JP2001154595A

JP2001154595A - プラズマディスプレイ前面板用積層体

Info

Publication number: JP2001154595A
Application number: JP34200399A
Authority: JP
Inventors: Kiminori Nishiyama; 公典西山
Original assignee: Teijin Ltd
Current assignee: Teijin Ltd
Priority date: 1999-12-01
Filing date: 1999-12-01
Publication date: 2001-06-08

Abstract

(57)【要約】【課題】広帯域の近赤外線に対する放射防止機能と電
磁波に対する遮蔽機能とを有する透明な金属層を積層し
た積層体に、可視光線の透過率の損なうことなく、近赤
外線に対する選択的な放射防止機能を安価に具備させた
プラズマディスプレイ前面板用積層体の提供。【解決手段】屈折率の異なる２種の透明樹脂を交互に
積層した多層積層延伸フィルムと、金属および誘電体を
それぞれ交互に積層した金属−誘電体層とからなる積層
体であって、波長４００〜７００ｎｍの可視光領域にお
ける平均透過率が６０％以上、波長７５０〜２１００ｎ
ｍの近赤外線領域に反射ピークを有し且つ該反射ピーク
における反射率が７０％以上、波長７５０〜２１００ｎ
ｍの近赤外線領域における平均反射率が５０％以上、お
よび、積層体中の金属−誘電体層における表面の電気抵
抗が高々２０Ω／□であることを同時に具備させる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、プラズマディスプ
レイの前面板用積層体に関し、さらに詳しくは、プラズ
マディスプレイの映像表示パネルから放出される電磁波
および近赤外線を高度に且つ効率的に遮蔽できるプラズ
マディスプレイ前面板用積層体に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、カラーテレビジョンに代表される
映像機器において、映し出される映像の高精細化と大画
面化という市場要求により、プラズマディスプレイ等を
用いた発光型パネル方式、液晶ディスプレイ等を用いた
非発光型パネル方式、または映像プロジェクターが内蔵
されたリアプロジェクション方式等のテレビジョンが、
従来のＣＲＴを用いた直視型テレビジョンに加えて進出
しつつある。これらの中で、発光型パネル方式のプラズ
マディスプレイは、その表示画面からプラズマの発生時
に電磁波が放出され、周囲の電子機器やひどい場合は視
聴している人間の健康へ影響を及ぼしたりするといった
問題があった。

【０００３】この問題の対策としては、前記表示画面か
ら放出される電磁波を遮蔽すれば良く、例えば、厚さ５
〜５０ｎｍの金属膜と厚さ３〜７０ｎｍの誘電体膜とを
透明樹脂フィルムに積層した電磁波シールド材が実開昭
５９−１９１７９５号公報で提案されている。該公報に
よれば、実用に耐え得る視認性を確保しながらも、電磁
波を遮断できることが開示されている。

【０００４】しかしながら、上述の電磁波シールド材で
も、プラズマディスプレイに用いる場合には、周辺機器
への影響を完全に解消することはできなかった。これ
は、プラズマディスプレイの周辺機器に影響を及ぼす原
因が、電磁波だけでなく、近赤外線にも起因していたた
めである。すなわち、プラズマディスプレイは、構造的
要因で、カラー映像の３原色（赤、緑、青色）の波長帯
以外の光線、例えば、波長が８２０ｎｍ、８８０ｎｍま
たは９８０ｎｍ近辺に強い近赤外線が放射される。そし
て、これらの近赤外線は、テレビ、ビデオもしくはクー
ラーのリモートコントローラー、携帯通信、またはパソ
コン等の近赤外線通信機器に使用されている近赤外線の
作動波長と合致しているため、それら周辺機器へ誤作動
を生起させるのである。もちろん、上述の電磁はシール
ド材は、金属膜によって、近赤外線を一部反射する。し
かしながら、その反射特性は長波長に向うにしたがっ
て、徐々に反射率が拡大するような広帯域にわたる平坦
なピークのないものであって、上述の特定波長の近赤外
線を選択的に反射するようなものではない。

【０００５】ところで、上述のような近赤外線による周
辺機器への誤作動の防止機能と同時に外光反射防止機能
を併せ持ち、映像機器表示装置の前面パネル用に好適に
使用することのできる外光反射防止性フィルムが、特開
平１０−１５６９９１号公報で提案されている。しかし
ながら、該公報の周辺機器への誤作動の防止機能は、高
価な近赤外線吸収剤の層により構成されており、また近
赤外吸収剤で着色するために、可視光領域での光線透過
率が低くなるといった問題があった。さらに、プラズマ
ディスプレイから発せられる各波長の近赤外線に対応す
るためには、数種の近赤外線吸収剤を添加する必要があ
り、吸収波長をコントロールするのが難しいといった問
題もあった。さらにまた、該公報の外光反射防止性フィ
ルムは、金属層などが設けられていないため、電磁波に
よる周辺機器への影響は、依然として問題となってい
た。

【０００６】このように高度の可視光線透過率を維持し
つつ、プラズマディスプレイの表示面から放射される、
広帯域の近赤外線に対する放射防止機能、周辺機器の誤
作動に影響する特定波長の近赤外線に対する放射防止機
能、および、電磁波に対する遮蔽機能といった３つの機
能を同時に具備し、且つ、安価なプラズマディスプレイ
の前面板用積層体は、未だ提供されていないのが現状で
ある。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、上述
の問題を解消し、広帯域の近赤外線に対する放射防止機
能と電磁波に対する遮蔽機能とを有する透明な金属層を
積層した積層体に、可視光線の透過率の低下させること
なく、特定波長の近赤外線に対する放射防止機能を安価
に具備させたプラズマディスプレイの前面板用積層体の
提供にある。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明者が、鋭意研究し
た結果、映像機器の表示面から放射される近赤外線およ
び電磁波による周辺機器への誤作動の防止という課題
は、多層積層延伸フィルムと、透明な金属および誘電体
を積層した金属−誘電体層とを組合せれば、高価な近赤
外線吸収剤を用いなくても解決できることを見出し、本
発明に到達した。

【０００９】かくして本発明によれば、屈折率の異なる
２種の透明樹脂を交互に積層した多層積層延伸フィルム
と、金属および誘電体をそれぞれ交互に積層した金属−
誘電体層とからなる積層体であって、（イ）波長４００〜７００ｎｍの可視光領域における平
均透過率（Ｔ_VA％）が少なくとも６０％であること；（ロ）波長７５０〜２１００ｎｍの近赤外線領域に反射
ピークを有し、且つ、該反射ピークにおける反射率（Ｒ
_NP％）が少なくとも７０％であること；（ハ）波長７５０〜２１００ｎｍの近赤外線領域におけ
る平均反射率（Ｒ_NA％）が少なくとも５０％であるこ
と；および、（ニ）積層体中の金属−誘電体層における表面の電気抵
抗が高々２０Ω／□であることを同時に具備することを
特徴とするプラズマディスプレイ前面板用積層体が提供
される。

【００１０】

【発明の実施の形態】本発明のプラズマディスプレイ前
面板用積層体とは、屈折率の異なる２種の透明樹脂が交
互に積層された多層積層延伸フィルムと金属および誘電
体とをそれぞれ交互に積層した金属−誘電体層とからな
る積層体である。そして、本発明のプラズマディスプレ
イ前面板用積層体は、近赤外線吸収剤を使用せず、多層
積層延伸フィルムを使用し、且つ、該フィルムに透明な
金属層と誘電体層とを積層することによって、波長４０
０〜７００ｎｍの可視光の透過率（Ｔ_VA％）が少なくと
も６０％という実用に耐え得る視認性を維持しつつ、多
層積層延伸フィルムの層間の光干渉によって波長７５０
〜２１００ｎｍの近赤外線領域に反射ピークを有し、且
つ、該反射ピークにおける反射率（Ｒ_NP％）が７０％以
上であるという特定波長の近赤外線を優先的に遮蔽する
機能、該近赤外線領域における平均反射率（Ｒ_NA％）が
５０％以上であるという広帯域の近赤外線を遮蔽する機
能、および、積層体中の金属−誘電体層における表面の
電気抵抗が高々２０Ω／□であるという電磁波遮蔽機能
とを、同時に具備させたものである。なお、本発明でい
う反射ピークとは、プラズマディスプレイ前面板用積層
体に波長７５０〜２１００ｎｍの近赤外線領域の光をあ
てて、各波長に対する反射率を測定したときに、反射率
が前後の波長に対して急激に増大している部分を意味す
るものであり、必ずしも反射率が最大である必要はな
い。また、本発明における多層積層延伸フィルムについ
て、以下詳述する。

【００１１】本発明において多層積層延伸フィルムと
は、屈折率が相互に異なる透明樹脂を交互に規則的に積
層した、すなわち、屈折率の低い層（以下、単に”Ｂ
層”と略記することがある）と高い層（以下、単に”Ａ
層”と略記することがある）を交互に規則的に配置させ
た層間の構造的な干渉によって光を選択的に反射させる
フィルムである。好ましい多層積層延伸フィルムとして
は、平均粒径が０．０１〜２μｍの不活性粒子を０．０
０１〜０．５重量％含有するポリエチレン−２，６−ナ
フタレートからなる層（Ａ層）とＡ層よりも屈折率の低
い熱可塑性樹脂層を１１層以上交互に積層し、少なくと
も１方向に延伸されたフィルムである。

【００１２】該不活性粒子の平均粒径が０．０１μｍ未
満では、フィルムが滑りにくく巻取り性が不十分となり
易く、他方、粒径の上限については、２μｍを超えると
粒子による光学特性の悪化が顕著になり、光線透過率が
減少し易い。特に好ましい不活性粒子の平均粒径は、
０．０５〜１μｍの範囲であり、さらには、０．１〜
０．３μｍの範囲である。また、該不活性粒子の含有量
については、０．００１〜０．５重量％、特に０．００
５〜０．２重量％の範囲が好ましい。該不活性粒子の含
有量が、０．００１重量％未満では巻取り性の向上の効
果が乏しく、他方、０．５重量％を超えると光学特性が
悪化し易い。

【００１３】具体的な不活性粒子としては、酸化チタン
や硫化亜鉛のような顔料として作用するような粒子や着
色している粒子よりは、光学的な特性を劣化させ難い、
例えば、シリカ、アルミナ、炭酸カルシウム、燐酸カル
シウム、カオリンもしくはタルクのような無機不活性粒
子、または、シリコーン、架橋ポリスチレンもしくはス
チレン−ジビニルベンゼン共重合体のような有機不活粒
子が好ましい。該不活性粒子の長径と短径の比は、高々
１．２の真球状粒子であることが、滑り性と光学特性を
バランスさせる点から好ましい。該不活性粒子の粒度分
布は、その相対標準偏差が高々０．３未満、好ましくは
０．２未満であることが好ましい。相対標準偏差が大き
い粒子を使用すると粗大粒子の頻度が大きくなり、光学
的な欠陥を生ずる場合がある。ここで、不活性粒子の平
均粒径および粒径比は、まず粒子表面に導電性付与のた
めの金属を極く薄くスパッターし、電子顕微鏡にて１万
〜３万倍に拡大した像から、長径、短径および面積円相
当径を求め、これらから算出される。

【００１４】本発明における多層積層延伸フィルムを構
成する透明樹脂について、以下詳述する。本発明におい
て、前述のＡ層を構成する透明樹脂としては、屈折率が
比較的高いポリエチレン−２，６−ナフタレートが好ま
しい。ここでいうポリエチレン−２，６−ナフタレート
とは、ポリエチレン−２，６−ナフタレートホモポリマ
ー、エチレン−２，６−ナフタレート単位を主とする共
重合ポリエチレン−２，６−ナフタレート、あるいはポ
リエチレン−２，６−ナフタレートを主とする組成物で
ある。ここで「主とする」とは共重合体または組成物に
おけるエチレン−２，６−ナフタレート単位の割合が全
成分に対して８５モル％以上を占めることをいう。共重
合体を使用する場合、その共重合成分は１５モル％以
下、さらに２モル％以下であることが好ましい。共重合
成分は、ジカルボン酸成分であってもグリコール成分で
あってもよく、ジカルボン酸成分としては例えばイソフ
タル酸、フタル酸、ナフタレンジカルボン酸等の如き芳
香族ジカルボン酸；アジピン酸、アゼライン酸、セバシ
ン酸、デカンジカルボン酸等の如き脂肪族ジカルボン
酸；シクロヘキサンジカルボン酸の如き脂環族ジカルボ
ン酸等を挙げることができ、グリコール成分としては例
えばブタンジオール、へキサンジオール等の如き脂肪族
ジオール；シクロヘキサンジメタノールの如き脂環族ジ
オール等を挙げることができる。

【００１５】本発明において、前述のＢ層を構成する透
明樹脂としては、屈折率がポリエチレン−２，６−ナフ
タレートに比べて低い、ポリエチレンテレフタレートが
好ましい。さらに、Ｂ層の配向結晶性を低くして屈折率
をより低くするために、融点が、２１０〜２４５℃の範
囲であることが好ましい。融点が２１０℃未満では、結
晶性が低くなりすぎて製膜が難しくなったり、Ｂ層の耐
熱性が低下してフィルム全体の耐熱性に悪影響が出たり
する。他方、融点の上限については、２４５℃を超える
とＢ層の結晶性が高くなり、Ｂ層のガラス転移点（Ｔ
ｇ）より高い延伸温度で延伸すると配向結晶化が進み連
続製膜性が悪化し易い。このようなポリエチレンテレフ
タレートの融点およびガラス転移点は、共重合させるこ
とで調整すればよい。

【００１６】具体的な共重合成分としては、ジカルボン
酸成分であってもグリコール成分であってもよく、ジカ
ルボン酸成分としては、例えばイソフタル酸、フタル
酸、ナフタレンジカルボン酸等の如き芳香族ジカルボン
酸；アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、デカンジ
カルボン酸等の如き脂肪族ジカルボン酸；シクロヘキサ
ンジカルボン酸の如き脂環族ジカルボン酸等を挙げるこ
とができ、グリコール成分としては例えばブタンジオー
ル、へキサンジオール等の如き脂肪族ジオール；シクロ
ヘキサンジメタノールの如き脂環族ジオール等を挙げる
ことができる。特に共重合酸成分として、イソフタル酸
を用いることが、融点、ガラス転移点（Ｔｇ）を調整す
る上で好まし。好ましい共重合量は、ジカルボン酸また
はグリコール成分のモル数を基準として、４〜１８モル
％、さらに８〜１５モル％の範囲である。これらの共重
合成分は単独または二種以上を使用することができる。

【００１７】ところで、Ｂ層の透明樹脂として、イソフ
タル酸を共重合させたポリエチレンテレフタレートを用
いる場合は、Ａ層とＢ層とのガラス転移点（Ｔｇ）の温
度差が、少なくとも４０℃あることが好ましい。この範
囲であれば、Ａ層のガラス転移点（Ｔｇ）に合せて延伸
するとＢ層のポリマーにとっては、過大の延伸温度とな
り、延伸による分子鎖の配向が進行し難い流動状態に近
くなる。したがって、Ａ層は延伸により分子鎖の配向が
進行して屈折率が増大するが、Ｂ層は延伸による分子鎖
の配向の進行が抑えられるので屈折率の変化が少なく、
結果として両層の屈折率差が大きくなる。他方、Ａ層と
Ｂ層とのガラス転移点（Ｔｇ）の温度差の上限について
は、延伸性を維持する上から、高々７０℃である。

【００１８】また、多層積層延伸フィルムのＢ層とし
て、ポリエチレン−２，６−ナフタレートとポリエチレ
ンテレフタレートの混合物、またはポリエチレン−２，
６−ナフタレートとイソフタル酸共重合ポリエチレンテ
レフタレートの混合物も用いることもできる。これらの
混合物もその融点は上記多層積層延伸フィルムのＢ層と
同様、２１０〜２４５℃であることが好ましい。また、
これら混合物は、低結晶性であるにもかかわらず、通
常、低結晶性ポリマーを無乾燥で溶融押出しするのに必
要とされる特別の設備（乾燥設備またはそれに類する設
備）が不要になるといった利点がある。

【００１９】さらにまた、Ｂ層として、融点が２２０〜
２７０℃のシンジオタクテイックポリスチレンを主体と
する層を用いることもできる。シンジオタクチックポリ
スチレンとは、立体構造がシンジオタクティック構造、
すなわち炭素−炭素結合から形成される主鎖に対して、
側鎖であるフェニル基や置換フェニル基が交互に反対方
向に位置する立体構造を有するものであり、そのタクテ
ィシティーは、同位体炭素による核磁気共鳴法により定
量される。この方法で測定されるタクティシティーは、
連続する複数個の構成単位の存在割合、例えば２個の場
合はダイアット、３個の場合はトリアッド、５個の場合
はペンタッドによって示すことができるが、本発明でい
うシンジオタクティックポリスチレンとしては、通常
は、ラセミダイアッドで７５％以上、好ましくは８５％
以上、若しくはラセミペンタッドで３０％以上、好まし
くは５０％以上のシンジオタクティシティーを有するポ
リスチレン、ポリ（アルキルスチレン）、ポリ（ハロゲ
ン化スチレン）、ポリ（アルコキシスチレン）、ポリ
（ビニル安息香酸）、これらの水素化重合体またはこれ
らの共重合体を含む。この中で好ましいシンジオタクテ
ィックポリスチレンとしては、融点が２２０〜２７０℃
の範囲にあるものである。特に好ましくは、ポリスチレ
ンとｐ−メチルスチレンとの共重合体である。かかる共
重合体において、その融点を上記範囲とするには、ｐ−
メチルスチレンの割合を増やすと、融点や結晶性が低下
する特性を利用する、すなわち、ｐ−メチルスチレンの
共重合量を調整すれば良い。好ましいｐ−メチルスチレ
ンの共重合量は、高々１５重量％が好ましい。なお、ポ
リエチレン−２，６−ナフタレートは、延伸により延伸
方向の屈折率は増加するが、このようなシンジオタクテ
ィックポリスチレンは、延伸方向の屈折率が増大しにく
いので、この組合せは各層間の屈折率差を生起し易いと
いった利点がある。

【００２０】本発明における多層積層延伸フィルム内の
Ａ層とＢ層の配置について、以下詳述する。本発明で使
用する多層積層延伸フィルムは、上記のようなＡ層とＢ
層を好ましくは１１層以上、さらに好ましくは３１層以
上積層したものである。上限については、製造工程の複
雑化を防ぐことから、高々５０１層であることが好まし
い。該積層数が、１１層未満では多重干渉による選択反
射が小さくなり、反射率を向上させ難い。

【００２１】ところで、多層積層延伸フィルムは、その
両面をＡ層とすることが好ましい。これは、Ａ層のガラ
ス転移点（Ｔｇ）がＢ層より高いため、Ｂ層が表面で
は、延伸時にロール等で加熱すると、Ａ層を延伸するの
に必要な延伸温度に上げることができないからである。
また、このようにＢ層をＡ層の内側に配置させる場合
は、Ｂ層の透明樹脂は、必ずしも前述の不活性粒子が添
加されてなくてもよく、むしろ、光学的な特性が悪化さ
せないことから好ましい態様である。

【００２２】また、多層積層延伸フィルムは、その選択
反射波長の範囲を増大させるために、選択波長の異なっ
た複数の多層積層延伸フィルムを組み合わせて使用する
のが好ましい。組み合せ方としては、選択波長の異なっ
た積層フィルムを同時に積層させても良いし、複数の多
層積層延伸フィルムを製膜した後、接着剤等で積層させ
てもよい。また、本発明の目的を達せられる範囲におい
て、特定波長領域を吸収する近赤外吸収剤を配合させた
り、近赤外吸収剤含有透明フィルムと積層させたりして
もよい。

【００２３】ところで、Ａ層またはＢ層のそれぞれの各
１層の厚みのバラツキは、その相対標準偏差が高々０．
１５、さらに高々０．１２であることが好ましい。この
厚みの相対標準偏差が、０．１５を超えると、各層での
干渉が弱くなり、反射率が低下する。

【００２４】本発明における多層積層延伸フィルムの製
造方法について、以下詳述する。本発明において、多層
積層延伸フィルムは、例えば、不活性粒子を含有するポ
リエチレン−２，６−ナフタレートを主とするＡ層を形
成する透明樹脂と、Ｂ層を形成する透明樹脂とをフィー
ドブロックを用いた同時多層押し出し法により２層が交
互に両表面にＡ層が形成されるように積層され、ダイに
展開される。この時、フィードブロックで積層されたポ
リマーは、積層された形態を維持している。ダイより押
し出されたシートは、キャスティングドラムで冷却固化
され、未延伸フィルムとなる。この未延伸フィルムは、
所定の温度に加熱され、縦方向、横方向または縦−横方
向に延伸され、所定の温度で熱処理され、巻き取られ
る。

【００２５】なお、延伸方法としては、逐次２軸延伸、
同時２軸延伸、チューブラー延伸、インフレーション延
伸等の公知の延伸方法が可能であるが、好ましくは逐次
２軸延伸が、生産性、品質の面で有利である。また、延
伸されたフィルムは、熱的な安定化のために、熱処理に
より安定化されるのが好ましい。延伸条件については、
延伸温度はＡ層の樹脂のガラス転移点（Ｔｇ）からＴｇ
＋５０℃の範囲で行うことが好ましい。延伸倍率として
は、１軸延伸の場合、２〜１０倍で、延伸方向は、縦方
向であっても横方向であっても構わない。２軸延伸の場
合は、面積倍率として、５〜２５倍である。延伸倍率が
大きい程、延伸前の厚みを大きくする事ができ、積層時
の層厚みの層間のバラツキが、延伸による薄層化によ
り、絶対的に小さくなり、それにより各層での光干渉が
大きくなり反射率が増大するので好ましい。延伸後の熱
処理の温度については、（Ｂ層の融点−３０）℃より高
く、（Ａ層の融点−３０）℃より低いのが好ましい。た
だし、あまり高いとＢ層の融解が始まるため、厚み斑の
悪化や連続製膜性が低下する。

【００２６】本発明における多層積層延伸フィルムと組
み合わされる金属−誘電体板について、以下詳述する。
本発明で用いられる金属−誘電体板の金属層を構成する
金属としては、Ａｕ、Ａｇ、ＣｕまたはＡｌなどの金属
が例示される。これらの中で特に好ましいのは、可視光
線の吸収がほとんどないＡｇである。なお、該金属層を
形成する金属は、必要に応じて２種以上併用しても良
い。

【００２７】係る金属層を形成する方法としては、気相
成長法が好ましく、特に真空蒸着法、スパッター法また
はプラズマＣＶＤ法が好ましい。該金属層の厚みは、前
述のＴ_VA％、Ｒ_NA％およびＲ_NP％を満足しつつ、表面の
電気抵抗が高々２０Ω、好ましくは高々１０Ω、特に好
ましくは高々５Ωとなるように設定すれば良い。該金属
層の表面抵抗が２０Ωを越えると、十分な電磁波シール
ド効果が得られない。具体的な金属層の厚みは、５〜１
０００ｎｍ、好ましくは３０〜５００ｎｍの範囲であ
る。該厚みが５ｎｍ未満では、十分な電磁波シールド効
果が発現し難く、しかも、近赤外線の反射も不十分にな
り易い。他方、該厚みが１０００ｎｍを越えると、可視
光の透過率が不十分なものとなり易く、透明性が損なわ
れる。なお、該金属層は、アースなどと接触させている
ことが、より電磁波を遮蔽できるので好ましい。ところ
で、該金属層は、可視光線の反射を抑制して透明性を高
めるために、少なくともその片側面に、透明で高屈折率
の誘電体層が設けられる。

【００２８】本発明で使用する金属−誘電体板の誘電体
層を形成するものとしては、ＴｉＯ ₂、ＺｒＯ₂、ＳｎＯ
₂、Ｉｎ₂Ｏ₃などが挙げられる。これらの中で、加工性
に優れるアルキチタネートまたはアルキルジルコニウム
の加水分解により得られる有機化合物由来のＴｉＯ₂や
ＺｒＯ₂が特に好ましい。係る誘電体層の形成方法は、
前述の金属層の形成方法と同様に、気相成長法が好まし
く、特に真空蒸着法、スパッター法またはプラズマＣＶ
Ｄ法が好ましい。

【００２９】ところで、誘電体層と金属層の形成は、そ
れぞれ複数回行っても良く、例えば、最初に誘電体層を
形成し、続いて金属層、最後にまた誘電体層を形成すれ
ば、金属層を誘電体層でサンドウィッチ状に挟んだ積層
構造とすることができ、このサンドウィッチ構造は、よ
り透明性が向上するので好ましい。誘電体層の厚みは、
本発明の積層体の光学特性を満足するように前述の金属
層と併せて設定すれば良く、好ましい誘電体層の厚み
は、０．１〜７５０ｎｍ、さらに０．３〜５００ｎｍの
範囲であり、最も好ましい誘電体層の厚みは、０．５ｎ
ｍ以上３ｎｍ未満である。

【００３０】ところで、本発明のプラズマディスプレイ
前面板用積層体は、多層積層延伸フィルムおよび金属−
誘電体板に加えて、視認性、取扱い性または強度保持等
の種々の目的に応じて、任意の反射防止層、防汚層、ハ
ードコート層または、多層積層延伸フィルムとは構造の
異なる透明フィルムなどを積層しても良い。

【００３１】例えば、構造の異なる透明フィルムとして
は、光の散乱や拡散による光量損失が小さく、ＪＩＳ
Ｋ−７１０５に準じて測定した曇り度が１０％以下とな
る物質として定義され、屈折率の大きなものが好まし
い。具体的には、ポリエチレンテレフタレート、ポリエ
チレン−２，６−ナフタレート等のポリエステル系、ポ
リカーボネート、トリアセチルセルロース、ポリメチル
メタクリレート、ポリスチレン、またはポリ塩化ビニル
などのフィルムが好ましい。透明フィルムの厚みは、２
５〜２００μｍが好ましく、５０〜１５０μｍがさらに
好ましい。透明基材の厚みが２５μｍ未満では強度が不
足し、２００μｍを超えるとフィルムの剛性が高くなり
映像機器のディスプレイ表面への２次加工性に劣る。ま
た、本発明で使用する多層積層延伸フィルムへの透明フ
ィルムの積層方法としては、押出し時での共押し出しや
接着剤によるラミネート等が用いられ、少なくとも透明
基材の少なくとも片面に本発明の積層フィルムが積層さ
れる。なお、本発明で使用する多層積層延伸フィルム自
体が、実用に耐え得る剛性を有するならば、透明フィル
ムは併用しなくても良い。

【００３２】また、反射防止層としては、任意のものが
採用でき、特に制限はない。例えば、外光を乱反射させ
て視感反射率を低減させるには、上述の透明フィルムや
多層積層延伸フィルムの片側面に、粒子径が可視光の波
長以下の超微粒子である二酸化ケイ素等を塗布して光の
乱反射が生させる方法、上述の透明フィルムや多層積層
延伸フィルムの片側面に硬化膜を形成し、その上に蒸着
法によりフッ化マグネシウム層を形成する方法、また
は、透明樹脂フィルムや多層積層延伸フィルムの片側面
や両側面に薄膜の低屈折率層を形成すればよい。それら
の中でも、薄膜の低屈折率層を透明樹脂フィルムや多層
積層延伸フィルムの片側面や両側面に形成し、薄膜層の
表面反射光と界面における屈折反射光との光の干渉によ
り反射率を低減する方法が簡便で効果的である。すなわ
ち、透明樹脂フィルムや多層積層延伸フィルムの最外層
に、それらよりも低屈折率の薄膜を可視光波長の１／４
厚みの薄膜で形成すると、その上面反射光と下面反射光
が打ち消し合う干渉効果により表面反射が低減する。こ
の反射防止層としての薄膜の屈折率は、透明樹脂フィル
ムや多層積層延伸フィルムの屈折率より低いことが好ま
しく、非結晶性の透明含フッ素系重合体が好ましい。非
結晶性の透明含フッ素系重合体よりなる薄膜反射防止層
は、屈折率１．２８〜１．４４の透明含フッ素系重合体
を０．０５〜０．２５μｍの厚さで形成して得られ、そ
の全光線反射率が７％未満のものが好ましい。このよう
な非結晶性の透明含フッ素重合体を反射防止層とする低
屈折率透明樹脂としては、例えばパーフルオクタン、Ｃ
Ｆ₃（ＣＦ₂）_nＣＨ＝ＣＨ₂（ｎ：５〜１１）、ＣＦ
₃（ＣＦ₂）_mＣＨ₂ＣＨ₃（ｍ：５〜１１）等の特定のフ
ッ素系溶剤に可溶な重合体、アクリル酸含フッ素アルキ
ルエステル重合体、メタクリル酸含フッ素アルキルエス
テル重合体、商品名「サイトップ」（旭硝子社製）、お
よび商品名「テフロンＡＦ」（デユポン社製）が知られ
る。これらは、スプレーコート法、スピンコート法、デ
イップコート法、ロールコート法、グラビアコート法、
またはダイコート法等によりコーテイングすればよい。

【００３３】さらにまた、本発明で使用する防汚層とし
ては、任意のものが採用でき、例えば、反射防止層で既
に述べた透明フッ素重合体などが好ましく挙げられる。

【００３４】

【実施例】以下、実施例を掲げて、本発明をさらに詳細
に説明する。なお、上記特性値、評価方法は、それぞれ
次の測定法にて測定したものである。（１）融点、ガラス転移点（Ｔｇ）ポリエステル樹脂のチップを２０ｍｇサンプリングし、
ＴＡインスツルメンツ社製ＤＳＣ（DSC2920)を用い、２
０℃／min．の昇温速度で、ガラス転移温度およびを融
点を測定した。（２）各層の厚み測定フィルムを三角形に切り出し、包埋カプセルに固定後、
エポキシ樹脂にて包埋する。ミクロトーム（ULTRACUT-
S)で縦方向に平行な断面を５０ｎｍ厚の薄膜切片にす
る。透過型電子顕微鏡を用い、加速電圧１００ｋｖにて
観察、撮影し、写真より、各層の厚みを測定し、Ａ層と
Ｂ層のそれぞれの平均厚みおよび相対標準偏差を求め
た。（３）ピーク波長、ピーク反射率測定島津製作所製分光光度計ＭＰＣ−３１００を用い、各波
長でのアルミ蒸着したミラーとの相対鏡面反射率を波長
３５０ｎｍから２１００ｎｍの範囲で測定した。その反
射率がピークとなる波長をピーク波長とし、その反射率
をピーク反射率（Ｐ_NP％）とした。（４）可視光線透過率（３）と同様に島津製作所製分光光度計ＭＰＣ−３１０
０を用い、各波長での光線透過率を求め、可視光領域
（４５０ｎｍ〜７００ｎｍ）での平均光線透過率を可視
光線透過率（Ｔ_VA％）とした。（５）近赤外線反射率（３）と同様に島津製作所製分光光度計ＭＰＣ−３１０
０を用い、各波長での光線透過率を求め、近赤外線領域
（７５０ｎｍ〜２１００ｎｍ）での平均光線反射率を近
赤外線反射率（Ｒ_NA％）とした。（６）表面抵抗値三菱化学（株）製Ｌｏｒｅｓｔａ−ＧＰを用い、４端子
法により、金属−誘電体層の表面抵抗を測定した。

【００３５】［実施例１］平均粒径０．２μｍ、長径と
短径の比が１．０５、粒径の相対標準偏差が０．１５の
真球状シリカ粒子を０．１ｗｔ％添加したポリエチレン
−２，６−ナフタレート（ＰＥＮ）をＡ層の樹脂として
調製し、不活性粒子を含まないイソフタル酸を１２モル
％共重合したポリエチレンテレフタレート（ＩＡ１２）
をＢ層の樹脂として調製した。Ａ層の樹脂のガラス転移
点（Ｔｇ）は、１２１℃、Ｂ層の樹脂のガラス転移点
（Ｔｇ）は、７４℃であった。それぞれの樹脂を１６０
℃で３時間乾燥後、押し出し機に供給して、溶融させ、
Ａ層が２５層、Ｂ層が２４層に分岐させた後、Ａ層とＢ
層を交互に積層させるような多層フィードブロック装置
を使用して、合流させ、その積層状態を保持したままダ
イへと導き、キャスティングドラム上にキャストしてＡ
層とＢ層が交互の積層された４９層の未延伸シートを作
成した。このとき、Ａ層とＢ層の樹脂の押し出し量比
が、１：０．７になるように調整し、両表面層が、Ａ層
となるように積層させた。未延伸シートを１４０℃の温
度で縦方向に３．６倍延伸し、さらに１５０℃の延伸温
度で横方向に５．７倍に延伸し、２１０℃で３秒間熱処
理を行った。得られた多層積層延伸フィルムは、全体厚
み８．０μｍ、Ａ層の平均厚み０．２１μｍ、Ａ層の厚
みの相対標準偏差０．１、Ｂ層の平均厚み０．１４μｍ
およびＢ層の厚みの相対標準偏差０．１であった。

【００３６】次に、前述の多層積層延伸フィルムとは別
に、厚さ２５μｍの２軸配向ポリエチレンテレフタレー
トフィルムを用意し、その片面に酸化インジウム層（厚
さ１．５ｎｍ）−銀薄膜層（厚さ１２ｎｍ）−酸化イン
ジウム層（厚さ１ｎｍ）を、この順で、真空条件（６．
７×１０^-3Ｐａ）下でスパッタリング法によって形成し
た。

【００３７】そして、ドライラミネート法により厚さ３
μｍの接着剤からなる層を介して、前述の多層積層延伸
フィルムと金属−誘電体層が片面に形成された２軸配向
ポリエチレンテレフタレートフィルムとを貼り合せて積
層体とした。得られた積層体の特性は、表１に示す。

【００３８】［実施例２］実施例１の多層積層延伸フィ
ルムを、各層の厚み及び厚みの標準偏差を変えずに、全
体の厚みが２４μｍ、Ａ層が７５層およびＢ層が７４層
のものに変更して、２軸配向ポリエチレンテレフタレー
トフィルムと接着層を用いずに、該多層積層延伸フィル
ムの片面に直接金属−誘電体層を形成した以外は、実施
例１と同様な操作を繰り返した。得られた積層体の特性
は、表１に示す。

【００３９】［比較例１］実施例１の積層体から金属−
誘電体層、２軸配向ポリエチレンテレフタレートフィル
ムおよび接着層を除いた多層積層延伸フィルムのみで、
積層体とした。得られた積層体の特性は、表１に示す。

【００４０】［比較例２］実施例２の積層体から金属−
誘電体層を除いた多層積層延伸フィルムのみで、積層体
とした。得られた積層体の特性は、表１に示す。

【００４１】［比較例３］比較例２の多層積層延伸フィ
ルムを、各層の厚み及び厚みの標準偏差を変えずに、全
体の厚みが４８μｍ、Ａ層が１４９層およびＢ層が１４
８層のものに変更した以外は、比較例２と同様な操作を
繰り返した。得られた積層体の特性は、表１に示す。

【００４２】［比較例４］実施例１の積層体から多層積
層延伸フィルムおよび接着層を除いた金属−誘電体層を
片面に形成した２軸配向ポリエチレンテレフタレートフ
ィルムのみで、積層体とした。得られた積層体の特性
は、表１に示す。

【００４３】［比較例５］比較例４の金属−誘電体層
を、酸化インジウム層（厚さ１．５ｎｍ）−銀薄膜層
（厚さ１２ｎｍ）−酸化インジウム層（厚さ１．５ｎ
ｍ）−銀薄膜層（厚さ１２ｎｍ）−酸化インジウム層
（厚さ１．５ｎｍ）−銀薄膜層（厚さ１２ｎｍ）−酸化
インジウム層（厚さ１ｎｍ）に変更した以外は、比較例
４と同様な操作を繰り返した。得られた積層体の特性
は、表１に示す。

【００４４】

【表１】

【００４５】

【発明の効果】本発明の積層体は、高価な近赤外線吸収
剤を使用することなく、広帯域の近赤外線に対する放射
防止機能と電磁波に対する遮蔽機能とを有する透明な金
属層を積層した積層体に、さらに、多層間の構造的な干
渉とによって光を選択的に反射させる層積層延伸フィル
ムを積層しているため、実用に耐え得る可視光線の透過
率を維持しながらも、特定波長の近赤外線に対する効率
的な放射防止機能を安価に具備させることができた極め
て優れたものである。したがって、映像機器の内部構造
の保護および映像機器の表示面から放射される近赤外線
や電磁波による周辺機器への誤作動を、高度に且つ効率
的に防止でき、映像機器表示装置の前面パネル用に好適
に使用することができる。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】屈折率の異なる２種の透明樹脂を交互に
積層した多層積層延伸フィルムと、金属および誘電体を
それぞれ交互に積層した金属−誘電体層とからなる積層
体であって、下記の（イ）〜（ニ）を同時に具備するこ
とを特徴とするプラズマディスプレイ前面板用積層体。（イ）波長４００〜７００ｎｍの可視光領域における平
均透過率（Ｔ_VA％）が少なくとも６０％であること；（ロ）波長７５０〜２１００ｎｍの近赤外線領域に反射
ピークを有し、且つ、該反射ピークにおける反射率（Ｒ
_NP％）が少なくとも７０％であること；（ハ）波長７５０〜２１００ｎｍの近赤外線領域におけ
る平均反射率（Ｒ_NA％）が少なくとも５０％であるこ
と；および、（ニ）積層体中の金属−誘電体層における表面の電気抵
抗が高々２０Ω／□であること。
【請求項２】多層積層延伸フィルムが、平均粒径０．
０１〜２μｍの不活性粒子を０．００１〜０．５重量％
含有するポリエチレン−２，６−ナフタレートからなる
層（Ａ層）と、該Ａ層よりも屈折率の低い透明樹脂（Ｂ
層）を１１層以上交互に積層したものである請求項１記
載のプラズマディスプレイ前面板用積層体。
【請求項３】Ｂ層の透明樹脂が、融点２１０〜２４５
℃であるポリエチレンテレフタレートである請求項２記
載のプラズマディスプレイ前面板用積層体。
【請求項４】Ｂ層の透明樹脂が、イソフタル酸共重合
ポリエチレンテレフタレートで、且つ、そのガラス転移
温度（Ｔｇ）が、Ａ層のポリエチレン−２，６−ナフタ
レートよりも少なくとも４０℃低い請求項３記載のプラ
ズマディスプレイ前面板用積層体。
【請求項５】Ｂ層の透明樹脂が、ポリエチレンテレフ
タレートまたはイソフタル酸共重合ポリエチレンテレフ
タレートと、ポリエチレン−２，６−ナフタレートとの
混合物である請求項２記載のプラズマディスプレイ前面
板用積層体。
【請求項６】金属−誘電体層における金属層が、Ａ
ｕ、Ａｇ、Ｃｕ、Ａｌよりなる群から選ばれる少なくと
も１種からなり、その厚みが５〜１０００ｎｍの範囲に
ある請求項１記載のプラズマディスプレイ前面板用積層
体。
【請求項７】金属−誘電体層における誘電体層が、Ｔ
ｉＯ₂、ＺｒＯ₂，ＳｎＯ₂、Ｉｎ₂Ｏ₃よりなる群から選
ばれる少なくとも１種からなり、その厚みが０．１〜７
５０ｎｍの範囲にある請求項１記載のプラズマディスプ
レイ前面板用積層体。
【請求項８】金属−誘電体層が、金属の両側に誘電体
を積層したサンドイッチ構造である請求項１記載のプラ
ズマディスプレイ前面板用積層体。