JP2001142230A - 平版印刷版の製版方法、加熱装置、及び記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 架橋層を備えたＰＳ版における露光後の加熱
時の温度条件をＰＳ版の厚みやサイズ、版種等に応じて
常に適切に設定でき、操作ミス等により設定した温度条
件が異なることによる損失が生じる恐れがなく、処理効
率も向上できる平版印刷版の製版方法、加熱装置、及び
記録媒体を得る。 【解決手段】 加熱装置１５の加熱制御部３８が、プレ
ートセッター１４に入力された各種設定情報をオンライ
ンで取得し、該取得した各種設定情報に基いて、ＰＳ版
の版種、版厚、及び版サイズの組合せに応じた標準の加
熱容量のテーブルから標準の加熱容量を決定し、更に、
プレートセッターの露光領域内の温度を検出する温度検
出センサから入力された温度信号Ｖｔに基いて、前記決
定した標準の加熱容量を補正し、該補正した加熱容量と
なるように加熱装置１５の加熱手段３４(ヒータ)及び搬
送機構を制御する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、平版印刷版の製版
方法、加熱装置、及び記録媒体にかかり、特に、赤外線
波長域に感応性を有する感光層を有し、コンピュータ等
のデジタル信号から赤外線レーザを用いて直接製版でき
る、いわゆるダイレクト製版可能な平版印刷版の製版方
法、加熱装置、及び記録媒体に関する。

【０００２】

【従来の技術】感光性平版印刷版（以下、「ＰＳ版」と
称す。）の１つとして、例えば、Ａｌなどの材料からな
る支持体上に、熱により分解して酸を発生する化合物
（以下、酸発生剤と称す。）と、発生した酸により架橋
する化合物（以下、架橋剤と称す。）とを含み、架橋剤
の架橋によってその領域のアルカリ可溶性が低下する架
橋層を含む感光層を備えたＰＳ版がある。

【０００３】このＰＳ版は、赤外線レーザによる赤外露
光によって露光領域の酸発生剤が熱分解されて酸が発生
され、この酸と露光後に施される加熱により架橋剤が架
橋反応を起こして露光領域の架橋層がアルカリに対する
可溶性が低下してアルカリ現像処理により除去されずに
版を形成する。なお、より効率よく露光を行うために、
赤外線を吸収して発熱する赤外線吸収剤を含む架橋層を
有するものが一般的に用いられている。

【０００４】近年、赤外線レーザは、高出力かつ小型の
ものが容易に入手できるため、コンピュータのデジタル
データから直接製版するシステムの記録光源として注目
されており、赤外線露光により画像を形成する架橋層を
備えたＰＳ版の重要度が増してきている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、ＰＳ版
は、感光層の支持体としてＡｌなどの熱伝導率の良い材
料を用いているため、露光後の加熱時に熱が感光層から
支持体に逃げ易い。特に、架橋層を備えたＰＳ版におい
ては、架橋反応促進のために露光後の露光領域に与えら
れるべき熱が支持体に逃げてしまうので、露光領域の架
橋反応が充分に促進されず、良好な版が得られないため
に問題である。

【０００６】また、予め支持体に逃げてしまう熱量を予
測してＰＳ版を余計に加熱することも考えられるが、必
要以上に加熱を行うと、露光領域だけでなく、非露光領
域の酸発生剤が熱により分解して酸を発生し、該発生し
た酸と加熱による熱により架橋剤が架橋反応を起こし
て、その部分がアルカリに対する可溶性が低下する、い
わゆる、熱かぶりを生じる、という問題もある。

【０００７】したがって、架橋層を備えたＰＳ版におい
ては、特にＰＳ版の厚みやサイズ、版種等に応じて露光
後の加熱の温度条件を適切に調節する必要がある。しか
しながら、従来では、ＰＳ版の厚みやサイズ、版種等の
条件を手動で加熱装置に入力することが一般的であるた
め、変更のし忘れや入力ミスなどの操作ミスが生じるこ
とは避けられず、１回でも操作ミスがあると露光後の加
熱の温度条件が変わってしまい、良好な版が得られな
い、という問題がある。この場合、ＰＳ版を廃棄して新
たに露光処理からしなおさねばならないため、多大な損
失が出てしまうという問題もある。

【０００８】以上のことから本発明では、架橋層を備え
たＰＳ版における露光後の加熱時の温度条件をＰＳ版の
厚みやサイズ、版種等に応じて常に適切に設定でき、操
作ミス等により設定した温度条件が異なることによる損
失が生じる恐れがなく、処理効率も向上できる平版印刷
版の製版方法、加熱装置、及び記録媒体を得ることを目
的とする。

【０００９】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に請求項１に記載の発明の平版印刷版の製版方法は、熱
により分解して酸を発生する化合物と、酸及び熱により
架橋する化合物とを含有し、架橋によりアルカリ可溶性
が低下する架橋層を含む感光層を備えた平版印刷版を画
像データに基いて赤外光により露光する露光工程と、該
露光工程の前又は後に、前段の工程で使用した版情報に
基づき、前記露光工程で露光された露光済み平版印刷版
を加熱する際の加熱条件を決定する加熱条件決定工程
と、該加熱条件決定工程で決定された加熱条件となるよ
うに、前記露光済み平版印刷版を加熱する工程と、前記
加熱工程で加熱された平版印刷版を現像槽内に導いて現
像する現像工程と、を含んでいる。

【００１０】すなわち、請求項１の発明の平版印刷版の
製版方法では、露光工程により露光処理済みの架橋層を
含む感光層を備えた平版印刷版の現像を行う前に、露光
工程の前又は後に前段に設けられた装置に入力した版情
報に基づいて加熱条件を決定（加熱条件決定工程）し、
該決定した加熱条件により前記平版印刷版を加熱（加熱
工程）する。その後、現像する（現像工程）ことにより
製版を得る。

【００１１】版情報は、版の厚みや、版サイズ、及び版
種の少なくとも１つを含んでおり、請求項１の発明で
は、このような版情報をユーザが手動で入力するのでは
なく、前段の装置において前記平版印刷版に処理を施す
ために必要な情報としてインプットされた版情報に基づ
いて加熱条件を決定しているので、変更のし忘れや入力
ミスなどの操作ミスが生じることなく、加熱対象となる
架橋層を含む感光層を備えた平版印刷版に対して常に最
適な加熱条件で確実に加熱できる。

【００１２】版種としては、例えば、新聞用ＰＳ版、高
耐刷用ＰＳ版及び高画質用ＰＳ版等があり、版厚として
は、例えば、０．１２ｍｍ、０．１５ｍｍ、０．２ｍ
ｍ、０．２４ｍｍ、０．３ｍｍ、０．４ｍｍ等の種類が
あり、版サイズとしては、小版が、例えば、２５４ｍｍ
×３９１ｍｍ、中版が、例えば、縦×横が６５０ｍｍ×
５５０ｍｍ、大版が、例えば、縦×横が１０３０ｍｍ×
８００ｍｍや１１３０ｍｍ×９３０ｍｍ等がある。

【００１３】また、版サイズと厚さとの代表的なものと
しては、版サイズが２５４ｍｍ×３９１ｍｍで厚さ０．
１２ｍｍの平板印刷板や、版サイズが６５０ｍｍ×５５
０ｍｍで厚さ０．２４ｍｍの平板印刷板や、版サイズが
１０３０ｍｍ×８００ｍｍ又は１１３０ｍｍ×９３０ｍ
ｍで厚さ０．３ｍｍの平板印刷板等である。勿論これら
の版サイズ、厚さに限るものではない。

【００１４】版情報として平版印刷版の厚さが入力され
ている場合、平版印刷版の厚さが厚いと支持体であるア
ルミ板の厚さも厚くなるので加熱手段から平版印刷版に
付与される加熱容量が大きくなるように制御する。ま
た、平版印刷版の厚さが薄いと支持体であるアルミ板の
厚さも薄くなるので、アルミ板の厚さが厚い場合と比較
して熱容量が小さくなるため、加熱手段から平版印刷版
に付与される加熱容量が平版印刷版の厚さが厚い場合よ
りも小さくなるように制御する。これにより、平版印刷
版の表面温度が厚さに関わりなく均一化できる。なお、
加熱容量は、予め定められた加熱温度と加熱時間との関
係により決定される値である。

【００１５】また、版情報として版サイズが入力されて
いる場合、幅が大きく、かつ、長さが長いサイズ（以
下、Ｌサイズと称す。）の平版印刷版であれば、アルミ
板の面積が大きくなるので熱容量が大きく、加熱手段か
ら平版印刷版に付与される加熱容量が大きくなるように
制御し、幅が小さく、かつ、長さが短いサイズ（以下、
Ｓサイズと称す。）の平版印刷版であれば、熱容量は小
さいので、Ｌサイズの平版印刷版と比較して平版印刷版
に付与される加熱容量が小さくなるように制御する。

【００１６】さらに、版情報として版種が入力されてい
る場合、例えば、版種が新聞用ＰＳ版である場合は、加
熱温度を高くして加熱時間を短くなるように加熱条件を
決定して、耐刷性を向上させるために充分に大きな加熱
容量が与えられるように制御する。また、版種が高耐刷
用ＰＳ版である場合、耐刷性を向上させるために充分な
加熱が必要であるが、加熱温度を高くすると、熱かぶり
が生じる恐れがあるため、加熱温度をそれほど高くせず
に加熱時間を長くして必要な加熱容量を確保するように
加熱条件を決定して、耐刷性を向上させるために充分に
大きな加熱容量が与えられるように制御する。

【００１７】例えば、版種Ａでは、必要な加熱容量が１
２０℃以上１５０℃以下で６０秒以上２分以下とする
と、実際に必要な最低熱量は１２０℃で２分又は１５０
℃で６０秒となる。上述したように、加熱温度を高くす
ると、熱かぶりが生じる恐れがあるため、特に加熱温度
が高めにならないように調整する必要がある場合は１２
０℃で２分とし、加熱温度が高めになってもよい場合
は、１５０℃で６０秒とする。

【００１８】なお、熱かぶりが生じる上限の温度は、版
種によりばらつきがあるが、一般には１６０℃程度であ
る。また、版が良好に形成される最低の温度は、版種に
よりばらつきがあるが、一般には１００℃程度である。
そのため、１００℃以上１６０℃以下の加熱温度で、１
５秒以上２分以下の加熱時間が、適正範囲であり、より
好ましくは１３０℃以上１６０℃以下程度で、３０秒以
上９０秒以下である。勿論、版種の種類によってそれぞ
れ適正な温度範囲があるので上記値に限定するものでは
ない。

【００１９】さらに、版種が高画質用ＰＳ版である場
合、中程度の加熱容量となるように加熱温度及び加熱時
間を決定して、全面に均一に加熱されるようにすること
で網点品質を揃えるように制御する。なお、版種として
は、上記で述べた新聞用ＰＳ版、高耐刷用ＰＳ版及び高
画質用ＰＳ版等の他に種々のものがあるが、それぞれに
最適な加熱条件となるように制御される。

【００２０】更に、平板印刷板の厚さと版サイズ、版種
の全ての情報が版情報として入力されている場合には、
それぞれの厚さと版サイズ、版種の組合せに応じて最適
となるように決定される加熱条件とする。例えば、版情
報として、平板印刷板の厚さ、版サイズ及び版種が入力
されている場合の代表的な例について簡単に説明する。

【００２１】例えば、版厚が０．４ｍｍで、版サイズが
１１３０ｍｍ×９３０ｍｍの大判高耐刷用ＰＳ版の場
合、架橋度（硬化率）を高めるため、加熱容量が最大と
なるように加熱条件を決定する。また、例えば、版厚が
０．２４ｍｍで、版サイズが６５０ｍｍ×５５０ｍｍの
中判高耐刷用ＰＳ版の場合、画質重視のため均一に加熱
し、網点品質をそろえるため、加熱容量が中程度となる
ように加熱条件を決定する。さらに、例えば、線画のも
のであまり耐刷を必要としないＰＳ版（高耐刷用又は高
画質用の版種でユーザが高耐刷不要と判断したＰＳ版）
や、版厚が０．１２ｍｍで、版サイズが２５４ｍｍ×３
９１ｍｍの小判高耐刷用ＰＳ版の場合、加熱容量が最小
（加熱しない場合も含む）となるように加熱条件を決定
する。

【００２２】また、請求項２に記載した発明は、上記請
求項１に記載の平版印刷版の製版方法における加熱条件
決定工程及び加熱工程を実現する加熱装置であり、熱に
より分解して酸を発生する化合物と、酸及び熱により架
橋する化合物とを含有し、架橋によりアルカリ可溶性が
低下する架橋層を含む感光層を備えた赤外露光処理済み
平版印刷版の現像を行う前に、前記平版印刷版を加熱す
る加熱手段と、前記加熱手段により前記露光処理済みの
平版印刷版を加熱するときに、前段に設けられた装置か
ら入力された版情報に基づいて加熱条件を決定し、該決
定した加熱条件となるように前記加熱手段を制御する加
熱制御手段と、を備えている。

【００２３】すなわち、請求項２の発明では、加熱装置
の加熱制御手段が前段に設けられた装置から入力された
版情報に基づいて前記露光処理済みの平版印刷版に与え
る加熱条件を決定し、該決定された加熱条件で加熱手段
が前記平版印刷版を加熱するため、実際に加熱対象とな
る平板印刷板の版の厚み、版サイズ、及び版種に合わせ
て適切な加熱条件にすることができ、また、変更のし忘
れや入力ミスなどの操作ミスが生じることなく加熱処理
を施すことができる。

【００２４】また、前段の装置に版情報が入力されて、
前段の装置が処理を開始する前の時点で加熱制御手段が
前記版情報を取得し、前記平版印刷版に最適な加熱条件
を決定するように構成することもでき、このような構成
とすることで、現在加熱している版の加熱処理が終了
後、直ちに次に処理する版に適した加熱条件となるよう
に加熱装置の加熱条件を変更できるので、次の加熱条件
となるまでの時間を短縮でき、処理効率を向上できる。
これは、特に、異なる種類の版が次にセットされ加熱条
件が大幅に変更される場合に有利である。

【００２５】このような加熱分布の制御は、請求項３に
記載したように、熱により分解して酸を発生する化合物
と、酸及び熱により架橋する化合物とを含有し、架橋に
よりアルカリ可溶性が低下する架橋層を含む感光層を備
えた赤外露光処理済み平版印刷版の現像を行う前に、前
段に設けられた装置から入力された版情報に基づいて加
熱条件を決定し、該決定した加熱条件で前記平版印刷版
が加熱されるように前記平版印刷版を加熱するプログラ
ムにより行う。このプログラムは、予め加熱装置の記録
媒体に記録させていても良いし、加熱装置とは別体の記
録媒体に記憶させ、該記録媒体からインストールしても
よい。また、加熱装置と有線又は無線で接続された他の
機器にプログラムを記録して、他の機器により加熱装置
を制御する構成とすることも可能である。

【００２６】また、加熱条件を決定する為の版情報は、
前記平版印刷版を加熱する加熱手段の前段に設けられた
装置からオンライン又はオフラインで取得または入力し
たものを用いることができる。

【００２７】さらに、本発明で用いる平版印刷版は、少
なくとも、光又は熱により酸を発生する化合物と、発生
した酸により架橋する化合物とを含有し、架橋によりア
ルカリ可溶性が低下する架橋層を含む感光層を支持体上
に備えていれば良く、架橋層以外の他の機能層を備えて
いてもよい。また、架橋層は、光又は熱により酸を発生
する化合物と、発生した酸により架橋する化合物の他
に、例えば、光を吸収して発熱する光吸収剤や熱を吸収
して発熱する熱吸収剤等の他の機能材料含んだものとす
ることもできる。

【００２８】

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態の一例を詳細に説明する。本実施の形態では、
図１に示す様に、パソコン１０、ワークステーション１
２、プレートセッター（露光装置）１４、加熱装置１
５、及びＰＳ版プロセッサー（自動現像機）１６から構
成された製版システムに本発明を適用した場合について
説明する。

【００２９】また、本実施の形態で用いる感光性平版印
刷板（以下、ＰＳ版と称す。）としては、支持体上に、
少なくとも、酸架橋層を備えたものであればよいが、必
要に応じて、保護層、バックコート層、中間層など、公
知のその他の機能層を設けたものとすることができる。
なお、ＰＳ版の詳細については後述する。

【００３０】本実施の形態の製版システムは、パソコン
１０、ワークステーション１２、プレートセッター１
４、加熱装置１５、及びＰＳ版プロセッサー１６を備
え、パソコン１０、ワークステーション１２、プレート
セッター１４、及び加熱装置１５が全てオンライン接続
され、パソコン１０に入力された画像データ、版厚、版
サイズ及びＰＳ版の種類（版種）などの各種設定情報が
オンラインで加熱装置１５にまで出力可能である。ま
た、本実施の形態の製版システムでは、プレートセッタ
ー１４で露光後、加熱装置１５で加熱処理されたＰＳ版
は後段のＰＳ版プロセッサー１６により現像処理されて
平版が得られる。

【００３１】パソコン１０には、例えば、スキャナーな
どの画像読取手段から読み込んだ画像をディスプレイに
表示しながら編集したり、ディスプレイ上に文字や画像
を新規に作成し、印刷対象の画像を作成するアプリケー
ションがインストールされている。

【００３２】このアプリケーションは、ユーザにより作
成された画像を、例えば、アウトラインや、塗りつぶし
領域の面積率及び塗りつぶし領域の透過率等を指示する
描画コマンド等のベクトル形式の画像データとしてワー
クステーション１２に出力する。また、画像の作成と同
時にキーボードからユーザによって入力された、例え
ば、露光対象となるＰＳ版の版種、版厚、及び版サイズ
等の各種設定情報を、前記ベクトル形式の画像データと
共にテキストデータとしてワークステーション１２に出
力する。

【００３３】ワークステーション１２には、ラスタイメ
ージプロセッサ（以下、ＲＩＰと称す。）、プレートセ
ッター１４のドライバーソフトがインストールされてい
る。

【００３４】ＲＩＰは、ベクトル形式の画像データを解
釈して階調を持ったドットの並びとして展開した、ＴＩ
ＦＦ形式のファイル(以下、ＴＩＦＦファイルと称す。)
やＧＩＦファイル等のラスタ形式の画像データに変換す
るアプリケーションであり、本実施の形態では、ベクト
ル形式の画像データをタグ形式のヘッダ部とイメージデ
ータ部とから構成されたＴＩＦＦファイルに変換する。

【００３５】プレートセッター１４のドライバーソフト
はＴＩＦＦファイル及びテキスト形式のＰＳ版の版種、
版厚、及び版サイズ等の各種設定情報を、プレートセッ
ター１４で解析できるイメージフォーマットに変換して
プレートセッター１４に出力するソフトウエアである。

【００３６】したがって、ワークステーション１２で
は、パソコン１０から入力された描画コマンド等のベク
トル形式の画像データをＴＩＦＦファイルに変換した
後、このＴＩＦＦファイル及びＰＳ版の版種、版厚、及
び版サイズなどの各種設定情報を、プレートセッター１
４のドライバーソフトが、プレートセッター１４で解析
できるイメージフォーマットに変換した後、プレートセ
ッター１４に出力する。

【００３７】プレートセッター１４は、ＲＯＭ、ＲＡＭ
及びＣＰＵからなるセッター制御部１８を含んでいる。
ＲＯＭにはプレートセッター１４を制御するための各種
プログラムが記憶され、ＲＡＭには、プレートセッター
１４で解析できるイメージフォーマット形式のＴＩＦＦ
ファイル及び各種設定情報が一旦記憶される。

【００３８】ＣＰＵは、ＲＯＭから各種プログラムを呼
び出し、該プログラムに基いてＲＡＭから読み込んだＴ
ＩＦＦファイル及び前述した各種設定情報に基いて、例
えば、プレートセッター１４の搬送手段（図示せず）の
搬送速度を制御するための制御信号やレーザ光源（図示
せず）のオンオフ駆動信号、及び光量の調整を行うため
のレーザ駆動信号などの各種制御信号を生成し、該各種
制御信号によるプレートセッター１４の駆動制御を行
う。これにより、プレートセッター１４は、パソコン１
０上で選択された画像に応じて最適な条件でＰＳ版１１
０の露光処理を行うこととなる。

【００３９】プレートセッター１４としては、エクスタ
ーナルドラム（アウタードラム）型、フラットベット
型、及び、インナードラム型のものを用いることができ
る。また、使用する光源としては、例えば、波長７００
〜１２００ｎｍの赤外線を放射するレーザーが好まし
く、同波長範囲の赤外線を放射する固体レーザー又は半
導体レーザーが、出力、寿命、安定性、及びコスト面な
どで好ましい。なお、プレートセッター１４の露光処理
については公知のため、ここでは詳細な説明は省略す
る。

【００４０】さらに、セッター制御部１８のＲＯＭに
は、加熱装置１５のドライバーソフトがインストールさ
れており、版種、版厚、及び版サイズなどの各種設定情
報を、加熱装置１５のドライバーソフトが、加熱装置１
５で解析できるフォーマットに変換した後、加熱装置１
５に出力する。

【００４１】加熱装置１５は、露光処理後にＰＳ版１１
０を加熱することによって、ＰＳ版１１０の酸架橋層に
おける画像形成領域(すなわち、露光領域)の架橋反応を
促進させ、露光領域の硬化を促進させる。

【００４２】この加熱装置１５は、図１に示すように、
加熱手段３４、ＰＳ版１１０の下面側でＰＳ版１１０を
搬送する複数の搬送ローラ３６、加熱制御部３８、及
び、温度検出センサ４０を含んで構成されている。

【００４３】温度検出センサ４０は、ＰＳ版プロセッサ
ー１６の前段に設けられたプレートセッター１４の露光
部内の温度又は加熱処理する前のＰＳ版１１０の温度を
検出するものであり、温度変化を電気的なレベル変化に
変換し、温度信号Ｖｔとして出力する温感素子等を用い
ることができる。

【００４４】加熱制御部３８は、ＲＡＭ、ＲＯＭ及びＣ
ＰＵから構成され、温度検出センサ４０からの検出結果
が出力されると共に、プレートセッター１４に前述した
各種設定情報が入力されると加熱制御を開始する前に前
記各種設定情報をオンラインで取得する。

【００４５】ＲＡＭにはプレートセッター１４から取得
した各種設定情報が記憶される。ＲＯＭには、ＰＳ版の
版種、版厚、及び版サイズの組合せに応じてＰＳ版に与
える標準の加熱容量（加熱手段３４(ヒータ)の出力と加
熱時間の予め定められた関係により決定する）のテーブ
ルが記憶されている。標準の加熱容量のテーブルとして
は、例えば、表１及び表２に示すように、ショートラン
の場合（表１）とロングランの場合（表２）とで分け、
厚みとサイズとの組合せに応じて標準の加熱容量を定め
ている。

【００４６】

【表１】

【００４７】

【表２】

【００４８】なお、表１及び表２において各加熱容量の
関係は、以下のようになっている。すなわち、表１にお
いて、サイズが大きくなればなるほど熱容量が大きく大
きな加熱が必要なことから、Ｑ１＜Ｑ２＜Ｑ３、Ｑ４＜
Ｑ５＜Ｑ６、Ｑ７＜Ｑ８＜Ｑ９であり、また、厚みが厚
くなるほど熱容量が大きいことから、Ｑ１＜Ｑ４＜Ｑ
７、Ｑ２＜Ｑ５＜Ｑ８、Ｑ３＜Ｑ６＜Ｑ９である。表２
も同様の理由からに、Ｑ１１＜Ｑ１２＜Ｑ１３、Ｑ１４
＜Ｑ１５＜Ｑ１６、Ｑ１７＜Ｑ１８＜Ｑ１９であり、ま
た、Ｑ１１＜Ｑ１４＜Ｑ１７、Ｑ１２＜Ｑ１５＜Ｑ１
８、Ｑ１３＜Ｑ１６＜Ｑ１９である。

【００４９】さらに、ショートランよりもロングランの
方が大きな熱量を与える必要があることから表１におい
て最も大きな熱量であるＱ９よりも表２において最も小
さな熱量であるＱ１１の方が大きいという関係となって
いる。

【００５０】また、ＲＯＭには、ＲＡＭに記憶された前
記各種設定情報に基いて、例えば、上述したような標準
の加熱容量のテーブルから、読み込んだ設定情報に最適
な標準の加熱容量を選択し、更に、温度検出センサ４０
からの温度信号Ｖｔが大きい、すなわち、検出された温
度が高い場合はＰＳ版自体の温度も高くなっているた
め、前記標準の加熱容量よりも少ない加熱容量をＰＳ版
に与えるように前記標準の加熱容量を補正し、温度検出
センサ４０からの温度信号Ｖｔが小さい、すなわち、検
出された温度が低い場合はＰＳ版自体の温度も低くなっ
ているため、前記標準の加熱容量よりも多く加熱容量を
ＰＳ版に与えるように前記標準の加熱容量を補正し、補
正した加熱容量に基いてヒータの駆動電圧を制御する制
御信号Ｖｃを生成する図２に示す加熱容量決定プログラ
ムが記憶されている。

【００５１】ここで、加熱制御部３８のＣＰＵにより実
行される駆動電圧の制御について図２のフローチャート
を参照しながら説明する。ステップ２００では、まず、
ＲＡＭに記憶された各種設定情報を読み込む。

【００５２】次のステップ２０２では、ＲＡＭから読み
込んだ各種設定情報に基づき標準の加熱容量のテーブル
から標準の加熱容量を選択する。例えば、上述した標準
の加熱容量のテーブルを用いる場合、版種がショートラ
ンで、版サイズがＭサイズ、厚みがｄ２であれば、表１
からＱ５を選択する。

【００５３】次のステップ２０４では、温度検出センサ
４０から入力された温度信号Ｖｔに応じて、前記標準の
加熱容量に対して多め、少なめ、又は標準の何れかの加
熱容量となるように前記標準の加熱容量を補正する。

【００５４】次のステップ２０６では、調整された加熱
条件となるようにヒータ駆動回路（図示せず）に与える
制御信号Ｖｃ及び搬送機構によるＰＳ版１１０の搬送速
度を制御する搬送制御信号を生成し、本ルーチンを終了
する。この制御信号Ｖｃにより加熱装置１５のヒータ出
力及び搬送速度が調整された加熱条件となるように制御
されることとなる。

【００５５】例えば、ブラックコーティングした５００
Ｗの２本のハロゲンランプヒーターを、ＰＳ版から５０
ｍｍの距離に設けた加熱装置を使用し、ＰＳ版として
０．３ｍｍの厚さのアルミニウム基板を備えたＭサイズ
の高画質用ＰＳ版を使用し、ＰＳ版の搬送速度を１９ｍ
ｍ／ｓｅｃとした場合について説明する。

【００５６】上記条件において、標準となる温度条件
は、温度検出センサ４０により検出された温度が２５℃
の時（すなわち室温）、加熱装置１５の出力は６５０Ｗ
に調整する条件であり、２５℃よりも低ければ加熱装置
１５の出力を２５℃の時よりも大きくしてＰＳ版１１０
に与える熱量を多くし、２５℃よりも高ければ加熱装置
１５の出力を２５℃の時よりも小さくしてＰＳ版１１０
に与える熱量を少なくする。

【００５７】具体的には、温度検出センサ４０により検
出された温度が１０℃の時は加熱装置１５の出力を７４
０Ｗ、前記温度が１５℃の時は加熱装置１５の出力を７
１０Ｗ、前記温度が２０℃の時は加熱装置１５の出力を
６８０Ｗ、前記温度が３０℃の時は加熱装置１５の出力
を６２０Ｗとする。

【００５８】なお、標準の加熱容量のテーブルを記憶す
る代わりに各種設定情報に応じて個別に決定される加熱
容量の変換特性のグラフのテーブルを記憶し、読み込ん
だ各種設定情報に対応する加熱容量の変換特性のグラフ
を読出し、該グラフにより温度検出センサ４０によって
検出された温度に対応する加熱容量を算出するように構
成することもできる。

【００５９】このように本実施の形態の加熱装置１５
は、プレートセッター１４からオンライン入力された各
種設定情報に基いて加熱条件を決定することにより、Ｐ
Ｓ版を、ＰＳ版１１０の版種、版厚、版サイズの組合せ
に最適な加熱条件で加熱処理を行うことができる。ま
た、プレートセッター１４の露光部内の温度又は加熱処
理する前のＰＳ版１１０の温度に関わらず均一にするこ
とができるので、熱処理不足や熱処理オーバー等の不都
合を解消でき、良好な加熱処理を行うことができる。

【００６０】また、ユーザが各種設定情報を加熱装置１
５に入力する必要がないため、操作ミス等による損失な
どの発生を回避でき、また、つぎの加熱条件への切り換
えが効率よく行えるので、露光処理から加熱処理にわた
っての処理効率も向上できる。

【００６１】加熱装置１５において加熱処理されたＰＳ
版１１０は、後段に設けられたＰＳ版プロセッサー１６
に搬送される。ＰＳ版プロセッサー１６は、図３に示す
ように、大別して、現像部２４、水洗部２６、フィニッ
シャー部２８、乾燥部２９及びプロセッサー制御部３０
から構成され、複数対の搬送ローラから構成された搬送
機構により、ＰＳ版が現像部２４から、水洗部２６、フ
ィニッシャー部２８及び乾燥部２９の順に搬送される構
成である。

【００６２】現像部２４は、図３に示すように、現像槽
７０内に、ＰＳ版１１０の搬送方向に沿って上流側から
順に、引き込みローラ対７２、現像補充原液噴射ノズル
７４、希釈水噴射ノズル７６、第１スプレーパイプ７
８、第１回転ブラシローラ７１ａ、第２回転ブラシロー
ラ７１ｂ及び送り出しローラ対７５を備え、ＰＳ版１１
０を現像液に浸漬することによって現像処理を行う。引
き込みローラ対７２は、ＰＳ版１１０を水平方向に対し
て約１５°から３１°の範囲の角度で現像部２４に引き
込む。

【００６３】現像補充原液噴射ノズル７４は、第１ポン
プＰ１によって現像補充原液貯留槽８２から汲み上げら
れた現像補充原液を現像槽７０内に噴射する。なお、こ
の第１ポンプＰ１は、プロセッサー制御部３０により駆
動が制御されている。同様に、希釈水噴射ノズル７６
は、水補充ポンプＰ２によって水貯留槽８４から汲み上
げられた水を希釈水として現像槽７０内に噴射する。な
お、この水補充ポンプＰ２も、後述するプロセッサー制
御部３０により駆動が制御されている。

【００６４】プロセッサー制御部３０は、画像形成領域
の面積率に応じて供給する現像補充原液の量及び希釈水
の量を制御する。すなわち、現像領域（すなわち非露光
領域）が大きければ、その分現像液の劣化は速まるた
め、希釈水を少なくして現像補充原液を多くなる様に供
給し、現像領域が小さければ、その分現像液の劣化は遅
くなるため、希釈水を少なくして現像補充原液を多くな
る様に供給するなどの現像液の濃度調整を行っている。

【００６５】また、現像槽７０内には、現像槽７０から
オーバーフローした現像液を回収する第１オーバーフロ
ー管７９が設けられている。そのため、現像槽７０内に
溜まった現像液の液面レベルが所定レベルを超えると、
所定レベルを超えた分の現像液が第１オーバーフロー管
７９内に流れ込んで廃液タンク８０へ案内されるので、
現像槽７０内には常に一定量の現像液が保持されるよう
に調整される。

【００６６】さらに、現像部２４の現像液液面には、液
面蓋７３が配置されている。この液面蓋７３は、下面が
現像槽７０に貯留される現像液の液面より下方となるよ
うに配置されている。この液面蓋７３により、現像槽７
０内の現像液の液面が空気と接触する面積が狭められる
ので、空気中の炭酸ガスによる現像液の劣化と現像液中
の水分の蒸発が抑えられる。

【００６７】また、現像槽７０の内部の現像液中には、
底部中央部が下方に向けて突出する内面が略逆山形状の
ガイド板７７がされている。このガイド板７７は、複数
の自由回転するコロ（小型のローラ；図示せず）が回転
軸をＰＳ版１１０の搬送方向と直交する方向に並列して
配置された構成であり、現像部２４へ送り込まれたＰＳ
版１１０をコロによって案内しながら搬送する。このと
き、コロが回転するため、ＰＳ版１１０に摺動による傷
付きが発生しない。

【００６８】また、ガイド板７７の最低位置に向かう途
中の現像液中に、第１スプレーパイプ７８が設けられて
いる。第１スプレーパイプ７８は、ＰＳ版１１０の搬送
方向と直交する方向に沿って配置された複数のスプレー
パイプにより構成され、各スプレーパイプから現像液を
ＰＳ版１１０の表面へ噴射することにより、ＰＳ版１１
０の現像処理を促進すると同時に、現像槽７０内の現像
液を循環させる役割を果たす。

【００６９】また、ガイド板７７の最低位置から下流側
に沿って、ＰＳ版１１０の上面に対応する位置には、第
１回転ブラシローラ７１ａ、第２回転ブラシローラ７１
ｂが設けられている。第１回転ブラシローラ７１ａは第
１バックアップローラ８１ａと対となってガイド板７７
に沿って搬送されたＰＳ版１１０を挟持するように設け
られており、第２回転ブラシローラ７１ｂは第２バック
アップローラ８１ｂと対となってガイド板７７に沿って
搬送されたＰＳ版１１０を挟持するように設けられてい
る。

【００７０】これら第１回転ブラシローラ７１ａと第２
回転ブラシローラ７１ｂは、図示しない駆動手段の駆動
力が伝達されて、１０ｒｐｍ以上５００ｒｐｍ以下の回
転数で回転速度で回転する。なお、１０ｒｐｍよりも小
さい回転数であると、最低限必要な擦り密度が得られな
いため好ましくなく、５００ｒｐｍよりも大きな回転数
であると、擦り密度が大きくなりすぎて製版の品質を損
ねるため好ましくない。より好ましくは、５０ｒｐｍ以
上３００ｒｐｍ以下の回転数とするとよい。この範囲内
とすることにより、充分な擦り密度が得られる。

【００７１】現像部２４の最終段位置には、現像液の液
面よりも上方の位置に挟持部が配置された送り出しロー
ラ対７５が設けられており、この送り出しローラ対７５
は、現像液中に設けられたガイド板７７に沿って搬送さ
れたＰＳ版１１０を挟持して現像部２４から送り出す。
このとき、ＰＳ版１１０の表面に付着した現像液が絞り
落とされる。

【００７２】すなわち、加熱装置１５において加熱処理
されたＰＳ版１１０は、現像部２４の送り出しローラ対
７２により水平方向に対して約１５°から３１°の範囲
の角度で現像部２４に引き込まれ、現像液中に設けられ
たガイド板７７の表面に沿って搬送される。このとき、
ＰＳ版１１０は現像液に浸漬されて、続いてガイド板７
７の最低位置に向かう途中に設けられた第１スプレーパ
イプ７８によって噴射された現像液により感光層の非露
光領域が確実に現像液に溶解(すなわち現像)する。

【００７３】ＰＳ版１１０はガイド板７７の最低位置か
ら下流側に向かう際に、第１回転ブラシローラ７１ａ、
第２回転ブラシローラ７１ｂの順に表面が擦られて、非
露光領域が確実に現像液に溶解することとなる。さら
に、ＰＳ版１１０はガイド板７７の最終端位置から送り
出しローラ対７５に保持されることにより現像液中から
引出され、送り出しローラ対７５に送り出される際に表
裏面に付着した現像液が絞り落とされて、現像部２４の
後段に設けられた水洗部２６に送り出される。

【００７４】ここで、本発明において使用される現像液
は以下の成分を含んでいる。

【００７５】（アルカリ剤）本発明の現像方法に用いら
れる現像液及び現像補充液は、ｐＨ９.０〜１３．５、
より好ましくは１０.０〜１３.３のアルカリ水溶液であ
る。

【００７６】かかる現像液および現像補充液としては従
来より知られているアルカリ水溶液が使用できる。例え
ば、ケイ酸ナトリウム、同カリウム、第３リン酸ナトリ
ウム、同カリウム、同アンモニウム、第二リン酸ナトリ
ウム、同カリウム、同アンモニウム、重炭酸ナトリウ
ム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸ナトリウム、同
カリウム、同アンモニウム、炭酸水素ナトリウム、同カ
リウム、同アンモニウム、ほう酸ナトリウム、同カリウ
ム、同アンモニウム、水酸化ナトリウム、同アンモニウ
ム、同カリウムおよび同リチウムなどの無機アルカリ剤
が挙げられる。また、モノメチルアミン、ジメチルアミ
ン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルア
ミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジ
イソプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、ｎ−ブ
チルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミ
ン、トリエタノールアミン、モノイソプロパノールアミ
ン、ジイソプロパノールアミン、エチレンイミン、エチ
レンジアミン、ピリジンなどの有機アルカリ剤も用いら
れる。

【００７７】これらのアルカリ剤の中で好ましいのはケ
イ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム等のケイ酸塩水溶液で
ある。その理由はケイ酸塩の成分である酸化ケイ素Ｓｉ
Ｏ₂とアルカリ金属酸化物Ｍ₂Ｏの比率（一般に［ＳｉＯ
₂］／［Ｍ₂Ｏ］のモル比で表す）と濃度によってｐＨや
現像性の調節が可能とされるためである。例えば、Ｓｉ
Ｏ₂／ Ｋ₂Ｏのモル比が０.５〜２．０（即ち［Ｓｉ
Ｏ₂］／［Ｋ₂Ｏ］が０．５〜２．０）であって、ＳｉＯ
₂の含有量が１〜４重量％のケイ酸カリウムの水溶液か
らなるアルカリ金属ケイ酸塩が本発明に好適に用いられ
る。

【００７８】更に他の好ましいアルカリ剤としては弱酸
と強塩基からなる緩衝液が挙げられる。かかる緩衝液と
して用いられる弱酸としては、酸解離定数（ｐＫa）１
０.０〜１３.３を有するものが好ましく、特にｐＫaが
１１.０〜１３.１のものが好ましい。また、例えばスル
ホサリチル酸の場合、第３解離定数は１１.７であり、
本発明に好適に使用できる。即ち、多塩基酸の場合、少
なくとも１つの酸解離定数が上記範囲内にあれば本発明
に使用できる。

【００７９】このような弱酸としては、Ｐｅｒｇａｍｏ
ｎ Ｐｒｅｓｓ社発行のＩＯＮＩＳＡＴＩＯＮ ＣＯＮ
ＳＴＡＮＴＳ ＯＦ ＯＲＧＡＮＩＣ ＡＣＩＤＳ Ｉ
ＮＡＱＵＥＯＵＳ ＳＯＬＵＴＩＯＮなどに記載されて
いるものから選ばれ、例えば２，２，３，３，−テトラ
フルオロプロパノール−１（ｐＫa １２.７４）、トリ
フルオロエタノール（同１２.３７）、トリクロロエタ
ノール（同１２.２４）などのアルコール類、ピリジン
−２−アルデヒド（同１２.６８）、ピリジン−４−ア
ルデヒド（同１２.０５）などのアルデヒド類、ソルビ
トール（同１３.０）、サッカロース（同１２.７）、２
−デオキシリボース（同１２.６１）、２−デオキシグ
ルコース（同１２.５１）、グルコース（同１２.４
６）、ガラクトース（同１２.３５）、アラビノース
（同１２.３４）、キシロース（同１２.２９）、フラク
トース（同１２.２７）、リボース（同１２.２２）、マ
ンノース（同１２.０８）、Ｌ−アスコルビン酸（同１
１.３４）などの糖類、サリチル酸（同１３.０）、３−
ヒドロキシ−２−ナフトエ酸（同１２.８４）、カテコ
ール（同１２.６）、没食子酸（同１２.４）、スルホサ
リチル酸（同１１.７）、３,４−ジヒドロキシスルホン
酸（同１２.２）、３，４−ジヒドロキシ安息香酸（同
１１.９４）、１，２，４−トリヒドロキシベンゼン
（同１１.８２）、ハイドロキノン（同１１.５６）、ピ
ロガロール（同１１.３４）およびレゾルシノール（同
１１.２７）などのフェノール性水酸基を有する化合
物、２−ブタノンオキシム（同１２.４５）、アセトキ
シム（同１２.４２）、１，２−シクロヘプタンジオン
ヂオキシム（同１２.３）、２−ヒドロキシベンズアル
デヒドオキシム（同１２.１０）、ジメチルグリオキシ
ム（同１１.９）、エタンジアミドジオキシム（同１１.
３７）、アセトフェノンオキシム（同１１.３５）など
のオキシム類、２−キノロン（同１１.７６）、２−ピ
リドン（同１１.６５）、４−キノロン（同１１.２
８）、４−ピリドン（同１１.１２）、５−アミノ吉草
酸（同１０.７７）、２−メルカプトキノリン（同１０.
２５）、３−アミノプロピオン酸（同１０.２４）など
のアミノ酸類、フルオロウラシル（同１３.０）、グア
ノシン（同１２.６）、ウリジン（同１２.６）、アデノ
シン（同１２.５６）、イノシン（同１２.５）、グアニ
ン（同１２.３）、シティジン（同１２.２）、シトシン
（同１２.２）、ヒポキサンチン（同１２.１）、キサン
チン（同１１.９）などの核酸関連物質、他に、ジエチ
ルアミノメチルホスホン酸（同１２.３２）、１−アミ
ノ−３，３，３−トリフルオロ安息香酸（同１２.２
９）、イソプロピリデンジホスホン酸（同１２.１
０）、１，１，−エチリデンジホスホン酸（同１１.５
４）、１，１−エチリデンジホスホン酸１−ヒドロキシ
（同１１.５２）、ベンズイミダゾール（同１２.８
６）、チオベンズアミド（同１２.８）、ピコリンチオ
アミド（同１２.５５）、バルビツル酸（同１２.５）な
どの弱酸が挙げられる。

【００８０】これらの弱酸に組み合わせる強塩基として
は、水酸化ナトリウム、同アンモニウム、同カリウムお
よび同リチウムが用いられる。

【００８１】これらのアルカリ剤は単独もしくは二種以
上を組み合わせて用いられる。

【００８２】これらのアルカリ緩衝剤の中で好ましいの
は、スルホサリチル酸、サリチル酸、サッカロースおよ
びソルビトールと水酸化ナトリウムおよび水酸化カリウ
ムとを組み合わせたものである。中でも好ましい組み合
わせはソルビトールと水酸化カリウムまたは水酸化ナト
リウムである。

【００８３】上記の各種アルカリ剤は濃度および組み合
わせによりｐＨを好ましい範囲内に調整して使用され
る。

【００８４】(界面活性剤)本発明に用いられる現像液お
よび補充液には、現像性の促進や現像カスの分散および
印刷版画像部の親インキ性を高める目的で必要に応じて
種々界面活性剤や有機溶剤を添加できる。好ましい界面
活性剤としては、アニオン系、カチオン系、ノニオン系
および両性界面活性剤が挙げられる。

【００８５】界面活性剤の好ましい例としては、ポリオ
キシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレン
アルキルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレンポリ
スチリルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレンポリ
オキシプロピレンアルキルエーテル類、グリセリン脂肪
酸部分エステル類、ソルビタン脂肪酸部分エステル類、
ペンタエリスリトール脂肪酸部分エステル類、プロピレ
ングリコールモノ脂肪酸エステル類、しょ糖脂肪酸部分
エステル類、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸部分
エステル類、ポリオキシエチレンソルビトール脂肪酸部
分エステル類、ポリエチレングリコール脂肪酸エステル
類、ポリグリセリン脂肪酸部分エステル類、ポリオキシ
エチレン化ひまし油類、ポリオキシエチレングリセリン
脂肪酸部分エステル類、脂肪酸ジエタノールアミド類、
Ｎ，Ｎ−ビス−２−ヒドロキシアルキルアミン類、ポリ
オキシエチレンアルキルアミン、トリエタノールアミン
脂肪酸エステル、トリアルキルアミンオキシドなどの非
イオン性界面活性剤、脂肪酸塩類、アビエチン酸塩類、
ヒドロキシアルカンスルホン酸塩類、アルカンスルホン
酸塩類、ジアルキルスルホ琥珀酸エステル塩類、直鎖ア
ルキルベンゼンスルホン酸塩類、分岐鎖アルキルベンゼ
ンスルホン酸塩類、アルキルナフタレンスルホン酸塩
類、アルキルフェノキシポリオキシエチレンプロピルス
ルホン酸塩類、ポリオキシエチレンアルキルスルホフェ
ニルエーテル塩類、Ｎ−メチル−Ｎ−オレイルタウリン
ナトリウム塩、Ｎ−アルキルスルホ琥珀酸モノアミド二
ナトリウム塩、石油スルホン酸塩類、硫酸化牛脂油、脂
肪酸アルキルエステルの硫酸エステル塩類、アルキル硫
酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテル
硫酸エステル塩類、脂肪酸モノグリセリド硫酸エステル
塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル硫
酸エステル塩類、ポリオキシエチレンスチリルフェニル
エーテル硫酸エステル塩類、アルキルリン酸エステル塩
類、ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸エステ
ル塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル
リン酸エステル塩類、スチレン／無水マレイン酸共重合
物の部分鹸化物類、オレフィン／無水マレイン酸共重合
物の部分鹸化物類、ナフタレンスルホン酸塩ホルマリン
縮合物類などのアニオン界面活性剤、アルキルアミン塩
類、テトラブチルアンモニウムブロミド等の第四級アン
モニウム塩類、ポリオキシエチレンアルキルアミン塩
類、ポリエチレンポリアミン誘導体などのカチオン性界
面活性剤、カルボキシベタイン類、アミノカルボン酸
類、スルホベタイン類、アミノ硫酸エステル類、イミダ
ゾリン類などの両性界面活性剤が挙げられる。以上挙げ
た界面活性剤の中でポリオキシエチレンとあるものは、
ポリオキシメチレン、ポリオキシプロピレン、ポリオキ
シブチレンなどのポリオキシアルキレンに読み替えるこ
ともでき、それらの界面活性剤もまた包含される。

【００８６】更に好ましい界面活性剤は分子内にパーフ
ルオロアルキル基を含有するフッ素系の界面活性剤であ
る。かかるフッ素系界面活性剤としては、パーフルオロ
アルキルカルボン酸塩、パーフルオロアルキルスルホン
酸塩、パーフルオロアルキルリン酸エステルなどのアニ
オン型、パーフルオロアルキルベタインなどの両性型、
パーフルオロアルキルトリメチルアンモニウム塩などの
カチオン型およびパーフルオロアルキルアミンオキサイ
ド、パーフルオロアルキルエチレンオキシド付加物、パ
ーフルオロアルキル基および親水性基含有オリゴマー、
パーフルオロアルキル基および親油性基含有オリゴマ
ー、パーフルオロアルキル基、親水性基および親油性基
含有オリゴマー、パーフルオロアルキル基および親油性
基含有ウレタンなどの非イオン型が挙げられる。

【００８７】上記の界面活性剤は、単独もしくは２種以
上を組み合わせて使用することができ、現像液中に０．
００１〜１０重量％、より好ましくは０．０１〜５重量
％の範囲で添加される。

【００８８】（現像安定化剤）本発明に用いられる現像
液および補充液には、種々現像安定化剤が用いられる。
それらの好ましい例として、特開平６−２８２０７９号
公報記載の糖アルコールのポリエチレングリコール付加
物、テトラブチルアンモニウムヒドロキシドなどのテト
ラアルキルアンモニウム塩、テトラブチルホスホニウム
ブロマイドなどのホスホニウム塩およびジフェニルヨー
ドニウムクロライドなどのヨードニウム塩が好ましい例
として挙げられる。

【００８９】更には、特開昭５０−５１３２４号公報記
載のアニオン界面活性剤または両性界面活性剤、また特
開昭５５−９５９４６号公報記載の水溶性カチオニック
ポリマー、特開昭５６−１４２５２８号公報に記載され
ている水溶性の両性高分子電解質がある。

【００９０】更に、特開昭５９−８４２４１号公報のア
ルキレングリコールが付加された有機ホウ素化合物、特
開昭６０−１１１２４６号公報記載のポリオキシエチレ
ン・ポリオキシプロピレンブロック重合型の水溶性界面
活性剤、特開昭６０−１２９７５０号公報のポリオキシ
エチレン・ポリオキシプロピレンを置換したアルキレン
ジアミン化合物、特開昭６１−２１５５５４号公報記載
の重量平均分子量３００以上のポリエチレングリコー
ル、特開昭６３−１７５８５８号公報のカチオン性基を
有する含フッ素界面活性剤、特開平２−３９１５７号公
報の酸またはアルコールに４モル以上のエチレンオキシ
ドを付加して得られる水溶性エチレンオキシド付加化合
物と、水溶性ポリアルキレン化合物などが挙げられる。

【００９１】（有機溶剤）現像液および現像補充液には
更に必要により有機溶剤が加えられる。かかる有機溶剤
としては、水に対する溶解度が約１０重量％以下のもの
が適しており、好ましくは５重量％以下のものから選ば
れる。例えば、１−フェニルエタノール、２−フェニル
エタノール、３−フェニル−１−プロパノール、４−フ
ェニル−１−ブタノール、４−フェニル−２−ブタノー
ル、２−フェニル−１−ブタノール、２−フェノキシエ
タノール、２−ベンジルオキシエタノール、ｏ−メトキ
シベンジルアルコール、ｍ−メトキシベンジルアルコー
ル、ｐ−メトキシベンジルアルコール、ベンジルアルコ
ール、シクロヘキサノール、２−メチルシクロヘキサノ
ール、３−メチルシクロヘキサノールおよび４−メチル
シクロヘキサノール、Ｎ−フェニルエタノールアミンお
よびＮ−フェニルジエタノールアミンなどを挙げること
ができる。有機溶剤の含有量は使用液の総重量に対して
０．１〜５重量％である。その使用量は界面活性剤の使
用量と密接な関係があり、有機溶剤の量が増すにつれ、
界面活性剤の量は増加させることが好ましい。これは界
面活性剤の量が少なく、有機溶剤の量を多く用いると有
機溶剤が完全に溶解せず、従って、良好な現像性の確保
が期待できなくなるからである。

【００９２】（還元剤）本発明に用いられる現像液およ
び補充液には更に還元剤が加えられる。これは印刷版の
汚れを防止するものであり、特に感光性ジアゾニウム塩
化合物を含むネガ型感光性平版印刷版を現像する際に有
効である。好ましい有機還元剤としては、チオサリチル
酸、ハイドロキノン、メトール、メトキシキノン、レゾ
ルシン、２−メチルレゾルシンなどのフェノール化合
物、フェニレンジアミン、フェニルヒドラジンなどのア
ミン化合物が挙げられる。更に好ましい無機の還元剤と
しては、亜硫酸、亜硫酸水素酸、亜リン酸、亜リン酸水
素酸、亜リン酸二水素酸、チオ硫酸および亜ジチオン酸
などの無機酸のナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウ
ム塩などを挙げることができる。これらの還元剤のうち
汚れ防止効果が特に優れているのは亜硫酸塩である。こ
れらの還元剤は使用時の現像液に対して好ましくは、
０．０５〜５重量％の範囲で含有される。

【００９３】（有機カルボン酸）本発明に用いられる現
像液および補充液には更に有機カルボン酸を加えること
もできる。好ましい有機カルボン酸は炭素原子数６〜２
０の脂肪族カルボン酸および芳香族カルボン酸である。
脂肪族カルボン酸の具体的な例としては、カプロン酸、
エナンチル酸、カプリル酸、ラウリン酸、ミリスチン
酸、パルミチン酸およびステアリン酸などがあり、特に
好ましいのは炭素数８〜１２のアルカン酸である。また
炭素鎖中に二重結合を有する不飽和脂肪酸でも、枝分か
れした炭素鎖のものでもよい。

【００９４】芳香族カルボン酸としてはベンゼン環、ナ
フタレン環、アントラセン環などにカルボキシル基が置
換された化合物で、具体的には、ｏ−クロロ安息香酸、
ｐ−クロロ安息香酸、ｏ−ヒドロキシ安息香酸、ｐ−ヒ
ドロキシ安息香酸、ｏ−アミノ安息香酸、ｐ−アミノ安
息香酸、２，４−ジヒドロキシ安息香酸、２，５−ジヒ
ドロキシ安息香酸、２，６−ジヒドロキシ安息香酸、
２，３−ジヒドロキシ安息香酸、３，５−ジヒドロキシ
安息香酸、没食子酸、１−ヒドロキシ−２−ナフトエ
酸、３−ヒドロキシ−２−ナフトエ酸、２−ヒドロキシ
−１−ナフトエ酸、１−ナフトエ酸、２−ナフトエ酸な
どがあるがヒドロキシナフトエ酸は特に有効である。

【００９５】上記脂肪族および芳香族カルボン酸は水溶
性を高めるためにナトリウム塩やカリウム塩またはアン
モニウム塩として用いるのが好ましい。本発明で用いる
現像液の有機カルボン酸の含有量は格別な制限はない
が、０．１重量％より低いと効果が十分でなく、また１
０重量％以上ではそれ以上の効果の改善が計れないばか
りか、別の添加剤を併用する時に溶解を妨げることがあ
る。従って、好ましい添加量は使用時の現像液に対して
０．１〜１０重量％であり、よりこのましくは０．５〜
４重量％である。

【００９６】（その他）本発明で用いられる現像液およ
び補充液には、更に必要に応じて、消泡剤および硬水軟
化剤などを含有させることもできる。硬水軟化剤として
は例えば、ポリリン酸およびそのナトリウム塩、カリウ
ム塩およびアンモニウム塩、エチレンジアミンテトラ酢
酸、ジエチレントリアミンペンタ酢酸、トリエチレンテ
トラミンヘキサ酢酸、ヒドロキシエチルエチレンジアミ
ントリ酢酸、ニトリロトリ酢酸、１，２−ジアミノシク
ロヘキサンテトラ酢酸および１，３−ジアミノ−２−プ
ロパノールテトラ酢酸などのアミノポリカルボン酸およ
びそれらのナトリウム塩、カリウム塩およびアンモニウ
ム塩、アミノトリ（メチレンホスホン酸）、エチレンジ
アミンテトラ（メチレンホスホン酸）、ジエチレントリ
アミンペンタ（メチレンホスホン酸）、トリエチレンテ
トラミンヘキサ（メチレンホスホン酸）、ヒドロキシエ
チルエチレンジアミントリ（メチレンホスホン酸）およ
び１−ヒドロキシエタン−１，１−ジホスホン酸やそれ
らのナトリウム塩、カリウム塩およびアンモニウム塩を
挙げることができる。

【００９７】このような硬水軟化剤はそのキレート化力
と使用される硬水の硬度および硬水の量によって最適値
が変化するが、一般的な使用量を示せば、使用時の現像
液に０．０１〜５重量％、より好ましくは０．０１〜
０．５重量％の範囲である。この範囲より少ない添加量
では所期の目的が十分に達成されず、添加量がこの範囲
より多い場合は、色抜けなど、画像部への悪影響がでて
くる。

【００９８】現像液および補充液の残余の成分は水であ
るが、更に必要に応じて当業界で知られた種々の添加剤
を含有させることができる。

【００９９】本発明に用いられる現像補充原液および補
充液は使用時よりも水の含有量を少なくした濃縮液とし
ておき、使用時に水で希釈するようにしておくことが運
搬上有利である。この場合の濃縮度は各成分が分離や析
出を起こさない程度が適当である。

【０１００】現像液温度は１５〜４０℃が好ましく、更
に好ましくは２０〜３５℃である。現像時間は５〜６０
秒が好ましく、更に好ましくは７〜４０秒である。

【０１０１】現像部２４で現像されて水洗部２６に送り
出されたＰＳ版１１０は、水洗部２６において水洗処理
される。

【０１０２】水洗部２６は、図３に示すように、水洗槽
９０、二対の搬送ローラ対９２、９４、第２スプレーパ
イプ９６、及び第３スプレーパイプ９８を備え、現像処
理されたＰＳ版１１０を洗浄水により洗浄してＰＳ版１
１０に付着した現像液を完全に除去する。

【０１０３】二対の搬送ローラ対９２、９４は、水洗槽
９０の上方で、かつ、水洗部２６のＰＳ版１１０引き込
み位置と送り出し位置とに設けられている。これらの搬
送ローラ対９２、９４は、ＰＳ版１１０の搬送路を形成
しており、図示しない駆動手段の駆動力を受けて回転
し、現像部２４から送り込まれたＰＳ版１１０を挟持搬
送する。

【０１０４】二対の搬送ローラ対９２、９４の間には、
ＰＳ版１１０の搬送路を挟んで上方と下方とのそれぞれ
に、第２スプレーパイプ９６、第３スプレーパイプ９８
が配設されている。

【０１０５】第２スプレーパイプ９６は、前述した水貯
留槽８４からポンプＰによって水を汲み上げ、水洗槽９
０内に水を補給する。第３スプレーパイプ９８は、ＰＳ
版１１０の搬送方向と直交する方向に沿って配置された
複数のスプレーパイプにより構成され、それぞれＰＳ版
１１０の搬送に同期して洗浄水をＰＳ版１１０の表面へ
噴射することにより、ＰＳ版１１０の幅方向にわたって
洗浄水を噴射する。

【０１０６】この第３スプレーパイプ９８は、後述する
貯留タンク９３からポンプＰによって汲み上げられた洗
浄水をＰＳ版１１０の表面側に向かって噴射する。これ
によってＰＳ版１１０が水洗され、現像液が完全に除去
される。

【０１０７】なお、第３スプレーパイプ９８から噴射さ
れた洗浄水は、ＰＳ版１１０の表面を速やかに広がっ
て、ＰＳ版１１０を水洗すると、ＰＳ版１１０が搬送ロ
ーラ対９４によって後段のフィニッシャー部に送り出さ
れる際に、ＰＳ版１１０から絞り落とされる。

【０１０８】また、水洗槽９０にも、第２オーバーフロ
ー管９１が設けられている。この第２オーバーフロー管
９１は、水洗槽９０内の水位が上がって管内に流れ込ん
だ洗浄水を貯留タンク９３に導くことにより、水洗槽９
０内の水位を常に一定に保つ。貯留タンク９３には、ポ
ンプＰが設けられており、このポンプＰにより貯留した
洗浄水を汲み上げて、第３スプレーパイプ９８に供給す
る。

【０１０９】すなわち、現像部２４から送り出されたＰ
Ｓ版１１０は、水洗部２６の引き込み位置に設けられた
搬送ローラ対９２により水洗部２６に引き込まれ、第２
水洗漕の上層に形成された搬送路を通過する際に、第２
スプレーパイプ９６及び第３スプレーパイプ９８から噴
射された洗浄水により洗浄され、水洗部２６の送り出し
位置に設けられた搬送ローラ対９４により付着する洗浄
水が絞り落されて、水洗部２６から送り出される。

【０１１０】水洗部２６の後段には、フィニッシャー部
２８が設けられている。このフィニッシャー部２８は、
ガム液槽１００とガム液をＰＳ版１１０の表面に噴射す
るガム液噴射ノズル１０２及び、搬送ローラ対１０４と
を備え、水洗後のＰＳ版１１０にガム液を塗布して不感
脂化処理する。ガム液槽１００も他の槽と同様にオーバ
ーフロー管９９が設けられており、槽内の水位が常に一
定に保たれるように調整されている。

【０１１１】水洗部２６から送り出されたＰＳ版１１０
は、フィニッシャー部２８を通過する際に、ガム液噴射
ノズル１０２から表面の画像形成側にガム液が噴射され
た後、フィニッシャー部２８の送り出し位置に設けられ
た搬送ローラ対１０４により付着するガム液が絞り落さ
れて、フィニッシャー部２８から送り出される。

【０１１２】フィニッシャー部２８の後段には、乾燥部
２９が設けられており、ＰＳ版１１０が乾燥部２９を通
過する際に、乾燥処理されて外部に排出される。なお、
乾燥部２９としては公知の構成を適用できるためここで
は説明は省略する。

【０１１３】なお、本実施の形態の製版システムに使用
するＰＳ版は、アルミニウム支持体上に、少なくとも酸
発生剤と架橋剤とを含む架橋層を有する感光層を備えた
ものが好適であり、以下、ＰＳ版について詳細に説明す
る。 〔アルミニウム支持体〕まず、ＰＳ版のアルミニウム支
持体は、寸度的に安定なアルミニウムを主成分とする金
属であり、アルミニウムまたはアルミニウム合金からな
る。純アルミニウム板の他、アルミニウムを主成分と
し、微量の異元素を含む合金板、又はアルミニウム（合
金）がラミネートもしくは蒸着されたプラスチックフィ
ルム又は紙の中から選ばれる。更に、特公昭４８−１８
３２７号に記載されているようなポリエチレンテレフタ
レートフィルム上にアルミニウムシー卜が結合された複
合体シートでもかまわない。

【０１１４】以下の説明において、上記に挙げたアルミ
ニウムまたはアルミニウム合金からなる基板をアルミニ
ウム基板と総称して用いる。前記アルミニウム合金に含
まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガン、銅、マグネ
シウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケル、チタンな
どがあり、合金中の異元素の含有量は１０重量％以下で
ある。本発明では純アルミニウム板が好適であるが、完
全に純粋なアルミニウムは精錬技術上製造が困難である
ので、僅かに異元素を含有するものでもよい。このよう
に本発明に適用されるアルミニウム板は、その組成が特
定されるものではなく、従来より公知公用の素材のも
の、例えばＪＩＳ Ａ １０５０、ＪＩＳＡ １１０
０、ＪＩＳ Ａ ３１０３、ＪＩＳ Ａ ３００５など
を適宜利用することができる。

【０１１５】また、本発明に用いられるアルミニウム基
板の厚みとしては、０．１〜０．６ｍｍが好ましく、
０．１５〜０．４ｍｍがより好ましく、０．２〜０．３
ｍｍが最も好ましい。この厚みは印刷機の大きさ、印刷
版の大きさ及びユーザーの希望により適宜変更すること
ができる。 （ａ）粗面化処理 前記アルミニウム板は、その表面を粗面化した後に使用
することが好ましい。粗面化するに先立ち、所望により
アルミニウム板表面の圧延油を除去するための、例え
ば、界面活性剤、有機溶剤又はアルカリ性水溶液等によ
る脱脂処理を行うこともできる。

【０１１６】アルミニウム板表面の粗面化処理として
は、種々の方法の中から適宜選択して用いることがで
き、例えば、機械的に粗面化する方法、電気化学的に表
面を溶解して粗面化する方法又は化学的に表面を選択的
に溶解させて粗面化する方法が挙げられる。

【０１１７】前記機械的に粗面化する方法としては、ボ
ール研磨法、ブラシ研磨法、ブラスト研磨法、バフ研磨
法等の公知の方法が挙げられる。

【０１１８】前記電気化学的に粗面化する方法として
は、塩酸若しくは硝酸電解液中で交流又は直流により行
う方法が挙げられる。

【０１１９】また、特開昭５４−６３９０２号に記載の
ようにそれら両者を組合わせた方法も挙げることができ
る。

【０１２０】粗面化されたアルミニウム板は、必要に応
じて、アルカリエッチング処理や中和処理を施した後、
表面の保水性や耐摩耗性を高める目的で陽極酸化処理が
施される。

【０１２１】前記陽極酸化処理に用いられる電解質とし
ては、多孔質酸化被膜を形成する種々の電解質が挙げら
れ、一般的には硫酸、リン酸、シュウ酸、クロム酸又は
それらの混酸が用いられる。前記電解質の濃度は、電解
質の種類によって適宜決められる。

【０１２２】前記陽極酸化処理の条件としては、用いる
電解質により種々変わるので一概に特定することができ
ないが、一般的には、電解質濃度１〜８０重量％、液温
５〜７０℃、電流密度５〜６０Ａ／ｄｍ²、電圧１〜１
００Ｖ、電解時間１０秒〜５分が適当である。陽極酸化
被膜の被膜量としては、１．０ｇ／ｍ²以上が好まし
い。

【０１２３】前記被膜量が、１．０ｇ／ｍ²未満である
と、十分な耐膜性が得られず、非画像部に傷が付き易く
なったり、特に平版印刷用原版の場合には、印刷時に傷
の部分にインキが付着する、いわゆる「傷汚れ」が生じ
易くなることがある。 （ｂ）親水化処理 陽極酸化処理を施した後、アルミニウム板表面は、必要
に応じて、基板表面にシリケート、またはポリビエルホ
スホン酸等による親水化処理が施される。皮膜はＳｉ、
またはＰ元素量として２〜４０ｍｇ／ｍ²、より好まし
くは４〜３０ｍｇ／ｍ²形成される。なお、塗布量は蛍
光Ｘ線分析法により測定できる。

【０１２４】上記の親水化処理は、アルカリ金属ケイ酸
塩、またはポリビニルホスホン酸が１〜３０重量％、好
ましくは２〜１５重量％であり、２５℃のｐＨが１０〜
１３である水溶液に、陽極酸化皮膜が形成されたアルミ
ニウム基板を、例えば１５〜８０℃で０．５〜１２０秒
浸漬する。

【０１２５】また、アルカリ金属ケイ酸塩としては、ケ
イ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、ケイ酸リチウムなど
が使用できる。アルカリ金属ケイ酸塩水溶液のｐＨを高
くするために使用される水酸化物としては水酸化ナトリ
ウム、水酸化カリウム、水酸化リチウムなどがある。

【０１２６】なお、上記の処理液にアルカリ土類金属塩
もしくは第ＩＶＢ族金属塩を配合してもよい。アルカリ
土類金属塩としては、硝酸カルシウム、硝酸ストロレン
チウム、硝酸マグネシウム、硝酸バリウムのような硝酸
塩や、硫酸塩、塩酸塩、リン酸塩、酢酸塩、シュウ酸
塩、ホウ酸塩などの水溶性の塩が挙げられる。

【０１２７】第ＩＶＢ族金属塩として、四塩化チタン、
三塩化チタン、フッ化チタンカリウム、シュウ酸チタン
カリウム、硫酸チタン、四ヨウ化チタン、塩化酸化ジル
コニウム、二酸化ジルコニウム、オキシ塩化ジルコニウ
ム、四塩化ジルコニウムなどを挙げることができる。

【０１２８】アルカリ土類金属塩もしくは、第ＩＶＢ族
金属塩は単独又は２以上組み合わせて使用することがで
きる。これらの金属塩の好ましい範囲は０．０１〜１０
重量％であり、更に好ましい範囲は０．０５〜５．０重
量％である。

【０１２９】また、米国特許第３，６５８，６６２号明
細書に記載されているようなシリケート電着も有効であ
る。更に、特公昭４６−２７４８１号、特開昭５２−５
８６０２号、特開昭５２−３０５０３号に開示されてい
るような電解グレインを施した支持体と、上記陽極酸化
処理および親水化処理を組合せた表面処理も有用であ
る。

【０１３０】〔架橋層〕本実施の形態の架橋層は、少な
くとも、（Ａ）アルカリ水可溶性高分子化合物、（Ｂ）
赤外線吸収剤、（Ｃ）酸発生剤、及び、（Ｄ）架橋剤を
含有する、赤外線感応性のネガ型の画像記録材料から構
成される。以下、架橋層を構成する各成分について詳細
に説明する。 ((Ａ)アルカリ水可溶性高分子化合物)本実施の形態の架
橋層に使用可能なアルカリ水可溶性高分子化合物として
は、ノボラック樹脂や側鎖にヒドロキシアリール基を有
するポリマー等が挙げられる。前記ノボラック樹脂とし
ては、フェノール類とアルデヒド類を酸性条件下で縮合
させた樹脂が挙げられる。

【０１３１】中でも、例えば、フェノールとホルムアル
デヒドから得られるノボラック樹脂、ｍ−クレゾールと
ホルムアルデヒドから得られるノボラック樹脂、ｐ−ク
レゾールとホルムアルデヒドから得られるノボラック樹
脂、ｏ−クレゾールとホルムアルデヒドから得られるノ
ボラック樹脂、オクチルフェノールとホルムアルデヒド
から得られるノボラック樹脂、ｍ−／ｐ−混合クレゾー
ルとホルムアルデヒドから得られるノボラック樹脂、フ
ェノール／クレゾール（ｍ−，ｐ−，ｏ−又はｍ−／ｐ
−，ｍ−／ｏ−，ｏ−／ｐ−混合のいずれでもよい）の
混合物とホルムアルデヒドから得られるノボラック樹脂
等が好ましい。

【０１３２】前記ノボラック樹脂は、重量平均分子量が
８００〜２０００００で、数平均分子量が４００〜６
０，０００のものが好ましい。

【０１３３】また、前記側鎖にヒドロキシアリール基を
有するポリマーも好ましく、該ポリマー中のヒドロキシ
アリール基としては、ＯＨ基が１以上結合したアリール
基が挙げられる。

【０１３４】前記アリール基としては、例えば、フェニ
ル基、ナフチル基、アントラセニル基、フェナントレニ
ル基等が挙げられ、中でも、入手の容易性及び物性の観
点から、フェニル基又はナフチル基が好ましい。

【０１３５】従って、前記ヒドロキシアリール基として
は、ヒドロキシフェニル基、ジヒドロキシフェニル基、
トリヒドロキシフェニル基、テトラヒドロキシフェニル
基、ヒドロキシナフチル基、ジヒドロキシナフチル基等
が好ましい。

【０１３６】これらのヒドロキシアリール基は、さら
に、ハロゲン原子、炭素数２０以下の炭化水素基、炭素
数２０以下のアルコキシ基、炭素数２０以下のアリール
オキシ基等の置換基を有していてもよい。

【０１３７】前記ヒドロキシアリール基は、ポリマーを
構成する主鎖に側鎖としてペンダント状に結合している
が、主鎖との間に連結基を有していてもよい。

【０１３８】本実施の形態に使用可能な、側鎖にヒドロ
キシアリール基を有するポリマーとしては、例えば、下
記一般式（ＩＸ）〜（ＸII）で表される構成単位のうち
のいずれか１種を含むポリマーを挙げることができる。
但し、本発明においては、これらに限定されるものでは
ない。

【０１３９】

【化１】

【０１４０】一般式（ＩＸ）〜（ＸII）中、Ｒ¹¹は、水
素原子又はメチル基を表す。Ｒ¹²及びＲ¹³は、同じでも
異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭素数
１０以下の炭化水素基、炭素数１０以下のアルコキシ基
又は炭素数１０以下のアリールオキシ基を表す。また、
Ｒ¹²とＲ¹³が結合、縮環してベンゼン環やシクロヘキサ
ン環を形成していてもよい。Ｒ¹⁴は、単結合又は炭素数
２０以下の２価の炭化水素基を表す。Ｒ¹⁵は、単結合又
は炭素数２０以下の２価の炭化水素基を表す。Ｒ¹⁶は、
単結合又は炭素数１０以下の２価の炭化水素基を表す。
Ｘ1は、単結合、エーテル結合、チオエーテル結合、エ
ステル結合又はアミド結合を表す。ｐは、１〜４の整数
を表す。ｑ及びｒは、それぞれ独立に０〜３の整数を表
す。

【０１４１】以下に、前記一般式（ＩＸ）〜（ＸII）で
表される構成単位の具体例を挙げるが、本発明において
は、これらに限定されるものではない。

【０１４２】

【化２】

【０１４３】

【化３】

【０１４４】

【化４】

【０１４５】

【化５】

【０１４６】

【化６】

【０１４７】前記構成単位よりなるポリマーは、従来公
知の方法の中から適宜選択して、合成することができ
る。

【０１４８】一般式（ＩＸ）で表される構成単位を有す
るポリマーは、例えば、ヒドロキシ基が酢酸エステル或
いはｔ−ブチルエーテルとして保護された、対応するス
チレン誘導体を、ラジカル重合若しくはアニオン重合し
てポリマーとした後、脱保護することにより得ることが
できる。

【０１４９】一般式（Ｘ）で表される構成単位を有する
ポリマーは、例えば、特開昭６４−３２２５６号、同６
４−３５４３６号の各公報に記載の方法により合成する
ことができる。

【０１５０】一般式（ＸＩ）で表される構成単位を有す
るポリマーは、例えば、ヒドロキシ基を有するアミン化
合物と無水マレイン酸を反応させ、対応するモノマーを
得た後、ラジカル重合してポリマーとすることにより得
ることができる。

【０１５１】一般式（ＸII）で表される構成単位を有す
るポリマーは、例えば、クロロメチルスチレンやカルボ
キシスチレン等、合成上有用な官能基を持つスチレン類
を原料として、一般式（ＸII）に対応するモノマーへ誘
導し、さらにラジカル重合してポリマーとすることによ
り得ることができる。

【０１５２】本実施の形態においては、一般式（ＩＸ）
〜（ＸII）で表される構成単位のみからなるホモポリマ
ーであってもよいが、他の構成単位を含む共重合体であ
ってもよい。

【０１５３】前記他の構成単位としては、例えば、アク
リル酸エステル類、メタクリル酸エステル類、アクリル
アミド類、メタクリルアミド類、ビニルエステル類、ス
チレン類、アクリル酸、メタクリル酸、アクリロニトリ
ル、無水マレイン酸、マレイン酸イミド等の公知のモノ
マーに由来する構成単位が挙げられる。

【０１５４】前記アクリル酸エステル類としては、例え
ば、メチルアクリレート、エチルアクリレート、（ｎ−
又はｉ−）プロピルアクリレート、（ｎ−、ｉ−、ｓｅ
ｃ−又はｔ−）ブチルアクリレート、アミルアクリレー
ト、２−エチルヘキシルアクリレート、ドデシルアクリ
レート、クロロエチルアクリレート、２−ヒドロキシエ
チルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレー
ト、５−ヒドロキシペンチルアクリレート、シクロヘキ
シルアクリレート、アリルアクリレート、トリメチロー
ルプロパンモノアクリレート、ペンタエリスリトールモ
ノアクリレート、グリシジルアクリレート、ベンジルア
クリレート、メトキシベンジルアクリレート、クロロベ
ンジルアクリレート、２−（ｐ−ヒドロキシフェニル）
エチルアクリレート、フルフリルアクリレート、テトラ
ヒドロフルフリルアクリレート、フェニルアクリレー
ト、クロロフェニルアクリレート、スルファモイルフェ
ニルアクリレート等が挙げられる。

【０１５５】前記メタクリル酸エステル類としては、例
えば、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、
（ｎ−又はｉ−）プロピルメタクリレート、（ｎ−、ｉ
−、ｓｅｃ−又はｔ−）ブチルメタクリレート、アミル
メタクリレート、２−エチルヘキシルメタクリレート、
ドデシルメタクリレート、クロロエチルメタクリレー
ト、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、２−ヒドロ
キシプロピルメタクリレート、５−ヒドロキシペンチル
メタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、アリ
ルメタクリレート、トリメチロールプロパンモノメタク
リレート、ペンタエリスリトールモノメタクリレート、
グリシジルメタクリレート、メトキシベンジルメタクリ
レート、クロロベンジルメタクリレート、２−（ｐ−ヒ
ドロキシフェニル）エチルメタクリレート、フルフリル
メタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレー
ト、フェニルメタクリレート、クロロフェニルメタクリ
レート、スルファモイルフェニルメタクリレート等が挙
げられる。

【０１５６】前記アクリルアミド類としては、例えば、
アクリルアミド、Ｎ−メチルアクリルアミド、Ｎ−エチ
ルアクリルアミド、Ｎ−プロピルアクリルアミド、Ｎ−
ブチルアクリルアミド、Ｎ−ベンジルアクリルアミド、
Ｎ−ヒドロキシエチルアクリルアミド、Ｎ−フェニルア
クリルアミド、Ｎ−トリルアクリルアミド、Ｎ−（ｐ−
ヒドロキシフェニル）アクリルアミド、Ｎ−（スルファ
モイルフェニル）アクリルアミド、Ｎ−（フェニルスル
ホニル）アクリルアミド、Ｎ−（トリルスルホニル）ア
クリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、Ｎ−
メチル−Ｎ−フェニルアクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシ
エチル−Ｎ−メチルアクリルアミド等が挙げられる。

【０１５７】前記メタクリルアミド類としては、例え
ば、メタクリルアミド、Ｎ−メチルメタクリルアミド、
Ｎ−エチルメタクリルアミド、Ｎ−プロピルメタクリル
アミド、Ｎ−ブチルメタクリルアミド、Ｎ−ベンジルメ
タクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシエチルメタクリルアミ
ド、Ｎ−フェニルメタクリルアミド、Ｎ−トリルメタク
リルアミド、Ｎ−（ｐ−ヒドロキシフェニル）メタクリ
ルアミド、Ｎ−（スルファモイルフェニル）メタクリル
アミド、Ｎ−（フェニルスルホニル）メタクリルアミ
ド、Ｎ−（トリルスルホニル）メタクリルアミド、Ｎ，
Ｎ−ジメチルメタクリルアミド、Ｎ−メチル−Ｎ−フェ
ニルメタクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシエチル−Ｎ−メ
チルメタクリルアミド等が挙げられる。

【０１５８】前記ビニルエステル類としては、例えば、
ビニルアセテート、ビニルブチレート、ビニルベンゾエ
ート等が挙げられる。

【０１５９】前記スチレン類としては、例えば、スチレ
ン、メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルス
チレン、エチルスチレン、プロピルスチレン、シクロヘ
キシルスチレン、クロロメチルスチレン、トリフルオロ
メチルスチレン、エトキシメチルスチレン、アセトキシ
メチルスチレン、メトキシスチレン、ジメトキシスチレ
ン、クロロスチレン、ジクロロスチレン、ブロモスチレ
ン、ヨードスチレン、フルオロスチレン、カルボキシス
チレン等が挙げられる。

【０１６０】前記モノマーの中でも、炭素数２０以下の
アクリル酸エステル類、メタクリル酸エステル類、アク
リルアミド類、メタクリルアミド類、ビニルエステル
類、スチレン類、アクリル酸、メタクリル酸、アクリロ
ニトリルが好ましい。

【０１６１】前記モノマーを用いた共重合体中に含まれ
る、一般式（ＩＸ）〜（ＸII）で表される構成単位の割
合としては、５〜１００重量％が好ましく、１０〜１０
０重量％がより好ましい。

【０１６２】側鎖にヒドロキシアリール基を有するポリ
マーの分子量としては、重量平均分子量で４０００以上
が好ましく、１万〜３０万がより好ましい。また、数平
均分子量としては、１０００以上が好ましく、２０００
〜２５万がより好ましい。さらに、多分散度（重量平均
分子量／数平均分子量）としては、１以上が好ましく、
１．１〜１０がより好ましい。

【０１６３】側鎖にヒドロキシアリール基を有するポリ
マーは、ランダムポリマー、ブロックポリマー、グラフ
トポリマー等いずれでもよいが、中でも、ランダムポリ
マーが好ましい。

【０１６４】本実施の形態に使用可能なアルカリ水可溶
性高分子化合物は、１種類のみで使用してもよいし、２
種類以上を組合わせて使用してもよい。

【０１６５】アルカリ水可溶性高分子化合物の添加量と
しては、画像記録材料の全固形分に対し５〜９５重量％
が好ましく、１０〜９５重量％がより好ましく、２０〜
９０重量％が最も好ましい。

【０１６６】アルカリ水可溶性樹脂の添加量が、５重量
％未満であると、記録層の耐久性が劣化することがあ
り、９５重量％を超えると、画像形成されないことがあ
る。 ((Ｂ)赤外線吸収剤)赤外線吸収剤は、吸収した赤外線を
熱に変換する機能を有しており、発生した熱により後述
の（Ｃ）酸発生剤が分解して酸を発生させる。

【０１６７】本実施の形態において使用可能な赤外線吸
収剤としては、波長７６０ｎｍ〜１２００ｎｍの赤外線
を有効に吸収しうる染料又は顔料が好ましく、波長７６
０ｎｍ〜１２００ｎｍの領域に吸収極大を有する染料又
は顔料がより好ましい。

【０１６８】前記染料としては、市販の染料又は文献
（例えば、「染料便覧」，有機合成化学協会編集、昭和
４５年刊）に記載の公知のものが挙げられ、例えば、ア
ゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、ナフ
トキノン染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染
料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メチン染
料、シアニン染料、スクワリリウム色素、ピリリウム
塩、金属チオレート錯体等の染料が挙げられる。

【０１６９】中でも、例えば、特開昭５８−１２５２４
６号、特開昭５９−８４３５６号、特開昭５９−２０２
８２９号、特開昭６０−７８７８７号等に記載のシアニ
ン染料、特開昭５８−１７３６９６号、特開昭５８−１
８１６９０号、特開昭５８−１９４５９５号等に記載の
メチン染料、特開昭５８−１１２７９３号、特開昭５８
−２２４７９３号、特開昭５９−４８１８７号、特開昭
５９−７３９９６号、特開昭６０−５２９４０号、特開
昭６０−６３７４４号等に記載のナフトキノン染料、特
開昭５８−１１２７９２号等に記載のスクワリリウム色
素、英国特許４３４，８７５号明細書に記載のシアニン
染料等が好ましい。

【０１７０】また、米国特許第５，１５６，９３８号明
細書に記載の近赤外吸収増感剤も好ましく、米国特許第
３，８８１，９２４号明細書に記載の置換されたアリー
ルベンゾ（チオ）ピリリウム塩、特開昭５７−１４２６
４５号（米国特許第４，３２７，１６９号明細書）に記
載のトリメチンチアピリリウム塩、特開昭５８−１８１
０５１号、同５８−２２０１４３号、同５９−４１３６
３号、同５９−８４２４８号、同５９−８４２４９号、
同５９−１４６０６３号、同５９−１４６０６１号に記
載のピリリウム系化合物、特開昭５９−２１６１４６号
に記載のシアニン色素、米国特許第４，２８３，４７５
号明細書に記載のペンタメチンチオピリリウム塩等、特
公平５−１３５１４号、同５−１９７０２号に記載のピ
リリウム化合物等も好ましい。

【０１７１】さらに、米国特許第４，７５６，９９３号
明細書に記載の式（Ｉ）、（II）で表される近赤外吸収
染料も好適なものとして挙げることができる。

【０１７２】上記のうち、シアニン色素、スクワリリウ
ム色素、ピリリウム塩、ニッケルチオレート錯体がより
好ましい。

【０１７３】前記顔料としては、市販の顔料又はカラー
インデックス（Ｃ．Ｉ．）便覧、「最新顔料便覧」（日
本顔料技術協会編、１９７７年刊）、「最新顔料応用技
術」（ＣＭＣ出版、１９８６年刊）、「印刷インキ技
術」（ＣＭＣ出版、１９８４年刊）に記載の顔料が挙げ
られ、例えば、黒色顔料、黄色顔料、オレンジ色顔料、
褐色顔料、赤色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑色顔料、
蛍光顔料、金属粉顔料、その他ポリマー結合色素が挙げ
られる。

【０１７４】具体的には、例えば、不溶性アゾ顔料、ア
ゾレーキ顔料、縮合アゾ顔料、キレートアゾ顔料、フタ
ロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、ペリレン及
びペリノン系顔料、チオインジゴ系顔料、キナクリドン
系顔料、ジオキサジン系顔料、イソインドリノン系顔
料、キノフタロン系顔料、染付けレーキ顔料、アジン顔
料、ニトロソ顔料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍光顔料、
無機顔料、カーボンブラック等が挙げられる。

【０１７５】中でも、カーボンブラックが好ましい。

【０１７６】前記顔料は、表面処理をせずに用いてもよ
いし、表面処理を施した後に用いてもよい。

【０１７７】表面処理の方法としては、樹脂やワックス
を表面コートする方法、界面活性剤を付着させる方法、
反応性物質（例えば、シランカップリング剤やエポキシ
化合物、ポリイソシアネート等）を顔料表面に結合させ
る方法等が挙げられる。これらの表面処理の方法は、
「金属石鹸の性質と応用」（幸書房）、「印刷インキ技
術」（ＣＭＣ出版、１９８４年刊）及び「最新顔料応用
技術」（ＣＭＣ出版、１９８６年刊）に記載されてい
る。

【０１７８】前記顔料の粒径としては、０．０１μｍ〜
１０μｍが好ましく、０．０５μｍ〜１μｍがより好ま
しく、０．１μｍ〜１μｍが最も好ましい。

【０１７９】前記粒径が、０．０１μｍ未満であると、
感光層塗布液等の分散液を調製したときの分散物の安定
性が劣化することがあり、１０μｍを超えると、画像記
録層の均一性が悪化することがある。

【０１８０】顔料を分散する方法としては、インク製造
やトナー製造等に汎用の分散機等、公知の分散技術から
適宜選択することができる。

【０１８１】前記分散機としては、超音波分散器、サン
ドミル、アトライター、パールミル、スーパーミル、ボ
ールミル、インペラー、デスパーザー、ＫＤミル、コロ
イドミル、ダイナトロン、３本ロールミル、加圧ニーダ
ー等が挙げられる。その詳細については、「最新顔料応
用技術」（ＣＭＣ出版、１９８６年刊）に記載がある。

【０１８２】画像記録材料中における、上述の染料又は
顔料の含有量としては、画像記録材料の全固形分重量に
対し、０．０１〜５０重量％が好ましく、０．１〜１０
重量％がより好ましく、さらに染料の場合には、０．５
〜１０重量％が最も好ましく、顔料の場合には、１．０
〜１０重量％が最も好ましい。

【０１８３】前記含有量が、０．０１重量％未満である
と、感度が低くなることがあり、５０重量％を超える
と、平版印刷用原版とした場合の非画像部に汚れが発生
することがある。

【０１８４】前記染料又は顔料は、他の成分と同一層に
添加してもよいし、別の層を設けてそこに添加してもよ
い。 ((Ｃ)酸発生剤)本実施の形態において、熱により分解し
て酸を発生する酸発生剤は、２００〜５００ｎｍの波長
領域の光を照射する又は１００℃以上に加熱することに
より、酸を発生する化合物をいう。

【０１８５】前記酸発生剤としては、光カチオン重合の
光開始剤、光ラジカル重合の光開始剤、色素類の光消色
剤、光変色剤、或いは、マイクロレジスト等に使用され
ている公知の酸発生剤等、熱分解して酸を発生しうる、
公知の化合物及びそれらの混合物等が挙げられる。

【０１８６】例えば、Ｓ．Ｉ．Ｓｃｈｌｅｓｉｎｇｅ
ｒ，Ｐｈｏｔｏｇｒ．Ｓｃｉ．Ｅｎｇ．，１８，３８７
（１９７４）、Ｔ．Ｓ．Ｂａｌ ｅｔ ａｌ，Ｐｏｌｙ
ｍｅｒ，２１，４２３（１９８０）に記載のジアゾニウ
ム塩、米国特許第４，０６９，０５５号、同４，０６
９，０５６号、同Ｒｅ２７，９９２号の各明細書、特開
平４−３６５０４９号に記載のアンモニウム塩、Ｄ．
Ｃ．Ｎｅｃｋｅｒ ｅｔａｌ，Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕ
ｌｅｓ，１７，２４６８（１９８４）、Ｃ．Ｓ．Ｗｅｎ
ｅｔ ａｌ，Ｔｅｈ，Ｐｒｏｃ．Ｃｏｎｆ．Ｒａｄ，
Ｃｕｒｉｎｇ ＡＳＩＡ，ｐ４７８ Ｔｏｋｙｏ，Ｏｃ
ｔ（１９８８）、米国特許第４，０６９，０５５号、同
４，０６９，０５６号の各明細書に記載のホスホニウム
塩、

【０１８７】Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ ｅｔ ａｌ，
Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ，１０（６），１３０７
（１９７７）、Ｃｈｅｍ．＆ Ｅｎｇ．Ｎｅｗｓ，Ｎｏ
ｖ．２８，ｐ３１（１９８８）、欧州特許第１０４、１
４３号、米国特許第３３９，０４９号、同第４１０，２
０１号の各明細書、特開平２−１５０８４８号、特開平
２−２９６５１４号に記載のヨードニウム塩、Ｊ．Ｖ．
Ｃｒｉｖｅｌｌｏ ｅｔａｌ，Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｊ．１
７，７３（１９８５）、Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ ｅ
ｔ ａｌ．Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，４３，３０５５
（１９７８）、Ｗ．Ｒ．Ｗａｔｔ ｅｔ ａｌ，Ｊ．Ｐ
ｏｌｙｍｅｒ Ｓｃｉ．，ＰｏｌｙｍｅｒＣｈｅｍ．Ｅ
ｄ．，２２，１７８９（１９８４）、Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖ
ｅｌｌｏｅｔ ａｌ，Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｂｕｌｌ．，１
４，２７９（１９８５）、

【０１８８】Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ ｅｔ ａｌ，
Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ，１４（５），１１４１
（１９８１）、Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ ｅｔ ａ
ｌ，Ｊ．Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｓｃｉ．，Ｐｏｌｙｍｅｒ
Ｃｈｅｍ．Ｅｄ．，１７，２８７７（１９７９）、欧州
特許第３７０，６９３号、同３９０，２１４号、同２３
３，５６７号、同２９７，４４３号、同２９７，４４２
号、米国特許第４，９３３，３７７号、同１６１，８１
１号、同４１０，２０１号、同３３９，０４９号、同
４，７６０，０１３号、同４，７３４，４４４号、同
２，８３３，８２７号、独国特許第２，９０４，６２６
号、同３，６０４，５８０号、同３，６０４，５８１号
の各明細書に記載のスルホニウム塩、

【０１８９】Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ ｅｔ ａｌ，
Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ，１０（６），１３０７
（１９７７）、Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ ｅｔ ａ
ｌ，Ｊ．Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｓｃｉ．，Ｐｏｌｙｍｅｒ
Ｃｈｅｍ．Ｅｄ．，１７，１０４７（１９７９）に記載
のセレノニウム塩、Ｃ．Ｓ．Ｗｅｎ ｅｔ ａｌ，Ｔｅ
ｈ，Ｐｒｏｃ．Ｃｏｎｆ．Ｒａｄ．Ｃｕｒｉｎｇ ＡＳ
ＩＡ，ｐ４７８ Ｔｏｋｙｏ，Ｏｃｔ（１９８８）に記
載のアルソニウム塩等のオニウム塩、

【０１９０】米国特許第３，９０５，８１５号明細書、
特公昭４６−４６０５号、特開昭４８−３６２８１号、
特開昭５５−３２０７０号、特開昭６０−２３９７３６
号、特開昭６１−１６９８３５号、特開昭６１−１６９
８３７号、特開昭６２−５８２４１号、特開昭６２−２
１２４０１号、特開昭６３−７０２４３号、特開昭６３
−２９８３３９号に記載の有機ハロゲン化合物、Ｋ．Ｍ
ｅｉｅｒ ｅｔ ａｌ，Ｊ．Ｒａｄ．Ｃｕｒｉｎｇ，１
３（４），２６（１９８６），Ｔ．Ｐ．Ｇｉｌｌｅｔ
ａｌ，Ｉｎｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，１９，３００７（１９
８０）、Ｄ．Ａｓｔｒｕｃ，Ａｃｃ．Ｃｈｅｍ．Ｒｅ
ｓ．，１９（１２），３７７（１８９６）、特開平２−
１６１４４５号公報に記載の有機金属／有機ハロゲン化
物、

【０１９１】Ｓ．Ｈａｙａｓｅ ｅｔ ａｌ，Ｊ．Ｐｏ
ｌｙｍｅｒ Ｓｃｉ．，２５，７５３（１９８７）、
Ｅ．Ｒｅｉｃｈｍａｎｉｓ ｅｔ ａｌ，Ｊ．Ｐｏｌｙ
ｍｅｒＳｃｉ．，Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｃｈｅｍ．Ｅｄ．，
２３，１（１９８５）、Ｑ．Ｑ．Ｚｈｕ ｅｔ ａｌ，
Ｊ Ｐｈｏｔｏｃｈｅｍ．，３６，８５，３９，３１７
（１９８７）、Ｂ．Ａｍｉｔ ｅｔ ａｌ，Ｔｅｔｒａ
ｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔ．，（２４）２２０５（１９７
３）、

【０１９２】Ｄ．Ｈ．Ｒ．Ｂａｒｔｏｎ ｅｔ ａｌ，
Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．３５７１（１９６５）、Ｐ．
Ｍ．Ｃｏｌｌｉｎｓ ｅｔ ａｌ，Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏ
ｃ．，Ｐｅｒｋｉｎ Ｉ，１６９５（１９７５）、Ｍ．
Ｒｕｄｉｎｓｔｅｉｎ ｅｔ ａｌ，Ｔｅｔｒａｈｅｄ
ｒｏｎ Ｌｅｔｔ．，（１７），１４４５（１９７
５）、Ｊ．Ｗ．Ｗａｌｋｅｒ ｅｔ ａｌ，Ｊ．Ａｍ．
Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，１１０，７１７０（１９８８）、
Ｓ．Ｃ．Ｂｕｓｍａｎ ｅｔ ａｌ，Ｊ．Ｉｍａｇｉｎ
ｇ Ｔｅｃｈｎｏｌ．，１１（４），１９１（１９８
５）、Ｈ．Ｍ．Ｈｏｕｌｉｈａｎ ｅｔ ａｌ，Ｍａｃ
ｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ，２１，２００１（１９８
８）、Ｐ．Ｍ．Ｃｏｌｌｉｎｓ ｅｔ ａｌ，Ｊ．Ｃｈ
ｅｍ．Ｓｏｃ．，Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍｕｎ．，５３２
（１９７２）、Ｓ．Ｈａｙａｓｅ ｅｔ ａｌ，Ｍａｃ
ｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ，１８，１７９９（１９８
５）、

【０１９３】Ｅ．Ｒｅｉｃｈｍａｎｉｓ ｅｔ ａｌ，
Ｊ．Ｅｌｅｃｔｒｏｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，Ｓｏｌｉｄ
Ｓｔａｔｅ Ｓｃｉ．Ｔｅｃｈｎｏｌ．，１３０
（６）、Ｆ．Ｍ．Ｈｏｕｌｉｈａｎ ｅｔ ａｌ，Ｍａ
ｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ，２１，２００１（１９８
８）、欧州特許第０２９０，７５０号、同０４６，０８
３号、同１５６，５３５号、同２７１，８５１号、同
０，３８８，３４３号、米国特許第３，９０１，７１０
号、同４，１８１，５３１号の各明細書、特開昭６０−
１９８５３８号、特開昭５３−１３３０２２号に記載の
ｏ−ニトロベンジル型保護基を有する光酸発生剤、

【０１９４】Ｍ．Ｔｕｎｏｏｋａ ｅｔ ａｌ，Ｐｏｌ
ｙｍｅｒ Ｐｒｅｐｒｉｎｔｓ Ｊａｐａｎ，３８
（８）、Ｇ．Ｂｅｒｎｅｒ ｅｔ ａｌ，Ｊ．Ｒａｄ．
Ｃｕｒｉｎｇ，１３（４）、Ｗ．Ｊ．Ｍｉｊｓ ｅｔ
ａｌ，ＣｏａｔｉｎｇＴｅｃｈｎｏｌ．，５５（６９
７），４５（１９８３）、Ａｋｚｏ，Ｈ．Ａｄａｃｈｉ
ｅｔａｌ，Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｐｒｅｐｒｉｎｔｓ，Ｊ
ａｐａｎ，３７（３）、欧州特許第０１９９，６７２
号、同８４５１５号、同１９９，６７２号、同０４４，
１１５号、同０１０１，１２２号、米国特許第４，６１
８，５６４号、同４，３７１，６０５号、同４，４３
１，７７４号の各明細書、特開昭６４−１８１４３号、
特開平２−２４５７５６号、特願平３−１４０１０９号
に記載のイミノスルフォネート等に代表される、光分解
してスルホン酸を発生する化合物、特開昭６１−１６６
５４４号に記載のジスルホン化合物を挙げることができ
る。

【０１９５】また、これら酸を発生する基又は化合物
を、ポリマーの主鎖若しくは側鎖に導入した化合物も好
適に挙げることができ、例えば、Ｍ．Ｅ．Ｗｏｏｄｈｏ
ｕｓｅｅｔ ａｌ，Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，１
０４，５５８６（１９８２）、Ｓ．Ｐ．Ｐａｐｐａｓ
ｅｔ ａｌ，Ｊ．Ｉｍａｇｉｎｇ Ｓｃｉ．，３０
（５），２１８（１９８６）、Ｓ．Ｋｏｎｄｏ ｅｔ
ａｌ． Ｍａｋｒｏｍｏｌ．Ｃｈｅｍ．，ＲａｐｉｄＣ
ｏｍｍｕｎ．，９，６２５（１９８８）、Ｙ．Ｙａｍａ
ｄａ ｅｔ ａｌ，Ｍａｋｒｏｍｏｌ．Ｃｈｅｍ．，１
５２，１５３，１６３（１９７２）、Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖ
ｅｌｌｏ ｅｔ ａｌ．Ｊ．ＰｏｌｙｍｅｒＳｃｉ．，
Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｃｈｅｍ．Ｅｄ．，１７，３８４５
（１９７９）、米国特許第３，８４９，１３７号、独国
特許第３，９１４，４０７号の各明細書、特開昭６３−
２６６５３号、特開昭５５−１６４８２４号、特開昭６
２−６９２６３号、特開昭６３−１４６０３７号、特開
昭６３−１６３４５２号、特開昭６２−１５３８５３
号、特開昭６３−１４６０２９号に記載の化合物が挙げ
られる。

【０１９６】さらに、Ｖ．Ｎ．Ｒ．Ｐｉｌｌａｉ，Ｓｙ
ｎｔｈｅｓｉｓ，（１），１（１９８０）、Ａ．Ａｂａ
ｄ ｅｔ ａｌ，Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔ
ｔ．，（４７）４５５５（１９７１）、Ｄ．Ｈ．Ｒ．Ｂ
ａｒｔｏｎ ｅｔ ａｌ，Ｊ．Ｃｈｅｍ，Ｓｏｃ，．
（Ｂ），３２９（１９７０）、米国特許第３，７７９，
７７８号、欧州特許第１２６，７１２号の各明細書等に
記載の、光により酸を発生する化合物も使用可能であ
る。

【０１９７】上述の酸発生剤のうち、下記一般式（Ｉ）
〜（Ｖ）で表される化合物が好ましい。

【０１９８】

【化７】

【０１９９】前記一般式（Ｉ）〜（Ｖ）中、Ｒ¹、Ｒ²、
Ｒ⁴及びＲ⁵は、同一でも異なっていてもよく、置換基を
有していてもよい炭素数２０以下の炭化水素基を表す。
Ｒ³は、ハロゲン原子、置換基を有していてもよい炭素
数１０以下の炭化水素基又は炭素数１０以下のアルコキ
シ基を表す。Ａｒ¹、Ａｒ²は、同一でも異なっていても
よく、置換基を有していてもよい炭素数２０以下のアリ
ール基を表す。Ｒ⁶は、置換基を有していてもよい炭素
数２０以下の２価の炭化水素基を表す。ｎは、０〜４の
整数を表す。

【０２００】前記式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁴及びＲ⁵は、炭素
数１〜１４の炭化水素基が好ましい。

【０２０１】前記炭化水素基としては、例えば、メチル
基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−
ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ヘキシル
基、シクロヘキシル基、オクチル基、２−エチルヘキシ
ル基、ウンデシル基、ドデシル基等のアルキル基；アリ
ル基、ビニル基、１−メチルビニル基、２−フェニルビ
ニル基等のアルケニル基；ベンジル基等のアラルキル
基；フェニル基、トリル基、キシリル基、クメニル基、
メシチル基、ドデシルフェニル基、フェニルフェニル
基、ナフチル基、アントラセニル基等のアリール基等が
挙げられる。

【０２０２】これらの炭化水素基は、例えば、ハロゲン
原子、アルコキシ基、ニトロ基、シアノ基、カルボキシ
基等の置換基を有していてもよい。

【０２０３】式中、Ｒ³は、ハロゲン原子；置換基を有
していてもよい、アルキル基、アルケニル基、アラルキ
ル基、アリール基等の炭素数１０以下の炭化水素基又は
炭素数１０以下のアルコキシ基を表す。

【０２０４】具体的には、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素
のハロゲン原子；メチル基、エチル基、ｎ−プロピル
基、ｉ−プロピル基、アリル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ
−ブチル基、ｔ−ブチル基、ヘキシル基、シクロヘキシ
ル基、ベンジル基、フェニル基、トリル基等の炭化水素
基；２−メトキシエチル基、フルオロフェニル基、クロ
ロフェニル基、ブロモフェニル基、ヨードフェニル基、
メトキシフェニル基等の置換基を有する炭化水素基；メ
トキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基が挙げられる。

【０２０５】また、ｎが２以上の場合、隣接する２個の
Ｒ³は互いに結合し縮環していてもよい。

【０２０６】前記式中、Ａｒ¹、Ａｒ²は、同一であって
も異なっていてもよく、置換基を有していてもよい炭素
数２０以下のアリール基を表し、中でも、炭素数６〜１
４のアリール基が好ましい。

【０２０７】具体的には、フェニル基、トリル基、キシ
リル基、クメニル基、メシチル基、ドデシルフェニル
基、フェニルフェニル基、ナフチル基、フルオロフェニ
ル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、ヨードフ
ェニル基、クロロナフチル基、メトキシフェニル基、フ
ェノキシフェニル基、エトキシナフチル基、ニトロフェ
ニル基、シアノフェニル基、カルボキシフェニル基、ニ
トロナフチル基、アントラセニル基等が挙げられる。

【０２０８】前記式中、Ｒ⁶は、置換基を有していても
よい炭素数２０以下の２価の炭化水素基を表し、例え
ば、アルキレン基、アルケニレン基、アラルキレン基、
アリーレン基が挙げられる。

【０２０９】具体的には、エチニレン基、１，２−シク
ロヘキセニレン基、１，２−フェニレン基、４−クロロ
−１，２−フェニレン基、４−ニトロ−１，２−フェニ
レン基、４−メチル−１，２−フェニレン基、４ーメト
キシ−１，２−フェニレン基、４−カルボキシ−１，２
−フェニレン基、１，８−ナフタレニレン基等が挙げら
れる。

【０２１０】式中、ｎは、０〜４の整数を表し、ｎが０
の場合には、Ｒ³は存在せず、水素原子が結合している
ことを表す。

【０２１１】前記一般式（Ｉ）〜（Ｖ）で表される酸発
生剤のうち、本発明においては、以下に挙げる化合物が
好ましい。尚、これらの化合物は、例えば、特開平２−
１０００５４号、特開平２−１０００５５号に記載の方
法により合成することができる。

【０２１２】

【化８】

【０２１３】

【化９】

【０２１４】

【化１０】

【０２１５】

【化１１】

【０２１６】

【化１２】

【０２１７】

【化１３】

【０２１８】

【化１４】

【０２１９】

【化１５】

【０２２０】

【化１６】

【０２２１】

【化１７】

【０２２２】

【化１８】

【０２２３】また、（Ｃ）酸発生剤として、ハロゲン化
物やスルホン酸等を対イオンとするオニウム塩も挙げる
ことができ、中でも、下記一般式（ＶＩ）〜（ＶIII）
で表されるヨードニウム塩、スルホニウム塩、ジアゾニ
ウム塩のいずれかの構造式を有するものを好適に挙げる
ことができる。

【０２２４】

【化１９】

【０２２５】前記一般式（ＶＩ）〜（ＶIII）中、Ｘ
^-は、ハロゲン化物イオン、ＣｌＯ₄ ^-、ＰＦ₆ ^-、ＳｂＦ₆
^-、ＢＦ₄ ^-又はＲ⁷ＳＯ₃ ^-を表し、ここで、Ｒ⁷は、置換
基を有していてもよい炭素数２０以下の炭化水素基を表
す。Ａｒ³、Ａｒ⁴は、それぞれ独立に、置換基を有して
いてもよい炭素数２０以下のアリール基を表す。Ｒ⁸、
Ｒ⁹、Ｒ¹⁰は、置換基を有していてもよい炭素数１８以
下の炭化水素基を表す。

【０２２６】前記Ｘ^-としては、Ｒ⁷ＳＯ₃ ^-が好ましい。
Ｒ⁷で表される炭化水素基としては、例えば、メチル
基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、アリ
ル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル
基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、オクチル基、２−
エチルヘキシル基、ドデシル基等のアルキル基；ビニル
基、１−メチルビニル基、２−フェニルビニル基等のア
ルケニル基；ベンジル基、フェネチル基等のアラルキル
基；フェニル基、トリル基、キシリル基、クメニル基、
メシチル基、ドデシルフェニル基、フェニルフェニル
基、ナフチル基、アントラセニル基等のアリール基が挙
げられる。

【０２２７】従って、Ｒ⁷で表される置換基を有する炭
化水素基としては、トリフルオロメチル基、２−メトキ
シエチル基、１０−カンファーニル基、フルオロフェニ
ル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、ヨードフ
ェニル基、メトキシフェニル基、ヒドロキシフェニル
基、フェノキシフェニル基、ニトロフェニル基、シアノ
フェニル基、カルボキシフェニル基、メトキシナフチル
基、ジメトキシアントラセニル基、ジエトキシアントラ
セニル基、アントラキノニル基等が挙げられる。

【０２２８】式中、Ａｒ³、Ａｒ⁴は、それぞれ独立に、
置換基を有していてもよい炭素数２０以下のアリール基
を表し、具体的には、フェニル基、トリル基、キシリル
基、クメニル基、メシチル基、ドデシルフェニル基、フ
ェニルフェニル基、ナフチル基、アントラセニル基、フ
ルオロフェニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル
基、ヨードフェニル基、メトキシフェニル基、ヒドロキ
シフェニル基、フェノキシフェニル基、ニトロフェニル
基、シアノフェニル基、カルボキシフェニル基、アニリ
ノフェニル基、アニリノカルボニルフェニル基、モルホ
リノフェニル基、フェニルアゾフェニル基、メトキシナ
フチル基、ヒドロキシナフチル基、ニトロナフチル基、
アントラキノニル基等が挙げられる。

【０２２９】式中、Ｒ⁸、Ｒ⁹、Ｒ¹⁰は、それぞれ独立
に、置換基を有していてもよい炭素数１８以下の炭化水
素基を表し、具体的には、メチル基、エチル基、ｎ−プ
ロピル基、ｉ−プロピル基、アリル基、ｎ−ブチル基、
ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ヘキシル基、シクロ
ヘキシル基、ベンジル基、フェニル基、トリル基、ｔ−
ブチルフェニル基、ナフチル基、アントラセニル基、等
の炭化水素基、２−メトキシエチル基、フルオロフェニ
ル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、ヨードフ
ェニル基、メトキシフェニル基、ヒドロキシフェニル
基、フェニルチオフェニル基、ヒドロキシナフチル基、
メトキシナフチル基、ベンゾイルメチル基、ナフトイル
メチル基等が挙げられる。

【０２３０】また、Ｒ⁸及びＲ⁹が互いに縮合して環を形
成していてもよい。

【０２３１】前記一般式（ＶＩ）〜（ＶIII）で表され
るオニウム塩のカチオン部としては、ヨードニウムイオ
ン、スルホニウムイオン、ジアゾニウムイオンが挙げら
れる。

【０２３２】以下に、前記オニウム塩のカチオン部の具
体例を示すが、本発明においては、これらに限定される
ものではない。

【０２３３】

【化２０】

【０２３４】

【化２１】

【０２３５】

【化２２】

【０２３６】

【化２３】

【０２３７】

【化２４】

【０２３８】一方、前記オニウム塩のカウンターアニオ
ンとしては、スルホネートイオンが好ましく、以下に、
その具体例を示すが、本発明においてはこれらに限定さ
れるものではない。 １）メタンスルホネート、 ２）エタンスルホネート、 ３）１−プロパンスルホネート、 ４）２−プロパンスルホネート、 ５）ｎ−ブタンスルホネート、 ６）アリルスルホネート、 ７）１０−カンファースルホネート、 ８）トリフルオロメタンスルホネート、 ９）ペンタフルオロエタンスルホネート、 １０）ベンゼンスルホネート、 １１）ｐ−トルエンスルホネート、 １２）３−メトキシベンゼンスルホネート、 １３）４−メトキシベンゼンスルホネート、 １４）４−ヒドロキシベンゼンスルホネート、 １５）４−クロロベンゼンスルホネート、 １６）３−ニトロベンゼンスルホネート、 １７）４−ニトロベンゼンスルホネート、 １８）４−アセチルベンゼンスルホネート、 １９）ペンタフルオロベンゼンスルホネート、 ２０）４−ドデシルベンゼンスルホネート、 ２１）メシチレンスルホネート、 ２２）２、４、６−トリイソプロピルベンゼンスルホネ
ート、 ２３）２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン−
５−スルホネート、 ２４）イソフタル酸ジメチル−５−スルホネート、 ２５）ジフェニルアミン−４−スルホネート、 ２６）１−ナフタレンスルホネート、 ２７）２−ナフタレンスルホネート、 ２８）２−ナフトール−６−スルホネート、 ２９）２−ナフトール−７−スルホネート、 ３０）アントラキノン−１−スルホネート、 ３１）アントラキノン−２−スルホネート、 ３２）９、１０−ジメトキシアントラセン−２−スルホ
ネート、 ３３）９、１０−ジエトキシアントラセン−２−スルホ
ネート、 ３４）キノリン−８−スルホネート、 ３５）８−ヒドロキシキノリン−５−スルホネート、 ３６）８−アニリノ−ナフタレン−１−スルホネート 等が挙げられる。さらに、 ４１）ｍ−ベンゼンジスルホネート、 ４２）ベンズアルデヒド−２、４−ジスルホネート、 ４３）１、５−ナフタレンジスルホネート、 ４４）２、６−ナフタレンジスルホネート、 ４５）２、７−ナフタレンジスルホネート、 ４６）アントラキノン−１、５−ジスルホネート、 ４７）アントラキノン−１、８−ジスルホネート、 ４８）アントラキノン−２、６−ジスルホネート、 ４９）９、１０−ジメトキシアントラセン−２、６−ジ
スルホネート、 ５０）９、１０−ジエトキシアントラセン−２、６−ジ
スルホネート、 等のジスルホネート類とオニウム塩カチオン２当量との
塩も使用可能である。

【０２３９】上述のオニウム塩スルホネートは、対応す
るＣｌ- 塩等を、スルホン酸、スルホン酸ナトリウム又
はカリウム塩とともに水中、或いは、アルコール等の親
水性溶媒と水との混合溶媒中で混ぜ合わせて塩交換を行
うことにより得ることができる。

【０２４０】オニウム塩の合成は、既知の方法で行うこ
とができ、例えば、丸善・新実験化学講座１４−Ｉ巻の
２・３章（ｐ．４４８）、１４−III 巻の８・１６章
（ｐ．１８３８）、同７・１４章（ｐ．１５６４）、
Ｊ．Ｗ．Ｋｎａｐｃｚｙｋ他、ジャーナル オブ アメ
リカン ケミカルソサエティ（Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓ
ｏｃ．）９１巻、１４５（１９６９）、Ａ．Ｌ．Ｍａｙ
ｃｏｋ他、ジャーナル オブ オーガニック ケミスト
リィ（Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．）３５巻、２５３２（１
９７０）、Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ他、ポリマー ケ
ミストリィ エディション（Ｐｏｌｙｍ．Ｃｈｅｍ．Ｅ
ｄ．）１８巻、２６７７（１９８０）、米国特許第２，
８０７，６４８号、同４，２４７，４７３号の各明細
書、特開昭５３−１０１３３１号、特公平５−５３１６
６号等に記載の方法により合成することができる。

【０２４１】本発明で酸発生剤として好適に使用される
オニウム塩スルホネートとしては、具体的には、以下に
挙げるものが好ましい。

【０２４２】

【化２５】

【０２４３】

【化２６】

【０２４４】

【化２７】

【０２４５】

【化２８】

【０２４６】

【化２９】

【０２４７】

【化３０】

【０２４８】

【化３１】

【０２４９】

【化３２】

【０２５０】

【化３３】

【０２５１】

【化３４】

【０２５２】

【化３５】

【０２５３】

【化３６】

【０２５４】酸発生剤の添加量としては、画像記録材料
の全固形分重量に対し０．０１〜５０重量％が好まし
く、０．１〜２５重量％がより好ましく、０. ５〜２０
重量％が最も好ましい。

【０２５５】前記添加量が、０．０１重量％未満である
と、画像が得られないことがあり、５０重量％を超える
と、平版印刷用原版とした時の印刷時において非画像部
に汚れが発生することがある。

【０２５６】上述の酸発生剤は単独で使用してもよい
し、２種以上を組合わせて使用してもよい。

【０２５７】((Ｄ)架橋剤)次に、架橋剤について説明す
る。架橋剤としては、以下のものが挙げられる。 （ｉ）ヒドロキシメチル基若しくはアルコキシメチル基
で置換された芳香族化合物 （ii）Ｎ−ヒドロキシメチル基、Ｎ−アルコキシメチル
基若しくはＮ−アシルオキシメチル基を有する化合物 (iii) エポキシ化合物 以下、前記（ｉ）〜（iii）の化合物について詳述す
る。

【０２５８】前記（ｉ）ヒドロキシメチル基若しくはア
ルコキシメチル基で置換された芳香族化合物としては、
例えば、ヒドロキシメチル基、アセトキシメチル基若し
くはアルコキシメチル基でポリ置換されている芳香族化
合物又は複素環化合物が挙げられる。但し、レゾール樹
脂として知られるフェノール類とアルデヒド類とを塩基
性条件下で縮重合させた樹脂状の化合物も含まれる。

【０２５９】ヒドロキシメチル基又はアルコキシメチル
基でポリ置換された芳香族化合物又は複素環化合物のう
ち、中でも、ヒドロキシ基に隣接する位置にヒドロキシ
メチル基又はアルコキシメチル基を有する化合物が好ま
しい。

【０２６０】また、アルコキシメチル基でポリ置換され
た芳香族化合物又は複素環化合物では、中でも、アルコ
キシメチル基が炭素数１８以下の化合物が好ましく、下
記一般式（１）〜（４）で表される化合物がより好まし
い。

【０２６１】

【化３７】

【０２６２】

【化３８】

【０２６３】前記一般式（１）〜（４）中、Ｌ₁〜Ｌ
₈は、それぞれ独立に、メトキシメチル、エトキシメチ
ル等の、炭素数１８以下のアルコキシ基で置換されたヒ
ドロキシメチル基又はアルコキシメチル基を表す。

【０２６４】これらの架橋剤は、架橋効率が高く、耐刷
性を向上できる点で好ましい。

【０２６５】（ii）Ｎ−ヒドロキシメチル基、Ｎ−アル
コキシメチル基若しくはＮ−アシルオキシメチル基を有
する化合物としては、欧州特許公開（以下、「ＥＰ−
Ａ」と示す。）第０，１３３，２１６号、西独特許第
３，６３４，６７１号、同第３，７１１，２６４号に記
載の、単量体及びオリゴマー−メラミン−ホルムアルデ
ヒド縮合物並びに尿素−ホルムアルデヒド縮合物、ＥＰ
−Ａ第０，２１２，４８２号明細書に記載のアルコキシ
置換化合物等が挙げられる。

【０２６６】中でも、例えば、少なくとも２個の遊離Ｎ
−ヒドロキシメチル基、Ｎ−アルコキシメチル基若しく
はＮ−アシルオキシメチル基を有するメラミン−ホルム
アルデヒド誘導体が好ましく、Ｎ−アルコキシメチル誘
導体が最も好ましい。

【０２６７】(iii) エポキシ化合物としては、１以上の
エポキシ基を有する、モノマー、ダイマー、オリゴマ
ー、ポリマー状のエポキシ化合物が挙げられ、例えば、
ビスフェノールＡとエピクロルヒドリンとの反応生成
物、低分子量フェノール−ホルムアルデヒド樹脂とエピ
クロルヒドリンとの反応生成物等が挙げられる。

【０２６８】その他、米国特許第４，０２６，７０５
号、英国特許第１，５３９，１９２号の各明細書に記載
され、使用されているエポキシ樹脂を挙げることができ
る。

【０２６９】架橋剤として、前記（ｉ）〜（iii）の化
合物を用いる場合の添加量としては、画像記録材料の全
固形分重量に対し５〜８０重量％が好ましく、１０〜７
５重量％がより好ましく、２０〜７０重量％が最も好ま
しい。

【０２７０】前記添加量が、５重量％未満であると、得
られる画像記録材料の感光層の耐久性が低下することが
あり、８０重量％を超えると、保存時の安定性が低下す
ることがある。

【０２７１】本発明においては、架橋剤として、（iv）
下記一般式（５）で表されるフェノール誘導体も好適に
使用することができる。

【０２７２】

【化３９】

【０２７３】前記一般式（５）中、Ａｒ¹は、置換基を
有していてもよい芳香族炭化水素環を表す。

【０２７４】原料の入手性の点で、前記芳香族炭化水素
環としては、ベンゼン環、ナフタレン環又はアントラセ
ン環が好ましい。また、その置換基としては、ハロゲン
原子、炭素数１２以下の炭化水素基、炭素数１２以下の
アルコキシ基、炭素数１２以下のアルキルチオ基、シア
ノ基、ニトロ基、トリフルオロメチル基等が好ましい。

【０２７５】上記のうち、高感度化が可能である点で、
Ａｒ¹としては、置換基を有していないベンゼン環、ナ
フタレン環、或いは、ハロゲン原子、炭素数６以下の炭
化水素基、炭素数６以下のアルコキシ基、炭素数６以下
のアルキルチオ基又はニトロ基等を置換基として有する
ベンゼン環又はナフタレン環がより好ましい。

【０２７６】前記一般式（５）中、Ｒ¹及びＲ²は、それ
ぞれ同一でも異なっていてもよく、水素原子又は炭素数
１２以下の炭化水素基を表し、中でも、合成が容易であ
るという観点から、水素原子又はメチル基が好ましい。

【０２７７】また、Ｒ³は、水素原子又は炭素数１２以
下の炭化水素基を表し、高感度化が可能である点で、例
えば、メチル基、エチル基、プロピル基、シクロヘキシ
ル基、ベンジル基等の炭素数７以下の炭化水素基が好ま
しい。

【０２７８】ｍは、２〜４の整数を表し、ｎは、１〜３
の整数を表す。

【０２７９】前記一般式（５）で表されるフェノール誘
導体の具体例を以下に示す（架橋剤［ＫＺ−１］〜［Ｋ
Ｚ−８］）が、本発明においては、これらに制限される
ものではない。

【０２８０】

【化４０】

【０２８１】

【化４１】

【０２８２】前記フェノール誘導体は、従来公知の方法
により合成することができる。

【０２８３】例えば、前記例示の［ＫＺ−１］は、フェ
ノールと、ホルムアルデヒドと、ジメチルアミンやモル
ホリン等の２級アミンとを反応させ、トリ（ジアルキル
アミノメチル）フェノールとし、次に無水酢酸と反応さ
せ、さらに炭酸カリウム等の弱アルカリ存在下でエタノ
ールと反応させることにより、下記反応式［１］に表す
経路の合成方法により合成することができる。

【０２８４】

【化４２】

【０２８５】また、別の方法によっても合成することが
できる。

【０２８６】例えば、前記例示の［ＫＺ−１］は、フェ
ノールとホルムアルデヒド又はパラホルムアルデヒド
を、ＫＯＨ等のアルカリ存在下で反応させて２，４，６
−トリヒドロキシメチルフェノールとし、引き続き硫酸
等の酸の存在下でエタノールと反応させることにより、
下記反応式［２］に表す経路の合成方法により合成する
ことができる。

【０２８７】

【化４３】

【０２８８】前記フェノール誘導体は、単独で用いても
よいし、２種類以上を組合わせて用いてもよい。

【０２８９】前記フェノール誘導体を合成する際に、フ
ェノール誘導体同士が縮合して２量体や３量体等の不純
物を副生成する場合があるが、本発明においては、これ
らの不純物を含有したまま使用してもよい。尚、前記不
純物の含有量としては、３０％以下が好ましく、２０％
以下がより好ましい。

【０２９０】前記フェノール誘導体の添加量としては、
画像記録材料の全固形分重量に対し５〜７０重量％が好
ましく、１０〜５０重量％がより好ましい。

【０２９１】前記添加量が、５重量％未満であると、画
像記録した際の画像部の膜強度が低下することがあり、
７０重量％を越えると、保存時の安定性が劣化すること
がある。

【０２９２】(その他)本発明においては、必要に応じ
て、前記（Ａ）〜（Ｄ）以外に、後述の種々の化合物を
添加することもできる。

【０２９３】例えば、可視光域に大きな吸収を持つ染料
を、画像の着色剤として使用することができる。

【０２９４】前記着色剤としては、例えば、オイルイエ
ロー＃１０１、オイルイエロー＃１０３、オイルピンク
＃３１２、オイルグリーンＢＧ、オイルブルーＢＯＳ、
オイルブルー＃６０３、オイルブラックＢＹ、オイルブ
ラックＢＳ、オイルブラックＴ−５０５（以上、オリエ
ント化学工業（株）製）、ビクトリアピュアブルー、ク
リスタルバイオレット（ＣＩ４２５５５）、メチルバイ
オレット（ＣＩ４２５３５）、エチルバイオレット、ロ
ーダミンＢ（ＣＩ１４５１７０Ｂ）、マラカイトグリー
ン（ＣＩ４２０００）、メチレンブルー（ＣＩ５２０１
５）等、或いは、特開昭６２−２９３２４７号公報に記
載の染料等を挙げることができる。

【０２９５】これらの染料を添加することにより、画像
形成後の画像部と非画像部の区別が明瞭となり、高コン
トラストな画像とすることができることから添加する方
が好ましい。その添加量としては、画像記録材料の全固
形分重量に対し、０．０１〜１０重量％が好ましい。

【０２９６】現像時の現像条件に対する処理安定性を高
める目的で、特開昭６２−２５１７４０号、特開平３−
２０８５１４号に記載の非イオン界面活性剤や特開昭５
９−１２１０４４号、特開平４−１３１４９号に記載の
両性界面活性剤を添加することができる。

【０２９７】前記非イオン界面活性剤としては、例え
ば、ソルビタントリステアレート、ソルビタンモノパル
ミテート、ソルビタントリオレート、ステアリン酸モノ
グリセリド、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテ
ル等が挙げられる。

【０２９８】前記両性界面活性剤としては、例えば、ア
ルキルジ（アミノエチル）グリシン、アルキルポリアミ
ノエチルグリシン塩酸塩、２−アルキル−Ｎ−カルボキ
シエチル−Ｎ−ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタ
イン、Ｎ−テトラデシル−Ｎ，Ｎ−ベタイン型（商品
名：アモーゲンＫ，第一工業（株）製等）等が挙げられ
る。

【０２９９】前記非イオン界面活性剤及び両性界面活性
剤の画像記録材料中への添加量としては、画像記録材料
の全固形分重量に対し０．０５〜１５重量％が好まし
く、０．１〜５重量％がより好ましい。

【０３００】また、本発明の画像記録材料を支持体上に
塗布する場合には、必要に応じて、その塗膜に柔軟性等
を付与する目的で、可塑剤を添加することもできる。

【０３０１】前記可塑剤としては、例えば、ポリエチレ
ングリコール、クエン酸トリブチル、フタル酸ジエチ
ル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジヘキシル、フタル酸
ジオクチル、リン酸トリクレジル、リン酸トリブチル、
リン酸トリオクチル、オレイン酸テトラヒドロフルフリ
ル等が挙げられる。

【０３０２】本発明の画像記録材料は、通常、前述の各
種成分（即ち、前記成分（Ａ）〜（Ｄ）及びその他の成
分等）を溶媒に溶解し、塗布液の状態（以下、「感光層
用塗布液」という場合がある。）で使用する。従って、
本発明の平版印刷用原版は、各種成分を含有する前記感
光層用塗布液を所望の支持体上に塗布、乾燥して感光層
を塗設することにより作製することができる。

【０３０３】前記溶媒としては、エチレンジクロライ
ド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、メタノー
ル、エタノール、プロパノール、エチレングリコールモ
ノメチルエーテル、１−メトキシ−２−プロパノール、
２−メトキシエチルアセテート、１−メトキシ−２−プ
ロピルアセテート、ジメトキシエタン、乳酸メチル、乳
酸エチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジ
メチルホルムアミド、テトラメチルウレア、Ｎ−メチル
ピロリドン、ジメチルスルホキシド、スルホラン、γ−
ブチルラクトン、トルエン、水等が挙げられる。但し、
本発明においては、これに限定されるものではない。こ
れらの溶媒は、１種単独又は混合して使用することがで
きる。

【０３０４】溶媒中における前述の各種成分（即ち、前
記成分（Ａ）〜（Ｄ）及びその他の成分等）の全固形分
濃度としては、塗布液状の画像記録材料の全重量に対し
１〜５０重量％が好ましい。

【０３０５】前記各種成分を有する感光層用塗布液を支
持体上に塗布する場合、塗布、乾燥後の固形分塗布量と
しては、用途により異なるが、平版印刷用原版を作製す
る場合には、一般に、０．５〜５．０ｇ／ｍ²が好まし
い。

【０３０６】塗布量が少なくなるにつれて、見かけの感
度は大になるが、画像記録膜の被膜特性は低下すること
がある。

【０３０７】支持体上に、画像記録材料（感光層用塗布
液）を塗布する方法としては、公知の塗布方法の中から
適宜選択して用いることができ、例えば、バーコーター
塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布、ディッ
プ塗布、エアーナイフ塗布、ブレード塗布、ロール塗布
等が挙げられる。

【０３０８】本発明の画像記録材料には、塗布性を良化
する目的で、界面活性剤、例えば、特開昭６２−１７０
９５０号に記載のフッ素系界面活性剤を添加することが
できる。

【０３０９】前記界面活性剤の添加量としては、画像記
録材料の全固形分重量に対し０．０１〜１重量％が好ま
しく、０．０５〜０．５重量％がより好ましい。

【０３１０】さらに、ハンドリング時に付着した指紋等
の汚れによる画像抜けを防止するために、芳香族炭化水
素基と、水素原子がフッ素原子で置換されたフルオロ脂
肪族炭化水素基とを有する高分子化合物を含むように構
成することもできる。

【０３１１】［その他］ (下塗り層)また、架橋層をアルミニウム支持体に形成す
る前に、必要に応じて、下塗り層を設けることもでき
る。

【０３１２】下塗り層に用いる成分としては、種々の有
機化合物が挙げられ、例えば、カルボキシメチルセルロ
ース、デキストリン、アラビアガム、２−アミノエチル
ホスホン酸等のアミノ基を有するホスホン酸類；置換基
を有してもよいフェニルホスホン酸、ナフチルホスホン
酸、アルキルホスホン酸、グリセロホスホン酸、メチレ
ンジホスホン酸及びエチレンジホスホン酸等の有機ホス
ホン酸；置換基を有してもよいフェニルリン酸、ナフチ
ルリン酸、アルキルリン酸及びグリセロリン酸等の有機
リン酸；置換基を有してもよいフェニルホスフィン酸、
ナフチルホスフィン酸、アルキルホスフィン酸及びグリ
セロホスフィン酸等の有機ホスフィン酸；グリシンやβ
−アラニン等のアミノ酸類；トリエタノールアミンの塩
酸塩等のヒドロキシル基を有するアミンの塩酸塩等が挙
げられる。

【０３１３】前記有機化合物は、１種単独で用いてもよ
く、２種以上を混合して用いてもよい。また、前述した
ジアゾニウム塩を下塗りすることも好ましい態様であ
る。

【０３１４】前記下塗り層の塗布量としては、２〜２０
０ｍｇ／ｍ²が好ましく、５〜１００ｍｇ／ｍ²がより好
ましい。前記塗布量が、２ｍｇ／ｍ²未満であると、十
分な膜性が得られないことがある。一方、２００ｍｇ／
ｍ²を超えて塗布しても、それ以上の効果を得ることは
できない。

【０３１５】このような下塗り層は、下記方法により設
けることができる。即ち、水又はメタノール、エタノー
ル、メチルエチルケトン等の有機溶剤若しくはそれらの
混合溶剤に前記有機化合物を溶解させた下塗り層用溶液
をアルミニウム基板上に塗布、乾燥して設ける方法、水
又はメタノール、エタノール、メチルエチルケトン等の
有機溶剤若しくはそれらの混合溶剤に前記有機化合物を
溶解させた下塗り層用溶液に、アルミニウム基板を浸漬
して前記有機化合物を吸着させ、その後水等で洗浄、乾
燥して設ける方法、である。

【０３１６】前者では、前記有機化合物の０．００５〜
１０重量％濃度の下塗り層用溶液を種々の方法で塗布で
きる。例えば、バーコーター塗布、回転塗布、スプレー
塗布、カーテン塗布などいずれの方法を用いてもよい。

【０３１７】また、後者の方法では、下塗り層用溶液の
有機化合物濃度としては、０．０１〜２０重量％が好ま
しく、０．０５〜５重量％がより好ましい。また、浸漬
温度としては、２０〜９０℃が好ましく、２５〜５０℃
がより好ましい。浸漬時間としては、０．１〜２０分が
好ましく、２秒〜１分がより好ましい。

【０３１８】前記下塗り層用溶液は、アンモニア、トリ
エチルアミン、水酸化カリウム等の塩基性物質や塩酸、
リン酸等の酸性物質によりｐＨを調節し、ｐＨ１〜１２
の範囲に調整することもできる。

【０３１９】またアルミニウム支持体は、途中更にフッ
化ジルコニウム酸カリウム、リン酸塩等の水溶液への浸
漬処理などの表面処理がなされてもかまわない。また、
本発明の画像記録材料を用いて平版印刷用原版を作製す
る場合には、調子再現性改良を目的として黄色染料を添
加することもできる。

【０３２０】なお、本実施の形態では説明のため、ワー
クステーション１２に１つのパソコン１０をオンライン
接続した構成としているが、もちろん１つに限らず、複
数のパソコン１０をオンライン接続することができる。
同様に、本実施の形態では説明のため、プレートセッタ
ー１４に加熱装置１５、及びＰＳ版プロセッサー１６を
１台ずつ接続する構成としているが、もちろん１台ずつ
に限らず、プレートセッター１４に、加熱装置１５、及
びＰＳ版プロセッサー１６を複数接続する構成とするこ
とができる。プレートセッター１４に、パソコン１０、
加熱装置１５、及びＰＳ版プロセッサー１６を複数接続
する構成とすることにより、露光前処理、加熱処理及び
現像処理が並列して行えるので、加熱条件を変える場合
などの条件設定をより迅速に行うことができるので、ロ
ス時間を少なくすることができ、プレートセッター１４
を効率良く使用できるという利点がある。

【０３２１】また、本実施の形態では、ワークステーシ
ョンから出力する画像データをＴＩＦＦファイルとした
が、もちろん、本発明はＴＩＦＦファイルに限定するも
のではなく、例えば、低解像度の画像データとフィルム
と版の転移特性カーブとトンボの種類と位置データ品質
管理のための色彩濃度情報と裁ちトンボと断裁のための
情報とから構成されるＰＰＦファイルや、ＧＩＦファイ
ル等のようにイメージデータを含む標準的なフォーマッ
ト形式の画像データを使用することができる。

【０３２２】また、本実施の形態では、パソコン１０と
プレートセッター１４、及び、プレートセッター１４と
加熱装置１５とをそれぞれオンラインで接続した構成と
したが、本発明ではオンラインに限らず、通信回線を介
して接続する構成としたり、記憶媒体にパソコン１０の
情報を記憶させ、この記憶媒体をパソコン１０が読込む
ことにより情報の受け渡しを行う様に構成したり、記憶
媒体にプレートセッター１４の情報をセッター情報とし
て記憶させ、この記憶媒体を加熱装置１５が読込むこと
によりセッター情報の受け渡しを行う様に構成すること
もできる。

【０３２３】なお、本実施の形態では、ＲＯＭに、版
種、版厚、及び版サイズの組合せに応じた標準の加熱容
量のテーブルが記憶された場合について述べたが、版種
に応じた標準の加熱容量のテーブル、版厚に応じた標準
の加熱容量のテーブル、及び版サイズに応じた標準の加
熱容量のテーブルの少なくとも1つを記憶させ、記憶さ
れたテーブルに基いて標準の加熱容量を決定するように
しても良い。

【０３２４】例えば、加熱装置１５としてブラックコー
ティングした直径２．５０ｍｍのハロゲンランプヒータ
ーを使用し、ＰＳ版１１０を１９ｍｍ／ｓｅｃで搬送さ
せる場合、版厚に応じた標準の加熱容量のテーブルとし
て、版厚が０．１５ｍｍの場合は９８Ｖ、０．２４ｍｍ
の場合は１３７Ｖ、０．３ｍｍの場合は１６５Ｖ、０．
４ｍｍの場合は２００Ｖ等のように版厚に応じて厚くな
るアルミニウム基板の厚みが厚くなるに従って駆動電圧
を大きくしたテーブルとする。

【０３２５】また、本実施の形態では、加熱容量決定プ
ログラムをセッター制御部１８のＲＯＭに記憶している
が、本発明はこれに限定されず、該加熱容量決定プログ
ラムをフロッピィディスクに記憶すると共に、コンピュ
ータ本体にハードディスクを備え、フロッピィディスク
から該プログラムを読み取り、ハードディスクにインス
トールしても良い。また、前記加熱容量決定プログラム
を有線または無線のネットワークに電話回線などの伝送
手段により伝送してインストールしても良い。

【０３２６】なお、前記加熱容量決定プログラムはフロ
ッピィディスクに記憶することに限定されず、ＣＤ−Ｒ
ＯＭ、磁気テープに該プログラムを格納し、該ＣＤ−Ｒ
ＯＭ、磁気テープからパソコンのハードディスクにイン
ストールしても良い。また、前記加熱容量決定プログラ
ムを格納したハードディスクを備えるようにしてもよ
い。さらにパソコンのハードディスクやＲＡＭに直接加
熱容量決定プログラムを書き込むようにしてもよい。こ
のように上記加熱容量決定プログラムは、有形の記録媒
体及び伝送手段の少なくとも一方により流通することが
できる。

【０３２７】なお、上記では、ヒータの駆動電圧を制御
することによって、加熱条件を制御する例について説明
したが、ヒータの駆動電圧を一定とし、ＰＳ版の搬送速
度を制御することによって加熱条件を制御してもよく、
断熱版を設けてヒータからの熱を遮断するシャッター機
構により加熱条件を制御するようにしてもよい。

【０３２８】

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、露
光後の加熱時の温度条件をＰＳ版の厚みやサイズ、版種
等に応じて常に適切に設定でき、操作ミス等により設定
した温度条件が異なることによる損失を生じる恐れがな
く、処理効率も向上できる、という効果がある。

【０３２９】また、加熱装置内の温度が適切な温度とす
るまでの時間を効率的に切り替えることができるので、
ロス時間を短縮して処理効率を上げることができ、これ
により、省エネ化することができる、という効果があ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本実施の形態の製版システムの概略の流れを
示す説明図である。

【図２】 図１に示した加熱制御部のＣＰＵの作用を示
すフローチャートである。

【図３】 図１に示したＰＳ版プロセッサーの概略構成
を示す説明図である。

【符号の説明】

１０ パソコン １２ ワークステーション １４ プレートセッター １５ 加熱装置 １６ ＰＳ版プロセッサー １８ セッター制御部 ２４ 現像部 ２６ 水洗部 ２８ フィニッシャー部 ２９ 乾燥部 ３０ プロセッサー制御部 ３４ 加熱手段 ３６ 搬送ローラ ３８ 加熱制御部 ４０ 温度検出センサ ７０ 現像槽 ７１ａ、７１ｂ 回転ブラシローラ ７２、７５ 送り出しローラ対 ７３ 液面蓋 ７４ 現像補充原液噴射ノズル ７６ 希釈水噴射ノズル ７７ ガイド板 ７８、９６、９８ スプレーパイプ ７９、９１ オーバーフロー管 ８０ 廃液タンク ８１ａ、８１ｂ バックアップローラ ８２ 現像補充原液貯留槽 ８４ 水貯留槽 ９０ 水洗槽 ９２、９４ 搬送ローラ対 ９３ 貯留タンク ９９ オーバーフロー管 １００ ガム液槽 １０２ ガム液噴射ノズル １０４ 搬送ローラ対 １１０ ＰＳ版

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 奥野 敬 静岡県榛原郡吉田町川尻4000番地 富士写 真フイルム株式会社内 Ｆターム(参考） 2H084 AA14 AA32 AE05 BB04 CC05 2H096 AA07 BA16 BA20 CA03 DA01 EA04 FA01 FA10 GA08 GA22 GB00 GB03 GB07 JA03

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 熱により分解して酸を発生する化合物
   と、酸及び熱により架橋する化合物とを含有し、架橋に
   よりアルカリ可溶性が低下する架橋層を含む感光層を備
   えた平版印刷版を画像データに基いて赤外光により露光
   する露光工程と、 該露光工程の前又は後に、前段の工程で使用した版情報
   に基づき、前記露光工程で露光された露光済み平版印刷
   版を加熱する際の加熱条件を決定する加熱条件決定工程
   と、 該加熱条件決定工程で決定された加熱条件となるよう
   に、前記露光済み平版印刷版を加熱する加熱工程と、 前記加熱工程で加熱された平版印刷版を現像槽内に導い
   て現像する現像工程と、 を含む平版印刷版の製版方法。
2. 【請求項２】 熱により分解して酸を発生する化合物
   と、酸及び熱により架橋する化合物とを含有し、架橋に
   よりアルカリ可溶性が低下する架橋層を含む感光層を備
   えた赤外露光処理済み平版印刷版の現像を行う前に、前
   記赤外露光処理済み平版印刷版を加熱する加熱手段と、 前記加熱手段により前記赤外露光処理済みの平版印刷版
   を加熱するときに、前段に設けられた装置から入力され
   た版情報に基づいて加熱条件を決定し、該決定した加熱
   条件となるように前記加熱手段を制御する加熱制御手段
   と、 を備えた加熱装置。
3. 【請求項３】 熱により分解して酸を発生する化合物
   と、酸及び熱により架橋する化合物とを含有し、架橋に
   よりアルカリ可溶性が低下する架橋層を含む感光層を備
   えた赤外露光処理済みの平版印刷版の現像を行う前に、
   前段に設けられた装置から入力された版情報に基づいて
   加熱条件を決定し、該決定した加熱条件で前記赤外露光
   処理済みの平版印刷版が加熱されるように前記平版印刷
   版を加熱するプログラムを記録したコンピュータ読取可
   能な記録媒体。