JP2001143491A - シフトレジスタ回路、表示装置の駆動回路および該駆動回路を用いた表示装置 - Google Patents

シフトレジスタ回路、表示装置の駆動回路および該駆動回路を用いた表示装置

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JP2001143491A JP2000251948A JP2000251948A JP2001143491A JP 2001143491 A JP2001143491 A JP 2001143491A JP 2000251948 A JP2000251948 A JP 2000251948A JP 2000251948 A JP2000251948 A JP 2000251948A JP 2001143491 A JP2001143491 A JP 2001143491A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 簡素でかつ占有面積の小さな駆動回路を提供
すること。 【解決手段】本発明のシフトレジスタ回路は、複数のレ
ジスタ回路を有している。各レジスタ回路は、クロック
ドインバータ回路およびインバータ回路を有している。
クロックドインバータ回路の出力信号がインバータ回路
の入力信号となるよう両者が直列に接続されている。さ
らに、レジスタ回路は、インバータ回路の出力信号が伝
達される信号線を有している。該信号線には接続されて
いる素子が多く寄生容量が大きいため高負荷である。本
発明のシフトレジスタ回路は、信号線の寄生容量が大き
いために高負荷であることを用いている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】
【0002】本発明は表示装置の駆動回路に関する。ま
た、その駆動回路を用いた表示装置に関する。
【0003】
【従来の技術】
【0004】最近安価なガラス基板上に半導体薄膜を形
成した半導体装置、例えば薄膜トランジスタ(TFT)
を作製する技術が急速に発達してきている。その理由
は、アクティブマトリクス型液晶表示装置(以下、「液
晶表示装置」という。)の需要が高まってきたことによ
る。
【0005】液晶表示装置は、画素部に数十〜数百万個
ものTFTがマトリクス状に配置され、各TFTに接続
された画素電極に出入りする電荷をTFTのスイッチン
グ機能により制御するものである。
【0006】従来、画素部には、ガラス基板上に形成さ
れたアモルファスシリコンを利用した薄膜トランジスタ
が配置されている。
【0007】また近年、基板として石英を利用し多結晶
珪素膜で薄膜トランジスタを作製する技術も知られてい
る。この場合、周辺駆動回路も画素部も石英基板上に一
体形成される。
【0008】また最近、レーザーアニール等の技術を利
用することにより、ガラス基板上に結晶性珪素膜を用い
た薄膜トランジスタを作製する技術も知られている。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】
【0010】液晶表示装置は、主としてノート型のパー
ソナルコンピュータに用いられている。パーソナルコン
ピュータは、現行のテレビジョン信号(NTSCやPA
L)等のアナログデータとは異なり、デジタルデータを
表示装置に出力する。従来は、パーソナルコンピュータ
からのデジタルデータをアナログデータに変換し液晶表
示装置に入力したり、外付けのデジタルドライバを用い
た液晶表示装置に入力したりしていた。
【0011】そこで、外部からデジタルデータを直接入
力することができるデジタルインターフェイスを有する
液晶表示装置が注目されてきている。
【0012】ここで、図17に最近注目されつつあるデ
ジタルインターフェイスを有する液晶表示装置のソース
ドライバの一部を示す。図17において、8000はシ
フトレジスタ回路であり、複数のレジスタ回路8010
を有している。レジスタ回路8010は4つのクロック
ドインバータ回路およびNAND回路からなっている。
また、8100はサンプリング回路であり、複数のアナ
ログスイッチ8110を有している。
【0013】なお、図17においてはシフトレジスタ回
路8000には、走査方向切替回路が含まれている。走
査方向切替回路は、外部から入力される走査方向切替信
号によりシフトレジスタ回路8000から出力されるタ
イミングパルスの順序を左から右または右から左と制御
するための回路である。
【0014】シフトレジスタ回路8000は、外部から
供給されるクロック信号(CLK)、クロック反転信号
(CLKB)およびスタートパルス(SP)に基づいて
タイミングパルスを発生させ、サンプリング回路へ前記
タイミングパルスを送出する。サンプリング回路810
0は、シフトレジスタ回路8000からのタイミングパ
ルスに基づき外部から入力されるアナログビデオデータ
(VIDEO)をサンプリングし(取り込み)、ソース
信号線に出力する。
【0015】図17に示すような従来のシフトレジスタ
回路8000においては、1つのレジスタ回路8010
は4つのクロックドインバータ回路およびNAND回路
からなっており、シフトレジスタ回路8000は複雑
で、それを構成する素子の数が多い。より高解像度な液
晶表示装置が要求されている現状においては、解像度の
向上に伴いシフトレジスタ回路の面積も大きくなり、シ
フトレジスタ回路を構成する素子の数も増大してしま
う。
【0016】素子数の増大によって液晶表示装置全体の
製造歩留りが悪くなることがあり、また、回路の占有面
積が大きくなることによって液晶表示装置の小型化が妨
げられることになりかねない。
【0017】そこで、本発明は上述の問題を鑑みてなさ
れたものであり、液晶表示装置の小型化および製造歩留
りの向上を達成すべく、簡素でかつ占有面積の小さな駆
動回路を提供するものである。
【0018】
【課題を解決するための手段】
【0019】図1を参照する。図1には本発明のシフト
レジスタ回路100が示されている。本発明のシフトレ
ジスタ回路は、複数のレジスタ回路(第1のレジスタ回
路110、第2のレジスタ回路120、第3のレジスタ
回路130、第4のレジスタ回路140および第5のレ
ジスタ回路150を有している。なお図1には、説明の
便宜上、第1〜第5のレジスタ回路を有する5段のシフ
トレジスタ回路100が示されている。しかし、本発明
のシフトレジスタ回路は、第1〜第nの(n個の)レジ
スタ回路を有するn段のシフトレジスタ回路とすること
ができる(ただし、nは自然数である。)。
【0020】第1のレジスタ回路110を例にとって説
明する。第1のレジスタ回路110はクロックドインバ
ータ回路111およびインバータ回路112を有してい
る。クロックドインバータ回路111の出力信号がイン
バータ回路112の入力信号となるよう両者が直列に接
続されている。さらに、第1のレジスタ回路110は、
インバータ回路112の出力信号が伝達される信号線1
13を有しており、この信号線113の寄生容量もレジ
スタ回路を構成する素子と捉えてもよい。
【0021】信号線113には接続されている素子(例
えば、インバータ回路、アナログスイッチ、隣接するレ
ジスタ回路等)が多く寄生容量が大きいため高負荷であ
る。本発明のシフトレジスタ回路は、信号線113の寄
生容量が大きいために高負荷であることを用いている。
よって、本発明のシフトレジスタ回路は安定性が高い。
【0022】なお、第2のレジスタ回路120、第3の
レジスタ回路130、第4のレジスタ回路140および
第5のレジスタ回路150も第1のレジスタ回路110
と同様の構成をとっている。つまり、第2のレジスタ回
路120はクロックドインバータ回路121、インバー
タ回路122および信号線123を有している。また、
第3のレジスタ回路130はクロックドインバータ回路
131、インバータ回路132および信号線133を有
している。また、第4のレジスタ回路140はクロック
ドインバータ回路141、インバータ回路142および
信号線143を有している。また、第5のレジスタ回路
150はクロックドインバータ回路151、インバータ
回路152および信号線153を有している。
【0023】また、シフトレジスタ回路100には、外
部から、クロック信号(CLK)、クロック信号とは逆
位相のクロックバック信号(CLKB)およびスタート
パルス(SP)が入力されるようになっている。これら
の信号は本発明のシフトレジスタ回路を構成する全ての
レジスタ回路(第1のレジスタ回路110、第2のレジ
スタ回路120、第3のレジスタ回路130、第4のレ
ジスタ回路140および第5のレジスタ回路150)に
入力される。
【0024】ここで、本発明のシフトレジスタ回路の動
作について説明する。
【0025】第1のレジスタ回路110のクロックドイ
ンバータ回路111は、入力されるクロック信号(CL
K)およびクロックバック信号(CLKB)に同期して
動作し、入力するスタートパルス(SP)の論理を反転
させインバータ回路112に出力する。インバータ回路
112は入力したパルスの論理を反転させ信号線113
および次段の第2のレジスタ回路120へ出力する。
【0026】第2のレジスタ回路120のクロックドイ
ンバータ回路121には、前段の第1のレジスタ回路1
10から出力されるパルスが入力される。クロックドイ
ンバータ回路121は、入力されるクロック信号(CL
K)およびクロックバック信号(CLKB)に同期して
動作し、入力されるパルスの論理を反転しインバータ回
路112に出力する。インバータ回路122は入力され
たパルスの論理を反転し信号線113および次段の第3
のレジスタ回路130へ出力する。
【0027】全てのレジスタ回路が同様に動作する。よ
って、第1のレジスタ回路110、第2のレジスタ回路
120、第3のレジスタ回路130、第4のレジスタ回
路140および第5のレジスタ回路150から一定の間
隔で順にタイミングパルスが出力される。
【0028】以上のような構成をとることにより、本発
明のシフトレジスタ回路は、従来よりも簡略化されてお
り、素子数が少なくて済むことになる。
【0029】次に図18を参照する。図18において
は、本発明のシフトレジスタ回路に第1のNAND回路
114、第2のNAND回路124、第3のNAND回
路134および第4のNAND回路144を設けてい
る。なお、複数のレジスタ回路110、120、13
0、140および150と複数のNAND114、12
4、134および144とを含んだ回路を本発明のシフ
トレジスタ回路としてもよい。
【0030】第1のレジスタ回路110および第2のレ
ジスタ回路120から出力されるタイミングパルスは、
第1のNAND回路114に入力される。第1のNAN
D回路114は、第1のレジスタ回路110および第2
のレジスタ回路120からのタイミングパルスのNAN
D論理を出力する。
【0031】また、第2のレジスタ回路120および第
3のレジスタ回路130から出力されるタイミングパル
スは、第2のNAND回路124に入力される。第2の
NAND回路124は、第2のレジスタ回路120およ
び第3のレジスタ回路130からのタイミングパルスの
NAND論理を出力する。
【0032】また、第3のレジスタ回路130および第
4のレジスタ回路140から出力されるタイミングパル
スは、第3のNAND回路134に入力される。第3の
NAND回路134は、第3のレジスタ回路130およ
び第4のレジスタ回路140からのタイミングパルスの
NAND論理を出力する。
【0033】また、第4のレジスタ回路140および第
5のレジスタ回路150から出力されるタイミングパル
スは、第4のNAND回路144に入力される。第4の
NAND回路144は、第4のレジスタ回路140およ
び第5のレジスタ回路150からのタイミングパルスの
NAND論理を出力する。
【0034】このように図18に示す本発明のシフトレ
ジスタ回路は、第1のNAND回路114、第2のNA
ND回路124、第3のNAND回路134および第4
のNAND回路144から一定の間隔で順にタイミング
パルスが出力される。
【0035】ここで、本発明の構成を以下に記載する。
【0036】請求項1に記載の本発明の構成は、直列に
接続されたクロックドインバータ回路およびインバータ
回路ならびに信号線を有する複数のレジスタ回路を有す
るシフトレジスタ回路であって、前記レジスタ回路の前
記クロックドインバータ回路および前記インバータ回路
は、外部から入力される、クロック信号、クロックバッ
ク信号、およびスタートパルスに基づいてタイミングパ
ルスを発生させ、前記レジスタ回路に隣接するレジスタ
回路および前記レジスタ回路の信号線に前記タイミング
パルスを出力することを特徴とするシフトレジスタ回路
である。
【0037】また、請求項2に記載の本発明の構成は、
直列に接続されたクロックドインバータ回路およびイン
バータ回路ならびに信号線を有する第1、第2、・・
・、第(n−1)、および第nのレジスタ回路を有する
シフトレジスタ回路であって(nは自然数)、前記第
(n−1)のレジスタ回路の信号線から出力されるタイ
ミングパルスは、前記第nのレジスタ回路に入力される
ことを特徴とするシフトレジスタ回路である。。
【0038】請求項3に記載の本発明の構成は、直列に
接続されたクロックドインバータ回路およびインバータ
回路を有する第1、第2、・・・、第(n−1)、およ
び第nのレジスタ回路を有するシフトレジスタ回路であ
って(nは自然数)、前記第1、前記第2、・・・、前
記第(n−1)、および前記第nのレジスタ回路の前記
クロックドインバータ回路および前記インバータ回路
は、外部から入力される、クロック信号、クロックバッ
ク信号、およびスタートパルスに基づいてタイミングパ
ルスを発生させ、前記第(n−1)のレジスタ回路は、
前記第nのレジスタ回路および前記(n−1)のレジス
タ回路の信号線に前記タイミングパルスを出力すること
を特徴とするシフトレジスタ回路である。
【0039】請求項4に記載の本発明の構成は、直列に
接続されたクロックドインバータ回路およびインバータ
回路を有する複数のレジスタ回路を有するシフトレジス
タ回路と、複数のアナログスイッチを有するサンプリン
グ回路と、を有する表示装置の駆動回路であって、前記
レジスタ回路の前記クロックドインバータ回路および前
記インバータ回路は、外部から入力される、クロック信
号、クロックバック信号、およびスタートパルスに基づ
いてタイミングパルスを発生させ、前記アナログスイッ
チと前記レジスタ回路に隣接するレジスタ回路とに前記
タイミングパルスを出力することを特徴とする表示装置
の駆動回路である。
【0040】請求項5に記載の本発明の構成は、直列に
接続されたクロックドインバータ回路およびインバータ
回路を有する第1、第2、・・・、第(n−1)、およ
び第nのレジスタ回路を有するシフトレジスタ回路と
(nは自然数)、第1、第2、・・・、第(n−1)、
および第nのアナログスイッチを有するサンプリング回
路と、を有する表示装置の駆動回路であって、前記第
(n−1)のレジスタ回路から出力されるタイミングパ
ルスは、前記第(n−1)のアナログスイッチと前記第
nのレジスタ回路とに入力され、前記アナログスイッチ
は、入力される前記タイミングパルスに基づき、外部か
ら入力されるビデオデータをサンプリングすることを特
徴とする表示装置の駆動回路である。
【0041】請求項6に記載の本発明の構成は、直列に
接続されたクロックドインバータ回路およびインバータ
回路を有する第1、第2、・・・、第(n−1)、およ
び第nのレジスタ回路を有するシフトレジスタ回路と
(nは自然数)、第1、第2、・・・、第(n−1)、
および第nのアナログスイッチを有するサンプリング回
路と、を有する表示装置の駆動回路であって、前記第
1、前記第2、・・・、前記第(n−1)、および前記
第nのレジスタ回路の前記クロックドインバータ回路お
よび前記インバータ回路は、外部から入力される、クロ
ック信号、クロックバック信号、およびスタートパルス
に基づいてタイミングパルスを発生させ、前記第(n−
1)のレジスタ回路は、前記第(n−1)のアナログス
イッチと前記第nのレジスタ回路とに前記タイミングパ
ルスを出力し、前記アナログスイッチは、入力される前
記タイミングパルスに基づき、外部から入力されるビデ
オデータをサンプリングすることを特徴とする表示装置
の駆動回路である。
【0042】請求項7に記載の本発明の構成は、直列に
接続されたクロックドインバータ回路およびインバータ
回路を有する第1、第2、・・・、第(n−1)、およ
び第nのレジスタ回路を有するシフトレジスタ回路と
(nは自然数)、2つのアナログスイッチを有する第
1、第2、・・・、第(n−1)、および第nの切替回
路を有する走査方向切替回路と、を有する表示装置の駆
動回路であって、前記第(n−1)のレジスタ回路から
出力されるタイミングパルスは、前記第(n−1)の切
替回路に入力され、前記第(n−1)の切替回路は、外
部から入力される走査方向切替信号に基づいて前記タイ
ミングパルスを前記第(n−2)または前記第nのレジ
スタ回路に出力することを特徴とする表示装置の駆動回
路である。
【0043】請求項8に記載の本発明の構成は、直列に
接続されたクロックドインバータ回路およびインバータ
回路を有する第1、第2、・・・、第(n−1)、第n
のレジスタ回路を有するシフトレジスタ回路と(nは自
然数)、2つのアナログスイッチを有する第1、第2、
・・・、第(n−1)、および第nの切替回路を有する
走査方向切替回路と、を有する表示装置の駆動回路であ
って、前記第1、前記第2、・・・、前記第(n−
1)、および前記第nのレジスタ回路の前記クロックド
インバータ回路および前記インバータ回路は、外部から
入力される、クロック信号、クロックバック信号、およ
びスタートパルスに基づいてタイミングパルスを発生さ
せ、前記第(n−1)のレジスタ回路から出力されるタ
イミングパルスは、前記第(n−1)の切替回路に入力
され、前記第(n−1)の切替回路は、外部から入力さ
れる走査方向切替信号に基づいて前記タイミングパルス
を前記第(n−2)または前記第nのレジスタ回路に出
力することを特徴とする表示装置の駆動回路である。
【0044】請求項9に記載の本発明の構成は、直列に
接続されたクロックドインバータ回路およびインバータ
回路を有する第1、第2、・・・、第(n−1)、およ
び第nのレジスタ回路を有するシフトレジスタ回路と
(nは自然数)、2つのアナログスイッチを有する第
1、第2、・・・、第(n−1)、および第nの切替回
路を有する走査方向切替回路と、第1、第2、・・・、
第(n−1)、および第nのアナログスイッチを有する
サンプリング回路と、を有する表示装置の駆動回路であ
って、前記第(n−1)のレジスタ回路から出力される
タイミングパルスは、前記第(n−1)の切替回路に入
力され、前記第(n−1)の切替回路は、外部から入力
される走査方向切替信号に基づいて前記タイミングパル
スを前記第(n−2)または前記第nのレジスタ回路、
および前記第(n−1)のアナログスイッチに出力し、
前記アナログスイッチは、入力される前記タイミングパ
ルスに基づき、外部から入力されるビデオデータをサン
プリングすることを特徴とする表示装置の駆動回路であ
る。
【0045】請求項10に記載の本発明の構成は、直列
に接続されたクロックドインバータ回路およびインバー
タ回路を有する第1、第2、・・・、第(n−1)、第
nのレジスタ回路を有するシフトレジスタ回路と(nは
自然数)、2つのアナログスイッチを有する第1、第
2、・・・、第(n−1)、および第nの切替回路を有
する走査方向切替回路と、第1、第2、・・・、第(n
−1)、および第nのアナログスイッチを有するサンプ
リング回路と、を有する表示装置の駆動回路であって、
前記第1、前記第2、・・・、前記第(n−1)、およ
び前記第nのレジスタ回路の前記クロックドインバータ
回路および前記インバータ回路は、外部から入力され
る、クロック信号、クロックバック信号、およびスター
トパルスに基づいてタイミングパルスを発生させ、前記
第(n−1)のレジスタ回路から出力されるタイミング
パルスは、前記第(n−1)の切替回路に入力され、前
記第(n−1)の切替回路は、外部から入力される走査
方向切替信号に基づいて前記タイミングパルスを前記第
(n−2)または前記第nのレジスタ回路、および前記
第(n−1)のアナログスイッチに出力し、前記アナロ
グスイッチは、入力される前記タイミングパルスに基づ
き、外部から入力されるビデオデータをサンプリングす
ることを特徴とする表示装置の駆動回路である。
【0046】ここで、以下に本発明の実施の形態につい
て説明する。
【0047】
【発明の実施の形態】
【0048】図2を参照する。図2には、本発明のシフ
トレジスタ回路のある実施の形態が示されている。図2
には、本発明のシフトレジスタ回路200、インバータ
回路310および311、ならびにサンプリング回路4
00が示されており、全体として表示装置の駆動回路
(ソースドライバ)が構成されている。
【0049】図2に示す本発明のシフトレジスタ回路
は、複数のレジスタ回路(第1のレジスタ回路210、
第2のレジスタ回路220、第3のレジスタ回路23
0、第4のレジスタ回路240および第5のレジスタ回
路250)を有している。なお図2には、説明の便宜
上、第1〜第5の(5個の)レジスタ回路を有する5段
のシフトレジスタ回路200が示されている。しかし、
本発明のシフトレジスタ回路が第1〜第nの(n個の)
レジスタ回路を有するn段のシフトレジスタ回路とする
こととできることは、上述の通りである(ただし、nは
自然数である。)。
【0050】第1のレジスタ回路を例にとって説明す
る。第1のレジスタ回路210はクロックドインバータ
回路211およびインバータ回路212を有している。
クロックドインバータ回路211の出力信号がインバー
タ回路212の入力信号となるよう両者が直列に接続さ
れている。さらに、第1のレジスタ回路210は、イン
バータ回路212の出力信号が伝達される信号線213
を有しており、この信号線213の寄生容量もレジスタ
回路を構成する素子と捉えてもよい。
【0051】なお、第2のレジスタ回路220、第3の
レジスタ回路230、第4のレジスタ回路240および
第5のレジスタ回路250も第1のレジスタ回路210
と同様の構成をとっている。つまり、第2のレジスタ回
路220はクロックドインバータ回路221、インバー
タ回路222および信号線223を有している。また、
第3のレジスタ回路230はクロックドインバータ回路
231、インバータ回路232および信号線233を有
している。また、第4のレジスタ回路240はクロック
ドインバータ回路241、インバータ回路242および
信号線243を有している。また、第5のレジスタ回路
250はクロックドインバータ回路251、インバータ
回路252および信号線253を有している。
【0052】310および311、320および32
1、330および331、340および341、ならび
に350および351は、インバータ回路である。
【0053】400はサンプリング回路であり、外部か
ら供給されるアナログビデオデータをサンプリングし
(取り込み)、ソース信号線に出力する回路である。サ
ンプリング回路は、複数のアナログスイッチ(第1のア
ナログスイッチ410、第2のアナログスイッチ42
0、第3のアナログスイッチ430、第4のアナログス
イッチ440および第5のアナログスイッチ450)を
有している。
【0054】第1のアナログスイッチ410、第2のア
ナログスイッチ420、第3のアナログスイッチ43
0、第4のアナログスイッチ440および第5のアナロ
グスイッチ450は、それぞれ、第1のレジスタ回路2
10、第2のレジスタ回路220、第3のレジスタ回路
230、第4のレジスタ回路240、第5のレジスタ回
路250からのタイミングパルスがインバータ回路を介
して入力されるように接続されている。
【0055】本実施の形態に用いられる第1のアナログ
スイッチ410、第2のアナログスイッチ420、第3
のアナログスイッチ430、第4のアナログスイッチ4
40および第5のアナログスイッチ450の回路構成を
図3に示す。本実施の形態においては、第1のアナログ
スイッチ410、第2のアナログスイッチ420、第3
のアナログスイッチ430、第4のアナログスイッチ4
40および第5のアナログスイッチ450は、1個のp
チャネル型トランジスタと1個のnチャネル型トランジ
スタとから成る。なお、第1のアナログスイッチ41
0、第2のアナログスイッチ420、第3のアナログス
イッチ430、第4のアナログスイッチ440および第
5のアナログスイッチ450は、本実施の形態に示した
以外の回路構成を有するものも用いることができる。
【0056】シフトレジスタ回路200には、外部か
ら、クロック信号(CLK)、クロック信号とは逆位相
のクロックバック信号(CLKB)およびスタートパル
ス(SP)が入力されるようになっている。これらの信
号は本発明のシフトレジスタ回路を構成する全てのレジ
スタ回路210、220、230、240および250
に入力される。
【0057】レジスタ回路210の出力信号がインバー
タ回路310の入力信号となるようにレジスタ回路21
0とインバータ回路310が接続されている。また、イ
ンバータ回路310および311の出力信号がサンプリ
ング回路400のアナログスイッチ回路410の入力信
号となるように接続されている。
【0058】サンプリング回路400の第1のアナログ
スイッチ410、第2のアナログスイッチ420、第3
のアナログスイッチ430、第4のアナログスイッチ4
40および第5のアナログスイッチ450には、外部か
らアナログビデオデータ(VIDEO)が入力される。
【0059】シフトレジスタ回路200の第1のレジス
タ回路210、第2のレジスタ回路220、第3のレジ
スタ回路230、第4のレジスタ回路240および第5
のレジスタ回路250から順に出力されるタイミングパ
ルスが、インバータ回路310および311、320お
よび321、330および331、340および34
1、ならびに350および351を介してサンプリング
回路の第1のアナログスイッチ410、第2のアナログ
スイッチ420、第3のアナログスイッチ430、第4
のアナログスイッチ440および第5のアナログスイッ
チ450にそれぞれ入力される。サンプリング回路の第
1のアナログスイッチ410、第2のアナログスイッチ
420、第3のアナログスイッチ430、第4のアナロ
グスイッチ440および第5のアナログスイッチ450
は、それぞれ、入力されるタイミングパルスに同期して
アナログビデオデータをサンプリングし、ソース信号線
411、421、431、441および453に供給す
る。
【0060】次に、図19を参照する。図19において
は、本実施の形態のシフトレジスタ回路に第1のNAN
D回路214、第2のNAND回路224、第3のNA
ND回路234および第4のNAND回路244が設け
られている。なお、複数のレジスタ回路210、22
0、230、240および250と複数のNAND21
4、224、234および244とを含んだ回路を本発
明のシフトレジスタ回路としてもよい。
【0061】第1のレジスタ回路210および第2のレ
ジスタ回路220から出力されるタイミングパルスは、
第1のNAND回路214に入力される。第1のNAN
D回路214は、第1のレジスタ回路210および第2
のレジスタ回路220からのタイミングパルスのNAN
D論理を出力する。
【0062】また、第2のレジスタ回路220および第
3のレジスタ回路230から出力されるタイミングパル
スは、第2のNAND回路224に入力される。第2の
NAND回路224は、第2のレジスタ回路220およ
び第3のレジスタ回路230からのタイミングパルスの
NAND論理を出力する。
【0063】また、第3のレジスタ回路230および第
4のレジスタ回路240から出力されるタイミングパル
スは、第3のNAND回路234に入力される。第3の
NAND回路234は、第3のレジスタ回路230およ
び第4のレジスタ回路240からのタイミングパルスの
NAND論理を出力する。
【0064】また、第4のレジスタ回路240および第
5のレジスタ回路250から出力されるタイミングパル
スは、第4のNAND回路244に入力される。第4の
NAND回路244は、第4のレジスタ回路240およ
び第5のレジスタ回路250からのタイミングパルスの
NAND論理を出力する。
【0065】このように図19に示す本実施の形態のシ
フトレジスタ回路は、第1のNAND回路214、第2
のNAND回路224、第3のNAND回路234およ
び第4のNAND回路244から一定の間隔で順にタイ
ミングパルスが出力される。サンプリング回路400の
動作については上述の通りである。
【0066】次に、図4を参照する。図4には、上記図
2の構成に加えて、走査方向切替回路600を有してい
る。
【0067】シフトレジスタ回路500は、複数のレジ
スタ回路(第1のレジスタ回路510、第2のレジスタ
回路520、第3のレジスタ回路530、第4レジスタ
回路540および第5レジスタ回路550)を有してい
る。走査方向切替回路600は、複数の切替回路(第1
の切替回路610、第2の切替回路620、第3の切替
回路630、第4の切替回路640および第5の切替回
路650)を有している。第1の切替回路610、第2
の切替回路620、第3の切替回路630、第4の切替
回路640および第5の切替回路650は、それぞれ、
2つのアナログスイッチSWLおよびSWRを有してい
る。第1の切替回路610、第2の切替回路620、第
3の切替回路630、第4の切替回路640および第5
の切替回路650は、外部から入力される走査方向切替
信号(L/R)によってレジスタ回路から出力されるタ
イミングパルスを左右どちらのレジスタ回路に出力する
かを制御する回路である。
【0068】インバータ回路710および711、72
0および721、730および731、740および7
41、ならびに750および751、ならびにサンプリ
ング回路800については、上述の図2に示した例を参
照されたい。
【0069】図4に示す実施の形態においては、走査方
向切替信号(L/R)に”0(Lo)”が入力される場
合は、スタートパルス(SP)は第1のレジスタ回路に
入力される。走査方向切替信号(L/R)に”0(L
o)”が入力されるとアナログスイッチSWRが動作
し、第1のレジスタ回路510から出力されるタイミン
グパルスがその右隣の次段の第2のレジスタ回路520
およびインバータ回路710へ入力される。さらに、第
2のレジスタ回路520から出力されるタイミングパル
スがその右隣の次段の第3のレジスタ回路530および
インバータ回路720へ入力される。さらに、第3のレ
ジスタ回路530から出力されるタイミングパルスがそ
の右隣の次段の第4のレジスタ回路540およびインバ
ータ回路730へ入力される。さらに、第4のレジスタ
回路540から出力されるタイミングパルスがその右隣
の次段の第5のレジスタ回路550およびインバータ回
路740へ入力される。さらに、第5のレジスタ回路5
50から出力されるタイミングパルスがインバータ回路
750へ入力される。
【0070】このように、走査方向切替信号(L/R)
に”0(Lo)”が入力された場合は、次々と右隣のレ
ジスタ回路へ一定の間隔で発生したタイミングパルスが
出力されていくことになる。
【0071】そして、第1のレジスタ回路510から出
力されるタイミングパルスは、インバータ回路710お
よび711を介してサンプリング回路800のアナログ
スイッチ810に入力される。アナログスイッチ810
は、入力されるタイミングパルスに基づいて、外部から
入力されるビデオデータをサンプリングし(取り込
み)、ソース信号線811に出力する。
【0072】同様に、第2のレジスタ回路520から出
力されるタイミングパルスは、インバータ回路720お
よび721を介してサンプリング回路800のアナログ
スイッチ820に入力される。アナログスイッチ820
は、入力されるタイミングパルスに基づいて、外部から
入力されるビデオデータをサンプリングし(取り込
み)、ソース信号線821に出力する。
【0073】第3のレジスタ回路530、第4のレジス
タ回路540、および第5のレジスタ回路550から出
力されるタイミングパルスも、それぞれアナログスイッ
チ830、840、850に入力される。アナログスイ
ッチ830、840、850は、それぞれ、入力される
タイミングパルスに基づいて外部から入力されるビデオ
データをサンプリングし(取り込み)、それぞれソース
信号線831、841、851に出力する。
【0074】また、走査方向切替信号(L/R)に”1
(Hi)”が入力される場合は、スタートパルス(S
P)は第5のレジスタ回路に入力される。走査方向切替
信号(L/R)に”1(Hi)”が入力されるとアナロ
グスイッチSWLが動作し、第5のレジスタ回路550
から出力されるタイミングパルスがその左隣の次段の第
4のレジスタ回路540およびインバータ回路750へ
出力される。さらに、第4のレジスタ回路540から出
力されるタイミングパルスがその左隣の次段の第3のレ
ジスタ回路530およびインバータ回路740へ出力さ
れる。さらに、第3のレジスタ回路530から出力され
るタイミングパルスがその左隣の次段の第2のレジスタ
回路520およびインバータ回路730へ入力される。
さらに、第2のレジスタ回路520から出力されるタイ
ミングパルスがその左隣の次段の第1のレジスタ回路5
10およびインバータ回路720へ入力される。さら
に、第1のレジスタ回路510から出力されるタイミン
グパルスがインバータ回路710へ入力される。
【0075】このように、走査方向切替信号(L/R)
に”1(Hi)”が入力された場合は、次々と左隣のレ
ジスタ回路へ一定の間隔で発生したタイミングパルスが
出力されていくことになる。
【0076】なお、サンプリング回路800のアナログ
スイッチ810〜850の動作は上述した通りである。
【0077】ここで、以下に本発明のシフトレジスタ回
路の実施例について説明する。
【0078】
【実施例】
【0079】(実施例1)
【0080】図5を参照する。図5には、本発明のシフ
トレジスタ回路を用いたソースドライバおよびゲートド
ライバを有する液晶表示装置の例が示されている。
【0081】1000は本発明のシフトレジスタを用い
たソースドライバである。1100および1200は本
発明のシフトレジスタを用いたゲートドライバである。
1300は画素部であり、画素TFT1310、画素電
極(図示せず)および保持容量1330を有する画素が
マトリクス状に配置されている。1320は液晶であ
り、ソースドライバ1000、ゲートドライバ1100
および1200、ならびに画素部を構成する回路が形成
されたアクティブマトリクス基板と対向電極が形成され
た対向基板との間に挟まれている。また、対向電極はコ
モン電極(COM)に接続されている。
【0082】本実施例においては、画素部は、1280
×1024(横×縦)画素を有している。
【0083】図6を参照する。図6には、本実施例の液
晶表示装置のソースドライバ1000が示されている。
1010は本発明のシフトレジスタ回路であり、走査方
向切替回路を含んでいる。本実施例においては、シフト
レジスタ回路1010は、1280個のレジスタ回路を
有している。
【0084】1020はサンプリング回路であり、12
80個のアナログスイッチを有している。
【0085】次に図7を参照する。図7には、本実施例
の液晶表示装置のゲートドライバ1100が示されてい
る。1110は本発明のシフトレジスタ回路である。本
実施例においては、シフトレジスタ回路1110は、1
024個のレジスタ回路を有している。なお、ゲートド
ライバ1200は、ゲートドライバ1100と同様であ
る。
【0086】(実施例2)本実施例においては、本発明
の駆動回路を有する液晶表示装置の作製方法例を図8〜
図12を用いて説明する。本実施例の液晶表示装置にお
いては、画素部、ソースドライバ、ゲートドライバ等を
一つの基板上に一体形成される。なお、説明の便宜上、
画素TFTと本発明の駆動回路の一部を構成するNch
TFTとインバータ回路を構成するPchTFTおよび
NchTFTとが同一基板上に形成されることを示すも
のとする。
【0087】図8(A)において、基板6001には低
アルカリガラス基板や石英基板を用いることができる。
本実施例では低アルカリガラス基板を用いた。この場
合、ガラス歪み点よりも10〜20℃程度低い温度であ
らかじめ熱処理しておいても良い。この基板6001の
TFT形成表面には、基板6001からの不純物拡散を
防ぐために、酸化シリコン膜、窒化シリコン膜または酸
化窒化シリコン膜などの下地膜6002を形成する。例
えば、プラズマCVD法でSiH4、NH3、N2Oから
作製される酸化窒化シリコン膜を100nm、同様にS
iH4、N2Oから作製される酸化窒化シリコン膜を20
0nmの厚さに積層形成する。
【0088】次に、20〜150nm(好ましくは30
〜80nm)の厚さで非晶質構造を有する半導体膜60
03aを、プラズマCVD法やスパッタ法などの公知の
方法で形成する。本実施例では、プラズマCVD法で非
晶質シリコン膜を54nmの厚さに形成する。非晶質構
造を有する半導体膜としては、非晶質半導体膜や微結晶
半導体膜があり、非晶質シリコンゲルマニウム膜などの
非晶質構造を有する化合物半導体膜を適用しても良い。
また、下地膜6002と非晶質シリコン膜6003aと
は同じ成膜法で形成することが可能であるので、両者を
連続形成しても良い。その場合、下地膜を形成した後、
一旦大気雰囲気に晒すことがなくその表面の汚染を防ぐ
ことが可能となり、作製するTFTの特性バラツキやし
きい値電圧の変動を低減させることができる(図8
(A))。
【0089】そして、公知の結晶化技術を使用して非晶
質シリコン膜6003aから結晶質シリコン膜6003
bを形成する。例えば、レーザー結晶化法や熱結晶化法
(固相成長法)を適用すれば良いが、ここでは、特開平
7−130652号公報で開示された技術に従って、触
媒元素を用いる結晶化法で結晶質シリコン膜6003b
を形成した。結晶化の工程に先立って、非晶質シリコン
膜の含有水素量にもよるが、400〜500℃で1時間
程度の熱処理を行い、含有水素量を5atom%以下にして
から結晶化させることが望ましい。非晶質シリコン膜を
結晶化させると原子の再配列が起こり緻密化するので、
作製される結晶質シリコン膜の厚さは当初の非晶質シリ
コン膜の厚さ(本実施例では54nm)よりも1〜15
%程度減少する(図8(B))。
【0090】そして、結晶質シリコン膜6003bを島
状にパターンニングして、島状半導体層6004〜60
07を形成する。その後、プラズマCVD法またはスパ
ッタ法により50〜150nmの厚さの酸化シリコン膜
によるマスク層6008を形成する(図8(C))。本
実施例では、マスク層6008の厚さは130nmとす
る。
【0091】そしてレジストマスク6009を設け、n
チャネル型TFTを形成することとなる島状半導体層6
004〜6007の全面に1×1016〜5×1017atom
s/cm3程度の濃度でp型を付与する不純物元素としてボ
ロン(B)を添加する。このボロン(B)の添加は、し
きい値電圧を制御する目的でなされる。ボロン(B)の
添加はイオンドープ法で実施しても良いし、非晶質シリ
コン膜を成膜するときに同時に添加しておくこともでき
る。ここでのボロン(B)添加は必ずしも必要ではない
(図8(D))。
【0092】ドライバ等の駆動回路のnチャネル型TF
TのLDD領域を形成するために、n型を付与する不純
物元素を島状半導体層6010〜6012に選択的に添
加する。そのため、あらかじめレジストマスク6013
〜6016を形成する。n型を付与する不純物元素とし
ては、リン(P)や砒素(As)を用いれば良く、ここ
ではリン(P)を添加すべく、フォスフィン(PH3
を用いたイオンドープ法を適用した。形成された不純物
領域6017、6018のリン(P)濃度は2×1016
〜5×1019atoms/cm3の範囲とすれば良い。本明細書
中では、ここで形成された不純物領域6017〜601
9に含まれるn型を付与する不純物元素の濃度を
(n-)と表す。また、不純物領域6019は、画素部
の保持容量を形成するための半導体層であり、この領域
にも同じ濃度でリン(P)を添加する(図9(A))。
その後、レジストマスク6013〜6016を除去す
る。
【0093】次に、マスク層6008をフッ酸などによ
り除去した後、図8(D)と図9(A)で添加した不純
物元素を活性化させる工程を行う。活性化は、窒素雰囲
気中で500〜600℃で1〜4時間の熱処理や、レー
ザー活性化の方法により行うことができる。また、両者
を併用して行っても良い。本実施例では、レーザー活性
化の方法を用いる。レーザー光にはKrFエキシマレー
ザー光(波長248nm)を用いる。本実施例では、レ
ーザー光の形状を線状ビームに加工して用い、発振周波
数5〜50Hz、エネルギー密度100〜500mJ/
cm2として線状ビームのオーバーラップ割合を80〜
98%で走査することによって島状半導体層が形成され
た基板全面を処理する。尚、レーザー光の照射条件には
何ら限定される事項はなく適宣決定することができる。
【0094】そして、ゲート絶縁膜6020をプラズマ
CVD法またはスパッタ法を用いて10〜150nmの
厚さでシリコンを含む絶縁膜で形成する。例えば、12
0nmの厚さで酸化窒化シリコン膜を形成する。ゲート
絶縁膜には、他のシリコンを含む絶縁膜を単層または積
層構造として用いても良い(図9(B))。
【0095】次に、ゲート電極を形成するために第1の
導電層を成膜する。この第1の導電層は単層で形成して
も良いが、必要に応じて二層あるいは三層といった積層
構造としても良い。本実施例では、導電性の窒化物金属
膜から成る導電層(A)6021と金属膜から成る導電
層(B)6022とを積層させる。導電層(B)602
2はタンタル(Ta)、チタン(Ti)、モリブデン
(Mo)、タングステン(W)から選ばれた元素、また
は前記元素を主成分とする合金か、前記元素を組み合わ
せた合金膜(代表的にはMo−W合金膜またはMo−T
a合金膜)で形成すれば良く、導電層(A)6021は
窒化タンタル(TaN)、窒化タングステン(WN)、
窒化チタン(TiN)膜、窒化モリブデン(MoN)で
形成する。また、導電層(A)6021は代替材料とし
て、タングステンシリサイド、チタンシリサイド、モリ
ブデンシリサイドを適用しても良い。導電層(B)60
22は低抵抗化を図るために含有する不純物濃度を低減
させると良く、特に酸素濃度に関しては30ppm以下
とすると良かった。例えば、タングステン(W)は酸素
濃度を30ppm以下とすることで20μΩcm以下の
比抵抗値を実現することができる。
【0096】導電層(A)6021は10〜50nm
(好ましくは20〜30nm)とし、導電層(B)60
22は200〜400nm(好ましくは250〜350
nm)とすれば良い。本実施例では、導電層(A)60
21に50nmの厚さの窒化タンタル膜を、導電層
(B)6022には350nmのTa膜を用い、いずれ
もスパッタ法で形成する。このスパッタ法による成膜で
は、スパッタ用のガスのArに適量のXeやKrを加え
ておくと、形成する膜の内部応力を緩和して膜の剥離を
防止することができる。尚、図示しないが、導電層
(A)6021の下に2〜20nm程度の厚さでリン
(P)をドープしたシリコン膜を形成しておくことは有
効である。これにより、その上に形成される導電膜の密
着性向上と酸化防止を図ると同時に、導電層(A)また
は導電層(B)が微量に含有するアルカリ金属元素がゲ
ート絶縁膜6020に拡散するのを防ぐことができる
(図9(C))。
【0097】次に、レジストマスク6023〜6027
を形成し、導電層(A)6021と導電層(B)602
2とを一括でエッチングしてゲート電極6028〜60
31と容量配線6032を形成する。ゲート電極602
8〜6031と容量配線6032は、導電層(A)から
成る6028a〜6032aと、導電層(B)から成る
6028b〜6032bとが一体として形成されてい
る。この時、後にドライバ等の駆動回路を構成するTF
Tのゲート電極6028〜6030は不純物領域601
7、6018の一部と、ゲート絶縁膜6020を介して
重なるように形成する(図9(D))。
【0098】次いで、ドライバのPチャネル型TFTの
ソース領域およびドレイン領域を形成するために、P型
を付与する不純物元素を添加する工程を行う。ここで
は、ゲート電極6028をマスクとして、自己整合的に
不純物領域を形成する。このとき、Nチャネル型TFT
が形成される領域はレジストマスク6033で被覆して
おく。そして、ジボラン(B26)を用いたイオンドー
プ法で不純物領域6034を形成した。この領域のボロ
ン(B)濃度は3×1020〜3×1021atoms/cm3とな
るようにする。本明細書中では、ここで形成された不純
物領域6034に含まれるP型を付与する不純物元素の
濃度を(p++)と表す(図10(A))。
【0099】次に、Nチャネル型TFTにおいて、ソー
ス領域またはドレイン領域として機能する不純物領域の
形成を行った。レジストのマスク6035〜6037を
形成し、N型を付与する不純物元素が添加して不純物領
域6038〜6042を形成した。これは、フォスフィ
ン(PH3)を用いたイオンドープ法で行い、この領域
のリン(P)濃度を1×1020〜1×1021atoms/cm3
とした。本明細書中では、ここで形成された不純物領域
6038〜6042に含まれるN型を付与する不純物元
素の濃度を(n+)と表す(図10(B))。
【0100】不純物領域6038〜6042には、既に
前工程で添加されたリン(P)またはボロン(B)が含
まれているが、それに比して十分に高い濃度でリン
(P)が添加されるので、前工程で添加されたリン
(P)またはボロン(B)の影響は考えなくても良い。
また、不純物領域6038に添加されたリン(P)濃度
は図10(A)で添加されたボロン(B)濃度の1/2
〜1/3なのでp型の導電性が確保され、TFTの特性
に何ら影響を与えることはなかった。
【0101】そして、画素部のnチャネル型TFTのL
DD領域を形成するためのn型を付与する不純物添加の
工程を行った。ここではゲート電極6031をマスクと
して自己整合的にn型を付与する不純物元素をイオンド
ープ法で添加する。添加するリン(P)の濃度は1×1
16〜5×1018atoms/cm3であり、図9(A)および
図10(A)と図10(B)で添加する不純物元素の濃
度よりも低濃度で添加することで、実質的には不純物領
域6043、6044のみが形成される。本明細書中で
は、この不純物領域6043、6044に含まれるn型
を付与する不純物元素の濃度を(n--)と表す(図10
(C))。
【0102】ここで、ゲート電極のTaのピーリングを
防止するために層間膜としてSiON膜等を200nm
の厚さで形成しても良い。
【0103】その後、それぞれの濃度で添加されたn型
またはp型を付与する不純物元素を活性化するために熱
処理工程を行う。この工程はファーネスアニール法、レ
ーザーアニール法、またはラピッドサーマルアニール法
(RTA法)で行うことができる。ここではファーネス
アニール法で活性化工程を行った。熱処理は酸素濃度が
1ppm以下、好ましくは0.1ppm以下の窒素雰囲
気中で400〜800℃、代表的には500〜600℃
で行うものであり、本実施例では500℃で4時間の熱
処理を行った。また、基板6001に石英基板のような
耐熱性を有するものを使用した場合には、800℃で1
時間の熱処理としても良く、不純物元素の活性化と、該
不純物元素が添加された不純物領域とチャネル形成領域
との接合を良好に形成することができる。なお、上述の
ゲート電極のTaのピーリングを防止するための層間膜
を形成した場合には、この効果は得られない場合があ
る。
【0104】この熱処理において、ゲート電極6028
〜6031と容量配線6032形成する金属膜6028
b〜6032bは、表面から5〜80nmの厚さでその
表面に導電層(C)6028c〜6032cが形成され
る。例えば、導電層(B)6028b〜6032bがタ
ングステン(W)の場合には窒化タングステン(WN)
が形成され、タンタル(Ta)の場合には窒化タンタル
(TaN)を形成することができる。また、導電層
(C)6028c〜6032cは、窒素またはアンモニ
アなどを用いた窒素を含むプラズマ雰囲気にゲート電極
6028〜6031及び容量配線6032を晒しても同
様に形成することができる。さらに、3〜100%の水
素を含む雰囲気中で、300〜450℃で1〜12時間
の熱処理を行い、島状半導体層を水素化する工程を行っ
た。この工程は熱的に励起された水素により半導体層の
ダングリングボンドを終端する工程である。水素化の他
の手段として、プラズマ水素化(プラズマにより励起さ
れた水素を用いる)を行っても良い。
【0105】島状半導体層が、非晶質シリコン膜から触
媒元素を用いる結晶化の方法で作製された場合、島状半
導体層中には微量の触媒元素が残留する。勿論、そのよ
うな状態でもTFTを完成させることが可能であるが、
残留する触媒元素を少なくともチャネル形成領域から除
去する方がより好ましい。この触媒元素を除去する手段
の一つにリン(P)によるゲッタリング作用を利用する
手段がある。ゲッタリングに必要なリン(P)の濃度は
図10(B)で形成した不純物領域(n+)と同程度で
あり、ここで実施される活性化工程の熱処理により、n
チャネル型TFTおよびpチャネル型TFTのチャネル
形成領域から触媒元素をゲッタリングをすることができ
た(図10(D))。
【0106】第1の層間絶縁膜6045は500〜15
00nmの厚さで酸化シリコン膜または酸化窒化シリコ
ン膜で形成され、その後、それぞれの島状半導体層に形
成されたソース領域またはドレイン領域に達するコンタ
クトホールを形成し、ソース配線6046〜6049
と、ドレイン配線6050〜6053を形成する(図1
1(A))。図示していないが、本実施例ではこの電極
を、Ti膜を100nm、Tiを含むアルミニウム膜5
00nm、Ti膜150nmをスパッタ法で連続して形
成した3層構造の積層膜とする。
【0107】次に、パッシベーション膜6054とし
て、窒化シリコン膜、酸化シリコン膜、または窒化酸化
シリコン膜を50〜500nm(代表的には100〜3
00nm)の厚さで形成する。本実施例においては、パ
ッシベーション膜6054は窒化シリコン膜50nmと
酸化シリコン膜24.5nmとの積層膜とした。この状
態で水素化処理を行うとTFTの特性向上に対して好ま
しい結果が得られた。例えば、3〜100%の水素を含
む雰囲気中で、300〜450℃で1〜12時間の熱処
理を行うと良く、あるいはプラズマ水素化法を用いても
同様の効果が得られた。なお、ここで後に画素電極とド
レイン配線を接続するためのコンタクトホールを形成す
る位置において、パッシベーション膜6054に開口部
を形成しておいても良い(図11(A))。
【0108】その後、有機樹脂からなる第2層間絶縁膜
6055を1.0〜1.5μmの厚さに形成する。有機
樹脂としては、ポリイミド、アクリル、ポリアミド、ポ
リイミドアミド、BCB(ベンゾシクロブテン)等を使
用することができる。ここでは、基板に塗布後、熱重合
するタイプのアクリルを用い、250℃で焼成して形成
する(図11(B))。
【0109】本実施例ではブラックマトリクスは、Ti
膜を100nmに形成し、その後AlとTiの合金膜を
300nmに形成した積層構造とする。
【0110】その後、有機樹脂からなる第3層間絶縁膜
6059を1.0〜1.5μmの厚さに形成する。有機
樹脂としては、第2層間絶縁膜と同様の樹脂をもちいる
ことができる。ここでは、基板に塗布後、熱重合するタ
イプのポリイミドを用い、300℃で焼成して形成し
た。
【0111】そして、第2層間絶縁膜6055および第
3層間絶縁膜6059にドレイン配線6053に達する
コンタクトホールを形成し、画素電極6060を形成す
る。本発明の透過型液晶表示装置においては、画素電極
6060にはITO等の透明導伝膜を用いる。(図11
(B))。
【0112】こうして同一基板上に、駆動回路TFTと
画素部の画素TFTとを有した基板を完成させることが
できる。駆動回路にはpチャネル型TFT6101、第
1のnチャネル型TFT6102、第2のnチャネル型
TFT6103、画素部には画素TFT6104、保持
容量6105が形成されている(図12)。本明細書で
は便宜上このような基板をアクティブマトリクス基板と
呼んでいる。
【0113】次に、上記の工程によって作製されたアク
ティブマトリクス基板をもとに、透過型液晶表示装置を
作製する工程を説明する。
【0114】図12の状態のアクティブマトリクス基板
に配向膜6061を形成する。本実施例では、配向膜6
061にはポリイミドを用いた。次に、対向基板を用意
する。対向基板は、ガラス基板6062、透明導電膜か
らなる対向電極6063、配向膜6064とで構成され
る。
【0115】なお、本実施例では、配向膜には、液晶分
子が基板に対して平行に配向するようなポリイミド膜を
用いた。なお、配向膜形成後、ラビング処理を施すこと
により、液晶分子がある一定のプレチルト角を持って平
行配向するようにした。
【0116】次に、上記の工程を経たアクティブマトリ
クス基板と対向基板とを公知のセル組み工程によって、
シール材やスペーサ(共に図示せず)などを介して貼り
合わせる。その後、両基板の間に液晶6065を注入
し、封止剤(図示せず)によって完全に封止する。よっ
て、図12に示すような透過型液晶表示装置が完成す
る。
【0117】なお本実施例では、透過型液晶表示装置が
TN(ツイスト)モードによって表示を行うようにし
た。そのため、偏光板(図示せず)が透過型液晶表示装
置の上部に配置された。
【0118】駆動回路のpチャネル型TFT6101に
は、島状半導体層6004にチャネル形成領域806、
ソース領域807a、807b、ドレイン領域808
a,808bを有している。第1のnチャネル型TFT
6102には、島状半導体層6005にチャネル形成領
域809、ゲート電極6071と重なるLDD領域81
0(以降、このようなLDD領域をLovと記す)、ソー
ス領域811、ドレイン領域812を有している。この
Lov領域のチャネル長方向の長さは0.5〜3.0μ
m、好ましくは1.0〜1.5μmとした。第2のnチ
ャネル型TFT6103には、島状半導体層6006に
チャネル形成領域813、LDD領域814、815、
ソース領域816、ドレイン領域817を有している。
このLDD領域はLov領域とゲート電極6072と重な
らないLDD領域(以降、このようなLDD領域をLof
fと記す)とが形成され、このLoff領域のチャネル長方
向の長さは0.3〜2.0μm、好ましくは0.5〜
1.5μmである。画素TFT6104には、島状半導
体層6007にチャネル形成領域818、819、Lof
f領域820〜823、ソースまたはドレイン領域82
4〜826を有している。Loff領域のチャネル長方向
の長さは0.5〜3.0μm、好ましくは1.5〜2.
5μmである。また、画素TFT6104のチャネル形
成領域818、819と画素TFTのLDD領域である
Loff領域820〜823との間には、オフセット領域
(図示せず)が形成されている。さらに、容量配線60
74と、ゲート絶縁膜6020から成る絶縁膜と、画素
TFT6073のドレイン領域826に接続し、n型を
付与する不純物元素が添加された半導体層827とから
保持容量805が形成されている。図12では画素TF
T804をダブルゲート構造としたが、シングルゲート
構造でも良いし、複数のゲート電極を設けたマルチゲー
ト構造としても差し支えない。
【0119】以上の様に本実施例においては、画素TF
Tおよびドライバが要求する仕様に応じて各回路を構成
するTFTの構造を最適化し、液晶表示装置の動作性能
と信頼性を向上させることを可能とすることができる。
【0120】なお、本実施例においては透過型の液晶表
示装置について説明した。しかし、本発明の駆動回路を
用いることができる液晶表示装置は、これに限定される
わけではなく、反射型の液晶表示装置にも用いることが
できる。
【0121】(実施例3)
【0122】本実施例では、本発明の駆動回路を有する
液晶表示装置を逆スタガ型のTFTを用いて構成した例
を示す。
【0123】図13を参照する。図13には、本実施例
の液晶表示装置を構成する逆スタガ型のNチャネル型T
FTの断面図が示されている。なお、図13には、1つ
のNチャネル型TFTしか図示しないが、Pチャネル型
TFTとNチャネル型TFTとによってCMOS回路を
構成することもできるのは言うまでもない。また、同様
の構成により画素TFTを構成できることも言うまでも
ない。
【0124】図13(A)を参照する。4001は基板
であり、実施例2で説明したようなものが用いられる。
4002は酸化シリコン膜である。4003はゲート電
極である。4004はゲイト絶縁膜である。4005、
4006、4007および4008は、多結晶シリコン
膜から成る活性層である。この活性層の作製にあたって
は、実施例2で説明した非晶質シリコン膜の多結晶化と
同様の方法が用いられた。またレーザー光(好ましくは
線状レーザー光または面状レーザー光)によって、非晶
質シリコン膜を結晶化させる方法をとっても良い。な
お、4005はソース領域、4006はドレイン領域、
4007は低濃度不純物領域(LDD領域)、4008
はチャネル形成領域である。4009はチャネル保護膜
であり、4010は層間絶縁膜である。4011および
4012はそれぞれ、ソース電極、ドレイン電極であ
る。
【0125】次に、図13(B)を参照する。図13
(B)には図13(A)とは構成が異なる逆スタガ型の
TFTによって液晶表示装置が構成された場合について
説明する。
【0126】図13(B)においても、1つのNチャネ
ル型TFTしか図示しないが、上述のようにPチャネル
型TFTとNチャネル型TFTとによってCMOS回路
を構成することもできるのは言うまでもない。また、同
様の構成により画素TFTを構成できることも言うまで
もない。
【0127】4101は基板である。4102は酸化シ
リコン膜である。4103はゲイト電極である。410
4はベンゾジクロブテン(BCB)膜であり、その上面
が平坦化される。4105は窒化シリコン膜である。B
CB膜と窒化シリコン膜とでゲイト絶縁膜を構成する。
4106、4107、4108および4109は、多結
晶シリコン膜から成る活性層である。この活性層の作製
にあたっては、実施例2で説明した非晶質シリコン膜の
多結晶化と同様の方法が用いられた。またレーザー光
(好ましくは線状レーザー光または面状レーザー光)に
よって、非晶質シリコン膜を結晶化させる方法をとって
も良い。なお、4106はソース領域、4107はレイ
ン領域、4108は低濃度不純物領域(LDD領域)、
4109はチャネル形成領域である。4110はチャネ
ル保護膜であり、4111は層間絶縁膜である。411
2および4113はそれぞれ、ソース電極、ドレイン電
極である。
【0128】本実施例によると、BCB膜と窒化シリコ
ン膜とで構成されるゲイト絶縁膜が平坦化されているの
で、その上に成膜される非晶質シリコン膜も平坦なもの
になる。よって、非晶質シリコン膜を多結晶化する際
に、従来の逆スタガ型のTFTよりも均一な多結晶シリ
コン膜を得ることができる。
【0129】(実施例4)
【0130】上述の本発明の駆動回路を用いた液晶表示
装置にはネマチック液晶以外にも様々な液晶を用いるこ
とが可能である。例えば、1998, SID, "Characteristic
s and Driving Scheme of Polymer-Stabilized Monosta
ble FLCD Exhibiting Fast Response Time and High Co
ntrast Ratio with Gray-Scale Capability" by H. Fur
ue et al.や、1997, SID DIGEST, 841, "A Full-Color
Thresholdless Antiferroelectric LCD Exhibiting Wid
e Viewing Angle with Fast Response Time" by T. Yos
hida et al.や、1996, J. Mater. Chem. 6(4), 671-67
3, "Thresholdless antiferroelectricity in liquid c
rystals and its application to displays" by S. Inu
i et al.や、米国特許第5594569 号に開示された液晶を
用いることが可能である。
【0131】ある温度域において反強誘電相を示す液晶
を反強誘電性液晶という。反強誘電性液晶を有する混合
液晶には、電場に対して透過率が連続的に変化する電気
光学応答特性を示す、無しきい値反強誘電性混合液晶と
呼ばれるものがある。この無しきい値反強誘電性混合液
晶は、いわゆるV字型の電気光学応答特性を示すものが
あり、その駆動電圧が約±2.5V程度(セル厚約1μ
m〜2μm)のものも見出されている。
【0132】ここで、いわゆるV字型の電気光学応答を
示す無しきい値反強誘電性混合液晶の印加電圧に対する
光透過率の特性を示す例を図16に示す。図16に示す
グラフの縦軸は透過率(任意単位)、横軸は印加電圧で
ある。なお、液晶表示装置の入射側の偏光板の透過軸
は、液晶表示装置のラビング方向にほぼ一致する無しき
い値反強誘電性混合液晶のスメクティック層の法線方向
とほぼ平行に設定されている。また、出射側の偏光板の
透過軸は、入射側の偏光板の透過軸に対してほぼ直角
(クロスニコル)に設定されている。
【0133】図14に示されるように、このような無し
きい値反強誘電性混合液晶を用いると、低電圧駆動かつ
階調表示が可能となることがわかる。
【0134】また、このような低電圧駆動の無しきい値
反強誘電性混合液晶を本発明の駆動回路を有する液晶表
示装置に用いた場合にも、D/A変換回路の出力電圧を
下げることができるので、D/A変換回路の動作電源電
圧を下げることができ、ドライバの動作電源電圧を低く
することができる。よって、液晶表示装置の低消費電力
化および高信頼性が実現できる。
【0135】よって、このような低電圧駆動の無しきい
値反強誘電性混合液晶を用いることは、比較的LDD領
域(低濃度不純物領域)の幅が小さなTFT(例えば、
0nm〜500nmまたは0nm〜200nm)を用い
る場合においても有効である。
【0136】また、一般に、無しきい値反強誘電性混合
液晶は自発分極が大きく、液晶自体の誘電率が高い。こ
のため、無しきい値反強誘電性混合液晶を液晶表示装置
に用いる場合には、画素に比較的大きな保持容量が必要
となってくる。よって、自発分極が小さな無しきい値反
強誘電性混合液晶を用いるのが好ましい。
【0137】なお、このような無しきい値反強誘電性混
合液晶を用いることによって低電圧駆動が実現されるの
で、液晶表示装置の低消費電力が実現される。
【0138】なお、図14に示すような電気光学特性を
有する液晶であれば、いかなるものも本発明の駆動回路
を用いた液晶表示装置の表示媒体として用いることがで
きる。
【0139】(実施例5)
【0140】本発明の駆動回路を有する液晶表示装置
は、様々な電子機器に組み込んで用いることができる。
【0141】その様な電子機器としては、ビデオカメ
ラ、デジタルカメラ、プロジェクター(リア型またはフ
ロント型)、ヘッドマウントディスプレイ(ゴーグル型
ディスプレイ)、ゲーム機、カーナビゲーション、パー
ソナルコンピュータ、携帯情報端末(モバイルコンピュ
ータ、携帯電話または電子書籍等)などが挙げられる。
それらの一例を図15および図16に示す。
【0142】図15(A)はフロント型プロジェクタ−
であり、本体10001、本発明の駆動回路を用いた液
晶表示装置10002、光源10003、光学系100
04、スクリーン10005で構成されている。なお、
図15(A)には、液晶表示装置を1つ組み込んだフロ
ントプロジェクターが示されているが、液晶表示装置を
3個(R、G、Bの光にそれぞれ対応させる)組み込ん
ことによって、より高解像度・高精細のフロント型プロ
ジェクタを実現することができる。
【0143】図15(B)はリア型プロジェクターであ
り、10006は本体、10007は本発明の駆動回路
を用いた液晶表示装置であり、10008は光源であ
り、10009はリフレクター、10010はスクリー
ンである。なお、図15(B)には、液晶表示装置を3
個(R、G、Bの光にそれぞれ対応させる)組み込んだ
リア型プロジェクタが示されている。また、本発明の駆
動回路を有する液晶表示装置を1個組み込んだリア型プ
ロジェクタも提供することができる。
【0144】図16(A)はパーソナルコンピュータで
あり、本体7001、映像入力部7002、本発明の駆
動回路を用いた液晶表示装置7003、キーボード70
04で構成される。
【0145】図16(B)はビデオカメラであり、本体
7101、本発明の駆動回路を用いた液晶表示装置71
02、音声入力部7103、操作スイッチ7104、バ
ッテリー7105、受像部7106で構成される。
【0146】図16(C)はモバイルコンピュータ(モ
ービルコンピュータ)であり、本体7201、カメラ部
7202、受像部7203、操作スイッチ7204、本
発明の駆動回路を用いた液晶表示装置7205で構成さ
れる。
【0147】図16(D)はゴーグル型ディスプレイで
あり、本体7301、本発明の駆動回路を用いた液晶表
示装置7302、アーム部7303で構成される。
【0148】図16(E)はプログラムを記録した記録
媒体(以下、記録媒体と呼ぶ)を用いるプレーヤーであ
り、本体7401、本発明の駆動回路を用いた液晶表示
装置7402、スピーカ部7403、記録媒体740
4、操作スイッチ7405で構成される。なお、この装
置は記録媒体としてDVD(Digital Vers
atile Disc)、CD等を用い、音楽鑑賞や映
画鑑賞やゲームやインターネットを行うことができる。
【0149】図16(F)はゲーム機であり、本体75
01、本発明の駆動回路を用いた液晶表示装置750
2、表示装置7503、記録媒体7504、コントロー
ラ7505、本体用センサ部7506、センサ部750
7、CPU部7508で構成される。本体用センサ部7
506、センサ部7507はそれぞれコントローラ75
05、本体7501から出される赤外線を感知すること
が可能である。
【0150】以上の様に、本発明の駆動回路を用いた液
晶表示装置表示装置の適用範囲は極めて広く、あらゆる
分野の電子機器に適用できる。
【0151】
【発明の効果】
【0152】本発明の駆動回路は、従来の駆動回路より
も構成が簡略化されており、素子数が半分以下で済むこ
とになる。よって、本発明の駆動回路を用いた液晶表示
装置は、製造歩留まりが向上し、かつ小型化が実現でき
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明のシフトレジスタ回路の回路構成図で
ある。
【図2】 本発明のシフトレジスタを有する駆動回路の
回路構成図である。
【図3】 本発明のシフトレジスタを有する駆動回路の
アナログスイッチの回路構成図である。
【図4】 本発明のシフトレジスタを有する駆動回路の
回路構成図である。
【図5】 実施例1の液晶表示装置の回路構成図であ
る。
【図6】 実施例1の本発明のシフトレジスタを用いた
駆動回路の回路構成図である。
【図7】 実施例1の本発明のシフトレジスタを用いた
駆動回路の回路構成図である。
【図8】 本発明の駆動回路を用いた液晶表示装置の作
製工程例を示す図である。
【図9】 本発明の駆動回路を用いた液晶表示装置の作
製工程例を示す図である。
【図10】 本発明の駆動回路を用いた液晶表示装置の
作製工程例を示す図である。
【図11】 本発明の駆動回路を用いた液晶表示装置の
作製工程例を示す図である。
【図12】 本発明の駆動回路を用いた液晶表示装置の
作製工程例を示す図である。
【図13】 本発明の駆動回路を用いた液晶表示装置の
断面図である。
【図14】 V字型の電気光学特性を示す反強誘電性液
晶の印加電圧−透過率特性を示すグラフである。
【図15】 本発明の駆動回路を用いた液晶表示装置を
組み込んだ電子機器の例である。
【図16】 本発明の駆動回路を用いた液晶表示装置を
組み込んだ電子機器の例である。
【図17】 従来の駆動回路の回路構成図である。
【図18】 本発明のシフトレジスタを有する駆動回路
の回路構成図である。
【図19】 本発明のシフトレジスタを有する駆動回路
の回路構成図である。
【符号の説明】 100 シフトレジスタ回路 110、120、130、140、150 レジスタ回
路 111、121、131、141、151 クロックド
インバータ回路 112、122、132、142、152 インバータ
回路 113、123、133、143、153 信号線
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G09G 3/20 623 G09G 3/20 623H 680 680A 680C 680V 3/36 3/36 G11C 19/28 G11C 19/28 Z

Claims (21)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】直列に接続されたクロックドインバータ回
    路およびインバータ回路ならびに信号線を有する複数の
    レジスタ回路を有するシフトレジスタ回路であって、 前記レジスタ回路の前記クロックドインバータ回路およ
    び前記インバータ回路は、外部から入力される、クロッ
    ク信号、クロックバック信号、およびスタートパルスに
    基づいてタイミングパルスを発生させ、前記レジスタ回
    路に隣接するレジスタ回路および前記レジスタ回路の信
    号線に前記タイミングパルスを出力することを特徴とす
    るシフトレジスタ回路。
  2. 【請求項2】直列に接続されたクロックドインバータ回
    路およびインバータ回路ならびに信号線を有する第1、
    第2、・・・、第(n−1)、および第nのレジスタ回
    路を有するシフトレジスタ回路であって(nは自然
    数)、 前記第(n−1)のレジスタ回路の信号線から出力され
    るタイミングパルスは、前記第nのレジスタ回路に入力
    されることを特徴とするシフトレジスタ回路。
  3. 【請求項3】直列に接続されたクロックドインバータ回
    路およびインバータ回路を有する第1、第2、・・・、
    第(n−1)、および第nのレジスタ回路を有するシフ
    トレジスタ回路であって(nは自然数)、 前記第1、前記第2、・・・、前記第(n−1)、およ
    び前記第nのレジスタ回路の前記クロックドインバータ
    回路および前記インバータ回路は、外部から入力され
    る、クロック信号、クロックバック信号、およびスター
    トパルスに基づいてタイミングパルスを発生させ、 前記第(n−1)のレジスタ回路は、前記第nのレジス
    タ回路および前記(n−1)のレジスタ回路の信号線に
    前記タイミングパルスを出力することを特徴とするシフ
    トレジスタ回路。
  4. 【請求項4】直列に接続されたクロックドインバータ回
    路およびインバータ回路を有する複数のレジスタ回路を
    有するシフトレジスタ回路と、 複数のアナログスイッチを有するサンプリング回路と、
    を有する表示装置の駆動回路であって、 前記レジスタ回路の前記クロックドインバータ回路およ
    び前記インバータ回路は、外部から入力される、クロッ
    ク信号、クロックバック信号、およびスタートパルスに
    基づいてタイミングパルスを発生させ、前記アナログス
    イッチと前記レジスタ回路に隣接するレジスタ回路とに
    前記タイミングパルスを出力することを特徴とする表示
    装置の駆動回路。
  5. 【請求項5】直列に接続されたクロックドインバータ回
    路およびインバータ回路を有する第1、第2、・・・、
    第(n−1)、および第nのレジスタ回路を有するシフ
    トレジスタ回路と(nは自然数)、 第1、第2、・・・、第(n−1)、および第nのアナ
    ログスイッチを有するサンプリング回路と、を有する表
    示装置の駆動回路であって、 前記第(n−1)のレジスタ回路から出力されるタイミ
    ングパルスは、前記第(n−1)のアナログスイッチと
    前記第nのレジスタ回路とに入力され、 前記アナログスイッチは、入力される前記タイミングパ
    ルスに基づき、外部から入力されるビデオデータをサン
    プリングすることを特徴とする表示装置の駆動回路。
  6. 【請求項6】直列に接続されたクロックドインバータ回
    路およびインバータ回路を有する第1、第2、・・・、
    第(n−1)、および第nのレジスタ回路を有するシフ
    トレジスタ回路と(nは自然数)、 第1、第2、・・・、第(n−1)、および第nのアナ
    ログスイッチを有するサンプリング回路と、を有する表
    示装置の駆動回路であって、 前記第1、前記第2、・・・、前記第(n−1)、およ
    び前記第nのレジスタ回路の前記クロックドインバータ
    回路および前記インバータ回路は、外部から入力され
    る、クロック信号、クロックバック信号、およびスター
    トパルスに基づいてタイミングパルスを発生させ、 前記第(n−1)のレジスタ回路は、前記第(n−1)
    のアナログスイッチと前記第nのレジスタ回路とに前記
    タイミングパルスを出力し、 前記アナログスイッチは、入力される前記タイミングパ
    ルスに基づき、外部から入力されるビデオデータをサン
    プリングすることを特徴とする表示装置の駆動回路。
  7. 【請求項7】直列に接続されたクロックドインバータ回
    路およびインバータ回路を有する第1、第2、・・・、
    第(n−1)、および第nのレジスタ回路を有するシフ
    トレジスタ回路と(nは自然数)、 2つのアナログスイッチを有する第1、第2、・・・、
    第(n−1)、および第nの切替回路を有する走査方向
    切替回路と、を有する表示装置の駆動回路であって、 前記第(n−1)のレジスタ回路から出力されるタイミ
    ングパルスは、前記第(n−1)の切替回路に入力さ
    れ、 前記第(n−1)の切替回路は、外部から入力される走
    査方向切替信号に基づいて前記タイミングパルスを前記
    第(n−2)または前記第nのレジスタ回路に出力する
    ことを特徴とする表示装置の駆動回路。
  8. 【請求項8】直列に接続されたクロックドインバータ回
    路およびインバータ回路を有する第1、第2、・・・、
    第(n−1)、第nのレジスタ回路を有するシフトレジ
    スタ回路と(nは自然数)、 2つのアナログスイッチを有する第1、第2、・・・、
    第(n−1)、および第nの切替回路を有する走査方向
    切替回路と、を有する表示装置の駆動回路であって、 前記第1、前記第2、・・・、前記第(n−1)、およ
    び前記第nのレジスタ回路の前記クロックドインバータ
    回路および前記インバータ回路は、外部から入力され
    る、クロック信号、クロックバック信号、およびスター
    トパルスに基づいてタイミングパルスを発生させ、 前記第(n−1)のレジスタ回路から出力されるタイミ
    ングパルスは、前記第(n−1)の切替回路に入力さ
    れ、 前記第(n−1)の切替回路は、外部から入力される走
    査方向切替信号に基づいて前記タイミングパルスを前記
    第(n−2)または前記第nのレジスタ回路に出力する
    ことを特徴とする表示装置の駆動回路。
  9. 【請求項9】直列に接続されたクロックドインバータ回
    路およびインバータ回路を有する第1、第2、・・・、
    第(n−1)、および第nのレジスタ回路を有するシフ
    トレジスタ回路と(nは自然数)、 2つのアナログスイッチを有する第1、第2、・・・、
    第(n−1)、および第nの切替回路を有する走査方向
    切替回路と、 第1、第2、・・・、第(n−1)、および第nのアナ
    ログスイッチを有するサンプリング回路と、を有する表
    示装置の駆動回路であって、 前記第(n−1)のレジスタ回路から出力されるタイミ
    ングパルスは、前記第(n−1)の切替回路に入力さ
    れ、 前記第(n−1)の切替回路は、外部から入力される走
    査方向切替信号に基づいて前記タイミングパルスを前記
    第(n−2)または前記第nのレジスタ回路、および前
    記第(n−1)のアナログスイッチに出力し、 前記アナログスイッチは、入力される前記タイミングパ
    ルスに基づき、外部から入力されるビデオデータをサン
    プリングすることを特徴とする表示装置の駆動回路。
  10. 【請求項10】直列に接続されたクロックドインバータ
    回路およびインバータ回路を有する第1、第2、・・
    ・、第(n−1)、第nのレジスタ回路を有するシフト
    レジスタ回路と(nは自然数)、 2つのアナログスイッチを有する第1、第2、・・・、
    第(n−1)、および第nの切替回路を有する走査方向
    切替回路と、 第1、第2、・・・、第(n−1)、および第nのアナ
    ログスイッチを有するサンプリング回路と、を有する表
    示装置の駆動回路であって、 前記第1、前記第2、・・・、前記第(n−1)、およ
    び前記第nのレジスタ回路の前記クロックドインバータ
    回路および前記インバータ回路は、外部から入力され
    る、クロック信号、クロックバック信号、およびスター
    トパルスに基づいてタイミングパルスを発生させ、 前記第(n−1)のレジスタ回路から出力されるタイミ
    ングパルスは、前記第(n−1)の切替回路に入力さ
    れ、 前記第(n−1)の切替回路は、外部から入力される走
    査方向切替信号に基づいて前記タイミングパルスを前記
    第(n−2)または前記第nのレジスタ回路、および前
    記第(n−1)のアナログスイッチに出力し、 前記アナログスイッチは、入力される前記タイミングパ
    ルスに基づき、外部から入力されるビデオデータをサン
    プリングすることを特徴とする表示装置の駆動回路。
  11. 【請求項11】請求項1乃至11のいずれか一に記載の
    前記シフトレジスタ回路を有する表示装置。
  12. 【請求項12】請求項1乃至11のいずれか一に記載の
    前記駆動回路を有する表示装置。
  13. 【請求項13】請求項11または12に記載の表示装置
    を3個用いたことを特徴とするリアプロジェクター。
  14. 【請求項14】請求項11または12に記載の表示装置
    を3個用いたことを特徴とするフロントプロジェクタ
    ー。
  15. 【請求項15】請求項11または12に記載の表示装置
    を1個用いたことを特徴とするリアプロジェクター。
  16. 【請求項16】請求項11または12に記載の表示装置
    をを1個用いたことを特徴とするフロントプロジェクタ
    ー。
  17. 【請求項17】請求項11または12に記載の表示装置
    を用いたことを特徴とするヘッドマウントディスプレ
    イ。
  18. 【請求項18】請求項11または12に記載の表示装置
    を用いたことを特徴とするコンピュータ。
  19. 【請求項19】請求項11または12に記載の表示装置
    を用いたことを特徴とするビデオカメラ。
  20. 【請求項20】請求項11または12に記載の表示装置
    を用いたことを特徴とするDVDプレーヤー。
  21. 【請求項21】請求項11または12に記載の表示装置
    を用いたことを特徴とするゲーム機。
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