JP2001007368A - 太陽電池モジュ−ル用保護シ−トおよびそれを使用した太陽電池モジュ−ル - Google Patents
太陽電池モジュ−ル用保護シ−トおよびそれを使用した太陽電池モジュ−ルInfo
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- 230000001681 protective effect Effects 0.000 title claims abstract description 85
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 111
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 105
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 52
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 50
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 claims abstract description 40
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 claims abstract description 39
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 claims abstract description 39
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 34
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 21
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims abstract description 21
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 21
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 claims abstract description 8
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 169
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 169
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 105
- 229910052809 inorganic oxide Inorganic materials 0.000 claims description 93
- 239000000945 filler Substances 0.000 claims description 37
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 claims description 29
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 claims description 28
- 238000010030 laminating Methods 0.000 claims description 23
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 21
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical group [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 21
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 claims description 20
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 claims description 19
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 claims description 15
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 15
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 15
- 229920005672 polyolefin resin Polymers 0.000 claims description 15
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 14
- 230000035699 permeability Effects 0.000 claims description 14
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 claims description 12
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims description 12
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 238000003475 lamination Methods 0.000 claims description 12
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 12
- 239000002131 composite material Substances 0.000 claims description 10
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 claims description 8
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 claims description 8
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 claims description 8
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 claims description 8
- 239000010936 titanium Chemical group 0.000 claims description 7
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 6
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 6
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical group [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical group [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 238000007906 compression Methods 0.000 claims description 4
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 claims description 3
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical group [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 230000006835 compression Effects 0.000 claims description 3
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N vanadium Chemical group [V]#[V] GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 230000005865 ionizing radiation Effects 0.000 claims description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 45
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 37
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 abstract description 37
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 abstract description 33
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 27
- 230000008021 deposition Effects 0.000 abstract description 18
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 abstract description 5
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 abstract 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 339
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 101
- 229920002620 polyvinyl fluoride Polymers 0.000 description 82
- -1 polypropylene Polymers 0.000 description 80
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 44
- 239000005038 ethylene vinyl acetate Substances 0.000 description 40
- 229920001200 poly(ethylene-vinyl acetate) Polymers 0.000 description 40
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 38
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 38
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 35
- 229920000840 ethylene tetrafluoroethylene copolymer Polymers 0.000 description 32
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 28
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 27
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 27
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 25
- 229910021417 amorphous silicon Inorganic materials 0.000 description 25
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 25
- 239000002585 base Substances 0.000 description 24
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 23
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 description 23
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 20
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 17
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 16
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 16
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 15
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 description 15
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 15
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 13
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 13
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 12
- 238000000623 plasma-assisted chemical vapour deposition Methods 0.000 description 12
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 11
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 11
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 description 10
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 10
- LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N silicon monoxide Chemical compound [Si-]#[O+] LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 9
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 9
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 8
- 208000028659 discharge Diseases 0.000 description 8
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 description 8
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 8
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 7
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 7
- 238000003851 corona treatment Methods 0.000 description 7
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 7
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 7
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 7
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229920001153 Polydicyclopentadiene Polymers 0.000 description 6
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 6
- 230000003373 anti-fouling effect Effects 0.000 description 6
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 6
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 6
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 6
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 6
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 6
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 6
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 6
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 description 6
- 238000006068 polycondensation reaction Methods 0.000 description 6
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 6
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 6
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 6
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 6
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 6
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 5
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 5
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 5
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 5
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 5
- UQEAIHBTYFGYIE-UHFFFAOYSA-N hexamethyldisiloxane Chemical compound C[Si](C)(C)O[Si](C)(C)C UQEAIHBTYFGYIE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- 150000002902 organometallic compounds Chemical class 0.000 description 5
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 5
- 229920013716 polyethylene resin Polymers 0.000 description 5
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 5
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 4
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 4
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 4
- 229920000122 acrylonitrile butadiene styrene Polymers 0.000 description 4
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N benzoin Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 4
- 239000012461 cellulose resin Substances 0.000 description 4
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 4
- ZSWFCLXCOIISFI-UHFFFAOYSA-N cyclopentadiene Chemical compound C1C=CC=C1 ZSWFCLXCOIISFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 4
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 4
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 4
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 4
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 4
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 4
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 4
- 229920006324 polyoxymethylene Polymers 0.000 description 4
- 229920005990 polystyrene resin Polymers 0.000 description 4
- 229920005749 polyurethane resin Polymers 0.000 description 4
- 239000000047 product Substances 0.000 description 4
- 239000012495 reaction gas Substances 0.000 description 4
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 4
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 4
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 4
- BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N tetrafluoroethene Chemical group FC(F)=C(F)F BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 1,1-Diethoxyethane Chemical compound CCOC(C)OCC DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920000219 Ethylene vinyl alcohol Polymers 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920001328 Polyvinylidene chloride Polymers 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 3
- 239000011354 acetal resin Substances 0.000 description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 3
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 3
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 3
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 3
- 229910021419 crystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 3
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 3
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 3
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 3
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 3
- 239000003063 flame retardant Substances 0.000 description 3
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 3
- 229920000554 ionomer Polymers 0.000 description 3
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 3
- 239000004611 light stabiliser Substances 0.000 description 3
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 3
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229940117841 methacrylic acid copolymer Drugs 0.000 description 3
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 3
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 3
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 3
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 description 3
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 description 3
- 239000005033 polyvinylidene chloride Substances 0.000 description 3
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 3
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 3
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 3
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 3
- 239000002335 surface treatment layer Substances 0.000 description 3
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 3
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 3
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 3
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 3
- HECLRDQVFMWTQS-RGOKHQFPSA-N 1755-01-7 Chemical compound C1[C@H]2[C@@H]3CC=C[C@@H]3[C@@H]1C=C2 HECLRDQVFMWTQS-RGOKHQFPSA-N 0.000 description 2
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N Dimethyl ether Chemical compound COC LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 2
- RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N Isoprene Chemical compound CC(=C)C=C RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 244000028419 Styrax benzoin Species 0.000 description 2
- 235000000126 Styrax benzoin Nutrition 0.000 description 2
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000008411 Sumatra benzointree Nutrition 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XECAHXYUAAWDEL-UHFFFAOYSA-N acrylonitrile butadiene styrene Chemical compound C=CC=C.C=CC#N.C=CC1=CC=CC=C1 XECAHXYUAAWDEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004676 acrylonitrile butadiene styrene Substances 0.000 description 2
- 229920001893 acrylonitrile styrene Polymers 0.000 description 2
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 2
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000304 alkynyl group Chemical group 0.000 description 2
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 2
- 229960002130 benzoin Drugs 0.000 description 2
- QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N benzotriazole Chemical compound C1=CC=C2N[N][N]C2=C1 QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012964 benzotriazole Substances 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N bis[2-(1-hydroxycyclohexyl)phenyl]methanone Chemical compound C=1C=CC=C(C(=O)C=2C(=CC=CC=2)C2(O)CCCCC2)C=1C1(O)CCCCC1 MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 2
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 2
- MGNZXYYWBUKAII-UHFFFAOYSA-N cyclohexa-1,3-diene Chemical compound C1CC=CC=C1 MGNZXYYWBUKAII-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 2
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 2
- FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C=C FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C=C NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920006242 ethylene acrylic acid copolymer Polymers 0.000 description 2
- 229920005648 ethylene methacrylic acid copolymer Polymers 0.000 description 2
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 2
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 2
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 description 2
- 235000019382 gum benzoic Nutrition 0.000 description 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 description 2
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 2
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 2
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 2
- 238000007759 kiss coating Methods 0.000 description 2
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 2
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 2
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 2
- SJYNFBVQFBRSIB-UHFFFAOYSA-N norbornadiene Chemical compound C1=CC2C=CC1C2 SJYNFBVQFBRSIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 2
- 238000001782 photodegradation Methods 0.000 description 2
- 229920002493 poly(chlorotrifluoroethylene) Polymers 0.000 description 2
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 2
- 239000005023 polychlorotrifluoroethylene (PCTFE) polymer Substances 0.000 description 2
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 2
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 2
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 2
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 2
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 2
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002987 primer (paints) Substances 0.000 description 2
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 2
- SCUZVMOVTVSBLE-UHFFFAOYSA-N prop-2-enenitrile;styrene Chemical compound C=CC#N.C=CC1=CC=CC=C1 SCUZVMOVTVSBLE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N propylene Natural products CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 2
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 2
- 239000012429 reaction media Substances 0.000 description 2
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 2
- 239000012744 reinforcing agent Substances 0.000 description 2
- VSZWPYCFIRKVQL-UHFFFAOYSA-N selanylidenegallium;selenium Chemical compound [Se].[Se]=[Ga].[Se]=[Ga] VSZWPYCFIRKVQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 2
- 238000010345 tape casting Methods 0.000 description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 2
- VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N yttrium atom Chemical compound [Y] VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 2
- BQCIDUSAKPWEOX-UHFFFAOYSA-N 1,1-Difluoroethene Chemical compound FC(F)=C BQCIDUSAKPWEOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MSAHTMIQULFMRG-UHFFFAOYSA-N 1,2-diphenyl-2-propan-2-yloxyethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC(C)C)C(=O)C1=CC=CC=C1 MSAHTMIQULFMRG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012956 1-hydroxycyclohexylphenyl-ketone Substances 0.000 description 1
- RNFJDJUURJAICM-UHFFFAOYSA-N 2,2,4,4,6,6-hexaphenoxy-1,3,5-triaza-2$l^{5},4$l^{5},6$l^{5}-triphosphacyclohexa-1,3,5-triene Chemical compound N=1P(OC=2C=CC=CC=2)(OC=2C=CC=CC=2)=NP(OC=2C=CC=CC=2)(OC=2C=CC=CC=2)=NP=1(OC=1C=CC=CC=1)OC1=CC=CC=C1 RNFJDJUURJAICM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIZHFBODNLEQBL-UHFFFAOYSA-N 2,2-diethoxy-1-phenylethanone Chemical compound CCOC(OCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 PIZHFBODNLEQBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCDADJXRUCOCJE-UHFFFAOYSA-N 2-chlorothioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(Cl)=CC=C3SC2=C1 ZCDADJXRUCOCJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JMMZCWZIJXAGKW-UHFFFAOYSA-N 2-methylpent-2-ene Chemical compound CCC=C(C)C JMMZCWZIJXAGKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYISVPVWAQRUTL-UHFFFAOYSA-N 2-methylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(C)=CC=C3SC2=C1 MYISVPVWAQRUTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KTALPKYXQZGAEG-UHFFFAOYSA-N 2-propan-2-ylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(C(C)C)=CC=C3SC2=C1 KTALPKYXQZGAEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001494 2-propynyl group Chemical group [H]C#CC([H])([H])* 0.000 description 1
- XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BMVWCPGVLSILMU-UHFFFAOYSA-N 5,6-dihydrodibenzo[2,1-b:2',1'-f][7]annulen-11-one Chemical compound C1CC2=CC=CC=C2C(=O)C2=CC=CC=C21 BMVWCPGVLSILMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N Benzoylperoxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KZBUYRJDOAKODT-UHFFFAOYSA-N Chlorine Chemical compound ClCl KZBUYRJDOAKODT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OWYWGLHRNBIFJP-UHFFFAOYSA-N Ipazine Chemical compound CCN(CC)C1=NC(Cl)=NC(NC(C)C)=N1 OWYWGLHRNBIFJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004640 Melamine resin Substances 0.000 description 1
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000020 Nitrocellulose Substances 0.000 description 1
- 239000002033 PVDF binder Substances 0.000 description 1
- 229920001774 Perfluoroether Polymers 0.000 description 1
- 229920002845 Poly(methacrylic acid) Polymers 0.000 description 1
- 229930182556 Polyacetal Natural products 0.000 description 1
- 239000004962 Polyamide-imide Substances 0.000 description 1
- 239000004695 Polyether sulfone Substances 0.000 description 1
- 239000004734 Polyphenylene sulfide Substances 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MBHRHUJRKGNOKX-UHFFFAOYSA-N [(4,6-diamino-1,3,5-triazin-2-yl)amino]methanol Chemical compound NC1=NC(N)=NC(NCO)=N1 MBHRHUJRKGNOKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KTSFMFGEAAANTF-UHFFFAOYSA-N [Cu].[Se].[Se].[In] Chemical compound [Cu].[Se].[Se].[In] KTSFMFGEAAANTF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RMKZLFMHXZAGTM-UHFFFAOYSA-N [dimethoxy(propyl)silyl]oxymethyl prop-2-enoate Chemical compound CCC[Si](OC)(OC)OCOC(=O)C=C RMKZLFMHXZAGTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001241 acetals Chemical class 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000003463 adsorbent Substances 0.000 description 1
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 229910001854 alkali hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001860 alkaline earth metal hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003973 alkyl amines Chemical class 0.000 description 1
- 125000005087 alkynylcarbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 230000000843 anti-fungal effect Effects 0.000 description 1
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000007611 bar coating method Methods 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 235000019400 benzoyl peroxide Nutrition 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- DQXBYHZEEUGOBF-UHFFFAOYSA-N but-3-enoic acid;ethene Chemical compound C=C.OC(=O)CC=C DQXBYHZEEUGOBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004369 butenyl group Chemical group C(=CCC)* 0.000 description 1
- AXCZMVOFGPJBDE-UHFFFAOYSA-L calcium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Ca+2] AXCZMVOFGPJBDE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000000920 calcium hydroxide Substances 0.000 description 1
- 229910001861 calcium hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004202 carbamide Substances 0.000 description 1
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 description 1
- 238000010538 cationic polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 1
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 1
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 239000013043 chemical agent Substances 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- UUAGAQFQZIEFAH-UHFFFAOYSA-N chlorotrifluoroethylene Chemical group FC(F)=C(F)Cl UUAGAQFQZIEFAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000013329 compounding Methods 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 150000004696 coordination complex Chemical class 0.000 description 1
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 1
- 238000007766 curtain coating Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 239000012933 diacyl peroxide Substances 0.000 description 1
- 150000001983 dialkylethers Chemical class 0.000 description 1
- 150000001993 dienes Chemical class 0.000 description 1
- UCXUKTLCVSGCNR-UHFFFAOYSA-N diethylsilane Chemical compound CC[SiH2]CC UCXUKTLCVSGCNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXBDWLFCJWSEKW-UHFFFAOYSA-N dimethylbenzylamine Chemical compound CN(C)CC1=CC=CC=C1 XXBDWLFCJWSEKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UBHZUDXTHNMNLD-UHFFFAOYSA-N dimethylsilane Chemical compound C[SiH2]C UBHZUDXTHNMNLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 1
- 230000032050 esterification Effects 0.000 description 1
- 238000005886 esterification reaction Methods 0.000 description 1
- GCSJLQSCSDMKTP-UHFFFAOYSA-N ethenyl(trimethyl)silane Chemical compound C[Si](C)(C)C=C GCSJLQSCSDMKTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WOXXJEVNDJOOLV-UHFFFAOYSA-N ethenyl-tris(2-methoxyethoxy)silane Chemical compound COCCO[Si](OCCOC)(OCCOC)C=C WOXXJEVNDJOOLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003754 ethoxycarbonyl group Chemical group C(=O)(OCC)* 0.000 description 1
- 125000004672 ethylcarbonyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 1
- 239000004715 ethylene vinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- 229920006226 ethylene-acrylic acid Polymers 0.000 description 1
- 229920006244 ethylene-ethyl acrylate Polymers 0.000 description 1
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 1
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 1
- 239000012467 final product Substances 0.000 description 1
- 238000007667 floating Methods 0.000 description 1
- XUCNUKMRBVNAPB-UHFFFAOYSA-N fluoroethene Chemical compound FC=C XUCNUKMRBVNAPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004088 foaming agent Substances 0.000 description 1
- 230000000855 fungicidal effect Effects 0.000 description 1
- 239000000417 fungicide Substances 0.000 description 1
- 238000007646 gravure printing Methods 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- RZXDTJIXPSCHCI-UHFFFAOYSA-N hexa-1,5-diene-2,5-diol Chemical compound OC(=C)CCC(O)=C RZXDTJIXPSCHCI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NEXSMEBSBIABKL-UHFFFAOYSA-N hexamethyldisilane Chemical compound C[Si](C)(C)[Si](C)(C)C NEXSMEBSBIABKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001903 high density polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000004700 high-density polyethylene Substances 0.000 description 1
- 150000004677 hydrates Chemical class 0.000 description 1
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000006698 induction Effects 0.000 description 1
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 description 1
- 229910001867 inorganic solvent Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003049 inorganic solvent Substances 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 238000012690 ionic polymerization Methods 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 238000004898 kneading Methods 0.000 description 1
- 238000009685 knife-over-roll coating Methods 0.000 description 1
- 229920000092 linear low density polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000004707 linear low-density polyethylene Substances 0.000 description 1
- 229920001684 low density polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000004702 low-density polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 1
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004949 mass spectrometry Methods 0.000 description 1
- 229920001179 medium density polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000004701 medium-density polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 229920003145 methacrylic acid copolymer Polymers 0.000 description 1
- 125000005395 methacrylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001160 methoxycarbonyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC(*)=O 0.000 description 1
- UIUXUFNYAYAMOE-UHFFFAOYSA-N methylsilane Chemical compound [SiH3]C UIUXUFNYAYAMOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N methyltrimethoxysilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)OC BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021424 microcrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000002808 molecular sieve Substances 0.000 description 1
- 125000006606 n-butoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 229920001220 nitrocellulos Polymers 0.000 description 1
- HMMGMWAXVFQUOA-UHFFFAOYSA-N octamethylcyclotetrasiloxane Chemical compound C[Si]1(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O1 HMMGMWAXVFQUOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007645 offset printing Methods 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 150000001451 organic peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000005375 organosiloxane group Chemical group 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000005634 peroxydicarbonate group Chemical group 0.000 description 1
- PARWUHTVGZSQPD-UHFFFAOYSA-N phenylsilane Chemical compound [SiH3]C1=CC=CC=C1 PARWUHTVGZSQPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-L phthalate(2-) Chemical compound [O-]C(=O)C1=CC=CC=C1C([O-])=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 229920000765 poly(2-oxazolines) Polymers 0.000 description 1
- 229920000233 poly(alkylene oxides) Polymers 0.000 description 1
- 229920003207 poly(ethylene-2,6-naphthalate) Polymers 0.000 description 1
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 description 1
- 229920002312 polyamide-imide Polymers 0.000 description 1
- 229920001083 polybutene Polymers 0.000 description 1
- 229920006393 polyether sulfone Polymers 0.000 description 1
- 239000011112 polyethylene naphthalate Substances 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 1
- 229920000069 polyphenylene sulfide Polymers 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 229920001289 polyvinyl ether Polymers 0.000 description 1
- 229920002981 polyvinylidene fluoride Polymers 0.000 description 1
- 229920000036 polyvinylpyrrolidone Polymers 0.000 description 1
- 239000001267 polyvinylpyrrolidone Substances 0.000 description 1
- 235000013855 polyvinylpyrrolidone Nutrition 0.000 description 1
- 238000010248 power generation Methods 0.000 description 1
- 238000007781 pre-processing Methods 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 230000002250 progressing effect Effects 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIDUKLCLJMXFEO-UHFFFAOYSA-N propylsilane Chemical compound CCC[SiH3] UIDUKLCLJMXFEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 230000003014 reinforcing effect Effects 0.000 description 1
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 1
- 125000005920 sec-butoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 238000009751 slip forming Methods 0.000 description 1
- URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N sodium aluminosilicate Chemical compound [Na+].[Al+3].[O-][Si]([O-])=O.[O-][Si]([O-])=O URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 238000000992 sputter etching Methods 0.000 description 1
- 230000035882 stress Effects 0.000 description 1
- 125000005017 substituted alkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000005211 surface analysis Methods 0.000 description 1
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 1
- GJBRNHKUVLOCEB-UHFFFAOYSA-N tert-butyl benzenecarboperoxoate Chemical compound CC(C)(C)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 GJBRNHKUVLOCEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N tetramethyl orthosilicate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)OC LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CZDYPVPMEAXLPK-UHFFFAOYSA-N tetramethylsilane Chemical compound C[Si](C)(C)C CZDYPVPMEAXLPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002230 thermal chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 238000001029 thermal curing Methods 0.000 description 1
- 238000010023 transfer printing Methods 0.000 description 1
- GQIUQDDJKHLHTB-UHFFFAOYSA-N trichloro(ethenyl)silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)C=C GQIUQDDJKHLHTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N triethoxy(methyl)silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)OCC CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(phenyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C1=CC=CC=C1 ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PQDJYEQOELDLCP-UHFFFAOYSA-N trimethylsilane Chemical compound C[SiH](C)C PQDJYEQOELDLCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001567 vinyl ester resin Polymers 0.000 description 1
- 239000005050 vinyl trichlorosilane Substances 0.000 description 1
- 238000004383 yellowing Methods 0.000 description 1
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- H01L31/04—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof adapted as photovoltaic [PV] conversion devices
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 強度に優れ、かつ、耐候性、耐熱性、耐水
性、耐光性、耐風圧性、耐降雹性、耐薬品性、防湿性、
防汚性、その他等の諸特性に優れ、特に、水分、酸素等
の侵入を防止する防湿性を著しく向上させ、その長期的
な性能劣化を最小限に抑え、極めて耐久性に富み、保護
能力性に優れ、かつ、より低コストで安全な太陽電池モ
ジュ−ルを構成する表面または裏面保護シ−トを安定的
に提供することである。 【解決手段】 プラスチックシ−トの一方の面に、無機
酸化物の蒸着膜を設け、更に、該無機酸化物の蒸着膜の
上に、ケイ素化合物の加水分解による重縮合物からなる
組成物によるコ−ティング膜を設けたことを特徴とする
太陽電池モジュ−ル用保護シ−トおよびそれを使用した
太陽電池モジュ−ルに関するものである。
性、耐光性、耐風圧性、耐降雹性、耐薬品性、防湿性、
防汚性、その他等の諸特性に優れ、特に、水分、酸素等
の侵入を防止する防湿性を著しく向上させ、その長期的
な性能劣化を最小限に抑え、極めて耐久性に富み、保護
能力性に優れ、かつ、より低コストで安全な太陽電池モ
ジュ−ルを構成する表面または裏面保護シ−トを安定的
に提供することである。 【解決手段】 プラスチックシ−トの一方の面に、無機
酸化物の蒸着膜を設け、更に、該無機酸化物の蒸着膜の
上に、ケイ素化合物の加水分解による重縮合物からなる
組成物によるコ−ティング膜を設けたことを特徴とする
太陽電池モジュ−ル用保護シ−トおよびそれを使用した
太陽電池モジュ−ルに関するものである。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、太陽電池モジュ−
ル用保護シ−トおよびそれを使用した太陽電池モジュ−
ルに関するものであり、更に詳しくは、強度に優れ、か
つ、耐候性、耐熱性、耐水性、耐光性、耐風圧性、耐降
雹性、耐薬品性、防湿性、防汚性、その他等の諸特性に
優れ、極めて耐久性に富み、保護能力性に優れた太陽電
池モジュ−ル用表面または裏面保護シ−トおよびそれを
使用した太陽電池モジュ−ルに関するものである。
ル用保護シ−トおよびそれを使用した太陽電池モジュ−
ルに関するものであり、更に詳しくは、強度に優れ、か
つ、耐候性、耐熱性、耐水性、耐光性、耐風圧性、耐降
雹性、耐薬品性、防湿性、防汚性、その他等の諸特性に
優れ、極めて耐久性に富み、保護能力性に優れた太陽電
池モジュ−ル用表面または裏面保護シ−トおよびそれを
使用した太陽電池モジュ−ルに関するものである。
【0002】
【従来の技術】近年、環境問題に対する意識の高まりか
ら、クリ−ンなエネルギ−源としての太陽電池が注目さ
れ、現在、種々の形態からなる太陽電池モジュ−ルが開
発され、提案されている。一般に、上記の太陽電池モジ
ュ−ルは、例えば、結晶シリコン太陽電池素子あるいは
アモルファスシリコン太陽電池素子等を製造し、そのよ
うな太陽電池素子を使用し、表面保護シ−ト層、充填剤
層、光起電力素子としての太陽電池素子、充填剤層、お
よび、裏面保護シ−ト層等の順に積層し、真空吸引して
加熱圧着するラミネ−ション法等を利用して製造されて
いる。而して、上記の太陽電池モジュ−ルは、当初、電
卓への適用を始めとし、その後、各種の電子機器等に応
用され、民生用の利用として、その応用範囲は急速に広
まりつつあり、更に、今後、最も重要な課題として、大
規模集中型太陽電池発電の実現であるとされている。
ら、クリ−ンなエネルギ−源としての太陽電池が注目さ
れ、現在、種々の形態からなる太陽電池モジュ−ルが開
発され、提案されている。一般に、上記の太陽電池モジ
ュ−ルは、例えば、結晶シリコン太陽電池素子あるいは
アモルファスシリコン太陽電池素子等を製造し、そのよ
うな太陽電池素子を使用し、表面保護シ−ト層、充填剤
層、光起電力素子としての太陽電池素子、充填剤層、お
よび、裏面保護シ−ト層等の順に積層し、真空吸引して
加熱圧着するラミネ−ション法等を利用して製造されて
いる。而して、上記の太陽電池モジュ−ルは、当初、電
卓への適用を始めとし、その後、各種の電子機器等に応
用され、民生用の利用として、その応用範囲は急速に広
まりつつあり、更に、今後、最も重要な課題として、大
規模集中型太陽電池発電の実現であるとされている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上記の太陽
電池モジュ−ルを構成する保護シ−ト層としては、例え
ば、表面保護シ−ト層の場合は、現在、ガラス板等が、
最も一般的に使用され、その他、近年、フッ素系樹脂シ
−ト等のプラスチック基材等も注目され、その開発が、
急速に進められている。また、上記の太陽電池モジュ−
ルを構成する裏面保護シ−ト層の場合は、現在、強度に
優れたプラスチック基材等が、最も一般的に使用され、
その他、金属板等も使用されている。而して、一般に、
太陽電池モジュ−ルを構成する保護シ−ト層としては、
例えば、表面保護シ−ト層の場合は、太陽電池が、太陽
光を吸収して光起電力することから、太陽光を透過する
透過性に富むと共に強度に優れ、かつ、耐候性、耐熱
性、耐水性、耐光性、耐風圧性、耐降雹性、耐薬品性等
の諸堅牢性に優れ、特に、水分、酸素等の侵入を防止す
る防湿性に優れ、更に、表面硬度が高く、かつ、表面の
汚れ、ゴミ等の蓄積を防止する防汚性に優れ、極めて耐
久性に富み、その保護能力性が高いこと、その他等の条
件を充足することが必要とされ、また、裏面保護シ−ト
層の場合も、ほぼ、上記の表面保護シ−ト層の場合と同
様な条件を充足することが必要とされている。しかしな
がら、例えば、太陽電池モジュ−ルを構成する表面保護
シ−ト層として、現在、最も一般的に使用されているガ
ラス板等は、太陽光の透過性に優れ、かつ、耐候性、耐
熱性、耐水性、耐光性、耐薬品性等の諸堅牢性に優れ、
また、防湿性にも優れ、更に、表面硬度が硬く、かつ、
表面の汚れ、ゴミ等の蓄積を防止する防汚性に優れ、そ
の保護能力性が高い等の利点を有するが、強度、可塑
性、耐衝撃性、軽量性等に欠け、更に、その加工性、施
工性等に劣り、かつ、低コスト化等に欠けるという問題
点がある。また、上記の太陽電池モジュ−ルを構成する
表面保護シ−ト層として、フッ素系樹脂等のプラスチッ
ク基材等を使用する場合には、ガラス板等と比較して、
強度、可塑性、耐衝撃性、軽量性等に富むものではある
が、耐候性、耐熱性、耐水性、耐光性、耐薬品性等の諸
堅牢性に劣り、特に、防湿性、防汚性等に欠けるという
問題点がある。また、上記の太陽電池モジュ−ルを構成
する裏面保護シ−ト層として、強度に優れたプラスチッ
ク基材等を使用する場合には、強度、可塑性、耐衝撃
性、軽量性、低コスト化等に富むものではあるが、耐候
性、耐熱性、耐水性、耐光性、耐薬品性等の諸堅牢性に
劣り、特に、防湿性、防汚性等に欠けるという問題点が
ある。
電池モジュ−ルを構成する保護シ−ト層としては、例え
ば、表面保護シ−ト層の場合は、現在、ガラス板等が、
最も一般的に使用され、その他、近年、フッ素系樹脂シ
−ト等のプラスチック基材等も注目され、その開発が、
急速に進められている。また、上記の太陽電池モジュ−
ルを構成する裏面保護シ−ト層の場合は、現在、強度に
優れたプラスチック基材等が、最も一般的に使用され、
その他、金属板等も使用されている。而して、一般に、
太陽電池モジュ−ルを構成する保護シ−ト層としては、
例えば、表面保護シ−ト層の場合は、太陽電池が、太陽
光を吸収して光起電力することから、太陽光を透過する
透過性に富むと共に強度に優れ、かつ、耐候性、耐熱
性、耐水性、耐光性、耐風圧性、耐降雹性、耐薬品性等
の諸堅牢性に優れ、特に、水分、酸素等の侵入を防止す
る防湿性に優れ、更に、表面硬度が高く、かつ、表面の
汚れ、ゴミ等の蓄積を防止する防汚性に優れ、極めて耐
久性に富み、その保護能力性が高いこと、その他等の条
件を充足することが必要とされ、また、裏面保護シ−ト
層の場合も、ほぼ、上記の表面保護シ−ト層の場合と同
様な条件を充足することが必要とされている。しかしな
がら、例えば、太陽電池モジュ−ルを構成する表面保護
シ−ト層として、現在、最も一般的に使用されているガ
ラス板等は、太陽光の透過性に優れ、かつ、耐候性、耐
熱性、耐水性、耐光性、耐薬品性等の諸堅牢性に優れ、
また、防湿性にも優れ、更に、表面硬度が硬く、かつ、
表面の汚れ、ゴミ等の蓄積を防止する防汚性に優れ、そ
の保護能力性が高い等の利点を有するが、強度、可塑
性、耐衝撃性、軽量性等に欠け、更に、その加工性、施
工性等に劣り、かつ、低コスト化等に欠けるという問題
点がある。また、上記の太陽電池モジュ−ルを構成する
表面保護シ−ト層として、フッ素系樹脂等のプラスチッ
ク基材等を使用する場合には、ガラス板等と比較して、
強度、可塑性、耐衝撃性、軽量性等に富むものではある
が、耐候性、耐熱性、耐水性、耐光性、耐薬品性等の諸
堅牢性に劣り、特に、防湿性、防汚性等に欠けるという
問題点がある。また、上記の太陽電池モジュ−ルを構成
する裏面保護シ−ト層として、強度に優れたプラスチッ
ク基材等を使用する場合には、強度、可塑性、耐衝撃
性、軽量性、低コスト化等に富むものではあるが、耐候
性、耐熱性、耐水性、耐光性、耐薬品性等の諸堅牢性に
劣り、特に、防湿性、防汚性等に欠けるという問題点が
ある。
【0004】次にまた、上記の太陽電池モジュ−ルを構
成する表面ないし裏面保護シ−ト層においては、特に、
水蒸気、酸素ガス等の透過を防止するガスバリア性に優
れた材料を使用することが提案され、その一つとして、
アルミニウム箔が最も一般的に使用されている。しかし
ながら、上記のアルミニウム箔は、ガスバリア性に極め
て優れているが、使用後の廃棄処理が問題になっている
他に、基本的には、不透明であり、内容物を外から透視
することができないと言う問題点がある。また、ガスバ
リア性に優れた材料として、例えば、ポリ塩化ビニリデ
ン系樹脂、あるいは、ポリビニルアルコ−ル若しくはエ
チレン−ビニルアルコ−ル共重合体等のガスバリア性に
優れた樹脂膜を使用することも提案されているが、前者
のポリ塩化ビニリデン系樹脂等からなる樹脂膜の場合に
は、焼却処理において塩素系ガス等を発生し、環境対応
に適さないという問題点があり、更に、基本的には、ガ
スバリア性が必ずしも十分ではなく、高度なガスバリア
性を要求される場合には不向きであり、また、後者のポ
リビニルアルコ−ル若しくはエチレン−ビニルアルコ−
ル共重合体等からなる樹脂膜の場合には、絶乾条件にお
いては、比較的に、優れたガスバリア性を有するが、水
蒸気ガスバリア性が十分ではなく、また、湿度条件で酸
素ガスバリア性が悪化することから、現実的には、ガス
バリア性材料としては使用することに難点があるもので
ある。更に、近年、ガスバリア性に優れた材料として、
例えば、真空蒸着法等の物理気相成長法、あるいは、低
温プラズマ化学蒸着法等の化学気相成長法等を用いて、
酸化珪素、酸化アルミニウム等の無機酸化物の蒸着膜か
らなるガスバリア性膜を使用することが提案されてい
る。しかしながら、上記の無機酸化物の蒸着膜からなる
ガスバリア性膜は、無機酸化物粒子の積み重ねで形成さ
れており、膜内に必然的に欠陥構造を含むために、ガス
バリア性に限界があり、更に、ガラス質の膜構造である
ことから、耐屈曲性に劣り、機械的ストレスにより膜に
クラック等を発生し、ガスバリア性が著しく劣化すると
いう問題点が指摘されている。このため、上記の無機酸
化物の蒸着膜からなるガスバリア性膜においては、多段
蒸着法等を用いて、2層以上からなる多段蒸着膜からな
るガスバリア性膜、あるいは、上記の無機酸化物の蒸着
膜と上記のガスバリア性に優れた樹脂膜とからなる複合
膜からなるガスバリア性膜等も提案されているが、これ
についても十分に満足し得るものであるとい言い得ない
というのが実状である。そこで本発明は、強度に優れ、
かつ、耐候性、耐熱性、耐水性、耐光性、耐風圧性、耐
降雹性、耐薬品性、防湿性、防汚性、その他等の諸特性
に優れ、特に、水分、酸素等の侵入を防止する防湿性を
著しく向上させ、その長期的な性能劣化を最小限に抑
え、極めて耐久性に富み、保護能力性に優れ、かつ、よ
り低コストで安全な太陽電池モジュ−ルを構成する表面
または裏面保護シ−トを安定的に提供することである。
成する表面ないし裏面保護シ−ト層においては、特に、
水蒸気、酸素ガス等の透過を防止するガスバリア性に優
れた材料を使用することが提案され、その一つとして、
アルミニウム箔が最も一般的に使用されている。しかし
ながら、上記のアルミニウム箔は、ガスバリア性に極め
て優れているが、使用後の廃棄処理が問題になっている
他に、基本的には、不透明であり、内容物を外から透視
することができないと言う問題点がある。また、ガスバ
リア性に優れた材料として、例えば、ポリ塩化ビニリデ
ン系樹脂、あるいは、ポリビニルアルコ−ル若しくはエ
チレン−ビニルアルコ−ル共重合体等のガスバリア性に
優れた樹脂膜を使用することも提案されているが、前者
のポリ塩化ビニリデン系樹脂等からなる樹脂膜の場合に
は、焼却処理において塩素系ガス等を発生し、環境対応
に適さないという問題点があり、更に、基本的には、ガ
スバリア性が必ずしも十分ではなく、高度なガスバリア
性を要求される場合には不向きであり、また、後者のポ
リビニルアルコ−ル若しくはエチレン−ビニルアルコ−
ル共重合体等からなる樹脂膜の場合には、絶乾条件にお
いては、比較的に、優れたガスバリア性を有するが、水
蒸気ガスバリア性が十分ではなく、また、湿度条件で酸
素ガスバリア性が悪化することから、現実的には、ガス
バリア性材料としては使用することに難点があるもので
ある。更に、近年、ガスバリア性に優れた材料として、
例えば、真空蒸着法等の物理気相成長法、あるいは、低
温プラズマ化学蒸着法等の化学気相成長法等を用いて、
酸化珪素、酸化アルミニウム等の無機酸化物の蒸着膜か
らなるガスバリア性膜を使用することが提案されてい
る。しかしながら、上記の無機酸化物の蒸着膜からなる
ガスバリア性膜は、無機酸化物粒子の積み重ねで形成さ
れており、膜内に必然的に欠陥構造を含むために、ガス
バリア性に限界があり、更に、ガラス質の膜構造である
ことから、耐屈曲性に劣り、機械的ストレスにより膜に
クラック等を発生し、ガスバリア性が著しく劣化すると
いう問題点が指摘されている。このため、上記の無機酸
化物の蒸着膜からなるガスバリア性膜においては、多段
蒸着法等を用いて、2層以上からなる多段蒸着膜からな
るガスバリア性膜、あるいは、上記の無機酸化物の蒸着
膜と上記のガスバリア性に優れた樹脂膜とからなる複合
膜からなるガスバリア性膜等も提案されているが、これ
についても十分に満足し得るものであるとい言い得ない
というのが実状である。そこで本発明は、強度に優れ、
かつ、耐候性、耐熱性、耐水性、耐光性、耐風圧性、耐
降雹性、耐薬品性、防湿性、防汚性、その他等の諸特性
に優れ、特に、水分、酸素等の侵入を防止する防湿性を
著しく向上させ、その長期的な性能劣化を最小限に抑
え、極めて耐久性に富み、保護能力性に優れ、かつ、よ
り低コストで安全な太陽電池モジュ−ルを構成する表面
または裏面保護シ−トを安定的に提供することである。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明者は、太陽電池モ
ジュ−ルを構成する保護シ−ト層について、上記のよう
な問題点を解決すべく種々研究の結果、まず、プラスチ
ックシ−トを基材シ−トとして使用し、その一方の面
に、酸化珪素あるいは酸化アルミニウム等のガラス質か
らなる透明な、かつ、水蒸気バリア性、酸素バリア性等
に優れた無機酸化物の蒸着膜を設け、更に、該無機酸化
物の蒸着膜の上に、ケイ素化合物の加水分解による重縮
合物からなる組成物によるコ−ティング膜を設けて太陽
電池モジュ−ル用保護シ−トを製造し、而して、該太陽
電池モジュ−ル用保護シ−トを太陽電池モジュ−ル用表
面保護シ−トまたは太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−
トとして使用し、例えば、上記の太陽電池モジュ−ル用
表面保護シ−トのコ−ティング膜面を内側にし、充填剤
層、光起電力素子としての太陽電池素子、充填剤層、お
よび、通常の太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−ト層等
を順次に積層し、次いで、これらを一体的に真空吸引し
て加熱圧着するラミネ−ション法等を利用して太陽電池
モジュ−ルを製造したところ、太陽光の透過性に優れ、
かつ、強度に優れ、更に、耐候性、耐熱性、耐水性、耐
光性、耐風圧性、耐降雹性、耐薬品性、防湿性、防汚
性、その他等の諸特性に優れ、特に、水蒸気(水分)、
酸素等の侵入を防止する防湿性を著しく向上させ、その
長期的な性能劣化を最小限に抑え、極めて耐久性に富
み、保護能力性に優れ、かつ、より低コストで安全な太
陽電池モジュ−ルを安定的に製造し得ることを見出して
本発明を完成したものである。
ジュ−ルを構成する保護シ−ト層について、上記のよう
な問題点を解決すべく種々研究の結果、まず、プラスチ
ックシ−トを基材シ−トとして使用し、その一方の面
に、酸化珪素あるいは酸化アルミニウム等のガラス質か
らなる透明な、かつ、水蒸気バリア性、酸素バリア性等
に優れた無機酸化物の蒸着膜を設け、更に、該無機酸化
物の蒸着膜の上に、ケイ素化合物の加水分解による重縮
合物からなる組成物によるコ−ティング膜を設けて太陽
電池モジュ−ル用保護シ−トを製造し、而して、該太陽
電池モジュ−ル用保護シ−トを太陽電池モジュ−ル用表
面保護シ−トまたは太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−
トとして使用し、例えば、上記の太陽電池モジュ−ル用
表面保護シ−トのコ−ティング膜面を内側にし、充填剤
層、光起電力素子としての太陽電池素子、充填剤層、お
よび、通常の太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−ト層等
を順次に積層し、次いで、これらを一体的に真空吸引し
て加熱圧着するラミネ−ション法等を利用して太陽電池
モジュ−ルを製造したところ、太陽光の透過性に優れ、
かつ、強度に優れ、更に、耐候性、耐熱性、耐水性、耐
光性、耐風圧性、耐降雹性、耐薬品性、防湿性、防汚
性、その他等の諸特性に優れ、特に、水蒸気(水分)、
酸素等の侵入を防止する防湿性を著しく向上させ、その
長期的な性能劣化を最小限に抑え、極めて耐久性に富
み、保護能力性に優れ、かつ、より低コストで安全な太
陽電池モジュ−ルを安定的に製造し得ることを見出して
本発明を完成したものである。
【0006】すなわち、本発明は、プラスチックシ−ト
の一方の面に、無機酸化物の蒸着膜を設け、更に、該無
機酸化物の蒸着膜の上に、ケイ素化合物の加水分解によ
る重縮合物からなる組成物によるコ−ティング膜を設け
たことを特徴とする太陽電池モジュ−ル用保護シ−トお
よびそれを使用した太陽電池モジュ−ルに関するもので
ある。
の一方の面に、無機酸化物の蒸着膜を設け、更に、該無
機酸化物の蒸着膜の上に、ケイ素化合物の加水分解によ
る重縮合物からなる組成物によるコ−ティング膜を設け
たことを特徴とする太陽電池モジュ−ル用保護シ−トお
よびそれを使用した太陽電池モジュ−ルに関するもので
ある。
【0007】
【発明の実施の形態】上記の本発明について以下に図面
等を用いて更に詳しく説明する。なお、本発明におい
て、シ−トとは、シ−ト状物ないしフィルム状物のいず
れの場合も意味するものであり、また、フィルムとは、
フィルム状物ないしシ−トシ−ト状物のいずれの場合も
意味するものである。本発明にかかる太陽電池モジュ−
ル用保護シ−トおよびそれを使用した太陽電池モジュ−
ルについてその層構成を図面等を用いて更に具体的に説
明すると、図1、図2および図3は、本発明にかかる太
陽電池モジュ−ル用保護シ−トの層構成についてその二
三例を例示する概略的断面図であり、図4、図5および
図6は、図1に示す本発明にかかる太陽電池モジュ−ル
用保護シ−トを使用して製造した太陽電池モジュ−ルの
層構成についてその二三例を例示する概略的断面図であ
る。
等を用いて更に詳しく説明する。なお、本発明におい
て、シ−トとは、シ−ト状物ないしフィルム状物のいず
れの場合も意味するものであり、また、フィルムとは、
フィルム状物ないしシ−トシ−ト状物のいずれの場合も
意味するものである。本発明にかかる太陽電池モジュ−
ル用保護シ−トおよびそれを使用した太陽電池モジュ−
ルについてその層構成を図面等を用いて更に具体的に説
明すると、図1、図2および図3は、本発明にかかる太
陽電池モジュ−ル用保護シ−トの層構成についてその二
三例を例示する概略的断面図であり、図4、図5および
図6は、図1に示す本発明にかかる太陽電池モジュ−ル
用保護シ−トを使用して製造した太陽電池モジュ−ルの
層構成についてその二三例を例示する概略的断面図であ
る。
【0008】まず、本発明にかかる太陽電池モジュ−ル
用保護シ−トAは、図1に示すように、プラスチックシ
−ト1の一方の面に、無機酸化物の蒸着膜2を設け、更
に、該無機酸化物の蒸着膜2の上に、ケイ素化合物の加
水分解による重縮合物からなる組成物によるコ−ティン
グ膜3を設けた構成からなることを基本構造とするもの
である。而して、本発明にかかる太陽電池モジュ−ル用
保護シ−トについて、他の例を例示すると、図2に示す
ように、プラスチックシ−ト1の一方の面に、無機酸化
物の蒸着膜2、2を少なくとも2層以上設けた多層膜4
を形成し、更に、該多層膜4を構成する無機酸化物の蒸
着膜2の上に、ケイ素化合物の加水分解による重縮合物
からなる組成物によるコ−ティング膜3を設けた構成か
らなる太陽電池モジュ−ル用保護シ−トA1 を挙げるこ
とができる。更に、本発明にかかる太陽電池モジュ−ル
用保護シ−トについて、別の例を例示すると、図3に示
すように、プラスチックシ−ト1の一方の面に、まず、
化学気相成長法による無機酸化物の蒸着膜2aを設け、
次いで、該無機酸化物の蒸着膜2aの上に、物理気相成
長法による無機酸化物の蒸着膜2bを設けて異種の無機
酸化物の蒸着膜2a、2bの2層以上からなる複合膜5
を形成し、更に、該複合膜5を構成する無機酸化物の蒸
着膜2bの上に、ケイ素化合物の加水分解による重縮合
物からなる組成物によるコ−ティング膜3を設けた構成
からなる太陽電池モジュ−ル用保護シ−トA2 を挙げる
ことができる。上記の例示は、本発明にかかる太陽電池
モジュ−ル用保護シ−トについてその二三例を例示する
ものであり、本発明は、これによって限定されるもので
はないことは勿論である。例えば、図示しないが、上記
の図3に示す太陽電池モジュ−ル用保護シ−トA 2 にお
いては、先に、物理気相成長法により無機酸化物の蒸着
膜を設け、次に、化学気相成長法により無機酸化物の蒸
着膜を設けてもよいものである。
用保護シ−トAは、図1に示すように、プラスチックシ
−ト1の一方の面に、無機酸化物の蒸着膜2を設け、更
に、該無機酸化物の蒸着膜2の上に、ケイ素化合物の加
水分解による重縮合物からなる組成物によるコ−ティン
グ膜3を設けた構成からなることを基本構造とするもの
である。而して、本発明にかかる太陽電池モジュ−ル用
保護シ−トについて、他の例を例示すると、図2に示す
ように、プラスチックシ−ト1の一方の面に、無機酸化
物の蒸着膜2、2を少なくとも2層以上設けた多層膜4
を形成し、更に、該多層膜4を構成する無機酸化物の蒸
着膜2の上に、ケイ素化合物の加水分解による重縮合物
からなる組成物によるコ−ティング膜3を設けた構成か
らなる太陽電池モジュ−ル用保護シ−トA1 を挙げるこ
とができる。更に、本発明にかかる太陽電池モジュ−ル
用保護シ−トについて、別の例を例示すると、図3に示
すように、プラスチックシ−ト1の一方の面に、まず、
化学気相成長法による無機酸化物の蒸着膜2aを設け、
次いで、該無機酸化物の蒸着膜2aの上に、物理気相成
長法による無機酸化物の蒸着膜2bを設けて異種の無機
酸化物の蒸着膜2a、2bの2層以上からなる複合膜5
を形成し、更に、該複合膜5を構成する無機酸化物の蒸
着膜2bの上に、ケイ素化合物の加水分解による重縮合
物からなる組成物によるコ−ティング膜3を設けた構成
からなる太陽電池モジュ−ル用保護シ−トA2 を挙げる
ことができる。上記の例示は、本発明にかかる太陽電池
モジュ−ル用保護シ−トについてその二三例を例示する
ものであり、本発明は、これによって限定されるもので
はないことは勿論である。例えば、図示しないが、上記
の図3に示す太陽電池モジュ−ル用保護シ−トA 2 にお
いては、先に、物理気相成長法により無機酸化物の蒸着
膜を設け、次に、化学気相成長法により無機酸化物の蒸
着膜を設けてもよいものである。
【0009】次に、本発明において、上記の本発明にか
かる太陽電池モジュ−ル用保護シ−トを使用して製造し
た太陽電池モジュ−ルについてその一例を例示すると、
上記の図1に示す本発明にかかる太陽電池モジュ−ル用
保護シ−トAを使用した例で説明すると、図4に示すよ
うに、上記の図1に示す本発明にかかる太陽電池モジュ
−ル用保護シ−トAを太陽電池モジュ−ル用表面保護シ
−ト11として使用し、而して、該太陽電池モジュ−ル
用表面保護シ−ト11(A)のコ−ティング膜3の面を
内側にし、順次に、充填剤層12、光起電力素子として
の太陽電池素子13、充填剤層14、および、通常の太
陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−ト層15等を積層し、
次いで、これらを一体として、真空吸引して加熱圧着す
るラミネ−ション法等の通常の成形法を利用し、上記の
各層を一体成形体として太陽電池モジュ−ルTを製造す
ることができる。更に、本発明において、上記の本発明
にかかる太陽電池モジュ−ル用保護シ−トを使用して製
造した太陽電池モジュ−ルについて、他の一例を例示す
ると、上記と同様に、上記の図1に示す本発明にかかる
太陽電池モジュ−ル用保護シ−トAを使用した例で説明
すると、図5に示すように、上記の図1に示す本発明に
かかる太陽電池モジュ−ル用保護シ−トAを太陽電池モ
ジュ−ル用裏面保護シ−ト16として使用し、まず、通
常の太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−ト17、充填剤
層12、光起電力素子としての太陽電池素子13、充填
剤層14、および、上記の太陽電池モジュ−ル用裏面保
護シ−ト16(A)を、そのコ−ティング膜3の面を対
向させて順次に積層し、次いで、これらを一体として、
真空吸引して加熱圧着するラミネ−ション法等の通常の
成形法を利用し、上記の各層を一体成形体として太陽電
池モジュ−ルT1 を製造することができる。
かる太陽電池モジュ−ル用保護シ−トを使用して製造し
た太陽電池モジュ−ルについてその一例を例示すると、
上記の図1に示す本発明にかかる太陽電池モジュ−ル用
保護シ−トAを使用した例で説明すると、図4に示すよ
うに、上記の図1に示す本発明にかかる太陽電池モジュ
−ル用保護シ−トAを太陽電池モジュ−ル用表面保護シ
−ト11として使用し、而して、該太陽電池モジュ−ル
用表面保護シ−ト11(A)のコ−ティング膜3の面を
内側にし、順次に、充填剤層12、光起電力素子として
の太陽電池素子13、充填剤層14、および、通常の太
陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−ト層15等を積層し、
次いで、これらを一体として、真空吸引して加熱圧着す
るラミネ−ション法等の通常の成形法を利用し、上記の
各層を一体成形体として太陽電池モジュ−ルTを製造す
ることができる。更に、本発明において、上記の本発明
にかかる太陽電池モジュ−ル用保護シ−トを使用して製
造した太陽電池モジュ−ルについて、他の一例を例示す
ると、上記と同様に、上記の図1に示す本発明にかかる
太陽電池モジュ−ル用保護シ−トAを使用した例で説明
すると、図5に示すように、上記の図1に示す本発明に
かかる太陽電池モジュ−ル用保護シ−トAを太陽電池モ
ジュ−ル用裏面保護シ−ト16として使用し、まず、通
常の太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−ト17、充填剤
層12、光起電力素子としての太陽電池素子13、充填
剤層14、および、上記の太陽電池モジュ−ル用裏面保
護シ−ト16(A)を、そのコ−ティング膜3の面を対
向させて順次に積層し、次いで、これらを一体として、
真空吸引して加熱圧着するラミネ−ション法等の通常の
成形法を利用し、上記の各層を一体成形体として太陽電
池モジュ−ルT1 を製造することができる。
【0010】また、本発明において、上記の本発明にか
かる太陽電池モジュ−ル用保護シ−トを使用して製造し
た太陽電池モジュ−ルについて、別の一例を例示する
と、上記と同様に、上記の図1に示す本発明にかかる太
陽電池モジュ−ル用保護シ−トAを使用した例で説明す
ると、図6に示すように、上記の図1に示す本発明にか
かる太陽電池モジュ−ル用保護シ−トAを太陽電池モジ
ュ−ル用表面保護シ−ト11として使用し、また、上記
の図1に示す本発明にかかる太陽電池モジュ−ル用保護
シ−トAを太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−ト16と
して使用し、而して、上記の太陽電池モジュ−ル用表面
保護シ−ト11(A)のコ−ティング膜3の面を内側に
し、順次に、充填剤層12、光起電力素子としての太陽
電池素子13、充填剤層14、および、上記の太陽電池
モジュ−ル用裏面保護シ−ト16(A)を、そのコ−テ
ィング膜3面を対向させて積層し、次いで、これらを一
体として、真空吸引して加熱圧着するラミネ−ション法
等の通常の成形法を利用して、上記の各層を一体成形体
として太陽電池モジュ−ルT2 を製造することができ
る。上記の例示は、本発明にかかる太陽電池モジュ−ル
用保護シ−トを使用して製造した太陽電池モジュ−ルに
ついてその二三例を例示するものであり、本発明はこれ
により限定されるものではない。例えば、図示しない
が、上記の図2、図3等に示す太陽電池モジュ−ル用保
護シ−トを使用し、上記と同様にして、種々の形態から
なる太陽電池モジュ−ルを製造することができ、また、
上記の太陽電池モジュ−ルにおいては、太陽光の吸収
性、補強、その他等の目的のもとに、更に、他の層を任
意に加えて積層することができるものである。
かる太陽電池モジュ−ル用保護シ−トを使用して製造し
た太陽電池モジュ−ルについて、別の一例を例示する
と、上記と同様に、上記の図1に示す本発明にかかる太
陽電池モジュ−ル用保護シ−トAを使用した例で説明す
ると、図6に示すように、上記の図1に示す本発明にか
かる太陽電池モジュ−ル用保護シ−トAを太陽電池モジ
ュ−ル用表面保護シ−ト11として使用し、また、上記
の図1に示す本発明にかかる太陽電池モジュ−ル用保護
シ−トAを太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−ト16と
して使用し、而して、上記の太陽電池モジュ−ル用表面
保護シ−ト11(A)のコ−ティング膜3の面を内側に
し、順次に、充填剤層12、光起電力素子としての太陽
電池素子13、充填剤層14、および、上記の太陽電池
モジュ−ル用裏面保護シ−ト16(A)を、そのコ−テ
ィング膜3面を対向させて積層し、次いで、これらを一
体として、真空吸引して加熱圧着するラミネ−ション法
等の通常の成形法を利用して、上記の各層を一体成形体
として太陽電池モジュ−ルT2 を製造することができ
る。上記の例示は、本発明にかかる太陽電池モジュ−ル
用保護シ−トを使用して製造した太陽電池モジュ−ルに
ついてその二三例を例示するものであり、本発明はこれ
により限定されるものではない。例えば、図示しない
が、上記の図2、図3等に示す太陽電池モジュ−ル用保
護シ−トを使用し、上記と同様にして、種々の形態から
なる太陽電池モジュ−ルを製造することができ、また、
上記の太陽電池モジュ−ルにおいては、太陽光の吸収
性、補強、その他等の目的のもとに、更に、他の層を任
意に加えて積層することができるものである。
【0011】次に、本発明において、本発明にかかる太
陽電池モジュ−ル用保護シ−トおよびそれを使用した太
陽電池モジュ−ルを構成する材料、製造法等について更
に詳しく説明すると、まず、本発明にかかる太陽電池モ
ジュ−ル用保護シ−ト、太陽電池モジュ−ル等を構成す
るプラスチックシ−トとしては、基本的には、無機酸化
物の蒸着膜あるいはコ−ティング膜等を形成する際の蒸
着条件、コ−ティング条件等に耐え、かつ、それらの無
機酸化物の蒸着膜あるいはコ−ティング膜等との密接着
性に優れ、それらの膜の特性を損なうことなく良好に保
持し得ることができ、また、太陽電池が、太陽光を吸収
して光起電力することから、太陽光を透過する透過性に
優れていると共に強度に優れ、更に、耐候性、耐熱性、
耐水性、耐光性、耐風圧性、耐降雹性、耐薬品性等の諸
堅牢性に優れ、特に、水分、酸素等の侵入を防止する防
湿性に優れ、また、表面硬度が高く、かつ、表面の汚
れ、ゴミ等の蓄積を防止する防汚性に優れ、極めて耐久
性に富み、その保護能力性が高いこと等の特性を有する
各種の樹脂のフィルムないしシ−トを使用することがで
きる。具体的には、上記の各種の樹脂のフィルムないし
シ−トとしては、例えば、ポリエチレン系樹脂、ポリプ
ロピレン系樹脂、環状ポリオレフィン系樹脂、ポリスチ
レン系樹脂、アクリロニトリル−スチレン共重合体(A
S樹脂)、アクリロニトリルル−ブタジエン−スチレン
共重合体(ABS樹脂)、ポリ塩化ビニル系樹脂、フッ
素系樹脂、ポリ(メタ)アクリル系樹脂、ポリカ−ボネ
−ト系樹脂、ポリエチレンテレフタレ−ト、ポリエチレ
ンナフタレ−ト等のポリエステル系樹脂、各種のナイロ
ン等のポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリアミ
ドイミド系樹脂、ポリアリ−ルフタレ−ト系樹脂、シリ
コ−ン系樹脂、ポリスルホン系樹脂、ポリフェニレンス
ルフィド系樹脂、ポリエ−テルスルホン系樹脂、ポリウ
レタン系樹脂、アセタ−ル系樹脂、セルロ−ス系樹脂、
その他等の各種の樹脂のフィルムないしシ−トを使用す
ることができる。本発明においては、上記の樹脂のフィ
ルムないしシ−トの中でも、フッ素系樹脂シ−ト、環状
ポリオレフィン系樹脂シ−ト、ポリカ−ボネ−ト系樹脂
シ−ト、ポリ(メタ)アクリル系樹脂シ−ト、または、
ポリエステル系樹脂シ−トを使用することが好ましいも
のである。
陽電池モジュ−ル用保護シ−トおよびそれを使用した太
陽電池モジュ−ルを構成する材料、製造法等について更
に詳しく説明すると、まず、本発明にかかる太陽電池モ
ジュ−ル用保護シ−ト、太陽電池モジュ−ル等を構成す
るプラスチックシ−トとしては、基本的には、無機酸化
物の蒸着膜あるいはコ−ティング膜等を形成する際の蒸
着条件、コ−ティング条件等に耐え、かつ、それらの無
機酸化物の蒸着膜あるいはコ−ティング膜等との密接着
性に優れ、それらの膜の特性を損なうことなく良好に保
持し得ることができ、また、太陽電池が、太陽光を吸収
して光起電力することから、太陽光を透過する透過性に
優れていると共に強度に優れ、更に、耐候性、耐熱性、
耐水性、耐光性、耐風圧性、耐降雹性、耐薬品性等の諸
堅牢性に優れ、特に、水分、酸素等の侵入を防止する防
湿性に優れ、また、表面硬度が高く、かつ、表面の汚
れ、ゴミ等の蓄積を防止する防汚性に優れ、極めて耐久
性に富み、その保護能力性が高いこと等の特性を有する
各種の樹脂のフィルムないしシ−トを使用することがで
きる。具体的には、上記の各種の樹脂のフィルムないし
シ−トとしては、例えば、ポリエチレン系樹脂、ポリプ
ロピレン系樹脂、環状ポリオレフィン系樹脂、ポリスチ
レン系樹脂、アクリロニトリル−スチレン共重合体(A
S樹脂)、アクリロニトリルル−ブタジエン−スチレン
共重合体(ABS樹脂)、ポリ塩化ビニル系樹脂、フッ
素系樹脂、ポリ(メタ)アクリル系樹脂、ポリカ−ボネ
−ト系樹脂、ポリエチレンテレフタレ−ト、ポリエチレ
ンナフタレ−ト等のポリエステル系樹脂、各種のナイロ
ン等のポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリアミ
ドイミド系樹脂、ポリアリ−ルフタレ−ト系樹脂、シリ
コ−ン系樹脂、ポリスルホン系樹脂、ポリフェニレンス
ルフィド系樹脂、ポリエ−テルスルホン系樹脂、ポリウ
レタン系樹脂、アセタ−ル系樹脂、セルロ−ス系樹脂、
その他等の各種の樹脂のフィルムないしシ−トを使用す
ることができる。本発明においては、上記の樹脂のフィ
ルムないしシ−トの中でも、フッ素系樹脂シ−ト、環状
ポリオレフィン系樹脂シ−ト、ポリカ−ボネ−ト系樹脂
シ−ト、ポリ(メタ)アクリル系樹脂シ−ト、または、
ポリエステル系樹脂シ−トを使用することが好ましいも
のである。
【0012】更に、本発明においては、上記のような各
種の樹脂のフィルムないしシ−トのなかでも、特に、例
えば、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)、テト
ラフルオロエチレンとペルフルオロアルキルビニルエ−
テルとの共重合体からなるペルフルオロアルコキシ樹脂
(PFA)、テトラフルオロエチレンとヘキサフルオロ
プロピレンコポリマ−(FEP)、テトラフルオロエチ
レンとペルフルオロアルキルビニルエ−テルとヘキサフ
ルオロプロピレンコポリマ−(EPE)、テトラフルオ
ロエチレンとエチレンまたはプロピレンとのコポリマ−
(ETFE)、ポリクロロトリフルオロエチレン樹脂
(PCTFE)、エチレンとクロロトリフルオロエチレ
ンとのコポリマ−(ECTFE)、フッ化ビニリデン系
樹脂(PVDF)、または、フッ化ビニル系樹脂(PV
F)等のフッ素系樹脂の1種ないしそれ以上からなる透
明性を有するフッ素系樹脂シ−トを使用することが好ま
しいものである。なお、本発明においては、上記のフッ
素系樹脂シ−トの中でも、特に、ポリフッ化ビニル系樹
脂(PVF)、または、テトラフルオロエチレンとエチ
レンまたはプロピレンとのコポリマ−(ETFE)から
なるフッ素系樹脂シ−トが、透明性を有し、太陽光の透
過性等の観点から特に好ましいものである。
種の樹脂のフィルムないしシ−トのなかでも、特に、例
えば、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)、テト
ラフルオロエチレンとペルフルオロアルキルビニルエ−
テルとの共重合体からなるペルフルオロアルコキシ樹脂
(PFA)、テトラフルオロエチレンとヘキサフルオロ
プロピレンコポリマ−(FEP)、テトラフルオロエチ
レンとペルフルオロアルキルビニルエ−テルとヘキサフ
ルオロプロピレンコポリマ−(EPE)、テトラフルオ
ロエチレンとエチレンまたはプロピレンとのコポリマ−
(ETFE)、ポリクロロトリフルオロエチレン樹脂
(PCTFE)、エチレンとクロロトリフルオロエチレ
ンとのコポリマ−(ECTFE)、フッ化ビニリデン系
樹脂(PVDF)、または、フッ化ビニル系樹脂(PV
F)等のフッ素系樹脂の1種ないしそれ以上からなる透
明性を有するフッ素系樹脂シ−トを使用することが好ま
しいものである。なお、本発明においては、上記のフッ
素系樹脂シ−トの中でも、特に、ポリフッ化ビニル系樹
脂(PVF)、または、テトラフルオロエチレンとエチ
レンまたはプロピレンとのコポリマ−(ETFE)から
なるフッ素系樹脂シ−トが、透明性を有し、太陽光の透
過性等の観点から特に好ましいものである。
【0013】また、本発明においては、上記のような各
種の樹脂のフィルムないしシ−トのなかでも、特に、例
えば、シクロペンタジエンおよびその誘導体、ジシクロ
ペンタジエンおよびその誘導体、シクロヘキサジエンお
よびその誘導体、ノルボルナジエンおよびその誘導体、
その他等の環状ジエンを重合させてなるポリマ−、ある
いは、該環状ジエンとエチレン、プロピレン、4−メチ
ル−1−ペンテン、スチレン、ブタジエン、イソプレ
ン、その他等のオレフィン系モノマ−の1種ないしそれ
以上とを共重合させてなるコポリマ−等からなる透明な
環状ポリオレフィン系樹脂シ−トを使用することが好ま
しいものである。なお、本発明においては、上記の透明
な環状ポリオレフィン系樹脂シ−トの中でも、特に、シ
クロペンタジエンおよびその誘導体、ジシクロペンタジ
エンおよびその誘導体、または、ノルボルナジエンおよ
びその誘導体等の環状ジエンのポリマ−ないしコポリマ
−からなる透明な環状ポリオレフィン系樹脂シ−トが、
耐候性、耐水性等に優れ、更に、透明性を有し、太陽光
の透過性等の観点から好ましいものである。而して、本
発明において、上記のようなフッ素系樹脂シ−トあるい
は環状ポリオレフィン系樹脂シ−トを使用することによ
り、該フッ素系樹脂シ−トあるは環状ポリオレフィン系
樹脂シ−トが有する機械的特性、化学的特性、光学的特
性等の優れた特性、具体的には、耐候性、耐熱性、耐水
性、耐光性、耐防湿性、耐汚染性、耐薬品性、その他等
の諸特性を利用して太陽電池を構成する保護シ−トとす
るものであり、これにより、従来のガラス板等と同等の
光学特性、耐久性、保護機能性等を有し、また、そのフ
レキシブル性や機械的特性、化学的特性等からガラス板
よりも軽く、かつ、加工性等に優れ、そのハンドリング
し易い等の利点を有するものである。
種の樹脂のフィルムないしシ−トのなかでも、特に、例
えば、シクロペンタジエンおよびその誘導体、ジシクロ
ペンタジエンおよびその誘導体、シクロヘキサジエンお
よびその誘導体、ノルボルナジエンおよびその誘導体、
その他等の環状ジエンを重合させてなるポリマ−、ある
いは、該環状ジエンとエチレン、プロピレン、4−メチ
ル−1−ペンテン、スチレン、ブタジエン、イソプレ
ン、その他等のオレフィン系モノマ−の1種ないしそれ
以上とを共重合させてなるコポリマ−等からなる透明な
環状ポリオレフィン系樹脂シ−トを使用することが好ま
しいものである。なお、本発明においては、上記の透明
な環状ポリオレフィン系樹脂シ−トの中でも、特に、シ
クロペンタジエンおよびその誘導体、ジシクロペンタジ
エンおよびその誘導体、または、ノルボルナジエンおよ
びその誘導体等の環状ジエンのポリマ−ないしコポリマ
−からなる透明な環状ポリオレフィン系樹脂シ−トが、
耐候性、耐水性等に優れ、更に、透明性を有し、太陽光
の透過性等の観点から好ましいものである。而して、本
発明において、上記のようなフッ素系樹脂シ−トあるい
は環状ポリオレフィン系樹脂シ−トを使用することによ
り、該フッ素系樹脂シ−トあるは環状ポリオレフィン系
樹脂シ−トが有する機械的特性、化学的特性、光学的特
性等の優れた特性、具体的には、耐候性、耐熱性、耐水
性、耐光性、耐防湿性、耐汚染性、耐薬品性、その他等
の諸特性を利用して太陽電池を構成する保護シ−トとす
るものであり、これにより、従来のガラス板等と同等の
光学特性、耐久性、保護機能性等を有し、また、そのフ
レキシブル性や機械的特性、化学的特性等からガラス板
よりも軽く、かつ、加工性等に優れ、そのハンドリング
し易い等の利点を有するものである。
【0014】本発明において、上記の各種の樹脂のフィ
ルムないしシ−トとしては、例えば、上記の各種の樹脂
の1種ないしそれ以上を使用し、押し出し法、キャスト
成形法、Tダイ法、切削法、インフレ−ション法、その
他等の製膜化法を用いて、上記の各種の樹脂を単独で製
膜化する方法、あるいは、2種以上の各種の樹脂を使用
して多層共押し出し製膜化する方法、更には、2種以上
の樹脂を使用し、製膜化する前に混合して製膜化する方
法等により、各種の樹脂のフィルムないしシ−トを製造
し、更に、要すれば、例えば、テンタ−方式、あるい
は、チュ−ブラ−方式等を利用して1軸ないし2軸方向
に延伸してなる各種の樹脂のフィルムないしシ−トを使
用することができる。本発明において、各種の樹脂のフ
ィルムないしシ−トの膜厚としては、12〜300μm
位、より好ましくは、20〜200μm位が望ましい。
また、本発明において、各種の樹脂のフィルムないしシ
−トとしては、可視光透過率が、90%以上、好ましく
は、95%以上であって、入射する太陽光を全て透過
し、これを吸収する性質を有することが望ましいもので
ある。
ルムないしシ−トとしては、例えば、上記の各種の樹脂
の1種ないしそれ以上を使用し、押し出し法、キャスト
成形法、Tダイ法、切削法、インフレ−ション法、その
他等の製膜化法を用いて、上記の各種の樹脂を単独で製
膜化する方法、あるいは、2種以上の各種の樹脂を使用
して多層共押し出し製膜化する方法、更には、2種以上
の樹脂を使用し、製膜化する前に混合して製膜化する方
法等により、各種の樹脂のフィルムないしシ−トを製造
し、更に、要すれば、例えば、テンタ−方式、あるい
は、チュ−ブラ−方式等を利用して1軸ないし2軸方向
に延伸してなる各種の樹脂のフィルムないしシ−トを使
用することができる。本発明において、各種の樹脂のフ
ィルムないしシ−トの膜厚としては、12〜300μm
位、より好ましくは、20〜200μm位が望ましい。
また、本発明において、各種の樹脂のフィルムないしシ
−トとしては、可視光透過率が、90%以上、好ましく
は、95%以上であって、入射する太陽光を全て透過
し、これを吸収する性質を有することが望ましいもので
ある。
【0015】なお、上記において、上記の各種の樹脂の
1種ないしそれ以上を使用し、その製膜化に際して、例
えば、フィルムの加工性、耐熱性、耐候性、機械的性
質、寸法安定性、抗酸化性、滑り性、離形性、難燃性、
抗カビ性、電気的特性、その他等を改良、改質する目的
で、種々のプラスチック配合剤や添加剤等を添加するこ
とができ、その添加量としては、極く微量から数十%ま
で、その目的に応じて、任意に添加することができる。
また、上記において、一般的な添加剤としては、例え
ば、滑剤、架橋剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定
剤、充填剤、強化剤、補強剤、帯電防止剤、難燃剤、耐
炎剤、発泡剤、防カビ剤、顔料、その他等を使用するこ
とができ、更には、改質用樹脂等も使用することがてき
る。本発明においては、上記の添加剤の中でも、特に、
酸化防止剤、あるいは、紫外線吸収剤等を練れ込み加工
してなる各種の樹脂のフィルムないしシ−トを使用する
ことが好ましいものである。上記の紫外線吸収剤として
は、太陽光中の有害な紫外線を吸収して、分子内で無害
な熱エネルギ−へと変換し、高分子中の光劣化開始の活
性種が励起されるのを防止するものであり、例えば、ベ
ンゾフェノン系、ベンゾトリアゾ−ル系、サルチレ−ト
系、アクリルニトリル系、金属錯塩系、ヒンダ−ドアミ
ン系、超微粒子酸化チタン(粒子径、0.01〜0.0
6μm)あるいは超微粒子酸化亜鉛(0.01〜0.0
4μm)等の無機系等の紫外線吸収剤の1種ないしそれ
以上を使用することができる。また、上記の酸化防止剤
としては、高分子の光劣化あるいは熱劣化等を防止する
ものであり、例えば、フェノ−ル系、アミン系、硫黄
系、燐酸系、その他等の酸化防止剤を使用することがで
きる。更に、上記の紫外線吸収剤あるいは酸化防止剤と
しては、例えば、ポリマ−を構成する主鎖または側鎖
に、上記のベンゾフェノン系等の紫外線吸収剤あるいは
上記のフェノ−ル系等の酸化防止剤を化学結合させてな
るポリマ−型の紫外線吸収剤あるいは酸化防止剤等も使
用することができる。上記の紫外線吸収剤および/また
は酸化防止剤の含有量としては、その粒子形状、密度等
によって異なるが、約0.1〜10重量%位が好まし
い。
1種ないしそれ以上を使用し、その製膜化に際して、例
えば、フィルムの加工性、耐熱性、耐候性、機械的性
質、寸法安定性、抗酸化性、滑り性、離形性、難燃性、
抗カビ性、電気的特性、その他等を改良、改質する目的
で、種々のプラスチック配合剤や添加剤等を添加するこ
とができ、その添加量としては、極く微量から数十%ま
で、その目的に応じて、任意に添加することができる。
また、上記において、一般的な添加剤としては、例え
ば、滑剤、架橋剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定
剤、充填剤、強化剤、補強剤、帯電防止剤、難燃剤、耐
炎剤、発泡剤、防カビ剤、顔料、その他等を使用するこ
とができ、更には、改質用樹脂等も使用することがてき
る。本発明においては、上記の添加剤の中でも、特に、
酸化防止剤、あるいは、紫外線吸収剤等を練れ込み加工
してなる各種の樹脂のフィルムないしシ−トを使用する
ことが好ましいものである。上記の紫外線吸収剤として
は、太陽光中の有害な紫外線を吸収して、分子内で無害
な熱エネルギ−へと変換し、高分子中の光劣化開始の活
性種が励起されるのを防止するものであり、例えば、ベ
ンゾフェノン系、ベンゾトリアゾ−ル系、サルチレ−ト
系、アクリルニトリル系、金属錯塩系、ヒンダ−ドアミ
ン系、超微粒子酸化チタン(粒子径、0.01〜0.0
6μm)あるいは超微粒子酸化亜鉛(0.01〜0.0
4μm)等の無機系等の紫外線吸収剤の1種ないしそれ
以上を使用することができる。また、上記の酸化防止剤
としては、高分子の光劣化あるいは熱劣化等を防止する
ものであり、例えば、フェノ−ル系、アミン系、硫黄
系、燐酸系、その他等の酸化防止剤を使用することがで
きる。更に、上記の紫外線吸収剤あるいは酸化防止剤と
しては、例えば、ポリマ−を構成する主鎖または側鎖
に、上記のベンゾフェノン系等の紫外線吸収剤あるいは
上記のフェノ−ル系等の酸化防止剤を化学結合させてな
るポリマ−型の紫外線吸収剤あるいは酸化防止剤等も使
用することができる。上記の紫外線吸収剤および/また
は酸化防止剤の含有量としては、その粒子形状、密度等
によって異なるが、約0.1〜10重量%位が好まし
い。
【0016】また、本発明において、各種の樹脂のフィ
ルムないしシ−トの表面は、無機酸化物の蒸着膜等との
密接着性等を向上させるために、必要に応じて、予め、
所望の表面処理層を設けることができる。本発明におい
て、上記の表面処理層としては、例えば、コロナ放電処
理、オゾン処理、酸素ガス若しくは窒素ガス等を用いた
低温プラズマ処理、グロ−放電処理、化学薬品等を用い
て処理する酸化処理、その他等の前処理を任意に施し、
例えば、コロナ処理層、オゾン処理層、プラズマ処理
層、酸化処理層、その他等を形成して設けることができ
る。上記の表面前処理は、別工程で実施してもよく、ま
た、例えば、低温プラズマ処理やグロ−放電処理等によ
る表面前処理の場合は、上記の無機酸化物の蒸着膜等を
形成する前処理としてインライン処理により前処理で行
うことができ、このような場合は、その製造コストを低
減することができるという利点がある。上記の表面前処
理は、各種の樹脂のフィルムないしシ−トと無機酸化物
の蒸着膜等との密接着性を改善するための方法として実
施するものであるが、上記の密接着性を改善する方法と
して、その他、例えば、各種の樹脂のフィルムないしシ
−トの表面に、予め、プライマ−コ−ト剤層、アンダ−
コ−ト剤層、アンカ−コ−ト剤層、接着剤層、あるい
は、蒸着アンカ−コ−ト剤層等を任意に形成して、表面
処理層とすることもできる。上記の前処理のコ−ト剤層
としては、例えば、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系
樹脂、ポリウレタン系樹脂、エポキシ系樹脂、フェノ−
ル系樹脂、(メタ)アクリル系樹脂、ポリ酢酸ビニル系
樹脂、ポリエチレンアルイハポリプロピレン等のポリオ
レフィン系樹脂あるいはその共重合体ないし変性樹脂、
セルロ−ス系樹脂、その他等をビヒクルの主成分とする
樹脂組成物を使用することができる。
ルムないしシ−トの表面は、無機酸化物の蒸着膜等との
密接着性等を向上させるために、必要に応じて、予め、
所望の表面処理層を設けることができる。本発明におい
て、上記の表面処理層としては、例えば、コロナ放電処
理、オゾン処理、酸素ガス若しくは窒素ガス等を用いた
低温プラズマ処理、グロ−放電処理、化学薬品等を用い
て処理する酸化処理、その他等の前処理を任意に施し、
例えば、コロナ処理層、オゾン処理層、プラズマ処理
層、酸化処理層、その他等を形成して設けることができ
る。上記の表面前処理は、別工程で実施してもよく、ま
た、例えば、低温プラズマ処理やグロ−放電処理等によ
る表面前処理の場合は、上記の無機酸化物の蒸着膜等を
形成する前処理としてインライン処理により前処理で行
うことができ、このような場合は、その製造コストを低
減することができるという利点がある。上記の表面前処
理は、各種の樹脂のフィルムないしシ−トと無機酸化物
の蒸着膜等との密接着性を改善するための方法として実
施するものであるが、上記の密接着性を改善する方法と
して、その他、例えば、各種の樹脂のフィルムないしシ
−トの表面に、予め、プライマ−コ−ト剤層、アンダ−
コ−ト剤層、アンカ−コ−ト剤層、接着剤層、あるい
は、蒸着アンカ−コ−ト剤層等を任意に形成して、表面
処理層とすることもできる。上記の前処理のコ−ト剤層
としては、例えば、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系
樹脂、ポリウレタン系樹脂、エポキシ系樹脂、フェノ−
ル系樹脂、(メタ)アクリル系樹脂、ポリ酢酸ビニル系
樹脂、ポリエチレンアルイハポリプロピレン等のポリオ
レフィン系樹脂あるいはその共重合体ないし変性樹脂、
セルロ−ス系樹脂、その他等をビヒクルの主成分とする
樹脂組成物を使用することができる。
【0017】なお、本発明において、上記の樹脂組成物
中には、耐光性等を向上させるために、例えば、紫外線
吸収剤および/または酸化防止剤を添加することができ
る。上記の紫外線吸収剤としては、前述の太陽光中の有
害な紫外線を吸収して、分子内で無害な熱エネルギ−へ
と変換し、高分子中の光劣化開始の活性種が励起される
のを防止するものであり、例えば、ベンゾフェノン系、
ベンゾトリアゾ−ル系、サルチレ−ト系、アクリルニト
リル系、金属錯塩系、ヒンダ−ドアミン系、超微粒子酸
化チタン(粒子径、0.01〜0.06μm)あるいは
超微粒子酸化亜鉛(0.01〜0.04μm)等の無機
系等の紫外線吸収剤の1種ないしそれ以上を使用するこ
とができる。また、上記の酸化防止剤としては、前述の
高分子の光劣化あるいは熱劣化等を防止するものであ
り、例えば、フェノ−ル系、アミン系、硫黄系、燐酸
系、その他等の酸化防止剤を使用することができる。更
に、上記の紫外線吸収剤あるいは酸化防止剤としては、
例えば、ポリマ−を構成する主鎖または側鎖に、上記の
ベンゾフェノン系等の紫外線吸収剤あるいは上記のフェ
ノ−ル系等の酸化防止剤を化学結合させてなるポリマ−
型の紫外線吸収剤あるいは酸化防止剤等も使用すること
ができる。上記の紫外線吸収剤および/または酸化防止
剤の含有量としては、その粒子形状、密度等によって異
なるが、約0.1〜10重量%位が好ましい。また、上
記において、コ−ト剤層の形成法としては、例えば、溶
剤型、水性型、あるいは、エマルジョン型等のコ−ト剤
を使用し、ロ−ルコ−ト法、グラビアロ−ルコ−ト法、
キスコ−ト法、その他等のコ−ト法を用いてコ−トする
ことができ、そのコ−ト時期としては、フッ素系樹脂シ
−トの製膜後、あるいは、2軸延伸処理後の後工程とし
て、あるいは、製膜、あるいは、2軸延伸処理のインラ
イン処理等で実施することができる。
中には、耐光性等を向上させるために、例えば、紫外線
吸収剤および/または酸化防止剤を添加することができ
る。上記の紫外線吸収剤としては、前述の太陽光中の有
害な紫外線を吸収して、分子内で無害な熱エネルギ−へ
と変換し、高分子中の光劣化開始の活性種が励起される
のを防止するものであり、例えば、ベンゾフェノン系、
ベンゾトリアゾ−ル系、サルチレ−ト系、アクリルニト
リル系、金属錯塩系、ヒンダ−ドアミン系、超微粒子酸
化チタン(粒子径、0.01〜0.06μm)あるいは
超微粒子酸化亜鉛(0.01〜0.04μm)等の無機
系等の紫外線吸収剤の1種ないしそれ以上を使用するこ
とができる。また、上記の酸化防止剤としては、前述の
高分子の光劣化あるいは熱劣化等を防止するものであ
り、例えば、フェノ−ル系、アミン系、硫黄系、燐酸
系、その他等の酸化防止剤を使用することができる。更
に、上記の紫外線吸収剤あるいは酸化防止剤としては、
例えば、ポリマ−を構成する主鎖または側鎖に、上記の
ベンゾフェノン系等の紫外線吸収剤あるいは上記のフェ
ノ−ル系等の酸化防止剤を化学結合させてなるポリマ−
型の紫外線吸収剤あるいは酸化防止剤等も使用すること
ができる。上記の紫外線吸収剤および/または酸化防止
剤の含有量としては、その粒子形状、密度等によって異
なるが、約0.1〜10重量%位が好ましい。また、上
記において、コ−ト剤層の形成法としては、例えば、溶
剤型、水性型、あるいは、エマルジョン型等のコ−ト剤
を使用し、ロ−ルコ−ト法、グラビアロ−ルコ−ト法、
キスコ−ト法、その他等のコ−ト法を用いてコ−トする
ことができ、そのコ−ト時期としては、フッ素系樹脂シ
−トの製膜後、あるいは、2軸延伸処理後の後工程とし
て、あるいは、製膜、あるいは、2軸延伸処理のインラ
イン処理等で実施することができる。
【0018】更にまた、本発明においては、上記のプラ
スチックシ−トの一方の面に、無機酸化物の蒸着膜を製
膜化する際の蒸着条件等に対し該プラスチックシ−トを
保護し、例えば、その黄変、劣化ないし収縮、あるい
は、フィルム表層ないし内層等における凝集破壊等を抑
制し、更に、プサスチックシ−トの一方の面に、無機酸
化物の蒸着膜が良好に製膜化され、かつ、該プラスチッ
クシ−トと無機酸化物の蒸着膜との密接着性等を向上さ
せるために、予め、プラスチックシ−トの一方の面に、
表面前処理層として、例えば、後述するプラズマ化学気
相成長法、熱化学気相成長法、光化学気相成長法等の化
学気相成長法(Chemical Vapor Dep
osition法、CVD法)、あるいは、例えば、真
空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレ−ティング法
等の物理気相成長法(Physical Vapor
Deposition法、PVD法)を用いて、無機酸
化物の蒸着薄膜を形成することにより、耐蒸着保護膜を
設けることができる。なお、本発明において、上記の酸
化珪素等からなる耐蒸着保護膜の膜厚としては、薄膜で
あり、更に、水蒸気ガス、酸素ガス等に対するバリア性
を有しない非バリア性膜で十分であり、具体的には、膜
厚150Å未満であることが望ましく、具体的には、そ
の膜厚としては、10〜100Å位、好ましくは、20
〜80Å位、更に、より好ましくは、30〜60Å位が
望ましい。而して、上記において、150Å以上、具体
的には、100Å、更に、80Å、更には、60Åより
厚くなると、蒸着条件等が過酷になり、プラスチックシ
−トが黄変ないし劣化し、更には、凝集破壊等を起こ
し、良好な耐蒸着保護膜を形成することが困難になり、
また、その膜にクラック等が発生し易くなるので好まし
くなく、また、10Å、更に、30Å、更には、60Å
未満であると、耐蒸着保護層としての機能を喪失し、そ
の効果を奏することが困難になることから好ましくない
ものである。
スチックシ−トの一方の面に、無機酸化物の蒸着膜を製
膜化する際の蒸着条件等に対し該プラスチックシ−トを
保護し、例えば、その黄変、劣化ないし収縮、あるい
は、フィルム表層ないし内層等における凝集破壊等を抑
制し、更に、プサスチックシ−トの一方の面に、無機酸
化物の蒸着膜が良好に製膜化され、かつ、該プラスチッ
クシ−トと無機酸化物の蒸着膜との密接着性等を向上さ
せるために、予め、プラスチックシ−トの一方の面に、
表面前処理層として、例えば、後述するプラズマ化学気
相成長法、熱化学気相成長法、光化学気相成長法等の化
学気相成長法(Chemical Vapor Dep
osition法、CVD法)、あるいは、例えば、真
空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレ−ティング法
等の物理気相成長法(Physical Vapor
Deposition法、PVD法)を用いて、無機酸
化物の蒸着薄膜を形成することにより、耐蒸着保護膜を
設けることができる。なお、本発明において、上記の酸
化珪素等からなる耐蒸着保護膜の膜厚としては、薄膜で
あり、更に、水蒸気ガス、酸素ガス等に対するバリア性
を有しない非バリア性膜で十分であり、具体的には、膜
厚150Å未満であることが望ましく、具体的には、そ
の膜厚としては、10〜100Å位、好ましくは、20
〜80Å位、更に、より好ましくは、30〜60Å位が
望ましい。而して、上記において、150Å以上、具体
的には、100Å、更に、80Å、更には、60Åより
厚くなると、蒸着条件等が過酷になり、プラスチックシ
−トが黄変ないし劣化し、更には、凝集破壊等を起こ
し、良好な耐蒸着保護膜を形成することが困難になり、
また、その膜にクラック等が発生し易くなるので好まし
くなく、また、10Å、更に、30Å、更には、60Å
未満であると、耐蒸着保護層としての機能を喪失し、そ
の効果を奏することが困難になることから好ましくない
ものである。
【0019】次に、本発明において、本発明にかかる太
陽電池モジュ−ル用保護シ−ト、太陽電池モジュ−ル等
を構成する無機酸化物の蒸着膜について説明すると、か
かる無機酸化物の蒸着膜としては、例えば、物理気相成
長法、または、化学気相成長法、あるいは、その両者を
併用して、無機酸化物の蒸着薄膜の1層からなる単層膜
あるいは2層以上からなる多層膜または複合膜を形成し
て製造することができるものである。上記の物理気相成
長法による無機酸化物の蒸着薄膜について更に詳しく説
明すると、かかる物理気相成長法による無機酸化物の蒸
着膜としては、例えば、真空蒸着法、スパッタリング
法、イオンプレ−ティング法、イオンクラスタ−ビ−ム
法等の物理気相成長法(Physical Vapor
Deposition法、PVD法)を用いて無機酸
化物の蒸着膜を形成することができる。本発明におい
て、具体的には、金属の酸化物を原料とし、これを加熱
してプラスチックシ−トの上に蒸着する真空蒸着法、ま
たは、原料として金属または金属の酸化物を使用し、酸
素を導入して酸化させてプラスチックシ−トの上に蒸着
する酸化反応蒸着法、更に酸化反応をプラズマで助成す
るプラズマ助成式の酸化反応蒸着法等を用いて蒸着膜を
形成することができる。上記において、蒸着材料の加熱
方式としては、例えば、抵抗加熱方式、高周波誘導加熱
方式、エレクトロンビ−ム加熱方式(EB)等にて行う
ことができる。
陽電池モジュ−ル用保護シ−ト、太陽電池モジュ−ル等
を構成する無機酸化物の蒸着膜について説明すると、か
かる無機酸化物の蒸着膜としては、例えば、物理気相成
長法、または、化学気相成長法、あるいは、その両者を
併用して、無機酸化物の蒸着薄膜の1層からなる単層膜
あるいは2層以上からなる多層膜または複合膜を形成し
て製造することができるものである。上記の物理気相成
長法による無機酸化物の蒸着薄膜について更に詳しく説
明すると、かかる物理気相成長法による無機酸化物の蒸
着膜としては、例えば、真空蒸着法、スパッタリング
法、イオンプレ−ティング法、イオンクラスタ−ビ−ム
法等の物理気相成長法(Physical Vapor
Deposition法、PVD法)を用いて無機酸
化物の蒸着膜を形成することができる。本発明におい
て、具体的には、金属の酸化物を原料とし、これを加熱
してプラスチックシ−トの上に蒸着する真空蒸着法、ま
たは、原料として金属または金属の酸化物を使用し、酸
素を導入して酸化させてプラスチックシ−トの上に蒸着
する酸化反応蒸着法、更に酸化反応をプラズマで助成す
るプラズマ助成式の酸化反応蒸着法等を用いて蒸着膜を
形成することができる。上記において、蒸着材料の加熱
方式としては、例えば、抵抗加熱方式、高周波誘導加熱
方式、エレクトロンビ−ム加熱方式(EB)等にて行う
ことができる。
【0020】本発明において、物理気相成長法による無
機酸化物の薄膜膜を形成する方法について、その具体例
を挙げると、図7は、巻き取り式真空蒸着装置の一例を
示す概略的構成図である。図7に示すように、巻き取り
式真空蒸着装置21の真空チャンバ−22の中で、巻き
出しロ−ル23から繰り出すプラスチックシ−ト1は、
ガイドロ−ル24、25を介して、冷却したコ−ティン
グドラム26に案内される。而して、上記の冷却したコ
−ティングドラム26上に案内されたプラスチックシ−
ト1の上に、るつぼ27で熱せられた蒸着源28、例え
ば、金属アルミニウム、あるいは、酸化アルミニウム等
を蒸発させ、更に、必要ならば、酸素ガス吹出口29よ
り酸素ガス等を噴出し、これを供給しながら、マスク3
0、30を介して、例えば、酸化アルミニウム等の無機
酸化物の蒸着膜を成膜化し、次いで、上記において、例
えば、酸化アルミニウム等の無機酸化物の蒸着膜を形成
したプラスチックシ−ト1を、ガイドロ−ル25′、2
4′を介して送り出し、巻き取りロ−ル31に巻き取る
ことによって、本発明にかかる物理気相成長法による無
機酸化物の蒸着膜を形成することができる。なお、本発
明においては、上記のような巻き取り式真空蒸着装置を
用いて、まず、第1層の無機酸化物の蒸着膜を形成し、
次いで、同様にして、該無機酸化物の蒸着膜の上に、更
に、無機酸化物の蒸着膜を形成するか、あるいは、上記
のような巻き取り式真空蒸着装置を用いて、これを2連
に連接し、連続的に、無機酸化物の蒸着膜を形成するこ
とにより、2層以上の多層膜からなる無機酸化物の蒸着
膜を形成することができる。
機酸化物の薄膜膜を形成する方法について、その具体例
を挙げると、図7は、巻き取り式真空蒸着装置の一例を
示す概略的構成図である。図7に示すように、巻き取り
式真空蒸着装置21の真空チャンバ−22の中で、巻き
出しロ−ル23から繰り出すプラスチックシ−ト1は、
ガイドロ−ル24、25を介して、冷却したコ−ティン
グドラム26に案内される。而して、上記の冷却したコ
−ティングドラム26上に案内されたプラスチックシ−
ト1の上に、るつぼ27で熱せられた蒸着源28、例え
ば、金属アルミニウム、あるいは、酸化アルミニウム等
を蒸発させ、更に、必要ならば、酸素ガス吹出口29よ
り酸素ガス等を噴出し、これを供給しながら、マスク3
0、30を介して、例えば、酸化アルミニウム等の無機
酸化物の蒸着膜を成膜化し、次いで、上記において、例
えば、酸化アルミニウム等の無機酸化物の蒸着膜を形成
したプラスチックシ−ト1を、ガイドロ−ル25′、2
4′を介して送り出し、巻き取りロ−ル31に巻き取る
ことによって、本発明にかかる物理気相成長法による無
機酸化物の蒸着膜を形成することができる。なお、本発
明においては、上記のような巻き取り式真空蒸着装置を
用いて、まず、第1層の無機酸化物の蒸着膜を形成し、
次いで、同様にして、該無機酸化物の蒸着膜の上に、更
に、無機酸化物の蒸着膜を形成するか、あるいは、上記
のような巻き取り式真空蒸着装置を用いて、これを2連
に連接し、連続的に、無機酸化物の蒸着膜を形成するこ
とにより、2層以上の多層膜からなる無機酸化物の蒸着
膜を形成することができる。
【0021】上記において、無機酸化物の蒸着膜として
は、基本的に金属の酸化物を蒸着した薄膜であれば使用
可能であり、例えば、ケイ素(Si)、アルミニウム
(Al)、マグネシウム(Mg)、カルシウム(C
a)、カリウム(K)、スズ(Sn)、ナトリウム(N
a)、ホウ素(B)、チタン(Ti)、鉛(Pb)、ジ
ルコニウム(Zr)、イットリウム(Y)等の金属の酸
化物の蒸着膜を使用することができる。而して、好まし
いものとしては、ケイ素(Si)、アルミニウム(A
l)等の金属の酸化物の蒸着膜を挙げることができる。
而して、上記の金属の酸化物の蒸着膜は、ケイ素酸化
物、アルミニウム酸化物、マグネシウム酸化物等のよう
に金属酸化物として呼ぶことができ、その表記は、例え
ば、SiOX 、AlOX 、MgOX 等のようにMO
X (ただし、式中、Mは、金属元素を表し、Xの値は、
金属元素によってそれぞれ範囲がことなる。)で表され
る。また、上記のXの値の範囲としては、ケイ素(S
i)は、0〜2、アルミニウム(Al)は、0〜1.
5、マグネシウム(Mg)は、0〜1、カルシウム(C
a)は、0〜1、カリウム(K)は、0〜0.5、スズ
(Sn)は、0〜2、ナトリウム(Na)は、0〜0.
5、ホウ素(B)は、0〜1、5、チタン(Ti)は、
0〜2、鉛(Pb)は、0〜1、ジルコニウム(Zr)
は0〜2、イットリウム(Y)は、0〜1.5の範囲の
値をとることができる。上記において、X=0の場合、
完全な金属であり、透明ではなく全く使用することがで
きない、また、Xの範囲の上限は、完全に酸化した値で
ある。本発明において、一般的に、ケイ素(Si)、ア
ルミニウム(Al)以外は、使用される例に乏しく、ケ
イ素(Si)は、1.0〜2.0、アルミニウム(A
l)は、0.5〜1.5の範囲の値のものを使用するこ
とができる。本発明において、上記のような無機酸化物
の蒸着膜の膜厚としては、使用する金属、または金属の
酸化物の種類等によって異なるが、例えば、50〜20
00Å位、好ましくは、100〜1000Å位の範囲内
で任意に選択して形成することが望ましい。また、本発
明においては、無機酸化物の蒸着膜としては、使用する
金属、または金属の酸化物としては、1種または2種以
上の混合物で使用し、異種の材質で混合した無機酸化物
の蒸着膜を構成することもできる。
は、基本的に金属の酸化物を蒸着した薄膜であれば使用
可能であり、例えば、ケイ素(Si)、アルミニウム
(Al)、マグネシウム(Mg)、カルシウム(C
a)、カリウム(K)、スズ(Sn)、ナトリウム(N
a)、ホウ素(B)、チタン(Ti)、鉛(Pb)、ジ
ルコニウム(Zr)、イットリウム(Y)等の金属の酸
化物の蒸着膜を使用することができる。而して、好まし
いものとしては、ケイ素(Si)、アルミニウム(A
l)等の金属の酸化物の蒸着膜を挙げることができる。
而して、上記の金属の酸化物の蒸着膜は、ケイ素酸化
物、アルミニウム酸化物、マグネシウム酸化物等のよう
に金属酸化物として呼ぶことができ、その表記は、例え
ば、SiOX 、AlOX 、MgOX 等のようにMO
X (ただし、式中、Mは、金属元素を表し、Xの値は、
金属元素によってそれぞれ範囲がことなる。)で表され
る。また、上記のXの値の範囲としては、ケイ素(S
i)は、0〜2、アルミニウム(Al)は、0〜1.
5、マグネシウム(Mg)は、0〜1、カルシウム(C
a)は、0〜1、カリウム(K)は、0〜0.5、スズ
(Sn)は、0〜2、ナトリウム(Na)は、0〜0.
5、ホウ素(B)は、0〜1、5、チタン(Ti)は、
0〜2、鉛(Pb)は、0〜1、ジルコニウム(Zr)
は0〜2、イットリウム(Y)は、0〜1.5の範囲の
値をとることができる。上記において、X=0の場合、
完全な金属であり、透明ではなく全く使用することがで
きない、また、Xの範囲の上限は、完全に酸化した値で
ある。本発明において、一般的に、ケイ素(Si)、ア
ルミニウム(Al)以外は、使用される例に乏しく、ケ
イ素(Si)は、1.0〜2.0、アルミニウム(A
l)は、0.5〜1.5の範囲の値のものを使用するこ
とができる。本発明において、上記のような無機酸化物
の蒸着膜の膜厚としては、使用する金属、または金属の
酸化物の種類等によって異なるが、例えば、50〜20
00Å位、好ましくは、100〜1000Å位の範囲内
で任意に選択して形成することが望ましい。また、本発
明においては、無機酸化物の蒸着膜としては、使用する
金属、または金属の酸化物としては、1種または2種以
上の混合物で使用し、異種の材質で混合した無機酸化物
の蒸着膜を構成することもできる。
【0022】次にまた、本発明において、上記の化学気
相成長法による無機酸化物の蒸着膜について更に説明す
ると、かかる化学気相成長法による無機酸化物の蒸着膜
としては、例えば、プラズマ化学気相成長法、熱化学気
相成長法、光化学気相成長法等の化学気相成長法(Ch
emical Vapor Deposition法、
CVD法)等を用いて無機酸化物の蒸着膜を形成するこ
とができる。本発明においては、具体的には、プラスチ
ックシ−トの一方の面に、有機珪素化合物等の蒸着用モ
ノマ−ガスを原料とし、キャリヤ−ガスとして、アルゴ
ンガス、ヘリウムガス等の不活性ガスを使用し、更に、
酸素供給ガスとして、酸素ガス等を使用し、低温プラズ
マ発生装置等を利用する低温プラズマ化学気相成長法を
用いて酸化珪素等の無機酸化物の蒸着膜を形成すること
ができる。上記において、低温プラズマ発生装置として
は、例えば、高周波プラズマ、パルス波プラズマ、マイ
クロ波プラズマ等の発生装置を使用することがてき、而
して、本発明においては、高活性の安定したプラズマを
得るためには、高周波プラズマ方式による発生装置を使
用することが望ましい。
相成長法による無機酸化物の蒸着膜について更に説明す
ると、かかる化学気相成長法による無機酸化物の蒸着膜
としては、例えば、プラズマ化学気相成長法、熱化学気
相成長法、光化学気相成長法等の化学気相成長法(Ch
emical Vapor Deposition法、
CVD法)等を用いて無機酸化物の蒸着膜を形成するこ
とができる。本発明においては、具体的には、プラスチ
ックシ−トの一方の面に、有機珪素化合物等の蒸着用モ
ノマ−ガスを原料とし、キャリヤ−ガスとして、アルゴ
ンガス、ヘリウムガス等の不活性ガスを使用し、更に、
酸素供給ガスとして、酸素ガス等を使用し、低温プラズ
マ発生装置等を利用する低温プラズマ化学気相成長法を
用いて酸化珪素等の無機酸化物の蒸着膜を形成すること
ができる。上記において、低温プラズマ発生装置として
は、例えば、高周波プラズマ、パルス波プラズマ、マイ
クロ波プラズマ等の発生装置を使用することがてき、而
して、本発明においては、高活性の安定したプラズマを
得るためには、高周波プラズマ方式による発生装置を使
用することが望ましい。
【0023】具体的に、上記の低温プラズマ化学気相成
長法による無機酸化物の蒸着膜の形成法についてその一
例を例示して説明すると、図8は、上記のプラズマ化学
気相成長法による無機酸化物の蒸着膜の形成法について
その概要を示す低温プラズマ化学気相成長装置の概略的
構成図である。上記の図8に示すように、本発明におい
ては、プラズマ化学気相成長装置41の真空チャンバ−
42内に配置された巻き出しロ−ル43からプラスチッ
クシ−ト1を繰り出し、更に、該プラスチックシ−ト1
を、補助ロ−ル44を介して所定の速度で冷却・電極ド
ラム45周面上に搬送する。而して、本発明において
は、ガス供給装置46、47および、原料揮発供給装置
48等から酸素ガス、不活性ガス、有機珪素化合物等の
蒸着用モノマ−ガス、その他等を供給し、それらからな
る蒸着用混合ガス組成物を調整しなから原料供給ノズル
49を通して真空チャンバ−42内に該蒸着用混合ガス
組成物を導入し、そして、上記の冷却・電極ドラム45
周面上に搬送されたプラスチックシ−ト1の上に、グロ
−放電プラズマ50によってプラズマを発生させ、これ
を照射して、酸化珪素等の無機酸化物の蒸着膜を形成
し、製膜化する。本発明においては、その際に、冷却・
電極ドラム45は、チャンバ−外に配置されている電源
51から所定の電力が印加されており、また、冷却・電
極ドラム45の近傍には、マグネット52を配置してプ
ラズマの発生が促進されており、次いで、上記で酸化珪
素等の無機酸化物の蒸着膜を形成したプラスチックシ−
ト1は、補助ロ−ル53を介して巻き取りロ−ル54に
巻き取って、本発明にかかるプラズマ化学気相成長法に
よる無機酸化物の蒸着膜を製造することができるもので
ある。なお、図中、55は、真空ポンプを表す。上記の
例示は、その一例を例示するものであり、これによって
本発明は限定されるものではないことは言うまでもない
ことである。図示しないが、本発明においては、無機酸
化物の蒸着膜としては、無機酸化物の蒸着膜の1層だけ
ではなく、2層あるいはそれ以上を積層した多層膜の状
態でもよく、また、使用する材料も1種または2種以上
の混合物で使用し、また、異種の材質で混合した無機酸
化物の蒸着膜を構成することもできる。また、本発明に
おいては、上記のような低温プラズマ化学気相成長装置
を用いて、まず、第1層の無機酸化物の蒸着膜を形成
し、次いで、同様にして、該無機酸化物の蒸着膜の上
に、更に、無機酸化物の蒸着膜を形成するか、あるい
は、上記のような低温プラズマ化学気相成長装置を用い
て、これを2連に連接し、連続的に、無機酸化物の蒸着
膜を形成することにより、2層以上の多層膜からなる無
機酸化物の蒸着膜を形成することができる。
長法による無機酸化物の蒸着膜の形成法についてその一
例を例示して説明すると、図8は、上記のプラズマ化学
気相成長法による無機酸化物の蒸着膜の形成法について
その概要を示す低温プラズマ化学気相成長装置の概略的
構成図である。上記の図8に示すように、本発明におい
ては、プラズマ化学気相成長装置41の真空チャンバ−
42内に配置された巻き出しロ−ル43からプラスチッ
クシ−ト1を繰り出し、更に、該プラスチックシ−ト1
を、補助ロ−ル44を介して所定の速度で冷却・電極ド
ラム45周面上に搬送する。而して、本発明において
は、ガス供給装置46、47および、原料揮発供給装置
48等から酸素ガス、不活性ガス、有機珪素化合物等の
蒸着用モノマ−ガス、その他等を供給し、それらからな
る蒸着用混合ガス組成物を調整しなから原料供給ノズル
49を通して真空チャンバ−42内に該蒸着用混合ガス
組成物を導入し、そして、上記の冷却・電極ドラム45
周面上に搬送されたプラスチックシ−ト1の上に、グロ
−放電プラズマ50によってプラズマを発生させ、これ
を照射して、酸化珪素等の無機酸化物の蒸着膜を形成
し、製膜化する。本発明においては、その際に、冷却・
電極ドラム45は、チャンバ−外に配置されている電源
51から所定の電力が印加されており、また、冷却・電
極ドラム45の近傍には、マグネット52を配置してプ
ラズマの発生が促進されており、次いで、上記で酸化珪
素等の無機酸化物の蒸着膜を形成したプラスチックシ−
ト1は、補助ロ−ル53を介して巻き取りロ−ル54に
巻き取って、本発明にかかるプラズマ化学気相成長法に
よる無機酸化物の蒸着膜を製造することができるもので
ある。なお、図中、55は、真空ポンプを表す。上記の
例示は、その一例を例示するものであり、これによって
本発明は限定されるものではないことは言うまでもない
ことである。図示しないが、本発明においては、無機酸
化物の蒸着膜としては、無機酸化物の蒸着膜の1層だけ
ではなく、2層あるいはそれ以上を積層した多層膜の状
態でもよく、また、使用する材料も1種または2種以上
の混合物で使用し、また、異種の材質で混合した無機酸
化物の蒸着膜を構成することもできる。また、本発明に
おいては、上記のような低温プラズマ化学気相成長装置
を用いて、まず、第1層の無機酸化物の蒸着膜を形成
し、次いで、同様にして、該無機酸化物の蒸着膜の上
に、更に、無機酸化物の蒸着膜を形成するか、あるい
は、上記のような低温プラズマ化学気相成長装置を用い
て、これを2連に連接し、連続的に、無機酸化物の蒸着
膜を形成することにより、2層以上の多層膜からなる無
機酸化物の蒸着膜を形成することができる。
【0024】上記において、酸化珪素等の無機酸化物の
蒸着膜を形成する有機珪素化合物等の蒸着用モノマ−ガ
スとしては、例えば、1.1.3.3−テトラメチルジ
シロキサン、ヘキサメチルジシロキサン、ビニルトリメ
チルシラン、メチルトリメチルシラン、ヘキサメチルジ
シラン、メチルシラン、ジメチルシラン、トリメチルシ
ラン、ジエチルシラン、プロピルシラン、フェニルシラ
ン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシ
ラン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、
フェニルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラ
ン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、その他等を
使用することができる。本発明において、上記のような
有機珪素化合物の中でも、1.1.3.3−テトラメチ
ルジシロキサン、または、ヘキサメチルジシロキサンを
原料として使用することが、その取り扱い性、形成され
た蒸着膜の特性等から、特に、好ましい原料である。ま
た、上記において、不活性ガスとしては、例えば、アル
ゴンガス、ヘリウムガス等を使用することができる。
蒸着膜を形成する有機珪素化合物等の蒸着用モノマ−ガ
スとしては、例えば、1.1.3.3−テトラメチルジ
シロキサン、ヘキサメチルジシロキサン、ビニルトリメ
チルシラン、メチルトリメチルシラン、ヘキサメチルジ
シラン、メチルシラン、ジメチルシラン、トリメチルシ
ラン、ジエチルシラン、プロピルシラン、フェニルシラ
ン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシ
ラン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、
フェニルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラ
ン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、その他等を
使用することができる。本発明において、上記のような
有機珪素化合物の中でも、1.1.3.3−テトラメチ
ルジシロキサン、または、ヘキサメチルジシロキサンを
原料として使用することが、その取り扱い性、形成され
た蒸着膜の特性等から、特に、好ましい原料である。ま
た、上記において、不活性ガスとしては、例えば、アル
ゴンガス、ヘリウムガス等を使用することができる。
【0025】本発明において、上記で形成される酸化珪
素の蒸着膜は、有機珪素化合物等のモノマ−ガスと酸素
ガス等とが化学反応し、その反応生成物がプラスチック
シ−トの上に密接着し、緻密な、柔軟性等に富む薄膜を
形成することができ、通常、一般式SiOX (ただし、
Xは、0〜2の数を表す)で表される酸化珪素を主体と
する連続状の蒸着膜である。而して、上記の酸化珪素の
蒸着膜としては、透明性、バリア性等の点から、一般式
SiOX (ただし、Xは、1.3〜1.9の数を表
す。)で表される酸化珪素の蒸着膜を主体とする薄膜で
あることが好ましいものである。上記において、Xの値
は、モノマ−ガスと酸素ガスのモル比、プラズマのエネ
ルギ−等により変化するが、一般的に、Xの値が小さく
なればガス透過度は小さくなるが、膜自身が黄色性を帯
び、透明性が悪くなる。また、上記の酸化珪素の蒸着膜
は、珪素(Si)と酸素(O)を必須構成元素として有
し、更に、炭素(C)と水素(H)のいずれが一方、ま
たは、その両者の元素を微量構成元素として含有する酸
化珪素の蒸着膜からなり、かつ、その膜厚が、50Å〜
500Åの範囲であり、更に、上記の必須構成元素と微
量構成元素の構成比率が、膜厚方向において連続的に変
化しているものである。更に、上記の酸化珪素の蒸着膜
は、炭素からなる化合物を含有する場合には、その膜厚
の深さ方向において炭素の含有量が減少していることを
特徴とするものである。而して、本発明において、上記
の酸化珪素の蒸着膜について、例えば、X線光電子分光
装置(Xray Photoelectron Spe
ctroscopy、XPS)、二次イオン質量分析装
置(Secondary Ion Mass Spec
troscopy、SIMS)等の表面分析装置を用
い、深さ方向にイオンエッチングする等して分析する方
法を利用して、酸化珪素の蒸着膜の元素分析を行うこと
より、上記のような物性を確認することができる。ま
た、本発明において、上記の酸化珪素の蒸着膜の膜厚と
しては、膜厚50Å〜2000Å位であることが望まし
く、具体的には、その膜厚としては、100〜1000
Å位が望ましく、而して、上記において、1000Å、
更には、2000Åより厚くなると、その膜にクラック
等が発生し易くなるので好ましくなく、また、100
Å、更には、50Å未満であると、バリア性の効果を奏
することが困難になることから好ましくないものであ
る。上記のおいて、その膜厚は、例えば、株式会社理学
製の蛍光X線分析装置(機種名、RIX2000型)を
用いて、ファンダメンタルパラメ−タ−法で測定するこ
とができる。また、上記において、上記の酸化珪素の蒸
着膜の膜厚を変更する手段としては、蒸着膜の体積速度
を大きくすること、すなわち、モノマ−ガスと酸素ガス
量を多くする方法や蒸着する速度を遅くする方法等によ
って行うことができる。
素の蒸着膜は、有機珪素化合物等のモノマ−ガスと酸素
ガス等とが化学反応し、その反応生成物がプラスチック
シ−トの上に密接着し、緻密な、柔軟性等に富む薄膜を
形成することができ、通常、一般式SiOX (ただし、
Xは、0〜2の数を表す)で表される酸化珪素を主体と
する連続状の蒸着膜である。而して、上記の酸化珪素の
蒸着膜としては、透明性、バリア性等の点から、一般式
SiOX (ただし、Xは、1.3〜1.9の数を表
す。)で表される酸化珪素の蒸着膜を主体とする薄膜で
あることが好ましいものである。上記において、Xの値
は、モノマ−ガスと酸素ガスのモル比、プラズマのエネ
ルギ−等により変化するが、一般的に、Xの値が小さく
なればガス透過度は小さくなるが、膜自身が黄色性を帯
び、透明性が悪くなる。また、上記の酸化珪素の蒸着膜
は、珪素(Si)と酸素(O)を必須構成元素として有
し、更に、炭素(C)と水素(H)のいずれが一方、ま
たは、その両者の元素を微量構成元素として含有する酸
化珪素の蒸着膜からなり、かつ、その膜厚が、50Å〜
500Åの範囲であり、更に、上記の必須構成元素と微
量構成元素の構成比率が、膜厚方向において連続的に変
化しているものである。更に、上記の酸化珪素の蒸着膜
は、炭素からなる化合物を含有する場合には、その膜厚
の深さ方向において炭素の含有量が減少していることを
特徴とするものである。而して、本発明において、上記
の酸化珪素の蒸着膜について、例えば、X線光電子分光
装置(Xray Photoelectron Spe
ctroscopy、XPS)、二次イオン質量分析装
置(Secondary Ion Mass Spec
troscopy、SIMS)等の表面分析装置を用
い、深さ方向にイオンエッチングする等して分析する方
法を利用して、酸化珪素の蒸着膜の元素分析を行うこと
より、上記のような物性を確認することができる。ま
た、本発明において、上記の酸化珪素の蒸着膜の膜厚と
しては、膜厚50Å〜2000Å位であることが望まし
く、具体的には、その膜厚としては、100〜1000
Å位が望ましく、而して、上記において、1000Å、
更には、2000Åより厚くなると、その膜にクラック
等が発生し易くなるので好ましくなく、また、100
Å、更には、50Å未満であると、バリア性の効果を奏
することが困難になることから好ましくないものであ
る。上記のおいて、その膜厚は、例えば、株式会社理学
製の蛍光X線分析装置(機種名、RIX2000型)を
用いて、ファンダメンタルパラメ−タ−法で測定するこ
とができる。また、上記において、上記の酸化珪素の蒸
着膜の膜厚を変更する手段としては、蒸着膜の体積速度
を大きくすること、すなわち、モノマ−ガスと酸素ガス
量を多くする方法や蒸着する速度を遅くする方法等によ
って行うことができる。
【0026】ところで、本発明において、本発明にかか
る太陽電池モジュ−ル用保護シ−ト、太陽電池モジュ−
ル等を構成する無機酸化物の蒸着膜として、例えば、物
理気相成長法と化学気相成長法の両者を併用して異種の
無機酸化物の蒸着膜の2層以上からなる複合膜を形成し
て使用することもできるものである。而して、上記の異
種の無機酸化物の蒸着膜の2層以上からなる複合膜とし
ては、まず、プラスチックシ−トの上に、化学気相成長
法により、緻密で、柔軟性に富み、比較的にクラックの
発生を防止し得る無機酸化物の蒸着膜を設け、次いで、
該無機酸化物の蒸着膜の上に、物理気相成長法による無
機酸化物の蒸着膜を設けて、2層以上からなる複合膜か
らなる無機酸化物の蒸着膜を構成することが望ましいも
のである。勿論、本発明においては、上記とは逆くに、
プラスチックシ−トの上に、先に、物理気相成長法によ
り、無機酸化物の蒸着膜を設け、次に、化学気相成長法
により、緻密で、柔軟性に富み、比較的にクラックの発
生を防止し得る無機酸化物の蒸着膜を設けて、2層以上
からなる複合膜からなる無機酸化物の蒸着膜を構成する
こともできるものである。
る太陽電池モジュ−ル用保護シ−ト、太陽電池モジュ−
ル等を構成する無機酸化物の蒸着膜として、例えば、物
理気相成長法と化学気相成長法の両者を併用して異種の
無機酸化物の蒸着膜の2層以上からなる複合膜を形成し
て使用することもできるものである。而して、上記の異
種の無機酸化物の蒸着膜の2層以上からなる複合膜とし
ては、まず、プラスチックシ−トの上に、化学気相成長
法により、緻密で、柔軟性に富み、比較的にクラックの
発生を防止し得る無機酸化物の蒸着膜を設け、次いで、
該無機酸化物の蒸着膜の上に、物理気相成長法による無
機酸化物の蒸着膜を設けて、2層以上からなる複合膜か
らなる無機酸化物の蒸着膜を構成することが望ましいも
のである。勿論、本発明においては、上記とは逆くに、
プラスチックシ−トの上に、先に、物理気相成長法によ
り、無機酸化物の蒸着膜を設け、次に、化学気相成長法
により、緻密で、柔軟性に富み、比較的にクラックの発
生を防止し得る無機酸化物の蒸着膜を設けて、2層以上
からなる複合膜からなる無機酸化物の蒸着膜を構成する
こともできるものである。
【0027】次に、本発明において、本発明にかかる太
陽電池モジュ−ル用保護シ−ト、太陽電池モジュ−ル等
を構成するケイ素化合物の加水分解による重縮合物から
なる組成物によるコ−ティング膜について説明すると、
かかるコ−ティング膜を形成するには、まず、ケイ素化
合物を主成分とし、その原料をそのまま、または、エタ
ノ−ルやイソプロパノ−ルのような適当な溶剤に溶解
し、それを化学量論的に必要な水、好ましくは、1部ま
たは数部過剰の水と接触させて加水分解を行い、該加水
分解による重縮合物からなる組成物を調製する。上記の
加水分解は、一般に、−20〜130℃、好ましくは、
0℃〜30℃の温度、あるいは、選択的に使用する溶剤
の沸点等において行うことが好ましい。まて、上記にお
いて、水と接触させる最良の方法としては、とりわけ、
使用する原料の反応性により異なる。そのため、例え
ば、溶解した原料を過剰の水にゆっくりと滴下すること
もできるし、あるいは、水を選択的に溶解した原料に一
度に、または、数回に分けて加えることもできる。ま
た、水をそのまま加えるのではなく、その代わりに、水
を含む有機系あるいは無機系溶剤を使用し、水を反応混
合物に導入するのも有利である。多くの場合、水分を含
む吸着材、例えば、分子ふるい、および、水を含む有機
溶剤、例えば、30%濃度のエタノ−ルを使って水を反
応混合物に導入するのが特にていしていることが分かっ
ている。また、水が形成される反応、例えば、酸とアル
コ−ルからエステルを形成する反応により水を加えるこ
とができる。溶剤を使用する場合は、上記の、効果的に
使用できる低級脂肪族アルコ−ルの他に、ケトン類、好
ましくはアセトンやメチルイソブチルケトンのような低
級ジアルキルケトン類、エステル類、好ましくはジエチ
ルエ−テルのような低級ジアルキルエ−テル、テトラヒ
ドロフラン(THF)、アミド類、エステル類、特に、
酢酸エチル、ジメチルホルムアミドおよびそれらの混合
物が適している。
陽電池モジュ−ル用保護シ−ト、太陽電池モジュ−ル等
を構成するケイ素化合物の加水分解による重縮合物から
なる組成物によるコ−ティング膜について説明すると、
かかるコ−ティング膜を形成するには、まず、ケイ素化
合物を主成分とし、その原料をそのまま、または、エタ
ノ−ルやイソプロパノ−ルのような適当な溶剤に溶解
し、それを化学量論的に必要な水、好ましくは、1部ま
たは数部過剰の水と接触させて加水分解を行い、該加水
分解による重縮合物からなる組成物を調製する。上記の
加水分解は、一般に、−20〜130℃、好ましくは、
0℃〜30℃の温度、あるいは、選択的に使用する溶剤
の沸点等において行うことが好ましい。まて、上記にお
いて、水と接触させる最良の方法としては、とりわけ、
使用する原料の反応性により異なる。そのため、例え
ば、溶解した原料を過剰の水にゆっくりと滴下すること
もできるし、あるいは、水を選択的に溶解した原料に一
度に、または、数回に分けて加えることもできる。ま
た、水をそのまま加えるのではなく、その代わりに、水
を含む有機系あるいは無機系溶剤を使用し、水を反応混
合物に導入するのも有利である。多くの場合、水分を含
む吸着材、例えば、分子ふるい、および、水を含む有機
溶剤、例えば、30%濃度のエタノ−ルを使って水を反
応混合物に導入するのが特にていしていることが分かっ
ている。また、水が形成される反応、例えば、酸とアル
コ−ルからエステルを形成する反応により水を加えるこ
とができる。溶剤を使用する場合は、上記の、効果的に
使用できる低級脂肪族アルコ−ルの他に、ケトン類、好
ましくはアセトンやメチルイソブチルケトンのような低
級ジアルキルケトン類、エステル類、好ましくはジエチ
ルエ−テルのような低級ジアルキルエ−テル、テトラヒ
ドロフラン(THF)、アミド類、エステル類、特に、
酢酸エチル、ジメチルホルムアミドおよびそれらの混合
物が適している。
【0028】加水分解による重縮合は、選択的に、触
媒、例えば、プロトンまたはヒドロキシルイオンを放出
する化合物、または、アミン類を加えて行うことができ
る。適当な触媒の暦としては、塩酸や酢酸のような有機
または無機酸、アンモニア、アルカリ金属水酸化物およ
びアルカリ土類金属水酸化物、例えば、水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム、または、水酸化カルシウムのよう
な有機、または、無機塩類、および、反応媒体に可溶な
アミン類、例えば、低級アルキルアミン類またはアルタ
ノ−ルアミン類がある。揮発性の酸および塩基、特に、
塩酸、アンモニアおよびトリエチルアミンが特に好まし
い。触媒の全濃度は、例えば、1リットル当たり3モル
まででよい。原料化合物のすべてが加水分解(重縮合)
開始時に既に存在している必要はなく、実際、特定の場
合には、これらの化合物の一部だけを最初に水と接触さ
せ、残りの化合物は、、後で加えるのが有利であること
がある。加水分解による重縮合の際に沈殿をできるだけ
避けるために、水を何段階かに、例えば、3段階に分け
て加えるのが好ましい。第一段階では、例えば、加水分
解による化学量論的に必要な水の量の十分の一から二十
分の一を加える。短時間の攪拌後、化学量論的量の水の
五分の一から十分の一を加え、さらに短時間攪拌後、最
終的に化学量論的にやや過剰の水が存在するような量の
水を加える。加水分解による重縮合時間は、特定の原料
成分およびその量的比率、選択的に使用する触媒、反応
温度、等により異なる。一般的に、加水分解による重縮
合は大気圧で行うが、加圧または減圧下で行うこともで
きる。水の添加が完了したら、混合物を好ましくは長時
間、例えば、2〜3時間、室温またはやや高い温度で攪
拌して、ケイ素化合物の加水分解による重縮合物からな
る組成物を調製する。
媒、例えば、プロトンまたはヒドロキシルイオンを放出
する化合物、または、アミン類を加えて行うことができ
る。適当な触媒の暦としては、塩酸や酢酸のような有機
または無機酸、アンモニア、アルカリ金属水酸化物およ
びアルカリ土類金属水酸化物、例えば、水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム、または、水酸化カルシウムのよう
な有機、または、無機塩類、および、反応媒体に可溶な
アミン類、例えば、低級アルキルアミン類またはアルタ
ノ−ルアミン類がある。揮発性の酸および塩基、特に、
塩酸、アンモニアおよびトリエチルアミンが特に好まし
い。触媒の全濃度は、例えば、1リットル当たり3モル
まででよい。原料化合物のすべてが加水分解(重縮合)
開始時に既に存在している必要はなく、実際、特定の場
合には、これらの化合物の一部だけを最初に水と接触さ
せ、残りの化合物は、、後で加えるのが有利であること
がある。加水分解による重縮合の際に沈殿をできるだけ
避けるために、水を何段階かに、例えば、3段階に分け
て加えるのが好ましい。第一段階では、例えば、加水分
解による化学量論的に必要な水の量の十分の一から二十
分の一を加える。短時間の攪拌後、化学量論的量の水の
五分の一から十分の一を加え、さらに短時間攪拌後、最
終的に化学量論的にやや過剰の水が存在するような量の
水を加える。加水分解による重縮合時間は、特定の原料
成分およびその量的比率、選択的に使用する触媒、反応
温度、等により異なる。一般的に、加水分解による重縮
合は大気圧で行うが、加圧または減圧下で行うこともで
きる。水の添加が完了したら、混合物を好ましくは長時
間、例えば、2〜3時間、室温またはやや高い温度で攪
拌して、ケイ素化合物の加水分解による重縮合物からな
る組成物を調製する。
【0029】次に、本発明においては、上記で調整した
組成物を、例えば、フロ−ティングナイフコ−ト法、ナ
イフオ−バ−ロ−ルコ−ト法、インバ−ティドナイフコ
−ト法、スクイ−ズロ−ルコ−ト法、リバ−スロ−ルコ
−ト法、ロ−ルコ−ト法、グラビアロ−ルコ−ト法、キ
スロ−ルコ−ト法、エア−ブレ−ドコ−ト法、ディップ
コ−ト法、フロ−コ−ト法、スピンコ−ト法、スプレイ
コ−ト法、バ−コ−ト法、カ−テンフロ−コ−ト法、そ
の他等のコ−ティング法、あるいは、グラビア印刷、オ
フセット印刷、シルクスクリ−ン印刷、転写印刷、その
他等の印刷法を用いて、前述の無機酸化物の蒸着膜の面
に塗布ないし印刷し、次いで、乾燥、更には、エ−ジン
グ処理等を施して、本発明にかかるコ−ティング膜を形
成することができる。上記において、コ−ティング膜の
膜厚としては、0.2〜50g/m2 (乾燥状態)位、
より好ましくは、1.0〜25g/m2 (乾燥状態)位
が望ましい。
組成物を、例えば、フロ−ティングナイフコ−ト法、ナ
イフオ−バ−ロ−ルコ−ト法、インバ−ティドナイフコ
−ト法、スクイ−ズロ−ルコ−ト法、リバ−スロ−ルコ
−ト法、ロ−ルコ−ト法、グラビアロ−ルコ−ト法、キ
スロ−ルコ−ト法、エア−ブレ−ドコ−ト法、ディップ
コ−ト法、フロ−コ−ト法、スピンコ−ト法、スプレイ
コ−ト法、バ−コ−ト法、カ−テンフロ−コ−ト法、そ
の他等のコ−ティング法、あるいは、グラビア印刷、オ
フセット印刷、シルクスクリ−ン印刷、転写印刷、その
他等の印刷法を用いて、前述の無機酸化物の蒸着膜の面
に塗布ないし印刷し、次いで、乾燥、更には、エ−ジン
グ処理等を施して、本発明にかかるコ−ティング膜を形
成することができる。上記において、コ−ティング膜の
膜厚としては、0.2〜50g/m2 (乾燥状態)位、
より好ましくは、1.0〜25g/m2 (乾燥状態)位
が望ましい。
【0030】なお、本発明において、上記のケイ素化合
物の加水分解による重縮合物からなる組成物によるコ−
ティング膜を熱的手段あるいは電離放射線等を照射して
硬化させる場合には、ケイ素化合物の加水分解による重
縮合物からなる組成物中に、予め、開始剤等を添加して
おくことが好ましいものである。上記の開始剤として
は、市販の光重合反応開始剤を使用することができる。
これらの開始剤の例としては、例えば、スイス、チバガ
イギ−社製のイルガキュア185(1−ヒドロキシシク
ロヘキシル フェニル ケトン)、イルガキュア500
(1−ヒドロキシシクロヘキシル フェニル ケトン+
ベンゾフェノン)、および、その他のイルガキュア型の
光反応開始剤、グロキュア1173、1116、139
6、1174および1020(スイス、メルク社製)、
ベンゾフェノン、2−クロロチオキサントン、2−メチ
ルチオキサントン、2−イソプロピルチオキサントン、
ベンゾイン、4.4′−ジメトキシベンゾイン、ベンゾ
イン エチル エ−テル、ベンゾイン イソプロピル
エ−テル、ベンゾイン ジメチル エ−テル、1.1.
1−トリクロロアセトフェノン、ジエトキシアセトフェ
ノンおよびジベンゾスベロンを使用することができる。
適当な熱反応開始剤は、特に、過酸化ジアシル、ペルオ
キシニ炭酸塩、アルキルペルエステル、過酸化ジアルキ
ル、ペルケタ−ル、過酸化ケトンおよびアルキルペルオ
キシドの形の有機性過酸化物を使用することができる。
熱的反応開始剤の特定の、および、好ましい例として
は、過酸化ジベンゾイル、過安息香tert−ブチルお
よびアゾビスイソブチロニトリルを使用することができ
る。勿論、イオン重合反応を開始する開始剤の使用も可
能である。特に、エポキシ基を持つ基R′(例えば、グ
リシジルオキシプロピルトリメトキシシラン)を含む、
後述する一般式(1)で示す化合物では、陽イオン重合
反応を開始させるUV開始剤が有効であることが分かっ
ている。これらの場合、同じ条件下で陽イオンによる硬
化結果は、フリ−ラジカル開始剤による硬化より良いこ
とが多いものである。反応開始剤は、通常の量で、組成
物中に添加することができ、例えば、30〜50重量%
の固形分を含む組成物中には、0.5〜2重量%(全量
に対して)の量で開始剤を加えることができる。
物の加水分解による重縮合物からなる組成物によるコ−
ティング膜を熱的手段あるいは電離放射線等を照射して
硬化させる場合には、ケイ素化合物の加水分解による重
縮合物からなる組成物中に、予め、開始剤等を添加して
おくことが好ましいものである。上記の開始剤として
は、市販の光重合反応開始剤を使用することができる。
これらの開始剤の例としては、例えば、スイス、チバガ
イギ−社製のイルガキュア185(1−ヒドロキシシク
ロヘキシル フェニル ケトン)、イルガキュア500
(1−ヒドロキシシクロヘキシル フェニル ケトン+
ベンゾフェノン)、および、その他のイルガキュア型の
光反応開始剤、グロキュア1173、1116、139
6、1174および1020(スイス、メルク社製)、
ベンゾフェノン、2−クロロチオキサントン、2−メチ
ルチオキサントン、2−イソプロピルチオキサントン、
ベンゾイン、4.4′−ジメトキシベンゾイン、ベンゾ
イン エチル エ−テル、ベンゾイン イソプロピル
エ−テル、ベンゾイン ジメチル エ−テル、1.1.
1−トリクロロアセトフェノン、ジエトキシアセトフェ
ノンおよびジベンゾスベロンを使用することができる。
適当な熱反応開始剤は、特に、過酸化ジアシル、ペルオ
キシニ炭酸塩、アルキルペルエステル、過酸化ジアルキ
ル、ペルケタ−ル、過酸化ケトンおよびアルキルペルオ
キシドの形の有機性過酸化物を使用することができる。
熱的反応開始剤の特定の、および、好ましい例として
は、過酸化ジベンゾイル、過安息香tert−ブチルお
よびアゾビスイソブチロニトリルを使用することができ
る。勿論、イオン重合反応を開始する開始剤の使用も可
能である。特に、エポキシ基を持つ基R′(例えば、グ
リシジルオキシプロピルトリメトキシシラン)を含む、
後述する一般式(1)で示す化合物では、陽イオン重合
反応を開始させるUV開始剤が有効であることが分かっ
ている。これらの場合、同じ条件下で陽イオンによる硬
化結果は、フリ−ラジカル開始剤による硬化より良いこ
とが多いものである。反応開始剤は、通常の量で、組成
物中に添加することができ、例えば、30〜50重量%
の固形分を含む組成物中には、0.5〜2重量%(全量
に対して)の量で開始剤を加えることができる。
【0031】また、本発明において、コ−ティング膜の
硬化方法としては、塗布ないし印刷後、乾燥してから硬
化させるものである。次いで、使用した開始剤の形に応
じて、コ−ティング膜を熱的、または、照射により(例
えば、紫外線ランプ、レ−ザ−、等を使用して)公知の
方法で硬化させることができる。後述するエポキシ基を
持つ基R′を含むコ−ティング膜の場合には、熱的硬化
が特に有利であり、一方、不飽和C−C結合を持つ基
R′を含むコ−ティング膜の場合には、照射による硬化
が、通常、より有利であることが分かっている。
硬化方法としては、塗布ないし印刷後、乾燥してから硬
化させるものである。次いで、使用した開始剤の形に応
じて、コ−ティング膜を熱的、または、照射により(例
えば、紫外線ランプ、レ−ザ−、等を使用して)公知の
方法で硬化させることができる。後述するエポキシ基を
持つ基R′を含むコ−ティング膜の場合には、熱的硬化
が特に有利であり、一方、不飽和C−C結合を持つ基
R′を含むコ−ティング膜の場合には、照射による硬化
が、通常、より有利であることが分かっている。
【0032】ところで、本発明において、上記のケイ素
化合物としては、一般式R′SiR 3 (ただし、式中、
R′は、加水分解に対して安定で、熱および/または電
離放射線の照射により重合可能な基を表し、Rは、OH
基および/または加水分解を受けやすい基を表す。)で
表されるケイ素化合物の1種ないし2種以上を使用する
ことができる。上記において、一般式R′SiR3 中の
R′が、エポキシ原子団、または、C−Cの二重結合を
持つ原子団を含む基からなることが望ましいものであ
る。上記のエポキシ原子団を含む基としては、具体的に
は、グリシジルオキシアルキル基、特に、アルキル部分
に1〜4個の炭素原子団を持つ基であり、特に好ましい
例としては、γ−グリシジルオキシプロピル基を使用こ
とができる。また、上記において、一般式R′SiR3
中のR′が、C−Cの二重結合を持つ原子団を含む基と
しては、選択的に置換したアルケニルおよびアルキニル
基で、例えば、2〜20個の、好ましくは、2〜10個
の炭素原子および少なくとも一つのC−C二重結合を持
つ直鎖、側鎖または環状基で、特に、ビニル、1−およ
び2−プロペニル、ブテニル、イソブテニル、スチレル
およびプロパルギルのような低級アルケニル基、およ
び、アルキニル基、あるいは、メタクリル基またはアク
リル基を含む原子団を含む基を使用することが特に好ま
しいものである。
化合物としては、一般式R′SiR 3 (ただし、式中、
R′は、加水分解に対して安定で、熱および/または電
離放射線の照射により重合可能な基を表し、Rは、OH
基および/または加水分解を受けやすい基を表す。)で
表されるケイ素化合物の1種ないし2種以上を使用する
ことができる。上記において、一般式R′SiR3 中の
R′が、エポキシ原子団、または、C−Cの二重結合を
持つ原子団を含む基からなることが望ましいものであ
る。上記のエポキシ原子団を含む基としては、具体的に
は、グリシジルオキシアルキル基、特に、アルキル部分
に1〜4個の炭素原子団を持つ基であり、特に好ましい
例としては、γ−グリシジルオキシプロピル基を使用こ
とができる。また、上記において、一般式R′SiR3
中のR′が、C−Cの二重結合を持つ原子団を含む基と
しては、選択的に置換したアルケニルおよびアルキニル
基で、例えば、2〜20個の、好ましくは、2〜10個
の炭素原子および少なくとも一つのC−C二重結合を持
つ直鎖、側鎖または環状基で、特に、ビニル、1−およ
び2−プロペニル、ブテニル、イソブテニル、スチレル
およびプロパルギルのような低級アルケニル基、およ
び、アルキニル基、あるいは、メタクリル基またはアク
リル基を含む原子団を含む基を使用することが特に好ま
しいものである。
【0033】次に、 上記において、一般式R′SiR
3 中のRの例としては、例えば、水素、ハロゲン、アル
コキシ、ヒドロキシル、アルキニルカルボニル等を使用
することができる。本発明において、特に好ましい具体
例としては、例えば、メトキシ、エトキシ、n−および
i−プロポキシ、n−、sec−およびtert−ブト
キシ、イソブトキシ、β−メトキシエトキシ、アセチル
オキシ、プロピオニルオキシ、モノメチルアミノ、モノ
エチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、N−
エチルアニリノ、メチルカルボニル、エチルカルボニ
ル、メトキシカルボニルおよびエトキシカルボニル等を
例示することがてきる。なお、本発明において、一般式
R′SiR3 中のR基は、最終生成物の中には存在せ
ず、加水分解により失われ、その加水分解生成物もすぐ
に、または、後に適当な方法で除去しなければならない
ので、置換基を持たず、メタノ−ル、エタノ−ル、プロ
パノ−ルおよびブタノ−ル等の低級アルコ−ル類のよう
な、低分子量の加水分解物を生じるようなR基が特に好
ましいものである。
3 中のRの例としては、例えば、水素、ハロゲン、アル
コキシ、ヒドロキシル、アルキニルカルボニル等を使用
することができる。本発明において、特に好ましい具体
例としては、例えば、メトキシ、エトキシ、n−および
i−プロポキシ、n−、sec−およびtert−ブト
キシ、イソブトキシ、β−メトキシエトキシ、アセチル
オキシ、プロピオニルオキシ、モノメチルアミノ、モノ
エチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、N−
エチルアニリノ、メチルカルボニル、エチルカルボニ
ル、メトキシカルボニルおよびエトキシカルボニル等を
例示することがてきる。なお、本発明において、一般式
R′SiR3 中のR基は、最終生成物の中には存在せ
ず、加水分解により失われ、その加水分解生成物もすぐ
に、または、後に適当な方法で除去しなければならない
ので、置換基を持たず、メタノ−ル、エタノ−ル、プロ
パノ−ルおよびブタノ−ル等の低級アルコ−ル類のよう
な、低分子量の加水分解物を生じるようなR基が特に好
ましいものである。
【0034】本発明においては、一般式R′SiR3 で
表されるケイ素化合物は、全部またはその一部を予備縮
合の形で、即ち、一般式R′SiR3 で表されるケイ素
化合物の部分加水分解物により生じた化合物を単独で、
または、後述する一般式で表される有機金属化合物のよ
うな他の加水分解性化合物と混合して使用することがで
きる。そのようなオリゴマ−は、好ましくは反応媒体に
可溶で、直鎖または環状の、低分子量の、縮合度が、例
えば、薬2〜100、特に、約2〜6である部分縮合物
(ポリオルガノシロキサン)を使用することが好まし
い。本発明において、効果的に使用される一般式R′S
iR3 で表されるケイ素化合物の特定の例としては、γ
−(メタ)アクリルオキシプロピルトリメトキシシラ
ン、ビニルトリクロロシラン、ビニルトリメトキシシラ
ン、ビニルトリエトキシシランおよびビニルトリス(β
−メトキシエトキシ)シラン、および、γ−グリシジル
オキシプロピルトリメトキシシラン等を挙げることがで
きる。
表されるケイ素化合物は、全部またはその一部を予備縮
合の形で、即ち、一般式R′SiR3 で表されるケイ素
化合物の部分加水分解物により生じた化合物を単独で、
または、後述する一般式で表される有機金属化合物のよ
うな他の加水分解性化合物と混合して使用することがで
きる。そのようなオリゴマ−は、好ましくは反応媒体に
可溶で、直鎖または環状の、低分子量の、縮合度が、例
えば、薬2〜100、特に、約2〜6である部分縮合物
(ポリオルガノシロキサン)を使用することが好まし
い。本発明において、効果的に使用される一般式R′S
iR3 で表されるケイ素化合物の特定の例としては、γ
−(メタ)アクリルオキシプロピルトリメトキシシラ
ン、ビニルトリクロロシラン、ビニルトリメトキシシラ
ン、ビニルトリエトキシシランおよびビニルトリス(β
−メトキシエトキシ)シラン、および、γ−グリシジル
オキシプロピルトリメトキシシラン等を挙げることがで
きる。
【0035】次に、本発明においては、上記の一般式
R′SiR3 で表されるケイ素化合物は、好ましくは単
独で使用せず、ガラスやセラミックスを形成するのに一
般的に使用する一般式MRn (ただし、式中、Mは、ケ
イ素、アルミニウム、チタン、ジルコニウム、バナジウ
ム、ホウ素、または、スズから選ばれた元素を表し、R
は、OH基および/または加水分解を受けやすい基を表
し、nは、金属元素の価数を表す。)で表される有機金
属化合物の1種ないし2種以上を混合し、これらの化合
物の加水分解、好ましくは完全加水分解により、相当す
る酸化物の水和物に転換して使用することができる。上
記の一般式MRn で表される有機金属化合物において、
金属元素としては、例えば、ケイ素、アルミニウム、チ
タン、ジルコニウム、バナジウム、ホウ素、スズ等を使
用することができ、勿論、本発明においては、ここに記
載されていない他の元素の化合物も使用することができ
る。また、上記の一般式MRn で表される有機金属化合
物において、Rとしては、同一でも異なっていても良
く、好ましい形態における意味を含めて前述の一般式
R′SiR3 で表されるケイ素化合物の場合におけるR
と同じように定義することができる。本発明において、
上記の一般式MRn で表される有機金属化合物は、前述
の一般式R′SiR3 で表されるケイ素化合物と、モル
比で1:99〜99:1の割合で好ましく混合させて使
用することが可能である。
R′SiR3 で表されるケイ素化合物は、好ましくは単
独で使用せず、ガラスやセラミックスを形成するのに一
般的に使用する一般式MRn (ただし、式中、Mは、ケ
イ素、アルミニウム、チタン、ジルコニウム、バナジウ
ム、ホウ素、または、スズから選ばれた元素を表し、R
は、OH基および/または加水分解を受けやすい基を表
し、nは、金属元素の価数を表す。)で表される有機金
属化合物の1種ないし2種以上を混合し、これらの化合
物の加水分解、好ましくは完全加水分解により、相当す
る酸化物の水和物に転換して使用することができる。上
記の一般式MRn で表される有機金属化合物において、
金属元素としては、例えば、ケイ素、アルミニウム、チ
タン、ジルコニウム、バナジウム、ホウ素、スズ等を使
用することができ、勿論、本発明においては、ここに記
載されていない他の元素の化合物も使用することができ
る。また、上記の一般式MRn で表される有機金属化合
物において、Rとしては、同一でも異なっていても良
く、好ましい形態における意味を含めて前述の一般式
R′SiR3 で表されるケイ素化合物の場合におけるR
と同じように定義することができる。本発明において、
上記の一般式MRn で表される有機金属化合物は、前述
の一般式R′SiR3 で表されるケイ素化合物と、モル
比で1:99〜99:1の割合で好ましく混合させて使
用することが可能である。
【0036】更に、本発明においては、本発明にかかる
コ−ティング膜を形成するには、上記の一般式R′Si
R3 で表されるケイ素化合物と一般式MRn で表される
有機金属化合物との他に、バインダ−成分として、水素
結合形成基を有する樹脂の1種ないし2種以上を添加、
混合することもできる。上記の水素結合形成基を有する
樹脂としては、例えば、ヒドロキシル基を有するポリマ
−とその誘導体、例えば、ポリビニルアルコ−ル、ポリ
ビニルアセタ−ル、エチレン−ビニルアルコ−ル共重合
体、フェノ−ル樹脂、メチロ−ルメラミン樹脂等とその
誘導体、カルボキシル基を有するポリマ−とその誘導
体、例えば、ポリ(メタ)アクリル酸、無水マレイン
酸、イタコン酸等の重合性不飽和酸の単位を含む単独ま
たは共重合体と、これらのポリマ−のエステル化物等、
例えば、酢酸ビニル等のビニルエステル、メタクリル酸
メチル等の(メタ)アクリル酸エステル等の単位を含む
単独または共重合体、エ−テル結合を有するポリマ−、
例えば、ポリアルキレンオキシド、ポリオキシアルキレ
ングリコ−ル、ポリビニルエ−テル等の他、ケイ素樹脂
等、アミド結合を有するポリマ−、例えば、>N(CO
R)−結合(式中、Rは、水素原子、置換基を有しても
よいアルキル基、置換基を有してもよいアリ−ル基を示
す)を有するポリオキサゾリンやポリアルキレンイミン
のN−アシル化物、>NC(O)−結合を有するポリビ
ニルピロリドンとその誘導体、ウレタン結合を有するポ
リウレタン、尿素結合を有するポリマ−、アミド結合を
有するポリマ−等を使用しにることがてきる。而して、
本発明において、上記の水素結合形成基を有する樹脂
は、前述の一般式R′SiR3 で表されるケイ素化合物
と一般式MRn で表される有機金属化合物との混合物に
対し、重量比で1:99〜99:1の割合で、好ましく
は、5〜30の割合で混合させて使用することが可能で
ある。
コ−ティング膜を形成するには、上記の一般式R′Si
R3 で表されるケイ素化合物と一般式MRn で表される
有機金属化合物との他に、バインダ−成分として、水素
結合形成基を有する樹脂の1種ないし2種以上を添加、
混合することもできる。上記の水素結合形成基を有する
樹脂としては、例えば、ヒドロキシル基を有するポリマ
−とその誘導体、例えば、ポリビニルアルコ−ル、ポリ
ビニルアセタ−ル、エチレン−ビニルアルコ−ル共重合
体、フェノ−ル樹脂、メチロ−ルメラミン樹脂等とその
誘導体、カルボキシル基を有するポリマ−とその誘導
体、例えば、ポリ(メタ)アクリル酸、無水マレイン
酸、イタコン酸等の重合性不飽和酸の単位を含む単独ま
たは共重合体と、これらのポリマ−のエステル化物等、
例えば、酢酸ビニル等のビニルエステル、メタクリル酸
メチル等の(メタ)アクリル酸エステル等の単位を含む
単独または共重合体、エ−テル結合を有するポリマ−、
例えば、ポリアルキレンオキシド、ポリオキシアルキレ
ングリコ−ル、ポリビニルエ−テル等の他、ケイ素樹脂
等、アミド結合を有するポリマ−、例えば、>N(CO
R)−結合(式中、Rは、水素原子、置換基を有しても
よいアルキル基、置換基を有してもよいアリ−ル基を示
す)を有するポリオキサゾリンやポリアルキレンイミン
のN−アシル化物、>NC(O)−結合を有するポリビ
ニルピロリドンとその誘導体、ウレタン結合を有するポ
リウレタン、尿素結合を有するポリマ−、アミド結合を
有するポリマ−等を使用しにることがてきる。而して、
本発明において、上記の水素結合形成基を有する樹脂
は、前述の一般式R′SiR3 で表されるケイ素化合物
と一般式MRn で表される有機金属化合物との混合物に
対し、重量比で1:99〜99:1の割合で、好ましく
は、5〜30の割合で混合させて使用することが可能で
ある。
【0037】次に、本発明において、太陽電池モジュ−
ルを構成する通常の太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−
トについて説明すると、かかる表面保護シ−トとして
は、太陽光の透過性、絶縁性等を有し、更に、耐候性、
耐熱性、耐光性、耐水性、耐風圧性、耐降雹性、耐薬品
性、防湿性、防汚性、その他等の諸特性を有し、物理的
あるいは化学的強度性、強靱性等に優れ、極めて耐久性
に富み、更に、光起電力素子としての太陽電池素子の保
護とういことから、耐スクラッチ性、衝撃吸収性等に優
れていることが必要である。上記の表面保護シ−トとし
ては、具体的には、例えば、公知のガラス板等は勿論の
こと、更に、例えば、フッ素系樹脂、ポリアミド系樹脂
(各種のナイロン)、ポリエステル系樹脂、ポリエチレ
ン系樹脂、ポリプロピレン系樹脂、環状ポリオレフィン
系樹脂、ポリスチレン系樹脂、(メタ)アクリル系樹
脂、ポリカ−ボネ−ト系樹脂、アセタ−ル系樹脂、セル
ロ−ス系樹脂、その他等の各種の樹脂のフィルムないし
シ−トを使用することができる。上記の樹脂のフィルム
ないしシ−トとしては、例えば、2軸延伸した樹脂のフ
ィルムないしシ−トも使用することができる。また、上
記の樹脂のフィルムないしシ−トにおいて、その膜厚と
しては、12〜200μm位、より好ましくは、25〜
150μm位が望ましい。
ルを構成する通常の太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−
トについて説明すると、かかる表面保護シ−トとして
は、太陽光の透過性、絶縁性等を有し、更に、耐候性、
耐熱性、耐光性、耐水性、耐風圧性、耐降雹性、耐薬品
性、防湿性、防汚性、その他等の諸特性を有し、物理的
あるいは化学的強度性、強靱性等に優れ、極めて耐久性
に富み、更に、光起電力素子としての太陽電池素子の保
護とういことから、耐スクラッチ性、衝撃吸収性等に優
れていることが必要である。上記の表面保護シ−トとし
ては、具体的には、例えば、公知のガラス板等は勿論の
こと、更に、例えば、フッ素系樹脂、ポリアミド系樹脂
(各種のナイロン)、ポリエステル系樹脂、ポリエチレ
ン系樹脂、ポリプロピレン系樹脂、環状ポリオレフィン
系樹脂、ポリスチレン系樹脂、(メタ)アクリル系樹
脂、ポリカ−ボネ−ト系樹脂、アセタ−ル系樹脂、セル
ロ−ス系樹脂、その他等の各種の樹脂のフィルムないし
シ−トを使用することができる。上記の樹脂のフィルム
ないしシ−トとしては、例えば、2軸延伸した樹脂のフ
ィルムないしシ−トも使用することができる。また、上
記の樹脂のフィルムないしシ−トにおいて、その膜厚と
しては、12〜200μm位、より好ましくは、25〜
150μm位が望ましい。
【0038】次に、本発明において、太陽電池モジュ−
ルを構成する太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トの下
に積層する充填剤層について説明すると、かかる充填剤
層としては、太陽光が入射し、これを透過して吸収する
ことから透明性を有することが必要であり、また、表面
保護シ−トとの接着性を有することも必要であり、更
に、光起電力素子としての太陽電池素子の表面の平滑性
を保持する機能を果たすために熱可塑性を有すること、
更には、光起電力素子としての太陽電池素子の保護とう
いことから、耐スクラッチ性、衝撃吸収性等に優れてい
ることが必要である。具体的には、上記の充填剤層とし
ては、例えば、フッ素系樹脂、エチレン−酢酸ビニル共
重合体、アイオノマ−樹脂、エチレン−アクリル酸、ま
たは、メタクリル酸共重合体、ポリエチレン樹脂、ポリ
プロピレン樹脂、ポリエチレンあるいはポリプロピレン
等のポリオレフィン系樹脂をアクリル酸、イタコン酸、
マレイン酸、フマ−ル酸等の不飽和カルボン酸で変性し
た酸変性ポリオレンフィン系樹脂、ポリビニルブチラ−
ル樹脂、シリコ−ン系樹脂、エポキシ系樹脂、(メタ)
アクリル系樹脂、その他等の樹脂の1種ないし2種以上
の混合物を使用することができる。なお、本発明におい
ては、上記の充填剤層を構成する樹脂には、耐熱性、耐
光性、耐水性等の耐候性等を向上させるために、その透
明性を損なわない範囲で、例えば、架橋剤、熱酸化防止
剤、光安定剤、紫外線吸収剤、光酸化防止剤、その他等
の添加剤を任意に添加し、混合することができるもので
ある。而して、本発明においては、太陽光の入射側の充
填剤としては、耐光性、耐熱性、耐水性等の耐候性を考
慮すると、フッ素系樹脂、エチレン−酢酸ビニル系樹脂
が望ましい素材である。なお、上記の充填剤層の厚さと
しては、200〜1000μm位、好ましくは、350
〜600μm位が望ましい。
ルを構成する太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トの下
に積層する充填剤層について説明すると、かかる充填剤
層としては、太陽光が入射し、これを透過して吸収する
ことから透明性を有することが必要であり、また、表面
保護シ−トとの接着性を有することも必要であり、更
に、光起電力素子としての太陽電池素子の表面の平滑性
を保持する機能を果たすために熱可塑性を有すること、
更には、光起電力素子としての太陽電池素子の保護とう
いことから、耐スクラッチ性、衝撃吸収性等に優れてい
ることが必要である。具体的には、上記の充填剤層とし
ては、例えば、フッ素系樹脂、エチレン−酢酸ビニル共
重合体、アイオノマ−樹脂、エチレン−アクリル酸、ま
たは、メタクリル酸共重合体、ポリエチレン樹脂、ポリ
プロピレン樹脂、ポリエチレンあるいはポリプロピレン
等のポリオレフィン系樹脂をアクリル酸、イタコン酸、
マレイン酸、フマ−ル酸等の不飽和カルボン酸で変性し
た酸変性ポリオレンフィン系樹脂、ポリビニルブチラ−
ル樹脂、シリコ−ン系樹脂、エポキシ系樹脂、(メタ)
アクリル系樹脂、その他等の樹脂の1種ないし2種以上
の混合物を使用することができる。なお、本発明におい
ては、上記の充填剤層を構成する樹脂には、耐熱性、耐
光性、耐水性等の耐候性等を向上させるために、その透
明性を損なわない範囲で、例えば、架橋剤、熱酸化防止
剤、光安定剤、紫外線吸収剤、光酸化防止剤、その他等
の添加剤を任意に添加し、混合することができるもので
ある。而して、本発明においては、太陽光の入射側の充
填剤としては、耐光性、耐熱性、耐水性等の耐候性を考
慮すると、フッ素系樹脂、エチレン−酢酸ビニル系樹脂
が望ましい素材である。なお、上記の充填剤層の厚さと
しては、200〜1000μm位、好ましくは、350
〜600μm位が望ましい。
【0039】次に、本発明において、太陽電池モジュ−
ルを構成する光起電力素子としての太陽電池素子につい
て説明すると、かかる太陽電池素子としては、従来公知
のもの、例えば、結晶性シリコン太陽電子素子、多結晶
シリコン太陽電池素子、アモルファスシリコン太陽電池
素子、銅インジウムセレナイド太陽電池素子、化合物半
導体太陽電池素子、その他等を使用することができる。
更に、本発明においては、薄膜多結晶シリコン太陽電池
素子、薄膜微結晶シリコン太陽電池素子、薄膜結晶シリ
コン太陽電池素子とアモルファス太陽電池素子のハイブ
リット素子、その他等を使用することができる。
ルを構成する光起電力素子としての太陽電池素子につい
て説明すると、かかる太陽電池素子としては、従来公知
のもの、例えば、結晶性シリコン太陽電子素子、多結晶
シリコン太陽電池素子、アモルファスシリコン太陽電池
素子、銅インジウムセレナイド太陽電池素子、化合物半
導体太陽電池素子、その他等を使用することができる。
更に、本発明においては、薄膜多結晶シリコン太陽電池
素子、薄膜微結晶シリコン太陽電池素子、薄膜結晶シリ
コン太陽電池素子とアモルファス太陽電池素子のハイブ
リット素子、その他等を使用することができる。
【0040】次に、本発明において、太陽電池モジュ−
ルを構成する光起電力素子の下に積層する充填剤層につ
いて説明すると、かかる充填剤層としては、上記の太陽
電池モジュ−ル用表面保護シ−トの下に積層する充填剤
層と同様に、裏面保護シ−トとの接着性を有することも
必要であり、更に、光起電力素子としての太陽電池素子
の裏面の平滑性を保持する機能を果たすために熱可塑性
を有すること、更には、光起電力素子としての太陽電池
素子の保護とういことから、耐スクラッチ性、衝撃吸収
性等に優れていることが必要である。しかし、上記の太
陽電池モジュ−ルを構成する光起電力素子の下に積層す
る充填剤層としては、上記の太陽電池モジュ−ル用表面
保護シ−トの下に積層する充填剤層と異なり、必ずも、
透明性を有することを必要としないものである。具体的
には、上記の充填剤層としては、前述の太陽電池モジュ
−ル用表面保護シ−トの下に積層する充填剤層と同様
に、例えば、フッ素系樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重
合体、アイオノマ−樹脂、エチレン−アクリル酸、また
は、メタクリル酸共重合体、ポリエチレン樹脂、ポリプ
ロピレン樹脂、ポリエチレンあるいはポリプロピレン等
のポリオレフィン系樹脂をアクリル酸、イタコン酸、マ
レイン酸、フマ−ル酸等の不飽和カルボン酸で変性した
酸変性ポリオレンフィン系樹脂、ポリビニルブチラ−ル
樹脂、シリコ−ン系樹脂、エポキシ系樹脂、(メタ)ア
クリル系樹脂、その他等の樹脂の1種ないし2種以上の
混合物を使用することができる。なお、本発明において
は、上記の充填剤層を構成する樹脂には、耐熱性、耐光
性、耐水性等の耐候性等を向上させるために、その透明
性を損なわない範囲で、例えば、架橋剤、熱酸化防止
剤、光安定剤、紫外線吸収剤、光酸化防止剤、その他等
の添加剤を任意に添加し、混合することができるもので
ある。なお、上記の充填剤層の厚さとしては、200〜
1000μm位、より好ましくは、350〜600μm
位が望ましい。
ルを構成する光起電力素子の下に積層する充填剤層につ
いて説明すると、かかる充填剤層としては、上記の太陽
電池モジュ−ル用表面保護シ−トの下に積層する充填剤
層と同様に、裏面保護シ−トとの接着性を有することも
必要であり、更に、光起電力素子としての太陽電池素子
の裏面の平滑性を保持する機能を果たすために熱可塑性
を有すること、更には、光起電力素子としての太陽電池
素子の保護とういことから、耐スクラッチ性、衝撃吸収
性等に優れていることが必要である。しかし、上記の太
陽電池モジュ−ルを構成する光起電力素子の下に積層す
る充填剤層としては、上記の太陽電池モジュ−ル用表面
保護シ−トの下に積層する充填剤層と異なり、必ずも、
透明性を有することを必要としないものである。具体的
には、上記の充填剤層としては、前述の太陽電池モジュ
−ル用表面保護シ−トの下に積層する充填剤層と同様
に、例えば、フッ素系樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重
合体、アイオノマ−樹脂、エチレン−アクリル酸、また
は、メタクリル酸共重合体、ポリエチレン樹脂、ポリプ
ロピレン樹脂、ポリエチレンあるいはポリプロピレン等
のポリオレフィン系樹脂をアクリル酸、イタコン酸、マ
レイン酸、フマ−ル酸等の不飽和カルボン酸で変性した
酸変性ポリオレンフィン系樹脂、ポリビニルブチラ−ル
樹脂、シリコ−ン系樹脂、エポキシ系樹脂、(メタ)ア
クリル系樹脂、その他等の樹脂の1種ないし2種以上の
混合物を使用することができる。なお、本発明において
は、上記の充填剤層を構成する樹脂には、耐熱性、耐光
性、耐水性等の耐候性等を向上させるために、その透明
性を損なわない範囲で、例えば、架橋剤、熱酸化防止
剤、光安定剤、紫外線吸収剤、光酸化防止剤、その他等
の添加剤を任意に添加し、混合することができるもので
ある。なお、上記の充填剤層の厚さとしては、200〜
1000μm位、より好ましくは、350〜600μm
位が望ましい。
【0041】次に、本発明において、太陽電池モジュ−
ルを構成する通常の太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−
ト層について説明すると、かかる裏面保護シ−トとして
は、絶縁性の樹脂のフィルムないしシ−トを使用するこ
とができ、更に、耐熱性、耐光性、耐水性等の耐候性を
有し、物理的あるいは化学的強度性、強靱性等に優れ、
更に、光起電力素子としての太陽電池素子の保護とうい
ことから、耐スクラッチ性、衝撃吸収性等に優れている
ことが必要である。上記の裏面保護シ−トとしては、具
体的には、例えば、ポリアミド系樹脂(各種のナイロ
ン)、ポリエステル系樹脂、ポリエチレン系樹脂、ポリ
プロピレン系樹脂、環状ポリオレフィン系樹脂、ポリス
チレン系樹脂、ポリカ−ボネ−ト系樹脂、アセタ−ル系
樹脂、セルロ−ス系樹脂、(メタ)アクリル系樹脂、フ
ッ素系樹脂、その他等の各種の樹脂のフィルムないしシ
−トを使用することができる。上記の樹脂のフィルムな
いしシ−トとしては、例えば、2軸延伸した樹脂のフィ
ルムないしシ−トも使用することができる。また、上記
の樹脂のフィルムないしシ−トにおいて、その膜厚とし
ては、12〜200μm位、より好ましくは、25〜1
50μm位が望ましい。
ルを構成する通常の太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−
ト層について説明すると、かかる裏面保護シ−トとして
は、絶縁性の樹脂のフィルムないしシ−トを使用するこ
とができ、更に、耐熱性、耐光性、耐水性等の耐候性を
有し、物理的あるいは化学的強度性、強靱性等に優れ、
更に、光起電力素子としての太陽電池素子の保護とうい
ことから、耐スクラッチ性、衝撃吸収性等に優れている
ことが必要である。上記の裏面保護シ−トとしては、具
体的には、例えば、ポリアミド系樹脂(各種のナイロ
ン)、ポリエステル系樹脂、ポリエチレン系樹脂、ポリ
プロピレン系樹脂、環状ポリオレフィン系樹脂、ポリス
チレン系樹脂、ポリカ−ボネ−ト系樹脂、アセタ−ル系
樹脂、セルロ−ス系樹脂、(メタ)アクリル系樹脂、フ
ッ素系樹脂、その他等の各種の樹脂のフィルムないしシ
−トを使用することができる。上記の樹脂のフィルムな
いしシ−トとしては、例えば、2軸延伸した樹脂のフィ
ルムないしシ−トも使用することができる。また、上記
の樹脂のフィルムないしシ−トにおいて、その膜厚とし
ては、12〜200μm位、より好ましくは、25〜1
50μm位が望ましい。
【0042】なお、本発明において、本発明にかかる太
陽電池モジュ−ルを製造する際しては、その強度、耐候
性、耐スクラッチ性、その他等の諸堅牢性を向上させる
ために、その他の素材、例えば、低密度ポリエチレン、
中密度ポリエチレン、高密度ポリエチレン、線状低密度
ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−プロピレン
共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体、アイオノマ
−樹脂、エチレン−アクリル酸エチル共重合体、エチレ
ン−アクリル酸またはメタクリル酸共重合体、メチルペ
ンテンポリマ−、ポリブテン系樹脂、ポリ塩化ビニル系
樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹
脂、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合体、ポリ(メ
タ)アクリル系樹脂、ポリアクリルニトリル系樹脂、ポ
リスチレン系樹脂、アクリロニトリル−スチレン共重合
体(AS系樹脂)、アクリロニトリル−ブタジェン−ス
チレン共重合体(ABS系樹脂)、ポリエステル系樹
脂、ポリアミド系樹脂、ポリカ−ボネ−ト系樹脂、ポリ
ビニルアルコ−ル系樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合
体のケン化物、フッ素系樹脂、ジエン系樹脂、ポリアセ
タ−ル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ニトロセルロ−
ス、その他等の公知の樹脂のフィルムないしシ−トから
任意に選択して使用することができる。本発明におい
て、上記のフィルムないしシ−トは、未延伸、一軸ない
し二軸方向に延伸されたもの等のいずれのものでも使用
することができる。また、その厚さは、任意であるが、
数μmから300μm位の範囲から選択して使用するこ
とができる。更に、本発明においては、フィルムないし
シ−トとしては、押し出し成膜、インフレ−ション成
膜、コ−ティング膜等のいずれの性状の膜でもよい。
陽電池モジュ−ルを製造する際しては、その強度、耐候
性、耐スクラッチ性、その他等の諸堅牢性を向上させる
ために、その他の素材、例えば、低密度ポリエチレン、
中密度ポリエチレン、高密度ポリエチレン、線状低密度
ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−プロピレン
共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体、アイオノマ
−樹脂、エチレン−アクリル酸エチル共重合体、エチレ
ン−アクリル酸またはメタクリル酸共重合体、メチルペ
ンテンポリマ−、ポリブテン系樹脂、ポリ塩化ビニル系
樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹
脂、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合体、ポリ(メ
タ)アクリル系樹脂、ポリアクリルニトリル系樹脂、ポ
リスチレン系樹脂、アクリロニトリル−スチレン共重合
体(AS系樹脂)、アクリロニトリル−ブタジェン−ス
チレン共重合体(ABS系樹脂)、ポリエステル系樹
脂、ポリアミド系樹脂、ポリカ−ボネ−ト系樹脂、ポリ
ビニルアルコ−ル系樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合
体のケン化物、フッ素系樹脂、ジエン系樹脂、ポリアセ
タ−ル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ニトロセルロ−
ス、その他等の公知の樹脂のフィルムないしシ−トから
任意に選択して使用することができる。本発明におい
て、上記のフィルムないしシ−トは、未延伸、一軸ない
し二軸方向に延伸されたもの等のいずれのものでも使用
することができる。また、その厚さは、任意であるが、
数μmから300μm位の範囲から選択して使用するこ
とができる。更に、本発明においては、フィルムないし
シ−トとしては、押し出し成膜、インフレ−ション成
膜、コ−ティング膜等のいずれの性状の膜でもよい。
【0043】次に、本発明において、上記のような材料
を使用して太陽電池モジュ−ルを製造する方法について
説明すると、かかる製造法としては、公知の方法、例え
ば、上記に挙げた本発明にかかる太陽電池モジュ−ル用
保護シ−トを太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トまた
は太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−トとして使用し、
例えば、上記の本発明にかかる太陽電池モジュ−ル用表
面保護シ−トの無機酸化物の蒸着薄膜の面を内側にし、
順次に、充填剤層、光起電力素子としての太陽電池素
子、充填剤層、および、通常の太陽電池モジュ−ル用裏
面保護シ−ト層等を積層し、更に、必要ならば、各層間
に、その他の素材を任意に積層し、次いで、これらを、
真空吸引等により一体化して加熱圧着するラミネ−ショ
ン法等の通常の成形法を利用し、上記の各層を一体成形
体として加熱圧着成形して、太陽電池モジュ−ルを製造
することができる。上記において、必要ならば、各層間
の接着性等を高めるために、(メタ)アクリル系樹脂、
オレフィン系樹脂、ビニル系樹脂、その他等の樹脂をビ
ヒクルの主成分とする加熱溶融型接着剤、溶剤型接着
剤、光硬化型接着剤、その他等を使用することができ
る。また、上記の積層において、各積層対向面には、密
接着性を向上させるために、必要に応じて、例えば、コ
ロナ放電処理、オゾン処理、酸素ガス若しくは窒素ガス
等を用いた低温プラズマ処理、グロ−放電処理、化学薬
品等を用いて処理する酸化処理、その他等の前処理を任
意に施すことができる。更に、上記の積層においては、
各積層対向面に、予め、プライマ−コ−ト剤層、アンダ
−コ−ト剤層、接着剤層、あるいは、アンカ−コ−ト剤
層等を任意に形成して、表面前処理を行うこともでき
る。上記の前処理のコ−ト剤層としては、例えば、ポリ
エステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリウレタン系樹
脂、エポキシ系樹脂、フェノ−ル系樹脂、(メタ)アク
リル系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、ポリエチレンアル
イハポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂あるいは
その共重合体ないし変性樹脂、セルロ−ス系樹脂、その
他等をビヒクルの主成分とする樹脂組成物を使用するこ
とができる。また、上記において、コ−ト剤層の形成法
としては、例えば、溶剤型、水性型、あるいは、エマル
ジョン型等のコ−ト剤を使用し、ロ−ルコ−ト法、グラ
ビアロ−ルコ−ト法、キスコ−ト法、その他等のコ−ト
法を用いてコ−トすることができる。
を使用して太陽電池モジュ−ルを製造する方法について
説明すると、かかる製造法としては、公知の方法、例え
ば、上記に挙げた本発明にかかる太陽電池モジュ−ル用
保護シ−トを太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トまた
は太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−トとして使用し、
例えば、上記の本発明にかかる太陽電池モジュ−ル用表
面保護シ−トの無機酸化物の蒸着薄膜の面を内側にし、
順次に、充填剤層、光起電力素子としての太陽電池素
子、充填剤層、および、通常の太陽電池モジュ−ル用裏
面保護シ−ト層等を積層し、更に、必要ならば、各層間
に、その他の素材を任意に積層し、次いで、これらを、
真空吸引等により一体化して加熱圧着するラミネ−ショ
ン法等の通常の成形法を利用し、上記の各層を一体成形
体として加熱圧着成形して、太陽電池モジュ−ルを製造
することができる。上記において、必要ならば、各層間
の接着性等を高めるために、(メタ)アクリル系樹脂、
オレフィン系樹脂、ビニル系樹脂、その他等の樹脂をビ
ヒクルの主成分とする加熱溶融型接着剤、溶剤型接着
剤、光硬化型接着剤、その他等を使用することができ
る。また、上記の積層において、各積層対向面には、密
接着性を向上させるために、必要に応じて、例えば、コ
ロナ放電処理、オゾン処理、酸素ガス若しくは窒素ガス
等を用いた低温プラズマ処理、グロ−放電処理、化学薬
品等を用いて処理する酸化処理、その他等の前処理を任
意に施すことができる。更に、上記の積層においては、
各積層対向面に、予め、プライマ−コ−ト剤層、アンダ
−コ−ト剤層、接着剤層、あるいは、アンカ−コ−ト剤
層等を任意に形成して、表面前処理を行うこともでき
る。上記の前処理のコ−ト剤層としては、例えば、ポリ
エステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリウレタン系樹
脂、エポキシ系樹脂、フェノ−ル系樹脂、(メタ)アク
リル系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、ポリエチレンアル
イハポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂あるいは
その共重合体ないし変性樹脂、セルロ−ス系樹脂、その
他等をビヒクルの主成分とする樹脂組成物を使用するこ
とができる。また、上記において、コ−ト剤層の形成法
としては、例えば、溶剤型、水性型、あるいは、エマル
ジョン型等のコ−ト剤を使用し、ロ−ルコ−ト法、グラ
ビアロ−ルコ−ト法、キスコ−ト法、その他等のコ−ト
法を用いてコ−トすることができる。
【0044】
【実施例】以下に本発明について実施例を挙げて更に具
体的に本発明を説明する。 実施例1 (1).厚さ50μmのポリフッ化ビニル樹脂シ−ト
(PVF)を使用し、これをプラズマ化学蒸着装置の送
り出しロ−ルに装着し、下記の条件で膜厚50Åの酸化
珪素の蒸着薄膜をその易蒸着処理面に形成して、耐蒸着
保護膜を設けた。 (蒸着条件) 反応ガス混合比:ヘキサメチルジシロキサン:酸素ガ
ス:ヘリウム=5:5:5(単位:slm) 真空チャンバ−内の真空度:7.0×10-6mbar 蒸着チャンバ−内の真空度:3.8×10-2mbar 冷却・電極ドラム供給電力:15kW シ−トの搬送速度:100m/分 (2).次に、上記で耐蒸着保護膜を設けた厚さ50μ
mのポリフッ化ビニル樹脂フィルム(PVF)を使用
し、上記と同様に、これをプラズマ化学気相成長装置の
送り出しロ−ルに装着し、下記の条件で厚さ800Åの
酸化珪素の蒸着薄膜を上記のポリフッ化ビニル樹脂フィ
ルムの耐蒸着保護膜面に形成した。 (蒸着条件) 反応ガス混合比:ヘキサメチルジシロキサン:酸素ガ
ス:ヘリウム=1:10:10(単位:slm) 真空チャンバ−内の真空度:5.0×10-6mbar 蒸着チャンバ−内の真空度:6.0×10-2mbar 冷却・電極ドラム供給電力:20kW フィルムの搬送速度:80m/分 次に、上記で膜厚800Åの酸化珪素の蒸着膜を形成し
たポリフッ化ビニル樹脂フィルムについて、その蒸着直
後に、その酸化珪素の蒸着膜面に、出力、10kW、処
理速度100m/minでコロナ放電処理を行って、蒸
着膜面の表面張力を35dyneより60dyneに向
上させてたコロナ処理面を形成した。 (3).次に、45モル%のメタクリルオキシプロピル
トリメトキシシランおよび30モル%のメチルトリメト
キシシランの混合物に、室温で25モル%のアルミニウ
ムsec−ブチラ−トを攪拌しながら、ゆっくりと滴下
した。滴下後、混合物を更に5分間攪拌し、その後15
℃に冷却した。完全に加水分解擦るのに必要な水量の1
5分の1を、攪拌しながら徐徐に滴下した。更に5分間
攪拌した後、8℃に冷却した。次に、完全に加水分解す
るのに必要な水量の16分の2を、攪拌しながら徐徐に
滴下した。更に15分間攪拌した。最後に、加水分解を
完了させ、塗布用の組成物を調製した。次に、上記で調
製した塗布用の組成物を使用し、これを、上記の(2)
で製造した酸化珪素の蒸着膜のコロナ処理面に、グラビ
アロ−ルコ−ト法を用いてコ−ティングし、次いで、1
20℃で1時間乾燥し、コ−ティング量1.0g/m2
(乾燥状態)からなるコ−ティング膜を形成して、本発
明にかかる太陽電池モジュ−ル用保護シ−トを製造し
た。 (4).次に、上記で製造した太陽電池モジュ−ル用保
護シ−トを太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トとして
使用し、そのコ−ティング膜面に、厚さ400μmのエ
チレン−酢酸ビニル共重合体シ−ト、アモルファスシリ
コンからなる太陽電池素子を並列に配置した厚さ38μ
mの2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルム、厚
さ400μmのエチレン−酢酸ビニル共重合体シ−ト、
および、厚さ50μmの2軸延伸ポリエチレンテレフタ
レ−トフィルムを、その太陽電池素子面を上に向けて、
アクリル系樹脂の接着剤層を介して積層して、本発明に
かかる太陽電池モジュ−ルを製造した。 (5).なお、上記において、上記の基材としての厚さ
50μmのポリフッ化ビニル樹脂シ−ト(PVF)に代
えて、厚さ50μmのエチレン−テトラフルオロエチレ
ンコポリマ−からなるフッ素系樹脂シ−ト(ETFE)
を使用し、上記と全く同様にして、同様な本発明にかか
る表面保護シ−ト、および、太陽電池モジュ−ルを製造
することができた。
体的に本発明を説明する。 実施例1 (1).厚さ50μmのポリフッ化ビニル樹脂シ−ト
(PVF)を使用し、これをプラズマ化学蒸着装置の送
り出しロ−ルに装着し、下記の条件で膜厚50Åの酸化
珪素の蒸着薄膜をその易蒸着処理面に形成して、耐蒸着
保護膜を設けた。 (蒸着条件) 反応ガス混合比:ヘキサメチルジシロキサン:酸素ガ
ス:ヘリウム=5:5:5(単位:slm) 真空チャンバ−内の真空度:7.0×10-6mbar 蒸着チャンバ−内の真空度:3.8×10-2mbar 冷却・電極ドラム供給電力:15kW シ−トの搬送速度:100m/分 (2).次に、上記で耐蒸着保護膜を設けた厚さ50μ
mのポリフッ化ビニル樹脂フィルム(PVF)を使用
し、上記と同様に、これをプラズマ化学気相成長装置の
送り出しロ−ルに装着し、下記の条件で厚さ800Åの
酸化珪素の蒸着薄膜を上記のポリフッ化ビニル樹脂フィ
ルムの耐蒸着保護膜面に形成した。 (蒸着条件) 反応ガス混合比:ヘキサメチルジシロキサン:酸素ガ
ス:ヘリウム=1:10:10(単位:slm) 真空チャンバ−内の真空度:5.0×10-6mbar 蒸着チャンバ−内の真空度:6.0×10-2mbar 冷却・電極ドラム供給電力:20kW フィルムの搬送速度:80m/分 次に、上記で膜厚800Åの酸化珪素の蒸着膜を形成し
たポリフッ化ビニル樹脂フィルムについて、その蒸着直
後に、その酸化珪素の蒸着膜面に、出力、10kW、処
理速度100m/minでコロナ放電処理を行って、蒸
着膜面の表面張力を35dyneより60dyneに向
上させてたコロナ処理面を形成した。 (3).次に、45モル%のメタクリルオキシプロピル
トリメトキシシランおよび30モル%のメチルトリメト
キシシランの混合物に、室温で25モル%のアルミニウ
ムsec−ブチラ−トを攪拌しながら、ゆっくりと滴下
した。滴下後、混合物を更に5分間攪拌し、その後15
℃に冷却した。完全に加水分解擦るのに必要な水量の1
5分の1を、攪拌しながら徐徐に滴下した。更に5分間
攪拌した後、8℃に冷却した。次に、完全に加水分解す
るのに必要な水量の16分の2を、攪拌しながら徐徐に
滴下した。更に15分間攪拌した。最後に、加水分解を
完了させ、塗布用の組成物を調製した。次に、上記で調
製した塗布用の組成物を使用し、これを、上記の(2)
で製造した酸化珪素の蒸着膜のコロナ処理面に、グラビ
アロ−ルコ−ト法を用いてコ−ティングし、次いで、1
20℃で1時間乾燥し、コ−ティング量1.0g/m2
(乾燥状態)からなるコ−ティング膜を形成して、本発
明にかかる太陽電池モジュ−ル用保護シ−トを製造し
た。 (4).次に、上記で製造した太陽電池モジュ−ル用保
護シ−トを太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トとして
使用し、そのコ−ティング膜面に、厚さ400μmのエ
チレン−酢酸ビニル共重合体シ−ト、アモルファスシリ
コンからなる太陽電池素子を並列に配置した厚さ38μ
mの2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルム、厚
さ400μmのエチレン−酢酸ビニル共重合体シ−ト、
および、厚さ50μmの2軸延伸ポリエチレンテレフタ
レ−トフィルムを、その太陽電池素子面を上に向けて、
アクリル系樹脂の接着剤層を介して積層して、本発明に
かかる太陽電池モジュ−ルを製造した。 (5).なお、上記において、上記の基材としての厚さ
50μmのポリフッ化ビニル樹脂シ−ト(PVF)に代
えて、厚さ50μmのエチレン−テトラフルオロエチレ
ンコポリマ−からなるフッ素系樹脂シ−ト(ETFE)
を使用し、上記と全く同様にして、同様な本発明にかか
る表面保護シ−ト、および、太陽電池モジュ−ルを製造
することができた。
【0045】実施例2 (1).上記の実施例1で製造した耐蒸着保護膜を設け
た厚さ50μmのポリフッ化ビニル樹脂シ−トを使用
し、これを巻き取り式真空蒸着装置の送り出しロ−ルに
装着し、次いで、これをコ−ティングドラムの上に繰り
出して、下記の条件で、アルミニウムを蒸着源に用い、
酸素ガスを供給しながら、エレクトロンビ−ム(EB)
加熱方式による反応真空蒸着法により、上記のポリフッ
化ビニル樹脂フィルムの耐蒸着保護膜面に、膜厚800
Åの酸化アルミニウムの蒸着膜を形成した。 (蒸着条件) 蒸着源:アルミニウム 真空チャンバ−内の真空度:7.5×10-6mbar 蒸着チャンバ−内の真空度:2.1×10-6mbar EB出力:40KW フィルム搬送速度:600m/分 次に、上記で膜厚800Åの酸化アルミニウムの蒸着膜
を形成したポリフッ化ビニル樹脂フィルムについて、そ
の蒸着直後に、その酸化アルミニウムの蒸着膜面に、グ
ロ−放電プラズマ発生装置を使用し、プラズマ出力、1
500W、酸素ガス(O2 ):アルゴンガス(Ar)=
19:1からなる混合ガスを使用し、混合ガス圧6X1
0-5Toor、処理速度420m/minで酸素/アル
ゴン混合ガスプラズマ処理を行ってプラズマ処理面を形
成した。 (2).エチルシリケ−ト25g、エタノ−ル25g、
2N塩酸1.86g及び水1.51gを混合し、80℃
で1〜2時間攪拌した。この時、上記の混合物のエチル
シリケ−トと水のモル比は、1:1.51であった。次
いで、エポキシシラン(東レダウコ−ニング株式会社
製、商品名、SH6040)2.5gを加えて攪拌し
た。これにポリビニルアルコ−ル(クラレ株式会社製、
重合度 2000)を10%含む水溶液1.7gを加
え、更に、1〜2時間攪拌し、次に、透明となった時点
で、N.N−ジメチルベンジルアミン32重量%エタノ
−ル溶液0.1gを加えて、塗布用の組成物を調製し
た。次に、上記で調製した塗布用の組成物を使用し、こ
れを、上記の(1)で製造した酸化アルミニウムの蒸着
膜のプラズマ処理面に、グラビアロ−ルコ−ト法を用い
てコ−ティングし、次いで、120℃で1時間乾燥し、
コ−ティング量1.0g/m2 (乾燥状態)からなるコ
−ティング膜を形成して、本発明にかかる太陽電池モジ
ュ−ル用保護シ−トを製造した。 (3).次に、上記で製造した太陽電池モジュ−ル用保
護シ−トを太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トとして
使用し、そのコ−ティング膜面に、厚さ400μmのエ
チレン−酢酸ビニル共重合体シ−ト、アモルファスシリ
コンからなる太陽電池素子を並列に配置した厚さ38μ
mの2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルム、厚
さ400μmのエチレン−酢酸ビニル共重合体シ−ト、
および、厚さ50μmの2軸延伸ポリエチレンテレフタ
レ−トフィルムを、その太陽電池素子面を上に向けて、
アクリル系樹脂の接着剤層を介して積層して、本発明に
かかる太陽電池モジュ−ルを製造した。 (4).なお、上記において、上記の基材としての厚さ
50μmのポリフッ化ビニル樹脂シ−ト(PVF)に代
えて、厚さ50μmのエチレン−テトラフルオロエチレ
ンコポリマ−からなるフッ素系樹脂シ−ト(ETFE)
を使用し、上記と全く同様にして、同様な本発明にかか
る太陽電池モジュ−ル用保護シ−ト、および、太陽電池
モジュ−ルを製造することができた。
た厚さ50μmのポリフッ化ビニル樹脂シ−トを使用
し、これを巻き取り式真空蒸着装置の送り出しロ−ルに
装着し、次いで、これをコ−ティングドラムの上に繰り
出して、下記の条件で、アルミニウムを蒸着源に用い、
酸素ガスを供給しながら、エレクトロンビ−ム(EB)
加熱方式による反応真空蒸着法により、上記のポリフッ
化ビニル樹脂フィルムの耐蒸着保護膜面に、膜厚800
Åの酸化アルミニウムの蒸着膜を形成した。 (蒸着条件) 蒸着源:アルミニウム 真空チャンバ−内の真空度:7.5×10-6mbar 蒸着チャンバ−内の真空度:2.1×10-6mbar EB出力:40KW フィルム搬送速度:600m/分 次に、上記で膜厚800Åの酸化アルミニウムの蒸着膜
を形成したポリフッ化ビニル樹脂フィルムについて、そ
の蒸着直後に、その酸化アルミニウムの蒸着膜面に、グ
ロ−放電プラズマ発生装置を使用し、プラズマ出力、1
500W、酸素ガス(O2 ):アルゴンガス(Ar)=
19:1からなる混合ガスを使用し、混合ガス圧6X1
0-5Toor、処理速度420m/minで酸素/アル
ゴン混合ガスプラズマ処理を行ってプラズマ処理面を形
成した。 (2).エチルシリケ−ト25g、エタノ−ル25g、
2N塩酸1.86g及び水1.51gを混合し、80℃
で1〜2時間攪拌した。この時、上記の混合物のエチル
シリケ−トと水のモル比は、1:1.51であった。次
いで、エポキシシラン(東レダウコ−ニング株式会社
製、商品名、SH6040)2.5gを加えて攪拌し
た。これにポリビニルアルコ−ル(クラレ株式会社製、
重合度 2000)を10%含む水溶液1.7gを加
え、更に、1〜2時間攪拌し、次に、透明となった時点
で、N.N−ジメチルベンジルアミン32重量%エタノ
−ル溶液0.1gを加えて、塗布用の組成物を調製し
た。次に、上記で調製した塗布用の組成物を使用し、こ
れを、上記の(1)で製造した酸化アルミニウムの蒸着
膜のプラズマ処理面に、グラビアロ−ルコ−ト法を用い
てコ−ティングし、次いで、120℃で1時間乾燥し、
コ−ティング量1.0g/m2 (乾燥状態)からなるコ
−ティング膜を形成して、本発明にかかる太陽電池モジ
ュ−ル用保護シ−トを製造した。 (3).次に、上記で製造した太陽電池モジュ−ル用保
護シ−トを太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トとして
使用し、そのコ−ティング膜面に、厚さ400μmのエ
チレン−酢酸ビニル共重合体シ−ト、アモルファスシリ
コンからなる太陽電池素子を並列に配置した厚さ38μ
mの2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルム、厚
さ400μmのエチレン−酢酸ビニル共重合体シ−ト、
および、厚さ50μmの2軸延伸ポリエチレンテレフタ
レ−トフィルムを、その太陽電池素子面を上に向けて、
アクリル系樹脂の接着剤層を介して積層して、本発明に
かかる太陽電池モジュ−ルを製造した。 (4).なお、上記において、上記の基材としての厚さ
50μmのポリフッ化ビニル樹脂シ−ト(PVF)に代
えて、厚さ50μmのエチレン−テトラフルオロエチレ
ンコポリマ−からなるフッ素系樹脂シ−ト(ETFE)
を使用し、上記と全く同様にして、同様な本発明にかか
る太陽電池モジュ−ル用保護シ−ト、および、太陽電池
モジュ−ルを製造することができた。
【0046】実施例3 (1).厚さ50μmのポリフッ化ビニル樹脂シ−ト
(PVF)を使用し、これをプラズマ化学気相成長装置
の送り出しロ−ルに装着し、下記の条件で厚さ500Å
の酸化珪素の蒸着膜を上記のポリフッ化ビニル樹脂シ−
トの片面に形成した。 (蒸着条件) 反応ガス混合比:ヘキサメチルジシロキサン:酸素ガ
ス:ヘリウム=1:10:10(単位:slm) 真空チャンバ−内の真空度:5.0×10-6mbar 蒸着チャンバ−内の真空度:6.0×10-2mbar 冷却・電極ドラム供給電力:20kW フィルムの搬送速度:80m/分 蒸着面:コロナ処理面 次に、上記で膜厚500Åの酸化珪素の蒸着膜を形成し
たポリフッ化ビニル樹脂シ−トについて、その蒸着直後
に、その酸化珪素の蒸着膜面に、出力、10kW、処理
速度100m/minでコロナ放電処理を行って、蒸着
膜面の表面張力を35dyneより60dyneに向上
させコロナ処理面を形成した。 (2).次に、上記でコロナ処理を行った酸化珪素の蒸
着膜を形成したポリフッ化ビニル樹脂シ−トを使用し、
これを巻き取り式真空蒸着装置の送り出しロ−ルに装着
し、次いで、これをコ−ティングドラムの上に繰り出し
て、下記の条件で、アルミニウムを蒸着源に用い、酸素
ガスを供給しながら、エレクトロンビ−ム(EB)加熱
方式による反応真空蒸着法により、上記のポリフッ化ビ
ニル樹脂シ−トの酸化珪素の蒸着膜のコロナ処理面に、
膜厚500Åの酸化アルミニウムの蒸着膜を形成した。 (蒸着条件) 蒸着源:アルミニウム 真空チャンバ−内の真空度:7.5×10-6mbar 蒸着チャンバ−内の真空度:2.1×10-6mbar EB出力:40KW フィルム搬送速度:600m/分 次に、上記で膜厚500Åの酸化アルミニウムの蒸着膜
を形成したポリフッ化ビニル樹脂シ−トについて、その
蒸着直後に、その酸化アルミニウムの蒸着膜面に、グロ
−放電プラズマ発生装置を使用し、プラズマ出力、15
00W、酸素ガス(O2 ):アルゴンガス(Ar)=1
9:1からなる混合ガスを使用し、混合ガス圧6X10
-5Toor、処理速度420m/minで酸素/アルゴ
ン混合ガスプラズマ処理を行ってプラズマ処理面を形成
した。 (3).次に、上記の実施例1で調製した塗布用の組成
物を使用し、これを、上記の(2)で製造した酸化アル
ミニウムの蒸着膜のプラズマ処理面に、グラビアロ−ル
コ−ト法を用いてコ−ティングし、次いで、120℃で
1時間乾燥し、コ−ティング量1.0g/m2 (乾燥状
態)からなるコ−ティング膜を形成して、本発明にかか
る太陽電池モジュ−ル用保護シ−トを製造した。 (4).次に、上記で製造した太陽電池モジュ−ル用保
護シ−トを太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トとして
使用し、そのコ−ティング膜面に、厚さ400μmのエ
チレン−酢酸ビニル共重合体シ−ト、アモルファスシリ
コンからなる太陽電池素子を並列に配置した厚さ38μ
mの2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルム、厚
さ400μmのエチレン−酢酸ビニル共重合体シ−ト、
および、厚さ50μmの2軸延伸ポリエチレンテレフタ
レ−トフィルムを、その太陽電池素子面を上に向けて、
アクリル系樹脂の接着剤層を介して積層して、本発明に
かかる太陽電池モジュ−ルを製造した。 (5).なお、上記において、上記の基材としての紫外
線吸収剤を練り込んだ厚さ50μmのポリフッ化ビニル
樹脂シ−ト(PVF)に代えて、紫外線吸収剤を練り込
み加工した厚さ50μmのエチレン−テトラフルオロエ
チレンコポリマ−からなるフッ素系樹脂シ−ト(ETF
E)を使用し、上記と全く同様にして、同様な本発明に
かかる表面保護シ−ト、および、太陽電池モジュ−ルを
製造することができた。
(PVF)を使用し、これをプラズマ化学気相成長装置
の送り出しロ−ルに装着し、下記の条件で厚さ500Å
の酸化珪素の蒸着膜を上記のポリフッ化ビニル樹脂シ−
トの片面に形成した。 (蒸着条件) 反応ガス混合比:ヘキサメチルジシロキサン:酸素ガ
ス:ヘリウム=1:10:10(単位:slm) 真空チャンバ−内の真空度:5.0×10-6mbar 蒸着チャンバ−内の真空度:6.0×10-2mbar 冷却・電極ドラム供給電力:20kW フィルムの搬送速度:80m/分 蒸着面:コロナ処理面 次に、上記で膜厚500Åの酸化珪素の蒸着膜を形成し
たポリフッ化ビニル樹脂シ−トについて、その蒸着直後
に、その酸化珪素の蒸着膜面に、出力、10kW、処理
速度100m/minでコロナ放電処理を行って、蒸着
膜面の表面張力を35dyneより60dyneに向上
させコロナ処理面を形成した。 (2).次に、上記でコロナ処理を行った酸化珪素の蒸
着膜を形成したポリフッ化ビニル樹脂シ−トを使用し、
これを巻き取り式真空蒸着装置の送り出しロ−ルに装着
し、次いで、これをコ−ティングドラムの上に繰り出し
て、下記の条件で、アルミニウムを蒸着源に用い、酸素
ガスを供給しながら、エレクトロンビ−ム(EB)加熱
方式による反応真空蒸着法により、上記のポリフッ化ビ
ニル樹脂シ−トの酸化珪素の蒸着膜のコロナ処理面に、
膜厚500Åの酸化アルミニウムの蒸着膜を形成した。 (蒸着条件) 蒸着源:アルミニウム 真空チャンバ−内の真空度:7.5×10-6mbar 蒸着チャンバ−内の真空度:2.1×10-6mbar EB出力:40KW フィルム搬送速度:600m/分 次に、上記で膜厚500Åの酸化アルミニウムの蒸着膜
を形成したポリフッ化ビニル樹脂シ−トについて、その
蒸着直後に、その酸化アルミニウムの蒸着膜面に、グロ
−放電プラズマ発生装置を使用し、プラズマ出力、15
00W、酸素ガス(O2 ):アルゴンガス(Ar)=1
9:1からなる混合ガスを使用し、混合ガス圧6X10
-5Toor、処理速度420m/minで酸素/アルゴ
ン混合ガスプラズマ処理を行ってプラズマ処理面を形成
した。 (3).次に、上記の実施例1で調製した塗布用の組成
物を使用し、これを、上記の(2)で製造した酸化アル
ミニウムの蒸着膜のプラズマ処理面に、グラビアロ−ル
コ−ト法を用いてコ−ティングし、次いで、120℃で
1時間乾燥し、コ−ティング量1.0g/m2 (乾燥状
態)からなるコ−ティング膜を形成して、本発明にかか
る太陽電池モジュ−ル用保護シ−トを製造した。 (4).次に、上記で製造した太陽電池モジュ−ル用保
護シ−トを太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トとして
使用し、そのコ−ティング膜面に、厚さ400μmのエ
チレン−酢酸ビニル共重合体シ−ト、アモルファスシリ
コンからなる太陽電池素子を並列に配置した厚さ38μ
mの2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルム、厚
さ400μmのエチレン−酢酸ビニル共重合体シ−ト、
および、厚さ50μmの2軸延伸ポリエチレンテレフタ
レ−トフィルムを、その太陽電池素子面を上に向けて、
アクリル系樹脂の接着剤層を介して積層して、本発明に
かかる太陽電池モジュ−ルを製造した。 (5).なお、上記において、上記の基材としての紫外
線吸収剤を練り込んだ厚さ50μmのポリフッ化ビニル
樹脂シ−ト(PVF)に代えて、紫外線吸収剤を練り込
み加工した厚さ50μmのエチレン−テトラフルオロエ
チレンコポリマ−からなるフッ素系樹脂シ−ト(ETF
E)を使用し、上記と全く同様にして、同様な本発明に
かかる表面保護シ−ト、および、太陽電池モジュ−ルを
製造することができた。
【0047】実施例4 (1).厚さ50μmのポリフッ化ビニル樹脂シ−ト
(PVF)を使用し、これを巻き取り式真空蒸着装置の
送り出しロ−ルに装着し、次いで、コ−ティングドラム
の上に繰り出して、下記の条件で、アルミニウムを蒸着
源に用い、酸素ガスを供給しながら、エレクトロンビ−
ム(EB)加熱方式による反応真空蒸着法により、上記
のポリフッ化ビニル樹脂シ−トの易蒸着処理面に、膜厚
50Åの酸化アルミニウムの蒸着薄膜を形成して、耐蒸
着保護膜を設けた。 (蒸着条件) 蒸着源:アルミニウム 真空チャンバ−内の真空度:7.5×10-6mbar 蒸着チャンバ−内の真空度:2.1×10-6mbar EB出力:20KW フィルム搬送速度:500m/分 (2).次に、上記で耐蒸着保護膜を設けた厚さ50μ
mのポリフッ化ビニル樹脂シ−トを使用し、以下、上記
の実施例2の(2)と同様にして、エレクトロンビ−ム
(EB)加熱方式による反応真空蒸着法により、膜厚8
00Åの酸化アルミニウムの蒸着膜を形成し、更に、酸
化アルミニウムの蒸着膜面に、プラズマ処理を行ってプ
ラズマ処理面を形成した。 (3).次に、上記の実施例2で調製した塗布用の組成
物を使用し、これを、上記の(2)で製造した酸化アル
ミニウムの蒸着膜のプラズマ処理面に、グラビアロ−ル
コ−ト法を用いてコ−ティングし、次いで、120℃で
1時間乾燥し、コ−ティング量2.0g/m2 (乾燥状
態)からなるコ−ティング膜を形成して、本発明にかか
る太陽電池モジュ−ル用保護シ−トを製造した。 (4).次に、上記で製造した太陽電池モジュ−ル用保
護シ−トを太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トとして
使用し、そのコ−ティング膜面に、厚さ400μmのエ
チレン−酢酸ビニル共重合体シ−ト、アモルファスシリ
コンからなる太陽電池素子を並列に配置した厚さ38μ
mの2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルム、厚
さ400μmのエチレン−酢酸ビニル共重合体シ−ト、
および、厚さ50μmの2軸延伸ポリエチレンテレフタ
レ−トフィルムを、その太陽電池素子面を上に向けて、
アクリル系樹脂の接着剤層を介して積層して、本発明に
かかる太陽電池モジュ−ルを製造した。 (5).なお、上記において、上記の基材としての厚さ
50μmのポリフッ化ビニル樹脂シ−ト(PVF)に代
えて、厚さ50μmのエチレン−テトラフルオロエチレ
ンコポリマ−からなるフッ素系樹脂シ−ト(ETFE)
を使用し、上記と全く同様にして、同様な本発明にかか
る太陽電池モジュ−ル用保護シ−ト、および、太陽電池
モジュ−ルを製造することができた。
(PVF)を使用し、これを巻き取り式真空蒸着装置の
送り出しロ−ルに装着し、次いで、コ−ティングドラム
の上に繰り出して、下記の条件で、アルミニウムを蒸着
源に用い、酸素ガスを供給しながら、エレクトロンビ−
ム(EB)加熱方式による反応真空蒸着法により、上記
のポリフッ化ビニル樹脂シ−トの易蒸着処理面に、膜厚
50Åの酸化アルミニウムの蒸着薄膜を形成して、耐蒸
着保護膜を設けた。 (蒸着条件) 蒸着源:アルミニウム 真空チャンバ−内の真空度:7.5×10-6mbar 蒸着チャンバ−内の真空度:2.1×10-6mbar EB出力:20KW フィルム搬送速度:500m/分 (2).次に、上記で耐蒸着保護膜を設けた厚さ50μ
mのポリフッ化ビニル樹脂シ−トを使用し、以下、上記
の実施例2の(2)と同様にして、エレクトロンビ−ム
(EB)加熱方式による反応真空蒸着法により、膜厚8
00Åの酸化アルミニウムの蒸着膜を形成し、更に、酸
化アルミニウムの蒸着膜面に、プラズマ処理を行ってプ
ラズマ処理面を形成した。 (3).次に、上記の実施例2で調製した塗布用の組成
物を使用し、これを、上記の(2)で製造した酸化アル
ミニウムの蒸着膜のプラズマ処理面に、グラビアロ−ル
コ−ト法を用いてコ−ティングし、次いで、120℃で
1時間乾燥し、コ−ティング量2.0g/m2 (乾燥状
態)からなるコ−ティング膜を形成して、本発明にかか
る太陽電池モジュ−ル用保護シ−トを製造した。 (4).次に、上記で製造した太陽電池モジュ−ル用保
護シ−トを太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トとして
使用し、そのコ−ティング膜面に、厚さ400μmのエ
チレン−酢酸ビニル共重合体シ−ト、アモルファスシリ
コンからなる太陽電池素子を並列に配置した厚さ38μ
mの2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルム、厚
さ400μmのエチレン−酢酸ビニル共重合体シ−ト、
および、厚さ50μmの2軸延伸ポリエチレンテレフタ
レ−トフィルムを、その太陽電池素子面を上に向けて、
アクリル系樹脂の接着剤層を介して積層して、本発明に
かかる太陽電池モジュ−ルを製造した。 (5).なお、上記において、上記の基材としての厚さ
50μmのポリフッ化ビニル樹脂シ−ト(PVF)に代
えて、厚さ50μmのエチレン−テトラフルオロエチレ
ンコポリマ−からなるフッ素系樹脂シ−ト(ETFE)
を使用し、上記と全く同様にして、同様な本発明にかか
る太陽電池モジュ−ル用保護シ−ト、および、太陽電池
モジュ−ルを製造することができた。
【0048】実施例5 (1).厚さ50μmのポリフッ化ビニル樹脂シ−トを
使用し、その片面上に、上記の実施例2の(2)と同様
にして、エレクトロンビ−ム(EB)加熱方式による反
応真空蒸着法により、膜厚500Åの酸化アルミニウム
の蒸着膜を形成し、更に、プラズマ処理面を形成した。
更に、上記の実施例2の(2)と同様にして、上記で形
成した膜厚500Åの酸化アルミニウムの蒸着膜のプラ
ズマ処理面に、同様に、膜厚500Åの酸化アルミニウ
ムの蒸着膜を形成し、更に、プラズマ処理面を形成し
た。 (3).次に、上記の実施例1で調製した塗布用の組成
物を使用し、これを、上記の(2)で製造した酸化アル
ミニウムの蒸着膜のプラズマ処理面に、グラビアロ−ル
コ−ト法を用いてコ−ティングし、次いで、120℃で
1時間乾燥し、コ−ティング量2.0g/m2 (乾燥状
態)からなるコ−ティング膜を形成して、本発明にかか
る太陽電池モジュ−ル用保護シ−トを製造した。 (4).次に、上記で製造した太陽電池モジュ−ル用保
護シ−トを太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トとして
使用し、そのコ−ティング膜面に、厚さ400μmのエ
チレン−酢酸ビニル共重合体シ−ト、アモルファスシリ
コンからなる太陽電池素子を並列に配置した厚さ38μ
mの2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルム、厚
さ400μmのエチレン−酢酸ビニル共重合体シ−ト、
および、厚さ50μmの2軸延伸ポリエチレンテレフタ
レ−トフィルムを、その太陽電池素子面を上に向けて、
アクリル系樹脂の接着剤層を介して積層して、本発明に
かかる太陽電池モジュ−ルを製造した。 (5).なお、上記において、上記の基材としての厚さ
50μmのポリフッ化ビニル樹脂シ−ト(PVF)に代
えて、厚さ50μmのエチレン−テトラフルオロエチレ
ンコポリマ−からなるフッ素系樹脂シ−ト(ETFE)
を使用し、上記と全く同様にして、同様な本発明にかか
る表面保護シ−ト、および、太陽電池モジュ−ルを製造
することができた。
使用し、その片面上に、上記の実施例2の(2)と同様
にして、エレクトロンビ−ム(EB)加熱方式による反
応真空蒸着法により、膜厚500Åの酸化アルミニウム
の蒸着膜を形成し、更に、プラズマ処理面を形成した。
更に、上記の実施例2の(2)と同様にして、上記で形
成した膜厚500Åの酸化アルミニウムの蒸着膜のプラ
ズマ処理面に、同様に、膜厚500Åの酸化アルミニウ
ムの蒸着膜を形成し、更に、プラズマ処理面を形成し
た。 (3).次に、上記の実施例1で調製した塗布用の組成
物を使用し、これを、上記の(2)で製造した酸化アル
ミニウムの蒸着膜のプラズマ処理面に、グラビアロ−ル
コ−ト法を用いてコ−ティングし、次いで、120℃で
1時間乾燥し、コ−ティング量2.0g/m2 (乾燥状
態)からなるコ−ティング膜を形成して、本発明にかか
る太陽電池モジュ−ル用保護シ−トを製造した。 (4).次に、上記で製造した太陽電池モジュ−ル用保
護シ−トを太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トとして
使用し、そのコ−ティング膜面に、厚さ400μmのエ
チレン−酢酸ビニル共重合体シ−ト、アモルファスシリ
コンからなる太陽電池素子を並列に配置した厚さ38μ
mの2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルム、厚
さ400μmのエチレン−酢酸ビニル共重合体シ−ト、
および、厚さ50μmの2軸延伸ポリエチレンテレフタ
レ−トフィルムを、その太陽電池素子面を上に向けて、
アクリル系樹脂の接着剤層を介して積層して、本発明に
かかる太陽電池モジュ−ルを製造した。 (5).なお、上記において、上記の基材としての厚さ
50μmのポリフッ化ビニル樹脂シ−ト(PVF)に代
えて、厚さ50μmのエチレン−テトラフルオロエチレ
ンコポリマ−からなるフッ素系樹脂シ−ト(ETFE)
を使用し、上記と全く同様にして、同様な本発明にかか
る表面保護シ−ト、および、太陽電池モジュ−ルを製造
することができた。
【0049】実施例6 (1).厚さ50μmのポリフッ化ビニル樹脂シ−トを
使用し、その片面上に、上記の実施例1の(2)と同様
にして、膜厚500Åの酸化珪素の蒸着膜を形成し、更
に、コロナ処理面を形成した。更に、上記の実施例1の
(2)と同様にして、上記で形成した膜厚500Åの酸
化珪素の蒸着膜のコロナ処理面に、同様に、膜厚500
Åの酸化珪素の蒸着膜を形成し、更に、コロナ処理面を
形成した。 (2).次に、上記の実施例2で調製した塗布用の組成
物を使用し、これを、上記の(1)で製造した酸化珪素
の蒸着膜のコロナ処理面に、グラビアロ−ルコ−ト法を
用いてコ−ティングし、次いで、120℃で1時間乾燥
し、コ−ティング量2.0g/m2 (乾燥状態)からな
るコ−ティング膜を形成して、本発明にかかる太陽電池
モジュ−ル用保護シ−トを製造した。 (3).次に、上記で製造した太陽電池モジュ−ル用保
護シ−トを太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トとして
使用し、そのコ−ティング膜面に、厚さ400μmのエ
チレン−酢酸ビニル共重合体シ−ト、アモルファスシリ
コンからなる太陽電池素子を並列に配置した厚さ38μ
mの2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルム、厚
さ400μmのエチレン−酢酸ビニル共重合体シ−ト、
および、厚さ50μmの2軸延伸ポリエチレンテレフタ
レ−トフィルムを、その太陽電池素子面を上に向けて、
アクリル系樹脂の接着剤層を介して積層して、本発明に
かかる太陽電池モジュ−ルを製造した。 (4).なお、上記において、上記の基材としての厚さ
50μmのポリフッ化ビニル樹脂シ−ト(PVF)に代
えて、厚さ50μmのエチレン−テトラフルオロエチレ
ンコポリマ−からなるフッ素系樹脂シ−ト(ETFE)
を使用し、上記と全く同様にして、同様な本発明にかか
る表面保護シ−ト、および、太陽電池モジュ−ルを製造
することができた。
使用し、その片面上に、上記の実施例1の(2)と同様
にして、膜厚500Åの酸化珪素の蒸着膜を形成し、更
に、コロナ処理面を形成した。更に、上記の実施例1の
(2)と同様にして、上記で形成した膜厚500Åの酸
化珪素の蒸着膜のコロナ処理面に、同様に、膜厚500
Åの酸化珪素の蒸着膜を形成し、更に、コロナ処理面を
形成した。 (2).次に、上記の実施例2で調製した塗布用の組成
物を使用し、これを、上記の(1)で製造した酸化珪素
の蒸着膜のコロナ処理面に、グラビアロ−ルコ−ト法を
用いてコ−ティングし、次いで、120℃で1時間乾燥
し、コ−ティング量2.0g/m2 (乾燥状態)からな
るコ−ティング膜を形成して、本発明にかかる太陽電池
モジュ−ル用保護シ−トを製造した。 (3).次に、上記で製造した太陽電池モジュ−ル用保
護シ−トを太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トとして
使用し、そのコ−ティング膜面に、厚さ400μmのエ
チレン−酢酸ビニル共重合体シ−ト、アモルファスシリ
コンからなる太陽電池素子を並列に配置した厚さ38μ
mの2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルム、厚
さ400μmのエチレン−酢酸ビニル共重合体シ−ト、
および、厚さ50μmの2軸延伸ポリエチレンテレフタ
レ−トフィルムを、その太陽電池素子面を上に向けて、
アクリル系樹脂の接着剤層を介して積層して、本発明に
かかる太陽電池モジュ−ルを製造した。 (4).なお、上記において、上記の基材としての厚さ
50μmのポリフッ化ビニル樹脂シ−ト(PVF)に代
えて、厚さ50μmのエチレン−テトラフルオロエチレ
ンコポリマ−からなるフッ素系樹脂シ−ト(ETFE)
を使用し、上記と全く同様にして、同様な本発明にかか
る表面保護シ−ト、および、太陽電池モジュ−ルを製造
することができた。
【0050】実施例7 (1).上記の実施例1で製造した太陽電池モジュ−ル
用保護シ−トを太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トと
太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−トとして使用し、そ
の太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トのコ−ティング
膜面に、厚さ400μmのエチレン−酢酸ビニル共重合
体シ−ト、アモルファスシリコンからなる太陽電池素子
を並列に配置した厚さ38μmの2軸延伸ポリエチレン
テレフタレ−トフィルム、厚さ400μmのエチレン−
酢酸ビニル共重合体シ−ト、および、上記の太陽電池モ
ジュ−ル用裏面保護シ−トを、そのコ−ティング膜面を
対向させ、かつ、その太陽電池素子面を上に向けて、ア
クリル系樹脂の接着剤層を介して積層して、本発明にか
かる太陽電池モジュ−ルを製造した。 (2).なお、上記において、上記の基材としての厚さ
50μmのポリフッ化ビニル樹脂シ−ト(PVF)に代
えて、厚さ50μmのエチレン−テトラフルオロエチレ
ンコポリマ−からなるフッ素系樹脂シ−ト(ETFE)
を使用し、上記と全く同様にして、同様な本発明にかか
る表面保護シ−ト、および、太陽電池モジュ−ルを製造
することができた。
用保護シ−トを太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トと
太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−トとして使用し、そ
の太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トのコ−ティング
膜面に、厚さ400μmのエチレン−酢酸ビニル共重合
体シ−ト、アモルファスシリコンからなる太陽電池素子
を並列に配置した厚さ38μmの2軸延伸ポリエチレン
テレフタレ−トフィルム、厚さ400μmのエチレン−
酢酸ビニル共重合体シ−ト、および、上記の太陽電池モ
ジュ−ル用裏面保護シ−トを、そのコ−ティング膜面を
対向させ、かつ、その太陽電池素子面を上に向けて、ア
クリル系樹脂の接着剤層を介して積層して、本発明にか
かる太陽電池モジュ−ルを製造した。 (2).なお、上記において、上記の基材としての厚さ
50μmのポリフッ化ビニル樹脂シ−ト(PVF)に代
えて、厚さ50μmのエチレン−テトラフルオロエチレ
ンコポリマ−からなるフッ素系樹脂シ−ト(ETFE)
を使用し、上記と全く同様にして、同様な本発明にかか
る表面保護シ−ト、および、太陽電池モジュ−ルを製造
することができた。
【0051】実施例8 (1).上記の実施例2で製造した太陽電池モジュ−ル
用保護シ−トを太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トと
太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−トとして使用し、そ
の太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トのコ−ティング
膜面に、厚さ400μmのエチレン−酢酸ビニル共重合
体シ−ト、アモルファスシリコンからなる太陽電池素子
を並列に配置した厚さ38μmの2軸延伸ポリエチレン
テレフタレ−トフィルム、厚さ400μmのエチレン−
酢酸ビニル共重合体シ−ト、および、上記の太陽電池モ
ジュ−ル用裏面保護シ−トを、そのコ−ティング膜面を
対向させ、かつ、その太陽電池素子面を上に向けて、ア
クリル系樹脂の接着剤層を介して積層して、本発明にか
かる太陽電池モジュ−ルを製造した。 (2).なお、上記において、上記の基材としての厚さ
50μmのポリフッ化ビニル樹脂シ−ト(PVF)に代
えて、厚さ50μmのエチレン−テトラフルオロエチレ
ンコポリマ−からなるフッ素系樹脂シ−ト(ETFE)
を使用し、上記と全く同様にして、同様な本発明にかか
る表面保護シ−ト、および、太陽電池モジュ−ルを製造
することができた。
用保護シ−トを太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トと
太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−トとして使用し、そ
の太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トのコ−ティング
膜面に、厚さ400μmのエチレン−酢酸ビニル共重合
体シ−ト、アモルファスシリコンからなる太陽電池素子
を並列に配置した厚さ38μmの2軸延伸ポリエチレン
テレフタレ−トフィルム、厚さ400μmのエチレン−
酢酸ビニル共重合体シ−ト、および、上記の太陽電池モ
ジュ−ル用裏面保護シ−トを、そのコ−ティング膜面を
対向させ、かつ、その太陽電池素子面を上に向けて、ア
クリル系樹脂の接着剤層を介して積層して、本発明にか
かる太陽電池モジュ−ルを製造した。 (2).なお、上記において、上記の基材としての厚さ
50μmのポリフッ化ビニル樹脂シ−ト(PVF)に代
えて、厚さ50μmのエチレン−テトラフルオロエチレ
ンコポリマ−からなるフッ素系樹脂シ−ト(ETFE)
を使用し、上記と全く同様にして、同様な本発明にかか
る表面保護シ−ト、および、太陽電池モジュ−ルを製造
することができた。
【0052】実施例9 (1).上記の実施例3で製造した太陽電池モジュ−ル
用保護シ−トを太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トと
太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−トとして使用し、そ
の太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トのコ−ティング
膜面に、厚さ400μmのエチレン−酢酸ビニル共重合
体シ−ト、アモルファスシリコンからなる太陽電池素子
を並列に配置した厚さ38μmの2軸延伸ポリエチレン
テレフタレ−トフィルム、厚さ400μmのエチレン−
酢酸ビニル共重合体シ−ト、および、上記の太陽電池モ
ジュ−ル用裏面保護シ−トを、そのコ−ティング膜面を
対向させ、かつ、その太陽電池素子面を上に向けて、ア
クリル系樹脂の接着剤層を介して積層して、本発明にか
かる太陽電池モジュ−ルを製造した。 (2).なお、上記において、上記の基材としての紫外
線吸収剤を練り込んだ厚さ50μmのポリフッ化ビニル
樹脂シ−ト(PVF)に代えて、紫外線吸収剤を練り込
み加工した厚さ50μmのエチレン−テトラフルオロエ
チレンコポリマ−からなるフッ素系樹脂シ−ト(ETF
E)を使用し、上記と全く同様にして、同様な本発明に
かかる表面保護シ−ト、および、太陽電池モジュ−ルを
製造することができた。
用保護シ−トを太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トと
太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−トとして使用し、そ
の太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トのコ−ティング
膜面に、厚さ400μmのエチレン−酢酸ビニル共重合
体シ−ト、アモルファスシリコンからなる太陽電池素子
を並列に配置した厚さ38μmの2軸延伸ポリエチレン
テレフタレ−トフィルム、厚さ400μmのエチレン−
酢酸ビニル共重合体シ−ト、および、上記の太陽電池モ
ジュ−ル用裏面保護シ−トを、そのコ−ティング膜面を
対向させ、かつ、その太陽電池素子面を上に向けて、ア
クリル系樹脂の接着剤層を介して積層して、本発明にか
かる太陽電池モジュ−ルを製造した。 (2).なお、上記において、上記の基材としての紫外
線吸収剤を練り込んだ厚さ50μmのポリフッ化ビニル
樹脂シ−ト(PVF)に代えて、紫外線吸収剤を練り込
み加工した厚さ50μmのエチレン−テトラフルオロエ
チレンコポリマ−からなるフッ素系樹脂シ−ト(ETF
E)を使用し、上記と全く同様にして、同様な本発明に
かかる表面保護シ−ト、および、太陽電池モジュ−ルを
製造することができた。
【0053】実施例10 (1).上記の実施例4で製造した太陽電池モジュ−ル
用保護シ−トを太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トと
太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−トとして使用し、そ
の太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トのコ−ティング
膜面に、厚さ400μmのエチレン−酢酸ビニル共重合
体シ−ト、アモルファスシリコンからなる太陽電池素子
を並列に配置した厚さ38μmの2軸延伸ポリエチレン
テレフタレ−トフィルム、厚さ400μmのエチレン−
酢酸ビニル共重合体シ−ト、および、上記の太陽電池モ
ジュ−ル用裏面保護シ−トを、そのコ−ティング膜面を
対向させ、かつ、その太陽電池素子面を上に向けて、ア
クリル系樹脂の接着剤層を介して積層して、本発明にか
かる太陽電池モジュ−ルを製造した。 (2).なお、上記において、上記の基材としての厚さ
50μmのポリフッ化ビニル樹脂シ−ト(PVF)に代
えて、厚さ50μmのエチレン−テトラフルオロエチレ
ンコポリマ−からなるフッ素系樹脂シ−ト(ETFE)
を使用し、上記と全く同様にして、同様な本発明にかか
る表面保護シ−ト、および、太陽電池モジュ−ルを製造
することができた。
用保護シ−トを太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トと
太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−トとして使用し、そ
の太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トのコ−ティング
膜面に、厚さ400μmのエチレン−酢酸ビニル共重合
体シ−ト、アモルファスシリコンからなる太陽電池素子
を並列に配置した厚さ38μmの2軸延伸ポリエチレン
テレフタレ−トフィルム、厚さ400μmのエチレン−
酢酸ビニル共重合体シ−ト、および、上記の太陽電池モ
ジュ−ル用裏面保護シ−トを、そのコ−ティング膜面を
対向させ、かつ、その太陽電池素子面を上に向けて、ア
クリル系樹脂の接着剤層を介して積層して、本発明にか
かる太陽電池モジュ−ルを製造した。 (2).なお、上記において、上記の基材としての厚さ
50μmのポリフッ化ビニル樹脂シ−ト(PVF)に代
えて、厚さ50μmのエチレン−テトラフルオロエチレ
ンコポリマ−からなるフッ素系樹脂シ−ト(ETFE)
を使用し、上記と全く同様にして、同様な本発明にかか
る表面保護シ−ト、および、太陽電池モジュ−ルを製造
することができた。
【0054】実施例11 (1).上記の実施例5で製造した太陽電池モジュ−ル
用保護シ−トを太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トと
太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−トとして使用し、そ
の太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トのコ−ティング
膜面に、厚さ400μmのエチレン−酢酸ビニル共重合
体シ−ト、アモルファスシリコンからなる太陽電池素子
を並列に配置した厚さ38μmの2軸延伸ポリエチレン
テレフタレ−トフィルム、厚さ400μmのエチレン−
酢酸ビニル共重合体シ−ト、および、上記の太陽電池モ
ジュ−ル用裏面保護シ−トを、そのコ−ティング膜面を
対向させ、かつ、その太陽電池素子面を上に向けて、ア
クリル系樹脂の接着剤層を介して積層して、本発明にか
かる太陽電池モジュ−ルを製造した。 (2).なお、上記において、上記の基材としての厚さ
50μmのポリフッ化ビニル樹脂シ−ト(PVF)に代
えて、厚さ50μmのエチレン−テトラフルオロエチレ
ンコポリマ−からなるフッ素系樹脂シ−ト(ETFE)
を使用し、上記と全く同様にして、同様な本発明にかか
る表面保護シ−ト、および、太陽電池モジュ−ルを製造
することができた。
用保護シ−トを太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トと
太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−トとして使用し、そ
の太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トのコ−ティング
膜面に、厚さ400μmのエチレン−酢酸ビニル共重合
体シ−ト、アモルファスシリコンからなる太陽電池素子
を並列に配置した厚さ38μmの2軸延伸ポリエチレン
テレフタレ−トフィルム、厚さ400μmのエチレン−
酢酸ビニル共重合体シ−ト、および、上記の太陽電池モ
ジュ−ル用裏面保護シ−トを、そのコ−ティング膜面を
対向させ、かつ、その太陽電池素子面を上に向けて、ア
クリル系樹脂の接着剤層を介して積層して、本発明にか
かる太陽電池モジュ−ルを製造した。 (2).なお、上記において、上記の基材としての厚さ
50μmのポリフッ化ビニル樹脂シ−ト(PVF)に代
えて、厚さ50μmのエチレン−テトラフルオロエチレ
ンコポリマ−からなるフッ素系樹脂シ−ト(ETFE)
を使用し、上記と全く同様にして、同様な本発明にかか
る表面保護シ−ト、および、太陽電池モジュ−ルを製造
することができた。
【0055】実施例12 (1).上記の実施例6で製造した太陽電池モジュ−ル
用保護シ−トを太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トと
太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−トとして使用し、そ
の太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トのコ−ティング
膜面に、厚さ400μmのエチレン−酢酸ビニル共重合
体シ−ト、アモルファスシリコンからなる太陽電池素子
を並列に配置した厚さ38μmの2軸延伸ポリエチレン
テレフタレ−トフィルム、厚さ400μmのエチレン−
酢酸ビニル共重合体シ−ト、および、上記の太陽電池モ
ジュ−ル用裏面保護シ−トを、そのコ−ティング膜面を
対向させ、かつ、その太陽電池素子面を上に向けて、ア
クリル系樹脂の接着剤層を介して積層して、本発明にか
かる太陽電池モジュ−ルを製造した。 (2).なお、上記において、上記の基材としての厚さ
50μmのポリフッ化ビニル樹脂シ−ト(PVF)に代
えて、厚さ50μmのエチレン−テトラフルオロエチレ
ンコポリマ−からなるフッ素系樹脂シ−ト(ETFE)
を使用し、上記と全く同様にして、同様な本発明にかか
る表面保護シ−ト、および、太陽電池モジュ−ルを製造
することができた。
用保護シ−トを太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トと
太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−トとして使用し、そ
の太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トのコ−ティング
膜面に、厚さ400μmのエチレン−酢酸ビニル共重合
体シ−ト、アモルファスシリコンからなる太陽電池素子
を並列に配置した厚さ38μmの2軸延伸ポリエチレン
テレフタレ−トフィルム、厚さ400μmのエチレン−
酢酸ビニル共重合体シ−ト、および、上記の太陽電池モ
ジュ−ル用裏面保護シ−トを、そのコ−ティング膜面を
対向させ、かつ、その太陽電池素子面を上に向けて、ア
クリル系樹脂の接着剤層を介して積層して、本発明にか
かる太陽電池モジュ−ルを製造した。 (2).なお、上記において、上記の基材としての厚さ
50μmのポリフッ化ビニル樹脂シ−ト(PVF)に代
えて、厚さ50μmのエチレン−テトラフルオロエチレ
ンコポリマ−からなるフッ素系樹脂シ−ト(ETFE)
を使用し、上記と全く同様にして、同様な本発明にかか
る表面保護シ−ト、および、太陽電池モジュ−ルを製造
することができた。
【0056】実施例13 (1).上記の実施例1で製造した太陽電池モジュ−ル
用保護シ−トを太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−トと
して使用し、まず、厚さ3mmのガラス板、厚さ400
μmのエチレン−酢酸ビニル共重合体シ−ト、アモルフ
ァスシリコンからなる太陽電池素子を並列に配置した厚
さ38μmの2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィ
ルム、厚さ400μmのエチレン−酢酸ビニル共重合体
シ−ト、および、上記の太陽電池モジュ−ル用裏面保護
シ−トを、そのコ−ティング膜面を対向させ、かつ、そ
の太陽電池素子面を上に向けて、アクリル系樹脂の接着
剤層を介して積層して、本発明にかかる太陽電池モジュ
−ルを製造した。 (2).なお、上記において、上記の基材としての厚さ
50μmのポリフッ化ビニル樹脂シ−ト(PVF)に代
えて、厚さ50μmのエチレン−テトラフルオロエチレ
ンコポリマ−からなるフッ素系樹脂シ−ト(ETFE)
を使用し、上記と全く同様にして、同様な本発明にかか
る表面保護シ−ト、および、太陽電池モジュ−ルを製造
することができた。
用保護シ−トを太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−トと
して使用し、まず、厚さ3mmのガラス板、厚さ400
μmのエチレン−酢酸ビニル共重合体シ−ト、アモルフ
ァスシリコンからなる太陽電池素子を並列に配置した厚
さ38μmの2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィ
ルム、厚さ400μmのエチレン−酢酸ビニル共重合体
シ−ト、および、上記の太陽電池モジュ−ル用裏面保護
シ−トを、そのコ−ティング膜面を対向させ、かつ、そ
の太陽電池素子面を上に向けて、アクリル系樹脂の接着
剤層を介して積層して、本発明にかかる太陽電池モジュ
−ルを製造した。 (2).なお、上記において、上記の基材としての厚さ
50μmのポリフッ化ビニル樹脂シ−ト(PVF)に代
えて、厚さ50μmのエチレン−テトラフルオロエチレ
ンコポリマ−からなるフッ素系樹脂シ−ト(ETFE)
を使用し、上記と全く同様にして、同様な本発明にかか
る表面保護シ−ト、および、太陽電池モジュ−ルを製造
することができた。
【0057】実施例14 (1).上記の実施例2で製造した太陽電池モジュ−ル
用保護シ−トを太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−トと
して使用し、厚さ50μmのポリフッ化ビニル樹脂シ−
ト(PVF)、厚さ400μmのエチレン−酢酸ビニル
共重合体シ−ト、アモルファスシリコンからなる太陽電
池素子を並列に配置した厚さ38μmの2軸延伸ポリエ
チレンテレフタレ−トフィルム、厚さ400μmのエチ
レン−酢酸ビニル共重合体シ−ト、および、上記の太陽
電池モジュ−ル用裏面保護シ−トを、そのコ−ティング
膜面を対向させ、かつ、その太陽電池素子面を上に向け
て、アクリル系樹脂の接着剤層を介して積層して、本発
明にかかる太陽電池モジュ−ルを製造した。 (2).なお、上記において、上記の基材としての厚さ
50μmのポリフッ化ビニル樹脂シ−ト(PVF)に代
えて、厚さ50μmのエチレン−テトラフルオロエチレ
ンコポリマ−からなるフッ素系樹脂シ−ト(ETFE)
を使用し、上記と全く同様にして、同様な本発明にかか
る表面保護シ−ト、および、太陽電池モジュ−ルを製造
することができた。
用保護シ−トを太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−トと
して使用し、厚さ50μmのポリフッ化ビニル樹脂シ−
ト(PVF)、厚さ400μmのエチレン−酢酸ビニル
共重合体シ−ト、アモルファスシリコンからなる太陽電
池素子を並列に配置した厚さ38μmの2軸延伸ポリエ
チレンテレフタレ−トフィルム、厚さ400μmのエチ
レン−酢酸ビニル共重合体シ−ト、および、上記の太陽
電池モジュ−ル用裏面保護シ−トを、そのコ−ティング
膜面を対向させ、かつ、その太陽電池素子面を上に向け
て、アクリル系樹脂の接着剤層を介して積層して、本発
明にかかる太陽電池モジュ−ルを製造した。 (2).なお、上記において、上記の基材としての厚さ
50μmのポリフッ化ビニル樹脂シ−ト(PVF)に代
えて、厚さ50μmのエチレン−テトラフルオロエチレ
ンコポリマ−からなるフッ素系樹脂シ−ト(ETFE)
を使用し、上記と全く同様にして、同様な本発明にかか
る表面保護シ−ト、および、太陽電池モジュ−ルを製造
することができた。
【0058】実施例15 (1).上記の実施例3で製造した太陽電池モジュ−ル
用保護シ−トを太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−トと
して使用し、厚さ50μmのポリフッ化ビニル樹脂シ−
ト(PVF)、厚さ400μmのエチレン−酢酸ビニル
共重合体シ−ト、アモルファスシリコンからなる太陽電
池素子を並列に配置した厚さ38μmの2軸延伸ポリエ
チレンテレフタレ−トフィルム、厚さ400μmのエチ
レン−酢酸ビニル共重合体シ−ト、および、上記の太陽
電池モジュ−ル用裏面保護シ−トを、そのコ−ティング
膜面を対向させ、かつ、その太陽電池素子面を上に向け
て、アクリル系樹脂の接着剤層を介して積層して、本発
明にかかる太陽電池モジュ−ルを製造した。 (2).なお、上記において、上記の基材としての厚さ
50μmのポリフッ化ビニル樹脂シ−ト(PVF)に代
えて、厚さ50μmのエチレン−テトラフルオロエチレ
ンコポリマ−からなるフッ素系樹脂シ−ト(ETFE)
を使用し、上記と全く同様にして、同様な本発明にかか
る表面保護シ−ト、および、太陽電池モジュ−ルを製造
することができた。
用保護シ−トを太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−トと
して使用し、厚さ50μmのポリフッ化ビニル樹脂シ−
ト(PVF)、厚さ400μmのエチレン−酢酸ビニル
共重合体シ−ト、アモルファスシリコンからなる太陽電
池素子を並列に配置した厚さ38μmの2軸延伸ポリエ
チレンテレフタレ−トフィルム、厚さ400μmのエチ
レン−酢酸ビニル共重合体シ−ト、および、上記の太陽
電池モジュ−ル用裏面保護シ−トを、そのコ−ティング
膜面を対向させ、かつ、その太陽電池素子面を上に向け
て、アクリル系樹脂の接着剤層を介して積層して、本発
明にかかる太陽電池モジュ−ルを製造した。 (2).なお、上記において、上記の基材としての厚さ
50μmのポリフッ化ビニル樹脂シ−ト(PVF)に代
えて、厚さ50μmのエチレン−テトラフルオロエチレ
ンコポリマ−からなるフッ素系樹脂シ−ト(ETFE)
を使用し、上記と全く同様にして、同様な本発明にかか
る表面保護シ−ト、および、太陽電池モジュ−ルを製造
することができた。
【0059】実施例16〜19 上記の実施例1において、厚さ50μmのポリフッ化ビ
ニル樹脂シ−ト(PVF)を使用する代わりに、下記の
実施例16〜19に示すプラスチックシ−トを使用し、
それ以外は、上記の実施例1と全く同様にして、同様
に、本発明にかかる表面保護シ−ト、および、太陽電池
モジュ−ルを製造することができた。 実施例16.厚さ100μmのポリジシクロペンタジエ
ン樹脂シ−ト 実施例17.厚さ100μmのポリカ−ボネ−ト樹脂シ
−ト 実施例18.厚さ100μmのポリアクリル樹脂シ−ト 実施例19.厚さ100μmのポリエチレンテレフタレ
−ト樹脂シ−ト
ニル樹脂シ−ト(PVF)を使用する代わりに、下記の
実施例16〜19に示すプラスチックシ−トを使用し、
それ以外は、上記の実施例1と全く同様にして、同様
に、本発明にかかる表面保護シ−ト、および、太陽電池
モジュ−ルを製造することができた。 実施例16.厚さ100μmのポリジシクロペンタジエ
ン樹脂シ−ト 実施例17.厚さ100μmのポリカ−ボネ−ト樹脂シ
−ト 実施例18.厚さ100μmのポリアクリル樹脂シ−ト 実施例19.厚さ100μmのポリエチレンテレフタレ
−ト樹脂シ−ト
【0060】実施例20〜23 上記の実施例2において、厚さ50μmのポリフッ化ビ
ニル樹脂シ−ト(PVF)を使用する代わりに、下記の
実施例20〜23に示すプラスチックシ−トを使用し、
それ以外は、上記の実施例2と全く同様にして、同様
に、本発明にかかる表面保護シ−ト、および、太陽電池
モジュ−ルを製造することができた。 実施例20.厚さ100μmのポリジシクロペンタジエ
ン樹脂シ−ト 実施例21.厚さ100μmのポリカ−ボネ−ト樹脂シ
−ト 実施例22.厚さ100μmのポリアクリル樹脂シ−ト 実施例23.厚さ100μmのポリエチレンテレフタレ
−ト樹脂シ−ト
ニル樹脂シ−ト(PVF)を使用する代わりに、下記の
実施例20〜23に示すプラスチックシ−トを使用し、
それ以外は、上記の実施例2と全く同様にして、同様
に、本発明にかかる表面保護シ−ト、および、太陽電池
モジュ−ルを製造することができた。 実施例20.厚さ100μmのポリジシクロペンタジエ
ン樹脂シ−ト 実施例21.厚さ100μmのポリカ−ボネ−ト樹脂シ
−ト 実施例22.厚さ100μmのポリアクリル樹脂シ−ト 実施例23.厚さ100μmのポリエチレンテレフタレ
−ト樹脂シ−ト
【0061】実施例24 (1).厚さ50μmのポリフッ化ビニル樹脂シ−ト
(PVF)を使用し、その表面に、1×10-4Torr
の真空下、高周波誘電加熱方式で純度99.9%の一酸
化珪素(SiO)を加熱蒸発させ、500Åの酸化珪素
の蒸着膜を形成した。次に、上記で膜厚500Åの酸化
珪素の蒸着膜を形成したポリフッ化ビニル樹脂フィルム
について、その蒸着直後に、その酸化珪素の蒸着膜面
に、出力、10kW、処理速度100m/minでコロ
ナ放電処理を行って、蒸着膜面の表面張力を35dyn
eより60dyneに向上させてたコロナ処理面を形成
した。 (2).次に、上記の実施例1で調製した塗布用の組成
物を使用し、これを、上記で製造した酸化珪素の蒸着膜
のコロナ処理面に、グラビアロ−ルコ−ト法を用いてコ
−ティングし、次いで、120℃で1時間乾燥し、コ−
ティング量1.0g/m2 (乾燥状態)からなるコ−テ
ィング膜を形成して、本発明にかかる太陽電池モジュ−
ル用保護シ−トを製造した。 (3).次に、上記で製造した太陽電池モジュ−ル用保
護シ−トを太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トとして
使用し、そのコ−ティング膜面に、厚さ400μmのエ
チレン−酢酸ビニル共重合体シ−ト、アモルファスシリ
コンからなる太陽電池素子を並列に配置した厚さ38μ
mの2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルム、厚
さ400μmのエチレン−酢酸ビニル共重合体シ−ト、
および、厚さ50μmの2軸延伸ポリエチレンテレフタ
レ−トフィルムを、その太陽電池素子面を上に向けて、
アクリル系樹脂の接着剤層を介して積層して、本発明に
かかる太陽電池モジュ−ルを製造した。 (4).なお、上記において、上記の基材としての紫外
線吸収剤を練り込んだ厚さ50μmのポリフッ化ビニル
樹脂シ−ト(PVF)に代えて、紫外線吸収剤を練り込
み加工した厚さ50μmのエチレン−テトラフルオロエ
チレンコポリマ−からなるフッ素系樹脂シ−ト(ETF
E)を使用し、上記と全く同様にして、同様な本発明に
かかる表面保護シ−ト、および、太陽電池モジュ−ルを
製造することができた。
(PVF)を使用し、その表面に、1×10-4Torr
の真空下、高周波誘電加熱方式で純度99.9%の一酸
化珪素(SiO)を加熱蒸発させ、500Åの酸化珪素
の蒸着膜を形成した。次に、上記で膜厚500Åの酸化
珪素の蒸着膜を形成したポリフッ化ビニル樹脂フィルム
について、その蒸着直後に、その酸化珪素の蒸着膜面
に、出力、10kW、処理速度100m/minでコロ
ナ放電処理を行って、蒸着膜面の表面張力を35dyn
eより60dyneに向上させてたコロナ処理面を形成
した。 (2).次に、上記の実施例1で調製した塗布用の組成
物を使用し、これを、上記で製造した酸化珪素の蒸着膜
のコロナ処理面に、グラビアロ−ルコ−ト法を用いてコ
−ティングし、次いで、120℃で1時間乾燥し、コ−
ティング量1.0g/m2 (乾燥状態)からなるコ−テ
ィング膜を形成して、本発明にかかる太陽電池モジュ−
ル用保護シ−トを製造した。 (3).次に、上記で製造した太陽電池モジュ−ル用保
護シ−トを太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トとして
使用し、そのコ−ティング膜面に、厚さ400μmのエ
チレン−酢酸ビニル共重合体シ−ト、アモルファスシリ
コンからなる太陽電池素子を並列に配置した厚さ38μ
mの2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルム、厚
さ400μmのエチレン−酢酸ビニル共重合体シ−ト、
および、厚さ50μmの2軸延伸ポリエチレンテレフタ
レ−トフィルムを、その太陽電池素子面を上に向けて、
アクリル系樹脂の接着剤層を介して積層して、本発明に
かかる太陽電池モジュ−ルを製造した。 (4).なお、上記において、上記の基材としての紫外
線吸収剤を練り込んだ厚さ50μmのポリフッ化ビニル
樹脂シ−ト(PVF)に代えて、紫外線吸収剤を練り込
み加工した厚さ50μmのエチレン−テトラフルオロエ
チレンコポリマ−からなるフッ素系樹脂シ−ト(ETF
E)を使用し、上記と全く同様にして、同様な本発明に
かかる表面保護シ−ト、および、太陽電池モジュ−ルを
製造することができた。
【0062】実施例25 (1).厚さ50μmのポリフッ化ビニル樹脂フィルム
(PVF)を使用し、これをプラズマ化学気相成長装置
の送り出しロ−ルに装着し、下記の条件で厚さ800Å
の酸化珪素の蒸着薄膜を上記のポリフッ化ビニル樹脂フ
ィルムの片面に形成した。 (蒸着条件) 反応ガス混合比:ヘキサメチルジシロキサン:酸素ガ
ス:ヘリウム=1:10:10(単位:slm) 真空チャンバ−内の真空度:5.0×10-6mbar 蒸着チャンバ−内の真空度:6.0×10-2mbar 冷却・電極ドラム供給電力:20kW フィルムの搬送速度:80m/分 次に、上記で膜厚800Åの酸化珪素の蒸着膜を形成し
たポリフッ化ビニル樹脂フィルムについて、その蒸着直
後に、その酸化珪素の蒸着膜面に、出力、10kW、処
理速度100m/minでコロナ放電処理を行って、蒸
着膜面の表面張力を35dyneより60dyneに向
上させてたコロナ処理面を形成した。 (2).次に、上記の実施例1で調製した塗布用の組成
物を使用し、これを、上記で製造した酸化珪素の蒸着膜
のコロナ処理面に、グラビアロ−ルコ−ト法を用いてコ
−ティングし、次いで、120℃で1時間乾燥し、コ−
ティング量1.0g/m2 (乾燥状態)からなるコ−テ
ィング膜を形成して、本発明にかかる太陽電池モジュ−
ル用保護シ−トを製造した。 (3).次に、上記で製造した太陽電池モジュ−ル用保
護シ−トを太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トとして
使用し、そのコ−ティング膜面に、厚さ400μmのエ
チレン−酢酸ビニル共重合体シ−ト、アモルファスシリ
コンからなる太陽電池素子を並列に配置した厚さ38μ
mの2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルム、厚
さ400μmのエチレン−酢酸ビニル共重合体シ−ト、
および、厚さ50μmの2軸延伸ポリエチレンテレフタ
レ−トフィルムを、その太陽電池素子面を上に向けて、
アクリル系樹脂の接着剤層を介して積層して、本発明に
かかる太陽電池モジュ−ルを製造した。 (4).なお、上記において、上記の基材としての厚さ
50μmのポリフッ化ビニル樹脂シ−ト(PVF)に代
えて、厚さ50μmのエチレン−テトラフルオロエチレ
ンコポリマ−からなるフッ素系樹脂シ−ト(ETFE)
を使用し、上記と全く同様にして、同様な本発明にかか
る表面保護シ−ト、および、太陽電池モジュ−ルを製造
することができた。
(PVF)を使用し、これをプラズマ化学気相成長装置
の送り出しロ−ルに装着し、下記の条件で厚さ800Å
の酸化珪素の蒸着薄膜を上記のポリフッ化ビニル樹脂フ
ィルムの片面に形成した。 (蒸着条件) 反応ガス混合比:ヘキサメチルジシロキサン:酸素ガ
ス:ヘリウム=1:10:10(単位:slm) 真空チャンバ−内の真空度:5.0×10-6mbar 蒸着チャンバ−内の真空度:6.0×10-2mbar 冷却・電極ドラム供給電力:20kW フィルムの搬送速度:80m/分 次に、上記で膜厚800Åの酸化珪素の蒸着膜を形成し
たポリフッ化ビニル樹脂フィルムについて、その蒸着直
後に、その酸化珪素の蒸着膜面に、出力、10kW、処
理速度100m/minでコロナ放電処理を行って、蒸
着膜面の表面張力を35dyneより60dyneに向
上させてたコロナ処理面を形成した。 (2).次に、上記の実施例1で調製した塗布用の組成
物を使用し、これを、上記で製造した酸化珪素の蒸着膜
のコロナ処理面に、グラビアロ−ルコ−ト法を用いてコ
−ティングし、次いで、120℃で1時間乾燥し、コ−
ティング量1.0g/m2 (乾燥状態)からなるコ−テ
ィング膜を形成して、本発明にかかる太陽電池モジュ−
ル用保護シ−トを製造した。 (3).次に、上記で製造した太陽電池モジュ−ル用保
護シ−トを太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トとして
使用し、そのコ−ティング膜面に、厚さ400μmのエ
チレン−酢酸ビニル共重合体シ−ト、アモルファスシリ
コンからなる太陽電池素子を並列に配置した厚さ38μ
mの2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルム、厚
さ400μmのエチレン−酢酸ビニル共重合体シ−ト、
および、厚さ50μmの2軸延伸ポリエチレンテレフタ
レ−トフィルムを、その太陽電池素子面を上に向けて、
アクリル系樹脂の接着剤層を介して積層して、本発明に
かかる太陽電池モジュ−ルを製造した。 (4).なお、上記において、上記の基材としての厚さ
50μmのポリフッ化ビニル樹脂シ−ト(PVF)に代
えて、厚さ50μmのエチレン−テトラフルオロエチレ
ンコポリマ−からなるフッ素系樹脂シ−ト(ETFE)
を使用し、上記と全く同様にして、同様な本発明にかか
る表面保護シ−ト、および、太陽電池モジュ−ルを製造
することができた。
【0063】実施例26 (1).厚さ50μmのポリフッ化ビニル樹脂シ−トを
使用し、これを巻き取り式真空蒸着装置の送り出しロ−
ルに装着し、次いで、これをコ−ティングドラムの上に
繰り出して、下記の条件で、アルミニウムを蒸着源に用
い、酸素ガスを供給しながら、エレクトロンビ−ム(E
B)加熱方式による反応真空蒸着法により、上記のポリ
フッ化ビニル樹脂フィルムの片面に、膜厚800Åの酸
化アルミニウムの蒸着膜を形成した。 (蒸着条件) 蒸着源:アルミニウム 真空チャンバ−内の真空度:7.5×10-6mbar 蒸着チャンバ−内の真空度:2.1×10-6mbar EB出力:40KW フィルム搬送速度:600m/分 次に、上記で膜厚800Åの酸化アルミニウムの蒸着膜
を形成したポリフッ化ビニル樹脂フィルムについて、そ
の蒸着直後に、その酸化アルミニウムの蒸着膜面に、グ
ロ−放電プラズマ発生装置を使用し、プラズマ出力、1
500W、酸素ガス(O2 ):アルゴンガス(Ar)=
19:1からなる混合ガスを使用し、混合ガス圧6X1
0-5Toor、処理速度420m/minで酸素/アル
ゴン混合ガスプラズマ処理を行ってプラズマ処理面を形
成した。 (2).次に、上記の実施例2で調製した塗布用の組成
物を使用し、これを、上記で製造した酸化アルミニウム
の蒸着膜のプラズマ処理面に、グラビアロ−ルコ−ト法
を用いてコ−ティングし、次いで、120℃で1時間乾
燥し、コ−ティング量1.0g/m2 (乾燥状態)から
なるコ−ティング膜を形成して、本発明にかかる太陽電
池モジュ−ル用保護シ−トを製造した。 (3).次に、上記で製造した太陽電池モジュ−ル用保
護シ−トを太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トとして
使用し、そのコ−ティング膜面に、厚さ400μmのエ
チレン−酢酸ビニル共重合体シ−ト、アモルファスシリ
コンからなる太陽電池素子を並列に配置した厚さ38μ
mの2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルム、厚
さ400μmのエチレン−酢酸ビニル共重合体シ−ト、
および、厚さ50μmの2軸延伸ポリエチレンテレフタ
レ−トフィルムを、その太陽電池素子面を上に向けて、
アクリル系樹脂の接着剤層を介して積層して、本発明に
かかる太陽電池モジュ−ルを製造した。 (4).なお、上記において、上記の基材としての厚さ
50μmのポリフッ化ビニル樹脂シ−ト(PVF)に代
えて、厚さ50μmのエチレン−テトラフルオロエチレ
ンコポリマ−からなるフッ素系樹脂シ−ト(ETFE)
を使用し、上記と全く同様にして、同様な本発明にかか
る太陽電池モジュ−ル用保護シ−ト、および、太陽電池
モジュ−ルを製造することができた。
使用し、これを巻き取り式真空蒸着装置の送り出しロ−
ルに装着し、次いで、これをコ−ティングドラムの上に
繰り出して、下記の条件で、アルミニウムを蒸着源に用
い、酸素ガスを供給しながら、エレクトロンビ−ム(E
B)加熱方式による反応真空蒸着法により、上記のポリ
フッ化ビニル樹脂フィルムの片面に、膜厚800Åの酸
化アルミニウムの蒸着膜を形成した。 (蒸着条件) 蒸着源:アルミニウム 真空チャンバ−内の真空度:7.5×10-6mbar 蒸着チャンバ−内の真空度:2.1×10-6mbar EB出力:40KW フィルム搬送速度:600m/分 次に、上記で膜厚800Åの酸化アルミニウムの蒸着膜
を形成したポリフッ化ビニル樹脂フィルムについて、そ
の蒸着直後に、その酸化アルミニウムの蒸着膜面に、グ
ロ−放電プラズマ発生装置を使用し、プラズマ出力、1
500W、酸素ガス(O2 ):アルゴンガス(Ar)=
19:1からなる混合ガスを使用し、混合ガス圧6X1
0-5Toor、処理速度420m/minで酸素/アル
ゴン混合ガスプラズマ処理を行ってプラズマ処理面を形
成した。 (2).次に、上記の実施例2で調製した塗布用の組成
物を使用し、これを、上記で製造した酸化アルミニウム
の蒸着膜のプラズマ処理面に、グラビアロ−ルコ−ト法
を用いてコ−ティングし、次いで、120℃で1時間乾
燥し、コ−ティング量1.0g/m2 (乾燥状態)から
なるコ−ティング膜を形成して、本発明にかかる太陽電
池モジュ−ル用保護シ−トを製造した。 (3).次に、上記で製造した太陽電池モジュ−ル用保
護シ−トを太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トとして
使用し、そのコ−ティング膜面に、厚さ400μmのエ
チレン−酢酸ビニル共重合体シ−ト、アモルファスシリ
コンからなる太陽電池素子を並列に配置した厚さ38μ
mの2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルム、厚
さ400μmのエチレン−酢酸ビニル共重合体シ−ト、
および、厚さ50μmの2軸延伸ポリエチレンテレフタ
レ−トフィルムを、その太陽電池素子面を上に向けて、
アクリル系樹脂の接着剤層を介して積層して、本発明に
かかる太陽電池モジュ−ルを製造した。 (4).なお、上記において、上記の基材としての厚さ
50μmのポリフッ化ビニル樹脂シ−ト(PVF)に代
えて、厚さ50μmのエチレン−テトラフルオロエチレ
ンコポリマ−からなるフッ素系樹脂シ−ト(ETFE)
を使用し、上記と全く同様にして、同様な本発明にかか
る太陽電池モジュ−ル用保護シ−ト、および、太陽電池
モジュ−ルを製造することができた。
【0064】比較例1 基材として、厚さ3mmのガラス板を太陽電池モジュ−
ル用表面保護シ−トとして使用し、而して、その一方の
面に、厚さ400μmのエチレン−酢酸ビニル共重合体
シ−ト、アモルファスシリコンからなる太陽電池素子を
並列に配置した厚さ38μmの2軸延伸ポリエチレンテ
レフタレ−トフィルム、厚さ400μmのエチレン−酢
酸ビニル共重合体シ−ト、および、厚さ50μmの2軸
延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムを、その太陽
電池素子面を上に向けて、アクリル系樹脂の接着剤層を
介して積層して、太陽電池モジュ−ルを製造した。
ル用表面保護シ−トとして使用し、而して、その一方の
面に、厚さ400μmのエチレン−酢酸ビニル共重合体
シ−ト、アモルファスシリコンからなる太陽電池素子を
並列に配置した厚さ38μmの2軸延伸ポリエチレンテ
レフタレ−トフィルム、厚さ400μmのエチレン−酢
酸ビニル共重合体シ−ト、および、厚さ50μmの2軸
延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムを、その太陽
電池素子面を上に向けて、アクリル系樹脂の接着剤層を
介して積層して、太陽電池モジュ−ルを製造した。
【0065】比較例2 基材として、厚さ50μmのポリフッ化ビニル樹脂シ−
ト(PVF)を太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トと
して使用し、而して、その一方の面に、厚さ400μm
のエチレン−酢酸ビニル共重合体シ−ト、アモルファス
シリコンからなる太陽電池素子を並列に配置した厚さ3
8μmの2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィル
ム、厚さ400μmのエチレン−酢酸ビニル共重合体シ
−ト、および、厚さ50μmの2軸延伸ポリエチレンテ
レフタレ−トフィルムを、その太陽電池素子面を上に向
けて、アクリル系樹脂の接着剤層を介して積層して、太
陽電池モジュ−ルを製造した。
ト(PVF)を太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トと
して使用し、而して、その一方の面に、厚さ400μm
のエチレン−酢酸ビニル共重合体シ−ト、アモルファス
シリコンからなる太陽電池素子を並列に配置した厚さ3
8μmの2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィル
ム、厚さ400μmのエチレン−酢酸ビニル共重合体シ
−ト、および、厚さ50μmの2軸延伸ポリエチレンテ
レフタレ−トフィルムを、その太陽電池素子面を上に向
けて、アクリル系樹脂の接着剤層を介して積層して、太
陽電池モジュ−ルを製造した。
【0066】比較例3 基材として、厚さ100μmのポリジシクロペンタジエ
ン樹脂シ−トを太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トと
して使用し、而して、その一方の面に、厚さ400μm
のエチレン−酢酸ビニル共重合体シ−ト、アモルファス
シリコンからなる太陽電池素子を並列に配置した厚さ3
8μmの2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィル
ム、厚さ400μmのエチレン−酢酸ビニル共重合体シ
−ト、および、厚さ50μmの2軸延伸ポリエチレンテ
レフタレ−トフィルムを、その太陽電池素子面を上に向
けて、アクリル系樹脂の接着剤層を介して積層して、太
陽電池モジュ−ルを製造した。
ン樹脂シ−トを太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トと
して使用し、而して、その一方の面に、厚さ400μm
のエチレン−酢酸ビニル共重合体シ−ト、アモルファス
シリコンからなる太陽電池素子を並列に配置した厚さ3
8μmの2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィル
ム、厚さ400μmのエチレン−酢酸ビニル共重合体シ
−ト、および、厚さ50μmの2軸延伸ポリエチレンテ
レフタレ−トフィルムを、その太陽電池素子面を上に向
けて、アクリル系樹脂の接着剤層を介して積層して、太
陽電池モジュ−ルを製造した。
【0067】比較例4 基材として、厚さ50μmのポリフッ化ビニル樹脂シ−
ト(PVF)を太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トと
太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−トとして使用し、而
して、その一方の厚さ50μmのポリフッ化ビニル樹脂
シ−ト(PVF)の面に、厚さ400μmのエチレン−
酢酸ビニル共重合体シ−ト、アモルファスシリコンから
なる太陽電池素子を並列に配置した厚さ38μmの2軸
延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルム、厚さ400
μmのエチレン−酢酸ビニル共重合体シ−ト、および、
他方の厚さ50μmのポリフッ化ビニル樹脂シ−ト(P
VF)を、その太陽電池素子面を上に向けて、アクリル
系樹脂の接着剤層を介して積層して、太陽電池モジュ−
ルを製造した。
ト(PVF)を太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トと
太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−トとして使用し、而
して、その一方の厚さ50μmのポリフッ化ビニル樹脂
シ−ト(PVF)の面に、厚さ400μmのエチレン−
酢酸ビニル共重合体シ−ト、アモルファスシリコンから
なる太陽電池素子を並列に配置した厚さ38μmの2軸
延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルム、厚さ400
μmのエチレン−酢酸ビニル共重合体シ−ト、および、
他方の厚さ50μmのポリフッ化ビニル樹脂シ−ト(P
VF)を、その太陽電池素子面を上に向けて、アクリル
系樹脂の接着剤層を介して積層して、太陽電池モジュ−
ルを製造した。
【0068】比較例5 基材として、厚さ100μmのポリジシクロペンタジエ
ン樹脂シ−トを太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トと
太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−トとして使用し、而
して、その一方の厚さ100μmのポリジシクロペンタ
ジエン樹脂シ−トの面に、厚さ400μmのエチレン−
酢酸ビニル共重合体シ−ト、アモルファスシリコンから
なる太陽電池素子を並列に配置した厚さ38μmの2軸
延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルム、厚さ400
μmのエチレン−酢酸ビニル共重合体シ−ト、および、
他方の厚さ100μmのポリジシクロペンタジエン樹脂
シ−トを、その太陽電池素子面を上に向けて、アクリル
系樹脂の接着剤層を介して積層して、太陽電池モジュ−
ルを製造した。
ン樹脂シ−トを太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トと
太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−トとして使用し、而
して、その一方の厚さ100μmのポリジシクロペンタ
ジエン樹脂シ−トの面に、厚さ400μmのエチレン−
酢酸ビニル共重合体シ−ト、アモルファスシリコンから
なる太陽電池素子を並列に配置した厚さ38μmの2軸
延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルム、厚さ400
μmのエチレン−酢酸ビニル共重合体シ−ト、および、
他方の厚さ100μmのポリジシクロペンタジエン樹脂
シ−トを、その太陽電池素子面を上に向けて、アクリル
系樹脂の接着剤層を介して積層して、太陽電池モジュ−
ルを製造した。
【0069】実験例 上記の実施例1〜26で製造した本発明にかかる保護シ
−トと比較例1〜5にかかる保護シ−トについて、全光
線透過率を測定し、また、上記の実施例1〜26で製造
した太陽電池モジュ−ルと比較例1〜5で製造した太陽
電池モジュ−ルについて太陽電池モジュ−ル評価試験を
行った。 (1).全光線透過率の測定 これは、基材フィルムを基準とし、実施例1〜26で製
造した本発明にかかる保護シ−トと比較例1〜5にかか
る保護シ−トについてカラ−コンピュ−タ−により全光
線透過率(%)を測定した。 (2).太陽電池モジュ−ル評価試験 これは、JIS規格C8917−1989に基づいて、
太陽電池モジュ−ルの環境試験を行い、試験前後の光起
電力の出力を測定して、比較評価した。 (3).水蒸気透過度と酸素透過度の測定 水蒸気透過度は、実施例1〜26で製造した本発明にか
かる保護シ−トと比較例1〜5にかかる保護シ−トにつ
いて、温度40℃、湿度90%RHの条件で、米国、モ
コン(MOCON)社製の測定機〔機種名、パ−マトラ
ン(PERMATRAN)〕にて測定し、更に、酸素透
過度は、上記と同様の対象物について、温度23℃、湿
度90%RHの条件で、米国、モコン(MOCON)社
製の測定機〔機種名、オクストラン(OXTRAN)〕
にて測定した。上記の測定結果について下記の表1に示
す。
−トと比較例1〜5にかかる保護シ−トについて、全光
線透過率を測定し、また、上記の実施例1〜26で製造
した太陽電池モジュ−ルと比較例1〜5で製造した太陽
電池モジュ−ルについて太陽電池モジュ−ル評価試験を
行った。 (1).全光線透過率の測定 これは、基材フィルムを基準とし、実施例1〜26で製
造した本発明にかかる保護シ−トと比較例1〜5にかか
る保護シ−トについてカラ−コンピュ−タ−により全光
線透過率(%)を測定した。 (2).太陽電池モジュ−ル評価試験 これは、JIS規格C8917−1989に基づいて、
太陽電池モジュ−ルの環境試験を行い、試験前後の光起
電力の出力を測定して、比較評価した。 (3).水蒸気透過度と酸素透過度の測定 水蒸気透過度は、実施例1〜26で製造した本発明にか
かる保護シ−トと比較例1〜5にかかる保護シ−トにつ
いて、温度40℃、湿度90%RHの条件で、米国、モ
コン(MOCON)社製の測定機〔機種名、パ−マトラ
ン(PERMATRAN)〕にて測定し、更に、酸素透
過度は、上記と同様の対象物について、温度23℃、湿
度90%RHの条件で、米国、モコン(MOCON)社
製の測定機〔機種名、オクストラン(OXTRAN)〕
にて測定した。上記の測定結果について下記の表1に示
す。
【0070】 上記の表1において、水蒸気バリアは、〔g/m2 /d
ay・40℃・100%RH〕の単位であり、また、酸
素バリアは、〔cc/m2 /day・23℃・90%R
H〕の単位である。
ay・40℃・100%RH〕の単位であり、また、酸
素バリアは、〔cc/m2 /day・23℃・90%R
H〕の単位である。
【0071】上記の表1に示す測定結果より明らかなよ
うに、実施例1〜26にかかる太陽電池モジュ−ル用保
護シ−トは、全光線透過率が高く、また、水蒸気バリア
性、酸素バリア性に優れていた。因みに、実施例1〜2
6にかかる太陽電池モジュ−ル用保護シ−トについて、
酸素バリア性、および、水蒸気バリア性は、それぞれ、
温度25℃、相対湿度90%での酸素透過度が、2.0
cc/m2 ・day・atm以下であり、また、温度4
0℃、相対湿度100%での水蒸気透過度が、2.0g
/m2 ・day・atm以下であょた。また、上記の実
施例1〜26にかかる太陽電池モジュ−ル用保護シ−ト
を用いた太陽電池モジュ−ルは、出力低下率も低いもの
であった。これに対し、比較例1〜5にかかる太陽電池
モジュ−ル用保護シ−トは、全光線透過率は、高いもの
の、水蒸気バリア性、酸素バリア性が低く、そのため
に、それを用いて製造した太陽電池モジュ−ルは、出力
低下率が高い等の問題点があった。
うに、実施例1〜26にかかる太陽電池モジュ−ル用保
護シ−トは、全光線透過率が高く、また、水蒸気バリア
性、酸素バリア性に優れていた。因みに、実施例1〜2
6にかかる太陽電池モジュ−ル用保護シ−トについて、
酸素バリア性、および、水蒸気バリア性は、それぞれ、
温度25℃、相対湿度90%での酸素透過度が、2.0
cc/m2 ・day・atm以下であり、また、温度4
0℃、相対湿度100%での水蒸気透過度が、2.0g
/m2 ・day・atm以下であょた。また、上記の実
施例1〜26にかかる太陽電池モジュ−ル用保護シ−ト
を用いた太陽電池モジュ−ルは、出力低下率も低いもの
であった。これに対し、比較例1〜5にかかる太陽電池
モジュ−ル用保護シ−トは、全光線透過率は、高いもの
の、水蒸気バリア性、酸素バリア性が低く、そのため
に、それを用いて製造した太陽電池モジュ−ルは、出力
低下率が高い等の問題点があった。
【0072】
【発明の効果】以上の説明で明らかなよう、本発明は、
まず、プラスチックシ−トを基材シ−トとして使用し、
その一方の面に、酸化珪素あるいは酸化アルミニウム等
のガラス質からなる透明な、かつ、水蒸気バリア性、酸
素バリア性等に優れた無機酸化物の蒸着膜を設け、更
に、該無機酸化物の蒸着膜の上に、ケイ素化合物の加水
分解による重縮合物からなる組成物によるコ−ティング
膜を設けて太陽電池モジュ−ル用保護シ−トを製造し、
而して、該太陽電池モジュ−ル用保護シ−トを太陽電池
モジュ−ル用表面保護シ−トまたは太陽電池モジュ−ル
用裏面保護シ−トとして使用し、例えば、上記の太陽電
池モジュ−ル用表面保護シ−トのコ−ティング膜面を内
側にし、充填剤層、光起電力素子としての太陽電池素
子、充填剤層、および、通常の太陽電池モジュ−ル用裏
面保護シ−ト層等を順次に積層し、次いで、これらを一
体的に真空吸引して加熱圧着するラミネ−ション法等を
利用して太陽電池モジュ−ルを製造して、太陽光の透過
性に優れ、かつ、強度に優れ、更に、耐候性、耐熱性、
耐水性、耐光性、耐風圧性、耐降雹性、耐薬品性、防湿
性、防汚性、その他等の諸特性に優れ、特に、水分、酸
素等の侵入を防止する防湿性を著しく向上させ、その長
期的な性能劣化を最小限に抑え、極めて耐久性に富み、
保護能力性に優れ、かつ、より低コストで安全な太陽電
池モジュ−ルを安定的に製造し得ることができるという
ものである。
まず、プラスチックシ−トを基材シ−トとして使用し、
その一方の面に、酸化珪素あるいは酸化アルミニウム等
のガラス質からなる透明な、かつ、水蒸気バリア性、酸
素バリア性等に優れた無機酸化物の蒸着膜を設け、更
に、該無機酸化物の蒸着膜の上に、ケイ素化合物の加水
分解による重縮合物からなる組成物によるコ−ティング
膜を設けて太陽電池モジュ−ル用保護シ−トを製造し、
而して、該太陽電池モジュ−ル用保護シ−トを太陽電池
モジュ−ル用表面保護シ−トまたは太陽電池モジュ−ル
用裏面保護シ−トとして使用し、例えば、上記の太陽電
池モジュ−ル用表面保護シ−トのコ−ティング膜面を内
側にし、充填剤層、光起電力素子としての太陽電池素
子、充填剤層、および、通常の太陽電池モジュ−ル用裏
面保護シ−ト層等を順次に積層し、次いで、これらを一
体的に真空吸引して加熱圧着するラミネ−ション法等を
利用して太陽電池モジュ−ルを製造して、太陽光の透過
性に優れ、かつ、強度に優れ、更に、耐候性、耐熱性、
耐水性、耐光性、耐風圧性、耐降雹性、耐薬品性、防湿
性、防汚性、その他等の諸特性に優れ、特に、水分、酸
素等の侵入を防止する防湿性を著しく向上させ、その長
期的な性能劣化を最小限に抑え、極めて耐久性に富み、
保護能力性に優れ、かつ、より低コストで安全な太陽電
池モジュ−ルを安定的に製造し得ることができるという
ものである。
【図1】本発明にかかる太陽電池モジュ−ル用保護シ−
トについてその一例の層構成の概略を示す概略的断面図
である。
トについてその一例の層構成の概略を示す概略的断面図
である。
【図2】本発明にかかる太陽電池モジュ−ル用保護シ−
トについてその一例の層構成の概略を示す概略的断面図
である。
トについてその一例の層構成の概略を示す概略的断面図
である。
【図3】本発明にかかる太陽電池モジュ−ル用保護シ−
トについてその一例の層構成の概略を示す概略的断面図
である。
トについてその一例の層構成の概略を示す概略的断面図
である。
【図4】図1に示す本発明にかかる太陽電池モジュ−ル
用保護シ−トを使用して製造した太陽電池モジュ−ルつ
いてその一例の層構成の概略を示す概略的断面図であ
る。
用保護シ−トを使用して製造した太陽電池モジュ−ルつ
いてその一例の層構成の概略を示す概略的断面図であ
る。
【図5】図1に示す本発明にかかる太陽電池モジュ−ル
用保護シ−トを使用して製造した太陽電池モジュ−ルつ
いてその一例の層構成の概略を示す概略的断面図であ
る。
用保護シ−トを使用して製造した太陽電池モジュ−ルつ
いてその一例の層構成の概略を示す概略的断面図であ
る。
【図6】図1に示す本発明にかかる太陽電池モジュ−ル
用保護シ−トを使用して製造した太陽電池モジュ−ルつ
いてその一例の層構成の概略を示す概略的断面図であ
る。
用保護シ−トを使用して製造した太陽電池モジュ−ルつ
いてその一例の層構成の概略を示す概略的断面図であ
る。
【図7】物理気相成長法による無機酸化物の蒸着薄膜を
形成する方法についてその概要を示す巻き取り式真空蒸
着装置の概略的構成図である。
形成する方法についてその概要を示す巻き取り式真空蒸
着装置の概略的構成図である。
【図8】化学気相成長法による無機酸化物の蒸着薄膜を
形成する方法についてその概要を示す低温プラズマ化学
気相成長装置の概略的構成図である。
形成する方法についてその概要を示す低温プラズマ化学
気相成長装置の概略的構成図である。
A 太陽電池モジュ−ル用保護シ−ト A1 太陽電池モジュ−ル用保護シ−ト A2 太陽電池モジュ−ル用保護シ−ト 1 プラスチックシ−ト 2 無機酸化物の蒸着膜 2a 無機酸化物の蒸着膜 2b 無機酸化物の蒸着膜 3 コ−ティング膜 4 多層膜 5 複合膜 T 太陽電池モジュ−ル T1 太陽電池モジュ−ル T2 太陽電池モジュ−ル 11 太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−ト 12 充填剤層 13 太陽電池素子 14 充填剤層 15 裏面保護シ−ト 16 太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−ト 17 表面保護シ−ト
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 鈴浦 泰樹 東京都新宿区市谷加賀町一丁目1番1号 大日本印刷株式会社内 Fターム(参考) 4F006 AA02 AA04 AA12 AA14 AA15 AA17 AA18 AA19 AA22 AA32 AA35 AA36 AA37 AA38 AA39 AA40 AA42 AA55 AA58 AB39 AB67 AB74 AB76 BA03 BA04 BA05 BA11 CA00 DA01 DA03 DA04 EA01 5F051 BA15 BA18 EA01 EA18 GA05 HA12 HA16 HA19 HA20 JA02 JA03
Claims (17)
- 【請求項1】 プラスチックシ−トの一方の面に、無機
酸化物の蒸着膜を設け、更に、該無機酸化物の蒸着膜の
上に、ケイ素化合物の加水分解による重縮合物からなる
組成物によるコ−ティング膜を設けたことを特徴とする
太陽電池モジュ−ル用保護シ−ト。 - 【請求項2】 プラスチックシ−トの一方の面に、無機
酸化物の蒸着膜を設け、更に、該無機酸化物の蒸着膜の
上に、ケイ素化合物の加水分解による重縮合物からなる
組成物によるコ−ティング膜を設けて太陽電池モジュ−
ル用表面保護シ−トを構成することを特徴とする太陽電
池モジュ−ル用保護シ−ト。 - 【請求項3】 プラスチックシ−トの一方の面に、無機
酸化物の蒸着膜を設け、更に、該無機酸化物の蒸着膜の
上に、ケイ素化合物の加水分解による重縮合物からなる
組成物によるコ−ティング膜を設けて太陽電池モジュ−
ル用裏面保護シ−トを構成することを特徴とする太陽電
池モジュ−ル用保護シ−ト。 - 【請求項4】 プラスチックシ−トが、可視光透過率9
0%以上であることを特徴とする上記の請求項1〜3に
記載する太陽電池モジュ−ル用保護シ−ト。 - 【請求項5】 プラスチックシ−トが、紫外線吸収剤お
よび/または酸化防止剤を含有することを特徴とする上
記の請求項1〜4に記載する太陽電池モジュ−ル用保護
シ−ト。 - 【請求項6】 プラスチックシ−トが、フッ素系樹脂シ
−ト、環状ポリオレフィン系樹脂シ−ト、ポリカ−ボネ
−ト系樹脂シ−ト、ポリ(メタ)アクリル系樹脂シ−
ト、または、ポリエステル系樹脂シ−トからなることを
特徴とする上記の請求項1〜5に記載する太陽電池モジ
ュ−ル用保護シ−ト。 - 【請求項7】 無機酸化物の蒸着膜が、無機酸化物の蒸
着膜の1層若しくは2層以上の多層膜、または、異種の
無機酸化物の蒸着膜の2層以上の複合膜からなることを
特徴とする上記の請求項1〜6に記載する太陽電池モジ
ュ−ル用保護シ−ト。 - 【請求項8】 無機酸化物の蒸着膜が、膜厚50Å以上
〜4000Å以下からなることを特徴とする上記の請求
項1〜7に記載する太陽電池モジュ−ル用保護シ−ト。 - 【請求項9】 ケイ素化合物が、一般式R′SiR
3 (ただし、式中、R′は、加水分解に対して安定で、
熱および/または電離放射線の照射により重合可能な基
を表し、Rは、OH基および/または加水分解を受けや
すい基を表す。)で表されるケイ素化合物からなること
を特徴とする上記の請求項1〜8に記載する太陽電池モ
ジュ−ル用保護シ−ト。 - 【請求項10】 一般式R′SiR3 中のR′が、エポ
キシ原子団を含む基、または、C−Cの二重結合を持つ
原子団を含む基からなることを特徴とする上記の請求項
1〜9に記載する太陽電池モジュ−ル用保護シ−ト。 - 【請求項11】 一般式R′SiR3 中のR′が、(メ
タ)アクリル原子団を含む基からなることを特徴とする
上記の請求項1〜10に記載する太陽電池モジュ−ル用
保護シ−ト。 - 【請求項12】 組成物が、一般式MRn (ただし、式
中、Mは、ケイ素、アルミニウム、チタン、ジルコニウ
ム、バナジウム、ホウ素、または、スズから選ばれた元
素を表し、Rは、OH基および/または加水分解を受け
やすい基を表し、nは、金属元素の価数を表す。)で表
される有機金属化合物の加水分解による重縮合物を含む
ことを特徴とする上記の請求項1〜11に記載する太陽
電池モジュ−ル用保護シ−ト。 - 【請求項13】 組成物が、水素結合形成基を有する樹
脂を含むことを特徴とする上記の請求項1〜12に記載
する太陽電池モジュ−ル用保護シ−ト。 - 【請求項14】 温度25℃、相対湿度90%での酸素
透過度が、2.0cc/m2 ・day・atm以下であ
り、温度40℃、相対湿度100%での水蒸気透過度
が、2.0g/m2 ・day・atm以下であることを
特徴とする上記の請求項1〜13に記載する太陽電池モ
ジュ−ル用保護シ−ト。 - 【請求項15】 プラスチックシ−トの一方の面に、無
機酸化物の蒸着膜を設け、更に、該無機酸化物の蒸着膜
の上に、ケイ素化合物の加水分解による重縮合物からな
る組成物によるコ−ティング膜を設けて構成した太陽電
池モジュ−ル用表面保護シ−トのコ−ティング膜面に、
充填剤層、光起電力素子としての太陽電池素子、充填剤
層、および、太陽電池モジュ−ル用裏面保護シ−ト層を
順次に積層し、これらを真空吸引して加熱圧着ラミネ−
ション法等により一体成形体としたことを特徴とする太
陽電池モュジュ−ル。 - 【請求項16】 太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−
ト、充填剤層、光起電力素子としての太陽電池素子、充
填剤層、および、プラスチックシ−トの一方の面に、無
機酸化物の蒸着膜を設け、更に、該無機酸化物の蒸着膜
の上に、ケイ素化合物の加水分解による重縮合物からな
る組成物によるコ−ティング膜を設けて構成した太陽電
池モジュ−ル用裏面保護シ−トを、そのコ−ティング膜
面を対向させて順次に積層し、これらを真空吸引して加
熱圧着ラミネ−ション法等により一体成形体としたこと
を特徴とする太陽電池モジュ−ル。 - 【請求項17】 プラスチックシ−トの一方の面に、無
機酸化物の蒸着膜を設け、更に、該無機酸化物の蒸着膜
の上に、ケイ素化合物の加水分解による重縮合物からな
る組成物によるコ−ティング膜を設けて構成した太陽電
池モジュ−ル用表面保護シ−トのコ−ティング膜面に、
充填剤層、光起電力素子としての太陽電池素子、充填剤
層、および、プラスチックシ−トの一方の面に、無機酸
化物の蒸着膜を設け、更に、該無機酸化物の蒸着膜の上
に、ケイ素化合物の加水分解による重縮合物からなる組
成物によるコ−ティング膜を設けて構成した太陽電池モ
ジュ−ル用裏面保護シ−トを、そのコ−ティング膜面を
対向させて順次に積層し、これらを真空吸引して加熱圧
着ラミネ−ション法等により一体成形体としたことを特
徴とする太陽電池モュジュ−ル。
Priority Applications (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11179533A JP2001007368A (ja) | 1999-06-25 | 1999-06-25 | 太陽電池モジュ−ル用保護シ−トおよびそれを使用した太陽電池モジュ−ル |
US09/418,193 US6335479B1 (en) | 1998-10-13 | 1999-10-13 | Protective sheet for solar battery module, method of fabricating the same and solar battery module |
EP99125952A EP1054456A3 (en) | 1999-05-17 | 1999-12-27 | Protective sheet for solar battery module, method of fabricating the same and solar battery module |
US09/983,812 US6465726B2 (en) | 1998-10-13 | 2001-10-26 | Protective sheet for solar battery module, method of fabricating the same and solar battery module |
US10/219,243 US6777610B2 (en) | 1998-10-13 | 2002-08-16 | Protective sheet for solar battery module, method of fabricating the same and solar battery module |
US10/872,728 US7309831B2 (en) | 1998-10-13 | 2004-06-22 | Protective sheet for solar battery module, method of fabricating the same and solar battery module |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11179533A JP2001007368A (ja) | 1999-06-25 | 1999-06-25 | 太陽電池モジュ−ル用保護シ−トおよびそれを使用した太陽電池モジュ−ル |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001007368A true JP2001007368A (ja) | 2001-01-12 |
Family
ID=16067427
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11179533A Withdrawn JP2001007368A (ja) | 1998-10-13 | 1999-06-25 | 太陽電池モジュ−ル用保護シ−トおよびそれを使用した太陽電池モジュ−ル |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2001007368A (ja) |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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