TW201736868A - 光學體以及玻璃材 - Google Patents

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Abstract

本發明提供一種防眩性及眺望性優異的光學體。光學體的特徵在於：具備微細凹凸層與第1透明無機層，所述第1透明無機層配置於所述微細凹凸層的微細凹凸表面之側，提取自所述光學體的配置有所述第1透明無機層之側，使光以入射角60°入射時的相對於所有向量的反射光的亮度的資料，並選擇包含表示來自所述光的入射點的最大值的亮度（Lmax）的向量、及穿過所述光的入射點的所述光學體的法線向量的面，於將X軸設為反射角（°），將Y軸設為亮度所獲得的關於所述面的曲線圖中，當將表示Lmax的90%的亮度的反射角彼此的寬度設為θ1（°），將表示Lmax的10%的亮度的反射角彼此的寬度設為θ2（°）時，滿足θ2/θ1＞7。

Description

光學體以及玻璃材
本發明是有關於一種光學體以及玻璃材，更具體而言，本發明是有關於一種高的防眩性與眺望性併存的光學體、以及具備其的玻璃材。
近年來，於包含高層大樓或超高層塔式住宅（tower mansion）等的建築物中，光於所搭載的窗玻璃等上反射，而對其他鄰近的建築物的利用者造成晃眼的所謂反射光害正頻繁地成為問題。因此，於建築物的建設時，需要尋求對於所述反射光害的充分的對策。
此處，作為來自建築物的窗玻璃的反射光的晃眼對策，例如可列舉：於建築物的壁面上設置百葉窗等來直接遮擋反射光的方法。但是，百葉窗的設置因工程規模大且成本高，亦影響建築物的設計性，故物主大多敬而遠之。
另一方面，作為提昇建築物的窗玻璃的防眩性的方法，除所述方法以外，可列舉將膜貼在窗玻璃上來改善反射特性的方法。
例如，作為可改善窗玻璃的防眩性的膜，於專利文獻1中揭示有當將如下的膜貼附於窗玻璃上時，可抑制由光的反射所引起的晃眼，所述膜於表面上具有可自矽化合物或金屬化合物等的微粒子與樹脂的混合物製備的光擴散層、及多層抗反射膜，且光梳寬度0.5 mm中的透過像清晰度大於10%。 現有技術文獻 專利文獻
專利文獻1：日本專利特開平10-128899號公報
[發明所欲解決之課題] 但是，所述先前的膜於光擴散層中含有微粒子作為實質上的必需成分。因此，藉由具有霧度來實現防眩性，但僅有霧度，則作為表示眺望性的指標並不充分，因此就至少使防眩性與眺望性併存的觀點而言，所述先前的膜依然存在改善的餘地。另外，對於所述先前的膜亦要求眺望性的進一步的提昇。
本發明將解決先前的所述各種問題，並達成以下的目的作為課題。即，本發明在於提供一種防眩性及眺望性優異的光學體、以及防眩性及眺望性優異的玻璃材。 [解決課題之手段]
本發明者等人為了達成所述目的，並不限定於膜，進行了努力研究。其結果，發現藉由形成如入射角60度的入射光中的雙向反射率分佈函數（Bidirectional Reflectance Distribution Function，BRDF）的峰值變成特定的形態般的表面結構，可謀求高的防眩性及眺望性的併存，從而完成了本發明。
本發明是基於本發明者等人的所述發現而成者，作為用以解決所述課題的手段，如下所示。即， ＜1＞ 一種光學體，其包括微細凹凸層、及第1透明無機層，其特徵在於： 所述第1透明無機層配置於所述微細凹凸層的微細凹凸表面之側， 提取自所述光學體的配置有所述第1透明無機層之側，使光以入射角60°入射時的相對於所有向量的反射光的亮度的資料，並選擇包含表示來自所述光的入射點的最大值的亮度（Lmax ）的向量、及穿過所述光的入射點的所述光學體的法線向量的面，於將X軸設為反射角（°），將Y軸設為亮度所獲得的關於所述面的曲線圖中，當將表示Lmax 的90%的亮度的反射角彼此的寬度設為θ1 （°），將表示Lmax 的10%的亮度的反射角彼此的寬度設為θ2 （°）時，滿足θ2 /θ1 ＞7。 於該＜1＞中記載的光學體中，針對微細凹凸層的微細凹凸表面之側的面設為θ2 /θ1 ＞7，藉此可提昇防眩性及眺望性。
＜2＞ 如所述＜1＞中記載的光學體，其測定角20°處的光澤度為20以下、且光梳寬度2 mm中的透過像清晰度為50%以上。
＜3＞ 如所述＜1＞或＜2＞中記載的光學體，其中所述微細凹凸層的微細凹凸表面的均方根斜率RΔq為0.07以上。
＜4＞ 如所述＜1＞至＜3＞中任一項記載的光學體，其中所述第1透明無機層的主成分為具有3.0 eV以上、3.7 eV以下的帶隙的無機化合物。
＜5＞ 如所述＜1＞至＜4＞中任一項記載的光學體，其中所述第1透明無機層含有ZnO及CeO2 的至少任一者。
＜6＞ 如所述＜1＞至＜5＞中任一項記載的光學體，其中所述第1透明無機層的厚度為70 nm以上、400 nm以下。
＜7＞ 如所述＜1＞至＜6＞中任一項記載的光學體，其於所述第1透明無機層上具備防污塗層。
＜8＞ 如所述＜1＞至＜6＞中任一項記載的光學體，其於所述第1透明無機層上進而具備第2透明無機層。
＜9＞ 如所述＜8＞中記載的光學體，其中所述第2透明無機層的主成分為具有比所述第1透明無機層的主成分的帶隙大4.0 eV以上的帶隙的無機化合物。
＜10＞ 如所述＜8＞或＜9＞中記載的光學體，其中所述第2透明無機層含有SiO2 、SiN、SiON及MgF2 的至少任一者。
＜11＞ 如所述＜8＞至＜10＞中任一項記載的光學體，其中所述第2透明無機層的厚度為40 nm以上、140 nm以下。
＜12＞ 如所述＜8＞至＜11＞中任一項記載的光學體，其於所述第2透明無機層上具備防污塗層。
＜13＞ 如所述＜1＞至＜12＞中任一項記載的光學體，其可見光線透過率為20%以上、90%以下。
＜14＞ 如所述＜1＞至＜13＞中任一項記載的光學體，其日射吸收率為45%以下。
＜15＞ 如所述＜1＞至＜14＞中任一項記載的光學體，其波長320 nm的光的透過率為10%以下。
＜16＞ 一種玻璃材，其特徵在於：包括玻璃基板、及如所述＜1＞至＜15＞中任一項記載的光學體。 該＜16＞中記載的玻璃材因具備所述光學體，故防眩性及眺望性均高。
＜17＞ 如所述＜16＞中記載的玻璃材，其為多層玻璃。 [發明的效果]
根據本發明，可解決先前的所述各種問題，並達成所述目的，可提供一種防眩性及眺望性優異的光學體、以及防眩性及眺望性優異的玻璃材。
（光學體） 本發明的一實施形態的光學體至少具備微細凹凸層與第1透明無機層，視需要，進而具備第2透明無機層、防污塗層、及/或其他層。 再者，於本說明書中，所謂「透明」或「具有透明性」，是指透過像清晰度高，可透過光學體而明確地辨認像。
＜微細凹凸層＞ 微細凹凸層是於表面上具有微細的凹凸結構的層。該凹凸結構可由規則的圖案形成，亦可無規地形成。
微細凹凸層的算術平均粗糙度Ra較佳為100 nm以上，另外，較佳為250 nm以下。藉由Ra為100 nm以上，可提昇防眩性，另外，藉由Ra為250 nm以下，可更容易地獲得作為目標的眺望性。
微細凹凸層的微細凹凸表面的均方根斜率（粗糙度曲線要素的均方根斜率）RΔq較佳為0.07以上。藉由RΔq為0.07以上，可充分地提昇光學體的防眩性。就相同的觀點而言，微細凹凸層的RΔq更佳為0.2以上，進而更佳為0.3以上。 另外，微細凹凸層的微細凹凸表面的粗糙度曲線要素的平均長度RSm較佳為40 μm以下。藉由RSm為40 μm以下，可提昇眺望性。就相同的觀點而言，微細凹凸層的RSm更佳為15 μm以下，進而更佳為10 μm以下。
再者，所述微細凹凸層的Ra、RSm及RΔq例如可藉由實施例中所使用的方法來測定。
此處，微細凹凸層例如可藉由形狀轉印法來形成。以下，參照圖1對利用形狀轉印法的微細凹凸層的形成方法進行說明。
圖1是表示作為用以形成本實施形態的光學體的微細凹凸層的方法的一例的形狀轉印法的示意圖。圖1中所示的形狀轉印裝置1包括：母盤2、基材供給輥51、捲取輥52、導輥53、導輥54、夾輥55、剝離輥56、塗佈裝置57、以及光源58。
基材供給輥51是將片狀的基材61捲成輥狀的輥，捲取輥52是捲取積層有轉印了微細凹凸結構23的樹脂層62的基材61的輥。另外，導輥53、導輥54是搬送基材61的輥。夾輥55是使積層有樹脂層62的基材61相對於圓筒形狀的母盤2密接的輥，剝離輥56是於微細凹凸結構23被轉印至樹脂層62上後，將積層有樹脂層62的基材61自母盤2上剝離的輥。此處，基材61例如可設為PET樹脂或聚碳酸酯樹脂等塑膠製的基材，另外，可設為塑膠製的透明的膜。
塗佈裝置57具備塗佈機等塗佈手段，其將含有紫外線硬化性樹脂的組成物（紫外線硬化性樹脂組成物）塗佈於基材61上，而形成樹脂層62。塗佈裝置57例如可為凹版塗佈機、線棒塗佈機或模塗機等。另外，光源58是發出紫外光的光源，例如可設為紫外線燈等。
紫外線硬化性樹脂是藉由照射紫外線而導致流動性下降、且硬化的樹脂，具體而言，可列舉丙烯酸系樹脂等。另外，紫外線硬化性樹脂組成物視需要亦可含有起始劑、填料、功能性添加劑、溶劑、無機材料、顏料、抗靜電劑或增感色素等。
於形狀轉印裝置1中，首先，自基材供給輥51經由導輥53而連續地送出片狀的基材61。利用塗佈裝置57對所送出的基材61塗佈紫外線硬化性樹脂組成物，而將樹脂層62積層於基材61上。另外，積層有樹脂層62的基材61藉由夾輥55而密接於母盤2。藉此，將形成於母盤2的外周面上的微細凹凸結構23轉印至樹脂層62上。於轉印了微細凹凸結構23後，樹脂層62藉由來自光源58的光的照射而硬化。繼而，積層有經硬化的樹脂層62的基材61藉由剝離輥56而自母盤2上剝離，並經由導輥54而由捲取輥52捲取。 藉由此種形狀轉印裝置1，可於基材61上連續地形成具有微細凹凸表面的微細凹凸層。此處，微細凹凸表面的Ra、RSm及RΔq例如可藉由適宜變更母盤2的微細凹凸結構23來進行調整。
再者，於所述形狀轉印法中，準備基材與紫外線硬化性樹脂，並使用該樹脂於基材上形成微細凹凸層（即，如圖2所示，微細凹凸層63包含基材61與具有微細凹凸結構的樹脂層62），但本發明的光學體的微細凹凸層並不限定於此，例如亦可為於包含紫外線硬化性樹脂或熱硬化性樹脂等樹脂的基材上直接形成微細凹凸結構者（即，如圖3所示，微細凹凸層63僅包含基材61者）。
＜第1透明無機層＞ 本實施形態的光學體具備第1透明無機層。該第1透明無機層具有透明性，並且具有吸收規定的波長的光的功能。另外，如圖2、圖3所示，該第1透明無機層為配置於微細凹凸層的微細凹凸表面之側者，例如可藉由濺鍍法來形成。
第1透明無機層的主成分較佳為具有2.8 eV以上、4.8 eV以下的帶隙的無機化合物。此處，帶隙表示吸收端的波長，廣義上表示吸收小於相當於帶隙的波長的光，並使相當於帶隙的波長以上的光透過。而且，所述2.8 eV以上、4.8 eV以下的帶隙表示根據使用普朗克（Planck）常數（6.626×10-34 J·s）及光速（2.998×108 m/s）所獲得的波長λ與帶隙能量E的關係式：「λ（nm）＝1240/E（eV）」，大概於作為紫外區域與可見區域的邊界的260 nm以上、440 nm以下的範圍內具有吸收端的波長。因此，藉由將所述無機化合物用於第1透明無機層，可使透明性與紫外線吸收特性併存。就相同的觀點而言，第1透明無機層的主成分更佳為具有3.0 eV以上、3.7 eV以下（以波長換算計大約為340 nm以上、420 nm以下）的帶隙的無機化合物。另外，若亦根據為了抑制生產性的下降或產生裂紋的風險而謀求薄膜化，則第1透明無機層的主成分更佳為具有3.0 eV以上、3.4 eV以下（以波長換算計大約為360 nm以上、420 nm以下）的帶隙的無機化合物。再者，於本說明書中，所謂「主成分」，是指含量最多的成分。
再者，作為具有2.8 eV以上、4.8 eV以下的帶隙的無機化合物，具體而言，可列舉：ZnO、CeO2 、TiO2 、SnO2 、In2 O3 、Nb2 O5 、Ta2 O5 、SiC、ZnS等。另外，作為具有3.0 eV以上、3.7 eV以下的帶隙的無機化合物的例子，具體而言，可列舉：ZnO、CeO2 、TiO2 、Nb2 O5 、SiC、ZnS等。進而，作為具有3.0 eV以上、3.4 eV以下的帶隙的無機化合物的例子，具體而言，可列舉：ZnO、CeO2 等。考慮到以上所述，第1透明無機層較佳為含有ZnO及CeO2 的至少任一者。可將該些無機化合物的單獨一種用於第1透明無機層，亦可將兩種以上組合來用於第1透明無機層。
第1透明無機層的厚度較佳為70 nm以上，另外，較佳為400 nm以下。藉由第1透明無機層的厚度為70 nm以上，可獲得足夠高的紫外線吸收特性，另外，藉由第1透明無機層的厚度為400 nm以下，可抑制生產性的下降或產生裂紋的風險。就相同的觀點而言，第1透明無機層的厚度更佳為100 nm以上，另外，更佳為300 nm以下。
＜第2透明無機層＞ 如圖4所示，本實施形態的光學體較佳為除第1透明無機層64以外，於該第1透明無機層64上進而具備第2透明無機層65。藉由具備第2透明無機層，可防止由雨等所產生的污垢對於第1透明無機層的附著。該第2透明無機層具有透明性，可為撥水性，亦可為親水性，另外，例如可藉由濺鍍法來形成。
第2透明無機層的主成分較佳為具有比第1透明無機層的主成分的帶隙大的帶隙，更具體而言，較佳為具有比第1透明無機層的主成分的帶隙大4.0 eV以上的帶隙的無機化合物。藉由第2透明無機層的主成分的帶隙比第1透明無機層的主成分的帶隙大，適宜的是大4.0 eV以上，除第1透明無機層的防污性的提昇以外，亦可提昇所獲得的光學體的防眩性。 具體而言，作為較佳的第2透明無機層的主成分，可列舉：SiO2 、SiN、SiON、MgF2 等無機化合物。換言之，第2透明無機層較佳為含有SiO2 、SiN、SiON及MgF2 的至少任一者。可將該些無機化合物的單獨一種用於第2透明無機層，亦可將兩種以上組合來用於第2透明無機層。
第2透明無機層的厚度較佳為40 nm以上，另外，較佳為140 nm以下。藉由第2透明無機層的厚度為40 nm以上、140 nm以下，可充分地降低反射率，並更有效地提昇防眩性。就相同的觀點而言，第2透明無機層的厚度更佳為60 nm以上，另外，更佳為120 nm以下。
再者，圖5a及圖5b示意性地表示將作為第1透明無機層的ZnO層及作為第2透明無機層的SiO2 層配置於PET基材上而成的積層體的、相對於各個層的厚度的反射率的曲線圖，僅供參考。根據該些圖，可知反射率可隨著第1透明無機層的厚度增大，而週期地增加或減少。另外，根據該些圖，可知反射率隨著第2透明無機層的厚度增大而減少，直至第2透明無機層的厚度成為100 nm左右為止，若厚度進一步增大，則反射率開始增加。因此，第1透明無機層的厚度及第2透明無機層的厚度理想的是考慮紫外線吸收特性、反射率、裂紋性、生產性等而分別選擇。
＜防污塗層＞ 本實施形態的光學體較佳為於微細凹凸層的微細凹凸表面之側的最表面上具備防污塗層。具體而言，本實施形態的光學體較佳為於第1透明無機層上、或第2透明無機層上具備防污塗層。藉由具備防污塗層，可減少污垢對於光學體的附著，並且可容易地使所附著的污垢掉落，光學體可更長期地發揮所期望的性能。 再者，就接著性高的觀點而言，較佳為於將SiO2 作為主成分的第2透明無機層上具備防污塗層。
防污塗層的主成分可為撥水性，亦可為親水性，另外，可為撥油性，亦可為親油性。但是，就更有效地提高防污性的觀點而言，防污塗層的主成分較佳為撥水性且撥油性。關於撥水性，若具體而言，則防污塗層的純水接觸角較佳為110°以上，更佳為115°以上。作為具有該些性質者，防污塗層的主成分較佳為全氟聚醚。
防污塗層的厚度較佳為5 nm以上，另外，較佳為20 nm以下，例如為10 nm。藉由防污塗層的厚度為5 nm以上，可充分地提高光學體的防污性，另外，藉由防污塗層的厚度為20 nm以下，可避免微細凹凸層的凹凸結構的埋沒。
＜其他層＞ 本實施形態的光學體並無特別限制，亦可具備所述層以外的其他層。例如，為了使所述微細凹凸層與第1透明無機層牢固地密接，本實施形態的光學體亦可於該些層之間具備密接層。作為該密接層，例如可列舉SiOx 層，厚度例如可設為2 nm以上、10 nm以下。該密接層例如可藉由濺鍍法來形成。
另外，本實施形態的光學體較佳為在與配置有第1透明無機層的面相反側的面上具備吸收可見光的黏著層。藉由在與配置有第1透明無機層的面相反側的面上具備吸收可見光的黏著層，於如圖6所示的使玻璃基板81積層在該光學體的具備黏著層84的面上而成的玻璃材80中，可高效率地吸收透過第1透明無機層64及微細凹凸層63而入射至黏著層84中的可見光，以及透過第1透明無機層64、微細凹凸層63及黏著層84後，由玻璃基板81反射並入射至黏著層84中的可見光等來降低可見光線透過率，於維持高的眺望性的狀態下進一步改善防眩性。此外，亦具有如下的優點：藉由使用可見光吸收率不同的黏著層，可容易地備齊光澤度不同的產品陣容（product lineup）。 再者，吸收可見光的黏著層例如可使用使吸收可見光的染料或顏料等著色劑以任意的比例分散於具有黏著性的材料中而成者來製備。 另一方面，例如當吸收可見光的染料或顏料的比例多，而存在黏著力下降、或耐久性惡化等不良情況等時，亦可使含有染料或顏料等著色劑的吸收可見光的基材、或類鑽碳（Diamond-like Carbon，DLC）等吸收可見光的無機膜積層於微細凹凸層上。
＜光學體的特性＞ 本實施形態的光學體於使光以入射角60°入射時的BRDF（雙向反射率分佈函數，Bidirectional Reflectance Distribution Function）方面具有特徵。此處，作為光學體的BRDF的測定，首先自光學體的配置有第1透明無機層之側，使光以入射角60°入射，並提取相對於所有向量的反射光的亮度的資料。繼而，根據所提取的資料來確定表示來自光的入射點的最大值的亮度（Lmax ）的向量，並且選擇包含表示來自光的入射點的Lmax 的向量、及穿過光的入射點的光學體的法線向量的面。關於該面，將X軸設為反射角（°），將Y軸設為亮度的座標中所示的線圖（曲線圖）為BRDF。為了參考，圖7示意性地表示BRDF的測定結果的一例。再者，所述BRDF例如可藉由實施例中所使用的方法來測定。
而且，本實施形態的光學體於所述線圖中，當將表示Lmax 的90%的亮度的反射角彼此的寬度設為θ1 （°），將表示Lmax 的10%的亮度的反射角彼此的寬度設為θ2 （°）時，需要滿足θ2 /θ1 ＞7。本發明者等人反覆努力研究的結果，令人吃驚地發現當θ2 超過θ1 的7倍時，可使防眩性及眺望性併存。再者，就使防眩性及眺望性以更高的水準併存的觀點而言，本實施形態的光學體較佳為滿足θ2 /θ1 ≧9。
另外，本實施形態的光學體於所述線圖中，當將表示Lmax 的50%的亮度的反射角彼此的寬度（即，半寬度）設為θ3 （°）時，θ3 較佳為30°以下。藉由θ3 為30°以下，可提昇眺望性。就相同的觀點而言，θ3 更佳為25°以下，進而更佳為20°以下。
本實施形態的光學體的測定角20°處的光澤度較佳為20以下。藉由測定角20°處的光澤度為20以下，可使光學體的防眩性變得足夠高。就相同的觀點而言，光學體的測定角20°處的光澤度更佳為10以下。 再者，光學體的測定角20°處的光澤度例如可藉由實施例中所使用的方法來測定。
本實施形態的光學體的光梳寬度2 mm中的透過像清晰度較佳為50%以上。藉由光梳寬度2 mm中的透過像清晰度為50%以上，可使光學體的眺望性變得足夠高。就相同的觀點而言，光學體的光梳寬度2 mm中的透過像清晰度更佳為70%以上，進而更佳為80%以上。 再者，光學體的光梳寬度2 mm中的透過像清晰度例如可藉由實施例中所使用的方法來測定。
本實施形態的光學體的可見光線透過率較佳為20%以上，另外，較佳為90%以下。藉由光學體的可見光線透過率為20%以上，當將其作為窗玻璃的一部分而設置於建築物等上時，可抑制室內變得過暗且眺望性惡化的情況，另外，藉由光學體的可見光線透過率為90%以下，可降低被認為與可見光線透過率成比例的光澤度，並保持高的防眩性。就相同的觀點而言，光學體的可見光線透過率更佳為30%以上，另外，更佳為70%以下，進而更佳為55%以下。再者，當將光學體用於後述的多層玻璃時，藉由將光學體的可見光線透過率設為70%以下，可將晃眼抑制成與單層玻璃相同的程度或其以上，而適宜。另外，光學體的可見光線透過率例如可藉由實施例中所使用的方法來測定。
本實施形態的光學體的紫外線透過率較佳為15%以下。藉由光學體的紫外線透過率為15%以下，可抑制由紫外線所引起的基材的黃變等劣化，並且可提昇基材與紫外線硬化樹脂的密接耐久性。就相同的觀點而言，光學體的紫外線透過率更佳為10%以下。 再者，光學體的紫外線透過率可依據日本工業標準（Japanese Industrial Standards，JIS）A5759，例如使用日本分光股份有限公司製造的分光光度計「V-560」來測定。
另外，本實施形態的光學體的波長320 nm的光的透過率較佳為10%以下，更佳為6%以下，進而更佳為3%以下。藉由光學體的波長320 nm的光的透過率為10%以下，可有效地抑制由紫外線所引起的基材的黃變等劣化，並且可提昇基材與樹脂層的密接耐久性（詳細情況參照實施例16～實施例18的記載）。 再者，光學體的波長320 nm的光的透過率例如可藉由實施例中所使用的方法來測定。
另外，本實施形態的光學體的日射吸收率較佳為45%以下。藉由光學體的日射吸收率為45%以下，可降低玻璃的熱破裂風險。就相同的觀點而言，光學體的日射吸收率更佳為30%以下。 再者，光學體的日射吸收率（αe ）可使用依據JIS A5759所測定的日射透過率（τe ）、日射吸收率（ρe ），藉由αe ＝100－τe －ρe 來進行計算。
（玻璃材） 本發明的一實施形態的玻璃材具備玻璃基板與所述光學體。具體而言，如圖8所示，本實施形態的玻璃材80可設為將所述光學體60與玻璃基板81以如下方式積層而成者：該光學體60的未配置第1透明無機層64的面與玻璃基板81相向。如此，本實施形態的玻璃材至少具備所述光學體，防眩性及眺望性兩者均優異，因此可適宜地用作高層大樓或住宅等的建築用窗玻璃、車輛用的窗玻璃等。 再者，本實施形態的玻璃材可僅於玻璃基板的一面上具備所述光學體，亦可於玻璃基板的兩面上具備所述光學體。
根據與所述光學體相同的想法，本實施形態的玻璃材較佳為滿足θ2 /θ1 ＞7。另外，本實施形態的玻璃材中的測定角20°處的光澤度、光梳寬度2 mm中的透過像清晰度、可見光線透過率、紫外線透過率、波長320 nm的光的透過率及日射吸收率的較佳的範圍及該範圍較佳的理由分別與針對光學體所述者相同。
本實施形態的玻璃材亦可為多層玻璃。通常，與單層玻璃相比，多層玻璃的防眩性欠佳，但本實施形態的玻璃材因具備所述光學體，故即便是多層玻璃，亦可帶來高的防眩性。
此處，所謂多層玻璃，通常是指具有如下的結構的玻璃：使隔片介於周緣而將多片玻璃基板積層、且於各玻璃基板之間形成有空間。 而且，作為多層玻璃的本實施形態的玻璃材80於作為窗玻璃而設置在建築物等上時，如圖9的（a）所示，可僅於成為室外側的玻璃基板82的室外側的面上設置光學體60，如圖9的（b）～（d）所示，亦可於成為室外側的玻璃基板82的室外側的面上設置光學體60，並且於成為室內側的玻璃基板83的一面或兩面上亦設置光學體60，進而如圖9的（e）～（h）所示，亦可於成為室外側的玻璃基板82的兩面上設置光學體，並且任意地於成為室內側的玻璃基板83的一面或兩面上亦設置光學體60。
另外，當本實施形態的玻璃材為多層玻璃、且作為窗玻璃而設置於建築物等上時，於在成為室外側的玻璃基板的室外側的面上設置有光學體的情況下，特佳為在與該光學體的配置有第1透明無機層的面相反側的面（更具體而言，該光學體與玻璃基板之間）上具備吸收可見光的黏著層。藉由具備此種吸收可見光的黏著層，可高效率地吸收透過光學體而入射至黏著層中的可見光，透過光學體及黏著層後，由室外側的玻璃基板的室內側的面反射並入射至黏著層中的可見光，以及透過光學體、黏著層及室外側的玻璃基板後，由室內側的玻璃基板反射，然後透過室外側的玻璃基板並入射至黏著層中的可見光等來降低可見光線透過率，於維持高的眺望性的狀態下消除多層玻璃可能頻繁面對的防眩性的問題。 實施例
繼而，列舉實施例及比較例來更具體地說明本發明，但本發明並不限定於下述實施例。
（實施例1～實施例4、比較例1～比較例4） 於PET製的基材（東洋紡股份有限公司製造，「A4300」，厚度為50 μm）上，使用含有丙烯酸系的紫外線硬化性樹脂的組成物並藉由形狀轉印法來形成具有微細凹凸表面的微細凹凸層。於此時的微細凹凸層的形成時，以關於表面的各參數（Ra：算術平均粗糙度（nm）、RSm：粗糙度曲線要素的平均長度（μm）、RΔq：粗糙度曲線要素的均方根斜率）變成表1中所示的值的方式，變更母盤的表面形狀等而適宜調整形狀轉印法的條件。繼而，於微細凹凸層的微細凹凸表面上積層作為密接層的SiOx 層（4 nm），並藉由濺鍍法而於該SiOx 層的表面上積層作為第1透明無機層的ZnO層（200 nm），進而，藉由濺鍍法而於該ZnO層的表面上積層作為第2透明無機層的SiO2 層（80 nm），從而獲得光學體（未貼合青板玻璃的光學體）。而且，在與該光學體的形成微細凹凸層、且積層有第1透明無機層及第2透明無機層的面相反側的面上積層黏著層（無基材的雙面黏著膠帶，日榮化工股份有限公司製造的「MHM-FW25」，厚度為25 μm）後，貼合於厚度為3 mm的青板玻璃（JIS R3202中所規定的浮板玻璃）上。
再者，微細凹凸層的Ra、RSm及RΔq是使用菱化系統股份有限公司製造的「VertScan R5300」（版本：VS-Measure Version 5.05.0010，電荷耦合元件（Charge Coupled Device，CCD）相機：SONY HR-57 1/3''，物鏡：5 X～50 X，鏡筒：1X Body，波長濾波器：530 white，測定模式：Focus，視野尺寸：640×480），並根據JIS B0601：2001進行計算。但是，JIS B0601：2001的測定方法為觸針用測定方法，因此不進行相位補償濾波器的處理、基準長度或評價長度的區分而進行計算。
針對以所述方式獲得的未貼合青板玻璃的光學體，藉由以下的方法來進行霧度的測定，另外，針對貼合有青板玻璃的光學體（單層玻璃），藉由以下的方法來進行BRDF（雙向反射率分佈函數）及θ1 ～θ3 的測定，並且進行防眩性及眺望性的評價，使用該些的評價結果來進行綜合判定。
＜霧度的測定＞ 使用日本電色工業公司製造的「NDH 7000SP」，依據JIS K7136來求出霧度。將結果示於表1中。
＜BRDF及θ1 ～θ3 的測定＞ 為了去除背面反射，於貼合在光學體上的青板玻璃上進而貼合黑色膠帶（米其邦（Nichiban）股份有限公司製造，「VT-50」）。繼而，以黑色膠帶之側變成下方的方式將光學體置於平面上，使用光技術（LIGHT TEC）公司製造的「Mini-Diff」，測定使光以入射角60°入射時的該光學體的BRDF。藉由該BRDF的測定來求出表示最大值的亮度（Lmax ）的向量，關於包含該向量與穿過光的入射點的光學體的法線向量的面，獲得如圖7中所示的將X軸設為反射角（°），將Y軸設為亮度的線圖。再者，於本線圖中，將亮度的最大值（Lmax ）設為1而規格化。而且，求出表示Lmax 的90%的亮度的反射角彼此的寬度（θ1 （°））、表示Lmax 的10%的亮度的反射角彼此的寬度（θ2 （°））、及表示Lmax 的50%的亮度的反射角彼此的寬度（θ3 （°））。將各例中的θ2 /θ1 及θ3 的值示於表1中。
＜防眩性的評價＞ 將貼合有青板玻璃的光學體以青板玻璃變成下方的方式置於平面上，使用可攜式光澤度計（畢克-加特納（BYK-Gardner）公司製造的「微型光澤度計（Micro-gloss）」），依據JIS Z8741測定測定角20°處的光澤度G。根據該光澤度G的值，並按照以下的基準進行防眩性的評價。將結果示於表1中。 光澤度G為20以下・・・○ 光澤度G超過20・・・×
＜眺望性的評價＞ 使用觸控面板式映像性測定器（須賀試驗機（Suga Test Instruments）股份有限公司製造的「ICM-1T」），依據JIS K7374測定貼合有青板玻璃的光學體的光梳寬度2 mm中的透過像清晰度T（%）。根據該透過像清晰度T的值，並按照以下的基準進行眺望性的評價。將結果示於表1中。 透過像清晰度T為50%以上・・・○ 透過像清晰度T未滿50%・・・×
＜綜合判定＞ 於各例中，當所述防眩性的評價結果、及所述眺望性的評價結果均為○時，將綜合判定設為○，當任一者的評價結果不為○時，將綜合判定設為×。將結果示於表1中。
（比較例5～比較例7） 作為用於微細凹凸層的形成的材料，使用將填料以規定的比例調配至紫外線硬化性樹脂中而成者，並將微細凹凸上的構成分別設為與實施例1～實施例3相同，而獲得光學體。而且，與所述同樣地對該光學體進行霧度、BRDF及θ1 ～θ3 的測定，並且進行防眩性及眺望性的評價，使用該些的評價結果來進行綜合判定。將結果示於表1中。
（比較例8） 使用所述BRDF的測定中所使用的厚度為3 mm的青板玻璃本身，與所述同樣地對其進行霧度、BRDF及θ1 ～θ3 的測定，並且進行防眩性及眺望性的評價，使用該些的評價結果來進行綜合判定。將結果示於表1中。
再者，使用實施例1～實施例4及比較例1～比較例8的測定結果，將X軸表示θ2 /θ1 、Y軸表示光澤度G所獲得的點列圖示於圖10中，將X軸表示θ2 /θ1 、Y軸表示透過像清晰度T所獲得的點列圖示於圖11中，將X軸表示RΔq、Y軸表示光澤度G所獲得的點列圖示於圖12中。
[表1]
根據表1及圖10、圖11，可知自BRDF算出的θ2 /θ1 大於7的光學體不僅光澤度低，而且透過像清晰度高，即高的防眩性與眺望性併存。 再者，根據圖12，在RΔq與光澤度G中看到某種程度的關聯性，可知若RΔq為0.07以上，則光澤度足夠低，即，可充分地提昇防眩性。
繼而，為了使光學體具備吸收可見光的黏著層的情況、及將光學體用於多層玻璃的情況下的特性變得明確，而進行以下的實驗。
（實施例5～實施例8） 作為黏著層，使用使吸收可見光的著色劑以4種水準分散於實施例1中所使用的無基材的雙面黏著膠帶中，並調整透過率而成者（吸收可見光的黏著層），除此以外，以與實施例1相同的方式分別獲得貼合有青板玻璃的光學體。使用日本分光股份有限公司製造的「V-560」，對該貼合有青板玻璃的光學體進行可見光線透過率（%）的測定。再者，為了比較，亦對實施例1及比較例8的光學體進行可見光線透過率（%）。另外，針對比較例8及實施例1、實施例5～實施例8的光學體，使用利用日立高新技術科學（Hitachi High-Tech Science）公司製造的「UH4150」，並依據JIS A5759所測定的日射透過率（τe ）、日射吸收率（ρe ），藉由 αe ＝100－τe －ρe 來算出日射吸收率（αe ）（%）。進而，針對貼合有青板玻璃的各光學體，以與實施例1相同的方法測定光澤度G及透過像清晰度T，並進行防眩性及眺望性的評價。將結果示於表2中。
（比較例9、實施例9～實施例13） 於比較例9中，使用使厚度為50 μm的隔片介於周緣而將2片厚度為3 mm的青板玻璃（JIS R3202中所規定的浮板玻璃）疊加而成的多層玻璃。 於實施例9～實施例13中，分別使用如下的多層玻璃（具有圖9的（a）中所示的構成）：使厚度為50 μm的隔片介於周緣，而將厚度為3 mm的青板玻璃（JIS R3202中所規定的浮板玻璃）積層於實施例1及實施例5～實施例8中所獲得的貼合有青板玻璃的光學體的青板玻璃之側而成的多層玻璃。 以與實施例5～實施例8相同的方法對該多層玻璃進行可見光線透過率（%）的測定，並且測定光澤度G及透過像清晰度T，且進行防眩性及眺望性的評價。再者，該些多層玻璃的防眩性的評價是根據光澤度G的值，依據以下的基準來進行。將結果示於表2中。 光澤度G為60以下・・・○ 光澤度G超過60・・・×
[表2]
根據表2，可知當設置吸收可見光的黏著層等來降低可見光線透過率時，於透過像清晰度T中未看見大的變動，但光澤度G與可見光線透過率成比例地下降。即，可認為降低可見光線透過率具有不使眺望性惡化、且提昇防眩性的效果。而且，根據表2，可知與單層玻璃相比，由降低可見光線透過率所產生的防眩性的提昇效果於多層玻璃中顯著。
（實施例14、實施例15） 繼而，為了使未貼合青板玻璃的光學體的特性、及未積層第2透明無機層的光學體的特性變得明確，而進行以下的實驗。 於實施例14中，使用實施例1中的「未貼合青板玻璃的光學體」。 於實施例15中，未積層作為第2透明無機層的SiO2 層，除此以外，使用以與實施例1相同的方式獲得的光學體（貼合有青板玻璃的光學體）。 而且，以與實施例1相同的方法對該些光學體進行BRDF及θ1 ～θ3 的測定，並且進行防眩性及眺望性的評價，使用該些的評價結果來進行綜合判定。將結果與實施例1的結果一同示於表3中。
[表3]
根據表3，可知於貼合有青板玻璃的情況與未貼合青板玻璃的情況下，光學體的防眩性及眺望性無大的差異。另外，根據表3，可知於積層有第2透明無機層的情況與未積層第2透明無機層的情況下，光學體的防眩性及眺望性無大的差異。
（實施例16～實施例18） ＜可促進基材的劣化的光的波長的確定＞ 於PET製的基材上，使用含有紫外線硬化性樹脂的組成物並藉由形狀轉印法來形成具有微細凹凸表面的微細凹凸層後，在與形成微細凹凸層的面相反側的面上貼合厚度為3 mm的青板玻璃，而獲得光學體。繼而，使用分光老化試驗機（須賀試驗機股份有限公司製造的「SPX」），將溫度設為60℃，並將累計放射照度設為89327 kJ/m2 ，對光學體的微細凹凸層之側進行分光照射而使其劣化。針對照射後的光學體，於所照射的光的各波長（劣化波長）（305 nm、及310 nm～420 nm，以10 nm為刻度）中測定透過率光譜。將結果示於圖13A（分光波長300 nm～800 nm）及圖13B（擴大分光波長400 nm～450 nm的範圍）中。根據圖13A、圖13B，可知於各劣化波長中，分光波長420 nm中的透過率有最大的變化。而且，圖14表示關於照射後的光學體的、劣化波長與波長420 nm的光的透過率的關係。根據該圖，可知可使光學體的透過率大幅度下降的劣化波長大概為350 nm以下，特別是320 nm。即，可知為了抑制基材的黃變、或基材與樹脂層的密接耐久性的惡化等光學體的劣化，重要的是防止波長為350 nm以下，特別是320 nm的光。
＜黃變度ΔYI到達6的照射量的測定＞ 如表4所示般變更作為第1透明無機層的ZnO層的厚度，除此以外，以與實施例1相同的方式獲得實施例16～實施例18的光學體（貼合有青板玻璃的光學體）。而且，使用日本分光股份有限公司製造的「V-560」，對所獲得的光學體測定波長320 nm的光的透過率。進而，使用岩崎電氣股份有限公司製造的「EYE超級紫外線試驗機（EYE Super UV Tester）SUV-W161」，將金屬鹵化物燈作為光源，以100 mW/cm2 的照度（依據JIS C 1613來測定）對所獲得的光學體照射紫外線，並測定到達黃變度ΔYI＝6（可識別顏色的變化的閾值）的照射量（MJ/m2 ）。將結果與實施例1的光學體的結果一同示於表4及圖15中。
[表4]
根據表4及圖15，波長320 nm的光的透過率與到達黃變度ΔYI＝6的照射量的關聯高，藉由將波長320 nm的光的透過率設為例如10%以下，較佳為6%以下，更佳為3%以下，可有效地抑制由紫外線所引起的基材的黃變等劣化。 再者，若於紫外區域中對太陽光進行能量換算，則算出東京的南面的年照射量大約為202 MJ/m2 ，僅供參考。根據該算出值及圖15可考察到，關於光學體，於波長320 nm的光的透過率為10.5%的情況下，到達黃變度ΔYI＝6所需的時間約為1年，於波長320 nm的光的透過率為6%的情況下，到達黃變度ΔYI＝6所需的時間約為2年，於波長320 nm的光的透過率為3.5%的情況下，到達黃變度ΔYI＝6所需的時間約為3年。
（實施例19） 繼而，為了使具備防污塗層的光學體的特性變得明確，而進行以下的實驗。 準備與實施例1的光學體相同者，於作為第2透明無機層的SiO2 層上形成包含全氟聚醚的防污塗層（10 nm），而獲得實施例19的光學體。針對所獲得的實施例19的光學體與實施例1的光學體，藉由以下的方法來進行純水及十六烷的接觸角的測定、以及防污性的評價。
＜接觸角的測定＞ 使用協和界面科學股份有限公司製造的全自動接觸角計「DM700」，分別將純水及十六烷作為試驗液，測定光學體的微細凹凸層之側的最表面上的接觸角。再者，將測定條件設為液量：2 ml、至測定為止的等待時間：1000 ms、擬合方法：θ/2法。將結果示於表5中。
＜防污性的評價＞ 利用油性墨水的筆對光學體的微細凹凸層之側的最表面進行試寫，其後，藉由目視來確認墨水的附著狀況。若墨水被排斥並凝聚成粒狀，則設為○，若墨水為不被排斥並附著於表面上的狀態，則設為△，而對附著性進行評價。另外，利用市售的面紙對試寫後的表面上的墨水進行乾擦。此時，若可容易地拭去墨水，則設為○，若無法拭去墨水，則設為△，而對拭去性進行評價。將結果示於表5中。
[表5]
根據表5，可知藉由光學體於微細凹凸層之側的最表面上具備防污塗層，可減少污垢對於光學體的附著，並且可容易地使所附著的污垢掉落。 [產業上之可利用性]
根據本發明，可提供一種防眩性及眺望性優異的光學體、以及防眩性及眺望性優異的玻璃材。
1‧‧‧形狀轉印裝置
2‧‧‧母盤
23‧‧‧微細凹凸結構
51‧‧‧基材供給輥
52‧‧‧捲取輥
53、54‧‧‧導輥
55‧‧‧夾輥
56‧‧‧剝離輥
57‧‧‧塗佈裝置
58‧‧‧光源
60‧‧‧光學體
61‧‧‧基材
62‧‧‧樹脂層
63‧‧‧微細凹凸層
64‧‧‧第1透明無機層
65‧‧‧第2透明無機層
80‧‧‧玻璃材
81、82、83‧‧‧玻璃基板
84‧‧‧黏著層
85‧‧‧隔片
θ1 ‧‧‧表示Lmax 的90%的亮度的反射角彼此的寬度
θ2 ‧‧‧表示Lmax 的10%的亮度的反射角彼此的寬度
θ3 ‧‧‧表示Lmax 的50%的亮度的反射角彼此的寬度
圖1是表示用以形成本發明的一實施形態的光學體的微細凹凸層的一例的方法的示意圖。 圖2是表示本發明的一實施形態的光學體的構成例的示意剖面圖。 圖3是表示本發明的一實施形態的光學體的構成例的示意剖面圖。 圖4是表示本發明的一實施形態的光學體的構成例的示意剖面圖。 圖5a是將ZnO層及SiO2 層配置於聚對苯二甲酸乙二酯（Polyethylene terephthalate，PET）基材上而成的積層體的、相對於各個層的厚度的反射率的曲線圖。 圖5b是將ZnO層及SiO2 層配置於PET基材上而成的積層體的、相對於各個層的厚度的反射率的曲線圖。 圖6是表示本發明的一實施形態的光學體的構成例的示意剖面圖。 圖7是表示光學體的BRDF的測定結果的一例的示意線圖（chart diagram）。 圖8是表示本發明的一實施形態的玻璃材的構成例的示意剖面圖。 圖9的（a）～圖9的（h）是表示本發明的一實施形態的玻璃材的構成例的示意剖面圖。 圖10是表示本發明的一實施形態的光學體的θ2 /θ1 與光澤度G的關係的點列圖（plot diagram）。 圖11是表示本發明的一實施形態的光學體的θ2 /θ1 與透過像清晰度T的關係的點列圖。 圖12是表示本發明的一實施形態的光學體的RΔq與光澤度G的關係的點列圖。 圖13A是關於對本發明的一實施形態的光學體進行分光照射而使其劣化後的該光學體的各劣化波長的透過率光譜。 圖13B是關於對本發明的一實施形態的光學體進行分光照射而使其劣化後的該光學體的各劣化波長的透過率光譜。 圖14是表示關於對本發明的一實施形態的光學體進行分光照射而使其劣化後的該光學體的、劣化波長與波長420 nm的光的透過率的關係的圖。 圖15是表示關於本發明的一實施形態的光學體的、波長320 nm的光的透過率與到達黃變度ΔYI＝6的照射量的關係的圖。
θ1‧‧‧表示Lmax的90%的亮度的反射角彼此的寬度
θ2‧‧‧表示Lmax的10%的亮度的反射角彼此的寬度
θ3‧‧‧表示Lmax的50%的亮度的反射角彼此的寬度

Claims (17)

  1. 一種光學體，其包括微細凹凸層及第1透明無機層，其特徵在於： 所述第1透明無機層配置於所述微細凹凸層的微細凹凸表面之側， 提取自所述光學體的配置有所述第1透明無機層之側，使光以入射角60°入射時的相對於所有向量的反射光的亮度的資料，並選擇包含表示來自所述光的入射點的最大值的亮度（Lmax ）的向量、及穿過所述光的入射點的所述光學體的法線向量的面，於將X軸設為反射角（°），將Y軸設為亮度所獲得的關於所述面的曲線圖中，當將表示Lmax 的90%的亮度的反射角彼此的寬度設為θ1 （°），將表示Lmax 的10%的亮度的反射角彼此的寬度設為θ2 （°）時，滿足θ2 /θ1 ＞7。
  2. 如申請專利範圍第1項所述的光學體，其測定角20°處的光澤度為20以下、且光梳寬度2 mm中的透過像清晰度為50%以上。
  3. 如申請專利範圍第1項或第2項所述的光學體，其中所述微細凹凸層的所述微細凹凸表面的均方根斜率RΔq為0.07以上。
  4. 如申請專利範圍第1項至第3項中任一項所述的光學體，其中所述第1透明無機層的主成分為具有3.0 eV以上、3.7 eV以下的帶隙的無機化合物。
  5. 如申請專利範圍第1項至第4項中任一項所述的光學體，其中所述第1透明無機層含有ZnO及CeO2 的至少任一者。
  6. 如申請專利範圍第1項至第5項中任一項所述的光學體，其中所述第1透明無機層的厚度為70 nm以上、400 nm以下。
  7. 如申請專利範圍第1項至第6項中任一項所述的光學體，其於所述第1透明無機層上具備防污塗層。
  8. 如申請專利範圍第1項至第6項中任一項所述的光學體，其於所述第1透明無機層上進而具備第2透明無機層。
  9. 如申請專利範圍第8項所述的光學體，其中所述第2透明無機層的主成分為具有比所述第1透明無機層的主成分的帶隙大4.0 eV以上的帶隙的無機化合物。
  10. 如申請專利範圍第8項或第9項所述的光學體，其中所述第2透明無機層含有SiO2 、SiN、SiON及MgF2 的至少任一者。
  11. 如申請專利範圍第8項至第10項中任一項所述的光學體，其中所述第2透明無機層的厚度為40 nm以上、140 nm以下。
  12. 如申請專利範圍第8項至第11項中任一項所述的光學體，其於所述第2透明無機層上具備防污塗層。
  13. 如申請專利範圍第1項至第12項中任一項所述的光學體，其可見光線透過率為20%以上、90%以下。
  14. 如申請專利範圍第1項至第13項中任一項所述的光學體，其日射吸收率為45%以下。
  15. 如申請專利範圍第1項至第14項中任一項所述的光學體，其波長320 nm的光的透過率為10%以下。
  16. 一種玻璃材，其特徵在於：包括玻璃基板及如申請專利範圍第1項至第15項中任一項所述的光學體。
  17. 如申請專利範圍第16項所述的玻璃材，其為多層玻璃。
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