JP2006047437A

JP2006047437A - 光学フィルタ及びプラズマディスプレイパネル

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Publication number: JP2006047437A
Application number: JP2004224950A
Authority: JP
Inventors: Takayuki Shibata; 隆之柴田
Original assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Current assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date: 2004-07-30
Filing date: 2004-07-30
Publication date: 2006-02-16

Abstract

【課題】エチレンビニルアセテートを含む耐衝撃層を設けた光学フィルタを用いたプラズマディスプレイパネルが熱負荷および加湿熱負荷を受けても、十分な耐衝撃性を有し、且つ透明性が高い光学フィルタを提供し、該光学フィルタを用いたプラズマディスプレイパネルを提供する。
【解決手段】光学フィルタは、（１）耐衝撃層を有する光学フィルタであって、（２）該光学フィルタにおいて、ショワーＡ硬度が９０未満である耐衝撃層を有し、（３）該耐衝撃層は、ビニルアセテートを含有するエチレンビニルアセテートを有する樹脂組成物で形成されたものであって、エチレンビニルアセテートの結晶化が抑制されたものであり、熱負荷後及び／又は湿熱負荷後の該耐衝撃層の内部ヘーズが３．０％以下を維持できる性質を有する。前記エチレンビニルアセテート中のビニルアセテートの含有量が２５〜３５質量％であることが好ましい。
【選択図】なし

Description

本発明は、プラズマディスプレイパネルに直接貼付することができ、プラズマディスプレイパネルに耐衝撃性を付与することができる光学フィルタ、該光学フィルタを貼付したプラズマディスプレイパネルに関する。

近年、大型の薄型テレビ、薄型ディスプレイ用途等にプラズマディスプレイ装置の開発、製品化が行われている。このプラズマディスプレイ装置はその構造上、他の機器に誤動作を与えたり、リモートコントロールの操作に影響を与える近赤外線や、色調に影響を与えるネオン光がディスプレイ内部から放出されるため、これらを遮断する必要がある。また、プラズマディスプレイ装置から電磁波が発生するため、人体への影響を考慮して、電磁波の放出の強さを規格内に低減化することが要求されている。

これらの要求に鑑みて、既にプラズマディスプレイパネルに貼付するための各種フィルタが開発されており、例えば、特開２０００−５９０８３号公報（特許文献１）には電磁波遮蔽効果と近赤外線カット、色補正、反射防止の各層を蓄積した光学フィルタが開示されている。このような光学フィルタは、透明性に優れていることが基本的要件である。

一方、プラズマディスプレイ装置は、大型化が進む中、軽量化・薄肉化が求められ、光学フィルタを設けた状態でのプラズマディスプレイパネルの耐衝撃性の向上がますます必要となっている。

特開２００２−２６０５３９号公報（特許文献２）には、プラズマディスプレイ前面に反射防止膜を有する光学フィルタを粘着剤層を介して貼付したディスプレイパネルが示されている。特許文献２のディスプレイパネルに貼着されている光学フィルタは、粘着剤層に耐衝撃性の改善を与えているため、耐衝撃性と接着性が必要となっている。特許文献２の実施例１では、アクリル酸共重合体を溶融してシート状に成形した粘着シートを光学フィルタに貼りつけ、次にプラズマディスプレイに貼りつけている。また、特許文献２の実施例２では、プラズマディスプレイの前面にフィルタを貼り付けるため、ディスプレイとフィルタの間隔を１ｍｍに保って透明熱硬化性シリコーンを用いて、熱処理を行って貼り合わせている。

特開２００２−２３６４９号公報（特許文献３）には、衝撃緩和積層体を構成するために、飛散防止層と２種類の割れ防止層と、透明粘着層とからなる複雑な多層構造を必要としている。

特開２０００−５９０８３号公報特開２００２−２６０５３９号公報特開２００２−２３６４９号公報

本発明者らは、プラズマディスプレイパネルに耐衝撃性を与えることを目的として、プラズマディスプレイパネルの表示面に直接貼付されるための光学フィルタを構成する積層体の一部にエチレンビニルアセテートを含む耐衝撃層を設けると耐衝撃性に優れた効果を発揮することに着目している。

しかしながら、プラズマディスプレイパネルは製造過程において、８０℃絶乾、１０００時間の加熱試験や、６０℃、９５％湿度、１０００時間の加湿熱試験を行うことが当業界では一般的である。８０℃絶乾による加熱試験においては、プラズマディプレイパネルの表面温度は、色（特に白色）によって、また電源を入れている時間によって、最高で１００℃に達することもある。また、耐衝撃層を積層成形する際に、例えば、樹脂を押出ラミネート成形する際に、樹脂が２５０℃位に溶融される。本発明者は、これらの加熱負荷及び湿熱負荷を受けたエチレンビニルアセテートを含む耐衝撃層を設けた光学フィルタは、白濁化し、透明性が低下するという問題点を見出した。

そこで、本発明は、エチレンビニルアセテートを含む耐衝撃層を設けた光学フィルタを用いたプラズマディスプレイパネルが熱負荷および湿熱負荷を受けても、十分な耐衝撃性を有し、且つ白濁化が抑制された透明性が高い光学フィルタを提供し、該光学フィルタを用いたプラズマディスプレイパネルを提供することを目的とする。

さらに本発明の付随的な目的は、上記性質を有する光学フィルタに加えて、反射防止性を付与した光学フィルタを提供することを目的とする。

さらに本発明の付随的な目的は、上記性質を有する光学フィルタに加えて、近赤外線吸収性の樹脂層を備えた光学フィルタを提供することを目的とする。

さらに本発明の付随的な目的は、上記性質を有する光学フィルタに加えて、ネオン光吸収性の樹脂層を備えた光学フィルタを提供することを目的とする。

さらに本発明の付随的な目的は、上記性質を有する光学フィルタに加えて、透明性の高い光学フィルタを提供することを目的とする。

さらに本発明の付随的な目的は、上記性質を有する光学フィルタに加えて、静電気及び／又は電磁波ノイズが抑制された光学フィルタを提供することを目的とする。

さらに本発明の付随的な目的は、上記性質を有する光学フィルタが表示面に貼着されたプラズマディスプレイパネルを提供することを目的とする。

本発明の光学フィルタは、（１）耐衝撃層を有する光学フィルタであって、（２）該光学フィルタにおいて、ショワーＡ硬度が９０未満である耐衝撃層を有し、（３）該耐衝撃層は、ビニルアセテートを含有するエチレンビニルアセテート及び結晶化核剤を有する樹脂組成物で形成されたものであって、エチレンビニルアセテートの結晶化が抑制されたものであり、熱負荷後及び／又は湿熱負荷後の該耐衝撃層の内部ヘーズが３．０％以下を維持できる性質を有することを特徴とする白濁化が抑制された光学フィルタである。

本発明の光学フィルタの耐衝撃層を形成するための樹脂組成物中には、結晶化核剤が５００ｐｐｍ−１００，０００ｐｐｍ含有されているので、生成されるエチレンビニルアセテートの結晶が光の波長以上の粒径に成長せず、光の波長未満の粒径となるため、耐衝撃層の白濁化が抑制され透明性が失われない。

本発明の光学フィルタは耐衝撃層を成形するのに樹脂組成物が熔融成形される際に、或いは、製造された光学フィルタに対して加熱試験（約８０℃絶乾、約１０００時間程度）および加湿熱試験（約６０℃、約湿度９５％、約１０００時間程度）を行う際に、エチレンビニルアセテートの結晶が生成されるが、樹脂組成物中あるいは耐衝撃層中に結晶化核剤が５００ｐｐｍ−１００，０００ｐｐｍ含有されているので、加熱後冷却時に樹脂組成物あるいは耐衝撃層の結晶セグメントにより粘度が上昇し、結晶セグメントの集合化が抑制されるため、光の波長以下の微細な粒径の結晶段階で結晶化が終わる。そのため、耐衝撃層は白濁化が防止され透明な膜となる。

本発明において耐衝撃層の硬度を規定するショワーＡ硬度はＪＩＳ−Ｋ７３１１−１９９５による方法に測定した。

本発明において内部ヘーズは、耐衝撃層のみのヘーズを意味し、ＪＩＳ−Ｋ７１０５による方法により測定した。

本発明の光学フィルタは、前記光学フィルタをプラズマディスプレイパネルに貼付したときのプラズマディスプレイパネルに対する衝撃試験による破壊エネルギーが、加熱試験前および加湿熱試験前において０．６Ｊ以上であり、８０℃、１０００時間の加熱試験後において０．５Ｊ以上であり、６０℃、湿度９５％、１０００時間後の加湿熱試験後において０．５Ｊ以上であることが必要である。

衝撃試験は、図５に示す衝撃試験装置を用いて行い、高さ９．６ｃｍから直径５０．８ｍｍの鋼球１２（質量５３４ｇ）（ＪＩＳＢ１５０１玉軸受用鋼球に規定されたもの）を落下させたときの、破壊エネルギーを測定して行った。試験台８としてＳＵＳ製土台９と、厚さ１０ｍｍのガラス板１０を貼り合わせたものを用いた。該試験台８上に、プラズマディスプレイ用のプラズマディスプレイパネル１１として旭硝子社製の高歪点ガラス板（ＰＤ−２００：商品名、厚み２．８ｍｍ）を載置した。なお、ＰＤ−２００は、プラズマディスプレイメーカー各社が一般的に使用しているプラズマディスプレイ用の前面ガラス板１１である。試験台８上に前面ガラス板１１を直接載置した理由は、プラズマディスプレイの筐体によるクッション性を排除するためである。

本発明の光学フィルタにおける耐衝撃層を作製するのに用いる樹脂は、ビニルアセテートの含有量が２５〜３５質量％のエチレンビニルアセテートを有することが好ましく、且つ結晶化核剤を５００ｐｐｍ−１００，０００ｐｐｍ、好ましくは１０００ｐｐｍ〜５００００ｐｐｍ、最も好ましくは、１０００ｐｐｍ〜５０００ｐｐｍである。

ビニルアセテートの含有量が低いエチレンビニルアセテート、例えば、５質量％未満のビニルアセテート含有量のエチレンビニルアセテートだと、側鎖となるアセトキシ基の量が少ないため、エチレンビニルアセテートの結晶が発生しやすく、光の波長よりも大きい結晶となるため耐衝撃層の透明度が下がり、硬度も高いため耐衝撃性が発現しない。ビニルアセテートの含有量が５質量％−２５質量％未満のエチレンビニルアセテートだと、透明性に優れているが、硬度は高く、耐衝撃性が発現しない。一方、ビニルアセテートの含有量が高くなると、例えば２５重量％以上だと、エチレンビニルアセテートの結晶化温度が低くなるため、樹脂の熔融押出時に冷却されるときにセグメントが集合する時間が長くなることで、結晶化が進むことになり、透明性が下がるが、硬度が低く、耐衝撃性は高い。また、ビニルアセテートの含有量が３５質量％を超えるエチレンビニルアセテートだと、樹脂粘度が高く（ＭＦＲが５０〜１０００程度）となり、押出し時のスクリュートルクが高くなり、押出せなかったり、膜厚がばらついたりする。膜厚のばらつきは、耐衝撃性のばらつきに直結するので好ましくない。

ところで、ビニルアセテートの含有量が２５質量％−３５質量％のエチレンビニルアセテートであっても、結晶化核剤を５００ｐｐｍ−１００，０００ｐｐｍ、好ましくは１０００ｐｐｍ〜５００００ｐｐｍ、最も好ましくは、１０００ｐｐｍ〜５０００ｐｐｍを含有させると、前記に説明したように耐衝撃層は白濁化が防止され透明となり、しかも、耐衝撃性に優れたものとなることを本発明者は見いだした。結晶化核剤が５００ｐｐｍ未満だと、微細な結晶を造くるための結晶化核剤の量が不十分であり、少ない量の結晶化核剤からは大きな結晶が生ずることになるので、光の波長よりも大きい粒径の結晶が出現して耐衝撃層が白濁化する。また、結晶化核剤が１００，０００ｐｐｍを超えると、結晶粒子の数が多くなりすぎて、結晶化核剤自体が不透明なため耐衝撃層が白濁化する。

本発明の光学フィルタは、層構成中において、８００〜１０００ｎｍの波長範囲の透過率が２０％以下となるような、近赤外線吸収化合物を含む樹脂層を有することが好ましい。

本発明の光学フィルタは、層構成中において、ネオン光５６０〜６３０ｎｍの波長範囲に最大吸収波長を持つネオン光吸収化合物を含む樹脂層を有し、該波長範囲における最大吸収波長の透過率が４０％以下となることが好ましい。

本発明の光学フィルタは、可視光３８０〜７８０ｎｍの波長範囲の透過率が４０％以上であることが好ましい。

本発明の光学フィルタは、層構成中において、プラズマディスプレイ装置から発生する静電気及び／又は電磁波ノイズをシールドするための電磁波遮蔽層を有することが好ましい。

本発明の光学フィルタは、プラズマディスプレイパネルに貼着するための粘着剤層を設けることができる。

本発明のプラズマディスプレイパネルは、前記した形態の光学フィルタを粘着剤層を介して表示面に貼付して構成することができる。

本発明のエチレンビニルアセテートを含む耐衝撃層を設けた光学フィルタは、熱負荷および湿熱負荷を受けても、白濁化が抑制されており、且つ透明性が高い。さらに本発明の光学フィルタは前記性質に加えて、熱負荷および湿熱負荷後においても十分な耐衝撃性を維持している。したがって、本発明の光学フィルタを組み込んだプラズマディスプレイパネルは熱負荷および湿熱負荷後においても耐衝撃性に優れると共に透明性にも優れる。

図１は本発明の耐衝撃層を設けた実施態様１の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。１は反射防止層であり、色素含有粘着剤層２を介して耐衝撃層５に積層されている。さらに耐衝撃層５は粘着剤層４を介して近赤外線吸収層３に積層されている。さらに、近赤外線吸収層３は粘着剤層４を介して電磁波遮蔽層６に積層されている。近赤外線吸収層３と電磁波遮蔽層６との間に介在する粘着剤層４は、電磁波遮蔽層６のメッシュ構造の凹凸内部にも充填され、電磁波遮蔽層６上の平坦化に寄与している。該電磁波遮蔽層６における金属メッシュ表面の黒化処理により形成された皮膜（黒のベタ塗りにて示す）は、プラズマディスプレイパネル７貼付側に設けられている。さらに電磁波遮蔽層６の一側には粘着剤層４が積層されており、これらの各層からなる積層体は、実施態様１の光学フィルタを構成している。該光学フィルタは、さらにプラズマディスプレイパネル７の表面に粘着剤層４を介して接合されている。

図２は本発明の耐衝撃層を設けた実施態様２の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。１は反射防止層であり、粘着剤層４を介して耐衝撃層５に積層されている。さらに耐衝撃層５は色素含有粘着剤層２を介して近赤外線吸収層３に積層されている。さらに、近赤外線吸収層３は粘着剤層４を介して電磁波遮蔽層６に積層されている。近赤外線吸収層３と電磁波遮蔽層６との間に介在する粘着剤層４は、電磁波遮蔽層６のメッシュ構造の凹凸内部にも充填され、電磁波遮蔽層６上の平坦化に寄与している。該電磁波遮蔽層６における金属メッシュ表面の黒化処理により形成された皮膜（黒のベタ塗りにて示す）は、プラズマディスプレイパネル７貼付側に設けられている。さらに電磁波遮蔽層６の一側には粘着剤層４が積層されており、これらの各層からなる積層体は、実施態様１の光学フィルタを構成している。該光学フィルタは、さらにプラズマディスプレイパネル７の表面に粘着剤層４を介して接合されている。

図３は本発明の耐衝撃層を設けた実施態様３の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。１は反射防止層であり、粘着剤層４を介して耐衝撃層５に積層されている。さらに耐衝撃層５は粘着剤層４を介して近赤外線吸収層３に積層されている。さらに、近赤外線吸収層３は色素含有粘着剤層２を介して電磁波遮蔽層６に積層されている。近赤外線吸収層３と電磁波遮蔽層６との間に介在する色素含有粘着剤層２は、電磁波遮蔽層６のメッシュ構造の凹凸内部にも充填され、電磁波遮蔽層６上の平坦化に寄与している。該電磁波遮蔽層６における金属メッシュ表面の黒化処理により形成された皮膜（黒のベタ塗りにて示す）は、プラズマディスプレイパネル７貼付側に設けられている。さらに電磁波遮蔽層６の一側には粘着剤層４が積層されており、これらの各層からなる積層体は、実施態様１の光学フィルタを構成している。該光学フィルタはさらにプラズマディスプレイパネル７の表面に粘着剤層４を介して接合されている。

図４は本発明の耐衝撃層を設けた実施態様４の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。１は反射防止層であり、粘着剤層４を介して耐衝撃層５に積層されている。さらに耐衝撃層５は粘着剤層４を介して近赤外線吸収層３に積層されている。さらに、近赤外線吸収層３は粘着剤層４を介して電磁波遮蔽層６に積層されている。近赤外線吸収層３と電磁波遮蔽層６との間に介在する粘着剤層４は、電磁波遮蔽層６のメッシュ構造の凹凸内部にも充填され、電磁波遮蔽層６上の平坦化に寄与している。該電磁波遮蔽層６における金属メッシュ表面の黒化処理により形成された皮膜（黒のベタ塗りにて示す）は、プラズマディスプレイパネル７貼付側に設けられている。さらに電磁波遮蔽層６の一側には色素含有粘着剤層２が積層されており、これらの各層からなる積層体は、実施態様１の光学フィルタを構成している。該光学フィルタはさらにプラズマディスプレイパネル７の表面に色素含有粘着剤層２を介して接合されている。

図５は本発明の耐衝撃層を設けた実施態様５の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。図５の光学フィルタは、図１の光学フィルタにおいて、電磁波遮蔽層６における金属メッシュ表面の黒化処理が、プラズマディスプレイパネル７の貼付側ではなく、反射防止層１側であり、且つ、電磁波遮蔽層６の金属メッシュ構造の凹凸内部にも充填される粘着剤層４は、プラズマディスプレイパネルと電磁波遮蔽層との間に介在する粘着剤層４であることが、図１と異なるだけであり、その外は図１と同じ層構成である。

図６は本発明の耐衝撃層を設けた実施態様６の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。図６の光学フィルタは、図２の光学フィルタにおいて、電磁波遮蔽層６における金属メッシュ表面の黒化処理が、プラズマディスプレイパネル７の貼付側ではなく、反射防止層１側であり、且つ、電磁波遮蔽層６の金属メッシュ構造の凹凸内部にも充填される粘着剤層４は、プラズマディスプレイパネルと電磁波遮蔽層との間に介在する粘着剤層４であることが、図２と異なるだけであり、その外は図２と同じ層構成である。

図７は本発明の耐衝撃層を設けた実施態様７の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。図７の光学フィルタは、図３の光学フィルタにおいて、電磁波遮蔽層６における金属メッシュ表面の黒化処理が、プラズマディスプレイパネル７の貼付側ではなく、反射防止層１側であり、且つ、電磁波遮蔽層６の金属メッシュ構造の凹凸内部にも充填される粘着剤層４は、プラズマディスプレイパネルと電磁波遮蔽層との間に介在する粘着剤層４であることが、図３と異なるだけであり、その外は図３と同じ層構成である。

図８は本発明の耐衝撃層を設けた実施態様８の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。図８の光学フィルタは、図４の光学フィルタにおいて、電磁波遮蔽層６における金属メッシュ表面の黒化処理が、プラズマディスプレイパネル７の貼付側ではなく、反射防止層１側であり、且つ、電磁波遮蔽層６の金属メッシュ構造の凹凸内部にも充填される粘着剤層４は、プラズマディスプレイパネルと電磁波遮蔽層との間に介在する色素含有粘着剤層２であることが、図４と異なるだけであり、その外は図４と同じ層構成である。

図９は本発明の耐衝撃層を設けた実施態様９の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。１は反射防止層であり、色素含有粘着剤層２を介して近赤外線吸収層３に積層されている。さらに近赤外線吸収層３は粘着剤層４を介して耐衝撃層５に積層されている。さらに、耐衝撃層５は粘着剤層４を介して電磁波遮蔽層６に積層されている。さらに電磁波遮蔽層６のプラズマディスプレイパネル７側には粘着剤層４が積層されており、これらの各層からなる積層体は、実施態様９の光学フィルタを構成している。該光学フィルタはさらにプラズマディスプレイパネル７の表面に粘着剤層４を介して接合されている。該電磁波遮蔽層６における金属メッシュ表面の黒化処理により形成された皮膜（黒のベタ塗りにて示す）は、プラズマディスプレイパネル７貼付側に設けられている。耐衝撃層５と電磁波遮蔽層６の間に介在する粘着剤層４は、電磁波遮蔽層６のメッシュ構造の凹凸内部にも充填され、電磁波遮蔽層６上の平坦化に寄与している。

図１０は本発明の耐衝撃層を設けた実施態様１０の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。図１０の光学フィルタは、図９の光学フィルタにおいて、反射防止層１と近赤外線吸収層３の間に介在する色素含有粘着剤層２を、近赤外線吸収層３と耐衝撃層５の間に介在する粘着剤層４と入れ換えたものである。その他の層構成は、全て図９と同じである。

図１１は本発明の耐衝撃層を設けた実施態様１１の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。図１１の光学フィルタは、図９の光学フィルタにおいて、反射防止層１と近赤外線吸収層３の間に介在する色素含有粘着剤層２を、耐衝撃層５と電磁波遮蔽層６の間に介在する粘着剤層４と入れ換えたものである。その他の層構成は、全て図９と同じである。

図１２は本発明の耐衝撃層を設けた実施態様１２の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。図１２の光学フィルタは、図９の光学フィルタにおいて、反射防止層１と近赤外線吸収層３の間に介在する色素含有粘着剤層２を、電磁波遮蔽層６のプラズマディスプレイパネル７側に設けられた粘着剤層４と入れ換えたものである。その他の層構成は、全て図９と同じである。

図１３は本発明の耐衝撃層を設けた実施態様１３の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。１は反射防止層であり、色素含有粘着剤層２を介して近赤外線吸収層３に積層されている。さらに近赤外線吸収層３は粘着剤層４を介して耐衝撃層５に積層されている。さらに、耐衝撃層５は粘着剤層４を介して電磁波遮蔽層６に積層されている。該電磁波遮蔽層６における金属メッシュ表面の黒化処理は、プラズマディスプレイパネル７の貼付側ではなく、反射防止層１側に設けられている。さらに電磁波遮蔽層６のプラズマディスプレイパネル側には粘着剤層４が積層されており、該電磁波遮蔽層６における金属メッシュ構造の凹凸内部にも充填され、電磁波遮蔽層６上の平坦化に寄与している。これらの各層からなる積層体は、実施態様１３の光学フィルタを構成している。該光学フィルタはさらにプラズマディスプレイパネル７の表面に粘着剤層４を介して接合されている。

図１４は本発明の耐衝撃層を設けた実施態様１４の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。１は反射防止層であり、粘着剤層４を介して近赤外線吸収層３に積層されている。さらに近赤外線吸収層３は色素含有粘着剤層２を介して耐衝撃層５に積層されている。さらに、耐衝撃層５は粘着剤層４を介して電磁波遮蔽層６に積層されている。該電磁波遮蔽層６における金属メッシュ表面の黒化処理は、プラズマディスプレイパネル７の貼付側ではなく、反射防止層１側に設けられている。さらに電磁波遮蔽層６のプラズマディスプレイパネル７側には粘着剤層４が積層されており、該電磁波遮蔽層６における金属メッシュ構造の凹凸内部にも粘着剤層４が充填され、電磁波遮蔽層６上の平坦化に寄与している。これらの各層からなる積層体は、実施態様１４の光学フィルタを構成している。これらの各層からなる積層体は、実施態様１３の光学フィルタを構成している。該光学フィルタはさらにプラズマディスプレイパネル７の表面に粘着剤層４を介して接合されている。

図１５は本発明の耐衝撃層を設けた実施態様１５の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。１は反射防止層であり、粘着剤層４を介して近赤外線吸収層３に積層されている。さらに近赤外線吸収層３は粘着剤層４を介して耐衝撃層５に積層されている。さらに、耐衝撃層５は色素含有粘着剤層２を介して電磁波遮蔽層６に積層されている。該電磁波遮蔽層６における金属メッシュ表面の黒化処理は、プラズマディスプレイパネル７の貼付側ではなく、反射防止層１側に設けられている。さらに電磁波遮蔽層６のプラズマディスプレイパネル７側には粘着剤層４が積層されており、該電磁波遮蔽層６における金属メッシュ構造の凹凸内部にも粘着剤層４が充填され、電磁波遮蔽層６上の平坦化に寄与している。これらの各層からなる積層体は、実施態様１５の光学フィルタを構成している。該光学フィルタはさらにプラズマディスプレイパネル７の表面に粘着剤層４を介して接合されている。

図１６は本発明の耐衝撃層を設けた実施態様１６の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。１は反射防止層であり、粘着剤層４を介して近赤外線吸収層３に積層されている。さらに近赤外線吸収層３は粘着剤層４を介して耐衝撃層５に積層されている。さらに、耐衝撃層５は粘着剤層４を介して電磁波遮蔽層６に積層されている。該電磁波遮蔽層６における金属メッシュ表面の黒化処理は、プラズマディスプレイパネル７の貼付側ではなく、反射防止層１側に設けられている。さらに電磁波遮蔽層６のプラズマディスプレイパネル７側には色素含有粘着剤層２が積層されており、該電磁波遮蔽層６における金属メッシュ構造の凹凸内部にも色素含有粘着剤層２が充填され、電磁波遮蔽層６上の平坦化に寄与している。これらの各層からなる積層体は、実施態様１６の光学フィルタを構成している。該光学フィルタはさらにプラズマディスプレイパネル７の表面に色素含有粘着剤層２を介して接合されている。

図１７は本発明の耐衝撃層を設けた実施態様１７の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。１は反射防止層であり、色素含有粘着剤層２を介して近赤外線吸収層３に積層されている。さらに近赤外線吸収層３は粘着剤層４を介して電磁波遮蔽層６に積層されている。該電磁波遮蔽層６における金属メッシュ表面の黒化処理により形成された皮膜（黒のベタ塗りにて示す）は、プラズマディスプレイパネル７貼付側に設けられている。また、近赤外線吸収層３と電磁波遮蔽層６との間に介在する粘着剤層４は電磁波遮蔽層６における金属メッシュ構造の凹凸内部にも充填され、電磁波遮蔽層６上の平坦化に寄与している。さらに電磁波遮蔽層６は粘着剤層４を介して耐衝撃層５に積層されている。さらに、耐衝撃層５のプラズマディスプレイパネル側７には粘着剤層４が積層されている。これらの各層からなる積層体は、実施態様１７の光学フィルタを構成している。該光学フィルタはさらにプラズマディスプレイパネル７の表面に粘着剤層４を介して接合されている。

図１８は本発明の耐衝撃層を設けた実施態様１８の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。１は反射防止層であり、粘着剤層４を介して近赤外線吸収層３に積層されている。さらに近赤外線吸収層３は色素含有粘着剤層２を介して電磁波遮蔽層６に積層されている。近赤外線吸収層３と電磁波遮蔽層６の間に介在する粘着剤層は、電磁波遮蔽層６における金属メッシュ構造の凹凸内部にも充填され、電磁波遮蔽層６上の平坦化に寄与している。該電磁波遮蔽層６における金属メッシュ表面の黒化処理により形成された皮膜（黒のベタ塗りにて示す）は、プラズマディスプレイパネル７貼付側に設けられている。さらに、電磁波遮蔽層６は粘着剤層４を介して耐衝撃層５に積層されている。さらに、耐衝撃層５の一側には粘着剤層４が積層されている。これらの各層からなる積層体は、実施態様１８の光学フィルタを構成している。該光学フィルタはさらにプラズマディスプレイパネル７の表面に粘着剤層４を介して接合されている。

図１９は本発明の耐衝撃層を設けた実施態様１９の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。１は反射防止層であり、粘着剤層４を介して近赤外線吸収層３に積層されている。さらに近赤外線吸収層３は粘着剤層４を介して電磁波遮蔽層６に積層されている。該電磁波遮蔽層６における金属メッシュ表面の黒化処理により形成された皮膜（黒のベタ塗りにて示す）は、プラズマディスプレイパネル７貼付側に設けられている。また、近赤外線吸収層３と電磁波遮蔽層６との間に介在する粘着剤層４は電磁波遮蔽層６における金属メッシュ構造の凹凸内部にも充填され、電磁波遮蔽層６上の平坦化に寄与している。さらに、電磁波遮蔽層６は、色素含有粘着剤層２を介して耐衝撃層５に積層されている。さらに、耐衝撃層５のプラズマディスプレイパネル７側には粘着剤層４が積層されており、これらの各層からなる積層体は、実施態様１９の光学フィルタを構成している。該光学フィルタはさらにプラズマディスプレイパネル７の表面に粘着剤層４を介して接合されている。

図２０は本発明の耐衝撃層を設けた実施態様２０の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。１は反射防止層であり、粘着剤層４を介して近赤外線吸収層３に積層されている。さらに近赤外線吸収層３は粘着剤層４を介して電磁波遮蔽層６に積層されている。該電磁波遮蔽層６における金属メッシュ表面の黒化処理により形成された皮膜（黒のベタ塗りにて示す）は、プラズマディスプレイパネル７貼付側に設けられている。また、近赤外線吸収層３と電磁波遮蔽層６との間に介在する粘着剤層４は電磁波遮蔽層６における金属メッシュ構造の凹凸内部にも充填され、電磁波遮蔽層６上の平坦化に寄与している。さらに、電磁波遮蔽層６は、粘着剤層４を介して耐衝撃層５に積層されている。さらに、耐衝撃層５の一側には色素含有粘着剤層２が積層されており、これらの各層からなる積層体は、実施態様２０の光学フィルタを構成している。該光学フィルタはさらにプラズマディスプレイパネル７の表面に色素含有粘着剤層２を介して接合されている。

図２１は本発明の耐衝撃層を設けた実施態様２１の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。１は反射防止層であり、色素含有粘着剤層２を介して近赤外線吸収層３に積層されている。さらに近赤外線吸収層３は粘着剤層４を介して電磁波遮蔽層６に積層されている。該電磁波遮蔽層６における金属メッシュ表面の黒化処理により形成された皮膜（黒のベタ塗りにて示す）は、反射防止層１側に設けられている。さらに、電磁波遮蔽層６は、粘着剤層４を介して耐衝撃層５に積層されている。電磁波遮蔽層６と耐衝撃層５との間に設けられた粘着剤層４は、電磁波遮蔽層６における金属メッシュ構造の凹凸内部にも充填され、電磁波遮蔽層６上の平坦化に寄与している。さらに、耐衝撃層５のプラズマディスプレイパネル７側には粘着剤層４が積層されており、これらの各層からなる積層体は、実施態様２１の光学フィルタを構成している。該光学フィルタはさらにプラズマディスプレイパネル７の表面に粘着剤層４を介して接合されている。

図２２は本発明の耐衝撃層を設けた実施態様２２の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。１は反射防止層であり、粘着剤層４を介して近赤外線吸収層３に積層されている。さらに近赤外線吸収層３は色素含有粘着剤層２を介して電磁波遮蔽層６に積層されている。該電磁波遮蔽層６における金属メッシュ表面の黒化処理により形成された皮膜（黒のベタ塗りにて示す）は、反射防止層１側に設けられている。さらに、電磁波遮蔽層６は、粘着剤層４を介して耐衝撃層５に積層されている。電磁波遮蔽層６と耐衝撃層５との間に設けられた粘着剤層４は、電磁波遮蔽層６における金属メッシュ構造の凹凸内部にも充填され、電磁波遮蔽層６上の平坦化に寄与している。さらに、耐衝撃層５のプラズマディスプレイパネル７側には粘着剤層４が積層されており、これらの各層からなる積層体は、実施態様２２の光学フィルタを構成している。該光学フィルタはさらにプラズマディスプレイパネル７の表面に粘着剤層４を介して接合されている。

図２３は本発明の耐衝撃層を設けた実施態様２３の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。１は反射防止層であり、粘着剤層４を介して近赤外線吸収層３に積層されている。さらに近赤外線吸収層３は粘着剤層４を介して電磁波遮蔽層６に積層されている。該電磁波遮蔽層６における金属メッシュ表面の黒化処理により形成された皮膜（黒のベタ塗りにて示す）は、反射防止層１側に設けられている。さらに、電磁波遮蔽層６は、色素含有粘着剤層２を介して耐衝撃層５に積層されている。電磁波遮蔽層６と耐衝撃層５との間に設けられた色素含有粘着剤層２は、電磁波遮蔽層６における金属メッシュ構造の凹凸内部にも充填され、電磁波遮蔽層６上の平坦化に寄与している。さらに、耐衝撃層５のプラズマディスプレイパネル７側には粘着剤層４が積層されており、これらの各層からなる積層体は、実施態様２３の光学フィルタを構成している。該光学フィルタはさらにプラズマディスプレイパネル７の表面に粘着剤層４を介して接合されている。

図２４は本発明の耐衝撃層を設けた実施態様２４の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。１は反射防止層であり、粘着剤層４を介して近赤外線吸収層３に積層されている。さらに近赤外線吸収層３は粘着剤層４を介して電磁波遮蔽層６に積層されている。該電磁波遮蔽層６における金属メッシュ表面の黒化処理により形成された皮膜（黒のベタ塗りにて示す）は、反射防止層１側に設けられている。さらに、電磁波遮蔽層６は、粘着剤層４を介して耐衝撃層５に積層されている。電磁波遮蔽層６と耐衝撃層５との間に設けられた粘着剤層４は、電磁波遮蔽層６における金属メッシュ構造の凹凸内部にも充填され、電磁波遮蔽層６上の平坦化に寄与している。さらに、耐衝撃層５のプラズマディスプレイパネル７側には色素含有粘着剤層２が積層されており、これらの各層からなる積層体は、実施態様２４の光学フィルタを構成している。該光学フィルタはさらにプラズマディスプレイパネル７の表面に色素含有粘着剤層２を介して接合されている。

図１〜図２４において、近赤外線吸収色素、および／又は、ネオン光吸収色素等の色素を色素含有粘着剤層２中に含有しているが、光学フィルタを構成するいかなる層にも含有させることが可能である。

以下、本発明の光学フィルタをプラズマディスプレイに適用する場合の光学フィルタの層構成に用いられる各層を例示して説明する。

耐衝撃層：
本発明の光学フィルタにおける耐衝撃層の形成に使用される樹脂には、ビニルアセテートが２５〜３５質量％のエチレンビニルアセテートを含有している樹脂を用いることが好ましい。ビニルアセテートが５質量％未満だと、耐衝撃層が白濁し、透明性が損なわれる。さらにビニルアセテートが５−２５質量％未満だと透明性に優れているが、硬度は高く、耐衝撃性が発現しない。逆に、３５質量％を超えると樹脂粘度が高く（ＭＦＲが５０〜１０００程度）となり、押出し時のスクリュートルクが高くなり、押出せなかったり、膜厚がばらついたりする。膜厚のばらつきは、耐衝撃性のばらつきに直結する。また、該樹脂は、加熱時密着性があるので、加熱加圧して他の層と積層するのに適している。

耐衝撃層の形成に使用される樹脂組成物中に、結晶化核剤を５００ｐｐｍ−１００，０００ｐｐｍを含有させることの意義は前記に説明したとおりである。本発明に使用される結晶化核剤は、造核剤とも呼ばれ、リン酸金属塩類等のリン酸系化合物、カルボン酸金属塩類、ベンジリデンソルビトール類等のソルビトール系化合物等の一般的に使用されている市販の造核剤が使用できる。

ソルビトール系化合物には、例えば、ジパラメチルジベンジリデンソルビトール（IRGACLEA DM ：商品名、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製）、ベンジリデンソルビトール（IRGACLEA D：商品名、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製）、ベンジリデンソルビトール（ＥＣ−１：商品名、ＥＣ化学株式会社製）、ベンジリデンソルビトール（ＧｅｌａｌｌＭＤ：商品名、新日本捏化株式会社製）、ベンジリデンソルビトール（ＮＣ−４：商品名、三井化学株式会社製）、ベンジリデンソルビトール（Ｍｉｌｌａｒｄ３９８８：商品名、Ｍｉｌｌｋｅｎ社製）が挙げられる。カルボン酸金属塩類には、例えば、安息香酸金属塩、ｔ−ブチル安息香酸アルミニウム塩が挙げられる。リン酸系化合物には、例えば、ＡＤＳＳＴＡＢＮＡ−１１（商品名、旭電化工業株式会社製）が挙げられる。

電磁波遮蔽層：
電磁波遮蔽層は、プラズマディスプレイ等から発生した電磁波を遮蔽する機能を有するものであり、透明基材、接着剤層又は粘着剤層（図示していない）、金属メッシュ層がこの順に積層された積層構造を有するものである。

（金属メッシュ層）
金属メッシュ層は、積層構造の電磁波遮蔽層を構成する一部の層である。電磁波遮蔽層を構成する各層のうち、金属メッシュ層は、特に、プラズマディスプレイ等から発生した電磁波を遮蔽する機能を有する。このような金属メッシュ層は、後述する透明基材上に、接着剤層（又は粘着剤層）により金属箔が貼り合わせられ、その金属箔がメッシュ状にエッチングされることにより形成される。本発明においては、この金属メッシュ層は、電磁波遮蔽性を有するものであれば、その金属の種類等は特に限定されるものではなく、例えば銅、鉄、ニッケル、クロム、アルミニウム、金、銀、ステンレス、タングステン、チタン等を用いることができる。本発明においては、上記の中でも銅が、電磁波のシールド性、エッチング処理適性や取扱い性の面から好ましい。また用いられる銅箔の種類としては、圧延銅箔、電解銅箔等が挙げられるが、特に、電解銅箔であることが好ましい。これにより、厚さが１０μｍ以下の均一性のよい金属メッシュ層とすることができ、また、金属メッシュ層の表面に黒化処理が施された際に、酸化クロム等との密着性を良好なものとすることができるからである。

ここで、本発明においては、上記金属箔の一方の面または両面に黒化処理されていることが好ましい。黒化処理とは、酸化クロム等により金属メッシュ層の表面を黒化する処理であり、光学フィルタにおいて、この酸化処理面は、観察者側の面、或いは観察者側とは反対の面となるように配置される。図１〜図２４の電磁波遮蔽層において、黒ベタに塗り潰されている箇所は黒化処理により形成された皮膜を示している。この黒化処理により金属メッシュ層表面に形成された酸化クロム等により、光学フィルタ表面の外光が吸収されることから、光学フィルタ表面で光が散乱することを防止することができ、良好な透過性を得ることが可能な光学フィルタとすることができるのである。光の散乱を防止する観点からは、酸化処理面は、観察者側の面にある方が好ましい。このような黒化処理は、上記金属箔に黒化処理液を塗布することにより行なうことができる。

黒化処理の方法としては、ＣｒＯ₂水溶液や、無水クロム酸水溶液に酒石酸、マロン酸、クエン酸、乳酸等の異なるオキシカルボン酸化合物を添加して、６価クロムの一部を３価クロムに還元した溶液等を、ロールコート法、エアーカーテン法、静電霧化法、スクイズロールコート法、浸漬法等により塗布し、乾燥させることにより行なうことができる。なお、この黒化処理は、透明基材上に、接着剤層（又は粘着剤層）により金属箔が貼り合わせられ、メッシュ状にエッチングされた後に行なわれるものであってもよい。

この黒化処理された金属箔の表面の黒濃度が０．６以上であることが好ましい。これにより、より非視認性を良好なものとすることができるからである。ここで、黒濃度は、ＣＯＬＯＲＣＯＮＴＲＯＬＳＹＳＴＥＭのＧＲＥＴＡＧＳＰＭ１００−１１（（株）ＫＩＭＯＴＯ製）を用いて、観測視野角１０°、観測光源Ｄ５０、照明タイプとして濃度標準ＡＮＳＩＴに設定し、白色キャリブレイション後に測定した値である。

また、上記金属箔の膜厚は、１μｍ〜１００μｍの範囲内、中でも５μｍ〜２０μｍの範囲内であることが好ましい。上記範囲より膜厚が厚いと、エッチングによりパターン線幅を細かく高精細化することが困難となり、また上記範囲より膜厚が薄い場合には、十分な電磁波シールド性が得られないからである。

さらに、上記金属箔は、ＪＩＳＢ０６０１に準拠する十点平均粗さが０．５μｍ〜１０μｍの範囲内であることが好ましい。上記範囲より小さい場合には、上記黒化処理をした場合であっても、光学フィルタ表面の外光が鏡面反射することから、視認性が劣化し、また上記範囲より大きい場合には、接着剤やレジスト等を塗布することが困難となるからである。

ここで、金属箔のエッチングは、後述する透明基材上に、接着剤層（又は粘着剤層）を介して金属箔が貼り合わせられた後に行なわれるものである。このエッチングは、通常のフォトリソグラフィー法により行なうことができ、例えば金属箔の表面にレジストを塗布し、乾燥した後、レジストをパターン版で密着露光し、現像処理を行なうことにより得ることができる。

本発明に用いられる上述したような金属メッシュ層は、表面抵抗が１０^-6Ω／□〜５Ω／□の範囲内、中でも１０^-4Ω／□〜３Ω／□の範囲内であることが好ましい。一般的に、電磁波遮蔽性は、表面抵抗により測定することができ、この表面抵抗が低いほど、電磁波遮蔽性が良好なものということができる。ここで、上記表面抵抗の値は、表面抵抗測定装置ロレスターＧＰ、（株）ダイヤインスツルメンツ製にてＪＩＳＫ７１９４「導電性プラスチックの４探針法による抵抗率試験法」に記載される方法にて測定された値である。

このエッチング処理された後の金属メッシュ層は、５０μｍ□〜５００μｍ□の範囲内、中でも１００μｍ□〜４００μｍ□の範囲内、特に２００μｍ□〜３００μｍ□の範囲内であることが好ましく、またメッシュ線幅が５μｍ〜２０μｍの範囲内であることが好ましい。メッシュ線幅が上記範囲より細かい場合には、断線が起こる場合があり、電磁波遮蔽性の面から好ましくなく、またメッシュ線幅が上記範囲より太い場合には、可視光の透過率が低く、例えばプラズマディスプレイの輝度が低くなる等という面から好ましくないからである。

（透明基材）
透明基材は電磁波遮蔽層を構成する一部の層であり、接着剤層（又は粘着剤層）を介して金属メッシュ層を積層するための基材となる層である。本発明に用いられる透明基材は透明性を有し、かつ接着剤層（又は粘着剤層）が形成可能であれば、その種類等は特に限定されるものではなく、例えばポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等のポリエステル類、環状ポリオレフィン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン等のポリオレフィン類、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデンなどのビニル系樹脂、ポリカーボネート、アクリル樹脂、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ポリエーテルサルホン、ポリエーテルケトンからなるフィルムで可視領域の光線透過率が８０％以上のフィルムが挙げられる。

これらのフィルムは本発明の目的を妨げない程度であれば着色していてもよく、さらに単層で使うこともできるが、２層以上組み合わせた多層フィルムとして使ってもよい。中でも透明性、耐熱性、コストや取扱い性の面等から、ＰＥＴが最も好ましい。可視領域の光線透過率はできる限り高いことが望ましいが、これは最終製品としては５０％以上の光線透過率が必要なことから最低２枚を積層する場合でも透明基材としては８０％を有すれば目的に適うからである。透過率が高ければ高いほど透明基材を複数枚積層できるため、光線透過率は好ましくは８５％以上、最も好ましくは９０％以上であり、このために厚さを薄化するのも有効な手段である。この透明基材の厚さは、透明性さえ満足すれば特に制限されるものではないが、加工性上からは１２μｍ〜３００μｍの範囲内であることが好ましい。厚さ１２μｍ未満の場合はフィルムが柔軟過ぎ、導電層である金属メッシュ層の成膜や加工する際の張力により伸張やシワが発生しやすく、そのため金属メッシュ層の亀裂や剥離が生じやすく適さない。３００μｍを超えるとフィルムの可撓性が減少し、各工程での連続巻き取りが困難で適さない。さらに複数枚を積層する際は加工性が大幅に劣るといった問題もある。

（接着剤層又は粘着剤層）
接着剤層（又は粘着剤層）は図１〜図２４の電磁波遮蔽層において図示していないが、透明基材と金属メッシュ層とを接着するのに用いられる層である。接着剤層（又は粘着剤層）は、金属メッシュ層および透明基材とを接着することが可能な層であれば、その種類等は特に限定されるものではないが、本発明においては、上記金属メッシュ層を構成する金属箔および透明基材を接着剤層（又は粘着剤層）を介して貼り合わせた後、金属箔をエッチングによりメッシュ状とすることから、接着剤層（又は粘着剤層）も耐エッチング性を有することが好ましい。具体的には、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリビニルアルコール単独もしくはその部分ケン化品、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリイミド樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタンエステル樹脂等が挙げられる。また、本発明に用いられる接着剤層（又は粘着剤層）は、紫外線硬化型であってもよく、また熱硬化型であってもよい。特に、透明基材との密着性や、近赤外線吸収色素、および／または、ネオン光吸収色素との相溶性、分散性などの観点からアクリル樹脂もしくはポリエステル樹脂が好ましい。

また、接着剤層（又は粘着剤層）中に、近赤外線吸収色素、および／または、ネオン光吸収色素を１種以上含有させてもよい。その場合、近赤外領域の光線透過率が、２０％以下、中でも１０％以下、５７０−６００ｎｍにおける光線透過率が３０％以下、中でも２５％以下、であることが好ましい。さらに樹脂の水酸基価および酸価が各々１０以下でなければならない。これにより、上記樹脂に含まれる水酸基および酸により近赤外線吸収色素、および／または、ネオン光吸収色素が樹脂中の反応基と反応すること等を防ぐことができ、安定に近赤外線吸収、および／または、ネオン光吸収機能を発揮することが可能なものとすることができる。

接着剤層（又は粘着剤層）を介してドライラミネーション法等により透明基材および金属メッシュ層を形成するための金属箔とを接着することができる。また、この接着剤層（又は粘着剤層）の膜厚が０．５μｍ〜５０μｍの範囲内、中でも１μｍ〜２０μｍであることが好ましい。これにより、透明基材および金属メッシュ層とを強固に接着することができ、また、金属メッシュ層を形成するエッチングの際に透明基材が酸化鉄等のエッチング液の影響を受けること等を防ぐことができるからである。

色素含有粘着剤層：
図１〜図２４に示すように、本発明の光学フィルタに用いられる色素含有粘着剤層は、色素含有粘着剤層中に、近赤外線吸収色素、および／または、ネオン光吸収色素を１種以上を含有させたものが使用される。その場合、近赤外線領域の光線透過率が、２０％以下、中でも１０％以下、５７０−６００ｎｍにおける光線透過率が３０％以下、中でも２５％以下、であることが好ましい。さらに樹脂の水酸基価、および／または、酸価が各々１０以下でなければならない。これにより、上記樹脂に含まれる水酸基および酸基により近赤外線吸収色素、および／または、ネオン光吸収色素が反応すること等を防ぐことができ、安定に近赤外線吸収、および／または、ネオン光吸収機能を発揮することが可能なものとすることができる。

本発明では色素含有粘着剤層に用いる樹脂のガラス転移点温度（Ｔｇ）が３０℃〜１５０℃の範囲内、中でも４０℃〜１２０℃の範囲内であることが好ましい。これにより、樹脂を溶剤等に溶解させて、塗布後、溶剤を揮発させて乾燥する際に、表面の凹凸を、透明基材のＴｇ以上の温度で、例えば、ミラーロール等を用いて圧力をかけることにより、透明性の高い平坦な高品質な光学フィルタとすることができるからである。この色素含有粘着剤層を平坦化する工程における温度および圧力は、その透明樹脂の種類により適宜選択されるものであるが、通常５０℃〜１７０℃の範囲内であり、また圧力は線圧０．１ｋｇ／ｃｍ²〜１０ｋｇ／ｃｍ²の範囲内であることが好ましい。

上述したような性質を有する樹脂としては、具体的には、アクリル系樹脂、エステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ウレタン系樹脂、環状ポリオレフィン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリイミド系樹脂、またはポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）、テトラフルオロエチレンとペルフルオロアルキルビニルエーテルとの共重合体からなるペルフルオロアルコキシ樹脂（ＰＦＡ）、テトラフルオロエチレンとヘキサフルオロプロピレンコポリマー（ＦＥＰ）、テトラフルオロエチレンとペルフルオロアルキルビニルエーテルとヘキサフルオロプロピレンコポリマー（ＥＰＥ）、テトラフルオロエチレンとエチレンまたはプロピレンとのコポリマー（ＥＴＦＥ）、ポリクロロトリフルオロエチレン樹脂（ＰＣＴＦＥ）、エチレンとクロロトリフルオロエチレンとのコポリマー（ＥＣＴＦＥ）、フッ化ビニリデン系樹脂（ＰＶＤＦ）、フッ化ビニル系樹脂（ＰＶＦ）等のフッ素系樹脂を挙げることができ、中でも透明性の観点からアクリル系樹脂、エステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂であることが好ましい。また、上記樹脂の平均分子量は、５００〜６００，０００の範囲内、中でも１万〜４０万であることが好ましい。これにより、上記のような性質を有する透明樹脂とすることができるからである。

本発明において、このような色素含有粘着剤層の膜厚は、１０μｍ〜５０μｍの範囲内であることが好ましい。この範囲にすることにより、特に、金属メッシュ層の凹凸に色素含有粘着剤層が形成される場合には、金属メッシュ層を平坦化することが可能となるからである。

反射防止層：
反射防止層は、本発明の光学フィルタの最上層に配置され、磨りガラスのように、光を散乱もしくは拡散させて像をボカス手法、及び／又は、屈折率の高い層と低い層を組み合わせてなる表面の光の反射を防止する手法により形成された層である。

すなわち、前者の手法において光を散乱もしくは拡散させるためには、光の入射面を粗面化することが基本であり、この粗面化処理には、サンドブラスト法やエンボス法等により基体表面を直接粗面化する方法、基体表面に放射線、熱の何れかもしくは組み合わせにより硬化する樹脂中にシリカなどの無機フィラーや、樹脂粒子などの有機フィラーを含有させた粗面化層を設ける方法、および基体表面に海島構造による多孔質膜を形成する方法を挙げることができる。

また、後者の表面の光の反射を防止する方法としては、屈折率の高い材料と低い材料を交互に積層し、多層化（マルチコート）することで、表面の反射が抑えられ、良好な反射防止効果を得ることができる。通常、この反射防止層は、ＳｉＯ₂に代表される低屈折率材料と、ＴｉＯ₂、ＺｒＯ₂等の高屈折率材料とを交互に蒸着等により成膜する気相法等によって形成される。

反射防止効果を向上させるためには、低屈折率層の屈折率は、１．４５以下であることが好ましい。これらの特徴を有する材料としては、例えばＬｉＦ（屈折率ｎ＝１．４）、ＭｇＦ₂（屈折率ｎ＝１．４）、３ＮａＦ・ＡｌＦ₃（屈折率ｎ＝１．４）、ＡｌＦ₃（屈折率ｎ＝１．４）、Ｎａ₃ＡｌＦ₆（屈折率ｎ＝１．３３）、ＳｉＯ₂（屈折率ｎ＝１．４５）等の無機材料を微粒子化し、アクリル系樹脂やエポキシ系樹脂等に含有させた無機系低反射材料、フッ素系・シリコーン系の有機化合物、熱可塑性樹脂、熱硬化型樹脂、放射線硬化型樹脂等の有機低反射材料を挙げることができる。

さらに、５〜３０ｎｍのシリカ超微粒子を水もしくは有機溶剤に分散したゾルとフッ素系の皮膜形成剤を混合した材料を使用することもできる。該５〜３０ｎｍのシリカ超微粒子を水もしくは有機溶剤に分散したゾルは、ケイ酸アルカリ塩中のアルカリ金属イオンをイオン交換等で脱アルカリする方法や、ケイ酸アルカリ塩を鉱酸で中和する方法等で知られた活性ケイ酸を縮合して得られる公知のシリカゾル、アルコキシシランを有機溶媒中で塩基性触媒の存在下に加水分解と縮合することにより得られる公知のシリカゾル、さらには上記の水性シリカゾル中の水を蒸留法等により有機溶剤に置換することにより得られる有機溶剤系のシリカゾル（オルガノシリカゾル）が用いられる。これらのシリカゾルは水系および有機溶剤系のどちらでも使用することができる。有機溶剤系シリカゾルの製造に際し、完全に水を有機溶剤に置換する必要はない。前記シリカゾルはＳｉＯ₂として０．５〜５０質量％濃度の固形分を含有する。シリカゾル中のシリカ超微粒子の構造は球状、針状、板状等様々なものが使用可能である。また、皮膜形成剤としては、アルコキシシラン、金属アルコキシドや金属塩の加水分解物や、ポリシロキサンをフッ素変性したものなどを用いることができる。

低屈折率層は、上記で述べた材料を例えば溶剤に希釈し、スピンコーティング、ロールコーティングや印刷等によるウェットコーティング法や、真空蒸着、スパッタリング、プラズマＣＶＤ、イオンプレーティング等による気相法で、高屈折率層上に設けて乾燥後、熱や放射線（紫外線の場合は上述の光重合開始剤を使用する）等により硬化させることによって得ることができる。

高屈折率層の形成は、屈折率を高くするために高屈折率のバインダ樹脂を使用するか、高い屈折率を有する超微粒子をバインダ樹脂に添加することによって行なうか、あるいはこれらを併用することによって行なう。高屈折率層の屈折率は１．５５〜２．７０の範囲にあることが好ましい。

高屈折率層に用いる樹脂については、透明なものであれば任意の樹脂が使用可能であり、熱硬化型樹脂、熱可塑性樹脂、放射線（紫外線を含む）硬化型樹脂などを用いることができる。熱硬化型樹脂としては、フェノール樹脂、メラミン樹脂、ポリウレタン樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、グアナミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、アミノアルキッド樹脂、メラミン−尿素共縮合樹脂、珪素樹脂、ポリシロキサン樹脂等を用いることができ、これらの樹脂に、必要に応じて架橋剤、重合開始剤等の硬化剤、重合促進剤、溶剤、粘度調整剤等を加えることができる。

高い屈折率を有する超微粒子としては、例えば、紫外線遮蔽の効果をも得ることができる、ＺｎＯ（屈折率ｎ＝１．９）、ＴｉＯ₂（屈折率ｎ＝２．３〜２．７）、ＣｅＯ₂（屈折率ｎ＝１．９５）の微粒子、また、帯電防止効果が付与されて埃の付着を防止することもできる、アンチモンがドープされたＳｎＯ₂（屈折率ｎ＝１．９５）またはＩＴＯ（屈折率ｎ＝１．９５）の微粒子が挙げられる。その他の微粒子としては、Ａｌ₂Ｏ₃（屈折率ｎ＝１．６３）、Ｌａ₂Ｏ₃（屈折率ｎ＝１．９５）、ＺｒＯ₂（屈折率ｎ＝２．０５）、Ｙ₂Ｏ₃（屈折率ｎ＝１．８７）等を挙げることができる。これらの微粒子は単独または混合して使用され、有機溶剤または水に分散したコロイド状になったものが分散性の点において良好であり、その粒径としては、１〜１００ｎｍ、塗膜の透明性から好ましくは、５〜２０ｎｍであることが望ましい。

高屈折率層を設けるには、上記で述べた材料を例えば溶剤に希釈し、スピンコーティング、ロールコーティング、印刷等の方法で基体上に設けて乾燥後、熱や放射線（紫外線の場合は上述の光重合開始剤を使用する）等により硬化させればよい。

また反射防止層中に、近赤外線吸収色素、および／または、ネオン光吸収色素を１種以上含有させてもよい。その場合、近赤外線領域の光線透過率が２０％以下、中でも１０％以下、５７０−６００ｎｍにおける光線透過率が３０％以下、中でも２５％以下、であることが好ましい。さらに樹脂が水酸基価および酸価が所定の値以下でなければならない。これにより、上記樹脂に含まれる水酸基および酸価により近赤外線吸収色素、および／または、ネオン光吸収色素が反応すること等を防ぐことができ、安定に近赤外線吸収能、および／または、ネオン光吸収機能を発揮することが可能なものとなる。

近赤外線吸収層
近赤外線吸収層は、基本的には、透明バインダ樹脂中に、近赤外線を吸収する近赤外線吸収色素を有するものである。

近赤外線吸収色素としては、光学フィルタが代表的な用途であるプラズマディスプレイパネルの前面に適用される場合、プラズマディスプレイパネル７はキセノンガス放電を利用して発光する際に生じる近赤外線領域、即ち、８００ｎｍ〜１１００ｎｍの波長域を吸収するもの、該帯域の近赤外線の透過率が２０％以下、好ましくは１５％以下であることが好ましい。同時に近赤外線吸収層は、可視光領域、即ち、３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの波長域で、十分な光線透過率を有することが望ましい。

近赤外線吸収色素としては、具体的には、ポリメチン系化合物、シアニン系化合物、フタロシアニン系化合物、ナフタロシアニン系化合物、ナフトキノン系化合物、アントラキノン系化合物、ジチオール系化合物、イモニウム系化合物、ジイモニウム系化合物、アミニウム系化合物、ピリリウム系化合物、セリリウム系化合物、スクワリリウム系化合物、銅錯体類、ニッケル錯体類、ジチオール系金属錯体類の有機系近赤外線吸収色素、酸化スズ、酸化インジウム、酸化マグネシウム、酸化チタン、酸化クロム、酸化ジルコニウム、酸化ニッケル、酸化アルミニウム、酸化亜鉛、酸化鉄、酸化アンモン、酸化鉛、酸化ビスマス、酸化ランタン等の無機系近赤外線吸収色素、を１種、または２種以上を併用することができる。

種類や添加量は、近赤外線吸収色素の吸収波長や吸収係数や、色調及びディスプレイ用前面板に要求される透過率などによって適宜選択すればよい。例えば、近赤外線吸収剤の添加量は、層中に０．１〜１５質量％程度添加し、それらの近赤外線吸収剤を紫外線から保護するために、層中にベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系などの紫外線吸収剤を含ませてもよく、紫外線吸収剤の添加量は、層中に０．１〜１０質量％程度である。

上記の近赤外線吸収剤は熱可塑性樹脂が好ましく、さらに好ましくは、極性の高い官能基を持たない合成樹脂や、また極性の高い官能基を持っている官能基数の少ない合成樹脂である。好ましい熱可塑性樹脂としては、アクリル系樹脂、アクリロニトリル系樹脂、ウレタン系樹脂、又はポリエステル樹脂である。該熱可塑性樹脂は色素の溶解性や安定維持性、及び着色剤の機能耐久性の点で良好である。

近赤外線吸収層の製造方法は、ＰＥＴフィルム等の離型フィルム上に近赤外線吸収色素含有インクをグラビアリバース法等により塗工（例えば１０ｇ／ｍ²）することにより、離型フィルム／近赤外線吸収色素／離型フィルムからなる積層シートを得る。

粘着剤層：
図１〜図２４に示す光学フィルタの粘着剤層は、光学フィルタにおける各層を接着するための層であり、例えば、市販の両面接着テープ（例、ＣＳ−９６１１：商品名、日東電工（株）製）が使用できる。

光学フィルタの製造
本発明の光学フィルタの製造方法の一例を次に示す。次の例は、図１に示す層構成の光学フィルタの製造例である。下記の製造例において、押出ラミネートは図２６の押出ラミネート機を用い、ラミネートは図２７のラミネート機を用いることができる。

ｉ) 離型フィルム／耐衝撃層５／離型フィルムからなる積層シートの製造
本発明の光学フィルタにおける耐衝撃層５の形成は、押出ラミネート法、加熱プレス法、及び厚塗りコート法のどのような方法でもよいが、好ましくは、次に説明する押出ラミネート法が挙げられる。

図２６は、本発明の光学フィルタにおける好ましい耐衝撃層５を形成するための押出ラミネート機の１例を示す図である。本発明の光学フィルタにおける耐衝撃層５を形成するには、第１フィルム供給部３５、及び第２フィルム供給部３９の両方に、離型フィルム［離型性のあるポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（例えば、東洋紡株式会社製、Ｅ−７００２：商品名）］を配置しておく。この状態で、押出ラミネート機のダイス４２より、前記した特定組成からなるエチレンビニルアセテートを離型フィルム上に押し出して、離型フィルム／耐衝撃層５／離型フィルムからなる積層シートとし、排紙部４１に巻き取る。

次いで、ラミネート機を用いて以下の工程ii）〜viii) により順次、他の層を形成する。図２７は、本発明の光学フィルタを構成する各層をラミネートするためのラミネート機の１例を示す図である。

ii) 反射防止層１／色素含有粘着剤層２／離型フィルムからなる積層シートの製造
図２７のラミネート機の第１給紙部２１に反射防止層１を巻き取ったもの配置し、且つ第２給紙部２２に離型フィルム／色素含有粘着剤層２／離型フィルムからなる積層シートを巻き取ったものを配置する。次いで、第１給紙部２１から、反射防止層１を繰り出しながら、一方、第２給紙部２２から離型フィルム／色素含有粘着剤層２／離型フィルムからなる積層シートを繰り出すと同時に一側の第２離型フィルム巻取りロール２４に巻取り、反射防止層１と、色素含有粘着剤層２／離型フィルムからなるシートを第１ラミネートニユット２５で約３ｋｇｆ／ｍのラミネート圧でラミネートし、次いで、第２ラミネートユニット２６で約５ｋｇｈ／ｍのラミネート圧でラミネートして、巻取りロール２７に巻き取って、反射防止層１／色素含有粘着剤層２／離型フィルムからなる積層シートを得る。このとき、第１離型フィルム巻取りロール２３は、巻き取る離型フィルムが存在しないので使用しない。

iii) 反射防止層１／色素含有粘着剤層２／耐衝撃層５／離型フィルムからなる積層シートの製造
前記ii）工程で得られた反射防止層１／色素含有粘着剤層２／離型フィルムからなる積層シートを第１給紙部２１に配置する。一方、第２給紙部２２に前記工程ｉ）で得られた離型フィルム／耐衝撃層５／離型フィルムからなる積層シートを巻き取ったものを配置する。次いで、第１給紙部から、反射防止層１／色素含有粘着剤層２／離型フィルムからなる積層シートを繰り出しながら、同時に離型フィルムを第１離型フィルム巻取りロール２３に巻き取る。一方、第２給紙部２２から離型フィルム／耐衝撃層５／離型フィルムからなる積層シートを繰り出すと同時に一側の離型フィルムを巻取りロール２４に巻取り、第１ラミネートユニット２５において、第１給紙部２１及び第２給紙部２２から繰り出された各シートを約３ｋｇｆ／ｍのラミネート圧でラミネートし、次いで、第２ラミネートユニット２６で約５ｋｇｈ／ｍのラミネート圧でラミネートして、巻取りロール２７に巻き取って、反射防止層１／色素含有粘着剤層２／耐衝撃層５／離型フィルムからなる積層シートを得る。

iv) 反射防止層１／色素含有粘着剤層２／耐衝撃層５／粘着剤層４／離型フィルムからなる積層シートの製造
前記iii)工程で得られた反射防止層１／色素含有粘着剤層２／耐衝撃層５／離型フィルムからなる積層シートを第１給紙部２１に配置する。一方、第２給紙部２２に離型フィルム／粘着剤層４／離型フィルムからなる積層シートを巻き取ったものを配置する。次いで、第１給紙部２１から、反射防止層１／色素含有粘着剤層２／耐衝撃層５／離型フィルムからなる積層シートを繰り出しながら、同時に離型フィルムを第１離型フィルム巻取りロール２３に巻き取る。一方、第２給紙部２２から離型フィルム／粘着剤層４／離型フィルムからなる積層シートを繰り出すと同時に一側の離型フィルムを巻取りロール２４に巻取り、第１ラミネートユニット２５において、第１給紙部２１及び第２給紙部２２から繰り出された各シートを約３ｋｇｆ／ｍのラミネート圧でラミネートし、次いで、第２ラミネートユニット２６で約５ｋｇｈ／ｍのラミネート圧でラミネートして、巻取りロール２７に巻き取って、反射防止層１／色素含有粘着剤層２／耐衝撃層５／粘着剤層４／離型フィルムからなる積層シートを得る。

ｖ) 反射防止層１／色素含有粘着剤層２／耐衝撃層５／粘着剤層４／近赤外線吸収層３／離型フィルムからなる積層シートの製造
前記iv) 工程で得られた反射防止層１／色素含有粘着剤層２／耐衝撃層５／粘着剤層４／離型フィルムからなる積層シートを第１給紙部２１に配置する。一方、第２給紙部２２に離型フィルム／近赤外線吸収層３／離型フィルムからなる積層シートを巻き取ったものを配置する。次いで、第１給紙部２１から、反射防止層１／色素含有粘着剤層２／耐衝撃層５／粘着剤層４／離型フィルムからなる積層シートを繰り出しながら、同時に離型フィルムを第１離型フィルム巻取りロール２３に巻き取る。一方、第２給紙部２２から離型フィルム／近赤外線吸収層３／離型フィルムからなる積層シートを繰り出すと同時に一側の離型フィルムを巻取りロール２４に巻取り、第１ラミネートユニット２５において、第１給紙部２１及び第２給紙部２２から繰り出された各シートを約３ｋｇｆ／ｍのラミネート圧でラミネートし、次いで、第２ラミネートユニット２６で約５ｋｇｈ／ｍのラミネート圧でラミネートして、巻取りロール２７に巻き取って、反射防止層１／色素含有粘着剤層２／耐衝撃層５／粘着剤層４／近赤外線吸収層３／離型フィルムからなる積層シートを得る。

vi) 反射防止層１／色素含有粘着剤層２／耐衝撃層５／粘着剤層４／近赤外線吸収層３／粘着剤層４／離型フィルムからなる積層シートの製造
前記ｖ) 工程で得られた反射防止層１／色素含有粘着剤層２／耐衝撃層５／粘着剤層４／近赤外線吸収層３／離型フィルムからなる積層シートを第１給紙部２１に配置する。一方、第２給紙部２２に離型フィルム／粘着剤層４／離型フィルムからなる積層シートを巻き取ったものを配置する。次いで、第１給紙部２１から、反射防止層１／色素含有粘着剤層２／耐衝撃層５／粘着剤層４／近赤外線吸収層３／離型フィルムからなる積層シートを繰り出しながら、同時に離型フィルムを第１離型フィルム巻取りロール２３に巻き取る。一方、第２給紙部２２から離型フィルム／粘着剤層４／離型フィルムからなる積層シートを繰り出すと同時に一側の離型フィルムを巻取りロール２４に巻取り、第１ラミネートユニット２５において、第１給紙部２１及び第２給紙部２２から繰り出された各シートを約３ｋｇｆ／ｍのラミネート圧でラミネートし、次いで、第２ラミネートユニット２６で約５ｋｇｈ／ｍのラミネート圧でラミネートして、巻取りロール２７に巻き取って、反射防止層１／色素含有粘着剤層２／耐衝撃層５／粘着剤層４／近赤外線吸収層３／粘着剤層４／離型フィルムからなる積層シートを得る。

vii) 反射防止層１／色素含有粘着剤層２／耐衝撃層５／粘着剤層４／近赤外線吸収層３／粘着剤層４／電磁波遮蔽層６からなる積層シートの製造
前記ｖi)工程で得られた反射防止層１／色素含有粘着剤層２／耐衝撃層５／粘着剤層４／近赤外線吸収層３／粘着剤層４／離型フィルムからなる積層シートを第１給紙部２１に配置する。一方、第２給紙部２２に電磁波遮蔽層６のシートを巻き取ったものを配置する。次いで、第１給紙部２１から、反射防止層１／色素含有粘着剤層２／耐衝撃層５／粘着剤層４／近赤外線吸収層３／粘着剤層４／離型フィルムからなる積層シートを繰り出しながら、同時に離型フィルムを第１離型フィルム巻取りロール２３に巻き取る。一方、第２給紙部２２から電磁波遮蔽層６のシートを繰り出し、第１ラミネートユニット２５において、第１給紙部２１及び第２給紙部２２から繰り出された各シートを約３ｋｇｆ／ｍのラミネート圧でラミネートし、次いで、第２ラミネートユニット２６で約５ｋｇｈ／ｍのラミネート圧でラミネートして、巻取りロール２７に巻き取って、反射防止層１／色素含有粘着剤層２／耐衝撃層５／粘着剤層４／近赤外線吸収層３／粘着剤層４／電磁波遮蔽層６からなる積層シートを得る。

viii) 反射防止層１／色素含有粘着剤層２／耐衝撃層５／粘着剤層４／近赤外線吸収層３／粘着剤層４／電磁波遮蔽層６／粘着剤層４／離型フィルムからなる積層シートの製造
前記ｖii) 工程で得られた反射防止層１／色素含有粘着剤層２／耐衝撃層５／粘着剤層４／近赤外線吸収層３／粘着剤層４／電磁波遮蔽層６からなる積層シートを第１給紙部２１に配置する。一方、第２給紙部２２に離型フィルム／粘着剤層４／離型フィルムからなる積層シートを巻き取ったものを配置する。次いで、第１給紙部２１から、反射防止層１／色素含有粘着剤層２／耐衝撃層５／粘着剤層４／近赤外線吸収層３／粘着剤層４／電磁波遮蔽層６からなる積層シートを繰り出す。一方、第２給紙部２２から離型フィルム／粘着剤層４／離型フィルムからなる積層シートを繰り出すと同時に一側の離型フィルムを巻取りロール２４に巻取り、第１ラミネートユニット２５において、第１給紙部２１及び第２給紙部２２から繰り出された各シートを約３ｋｇｆ／ｍのラミネート圧でラミネートし、次いで、第２ラミネートユニット２６で約５ｋｇｈ／ｍのラミネート圧でラミネートして、巻取りロール２７に巻き取って、反射防止層１／色素含有粘着剤層２／耐衝撃層５／粘着剤層４／近赤外線吸収層３／粘着剤層４／電磁波遮蔽層６／粘着剤層４／離型フィルムからなる積層シートを得る。

上記工程で得られた光学フィルタの残りのもう一方の離型フィルムを剥がし、露出した粘着剤層４側をプラズマディスプレイパネル７の表面に貼付する。

ｉ) 離型フィルム／耐衝撃層／離型フィルムからなる積層シートの製造
図２６の押出ラミネート機を用いて、離型性のあるＰＥＴフィルムとして東洋紡Ｅ−７００２（商品名、東洋紡株式会社製）の間に、ビニルアセテート（ＶＡ：略語）含有率が２８質量％のエチレンビニルアセテート（Ｕｌｔｒｈｅｎｅ７１０：商品名、東ソー（株）製）に、結晶化核剤としてソルビトール系化合物（IRGACLEA DM ：商品名、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製、ジパラメチルジベンジリデンソルビトール）を耐衝撃層として挟み込んで積層して耐衝撃層の厚みを１．５ｍｍにした。これとは別に、結晶化核剤としてリン酸系化合物（ADK STAB NA-11：商品名、旭電化工業株式会社製）を使用して、上記製造と同様にして耐衝撃層を形成した。また、これとは別に、結晶化核剤を使用しないで、上記製造と同様にして耐衝撃層を形成し、対照の積層体とした。このようにして３種類の積層体を得た。

ii) 反射防止層／色素含有粘着剤層／離型フィルムからなる積層シートの製造
図２７のラミネート機を用い、第１給紙部２１に、反射防止フィルムとしてリアルック８２００ＵＶ（商品名、日本油脂製、膜厚８０μｍのトリアセチルセルロースフィルム／厚み５μｍのＡＲ層／厚み４０μｍの保護フィルムからなる積層フィルム）を巻き出し可能に配置した。

離型フィルム／色素含有粘着剤層／離型フィルムからなる積層シートを次のようにして作製した。色素含有粘着剤層を形成するための色素含有粘着剤には、ｎ−ブチルアクリレート７８．４質量％、２エチルヘキシルアクリレート１９．６質量％、およびアクリル酸２．０質量％を共重合させて得たアクリル酸エステル共重合体を熔融撹拌した後、染料（三井化学（株）製商品名”ＰＳブルーＢＮ”０．０００１質量％、ネオン吸収化合剤（旭電化（株）製商品名ＴＹ−１０２）０．００１３質量％を加えたものを用いた。該色素含有粘着剤を、離型性のあるＰＥＴフィルムの東洋紡Ｅ−７００２（商品名、東洋紡株式会社製）上にダイコート法にて塗工した。この後、塗工面に離型性のあるフィルムの東洋紡Ｅ−７００２（商品名、東洋紡株式会社製）をラミネートすることにより、離型フィルム／色素含有粘着剤層／離型フィルムからなる積層シートを得た。

図２７のラミネート機の第２給紙部２２に前記工程で得られた離型フィルム／色素含有粘着剤層／離型フィルムからなる積層シートを巻き取ったものを巻きだし可能に配置した。

次いで、第１給紙部２１から、反射防止層１を繰り出しながら、一方、第２給紙部２２から離型フィルム／色素含有粘着剤層／離型フィルムからなる積層シートを繰り出すと同時に一側の離型フィルム巻取りロール２４に巻取り、反射防止層と、色素含有粘着剤層／離型フィルムからなるシートを第１ラミネートニユット２５で約３ｋｇｆ／ｍのラミネート圧でラミネートし、次いで、第２ラミネートユニット２６で約５ｋｇｈ／ｍのラミネート圧でラミネートして、巻取りロール２７に巻き取って、反射防止層／色素含有粘着剤層／離型フィルムからなる積層シートを得た。

iii) 反射防止層／色素含有粘着剤層／耐衝撃層／離型フィルムからなる積層シートの製造
前記ii）工程で得られた反射防止層／色素含有粘着剤層／離型フィルムからなる積層シートを第１給紙部２１に配置した。一方、第２給紙部２２に前記工程ｉ）で得られた離型フィルム／耐衝撃層／離型フィルムからなる積層シートを巻き取ったものを配置した。次いで、第１給紙部から、反射防止層／色素含有粘着剤層／離型フィルムからなる積層シートを繰り出しながら、同時に離型フィルムを第１離型フィルム巻取りロール２３に巻き取った。一方、第２給紙部２２から離型フィルム／耐衝撃層／離型フィルムからなる積層シートを繰り出すと同時に一側の離型フィルムを巻取りロール２４に巻取り、第１ラミネートユニット２５において、第１給紙部２１及び第２給紙部２２から繰り出された各シートを約３ｋｇｆ／ｍのラミネート圧でラミネートし、次いで、第２ラミネートユニット２６で約５ｋｇｈ／ｍのラミネート圧でラミネートして、巻取りロール２７に巻き取って、反射防止層／色素含有粘着剤層／耐衝撃層／離型フィルムからなる積層シートを得た。

iv) 反射防止層／色素含有粘着剤層／耐衝撃層／粘着剤層／離型フィルムからなる積層シートの製造
前記iii)工程で得られた反射防止層／色素含有粘着剤層／耐衝撃層／離型フィルムからなる積層シートを第１給紙部２１に配置した。一方、第２給紙部２２に離型フィルム／粘着剤層／離型フィルムからなる積層シートを巻き取ったものを配置した。離型フィルム／粘着剤層／離型フィルムからなる積層シートには、ＰＥＴフィルム製セパレータ（Ｕ４２６：商品名、東レ（株）製、厚み８０μｍ）／粘着剤層（ＣＳ−９６１１：商品名、日東電工（株）製）／ＰＥＴフィルム製セパレータ（Ｕ４２６：商品名、東レ（株）製、厚み８０μｍ）からなる粘着シートを用いた。

次いで、第１給紙部２１から、反射防止層／色素含有粘着剤層／耐衝撃層／離型フィルムからなる積層シートを繰り出しながら、同時に離型フィルムを第１離型フィルム巻取りロール２３に巻き取った。一方、第２給紙部２２から離型フィルム／粘着剤層／離型フィルムからなる積層シートを繰り出すと同時に一側の離型フィルムを巻取りロール２４に巻取り、第１ラミネートユニット２５において、第１給紙部２１及び第２給紙部２２から繰り出された各シートを約３ｋｇｆ／ｍのラミネート圧でラミネートし、次いで、第２ラミネートユニット２６で約５ｋｇｈ／ｍのラミネート圧でラミネートして、巻取りロール２７に巻き取って、反射防止層／色素含有粘着剤層／耐衝撃層／粘着剤層／離型フィルムからなる積層シートを得た。

ｖ) 反射防止層／色素含有粘着剤層／耐衝撃層／粘着剤層／近赤外線吸収層／離型フィルムからなる積層シートの製造
前記iv) 工程で得られた反射防止層／色素含有粘着剤層／耐衝撃層／粘着剤層／離型フィルムからなる積層シートを第１給紙部２１に配置した。一方、第２給紙部２２に離型フィルム／近赤外線吸収層／離型フィルムからなる積層シートを巻き取ったものを配置した。離型フィルム／近赤外線吸収層／離型フィルムからなる積層シートは、次のようにして作製した。近赤外線吸収層を形成するための組成物には、近赤外線吸収剤０．０１５質量％（日本触媒（株）製商品名”イーエクスカラー”ＴＸ−ＥＸ−８０５Ｋ）をメチルエチルケトン：トルエンが１：１の混合溶液に溶解させ、この後、アクリル系バインダーであるＢＲ−８０（商品名、三菱レーヨン（株）製）を２０質量％となるように溶解させたものを用い、該近赤外線吸収層形成用組成物を離型性のあるＰＥＴフィルムの東洋紡Ｅ−７００２（商品名、東洋紡株式会社製）上にダイコート法にて塗工した。この後、塗工面に離型性のあるフィルムの東洋紡Ｅ−７００２（商品名、東洋紡株式会社製）をラミネートすることにより、離型フィルム／近赤外線吸収層／離型フィルムからなる積層シートを得た。

次いで、第１給紙部２１から、反射防止層／色素含有粘着剤層／耐衝撃層／粘着剤層／離型フィルムからなる積層シートを繰り出しながら、同時に離型フィルムを第１離型フィルム巻取りロール２３に巻き取った。一方、第２給紙部２２から離型フィルム／近赤外線吸収層／離型フィルムからなる積層シートを繰り出すと同時に一側の離型フィルムを巻取りロール２４に巻取り、第１ラミネートユニット２５において、第１給紙部２１及び第２給紙部２２から繰り出された各シートを約３ｋｇｆ／ｍのラミネート圧でラミネートし、次いで、第２ラミネートユニット２６で約５ｋｇｈ／ｍのラミネート圧でラミネートして、巻取りロール２７に巻き取って、反射防止層／色素含有粘着剤層／耐衝撃層／粘着剤層／近赤外線吸収層／離型フィルムからなる積層シートを得た。

vi) 反射防止層／色素含有粘着剤層／耐衝撃層／粘着剤層／近赤外線吸収層／粘着剤層／離型フィルムからなる積層シートの製造
前記ｖ) 工程で得られた反射防止層／色素含有粘着剤層／耐衝撃層／粘着剤層／近赤外線吸収層／離型フィルムからなる積層シートを第１給紙部２１に配置した。一方、第２給紙部２２に離型フィルム／粘着剤層／離型フィルムからなる積層シートを巻き取ったものを配置した。該離型フィルム／粘着剤層／離型フィルムからなる積層シートは、前記工程iv）で用いたものと同じものを用いた。次いで、第１給紙部２１から、反射防止層／色素含有粘着剤層／耐衝撃層／粘着剤層／近赤外線吸収層／離型フィルムからなる積層シートを繰り出しながら、同時に離型フィルムを第１離型フィルム巻取りロール２３に巻き取った。一方、第２給紙部２２から離型フィルム／粘着剤層／離型フィルムからなる積層シートを繰り出すと同時に一側の離型フィルムを巻取りロール２４に巻取り、第１ラミネートユニット２５において、第１給紙部２１及び第２給紙部２２から繰り出された各シートを約３ｋｇｆ／ｍのラミネート圧でラミネートし、次いで、第２ラミネートユニット２６で約５ｋｇｈ／ｍのラミネート圧でラミネートして、巻取りロール２７に巻き取って、反射防止層／色素含有粘着剤層／耐衝撃層／粘着剤層／近赤外線吸収層／粘着剤層／離型フィルムからなる積層シートを得た。

vii) 反射防止層／色素含有粘着剤層／耐衝撃層／粘着剤層／近赤外線吸収層／粘着剤層／電磁波遮蔽層／離型フィルムからなる積層シートの製造
前記vi) 工程で得られた反射防止層／色素含有粘着剤層／耐衝撃層／粘着剤層／近赤外線吸収層／粘着剤層／離型フィルムからなる積層シートを第１給紙部２１に配置した。一方、第２給紙部２２に電磁波遮蔽層のシートを巻き取ったものを配置した。

片面がクロメート処理により黒化処理されている、銅箔（古川サーキットフォイール製、ＥＸＰ−ＷＳ：商品名、厚さ９μｍ）と、ポリエチレンテレフタレートフィルム（東洋紡績製Ａ４３００厚み１００μｍ）とを、ウレタン系接着剤（Ｔｇ２０℃、平均分子量３万、酸価１、水酸基価９）にてドライラミネーション加工し貼り合わせた後、上記銅箔上にレジストを塗布後、露光、現像、エッチング、レジスト除去を行なうことにより３００μｍ□、線幅１０μｍの金属メッシュを形成することにより電磁波遮蔽フィルムを得た。なお、この際黒化処理面はプラズマディスプレイパネルが製造された場合、見る側（人間側）になるように設置するため、非貼り合わせ面側とした。

次いで、第１給紙部２１から、反射防止層／色素含有粘着剤層／耐衝撃層／粘着剤層／近赤外線吸収層／粘着剤層／離型フィルムからなる積層シートを繰り出しながら、同時に離型フィルムを第１離型フィルム巻取りロール２３に巻き取った。一方、第２給紙部２２から電磁波遮蔽層のシートを繰り出し、第１ラミネートユニット２５において、第１給紙部２１及び第２給紙部２２から繰り出された各シートを約３ｋｇｆ／ｍのラミネート圧でラミネートし、次いで、第２ラミネートユニット２６で約５ｋｇｈ／ｍのラミネート圧でラミネートし、巻取りロール２７に巻き取って、反射防止層／色素含有粘着剤層／耐衝撃層／粘着剤層／近赤外線吸収層／粘着剤層／電磁波遮蔽層からなる積層シートを得た。

viii) 反射防止層／色素含有粘着剤層／耐衝撃層／粘着剤層／近赤外線吸収層／粘着剤層／電磁波遮蔽層／粘着剤層／離型フィルムからなる積層シートの製造
前記ｖii) 工程で得られた反射防止層／色素含有粘着剤層／耐衝撃層／粘着剤層／近赤外線吸収層／粘着剤層／電磁波遮蔽層からなる積層シートを第１給紙部２１に配置した。一方、第２給紙部２２に離型フィルム／粘着剤層／離型フィルムからなる積層シートを巻き取ったものを配置した。該離型フィルム／粘着剤層／離型フィルムからなる積層シートは、前記工程iv）で用いたものと同じものを用いた。次いで、第１給紙部２１から、反射防止層／色素含有粘着剤層／耐衝撃層／粘着剤層／近赤外線吸収層／粘着剤層／電磁波遮蔽層からなる積層シートを繰り出した。一方、第２給紙部２２から離型フィルム／粘着剤層／離型フィルムからなる積層シートを繰り出すと同時に一側の離型フィルムを巻取りロール２４に巻取り、第１ラミネートユニット２５において、第１給紙部２１及び第２給紙部２２から繰り出された各シートを約３ｋｇｆ／ｍのラミネート圧でラミネートし、次いで、第２ラミネートユニット２６で約５ｋｇｈ／ｍのラミネート圧でラミネートして、巻取りロール２７に巻き取って、反射防止層／色素含有粘着剤層／耐衝撃層／粘着剤層／近赤外線吸収層／粘着剤層／電磁波遮蔽層／粘着剤層／離型フィルムからなる各耐衝撃層の種類の異なる本実施例１の光学フィルタ２種と対照の光学フィルタ１種を得た。

内部ヘーズの変化
得られた３種類の耐衝撃層付光学フィルタの耐衝撃層のヘーズ（内部ヘーズ）は、５．４％（結晶化核剤を用いないもの）、２．６％（ソルビトール系結晶化核剤を用いたもの）、２．７％（リン酸系結晶化核剤を用いたもの）であった。内部ヘーズとは耐衝撃層のみのヘーズをいう。また、８０℃絶乾、１０００時間後の内部ヘーズ値は、１０．１％（結晶化核剤を用いないもの）、３．０％（ソルビトール系結晶化核剤を用いたもの）、３．０％（リン酸系結晶化核剤を用いたもの）であった。また、６０℃、湿度９５％、１０００時間後の内部ヘーズ値は、６．２％（結晶化核剤を用いないもの）、２．９％（ソルビトール系結晶化核剤を用いたもの）、２．８％（リン酸系結晶化核剤を用いたもの）であった。その結果を下記の表１に示す。

ショワーＡ硬度
前記工程で得られた積層体の耐衝撃層のショワーＡ硬度は、何れも９０未満であった。その結果を下記の表１に示す。

プラズマディスプレイパネルの製造
次に、プラズマディスプレイパネルの前面に上記工程で得られた耐衝撃層付光学フィルタを貼付け、３種類のプラズマディスプレイパネルを得た。

プラズマディスプレイパネルの性状
本実施例１で得られた耐衝撃層付光学フィルタの視感度平均反射率は、０．８％であった。また、本実施例１で得られたプラズマディスプレイパネルは気泡の発生や、フィルタの剥離は無かった。本実施例１の耐衝撃層付光学フィルタの近赤外線遮蔽性能は、８００〜１２００ｎｍの波長において８５％以上であり、また、ネオン光遮断性能は、５８７ｎｍの波長において４０％以下であった。

衝撃試験
本実施例１で得られたプラズマディスプレイパネルについて、衝撃試験として図５に示す衝撃試験装置を用いて行い、高さ９．６ｃｍから直径５０．８ｍｍの鋼球１２（質量５３４ｇ）（ＪＩＳＢ１５０１玉軸受用鋼球に規定されたもの）を落下させたときの、破壊エネルギーを測定した。

１）加熱試験及び加湿熱試験前
加熱試験及び加湿熱試験前のプラズマディスプレイパネルについて、結晶化核剤を用いない耐衝撃層の場合、衝撃試験による破壊エネルギーが０．６Ｊではプラズマディスプレイパネルが割れず、０．７Ｊで割れた。ソルビトール系結晶化核剤を用いた耐衝撃層の場合、０．５Ｊではプラズマディスプレイパネルが割れず、０．６Ｊで割れた。リン酸系結晶化核剤を用いた耐衝撃層の場合、０．８Ｊではプラズマディスプレイパネルが割れず、０．９Ｊで割れた。その結果を下記の表１に示す。

２）加熱試験後
８０℃絶乾、１０００時間経過してなる加熱試験後のプラズマディスプレイパネルについて、結晶化核剤を用いない耐衝撃層の場合、ソルビトール系結晶化核剤を用いた耐衝撃層の場合、及びリン酸系結晶化核剤を用いた耐衝撃層の場合のいずれの場合も、衝撃試験による破壊エネルギーが０．５Ｊではプラズマディスプレイパネルが割れず、０．６Ｊで割れた。その結果を下記の表１に示す。

３）加湿熱試験後
６０℃、湿度９５％、１０００時間経過してなる加湿熱試験後のプラズマディスプレイパネルについて、結晶化核剤を用いない耐衝撃層の場合、ソルビトール系結晶化核剤を用いた耐衝撃層の場合、及びリン酸系結晶化核剤を用いた耐衝撃層の場合のいずれの場合も、衝撃試験による破壊エネルギーが０．５Ｊではプラズマディスプレイパネルが割れず、０．６Ｊで割れた。その結果を下記の表１に示す。

前記実施例１の方法において、耐衝撃層を形成するための樹脂としてビニルアセテート含有率が３２質量％、エチレンビニルアセテート（Ｕｌｔｒｈｅｎｅ７５０：商品名、東ソー（株）製）を用いた以外は全て前記実施例１と同様にして、３種類の積層体、及び該積層体から製造した３種類の光学フィルタ及び、該光学フィルタを用いた３種類のプラズマディスプレイパネルを得た。

得られた各積層体について、内部ヘーズを測定したところ、加熱試験及び加湿熱試験前の積層体の内部ヘーズは、結晶化核剤を用いない耐衝撃層の場合（対照）については６．４％と高く好ましくなかった。これに対して、ソルビトール系結晶化核剤を用いた耐衝撃層のヘーズ値２．６％、リン酸系結晶化核剤を用いた耐衝撃層のヘーズ値は２．８％であった。また、８０℃絶乾、１０００時間後の内部ヘーズ値は、結晶化核剤を用いない耐衝撃層については１１．２％と高くなり好ましくなかった。これに対して、ソルビトール系結晶化核剤を用いた耐衝撃層のヘーズ値は２．７％、リン酸系結晶化核剤を用いたものは２．９％と好ましい範囲であった。また、６０℃、湿度９５％、１０００時間後の内部ヘーズ値については、結晶化核剤を用いないものは７．４％と好ましくなく、一方、ソルビトール系結晶化核剤を用いたものは２．７％、リン酸系結晶化核剤を用いたものは２．９％と好ましい範囲であった。その結果を表１に示す。

得られた前記積層体の耐衝撃層のショワーＡ硬度は、何れも９０未満であった。その結果を下記の表１に示す。

得られた各プラズマディスプレイパネルについて、衝撃試験を前記実施例１と同様にして行い、次の結果が得られた。

１）加熱試験及び加湿熱試験前
加熱試験及び加湿熱試験前のプラズマディスプレイパネルについて、結晶化核剤を用いない耐衝撃層の場合（対照）、ソルビトール系結晶化核剤を用いた耐衝撃層の場合、及びリン酸系結晶化核剤を用いた耐衝撃層の場合のいずれの場合も、衝撃試験による破壊エネルギーが０．６Ｊではプラズマディスプレイパネルが割れず、０．７Ｊで割れた。その結果を下記の表１に示す。

２）加熱試験後
８０℃絶乾、１０００時間経過してなる加熱試験後のプラズマディスプレイパネルについて、結晶化核剤を用いない耐衝撃層の場合（対照）、ソルビトール系結晶化核剤を用いた耐衝撃層の場合、及びリン酸系結晶化核剤を用いた耐衝撃層の場合のいずれの場合も、衝撃試験による破壊エネルギーが０．６Ｊではプラズマディスプレイパネルが割れず、０．７Ｊで割れた。その結果を下記の表１に示す。

３）加湿熱試験後
６０℃、湿度９５％、１０００時間経過してなる加湿熱試験後のプラズマディスプレイパネルについて、結晶化核剤を用いない耐衝撃層の場合（対照）、ソルビトール系結晶化核剤を用いた耐衝撃層の場合、及びリン酸系結晶化核剤を用いた耐衝撃層の場合のいずれの場合も、衝撃試験による破壊エネルギーが０．６Ｊではプラズマディスプレイパネルが割れず、０．７Ｊで割れた。その結果を下記の表１に示す。

本実施例２で得られた耐衝撃層付光学フィルタの反射防止性能は、０．５％であった。また、本実施例２で得られたプラズマディスプレイパネルは気泡の発生や、フィルタの剥離は無かった。本実施例２の耐衝撃層付光学フィルタの近赤外線遮蔽性能は、８００〜１２００ｎｍの波長において８５％以上であり、また、ネオン光遮断性能は、５８７ｎｍの波長において４０％以下であった。

［比較例１］
前記実施例１の方法において、耐衝撃層を形成するための樹脂としてビニルアセテート含有率が１０質量％のエチレンビニルアセテート（Ｕｌｔｒｈｅｎｅ５４１：商品名、東ソー（株）製）を用いた以外は全て前記実施例１と同様にして、３種類の積層体、及び該積層体から製造した３種類の光学フィルタ及び、該光学フィルタを用いた３種類のプラズマディスプレイパネルを得た。

得られた各積層体について、内部ヘーズを測定したところ、加熱試験及び加湿熱試験前の積層体の内部ヘーズは、結晶化核剤を用いない耐衝撃層の場合（対照）については７．２％、ソルビトール系結晶化核剤を用いた耐衝撃層のヘーズ値５．１％、リン酸系結晶化核剤を用いた耐衝撃層のヘーズ値は５．６％と全ての場合において高く好ましくなかった。また、８０℃絶乾、１０００時間後の内部ヘーズ値は、結晶化核剤を用いない耐衝撃層の場合（対照）については８．９％、ソルビトール系結晶化核剤を用いた耐衝撃層のヘーズ値は５．８％、リン酸系結晶化核剤を用いたものは６．１％と全ての場合において好ましくなかった。また、６０℃、湿度９５％、１０００時間後の内部ヘーズ値については、結晶化核剤を用いないもの（対照）は８．４％、ソルビトール系結晶化核剤を用いたものは５．６％、リン酸系結晶化核剤を用いたものは５．９％と全ての場合において好ましくなかった。その結果を下記の表１に示す。

前記工程で得られた積層体の耐衝撃層のショワーＡ硬度は、何れも９０を超えていた。その結果を下記の表１に示す。

１）加熱試験及び加湿熱試験前
加熱試験及び加湿熱試験前のプラズマディスプレイパネルについて、結晶化核剤を用いない耐衝撃層の場合（対照）、ソルビトール系結晶化核剤を用いた耐衝撃層の場合、及びリン酸系結晶化核剤を用いた耐衝撃層の場合のいずれの場合も、衝撃試験による破壊エネルギーが０．４Ｊではプラズマディスプレイパネルが割れず、０．５Ｊで割れた。その結果を下記の表１に示す。

２）加熱試験後
８０℃絶乾、１０００時間経過してなる加熱試験後のプラズマディスプレイパネルについて、結晶化核剤を用いない耐衝撃層の場合（対照）、ソルビトール系結晶化核剤を用いた耐衝撃層の場合、及びリン酸系結晶化核剤を用いた耐衝撃層の場合のいずれの場合も、衝撃試験による破壊エネルギーが０．３Ｊではプラズマディスプレイパネルが割れず、０．４Ｊで割れたことから熱履歴を受けると耐衝撃性が劣る。その結果を下記の表１に示す。

３）加湿熱試験後
６０℃、湿度９５％、１０００時間経過してなる加湿熱試験後のプラズマディスプレイパネルについて、結晶化核剤を用いない耐衝撃層の場合（対照）、ソルビトール系結晶化核剤を用いた耐衝撃層の場合、及びリン酸系結晶化核剤を用いた耐衝撃層の場合のいずれの場合も、衝撃試験による破壊エネルギーが０．４Ｊではプラズマディスプレイパネルが割れず、０．５Ｊで割れたことから湿熱履歴を受けると耐衝撃性が劣る。その結果を下記の表１に示す。

［比較例２］
前記実施例１の方法において、耐衝撃層を形成するための樹脂としてビニルアセテート含有率が２０質量％のエチレンビニルアセテート（Ｕｌｔｒｈｅｎｅ６３３：商品名、東ソー（株）製）を用いた以外は全て前記実施例１と同様にして、３種類の積層体、及び該積層体から製造した３種類の光学フィルタ及び、該光学フィルタを用いた３種類のプラズマディスプレイパネルを得た。

得られた各積層体について、内部ヘーズを測定したところ、加熱試験及び加湿熱試験前の積層体の内部ヘーズは、結晶化核剤を用いない耐衝撃層（対照）については２．１％、ソルビトール系結晶化核剤を用いた耐衝撃層のヘーズ値１．８％、リン酸系結晶化核剤を用いた耐衝撃層のヘーズ値は２．０％であった。また、８０℃絶乾、１０００時間後の内部ヘーズ値は、結晶化核剤を用いない耐衝撃層（対照）については３．０％、ソルビトール系結晶化核剤を用いた耐衝撃層のヘーズ値は２．１％、リン酸系結晶化核剤を用いたものは２．５％であった。また、６０℃、湿度９５％、１０００時間後の内部ヘーズ値については、結晶化核剤を用いないものは３．０％、ソルビトール系結晶化核剤を用いたものは２．０％、リン酸系結晶化核剤を用いたものは２．４％であった。その結果を下記の表１に示す。

１）加熱試験及び加湿熱試験前
加熱試験及び加湿熱試験前のプラズマディスプレイパネルについて、結晶化核剤を用いない耐衝撃層の場合（対照）、衝撃試験による破壊エネルギーが０．５Ｊではプラズマディスプレイパネルが割れず、０．６Ｊで割れた。ソルビトール系結晶化核剤を用いた耐衝撃層の場合、及びリン酸系結晶化核剤を用いた耐衝撃層の場合のいずれの場合も、０．４Ｊではプラズマディスプレイパネルが割れず、０．５Ｊで割れたことから、結晶化核剤を添加すると耐衝撃性が劣る。その結果を下記の表１に示す。

２）加熱試験後
８０℃絶乾、１０００時間経過してなる加熱試験後のプラズマディスプレイパネルについて、結晶化核剤を用いない耐衝撃層の場合（対照）及びソルビトール系結晶化核剤を用いた耐衝撃層の場合、いずれも衝撃試験による破壊エネルギーが０．４Ｊではプラズマディスプレイパネルが割れず、０．５Ｊで割れたことから、耐衝撃性が劣る。また、リン酸系結晶化核剤を用いた耐衝撃層の場合、０．３Ｊではプラズマディスプレイパネルが割れず、０．４Ｊで割れたことから、耐衝撃性が劣る。その結果を下記の表１に示す。

３）加湿熱試験後
６０℃、湿度９５％、１０００時間経過してなる加湿熱試験後のプラズマディスプレイパネルについて、結晶化核剤を用いない耐衝撃層の場合（対照）、衝撃試験による破壊エネルギーが０．５Ｊではプラズマディスプレイパネルが割れず、０．６Ｊで割れた。ソルビトール系結晶化核剤を用いた耐衝撃層の場合、０．４Ｊではプラズマディスプレイパネルが割れず、０．５Ｊで割れたことから、耐衝撃性が劣る。。また、リン酸系結晶化核剤を用いた耐衝撃層の場合、０．３Ｊではプラズマディスプレイパネルが割れず、０．４Ｊで割れたことから、耐衝撃性が劣る。その結果を下記の表１に示す。

［比較例３］
前記実施例１の方法において、耐衝撃層を形成するための樹脂としてビニルアセテート含有率が４２質量％のエチレンビニルアセテート（Ｕｌｔｒｈｅｎｅ７６０：商品名、東ソー（株）製）を用いた以外は全て前記実施例１と同様にして、３種類の積層体、及び該積層体から製造した３種類の光学フィルタ及び、該光学フィルタを用いた３種類のプラズマディスプレイパネルを得た。

得られた各積層体について、内部ヘーズを測定したところ、加熱試験及び加湿熱試験前の積層体の内部ヘーズは、結晶化核剤を用いない耐衝撃層（対照）については８．９％、ソルビトール系結晶化核剤を用いた耐衝撃層のヘーズ値４．３％、リン酸系結晶化核剤を用いた耐衝撃層のヘーズ値は５．６％と全ての場合において高く好ましくなかった。また、８０℃絶乾、１０００時間後の内部ヘーズ値は、結晶化核剤を用いない耐衝撃層（対照）については１４．８％、ソルビトール系結晶化核剤を用いた耐衝撃層のヘーズ値は６．７％、リン酸系結晶化核剤を用いたものは６．９％と全ての場合において好ましくなかった。また、６０℃、湿度９５％、１０００時間後の内部ヘーズ値については、結晶化核剤を用いないもの（対照）は１２．２％、ソルビトール系結晶化核剤を用いたものは７．９％、リン酸系結晶化核剤を用いたものは８．４％と全ての場合において好ましくなかった。その結果を下記の表１に示す。

前記工程で得られた積層体の耐衝撃層のショワーＡ硬度は、何れも９０未満であった。その結果を下記の表１に示す。

表１において、Ａはソルビトール系化合物、Ｂはリン酸系化合物を示す。○○は２回の衝撃試験において２回ともプラズマディプレイパネルが割れなかったことを示し、●●は、２回の衝撃試験において２回ともプラズマディプレイパネルが割れたことを示す。

本発明の光学フィルタは、プラズマディスプレイの前面に貼付した場合に、プラズマディスプレイパネルに耐衝撃性を付与することができる。

本発明の耐衝撃層を設けた実施態様１の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。本発明の耐衝撃層を設けた実施態様２の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。本発明の耐衝撃層を設けた実施態様３の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。本発明の耐衝撃層を設けた実施態様４の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。本発明の耐衝撃層を設けた実施態様５の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。本発明の耐衝撃層を設けた実施態様６の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。本発明の耐衝撃層を設けた実施態様７の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。本発明の耐衝撃層を設けた実施態様８の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。本発明の耐衝撃層を設けた実施態様９の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。本発明の耐衝撃層を設けた実施態様１０の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。本発明の耐衝撃層を設けた実施態様１１の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。本発明の耐衝撃層を設けた実施態様１２の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。本発明の耐衝撃層を設けた実施態様１３の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。本発明の耐衝撃層を設けた実施態様１４の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。本発明の耐衝撃層を設けた実施態様１５の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。本発明の耐衝撃層を設けた実施態様１６の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。本発明の耐衝撃層を設けた実施態様１７の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。本発明の耐衝撃層を設けた実施態様１８の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。本発明の耐衝撃層を設けた実施態様１９の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。本発明の耐衝撃層を設けた実施態様２０の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。本発明の耐衝撃層を設けた実施態様２１の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。本発明の耐衝撃層を設けた実施態様２２の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。本発明の耐衝撃層を設けた実施態様２３の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。本発明の耐衝撃層を設けた実施態様２４の光学フィルタをプラズマディスプレイパネルの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。衝撃試験装置を示す図である。本発明の光学フィルタにおける耐衝撃層として、エチレンビニルアセテートを含有する耐衝撃層を形成するのに適した、押出ラミネート機の１例を示す概略図である。本発明の光学フィルタを構成する各層をラミネートするためのラミネート機の１例を示す図である。

符号の説明

１反射防止層
２粘着剤層
３耐衝撃層
４色素含有粘着剤層
５電磁波遮蔽層
６粘着剤層
７プラズマディスプレイパネル
８試験台
９土台
１０ガラス板
１１前面ガラス板
１２鋼球
２１第１給紙部２１
２２第２給紙部
２３第１離型フィルム巻取りロール
２４第２離型フィルム巻取りロール
２５第１ラミネートニユット
２６第２ラミネートニユット
２７巻取りロール
３５第１フィルム供給部
３７冷却ロール
３８ニップロール
３９第２フィルム供給部
４１排紙部
４２ダイス

Claims

（１）耐衝撃層を有する光学フィルタであって、
（２）該光学フィルタにおいて、ショワーＡ硬度が９０未満である耐衝撃層を有し、
（３）該耐衝撃層は、ビニルアセテートを含有するエチレンビニルアセテート及び結晶化核剤を有する樹脂組成物で形成されたものであって、エチレンビニルアセテートの結晶化が抑制されたものであり、熱負荷後及び／又は湿熱負荷後の該耐衝撃層の内部ヘーズが３．０％以下を維持できる性質を有することを特徴とする白濁化が抑制された光学フィルタ。
前記耐衝撃層は、該耐衝撃層内に結晶化核剤が５００ｐｐｍ−１００，０００ｐｐｍ含有されることによりエチレンビニルアセテートの結晶の成長が抑制されていることを特徴とする請求項１記載の白濁化が抑制された光学フィルタ。
前記耐衝撃層は、該耐衝撃層内に結晶化核剤が１０００ｐｐｍ−５０００ｐｐｍ含有されることによりエチレンビニルアセテートの結晶の成長が抑制されていることを特徴とする請求項１記載の白濁化が抑制された光学フィルタ。
前記光学フィルタをプラズマディスプレイパネルに貼付したときのプラズマディスプレイパネルに対する衝撃試験による破壊エネルギーが、耐熱試験前および耐湿熱試験前において０．６Ｊ以上であり、８０℃、１０００時間の耐熱試験後及び／又は６０℃、湿度９５％、１０００時間後の耐湿熱試験後において０．５Ｊ以上であることを特徴とする請求項１乃至３の何れか１項記載の白濁化が抑制された光学フィルタ。
前記エチレンビニルアセテート中のビニルアセテートの含有量が２５〜３５質量％である請求項１乃至４のいずれか１項記載の白濁化が抑制された光学フィルタ。
前記結晶化核剤は、ソルビトール系化合物またはリン酸系化合物である請求項１乃至５の何れか１項記載の白濁化が抑制された光学フィルタ。
近赤外線吸収化合物を含む樹脂層を有し、８００〜１０００ｎｍの波長範囲の透過率が２０％以下である請求項１乃至６の何れか１項記載の白濁化が抑制された光学フィルタ。
ネオン光５６０〜６３０ｎｍの波長範囲に最大吸収波長を持つネオン光吸収化合物を含む樹脂層を有し、該波長範囲における最大吸収波長の透過率が４０％以下である請求項１乃至７の何れか１項記載の白濁化が抑制された光学フィルタ。
可視光３８０〜７８０ｎｍの波長範囲の透過率が４０％以上となる請求項１乃至８の何れか１項記載の白濁化が抑制された光学フィルタ。
プラズマディスプレイ装置から発生する静電気及び／又は電磁波ノイズをシールドする電磁波遮蔽層を有する請求項１乃至９の何れか１項記載の白濁化が抑制された光学フィルタ。
プラズマディスプレイに貼着するための粘着剤層が設けられた請求項１乃至１０の何れか１項記載の白濁化が抑制された光学フィルタ。
請求項１乃至１１の何れか１項記載の光学フィルタを粘着剤層を介して表示面に貼付されてなるプラズマディスプレイパネル。