JP2000305281A - 平版印刷版の製版方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 赤外線レーザーにより直接描き込み可能なネ
ガ型平版印刷原版に好適な現像処理方法を用いた平版印
刷版の製版方法を提供すること、特に、現像工程におい
て、光照射部の損傷を低減した製版方法を提供すること
である。 【解決手段】 親水性支持体上に、赤外線レーザ用ネガ
型感光性組成物を含有する感光層を有する平版印刷原版
を、赤外線レーザーで露光する露光工程と、少なくとも
一種の非還元糖と、少なくとも一種の塩基とを含有する
アルカリ現像処理液で現像する現像工程とを含む平版印
刷版の製版方法である。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明はオフセット印刷マス
ターとして使用できる画像記録材料の製版方法に関する
ものであり、特にコンピュータ等のディジタル信号から
直接製版できるいわゆるダイレクト製版用の赤外線レー
ザ用ネガ型感光性組成物からなる感光層を設けた平版印
刷版の製版方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、赤外線レーザーにより直接描き込
み可能なネガ型感光性平版印刷版原版（以下、「赤外線
感光性平版印刷版原版」と称することがある）が知られ
てきており、その現像処理液として、珪酸ナトリウム、
珪酸カリウム等の珪酸塩のアルカリ性水溶液が一般に用
いられている。しかしながら、この珪酸塩のアルカリ性
水溶液を現像処理液として用いた場合には、以下のよう
な問題がある。即ち、かかる赤外線レーザー照射部と未
照射部とにおける溶解性の差が、従来の感光性平版印刷
版原版の露光部と未露光部とにおける溶解性の差に比較
して小さく、現像の適性範囲が狭いという問題である。
例えば、ネガ型平版印刷版の製版では、平版印刷版原版
を画像様に光照射後、版材の硬化反応を促進するために
加熱処理を施すことが多いが、この加熱処理の際の温度
が低温であると、版材の硬化が充分でなく、現像時に画
像部の膜の一部が除去される場合がある。これらの問題
は、特にアルミニウムを支持体とする赤外線感光性平版
印刷版原版において顕著であることから、照射された赤
外線の熱エネルギーが熱伝導性の高いアルミニウム支持
体を通して発散されるため、十分な分解反応が起こらな
いためと推定される。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、前記従来に
おける諸問題を解決し、以下の目的を達成することを課
題とする。即ち、本発明は、赤外線レーザーにより直接
描き込み可能な赤外線感光性平版印刷版原版に好適な現
像処理方法を用いた平版印刷版の製版方法を提供するこ
とを目的とする。

【０００４】

【課題を解決するための手段】前記課題を解決するため
の手段は、以下の通りである。 ＜１＞ 親水性支持体上に、赤外線レーザ用ネガ型感光
性組成物を含有する感光層を有する平版印刷版原版を、
赤外線レーザーで露光する露光工程と、少なくとも一種
の非還元糖と、少なくとも一種の塩基とを含有するアル
カリ現像処理液で現像する現像工程とを含む平版印刷版
の製版方法。 ＜２＞ ネガ型感光性組成物が以下の成分（イ）〜
（ニ）を含有することを特徴とする＜１＞に記載の平版
印刷版の製版方法。 （イ）光又は熱により分解して酸を発生する化合物 （ロ）酸により架橋する架橋剤 （ハ）アルカリ可溶性樹脂の少なくとも１種 （ニ）赤外線吸収剤

【０００５】

【発明の実施の形態】［露光工程］本発明の平版印刷版
の製版方法においては、まず、親水性支持体上に赤外線
レーザ用ネガ型感光性組成物を塗布してなる感光層を有
する平版印刷版原版を、赤外線レーザーで画像様に露光
する（以下、「露光工程」という。）。露光には、赤外
線レーザを搭載したプレートセッター等を用いることが
できる。この露光工程によって、感光層に含有されるネ
ガ型感光性組成物の光照射部が硬化し、後の露光工程に
用いられる現像処理液に対する溶解性が低下する。露光
工程に用いられる赤外線レーザーの光源としては、近赤
外から赤外領域において、７００ｎｍ以上の発光波長を
持つ光源が好ましい。本発明の製版方法における光源
は、好ましくは７００〜１２００ｎｍの発光波長の赤外
線の照射が可能な固体レーザ、半導体レーザが特に好ま
しい。

【０００６】［現像工程］平版印刷版原版は、露光工程
の後、所望により前記加熱工程を経て、現像工程に付さ
れる。現像工程において、非露光部は現像処理液に溶解
して除去され、露光部は現像処理液に対する溶解性が低
下しているのでそのまま支持体上に残存する。現像工程
に用いられるアルカリ現像処理液は、少なくとも一種の
非還元糖と、少なくとも一種の塩基とを含有する。この
アルカリ現像処理液を用いると、非露光部の感光性組成
物を良好に除去できるとともに、露光部の硬化したネガ
型感光性組成物を劣化させずに残存させることができ、
感光層の着肉性を良好な状態に維持することができる。
また、赤外線感光性平版印刷版原版は、現像ラチチュー
ドが狭く、現像液ｐＨによる画線幅等の変化が大きい
が、前記アルカリ現像処理液にはｐＨの変動を抑える緩
衝性を有する非還元糖が含まれているため、従来におけ
るシリケートを含む現像処理液を用いた場合に比べて有
利である。更に、前記非還元糖は、前記シリケートに比
べて液活性度を表示するための電導度センサ−やｐＨセ
ンサ−等を汚染し難いため、この点でも、前記アルカリ
現像処理液は有利である。

【０００７】（非還元糖）前記非還元糖とは、遊離のア
ルデヒド基やケトン基を持たず、還元性を示さない糖類
であり、還元基同士の結合したトレハロース型少糖類、
糖類の還元基と非糖類が結合した配糖体、及び糖類に水
素添加して還元した糖アルコールに分類され、何れも本
発明において好適に用いることができる。なお、本発明
においては、特開平８−３０５０３９号公報に記載され
た非還元糖を好適に使用することができる。

【０００８】前記トレハロース型少糖類としては、例え
ば、サッカロース、トレハロース等が挙げられる。前記
配糖体としては、例えば、アルキル配糖体、フェノール
配糖体、カラシ油配糖体等が挙げられる。前記糖アルコ
ールとしては、例えば、Ｄ，Ｌ−アラビット、リビッ
ト、キシリット、Ｄ，Ｌ−ソルビット、Ｄ，Ｌ−マンニ
ット、Ｄ，Ｌ−イジット、Ｄ，Ｌ−タリット、ズリシッ
ト、アロズルシット等が挙げられる。更に、二糖類のマ
ルトースに水素添加したマルチトール、オリゴ糖の水素
添加で得られる還元体（還元水あめ）等が好適に挙げら
れる。これらの非還元糖の中でも、トレハロース型少糖
類、糖アルコールが好ましく、その中でも、Ｄ−ソルビ
ット、サッカロース、還元水あめ、等が適度なｐＨ領域
に緩衝作用があり、低価格である点で好ましい。

【０００９】本発明において、これらの非還元糖は、一
種単独で使用してもよいし、二種以上を併用してもよ
い。前記非還元糖の前記アルカリ現像処理液中における
含有量としては、０．１〜３０重量％が好ましく、１〜
２０重量％がより好ましい。前記含有量が、０．１重量
％未満であると十分な緩衝作用が得られず、３０重量％
を越えると高濃縮化し難く、また原価アップの問題が出
てくる。尚、糖類の中でも、還元糖を用いた場合は、後
述する塩基と併用すると、褐変し、ｐＨも徐々に低下
し、現像性が低下するので、本発明では還元糖は使用し
ない。

【００１０】（塩基）前記塩基としては、従来公知のア
ルカリ剤、例えば、無機アルカリ剤、有機アルカリ剤等
が挙げられる。前記無機アルカリ剤としては、例えば、
水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、
燐酸三ナトリウム、燐酸三カリウム、燐酸三アンモニウ
ム、燐酸二ナトリウム、燐酸二カリウム、燐酸二アンモ
ニウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸アンモニ
ウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水
素アンモニウム、硼酸ナトリウム、硼酸カリウム、硼酸
アンモニウム等が挙げられる。

【００１１】前記有機アルカリ剤としては、例えば、モ
ノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、
モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミ
ン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、
トリイソプロピルアミン、ｎ−ブチルアミン、モノエタ
ノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールア
ミン、モノイソプロパノールアミン、ジイソプロパノー
ルアミン、エチレンイミン、エチレンジアミン、ピリジ
ン等が挙げられる。

【００１２】前記塩基は、一種単独で使用してもよい
し、二種以上を併用してもよい。これらの塩基の中で
も、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムを用いると、前
記非還元糖に対する量を調整することにより、広いｐＨ
領域でのｐＨ調整が可能となるので好ましい。また、燐
酸三ナトリウム、燐酸三カリウム、炭酸ナトリウム、炭
酸カリウム等もそれ自身に緩衝作用があるので好まし
い。

【００１３】前記塩基は、前記アルカリ現像処理液のｐ
Ｈがアルカリ性になるように、好ましくはｐＨが９．０
〜１３．８になるように、より好ましくは１０．０〜１
３．３になるように、前記アルカリ現像処理液に添加さ
れる。前記塩基の前記アルカリ現像処理液中における含
有量としては、所望のｐＨ、前記非還元糖の種類、添加
量等に応じて適宜決定される。

【００１４】尚、本発明においては、アルカリ現像処理
液として、前記非還元糖と前記塩基との併用に代えて、
前記非還元糖のアルカリ金属塩を主成分として用いるこ
ともできる。非還元糖のアルカリ金属塩は、前記非還元
糖とアルカリ金属水酸化物とを混合し、該非還元糖の融
点以上に加熱し脱水すること、あるいは、前記非還元糖
とアルカリ金属水酸化物との混合水溶液を乾燥すること
によって得られる。

【００１５】本発明においては、前記アルカリ現像処理
液に、前記非還元糖以外の弱酸と強塩基とからなるアル
カリ性緩衝液を併用することができる。前記弱酸として
は、解離定数（ｐＫａ）が１０．０〜１３．２のものが
好ましく、例えば、Ｐｅｒｇａｍｏｎ Ｐｒｅｓｓ社発
行のＩＯＮＩＳＡＴＩＯＮ ＣＯＮＳＴＡＮＴＳ ＯＦ
ＯＲＧＡＮＩＣ ＡＣＩＤＳ ＩＮ ＡＱＵＥＯＵＳ
ＳＯＬＵＴＩＯＮ等に記載されているものから選択でき
る。

【００１６】具体的には、２，２，３，３−テトラフル
オロプロパノ−ル−１（ｐＫａ １２．７４）、トリフ
ルオロエタノール（同１２．３７）、トリクロロエタノ
ール（同１２．２４）等のアルコール類、ピリジン−２
−アルデヒド（同１２．６８）、ピリジン−４−アルデ
ヒド（同１２．０５）等のアルデヒド類、サリチル酸
（同１３．０）、３−ヒドロキシ−２−ナフトエ酸（同
１２．８４）、カテコール（同１２．６）、没食子酸
（同１２．４）、スルホサリチル酸（同１１．７）、
３，４−ジヒドロキシスルホン酸（同１２．２）、３，
４−ジヒドロキシ安息香酸（同１１．９４）、１，２，
４−トリヒドロキシベンゼン（同１１．８２）、ハイド
ロキノン（同１１．５６）、ピロガロール（同１１．３
４）、ｏ−クレゾール（同１０．３３）、レゾルソノー
ル（同１１．２７）、ｐ−クレゾール（同１０．２
７）、ｍ−クレゾール（同１０．０９）等のフェノール
性水酸基を有する化合物、

【００１７】２−ブタノンオキシム（同１２．４５）、
アセトキシム（同１２．４２）、１，２−シクロヘプタ
ンジオンジオキシム（同１２．３）、２−ヒドロキシベ
ンズアルデヒドオキシム（同１２．１０）、ジメチルグ
リオキシム（同１１．９）、エタンジアミドジオキシム
（同１１．３７）、アセトフェノンオキシム（同１１．
３５）等のオキシム類、アデノシン（同１２．５６）、
イノシン（同１２．５）、グアニン（同１２．３）、シ
トシン（同１２．２）、ヒポキサンチン（同１２．
１）、キサンチン（同１１．９）等の核酸関連物質、

【００１８】他に、ジエチルアミノメチルホスホン酸
（同１２．３２）、１−アミノ−３，３，３−トリフル
オロ安息香酸（同１２．２９）、イソプロピリデンジホ
スホン酸（同１２．１０）、１，１−エチリデンジホス
ホン酸（同１１．５４）、１，１−エチリデンジホスホ
ン酸１−ヒドロキシ（同１１．５２）、ベンズイミダゾ
ール（同１２．８６）、チオベンズアミド（同１２．
８）、ピコリンチオアミド（同１２．５５）、バルビツ
ル酸（同１２．５）等が好適に挙げられる。これらの弱
酸の中でも、スルホサリチル酸、サリチル酸が好まし
い。

【００１９】これらの弱酸に組み合わせる強塩基として
は、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化アンモニウム、
水酸化カリウム、水酸化リチウム等が好適に挙げられ
る。これらの強塩基は、一種単独で使用してもよいし、
二種以上を併用してもよい。前記強塩基は、適宜選択し
た濃度及び組み合わせによりｐＨを好ましい範囲内に調
整して使用される。

【００２０】（アルカリ現像処理液中のその他の成分）
本発明においては、現像性の促進や現像カスの分散、感
光性平版印刷版原版の画像部の親インキ性を高める等の
目的で、必要に応じて界面活性剤、現像安定剤、有機溶
剤、還元剤、有機カルボン酸、硬水軟化剤等、更に公知
の防腐剤、着色剤、増粘剤、消泡剤等をその他の成分と
して前記アルカリ現像処理液に添加してもよい。

【００２１】前記界面活性剤としては、非イオン性界面
活性剤、アニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性
剤、ノニオン系界面活性剤、両性界面活性剤が挙げられ
る。

【００２２】前記非イオン界面活性剤としては、例え
ば、ポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキ
シエチレンアルキルフェニルエーテル類、ポリオキシエ
チレンポリスチリルフェニルエーテル類、ポリオキシエ
チレンポリオキシプロピレンアルキルエーテル類、グリ
セリン脂肪酸部分エステル類、ソルビタン脂肪酸部分エ
ステル類、ペンタエリスリトール脂肪酸部分エステル
類、プロピレングリコールモノ脂肪酸エステル類、しょ
糖脂肪酸部分エステル類、ポリオキシエチレンソルビタ
ン脂肪酸部分エステル類、ポリオキシエチレンソルビト
ール脂肪酸部分エステル類、ポリエチレングリコール脂
肪酸エステル類、ポリグリセリン脂肪酸部分エステル
類、ポリオキシエチレン化ひまし油類、ポリオキシエチ
レングリセリン脂肪酸部分エステル類、脂肪酸ジエタノ
ールアミド類、Ｎ，Ｎ−ビス−２−ヒドロキシアルキル
アミン類、ポリオキシエチレンアルキルアミン、トリエ
タノールアミン脂肪酸エステル、トリアルキルアミンオ
キシド等が好適に挙げられる。

【００２３】前記アニオン界面活性剤としては、例え
ば、脂肪酸塩類、アビエチン酸塩類、ヒドロキシアルカ
ンスルホン酸塩類、アルカンスルホン酸塩類、ジアルキ
ルスルホ琥珀酸エステル塩類、αオレフィンスルホン酸
塩類、直鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩類、分岐鎖ア
ルキルベンゼンスルホン酸塩類、アルキルナフタレンス
ルホン酸塩類、アルキルフェノキシポリオキシエチレン
プロピルスルホン酸塩類、ポリオキシエチレンアルキル
スルホフェニルエーテル塩類、Ｎ−メチル−Ｎ−オレイ
ルタウリンナトリウム塩、Ｎ−アルキルスルホ琥珀酸モ
ノアミド二ナトリウム塩、石油スルホン酸塩類、硫酸化
牛脂油、脂肪酸アルキルエステルの硫酸エステル塩類、
アルキル硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキ
ルエーテル硫酸エステル塩類、脂肪酸モノグリセリド硫
酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェニル
エーテル硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンスチリ
ルフェニルエーテル硫酸エステル塩類、アルキルリン酸
エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテルリ
ン酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェニ
ルエーテルリン酸エステル塩類、スチレン／無水マレイ
ン酸共重合物の部分鹸化物類、オレフィン／無水マレイ
ン酸共重合物の部分鹸化物類、ナフタレンスルホン酸塩
ホルマリン縮合物類等が好適に挙げられる。

【００２４】前記カチオン性界面活性剤としては、例え
ば、アルキルアミン塩類、テトラブチルアンモニウムブ
ロミド等の第四級アンモニウム塩類、ポリオキシエチレ
ンアルキルアミン塩類、ポリエチレンポリアミン誘導体
等が挙げられる。前記両性界面活性剤としては、例え
ば、カルボキシベタイン類、アルキルアミノカルボン酸
類、スルホベタイン類、アミノ硫酸エステル類、イミダ
ゾリン類等が挙げられる。

【００２５】以上の界面活性剤の内、「ポリオキシエチ
レン」とあるものは、ポリオキシメチレン、ポリオキシ
プロピレン、ポリオキシブチレン等のポリオキシアルキ
レンに読み替えることもでき、それらもまた前記界面活
性剤に包含される。

【００２６】本発明において、好ましい界面活性剤とし
ては、分子内にパーフルオロアルキル基を含有するフッ
素系界面活性剤が挙げられる。このようなフッ素系界面
活性剤としては、パーフルオロアルキルカルボン酸塩、
パーフルオロアルキルスルホン酸塩、パーフルオロアル
キルリン酸エステル等のアニオン型、パーフルオロアル
キルベタイン等の両性型、パーフルオロアルキルトリメ
チルアンモニウム塩等のカチオン型、パーフルオロアル
キルアミンオキサイド、パーフルオロアルキルエチレン
オキシド付加物、パーフルオロアルキル基及び親水性基
含有オリゴマー、パーフルオロアルキル基及び親油性基
含有オリゴマー、パーフルオロアルキル基、親水性基及
び親油性基含有オリゴマー、パーフルオロアルキル基及
び親油性基含有ウレタン等の非イオン型が挙げられる。

【００２７】前記界面活性剤は、一種単独で使用しても
よいし、二種以上を併用してもよい。前記界面活性剤の
前記アルカリ現像処理液中における含有量としては、通
常０．００１〜１０重量％であり、０．０１〜５重量％
が好ましい。

【００２８】前記現像安定化剤としては、例えば、特開
平６−２８２０７９号公報に記載の糖アルコールのポリ
エチレングリコール付加物、テトラブチルアンモニウム
ヒドロキシド等のテトラアルキルアンモニウム塩、テト
ラブチルホスホニウムブロマイド等のホスホニウム塩、
ジフェニルヨードニウムクロライド等のヨードニウム塩
が好ましい例として挙げられる。また、特開昭５０−５
１３２４号公報に記載のアニオン界面活性剤、両性界面
活性剤、特開昭５５−９５９４６号公報に記載の水溶性
カチオニックポリマー、特開昭５６−１４２５２８号公
報に記載の水溶性の両性高分子電解質等が挙げられる。

【００２９】更に、特開昭５９−８４２４１号公報に記
載のアルキレングリコールが付加された有機ホウ素化合
物、特開昭６０−１１１２４６号公報に記載のポリオキ
シエチレン・ポリオキシプロピレンブロック重合型の水
溶性界面活性剤、特開昭６０−１２９７５０号公報に記
載のポリオキシエチレン・ポリオキシプロピレンを置換
したアルキレンジアミン化合物、特開昭６１−２１５５
５４号公報に記載の重量平均分子量３００以上のポリエ
チレングリコール、特開昭６３−１７５８５８号公報に
記載のカチオン性基を有する含フッ素界面活性剤、特開
平２−３９１５７号公報に記載の酸又はアルコールに４
モル以上のエチレンオキシドを付加して得られる水溶性
エチレンオキシド付加化合物と、水溶性ポリアルキレン
化合物等が挙げられる。

【００３０】前記有機溶剤としては、例えば、水に対す
る溶解度が約１０重量％以下のものが好ましく、５重量
％以下のものがより好ましい。前記有機溶剤の具体例と
しては、１−フェニルエタノール、２−フェニルエタノ
ール、３−フェニル−１−プロパノール、４−フェニル
−１−ブタノール、４−フェニル−２−ブタノール、２
−フェニル−１−ブタノール、２−フェノキシエタノー
ル、２−ベンジルオキシエタノール、ｏ−メトキシベン
ジルアルコール、ｍ−メトキシベンジルアルコール、ｐ
−メトキシベンジルアルコール、ベンジルアルコール、
シクロヘキサノール、２−メチルシクロヘキサノール、
３−メチルシクロヘキサノール、４−メチルシクロヘキ
サノール、Ｎ−フェニルエタノールアミン、Ｎ−フェニ
ルジエタノールアミン等が挙げられる。

【００３１】前記有機溶剤の前記アルカリ現像処理液中
における含有量としては、該アルカリ現像処理液の総重
量に対して０．１〜５重量％程度である。前記含有量
は、前記界面活性剤の前記アルカリ現像処理液中におけ
る含有量と密接な関係があり、前記有機溶剤の量が増す
につれ、前記界面活性剤の量は増加させることが好まし
い。これは、前記界面活性剤の量を少なくし、前記有機
溶剤の量を多くすると、該有機溶剤が完全に溶解せず、
良好な現像性の確保が期待できなくなるからである。

【００３２】前記還元剤としては、有機還元剤、無機還
元剤等が挙げられる。これらの還元剤は、印刷版の汚れ
を防止するのに役立つ。前記有機還元剤の好ましい具体
例としては、チオサリチル酸、ハイドロキノン、メトー
ル、メトキシキノン、レゾルシン、２−メチルレゾルシ
ン等のフェノール化合物、フェニレンジアミン、フェニ
ルヒドラジン等のアミン化合物等が挙げられる。前記無
機還元剤の好ましい具体例としては、亜硫酸、亜硫酸水
素酸、亜リン酸、亜リン酸水素酸、亜リン酸二水素酸、
チオ硫酸、亜ジチオン酸等の無機酸のナトリウム塩、カ
リウム塩、アンモニウム塩等が挙げられる。これらの中
でも、汚れ防止効果が特に優れている点で、亜硫酸塩が
好ましい。前記還元剤の前記アルカリ現像処理液中にお
ける含有量としては、該アルカリ現像処理液の総重量に
対して０．０５〜５重量％程度である。

【００３３】前記有機カルボン酸としては、炭素原子数
６〜２０の脂肪族カルボン酸及び芳香族カルボン酸等が
挙げられる。前記炭素原子数６〜２０の脂肪族カルボン
酸の具体例としては、カプロン酸、エナンチル酸、カプ
リル酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ス
テアリン酸等が挙げられる。これらの中でも、炭素数８
〜１２のアルカン酸が特に好ましい。また、これらは、
炭素鎖中に二重結合を有する不飽和脂肪酸でもよいし、
枝分かれした炭素鎖のものでもよい。

【００３４】前記炭素原子数６〜２０の芳香族カルボン
酸の具体例としては、ベンゼン環、ナフタレン環、アン
トラセン環等にカルボキシル基が置換された化合物等が
挙げられ、より具体的には、ｏ−クロロ安息香酸、ｐ−
クロロ安息香酸、ｏ−ヒドロキシ安息香酸、ｐ−ヒドロ
キシ安息香酸、ｏ−アミノ安息香酸、ｐ−アミノ安息香
酸、２，４−ジヒドロキシ安息香酸、２，５−ジヒドロ
キシ安息香酸、２，６−ジヒドロキシ安息香酸、２，３
−ジヒドロキシ安息香酸、３，５−ジヒドロキシ安息香
酸、没食子酸、１−ヒドロキシ−２−ナフトエ酸、３−
ヒドロキシ−２−ナフトエ酸、２−ヒドロキシ−１−ナ
フトエ酸、１−ナフトエ酸、２−ナフトエ酸等が挙げら
れる。これらの中でも、ヒドロキシナフトエ酸が特に好
ましい。

【００３５】前記脂肪族カルボン酸及び前記芳香族カル
ボン酸は、水溶性を高める点で、ナトリウム塩、カリウ
ム塩、アンモニウム塩等として用いるのが好ましい。前
記有機カルボン酸の前記アルカリ現像処理液中における
含有量としては、特に制限はないが、通常０．１〜１０
重量％程度であり、０．５〜４重量％が好ましい。前記
含有量が、０．１重量％未満であると、その添加効果が
十分でなく、１０重量％を越えても、それに見合う効果
が得られない上、併用する別の添加剤の前記アルカリ現
像処理液中への溶解を妨げることがある。

【００３６】前記硬水軟化剤としては、例えば、ポリ燐
酸並びにそのナトリウム塩、カリウム塩及びアンモニウ
ム塩、エチレンジアミンテトラ酢酸、ジエチレントリア
ミンペンタ酢酸、トリエチレンテトラミンヘキサ酢酸、
ヒドロキシエチルエチレンジアミントリ酢酸、ニトリロ
トリ酢酸、１，２−ジアミノシクロヘキサンテトラ酢
酸、１，３−ジアミノ−２−プロパノールテトラ酢酸等
のアミノポリカルボン酸並びにそれらのナトリウム塩、
カリウム塩及びアンモニウム塩、アミノトリ（メチレン
ホスホン酸）、エチレンジアミンテトラ（メチレンホス
ホン酸）、ジエチレントリアミンペンタ（メチレンホス
ホン酸）、トリエチレンテトラミンヘキサ（メチレンホ
スホン酸）、ヒドロキシエチルエチレンジアミントリ
（メチレンホスホン酸）、１−ヒドロキシエタン−１，
１−ジホスホン酸並びにそれらのナトリウム塩、カリウ
ム塩及びアンモニウム塩等が挙げられる。

【００３７】前記硬水軟化剤は、そのキレート化力と使
用される硬水の硬度及び量によって前記アルカリ現像処
理液中における最適含有量が変化するが、一般的には、
０．０１〜５重量％程度であり、０．０１〜０．５重量
％が好ましい。前記含有量が、０．０１重量％未満であ
るとその添加効果が十分でないことがあり、５重量％を
越えると、色抜け等画像部への悪影響が生じることがあ
る。

【００３８】前記アルカリ現像処理液は、以上説明した
各成分の外、水を含有する。本発明における前記アルカ
リ現像処理液は、未使用時（保管時）には水の含有量を
少なくした濃縮液としておき、使用時には水で希釈する
ようにしておくと、運搬上有利である。この場合、前記
アルカリ現像処理液の濃縮度は、前記各成分が分離や析
出を起こさない程度が適当である。また、未使用時（保
管時）に前記アルカリ現像処理剤を、スプレードライ法
等で水分を除去しておくか、あるいは固形原料を混合し
た固形化現像処理剤としておくのも好ましい。

【００３９】露光工程の後、直ちに現像処理を行っても
よいが、露光工程と現像工程との間に、加熱処理を行う
ことが好ましい。平版印刷版原版を加熱すると、光照射
部の硬化反応が促進され、光照射部はより強固な膜とな
り、現像処理液に対する耐性が向上するので好ましい。
前記加熱処理は、非画像部の溶解性の点では１４０℃以
下で行うのが好ましいが、１２５℃以下の加熱処理で
は、画像部の硬化が不充分となるネガ型感光性材料もあ
り、ケイ酸塩を含有する従来のアルカリ現像処理液を用
いて現像処理を行うと、光照射部に形成された膜が一部
溶解する場合があった。本発明の製版方法では、加熱工
程を付した場合に、加熱温度を低温で行っても、光照射
部の膜べりがほとんど生じない。

【００４０】本発明にもちいる前記アルカリ現像処理液
は、紫外・可視光線感光性平版印刷版原版の現像処理に
も使用できるので、前記赤外線感光性平版印刷版原版と
紫外・可視光線感光性平版印刷版原版との製版に、前記
アルカリ現像処理液を用いて、共通の現像処理（以下
「共通現像処理」と称することがある）を施すことがで
きる。尚、前記紫外・可視光線感光性平版印刷版原版に
ついては、前記現像処理の前に、透明原画を通して、例
えば、水銀灯、メタルハライドランプ、キセノンラン
プ、ケミカルランプ、タングステンランプ、カーボンア
ーク灯、アルゴンレーザー、ＹＡＧレーザー等により露
光処理がなされる。

【００４１】前記赤外線感光性平版印刷版原版の現像処
理は、自動現像機に好適に適用することができる。この
場合、製版作業を合理化及び標準化できるので有利であ
る。前記自動現像機は、一般に、現像部と後処理部とを
有し、前記赤外線感光性平版印刷版原版を搬送する装
置、各処理液槽、スプレ−装置等からなり、露光済みの
前記赤外線感光性平版印刷版原版を水平に搬送しなが
ら、ポンプで汲み上げたアルカリ現像処理液等をスプレ
−ノズルから吹き付けて現像処理及び後処理を行うもの
である。

【００４２】本発明においては、前記赤外線感光性平版
印刷版原版に対して、現像処理装置を用いてポンプで汲
み上げたアルカリ現像処理液等をスプレ−ノズルから吹
き付けて現像処理を行ってもよいし、また、アルカリ現
像処理液が満たされた現像処理液槽中に液中ガイドロ−
ル等を用いて浸漬搬送させて現像処理してもよい。

【００４３】現像処理後、得られた平版印刷版は、通
常、水、界面活性剤等を含有するリンス液、アラビアガ
ムや澱粉誘導体等を主成分とするフィニッシャーや保護
ガム液を用いて後処理が施される。本発明においては、
これらの後処理を種々組み合わせて用いることができ、
例えば、水洗→フィニッシングガム処理、界面活性剤含
有リンス液→フィニッシング処理、２段向流フィニッシ
ングガム処理等が好ましい例として挙げられる。なお、
本発明においては、現像処理後、一定量の少量の水を版
面に供給して水洗し、その廃水を前記アルカリ現像処理
液の原液の希釈水として再利用してもよい。前記現像処
理は、現像処理量や稼動時間等に応じて、前記アルカリ
現像処理液が適宜補充される連続方式でもよいし、ま
た、実質的に未使用の前記アルカリ現像処理液で処理す
るいわゆる使い捨て方式でもよい。

【００４４】以上の現像処理により得られた平版印刷版
における不要な画像部（例えば原画フィルムのフィルム
エッジ跡等）の消去が行なわれる。このような消去は、
例えば、特公平２−１３２９３号公報に記載されている
ような消去液を不要画像部に塗布し、そのまま所定の時
間放置したのちに水洗することにより行なう方法が好ま
しいが、特開平５９−１７４８４２号公報に記載されて
いるようなオプティカルファイバーで導かれた活性光線
を不要画像部に照射した後に現像処理する方法も利用で
きる。

【００４５】前記平版印刷版は所望により不感脂化ガム
を塗布した後、印刷工程に供することができるが、より
一層の高耐刷力の平版印刷版としたい場合には、バーニ
ング処理が施される。前記平版印刷版をバーニング処理
する場合には、バーニング処理前に特公昭６１−２５１
８号、同５５−２８０６２号、特開昭６２−３１８５９
号、同６１−１５９６５５号の各公報に記載されている
ような整面液で処理することが好ましい。その処理の方
法としては、該整面液を浸み込ませたスポンジや脱脂綿
にて、平版印刷版上に塗布するか、整面液を満たしたバ
ット中に印刷版を浸漬して塗布する方法や、自動コータ
ーによる塗布等が適用される。また、塗布した後でスキ
ージ、あるいは、スキージローラーで、その塗布量を均
一にすることは、より好ましい結果を与える。前記整面
液の塗布量としては、一般に０．０３〜０．８ｇ／ｍ²
（乾燥重量）程度が適当である。

【００４６】前記整面液が塗布された前記平版印刷版
は、必要に応じて乾燥された後、バーニングプロセッサ
ー（例えば、富士写真フイルム（株）より販売されてい
るバーニングプロセッサー：ＢＰ−１３００）等で高温
に加熱される。この場合の加熱温度及び時間は、画像を
形成している成分の種類にもよるが、１００〜３００℃
で、１〜２０分程度が好ましい。前記バーニング処理さ
れた前記平版印刷版には、必要に応じて適宜、水洗、ガ
ム引き等の従来行なわれている処理を施こすことができ
るが、水溶性高分子化合物等を含有する整面液が使用さ
れた場合には、ガム引き等のいわゆる不感脂化処理を省
略することができる。

【００４７】以上のような処理によって得られた平版印
刷版は、オフセット印刷機等にかけられ、多数枚の印刷
に用いられる。

【００４８】［平版印刷版原版］本発明の製版方法に
は、親水性支持体上に、赤外線レーザ用ネガ型感光性組
成物を含有する感光層を有する平版印刷版原版に適用し
得る。赤外線レーザ用ネガ型感光性組成物は以下の
（イ）〜 （ニ）の成分を含有しているのが好ましい。 （イ）光又は熱により分解して酸を発生する化合物 （ロ）酸により架橋する架橋剤 （ハ）アルカリ可溶性樹脂の少なくとも１種 （ニ）赤外線吸収剤 尚、前記原版は、感光層以外に、下塗り層等のその他の
層が設けられていてもよい。

【００４９】光照射された赤外線レーザー等のエネルギ
ーが（ニ）赤外線吸収剤によって熱に変換され、（イ）
光または熱により酸を発生する化合物がその熱により分
解して強酸（例えば、スルホン酸、ハロゲン酸など）を
発生する。この強酸が、（ロ）酸により架橋する架橋剤
と（ハ）アルカリ可溶性基を有する高分子化合物、即
ち、側鎖に成分（ロ）と反応しうる置換基を持つ特定樹
脂との架橋反応を促進することにより光照射部が硬化
し、現像液に対する溶解性が低下する。その結果、良好
な画像記録即ち記録材料の製版が行われるものである。

【００５０】（感光層） −赤外線レーザ用ネガ型感光性組成物− 以下、（イ）〜（ニ）の成分について説明する。 （イ）光又は熱により分解して酸を発生する化合物 本発明において光又は熱により分解して酸を発生する化
合物（以下、適宜、酸発生剤と称する）とは、２００〜
５００ｎｍの波長の光照射又は１００℃以上の加熱によ
り酸を発生する化合物を指す。本発明において好適に用
いられる酸発生剤としては、光カチオン重合の光開始
剤、光ラジカル重合の光開始剤、色素類の光消色剤、光
変色剤、あるいはマイクロレジスト等に使用されている
公知の酸発生剤等、公知の熱分解して酸を発生する化合
物、及びそれらの混合物を適宜に選択して使用すること
ができる。

【００５１】例えば、Ｓ．Ｉ．Ｓｃｈｌｅｓｉｎｇｅ
ｒ，Ｐｈｏｔｏｇｒ．Ｓｃｉ．Ｅｎｇ．，１８，３８７
（１９７４）、Ｔ．Ｓ．Ｂａｌ ｅｔ ａｌ，Ｐｏｌｙ
ｍｅｒ，２１，４２３（１９８０）に記載のジアゾニウ
ム塩、米国特許第４，０６９，０５５号、同４，０６
９，０５６号、同Ｒｅ２７，９９２号、特開平４−３６
５０４９号の明細書に記載のアンモニウム塩、Ｄ．Ｃ．
Ｎｅｃｋｅｒ ｅｔ ａｌ，Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌ
ｅｓ，１７，２４６８（１９８４）、Ｃ．Ｓ．Ｗｅｎ
ｅｔ ａｌ，Ｔｅｈ，Ｐｒｏｃ．Ｃｏｎｆ．Ｒａｄ，Ｃ
ｕｒｉｎｇ ＡＳＩＡ，ｐ４７８ Ｔｏｋｙｏ，Ｏｃｔ
（１９８８）、米国特許第４，０６９，０５５号、同
４，０６９，０５６号に記載のホスホニウム塩、Ｊ．
Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ ｅｔ ａｌ，Ｍａｃｒｏｍｏｌ
ｅｃｕｌｅｓ，１０（６），１３０７（１９７７）、Ｃ
ｈｅｍ．＆ Ｅｎｇ．Ｎｅｗｓ，Ｎｏｖ．２８，ｐ３１
（１９８８）、欧州特許第１０４、１４３号、米国特許
第３３９，０４９号、同第４１０，２０１号、特開平２
−１５０８４８号、特開平２−２９６５１４号に記載の
ヨードニウム塩、Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ ｅｔ ａ
ｌ，Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｊ．１７，７３（１９８５）、
Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ ｅｔ ａｌ．Ｊ．Ｏｒｇ．
Ｃｈｅｍ．，４３，３０５５（１９７８）、Ｗ．Ｒ．Ｗ
ａｔｔ ｅｔ ａｌ，Ｊ．Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｓｃｉ．，
Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｃｈｅｍ．Ｅｄ．，２２，１７８９
（１９８４）、Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ ｅｔ ａ
ｌ，Ｐｏｌｙｍｅｒ

【００５２】Ｂｕｌｌ．，１４，２７９（１９８５）、
Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ ｅｔ ａｌ，Ｍａｃｒｏｍ
ｏｌｅｃｕｌｅｓ，１４（５），１１４１（１９８
１）、Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ ｅｔ ａｌ，Ｊ．Ｐ
ｏｌｙｍｅｒ Ｓｃｉ．，Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｃｈｅｍ．
Ｅｄ．，１７，２８７７（１９７９）、欧州特許第３７
０，６９３号、同３９０，２１４号、同２３３，５６７
号、同２９７，４４３号、同２９７，４４２号、米国特
許第４，９３３，３７７号、同１６１，８１１号、同４
１０，２０１号、同３３９，０４９号、同４，７６０，
０１３号、同４，７３４，４４４号、同２，８３３，８
２７号、独国特許第２，９０４，６２６号、同３，６０
４，５８０号、同３，６０４，５８１号に記載のスルホ
ニウム塩、

【００５３】Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ ｅｔ ａｌ，
Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ，１０（６），１３０７
（１９７７）、Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ ｅｔ ａ
ｌ，Ｊ．Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｓｃｉ．，Ｐｏｌｙｍｅｒ
Ｃｈｅｍ．Ｅｄ．，１７，１０４７（１９７９）に記載
のセレノニウム塩、Ｃ．Ｓ．Ｗｅｎ ｅｔ ａｌ，Ｔｅ
ｈ，Ｐｒｏｃ．Ｃｏｎｆ．Ｒａｄ．Ｃｕｒｉｎｇ ＡＳ
ＩＡ，ｐ４７８ Ｔｏｋｙｏ，Ｏｃｔ（１９８８）に記
載のアルソニウム塩等のオニウム塩、米国特許第３，９
０５，８１５号、特公昭４６−４６０５号、特開昭４８
−３６２８１号、特開昭５５−３２０７０号、特開昭６
０−２３９７３６号、特開昭６１−１６９８３５号、特
開昭６１−１６９８３７号、特開昭６２−５８２４１
号、特開昭６２−２１２４０１号、特開昭６３−７０２
４３号、特開昭６３−２９８３３９号に記載の有機ハロ
ゲン化合物、Ｋ．Ｍｅｉｅｒ ｅｔ ａｌ，Ｊ．Ｒａ
ｄ．Ｃｕｒｉｎｇ，１３（４），２６（１９８６），
Ｔ．Ｐ．Ｇｉｌｌ ｅｔ ａｌ，Ｉｎｏｒｇ．Ｃｈｅ
ｍ．，１９，３００７（１９８０）、Ｄ．Ａｓｔｒｕ
ｃ，Ａｃｃ．Ｃｈｅｍ．Ｒｅｓ．，１９（１２），３７
７（１８９６）、特開平２−１６１４４５号に記載の有
機金属／有機ハロゲン化物、Ｓ．Ｈａｙａｓｅ ｅｔ
ａｌ，Ｊ．Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｓｃｉ．，２５，７５３
（１９８７）、Ｅ．Ｒｅｉｃｈｍａｎｉｓ ｅｔ ａ
ｌ，Ｊ．Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｓｃｉ．，Ｐｏｌｙｍｅｒ
Ｃｈｅｍ．Ｅｄ．，２３，１（１９８５）、Ｑ．Ｑ．Ｚ
ｈｕ ｅｔ ａｌ，Ｊ Ｐｈｏｔｏｃｈｅｍ．，３６，
８５，３９，３１７（１９８７）、Ｂ．Ａｍｉｔｅｔ
ａｌ，Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔ．，（２４）
２２０５（１９７３），

【００５４】Ｄ．Ｈ．Ｒ．Ｂａｒｔｏｎ ｅｔ ａｌ，
Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．３５７１（１９６５）、Ｐ．
Ｍ．Ｃｏｌｌｉｎｓ ｅｔ ａｌ，Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏ
ｃ．，Ｐｅｒｋｉｎ Ｉ，１６９５（１９７５）、Ｍ．
Ｒｕｄｉｎｓｔｅｉｎ ｅｔ ａｌ，Ｔｅｔｒａｈｅｄ
ｒｏｎ Ｌｅｔｔ．，（１７），１４４５（１９７
５）、Ｊ．Ｗ．Ｗａｌｋｅｒ ｅｔ ａｌ，Ｊ．Ａｍ．
Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，１１０，７１７０（１９８８）、
Ｓ．Ｃ．Ｂｕｓｍａｎ ｅｔ ａｌ，Ｊ．Ｉｍａｇｉｎ
ｇ Ｔｅｃｈｎｏｌ．，１１（４），１９１（１９８
５）、Ｈ．Ｍ．Ｈｏｕｌｉｈａｎ ｅｔ ａｌ，Ｍａｃ
ｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ，２１，２００１（１９８
８）、Ｐ．Ｍ．Ｃｏｌｌｉｎｓ ｅｔ ａｌ，Ｊ．Ｃｈ
ｅｍ．Ｓｏｃ．，Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍｕｎ．，５３２
（１９７２）、Ｓ．Ｈａｙａｓｅ ｅｔ ａｌ，Ｍａｃ
ｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ，１８，１７９９（１９８
５）、Ｅ．Ｒｅｉｃｈｍａｎｉｓ ｅｔ ａｌ，Ｊ．Ｅ
ｌｅｃｔｒｏｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，ＳｏｌｉｄＳｔａｔ
ｅ Ｓｃｉ．Ｔｅｃｈｎｏｌ．，１３０（６）、Ｆ．
Ｍ．Ｈｏｕｌｉｈａｎ ｅｔ ａｌ，Ｍａｃｒｏｍｏｌ
ｅｃｕｌｅｓ，２１，２００１（１９８８）、欧州特許
第０２９０，７５０号、同０４６，０８３号、同１５
６，５３５号、同２７１，８５１号、同０，３８８，３
４３号、米国特許第３，９０１，７１０号、同４，１８
１，５３１号、特開昭６０−１９８５３８号、特開昭５
３−１３３０２２号に記載のｏ−ニトロベンジル型保護
基を有する光酸発生剤、Ｍ．Ｔｕｎｏｏｋａ ｅｔ ａ
ｌ，Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｐｒｅｐｒｉｎｔｓ Ｊａｐａ
ｎ，３８（８）、Ｇ．Ｂｅｒｎｅｒ ｅｔ ａｌ，Ｊ．
Ｒａｄ．Ｃｕｒｉｎｇ，１３（４）、Ｗ．Ｊ．Ｍｉｊｓ
ｅｔ ａｌ，Ｃｏａｔｉｎｇ Ｔｅｃｈｎｏｌ．，５
５（６９７），４５（１９８３）、Ａｋｚｏ，Ｈ．Ａｄ
ａｃｈｉ ｅｔ ａｌ，Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｐｒｅｐｒｉ
ｎｔｓ，Ｊａｐａｎ，３７（３）、欧州特許第０１９
９，６７２号、同８４５１５号、同１９９，６７２号、
同０４４，１１５号、同０１０１，１２２号、米国特許
第４，６１８，５６４号、同４，３７１，６０５号、同
４，４３１，７７４号、特開昭６４−１８１４３号、特
開平２−２４５７５６号、特願平３−１４０１０９号に
記載のイミノスルフォネート等に代表される、光分解し
てスルホン酸を発生する化合物、特開昭６１−１６６５
４４号に記載のジスルホン化合物を挙げることができ
る。

【００５５】またこれらの酸を発生する基あるいは化合
物を、ポリマーの主鎖又は側鎖に導入した化合物、例え
ば、Ｍ．Ｅ．Ｗｏｏｄｈｏｕｓｅ ｅｔ ａｌ，Ｊ．Ａ
ｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，１０４，５５８６（１９８
２）、Ｓ．Ｐ．Ｐａｐｐａｓｅｔ ａｌ，Ｊ．Ｉｍａｇ
ｉｎｇ Ｓｃｉ．，３０（５），２１８（１９８６）、
Ｓ．Ｋｏｎｄｏ ｅｔ ａｌ． Ｍａｋｒｏｍｏｌ．Ｃ
ｈｅｍ．，ＲａｐｉｄＣｏｍｍｕｎ．，９，６２５（１
９８８）、Ｙ．Ｙａｍａｄａ ｅｔ ａｌ，Ｍａｋｒｏ
ｍｏｌ．Ｃｈｅｍ．，１５２，１５３，１６３（１９７
２）、Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ ｅｔ ａｌ．Ｊ．Ｐ
ｏｌｙｍｅｒ Ｓｃｉ．，Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｃｈｅｍ．
Ｅｄ．，１７，３８４５（１９７９）、米国特許第３，
８４９，１３７号、独国特許第３，９１４，４０７、特
開昭６３−２６６５３号、特開昭５５−１６４８２４
号、特開昭６２−６９２６３号、特開昭６３−１４６０
３７、特開昭６３−１６３４５２号、特開昭６２−１５
３８５３号、特開昭６３−１４６０２９号に記載の化合
物を用いることができる。更に、Ｖ．Ｎ．Ｒ．Ｐｉｌｌ
ａｉ，Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ，（１），１（１９８０）、
Ａ．Ａｂａｄ ｅｔａｌ，Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌ
ｅｔｔ．，（４７）４５５５（１９７１）、Ｄ．Ｈ．
Ｒ．Ｂａｒｔｏｎ ｅｔ ａｌ，Ｊ．Ｃｈｅｍ，Ｓｏ
ｃ，．（Ｃ），３２９（１９７０）、米国特許第３，７
７９，７７８号、欧州特許第１２６，７１２号等に記載
の光により酸を発生する化合物も使用することができ
る。

【００５６】これらのうち本発明で特に好ましく用いら
れる酸発生剤としては、下記一般式（Ｉ）〜（Ｖ）で表
される化合物が挙げられる。

【００５７】

【化１】

【００５８】上記一般式（Ｉ）〜（Ｖ）において、
Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁴及びＲ⁵は、それぞれ独立に、置換基を有
していてもよい炭素数２０以下の炭化水素基を示し、好
ましくは炭素数１〜１４の炭化水素基を示す。炭化水素
基の具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピ
ル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル
基、ｔ−ブチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、オ
クチル基、２−エチルヘキシル基、ウンデシル基、ドデ
シル基等のアルキル基、アリル基、ビニル基、１−メチ
ルビニル基、２−フェニルビニル基等のアルケニル基、
ベンジル基等のアラルキル基、フェニル基、トリル基、
キシリル基、クメニル基、メシチル基、ドデシルフェニ
ル基、フェニルフェニル基、ナフチル基、アントラセニ
ル基等のアリール基が挙げられる。これらの炭化水素基
は、例えばハロゲン原子、アルコキシ基、ニトロ基、シ
アノ基、カルボキシ基等の置換基を有していてもよい。
置換基を有する炭化水素基の具体例としては、トリフル
オロメチル基、クロロエチル基、２−メトキシエチル
基、フルオロフェニル基、クロロフェニル基、ブロモフ
ェニル基、ヨードフェニル基、メトキシフェニル基、フ
ェノキシフェニル基、メトキシフェニルビニル基、ニト
ロフェニル基、シアノフェニル基、カルボキシフェニル
基、９，１０−ジメトキシアントラセニル基等が挙げら
れる。

【００５９】Ｒ³はハロゲン原子、置換基を有していて
もよい炭素数１０以下の炭化水素基（例えば、アルキル
基、アルケニル基、アラルキル基、アリール基）または
炭素数１０以下のアルコキシ基を示す。具体的には、フ
ッ素、塩素、臭素、ヨウ素のハロゲン原子、メチル基、
エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、アリル
基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、
ヘキシル基、シクロヘキシル基、ベンジル基、フェニル
基、トリル基等の炭化水素基、２−メトキシエチル基、
フルオロフェニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニ
ル基、ヨードフェニル基、メトキシフェニル基等置換基
を有する炭化水素基、メトキシ基、エトキシ基等のアル
コキシ基が挙げられる。また、ｎが２以上の場合、隣接
する２個のＲ³で互いに結合し縮環していてもよい。

【００６０】Ａｒ¹、Ａｒ²は同じであっても異なってい
てもよく、置換基を有していてもよい炭素数２０以下の
アリール基、好ましくは炭素数６〜１４のアリール基を
示す。具体的には、フェニル基、トリル基、キシリル
基、クメニル基、メシチル基、ドデシルフェニル基、フ
ェニルフェニル基、ナフチル基、フルオロフェニル基、
クロロフェニル基、ブロモフェニル基、ヨードフェニル
基、クロロナフチル基、メトキシフェニル基、フェノキ
シフェニル基、エトキシナフチル基、ニトロフェニル
基、シアノフェニル基、カルボキシフェニル基、ニトロ
ナフチル基、アントラセニル基等が挙げられる。

【００６１】Ｒ⁶は置換基を有していてもよい炭素数２
０以下の２価の炭化水素基（例えば、アルキレン基、ア
ルケニレン基、アラルキレン基、アリーレン基）を示
す。具体的には、エチニレン基、１，２−シクロヘキセ
ニレン基、１，２−フェニレン基、４−クロロ−１，２
−フェニレン基、４−ニトロ−１，２−フェニレン基、
４−メチル−１，２−フェニレン基、４ーメトキシ−
１，２−フェニレン基、４−カルボキシ−１，２−フェ
ニレン基、１，８−ナフタレニレン基等が挙げられる。
ｎは０〜４の整数を示す。ここで、ｎが０の場合は、Ｒ
³がないこと、即ち、ベンゼン環は置換されていないこ
とを示す。

【００６２】一般式化合物（Ｉ）〜（Ｖ）で表される化
合物のうち、好ましいものを以下に挙げる。尚、これら
の化合物は、例えば特開平２−１０００５４号公報及び
特開平２−１０００５５号公報に記載の方法にて合成す
ることができる。

【００６３】

【化２】

【００６４】

【化３】

【００６５】

【化４】

【００６６】

【化５】

【００６７】

【化６】

【００６８】

【化７】

【００６９】

【化８】

【００７０】

【化９】

【００７１】

【化１０】

【００７２】

【化１１】

【００７３】

【化１２】

【００７４】また、（イ）光または熱により分解して酸
を発生する化合物として、ハロゲン化物やスルホン酸な
どを対イオンとするオニウム塩、好ましくは下記一般式
（VI）〜（VIII）で示されるヨードニウム塩、スルホニ
ウム塩、およびジアゾニウム塩のいずれかの構造を有す
るものが挙げられる。

【００７５】

【化１３】

【００７６】前記一般式（VI）〜（VIII）中、Ｘ^-とし
ては、ハロゲン化物イオン、ＣｌＯ₄ ^-、ＰＦ₆ ^-、ＳｂＦ
₆ ^-、ＢＦ₄ ^-、又はＲ⁷−ＳＯ₃ ^- が挙げられる。ここで、
Ｒ⁷は置換基を有していてもよい炭素数２０以下の炭化
水素基を示す。Ａｒ³、Ａｒ⁴はそれぞれ、置換基を有し
ていてもよい炭素数２０以下のアリール基を示す。
Ｒ⁸、Ｒ⁹、Ｒ¹⁰は置換基を有していてもよい炭素数１８
以下の炭化水素基を示す。前記一般式（VI）〜（VIII）
において、Ｘ^-としては、Ｒ⁷−ＳＯ₃ ^-が特に好ましい。
Ｒ⁷で表される炭化水素基の具体例としては、メチル
基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、アリ
ル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル
基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、オクチル基、２−
エチルヘキシル基、ドデシル基等のアルキル基、ビニル
基、１−メチルビニル基、２−フェニルビニル基等のア
ルケニル基、ベンジル基、フェネチル基等のアラルキル
基、フェニル基、トリル基、キシリル基、クメニル基、
メシチル基、ドデシルフェニル基、フェニルフェニル
基、ナフチル基、アントラセニル基等のアリール基が挙
げられる。

【００７７】これらの炭化水素基は、例えばハロゲン原
子、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリルオキシ基、ニ
トロ基、シアノ基、カルボニル基、カルボキシル基、ア
ルコキシカルボニル基、アニリノ基、アセトアミド基等
の置換基を有していてもよい。置換基を有する炭化水素
基の具体例としては、トリフルオロメチル基、２−メト
キシエチル基、１０−カンファーニル基、フルオロフェ
ニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、ヨード
フェニル基、メトキシフェニル基、ヒドロキシフェニル
基、フェノキシフェニル基、ニトロフェニル基、シアノ
フェニル基、カルボキシフェニル基、メトキシナフチル
基、ジメトキシアントラセニル基、ジエトキシアントラ
セニル基、アントラキノニル基、等が挙げられる。

【００７８】Ａｒ³、Ａｒ⁴はそれぞれ、置換基を有して
いてもよい炭素数２０以下のアリール基を示し、具体的
には、フェニル基、トリル基、キシリル基、クメニル
基、メシチル基、ドデシルフェニル基、フェニルフェニ
ル基、ナフチル基、アントラセニル基、フルオロフェニ
ル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、ヨードフ
ェニル基、メトキシフェニル基、ヒドロキシフェニル
基、フェノキシフェニル基、ニトロフェニル基、シアノ
フェニル基、カルボキシフェニル基、アニリノフェニル
基、アニリノカルボニルフェニル基、モルホリノフェニ
ル基、フェニルアゾフェニル基、メトキシナフチル基、
ヒドロキシナフチル基、ニトロナフチル基、アントラキ
ノニル基等が挙げられる。

【００７９】Ｒ⁸、Ｒ⁹、Ｒ¹⁰はそれぞれ独立に、置換基
を有していてもよい炭素数１８以下の炭化水素基を示
し、具体的には、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル
基、ｉ−プロピル基、アリル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ
−ブチル基、ｔ−ブチル基、ヘキシル基、シクロヘキシ
ル基、ベンジル基、フェニル基、トリル基、ｔ−ブチル
フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基、等の炭化
水素基、２−メトキシエチル基、フルオロフェニル基、
クロロフェニル基、ブロモフェニル基、ヨードフェニル
基、メトキシフェニル基、ヒドロキシフェニル基、フェ
ニルチオフェニル基、ヒドロキシナフチル基、メトキシ
ナフチル基、ベンゾイルメチル基、ナフトイルメチル
基、等置換基を有する炭化水素基が挙げられる。また、
Ｒ⁸とＲ⁹とが互いに結合し環を形成していてもよい。

【００８０】一般式（VI）〜（VIII）で表されるオニウ
ム塩のカチオン部としては、ヨードニウムイオン、スル
ホニウムイオン、ジアゾニウムイオンが挙げられる。こ
れらのオニウム塩のカチオン部について、以下に具体的
な構造を示すが、これらに限定されるものではない。

【００８１】

【化１４】

【００８２】

【化１５】

【００８３】

【化１６】

【００８４】

【化１７】

【００８５】

【化１８】

【００８６】一方、これらのオニウム塩のカウンターア
ニオンのうち、特に良好に用いられるスルホネートイオ
ンの例としては、 １）メタンスルホネート、 ２）エタンスルホネート、 ３）１−プロパンスルホネート、 ４）２−プロパンスルホネート、 ５）ｎ−ブタンスルホネート、 ６）アリルスルホネート、 ７）１０−カンファースルホネート、 ８）トリフルオロメタンスルホネート、 ９）ペンタフルオロエタンスルホネート、 １０）ベンゼンスルホネート、 １１）ｐ−トルエンスルホネート、 １２）３−メトキシベンゼンスルホネート、 １３）４−メトキシベンゼンスルホネート、 １４）４−ヒドロキシベンゼンスルホネート、 １５）４−クロロベンゼンスルホネート、 １６）３−ニトロベンゼンスルホネート、 １７）４−ニトロベンゼンスルホネート、 １８）４−アセチルベンゼンスルホネート、 １９）ペンタフルオロベンゼンスルホネート、 ２０）４−ドデシルベンゼンスルホネート、 ２１）メシチレンスルホネート、 ２２）２、４、６−トリイソプロピルベンゼンスルホネ
ート、 ２３）２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン−
５−スルホネート、 ２４）イソフタル酸ジメチル−５−スルホネート、 ２５）ジフェニルアミン−４−スルホネート、 ２６）１−ナフタレンスルホネート、 ２７）２−ナフタレンスルホネート、 ２８）２−ナフトール−６−スルホネート、 ２９）２−ナフトール−７−スルホネート、 ３０）アントラキノン−１−スルホネート、 ３１）アントラキノン−２−スルホネート、 ３２）９、１０−ジメトキシアントラセン−２−スルホ
ネート、 ３３）９、１０−ジエトキシアントラセン−２−スルホ
ネート、 ３４）キノリン−８−スルホネート、 ３５）８−ヒドロキシキノリン−５−スルホネート、 ３６）８−アニリノ−ナフタレン−１−スルホネート などが挙げられる。

【００８７】また、 ４１）ｍ−ベンゼンジスルホネート、 ４２）ベンズアルデヒド−２、４−ジスルホネート、 ４３）１、５−ナフタレンジスルホネート、 ４４）２、６−ナフタレンジスルホネート、 ４５）２、７−ナフタレンジスルホネート、 ４６）アントラキノン−１、５−ジスルホネート、 ４７）アントラキノン−１、８−ジスルホネート、 ４８）アントラキノン−２、６−ジスルホネート、 ４９）９、１０−ジメトキシアントラセン−２、６−ジ
スルホネート、 ５０）９、１０−ジエトキシアントラセン−２、６−ジ
スルホネート、 などのジスルホネートイオンであってもよく、この場
合、２当量のカチオン部とオニウム塩をとなる。

【００８８】本発明に好適に用いられるオニウム塩スル
ホネートは、対応するＣｌ^-塩などを、スルホン酸また
はスルホン酸ナトリウムまたはカリウム塩と水中、ある
いはアルコールなどの親水性溶媒と水との混合溶媒中で
まぜあわせて塩交換を行うことにより、得ることができ
る。オニウム化合物の合成は既知の方法で行うことがで
き、たとえば丸善・新実験化学講座１４−Ｉ巻の２・３
章（ｐ．４４８）、１４−ＩＩＩ 巻の８・１６章
（ｐ．１８３８）、同７・１４章（ｐ．１５６４）、
Ｊ．Ｗ．Ｋｎａｐｃｚｙｋ他、ジャーナル オブ アメ
リカン ケミカルソサエティ（Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓ
ｏｃ．）９１巻、１４５（１９６９）、Ａ．Ｌ．Ｍａｙ
ｃｏｋ他、ジャーナル オブ オーガニック ケミスト
リィ（Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．）３５巻、２５３２（１
９７０）、Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ他、ポリマー ケ
ミストリィエディション（Ｐｏｌｙｍ．Ｃｈｅｍ．Ｅ
ｄ．）１８巻、２６７７（１９８０）、米国特許第２，
８０７，６４８号、同４，２４７，４７３号、特開昭５
３−１０１３３１号、特公平５−５３１６６号公報等に
記載の方法で合成することができる。本発明で酸発生剤
として良好に使用されるオニウム塩スルホネートの好ま
しい例を以下に示す。

【００８９】

【化１９】

【００９０】

【化２０】

【００９１】

【化２１】

【００９２】

【化２２】

【００９３】

【化２３】

【００９４】

【化２４】

【００９５】

【化２５】

【００９６】

【化２６】

【００９７】

【化２７】

【００９８】

【化２８】

【００９９】

【化２９】

【０１００】

【化３０】

【０１０１】これらの酸発生剤は、感光層の全固形分に
対し０．０１〜５０重量％、好ましくは０．１〜２５重
量％、より好ましくは０．５〜２０重量％の割合で含有
されるのが好ましい。添加量が０．０１重量％未満の場
合は、画像が得られず、また添加量が５０重量％を超え
る場合は、印刷時に非画像部に汚れが発生するためいず
れも好ましくない。これらの化合物は単独で使用しても
よく、また２種以上を組み合わせて使用してもよい。

【０１０２】（ロ）酸により架橋する架橋剤 本発明に用いることのできる酸により架橋する架橋剤
（以下、適宜、「酸架橋剤」又は単に「架橋剤」と称す
る）ついて説明する。本発明に好ましく用いられる架橋
剤としては、（ｉ）アルコキシメチル基若しくはヒドロ
キシメチル基で置換された芳香族化合物、（ii）Ｎ−ヒ
ドロキシメチル基、Ｎ−アルコキシメチル基若しくはＮ
−アシルオキシメチル基を有する化合物、（iii）エポ
キシ化合物が挙げられる。以下、各々説明する。

【０１０３】（ｉ）アルコキシメチル基若しくはヒドロ
キシメチル基で置換された芳香族化合物としては、例え
ば、ヒドロキシメチル基、アセトキシメチル基、若しく
はアルコキシメチル基でポリ置換されている芳香族化合
物及び複素環化合物が挙げられる。但し、レゾール樹脂
として知られるフェノール類とアルデヒド類とを塩基性
条件下で重縮合させた樹脂状の化合物は含まない。レゾ
ール樹脂は架橋性に優れるものの、熱安定性が充分でな
く、特に感光性の材料に含有させて高温下に長期間保存
した場合、均一な現像が困難となり好ましくない。ヒド
ロキシメチル基又はアルコキシメチル基でポリ置換され
た芳香族化合物及び複素環化合物のなかでは、ヒドロキ
シ基に隣接する位置にヒドロキシメチル基又はアルコキ
シメチル基を有する化合物を好ましい例として挙げるこ
とができる。アルコキシメチル基の場合はアルコキシメ
チル基が炭素数１８以下の化合物であることが好まし
い。特に好ましい例として下記一般式（１）〜（４）で
表される化合物を挙げることができる。

【０１０４】

【化３１】

【０１０５】

【化３２】

【０１０６】一般式（１）〜一般式（４）中、Ｌ¹〜Ｌ⁸
はそれぞれ独立にメトキシメチル、エトキシメチル等の
ように炭素数１８以下のアルコキシ基で置換されたヒド
ロキシメチル基又はアルコキシメチル基を示す。これら
は架橋効率が高く、耐刷性を向上させることができる点
で好ましい。上記に例示された架橋性化合物は、単独で
使用してもよく、２種以上を組み合わせて使用してもよ
い。

【０１０７】（ii）Ｎ−ヒドロキシメチル基、Ｎ−アル
コキシメチル基若しくはＮ−アシルオキシメチル基を有
する化合物としては、欧州特許公開（以下、ＥＰ−Ａと
記載する）第０，１３３，２１６号、西独特許第３，６
３４，６７１号、同第３，７１１，２６４号に開示され
た単量体及びオリゴマー−メラミン−ホルムアルデヒド
縮合物並びに尿素−ホルムアルデヒド縮合物、ＥＰ−Ａ
第０，２１２，４８２号に開示されたアルコキシ置換化
合物等が挙げられる。さらに好ましい例としては、例え
ば、少なくとも２個の遊離Ｎ−ヒドロキシメチル基、Ｎ
−アルコキシメチル基若しくはＮ−アシルオキシメチル
基を有するメラミン−ホルムアルデヒド誘導体が挙げら
れ、中でもＮ−アルコキシメチル誘導体が特に好まし
い。

【０１０８】（iii）エポキシ化合物としては、一つ以
上のエポキシ基を含む、モノマー、ダイマー、オリゴマ
ー、ポリマー状のエポキシ化合物を挙げることができ
る。例えば、ビスフェノールＡとエピクロルヒドリンと
の反応生成物、低分子量フェノール−ホルムアルデヒド
樹脂とエピクロルヒドリンとの反応生成物等が挙げられ
る。その他、米国特許第４，０２６，７０５号公報、英
国特許第１，５３９，１９２号公報に記載され、使用さ
れているエポキシ樹脂を挙げることができる。

【０１０９】前記（ｉ）〜（iii）の架橋剤は、感光層
の全固形分に対し、５〜８０重量％、好ましくは１０〜
７５重量％、特に好ましくは２０〜７０重量％の範囲で
ある。架橋剤の添加量が５重量％未満であると感光層の
耐久性が悪化し、また、８０重量％を超えると保存時の
安定性の観点から好ましくない。

【０１１０】本発明では、架橋剤として、下記一般式
（５）で表されるフェノール誘導体を使用することも好
ましい。

【０１１１】

【化３３】

【０１１２】上記一般式（５）中、Ａｒ⁵は、置換基を
有していてもよい芳香族炭化水素環を示す。原料の入手
性から、芳香族炭化水素環としては、ベンゼン環、ナフ
タレン環またはアントラセン環が好ましい。また、好ま
しい置換基としては、ハロゲン原子、炭素数１２以下の
炭化水素基、炭素数１２以下のアルコキシ基、炭素数１
２以下のアルキルチオ基、シアノ基、ニトロ基、トリフ
ルオロメチル基等が挙げられる。感度が高いという理由
で、Ａｒ⁵としては、置換基を有していないベンゼン環
およびナフタレン環、または、ハロゲン原子、炭素数６
以下の炭化水素基、炭素数６以下のアルコキシ基、炭素
数６以下のアルキルチオ基、ニトロ基等を置換基として
有するベンゼン環およびナフタレン環が特に好ましい。
Ｒ²¹およびＲ²²は、それぞれ同じでも異なっていても良
く、水素原子または炭素数１２以下の炭化水素基を示
す。合成が容易であるという理由から、Ｒ²¹およびＲ²²
は、水素原子またはメチル基であることが特に好まし
い。Ｒ²³は、水素原子または炭素数１２以下の炭化水素
基を示す。感度が高いという理由で、Ｒ²³は、例えばメ
チル基、エチル基、プロピル基、シクロヘキシル基、ベ
ンジル基等の炭素数７以下の炭化水素基であることが特
に好ましい。ｍは、２〜４の整数を示す。ｎは、１〜３
の整数を示す。

【０１１３】本発明において好適に用いられる前記一般
式（５）で表されるフェノール誘導体の具体例を以下に
示す（架橋剤［ＫＺ−１］〜［ＫＺ−８］）が、本発明
に用いられる架橋剤は、これに制限されるものではな
い。

【０１１４】

【化３４】

【０１１５】

【化３５】

【０１１６】前記フェノール誘導体は、従来公知の方法
により合成できる。例えば［ＫＺ−１］は、フェノー
ル、ホルムアルデヒドおよび、ジメチルアミンやモルホ
リン等の２級アミンを反応させ、トリ（ジアルキルアミ
ノメチル）フェノールとし、次に無水酢酸と反応させ、
さらに炭酸カリウム等の弱アルカリ存在下、エタノール
と反応させることにより、下記反応式［１］に表す如き
経路で合成することができる。

【０１１７】反応式［１］

【化３６】

【０１１８】さらに、別の方法によっても合成できる。
例えば［ＫＺ−１］は、フェノールとホルムアルデヒド
またはパラホルムアルデヒドを、ＫＯＨ等のアルカリ存
在下反応させ、２，４，６−トリヒドロキシメチルフェ
ノールとし、引き続き硫酸等の酸存在下、エタノールと
反応させることにより、下記反応式［２］に表す如き経
路でも合成することができる。

【０１１９】反応式［２］

【化３７】

【０１２０】これらのフェノール誘導体は単独で使用し
てもよく、また２種類以上を組み合わせて使用してもよ
い。また、これらのフェノール誘導体を合成する際、フ
ェノール誘導体同士が縮合して２量体や３量体等の不純
物が副生成する場合があるが、これらの不純物を含有し
たまま用いてもよい。なお、この場合でも、不純物は３
０％以下であることが好ましく、２０％以下であること
がさらに好ましい。

【０１２１】架橋剤としてフェノール誘導体を含有させ
る場合は、フェノール誘導体は感光層の全固形分中、５
〜７０重量％、好ましくは１０〜５０重量％の添加量で
用いられる。ここで、架橋剤としてのフェノール誘導体
の添加量が５重量％未満であると画像記録した際の画像
部の膜強度が悪化し、また、７０重量％を越えると保存
時の安定性の点で好ましくない。

【０１２２】（ハ）アルカリ可溶性樹脂 本発明において使用されるアルカリ可溶性樹脂として
は、ノボラック樹脂や側鎖にヒドロキシアリール基を有
するポリマーなどが挙げられる。本発明においてアルカ
リ可溶性樹脂として使用しうるノボラック樹脂は、フェ
ノール類とアルデヒド類を酸性条件下で縮合させた樹脂
である。好ましいノボラック樹脂としては、例えばフェ
ノールとホルムアルデヒドから得られるノボラック樹
脂、ｍ−クレゾールとホルムアルデヒドから得られるノ
ボラック樹脂、ｐ−クレゾールとホルムアルデヒドから
得られるノボラック樹脂、ｏ−クレゾールとホルムアル
デヒドから得られるノボラック樹脂、オクチルフェノー
ルとホルムアルデヒドから得られるノボラック樹脂、ｍ
−／ｐ−混合クレゾールとホルムアルデヒドから得られ
るノボラック樹脂、フェノール／クレゾール（ｍ−，ｐ
−，ｏ−またはｍ−／ｐ−，ｍ−／ｏ−，ｏ−／ｐ−混
合のいずれでもよい）の混合物とホルムアルデヒドから
得られるノボラック樹脂などが挙げられる。これらのノ
ボラック樹脂は、重量平均分子量が８００〜２００，０
００で、数平均分子量が４００〜６０，０００のものが
好ましい。

【０１２３】また、本発明におけるアルカリ可溶性樹脂
としては、側鎖にヒドロキシアリール基を有するポリマ
ーも好ましく挙げることができる。このポリマーにおい
て、ヒドロキシアリール基とは−ＯＨ基が１以上結合し
たアリール基を示す。アリール基としては例えば、フェ
ニル基、ナフチル基、アントラセニル基、フェナントレ
ニル基等を挙げることができるが、入手の容易さ及び物
性の観点から、フェニル基あるいはナフチル基が好まし
い。従って、ヒドロキシアリール基としては、ヒドロキ
シフェニル基、ジヒドロキシフェニル基、トリヒドロキ
シフェニル基、テトラヒドロキシフェニル基、ヒドロキ
シナフチル基、ジヒドロキシナフチル基等が好ましい。
これらのヒドロキシアリール基は、さらに、ハロゲン原
子、炭素数２０以下の炭化水素基、炭素数２０以下のア
ルコキシ基及び炭素数２０以下のアリールオキシ基等の
置換基を有していてもよい。これらのヒドロキシアリー
ル基は、ポリマーの側鎖としてペンダント状にポリマー
主鎖へ結合しているが、主鎖との間に連結基を有してい
てもよい。

【０１２４】本発明において好適に用いられる、側鎖に
ヒドロキシアリール基を有するポリマーは、下記一般式
（IX）〜（XII）で表される構成単位の内いずれか１種
を含有するポリマーである。

【０１２５】

【化３８】

【０１２６】一般式（IX）〜（XII）中、Ｒ¹¹は水素原
子またはメチル基を示す。Ｒ¹²およびＲ¹³は、同じでも
異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭素数
１０以下の炭化水素基、炭素数１０以下のアルコキシ基
又は、炭素数１０以下のアリールオキシ基を示す。ま
た、Ｒ¹²とＲ¹³が結合して、縮環したベンゼン環やシク
ロヘキサン環を形成していてもよい。Ｒ¹⁴は、単結合ま
たは、炭素数２０以下の２価の炭化水素基を示す。Ｒ¹⁵
は、単結合または、炭素数２０以下の２価の炭化水素基
を示す。Ｒ¹⁶は、単結合または、炭素数１０以下の２価
の炭化水素基を示す。Ｘ¹は、単結合、エーテル結合、
チオエーテル結合、エステル結合またはアミド結合を示
す。ｐは１〜４の整数を示す。ｑ及びｒはそれぞれ０〜
３の整数を示す。

【０１２７】一般式（IX）〜（XII）で表される構成単
位のうち、本発明において好適に用いられる具体的な構
成単位の例を以下に挙げる。

【０１２８】

【化３９】

【０１２９】

【化４０】

【０１３０】

【化４１】

【０１３１】

【化４２】

【０１３２】

【化４３】

【０１３３】これらのポリマーは、従来公知の方法によ
り合成することができる。例えば、一般式（IX）で表さ
れる構成単位を有するポリマーは、ヒドロキシ基を、酢
酸エステルあるいはｔ−ブチルエーテルとして保護され
た、対応するスチレン誘導体をラジカル重合もしくはア
ニオン重合し、ポリマーとした後、脱保護することによ
り得られる。また、一般式（Ｘ）で表される構成単位を
有するポリマーは、特開昭６４−３２２５６号および同
６４−３５４３６号等に記載されている方法により合成
することができる。さらに、一般式（XI）で表される構
成単位を有するポリマーは、ヒドロキシ基を有するアミ
ン化合物と無水マレイン酸を反応させ、対応するモノマ
ーを得た後、ラジカル重合によりポリマーとすることに
より得られる。また、一般式（XII）で表される構成単
位を有するポリマーは、クロロメチルスチレンやカルボ
キシスチレン等、合成上有用な官能基を持つスチレン類
を原料として一般（XII）に対応するモノマーへ誘導
し、さらにラジカル重合によりポリマーとすることによ
り得られる。

【０１３４】本発明では、一般式（IX）〜（XII）で表
される構成単位のみから成るホモポリマーであってもよ
いが、他の構成単位をも含む共重合体であってもよい。
好適に用いられる他の構成単位としては、例えば、アク
リル酸エステル類、メタクリル酸エステル類、アクリル
アミド類、メタクリルアミド類、ビニルエステル類、ス
チレン類、アクリル酸、メタクリル酸、アクリロニトリ
ル、無水マレイン酸、マレイン酸イミド等の公知のモノ
マーより導入される構成単位が挙げられる。

【０１３５】用いることのできるアクリル酸エステル類
の具体例としては、メチルアクリレート、エチルアクリ
レート、（ｎ−またはｉ−）プロピルアクリレート、
（ｎ−、ｉ−、ｓｅｃ−またはｔ−）ブチルアクリレー
ト、アミルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレ
ート、ドデシルアクリレート、クロロエチルアクリレー
ト、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキ
シプロピルアクリレート、５−ヒドロキシペンチルアク
リレート、シクロヘキシルアクリレート、アリルアクリ
レート、トリメチロールプロパンモノアクリレート、ペ
ンタエリスリトールモノアクリレート、グリシジルアク
リレート、ベンジルアクリレート、メトキシベンジルア
クリレート、クロロベンジルアクリレート、２−（ｐ−
ヒドロキシフェニル）エチルアクリレート、フルフリル
アクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、
フェニルアクリレート、クロロフェニルアクリレート、
スルファモイルフェニルアクリレート等が挙げられる。

【０１３６】メタクリル酸エステル類の具体例として
は、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、
（ｎ−またはｉ−）プロピルメタクリレート、（ｎ−、
ｉ−、ｓｅｃ−またはｔ−）ブチルメタクリレート、ア
ミルメタクリレート、２−エチルヘキシルメタクリレー
ト、ドデシルメタクリレート、クロロエチルメタクリレ
ート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、２−ヒド
ロキシプロピルメタクリレート、５−ヒドロキシペンチ
ルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、ア
リルメタクリレート、トリメチロールプロパンモノメタ
クリレート、ペンタエリスリトールモノメタクリレー
ト、グリシジルメタクリレート、メトキシベンジルメタ
クリレート、クロロベンジルメタクリレート、２−（ｐ
−ヒドロキシフェニル）エチルメタクリレート、フルフ
リルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリ
レート、フェニルメタクリレート、クロロフェニルメタ
クリレート、スルファモイルフェニルメタクリレート等
が挙げられる。

【０１３７】アクリルアミド類の具体例としては、アク
リルアミド、Ｎ−メチルアクリルアミド、Ｎ−エチルア
クリルアミド、Ｎ−プロピルアクリルアミド、Ｎ−ブチ
ルアクリルアミド、Ｎ−ベンジルアクリルアミド、Ｎ−
ヒドロキシエチルアクリルアミド、Ｎ−フェニルアクリ
ルアミド、Ｎ−トリルアクリルアミド、Ｎ−（ｐ−ヒド
ロキシフェニル）アクリルアミド、Ｎ−（スルファモイ
ルフェニル）アクリルアミド、Ｎ−（フェニルスルホニ
ル）アクリルアミド、Ｎ−（トリルスルホニル）アクリ
ルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、Ｎ−メチ
ル−Ｎ−フェニルアクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシエチ
ル−Ｎ−メチルアクリルアミド等が挙げられる。

【０１３８】メタクリルアミド類の具体例としては、メ
タクリルアミド、Ｎ−メチルメタクリルアミド、Ｎ−エ
チルメタクリルアミド、Ｎ−プロピルメタクリルアミ
ド、Ｎ−ブチルメタクリルアミド、Ｎ−ベンジルメタク
リルアミド、Ｎ−ヒドロキシエチルメタクリルアミド、
Ｎ−フェニルメタクリルアミド、Ｎ−トリルメタクリル
アミド、Ｎ−（ｐ−ヒドロキシフェニル）メタクリルア
ミド、Ｎ−（スルファモイルフェニル）メタクリルアミ
ド、Ｎ−（フェニルスルホニル）メタクリルアミド、Ｎ
−（トリルスルホニル）メタクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジ
メチルメタクリルアミド、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルメ
タクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシエチル−Ｎ−メチルメ
タクリルアミド等が挙げられる。

【０１３９】ビニルエステル類の具体例としては、ビニ
ルアセテート、ビニルブチレート、ビニルベンゾエート
等が挙げられる。スチレン類の具体例としては、スチレ
ン、メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルス
チレン、エチルスチレン、プロピルスチレン、シクロヘ
キシルスチレン、クロロメチルスチレン、トリフルオロ
メチルスチレン、エトキシメチルスチレン、アセトキシ
メチルスチレン、メトキシスチレン、ジメトキシスチレ
ン、クロロスチレン、ジクロロスチレン、ブロモスチレ
ン、ヨードスチレン、フルオロスチレン、カルボキシス
チレン等が挙げられる。

【０１４０】これらのモノマーのうち特に好適に使用さ
れるのは、炭素数２０以下のアクリル酸エステル類、メ
タクリル酸エステル類、アクリルアミド類、メタクリル
アミド類、ビニルエステル類、スチレン類及び、アクリ
ル酸、メタクリル酸、アクリロニトリルである。

【０１４１】これらを用いた共重合体中に含まれる一般
式（IX）〜（XII）で表される構成単位の割合は、５〜
１００重量％であることが好ましく、さらに好ましくは
１０〜１００重量％である。また、本発明で使用される
ポリマーの分子量は好ましくは重量平均分子量で４００
０以上であり、更に好ましくは１万〜３０万の範囲であ
り、数平均分子量で好ましくは１０００以上であり、更
に好ましくは２０００〜２５万の範囲である。多分散度
（重量平均分子量／数平均分子量）は１以上が好まし
く、更に好ましくは１．１〜１０の範囲である。これら
のポリマーは、ランダムポリマー、ブロックポリマー、
グラフトポリマー等いずれでもよいが、ランダムポリマ
ーであることが好ましい。

【０１４２】本発明で使用されるアルカリ可溶性樹脂は
１種類のみで使用してもよいし、あるいは２種類以上を
組み合わせて使用してもよい。アルカリ可溶性樹脂の添
加量は感光層の全固形分中、５〜９５重量％、好ましく
は１０〜９５重量％、特に好ましくは２０〜９０重量％
で用いられる。アルカリ可溶性樹脂の添加量が５重量％
未満であると記録層の耐久性が悪化し、また、添加量が
９５重量％を超える場合は、画像形成されない。

【０１４３】（ニ）赤外線吸収剤 本発明において使用される赤外線吸収剤は、波長７６０
ｎｍから１２００ｎｍの赤外線を有効に吸収する染料ま
たは顔料である。好ましくは、波長７６０ｎｍから１２
００ｎｍに吸収極大を有する染料または顔料である。染
料としては、市販の染料および文献（例えば「染料便
覧」有機合成化学協会編集、昭和４５年刊）に記載され
ている公知のものが利用できる。具体的には、アゾ染
料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、ナフトキ
ノン染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、
カルボニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シ
アニン染料、スクワリリウム色素、ピリリウム塩、金属
チオレート錯体などの染料が挙げられる。好ましい染料
としては例えば特開昭５８−１２５２４６号、特開昭５
９−８４３５６号、特開昭５９−２０２８２９号、特開
昭６０−７８７８７号等に記載されているシアニン染
料、特開昭５８−１７３６９６号、特開昭５８−１８１
６９０号、特開昭５８−１９４５９５号等に記載されて
いるメチン染料、特開昭５８−１１２７９３号、特開昭
５８−２２４７９３号、特開昭５９−４８１８７号、特
開昭５９−７３９９６号、特開昭６０−５２９４０号、
特開昭６０−６３７４４号等に記載されているナフトキ
ノン染料、特開昭５８−１１２７９２号等に記載されて
いるスクワリリウム色素、英国特許４３４，８７５号記
載のシアニン染料等を挙げることができる。

【０１４４】また、米国特許第５，１５６，９３８号記
載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、また、米国特
許第３，８８１，９２４号記載の置換されたアリールベ
ンゾ（チオ）ピリリウム塩、特開昭５７−１４２６４５
号（米国特許第４，３２７，１６９号）記載のトリメチ
ンチアピリリウム塩、特開昭５８−１８１０５１号、同
５８−２２０１４３号、同５９−４１３６３号、同５９
−８４２４８号、同５９−８４２４９号、同５９−１４
６０６３号、同５９−１４６０６１号に記載されている
ピリリウム系化合物、特開昭５９−２１６１４６号記載
のシアニン色素、米国特許第４，２８３，４７５号に記
載のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公平５−１３
５１４号、同５−１９７０２号公報に開示されているピ
リリウム化合物も好ましく用いられる。また、染料とし
て好ましい別の例として米国特許第４，７５６，９９３
号明細書中に式（Ｉ）、（ＩＩ）として記載されている
近赤外吸収染料を挙げることができる。これらの染料の
うち特に好ましいものとしては、シアニン色素、スクワ
リリウム色素、ピリリウム塩、ニッケルチオレート錯体
が挙げられる。

【０１４５】本発明において使用される顔料としては、
市販の顔料およびカラーインデックス（Ｃ．Ｉ．）便
覧、「最新顔料便覧」（日本顔料技術協会編、１９７７
年刊）、「最新顔料応用技術」（ＣＭＣ出版、１９８６
年刊）、「印刷インキ技術」ＣＭＣ出版、１９８４年
刊）に記載されている顔料が利用できる。顔料の種類と
しては、黒色顔料、黄色顔料、オレンジ色顔料、褐色顔
料、赤色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑色顔料、蛍光顔
料、金属粉顔料、その他、ポリマー結合色素が挙げられ
る。具体的には、不溶性アゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮
合アゾ顔料、キレートアゾ顔料、フタロシアニン系顔
料、アントラキノン系顔料、ペリレンおよびペリノン系
顔料、チオインジゴ系顔料、キナクリドン系顔料、ジオ
キサジン系顔料、イソインドリノン系顔料、キノフタロ
ン系顔料、染付けレーキ顔料、アジン顔料、ニトロソ顔
料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍光顔料、無機顔料、カー
ボンブラック等が使用できる。これらの顔料のうち好ま
しいものはカーボンブラックである。

【０１４６】これら顔料は表面処理をせずに用いてもよ
く、表面処理をほどこして用いてもよい。表面処理の方
法には樹脂やワックスを表面コートする方法、界面活性
剤を付着させる方法、反応性物質（例えば、シランカッ
プリング剤やエポキシ化合物、ポリイソシアネート等）
を顔料表面に結合させる方法等が考えられる。上記の表
面処理方法は、「金属石鹸の性質と応用」（幸書房）、
「印刷インキ技術」（ＣＭＣ出版、１９８４年刊）およ
び「最新顔料応用技術」（ＣＭＣ出版、１９８６年刊）
に記載されている。

【０１４７】顔料の粒径は０．０１μｍ〜１０μｍの範
囲にあることが好ましく、０．０５μｍ〜１μｍの範囲
にあることがさらに好ましく、特に０．１μｍ〜１μｍ
の範囲にあることが好ましい。顔料の粒径が０．０１μ
ｍ未満のときは分散物の感光層塗布液中での安定性の点
で好ましくなく、また、１０μｍを超えると感光層の均
一性の点で好ましくない。顔料を分散する方法として
は、インク製造やトナー製造等に用いられる公知の分散
技術が使用できる。分散機としては、超音波分散器、サ
ンドミル、アトライター、パールミル、スーパーミル、
ボールミル、インペラー、デスパーザー、ＫＤミル、コ
ロイドミル、ダイナトロン、３本ロールミル、加圧ニー
ダー等が挙げられる。詳細は、「最新顔料応用技術」
（ＣＭＣ出版、１９８６年刊）に記載がある。

【０１４８】これらの染料もしくは顔料は、感光層の全
固形分に対し０．０１〜５０重量％、好ましくは０．１
〜１０重量％、染料の場合特に好ましくは０．５〜１０
重量％、顔料の場合特に好ましくは１．０〜１０重量％
の割合で画像記録材料中に添加することができる。顔料
もしくは染料の添加量が０．０１重量％未満であると感
度が低くなり、また５０重量％を超えると印刷時非画像
部に汚れが発生する。これらの染料もしくは顔料は他の
成分と同一の層に添加してもよいし、別の層を設けそこ
へ添加してもよい。

【０１４９】―その他の成分− 本発明において、感光層中には、前記（イ）〜（ニ）の
４つの成分以外に、必要に応じてこれら以外に種々の化
合物を添加してもよい。例えば、可視光域に大きな吸収
を持つ染料を画像の着色剤として使用することができ
る。具体的には、オイルイエロー＃１０１、オイルイエ
ロー＃１０３、オイルピンク＃３１２、オイルグリーン
ＢＧ、オイルブルーＢＯＳ、オイルブルー＃６０３、オ
イルブラックＢＹ、オイルブラックＢＳ、オイルブラッ
クＴ−５０５（以上オリエント化学工業（株）製）、ビ
クトリアピュアブルー、クリスタルバイオレット（ＣＩ
４２５５５）、メチルバイオレット（ＣＩ４２５３
５）、エチルバイオレット、ローダミンＢ（ＣＩ１４５
１７０Ｂ）、マラカイトグリーン（ＣＩ４２０００）、
メチレンブルー（ＣＩ５２０１５）など、あるいは特開
昭６２−２９３２４７号公報に記載されている染料を挙
げることができる。

【０１５０】これらの染料は、光照射後、画像部と非画
像部の区別がつきやすいので、添加するのが好ましい。
尚、添加量は、感光層の全固形分に対し、０．０１〜１
０重量％の割合である。また、本発明において、感光層
中には、現像条件に対する処理の安定性を向上させるた
め、特開昭６２−２５１７４０号公報や特開平３−２０
８５１４号公報に記載されているような非イオン界面活
性剤、特開昭５９−１２１０４４号公報、特開平４−１
３１４９号公報に記載されているような両性界面活性剤
を添加することができる。非イオン界面活性剤の具体例
としては、ソルビタントリステアレート、ソルビタンモ
ノパルミテート、ソルビタントリオレート、ステアリン
酸モノグリセリド、ポリオキシエチレンノニルフェニル
エーテル等が挙げられる。両性界面活性剤の具体例とし
ては、アルキルジ（アミノエチル）グリシン、アルキル
ポリアミノエチルグリシン塩酸塩、２−アルキル−Ｎ−
カルボキシエチル−Ｎ−ヒドロキシエチルイミダゾリニ
ウムベタインやＮ−テトラデシル−Ｎ，Ｎ−ベタイン型
（例えば、商品名アモーゲンＫ、第一工業（株）製）等
が挙げられる。上記非イオン界面活性剤および両性界面
活性剤の感光層の全固形分中に占める割合は、０．０５
〜１５重量％が好ましく、より好ましくは０．１〜５重
量％である。

【０１５１】さらに、本発明において、感光層中には、
必要に応じ、塗膜の柔軟性等を付与するために可塑剤を
加えることができる。例えば、ポリエチレングリコー
ル、クエン酸トリブチル、フタル酸ジエチル、フタル酸
ジブチル、フタル酸ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、
リン酸トリクレジル、リン酸トリブチル、リン酸トリオ
クチル、オレイン酸テトラヒドロフルフリル等が用いら
れる。また、本発明において、感光層中には、塗布性を
良化するための界面活性剤、例えば特開昭６２−１７０
９５０号公報に記載されているようなフッ素系界面活性
剤を添加することができる。好ましい添加量は、感光層
の全固形分中０．０１〜１重量％、さらに好ましくは
０．０５〜０．５重量％である。

【０１５２】感光層は、通常、上記各成分を溶媒に溶解
して、塗布液を調製し、該塗布液を支持体上に塗布する
ことにより作製することができる。ここで使用する溶媒
としては、エチレンジクロライド、シクロヘキサノン、
メチルエチルケトン、メタノール、エタノール、プロパ
ノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、１−
メトキシ−２−プロパノール、２−メトキシエチルアセ
テート、１−メトキシ−２−プロピルアセテート、ジメ
トキシエタン、乳酸メチル、乳酸エチル、Ｎ，Ｎ−ジメ
チルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、テ
トラメチルウレア、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルス
ルホキシド、スルホラン、γ−ブチルラクトン、トルエ
ン、水等を挙げることができるが、これらに限定される
ものではない。これらの溶媒は単独あるいは混合して使
用される。溶媒中の上記成分（添加剤を含む全固形分）
の濃度は、好ましくは１〜５０重量％である。また塗
布、乾燥後に得られる支持体上の塗布量（固形分）は、
用途によって異なるが、一般的に、０．５〜５．０ｇ／
ｍ²が好ましい。塗布する方法としては、種々の方法を
用いることができるが、例えば、バーコーター塗布、回
転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布、ディップ塗布、
エアーナイフ塗布、ブレード塗布、ロール塗布等を挙げ
ることができる。塗布量が少なくなるにつれて、見かけ
の感度は大になるが、感光層の皮膜特性は低下する。

【０１５３】（親水性支持体）本発明において、用いら
れる平版印刷版原版の親水性支持体としては、寸度的に
安定な板状物であり、例えば、紙、プラスチック（例え
ば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン等）
がラミネートされた紙、金属板（例えば、アルミニウ
ム、亜鉛、銅等）、プラスチックフィルム（例えば、二
酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン酸セル
ロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、硝酸セ
ルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレ
ン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネー
ト、ポリビニルアセタール等）、前記金属がラミネート
若しくは蒸着された紙若しくはプラスチックフィルム等
が含まれる。

【０１５４】前記親水性支持体としては、ポリエステル
フィルム又はアルミニウム板が好ましく、その中でも寸
法安定性がよく、比較的安価であるアルミニウム板は特
に好ましい。好適なアルミニウム板は、純アルミニウム
板及びアルミニウムを主成分とし、微量の異元素を含む
合金板であり、更にアルミニウムがラミネート若しくは
蒸着されたプラスチックフィルムでもよい。アルミニウ
ム合金に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガン、
銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケ
ル、チタン等がある。合金中の異元素の含有量は高々１
０重量％以下である。本発明において特に好適なアルミ
ニウムは、純アルミニウムであるが、完全に純粋なアル
ミニウムは精錬技術上製造が困難であるので、僅かに異
元素を含有するものでもよい。このように本発明に適用
されるアルミニウム板は、その組成が特定されるもので
はなく、従来公知公用の素材のアルミニウム板を適宜に
利用することができる。アルミニウム板の厚みはおよそ
０．１〜０．６ｍｍ程度、好ましくは０．１５〜０．４
ｍｍ、特に好ましくは０．２〜０．３ｍｍである。

【０１５５】アルミニウム板を以下の如く粗面化するに
先立ち、所望により、表面の圧延油を除去するため、例
えば、界面活性剤、有機溶剤、アルカリ性水溶液等によ
る脱脂処理が行われる。前記アルミニウム板の表面の粗
面化処理は、種々の方法により行われるが、例えば、機
械的に粗面化する方法、電気化学的に表面を溶解粗面化
する方法、及び化学的に表面を選択溶解させる方法によ
り行われる。前記機械的方法としては、ボール研磨法、
ブラシ研磨法、ブラスト研磨法、バフ研磨法等の公知の
方法を用いることができる。また、前記電気化学的な粗
面化法としては、塩酸又は硝酸電解液中で交流又は直流
により行う方法がある。また、特開昭５４−６３９０２
号公報に開示されているように両者を組み合わせた方法
も利用することができる。この様に粗面化されたアルミ
ニウム板は、必要に応じてアルカリエッチング処理及び
中和処理された後、所望により表面の保水性や耐摩耗性
を高めるために陽極酸化処理が施される。該アルミニウ
ム板の陽極酸化処理に用いられる電解質としては、多孔
質酸化皮膜を形成する種々の電解質の使用が可能で、一
般的には硫酸、リン酸、蓚酸、クロム酸、あるいはそれ
らの混酸が用いられる。それらの電解質の濃度は電解質
の種類によって適宜決められる。

【０１５６】前記陽極酸化の処理条件は、用いる電解質
により種々変わるので一概に特定し得ないが、一般的に
は電解質の濃度が１〜８０重量％溶液、液温は５〜７０
℃、電流密度５〜６０Ａ／ｄｍ²、電圧１〜１００Ｖ、
電解時間１０秒〜５分の範囲であれば適当である。陽極
酸化皮膜の量は１．０ｇ／ｍ²より少ないと耐刷性が不
十分であったり、前記平版印刷版原版の非画像部に傷が
付き易くなって、印刷時に傷の部分にインキが付着する
いわゆる「傷汚れ」が生じ易くなる。

【０１５７】前記陽極酸化処理を施された後、アルミニ
ウム表面は必要により親水化処理が施される。本発明に
使用される親水化処理としては、米国特許第２，７１
４，０６６号、同第３，１８１，４６１号、第３，２８
０，７３４号及び第３，９０２，７３４号に開示されて
いるようなアルカリ金属シリケート（例えば、ケイ酸ナ
トリウム水溶液）法がある。この方法においては、前記
支持体がケイ酸ナトリウム水溶液で浸漬処理されるか、
又は電解処理される。他に特公昭３６−２２０６３号公
報に開示されているフッ化ジルコン酸カリウム及び米国
特許第３，２７６，８６８号、同第４，１５３，４６１
号、同第４，６８９，２７２号に開示されているような
ポリビニルホスホン酸で処理する方法等が用いられる。

【０１５８】（その他の層）本発明に用いられる平版印
刷版原版は、親水性支持体上に赤外線レ−ザ用ネガ型感
光性組成物を含有する感光層を有するものであるが、必
要に応じてその間に下塗層を、設けることができる。前
記下塗層の成分としては、種々の有機化合物が用いら
れ、例えば、カルボキシメチルセルロース、デキストリ
ン、アラビアガム、２−アミノエチルホスホン酸等のア
ミノ基を有するホスホン酸類、置換基を有してもよいフ
ェニルホスホン酸、ナフチルホスホン酸、アルキルホス
ホン酸、グリセロホスホン酸、メチレンジホスホン酸及
びエチレンジホスホン酸等の有機ホスホン酸、置換基を
有してもよいフェニルリン酸、ナフチルリン酸、アルキ
ルリン酸及びグリセロリン酸等の有機リン酸、置換基を
有してもよいフェニルホスフィン酸、ナフチルホスフィ
ン酸、アルキルホスフィン酸及びグリセロホスフィン酸
等の有機ホスフィン酸、グリシン及びβ−アラニン等の
アミノ酸類、トリエタノールアミンの塩酸塩等のヒドロ
キシ基を有するアミンの塩酸塩等から選ばれるが、２種
以上混合して用いてもよい。

【０１５９】前記下塗層は次の以下の方法により、設け
ることができる。即ち、水又はメタノール、エタノー
ル、メチルエチルケトン等の有機溶剤若しくはそれらの
混合溶剤に上記の有機化合物を溶解させた溶液をアルミ
ニウム板上に塗布、乾燥して設ける方法と、水又はメタ
ノール、エタノール、メチルエチルケトン等の有機溶剤
若しくはそれらの混合溶剤に上記の有機化合物を溶解さ
せた溶液に、アルミニウム板を浸漬して上記化合物を吸
着させ、その後、水等によって洗浄、乾燥して有機下塗
層を設ける方法である。前者の方法では、上記の有機化
合物の０．００５〜１０重量％の濃度の溶液を種々の方
法で塗布できる。また、後者の方法では、溶液の濃度は
０．０１〜２０重量％、好ましくは０．０５〜５重量％
であり、浸漬温度は２０〜９０℃、好ましくは２５〜５
０℃であり、浸漬時間は０．１秒〜２０分、好ましくは
２秒〜１分である。これに用いる溶液は、アンモニア、
トリエチルアミン、水酸化カリウム等の塩基性物質や、
塩酸、リン酸等の酸性物質によりｐＨ１〜１２の範囲に
調整することもできる。また、画像記録材料の調子再現
性改良のために黄色染料を添加することもできる。

【０１６０】前記下塗層の被覆量は、２〜２００ｍｇ／
ｍ²が適当であり、好ましくは５〜１００ｍｇ／ｍ²であ
る。前記被覆量が２ｍｇ／ｍ²よりも少ないと十分な耐
刷性能が得られない。また、２００ｍｇ／ｍ²より大き
くても同様である。

【０１６１】また、本発明に用いられる平版印刷版原版
には、必要に応じて前記感光層の上にオーバーコート層
を設けてもよい。該オーバーコート層成分としては、ポ
リビニルアルコール、メタクリレート、アクリレートや
通常の感光性平版印刷版原版に用いられるマット材料等
が挙げられる。

【０１６２】

【実施例】以下、本発明の実施例を説明するが、本発明
はこれらの実施例に何ら限定されるものではない。 ＜平版印刷版原版１の作製＞厚みが０．３ｍｍであるア
ルミニウム板（材質１０５０）をトリクロロエチレンで
洗浄して脱脂した後、ナイロンブラシと４００メッシュ
のパミス−水懸濁液を用いこの表面を砂目立てし、水で
よく洗浄した。このアルミニウム板を４５℃の２５％水
酸化ナトリウム水溶液に９秒間浸漬してエッチングを行
い、水洗後、更に２０％硝酸に２０秒間浸漬し、水洗し
た。この時の砂目立て表面のエッチング量は、約３ｇ／
ｍ²であった。次に、このアルミニウム板を７％硫酸を
電解液として電流密度１５Ａ／ｄｍ²で３ｇ／ｍ²の直流
陽極酸化被膜を設けた後、水洗し乾燥し、更に、珪酸ナ
トリウム２．５重量％水溶液で３０℃で１０秒親水化処
理を施した。これを支持体１とした。

【０１６３】次に、下記の組成の感光層用塗布液を調整
し、この塗布液を前記支持体１に塗布し、１００℃で１
分間乾燥して感光層１を作製した。乾燥後の重量は１．
７ｇ／ｍ²であった。これを平版印刷版原版１とした。 ・ 光又は熱により酸を発生する化合物 ０．２ｇ （前記例示化合物VIII−Ｉ−２１） ・ 酸により架橋する架橋剤 ０．７ｇ （前記例示化合物ＫＺ−３） ・ バインダー １．５ｇ （丸善石油化学（株）製のポリビニルフェノール「マルカリンカーＭＳ− ４Ｐ」） ・ 赤外線吸収剤 ＮＫ−３５０８（商品名） ０．１５ｇ （日本感光色素研究所（株）製） ・ その他添加剤 ビクトリアピュアブルー ＢＯ（Ｃ．Ｉ．４４０４０） ０．０５ｇ フッ素系界面活性剤「メガファックＦ−１７７」 ０．０６ｇ （大日本インキ化学工業（株）製） ・ 溶剤 メチルエチルケトン １５ｇ １−メトキシ−２−プロパノール ５ｇ メチルアルコール ７ｇ

【０１６４】＜平版印刷版原版２の作製＞下記組成の下
塗り液を、前記支持体１に塗布し、８０℃で３０秒間乾
燥した。乾燥後の被覆量は１０ｍｇ／ｍ²であった。こ
れを支持体２とした。 ・ β−アラニン ０．０５ｇ ・ アミノエチルホスホン酸 ０．０５ｇ ・ フェニルホスホン酸 ０．０５ｇ ・ メタノール ４０ｇ ・ 純水 ６０ｇ

【０１６５】前記支持体２に、感光層１の作製に用いた
感光層用塗布液と同様な塗布液を用いて、同様な塗布条
件および乾燥条件で感光層を形成した。得られた原版を
平版印刷版原版２とした。

【０１６６】＜実施例１および実施例２＞前記平版印刷
版原版１および２を、各々、波長１０６４ｎｍの赤外線
を発する固体レーザのＹＡＧレーザ（出力５００ｍＷ）
で露光した。露光後、１３０℃、１３５℃、１４０℃、
１４５℃に温度設定したオーブン内で４５秒間加熱処理
した。その後、各々の温度で加熱処理されたサンプル
を、浸漬型現像槽を有する市販の自動現像機ＰＳ−９０
０ＮＰ（富士写真フィルム（株）製）を用いて現像処理
を行った。このＰＳ−９００ＮＰの現像処理槽には、下
記組成のアルカリ現像処理液１（ｐＨ約１３）が２０リ
ットル仕込まれ、現像処理液１の温度は３０℃に保温し
てあった。ＰＳ−９００ＮＰの第二浴目には、水道水を
８リットル、第三浴目には、ＦＰ−２Ｗ（富士写真フィ
ルム（株）製）：水＝１：１希釈したフィニッシングガ
ム液を８リットル仕込んだ。

【０１６７】 −アルカリ現像処理液１の組成− ・ Ｄ−ソルビット ２．５重量％ ・ 水酸化ナトリウム ０．８５重量％ ・ ジエチレントリアミンペンタ− （メチレンホスホン酸）５Ｎａ塩 ０．０５重量％ ・ 水 ９６．６重量％

【０１６８】＜比較例１＞前記平版印刷版原版１を用い
て、前記と同様に光照射を行い、その後、同様に各温度
で加熱処理を施したサンプルを作製した。これらサンプ
ルについて、前記アルカリ処理現像液１を以下の組成の
アルカリ現像処理液２および現像補助液に変更した以外
は、同様の現像処理を施した。 アルカリ現像処理液２の組成− ・ ［ＳｉＯ₂］／［Ｋ₂Ｏ］ モル比１．１６、 ＳｉＯ₂ １．４重量％の珪酸ナトリウム水溶液 ９９．９重量％ ・ ジエチレントリアミンペンタ− （メチレンホスホン酸）５Ｎａ塩 ０．１重量％ −現像補充液の組成− ・ ［ＳｉＯ₂］／［Ｋ₂Ｏ］ モル比０．９８、 ＳｉＯ２ ２．０重量％の珪酸ナトリウム水溶液 ９９．８重量％ ・ ジエチレントリアミンペンタ− （メチレンホスホン酸）５Ｎａ塩 ０．２重量％

【０１６９】前記各サンプルについて、現像処理の前後
における、光照射部の膜厚を測定し、その変化を調べ、
以下の基準で評価した。評価結果を表１に示す。 ○ ： 非光照射部を完全に除去できたとともに、現像
処理の前後で光照射部の膜厚の変化がなかった。 △ ： 非光照射部を完全に除去できたが、現像処理の
前後で若干、光照射部の膜厚の低下が見られた。 × ： 非光照射部が除去されるとともに、現像処理の
前後で光照射部の膜厚が顕著に減少した。

【０１７０】

【表１】

【０１７１】

【発明の効果】本発明の平版印刷版の製版方法は、現像
工程において非光照射部を除去するとともに、従来ネガ
型平版印刷版の製版の現像工程で問題となっていた光照
射部の損傷を低減することができる。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 親水性支持体上に、赤外線レーザ用ネガ
   型感光性組成物を含有する感光層を有する平版印刷版原
   版を、赤外線レーザーで露光する露光工程と、少なくと
   も一種の非還元糖と、少なくとも一種の塩基とを含有す
   るアルカリ現像処理液で現像する現像工程とを含む平版
   印刷版の製版方法。
2. 【請求項２】 ネガ型感光性組成物が以下の成分（イ）
   〜（ニ）を含有することを特徴とする請求項１に記載の
   平版印刷版の製版方法。 （イ）光又は熱により分解して酸を発生する化合物 （ロ）酸により架橋する架橋剤 （ハ）アルカリ可溶性樹脂の少なくとも１種 （ニ）赤外線吸収剤