JP2000321780A - 印刷版の作成方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 赤外線レーザを用いて、デジタルデータから
直接製版するネガ型画像記録材料に好適な、細線や網点
などの微細な画像の書き込みにも適用しうる画像再現性
に優れた平版印刷版の作成方法を提供する。 【解決手段】 親水性表面を有する支持体上に、（Ａ）
光又は熱により分解して酸を発生する化合物、（Ｂ）酸
により架橋する架橋剤、（Ｃ）アルカリ可溶性樹脂及
び、（Ｄ）赤外線吸収剤を含有し、露光部がその後の処
理によって疎水性となる赤外線感光層を設けてなるネガ
型感熱画像形成材料を、1ビームあたりの感材面での出
力が５０ｍＷ〜１００ｍＷの赤外線レーザーを書き込み
光源に用いたアウタードラム型のプレートセッターによ
り、書き込み速度０．５ｍ／ｓ〜５ｍ／ｓで画像露光す
ることを特徴とする。赤外線吸収剤は染料であることが
好ましい。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は印刷版の作成方法に
関するものであり、特にコンピュータ等のデジタル信号
から赤外線レーザを用い直接製版できる、いわゆるダイ
レクト製版可能なネガ型画像記録材料に適する画像再現
性に優れた印刷版の作成方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、コンピュータのデジタルデータか
ら直接製版するシステム（ＣＴＰ）が注目されており、
種々の技術が開発されている。ダイレクト印刷版（ＣＴ
Ｐ）の露光光源として、波長７６０ｎｍから１２００ｎ
ｍの赤外線を放射する固体レーザ及び半導体レーザが、
高出力かつ小型のものが容易に入手でき、コンピュータ
等のデジタルデータから直接製版する際の記録光源とし
て、これらのレーザは非常に有用である。

【０００３】高出力の赤外レーザーとして、ＹＡＧレー
ザー（１０６４ｎｍ）や、半導体レーザー（８００−１
０００ｎｍ）が実用化されており、露光方式としては、
インナードラム型のプレートセッター及びアウタードラ
ム型プレートセッターを用いる方法がある。インナード
ラム型のプレートセッターは、図１（Ａ）の概略断面図
に示すように、印刷版原版１０の感光面を内側に向けて
ドラム内部１１に固定して、その内側で、レーザー光源
１２から照射されたレーザー光（図中に矢印で示す）１
３を反射させるミラー１４を回転させることにより走査
露光を行う方式のプレートセッターであり、図１（Ｂ）
はその概略斜視図である。インナードラム型のプレート
セッターは、レーザー光源から露光される感材面までの
間の光路長が長いため、レーザーのビーム品質（非拡散
性、きれいなビームスポット形状、等）が優れているこ
とが必要であり、可視光域のレーザーに比べて、ビーム
品質が劣っている赤外線レーザーでは画像再現性のよい
印刷版が得られないのが現状である。

【０００４】これに対して、図２に示すように、光源２
０からのレーザー光（図中に、矢印で表示する）を印刷
版原版などの感光材料２２を装着したドラム２３表面に
照射し、該ドラム２３を回転させることで走査露光を行
う方式のいわゆるアウタードラム型のプレートセッター
がある。図２（Ａ）はアウタードラム型のプレートセッ
ターの露光状態を示す概略断面図であり、図２（Ｂ）は
その概略斜視図である。この方式は、レーザーと感材の
間の光路長を短くできるために、ビーム品質が低いレー
ザーでも使用可能であるという利点を有している。

【０００５】このような赤外線レーザにて記録可能なネ
ガ型の画像記録材料を露光するためには、レーザーの出
力の限界、ビーム品質、安全性、コスト面などを考慮す
ると、アウタードラム型のプレートセッターを用いるの
が有利である。

【０００６】この作成方法に適用されるネガ型の感光画
像記録材料としては、架橋剤、酸発生剤、バインダー樹
脂、及び赤外線吸収剤よりなる記録材料が感度に優れて
おり、このようなネガ型の画像記録材料を用いた好適な
印刷版の作成方法が所望されていた。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記の問題
点を考慮してなされたものであり、本発明の目的は、赤
外線を放射する固体レーザ及び半導体レーザを用いて、
コンピューター等のデジタルデータから直接製版するネ
ガ型画像記録材料に好適な、細線や網点などの微細な画
像の書き込みにも適用しうる画像再現性に優れた平版印
刷版の作成方法を提供することにある。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、ネガ型画
像記録材料の構成成分とアウタードラム型プレートセッ
ターの特性に着目し、鋭意検討の結果、所定の出力のレ
ーザーを用いて、特定速度で書き込みを行うことによ
り、ネガ型画像記録材料を用いて、画像再現性に優れた
印刷版を作成しうることを見出し、本発明を完成するに
至った。

【０００９】即ち、本発明の印刷版の作成方法は、親水
性表面を有する支持体上に、親水性表面を有する支持体
上に、露光部がその後の処理によって疎水性となり、
（Ａ）光又は熱により分解して酸を発生する化合物、
（Ｂ）酸により架橋する架橋剤、（Ｃ）アルカリ可溶性
樹脂の少なくとも１種、及び（Ｄ）赤外線吸収剤下記を
含有する赤外線感光層を設けたネガ型感熱画像形成材料
を、1ビームあたりの感材面での出力が５０ｍＷ〜１０
０ｍＷの赤外線レーザーを書き込み光源に用いたアウタ
ードラム型のプレートセッターにより、書き込み速度
０．５ｍ／ｓ〜５ｍ／ｓで画像露光することを特徴とす
る。ここで、（Ｄ）赤外線吸収剤は顔料よりも染料であ
ることが好ましい。

【００１０】即ち、本発明に用いるようなサーマル方式
のネガ型画像記録材料に、ビーム径をしぼったレーザー
光を走査していく場合、前に走査した部分と一部重なり
ながら走査していく必要があり、その重なった部分には
二倍のエネルギーが与えられるため、レーザーの出力が
高すぎると、その部分に過剰な反応が生じ、光学系の汚
染や階調の悪化、細線の飛びなどを生じるが、本発明の
印刷版の作成方法においては、記録に適するレーザー光
の出力を選択し、特定の速度で書き込みを行うため、ネ
ガ型画像記録材料の赤外線感光層において、一つ一つの
微細な画素に対応した記録が可能となり、一般の画像の
みならず、細線画像やハイライト部分の網点（1〜５％
相当）及びシャドウ部分の網点（９５〜９９％相当）等
も刷版上に良好な状態で再現できる。

【００１１】

【発明の実施の形態】以下、本発明について詳細に説明
する。本発明の印刷版の作成方法は、親水性表面を有す
る支持体上に、露光部がその後の処理によって疎水性と
なり、（Ａ）光又は熱により分解して酸を発生する化合
物、（Ｂ）酸により架橋する架橋剤、（Ｃ）アルカリ可
溶性樹脂の少なくとも１種、及び（Ｄ）赤外線吸収剤を
含有する赤外線感光層を設けたネガ型感熱画像形成材料
を、1ビームあたりの感材面での出力が５０ｍＷ〜１０
０ｍＷの赤外線レーザーを書き込み光源に用いたアウタ
ードラム型のプレートセッターにより、書き込み速度
０．５ｍ／ｓ〜５ｍ／ｓで画像露光すること、即ち、低
出力の光源を用いてゆっくり書き込みを行うを特徴とす
る。1ビームあたりの感材面での出力が５０ｍＷ未満で
あると、露光時間を長くしなければ良好な書き込みが行
われず、細線等の再現性が悪化する。また、出力が１０
０ｍＷを超えると、光学系の汚染や階調の悪化、細線の
飛びなどを生じるおため、好ましくない。なお、ビーム
の出力は印刷版原版の表面で測定した値であり。書き込
み速度については、０．５ｍ／ｓ〜５ｍ／ｓの範囲にあ
ることを要し、書き込み速度１．５ｍ／ｓ〜４ｍ／ｓで
画像露光することが感度と機械のメンテナンス性の観点
からより好ましい。書き込み速度が０．５ｍ／ｓ未満で
は、露光に時間がかかり、作業性が悪化する。５ｍ／ｓ
を超えると良好な画像露光するためには、高出力のレー
ザーを必要とし、前記した高出力レーザーと同様に、光
学系の汚染等が生じ易くなり好ましくない。このアウタ
ードラム型プレートセッターにおいては、書き込み速度
は、ドラムの回転速度を制御することにより、調整する
ことができる。

【００１２】また、本発明においては、記録に使用する
赤外線レーザーのビーム径は、画像再現性と生産性の観
点から、５μｍ〜４０μｍの範囲であることが好まし
く、ビーム径が５μｍ未満では、十分なエネルギーが選
られず、記録不良を生じるおそれがあり、４０μｍを超
えると、１ビームあたりのスポットが大きくなりすぎて
微細な画像の再現性が悪化する。ビーム径は、６μｍ〜
３０μｍの範囲であることがさらに好ましい。

【００１３】以上のようにして、赤外線レーザーにより
露光を行った画像記録材料（版材）を現像することによ
り印刷版を作成することができる。本発明においては、
レーザ照射後すぐに現像処理を行っても良いが、レーザ
を照射した後、現像工程に付する前に加熱処理を行うこ
とが好ましい。加熱処理の条件は、８０℃〜１５０℃の
範囲内で１０秒〜５分間行うことが好ましい。この加熱
処理により、レーザ照射時、記録に必要なレーザエネル
ギーを減少させることができる。

【００１４】必要に応じて加熱処理を行った後、本発明
の画像記録材料はアルカリ性水溶液にて現像される。本
発明の画像記録材料の現像液および補充液としては公知
のものが使用でき、アルカリ水溶液等が使用できる。具
体的には、例えば、ケイ酸ナトリウム、同カリウム、第
３リン酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、第
２リン酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、炭
酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸水素
ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、ほう酸ナト
リウム、同カリウム、同アンモニウム、水酸化ナトリウ
ム、同アンモニウム、同カリウムおよび同リチウムなど
の無機アルカリ塩が挙げられる。また、モノメチルアミ
ン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルア
ミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプ
ロピルアミン、ジイソプロピルアミン、トリイソプロピ
ルアミン、ｎ−ブチルアミン、モノエタノールアミン、
ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、モノイソ
プロパノールアミン、ジイソプロパノールアミン、エチ
レンイミン、エチレンジアミン、ピリジンなどの有機ア
ルカリ剤も用いられる。これらのアルカリ剤は単独もし
くは２種以上を組み合わせて用いられる。これらのアル
カリ剤の中で特に好ましい現像液は、ケイ酸ナトリウ
ム、ケイ酸カリウム等のケイ酸塩水溶液である。その理
由はケイ酸塩の成分である酸化珪素ＳｉＯ₂とアルカリ
金属酸化物Ｍ₂Ｏの比率と濃度によって現像性の調節が
可能となるためであり、例えば、特開昭５４−６２００
４号公報、特公昭５７−７４２７号に記載されているよ
うなアルカリ金属ケイ酸塩が有効に用いられる。

【００１５】更に自動現像機を用いて現像する場合に
は、現像液よりもアルカリ強度の高い水溶液（補充液）
を現像液に加えることによって、長時間現像タンク中の
現像液を交換する事なく、多量の平版印刷用版材を処理
できることが知られている。本発明においてもこの補充
方式が好ましく適用される。現像液および補充液には現
像性の促進や抑制、現像カスの分散および印刷版画像部
の親インキ性を高める目的で必要に応じて種々の界面活
性剤や有機溶剤を添加できる。好ましい界面活性剤とし
ては、アニオン系、カチオン系、ノニオン系および両性
界面活性剤があげられる。更に現像液および補充液には
必要に応じて、ハイドロキノン、レゾルシン、亜硫酸、
亜硫酸水素酸などの無機酸のナトリウム塩、カリウム塩
等の還元剤、更に有機カルボン酸、消泡剤、硬水軟化剤
を加えることもできる。上記現像液および補充液を用い
て現像処理された印刷版は水洗水、界面活性剤等を含有
するリンス液、アラビアガムや澱粉誘導体を含む不感脂
化液で後処理される。本発明の画像記録材料を印刷用版
材として使用する場合の後処理としては、これらの処理
を種々組み合わせて用いることができる。

【００１６】近年、製版・印刷業界では製版作業の合理
化および標準化のため、印刷用版材用の自動現像機が広
く用いられている。この自動現像機は、一般に現像部と
後処理部からなり、印刷用版材を搬送する装置と各処理
液槽およびスプレー装置からなり、露光済みの印刷版を
水平に搬送しながら、ポンプで汲み上げた各処理液をス
プレーノズルから吹き付けて現像処理するものである。
また、最近は処理液が満たされた処理液槽中に液中ガイ
ドロールなどによって印刷用版材を浸漬搬送させて処理
する方法も知られている。このような自動処理において
は、各処理液に処理量や稼働時間等に応じて補充液を補
充しながら処理することができる。

【００１７】以上のようにして得られた平版印刷版は所
望により不感脂化ガムを塗布したのち、印刷工程に供す
ることができるが、より一層の高耐刷力の平版印刷版と
したい場合にはバーニング処理が施される。平版印刷版
をバーニングする場合には、バーニング前に特公昭６１
−２５１８号、同５５−２８０６２号、特開昭６２−３
１８５９号、同６１−１５９６５５号の各公報に記載さ
れているような整面液で処理することが好ましい。その
方法としては、該整面液を浸み込ませたスポンジや脱脂
綿にて、平版印刷版上に塗布するか、整面液を満たした
バット中に印刷版を浸漬して塗布する方法や、自動コー
ターによる塗布などが適用される。また、塗布した後で
スキージ、あるいは、スキージローラーで、その塗布量
を均一にすることは、より好ましい結果を与える。整面
液の塗布量は一般に０．０３〜０．８ｇ／ｍ²（乾燥重
量）が適当である。

【００１８】整面液が塗布された平版印刷版は必要であ
れば乾燥された後、バーニングプロセッサー（たとえば
富士写真フイルム（株）より販売されているバーニング
プロセッサー：ＢＰ−１３００）などで高温に加熱され
る。この場合の加熱温度及び時間は、画像を形成してい
る成分の種類にもよるが、１００〜３００℃の範囲で１
〜２０分の範囲が好ましい。バーニング処理された平版
印刷版は、必要に応じて適宜、水洗、ガム引きなどの公
知の処理を施こすことができるが水溶性高分子化合物等
を含有する整面液が使用された場合にはガム引きなどの
いわゆる不感脂化処理を省略することができる。この様
な処理によって得られた平版印刷版は、光学系の汚染も
なく、細線などの微細な画像の再現性も良好であるの
で、オフセット印刷機等にかけられ、多数枚の良好な印
刷物を得ることができる。

【００１９】前記した本発明の印刷版の作成方法は、親
水性表面を有する支持体上に露光部がその後の処理によ
って疎水性、即ち、インク受容性となる赤外線感光層を
設けてなるネガ型感熱画像形成材料であれば、いずれに
対しても良好に適用できるが、細線、網点などの微細な
画像の再現性の観点からは、特に、その赤外線感光層
が、（Ａ）光又は熱により分解して酸を発生する化合
物、（Ｂ）酸により架橋する架橋剤、（Ｃ）アルカリ可
溶性樹脂の少なくとも１種、及び（Ｄ）赤外線吸収剤を
含有するネガ型画像記録材料に適用してその効果が著し
いといえる。前記本発明に好適に用いられるネガ型画像
記録材料の構成成分について、以下に説明する。 ［（Ａ）光又は熱により分解して酸を発生する化合物］
本発明において光又は熱により分解して酸を発生する化
合物（以下、適宜、酸発生剤と称する）とは、２００〜
５００ｎｍの波長の光照射又は１００℃以上の加熱によ
り酸を発生する化合物を指す。本発明において好適に用
いられる酸発生剤としては、光カチオン重合の光開始
剤、光ラジカル重合の光開始剤、色素類の光消色剤、光
変色剤、あるいはマイクロレジスト等に使用されている
公知の酸発生剤等、公知の熱分解して酸を発生する化合
物、及びそれらの混合物を適宜に選択して使用すること
ができる。

【００２０】例えば、公知の化合物としては、本発明者
らが先に提案した特開平１０−１２３７０２号公報の段
落番号［００１９］〜［００２４］前段に挙げたものを
例示できる。これらのうち本発明で特に好ましく用いら
れる酸発生剤としては、下記一般式（Ｉ）〜（Ｖ）で表
される化合物が挙げられる。

【００２１】

【化１】

【００２２】（式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁴及びＲ⁵は、同じで
も異なっていてもよく、置換基を有していてもよい炭素
数２０個以下の炭化水素基を示す。Ｒ³ はハロゲン原
子、置換基を有していてもよい炭素数１０個以下の炭化
水素基叉は炭素数１０個以下のアルコキシ基を示す。Ａ
ｒ¹、Ａｒ²は、同じでも異なっていてもよく、置換基を
有していてもよい炭素数２０個以下のアリール基を示
す。Ｒ⁶は置換基を有していてもよい炭素数２０個以下
の２価の炭化水素基を示す。ｎは０〜４の整数を示
す。）

【００２３】上記一般式（Ｉ）〜（Ｖ）において、
Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁴及びＲ⁵は、それぞれ独立に、置換基を有
していてもよい炭素数２０個以下の炭化水素基を示し、
好ましくは炭素数１〜１４の炭化水素基を示す。炭化水
素基の具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロ
ピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチ
ル基、ｔ−ブチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、
オクチル基、２−エチルヘキシル基、ウンデシル基、ド
デシル基等のアルキル基、アリル基、ビニル基、１−メ
チルビニル基、２−フェニルビニル基等のアルケニル
基、ベンジル基等のアラルキル基、フェニル基、トリル
基、キシリル基、クメニル基、メシチル基、ドデシルフ
ェニル基、フェニルフェニル基、ナフチル基、アントラ
セニル基等のアリール基が挙げられる。これらの炭化水
素基は、例えばハロゲン原子、アルコキシ基、ニトロ
基、シアノ基、カルボキシ基等の置換基を有していても
よい。置換基を有する炭化水素基の具体例としては、ト
リフルオロメチル基、クロロエチル基、２−メトキシエ
チル基、フルオロフェニル基、クロロフェニル基、ブロ
モフェニル基、ヨードフェニル基、メトキシフェニル
基、フェノキシフェニル基、メトキシフェニルビニル
基、ニトロフェニル基、シアノフェニル基、カルボキシ
フェニル基、９，１０−ジメトキシアントラセニル基等
が挙げられる。

【００２４】Ｒ³はハロゲン原子、置換基を有していて
もよい炭素数１０個以下の炭化水素基（例えば、アルキ
ル基、アルケニル基、アラルキル基、アリール基）叉は
炭素数１０個以下のアルコキシ基を示す。具体的には、
フッ素、塩素、臭素、ヨウ素のハロゲン原子、メチル
基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、アリ
ル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル
基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、ベンジル基、フェ
ニル基、トリル基等の炭化水素基、２−メトキシエチル
基、フルオロフェニル基、クロロフェニル基、ブロモフ
ェニル基、ヨードフェニル基、メトキシフェニル基等置
換基を有する炭化水素基、メトキシ基、エトキシ基等の
アルコキシ基が挙げられる。また、ｎが２以上の場合、
隣接する２個のＲ³ で互いに結合し縮環していてもよ
い。

【００２５】Ａｒ¹、Ａｒ²は同じであっても異なってい
てもよく、置換基を有していてもよい炭素数２０個以下
のアリール基、好ましくは炭素数６〜１４のアリール基
を示す。具体的には、フェニル基、トリル基、キシリル
基、クメニル基、メシチル基、ドデシルフェニル基、フ
ェニルフェニル基、ナフチル基、フルオロフェニル基、
クロロフェニル基、ブロモフェニル基、ヨードフェニル
基、クロロナフチル基、メトキシフェニル基、フェノキ
シフェニル基、エトキシナフチル基、ニトロフェニル
基、シアノフェニル基、カルボキシフェニル基、ニトロ
ナフチル基、アントラセニル基等が挙げられる。Ｒ⁶は
置換基を有していてもよい炭素数２０個以下の２価の炭
化水素基（例えば、アルキレン基、アルケニレン基、ア
ラルキレン基、アリーレン基）を示す。具体的には、エ
チニレン基、１，２−シクロヘキセニレン基、１，２−
フェニレン基、４−クロロ−１，２−フェニレン基、４
−ニトロ−１，２−フェニレン基、４−メチル−１，２
−フェニレン基、４ーメトキシ−１，２−フェニレン
基、４−カルボキシ−１，２−フェニレン基、１，８−
ナフタレニレン基等が挙げられる。ｎは０〜４の整数を
示す。ここで、ｎが０の場合は、Ｒ³ がないこと、すな
わち、水素原子であることを示す。

【００２６】一般式化合物（Ｉ）〜（Ｖ）で表される化
合物の内、好ましいものを以下に挙げる。尚、これらの
化合物は、例えば特開平２−１０００５４号及び特開平
２−１０００５５号に記載の方法にて合成することがで
きる。

【００２７】

【化２】

【００２８】

【化３】

【００２９】

【化４】

【００３０】

【化５】

【００３１】

【化６】

【００３２】

【化７】

【００３３】

【化８】

【００３４】

【化９】

【００３５】

【化１０】

【００３６】

【化１１】

【００３７】

【化１２】

【００３８】また、（Ａ）光または熱により分解して酸
を発生する化合物として、ハロゲン化物やスルホン酸な
どを対イオンとするオニウム塩、好ましくは下記一般式
（VI）〜（VIII）で示されるヨードニウム塩、スルホニ
ウム塩、ジアゾニウム塩のいずれかの構造を有するもの
も、好適に挙げることができる。

【００３９】

【化１３】

【００４０】（式中、Ｘ^- は、ハロゲン化物イオン、Ｃ
ｌＯ₄ ^-、ＰＦ₆ ^-、ＳｂＦ₆ ^-、ＢＦ₄ ^-、又はＲ⁷−ＳＯ₃ ^-
が挙げられ、ここで、Ｒ⁷は置換基を有していても良い
炭素数２０以下の炭化水素基を示す。Ａｒ³、Ａｒ⁴はそ
れぞれ、置換基を有していても良い炭素数２０以下のア
リール基を示す。Ｒ⁸、Ｒ⁹、Ｒ¹⁰は置換基を有していて
も良い炭素数１８以下の炭化水素基を示す。） 上記一般式において、Ｘ^-としては、Ｒ^-−ＳＯ₃ ^-が特に
好ましく用いられ、ここで、Ｒ⁷としては置換基を有し
ていても良い炭素数２０以下の炭化水素基を示す。Ｒ⁷
で表される炭化水素基の具体例としては、メチル基、エ
チル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、アリル基、
ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ヘキ
シル基、シクロヘキシル基、オクチル基、２−エチルヘ
キシル基、ドデシル基等のアルキル基、ビニル基、１−
メチルビニル基、２−フェニルビニル基等のアルケニル
基、ベンジル基、フェネチル基等のアラルキル基、フェ
ニル基、トリル基、キシリル基、クメニル基、メシチル
基、ドデシルフェニル基、フェニルフェニル基、ナフチ
ル基、アントラセニル基等のアリール基が挙げられる。

【００４１】これらの炭化水素基は、例えばハロゲン原
子、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリルオキシ基、ニ
トロ基、シアノ基、カルボニル基、カルボキシル基、ア
ルコキシカルボニル基、アニリノ基、アセトアミド基等
の置換基を有していても良い。置換基を有する炭化水素
基の具体例としては、トリフルオロメチル基、２−メト
キシエチル基、１０−カンファーニル基、フルオロフェ
ニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、ヨード
フェニル基、メトキシフェニル基、ヒドロキシフェニル
基、フェノキシフェニル基、ニトロフェニル基、シアノ
フェニル基、カルボキシフェニル基、メトキシナフチル
基、ジメトキシアントラセニル基、ジエトキシアントラ
セニル基、アントラキノニル基、等が挙げられる。

【００４２】Ａｒ³、Ａｒ⁴はそれぞれ、置換基を有して
いても良い炭素数２０以下のアリール基を示し、具体的
には、フェニル基、トリル基、キシリル基、クメニル
基、メシチル基、ドデシルフェニル基、フェニルフェニ
ル基、ナフチル基、アントラセニル基、フルオロフェニ
ル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、ヨードフ
ェニル基、メトキシフェニル基、ヒドロキシフェニル
基、フェノキシフェニル基、ニトロフェニル基、シアノ
フェニル基、カルボキシフェニル基、アニリノフェニル
基、アニリノカルボニルフェニル基、モルホリノフェニ
ル基、フェニルアゾフェニル基、メトキシナフチル基、
ヒドロキシナフチル基、ニトロナフチル基、アントラキ
ノニル基等が挙げられる。

【００４３】Ｒ⁸、Ｒ⁹、Ｒ¹⁰はそれぞれ独立に、置換基
を有していても良い炭素数１８以下の炭化水素基を示
し、具体的には、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル
基、ｉ−プロピル基、アリル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ
−ブチル基、ｔ−ブチル基、ヘキシル基、シクロヘキシ
ル基、ベンジル基、フェニル基、トリル基、ｔ−ブチル
フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基、等の炭化
水素基、２−メトキシエチル基、フルオロフェニル基、
クロロフェニル基、ブロモフェニル基、ヨードフェニル
基、メトキシフェニル基、ヒドロキシフェニル基、フェ
ニルチオフェニル基、ヒドロキシナフチル基、メトキシ
ナフチル基、ベンゾイルメチル基、ナフトイルメチル
基、等置換基を有する炭化水素基が挙げられる。また、
Ｒ⁸ とＲ⁹とが互いに結合し環を形成していても良い。

【００４４】一般式（VI）〜（VIII）で表されるオニウ
ム塩のカチオン部としては、ヨードニウムイオン、スル
ホニウムイオン、ジアゾニウムイオンが挙げられる。こ
れらオニウム塩のカチオン部について、以下に具体的な
構造を示すが、これらに限定されるものではない。

【００４５】

【化１４】

【００４６】

【化１５】

【００４７】

【化１６】

【００４８】

【化１７】

【００４９】

【化１８】

【００５０】一方、これらのオニウム塩のカウンターア
ニオンのうち、特に良好に用いられるスルホネートイオ
ンの例としては、 １）メタンスルホネート、 ２）エタンスルホネート、 ３）１−プロパンスルホネート、 ４）２−プロパンスルホネート、 ５）ｎ−ブタンスルホネート、 ６）アリルスルホネート、 ７）１０−カンファースルホネート、 ８）トリフルオロメタンスルホネート、 ９）ペンタフルオロエタンスルホネート、 １０）ベンゼンスルホネート、 １１）ｐ−トルエンスルホネート、 １２）３−メトキシベンゼンスルホネート、 １３）４−メトキシベンゼンスルホネート、 １４）４−ヒドロキシベンゼンスルホネート、 １５）４−クロロベンゼンスルホネート、 １６）３−ニトロベンゼンスルホネート、 １７）４−ニトロベンゼンスルホネート、 １８）４−アセチルベンゼンスルホネート、 １９）ペンタフルオロベンゼンスルホネート、 ２０）４−ドデシルベンゼンスルホネート、 ２１）メシチレンスルホネート、 ２２）２、４、６−トリイソプロピルベンゼンスルホネ
ート、 ２３）２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン−
５−スルホネート、 ２４）イソフタル酸ジメチル−５−スルホネート、 ２５）ジフェニルアミン−４−スルホネート、 ２６）１−ナフタレンスルホネート、 ２７）２−ナフタレンスルホネート、 ２８）２−ナフトール−６−スルホネート、 ２９）２−ナフトール−７−スルホネート、 ３０）アントラキノン−１−スルホネート、 ３１）アントラキノン−２−スルホネート、 ３２）９、１０−ジメトキシアントラセン−２−スルホ
ネート、 ３３）９、１０−ジエトキシアントラセン−２−スルホ
ネート、 ３４）キノリン−８−スルホネート、 ３５）８−ヒドロキシキノリン−５−スルホネート、 ３６）８−アニリノ−ナフタレン−１−スルホネート などが挙げられる。

【００５１】また、 ４１）ｍ−ベンゼンジスルホネート、 ４２）ベンズアルデヒド−２、４−ジスルホネート、 ４３）１、５−ナフタレンジスルホネート、 ４４）２、６−ナフタレンジスルホネート、 ４５）２、７−ナフタレンジスルホネート、 ４６）アントラキノン−１、５−ジスルホネート、 ４７）アントラキノン−１、８−ジスルホネート、 ４８）アントラキノン−２、６−ジスルホネート、 ４９）９、１０−ジメトキシアントラセン−２、６−ジ
スルホネート、 ５０）９、１０−ジエトキシアントラセン−２、６−ジ
スルホネート、 などのジスルホネート類とオニウム塩カチオン２当量と
の塩も用いることができる。

【００５２】本発明で良好に用いられるオニウム塩スル
ホネートは、対応するＣｌ^-塩などを、スルホン酸また
はスルホン酸ナトリウムまたはカリウム塩と水中、ある
いはアルコールなどの親水性溶媒と水との混合溶媒中で
まぜあわせて塩交換を行うことにより、得ることができ
る。オニウム化合物の合成は既知の方法で行うことがで
き、たとえば丸善・新実験化学講座１４−Ｉ巻の２・３
章（ｐ．４４８）、１４−III 巻の８・１６章（ｐ．１
８３８）、同７・１４章（ｐ．１５６４）、Ｊ．Ｗ．Ｋ
ｎａｐｃｚｙｋ他、ジャーナル オブ アメリカン ケ
ミカルソサエティ（Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．）９
１巻、１４５（１９６９）、Ａ．Ｌ．Ｍａｙｃｏｋ他、
ジャーナルオブ オーガニック ケミストリィ（Ｊ．Ｏ
ｒｇ．Ｃｈｅｍ．）３５巻、２５３２（１９７０）、
Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ他、ポリマー ケミストリィ
エディション（Ｐｏｌｙｍ．Ｃｈｅｍ．Ｅｄ．）１８
巻、２６７７（１９８０）、米国特許第２，８０７，６
４８号、同４，２４７，４７３号、特開昭５３−１０１
３３１号、特公平５−５３１６６号公報等に記載の方法
で合成することができる。本発明で酸発生剤として良好
に使用されるオニウム塩スルホネートの好ましい例を以
下に示す。

【００５３】

【化１９】

【００５４】

【化２０】

【００５５】

【化２１】

【００５６】

【化２２】

【００５７】

【化２３】

【００５８】

【化２４】

【００５９】

【化２５】

【００６０】

【化２６】

【００６１】

【化２７】

【００６２】

【化２８】

【００６３】

【化２９】

【００６４】

【化３０】

【００６５】また、本発明者らが先に提案した特願平１
０−８２４９号に記載の下記一般式（IX）で表されるジ
アゾニウム塩化合物もまた、好ましく用いられる。

【００６６】

【化３１】

【００６７】式中、Ｒ¹ およびＲ² はそれぞれ独立に炭
素数２０以下の置換もしくは未置換の炭化水素基を表
し、Ｒ⁴ およびＲ⁵ はそれぞれ独立に水素、または炭素
数２０以下での換もしくは未置換の炭化水素基を表し、
Ｒ⁶ は水素原子、炭素数２０以下の置換もしくは未置換
のアルキルオキシ基、アリールオキシ基、またはアラル
キルオキシ基を示す。Ｘは、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、Ｃｌ
Ｏ₄ 、ＢＦ₄ 、ＰＦ₆ 、ＳｂＦ₆ 、ＡｓＦ₆ 、アルキル
スルホン酸イオン、またはアリールスルホン酸イオンか
ら選ばれるカウンターアニオンを表す。上記一般式（I
X）で表されるジアゾニウム塩のうち特に好ましいもの
としては、前記式中Ｒ⁶ がアルキルオキシ基、アリール
オキシ基、アラルキルオキシ基等、−ＯＲ³である、下
記一般式（Ｘ）で示されるものが挙げられる。

【００６８】

【化３２】

【００６９】式中、Ｒ¹ 、Ｒ² およびＲ³ は、それぞれ
独立に炭素数１〜１２の直鎖、分枝、または脂環式アル
キル基、または炭素数６〜１０の芳香環、または炭素数
７〜１２のアラルキル基を示す。Ｒ⁴ 、Ｒ⁵ は水素原子
または炭素数１〜１０の直鎖、分枝、または脂環式のア
ルキル基を表す。Ｘは、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、ＣｌＯ
₄ 、ＢＦ₄ 、ＰＦ₆ 、ＳｂＦ₆ 、ＡｓＦ₆ 、アルキルス
ルホン酸イオン、またはアリールスルホン酸イオンから
選ばれるカウンターアニオンを表す。

【００７０】一般式（IX）及びさらにその好ましい態様
である一般式（Ｘ）で表されるジアゾニウム塩のカチオ
ン部としては、具体的には下記構造で示されるジアゾニ
ウムイオンが挙げられるが、本発明はこれらの例に制限
されるものではない。なお、下記構造のうち、好ましい
態様である一般式（Ｘ）で表されるジアゾニウム塩の具
体例はＩの符号を付して示す。

【００７１】

【化３３】

【００７２】

【化３４】

【００７３】

【化３５】

【００７４】

【化３６】

【００７５】

【化３７】

【００７６】一方、これらのジアゾニウム塩のカウンタ
ーアニオンとして良好に用いられるアニオンとしては、
１）Ｆ、２）Ｃｌ、３）Ｂｒ、４）Ｉ、５）ＣｌＯ₄ 、
６）ＢＦ₄ 、７）ＰＦ₆ 、８）ＳｂＦ₆ 、９）ＡｓＦ
₆ 、等の無機イオン、またはアルキルスルホン酸イオ
ン、アリールスルホン酸イオン等のスルホン酸イオンが
挙げられる。好ましいスルホン酸イオンとしては、先に
挙げたものと同様である。

【００７７】これらの酸発生剤は、ネガ型画像記録材料
全固形分に対し０．０１〜５０重量％、好ましくは０．
１〜２５重量％、より好ましくは０. ５〜２０重量％の
割合で画像記録材料中に添加される。添加量が０．０１
重量％未満の場合は、画像が得られず、また添加量が５
０重量％を超える場合は、印刷時に非画像部に汚れが発
生するためいずれも好ましくない。これらの化合物は単
独で使用してもよく、また２種以上を組み合わせて使用
してもよい。

【００７８】［（Ｂ）酸により架橋する架橋剤］本発明
においては、酸により架橋する架橋剤（以下、適宜、架
橋剤と称する）としては、分子内にベンゼン環に結合す
る２個以上のヒドロキシメチル基またはアルコキシメチ
ル基を有し、かつベンゼン核を３〜５個含み、さらに分
子量が１，２００以下であるフェノール誘導体の少なく
とも１種からなる化合物が好ましく用いられ、具体的に
は、分子内にベンゼン環に結合する２個以上のヒドロキ
シメチル基またはアルコキシメチル基を有するフェノー
ル誘導体を挙げることができる。ここで、アルコキシメ
チル基としては、炭素数６個以下のものが好ましい。具
体的にはメトキシメチル基、エトキシメチル基、ｎ−プ
ロポキシメチル基、ｉ−プロポキシメチル基、ｎ−ブト
キシメチル基、ｉ−ブトキシメチル基、ｓｅｃ−ブトキ
シメチル基、ｔ−ブトキシメチル基が好ましい。ヒドロ
キシメチル基またはアルコキシメチル基は、形成された
画像の強度の観点から、分子内に２個あることが必須で
あり、３個あることが好ましく、４個以上あることがさ
らに好ましい。２個未満では、画像形成されにくいので
好ましくない。また、高温下での保存時の安定性は、ヒ
ドロキシメチル基を有するフェノール誘導体よりも、ア
ルコキシメチル基を有するフェノール誘導体の方が良好
であるため、アルコキシメチル基を有するフェノール誘
導体が好ましい。フェノール誘導体の分子量が１，２０
０を超えると、保存時の安定性の点で好ましくない。

【００７９】これらのフェノール誘導体の内、特に好ま
しいものを以下に挙げる。

【化３８】

【００８０】

【化３９】

【００８１】

【化４０】

【００８２】

【化４１】

【００８３】

【化４２】

【００８４】（式中、Ｌ¹〜Ｌ⁸は、同じであっても異な
っていてもよく、ヒドロキシメチル基、メトキシメチル
基、又はエトキシメチル基を示す。）

【００８５】ヒドロキシメチル基を有するフェノール誘
導体は、対応するヒドロキシメチル基を有さないフェノ
ール化合物（上記式においてＬ¹〜Ｌ⁸が水素原子である
化合物）とホルムアルデヒドを塩基触媒下で反応させる
ことによって得ることができる。この際、樹脂化やゲル
化を防ぐために、反応温度を６０℃以下で行うことが好
ましい。具体的には、特開平６−２８２０６７号、特開
平７−６４２８５号等に記載されている方法にて合成す
ることができる。アルコキシメチル基を有するフェノー
ル誘導体は、対応するヒドロキシメチル基を有するフェ
ノール誘導体とアルコールを酸触媒下で反応させること
によって得ることができる。この際、樹脂化やゲル化を
防ぐために、反応温度を１００℃以下で行うことが好ま
しい。具体的には、欧州特許ＥＰ６３２００３Ａ１号等
に記載されている方法にて合成することができる。

【００８６】本発明において、架橋剤としてヒドロキシ
メチル基またはアルコキシメチル基を有するフェノール
誘導体を用いる場合、それらは全画像記録材料固形分
中、５〜７０重量％、好ましくは１０〜６５重量％、特
に好ましくは１５〜６０重量％の添加量で用いられる。
フェノール誘導体の添加量が５重量％未満であると記録
層の耐久性が悪化し、また、７０重量％を超えると保存
時の安定性の点で好ましくない。これらのフェノール誘
導体は単独で使用しても良く、また２種類以上を組み合
わせて使用しても良い。

【００８７】また、架橋剤として、レゾール樹脂も好ま
しく用いることができる。本発明で用いられるレゾール
樹脂は、炭素数６〜２０のフェノール類とホルムアルデ
ヒドを塩基触媒下で反応させることによって得ることが
できる。炭素数６〜２０のフェノール類としては、具体
的には、フェノール、クレゾール、キシレノール、レゾ
ルシノール、ビスフェノールＡ、トリス（４−ヒドロキ
シフェニル）メタン、などが挙げられる。これらのフェ
ノール類は単独でホルムアルデヒドと反応させてもよ
く、また２種類以上を組み合わせて反応させてもよい。
この際、ゲル化を防ぐために、反応温度を１００℃以下
で行うことが好ましい。本発明で用いられるレゾール樹
脂は、重量平均分子量が３００〜６０００のものが好ま
しい。重量平均分子量が６０００を超えると、非画像部
に汚れを生じやすくなる。本発明において、レゾール樹
脂を用いる場合、全画像記録材料固形分中、５〜８０重
量％、好ましくは１０〜７０重量％、特に好ましくは１
５〜６５重量％の添加量で用いられる。レゾール樹脂の
添加量が５重量％未満であるとネガ画像形成せず、また
８０重量％を超えると保存時の安定性の点で好ましくな
い。これらのレゾール樹脂は単独で使用してもよく、ま
た２種類以上を組み合わせて使用してもよい。

【００８８】［（Ｃ）アルカリ可溶性樹脂］本発明にお
いて使用されるアルカリ可溶性樹脂としては、ノボラッ
ク樹脂や側鎖にヒドロキシアリール基を有するポリマー
などが挙げられる。本発明のアルカリ可溶性樹脂として
使用しうるノボラック樹脂は、フェノール類とアルデヒ
ド類を酸性条件下で縮合させた樹脂である。好ましいノ
ボラック樹脂としては、例えばフェノールとホルムアル
デヒドから得られるノボラック樹脂、ｍ−クレゾールと
ホルムアルデヒドから得られるノボラック樹脂、ｐ−ク
レゾールとホルムアルデヒドから得られるノボラック樹
脂、ｏ−クレゾールとホルムアルデヒドから得られるノ
ボラック樹脂、オクチルフェノールとホルムアルデヒド
から得られるノボラック樹脂、ｍ−／ｐ−混合クレゾー
ルとホルムアルデヒドから得られるノボラック樹脂、フ
ェノール／クレゾール（ｍ−，ｐ−，ｏ−またはｍ−／
ｐ−，ｍ−／ｏ−，ｏ−／ｐ−混合のいずれでもよい）
の混合物とホルムアルデヒドから得られるノボラック樹
脂などが挙げられる。これらのノボラック樹脂は、重量
平均分子量が８００〜２００，０００で、数平均分子量
が４００〜６０，０００のものが好ましい。また、本発
明のアルカリ可溶性樹脂としては、側鎖にヒドロキシア
リール基を有するポリマーも好ましく挙げることができ
る。このポリマーにおいて、ヒドロキシアリール基とは
−ＯＨ基が１個以上結合したアリール基を示す。アリー
ル基としては例えば、フェニル基、ナフチル基、アント
ラセニル基、フェナントレニル基等を挙げることができ
るが、入手の容易さ及び物性の観点から、フェニル基あ
るいはナフチル基が好ましい。従って、ヒドロキシアリ
ール基としては、ヒドロキシフェニル基、ジヒドロキシ
フェニル基、トリヒドロキシフェニル基、テトラヒドロ
キシフェニル基、ヒドロキシナフチル基、ジヒドロキシ
ナフチル基等が好ましい。これらのヒドロキシアリール
基は、さらに、ハロゲン原子、炭素数２０個以下の炭化
水素基、炭素数２０個以下のアルコキシ基及び炭素数２
０個以下のアリールオキシ基等の置換基を有していても
よい。これらのヒドロキシアリール基は、ポリマーの側
鎖としてペンダント状にポリマー主鎖へ結合している
が、主鎖との間に連結基を有していても良い。

【００８９】本発明において好適に用いられる、側鎖に
ヒドロキシアリール基を有するポリマーは、下記一般式
（IX）〜（XII ）で表される構成単位の内いずれか１種
を含有するポリマーである。

【００９０】

【化４３】

【００９１】（式中、Ｒ¹¹は水素原子またはメチル基を
示す。Ｒ¹²およびＲ¹³は、同じでも異なっていてもよ
く、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１０個以下の炭化
水素基、炭素数１０個以下のアルコキシ基又は、炭素数
１０個以下のアリールオキシ基を示す。また、Ｒ¹²およ
びＲ¹³が結合して、縮環したベンゼン環やシクロヘキサ
ン環を形成していても良い。Ｒ¹⁴は、単結合または、炭
素数２０個以下の２価の炭化水素基を示す。Ｒ¹⁵は、単
結合または、炭素数２０個以下の２価の炭化水素基を示
す。Ｒ¹⁶は、単結合または、炭素数１０個以下の２価の
炭化水素基を示す。Ｘ¹は、単結合、エーテル結合、チ
オエーテル結合、エステル結合またはアミド結合を示
す。ｐは１〜４の整数を示す。ｑ及びｒはそれぞれ０〜
３の整数を示す。）

【００９２】一般式（IX）〜（XII ）で表される構成単
位のうち、本発明において好適に用いられる具体的な構
成単位の例を以下に挙げる。

【００９３】

【化４４】

【００９４】

【化４５】

【００９５】

【化４６】

【００９６】

【化４７】

【００９７】

【化４８】

【００９８】これらのポリマーは、従来公知の方法によ
り合成することができる。例えば、一般式（IX）で表さ
れる構成単位を有するポリマーは、ヒドロキシ基を酢酸
エステルあるいはｔ−ブチルエーテルとして保護され
た、対応するスチレン誘導体をラジカル重合もしくはア
ニオン重合しポリマーとした後、脱保護することにより
得られる。また、一般式（Ｘ）で表される構成単位を有
するポリマーは、特開昭６４−３２２５６号および同６
４−３５４３６号等に記載されている方法により合成す
ることができる。さらに、一般式（XI）で表される構成
単位を有するポリマーは、ヒドロキシ基を有するアミン
化合物と無水マレイン酸を反応させ、対応するモノマー
を得た後、ラジカル重合によりポリマーとすることによ
り得られる。また、一般式（XII ）で表される構成単位
を有するポリマーは、クロロメチルスチレンやカルボキ
シスチレン等、合成上有用な官能基を持つスチレン類を
原料として一般（XII ）に対応するモノマーへ誘導し、
さらにラジカル重合によりリマーとすることにより得ら
れる。

【００９９】本発明では、一般式（IX）〜（XII ）で表
される構成単位のみから成るホモポリマーであっても良
いが、他の構成単位をも含む共重合体であっても良い。
好適に用いられる他の構成単位としては、例えば、アク
リル酸エステル類、メタクリル酸エステル類、アクリル
アミド類、メタクリルアミド類、ビニルエステル類、ス
チレン類、アクリル酸、メタクリル酸、アクリロニトリ
ル、無水マレイン酸、マレイン酸イミド等の公知のモノ
マーより導入される構成単位が挙げられる。

【０１００】用いることのできるアクリル酸エステル類
の具体例としては、メチルアクリレート、エチルアクリ
レート、（ｎ−またはｉ−）プロピルアクリレート、
（ｎ−、ｉ−、ｓｅｃ−またはｔ−）ブチルアクリレー
ト、アミルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレ
ート、ドデシルアクリレート、クロロエチルアクリレー
ト、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキ
シプロピルアクリレート、５−ヒドロキシペンチルアク
リレート、シクロヘキシルアクリレート、アリルアクリ
レート、トリメチロールプロパンモノアクリレート、ペ
ンタエリスリトールモノアクリレート、グリシジルアク
リレート、ベンジルアクリレート、メトキシベンジルア
クリレート、クロロベンジルアクリレート、２−（ｐ−
ヒドロキシフェニル）エチルアクリレート、フルフリル
アクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、
フェニルアクリレート、クロロフェニルアクリレート、
スルファモイルフェニルアクリレート、が挙げられる。

【０１０１】メタクリル酸エステル類の具体例として
は、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、
（ｎ−またはｉ−）プロピルメタクリレート、（ｎ−、
ｉ−、ｓｅｃ−またはｔ−）ブチルメタクリレート、ア
ミルメタクリレート、２−エチルヘキシルメタクリレー
ト、ドデシルメタクリレート、クロロエチルメタクリレ
ート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、２−ヒド
ロキシプロピルメタクリレート、５−ヒドロキシペンチ
ルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、ア
リルメタクリレート、トリメチロールプロパンモノメタ
クリレート、ペンタエリスリトールモノメタクリレー
ト、グリシジルメタクリレート、メトキシベンジルメタ
クリレート、クロロベンジルメタクリレート、２−（ｐ
−ヒドロキシフェニル）エチルメタクリレート、フルフ
リルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリ
レート、フェニルメタクリレート、クロロフェニルメタ
クリレート、スルファモイルフェニルメタクリレート等
が挙げられる。

【０１０２】アクリルアミド類の具体例としては、アク
リルアミド、Ｎ−メチルアクリルアミド、Ｎ−エチルア
クリルアミド、Ｎ−プロピルアクリルアミド、Ｎ−ブチ
ルアクリルアミド、Ｎ−ベンジルアクリルアミド、Ｎ−
ヒドロキシエチルアクリルアミド、Ｎ−フェニルアクリ
ルアミド、Ｎ−トリルアクリルアミド、Ｎ−（ｐ−ヒド
ロキシフェニル）アクリルアミド、Ｎ−（スルファモイ
ルフェニル）アクリルアミド、Ｎ−（フェニルスルホニ
ル）アクリルアミド、Ｎ−（トリルスルホニル）アクリ
ルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、Ｎ−メチ
ル−Ｎ−フェニルアクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシエチ
ル−Ｎ−メチルアクリルアミド等が挙げられる。

【０１０３】メタクリルアミド類の具体例としては、メ
タクリルアミド、Ｎ−メチルメタクリルアミド、Ｎ−エ
チルメタクリルアミド、Ｎ−プロピルメタクリルアミ
ド、Ｎ−ブチルメタクリルアミド、Ｎ−ベンジルメタク
リルアミド、Ｎ−ヒドロキシエチルメタクリルアミド、
Ｎ−フェニルメタクリルアミド、Ｎ−トリルメタクリル
アミド、Ｎ−（ｐ−ヒドロキシフェニル）メタクリルア
ミド、Ｎ−（スルファモイルフェニル）メタクリルアミ
ド、Ｎ−（フェニルスルホニル）メタクリルアミド、Ｎ
−（トリルスルホニル）メタクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジ
メチルメタクリルアミド、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルメ
タクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシエチル−Ｎ−メチルメ
タクリルアミド等が挙げられる。

【０１０４】ビニルエステル類の具体例としては、ビニ
ルアセテート、ビニルブチレート、ビニルベンゾエート
等が挙げられる。スチレン類の具体例としては、スチレ
ン、メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルス
チレン、エチルスチレン、プロピルスチレン、シクロヘ
キシルスチレン、クロロメチルスチレン、トリフルオロ
メチルスチレン、エトキシメチルスチレン、アセトキシ
メチルスチレン、メトキシスチレン、ジメトキシスチレ
ン、クロロスチレン、ジクロロスチレン、ブロモスチレ
ン、ヨードスチレン、フルオロスチレン、カルボキシス
チレン等が挙げられる。

【０１０５】これらのモノマーのうち特に好適に使用さ
れるのは、炭素数２０以下のアクリル酸エステル類、メ
タクリル酸エステル類、アクリルアミド類、メタクリル
アミド類、ビニルエステル類、スチレン類及び、アクリ
ル酸、メタクリル酸、アクリロニトリルである。

【０１０６】これらを用いた共重合体中に含まれる一般
式（Ｉ）〜（IV）で表される構成単位の割合は、５〜１
００重量％であることが好ましく、さらに好ましくは１
０〜１００重量％である。また、本発明で使用されるポ
リマーの分子量は好ましくは重量平均分子量で４０００
以上であり、更に好ましくは１万〜３０万の範囲であ
り、数平均分子量で好ましくは１０００以上であり、更
に好ましくは２０００〜２５万の範囲である。多分散度
（重量平均分子量／数平均分子量）は１以上が好まし
く、更に好ましくは１．１〜１０の範囲である。これら
のポリマーは、ランダムポリマー、ブロックポリマー、
グラフトポリマー等いずれでも良いが、ランダムポリマ
ーであることが好ましい。

【０１０７】この画像記録材料に使用されるアルカリ可
溶性樹脂は１種類のみで使用してもよいし、あるいは２
種類以上を組み合わせて使用してもよい。アルカリ可溶
性樹脂の添加量は全画像記録材料固形分中、５〜９５重
量％、好ましくは１０〜９５重量％、特に好ましくは２
０〜９０重量％で用いられる。アルカリ可溶性樹脂の添
加量が５重量％未満であると記録層の耐久性が悪化し、
また、添加量が９５重量％を超える場合は、画像形成さ
れない。

【０１０８】［（Ｄ）赤外線吸収剤］本発明において使
用される赤外線吸収剤は、波長７６０ｎｍから１２００
ｎｍの赤外線を有効に吸収する染料または顔料である。
好ましくは、波長７６０ｎｍから１２００ｎｍに吸収極
大を有する染料または顔料である。なかでも、均一分散
性、の観点から、染料を用いることが好ましい。染料と
しては、市販の染料および文献（例えば「染料便覧」有
機合成化学協会編集、昭和４５年刊）に記載されている
公知のものが利用できる。具体的には、アゾ染料、金属
錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、ナフトキノン染
料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボ
ニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン
染料、スクワリリウム色素、ピリリウム塩、金属チオレ
ート錯体などの染料が挙げられる。好ましい染料として
は例えば特開昭５８−１２５２４６号、特開昭５９−８
４３５６号、特開昭５９−２０２８２９号、特開昭６０
−７８７８７号等に記載されているシアニン染料、特開
昭５８−１７３６９６号、特開昭５８−１８１６９０
号、特開昭５８−１９４５９５号等に記載されているメ
チン染料、特開昭５８−１１２７９３号、特開昭５８−
２２４７９３号、特開昭５９−４８１８７号、特開昭５
９−７３９９６号、特開昭６０−５２９４０号、特開昭
６０−６３７４４号等に記載されているナフトキノン染
料、特開昭５８−１１２７９２号等に記載されているス
クワリリウム色素、英国特許４３４，８７５号記載のシ
アニン染料等を挙げることができる。

【０１０９】また、米国特許第５，１５６，９３８号記
載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、また、米国特
許第３，８８１，９２４号記載の置換されたアリールベ
ンゾ（チオ）ピリリウム塩、特開昭５７−１４２６４５
号（米国特許第４，３２７，１６９号）記載のトリメチ
ンチアピリリウム塩、特開昭５８−１８１０５１号、同
５８−２２０１４３号、同５９−４１３６３号、同５９
−８４２４８号、同５９−８４２４９号、同５９−１４
６０６３号、同５９−１４６０６１号に記載されている
ピリリウム系化合物、特開昭５９−２１６１４６号記載
のシアニン色素、米国特許第４，２８３，４７５号に記
載のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公平５−１３
５１４号、同５−１９７０２号公報に開示されているピ
リリウム化合物も好ましく用いられる。また、染料とし
て好ましい別の例として米国特許第４，７５６，９９３
号明細書中に式（Ｉ）、（II）として記載されている近
赤外吸収染料を挙げることができる。これらの染料のう
ち特に好ましいものとしては、シアニン色素、スクワリ
リウム色素、ピリリウム塩、ニッケルチオレート錯体が
挙げられる。

【０１１０】赤外線吸収剤として使用される顔料として
は、市販の顔料およびカラーインデックス（Ｃ．Ｉ．）
便覧、「最新顔料便覧」（日本顔料技術協会編、１９７
７年刊）、「最新顔料応用技術」（ＣＭＣ出版、１９８
６年刊）、「印刷インキ技術」ＣＭＣ出版、１９８４年
刊）に記載されている顔料が利用できる。顔料の種類と
しては、黒色顔料、黄色顔料、オレンジ色顔料、褐色顔
料、赤色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑色顔料、蛍光顔
料、金属粉顔料、その他、ポリマー結合色素が挙げられ
る。具体的には、不溶性アゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮
合アゾ顔料、キレートアゾ顔料、フタロシアニン系顔
料、アントラキノン系顔料、ペリレンおよびペリノン系
顔料、チオインジゴ系顔料、キナクリドン系顔料、ジオ
キサジン系顔料、イソインドリノン系顔料、キノフタロ
ン系顔料、染付けレーキ顔料、アジン顔料、ニトロソ顔
料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍光顔料、無機顔料、カー
ボンブラック等が使用できる。これらの顔料のうち好ま
しいものはカーボンブラックである。

【０１１１】これら顔料は表面処理をせずに用いてもよ
く、表面処理をほどこして用いてもよい。表面処理の方
法には樹脂やワックスを表面コートする方法、界面活性
剤を付着させる方法、反応性物質（例えば、シランカッ
プリング剤やエポキシ化合物、ポリイソシアネート等）
を顔料表面に結合させる方法等が考えられる。上記の表
面処理方法は、「金属石鹸の性質と応用」（幸書房）、
「印刷インキ技術」（ＣＭＣ出版、１９８４年刊）およ
び「最新顔料応用技術」（ＣＭＣ出版、１９８６年刊）
に記載されている。

【０１１２】顔料の粒径は０．０１μｍ〜１０μｍの範
囲にあることが好ましく、０．０５μｍ〜１μｍの範囲
にあることがさらに好ましく、特に０．１μｍ〜１μｍ
の範囲にあることが好ましい。顔料の粒径が０．０１μ
ｍ未満のときは分散物の感光層塗布液中での安定性の点
で好ましくなく、また、１０μｍを超えると画像記録層
の均一性の点で好ましくない。顔料を分散する方法とし
ては、インク製造やトナー製造等に用いられる公知の分
散技術が使用できる。分散機としては、超音波分散器、
サンドミル、アトライター、パールミル、スーパーミ
ル、ボールミル、インペラー、デスパーザー、ＫＤミ
ル、コロイドミル、ダイナトロン、３本ロールミル、加
圧ニーダー等が挙げられる。詳細は、「最新顔料応用技
術」（ＣＭＣ出版、１９８６年刊）に記載がある。

【０１１３】これらの染料もしくは顔料は、画像記録材
料全固形分に対し０．０１〜５０重量％、好ましくは
０．１〜１０重量％、染料の場合特に好ましくは０．５
〜１０重量％、顔料の場合特に好ましくは１．０〜１０
重量％の割合で画像記録材料中に添加することができ
る。顔料もしくは染料の添加量が０．０１重量％未満で
あると感度が低くなり、また５０重量％を超えると印刷
時非画像部に汚れが発生する。これらの染料もしくは顔
料は他の成分と同一の層に添加してもよいし、別の層を
設けそこへ添加してもよい。

【０１１４】［その他の成分］本発明に好適に使用しう
る画像記録材料では、前記４つの成分が必須であるが、
必要に応じてこれら以外に種々の化合物を添加しても良
い。例えば、可視光域に大きな吸収を持つ染料を画像の
着色剤として使用することができる。具体的にはオイル
イエロー＃１０１、オイルイエロー＃１０３、オイルピ
ンク＃３１２、オイルグリーンＢＧ、オイルブルーＢＯ
Ｓ、オイルブルー＃６０３、オイルブラックＢＹ、オイ
ルブラックＢＳ、オイルブラックＴ−５０５（以上オリ
エント化学工業（株）製）、ビクトリアピュアブルー、
クリスタルバイオレット（ＣＩ４２５５５）、メチルバ
イオレット（ＣＩ４２５３５）、エチルバイオレット、
ローダミンＢ（ＣＩ１４５１７０Ｂ）、マラカイトグリ
ーン（ＣＩ４２０００）、メチレンブルー（ＣＩ５２０
１５）など、あるいは特開昭６２−２９３２４７号公報
に記載されている染料を挙げることができる。これらの
染料は、画像形成後、画像部と非画像部の区別がつきや
すいので、添加する方が好ましい。尚、添加量は、画像
記録材料全固形分に対し、０．０１〜１０重量％の割合
である。

【０１１５】また、本発明に係る画像記録材料中には、
現像条件に対する処理の安定性を広げるため、特開昭６
２−２５１７４０号公報や特開平３−２０８５１４号公
報に記載されているような非イオン界面活性剤、特開昭
５９−１２１０４４号公報、特開平４−１３１４９号公
報に記載されているような両性界面活性剤を添加するこ
とができる。非イオン界面活性剤の具体例としては、ソ
ルビタントリステアレート、ソルビタンモノパルミテー
ト、ソルビタントリオレート、ステアリン酸モノグリセ
リド、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等が
挙げられる。両性界面活性剤の具体例としては、アルキ
ルジ（アミノエチル）グリシン、アルキルポリアミノエ
チルグリシン塩酸塩、２−アルキル−Ｎ−カルボキシエ
チル−Ｎ−ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタイン
やＮ−テトラデシル−Ｎ，Ｎ−ベタイン型（例えば、商
品名アモーゲンＫ、第一工業（株）製）等が挙げられ
る。上記非イオン界面活性剤および両性界面活性剤の画
像記録材料中に占める割合は、０．０５〜１５重量％が
好ましく、より好ましくは０．１〜５重量％である。

【０１１６】更に本発明の画像記録材料中には必要に応
じ、塗膜の柔軟性等を付与するために可塑剤が加えられ
る。例えば、ポリエチレングリコール、クエン酸トリブ
チル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチル、フタル酸
ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、リン酸トリクレジ
ル、リン酸トリブチル、リン酸トリオクチル、オレイン
酸テトラヒドロフルフリル、アクリル酸またはメタクリ
ル酸のオリゴマーおよびポリマー等が用いられる。これ
ら以外にも、エポキシ化合物、ビニルエーテル類等を添
加しても良い。

【０１１７】本発明に係る画像記録材料は、通常上記各
成分を溶媒に溶かして、適当な支持体上に塗布すること
により製造することができる。ここで使用する溶媒とし
ては、エチレンジクロライド、シクロヘキサノン、メチ
ルエチルケトン、メタノール、エタノール、プロパノー
ル、エチレングリコールモノメチルエーテル、１−メト
キシ−２−プロパノール、２−メトキシエチルアセテー
ト、１−メトキシ−２−プロピルアセテート、ジメトキ
シエタン、乳酸メチル、乳酸エチル、Ｎ，Ｎ−ジメチル
アセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、テトラ
メチルウレア、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホ
キシド、スルホラン、γ−ブチルラクトン、トルエン、
水等をあげることができるがこれに限定されるものでは
ない。これらの溶媒は単独あるいは混合して使用され
る。溶媒中の上記成分（添加剤を含む全固形分）の濃度
は、好ましくは１〜５０重量％である。また塗布、乾燥
後に得られる支持体上の塗布量（固形分）は、用途によ
って異なるが、平版印刷用版材についていえば一般的に
０．５〜５．０ｇ／ｍ²が好ましい。塗布する方法とし
ては、種々の方法を用いることができるが、例えば、バ
ーコーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗
布、ディップ塗布、エアーナイフ塗布、ブレード塗布、
ロール塗布等を挙げることができる。塗布量が少なくな
るにつれて、見かけの感度は大になるが、画像記録膜の
皮膜特性は低下する。

【０１１８】本発明における画像記録層中には、塗布性
を良化するための界面活性剤、例えば特開昭６２−１７
０９５０号公報に記載されているようなフッ素系界面活
性剤を添加することができる。好ましい添加量は、全画
像記録材料固形分中０．０１〜１重量％、さらに好まし
くは０．０５〜０．５重量％である。

【０１１９】本発明に使用される支持体としては、表面
が親水性の特性を有し、寸度的に安定な板状物であれば
適宜、使用しうる。例えば、紙、プラスチック（例え
ば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン等）
がラミネートされた紙、金属板（例えば、アルミニウ
ム、亜鉛、銅等）、プラスチックフィルム（例えば、二
酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン酸セル
ロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、硝酸セ
ルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレ
ン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネー
ト、ポリビニルアセタール等）、上記のごとき金属がラ
ミネート、もしくは蒸着された紙、もしくはプラスチッ
クフィルム等が挙げられる。支持体としては、ポリエス
テルフィルム又はアルミニウム板が好ましく、その中で
も寸法安定性がよく、比較的安価であるアルミニウム板
は特に好ましい。好適なアルミニウム板は、純アルミニ
ウム板およびアルミニウムを主成分とし、微量の異元素
を含む合金板であり、更にアルミニウムがラミネートも
しくは蒸着されたプラスチックフィルムでもよい。アル
ミニウム合金に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マン
ガン、銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニ
ッケル、チタンなどがある。合金中の異元素の含有量は
高々１０重量％以下である。本発明において特に好適な
アルミニウムは、純アルミニウムであるが、完全に純粋
なアルミニウムは精錬技術上製造が困難であるので、僅
かに異元素を含有するものでもよい。このように本発明
に適用されるアルミニウム板は、その組成が特定される
ものではなく、公知の素材のアルミニウム板を適宜に利
用することができる。本発明で用いられるアルミニウム
板の厚みはおよそ０．１ｍｍ〜０．６ｍｍ程度、好まし
くは０．１５ｍｍ〜０．４ｍｍ、特に好ましくは０．２
ｍｍ〜０．３ｍｍである。

【０１２０】アルミニウム板を粗面化するに先立ち、所
望により、表面の圧延油を除去するための例えば界面活
性剤、有機溶剤またはアルカリ性水溶液などによる脱脂
処理が行われる。アルミニウム板の表面の粗面化処理
は、種々の方法により行われるが、例えば、機械的に粗
面化する方法、電気化学的に表面を溶解粗面化する方法
および化学的に表面を選択溶解させる方法により行われ
る。機械的方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨
法、ブラスト研磨法、バフ研磨法などの公知の方法を用
いることができる。また、電気化学的な粗面化法として
は塩酸または硝酸電解液中で交流または直流により行う
方法がある。また、特開昭５４−６３９０２号に開示さ
れているように両者を組み合わせた方法も利用すること
ができる。この様に粗面化されたアルミニウム板は、必
要に応じてアルカリエッチング処理および中和処理され
た後、所望により表面の保水性（親水性）や耐摩耗性を
高めるために陽極酸化処理が施される。アルミニウム板
の陽極酸化処理に用いられる電解質としては、多孔質酸
化皮膜を形成する種々の電解質の使用が可能で、一般的
には硫酸、リン酸、蓚酸、クロム酸あるいはそれらの混
酸が用いられる。それらの電解質の濃度は電解質の種類
によって適宜決められる。

【０１２１】陽極酸化の処理条件は用いる電解質により
種々変わるので一概に特定し得ないが一般的には電解質
の濃度が１〜８０重量％溶液、液温は５〜７０℃、電流
密度５〜６０Ａ／ｄｍ²、電圧１〜１００Ｖ、電解時間
１０秒〜５分の範囲であれば適当である。陽極酸化皮膜
の量は１．０ｇ／ｍ²より少ないと耐刷性が不十分であ
ったり、平版印刷版の非画像部に傷が付き易くなって、
印刷時に傷の部分にインキが付着するいわゆる「傷汚
れ」が生じ易くなる。陽極酸化処理を施された後、アル
ミニウム表面は必要により親水化処理が施される。本発
明に使用される親水化処理としては、米国特許第２，７
１４，０６６号、同第３，１８１，４６１号、第３，２
８０，７３４号および第３，９０２，７３４号に開示さ
れているようなアルカリ金属シリケート（例えばケイ酸
ナトリウム水溶液）法がある。この方法においては、支
持体がケイ酸ナトリウム水溶液で浸漬処理されるかまた
は電解処理される。他に特公昭３６−２２０６３号公報
に開示されているフッ化ジルコン酸カリウムおよび米国
特許第３，２７６，８６８号、同第４，１５３，４６１
号、同第４，６８９，２７２号に開示されているような
ポリビニルホスホン酸で処理する方法などが用いられ
る。

【０１２２】本発明に係る画像記録材料は、必要に応じ
て支持体上に下塗層を設けることができる。下塗層成分
としては種々の有機化合物が用いられ、例えば、カルボ
キシメチルセルロース、デキストリン、アラビアガム、
２−アミノエチルホスホン酸などのアミノ基を有するホ
スホン酸類、置換基を有してもよいフェニルホスホン
酸、ナフチルホスホン酸、アルキルホスホン酸、グリセ
ロホスホン酸、メチレンジホスホン酸およびエチレンジ
ホスホン酸などの有機ホスホン酸、置換基を有してもよ
いフェニルリン酸、ナフチルリン酸、アルキルリン酸お
よびグリセロリン酸などの有機リン酸、置換基を有して
もよいフェニルホスフィン酸、ナフチルホスフィン酸、
アルキルホスフィン酸およびグリセロホスフィン酸など
の有機ホスフィン酸、グリシンやβ−アラニンなどのア
ミノ酸類、およびトリエタノールアミンの塩酸塩などの
ヒドロキシ基を有するアミンの塩酸塩等から選ばれる
が、２種以上混合して用いてもよい。有機下塗層の被覆
量は、２〜２００ｍｇ／ｍ²が適当である。上述したよ
うなネガ型画像記録材料は、従来品に比較して感度も良
好であり、前記本発明の印刷版の作成方法を適用するこ
とにより、画像の再現性に特に優れた印刷版を得ること
ができる。

【０１２３】

【実施例】以下、実施例により、本発明を詳細に説明す
るが、本発明はこれらに限定されるものではない。［感
材の作成］厚さ０．３０ｍｍのアルミニウム板（材質１
０５０）を脱脂した後、ナイロンブラシと４００メッシ
ュのパミストン−水懸濁液を用いて、その表面を砂目立
てした後、よく水で洗浄した。この板を４５℃の２５％
水酸化ナトリウム水溶液に９秒間浸漬してエッチングを
行い水洗後、更に２％硝酸に２０秒間浸漬して水洗し
た。この時の砂目立て表面のエッチング量は約３ｇ／ｍ
²であった。次にこの板を、７％硫酸を電解液として電
流密度１５Ａ／ｄｍ²で３ｇ／ｍ²の直流陽極酸化皮膜を
設けた後、水洗乾燥した。次にこのアルミニウム板に下
記下塗り液を塗布し、８０℃で３０秒間乾燥した。乾燥
後の被覆量は８ｍｇ／ｍ²であった。

【０１２４】 （下塗り液） アミノエチルホスホン酸 ０．１ｇ メタノール ７０ｇ 純水 ３０ｇ

【０１２５】次に下記溶液〔Ａ〕、〔Ｂ〕を調整した。
この溶液を上記の下塗り済みのアルミニウム板に塗布
し、１００℃で１分間乾燥してネガ型平版印刷用版材
〔Ａ〕、〔Ｂ〕を得た。乾燥後の塗布量はどちらも１．
５ｇ／ｍ²であった。

【０１２６】 （溶液〔Ａ〕） ジフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホネート （東京化成工業（株）製） ０．１５ｇ 赤外線吸収剤（ＮＫ−２０１４、日本感光色素研究所（株）製） ０．１０ｇ フェノールとホルムアルデヒドから得られるノボラック樹脂 （重量平均分子量１００００） １．５ｇ 架橋剤［下記構造式で表される化合物ＭＭ−１］ ０．５０ｇ 着色剤（保土ケ谷化学（株）製、 Ｖｉｃｔｏｒｉａ Ｐｕｒｅ Ｂｌｕｅ） ０．０４ｇ フッ素系界面活性剤 （メガファックＦ−１７６、大日本インキ化学工業（株）製） ０．０３ｇ メチルエチルケトン ２０ｇ １−メトキシ−２−プロパノール ７ｇ メチルアルコール ３ｇ

【０１２７】

【化４９】

【０１２８】 （溶液〔Ｂ〕） ２，４，６−トリエトキシベンゼンジアゾニウムメシチレンスルホネート ０．１８ｇ 赤外線吸収色素［下記構造式で表される色素ＩＲ−１］ ０．１５ｇ ポリ（ｐ−ヒドロキシスチレニン）樹脂 （丸善石油化学（株）製、重量平均分子量２００００） １．４ｇ 架橋剤［下記構造式で表される化合物ＨＭ−１］ ０．３０ｇ 架橋剤［下記構造式で表される化合物ＨＭ−１１］ ０．３０ｇ 着色剤（保土ケ谷化学（株）製、 Ｖｉｃｔｏｒｉａ Ｐｕｒｅ Ｂｌｕｅ） ０．０４ｇ フッ素系界面活性剤 （メガファックＦ−１７６、大日本インキ化学工業（株）製） ０．０３ｇ メチルエチルケトン １０ｇ １−メトキシ−２−プロパノール ７ｇ メチルアルコール １０ｇ

【０１２９】

【化５０】

【０１３０】（実施例１）得られたネガ型平版印刷版材
〔Ａ〕を、１ビームあたりの感材面での出力が５０ｍＷ
で、ビーム径が１６μｍの赤外線レーザーを書き込み光
源に用い、書き込み速度１．６ｍ／ｓで画像露光した
後、１４０℃で１分間加熱処理し、富士写真フイルム
（株）製アルカリ水現像液ＬＨ−ＤＮ（１：７希釈）を
用いて未露光部を除去して、ネガ画像を得た。このネガ
画像は２４００ｄｐｉ、１７５線の画像中、１〜９９％
の網点がきれいに再現されており、画像再現性に優れて
いることがわかった。結果を下記表一に示す。なお、表
１中、光源出力は、光源ビーム１本当たりの出力を表
し、画像再現性は、前記２４００ｄｐｉ、１７５線の画
像中の再現網点領域を表す。

【０１３１】（実施例２〜４）ネガ型平版印刷版材
〔Ａ〕、〔Ｂ〕を表１記載の条件で画像露光した後、実
施例１と同様の手順によりネガ画像を得た。なお、実施
例３及び４では、光源としてビーム径２０μｍの赤外線
レーザーを用いた。いずれのネガ画像も、２４００ｄｐ
ｉ、１７５線の画像中、１〜９９％の網点がきれいに再
現されており、画像再現性に優れていることがわかっ
た。結果を下記表１に示す。

【０１３２】

【表１】

【０１３３】（比較例１〜３）ネガ型平版印刷版材
〔Ａ〕、〔Ｂ〕を前記表１記載の条件で画像露光した
後、実施例１と同様の手順によりネガ画像を得た。比較
例１、２では、網点再現性が低下しており、本発明の範
囲外の条件では、同じ画像記録材料を用いても、画像再
現性が低下することがわかった。また、比較例３では画
像が得られなかった。ここで、比較例１中における画像
再現性は、１２００ｄｐｉ、１５０線相当の画像での結
果である。

【０１３４】

【発明の効果】本発明の印刷版の作成方法によれば、赤
外線を放射する固体レーザ及び半導体レーザを用いて、
コンピューター等のデジタルデータから直接製版するネ
ガ型画像記録材料に好適な、細線や網点などの微細な画
像の書き込みにも適用しうる画像再現性に優れた平版印
刷版を作成しうるという効果を奏する。

【図面の簡単な説明】

【図１】 （Ａ）はインナードラム型のプレートセッタ
ーにおける露光状態を示す概略断面図であり、（Ｂ）は
その概略斜視図である。

【図２】 （Ａ）はアウタードラム型のプレートセッタ
ーにおける露光状態を示す概略断面図であり、（Ｂ）は
その概略斜視図である。

【符号の説明】

２０光源 ２２感光材料 ２３ドラム

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H025 AA04 AB03 AC08 AD01 BE07 CA41 CB28 CB29 CC13 DA18 EA04 FA10 FA12 FA17 FA31 2H084 AA14 AA32 AE05 BB04 CC05 2H097 AA03 AA16 AB08 BB01 CA17 FA02 HB03 JA03 JA04 LA03 2H114 AA04 AA22 AA23 BA02 DA04 DA25 DA26 DA49 DA73 DA78 DA79 EA01 EA04 GA03 GA05 GA09

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 親水性表面を有する支持体上に、露光部
   がその後の処理によって疎水性となり、下記（Ａ）〜
   （Ｄ）を含有する赤外線感光層を設けたネガ型感熱画像
   形成材料を、1ビームあたりの感材面での出力が５０ｍ
   Ｗ〜１００ｍＷの赤外線レーザーを書き込み光源に用い
   たアウタードラム型のプレートセッターにより、書き込
   み速度０．５ｍ／ｓ〜５ｍ／ｓで画像露光することを特
   徴とする印刷版の作成方法。 （Ａ）光又は熱により分解して酸を発生する化合物、 （Ｂ）酸により架橋する架橋剤、 （Ｃ）アルカリ可溶性樹脂の少なくとも１種、 （Ｄ）赤外線吸収剤。