JP5338099B2 - 粘着剤組成物及び該粘着剤組成物を用いた近赤外線吸収フィルター - Google Patents

Description

本発明は、粘着剤組成物及び該粘着剤組成物を用いた近赤外線吸収フィルターに関し、特にはプラズマディスプレイパネル（以下「ＰＤＰ」と記載することがある。）に代表される画像表示装置用のフィルターの粘着剤層の構成成分として特に優れる粘着剤組成物及び該粘着剤組成物を用いた近赤外線吸収フィルターに関する。

近年、ディスプレイ（画像表示装置）の大型化、薄型化に伴い、ＰＤＰが注目を集めている。ＰＤＰは近赤外線を発することが知られており、近赤外線によって、コードレスホン、近赤外線リモートコントロール装置を使用するビデオデッキなど、周辺にある電子機器に悪影響を及ぼし、正常な動作を阻害する恐れがあった。そこで、種々のＰＤＰ用近赤外線フィルターが提案され、特に近赤外線吸収力が大きく、かつ耐久性に優れたものとして、近赤外線材料に平均分散粒径が８００ｎｍ以下の、タングステン酸化物微粒子及び／又は複合タングステン酸化物微粒子を用いた近赤外線吸収フィルターが提案されている（特許文献１参照）。さらに、これに反射防止機能をも付与した反射防止フィルムが提案されている（特許文献２参照）。

特開２００６−１５４５１６号公報 特開２００６−２０１４６３号公報

上記特許文献１及び２に記載される近赤外線吸収フィルター及び反射防止フィルムは、良好な近赤外線吸収能を有する点で優れているが、反射色調が青色であるという問題点があった。反射色調が青色であると、コントラストが不十分となる上、不使用時のディスプレイの外観が青味がかり、意匠上も好ましくない。
反射色調が青色となる原因としては、近赤外線吸収材料として用いられる酸化タングステン系粒子の粒子径が小さいことに起因するレイリー散乱によるものと考えられる。レイリー散乱領域における散乱光は、粒子径の６乗に反比例して低減するため、近赤外線吸収材料の粒子径を大きくすることで、該散乱光を抑制することができるが、一定以上の大きさになると、ミー散乱が支配的となり、白濁の問題が生じる。従って、これまでは、近赤外線吸収フィルムの反射色調が青色を呈する点について改善策が見出されていないのが現状であった。
そこで、本発明の課題は、反射色調が青色を示さず、近赤外線を有効に吸収し、かつ可視光線透過率の高い、透明性に優れる近赤外線吸収フィルターを提供することにある。

本発明者らは、前記課題を解決するために鋭意研究を重ねた結果、特定の平均粒子径を有する無機の近赤外線吸収剤及び特定の平均粒子径を有する金属酸化物微粒子を併用した粘着剤組成物を用いることにより、上記課題を解決し得ることを見出した。本発明はかかる知見に基づき完成したものである。
すなわち、本発明は、平均粒子径４０〜２００ｎｍの無機近赤外線吸収剤、平均粒子径５〜３０ｎｍの金属酸化物微粒子及び樹脂を含有する粘着剤組成物、及び該粘着剤組成物からなる粘着剤層を有する近赤外線吸収フィルターを提供するものである。

本発明によれば、反射色調が青色を示さず、近赤外線を有効に吸収し、かつ可視光線透過率の高い、透明性に優れる近赤外線吸収フィルターを提供することができる。

本発明の粘着剤組成物は、平均粒子径４０〜２００ｎｍの無機近赤外線吸収剤、平均粒子径５〜３０ｎｍの金属酸化物微粒子及び樹脂を含有する。
本発明における無機近赤外線吸収剤は、可視光線透明性（以下、単に「透明性」とも云う）と近赤外線吸収性との両立、樹脂中への分散適性等の点から、その平均粒子径が４０〜２００ｎｍの無機材料であることを要する。無機材料としては、本発明の効果を奏する範囲であれば、材料自体に制限はなく、金属酸化物、金属ホウ化物、金属窒化物などが挙げられる。
金属酸化物としては、例えば、酸化タングステン系化合物、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化タンタル、酸化ニオブ、酸化亜鉛、酸化ルテニウム、酸化インジウム、錫ドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、酸化錫、アンチモンドープ酸化錫（ＡＴＯ）、酸化セシウムなどが挙げられる。
金属ホウ（硼）化物としては、多ホウ化金属化合物が好ましく、具体的には、ホウ化ランタン（ＬａＢ₆）、ホウ化プラセオジウム（ＰｒＢ₆）、ホウ化ネオジウム（ＮｄＢ₆）、ホウ化セリウム（ＣｅＢ₆）、ホウ化イットリウム（ＹＢ₆）、ホウ化チタン（ＴｉＢ₆）、ホウ化ジルコニウム（ＺｒＢ₆）、ホウ化ハフニウム（ＨｆＢ₆）、ホウ化バナジウム（ＶＢ₆）、ホウ化タンタル（ＴａＢ₆）、ホウ化クロム（ＣｒＢ、ＣｒＢ₆）、ホウ化モリブデン（ＭｏＢ₆、Ｍｏ₂Ｂ₅、ＭｏＢ）、ホウ化タングステン（Ｗ₂Ｂ₅）などが挙げられる。
また金属窒化物としては、窒化チタン、窒化ニオブ、窒化タンタル、窒化ジルコニウム、窒化ハフニウム、窒化バナジウムなどが挙げられる。
これらの中で、近赤外線の吸収率が高く、かつ可視光線の透過率が高いことから、酸化タングステン系化合物が好ましく、特には下記一般式（Ｉ）で示される酸化タングステン系化合物が好ましい。

ＭｘＷｙＯｚ ・・・（Ｉ）
ここで、Ｍ元素はＣｓ、Ｒｂ、Ｋ、Ｔｌ、Ｉｎ、Ｂａ、Ｌｉ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｆｅ及びＳｎからなる群から選ばれる少なくとも１種であり、Ｗはタングステンを示し、Ｏは酸素を示す。
上記一般式（Ｉ）で示される酸化タングステン系化合物のうち、特にＭ元素がＣｓで表わされるセシウム含有酸化タングステンが、近赤外線吸収能が高いことから好適である。

また、上記一般式（Ｉ）において、添加されるＭ元素の添加量はタングステンの含有量を基準としたｘ／ｙの値として、０．００１≦ｘ／ｙ≦１．１の関係を満足することが好ましく、特にｘ／ｙが０．３３付近であることが、好適な近赤外線吸収能を示す点で好ましい。また、ｘ／ｙが０．３３付近であると、六方晶の結晶構造をとりやすく、該結晶構造をとることによって、耐久性の点でも好適である。
また、上記一般式（Ｉ）における酸素の含有量は、タングステンの含有量を基準としたｚ／ｙの値として、２．２≦ｚ／ｙ≦３．０の関係を満足することが好ましい。より具体的には、Ｃｓ_0.33ＷＯ₃、Ｒｂ_0.33ＷＯ₃、Ｋ_0.33ＷＯ₃、Ｂａ_0.33ＷＯ₃などを挙げることができる。
上記無機近赤外線吸収剤は１種を単独で用いてもよく、又は２種以上を併用することもできる。

本発明における無機近赤外線吸収剤は、その平均粒子径が４０〜２００ｎｍであることが肝要である。平均粒子径が４０ｎｍ未満であると近赤外線吸収能が不十分となり、一方、平均粒子径が２００ｎｍを超えると、ミー散乱によって白濁を生じ、コントラストが低下してしまう。さらに好ましい近赤外吸収性能を発揮させるためには、該平均粒子径が４０〜８０ｎｍであることが好ましく、４０〜６０ｎｍであることがさらに好ましい。
なお、本発明における平均粒子径の測定は、透過型電子顕微鏡により撮像し、無作為に、例えば５０個の無機近赤外線吸収剤を抽出して該粒子径を測定し、これを平均したものである。また、粒子の形状が球形でない場合には、長径を測定して算出したものと定義する。

上記近赤外線吸収剤の粘着剤組成物における含有量は１０〜６０質量％（固形分換算）の範囲が好ましい。１０質量％以上であると十分な近赤外線吸収効果が発現され、６０質量％以下であると十分な量の可視光線を透過できる。以上の観点から、近赤外線吸収剤の粘着剤組成物における含有量は２０〜４０質量％（固形分換算）の範囲がより好ましい。

本発明においては、上述のように無機の近赤外線吸収剤を用いることを特徴とするが、本発明の効果を奏する範囲内で、有機系や金属錯体等の他の近赤外線吸収剤を併用することもできる。例えば、ジイモニウム系化合物、アルミニウム系化合物、フタロシアニン系化合物、有機金属錯体、シアニン系化合物、アゾ化合物、ポリメチン系化合物、キノン系化合物、ジフェニルメタン系化合物、トリフェニルメタン系化合物等を併用することもできる。

次に、本発明における金属酸化物微粒子は、その平均粒子径が５〜３０ｎｍの金属酸化物微粒子であり、本発明の効果を奏する範囲であれば、材料自体に制限はないが、上記近赤外線吸収剤との間で屈折率差が小さいものが好ましく、特に酸化ジルコニウム及び酸化チタンが好適に挙げられる。例えば、前記の無機近赤外線吸収剤としてＣｓ０.３３ＷＯ３（セシウム含有酸化タングステン）を例にとると、その屈折率は２．５〜２．６である。一方、酸化ジルコニウム及び酸化チタンの屈折率は不純物、結晶構造によって多少異なるが、それぞれ２．０〜２．２及び２．２〜２．７の範囲であるため、無機近赤外線吸収剤との屈折率差を０．３程度以下することが出来る。これらの金属酸化物微粒子は、１種を単独で、又は２種以上を併用することもできる。
尚、樹脂中に平均粒子径４０〜２００ｎｍの無機近赤外線吸収剤を分散させた粘着剤層に、該無機近赤外線吸収剤よりも平均粒子径が小さく、且つ屈折率が近似する金属酸化物微粒子を添加することで、レイリー散乱に起因する青色を低減出来る機構については、未解明であるが、以下のように推察される。
即ち、樹脂の屈折率は通常１．５前後であり、一方、本発明で用いる無機近赤外線吸収剤粒子の屈折率は２．０〜２．５前後である。従って、無機近赤外線吸収剤粒子表面における樹脂との屈折率差は０．５〜１．０前後とかなり高く、しかも屈折率は無機近赤外線吸収剤粒子表面において不連続的に変化する。そのため、無機近赤外線吸収剤粒子表面の光反射率は高くなり、これが散乱強度を高める一因と推測される。
本発明においては、高屈折率で光反射性の強い該無機近赤外線吸収剤粒子の周囲に、これと屈折率は近似するがより小粒子径の該金屬酸化物微粒子がハロー状に包囲し（恐らくは、該近赤外線吸収剤粒子に近づく程、分布密度が濃くなると推測される）、これによって該近赤外線吸収剤粒子の表面近傍において、該近赤外線吸収剤粒子と該金属酸化物微粒子と樹脂とを平均した屈折率が、該近赤外線吸収剤粒子から外方に向かって連続的に低下するようになり（該近赤外線吸収剤粒子表面と樹脂との屈折率の段差を緩和）、そのため、該無機近赤外線吸収剤粒子表面における光反射が低減し、これが散乱強度の低減に寄与するのではないかと推測している。

本発明における金属酸化物微粒子は、その平均粒子径が５〜３０ｎｍであることが肝要である。平均粒子径が５ｎｍ未満であると、反射色調の青味を消すことができず、本発明の効果を奏することができない。一方、平均粒子径が３０ｎｍを超えると、反射色調の青味を消すことができないと同時に白濁を生じる場合がある。本発明の効果をより高いレベルで達成するとの観点からは、該金属酸化物微粒子の平均粒子径は１０〜２０ｎｍの範囲であることがより好ましい。
また、金属微粒子の形状については特に制限はないが、通常、球形が用いられる。
なお、金属酸化物微粒子の平均粒子径は、無機近赤外線吸収剤と同様に透過型電子顕微鏡を用いた方法により測定したものである。

上記金属酸化物微粒子の粘着剤組成物における含有量は、前記無機近赤外線吸収剤１００質量部に対して５０〜４００質量部であることが好ましい。５０質量部以上であると、反射色調の青味を消すことができ、一方、４００質量部以下であると白濁の問題が生じない。

本発明の粘着剤組成物における樹脂は、粘着剤としての機能を果たすとともに、無機近赤外線吸収剤及び金属酸化物微粒子を結着させるためのバインダーの機能をも果たすものである。また、後に詳述するように、該粘着剤組成物を粘着剤層として使用する場合には、基材への塗工性、乾燥性及び硬化性等に優れるものが好ましい。具体的には、アクリル系樹脂、ゴム系樹脂、ポリエステル系樹脂などが好適に挙げられる。これらの樹脂は１種を単独で、又は２種以上を組み合わせて使用することができる。
これらのうち、透明性、粘着力（接着力）、耐久性、及び前記無機近赤外線吸收剤の分散性の観点から、アクリル系樹脂が好ましい。

アクリル系樹脂としては、モノマーとして少なくとも（メタ）アクリル酸アルキルエステルのモノマー（単量体）を重合させた重合体を用いることができる。該重合体としては、炭素原子数１〜１８程度のアルキル基を有する（メタ）アクリル酸アルキルエステルモノマーとカルボキシル基を有するモノマーとの共重合体を用いるのが粘着剤としては一般的である。なお、本願明細書において（メタ）アクリル酸とは、アクリル酸またはメタクリル酸を意味する。また、同じように、以下の（メタ）アクリレートなどもアクリレート又はメタクリレートを意味する。

上記のようなモノマーを利用した重合体として、単独重合体や共重合体の具体例を挙げれば、次の様なものを挙げることができる。
例えば、上記（メタ）アクリル酸アルキルエステルモノマーの単独重合体、つまり（メタ）アクリル酸エステル単独重合体としては、ポリ（メタ）アクリル酸メチル、ポリ（メタ）アクリル酸エチル、ポリ（メタ）アクリル酸プロピル、ポリ（メタ）アクリル酸ブチル、ポリ（メタ）アクリル酸オクチル等が挙げられる。
また、上記アクリル酸エステルモノマー２種以上からなる共重合体としては、たとえば、（メタ）アクリル酸メチル−（メタ）アクリル酸エチル共重合体、（メタ）アクリル酸メチル−（メタ）アクリル酸ブチル共重合体等が挙げられる。
また、上記（メタ）アクリル酸アルキルエステルモノマー１種以上とその他モノマー１種以上との共重合体を用いることもできる。その他モノマーとしては、（メタ）アクリル酸−２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸−２−ヒドロキシ−３−フェニルオキシプロピル等の水酸基を有する（メタ）アクリル酸アルキルエステル、（メタ）アクリル酸、イタコン酸、マレイン酸、フマール酸等のカルボキシル基を有するビニルモノマー、エチレン、スチレン等が挙げられる。
かかる上記（メタ）アクリル酸アルキルエステルモノマー１種以上とその他モノマー１種以上との共重合体の具体例としては、例えば、（メタ）アクリル酸メチル−（メタ）アクリル酸−２−ヒドロキシエチル共重合体、（メタ）アクリル酸メチル−（メタ）アクリル酸−２−ヒドロキシ−３−フェニルオキシプロピル共重合体、（メタ）アクリル酸メチル−スチレン共重合体、（メタ）アクリル酸メチル−エチレン共重合体、（メタ）アクリル酸メチル−（メタ）アクリル酸−２−ヒドロキシエチル−スチレン共重合体、（メタ）アクリル酸メチル−（メタ）アクリル酸ブチル−（メタ）アクリル酸−２−ヒドロキシエチル−スチレン共重合体が挙げられる。

また、ゴム系樹脂としては、スチレン−ブタジエン共重合体、アクリルニトリル−ブタジエン共重合体、メタクリル酸エステル−ブタジエン共重合体、アクリルニトリル−スチレン−ブタジエン共重合体、メタクリル酸エステル−スチレン−ブタジエン共重合体などが挙げられる。
また、ポリエステル系樹脂としては、多価カルボン酸と多価アルコールの縮重合によって得られる樹脂であり、例えば、フタル酸とグリセリンを主原料とする熱硬化性のアルキド樹脂、マレイン酸とグリコールを主原料とし、得られた不飽和基をもつポリエステルをスチレンなどのビニル系化合物で架橋反応させる熱硬化性の不飽和ポリエステル樹脂、ジカルボン酸とグリコールを主原料とする熱可塑性の飽和ポリエステルなどが挙げられる。具体的には、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）などが挙げられる。

本発明の粘着剤組成物の製造方法については、上記構成成分を公知の方法によって混合すればよく、その方法については特に制限はない。

本発明の粘着剤組成物は、電磁波遮蔽フィルターなどの機能性フィルターの粘着剤層に好適に用いることができ、粘着剤層本来の機能に加えて、該電磁波遮蔽フィルターなどに近赤外線吸収フィルターの機能を持たせることができる。本発明においては、粘着剤層に本発明の粘着剤組成物を用い、近赤外線吸収能を付与したものはすべて本発明の近赤外線吸収フィルターに含めるものである。
以下、本発明の粘着剤組成物を用いた粘着剤層を有する近赤外線吸収フィルターについて、図面を参照しながら説明する。

図１は本発明の近赤外線吸収フィルターの一態様の構成を示す模式図であり、近赤外線吸収能及び電磁波遮蔽能を兼ね備えるものである。該近赤外線吸収フィルター１は基材２とその上に電磁波遮蔽層３及び本発明の粘着剤組成物からなる粘着剤層４が積層されている。また、図１に示す例では、基材２の電磁波遮蔽層３の反対側に、反射防止層又は防眩層５が積層されている。図１に示す態様では、粘着剤層４を介して、例えばガラス基板６と貼り合わされ、ＰＤＰに代表される画像表示装置の前面フィルターとして用いられたり、また粘着剤層４を介して、直接ＰＤＰ等の画像表示装置に貼付して用いられる（図示せず）。観察者は反射防止層又は防眩層５側から、近赤外線吸収フィルター１を通してＰＤＰ等の対象物を観察するものである。
このような構成をとることにより、観察者から見た場合に、反射色調が青色を示さず、近赤外線が有効に吸収され、かつ可視光線透過率の高い、透明性に優れた画像を見ることができる。

本発明の近赤外線吸収フィルター１に用いられる基材２としては、特に制限はなく、材料としては、従来近赤外線フィルターの基材として公知のプラスチック樹脂又はガラスから適宜選択して用いることができる。又、基材の形態としては、フィルム、シート、或は板の各種形態を用いることが出来、厚みとしては、２０μｍ〜５０００μｍ（５ｍｍ）程度の範囲のものが用いられる。

プラスチック樹脂としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル樹脂；ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ノルボルネン系樹脂、シクロオレフィン樹脂などのポリオレフィン樹脂；ポリカーボネート樹脂；ポリ（メタ）アクリル酸メチル、ポリ（メタ）アクリル酸エチルなどのアクリル樹脂；ポリスチレン；ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデンなどの塩化ビニル系樹脂；セロファン、ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース、アセチルセルロースブチレートなどのセルロース系樹脂；ポリ酢酸ビニル、エチレン−酢酸ビニル共重合体などの酢酸ビニル系樹脂；ポリスルホン、ポリエーテルスルホンなどのポリスルホン系樹脂；ポリイミド、ポリエーテルイミドなどのポリイミド系樹脂；ポリアミド樹脂；ポリエーテルエーテルケトン樹脂；フッ素樹脂等を挙げることができる。
また、ガラスとしては、ソーダ硝子、カリ硝子、硼珪酸硝子等のガラス基材も、光学的特性、機械的特性の点から好ましい。
これらのうち、透明性、透明性、機械的強度、耐熱性、コスト等のバランスに優れることからポリエステル樹脂を材料とする厚さ５０〜２００μｍ程度のフィルムが好ましく、特にポリエチレンテレフタレートフィルムが好ましい。

上記基材は、透明、半透明のいずれであってもよく、また、着色されていてもよいが、ＰＤＰ等の画像表示装置用としては無色透明が好ましい。
これらの基材の厚さは特に制限はなく、用途に応じたものとすればよいが、透明樹脂フィルムからなる場合は、通常１０〜５００μｍ程度、好ましくは１５〜２５０μｍ、特に好ましくは３０〜２００μｍの範囲である。また、透明樹脂板やガラス板である場合は、通常１〜５ｍｍ程度が好適である。また、基材として、上記プラスチックフィルムを用いる場合には、その表面に設けられる層との密着性を向上させる目的で、所望により片面又は両面に、酸化法や凹凸化法などにより表面処理を施すことができる。上記酸化法としては、例えばコロナ放電処理、クロム酸処理（湿式）、火炎処理、熱風処理、オゾン・紫外線照射処理などが挙げられ、また、凹凸化法としては、例えばサンドブラスト法、溶剤処理法などが挙げられる。これらの表面処理法は基材の種類に応じて適宜選ばれるが、一般にはコロナ放電処理法が効果及び操作性などの面から好ましい。

次に、電磁波遮蔽層３は、画像表示装置の前面に設置して、画像の観察を妨げ無い程度の透明性と画像表示装置から輻射されるMHｚ〜GHｚ帯域を中心とする電磁波を遮蔽出来る性能を持つ物であれば、公知の各種形態のものが使用出来る。尚、本願明細書中に於いては、電磁波の語は、紫外線、可視光線、及び赤外線よりも長波長（低周波数）帯域の電磁波のみを意味する狭義の意味で用いる。
電磁波遮蔽層としては、例えば、導電性粒子又は無電解めっき触媒性粒子とバインダー樹脂を含む導電層形成用材料を所定のパターン状に印刷形成したもの、金属層（金属箔）を腐蝕加工によって所望のパターンにする方法により形成したもの、或は銀、ＩＴＯ（酸化インジウム錫）等から成る可視光線透過性の導電性薄膜を全面に形成したもの等を挙げることができる。
導電性材料を印刷形成した形態について詳しく説明すると、該導電性材料は、導電性粒子とバインダー樹脂を含む材料により形成することができる。具体的には、基材２上に導電性粒子とバインダー樹脂を含む導電性ペーストを用いた印刷により、例えば、線幅が５〜５０μｍ程度、パターン厚みが１〜３０μｍ程度、周期が１５０〜３００μｍ程度、開口率（全表面積中に於ける開口部の面積率）が８０〜９５％程度のメッシュパターンを形成するものである。
なお、メッシュパターンの線幅は、ＰＤＰの画像の観察に影響を与えない程度に細くすることが良く、且つ十分な電磁波シールド性の確保と外力による破断の防止の為には太くすることが良い。両者の両立を測るためには、メッシュパターンは上記の線幅を有することが好ましい。また、メッシュパターンの厚みも、接着剤層を介して他の部材との貼り合わせをする場合に、開口部内に空気が残留して白濁したり、接着不良を生じないためには薄い方が良く、電磁波遮蔽性の点からは厚いほうが良いが、両者の両立を測るため、上記厚みの範囲とすることが好ましい。

電磁波遮蔽層３に用いられる導電性粒子としては、金、銀、白金、錫、銅、ニッケル、アルミニウム、パラジウムなどの低抵抗性或いは無電解めっきの触媒性を持つ金属粒子、或いは前記の金属以外の物質の粒子（前記以外の高抵抗性金属、樹脂、非金属無機物等の粒子）の表面が金や銀などの前記の低抵抗或いは無電解めっきの触媒性を持つ金属でめっきされた粒子、グラファイト、カーボンブラック等から成る粒子を好ましく挙げることができ、形状も球状、回転楕円体状、多面体状、鱗片状、円盤状、繊維状等から選ぶことができる。
これらの材料や形状のものは適宜混合して用いても良い。また、導電性粒子の大きさは種類に応じて任意に選択されるので一概に特定できないが、例えば、鱗片状の銀粒子の場合には粒子の平均粒子径が０．１〜１０μｍ程度のものを用いることができ、カーボンブラック粒子の場合には平均粒子径が０．０１〜１μｍ程度のものを用いることができる。また、特に無電解めっき触媒として用いるパラジウム粒子の場合にはコロイド粒子（１μｍ未満）程度の粒径のものを用いる。導電層形成用材料中の導電性粒子の含有量は、導電性粒子の導電性や粒子の形態に応じて任意に選択されるが、例えば導電層形成用材料の固形分１００質量部のうち、導電性粒子を４０〜９９質量部の範囲で含有させることができる。
なお、本願において、平均粒子径というときは、粒度分布径、またはＴＥＭ（透過型電子顕微鏡）観察で測定した値を指している。

また、バインダー樹脂としては、熱硬化性樹脂、電離放射線硬化性樹脂、熱可塑性樹脂のいずれも使用可能である。熱硬化性樹脂及び電離放射線硬化性樹脂としては、前述のものと同様のものを用いることができる。熱可塑性樹脂としては、ポリエステル樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、アクリル樹脂、フェノール樹脂、ポリウレタン樹脂等を挙げることができる。
なお、熱硬化性樹脂を使用する場合、必要に応じて硬化触媒を添加してもよい。光硬化性化合物を用いる場合は必要に応じて重合開始剤を添加してもよい。

導電性粒子とバインダー樹脂の量比については、両者の比重が異なることから、体積比が通常用いられる。配合されるバインダー樹脂の体積がそれ以外の成分（導電性粒子、フィラー等）の体積に対し多すぎると粒子の接触を妨げ、少なすぎると結着力が不足する。最適量は材料の種類、形状、濡れ性等によっても変わるが、通常は、体積比すなわち（バインダー樹脂の体積／導電性粒子の体積）の値が１０／１００〜７０／１００の間にあることが好ましく、２５／１００〜６０／１００の間にあることが更に好ましい。
このような体積比の導電性パターンは、バインダー樹脂成分と導電性粒子を含むペースト（インキ）を用いて印刷し、溶剤等を揮散させた後、加圧プレスして形成される。
該導電性ペーストそれ自体で十分な導電性が発現する場合はそのままで電磁波遮蔽層として使用できるが、導電性が不十分な場合は、更に印刷した導電性乃至無電解めっき触媒性材料のパターン上に金属層をめっきする。めっきとしては、電解めっき、無電解めっきの何れも適用可能である。電解めっきの場合は、該組成物の印刷パターンに電解めっき可能な程度の導電性は持たせた上で、公知のめっき浴とめっき条件により電解めっきを施す。無電解めっきの場合は、該組成物として無電解めっき触媒性の有るもの（パラジウムが代表的）を選定して印刷し、印刷したパターン上に、公知の浴と条件にて無電解めっきを施す。これら無電解めっき或は電解めっきする金屬としては、金、銀、白金、銅、ニッケル等が用いられる。
一方、金属層（金属箔）を腐蝕加工によって所望のパターンにする方法について説明すると、金属層としては、金、銀、白金、錫、銅、ニッケル、アルミニウム等からなる厚み３〜３０μｍ程度のものが用いられる。該金屬層上に、所望のパターンの形成部のみ被覆し、開口部は露出させたパターンでレジスト層を形成し、塩化第2鉄水溶液等の公知の腐蝕液にて、レジスト非形成部のみ選択的に腐蝕して開口させ、その後、レジストを除去して金属層を所望のパターンとする。パターン化した金属層は、透明基材上に積層されるが、腐蝕加工は、金属層を透明基材２に積層した後でも、或は積層する前でも何れでも良い。金属層の透明基材への積層は、予め成膜してなる金属層（金属箔）を接着剤を介して透明基材上に接着しても良いし、或は透明基材上に、蒸着、スパッタ等により直接金属層を堆積させても良い。

図１に示す例では、粘着剤層４は上述した粘着剤組成物を電磁波遮蔽層３の上に塗工して得られる。粘着剤層４の厚さとしては、５〜８００μｍの範囲が好ましい。被着体との充分な接着力の確保、及び非着体と画像表示装置用前面フィルターとの間への気泡混入防止の観点から、図１の如く電磁波遮蔽層３が凹凸パターンを構成する場合は、通常は、粘着剤層４の厚さを電磁波遮蔽層３の厚み以上とし、電磁波遮蔽層３の凹凸を完全に埋めて表面を平坦化するに足る様にすることが好ましい。このようにすることにより、該粘着剤層を介してガラス基板６等の被着体に貼着する際に、接着力が不足したり、粘着剤層４と被着体との間に殘留する気泡の光拡散により、透視画像が曇る等の問題が生じない。
また、厚さが５μｍ以上であると、粘着剤としての機能を十分に果たし、ガラス基板６又はＰＤＰ等との十分な接着を得ることができるとともに、近赤外線を十分に吸収することができる。一方、８００μｍ以下であると接着力、近赤外線吸収性能、及び下記の如き耐衝撃性能とも実用上十分な程度を確保出来た上で、又、性能上過剰な厚みとならず、粘着剤層の当該フィルタ外への流出乃至逸脱、原材料費、厚み、及び重量の不必要な増加に至ら無い等の点で有利である。以上の観点から、粘着剤層４の厚さは１０〜５００μｍの範囲がさらに好ましく、２０〜３００の範囲が特に好ましい。
又、粘着剤層４の厚さを２００μｍ以上とすることにより、画像表示装置に加わる衝撃力を吸収緩和する耐衝撃層としての機能を持たせることも出来る。
なお、粘着剤層４の厚さを変えることで近赤外線の吸収効率を制御することができる。

図１に示すような、近赤外線吸収フィルターの製造方法としては、上述の方法により、基材２上に電磁波遮蔽層３を印刷等の方法で形成し、次いで、電磁波遮蔽層上に粘着剤層形成用塗工液を塗布し、乾燥・固化して粘着剤層４を得る。粘着剤層形成用塗工液は、前記樹脂、無機近赤外線吸収剤、及び金属酸化物微粒子を含有する粘着剤組成物に、必要に応じ、適当な溶剤、及び所望により添加される添加剤を所定の割合で加え、溶解又は分散させることにより、調製することができる。
本発明においては、無機近赤外線吸収剤及び金属酸化物微粒子を溶剤中に分散させることが重要であり、分散方法としては、乾式法、湿式法等各種挙げられる。本発明においては、湿式法が有効であり、具体的には、ボールミル、サンドミル、媒体攪拌ミル、超音波照射等が挙げられる。また、無機近赤外線吸収剤の分散に際し、溶媒の選定、分散剤の選定及びｐＨを調整することで無機近赤外線吸収剤を安定に液体中に分散保持することが可能となる。各種分散剤は、使用する溶媒やバインダー等との相性で各種選択が可能である。

溶剤としては、例えばヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサンなどの脂肪族炭化水素；トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素；塩化メチレン、塩化エチレンなどのハロゲン化炭化水素、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、１−メトキシ−２−プロパノールなどのアルコール；アセトン、メチルエチルケトン、２−ペンタノン、メチルイソブチルケトン、イソホロンなどのケトン；酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル；エチルセロソルブなどのセロソルブ系溶剤などが挙げられる。
また、ここで添加し得る各種添加剤としては、例えば酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、レベリング剤、消泡剤、粘着付与剤、シランカップリング剤、チキソトロピック付与剤、体質顔料等のなどが挙げられる。
塗工液の濃度、粘度については、コーティング可能な濃度、粘度であればよく、特に制限されない。

基材及び電磁波遮蔽層上に上記塗工液を塗工する方法としては、従来公知の方法、例えばバーコート法、ナイフコート法、ロールコート法、ブレードコート法、ダイコート法、グラビアロールコート法、コンマコート法などを用いることができる。塗工し、塗膜を形成させた後、乾燥し、これに、必要に応じて更に、紫外線等の電離放射線を照射して、又は加熱して該塗膜を一部架橋反応硬化させることにより、粘着剤層が形成される。

次に、図２は本発明の近赤外線吸収フィルターの他の態様の構成を示す模式図である。図２に示す例では、基材２の観察者側面に電磁波遮蔽層３、及び粘着剤層４が積層され、その裏面即ちガラス基板側面に粘着剤層４’が積層された近赤外線吸収フィルム１０と、他の基材２’に反射防止層又は防眩層５を積層した反射防止フィルム又は防眩フィルム２０を貼付してなる。ここで、粘着剤層４は反射防止フィルム又は防眩フィルム２０との接着のために用いられ、粘着剤層４’はガラス基板６又はＰＤＰとの接着のために用いられるが、粘着剤層４又は粘着剤層４’のいずれか、又は両者が本発明の粘着剤組成物によって構成される。
観察者は、図１で示した場合と同様に、反射防止層又は防眩層５側から、近赤外線吸収フィルター１を通してＰＤＰ等の対象物を観察するが、このような構成をとることにより、観察者から見た際に、反射色調が青色を示さず、近赤外線が有効に吸収され、かつ可視光線透過率の高い、透明性に優れた画像を見ることができる。

また、図３に示す例では、図２で示した例に対して、近赤外線フィルム１０の表裏が反転した構造を有し、粘着剤層４’によって反射防止フィルム又は防眩フィルム２０との接着を行い、粘着剤層４によって、ガラス基板６又はＰＤＰとの接着を行うものである。この態様においても、粘着剤層４又は粘着剤層４’のいずれか、又は両者が本発明の粘着剤組成物によって構成され、観察者から見た場合に、反射色調が青色を示さず、近赤外線が有効に吸収され、かつ可視光線透過率の高い、透明性に優れた画像が得られる。

本発明の近赤外線吸収フィルターは、波長３８０〜７８０ｎｍの可視光線帯域のうち、使用用途に於いて所望の波長域の可視光透過率が５０％以上であり、波長８００〜１１００ｎｍの近赤外線透過率が２０％以下であることが好ましい。可視光透過率が５０％以上であると、ＰＤＰ等の画像表示装置の近赤外線吸収フィルターとして用いた場合でも、十分に輝度を与えることができ、画像の暗化を生じることがない。以上の観点から、可視光透過率は６０％以上であることが特に好ましい。一方、近赤外線透過率が２０％以下であると、ＰＤＰ本体から発生する近赤外線によって周囲の電子機器が誤動作を生じることがない。以上の観点から近赤外線透過率は１０％以下であることが特に好ましい。

本発明の近赤外線吸収フィルターにおいて、画像表示装置の画面に外部からの光が入射した際に、該外光が反射して表示画像が見づらくなる場合がある。このような場合に、図１〜３に示すように、基材２又は基材２´（以下、単に「基材２」と総称する）の観察者側に反射防止層又は防眩層５を設けることが好ましい。また、基材２の観察者側表面を粗面化することにより防幻処理をする方法がある。このうち、防眩層（Ａｎｔｉ Ｇｌａｒｅ層、ＡＧ層）を設ける方法は、簡便で効果が高く好ましい。

防眩層５は基材２の表面に、好ましくは電離放射線硬化性樹脂及び／又は熱硬化性樹脂をバインダーとし、これに光拡散性粒子として無機フィラー又は有機フィラーを含有させ、これを塗膜化することにより得られる。
バインダーに用いる樹脂としては、表面層として表面強度が望まれる場合には、熱硬化性アクリル樹脂や、熱硬化性ウレタン樹脂等の熱硬化性樹脂、或はアクリル系、エポキシ系等の公知の電離放射線硬化性樹脂が好適に用いられる。
無機フィラーとしては、例えば平均粒子径が０．５〜１０μｍ程度のシリカ粒子や、コロイド状シリカ粒子のアミン化合物による凝集物であって、平均粒子径が０．５〜１０μｍ程度のものなどを挙げることができる。
また、有機フィラーとしては、例えばメラミン系樹脂粒子、アクリル系樹脂粒子、アクリル−スチレン系共重合体粒子、ポリカーボネート系粒子、ポリエチレン系粒子、ポリスチレン系粒子、ベンゾグアナミン系樹脂粒子などが挙げられる。これらの有機フィラーの平均粒径は、通常２〜１０μｍ程度である。
これらの光拡散性粒子７は１種を単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよく、防眩層中の含有量は、通常２〜１５質量％、好ましくは３〜８質量％である。

また、表面に微凹凸を設けた防眩フィルムを基材の表面に貼付することにより、防眩層５を形成することもできる。このような防眩フィルムは、厚さが１５〜２５０μm程度の、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリカーボネートフィルム、トリアセチルセルロースフィルムなどの透明基材に、エンボス版を用いた熱プレス法やサンドブラスト法により、表面に微凹凸を形成させてなる。

防眩層の厚さについては特に限定されるものではないが、通常、０．０７〜２０μｍ程度が好ましい。また、該防眩層の凹凸の平均間隔をＳｍとし、凹凸部の平均傾斜角をθａとし、凹凸の十点平均粗さをＲｚとした場合に、Ｓｍが６０〜２５０μｍであり、θａが０．３度〜１．０度であり、Ｒｚが０．３〜１．０μｍであることが好ましい。

また、基材２の表面を粗面化する方法としては、サンドブラスト法やエンボス法等により基材２の表面に直接微細凹凸を形成して粗面化する方法、基材２の表面に海島構造による多孔質膜を形成する方法等を挙げることができる。この場合にも、Ｓｍが６０〜２５０μｍであり、θａが０．３度〜１．０度であり、Ｒｚが０．３〜１．０μｍであることが好ましい。
なお、上記Ｓｍ、θａ及びＲｚはＪＩＳ Ｂ０６０１ １９９４に準拠し、例えば、表面粗さ測定器（（株）小坂研究所製「ＳＥ−３４００」）で測定し得るものである。

また、基材２の表面における外光の反射を防止する方法として、図１〜３に示すように、基材２の表面に反射防止層５を形成し、外光の反射を防止することが好ましい。
反射防止層（Ａｎｔｉ Ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ層、ＡＲ層）は、一般に、低屈折率層の単層、或いは、低屈折率層と高屈折率層とを、該低屈折率層が最上層に位置する様に交互に積層した多層構成が一般的であり、蒸着やスパッタ等の乾式成膜法で、或いは塗工等の湿式成膜法を利用して形成するものである。
低屈折率層及び高屈折率層の屈折率については、これらの層間で屈折率差があればよく特に限定されないが、低屈折率層の屈折率については、理論上は、低屈折率層の屈折率がその直下の層の屈折率の平方根になるとき、光の反射率は最小となることが知られている。低屈折率層を透明基材２の上に直接形成する場合は、低屈折率層の最適な屈折率Ｎ_Lは、透明基材２の屈折率Ｎ₂の平方根√（Ｎ₂）で計算できる。透明基材２として前記のポリエチレンテレフタレートを採用する場合、ポリエチレンテレフタレートの屈折率Ｎ₂＝１．６５程度である為、Ｎ_L＝√（Ｎ₂）＝√（１．６５）＝１．２９である。従って、屈折率がこの値乃至はこれに近似する値であると、十分な反射防止性能が得られる。

低屈折率層を構成する材料としては、ケイ素酸化物、フッ化物、フッ素含有樹脂等が用いられ、具体的にはＳｉＯ₂（屈折率ｎ＝１．４５）、ＭｇＦ₂（屈折率ｎ＝１．３８）、ＬｉＦ（屈折率ｎ＝１．４）、３ＮａＦ・ＡｌＦ₃（屈折率ｎ＝１．４）、ＡｌＦ₃（屈折率ｎ＝１．４）、Ｎａ₃ＡｌＦ₆（屈折率ｎ＝１．３３）などがある。本発明においては、これらの無機材料を微粒子化し、熱硬化性樹脂、電離放射線硬化性樹等のバインダー樹脂中に分散した材料が、容易に低屈折率層５を設けることができる点で好ましい。
低屈折率層の形成方法としては、まず上記で述べた材料を例えば溶剤に希釈し、スピンコーティング、ロールコーティング、グラビアロールコーティング等を用いるウェットコーティング法によって低屈折率層形成材料を塗布し、次いで、乾燥後、熱や電離放射線（紫外線の場合は上述の光重合開始剤を使用する）等により塗膜を硬化せしめる方法、或は、真空蒸着、スパッタリング、プラズマＣＶＤ、イオンプレーティング等による気相法によって、低屈折率層形成材料を堆積せしめる方法等により硬化させることによって得ることができる。

また、低屈折率層には、空隙を有する微粒子を用いても良い。空隙を有する微粒子とは、微粒子の内部に気体が充填された構造及び／又は気体を含む多孔質構造体を形成し、微粒子本来の屈折率に比べて微粒子中の気体の占有率に反比例して屈折率が低下する微粒子を意味する。微粒子の形態、構造、凝集状態、塗膜内部での微粒子の分散状態により、内部及び／又は表面の少なくとも一部にナノポーラス構造の形成が可能な微粒子も含まれる。空隙を有する微粒子は、無機物、有機物のいずれでもあってよく、例えば、金属、金属酸化物、樹脂からなるものが挙げられ、好ましくは、酸化珪素（シリカ）微粒子が挙げられる。

さらに、５〜３０ｎｍのシリカ超微粒子を水もしくは有機溶剤に分散したゾルとフッ素系の皮膜形成剤を混合した材料を使用することもできる。該５〜３０ｎｍのシリカ超微粒子を水もしくは有機溶剤に分散したゾルは、ケイ酸アルカリ塩中のアルカリ金属イオンをイオン交換等で脱アルカリする方法や、ケイ酸アルカリ塩を鉱酸で中和する方法等で知られた活性ケイ酸を縮合して得られる公知のシリカゾル、アルコキシシランを有機溶媒中で塩基性触媒の存在下に加水分解と縮合することにより得られる公知のシリカゾル、さらには上記の水性シリカゾル中の水を蒸留法等により有機溶剤に置換することにより得られる有機溶剤系のシリカゾル（オルガノシリカゾル）が用いられる。これらのシリカゾルは水系及び有機溶剤系のどちらでも使用することができる。有機溶剤系シリカゾルの製造に際し、完全に水を有機溶剤に置換する必要はない。前記シリカゾルはＳｉＯ₂として０．５〜５０質量％濃度の固形分を含有する。シリカゾル中のシリカ超微粒子の構造は球状、針状、板状等様々なものが使用可能である。
なお、本発明の近赤外線吸収フィルターにおいては、上記低屈折率層と防眩層の両者を設けることもできる。

本発明の近赤外線吸収フィルターは、基材又は近赤外線吸収層、防眩層及び低屈折率層の少なくとも１層のいずれかに赤色色素を含有することが好ましい。赤色色素を含有することで、反射色調の青色をより確実に相殺することができる。
赤色色素としては、赤色染料及び赤色顔料を使用することができる。赤色染料としては、特に制限はなく、公知のものの中から目的に応じて適宜選択することができ、例えば、Ｃ．Ｉ．アシッドレッド１，８，１３，１４，１８，２６，２７，３５，３７，４２，５２，８２，８７，８９，９２，９７，１０６，１１１，１１４，１１５，１３４，１８６，２４９，２５４，２８９等の酸性染料；Ｃ．Ｉ．ベーシックレッド２，１２，１３，１４，１５，１８，２２，２３，２４，２７，２９，３５，３６，３８，３９，４６，４９，５１，５２，５４，５９，６８，６９，７０，７３，７８，８２，１０２，１０４，１０９，１１２等の塩基性染料；Ｃ．Ｉ．リアクティブレッド１，１４，１７，２５，２６，３２，３７，４４，４６，５５，６０，６６，７４，７９，９６，９７等の反応性染料；Ｃ．Ｉ．ソルベントレッド１１１、１３５、１７９、などが挙げられる。

また、赤色顔料としては、特に制限はなく、公知のものの中から目的に応じて適宜選択することができ、例えば、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド９、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド９７、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１２２、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１２３、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１４９、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１６８、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１７７、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１８０、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１９２、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２０９、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２１５、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２１６、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２１７、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２２０、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２２３、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２２４、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２２６、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２２７、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２２８、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２４０、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド４８：１、パーマネント・カーミンＦＢＢ（Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１４６）、パーマネント・ルビーＦＢＨ（Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１１）、ファステル・ピンクＢスプラ（Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド８１）、などが挙げられる。
上記赤色染料及び赤色顔料は、各々１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。また、赤色染料と赤色顔料を併用してもよい。

本発明の近赤外線吸収フィルターは、上述のように、防眩層を組み合わせたり、低屈折率層を組み合わせることで、防眩フィルム及び反射防止フィルムの機能を兼ね備えた複合フィルターとし得る。その他、上記した電磁波遮蔽層に加えて、ネオン光吸収層、調色層、ハードコート層、紫外線吸収層、表面保護層などを設けることにより、本発明の近赤外線吸収フィルムに他の機能を付加することができる。
特に、上述のように本発明の近赤外線吸収フィルムをＰＤＰ用のフィルターとして用いる場合には、ＰＤＰの発光がプラズマ放電を利用しているため、これに起因する周波数帯域３０〜１３０ＭＨｚの電磁波の漏洩がなく、他の機器に悪影響を与えないように、上述のような電磁波遮蔽層を設けることは重要である。
また、上述の電磁波遮蔽層、ネオン光吸収層、調色層、ハードコート層、紫外線吸収層、表面保護層等は必ずしもこれらを単独にそれぞれ層として有する必要はなく、複数の機能を１つの層に持たせた多機能層とすることもできる。この場合には、以下に記載する各層を構成する材料を複合化することで、多機能層を得ればよい。

ネオン光吸収層は、ＰＤＰから放射されるネオン光即ちネオン原子の発光スペクトルを吸収すべく設置されるものであり、ネオン光吸収剤とバインダー樹脂を含む材料により形成することができる。ネオン光吸収剤により、少なくともＰＤＰからのオレンジ色発光が抑制可能で、鮮やかな赤色を得ることができる。ネオン光の発光スペクトル帯域は波長５５０〜６４０ｎｍのため、ネオン光吸収層として機能する場合の分光透過率は波長５９０ｎｍにおいて５０％以下、さらに２５％以下になるように設計することが好ましい。
ネオン光吸収剤は、少なくとも５５０〜６４０ｎｍの波長領域内に吸収極大を有する色素を用いることができる。該色素の具体例としては、シアニン系、オキソノール系、メチン系、サブフタロシアニン系もしくはポルフィリン系等を挙げることができる。これらの中でもポルフィリン系が好ましい。その中でも特に、特許第３８３４４７９号公報に開示されるような、テトラアザポルフィリン系色素が、分散性が良好で、且つ耐熱性、耐湿性、耐光性が良好な点から好ましい。
ネオン光吸収剤の含有量は、特に限定されないが、ネオン光吸収層中に、０．０５〜５質量％であることが好ましい。含有量が０．０５質量％以上であれば充分なネオン光吸収機能を発現でき、５質量％以下であれば、充分な量の可視光線を透過できる。

調色層は、パネルからの発光の色純度や色再現範囲、電源ＯＦＦ時のディスプレイ色などの改善のために設けられるものである。すなわち、ディスプレイ用フィルターの色を調整するものであって、各ディスプレイ毎に色補正機能の要求が異なるため、適宜調整して用いられる。
色補正色素として用いることのできる公知の色素としては、特開２０００−２７５４３２号公報、特開２００１−１８８１２１号公報、特開２００１−３５００１３号公報、特開２００２−１３１５３０号公報等に記載の色素が好適に使用できる。さらに、この他にも、黄色光、赤色光、青色光等の可視光を吸収するアントラキノン系、ナフタレン系、アゾ系、フタロシアニン系、ピロメテン系、テトラアザポルフィリン系、スクアリリウム系、シアニン系等の色素を使用することができる。
色補正色素の含有量は、補正すべき色に合わせて適宜調整され、特に限定されない。通常、調色層中に０．０１〜１０質量％程度含有する。

本発明において、ハードコート層は透明性を有し、ＪＩＳＫ５６００−５−４（１９９９）で規定される鉛筆硬度試験で「Ｈ」以上の硬度を示すものであれば、ハードコート層を構成する材料等は特に制限されない。
通常は樹脂硬化層として形成され、用いられる硬化性樹脂としては、電離放射線硬化性樹脂、その他公知の硬化性樹脂などを要求性能などに応じて適宜採用すればよい。電離放射線硬化性樹脂としては前述のものと同様のものを用いることができる。ハードコート層は、上記材料を必要に応じて溶剤で希釈して、基材や近赤外線吸収層等の上に塗工等の湿式成膜法により形成することができる。ハードコート層の厚みは特に限定されるものではないが、１〜２０μｍの範囲が好ましく、３〜５μｍの範囲がより好ましい。

紫外線吸収層は、紫外線吸収剤又は紫外線散乱剤とバインダー樹脂を含む材料により形成することができる。
紫外線吸収剤としては、サリシレート系、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、置換アクリロニトリル系、トリアジン系の紫外線吸収剤を使用することができる。
サリシレート系紫外線吸収剤の例としては、フェニルサリシレート、ｐ−オクチルフェニルサリシレート、ｐ−ｔ−ブチルフェニルサリシレートなどが挙げられ、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤の例としては、２，２’−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、２，２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクトキシベンゾフェノンなどが挙げられる。また、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤の例としては、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔｅｒｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔｅｒｔ−アミル−５’−イソブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−イソブチル−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−イソブチル−５’−プロピルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−［２’−ヒドロキシ−５’−（１，１，３，３−テトラメチル）フェニル］ベンゾトリアゾールなどが挙げられる。

置換アクリロニトリル系紫外線吸収剤の例としては、２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリル酸エチル、２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリル酸２−エチルヘキシルなどが挙げられる。さらに、トリアジン系紫外線吸収剤の例としては、２−［４−［（２−ヒドロキシ−３−ドデシルオキシプロピル）オキシ］−２−ヒドロキシフェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−［４−［（２−ヒドロキシ−３−トリデシルオキシプロピル）オキシ］−２−ヒドロキシフェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２，４−ジヒドロキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジンなどのモノ（ヒドロキシフェニル）トリアジン化合物；２，４−ビス（２−ヒドロキシ−４−プロピルオキシフェニル）−６−（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（２−ヒドロキシ−３−メチル−４−プロピルオキシフェニル）−６−（４−メチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（２−ヒドロキシ−３−メチル−４−ヘキシルオキシフェニル）−６−（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジンなどのビス（ヒドロキシフェニル）トリアジン化合物；２，４−ビス（２−ヒドロキシ−４−ブトキシフェニル）−６−（２，４−ジブトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス［２−ヒドロキシ−４−（３−ブトキシ−２−ヒドロキシプロピルオキシ）フェニル］−１，３，５−トリアジンなどのトリス（ヒドロキシフェニル）トリアジン化合物等が挙げられる。
本発明においては、前記各種の紫外線吸収剤は一種を単独で用いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてもよい。

紫外線散乱剤とは、紫外線を散乱させることによって、紫外線遮蔽効果をもたらす材料のことであり、主に金属酸化物粉体などの無機系材料が用いられる。この紫外線散乱剤の例としては、二酸化チタン、酸化亜鉛、酸化セリウムなどを微粒子化した粉体、あるいは二酸化チタン微粒子を酸化鉄で複合化処理してなるハイブリッド無機粉体、酸化セリウム微粒子の表面を非結晶性シリカでコーティングしてなるハイブリッド無機粉体などが挙げられる。紫外線散乱効果は、粒子径に大きく影響を受けるので、本発明においては、前記紫外線散乱剤の平均粒子径は５μｍ以下が好ましく、特に１０〜２００ｎｍの範囲が好ましい。

バインダー樹脂としては、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂等の樹脂が好適に用いられる。
また、市販の紫外線カットフィルタ、例えば、富士写真フィルム社製の「シャープカットフィルターＳＣ−３８」（商品名）、「同ＳＣ−３９」、「同ＳＣ−４０」、三菱レーヨン社製の「アクリプレン」（商品名）等を用いることもできる。
また、紫外線吸収層の厚さは特に限定されるものではないが、１〜３０μｍの範囲が好ましく、１０〜２０μｍの範囲がより好ましい。

表面保護層は、耐汚染性向上の観点から設けられるもので、シリコーン系化合物、フッ素系化合物などを添加することが好ましい。
また表面保護層は、防汚染層として、本発明の近赤外線吸収フィルターを使用する際に、その表面に不用意な接触や環境からの汚染が原因でごみや汚染物質が付着するのを防止し、あるいは付着しても除去しやすくするために形成される層であっても良い。例えば、フッ素系コート樹脂、シリコン系コート剤、シリコン・フッ素系コート剤等が使用され、中でもシリコン・フッ素系コート剤が好ましく適用される。これらの防汚染層としての厚さは好ましくは１００ｎｍ以下で、より好ましくは１０ｎｍ以下であり、更に好ましくは５ｎｍ以下である。これらの防汚染層の厚さが１００ｎｍを超えると防汚染性の初期値は優れているが、耐久性において劣るものとなる。防汚染性とその耐久性のバランスから５ｎｍ以下が最も好ましい。

本発明の近赤外線吸収フィルターは、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、ブラウン管ディスプレイ（ＣＲＴ）、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）などの画像表示装置用として好適であり、特にプラズマディスプレイ用として好適である。

次に、本発明を実施例により、さらに詳細に説明するが、本発明は、これらの例によってなんら限定されるものではない。
（評価方法）
（１）無機近赤外線吸収剤及び金属酸化物微粒子の平均粒子径の測定
各実施例及び比較例で得られた粘着剤組成物を樹脂（２液硬化型ポキシ樹脂系）に包埋し、クライオシステムによるダイヤモンドナイフ（ＤＩＡＴＯＭＥ社製「ＤＩＡＴＯＭＥ ＵＬＴＲＡ ＣＲＹＯ ＤＲＹ」）が装着されたウルトラミクロトーム（切片作製装置、ライカ（株）製「ＥＭ−ＦＣＳ」）を用いて、トリミングし、面出しをした。次いで、金属酸化物による上記染色を施し、超薄切片作製後、透過型電子顕微鏡（（株）日立製作所製「Ｈ−７１００ＦＡ型」、加速電圧１００ｋＶ）を用いて観察を実施した。倍率１２万倍で電子顕微鏡写真を撮影後、無機近赤外線吸収剤及び金属酸化物微粒子をそれぞれ５０個を無作為に選び、粒子の形状が球形でない場合には、長径を測定して平均粒子径を算出した。
（２）青味の評価
各実施例及び比較例で製造した近赤外線吸収フィルターを、黒色アクリル樹脂板の上に、透明粘着剤（日東電工（株）製ＣＳ−９６２１)を用いて貼り合せた後、（株）協真エンジニアリング製オートクレーブ機にて、７０℃、０．５ＭＰａの条件で３０分保持した。その後、人口太陽燈で光を照射した。アクリル樹脂板上での明るさは、２５００ルクスとした。人口太陽燈、人間、アクリル樹脂板の位置関係としては、アクリル板を水平に置き、斜め上方３０度の角度（角度はアクリル樹脂板の法線から測る。以下同様。）から観察し、光は斜め上方４５度の方向から照射した。評価は人が目視にて行い、評価基準は以下の通りとした。
○；目視で黒く見える
×；目視で青く見える
（３）白濁の評価
各実施例及び比較例で製造した近赤外線吸収フィルターを上記青味の評価時と同様の条件で、人が目視にて評価した。評価基準は以下の通りである。
○；目視で白濁を感じない
△；目視で若干の白濁が見られる
×；目視で白濁して見える
（４）光線透過率
光線透過率の測定は、ＪＩＳ Ａ ５７５９に準ずる方法で行った。透過率測定は分光光度計（（株）島津製作所製「ＵＶ３１００」）を使用して、波長３００〜２６００ｎｍの範囲において５ｎｍ間隔で測定し、８００〜１１００ｎｍ（近赤外線波長）の光線透過率及び３８０〜７８０ｎｍ（可視光線波長）の光線透過率を求めた。評価基準は、以下の通りである。
（近赤外線透過率）
○；８５０ｎｍにおいて、１０％以下
×；８５０ｎｍにおいて、１０％超過
（可視光線透過率）
○；５５０ｎｍにおいて、５０％以上
×；５５０ｎｍにおいて、５０％未満
（５）反射率
分光光度計［日本電飾工業（株）製「ＮＤ５０００」］により、波長５５０ｎｍにおける反射率を測定した。
（６）防眩性
上記青味の評価と同様の条件で目視評価し、実施例１を基準として、表面の鏡面反射光による光沢の度合いを比較した。評価基準としては、実施例１（防眩層も低屈折率層も無し）と比較して、光沢が低減した場合を○、光沢が同等の場合を△とした。

実施例１
（１）粘着剤組成物の調製
アクリル系樹脂の粘着剤［綜研化学（株）製「商品名ＳＫ２０９４」］１００質量部に、近赤外線吸収剤［住友金属鉱山(株)製、商品名「ＹＭＦ−０１」、セシウム含有酸化タングステン（平均粒子径４４ｎｍのＣｓ_0.33ＷＯ₃、セシウム３３モル％含有）］５５質量部（固形分換算）、及び金属酸化物微粒子として、酸化ジルコニウム（平均粒子径１５ｎｍ）１５質量部を混合したのち、全体の固形分濃度が３０質量％になるようにメチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）中に分散させ、粘着剤組成物を調製した。
（２）電磁波遮蔽部材シートの製造
平均粒径約１μmの銀粒子９２質量部とポリエステル系の樹脂８質量部、溶剤としてエチレングリコールモノブチルエーテルアセテートからなるインキ（導電性ペースト）を調製し、厚み１００μｍの２軸延伸した無色透明ＰＥＴフィルムから成る基材２上にシルクスクリーン印刷した。次いでこれを１５０℃で熱風乾燥して溶剤を揮散させて、線幅２０μｍ、ピッチ３００μｍ、厚み１０μｍの格子状パターンを有し開口率８７％で実質透明のシートを作製した。
得られたシートをロールプレスにて線圧６００ｋｇ／ｃｍで、室温（２３℃）でプレスしたところ、パターン厚みは約１４％減少し、厚み８．６μｍ、線幅２０μｍの電磁波遮蔽層３を有する電磁波シールド部材シートを得た。得られた電磁波シールド部材シートの表面抵抗値は、プレス前のシートの表面抵抗値より約３０％低減し、６Ω／□であった。
（３）近赤外線吸収フィルターの製造
（２）で製造した電磁波遮蔽部材シートの電磁波遮蔽層３側に上記（１）で調製した粘着剤組成物を硬化後の厚さが２０μｍとなるように、マイヤーバーで塗布した。次いで、９０℃で１分間乾燥させ、粘着剤層４となし、該粘着剤層表面には、厚さ３８μｍの２軸延伸無色透明ＰＥＴフィルムの片面にシリコーン樹脂系の離型剤層が形成されて成る剥離性表面保護フィルムを仮接着）して、近赤外線吸収フィルター１０を製造した。尚、該剥離性表面保護フィルムを仮接着すると云うのは、該粘着剤層４を被着体に貼着する迄の間だけ、一時的に該粘着剤層表面を被覆保護することを意味する。貼着時は、該剥離性表面保護フィルムは剥離、除去する。
上記（１）の粘着剤組成物及び該近赤外線吸収フィルターについて、上記方法にて評価した。評価結果を第１表に示す。

実施例２
実施例１において、セシウム含有酸化タングステンに代えて、ルビジウム含有酸化タングステン［平均粒子径４１ｎｍのＲｂ_0.33ＷＯ₃、住友金属鉱山(株)製］１５質量部（固形分換算）を用いたこと以外は実施例１と同様にして、近赤外線吸収フィルターを製造した。実施例１と同様に評価した結果を第１表に示す。

実施例３
実施例１において、近赤外線吸収剤として、平均粒子径４０ｎｍのセシウム含有酸化タングステンを用い、近赤外線吸収層の上に、以下のような方法で防眩層を設けたこと以外は実施例１と同様にして近赤外線吸収フィルターを製造した。この近赤外線吸収フィルターについて、実施例１と同様に評価した。評価結果を第１表に示す。
（４）防眩（ＡＧ）層の積層
電離放射線硬化性モノマーであるペンタエリスリトールテトラアクリレート１００質量部に、光重合開始剤［チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製、商品名「イルガキュア９０７」（２−メチル−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モリフォリノプロパノン−１）］３質量部を添加し、これに光拡散性粒子として平均粒径１μｍのシリカ微粒子を２８質量部添加して防眩層形成用塗工液を調製した。
実施例１の近赤外線吸収フィルターを用意し、基材２の電磁波遮蔽層及び粘着剤層の非形成側の表面上に、上記防眩層形成用塗工液を硬化後の厚さが６μｍとなるように、マイヤーバーで塗布した。次いで、９０℃で１分間乾燥したのち、窒素ガス雰囲気下（酸素濃度０．５容量％）で紫外線を光量５００ｍＪ／ｃｍ²で照射して完全硬化させ、基材２上に防眩層を形成して、実施例３の近赤外線吸収フィルターを製造した。

実施例４
実施例３において、防眩層に代えて低屈折率層を設けたこと以外は実施例３と同様にして近赤外線吸収フィルターを製造した。この近赤外線吸収フィルターについて、実施例１と同様に評価した。評価結果を第１表に示す。
（５）低屈折率層の積層
電離放射線硬化性モノマーであるペンタエリスリトールテトラアクリレート１．９５質量部に、光重合開始剤［チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製、商品名「イルガキュア１８４」（１−ヒドロキシ−シクロヘキシルフェニルケトン）］０．１質量部を添加し、これに低屈折率層を構成する材料として、処理シリカゾル含有溶液（空隙を有する微粒子（粒径６０nm）、シリカゾル固形分２０質量％、溶媒；メチルイソブチルケトン）１２．３質量部、シリカ粒子含有溶液（巨大粒子（平均粒径１００nm）、シリカ粒子固形分２０質量％、商品名；sicastar（ナカライテスク（株））、溶媒；メチルイソブチルケトン）１．２３質量部、及び溶剤としてメチルイソブチルケトン８３．５質量部を配合して低屈折率層形成用塗工液を調製した。
近赤外線吸収層の塗布後に、９０℃で１分間乾燥し、窒素ガス雰囲気下（酸素濃度０．５容量％）、紫外線を光量１００ｍＪ／ｃｍ²で照射して、半硬化させた。その上に、上記低屈折率層形成用塗工液を乾燥重量０．１ｇ／ｍ²換算で塗布（バーコーティング）し、次いで、４０℃にて６０秒間乾燥した。低屈折率層の硬化後の膜厚は、約９０ｎｍになるように形成した。次いで、９０℃で１分間乾燥したのち、窒素ガス雰囲気下（酸素濃度０．５容量％）で紫外線を光量５００ｍＪ／ｃｍ²で照射して完全硬化させ、ＰＥＴフィルム上に近赤外線吸収層及び低屈折率層を形成して、反射防止性能を兼ね備えた近赤外線吸収フィルターを製造した。

実施例５
実施例１において、セシウム含有酸化タングステンに代えて、平均粒子径４０ｎｍのホウ化ランタン［ＬａＢ₆］を用いたこと以外は実施例１と同様にして、近赤外線吸収フィルターを製造した。実施例１と同様に評価した結果を第１表に示す。

実施例６
実施例１において、金属酸化物微粒子として、酸化ジルコニウムに代えて、平均粒子径１４ｎｍの酸化チタン［ＴｉＯ₂］を用いたこと以外は実施例１と同様にして、近赤外線吸収フィルターを製造した。実施例１と同様に評価した結果を第１表に示す。

比較例１
実施例１において、金属酸化物微粒子を用いなかったこと以外は、実施例１と同様にして近赤外線吸収フィルターを製造した。実施例１と同様に評価した結果を第１表に示す。

比較例２
実施例１において、金属酸化物微粒子として添加する酸化ジルコニウムに代えて、平均粒子径５０ｎｍの酸化ジルコニウムを用いたこと以外は実施例１と同様にして、近赤外線吸収フィルターを製造した。実施例１と同様に評価した結果を第１表に示す。

比較例３
実施例５において、金属酸化物微粒子を用いなかったこと以外は、実施例５と同様にして近赤外線吸収フィルターを製造した。実施例１と同様に評価した結果を第１表に示す。

比較例４
実施例１において、近赤外線吸収剤として、平均粒子径７９ｎｍのセシウム含有酸化タングステン［Ｃｓ_0.33ＷＯ₃、セシウム３３モル％含有、住友金属鉱山（株）製］２５質量部（固形分換算）を用い、金属酸化物微粒子を用いなかったこと以外は、実施例１と同様にして近赤外線吸収フィルターを製造した。実施例１と同様に評価した結果を第１表に示す。

本発明によれば、反射色調が青色を示さず、近赤外線を有効に吸収し、かつ可視光線透過率の高い、透明性に優れる近赤外線吸収フィルターを提供することができる。この近赤外線吸収フィルターは、ＰＤＰ、ＣＲＴ、ＬＣＤなどの画像表示装置用として好適である。特にＰＤＰ用として好適であり、本発明の近赤外線吸収フィルターを前面に配したＰＤＰは、周辺の電子機器に悪影響を及ぼすことがなく、かつ、反射色調が青色を示さない。

本発明の近赤外線吸収フィルターを示す模式図である。 本発明の近赤外線吸収フィルターの別の態様を示す模式図である。 本発明の近赤外線吸収フィルターの別の態様を示す模式図である。

符号の説明

１ 近赤外線吸収フィルター
２、２’ 基材
３ 電磁波遮蔽層
４、４’ 粘着剤層
５ 反射防止層又は防眩層
６ ガラス基板
１０ 近赤外線吸収フィルム
２０ 反射防止フィルム又は防眩フィルム

Claims (16)

1. 平均粒子径４０〜２００ｎｍの無機近赤外線吸収剤、平均粒子径５〜３０ｎｍの金属酸化物微粒子及び樹脂を含有する粘着剤組成物であって、前記金属酸化物微粒子の含有量が前記無機近赤外線吸収剤１００質量部に対して、５０〜４００質量部である粘着剤組成物。
2. 前記無機近赤外線吸収剤が酸化タングステン系化合物である請求項１に記載の粘着剤組成物。
3. 前記酸化タングステン系化合物が、下記一般式（Ｉ）で表わされる請求項２に記載の粘着剤組成物。
   ＭｘＷｙＯｚ ・・・（Ｉ）
   （Ｍ元素はＣｓ、Ｒｂ、Ｋ、Ｔｌ、Ｉｎ、Ｂａ、Ｌｉ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｆｅ及びＳｎからなる群から選ばれる少なくとも１種、Ｗはタングステン、Ｏは酸素、０．００１≦ｘ／ｙ≦１．１、２．２≦ｚ／ｙ≦３．０）
4. 前記酸化タングステン系化合物がセシウム含有酸化タングステンである請求項３に記載の粘着剤組成物。
5. 前記金属酸化物微粒子が酸化ジルコニウム及び／又は酸化チタンである請求項１〜４のいずれかに記載の粘着剤組成物。
6. 前記金属酸化物微粒子の含有量が前記無機近赤外線吸収剤１００質量部に対して、５０〜２００質量部である請求項１〜５のいずれかに記載の粘着剤組成物。
7. 前記樹脂がアクリル系樹脂、ゴム系樹脂及びポリエステル系樹脂からなる群から選ばれる少なくとも１種である請求項１〜６のいずれかに記載の粘着剤組成物。
8. 請求項１〜７のいずれかに記載の粘着剤組成物からなる粘着剤層を有する近赤外線吸収フィルター。
9. 基材上に電磁波遮蔽層及び請求項１〜７のいずれかに記載の粘着剤組成物からなる粘着剤層を有する近赤外線吸収フィルター。
10. さらに、防眩層、反射防止層、ネオン光吸収層、調色層、ハードコート層、紫外線吸収層、及び表面保護層から選ばれる少なくとも１層を備える請求項８又は９に記載の近赤外線吸収フィルター。
11. 波長３８０〜７８０ｎｍの可視光透過率が５０％以上であり、波長８００〜１１００ｎｍの近赤外線透過率が２０％以下である請求項８〜１０のいずれかに記載の近赤外線吸収フィルター。
12. 前記基材がプラスチックフィルム又はガラスからなる透明基材である請求項９〜１１のいずれかに記載の近赤外線吸収フィルター。
13. 粘着剤層、防眩層、反射防止層、調色層、ハードコート層、紫外線吸収層、及び表面保護層の少なくとも１層のいずれか、又は基材に赤色色素を含有する請求項１０〜１２のいずれかに記載の近赤外線吸収フィルター。
14. 画像表示装置用である請求項８〜１３のいずれかに記載の近赤外線吸収フィルター。
15. 前記画像表示装置がプラズマディスプレイである請求項１４に記載の近赤外線吸収フィルター。
16. 請求項８〜１５のいずれかに記載の近赤外線吸収フィルターを前面に貼付した画像表示装置。

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