニル、スチレル
およびプロパルギルのような低級アルケニル基、およ
び、アルキニル基、あるいは、メタクリル基またはアク
リル基を含む原子団を含む基を使用することが特に好ま
しいものである。

【００３５】次に、 上記において、一般式Ｒ′ＳｉＲ
₃ 中のＲの例としては、例えば、水素、ハロゲン、アル
コキシ、ヒドロキシル、アルキニルカルボニル等を使用
することができる。本発明において、特に好ましい具体
例としては、例えば、メトキシ、エトキシ、ｎ−および
ｉ−プロポキシ、ｎ−、ｓｅｃ−およびｔｅｒｔ−ブト
キシ、イソブトキシ、β−メトキシエトキシ、アセチル
オキシ、プロピオニルオキシ、モノメチルアミノ、モノ
エチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、Ｎ−
エチルアニリノ、メチルカルボニル、エチルカルボニ
ル、メトキシカルボニルおよびエトキシカルボニル等を
例示することがてきる。なお、本発明において、一般式
Ｒ′ＳｉＲ₃ 中のＲ基は、最終生成物の中には存在せ
ず、加水分解により失われ、その加水分解生成物もすぐ
に、または、後に適当な方法で除去しなければならない
ので、置換基を持たず、メタノ−ル、エタノ−ル、プロ
パノ−ルおよびブタノ−ル等の低級アルコ−ル類のよう
な、低分子量の加水分解物を生じるようなＲ基が特に好
ましいものである。

【００３６】本発明においては、一般式Ｒ′ＳｉＲ₃ で
表されるケイ素化合物は、全部またはその一部を予備縮
合の形で、即ち、一般式Ｒ′ＳｉＲ₃ で表されるケイ素
化合物の部分加水分解物により生じた化合物を単独で、
または、後述する一般式で表される有機金属化合物のよ
うな他の加水分解性化合物と混合して使用することがで
きる。そのようなオリゴマ−は、好ましくは反応媒体に
可溶で、直鎖または環状の、低分子量の、縮合度が、例
えば、薬２〜１００、特に、約２〜６である部分縮合物
（ポリオルガノシロキサン）を使用することが好まし
い。本発明において、効果的に使用される一般式Ｒ′Ｓ
ｉＲ₃ で表されるケイ素化合物の特定の例としては、γ
−（メタ）アクリルオキシプロピルトリメトキシシラ
ン、ビニルトリクロロシラン、ビニルトリメトキシシラ
ン、ビニルトリエトキシシランおよびビニルトリス（β
−メトキシエトキシ）シラン、および、γ−グリシジル
オキシプロピルトリメトキシシラン等を挙げることがで
きる。

【００３７】次に、本発明においては、上記の一般式
Ｒ′ＳｉＲ₃ で表されるケイ素化合物は、好ましくは単
独で使用せず、ガラスやセラミックスを形成するのに一
般的に使用する一般式ＭＲ_n （ただし、式中、Ｍは、ケ
イ素、アルミニウム、チタン、ジルコニウム、バナジウ
ム、ホウ素、または、スズから選ばれた元素を表し、Ｒ
は、ＯＨ基および／または加水分解を受けやすい基を表
し、ｎは、金属元素の価数を表す。）で表される有機金
属化合物の１種ないし２種以上を混合し、これらの化合
物の加水分解、好ましくは完全加水分解により、相当す
る酸化物の水和物に転換して使用することができる。上
記の一般式ＭＲ_n で表される有機金属化合物において、
金属元素としては、例えば、ケイ素、アルミニウム、チ
タン、ジルコニウム、バナジウム、ホウ素、スズ等を使
用することができ、勿論、本発明においては、ここに記
載されていない他の元素の化合物も使用することができ
る。また、上記の一般式ＭＲ_n で表される有機金属化合
物において、Ｒとしては、同一でも異なっていても良
く、好ましい形態における意味を含めて前述の一般式
Ｒ′ＳｉＲ₃ で表されるケイ素化合物の場合におけるＲ
と同じように定義することができる。本発明において、
上記の一般式ＭＲ_n で表される有機金属化合物は、前述
の一般式Ｒ′ＳｉＲ₃ で表されるケイ素化合物と、モル
比で１：９９〜９９：１の割合で好ましく混合させて使
用することが可能である。

【００３８】更に、本発明においては、本発明にかかる
コ−ティング膜を形成するには、上記の一般式Ｒ′Ｓｉ
Ｒ₃ で表されるケイ素化合物と一般式ＭＲ_n で表される
有機金属化合物との他に、バインダ−成分として、水素
結合形成基を有する樹脂の１種ないし２種以上を添加、
混合することもできる。上記の水素結合形成基を有する
樹脂としては、例えば、ヒドロキシル基を有するポリマ
−とその誘導体、例えば、ポリビニルアルコ−ル、ポリ
ビニルアセタ−ル、エチレン−ビニルアルコ−ル共重合
体、フェノ−ル樹脂、メチロ−ルメラミン樹脂等とその
誘導体、カルボキシル基を有するポリマ−とその誘導
体、例えば、ポリ（メタ）アクリル酸、無水マレイン
酸、イタコン酸等の重合性不飽和酸の単位を含む単独ま
たは共重合体と、これらのポリマ−のエステル化物等、
例えば、酢酸ビニル等のビニルエステル、メタクリル酸
メチル等の（メタ）アクリル酸エステル等の単位を含む
単独または共重合体、エ−テル結合を有するポリマ−、
例えば、ポリアルキレンオキシド、ポリオキシアルキレ
ングリコ−ル、ポリビニルエ−テル等の他、ケイ素樹脂
等、アミド結合を有するポリマ−、例えば、＞Ｎ（ＣＯ
Ｒ）−結合（式中、Ｒは、水素原子、置換基を有しても
よいアルキル基、置換基を有してもよいアリ−ル基を示
す）を有するポリオキサゾリンやポリアルキレンイミン
のＮ−アシル化物、＞ＮＣ（Ｏ）−結合を有するポリビ
ニルピロリドンとその誘導体、ウレタン結合を有するポ
リウレタン、尿素結合を有するポリマ−、アミド結合を
有するポリマ−等を使用しにることがてきる。而して、
本発明において、上記の水素結合形成基を有する樹脂
は、前述の一般式Ｒ′ＳｉＲ₃ で表されるケイ素化合物
と一般式ＭＲ_n で表される有機金属化合物との混合物に
対し、重量比で１：９９〜９９：１の割合で、好ましく
は、５〜３０の割合で混合させて使用することが可能で
ある。

【００３９】更にまた、本発明において、上記の障壁層
としては、上述した各種の樹脂による樹脂膜、バリア性
樹脂によるバリア性樹脂膜、無機酸化物の蒸着膜、無機
酸化物の蒸着膜を設けた樹脂フィルム、または、ケイ素
化合物の加水分解による重縮合物からなる組成物による
コ−ティング膜の２種以上からなる複合膜等からなる被
膜を使用することができる。具体的には、例えば、上述
した各種の樹脂による樹脂膜、バリア性樹脂によるバリ
ア性樹脂膜、無機酸化物の蒸着膜、または、無機酸化物
の蒸着膜を設けた樹脂フィルムの無機酸化物の蒸着膜の
上に、ケイ素化合物の加水分解による重縮合物からなる
組成物によるコ−ティング膜を設けた２種以上からなる
複合膜等からなる被膜を使用することができる。なお、
本発明においては、無機酸化物の蒸着膜を設けた樹脂フ
ィルム等においては、無機酸化物の蒸着膜と樹脂フィル
ムとの２種以上からなる複合膜とし、これを２種以上か
らなる複合膜からなる被膜とみなすこともできるもので
ある。

【００４０】次にまた、上記の障壁層を設ける方法にお
いて、上記のドライラミネ−ト積層法におけるラミネ−
ト用接着剤層を構成するラミネ−ト用接着剤としては、
例えば、ポリ酢酸ビニル系接着剤、アクリル酸のエチ
ル、ブチル、２−エチルヘキシルエステル等のホモポリ
マ−、あるいは、これらとメタクリル酸メチル、アクリ
ロニトリル、スチレン等との共重合体等からなるポリア
クリル酸エステル系接着剤、シアノアクリレ−ト系接着
剤、エチレンと酢酸ビニル、アクリル酸エチル、アクリ
ル酸、メタクリル酸等のモノマ−との共重合体等からな
るエチレン共重合体系接着剤、セルロ−ス系接着剤、ポ
リエステル系接着剤、ポリアミド系接着剤、ポリイミド
系接着剤、尿素樹脂またはメラミン樹脂等からなるアミ
ノ樹脂系接着剤、フェノ−ル樹脂系接着剤、エポキシ系
接着剤、ポリウレタン系接着剤、反応型（メタ）アクリ
ル系接着剤、クロロプレンゴム、ニトリルゴム、スチレ
ン−ブタジエンゴム等からなるゴム系接着剤、シリコ−
ン系接着剤、アルカリ金属シリケ−ト、低融点ガラス等
からなる無機系接着剤、その他等の接着剤を使用するこ
とがてきる。上記の接着剤の組成系は、水性型、溶液
型、エマルジョン型、分散型等のいずれの組成物形態で
もよく、また、その性状は、フィルム・シ−ト状、粉末
状、固形状等のいずれの形態でもよく、更に、接着機構
については、化学反応型、溶剤揮発型、熱溶融型、熱圧
型等のいずれの形態でもよいものである。而して、上記
の接着剤は、例えば、ロ−ルコ−ト法、グラビアロ−ル
コ−ト法、キスコ−ト法、その他等のコ−ト法、あるい
は、印刷法等によって施すことができ、そのコ−ティン
グ量としては、０．１〜１０ｇ／ｍ² （乾燥状態）位が
望ましい。

【００４１】なお、上記のラミネ−ト用接着剤中には、
紫外線劣化等を防止するために、紫外線吸収剤および／
または酸化防止剤を添加することができる。上記の紫外
線吸収剤としては、太陽光中の有害な紫外線を吸収し
て、分子内で無害な熱エネルギ−へと変換し、高分子中
の光劣化開始の活性種が励起されるのを防止するもので
あり、例えば、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾ−ル
系、サルチレ−ト系、アクリルニトリル系、金属錯塩
系、ヒンダ−ドアミン系、超微粒子酸化チタン（粒子
径、０．０１〜０．０６μｍ）あるいは超微粒子酸化亜
鉛（０．０１〜０．０４μｍ）等の無機系等の紫外線吸
収剤の１種ないしそれ以上を使用することができる。ま
た、上記の酸化防止剤としては、前述の高分子の光劣化
あるいは熱劣化等を防止するものであり、例えば、フェ
ノ−ル系、アミン系、硫黄系、燐酸系、その他等の酸化
防止剤を使用することができる。更に、上記の紫外線吸
収剤あるいは酸化防止剤としては、例えば、ポリマ−を
構成する主鎖または側鎖に、上記のベンゾフェノン系等
の紫外線吸収剤あるいは上記のフェノ−ル系等の酸化防
止剤を化学結合させてなるポリマ−型の紫外線吸収剤あ
るいは酸化防止剤等も使用することができる。上記の紫
外線吸収剤および／または酸化防止剤の含有量として
は、その粒子形状、密度等によって異なるが、約０．１
〜１０重量％位が好ましい。

【００４２】また、上記の障壁層を設ける方法における
溶融押し出し積層法において、より強固な接着強度を得
るために、例えば、アンカ−コ−ト剤等の接着助剤等を
使用し、そのアンカ−コ−ト剤層を介して、積層するこ
とができる。上記のアンカ−コ−ト剤としては、例え
ば、アルキルチタネ−ト等の有機チタン系、イソシアネ
−ト系、ポリエチレンイミン系、ポリプタジエン系、そ
の他等の水性ないし油性の各種のアンカ−コ−ト剤を使
用することができる。上記のアンカ−コ−ト剤は、例え
ば、ロ−ルコ−ト、グラビアロ−ルコ−ト、キスコ−
ト、その他等のコ−ティング法を用いてコ−ティングす
ることができ、そのコ−ティング量としては、０．１〜
５ｇ／ｍ² （乾燥状態）位が望ましい。

【００４３】なお、本発明において、上記の障壁層を設
ける際に、その密接着性を改善するために、更に、例え
ば、予め、プライマ−コ−ト剤層等を任意に形成して、
表面処理層とすることもできる。上記のプライマ−コ−
ト剤としては、例えば、ポリエステル系樹脂、ポリアミ
ド系樹脂、ポリウレタン系樹脂、エポキシ系樹脂、フェ
ノ−ル系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、ポリ酢酸ビニ
ル系樹脂、ポリエチレンあるいはポリプロピレン等のポ
リオレフィン系樹脂あるいはその共重合体ないし変性樹
脂、セルロ−ス系樹脂、その他等をビヒクルの主成分と
する樹脂組成物を使用することができる。なお、本発明
においては、例えば、ロ−ルコ−ト、グラビアロ−ルコ
−ト、キスコ−ト、その他等のコ−ティング法を用いて
コ−ティングしてプライマ−コ−ト剤層を形成すること
ができ、而して、そのコ−ティング量としては、０．１
〜５ｇ／ｍ² （乾燥状態）位が望ましい。

【００４４】次に、本発明において、太陽電池モジュ−
ルを構成する表面保護層について説明すると、かかる表
面保護層としては、太陽光の透過性、絶縁性等を有し、
更に、耐候性、耐熱性、耐光性、耐水性、耐風圧性、耐
降雹性、耐薬品性、防湿性、防汚性、その他等の諸特性
を有し、物理的あるいは化学的強度性、強靱性等に優
れ、極めて耐久性に富み、更に、光起電力素子としての
太陽電池素子の保護とういことから、耐スクラッチ性、
衝撃吸収性等に優れていることが必要である。上記の表
面保護層としては、具体的には、例えば、公知のガラス
板等は勿論のこと、更に、例えば、フッ素系樹脂、ポリ
アミド系樹脂（各種のナイロン）、ポリエステル系樹
脂、ポリエチレン系樹脂、ポリプロピレン系樹脂、環状
ポリオレフィン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、（メタ）
アクリル系樹脂、ポリカ−ボネ−ト系樹脂、アセタ−ル
系樹脂、セルロ−ス系樹脂、その他等の各種の樹脂のフ
ィルムないしシ−トを使用することができる。上記の樹
脂のフィルムないしシ−トとしては、例えば、２軸延伸
した樹脂のフィルムないしシ−トも使用することができ
る。また、上記の樹脂のフィルムないしシ−トにおい
て、その膜厚としては、１２〜２００μｍ位、より好ま
しくは、２５〜１５０μｍ位が望ましい。

【００４５】次に、本発明において、太陽電池モジュ−
ルを構成する表面保護層の下に積層する充填剤層につい
て説明すると、かかる充填剤層としては、太陽光が入射
し、これを透過して吸収することから透明性を有するこ
とが必要であり、また、表面保護層との接着性を有する
ことも必要であり、更に、光起電力素子としての太陽電
池素子の表面の平滑性を保持する機能を果たすために熱
可塑性を有すること、更には、光起電力素子としての太
陽電池素子の保護とういことから、耐スクラッチ性、衝
撃吸収性等に優れていることが必要である。具体的に
は、上記の充填剤層としては、例えば、フッ素系樹脂、
エチレン−酢酸ビニル共重合体、アイオノマ−樹脂、エ
チレン−アクリル酸、または、メタクリル酸共重合体、
ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリエチレン
あるいはポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂をア
クリル酸、イタコン酸、マレイン酸、フマ−ル酸等の不
飽和カルボン酸で変性した酸変性ポリオレンフィン系樹
脂、ポリビニルブチラ−ル樹脂、シリコ−ン系樹脂、エ
ポキシ系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、その他等の樹
脂の１種ないし２種以上の混合物を使用することができ
る。なお、本発明においては、上記の充填剤層を構成す
る樹脂には、耐熱性、耐光性、耐水性等の耐候性等を向
上させるために、その透明性を損なわない範囲で、例え
ば、架橋剤、熱酸化防止剤、光安定剤、紫外線吸収剤、
光酸化防止剤、その他等の添加剤を任意に添加し、混合
することができるものである。而して、本発明において
は、太陽光の入射側の充填剤としては、耐光性、耐熱
性、耐水性等の耐候性を考慮すると、フッ素系樹脂、エ
チレン−酢酸ビニル系樹脂が望ましい素材である。な
お、上記の充填剤層の厚さとしては、２００〜１０００
μｍ位、好ましくは、３５０〜６００μｍ位が望まし
い。

【００４６】次に、本発明において、太陽電池モジュ−
ルを構成する太陽電池素子の下に積層する充填剤層につ
いて説明すると、かかる充填剤層としては、上記の表面
保護層の下に積層する充填剤層と同様に、裏面保護層と
の接着性を有することも必要であり、更に、光起電力素
子としての太陽電池素子の裏面の平滑性を保持する機能
を果たすために熱可塑性を有すること、更には、光起電
力素子としての太陽電池素子の保護とういことから、耐
スクラッチ性、衝撃吸収性等に優れていることが必要で
ある。しかし、上記の太陽電池モジュ−ルを構成する太
陽電池素子の下に積層する充填剤層としては、上記の表
面保護層の下に積層する充填剤層と異なり、必ずも、透
明性を有することを必要としないものである。具体的に
は、上記の充填剤層としては、前述の表面保護層の下に
積層する充填剤層と同様に、例えば、フッ素系樹脂、エ
チレン−酢酸ビニル共重合体、アイオノマ−樹脂、エチ
レン−アクリル酸、または、メタクリル酸共重合体、ポ
リエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリエチレンあ
るいはポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂をアク
リル酸、イタコン酸、マレイン酸、フマ−ル酸等の不飽
和カルボン酸で変性した酸変性ポリオレンフィン系樹
脂、ポリビニルブチラ−ル樹脂、シリコ−ン系樹脂、エ
ポキシ系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、その他等の樹
脂の１種ないし２種以上の混合物を使用することができ
る。なお、本発明においては、上記の充填剤層を構成す
る樹脂には、耐熱性、耐光性、耐水性等の耐候性等を向
上させるために、その透明性を損なわない範囲で、例え
ば、架橋剤、熱酸化防止剤、光安定剤、紫外線吸収剤、
光酸化防止剤、その他等の添加剤を任意に添加し、混合
することができるものである。なお、上記の充填剤層の
厚さとしては、２００〜１０００μｍ位、より好ましく
は、３５０〜６００μｍ位が望ましい。

【００４７】次に、本発明において、太陽電池モジュ−
ルを構成する裏面保護層について説明すると、かかる裏
面保護層としては、絶縁性の樹脂のフィルムないしシ−
ト、あるいは、金属板ないし箔等を使用することがで
き、更に、耐熱性、耐光性、耐水性等の耐候性を有し、
物理的あるいは化学的強度性、強靱性等に優れ、更に、
光起電力素子としての太陽電池素子の保護とういことか
ら、耐スクラッチ性、衝撃吸収性等に優れていることが
必要である。上記の裏面保護層としては、具体的には、
例えば、ポリアミド系樹脂（各種のナイロン）、ポリエ
ステル系樹脂、ポリエチレン系樹脂、ポリプロピレン系
樹脂、環状ポリオレフィン系樹脂、ポリスチレン系樹
脂、ポリカ−ボネ−ト系樹脂、アセタ−ル系樹脂、セル
ロ−ス系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、フッ素系樹
脂、その他等の各種の樹脂のフィルムないしシ−トを使
用することができる。上記の樹脂のフィルムないしシ−
トとしては、例えば、２軸延伸した樹脂のフィルムない
しシ−トも使用することができる。また、上記の樹脂の
フィルムないしシ−トにおいて、その膜厚としては、１
２〜２００μｍ位、より好ましくは、２５〜１５０μｍ
位が望ましい。

【００４８】なお、本発明において、本発明にかかる太
陽電池モジュ−ルを製造する際しては、その強度、耐候
性、耐スクラッチ性、その他等の諸堅牢性を向上させる
ために、その他の素材、例えば、低密度ポリエチレン、
中密度ポリエチレン、高密度ポリエチレン、線状低密度
ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−プロピレン
共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体、アイオノマ
−樹脂、エチレン−アクリル酸エチル共重合体、エチレ
ン−アクリル酸またはメタクリル酸共重合体、メチルペ
ンテンポリマ−、ポリブテン系樹脂、ポリ塩化ビニル系
樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹
脂、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合体、ポリ（メ
タ）アクリル系樹脂、ポリアクリルニトリル系樹脂、ポ
リスチレン系樹脂、アクリロニトリル−スチレン共重合
体（ＡＳ系樹脂）、アクリロニトリル−ブタジェン−ス
チレン共重合体（ＡＢＳ系樹脂）、ポリエステル系樹
脂、ポリアミド系樹脂、ポリカ−ボネ−ト系樹脂、ポリ
ビニルアルコ−ル系樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合
体のケン化物、フッ素系樹脂、ジエン系樹脂、ポリアセ
タ−ル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ニトロセルロ−
ス、その他等の公知の樹脂のフィルムないしシ−トから
任意に選択して使用することができる。本発明におい
て、上記のフィルムないしシ−トは、未延伸、一軸ない
し二軸方向に延伸されたもの等のいずれのものでも使用
することができる。また、その厚さは、任意であるが、
数μｍから３００μｍ位の範囲から選択して使用するこ
とができる。更に、本発明においては、フィルムないし
シ−トとしては、押し出し成膜、インフレ−ション成
膜、コ−ティング膜等のいずれの性状の膜でもよい。

【００４９】次に、本発明にかかる太陽電池モジュ−ル
を構成する防汚層について説明すると、かかる防汚層
は、光触媒粉末を含む組成物による塗布膜から構成する
ことができ、該防汚層は、表面保護層として最表面に設
けるものである。すなわち、本発明においては、太陽電
池モジュ−ルを構成する、例えば、表面保護層等の最表
面の面に、ゴミ、埃等の蓄積を防止する防汚層を形成す
るものである。而して、上記の防汚層としては、光触媒
粉末または光触媒ゾル（以下、光触媒粉末とは、光触媒
ゾルも含む意味で記す）を含む組成物による塗布膜から
構成することができる。上記において、光触媒粉末を含
む組成物による塗布膜としては、まず、例えば、光触媒
粉末の１種ないし２種以上に、ビヒクルとしての結合剤
の１種ないし２種以上を添加し、更に、必要ならば、例
えば、滑剤、架橋剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安
定剤、充填剤、強化剤、補強剤、帯電防止剤、難燃剤、
耐炎剤、発泡剤、防カビ剤、顔料、その他等の添加剤の
１種ないし２種以上を太陽光の透過に影響しない範囲内
で任意に添加し、更に、溶剤、希釈剤等で十分に混練し
て、例えば、溶剤型、水性型、あるいは、エマルジョン
型等の組成物を調整する。次いで、本発明においては、
上記で調整した組成物を使用し、これを、、例えば、ナ
イフコ−ト法、スクイ−ズロ−ルコ−ト法、リバ−スロ
−ルコ−ト法、ロ−ルコ−ト法、グラビアロ−ルコ−ト
法、キスロ−ルコ−ト法、エクストル−ジョンコ−ト
法、カ−テンフロ−コ−ト法、その他等のコ−ティング
法、あるいは、グラビア印刷、オフセット印刷、シルク
スクリ−ン印刷、転写印刷、その他等の印刷法を用い
て、塗布ないし印刷し、次いで、乾燥して塗布膜を形成
することにより、本発明にかかる防汚層を構成すること
ができるものである。上記において、塗布膜の膜厚とし
ては、０．１〜１０ｇ／ｍ² 位（乾燥状態）、より好ま
しくは、０．５〜１ｇ／ｍ² 位が望ましい。また、本発
明においては、防汚層としては、前述のフッ素系樹脂を
ビヒクルの主成分とする樹脂組成物による塗布膜からな
る耐候性層を防汚層として使用することもできるもので
ある。

【００５０】上記において、光触媒粉末としては、太陽
光等の光の作用により、例えば、樹脂が、酸化等により
劣化、破壊、あるいは、分解し、または、低分子化し、
防汚層の表面に付着した塵埃等を、その粘着性を破壊
し、風雨等で洗浄、除去し、その表面を清掃に保持する
ことを容易にする作用を有する化学物質を使用すること
ができる。具体的には、例えば、光触媒粉末としては、
例えば、ＴｉＯ₂ 、ＺｎＯ、ＳｒＴｉＯ₃ 、ＣｄＳ、Ｃ
ａＰ、ＩｎＰ、ＧａＡｓ、ＢａＴｉＯ₂ 、Ｋ₂ Ｔｉ
Ｏ₃ 、Ｋ₂ ＮｂＯ₃ 、Ｆｅ₂ Ｏ₃ 、Ｔａ₂ Ｏ₃ 、Ｗ
Ｏ₃ 、ＳｎＯ₂ 、Ｂｉ₂ Ｏ₈ 、ＮｉＯ、Ｃｕ₂ Ｏ、Ｓｉ
Ｃ、ＳｉＯ₂ 、ＭｏＳ₂ 、ＩｎＰｂ、ＲｕＯ₂ 、ＣｅＯ
₂ 等、あるいは、これらにＰｔ、Ｒｈ、ＲｕＯ₂ 、Ｎ
ｂ、Ｃｕ、Ｓｎ、Ｎｉ、Ｆｅ等の金属および／またはこ
れらの金属酸化物とを混合した組成物を使用することが
できる。上記の組成物において、光触媒粉末の含有量と
しては、その粒子形状、密度等によって異なるが、約
０．１〜３０重量％位が好ましい。また、上記におい
て、防汚層としては、酸化チタンを主成分とする光触媒
粉末、若しくはゾルに含まれる微粒子からなる組成物に
よる塗布膜からなるものが望ましいものである。

【００５１】また、上記において、ビヒクルとしての結
合剤としては、製膜性を有し、更に、耐光性、耐熱性、
耐水性等の諸堅牢性に優れ、また、塗布膜の硬度を増
し、耐擦傷性、耐磨耗性等に優れ、特に、光触媒粉末の
光活性に影響を受けない結合剤を使用することができ、
具体的には、例えば、ポリエチレン系樹脂、ポリプロピ
レン系樹脂、エチレン−プロピレン共重合体、エチレン
−酢酸ビニル共重合体、アイオノマ−樹脂、エチレン−
アクリル酸エチル共重合体、エチレン−アクリル酸また
はメタクリル酸共重合体、メチルペンテンポリマ−、ポ
リブテン系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ酢酸ビニ
ル系樹脂、ポリ（メタ）アクリル系樹脂、ポリアクリル
ニトリル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、アクリロニトリ
ル−スチレン共重合体（ＡＳ系樹脂）、アクリロニトリ
ル−ブタジェン−スチレン共重合体（ＡＢＳ系樹脂）、
ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリカ−ボネ
−ト系樹脂、ポリビニルアルコ−ル系樹脂、エチレン−
酢酸ビニル共重合体のケン化物、フッ素系樹脂、ジエン
系樹脂、ポリアセタ−ル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、
エポキシ系樹脂、フェノ−ル系樹脂、アミノプラスト系
樹脂、シリコ−ン系樹脂、ニトロセルロ−ス、無機系ポ
リマ−、その他等の各種の天然ないし半若しくは合成樹
脂、無機系ポリマ−、その他等の公知の樹脂、あるい
は、その変性樹脂、その他等の１種ないし２種以上を使
用することができる。而して、本発明においては、光触
媒粉末の影響を受けない結合剤としては、上記のような
結合剤の中でも、特に、低融点ガラス、アルカリ金属シ
リケ−ト、ホスフェ−ト、または、コロイダルシリカ、
その他等の無機系ポリマ−の１種ないしそれ以上を使用
することが好ましいものである。

【００５２】ところで、本発明においては、上記の防汚
層を構成する塗布膜中の光触媒粉末の光活性が、該防汚
層の下層に位置する、例えば、表面保護層、あるいは、
充填剤層等に影響を与え、その劣化、分解、あるいは、
破壊等を起こさないように、その相互の接触を遮断する
無機質膜等からなる光触媒粉末の活性を遮断する活性遮
断層を設けることができる。上記の活性遮断層は、通
常、防汚層の下層に設けるものである。上記の活性遮断
層を構成する無機質膜としては、例えば、前述の透明性
を有する酸化珪素、あるいは、酸化アルミニウム等の無
機酸化物の蒸着薄膜等を使用することができる。上記の
無機酸化物の蒸着膜の形成は、前述と同様にして蒸着法
等を用いて製膜化して、活性遮断層を形成することがで
き、その膜厚としては、１００〜３０００Å位、より好
ましくは、１００〜１５００Å位が望ましい。また、本
発明において、活性遮断層としては、例えば、テトラメ
トキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキ
シシラン、その他等の金属アルコキシド化合物および／
またはその加水分解物をビヒクルの主成分とするゾルゲ
ル組成物による硬化塗布膜等を使用することができる。
なお、本発明においては、上記の防汚層の密接着性を強
固にするために、該防汚層を構成する光触媒粉末を含む
組成物による塗布膜を設けるに際し、必要ならば、表面
保護層等の上に、接着用プライマ−層等を設けることが
できる。上記のプライマ−層を構成する材料としては、
例えば、防汚層中の光触媒粉末の光活性等によって分解
されない無機系のプライマ−層を構成する材料を使用し
て形成することが望ましいものである。具体的には、有
機チタン化合物として代表的なテトライソプロピルチタ
ネ−ト、テトラブチルチタネ−ト、テトラステアリルチ
タネ−ト等のアルキルチタネ−トやチタンキレ−ト等の
加水分解による生成物等を使用することができ、その
他、無機ポリシラザン（ペルヒドポリシラザラン）等も
使用することができる。本発明においては、特に、加水
分解速度が極めて早く、溶液を塗工後に分解できるテト
ライソプロピルチタネ−ト、テトラブチルチタネ−トが
好ましい材料である。

【００５３】次に、本発明にかかる太陽電池モジュ−ル
を構成する紫外線遮蔽層について説明すると、かかる紫
外線遮蔽層は、例えば、紫外線吸収剤を含む組成物によ
る塗布膜から構成することができる。而して、上記の紫
外線遮蔽層としては、例えば、紫外線吸収剤の１種ない
し２種以上に、ビヒクルとしての結合剤の１種ないし２
種以上を添加し、更に、必要ならば、例えば、滑剤、架
橋剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、充填剤、
強化剤、補強剤、帯電防止剤、難燃剤、耐炎剤、発泡
剤、防カビ剤、顔料、その他等の添加剤の１種ないし２
種以上を太陽光の透過に影響しない範囲内で任意に添加
し、更に、溶剤、希釈剤等で十分に混練して、例えば、
溶剤型、水性型、あるいは、エマルジョン型等の組成物
を調整し、次いで、該組成物を、例えば、ナイフコ−ト
法、スクイ−ズロ−ルコ−ト法、リバ−スロ−ルコ−ト
法、ロ−ルコ−ト法、グラビアロ−ルコ−ト法、キスロ
−ルコ−ト法、エクストル−ジョンコ−ト法、カ−テン
フロ−コ−ト法、その他等のコ−ティング法、あるい
は、グラビア印刷、オフセット印刷、シルクスクリ−ン
印刷、転写印刷、その他等の印刷法を用いて、塗布ない
し印刷することにより塗布膜を形成して紫外線遮蔽層を
設けることができる。上記において、塗布膜の膜厚とし
ては、０．１〜１０ｇ／ｍ² 位（乾燥状態）、より好ま
しくは、１．０〜５ｇ／ｍ² 位が望ましい。

【００５４】上記において、紫外線吸収剤としては、太
陽光中の有害な紫外線を吸収し、分子内で無害な熱エネ
ルギ−へと変換し、高分子中の光劣化開始の活性種が励
起されるのを防止するものであり、具体的には、べンゾ
フェノン系、ベンゾトリアゾ−ル系、サルチレ−ト系、
アクリルニトリル系、金属錯塩系、ヒンダ−ドアミン
系、超微粒子酸化チタン（粒径、０．０１〜０．０６μ
ｍ）、超微粒子酸化亜鉛（粒径、０．０１〜０．０４μ
ｍ）等の無機系等の紫外線吸収剤の１種ないし２種以上
を使用することができる。上記の組成物において、紫外
線吸収剤の含有量としては、約０．１〜２０重量％位が
望ましい。また、上記において、上記の組成物には、高
分子の光劣化あるいは熱劣化等を防止する酸化防止剤、
具体的には、フェノ−ル系、アミン系、硫黄系、りん酸
系、その他等の酸化防止剤を使用することが望ましいも
のである。また、上記の組成物において、ビヒクルとし
ての結合剤としては、前述の防汚層を構成する際に例示
した結合剤を同様に使用することができる。

【００５５】次に、本発明において、本発明にかかる太
陽電池モジュ−ルを構成する耐候性層について更に詳し
く説明すると、本発明にかかる太陽電池モジュ−ルを構
成する耐候性層としては、物理的ないし化学的強度に優
れ、例えば、耐候性、耐熱性、耐水性、耐湿性、耐風圧
性、耐降雹性、耐薬品性、その他等の諸特性に優れ、極
めて耐久性に富み、その長期的な性能劣化を最小限に抑
え、極めて安定性に富む強靱な樹脂の１種ないし２種以
上をビヒクルの主成分とする樹脂組成物による塗布膜に
より構成することができる。而して、本発明において、
上記の極めて耐久性に富み、その長期的な性能劣化を最
小限に抑え、極めて安定性に富む強靱な樹脂の１種ない
し２種以上をビヒクルの主成分とする樹脂組成物による
塗布膜を形成するには、まず、強靱な樹脂の１種ないし
２種以上をビヒクルの主成分とし、これに、必要なら
ば、例えば、塗布膜の加工性、耐熱性、耐光性、耐水
性、耐候性、機械的ないし化学的性質、寸法安定性、抗
酸化性、滑り性、離形性、難燃性、抗カビ性、電気的特
性、その他等を改良、改質する目的で種々のプラスチッ
クの添加剤、例えば、滑剤、架橋剤、酸化防止剤、紫外
線吸収剤、光安定剤、充填剤、強化剤、補強剤、帯電防
止剤、難燃剤、耐炎剤、発泡剤、防ガビ剤、着色剤、そ
の他等の添加剤の１種ないし２種以上を太陽光の透過に
影響しない範囲内で任意に添加し、更に、溶剤、希釈剤
等で十分に混練して、例えば、溶剤型、水性型、あるい
は、エマルジョン型等の樹脂組成物を調整する。次に、
上記で調整した樹脂組成物を、例えば、フロ−ティング
ナイフコ−ト法、ナイフオ−バ−ロ−ルコ−ト法、イン
バ−ティドナイフコ−ト法、スクイ−ズロ−ルコ−ト
法、リバ−スロ−ルコ−ト法、ロ−ルコ−ト法、グラビ
アロ−ルコ−ト法、キスロ−ルコ−ト法、エア−ブレ−
ドコ−ト法、エクストル−ジョンコ−ト法、カ−テンフ
ロ−コ−ト法、その他等のコ−ティング法、あるいは、
グラビア印刷、オフセット印刷、シルクスクリ−ン印
刷、転写印刷、その他等の印刷法を用いて、塗布ないし
印刷し、乾燥して塗布膜を形成することができる。上記
において、塗布膜の膜厚としては、１〜７５ｇ／ｍ
² （乾燥状態）位、より好ましくは、１０〜５０ｇ／ｍ
² （乾燥状態）位が望ましい。

【００５６】上記において、強靱な樹脂としては、耐候
性層を構成する強靱な樹脂としては、例えば、ポリエチ
レン系樹脂、ポリプロピレン系樹脂、環状ポリオレフィ
ン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、アクリロニトリル−ス
チレン共重合体（ＡＳ樹脂）、アクリロニトリル−ブタ
ジエン−スチレン共重合体（ＡＢＳ樹脂）、ポリ塩化ビ
ニル系樹脂、フッ素系樹脂、ポリ（メタ）アクリル系樹
脂、ポリカ−ボネ−ト系樹脂、ポリエチレンテレフタレ
−トまたはポリエチレンナフタレ−ト等のポリエステル
系樹脂、各種のナイロン等のポリアミド系樹脂、ポリイ
ミド系樹脂、ポリアミドイミド系樹脂、ポリアリ−ルフ
タレ−ト系樹脂、シリコ−ン系樹脂、ポリスルホン系樹
脂、ポリフェニレンスルフィド系樹脂、ポリエ−テルス
ルホン系樹脂、ポリウレタン系樹脂、アセタ−ル系樹
脂、セルロ−ス系樹脂、その他等の各種の樹脂を使用す
ることができる。本発明においては、上記の樹脂の中で
も、フッ素系樹脂、環状ポリオレフィン系樹脂、ポリカ
−ボネ−ト系樹脂、ポリ（メタ）アクリル系樹脂、ポリ
アミド系樹脂、または、ポリエステル系樹脂を使用する
ことが好ましいものである。

【００５７】更に、本発明において、上記の樹脂の中で
も、特に、フッ素系樹脂、または、環状ポリオレフィン
系樹脂を使用することが好ましく、かかるフッ素系樹脂
としては、例えば、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴ
ＦＥ）、テトラフルオロエチレンとペルフルオロアルキ
ルビニルエ−テルとの共重合体からなるペルフルオロア
ルコキシ樹脂（ＰＦＡ）、テトラフルオロエチレンとヘ
キサフルオロプロピレンコポリマ−（ＦＥＰ）、テトラ
フルオロエチレンとペルフルオロアルキルビニルエ−テ
ルとヘキサフルオロプロピレンコポリマ−（ＥＰＥ）、
テトラフルオロエチレンとエチレンまたはプロピレンと
のコポリマ−（ＥＴＦＥ）、ポリクロロトリフルオロエ
チレン樹脂（ＰＣＴＦＥ）、エチレンとクロロトリフル
オロエチレンとのコポリマ−（ＥＣＴＦＥ）、フッ化ビ
ニリデン系樹脂（ＰＶＤＦ）、フッ化ビニル系樹脂（Ｐ
ＶＦ）、商品名、ＣＹＴＯＰ（サイトップ、登録商
標）、または、商品名、ルミフロン（登録商標）からな
る透明フッ素樹脂（両方とも、旭硝子株式会社製）等か
らなるフッ素系樹脂の１種ないし２種以上を使用するこ
とができる。なお、本発明においては、上記のフッ素系
樹脂の中でも、特に、商品名、ＣＹＴＯＰ（サイトッ
プ、登録商標）、または、商品名、ルミフロン（登録商
標）からなる透明フッ素樹脂が、透明性を有し、太陽光
の透過性等の観点から好ましいものである。

【００５８】また、上記の環状ポリオレフィン系樹脂と
しては、例えば、シクロペンタジエンおよびその誘導
体、ジシクロペンタジエンおよびその誘導体、シクロヘ
キサジエンおよびその誘導体、ノルボルナジエンおよび
その誘導体、その他等の環状ジエンを重合させてなるポ
リマ−、あるいは、該環状ジエンとエチレン、プロピレ
ン、４−メチル−１−ペンテン、スチレン、ブタジエ
ン、イソプレン、その他等のオレフィン系モノマ−の１
種ないしそれ以上とを共重合させてなるコポリマ−等か
らなる環状ポリオレフィン系樹脂を使用することが好ま
しいものである。なお、本発明においては、上記の環状
ポリオレフィン系樹脂の中でも、特に、シクロペンタジ
エンおよびその誘導体、ジシクロペンタジエンおよびそ
の誘導体、または、ノルボルナジエンおよびその誘導体
等の環状ジエンのポリマ−ないしコポリマ−からなる環
状ポリオレフィン系樹脂が、強度等の観点から好ましい
ものである。

【００５９】而して、本発明において、上記のフッ素系
樹脂または環状ポリオレフィン系樹脂を使用することに
より、該フッ素系樹脂あるは環状ポリオレフィン系樹脂
が有する機械的特性、化学的特性、物理的特性等の優れ
た特性、具体的には、耐候性、耐熱性、耐水性、耐光
性、耐防湿性、耐汚染性、耐薬品性、その他等の諸特性
を利用して耐候性層を構成するものであり、これによ
り、耐久性、保護機能性等を有し、また、そのフレキシ
ブル性や機械的特性、化学的特性等から軽く、かつ、加
工性等に優れ、そのハンドリングし易い等の利点を有す
るものである。本発明において、上記のフッ素系樹脂ま
たは環状ポリオレフィン系樹脂としては、可視光透過率
が、９０％以上、好ましくは、９３％以上であって、入
射する太陽光を全て透過する性質を有することが望まし
いものである。

【００６０】なお、本発明においては、上記の耐候性層
を構成する樹脂組成物には、種々の添加剤を添加し得る
が、それらの中でも、紫外線吸収剤および／または酸化
防止剤を添加することが好ましいものである。上記にお
いて、紫外線吸収剤としては、太陽光中の有害な紫外線
を吸収し、分子内で無害な熱エネルギ−へと変換し、高
分子中の光劣化開始の活性種が励起されるのを防止する
ものであり、具体的には、べンゾフェノン系、ベンゾト
リアゾ−ル系、サルチレ−ト系、アクリルニトリル系、
金属錯塩系、ヒンダ−ドアミン系、超微粒子酸化チタン
（粒径、０．０１〜０．０６μｍ）、超微粒子酸化亜鉛
（粒径、０．０１〜０．０４μｍ）等の無機系等の紫外
線吸収剤の１種ないし２種以上を使用することができ
る。また、上記において、酸化防止剤としては、高分子
の光劣化あるいは熱劣化等を防止する酸化防止剤、具体
的には、フェノ−ル系、アミン系、硫黄系、りん酸系、
その他等の酸化防止剤を使用することが望ましいもので
ある。更に、上記の紫外線吸収剤あるいは酸化防止剤と
しては、例えば、ポリマ−を構成する主鎖または側鎖
に、上記のベンゾフェノン系等の紫外線吸収剤あるいは
上記のフェノ−ル系等の酸化防止剤を化学結合させてな
るポリマ−型の紫外線吸収剤あるいは酸化防止剤等も使
用することができる。上記の紫外線吸収剤および／また
は酸化防止剤の含有量としては、その粒子形状、密度等
によって異なるが、約０．１〜１０重量％位が好まし
い。

【００６１】更に、本発明において、本発明にかかる太
陽電池モジュ−ルに難燃性等を付与するために、例え
ば、上記に例示した樹脂の１種ないし２種以上をビヒク
ルとし、これに、例えば、臭素系、リン系、塩素系、窒
素系、その他等からなる有機系難燃剤、あるいは、アル
ミニウム系、アンチモン系、マグネシウム系、ホウ素
系、ジルコニウム系、その他等からなる無機系難燃剤の
１種ないし２種以上を添加し、更に、その他の所望の添
加剤を任意に添加し、溶剤、希釈剤等で十分に混練し
て、例えば、溶剤型、水性型、あるいは、エマルジョン
型等の組成物を調整し、次いで、該組成物を、例えば、
ナイフコ−ト法、スクイ−ズロ−ルコ−ト法、リバ−ス
ロ−ルコ−ト法、ロ−ルコ−ト法、グラビアロ−ルコ−
ト法、キスロ−ルコ−ト法、エクストル−ジョンコ−ト
法、カ−テンフロ−コ−ト法、その他等のコ−ティング
法、あるいは、グラビア印刷、オフセット印刷、シルク
スクリ−ン印刷、転写印刷、その他等の印刷法を用い
て、塗布ないし印刷することにより塗布膜を形成して難
燃剤層を設けることもできる。

【００６２】次に、本発明において、本発明にかかる太
陽電池モジュ−ルを製造する方法について説明すると、
かかる製造法としては、公知の方法、例えば、上記の表
面保護層、充填剤層、保護層付太陽電池素子、充填剤
層、および、裏面保護層を、その順次に積層し、更に、
上記の層上あるいは層間のいずれかに、防汚層、紫外線
遮蔽層、または、耐候性層の１層あるいはそれ以上を積
層し、更にまた、必要ならば、各層間に、その他の素材
を任意に積層し、次いで、これらを、真空吸引等により
一体化して加熱圧着するラミネ−ション法等の通常の成
形法を利用し、上記の各層を一体成形体として加熱圧着
成形して、太陽電池モジュ−ルを製造することができ
る。上記において、必要ならば、各層間の接着性等を高
めるために、（メタ）アクリル系樹脂、オレフィン系樹
脂、ビニル系樹脂、その他等の樹脂をビヒクルの主成分
とする加熱溶融型接着剤、溶剤型接着剤、光硬化型接着
剤、その他等を使用することができる。上記の接着剤中
には、前述の紫外線吸収剤、酸化防止剤等を任意に添加
することができるものである。

【００６３】また、上記の積層において、各積層対向面
には、密接着性を向上させるために、必要に応じて、例
えば、コロナ放電処理、オゾン処理、酸素ガス若しくは
窒素ガス等を用いた低温プラズマ処理、グロ−放電処
理、化学薬品等を用いて処理する酸化処理、その他等の
前処理を任意に施すことができる。更に、上記の積層に
おいては、各積層対向面に、予め、プライマ−コ−ト剤
層、アンダ−コ−ト剤層、接着剤層、あるいは、アンカ
−コ−ト剤層等を任意に形成して、表面前処理を行うこ
ともできる。上記の前処理のコ−ト剤層としては、例え
ば、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリウレ
タン系樹脂、エポキシ系樹脂、フェノ−ル系樹脂、（メ
タ）アクリル系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、ポリエチ
レンあるいはポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂
あるいはその共重合体ないし変性樹脂、セルロ−ス系樹
脂、その他等をビヒクルの主成分とする樹脂組成物を使
用することができる。また、上記において、コ−ト剤層
の形成法としては、例えば、溶剤型、水性型、あるい
は、エマルジョン型等のコ−ト剤を使用し、ロ−ルコ−
ト法、グラビアロ−ルコ−ト法、キスコ−ト法、その他
等のコ−ト法を用いてコ−トすることができる。

【００６４】また、本発明において、本発明にかかる太
陽電池モジュ−ルを製造する際に、例えば、耐候性層、
紫外線遮蔽層、防汚層、その他等を塗布ないし印刷方式
等により形成する場合に、予め、塗布ないし印刷適性、
密接着性、その他等の特性を向上させるために、種々の
接着剤、あるいは、接着助剤等を使用し、その接着剤
層、あるいは、接着助剤層等を設けることがてきるもの
である。上記の接着剤、あるいは、接着助剤としては、
例えば、ポリオレフィン系、ポリビニル系、ポリ（メ
タ）アクリル系、ポリ酢酸ビニル系、ポリウレタン系、
ポリエステル系、ポリアミド系、フェノ−ル系、メラミ
ン系、エポキシ系、セルロ−ス系、その他等の接着剤、
あるいは、接着助剤を使用することができる。

【００６５】本発明にかかる太陽電池モジュ−ルは、障
壁層を設けることにより、水分、酸素ガス等の進入を防
止する防湿性を著しく向上させ、耐候性、耐熱性、耐水
性、耐湿性、耐風圧性、耐降雹性、その他等の諸特性に
優れ、極めて耐久性に富み、その長期的な性能劣化を最
小限に抑え、極めて安定性に優れているものである。ま
た、本発明にかかる太陽電池モジュ−ルは、防汚層、紫
外線遮蔽層、耐候性層等を設けることにより、表面の防
汚性等にも優れ、更に、太陽光等の照射に対し光劣化等
を防止し、長期間の使用に耐えものである。また、本発
明にかかる太陽電池モジュ−ルは、耐候性層、防汚層、
あるいは、紫外線遮蔽層等を塗布ないし印刷方式等によ
り設けることから、その製造工程を簡略化し、かつ、よ
り低コストで安全な太陽電池モジュ−ルを製造し得るこ
とができるという利点を有するものである。而して、本
発明にかかる太陽電池モジュ−ルは、電卓を始めとし、
各種の電気機器、電子機器等に応用され、民生用のとし
て、広範囲の分野において使用し得るものであり、更
に、大規模集中型太陽電池発電等にも使用することがで
きるものである。

【００６６】

【実施例】次に、本発明について実施例を挙げて更に具
体的に本発明を説明する。 実施例１ （１）．まず、アモルファスシリコンからなる太陽電池
素子を並列に配置した厚さ５０μｍのポリアラミドフィ
ルムを使用し、これを巻き取り式真空蒸着装置の送り出
しロ−ルに装着し、次いで、これをコ−ティングドラム
の上に繰り出して、その太陽電池素子面に、下記の条件
で、アルミニウムを蒸着源に用い、酸素ガスを供給しな
がら、エレクトロンビ−ム（ＥＢ）加熱方式による反応
真空蒸着法により、膜厚５００Åの酸化アルミニウムの
蒸着薄膜からなる障壁層を形成した。 （蒸着条件） 蒸着源：アルミニウム 真空チャンバ−内の真空度：７．５×１０^-6ｍｂａｒ 蒸着チャンバ−内の真空度：２．１×１０^-6ｍｂａｒ ＥＢ出力：４０ＫＷ フィルム搬送速度：６００ｍ／分 次に、上記で膜厚５００Åの酸化アルミニウムの蒸着薄
膜を形成した後、その蒸着直後に、その酸化アルミニウ
ムの蒸着薄膜面に、グロ−放電プラズマ発生装置を使用
し、プラズマ出力、１５００Ｗ、酸素ガス（Ｏ₂ ）：ア
ルゴンガス（Ａｒ）＝１９：１からなる混合ガスを使用
し、混合ガス圧６×１０^-5Ｔｏｒｒ、処理速度４２０ｍ
／ｍｉｎで酸素／アルゴン混合ガスによるプラズマ処理
を行ってプラズマ処理面を形成して保護層付太陽電子素
子を製造した。更に、上記で製造した保護層付太陽電子
素子の酸化アルミニウムの蒸着薄膜のプラズマ処理面
に、フッ素樹脂塗布液（商品名、ルミフロン、旭硝子株
式会社製）を使用し、グラビアロ−ルコ−ト法を用い
て、コ−ティングし、膜厚１５ｇ／ｍ² （乾燥状態）の
塗布膜からなる耐候性層を形成した。 （２）．他方、厚さ３ｍｍのガラス板の片面に、チタン
プロポオキサンドからなる無機系プライマ−組成物を使
用し、これをグラビアロ−ルコ−ト法を用いて塗布し、
膜厚０．３ｇ／ｍ² （乾燥状態）のプライマ−層を形成
した。次に、上記で形成したプライマ−層の面（最表
面）に、粒径０．０３μｍの酸化チタン超微粒子１０重
量部とテトラエトキシシラン液９０重量部（固形分２０
％）とからなる光触媒塗工液をグラビアロ−ルコ−ト法
を用いて塗布し、膜厚１ｇ／ｍ² （乾燥状態）の防汚層
を形成した。 （３）．次に、上記で障壁層と耐候性層とを形成した太
陽電池素子と防汚層を形成した厚さ３ｍｍのガラス板と
を使用し、防汚層（最表面）を有する厚さ３ｍｍのガラ
ス板、厚さ４００μｍのエチレン−酢酸ビニル共重合体
シ−ト、上記の障壁層と耐候性層と有する太陽電池素
子、厚さ４００μｍのエチレン−酢酸ビニル共重合体シ
−ト、および、厚さ１００μｍの環状ポリオレフィン樹
脂フィルムを、上記の太陽電池素子の素子面を上に向け
て順次に積層し、更に、各層間にアクリル系樹脂の接着
剤層を介して積層し、次いで、加熱圧着し、一体化し
て、本発明にかかる太陽電池モジュ−ルを製造した。

【００６７】実施例２ （１）．まず、アモルファスシリコンからなる太陽電池
素子を並列に配置した厚さ５０μｍのポリアラミドフィ
ルムを使用し、これをプラズマ化学気相成長装置の送り
出しロ−ルに装着し、次に、そのフィルムをコ−ティン
グドラムの上に繰り出して、その太陽電池素子面に、下
記の蒸着条件で製膜化して、膜厚１０００Åの酸化珪素
の蒸着薄膜からなる障壁層を形成した。 （蒸着条件） 反応ガス混合比：ヘキサメチルジシロキサン：酸素ガ
ス：ヘリウム＝１：１０：１０（単位：ｓｌｍ） 真空チャンバ−内の真空度：５．０×１０^-6ｍｂａｒ 蒸着チャンバ−内の真空度：６．０×１０^-2ｍｂａｒ 冷却・電極ドラム供給電力：２０ｋＷ フィルムの搬送速度：８０ｍ／分 蒸着面：コロナ処理面 次に、上記で膜厚１０００Åの酸化珪素の蒸着薄膜を形
成した後、その蒸着直後に、その酸化珪素の蒸着薄膜面
に、上記の実施例１と同様にして、プラズマ処理してプ
ラズマ処理面を形成して保護層付太陽電子素子を製造し
た。更に、上記で製造した保護層付太陽電子素子の酸化
珪素の蒸着薄膜のプラズマ処理面に、フッ素樹脂塗布液
（商品名、ルミフロン、旭硝子株式会社製）を使用し、
グラビアロ−ルコ−ト法を用いて、コ−ティングし、膜
厚１５ｇ／ｍ² （乾燥状態）の塗布膜からなる耐候性層
を形成した。 （２）．他方、厚さ５０μｍのフッ系樹脂シ−トの片面
に、チタンプロポオキサンドからなる無機系プライマ−
組成物を使用し、グラビアロ−ルコ−ト法を用いて塗布
し、膜厚０．３ｇ／ｍ² （乾燥状態）のプライマ−層を
形成した。次に、上記で形成したプライマ−層の面（最
表面）に、粒径０．０３μｍの酸化チタン超微粒子１０
重量部とテトラエトキシシラン液９０重量部（固形分２
０％）とからなる光触媒塗工液をグラビアロ−ルコ−ト
法を用いて塗布し、膜厚１ｇ／ｍ² （乾燥状態）の防汚
層を形成した。 （３）．次に、上記で障壁層と耐候性層を形成した太陽
電池素子と防汚層を形成した厚さ５０μｍのフッ系樹脂
シ−トとを使用し、防汚層（最表面）を有する厚さ５０
μｍのフッ系樹脂シ−ト、厚さ４００μｍのエチレン−
酢酸ビニル共重合体シ−ト、上記の障壁層と耐候性層を
有する太陽電池素子、厚さ４００μｍのエチレン−酢酸
ビニル共重合体シ−ト、および、厚さ１００μｍの環状
ポリオレフィン樹脂フィルムを、上記の太陽電池素子の
素子面を上に向けて順次に積層し、更に、各層間にアク
リル系樹脂の接着剤層を介して積層し、更に、加熱圧着
し、一体化して、本発明にかかる太陽電池モジュ−ルを
製造した。

【００６８】実施例３ （１）．まず、アモルファスシリコンからなる太陽電池
素子を並列に配置した厚さ５０μｍのポリアラミドフィ
ルムを使用し、その表面（太陽電池素子面）に、ポリウ
レタン系樹脂の初期縮合物に、エポキシ系のシランカッ
プリング剤（８．０重量％）とブロッキング防止剤
（１．０重量％）を添加し、十分に混練してなるプライ
マ−樹脂組成物を使用し、これをグラビアロ−ルコ−ト
法により、膜厚０．５ｇ／ｍ² （乾燥状態）になるよう
にコ−ティングしてプライマ−層を形成した。更に、上
記で形成したプライマ−層の面に、紫外線吸収剤とし
て、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤（２．０重量％）を
含有する２液硬化型のウレタン系ラミネ−ト用接着剤を
使用し、これを、上記と同様に、グラビアロ−ルコ−ト
法により、膜厚５．０ｇ／ｍ² （乾燥状態）になるよう
にコ−ティングしてラミネ−ト用接着剤層を形成した。
次に、上記で形成したラミネ−ト用接着剤層面に、厚さ
１２μｍの２軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィル
ムを対向させて重ね合わせ、しかる後、、その両者をド
ライラミネ−ト積層して障壁層を形成して保護層付太陽
電子素子を製造した。 （２）．次に、上記で製造した保護層付太陽電子素子の
２軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルム面に、
０．０３μｍの酸化チタン超微粒子５重量部とエチレン
−ビニルアルコ−ル共重合体液（固形分２０％溶液）９
５重量部とからなる紫外線吸収剤組成物をグラビアロ−
ルコ−ト法を用いてコ−ティングし、膜厚０．５ｇ／ｍ
² （乾燥状態）の紫外線遮蔽層を形成した。更に、上記
で形成した紫外線遮蔽層の上にに、フッ素樹脂塗布液
（商品名、ルミフロン、旭硝子株式会社製）を使用し、
グラビアロ−ルコ−ト法を用いて、コ−ティングし、膜
厚１０ｇ／ｍ² （乾燥状態）の塗布膜からなる耐候性層
を形成した。 （３）．他方、厚さ５０μｍの環状ポリオレフィン系樹
脂シ−トの片面に、チタンプロポオキサンドからなる無
機系プライマ−組成物を使用し、これをグラビアロ−ル
コ−ト法を用いて塗布し、膜厚０．３ｇ／ｍ² （乾燥状
態）のプライマ−層を形成した。次に、上記で形成した
プライマ−層の面に、粒径０．０３μｍの酸化チタン超
微粒子１０重量部とテトラエトキシシラン液９０重量部
（固形分２０％）とからなる光触媒塗工液をグラビアロ
−ルコ−ト法を用いて塗布し、膜厚１ｇ／ｍ² （乾燥状
態）の防汚層を形成した。 （４）．次に、上記で障壁層と紫外線遮蔽層と耐候性層
とを形成した太陽電池素子と防汚層を形成した厚さ５０
μｍの環状ポリオレフィン系樹脂シ−トとを使用し、防
汚層（最表面）を有する厚さ５０μｍの環状ポリオレフ
ィン系樹脂シ−ト、厚さ４００μｍのエチレン−酢酸ビ
ニル共重合体シ−ト、上記の障壁層と紫外線遮蔽層と耐
候性層とを有する太陽電池素子、厚さ４００μｍのエチ
レン−酢酸ビニル共重合体シ−ト、および、厚さ５０μ
ｍのフッ素系樹脂シ−トを、上記の太陽電池素子の素子
面を上に向けて順次に積層し、更に、各層間にアクリル
系樹脂の接着剤層を介して積層し、次いで、加熱圧着
し、一体化して、本発明にかかる太陽電池モジュ−ルを
製造した。

【００６９】実施例４ （１）．障壁層を構成する素材として、片面にポリ塩化
ビニリデン系樹脂組成物によるコ−ティング膜を有する
２軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムを使用
し、以下、上記の実施例３と全く同様に行って、上記の
ポリ塩化ビニリデン系樹脂組成物によるコ−ティング膜
を有する２軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルム
を、アモルファスシリコンからなる太陽電池素子を並列
に配置した厚さ５０μｍのポリアラミドフィルムの表面
（太陽電池素子面）にドライラミネ−ト積層して障壁層
を形成して、保護層付太陽電池素子を製造した。 （２）．次に、上記で製造した保護層付太陽電池素子の
２軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムの面に、
ベンゾフェノン系紫外線吸収剤１重量部と熱硬化型アク
リル系樹脂液（固形分２０％）９９重量部とからなる紫
外線吸収剤組成物をグラビアロ−ルコ−ト法を用いてコ
−ティングし、膜厚２．０ｇ／ｍ² （乾燥状態）の紫外
線遮蔽層を形成した。更に、上記で形成した紫外線遮蔽
層の上にに、フッ素樹脂塗布液（商品名、ルミフロン、
旭硝子株式会社製）を使用し、グラビアロ−ルコ−ト法
を用いて、コ−ティングし、膜厚２５ｇ／ｍ² （乾燥状
態）の塗布膜からなる耐候性層を形成した。 （３）．他方、厚さ５０μｍの環状ポリオレフィン系樹
脂シ−トの片面に、チタンプロポオキサンドからなる無
機系プライマ−組成物を使用し、これをグラビアロ−ル
コ−ト法を用いて塗布し、膜厚０．３ｇ／ｍ² （乾燥状
態）のプライマ−層を形成した。次に、上記で形成した
プライマ−層の面に、粒径０．０３μｍの酸化チタン超
微粒子１０重量部とテトラエトキシシラン液９０重量部
（固形分２０％）とからなる光触媒塗工液をグラビアロ
−ルコ−ト法を用いて塗布し、膜厚１ｇ／ｍ² （乾燥状
態）の防汚層を形成した。 （４）．次に、上記で障壁層と紫外線遮蔽層と耐候性層
とを形成した太陽電池素子と防汚層を形成した厚さ５０
μｍの環状ポリオレフィン系樹脂シ−トとを使用し、防
汚層（最表面）を有する厚さ５０μｍの環状ポリオレフ
ィン系樹脂シ−ト、厚さ４００μｍのエチレン−酢酸ビ
ニル共重合体シ−ト、上記の障壁層と紫外線遮蔽層と耐
候性層とを有する太陽電池素子、厚さ４００μｍのエチ
レン−酢酸ビニル共重合体シ−ト、および、厚さ５０μ
ｍのフッ素系樹脂シ−トを、上記の太陽電池素子の素子
面を上に向けて順次に積層し、更に、各層間にアクリル
系樹脂の接着剤層を介して積層し、次いで、加熱圧着
し、一体化して、本発明にかかる太陽電池モジュ−ルを
製造した。

【００７０】実施例５ （１）．まず、アモルファスシリコンからなる太陽電池
素子を並列に配置した厚さ５０μｍのポリアラミドフィ
ルムを使用し、その太陽電池素子の表面に、下記のケイ
素化合物の加水分解物による重縮合物からなる組成物を
使用し、これを、グラビアロ−ルコ−ト法を用いてコ−
ティングし、次いで、１２０℃で１時間乾燥し、コ−テ
ィング量２．０ｇ／ｍ² （乾燥状態）からなるコ−ティ
ング膜からなる障壁層を形成して、保護層付太陽電池素
子を製造した。 （ケイ素化合物の加水分解物による重縮合物からなる組
成物）４５モル％のメタクリルオキシプロピルトリメト
キシシランおよび３０モル％のメチルトリメトキシシラ
ンの混合物に、室温で２５モル％のアルミニウムｓｅｃ
−ブチラ−トを攪拌しながら、ゆっくりと滴下した。滴
下後、混合物を更に５分間攪拌し、その後１５℃に冷却
した。完全に加水分解擦るのに必要な水量の１５分の１
を、攪拌しながら徐徐に滴下した。更に５分間攪拌した
後、８℃に冷却した。次に、完全に加水分解するのに必
要な水量の１６分の２を、攪拌しながら徐徐に滴下し
た。更に１５分間攪拌した。最後に、加水分解を完了さ
せ、塗布用の組成物を調製した。 （２）．次に、上記で製造した保護層付太陽電池素子の
コ−ティング膜の面に、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤
１重量部と熱硬化型アクリル系樹脂液（固形分２０％）
９９重量部とからなる紫外線吸収剤組成物をグラビアロ
−ルコ−ト法を用いてコ−ティングし、膜厚２．０ｇ／
ｍ² （乾燥状態）の紫外線遮蔽層を形成した。更に、上
記で形成した紫外線遮蔽層の上にに、フッ素樹脂塗布液
（商品名、ルミフロン、旭硝子株式会社製）を使用し、
グラビアロ−ルコ−ト法を用いて、コ−ティングし、膜
厚２５ｇ／ｍ² （乾燥状態）の塗布膜からなる耐候性層
を形成した。 （３）．他方、厚さ３ｍｍのガラス板の片面に、チタン
プロポオキサンドからなる無機系プライマ−組成物を使
用し、これをグラビアロ−ルコ−ト法を用いて塗布し、
膜厚０．３ｇ／ｍ² （乾燥状態）のプライマ−層を形成
した。次に、上記で形成したプライマ−層の面（最表
面）に、粒径０．０３μｍの酸化チタン超微粒子１０重
量部とテトラエトキシシラン液９０重量部（固形分２０
％）とからなる光触媒塗工液をグラビアロ−ルコ−ト法
を用いて塗布し、膜厚１ｇ／ｍ² （乾燥状態）の防汚層
を形成した。 （４）．次に、上記で障壁層と紫外線遮蔽層と耐候性層
とを形成した太陽電池素子と防汚層を形成した厚さ３ｍ
ｍのガラス板とを使用し、防汚層（最表面）を有する厚
さ３ｍｍのガラス板、厚さ４００μｍのエチレン−酢酸
ビニル共重合体シ−ト、上記の障壁層と紫外線遮蔽層と
耐候性層とを有する太陽電池素子、厚さ４００μｍのエ
チレン−酢酸ビニル共重合体シ−ト、および、厚さ１０
０μｍの環状ポリオレフィン樹脂フィルムを、上記の太
陽電池素子の素子面を上に向けて順次に積層し、更に、
各層間にアクリル系樹脂の接着剤層を介して積層し、次
いで、加熱圧着し、一体化して、本発明にかかる太陽電
池モジュ−ルを製造した。

【００７１】実施例６ （１）．まず、厚さ５０μｍのエチレンとテトラフロロ
エチレンとのコポリマ−からなるフッ素樹脂シ−ト（Ｅ
ＴＦＥ）を使用し、これを巻き取り式真空蒸着装置の送
り出しロ−ルに装着し、次いで、これをコ−ティングド
ラムの上に繰り出して、そのコロナ処理面に、下記の条
件で、アルミニウムを蒸着源に用い、酸素ガスを供給し
ながら、エレクトロンビ−ム（ＥＢ）加熱方式による反
応真空蒸着法により、膜厚５００Åの酸化アルミニウム
の蒸着薄膜を形成して障壁層を製造した。 （蒸着条件） 蒸着源：アルミニウム 真空チャンバ−内の真空度：７．５×１０^-6ｍｂａｒ 蒸着チャンバ−内の真空度：２．１×１０^-6ｍｂａｒ ＥＢ出力：４０ＫＷ フィルム搬送速度：６００ｍ／分 次に、上記で膜厚５００Åの酸化アルミニウムの蒸着薄
膜を形成した後、その蒸着直後に、その酸化アルミニウ
ムの蒸着薄膜面に、グロ−放電プラズマ発生装置を使用
し、プラズマ出力、１５００Ｗ、酸素ガス（Ｏ₂ ）：ア
ルゴンガス（Ａｒ）＝１９：１からなる混合ガスを使用
し、混合ガス圧６×１０^-5Ｔｏｒｒ、処理速度４２０ｍ
／ｍｉｎで酸素／アルゴン混合ガスによるプラズマ処理
を行ってプラズマ処理面を形成した。 （２）．他方、アモルファスシリコンからなる太陽電池
素子を並列に配置した厚さ５０μｍのポリアラミドフィ
ルムの表面（太陽電池素子面）に、２液硬化型のポリウ
レタン系樹脂の初期縮合物に、エポキシ系のシランカッ
プリング剤（８．０重量％）とブロッキング防止剤
（１．０重量％）を添加し、十分に混練してなるプライ
マ−樹脂組成物を使用し、これをグラビアロ−ルコ−ト
法により、膜厚０．５ｇ／ｍ² （乾燥状態）になるよう
にコ−ティングしてプライマ−層を形成した。更に、上
記で形成したプライマ−層の面に、紫外線吸収剤とし
て、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤（２．０重量％）を
含有する２液硬化型のウレタン系ラミネ−ト用接着剤を
使用し、これを、上記と同様に、グラビアロ−ルコ−ト
法により、膜厚５．０ｇ／ｍ² （乾燥状態）になるよう
にコ−ティングしてラミネ−ト用接着剤層を形成した。
次に、上記で形成したラミネ−ト用接着剤層面に、上記
で製造した膜厚５００Åの酸化アルミニウムの蒸着薄膜
を有するフッ素樹脂シ−トからなる障壁層のプラズマ処
理面を対向させて重ね合わせ、しかる後、、その両者を
ドライラミネ−ト積層して障壁層を形成して、保護層付
太陽電池素子を製造した。 （３）．次に、上記で製造した保護層付太陽電池素子の
酸化アルミニウムの蒸着薄膜を有するフッ素樹脂シ−ト
の面に、フッ素樹脂塗布液（商品名、ルミフロン、旭硝
子株式会社製）を使用し、グラビアロ−ルコ−ト法を用
いて、コ−ティングし、膜厚１５ｇ／ｍ² （乾燥状態）
の塗布膜からなる耐候性層を形成した。次に、上記で形
成した耐候性層の上に、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤
１重量部と熱硬化型アクリル系樹脂液（固形分２０％）
９９重量部とからなる紫外線吸収剤組成物をグラビアロ
−ルコ−ト法を用いてコ−ティングし、膜厚２．０ｇ／
ｍ² （乾燥状態）の紫外線遮蔽層を形成した。 （４）．他方、厚さ３ｍｍのガラス板の片面に、チタン
プロポオキサンドからなる無機系プライマ−組成物を使
用し、これをグラビアロ−ルコ−ト法を用いて塗布し、
膜厚０．３ｇ／ｍ² （乾燥状態）のプライマ−層を形成
した。次に、上記で形成したプライマ−層の面（最表
面）に、粒径０．０３μｍの酸化チタン超微粒子１０重
量部とテトラエトキシシラン液９０重量部（固形分２０
％）とからなる光触媒塗工液をグラビアロ−ルコ−ト法
を用いて塗布し、膜厚１ｇ／ｍ² （乾燥状態）の防汚層
を形成した。 （５）．次に、上記で障壁層と耐候性層と紫外線遮蔽層
とを形成した太陽電池素子と防汚層を形成した厚さ３ｍ
ｍのガラス板とを使用し、防汚層（最表面）を有する厚
さ３ｍｍのガラス板、厚さ４００μｍのエチレン−酢酸
ビニル共重合体シ−ト、上記の障壁層と耐候性層と紫外
線遮蔽層とを有する太陽電池素子、厚さ４００μｍのエ
チレン−酢酸ビニル共重合体シ−ト、および、厚さ１０
０μｍの環状ポリオレフィン樹脂フィルムを、上記の太
陽電池素子の素子面を上に向けて順次に積層し、更に、
各層間にアクリル系樹脂の接着剤層を介して積層し、次
いで、加熱圧着し、一体化して、本発明にかかる太陽電
池モジュ−ルを製造した。

【００７２】実施例７ （１）．まず、厚さ５０μｍのエチレンとテトラフロロ
エチレンとのコポリマ−からなるフッ素樹脂シ−ト（Ｅ
ＴＦＥ）を使用し、これをプラズマ化学気相成長装置の
送り出しロ−ルに装着し、次に、そのフィルムをコ−テ
ィングドラムの上に繰り出して、そのコロナ処理面に、
下記の蒸着条件で製膜化して、膜厚１０００Åの酸化珪
素の蒸着薄膜を形成して障壁層を製造した。 （蒸着条件） 反応ガス混合比：ヘキサメチルジシロキサン：酸素ガ
ス：ヘリウム＝１：１０：１０（単位：ｓｌｍ） 真空チャンバ−内の真空度：５．０×１０^-6ｍｂａｒ 蒸着チャンバ−内の真空度：６．０×１０^-2ｍｂａｒ 冷却・電極ドラム供給電力：２０ｋＷ フィルムの搬送速度：８０ｍ／分 蒸着面：コロナ処理面 次に、上記で膜厚１０００Åの酸化珪素の蒸着薄膜を形
成した後、その蒸着直後に、その酸化珪素の蒸着薄膜面
に、上記の実施例１と同様にして、プラズマ処理してプ
ラズマ処理面を形成した。 （２）．他方、アモルファスシリコンからなる太陽電池
素子を並列に配置した厚さ５０μｍのポリアラミドフィ
ルムの表面（太陽電池素子面）に、２液硬化型のポリウ
レタン系樹脂の初期縮合物に、エポキシ系のシランカッ
プリング剤（８．０重量％）とブロッキング防止剤
（１．０重量％）を添加し、十分に混練してなるプライ
マ−樹脂組成物を使用し、これをグラビアロ−ルコ−ト
法により、膜厚０．５ｇ／ｍ² （乾燥状態）になるよう
にコ−ティングしてプライマ−層を形成した。更に、上
記で形成したプライマ−層の面に、２液硬化型のウレタ
ン系アンカ−コ−ト剤を使用し、これを、上記と同様
に、グラビアロ−ルコ−ト法により、膜厚０．１ｇ／ｍ
² （乾燥状態）になるようにコ−ティングしてアンカ−
コ−ト剤層を形成した。次に、上記で形成したアンカ−
コ−ト剤層面に、低密度ポリエチレンを使用し、これを
厚さ３０μｍに溶融押し出ししながら、上記で形成した
膜厚１０００Åの酸化珪素の蒸着薄膜を有するフッ素樹
脂シ−トからなる障壁層を押し出しラミネ−ト積層して
保護層付太陽電池素子を製造した。 （３）．更に、上記で製造した保護層付太陽電池素子の
酸化珪素の蒸着薄膜を有するフッ素樹脂シ−トの面に、
ベンゾフェノン系紫外線吸収剤１重量部と熱硬化型アク
リル系樹脂液（固形分２０％）９９重量部とからなる紫
外線吸収剤組成物をグラビアロ−ルコ−ト法を用いてコ
−ティングし、膜厚２．０ｇ／ｍ² （乾燥状態）の紫外
線遮蔽層を形成した。更に、上記で形成した紫外線遮蔽
層の上にに、フッ素樹脂塗布液（商品名、ルミフロン、
旭硝子株式会社製）を使用し、グラビアロ−ルコ−ト法
を用いて、コ−ティングし、膜厚２５ｇ／ｍ² （乾燥状
態）の塗布膜からなる耐候性層を形成した。 （４）．他方、厚さ３ｍｍのガラス板の片面に、チタン
プロポオキサンドからなる無機系プライマ−組成物を使
用し、これをグラビアロ−ルコ−ト法を用いて塗布し、
膜厚０．３ｇ／ｍ² （乾燥状態）のプライマ−層を形成
した。次に、上記で形成したプライマ−層の面（最表
面）に、粒径０．０３μｍの酸化チタン超微粒子１０重
量部とテトラエトキシシラン液９０重量部（固形分２０
％）とからなる光触媒塗工液をグラビアロ−ルコ−ト法
を用いて塗布し、膜厚１ｇ／ｍ² （乾燥状態）の防汚層
を形成した。 （５）．次に、上記で障壁層と紫外線遮蔽層と耐候性層
とを形成した太陽電池素子と防汚層を形成した厚さ３ｍ
ｍのガラス板とを使用し、防汚層（最表面）を有する厚
さ３ｍｍのガラス板、厚さ４００μｍのエチレン−酢酸
ビニル共重合体シ−ト、上記の障壁層と紫外線遮蔽層と
耐候性層とを有する太陽電池素子、厚さ４００μｍのエ
チレン−酢酸ビニル共重合体シ−ト、および、厚さ１０
０μｍの環状ポリオレフィン樹脂フィルムを、上記の太
陽電池素子の素子面を上に向けて順次に積層し、更に、
各層間にアクリル系樹脂の接着剤層を介して積層し、次
いで、加熱圧着し、一体化して、本発明にかかる太陽電
池モジュ−ルを製造した。

【００７３】実施例８ （１）．厚さ５０μｍの環状ポリオレフィン樹脂フィル
ム（帝人株式会社製、商品名、ＮＳＣ、片面コロナ処
理）を使用し、これをプラズマ化学蒸着装置の送り出し
ロ−ルに装着し、下記の条件で膜厚２００Åの酸化珪素
の蒸着薄膜をそのコロナ処理面に形成した。 （蒸着条件） 反応ガス混合比：ヘキサメチルジシロキサン：酸素ガ
ス：ヘリウム＝１：１０：１０（単位：ｓｌｍ） 真空チャンバ−内の真空度：５．５×１０^-6ｍｂａｒ 蒸着チャンバ−内の真空度：６．５×１０^-2ｍｂａｒ 冷却・電極ドラム供給電力：１８ｋＷ フィルムの搬送速度：８０ｍ／分 蒸着面：コロナ処理面 次に、上記で膜厚２００Åの酸化珪素の蒸着膜を形成し
た後、その蒸着直後に、その酸化珪素の蒸着膜面に、上
記の実施例１と全く同様にして、プラズマ処理してプラ
ズマ処理面を形成した。 （２）．次に、４５モル％のメタクリルオキシプロピル
トリメトキシシランおよび３０モル％のメチルトリメト
キシシランの混合物に、室温で２５モル％のアルミニウ
ムｓｅｃ−ブチラ−トを攪拌しながら、ゆっくりと滴下
した。滴下後、混合物を更に５分間攪拌し、その後１５
℃に冷却した。完全に加水分解擦るのに必要な水量の１
５分の１を、攪拌しながら徐徐に滴下した。更に５分間
攪拌した後、８℃に冷却した。次に、完全に加水分解す
るのに必要な水量の１６分の２を、攪拌しながら徐徐に
滴下した。更に１５分間攪拌した。最後に、加水分解を
完了させ、塗布用の組成物を調製した。次に、上記で調
製した塗布用の組成物を使用し、これを、上記の（１）
で製造した酸化珪素の蒸着膜のプラズマ処理面に、グラ
ビアロ−ルコ−ト法を用いてコ−ティングし、次いで、
１２０℃で１時間乾燥し、コ−ティング量２．０ｇ／ｍ
² （乾燥状態）からなるコ−ティング膜を形成して、障
壁層を製造した。 （３）．他方、アモルファスシリコンからなる太陽電池
素子を並列に配置した厚さ５０μｍのポリアラミドフィ
ルムの表面（太陽電池素子面）に、２液硬化型のポリウ
レタン系樹脂の初期縮合物に、エポキシ系のシランカッ
プリング剤（８．０重量％）とブロッキング防止剤
（１．０重量％）を添加し、十分に混練してなるプライ
マ−樹脂組成物を使用し、これをグラビアロ−ルコ−ト
法により、膜厚０．５ｇ／ｍ² （乾燥状態）になるよう
にコ−ティングしてプライマ−層を形成した。更に、上
記で形成したプライマ−層の面に、２液硬化型のウレタ
ン系アンカ−コ−ト剤を使用し、これを、上記と同様
に、グラビアロ−ルコ−ト法により、膜厚０．１ｇ／ｍ
² （乾燥状態）になるようにコ−ティングしてアンカ−
コ−ト剤層を形成した。次に、上記で形成したアンカ−
コ−ト剤層面に、低密度ポリエチレンを使用し、これを
厚さ３０μｍに溶融押し出ししながら、上記で形成した
膜厚２００Åの酸化珪素の蒸着薄膜とコ−ティング膜と
を有する環状ポリオレフィン系樹脂フィルムからなる障
壁層を押し出しラミネ−ト積層して保護層付太陽電池素
子を製造した。 （４）．更に、上記で製造した保護層付太陽電池素子の
酸化珪素の蒸着薄膜とコ−ティング膜とを有する環状ポ
リオレフィン樹脂フィルムの面に、ベンゾフェノン系紫
外線吸収剤１重量部と熱硬化型アクリル系樹脂液（固形
分２０％）９９重量部とからなる紫外線吸収剤組成物を
グラビアロ−ルコ−ト法を用いてコ−ティングし、膜厚
２．０ｇ／ｍ² （乾燥状態）の紫外線遮蔽層を形成し
た。更に、上記で形成した紫外線遮蔽層の上に、フッ素
樹脂塗布液（商品名、ルミフロン、旭硝子株式会社製）
を使用し、グラビアロ−ルコ−ト法を用いて、コ−ティ
ングし、膜厚２５ｇ／ｍ² （乾燥状態）の塗布膜からな
る耐候性層を形成した。 （５）．他方、厚さ３ｍｍのガラス板の片面に、チタン
プロポオキサンドからなる無機系プライマ−組成物を使
用し、これをグラビアロ−ルコ−ト法を用いて塗布し、
膜厚０．３ｇ／ｍ² （乾燥状態）のプライマ−層を形成
した。次に、上記で形成したプライマ−層の面（最表
面）に、粒径０．０３μｍの酸化チタン超微粒子１０重
量部とテトラエトキシシラン液９０重量部（固形分２０
％）とからなる光触媒塗工液をグラビアロ−ルコ−ト法
を用いて塗布し、膜厚１ｇ／ｍ² （乾燥状態）の防汚層
を形成した。 （６）．次に、上記で障壁層と紫外線遮蔽層と耐候性層
とを形成した太陽電池素子と防汚層を形成した厚さ３ｍ
ｍのガラス板とを使用し、防汚層（最表面）を有する厚
さ３ｍｍのガラス板、厚さ４００μｍのエチレン−酢酸
ビニル共重合体シ−ト、上記の障壁層と紫外線遮蔽層と
耐候性層とを有する太陽電池素子、厚さ４００μｍのエ
チレン−酢酸ビニル共重合体シ−ト、および、厚さ１０
０μｍの環状ポリオレフィン樹脂フィルムを、上記の太
陽電池素子の素子面を上に向けて順次に積層し、更に、
各層間にアクリル系樹脂の接着剤層を介して積層し、次
いで、加熱圧着し、一体化して、本発明にかかる太陽電
池モジュ−ルを製造した。

【００７４】実施例９ （１）．厚さ５０μｍのエチレンとテトラフロロエチレ
ンとのコポリマ−からなるフッ素樹脂フィルム（ＥＴＦ
Ｅ）を使用し、これを巻き取り式真空蒸着装置の送り出
しロ−ルに装着し、次いで、これをコ−ティングドラム
の上に繰り出して、下記の条件で、アルミニウムを蒸着
源に用い、酸素ガスを供給しながら、エレクトロンビ−
ム（ＥＢ）加熱方式による反応真空蒸着法により、上記
のフッ素樹脂フィルム面に、膜厚２２０Åの酸化アルミ
ニウムの蒸着膜を形成した。 （蒸着条件） 蒸着源：アルミニウム 真空チャンバ−内の真空度：７．５×１０^-6ｍｂａｒ 蒸着チャンバ−内の真空度：２．１×１０^-6ｍｂａｒ ＥＢ出力：２５ｋＷ フィルム搬送速度：４８０ｍ／分 次に、上記で膜厚２２０Åの酸化アルミニウムの蒸着膜
を形成した後、その蒸着直後に、その酸化アルミニウム
の蒸着膜面に、グロ−放電プラズマ発生装置を使用し、
プラズマ出力、１５００Ｗ、酸素ガス（Ｏ₂ ）：アルゴ
ンガス（Ａｒ）＝１９：１からなる混合ガスを使用し、
混合ガス圧６×１０^-5Ｔｏｒｒ、処理速度４２０ｍ／ｍ
ｉｎで酸素／アルゴン混合ガスによるプラズマ処理を行
ってプラズマ処理面を形成した。 （２）．次に、エチルシリケ−ト２５ｇ、エタノ−ル２
５ｇ、２Ｎ塩酸１．８６ｇ及び水１．５１ｇを混合し、
８０℃で１〜２時間攪拌した。この時、上記の混合物の
エチルシリケ−トと水のモル比は、１：１．５１であっ
た。次いで、エポキシシラン（東レダウコ−ニング株式
会社製、商品名、ＳＨ６０４０）２．５ｇを加えて攪拌
した。これにポリビニルアルコ−ル（クラレ株式会社
製、重合度 ２０００）を１０％含む水溶液１．７ｇを
加え、更に、１〜２時間攪拌し、次に、透明となった時
点で、Ｎ．Ｎ−ジメチルベンジルアミン３２重量％エタ
ノ−ル溶液０．１ｇを加えて、塗布用の組成物を調製し
た。次いで、上記で調製した塗布用の組成物を使用し、
これを、上記の（１）で製造した酸化アルミニウムの蒸
着膜のプラズマ処理面に、グラビアロ−ルコ−ト法を用
いてコ−ティングし、次いで、１２０℃で１時間乾燥
し、コ−ティング量２．０ｇ／ｍ² （乾燥状態）からな
るコ−ティング膜を形成して、障壁層を製造した。 （３）．他方、アモルファスシリコンからなる太陽電池
素子を並列に配置した厚さ５０μｍのポリアラミドフィ
ルムの表面（太陽電池素子面）に、２液硬化型のポリウ
レタン系樹脂の初期縮合物に、エポキシ系のシランカッ
プリング剤（８．０重量％）とブロッキング防止剤
（１．０重量％）を添加し、十分に混練してなるプライ
マ−樹脂組成物を使用し、これをグラビアロ−ルコ−ト
法により、膜厚０．５ｇ／ｍ² （乾燥状態）になるよう
にコ−ティングしてプライマ−層を形成した。更に、上
記で形成したプライマ−層の面に、紫外線吸収剤とし
て、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤（２．０重量％）を
含有する２液硬化型のウレタン系ラミネ−ト用接着剤を
使用し、これを、上記と同様に、グラビアロ−ルコ−ト
法により、膜厚５．０ｇ／ｍ² （乾燥状態）になるよう
にコ−ティングしてラミネ−ト用接着剤層を形成した。
次に、上記で形成したラミネ−ト用接着剤層面に、上記
で製造した膜厚２２０Åの酸化アルミニウムの蒸着薄膜
とコ−ティング膜とを有するフッ素樹脂フィルムからな
る障壁層のコ−ティング膜面を対向させて重ね合わせ、
しかる後、、その両者をドライラミネ−ト積層して障壁
層を形成して保護層付太陽電池素子を製造した。 （４）．更に、上記で製造した保護層付太陽電池素子の
酸化珪素の蒸着薄膜とコ−ティング膜とを有するフッ素
樹脂フィルムの面に、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤１
重量部と熱硬化型アクリル系樹脂液（固形分２０％）９
９重量部とからなる紫外線吸収剤組成物をグラビアロ−
ルコ−ト法を用いてコ−ティングし、膜厚２．０ｇ／ｍ
² （乾燥状態）の紫外線遮蔽層を形成した。更に、上記
で形成した紫外線遮蔽層の上にに、フッ素樹脂塗布液
（商品名、ルミフロン、旭硝子株式会社製）を使用し、
グラビアロ−ルコ−ト法を用いて、コ−ティングし、膜
厚２５ｇ／ｍ² （乾燥状態）の塗布膜からなる耐候性層
を形成した。 （５）．他方、厚さ３ｍｍのガラス板の片面に、チタン
プロポオキサンドからなる無機系プライマ−組成物を使
用し、これをグラビアロ−ルコ−ト法を用いて塗布し、
膜厚０．３ｇ／ｍ² （乾燥状態）のプライマ−層を形成
した。次に、上記で形成したプライマ−層の面（最表
面）に、粒径０．０３μｍの酸化チタン超微粒子１０重
量部とテトラエトキシシラン液９０重量部（固形分２０
％）とからなる光触媒塗工液をグラビアロ−ルコ−ト法
を用いて塗布し、膜厚１ｇ／ｍ² （乾燥状態）の防汚層
を形成した。 （６）．次に、上記で障壁層と紫外線遮蔽層と耐候性層
とを形成した太陽電池素子と防汚層を形成した厚さ３ｍ
ｍのガラス板とを使用し、防汚層（最表面）を有する厚
さ３ｍｍのガラス板、厚さ４００μｍのエチレン−酢酸
ビニル共重合体シ−ト、上記の障壁層と紫外線遮蔽層と
耐候性層とを有する太陽電池素子、厚さ４００μｍのエ
チレン−酢酸ビニル共重合体シ−ト、および、厚さ１０
０μｍの環状ポリオレフィン樹脂フィルムを、上記の太
陽電池素子の素子面を上に向けて順次に積層し、更に、
各層間にアクリル系樹脂の接着剤層を介して積層し、次
いで、加熱圧着し、一体化して、本発明にかかる太陽電
池モジュ−ルを製造した。

【００７５】比較例１ 厚さ３ｍｍのガラス板、厚さ４００μｍのエチレン−酢
酸ビニル共重合体シ−ト、アモルファスシリコンからな
る太陽電池素子を並列に配置した厚さ５０μｍのポリア
ラミドフィルム、厚さ４００μｍのエチレン−酢酸ビニ
ル共重合体シ−ト、および、厚さ５０μｍの２軸延伸ポ
リエチレンテレフタレ−トフィルムを、その太陽電池素
子面を上に向けて、アクリル系樹脂の接着剤層を介して
積層して、太陽電池モジュ−ルを製造した。

【００７６】比較例２ 厚さ３ｍｍのガラス板、厚さ４００μｍのエチレン−酢
酸ビニル共重合体シ−ト、アモルファスシリコンからな
る太陽電池素子を並列に配置した厚さ５０μｍのポリア
ラミドフィルム、厚さ４００μｍのエチレン−酢酸ビニ
ル共重合体シ−ト、および、厚さ５０μｍのポリフッ化
ビニル樹脂シ−トを対向させて、かつ、その太陽電池素
子面を上に向けて、アクリル系樹脂の接着剤層を介して
積層して、太陽電池モジュ−ルを製造した。

【００７７】
８ 比較例３
．厚さ５０μｍのポリフッ化ビニル
樹脂シ−ト、厚さ４００μｍのエチレン−酢酸ビニル共
重合体シ−ト、アモルファスシリコンからなる太陽電池
素子を並列に配置した厚さ５０μｍのポリアラミドフィ
ルム、厚さ４００μｍのエチレン−酢酸ビニル共重合体
シ−ト、および、厚さ１００μｍのポリジシクロペンタ
ジエン樹脂シ−トを対向させて、かつ、その太陽電池素
子面を上に向けて、アクリル系樹脂の接着剤層を介して
積層して、太陽電池モジュ−ルを製造した。

【００７８】実験例 上記の実施例１〜９で製造した太陽電池モジュ−ルと比
較例１〜３で製造した太陽電池モジュ−ルについて、下
記の評価試験を行った。 （１）．全光線透過率の測定 これは、実施例１〜９にかかる障壁層についてカラ−コ
ンピュ−タ−により全光線透過率（％）を測定した。な
お、太陽電池素子の表面に障壁層を直接設ける場合に
は、厚さ５０μｍの２軸延伸ポリエチレンテレフタレ−
トフィルムの表面に障壁層を形成し、これを測定した。 （２）．太陽電池モジュ−ル評価試験 これは、ＪＩＳ規格Ｃ８９１７−１９８９に基づいて、
太陽電池モジュ−ルの環境試験を行い、試験前後の光起
電力の出力を測定して、比較評価した。 （３）．水蒸気バリア性と酸素バリア性の測定 上記の水蒸気バリア性は、実施例１〜９で製造した本発
明にかかる太陽電池モジュ−ルと比較例１〜３にかかる
太陽電池モジュ−ルにかかる障壁層について、温度４０
℃、湿度９０％ＲＨの条件で、米国、モコン（ＭＯＣＯ
Ｎ）社製の測定機〔機種名、パ−マトラン（ＰＥＲＭＡ
ＴＲＡＮ）〕にて測定し、更に、上記の酸素バリア性
は、上記と同様の対象物について、温度２３℃、湿度９
０％ＲＨの条件で、米国、モコン（ＭＯＣＯＮ）社製の
測定機〔機種名、オクストラン（ＯＸＴＲＡＮ）〕にて
測定した。なお、太陽電池素子の表面に障壁層を直接設
ける場合には、厚さ５０μｍの２軸延伸ポリエチレンテ
レフタレ−トフィルムの表面に障壁層を形成し、これを
測定した。 （４）．防汚性評価試験 これは、１００ｍｍ×１００ｍｍに断裁した太陽電池モ
ジュ−ルの最表面に、ゼロックス用トナ−を０．０１ｇ
／ｍ² の割合で散布し、太陽電池モジュ−ルの環境試験
を行った。なお、表中、○は、汚染は殆ど認められな
い、△は、若干の汚染が認められる、×は、汚染が大部
分残っている、を意味するものである。上記の測定結果
について下記の表１に示す。

【００７９】 上記の表１において、水蒸気透過度の単位は、〔ｇ／ｍ
² ／ｄａｙ・４０℃・１００％ＲＨ〕であり、また、酸
素透過度の単位は、〔ｃｃ／ｍ² ／ｄａｙ・２３℃・９
０％ＲＨ〕である。

【００８０】上記の表１に示す測定結果より明らかなよ
うに、実施例１〜９のものは、水蒸気バリア性、酸素バ
リア性に優れており、更に、障壁層を設けていることか
ら、その出力低下率も低いものであった。これに対し、
比較例１〜３のものは、水蒸気バリア性、酸素バリア性
に劣り、また、障壁層を設けていないことから、その出
力低下率が、高いという問題点があった。

【００８１】

【発明の効果】以上の説明で明らかなよう、本発明は、
太陽電池素子の表面に、少なくとも、水蒸気、酸素ガ
ス、充填剤層を構成する充填剤の劣化ないし分解物、あ
るいは、充填剤層から溶出する添加剤等の１種以上の透
過を阻止する障壁層を設けて保護層付太陽電池素子を製
造し、次いで、該保護層付太陽電池素子を使用し、表面
保護層、充填剤層、保護層付太陽電池素子、充填剤層、
および、裏面保護層の順に順次に積層し、更に、層上あ
るいは層間のいずれかに、少なくとも、防汚層、紫外線
遮蔽層、または、耐候性層の１層あるいはそれ以上を積
層し、次いで、それらを真空吸引して加熱圧着するラミ
ネ−ション法等を利用して一体化して太陽電池モジュ−
ルを製造して、耐候性、耐熱性、耐水性、耐湿性、耐風
圧性、耐降雹性、その他等の諸特性に優れ、極めて耐久
性に富み、その長期的な性能劣化を最小限に抑え、極め
て安定性に優れ、長期間の使用に対し極めて優れた信頼
性を有し、特に、水分、酸素等の侵入を防止する防湿性
を著しく向上させ、かつ、その製造工程を簡略化し、よ
り低コストで安全な太陽電池モジュ−ルを製造し得るこ
とができるというものである。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明にかかる太陽電池モジュ−ルについてそ
の一例の層構成の概略を示す概略的断面図である。

【図２】物理気相成長法による無機酸化物の蒸着膜を形
成する方法についてその概要を示す巻き取り式真空蒸着
装置の概略的構成図である。

【図３】化学気相成長法による無機酸化物の蒸着膜を形
成する方法についてその概要を示す低温プラズマ化学気
相成長装置の概略的構成図である。

【符号の説明】

Ａ 太陽電池モジュ−ル １ 太陽電池素子 Ｐ 太陽電池素子の表面 ２ 障壁層 ３ 保護層付太陽電池素子 ４ 表面保護層 ５ 充填剤層 ６ 裏面保護層 ７ 防汚層 ８ 紫外線遮蔽層 ９ 耐候性層

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 鈴浦 泰樹 東京都新宿区市谷加賀町一丁目１番１号 大日本印刷株式会社内 Ｆターム(参考） 5F051 AA03 AA05 EA18 EA20 HA20

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 表面保護層、充填剤層、太陽電池素子の
   表面に、少なくとも、水蒸気、酸素ガス、分解物、また
   は、添加剤の１種以上の透過を阻止する障壁層を設けた
   構成からなる保護層付太陽電池素子、充填剤層、およ
   び、裏面保護層を順次に積層し、更に、上記の層上ある
   いは層間のいずれかに、少なくとも、防汚層、紫外線遮
   蔽層、または、耐候性層の１層あるいはそれ以上を積層
   し、一体化したことを特徴とする太陽電池モジュ−ル。
2. 【請求項２】 太陽電池素子が、結晶シリコン太陽電池
   素子またはアモルファスシリコン太陽電池素子からなる
   ことを特徴とする上記の請求項１に記載する太陽電池モ
   ジュ−ル。
3. 【請求項３】 障壁層が、樹脂膜、バリア性樹脂膜、無
   機酸化物の蒸着膜、無機酸化物の蒸着膜を設けた樹脂フ
   ィルム、ケイ素化合物の加水分解による重縮合物からな
   る組成物によるコ−ティング膜、または、それらの２種
   以上からなる複合膜からなることを特徴とする上記の請
   求項１〜２に記載する太陽電池モジュ−ル。
4. 【請求項４】 防汚層が、最表面に位置することを特徴
   とする上記の請求項１〜３に記載する太陽電池モジュ−
   ル。