JP2000208795A - 太陽電池モジュ―ル用表面保護シ―トおよびそれを使用した太陽電池モジュ―ル - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 太陽電池モジュ−ルを構成する表面保護シ−
ト層として、フッ素系樹脂シ−トを使用するも、水分、
酸素等の侵入を防止する防湿性を著しく向上させ、更
に、耐光性、耐熱性、耐水性等の諸堅牢性についても、
その長期的な性能劣化を最小限に抑え、保護能力性に優
れ、また、耐汚染性等にも優れ、より低コストで安全な
太陽電池モジュ−ルを構成する表面保護シ−トを安定的
に提供することである。 【解決手段】 フッ素系樹脂シ−トの一方の面に、無機
酸化物の蒸着薄膜を設け、更に、該無機酸化物の蒸着薄
膜を設けたフッ素系樹脂シ−トのいずれかの一方の面ま
たは両面に、防汚層および／または紫外線吸収剤層を設
けたことを特徴とする太陽電池モジュ−ル用表面保護シ
−トおよびそれを使用した太陽電池モジュ−ルに関する
ものである。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、太陽電池モジュ−
ル用表面保護シ−トおよびそれを使用した太陽電池モジ
ュ−ルに関し、更に詳しくは、耐光性、耐熱性、耐水
性、防湿性、防汚性等に優れ、極めて保護能力が高い太
陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トおよびそれを使用し
た太陽電池モジュ−ルに関するものである。なお、本発
明において、シ−トとは、フィルムないしシ−トを意味
し、また、フィルムとは、フィルムないしシ−トを意味
するものである。

【０００２】

【従来の技術】近年、環境問題に対する意識の高まりか
ら、クリ−ンなエネルギ−源としての太陽電池が注目さ
れ、現在、種々の形態からなる太陽電池モジュ−ルが開
発され、提案されている。而して、上記の太陽電池モジ
ュ−ルとしては、通常、表面保護シ−ト層、充填剤層、
光起電力素子としての太陽電池素子、充填剤層、およ
び、裏面保護シ−ト層等の順に積層し、真空吸引して加
熱圧着するラミネ−ション法等を利用して製造されてい
る。ところで、上記の太陽電池モジュ−ルを構成する表
面保護シ−ト層としては、現在、ガラス板等が、最も一
般的に使用され、その他、近年、フッ素系樹脂シ−ト等
の樹脂シ−トも、注目され、その開発が、急速に進めら
れている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】ところで、太陽電池
は、太陽光を吸収して光起電力することから、一般に、
太陽電池モジュ−ルを構成する表面保護シ−ト層として
は、太陽光を透過し、これを吸収する透過性、吸収性に
富むと共に耐光性、耐熱性、耐水性等の諸堅牢性に優
れ、かつ、水分、酸素等の侵入を防止する防湿性に優
れ、更に、表面硬度が高く、かつ、表面の汚れ、ゴミ等
の蓄積を防止し、その保護能力性が高いこと、その他等
の条件が挙げられるものである。しかしながら、太陽電
池モジュ−ルを構成する表面保護シ−ト層として、現
在、最も一般的に使用されているガラス板等は、太陽光
の透過性に優れ、かつ、耐光性、耐熱性、耐水性等の諸
堅牢性に優れ、また、防湿性にも優れ、更に、表面硬度
が硬く、その保護能力性が高い等の利点を有するが、可
塑性、耐衝撃性、軽量化等に欠け、更に、その加工性、
施工性等に劣り、かつ、低コスト化等に欠けるという問
題点がある。また、上記の太陽電池モジュ−ルを構成す
る表面保護シ−ト層として、フッ素系樹脂等の樹脂シ−
トを使用する場合には、ガラス板等と比較して、可塑
性、耐衝撃性、軽量化、低コスト化等に富むものではあ
るが、耐光性、耐熱性、耐水性等の諸堅牢性に劣り、特
に、防湿性等に欠けるという問題点がある。更に、上記
のフッ素系樹脂シ−トの場合には、その表面に、ゴミ等
が蓄積し、表面が汚染し易いという問題点がある。そこ
で本発明は、太陽電池モジュ−ルを構成する表面保護シ
−ト層として、フッ素系樹脂シ−トを使用するも、水
分、酸素等の侵入を防止する防湿性を著しく向上させ、
更に、耐光性、耐熱性、耐水性等の諸堅牢性について
も、その長期的な性能劣化を最小限に抑え、保護能力性
に優れ、また、耐汚染性等にも優れ、より低コストで安
全な太陽電池モジュ−ルを構成する表面保護シ−トを安
定的に提供することである。

【０００４】

【課題を解決するための手段】本発明者は、上記のよう
な太陽電池モジュ−ルを構成する表面保護シ−ト層につ
いての問題点を解決すべく種々研究の結果、太陽電池モ
ジュ−ルを構成する表面保護シ−ト層として使用されて
いるガラス板の特性、光触媒粉末、紫外線吸収剤等に着
目し、まず、フッ素系樹脂シ−トを基材シ−トとして使
用し、その一方の面に、酸化珪素、あるいは、酸化アル
ミニウム等の透明な、ガラス質からなる無機酸化物の蒸
着薄膜を設け、更に、該無機酸化物の蒸着薄膜を設けた
フッ素系樹脂シ−トのいずれかの一方の面または両面
に、光触媒粉末を含む組成物による塗布膜からなる防汚
層および／または紫外線吸収剤を含む組成物による紫外
線吸収剤層を設けて太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−
トを製造し、これを表面保護シ−ト層とし、その無機酸
化物の蒸着薄膜の側を内側にし、充填剤層、光起電力素
子としての太陽電池素子、充填剤層、および、裏面保護
シ−ト層等を順次に積層し、次いで、これらを一体的に
真空吸引して加熱圧着するラミネ−ション法等を利用し
て太陽電池モジュ−ルを製造したところ、特に、水分、
酸素等の侵入を防止する防湿性を著しく向上させ、更
に、耐光性、耐熱性、耐水性等の諸堅牢性についても、
その長期的な性能劣化を最小限に抑え、保護能力性に優
れ、また、ゴミ等が蓄積してその表面を汚染する汚染性
を防止し、より低コストで安全な太陽電池モジュ−ル用
表面保護シ−トおよびそれを使用した太陽電池モジュ−
ルを製造し得ることを見出して本発明を完成したもので
ある。

【０００５】すなわち、本発明は、フッ素系樹脂シ−ト
の一方の面に、無機酸化物の蒸着薄膜を設け、更に、該
無機酸化物の蒸着薄膜を設けたフッ素系樹脂シ−トのい
ずれかの一方の面または両面に、防汚層および／または
紫外線吸収剤層を設けたことを特徴とする太陽電池モジ
ュ−ル用表面保護シ−トおよびそれを使用した太陽電池
モジュ−ルに関するものである。

【０００６】

【発明の実施の形態】上記の本発明について以下に図面
等を用いて更に詳しく説明する。本発明にかかる太陽電
池モジュ−ル用表面保護シ−トおよびそれを使用した太
陽電池モジュ−ルについてその層構成を図面等を用いて
更に具体的に説明すると、図１、図２、図３、図４およ
び図５は、本発明にかかる太陽電池モジュ−ル用表面保
護シ−トの層構成についてその二三例を例示する概略的
断面図であり、図６は、図１に示す本発明にかかる太陽
電池モジュ−ル用表面保護シ−トを使用して製造した太
陽電池モジュ−ルの層構成についてその一例を例示する
概略的断面図である。

【０００７】まず、本発明にかかる太陽電池モジュ−ル
用表面保護シ−トＡは、図１に示すように、フッ素系樹
脂シ−ト１の一方の面に、無機酸化物の蒸着薄膜２を設
け、更に、該無機酸化物の蒸着薄膜２を設けたフッ素系
樹脂シ−ト１のいずれかの一方の面または両面に、防汚
層３および／または紫外線吸収剤層４を設けた構成を基
本構造とするものである。而して、本発明にかかる太陽
電池モジュ−ル用表面保護シ−トについて、具体的な例
を例示すると、図２に示すように、フッ素系樹脂シ−ト
１の一方の面に、無機酸化物の蒸着薄膜２を設け、更
に、該無機酸化物の蒸着薄膜２を設けたフッ素系樹脂シ
−ト１のフッ素系樹脂シ−ト１面に、紫外線吸収剤層
４、および、防汚層３を設け、該防汚層３を最表面とす
ることを特徴とする太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−
トＡ₁ を挙げることができる。また、本発明において、
別の具体例を例示すると、図３に示すように、フッ素系
樹脂シ−ト１の一方の面に、無機酸化物の蒸着薄膜２を
設け、更に、該無機酸化物の蒸着薄膜２を設けたフッ素
系樹脂シ−ト１のフッ素系樹脂シ−ト１面に、防汚層３
を設け、他方の無機酸化物の蒸着薄膜２面に、紫外線吸
収剤層４を設け、上記の防汚層を最表面とすることを特
徴とする太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トＡ₂ を挙
げることができる。更に、本発明において、別の具体例
を例示すると、図４に示すように、フッ素系樹脂シ−ト
１の一方の面に、少なくとも、無機酸化物の蒸着薄膜
２、２が２層以上からなる多層膜５を設け、更に、該多
層膜５を設けたフッ素系樹脂シ−ト１のいずれかの一方
の面または両面に、防汚層３および／または紫外線吸収
剤層４を設けたことを特徴とする太陽電池モジュ−ル用
表面保護シ−トＡ₃ を挙げることができる。更にまた、
本発明にかかる太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トに
ついて、他の具体例を例示すると、図５に示すように、
フッ素系樹脂シ−ト１の一方の面に、まず、化学気相成
長法による無機酸化物の蒸着薄膜２ａを設け、次いで、
該無機酸化物の蒸着薄膜２ａの上に、物理気相成長法に
よる無機酸化物の蒸着薄膜２ｂを設けた２層以上からな
る多層膜５ａを形成し、更に、該多層膜５ａを設けたフ
ッ素系樹脂シ−ト１ののいずれかの一方の面または両面
に、防汚層３および／または紫外線吸収剤層４を設けた
ことを特徴とする太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−ト
Ａ₄ を挙げることができる。

【０００８】次に、本発明において、上記の本発明にか
かる太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トを使用して製
造した太陽電池モジュ−ルについてその一例を例示する
と、上記の図１に示す本発明にかかる太陽電池モジュ−
ル用表面保護シ−トＡを使用した例で説明すると、図６
に示すように、上記の図１に示す本発明にかかる太陽電
池モジュ−ル用表面保護シ−トＡに、その無機酸化物の
蒸着薄膜２の面を内側にし、順次に、充填剤層１１、光
起電力素子としての太陽電池素子１２、充填剤層１３、
および、裏面保護シ−ト層１４等を積層し、次いで、こ
れらを一体として、真空吸引して加熱圧着するラミネ−
ション法等の通常の成形法を利用し、上記の各層を一体
成形体として太陽電池モジュ−ルＴを製造することがで
きる。上記の例示は、本発明にかかる太陽電池モジュ−
ル用表面保護シ−トおよびそれを使用して製造した太陽
電池モジュ−ルについてその一例を例示するものであ
り、本発明はこれにより限定されるものではない。例え
ば、図示しないが、上記の太陽電池モジュ−ルにおいて
は、太陽光の吸収性、補強、その他等の目的の基に、更
に、他の層を任意に加えて積層することができるもので
ある。

【０００９】次に、本発明において、本発明にかかる太
陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トおよびそれを使用し
た太陽電池モジュ−ルを構成する材料、製造法等につい
て更に詳しく説明すると、まず、本発明にかかる太陽電
池モジュ−ル用表面保護シ−ト、太陽電池モジュ−ル等
を構成するフッ素系樹脂シ−トとしては、例えば、ポリ
テトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）、テトラフルオロ
エチレンとペルフルオロアルキルビニルエ−テルとの共
重合体からなるペルフルオロアルコキシ樹脂（ＰＦ
Ａ）、テトラフルオロエチレンとヘキサフルオロプロピ
レンコポリマ−（ＦＥＰ）、テトラフルオロエチレンと
ペルフルオロアルキルビニルエ−テルとヘキサフルオロ
プロピレンコポリマ−（ＥＰＥ）、テトラフルオロエチ
レンとエチレンまたはプロピレンとのコポリマ−（ＥＴ
ＦＥ）、ポリクロロトリフルオロエチレン樹脂（ＰＣＴ
ＦＥ）、エチレンとクロロトリフルオロエチレンとのコ
ポリマ−（ＥＣＴＦＥ）、フッ化ビニリデン系樹脂（Ｐ
ＶＤＦ）、または、フッ化ビニル系樹脂（ＰＶＦ）等か
らなる透明性を有するフッ素系樹脂のフィルムないしシ
−トを使用することができる。なお、本発明において
は、上記のフッ素系樹脂シ−トの中でも、フッ化ビニル
系樹脂（ＰＶＦ）、または、テトラフルオロエチレンと
エチレンまたはプロピレンとのコポリマ−（ＥＴＦＥ）
からなるフッ素系樹脂シ−トが、透明性を有し、太陽光
の透過性等の観点から特に好ましいものである。而し
て、本発明において、上記のようなフッ素系樹脂シ−ト
を採用することにより、該フッ素系樹脂シ−トが有する
優れた特性、特に、機械的特性、耐熱性、光学特性等、
更に、耐光性、耐熱性、耐水性、その他等の超耐候性、
耐汚染性、耐薬品性等の特性を利用し、太陽電池を構成
する表面保護シ−トとするものであり、これにより、従
来のガラス板等と同等の光学特性、耐久性を有し、ま
た、そのフレキシブル性や機械的特性等からガラス板よ
りも軽く、かつ、加工性等に優れ、そのハンドリングし
易い等の利点を有するものである。

【００１０】ところで、本発明において、上記のフッ素
系樹脂シ−トとしては、例えば、上記のフッ素系樹脂の
１種ないしそれ以上を使用し、押し出し法、キャスト成
形法、Ｔダイ法、切削法、インフレ−ション法、その他
等の製膜化法を用いて、上記のフッ素系樹脂を単独で製
膜化する方法、あるいは、２種以上のフッ素系樹脂を使
用して多層共押し出し製膜化する方法、更には、２種以
上のフッ素系樹脂を使用し、製膜化する前に混合して製
膜化する方法等により、フッ素系樹脂のフィルムないし
シ−トを製造し、更に、要すれば、例えば、テンタ−方
式、あるいは、チュ−ブラ−方式等を利用して１軸ない
し２軸方向に延伸してなるフッ素系樹脂のフィルムない
しシ−トを使用することができる。本発明において、フ
ッ素系樹脂シ−トの膜厚としては、１２〜２００μｍ
位、より好ましくは、２５〜１５０μｍ位が望ましい。
また、本発明において、フッ素系樹脂シ−トとしては、
可視光透過率が、９０％以上、好ましくは、９３％以上
であって、入射する太陽光を全て透過する性質を有する
ことが望ましいものである。なお、上記において、フッ
素系樹脂の製膜化に際して、例えば、フィルムの加工
性、耐熱性、耐候性、機械的性質、寸法安定性、抗酸化
性、滑り性、離形性、難燃性、抗カビ性、電気的特性、
その他等を改良、改質する目的で、種々のプラスチック
配合剤や添加剤等を添加することができ、その添加量と
しては、極く微量から数十％まで、その目的に応じて、
任意に添加することができる。また、上記において、一
般的な添加剤としては、例えば、滑剤、架橋剤、酸化防
止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、充填剤、強化剤、補強
剤、帯電防止剤、難燃剤、耐炎剤、発泡剤、防カビ剤、
顔料、その他等を使用することができ、更には、改質用
樹脂等も使用することがてきる。本発明においては、上
記の添加剤の中でも、特に、酸化防止剤、あるいは、紫
外線吸収剤等を練れ込み加工してなるフッ素系樹脂シ−
トを使用することが好ましいものである。

【００１１】また、本発明において、フッ素系樹脂シ−
トの表面は、必要に応じて、例えば、コロナ放電処理、
オゾン処理、酸素ガス若しくは窒素ガス等を用いて低温
プラズマ処理、グロ−放電処理、化学薬品等を用いて処
理する酸化処理、その他等の前処理を任意に施すことが
できる。上記の表面前処理は、無機酸化物の蒸着薄膜を
形成する前に別工程で実施してもよく、また、例えば、
低温プラズマ処理やグロ−放電処理等による表面処理の
場合は、上記の無機酸化物の蒸着薄膜を形成する前処理
としてインライン処理により前処理で行うことができ、
このような場合は、その製造コストを低減することがで
きるという利点がある。上記の表面前処理は、フッ素系
樹脂シ−トと無機酸化物の蒸着薄膜との密着性を改善す
るための方法として実施するものであるが、上記の密着
性を改善する方法として、その他、例えば、フッ素系樹
脂シ−トの表面に、予め、プライマ−コ−ト剤層、アン
ダ−コ−ト剤層、あるいは、蒸着アンカ−コ−ト剤層等
を任意に形成することもできる。上記の前処理のコ−ト
剤層としては、例えば、ポリエステル系樹脂、ポリウレ
タン系樹脂、その他等をビヒクルの主成分とする樹脂組
成物を使用することができる。また、上記において、コ
−ト剤層の形成法としては、例えば、溶剤型、水性型、
あるいは、エマルジョン型等のコ−ト剤を使用し、ロ−
ルコ−ト法、グラビアロ−ルコ−ト法、キスコ−ト法、
その他等のコ−ト法を用いてコ−トすることができ、そ
のコ−ト時期としては、フッ素系樹脂シ−トの製膜後、
あるいは、２軸延伸処理後の後工程として、あるいは、
製膜、あるいは、２軸延伸処理のインライン処理等で実
施することができる。

【００１２】次に、本発明において、本発明にかかる太
陽電池モジュ−ル用表面保護シ−ト、太陽電池モジュ−
ル等を構成する無機酸化物の蒸着薄膜について説明する
と、かかる無機酸化物の蒸着薄膜としては、例えば、物
理気相成長法、または、化学気相成長法、あるいは、そ
の両者を併用して、無機酸化物の蒸着薄膜の１層あるい
は２層以上からなる多層膜を形成して、製造することが
できるものである。上記の物理気相成長法による無機酸
化物の蒸着薄膜について更に詳しく説明すると、かかる
物理気相成長法による無機酸化物の蒸着薄膜としては、
例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレ−
ティング法等の物理気相成長法（Ｐｈｙｓｉｃａｌ Ｖ
ａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ法、ＰＶＤ法）を用い
て無機酸化物の蒸着薄膜を形成することができる。本発
明において、具体的には、金属の酸化物を原料とし、こ
れを加熱してフッ素系樹脂シ−トの上に蒸着する真空蒸
着法、または、原料として金属または金属の酸化物を使
用し、酸素を導入して酸化させてフッ素系樹脂シ−トの
上に蒸着する酸化反応蒸着法、更に酸化反応をプラズマ
で助成するプラズマ助成式の酸化反応蒸着法等を用いて
蒸着膜を形成することができる。本発明において、物理
気相成長法による無機酸化物の薄膜薄膜を形成する方法
について、その具体例を挙げると、図７は、巻き取り式
真空蒸着装置の一例を示す概略的構成図である。図７に
示すように、巻き取り式真空蒸着装置２１の真空チャン
バ−２２の中で、巻き出しロ−ル２３から繰り出すフッ
素系樹脂シ−ト１は、ガイドロ−ル２４、２５を介し
て、冷却したコ−ティングドラム２６に案内される。而
して、上記の冷却したコ−ティングドラム２６上に案内
されたフッ素系樹脂シ−ト１の上に、るつぼ２７で熱せ
られた蒸着源２８、例えば、金属アルミニウム、あるい
は、酸化アルミニウム等を蒸発させ、更に、必要なら
ば、酸素ガス吹出口２９より酸素ガス等を噴出し、これ
を供給しながら、マスク３０、３０を介して、例えば、
酸化アルミニウム等の無機酸化物の蒸着薄膜を成膜化
し、次いで、上記において、例えば、酸化アルミニウム
等の無機酸化物の蒸着薄膜を形成したフッ素系樹脂シ−
ト１を、ガイドロ−ル２５′、２４′を介して送り出
し、巻き取りロ−ル３１に巻き取ることによって、本発
明にかかる物理気相成長法による無機酸化物の蒸着薄膜
を形成することができる。

【００１３】上記において、無機酸化物の蒸着薄膜とし
ては、基本的に金属の酸化物を蒸着した薄膜であれば使
用可能であり、例えば、ケイ素（Ｓｉ）、アルミニウム
（Ａｌ）、マグネシウム（Ｍｇ）、カルシウム（Ｃ
ａ）、カリウム（Ｋ）、スズ（Ｓｎ）、ナトリウム（Ｎ
ａ）、ホウ素（Ｂ）、チタン（Ｔｉ）、鉛（Ｐｂ）、ジ
ルコニウム（Ｚｒ）、イットリウム（Ｙ）等の金属の酸
化物の蒸着薄膜を使用することができる。而して、好ま
しいものとしては、ケイ素（Ｓｉ）、アルミニウム（Ａ
ｌ）等の金属の酸化物の蒸着薄膜を挙げることができ
る。而して、上記の金属の酸化物の蒸着薄膜は、ケイ素
酸化物、アルミニウム酸化物、マグネシウム酸化物等の
ように金属酸化物として呼ぶことができ、その表記は、
例えば、ＳｉＯ_X 、ＡｌＯ_X 、ＭｇＯ_X 等のようにＭＯ
_X （ただし、式中、Ｍは、金属元素を表し、Ｘの値は、
金属元素によってそれぞれ範囲がことなる。）で表され
る。また、上記のＸの値の範囲としては、ケイ素（Ｓ
ｉ）は、０〜２、アルミニウム（Ａｌ）は、０〜１．
５、マグネシウム（Ｍｇ）は、０〜１、カルシウム（Ｃ
ａ）は、０〜１、カリウム（Ｋ）は、０〜０．５、スズ
（Ｓｎ）は、０〜２、ナトリウム（Ｎａ）は、０〜０．
５、ホウ素（Ｂ）は、０〜１、５、チタン（Ｔｉ）は、
０〜２、鉛（Ｐｂ）は、０〜１、ジルコニウム（Ｚｒ）
は０〜２、イットリウム（Ｙ）は、０〜１．５の範囲の
値をとることができる。上記において、Ｘ＝０の場合、
完全な金属であり、透明ではなく全く使用することがで
きない、また、Ｘの範囲の上限は、完全に酸化した値で
ある。本発明において、一般的に、ケイ素（Ｓｉ）、ア
ルミニウム（Ａｌ）以外は、使用される例に乏しく、ケ
イ素（Ｓｉ）は、１．０〜２．０、アルミニウム（Ａ
ｌ）は、０．５〜１．５の範囲の値のものを使用するこ
とができる。本発明において、上記のような無機酸化物
の薄膜の膜厚としては、使用する金属、または金属の酸
化物の種類等によって異なるが、例えば、５０〜２００
０Å位、好ましくは、１００〜１０００Å位の範囲内で
任意に選択して形成することが望ましい。また、本発明
においては、無機酸化物の蒸着薄膜としては、無機酸化
物の蒸着薄膜の１層だけではなく、２層あるいはそれ以
上を積層した積層体の状態でもよく、また、使用する金
属、または金属の酸化物としては、１種または２種以上
の混合物で使用し、異種の材質で混合した無機酸化物の
薄膜を構成することもできる。

【００１４】次にまた、本発明において、上記の化学気
相成長法による無機酸化物の蒸着薄膜について更に説明
すると、かかる化学気相成長法による無機酸化物の蒸着
薄膜としては、例えば、プラズマ化学気相成長法、熱化
学気相成長法、光化学気相成長法等の化学気相成長法
（Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏ
ｎ法、ＣＶＤ法）等を用いて無機酸化物の蒸着薄膜を形
成することができる。本発明においては、具体的には、
フッ素系樹脂シ−トの一方の面に、有機珪素化合物等の
蒸着用モノマ−ガスを原料とし、キャリヤ−ガスとし
て、アルゴンガス、ヘリウムガス等の不活性ガスを使用
し、更に、酸素供給ガスとして、酸素ガス等を使用し、
低温プラズマ発生装置等を利用する低温プラズマ化学気
相成長法（ＣＶＤ法）を用いて酸化珪素等の無機酸化物
の蒸着薄膜を形成することができる。上記において、低
温プラズマ発生装置としては、例えば、高周波プラズ
マ、パルス波プラズマ、マイクロ波プラズマ等の発生装
置を使用することがてき、而して、本発明においては、
高活性の安定したプラズマを得るためには、高周波プラ
ズマ方式による発生装置を使用することが望ましい。

【００１５】具体的に、上記の低温プラズマ化学気相成
長法による無機酸化物の蒸着薄膜の形成法についてその
一例を例示して説明すると、図８は、上記のプラズマ化
学気相成長法による無機酸化物の蒸着薄膜の形成法につ
いてその概要を示す低温プラズマ化学気相成長装置の概
略的構成図である。上記の図８に示すように、本発明に
おいては、プラズマ化学気相成長装置４１の真空チャン
バ−４２内に配置された巻き出しロ−ル４３からフッ素
系樹脂シ−ト１を繰り出し、更に、該フッ素系樹脂シ−
ト１を、補助ロ−ル４４を介して所定の速度で冷却・電
極ドラム４５周面上に搬送する。而して、本発明におい
ては、ガス供給装置４６、４７および、原料揮発供給装
置４８等から酸素ガス、不活性ガス、有機珪素化合物等
の蒸着用モノマ−ガス、その他等を供給し、それらから
なる蒸着用混合ガス組成物を調整しなから原料供給ノズ
ル４９を通して真空チャンバ−４２内に該蒸着用混合ガ
ス組成物を導入し、そして、上記の冷却・電極ドラム４
５周面上に搬送されたフッ素系樹脂シ−ト１の上に、グ
ロ−放電プラズマ５０によってプラズマを発生させ、こ
れを照射して、酸化珪素等の無機酸化物の蒸着薄膜を形
成し、製膜化する。本発明においては、その際に、冷却
・電極ドラム４５は、チャンバ−外に配置されている電
源５１から所定の電力が印加されており、また、冷却・
電極ドラム４５の近傍には、マグネット５２を配置して
プラズマの発生が促進されており、次いで、上記で酸化
珪素等の無機酸化物の蒸着薄膜を形成したフッ素系樹脂
シ−ト１は、補助ロ−ル５３を介して巻き取りロ−ル５
４に巻き取って、本発明にかかるプラズマ化学気相成長
法による無機酸化物の蒸着薄膜を製造することができる
ものである。なお、図中、５５は、真空ポンプを表す。
上記の例示は、その一例を例示するものであり、これに
よって本発明は限定されるものではないことは言うまで
もないことである。図示しないが、本発明においては、
無機酸化物の蒸着薄膜としては、無機酸化物の蒸着薄膜
の１層だけではなく、２層あるいはそれ以上を積層した
積層体の状態でもよく、また、使用する材料も１種また
は２種以上の混合物で使用し、また、異種の材質で混合
した無機酸化物の蒸着薄膜を構成することもできる。

【００１６】上記において、酸化珪素等の無機酸化物の
蒸着薄膜を形成する有機珪素化合物等の蒸着用モノマ−
ガスとしては、例えば、１．１．３．３−テトラメチル
ジシロキサン、ヘキサメチルジシロキサン、ビニルトリ
メチルシラン、メチルトリメチルシラン、ヘキサメチル
ジシラン、メチルシラン、ジメチルシラン、トリメチル
シラン、ジエチルシラン、プロピルシラン、フェニルシ
ラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシ
シラン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラ
ン、フェニルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシ
シラン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、その他
等を使用することができる。本発明において、上記のよ
うな有機珪素化合物の中でも、１．１．３．３−テトラ
メチルジシロキサン、または、ヘキサメチルジシロキサ
ンを原料として使用することが、その取り扱い性、形成
された蒸着膜の特性等から、特に、好ましい原料であ
る。また、上記において、不活性ガスとしては、例え
ば、アルゴンガス、ヘリウムガス等を使用することがで
きる。

【００１７】本発明において、上記で形成される酸化珪
素の蒸着薄膜は、有機珪素化合物等のモノマ−ガスと酸
素ガス等とが化学反応し、その反応生成物がフッ素系樹
脂シ−トの上に密接着し、緻密な、柔軟性等に富む薄膜
を形成することができ、通常、一般式ＳｉＯ_X （ただ
し、Ｘは、０〜２の数を表す）で表される酸化珪素を主
体とする連続状の蒸着薄膜である。而して、上記の酸化
珪素の蒸着薄膜としては、透明性、バリア性等の点か
ら、一般式ＳｉＯ_X （ただし、Ｘは、１．３〜１．９の
数を表す。）で表される酸化珪素の蒸着膜を主体とする
薄膜であることが好ましいものである。上記において、
Ｘの値は、モノマ−ガスと酸素ガスのモル比、プラズマ
のエネルギ−等により変化するが、一般的に、Ｘの値が
小さくなればガス透過度は小さくなるが、膜自身が黄色
性を帯び、透明性が悪くなる。また、上記の酸化珪素の
蒸着薄膜は、珪素（Ｓｉ）と酸素（Ｏ）を必須構成元素
として有し、更に、炭素（Ｃ）と水素（Ｈ）のいずれが
一方、または、その両者の元素を微量構成元素として含
有する酸化珪素の蒸着膜からなり、かつ、その膜厚が、
５０Å〜２０００Åの範囲であり、更に、上記の必須構
成元素と微量構成元素の構成比率が、膜厚方向において
連続的に変化しているものである。更に、上記の酸化珪
素の蒸着薄膜は、炭素からなる化合物を含有する場合に
は、その膜厚の深さ方向において炭素の含有量が減少し
ていることを特徴とするものである。

【００１８】而して、本発明において、上記の酸化珪素
の蒸着薄膜について、例えば、Ｘ線光電子分光装置（Ｘ
ｒａｙ Ｐｈｏｔｏｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｓｐｅｃｔｒｏ
ｓｃｏｐｙ、ＸＰＳ）、二次イオン質量分析装置（Ｓｅ
ｃｏｎｄａｒｙ Ｉｏｎ Ｍａｓｓ Ｓｐｅｃｔｒｏｓ
ｃｏｐｙ、ＳＩＭＳ）等の表面分析装置を用い、深さ方
向にイオンエッチングする等して分析する方法を利用し
て、酸化珪素の蒸着薄膜の元素分析を行うことより、上
記のような物性を確認することができるものである。ま
た、本発明において、上記の酸化珪素の蒸着薄膜の膜厚
としては、膜厚５０Å〜２０００Å位であることが望ま
しく、具体的には、その膜厚としては、１００〜１００
０Å位が望ましく、而して、上記において、１０００
Å、更には、２０００Åより厚くなると、その膜にクラ
ック等が発生し易くなるので好ましくなく、また、１０
０Å、更には、５０Å未満であると、バリア性の効果を
奏することが困難になることから好ましくないものであ
る。上記のおいて、その膜厚は、例えば、株式会社理学
製の蛍光Ｘ線分析装置（機種名、ＲＩＸ２０００型）を
用いて、ファンダメンタルパラメ−タ−法で測定するこ
とができる。また、上記において、上記の酸化珪素の蒸
着薄膜の膜厚を変更する手段としては、蒸着膜の体積速
度を大きくすること、すなわち、モノマ−ガスと酸素ガ
ス量を多くする方法や蒸着する速度を遅くする方法等に
よって行うことができる。

【００１９】ところで、本発明において、本発明にかか
る太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−ト、太陽電池モジ
ュ−ル等を構成する無機酸化物の蒸着薄膜として、例え
ば、物理気相成長法と化学気相成長法の両者を併用して
無機酸化物の蒸着薄膜の２層以上からなる多層膜を形成
する場合には、まず、フッ素系樹脂シ−トの上に、化学
気相成長法により、緻密で、柔軟性に富み、比較的にク
ラックの発生を防止し得る無機酸化物の蒸着薄膜を設
け、次いで、該無機酸化物の蒸着薄膜の上に、物理気相
成長法による無機酸化物の蒸着薄膜を設けて、２層以上
の多層膜からなる無機酸化物の蒸着薄膜を構成すること
が望ましいものである。

【００２０】次に、本発明において、本発明にかかる太
陽電池モジュ−ル用表面保護シ−ト、太陽電池モジュ−
ル等を構成する防汚層について説明すると、かかる防汚
層としては、酸化チタンを主成分とする光触媒粉末、若
しくはゾルに含まれる微粒子からなる組成物による塗布
膜から構成されるものである。上記において、光触媒粉
末を含む組成物による塗布膜としては、例えば、光触媒
粉末の１種ないし２種以上に、ビヒクルとしての結合剤
の１種ないし２種以上を添加し、更に、必要ならば、例
えば、コ−ティング膜の加工性、耐熱性、耐光性、耐水
性、耐候性、機械的ないし化学的性質、寸法安定性、抗
酸化性、滑り性、離形性、難燃性、抗カビ性、電気的特
性、その他等を改良、改質する目的で、種々の樹脂用添
加剤、例えば、滑剤、架橋剤、酸化防止剤、紫外線吸収
剤、光安定剤、充填剤、強化剤、補強剤、帯電防止剤、
難燃剤、耐炎剤、発泡剤、防カビ剤、顔料、その他等の
１種ないし２種以上を太陽光の透過に影響しない範囲内
で任意に添加し、更に、溶剤、希釈剤等で十分に混練し
て、例えば、溶剤型、水性型、あるいは、エマルジョン
型等の組成物を調整し、次いで、該組成物を、例えば、
フロ−ティングナイフコ−ト法、ナイフオ−バ−ロ−ル
コ−ト法、インバ−ティドナイフコ−ト法、スクイ−ズ
ロ−ルコ−ト法、リバ−スロ−ルコ−ト法、ロ−ルコ−
ト法、グラビアロ−ルコ−ト法、キスロ−ルコ−ト法、
エア−ブレ−ドコ−ト法、エクストル−ジョンコ−ト
法、カ−テンフロ−コ−ト法、その他等のコ−ティング
法、あるいは、グラビア印刷、オフセット印刷、シルク
スクリ−ン印刷、転写印刷、その他等の印刷法を用い
て、塗布ないし印刷することにより塗布膜を形成するこ
とができる。上記において、塗布膜の膜厚としては、
０．１〜１０ｇ／ｍ² 位（乾燥状態）、より好ましく
は、０．５〜１ｇ／ｍ² 位が望ましい。

【００２１】上記において、光触媒粉末としては、太陽
光等の光の作用により、例えば、樹脂が、酸化等により
劣化、破壊、あるいは、分解し、または、低分子化し、
防汚層の表面に付着した塵埃等を、その粘着性を破壊
し、風雨等で洗浄、除去し、その表面を清掃に保持する
ことを容易にする作用を有する化学物質を使用すること
ができる。具体的には、例えば、光触媒粉末としては、
例えば、ＴｉＯ₂ 、ＺｎＯ、ＳｒＴｉＯ₃ 、ＣｄＳ、Ｃ
ａＰ、ＩｎＰ、ＧａＡｓ、ＢａＴｉＯ₂ 、Ｋ₂ Ｔｉ
Ｏ₃ 、Ｋ₂ ＮｂＯ₃ 、Ｆｅ₂ Ｏ₃ 、Ｔａ₂ Ｏ₃ 、Ｗ
Ｏ₃ 、ＳｎＯ₂ 、Ｂｉ₂ Ｏ₈ 、ＮｉＯ、Ｃｕ₂ Ｏ、Ｓｉ
Ｃ、ＳｉＯ₂ 、ＭｏＳ₂ 、ＩｎＰｂ、ＲｕＯ₂ 、ＣｅＯ
₂ 等、あるいは、これらにＰｔ、Ｒｈ、ＲｕＯ₂ 、Ｎ
ｂ、Ｃｕ、Ｓｎ、Ｎｉ、Ｆｅ等の金属および／またはこ
れらの金属酸化物とを混合した組成物を使用することが
できる。上記の組成物において、光触媒粉末の含有量と
しては、その粒子形状、密度等によって異なるが、約
０．１〜３０重量％位が好ましい。

【００２２】また、上記において、ビヒクルとしての結
合剤としては、製膜性を有し、更に、耐光性、耐熱性、
耐水性等の諸堅牢性に優れ、また、塗布膜の硬度を増
し、耐擦傷性、耐磨耗性等に優れ、特に、光触媒粉末の
光活性に影響を受けない結合剤を使用することができ、
具体的には、例えば、ポリエチレン系樹脂、ポリプロピ
レン系樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合体、アイオノ
マ−樹脂、エチレン−アクリル酸エチル共重合体、エチ
レン−アクリル酸またはメタクリル酸共重合体、メチル
ペンテンポリマ−、ポリブテン系樹脂、ポリ塩化ビニル
系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、塩化ビニル−塩化ビニ
リデン共重合体、ポリ（メタ）アクリル系樹脂、ポリア
クリルニトリル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、アクリロ
ニトリル−スチレン共重合体（ＡＳ系樹脂）、アクリロ
ニトリル−ブタジェン−スチレン共重合体（ＡＢＳ系樹
脂）、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリカ
−ボネ−ト系樹脂、ポリビニルアルコ−ル系樹脂、エチ
レン−酢酸ビニル共重合体のケン化物、フッ素系樹脂、
ジエン系樹脂、ポリアセタ−ル系樹脂、ポリウレタン系
樹脂、エポキシ系樹脂、フェノ−ル系樹脂、アミノプラ
スト系樹脂、シリコ−ン系樹脂、ニトロセルロ−ス、無
機系ポリマ−、その他等の公知の樹脂、あるいは、その
変性樹脂、その他等の１種ないし２種以上を使用するこ
とができる。而して、本発明においては、光触媒粉末の
影響を受けない結合剤としては、上記のような結合剤の
中でも、特に、低融点ガラス、アルカリ金属シリケ−
ト、ホスフェ−ト、または、コロイダルシリカ、その他
等の無機系ポリマ−の１種ないしそれ以上を使用するこ
とが好ましいものである。

【００２３】ところで、本発明においては、上記の防汚
層を構成する塗布膜中の光触媒粉末の光活性が、該防汚
層の下層に位置する、例えば、紫外線吸収剤層、あるい
は、フッ素系樹脂シ−ト等に影響を与え、その劣化、分
解、あるいは、破壊等に起こさないように、その相互の
接触を遮断する無機質膜等からなる光触媒粉末の活性を
遮断する活性遮断層を設けることができる。上記の活性
遮断層は、通常、防汚層の下層に設けるものである。上
記の活性遮断層を構成する無機質膜としては、例えば、
前述の透明性を有する酸化珪素、あるいは、酸化アルミ
ニウム等の無機酸化物の蒸着膜等を使用することができ
る。上記の無機酸化物の蒸着膜の形成は、前述と同様に
して製膜化して、活性遮断層を形成することができ、そ
の膜厚としては、１００〜３０００Å位、より好ましく
は、１００〜１５００Å位が望ましい。

【００２４】また、本発明においては、上記の防汚層の
密接着性を強固にするために、該防汚層を構成する光触
媒粉末を含む組成物による塗布膜を設けるに際し、必要
ならば、接着用プライマ−層等を設けることができる。
上記のプライマ−層を構成する材料としては、例えば、
防汚層中の光触媒粉末の光活性等によって分解されない
無機系のプライマ−層を構成する材料を使用することが
でき、具体的には、有機チタン化合物として代表的なテ
トライソプロピルチタネ−ト、テトラブチルチタネ−
ト、テトラステアリルチタネ−ト等のアルキルチタネ−
トやチタンキレ−ト等の加水分解による生成物等を使用
することができ、その他、無機ポリシラザン（ペルヒド
ロポリシラザラン）等も使用することができる。本発明
において、特に、加水分解の速度が極めて早く、溶液を
塗工後に分解できるテトライソプロピルチタネ−ト、テ
トラブチルチタネ−トが好ましい材料である。

【００２５】次に、本発明において、本発明にかかる太
陽電池モジュ−ル用表面保護シ−ト、太陽電池モジュ−
ル等を構成する紫外線吸収剤層について説明すると、か
かる紫外線吸収剤層としては、例えば、紫外線吸収剤の
１種ないし２種以上に、ビヒクルとしての結合剤の１種
ないし２種以上を添加し、更に、必要ならば、例えば、
コ−ティング膜の加工性、耐熱性、耐光性、耐水性、耐
候性、機械的ないし化学的性質、寸法安定性、抗酸化
性、滑り性、離形性、難燃性、抗カビ性、電気的特性、
その他等を改良、改質する目的で、種々の樹脂用添加
剤、例えば、滑剤、架橋剤、酸化防止剤、安定剤、充填
剤、強化剤、補強剤、帯電防止剤、難燃剤、耐炎剤、発
泡剤、防カビ剤、顔料、その他等の１種ないし２種以上
を太陽光の透過に影響しない範囲内で任意に添加し、更
に、溶剤、希釈剤等で十分に混練して、例えば、溶剤
型、水性型、あるいは、エマルジョン型等の組成物を調
整し、次いで、該組成物を、例えば、フロ−ティングナ
イフコ−ト法、ナイフオ−バ−ロ−ルコ−ト法、インバ
−ティドナイフコ−ト法、スクイ−ズロ−ルコ−ト法、
リバ−スロ−ルコ−ト法、ロ−ルコ−ト法、グラビアロ
−ルコ−ト法、キスロ−ルコ−ト法、エア−ブレ−ドコ
−ト法、エクストル−ジョンコ−ト法、カ−テンフロ−
コ−ト法、その他等のコ−ティング法、あるいは、グラ
ビア印刷、オフセット印刷、シルクスクリ−ン印刷、転
写印刷、その他等の印刷法を用いて、塗布ないし印刷す
ることにより塗布膜を形成することができる。上記にお
いて、塗布膜の膜厚としては、０．１〜１０ｇ／ｍ² 位
（乾燥状態）、より好ましくは、１〜５ｇ／ｍ² 位が望
ましい。

【００２６】上記において、紫外線吸収剤としては、太
陽光中の有害な紫外線を吸収して、分子内で無害な熱エ
ネルギ−へと変換し、高分子中の光劣化開始の活性種が
励起されるのを防止するものであり、例えば、ベンゾフ
ェノン系、ベンゾトリアゾ−ル系、サルチレ−ト系、ア
クリルニトリル系、金属錯塩系、ヒンダ−ドアミン系、
超微粒子酸化チタン（粒子径、０．０１〜０．０６μ
ｍ）あるいは超微粒子酸化亜鉛（０．０１〜０．０４μ
ｍ）等の無機系等の紫外線吸収剤の１種ないしそれ以上
を使用することができる。上記の組成物において、紫外
線吸収剤の含有量としては、その粒子形状、密度等によ
って異なるが、約０．１〜２０重量％位が好ましい。ま
た、上記において、ビヒクルとしての結合剤としては、
前述の防汚層を構成する光触媒粉末を含む組成物による
塗布膜を形成する際に使用する結合剤を同様に使用する
ことができる。

【００２７】次に、本発明において、太陽電池モジュ−
ルを構成する太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トの下
に積層する充填剤層について説明すると、かかる充填剤
層としては、太陽光が入射し、これを透過して吸収する
ことから透明性を有することが必要であり、また、表面
保護シ−トとの接着性を有することも必要であり、更
に、光起電力素子としての太陽電池素子の表面の平滑性
を保持する機能を果たすために熱可塑性を有すること、
更には、光起電力素子としての太陽電池素子の保護とう
いことから、耐スクラッチ性、衝撃吸収性等に優れてい
ることが必要である。具体的には、上記の充填剤層とし
ては、例えば、フッ素系樹脂、エチレン−酢酸ビニル共
重合体、アイオノマ−樹脂、エチレン−アクリル酸、ま
たは、メタクリル酸共重合体、ポリエチレン樹脂、ポリ
プロピレン樹脂、ポリエチレンあるいはポリプロピレン
等のポリオレフィン系樹脂をアクリル酸、イタコン酸、
マレイン酸、フマ−ル酸等の不飽和カルボン酸で変性し
た酸変性ポリオレンフィン系樹脂、ポリビニルブチラ−
ル樹脂、シリコ−ン系樹脂、エポキシ系樹脂、（メタ）
アクリル系樹脂、その他等の樹脂の１種ないし２種以上
の混合物を使用することができる。なお、本発明におい
ては、上記の充填剤層を構成する樹脂には、耐熱性、耐
光性、耐水性等の耐候性等を向上させるために、その透
明性を損なわない範囲で、例えば、架橋剤、熱酸化防止
剤、光安定剤、紫外線吸収剤、光酸化防止剤、その他等
の添加剤を任意に添加し、混合することができるもので
ある。而して、本発明においては、太陽光の入射側の充
填剤としては、耐光性、耐熱性、耐水性等の耐候性を考
慮すると、フッ素系樹脂、エチレン−酢酸ビニル系樹脂
が望ましい素材である。なお、上記の充填剤層の厚さと
しては、２００〜１０００μｍ位、好ましくは、３５０
〜６００μｍ位が望ましい。

【００２８】次に、本発明において、太陽電池モジュ−
ルを構成する光起電力素子としての太陽電池素子につい
て説明すると、かかる太陽電池素子としては、従来公知
のもの、例えば、結晶性シリコン太陽電子素子、多結晶
シリコン太陽電池素子、アモルファスシリコン太陽電池
素子、銅インジウムセレナイド太陽電池素子、化合物半
導体太陽電池素子、その他等を使用することができる。
更に、本発明においては、薄膜多結晶シリコン太陽電池
素子、薄膜微結晶シリコン太陽電池素子、薄膜結晶シリ
コン太陽電池素子とアモルファス太陽電池素子のハイブ
リット素子、その他等を使用することができる。

【００２９】次に、本発明において、太陽電池モジュ−
ルを構成する光起電力素子の下に積層する充填剤層につ
いて説明すると、かかる充填剤層としては、上記の太陽
電池モジュ−ル用表面保護シ−トの下に積層する充填剤
層と同様に、裏面保護シ−トとの接着性を有することも
必要であり、更に、光起電力素子としての太陽電池素子
の裏面の平滑性を保持する機能を果たすために熱可塑性
を有すること、更には、光起電力素子としての太陽電池
素子の保護とういことから、耐スクラッチ性、衝撃吸収
性等に優れていることが必要である。しかし、上記の太
陽電池モジュ−ルを構成する光起電力素子の下に積層す
る充填剤層としては、上記の太陽電池モジュ−ル用表面
保護シ−トの下に積層する充填剤層と異なり、必ずも、
透明性を有することを必要としないものである。具体的
には、上記の充填剤層としては、前述の太陽電池モジュ
−ル用表面保護シ−トの下に積層する充填剤層と同様
に、例えば、フッ素系樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重
合体、アイオノマ−樹脂、エチレン−アクリル酸、また
は、メタクリル酸共重合体、ポリエチレン樹脂、ポリプ
ロピレン樹脂、ポリエチレンあるいはポリプロピレン等
のポリオレフィン系樹脂をアクリル酸、イタコン酸、マ
レイン酸、フマ−ル酸等の不飽和カルボン酸で変性した
酸変性ポリオレンフィン系樹脂、ポリビニルブチラ−ル
樹脂、シリコ−ン系樹脂、エポキシ系樹脂、（メタ）ア
クリル系樹脂、その他等の樹脂の１種ないし２種以上の
混合物を使用することができる。なお、本発明において
は、上記の充填剤層を構成する樹脂には、耐熱性、耐光
性、耐水性等の耐候性等を向上させるために、その透明
性を損なわない範囲で、例えば、架橋剤、熱酸化防止
剤、光安定剤、紫外線吸収剤、光酸化防止剤、その他等
の添加剤を任意に添加し、混合することができるもので
ある。なお、上記の充填剤層の厚さとしては、２００〜
１０００μｍ位、より好ましくは、３５０〜６００μｍ
位が望ましい。

【００３０】次に、本発明において、太陽電池モジュ−
ルを構成する裏面保護シ−ト層について説明すると、か
かる裏面保護シ−トとしては、絶縁性の樹脂のフィルム
ないしシ−トを使用することができ、更に、耐熱性、耐
光性、耐水性等の耐候性を有し、物理的あるいは化学的
強度性、強靱性等に優れ、更に、光起電力素子としての
太陽電池素子の保護とういことから、耐スクラッチ性、
衝撃吸収性等に優れていることが必要である。上記の裏
面保護シ−トとしては、具体的には、例えば、ポリアミ
ド系樹脂（各種のナイロン）、ポリエステル系樹脂、ポ
リエチレン系樹脂、ポリプロピレン系樹脂、ポリスチレ
ン系樹脂、ポリカ−ボネ−ト系樹脂、アセタ−ル系樹
脂、セルロ−ス系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、その
他等の各種の樹脂のフィルムないしシ−トを使用するこ
とができる。上記の樹脂のフィルムないしシ−トとして
は、例えば、２軸延伸した樹脂のフィルムないしシ−ト
も使用することができる。また、上記の樹脂のフィルム
ないしシ−トにおいて、その膜厚としては、１２〜２０
０μｍ位、より好ましくは、２５〜１５０μｍ位が望ま
しい。

【００３１】なお、本発明において、本発明にかかる太
陽電池モジュ−ルを製造する際しては、その強度、耐候
性、耐スクラッチ性、その他等の諸堅牢性を向上させる
ために、その他の素材、例えば、低密度ポリエチレン、
中密度ポリエチレン、高密度ポリエチレン、線状低密度
ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−プロピレン
共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体、アイオノマ
−樹脂、エチレン−アクリル酸エチル共重合体、エチレ
ン−アクリル酸またはメタクリル酸共重合体、メチルペ
ンテンポリマ−、ポリブテン系樹脂、ポリ塩化ビニル系
樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹
脂、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合体、ポリ（メ
タ）アクリル系樹脂、ポリアクリルニトリル系樹脂、ポ
リスチレン系樹脂、アクリロニトリル−スチレン共重合
体（ＡＳ系樹脂）、アクリロニトリル−ブタジェン−ス
チレン共重合体（ＡＢＳ系樹脂）、ポリエステル系樹
脂、ポリアミド系樹脂、ポリカ−ボネ−ト系樹脂、ポリ
ビニルアルコ−ル系樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合
体のケン化物、フッ素系樹脂、ジエン系樹脂、ポリアセ
タ−ル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ニトロセルロ−
ス、その他等の公知の樹脂のフィルムないしシ−トから
任意に選択して使用することができる。本発明におい
て、上記のフィルムないしシ−トは、未延伸、一軸ない
し二軸方向に延伸されたもの等のいずれのものでも使用
することができる。また、その厚さは、任意であるが、
数μｍから３００μｍ位の範囲から選択して使用するこ
とができる。更に、本発明においては、フィルムないし
シ−トとしては、押し出し成膜、インフレ−ション成
膜、コ−ティング膜等のいずれの性状の膜でもよい。

【００３２】次に、本発明において、上記のような材料
を使用して太陽電池モジュ−ルを製造する方法について
説明すると、かかる製造法としては、公知の方法、例え
ば、上記に挙げた本発明にかかる太陽電池モジュ−ル用
表面保護シ−トを使用し、これに、その無機酸化物の蒸
着薄膜の面を内側にし、順次に、充填剤層、光起電力素
子としての太陽電池素子、充填剤層、および、裏面保護
シ−ト層等を積層し、更に、必要ならば、各層間に、そ
の他の素材を任意に積層し、次いで、これらを、真空吸
引等により一体化して加熱圧着するラミネ−ション法等
の通常の成形法を利用し、上記の各層を一体成形体とし
て加熱圧着成形して、太陽電池モジュ−ルを製造するこ
とができる。上記において、必要ならば、各層間の接着
性等を高めるために、（メタ）アクリル系樹脂、オレフ
ィン系樹脂、ビニル系樹脂、その他等の樹脂をビヒクル
の主成分とする加熱溶融型接着剤、溶剤型接着剤、光硬
化型接着剤、その他等を使用することができる。

【００３３】

【実施例】次に、本発明について実施例を挙げて更に具
体的に説明する。 実施例１ （１）．基材として、厚さ５０μｍのポリフッ化ビニル
樹脂シ−ト（ＰＶＦ）を使用し、これを巻き取り式真空
蒸着装置の送り出しロ−ルに装着し、次いで、これをコ
−ティングドラムの上に繰り出して、下記の条件で、ア
ルミニウムを蒸着源に用い、酸素ガスを供給しながら、
エレクトロンビ−ム（ＥＢ）加熱方式による反応真空蒸
着法により、上記のポリフッ化ビニル樹脂フィルムの易
接着処理面に、膜厚３００Åの酸化アルミニウムの蒸着
薄膜を形成した。 （蒸着条件） 蒸着源：アルミニウム 真空チャンバ−内の真空度：７．５×１０^-6ｍｂａｒ 蒸着チャンバ−内の真空度：２．１×１０^-6ｍｂａｒ ＥＢ出力：４０ＫＷ フィルム搬送速度：６００ｍ／分 （２）．次に、上記で膜厚３００Åの酸化アルミニウム
の蒸着薄膜を形成したポリフッ化ビニル樹脂フィルムに
ついて、その蒸着直後に、その酸化アルミニウムの蒸着
薄膜面に、グロ−放電プラズマ発生装置を使用し、プラ
ズマ出力、１５００Ｗ、酸素ガス（Ｏ₂ ）：アルゴンガ
ス（Ａｒ）＝１９：１からなる混合ガスを使用し、混合
ガス圧６Ｘ１０^-5Ｔｏｏｒ、処理速度４２０ｍ／ｍｉｎ
で酸素／アルゴン混合ガスプラズマ処理を行った。次
に、上記の酸化アルミニウムの蒸着薄膜のプラズマ処理
面に、０．０３μｍの酸化チタン超微粒子５重量部とエ
チレン−ビニルアルコ−ル共重合体液９５重量部（固形
分３０％溶液）からなる紫外線吸収剤組成物をグラビア
ロ−ルコ−ト法を用いてコ−ティングし、膜厚０．５ｇ
／ｍ² （乾燥状態）の紫外線吸収剤層を形成して、本発
明にかかる表面保護シ−トを製造した。 （３）．次に、上記で製造した表面保護シ−トの酸化ア
ルミニウムの蒸着薄膜のプラズマ処理面に、アモルファ
スシリコンからなる太陽電池素子を並列に配置した厚さ
３８μｍの２軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィル
ム（受光面）を、その太陽電池素子面を対向させ、アク
リル系樹脂の接着剤層を介して積層して、本発明にかか
る太陽電池モジュ−ルを製造した。 （４）．なお、上記において、上記の基材としての厚さ
５０μｍのポリフッ化ビニル樹脂シ−ト（ＰＶＦ）に代
えて、厚さ５０μｍのエチレン−テトラフルオロエチレ
ンコポリマ−からなるフッ素系樹脂シ−ト（ＥＴＦＥ）
を使用し、上記と全く同様にして、同様な本発明にかか
る表面保護シ−ト、および、太陽電池モジュ−ルを製造
することができた。

【００３４】実施例２ （１）．基材として、厚さ５０μｍのポリフッ化ビニル
樹脂フィルム（ＰＶＦ）を使用し、これをプラズマ化学
気相成長装置の送り出しロ−ルに装着し、下記の条件で
厚さ３００Åの酸化珪素の蒸着薄膜を上記のポリフッ化
ビニル樹脂フィルムの易接着処理面に形成した。 （蒸着条件） 反応ガス混合比：ヘキサメチルジシロキサン：酸素ガ
ス：ヘリウム＝１：１０：１０（単位：ｓｌｍ） 真空チャンバ−内の真空度：５．０×１０^-6ｍｂａｒ 蒸着チャンバ−内の真空度：６．０×１０^-2ｍｂａｒ 冷却・電極ドラム供給電力：２０ｋＷ フィルムの搬送速度：８０ｍ／分 蒸着面：コロナ処理面 （２）．次に、上記で膜厚３００Åの酸化珪素の蒸着薄
膜を形成したポリフッ化ビニル樹脂フィルムについて、
その蒸着直後に、その酸化珪素の蒸着薄膜面に、出力、
１０ｋＷ、処理速度１００ｍ／ｍｉｎでコロナ放電処理
を行って、蒸着薄膜面の表面張力を３５ｄｙｎｅより６
０ｄｙｎｅに向上させた。次に、上記の酸化珪素の蒸着
薄膜のコロナ処理面に、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤
１重量部と熱硬化型アクリル系樹脂液９９重量部（固形
分３０％溶液）からなる紫外線吸収剤組成物をグラビア
ロ−ルコ−ト法を用いてコ−ティングし、膜厚２ｇ／ｍ
² （乾燥状態）の紫外線吸収剤層を形成して、本発明に
かかる表面保護シ−トを製造した。 （３）．次に、上記で製造した表面保護シ−トの酸化珪
素の蒸着薄膜のコロナ処理面に、アモルファスシリコン
からなる太陽電池素子を並列に配置した厚さ３８μｍの
２軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルム（受光
面）を、その太陽電池素子面を対向させ、アクリル系樹
脂の接着剤層を介して積層して、本発明にかかる太陽電
池モジュ−ルを製造した。 （４）．なお、上記において、上記の基材としての厚さ
５０μｍのポリフッ化ビニル樹脂シ−ト（ＰＶＦ）に代
えて、厚さ５０μｍのエチレン−テトラフルオロエチレ
ンコポリマ−からなるフッ素系樹脂シ−ト（ＥＴＦＥ）
を使用し、上記と全く同様にして、同様な本発明にかか
る表面保護シ−ト、および、太陽電池モジュ−ルを製造
することができた。

【００３５】実施例３ （１）．基材として、厚さ５０μｍのポリフッ化ビニル
樹脂フィルム（ＰＶＦ）を使用し、これをプラズマ化学
気相成長装置の送り出しロ−ルに装着し、下記の条件で
厚さ３００Åの酸化珪素の蒸着薄膜を上記のポリフッ化
ビニル樹脂フィルムの易接着処理面形成した。 （蒸着条件） 反応ガス混合比：ヘキサメチルジシロキサン：酸素ガ
ス：ヘリウム＝１：１０：１０（単位：ｓｌｍ） 真空チャンバ−内の真空度：５．０×１０^-6ｍｂａｒ 蒸着チャンバ−内の真空度：６．０×１０^-2ｍｂａｒ 冷却・電極ドラム供給電力：２０ｋＷ フィルムの搬送速度：８０ｍ／分 蒸着面：コロナ処理面 次に、上記で膜厚３００Åの酸化珪素の蒸着薄膜を形成
したポリフッ化ビニル樹脂フィルムについて、その蒸着
直後に、その酸化珪素の蒸着薄膜面に、出力、１０ｋ
Ｗ、処理速度１００ｍ／ｍｉｎでコロナ放電処理を行っ
て、蒸着薄膜面の表面張力を３５ｄｙｎｅより６０ｄｙ
ｎｅに向上させた。 （２）．次に、上記でコロナ処理を行った酸化珪素の蒸
着薄膜を形成したポリフッ化ビニル樹脂フィルムを使用
し、これを巻き取り式真空蒸着装置の送り出しロ−ルに
装着し、次いで、これをコ−ティングドラムの上に繰り
出して、下記の条件で、アルミニウムを蒸着源に用い、
酸素ガスを供給しながら、エレクトロンビ−ム（ＥＢ）
加熱方式による反応真空蒸着法により、上記のポリフッ
化ビニル樹脂フィルムの酸化珪素の蒸着薄膜のコロナ処
理面に、膜厚３００Åの酸化アルミニウムの蒸着薄膜を
形成した。 （蒸着条件） 蒸着源：アルミニウム 真空チャンバ−内の真空度：７．５×１０^-6ｍｂａｒ 蒸着チャンバ−内の真空度：２．１×１０^-6ｍｂａｒ ＥＢ出力：４０ＫＷ フィルム搬送速度：６００ｍ／分 次に、上記で膜厚３００Åの酸化アルミニウムの蒸着薄
膜を形成したポリフッ化ビニル樹脂フィルムについて、
その蒸着直後に、その酸化アルミニウムの蒸着薄膜面
に、グロ−放電プラズマ発生装置を使用し、プラズマ出
力、１５００Ｗ、酸素ガス（Ｏ₂ ）：アルゴンガス（Ａ
ｒ）＝１９：１からなる混合ガスを使用し、混合ガス圧
６Ｘ１０^-5Ｔｏｏｒ、処理速度４２０ｍ／ｍｉｎで酸素
／アルゴン混合ガスプラズマ処理を行った。次に、上記
の酸化アルミニウムの蒸着薄膜のプラズマ処理面に、
０．０３μｍの酸化チタン超微粒子５重量部とエチレン
−ビニルアルコ−ル共重合体液９５重量部（固形分３０
％溶液）からなる紫外線吸収剤組成物をグラビアロ−ル
コ−ト法を用いてコ−ティングし、膜厚０．５ｇ／ｍ²
（乾燥状態）の紫外線吸収剤層を形成して、本発明にか
かる表面保護シ−トを製造した。 （３）．次に、上記で製造した表面保護シ−トの酸化ア
ルミニウムの蒸着薄膜のプラズマ処理面に、アモルファ
スシリコンからなる太陽電池素子を並列に配置した厚さ
３８μｍの２軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィル
ム（受光面）を、その太陽電池素子面を対向させ、アク
リル系樹脂の接着剤層を介して積層して、本発明にかか
る太陽電池モジュ−ルを製造した。 （４）．なお、上記において、上記の基材としての紫外
線吸収剤を練り込んだ厚さ５０μｍのポリフッ化ビニル
樹脂シ−ト（ＰＶＦ）に代えて、紫外線吸収剤を練り込
み加工した厚さ５０μｍのエチレン−テトラフルオロエ
チレンコポリマ−からなるフッ素系樹脂シ−ト（ＥＴＦ
Ｅ）を使用し、上記と全く同様にして、同様な本発明に
かかる表面保護シ−ト、および、太陽電池モジュ−ルを
製造することができた。

【００３６】実施例４ 上記の実施例１の（２）において、酸化アルミニウムの
蒸着薄膜のプラズマ処理面に、紫外線吸収剤層を形成し
た後、更に、基材としての厚さ５０μｍのポリフッ化ビ
ニル樹脂フィルムの他方の面（最表面）に、粒径０．０
３μｍの酸化チタン超微粒子１０重量部とテトラエトキ
シシラン液９０重量部（固形分２０％）からなる光触媒
組成物を使用をグラビアロ−ルコ−ト法を用いて、膜厚
１ｇ／ｍ ² （乾燥状態）塗布して防汚層を形成して、本
発明にかかる表面保護シ−トを製造した。それ以外は、
上記の実施例１と同様にして、同様な太陽電池モジュ−
ルを製造した。

【００３７】実施例５ 上記の実施例２の（２）において、酸化珪素の蒸着薄膜
のコロナ処理面に、紫外線吸収剤層を形成した後、更
に、基材としての厚さ５０μｍのポリフッ化ビニル樹脂
フィルムの他方の面（最表面）に、粒径０．０３μｍの
酸化チタン超微粒子１０重量部とテトラエトキシシラン
液９０重量部（固形分２０％）からなる光触媒組成物を
使用をグラビアロ−ルコ−ト法を用いて、膜厚１ｇ／ｍ
² （乾燥状態）塗布して防汚層を形成して、本発明にか
かる表面保護シ−トを製造した。それ以外は、上記の実
施例２と同様にして、同様な太陽電池モジュ−ルを製造
した。

【００３８】実施例６ 上記の実施例３の（２）において、酸化アルミニウムの
蒸着薄膜のプラズマ処理面に、紫外線吸収剤層を形成し
た後、更に、基材としての厚さ５０μｍのポリフッ化ビ
ニル樹脂フィルムの他方の面（最表面）に、粒径０．０
３μｍの酸化チタン超微粒子１０重量部とテトラエトキ
シシラン液９０重量部（固形分２０％）からなる光触媒
組成物を使用をグラビアロ−ルコ−ト法を用いて、膜厚
１ｇ／ｍ ² （乾燥状態）塗布して防汚層を形成して、本
発明にかかる表面保護シ−トを製造した。それ以外は、
上記の実施例３と同様にして、同様な太陽電池モジュ−
ルを製造した。

【００３９】実施例７ 上記の実施例１の（２）において、酸化アルミニウムの
蒸着薄膜のプラズマ処理面に、紫外線吸収剤層を形成す
る代わりに、基材としての厚さ５０μｍのポリフッ化ビ
ニル樹脂フィルムの他方の面（非蒸着膜面）に、上記の
実施例１と全く同様にして紫外線吸収剤層を形成し、更
に、該紫外線吸収剤層の面（最表面）に、粒径０．０３
μｍの酸化チタン超微粒子１０重量部とテトラエトキシ
シラン液９０重量部（固形分２０％）からなる光触媒組
成物を使用をグラビアロ−ルコ−ト法を用いて、膜厚１
ｇ／ｍ² （乾燥状態）塗布して防汚層を形成して、本発
明にかかる表面保護シ−トを製造した。それ以外は、上
記の実施例１と同様にして、同様な太陽電池モジュ−ル
を製造した。

【００４０】比較例１ （１）．基材として、厚さ５０μｍのポリフッ化ビニル
樹脂フィルム（ＰＶＦ）を使用し、これを表面保護シ−
トとし、その片面に、アモルファスシリコンからなる太
陽電池素子を並列に配置した厚さ３８μｍの２軸延伸ポ
リエチレンテレフタレ−トフィルム（受光面）を、その
太陽電池素子面を対向させ、アクリル系樹脂の接着剤層
を介して積層して、太陽電池モジュ−ルを製造した。

【００４１】比較例２ （１）．基材として、厚さ５０μｍのポリテトラフルオ
ロエチレイ−エチレンコポリマ−からなるフッ素系樹脂
フィルム（ＥＴＦＥ）を使用し、これを表面保護シ−ト
とし、その片面に、アモルファスシリコンからなる太陽
電池素子を並列に配置した厚さ３８μｍの２軸延伸ポリ
エチレンテレフタレ−トフィルム（受光面）を、その太
陽電池素子面を対向させ、アクリル系樹脂の接着剤層を
介して積層して、太陽電池モジュ−ルを製造した。

【００４２】実験例 上記の実施例１〜７で製造した本発明にかかる表面保護
シ−トと比較例１〜２にかかる表面保護シ−トについ
て、全光線透過率を測定し、また、上記の実施例１〜７
で製造した太陽電池モジュ−ルと比較例１〜２で製造し
た太陽電池モジュ−ルについて太陽電池モジュ−ル評価
試験を行った。 （１）．全光線透過率の測定 これは、基材フィルムを基準とし、実施例１〜７で製造
した本発明にかかる表面保護シ−トと比較例１にかかる
表面保護シ−トについてカラ−コンピュ−タ−により全
光線透過率（％）を測定した。 （２）．太陽電池モジュ−ル評価試験 これは、ＪＩＳ規格Ｃ８９１７−１９８９に基づいて、
太陽電池モジュ−ルの環境試験を行い、試験前後の光起
電力の出力を測定して、比較評価した。 （３）．水蒸気透過度と酸素透過度の測定 水蒸気透過度は、実施例１〜７で製造した本発明にかか
る表面保護シ−トと比較例１〜２にかかる表面保護シ−
トについて、温度４０℃、湿度９０％ＲＨの条件で、米
国、モコン（ＭＯＣＯＮ）社製の測定機〔機種名、パ−
マトラン（ＰＥＲＭＡＴＲＡＮ）〕にて測定し、更に、
酸素透過度は、上記と同様の対象物について、温度２３
℃、湿度９０％ＲＨの条件で、米国、モコン（ＭＯＣＯ
Ｎ）社製の測定機〔機種名、オクストラン（ＯＸＴＲＡ
Ｎ）〕にて測定した。上記の測定結果について下記の表
１に示す。

【００４３】

【表１】 上記の表１において、水蒸気バリアは、〔ｇ／ｍ² ／ｄ
ａｙ・４０℃・１００％ＲＨ〕の単位であり、また、酸
素バリアは、〔ｃｃ／ｍ² ／ｄａｙ・２３℃・９０％Ｒ
Ｈ〕の単位である。

【００４４】上記の表１に示す測定結果より明らかなよ
うに、実施例１〜７にかかる太陽電池モジュ−ル用表面
保護シ−トは、全光線透過率が高く、また、水蒸気バリ
ア性、酸素バリア性に優れていた。また、上記の実施例
１〜７にかかる太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トを
用いた太陽電池モジュ−ルは、出力低下率も低いもので
あった。これに対し、比較例１〜２にかかる表面保護シ
−トは、全光線透過率は、高いものの、水蒸気バリア
性、酸素バリア性が低く、そのために、それを用いた太
陽電池モジュ−ルは、出力低下率が高い等の問題点があ
った。

【００４５】

【発明の効果】以上の説明で明らかなよう、本発明は、
太陽電池モジュ−ルを構成する表面保護シ−ト層として
使用されているガラス板の特性、光触媒粉末、紫外線吸
収剤等に着目し、まず、フッ素系樹脂シ−トを基材シ−
トとして使用し、その一方の面に、酸化珪素、あるい
は、酸化アルミニウム等の透明な、ガラス質からなる無
機酸化物の蒸着薄膜を設け、更に、該無機酸化物の蒸着
薄膜を設けたフッ素系樹脂シ−トのいずれかの一方の面
または両面に、光触媒粉末を含む組成物による塗布膜か
らなる防汚層および／または紫外線吸収剤を含む組成物
による紫外線吸収剤層を設けて太陽電池モジュ−ル用表
面保護シ−トを製造し、これを表面保護シ−ト層とし、
その無機酸化物の蒸着薄膜の側を内側にし、充填剤層、
光起電力素子としての太陽電池素子、充填剤層、およ
び、裏面保護シ−ト層等を順次に積層し、次いで、これ
らを一体的に真空吸引して加熱圧着するラミネ−ション
法等を利用して太陽電池モジュ−ルを製造したところ、
特に、水分、酸素等の侵入を防止する防湿性を著しく向
上させ、更に、耐光性、耐熱性、耐水性等の諸堅牢性に
ついても、その長期的な性能劣化を最小限に抑え、保護
能力性に優れ、また、ゴミ等が蓄積してその表面を汚染
する汚染性を防止し、より低コストで安全な太陽電池モ
ジュ−ル用表面保護シ−トおよびそれを使用した太陽電
池モジュ−ルを製造し得ることができるというものであ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明にかかる太陽電池モジュ−ル用表面保護
シ−トについてその一例の層構成の概略を示す概略的断
面図である。

【図２】本発明にかかる太陽電池モジュ−ル用表面保護
シ−トについてその一例の層構成の概略を示す概略的断
面図である。

【図３】本発明にかかる太陽電池モジュ−ル用表面保護
シ−トについてその一例の層構成の概略を示す概略的断
面図である。

【図４】本発明にかかる太陽電池モジュ−ル用表面保護
シ−トについてその一例の層構成の概略を示す概略的断
面図である。

【図５】本発明にかかる太陽電池モジュ−ル用表面保護
シ−トについてその一例の層構成の概略を示す概略的断
面図である。

【図６】図１に示す本発明にかかる太陽電池モジュ−ル
用表面保護シ−トを使用して製造した太陽電池モジュ−
ルついてその一例の層構成の概略を示す概略的断面図で
ある。

【図７】物理気相成長法による無機酸化物の蒸着薄膜を
形成する方法についてその概要を示す巻き取り式真空蒸
着装置の概略的構成図である。

【図８】化学気相成長法による無機酸化物の蒸着薄膜を
形成する方法についてその概要を示す低温プラズマ化学
気相成長装置の概略的構成図である。

【符号の説明】

Ａ 太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−ト Ａ₁ 太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−ト Ａ₂ 太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−ト Ａ₃ 太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−ト Ａ₄ 太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−ト １ フッ素系樹脂シ−ト ２ 無機酸化物の蒸着薄膜 ２ａ 無機酸化物の蒸着薄膜 ２ｂ 無機酸化物の蒸着薄膜 ３ 防汚層 ４ 紫外線吸収剤層 ５ 多層膜 ５ａ 多層膜 Ｔ 太陽電池モジュ−ル １１ 充填剤層 １２ 太陽電池素子 １３ 充填剤層 １４ 裏面保護シ−ト

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 山本 浩 東京都新宿区市谷加賀町一丁目１番１号 大日本印刷株式会社内 (72)発明者 今野 克俊 東京都新宿区市谷加賀町一丁目１番１号 大日本印刷株式会社内 Ｆターム(参考） 4F006 AA18 AB20 AB39 AB74 BA03 BA11 CA08 DA01 DA04 EA05 5F051 BA18 EA01 EA18 HA11 JA02 JA05

Claims (12)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 フッ素系樹脂シ−トの一方の面に、無機
   酸化物の蒸着薄膜を設け、更に、該無機酸化物の蒸着薄
   膜を設けたフッ素系樹脂シ−トのいずれかの一方の面あ
   るいは両面に、防汚層および／または紫外線吸収剤層を
   設けたことを特徴とする太陽電池モジュ−ル用表面保護
   シ−ト。
2. 【請求項２】 フッ素系樹脂シ−トの一方の面に、無機
   酸化物の蒸着薄膜を設け、更に、該無機酸化物の蒸着薄
   膜を設けたフッ素系樹脂シ−トのフッ素系樹脂シ−ト面
   に、紫外線吸収剤層、および、防汚層を設け、該防汚層
   を最表面とすることを特徴とする上記の請求項１に記載
   する太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−ト。
3. 【請求項３】 フッ素系樹脂シ−トの一方の面に、無機
   酸化物の蒸着薄膜を設け、更に、該無機酸化物の蒸着薄
   膜を設けたフッ素系樹脂シ−トのフッ素系樹脂シ−ト面
   に、防汚層を設け、他方の無機酸化物の蒸着薄膜面に、
   紫外線吸収剤層を設け、上記の防汚層を最表面とするこ
   とを特徴とする上記の請求項１に記載する太陽電池モジ
   ュ−ル用表面保護シ−ト。
4. 【請求項４】 フッ素系樹脂シ−トが、可視光透過率が
   ９０％以上である透明フッ素系樹脂シ−トからなること
   を特徴とする上記の請求項１〜３に記載する太陽電池モ
   ジュ−ル用表面保護シ−ト。
5. 【請求項５】 フッ素系樹脂シ−トが、フッ化ビニル系
   樹脂、または、エチレンとテトラフルオロエチレンとの
   コポリマ−からなる透明フッ素系樹脂シ−トであること
   を特徴とする上記の請求項１〜４に記載する太陽電池モ
   ジュ−ル用表面保護シ−ト。
6. 【請求項６】 無機酸化物の蒸着薄膜が、物理気相成長
   法による無機酸化物の１層ないし２層以上の多層膜から
   なることを特徴とする上記の請求項１〜５に記載する太
   陽電池モジュ−ル用表面保護シ−ト。
7. 【請求項７】 無機酸化物の蒸着薄膜が、化学気相成長
   法による無機酸化物の１層ないし２層以上の多層膜から
   なることを特徴とする上記の請求項１〜５に記載する太
   陽電池モジュ−ル用表面保護シ−ト。
8. 【請求項８】 無機酸化物の蒸着薄膜が、物理気相成長
   法および化学気相成長法による２層以上の多層膜からな
   ることを特徴とする上記の請求項１〜５に記載する太陽
   電池モジュ−ル用表面保護シ−ト。
9. 【請求項９】 無機酸化物の蒸着薄膜が、化学気相成長
   法による無機酸化物の蒸着薄膜を設け、次に、該無機酸
   化物の蒸着薄膜の上に、物理気相成長法による無機酸化
   物の蒸着薄膜を設けた２層以上の多層膜からなることを
   特徴とする上記の請求項８に記載する太陽電池モジュ−
   ル用表面保護シ−ト。
10. 【請求項１０】 防汚層が、酸化チタンを主成分とする
    光触媒粉末、若しくはゾルに含まれる微粒子からなる組
    成物による塗布膜からなることを特徴とする上記の請求
    項１〜９に記載する太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−
    ト。
11. 【請求項１１】 紫外線吸収剤層が、紫外線吸収剤を含
    む組成物による塗布膜からなることを特徴とする上記の
    請求項１〜１０に記載する太陽電池モジュ−ル用表面保
    護シ−ト。
12. 【請求項１２】 フッ素系樹脂シ−トの一方の面に、無
    機酸化物の蒸着薄膜を設け、更に、該無機酸化物の蒸着
    薄膜を設けたフッ素系樹脂シ−トのいずれかの一方の面
    または両面に、防汚層および／または紫外線吸収剤層を
    設けた太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トの無機酸化
    物の蒸着薄膜面に、充填剤層、光起電力素子としての太
    陽電池素子、充填剤層、および、裏面保護シ−ト層を順
    次に積層し、これらを真空吸引して加熱圧着ラミネ−シ
    ョン法等により一体成形体としたことを特徴とする太陽
    電池モュジュ−ル。