JP2001113848A - 印刷版材料及びその製造方法並びに印刷版の製造方法 - Google Patents
印刷版材料及びその製造方法並びに印刷版の製造方法Info
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- JP2001113848A JP2001113848A JP29989699A JP29989699A JP2001113848A JP 2001113848 A JP2001113848 A JP 2001113848A JP 29989699 A JP29989699 A JP 29989699A JP 29989699 A JP29989699 A JP 29989699A JP 2001113848 A JP2001113848 A JP 2001113848A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 明室で取扱いが可能で、赤外線レーザー照射
により直接画像形成が可能であり、露光装置汚染の懸念
がなく、現像処理が不要であり、さらに高感度で解像度
も良好であり、擦り傷等による汚れ発生のない印刷版材
料及びその製造方法並びに印刷版の製造方法の提供。 【解決手段】 基材上に基材側から順に、熱溶融性素材
を含有する層と、層状鉱物粒子を含有する層とを有する
ことを特徴とする印刷版材料。
により直接画像形成が可能であり、露光装置汚染の懸念
がなく、現像処理が不要であり、さらに高感度で解像度
も良好であり、擦り傷等による汚れ発生のない印刷版材
料及びその製造方法並びに印刷版の製造方法の提供。 【解決手段】 基材上に基材側から順に、熱溶融性素材
を含有する層と、層状鉱物粒子を含有する層とを有する
ことを特徴とする印刷版材料。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、層状鉱物粒子を含
有する層を介して、熱溶融性素材を含有する層に赤外線
レーザーを画像様に照射して画像を形成する印刷版材料
及びその製造方法並びに該印刷版材料を用いた印刷版の
製造方法に関する。
有する層を介して、熱溶融性素材を含有する層に赤外線
レーザーを画像様に照射して画像を形成する印刷版材料
及びその製造方法並びに該印刷版材料を用いた印刷版の
製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、印刷データのデジタル化に伴い、
安価で取り扱いが容易でPS版と同等の印刷適性を有す
るCTP(conputer to plate)が求
められている。特に近年、赤外線レーザー記録による種
々の方式のCTPが提案されている。それらの中でも特
別な現像処理を必要としない、所謂るドライCTPが注
目されている。例えば、特開平11−30867号公報
には、基材上に熱でスルホン酸を発生する高分子化合物
と赤外線吸収剤を含有する層を設け、該層上に無機質層
状化合物(例えばフッ素化された雲母等の膨潤性粘土鉱
物)を含有する層を保護層として設けた印刷版材料が開
示されている。
安価で取り扱いが容易でPS版と同等の印刷適性を有す
るCTP(conputer to plate)が求
められている。特に近年、赤外線レーザー記録による種
々の方式のCTPが提案されている。それらの中でも特
別な現像処理を必要としない、所謂るドライCTPが注
目されている。例えば、特開平11−30867号公報
には、基材上に熱でスルホン酸を発生する高分子化合物
と赤外線吸収剤を含有する層を設け、該層上に無機質層
状化合物(例えばフッ素化された雲母等の膨潤性粘土鉱
物)を含有する層を保護層として設けた印刷版材料が開
示されている。
【0003】なお、上記公報記載の技術は、印刷版材料
表面への外界からの水分及び酸素ガス等の侵入による印
刷版材料の劣化を防止することを目的としており、本発
明とは発明の構成が異なり、従ってまた、得られる効果
も異なるものである。また、上記ドライCTPの中でも
ヒートモードレーザー記録用印刷版材料が知られてお
り、該印刷版材料としては、例えば特開平8−5077
27号、特開平6−186750号、特開平6−199
064号、特開平7−314934号、特開平10−5
8636号、特開平10−244773号等の各公報が
知られている。
表面への外界からの水分及び酸素ガス等の侵入による印
刷版材料の劣化を防止することを目的としており、本発
明とは発明の構成が異なり、従ってまた、得られる効果
も異なるものである。また、上記ドライCTPの中でも
ヒートモードレーザー記録用印刷版材料が知られてお
り、該印刷版材料としては、例えば特開平8−5077
27号、特開平6−186750号、特開平6−199
064号、特開平7−314934号、特開平10−5
8636号、特開平10−244773号等の各公報が
知られている。
【0004】また、上記特開平8−507727号公報
には、インク受容性表面を有する基材上に、光熱変換物
質を含有する記録層と光熱変換物質を含有する硬膜親水
性表面層を設けたヒートモード印刷版材料及び、レーザ
ー露光により該印刷版材料の記録層より上層をアブレー
ションにより除去して画像を形成する方法が開示されて
いる。
には、インク受容性表面を有する基材上に、光熱変換物
質を含有する記録層と光熱変換物質を含有する硬膜親水
性表面層を設けたヒートモード印刷版材料及び、レーザ
ー露光により該印刷版材料の記録層より上層をアブレー
ションにより除去して画像を形成する方法が開示されて
いる。
【0005】また、上記特開平6−186750号公報
には、インク又はインク付着防止液に対して親和性の異
なる第1層及び第2層を有する印刷版材料を赤外線レー
ザー露光して、これらの層の1層以上をアブレーション
により除去して画像を形成する方法及び装置が開示され
ている。また、特開平6−199064号公報には、赤
外線吸収層である上層第1層と、その下層である第2層
とを基材上に有するか、上層第1層と、その下層である
赤外線吸収層である第2層とを有し、該第1層及び該第
2層がインク又はインク付着防止液に対して異なる親和
性を示し、アブレーションにより画像を形成するレーザ
ー記録用印刷版材料が開示されている。
には、インク又はインク付着防止液に対して親和性の異
なる第1層及び第2層を有する印刷版材料を赤外線レー
ザー露光して、これらの層の1層以上をアブレーション
により除去して画像を形成する方法及び装置が開示され
ている。また、特開平6−199064号公報には、赤
外線吸収層である上層第1層と、その下層である第2層
とを基材上に有するか、上層第1層と、その下層である
赤外線吸収層である第2層とを有し、該第1層及び該第
2層がインク又はインク付着防止液に対して異なる親和
性を示し、アブレーションにより画像を形成するレーザ
ー記録用印刷版材料が開示されている。
【0006】また、特開平7−314934号公報に
は、アブレーションしない最上層と、アブレーションす
るチタン又はチタン合金薄層金属層と、基材とを有し、
上記最上層及び基材がインク又はインク不溶性流体に対
して異なる親和性を示すレーザー記録用印刷版材料及び
該印刷材料を用いてアブレーションにより画像形成を行
う方法が開示されている。また、特開平10−5863
6号公報には、基板上にレーザー感応性の親水性膨潤層
(好ましくは色顔料または黒色染料を含有する)を有
し、レーザー照射で該親水性膨潤層をアブレーションに
より除去しインク着肉画像を形成する印刷版材料が開示
されている。
は、アブレーションしない最上層と、アブレーションす
るチタン又はチタン合金薄層金属層と、基材とを有し、
上記最上層及び基材がインク又はインク不溶性流体に対
して異なる親和性を示すレーザー記録用印刷版材料及び
該印刷材料を用いてアブレーションにより画像形成を行
う方法が開示されている。また、特開平10−5863
6号公報には、基板上にレーザー感応性の親水性膨潤層
(好ましくは色顔料または黒色染料を含有する)を有
し、レーザー照射で該親水性膨潤層をアブレーションに
より除去しインク着肉画像を形成する印刷版材料が開示
されている。
【0007】上記各公報に記載されるヒートモードレー
ザー記録用印刷版材料は、何れもレーザー照射によりア
ブレーションを生じて画像形成を行うことが前提であ
り、アブレーション飛散物による露光装置内部の汚染が
問題である。装置に特別な吸引装置やその他クリーニン
グ装置を組込む必要があったり、露光時に印刷版材料に
カバーシートをかける等の汚染防止措置が必要となる。
ザー記録用印刷版材料は、何れもレーザー照射によりア
ブレーションを生じて画像形成を行うことが前提であ
り、アブレーション飛散物による露光装置内部の汚染が
問題である。装置に特別な吸引装置やその他クリーニン
グ装置を組込む必要があったり、露光時に印刷版材料に
カバーシートをかける等の汚染防止措置が必要となる。
【0008】そこで、印刷版材料の表面がレーザー露光
により親水性から疎水性へ(若しくはその逆に)変化す
る、所謂るスイッチャブルタイプの印刷版材料が開発さ
れている。上記スイッチャブルタイプの印刷版材料は、
上記のような露光装置内部汚染の懸念がないなどの利点
を有する。上記スイッチャブルタイプの印刷版材料のひ
とつとして、レーザー露光の熱により、印刷版材料内部
から熱溶融性のインク受容性素材を表面に溶出させて画
像を形成する方式が挙げられる。この方式ではアブレー
ションによる画像形成よりも低エネルギーで画像を形成
することが可能であり、また、アブレーションで形成さ
れる画像よりも解像度の高い画像が得られる点で優れて
いる。
により親水性から疎水性へ(若しくはその逆に)変化す
る、所謂るスイッチャブルタイプの印刷版材料が開発さ
れている。上記スイッチャブルタイプの印刷版材料は、
上記のような露光装置内部汚染の懸念がないなどの利点
を有する。上記スイッチャブルタイプの印刷版材料のひ
とつとして、レーザー露光の熱により、印刷版材料内部
から熱溶融性のインク受容性素材を表面に溶出させて画
像を形成する方式が挙げられる。この方式ではアブレー
ションによる画像形成よりも低エネルギーで画像を形成
することが可能であり、また、アブレーションで形成さ
れる画像よりも解像度の高い画像が得られる点で優れて
いる。
【0009】しかしながら、アブレーションさせないこ
とで露光装置内部汚染は少ないが、露光中に熱溶融性素
材がわずかではあるが昇華するという問題がある。ま
た、熱溶融素材を印刷版材料の印刷面に溶出しやすくす
るため、印刷版材料の表層をある程度多孔質にする必要
があり、そのため擦り傷が発生しやすいという問題があ
る。
とで露光装置内部汚染は少ないが、露光中に熱溶融性素
材がわずかではあるが昇華するという問題がある。ま
た、熱溶融素材を印刷版材料の印刷面に溶出しやすくす
るため、印刷版材料の表層をある程度多孔質にする必要
があり、そのため擦り傷が発生しやすいという問題があ
る。
【0010】上記スイッチャブルタイプの印刷版材料に
おいて、擦り傷発生を防止する目的で表面に水溶性樹脂
を主体とする保護層を形成する方法が考えられるが、該
保護層が熱溶融素材の印刷版材料の表層への溶出を阻害
し、良好なS/N比(感度)が得られないという問題が
ある。
おいて、擦り傷発生を防止する目的で表面に水溶性樹脂
を主体とする保護層を形成する方法が考えられるが、該
保護層が熱溶融素材の印刷版材料の表層への溶出を阻害
し、良好なS/N比(感度)が得られないという問題が
ある。
【0011】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、明室
で取扱いが可能で、赤外線レーザー照射により直接画像
形成が可能であり、露光装置汚染の懸念のない、現像処
理不要な印刷版材料を提供することにある。さらに、高
感度で解像度も良好であり、擦り傷等による汚れ発生の
ない印刷版材料及びその製造方法並びに該印刷版材料を
用いた印刷版の製造方法を提供することにある。
で取扱いが可能で、赤外線レーザー照射により直接画像
形成が可能であり、露光装置汚染の懸念のない、現像処
理不要な印刷版材料を提供することにある。さらに、高
感度で解像度も良好であり、擦り傷等による汚れ発生の
ない印刷版材料及びその製造方法並びに該印刷版材料を
用いた印刷版の製造方法を提供することにある。
【0012】
【課題を解決するための手段】上記の目的は下記構成に
より達成される。 1.基材上に基材側から順に、熱溶融性素材を含有する
層と、層状鉱物粒子を含有する層とを有することを特徴
とする印刷版材料。 2.前記層状鉱物粒子を含有する層が、その一部又は全
部が画像形成後でかつ印刷前に、又は印刷時に除去され
る層であることを特徴とする前記1に記載の印刷版材
料。
より達成される。 1.基材上に基材側から順に、熱溶融性素材を含有する
層と、層状鉱物粒子を含有する層とを有することを特徴
とする印刷版材料。 2.前記層状鉱物粒子を含有する層が、その一部又は全
部が画像形成後でかつ印刷前に、又は印刷時に除去され
る層であることを特徴とする前記1に記載の印刷版材
料。
【0013】3.前記熱溶融性素材を含有する層と、層
状鉱物粒子を含有する層との間にさらに多孔質粒子を含
有する層を有することを特徴とする前記1又は2に記載
の印刷版材料。 4.前記基材と、熱溶融性素材を含有する層との間にさ
らに少なくとも一層を有することを特徴とする前記1〜
3の何れか1項に記載の印刷版材料。
状鉱物粒子を含有する層との間にさらに多孔質粒子を含
有する層を有することを特徴とする前記1又は2に記載
の印刷版材料。 4.前記基材と、熱溶融性素材を含有する層との間にさ
らに少なくとも一層を有することを特徴とする前記1〜
3の何れか1項に記載の印刷版材料。
【0014】5.前記層の何れかの一層又は複数の層
が、光熱変換素材を含有することを特徴とする前記1〜
4の何れか1項に記載の印刷版材料。 6.前記層状鉱物粒子のアスペクト比が、20以上であ
ることを特徴とする前記1〜5の何れか1項に記載の印
刷版材料。 7.前記層状鉱物粒子が、水膨潤性平板状粘土鉱物であ
ることを特徴とする前記1〜6の何れか1項に記載の印
刷版材料。
が、光熱変換素材を含有することを特徴とする前記1〜
4の何れか1項に記載の印刷版材料。 6.前記層状鉱物粒子のアスペクト比が、20以上であ
ることを特徴とする前記1〜5の何れか1項に記載の印
刷版材料。 7.前記層状鉱物粒子が、水膨潤性平板状粘土鉱物であ
ることを特徴とする前記1〜6の何れか1項に記載の印
刷版材料。
【0015】8.前記層状鉱物粒子を含有する層が、さ
らに水溶性樹脂及び/又は平均粒径100nm以下の金
属酸化物微粒子を含有することを特徴とする前記1〜7
の何れか1項に記載の印刷版材料。 9.前記層状鉱物粒子を含有する層が、さらに多孔質粒
子を含有することを特徴とする前記1〜8の何れか1項
に記載の印刷版材料。
らに水溶性樹脂及び/又は平均粒径100nm以下の金
属酸化物微粒子を含有することを特徴とする前記1〜7
の何れか1項に記載の印刷版材料。 9.前記層状鉱物粒子を含有する層が、さらに多孔質粒
子を含有することを特徴とする前記1〜8の何れか1項
に記載の印刷版材料。
【0016】10.前記層状鉱物粒子を含有する層が、
さらに1〜10μmの粒子を含有することを特徴とする
前記1〜9の何れか1項に記載の印刷版材料。 11.前記1〜10の何れか1項に記載の印刷版材料を
塗布加工法により製造することを特徴とする印刷版材料
の製造方法。 12.基材上に基材側から順に、熱溶融性素材を含有す
る層と、層状鉱物粒子を含有する層とを有する印刷版材
料を用いた印刷版の製造方法において、画像形成後に該
層状鉱物粒子を含有する層の一部又は全部を除去するこ
とを特徴とする印刷版の製造方法。
さらに1〜10μmの粒子を含有することを特徴とする
前記1〜9の何れか1項に記載の印刷版材料。 11.前記1〜10の何れか1項に記載の印刷版材料を
塗布加工法により製造することを特徴とする印刷版材料
の製造方法。 12.基材上に基材側から順に、熱溶融性素材を含有す
る層と、層状鉱物粒子を含有する層とを有する印刷版材
料を用いた印刷版の製造方法において、画像形成後に該
層状鉱物粒子を含有する層の一部又は全部を除去するこ
とを特徴とする印刷版の製造方法。
【0017】13.前記層状鉱物粒子を含有する層の一
部又は全部の除去を、印刷機上で行うことを特徴とする
前記12に記載の印刷版の製造方法。即ち、本発明者等
は前記問題点について鋭意検討を行ったところ、基材上
に少なくとも熱溶融性素材を含有する層を設け、該層上
に層状鉱物粒子を含有する層を被覆して設けて印刷版材
料を形成した場合、赤外線レーザー露光時における熱溶
融性素材の昇華が抑制され、かつ該印刷版材料表面の擦
り傷発生が防止されることを見いだした。また、上記層
状鉱物粒子を含有する層は、塗布加工時に層状鉱物粒子
が印刷版材料の多孔質表面を覆うために、該印刷版材料
表面の多孔性を損なわずに層を形成することが可能であ
ると考えられ、このため熱溶融性素材の、該熱溶融性素
材を含有する層と層状鉱物粒子を含有する層との界面
(印刷面)への溶出を阻害することがなく、赤外線レー
ザー露光により高感度の印刷版材料を形成することがで
きることを見いだした。
部又は全部の除去を、印刷機上で行うことを特徴とする
前記12に記載の印刷版の製造方法。即ち、本発明者等
は前記問題点について鋭意検討を行ったところ、基材上
に少なくとも熱溶融性素材を含有する層を設け、該層上
に層状鉱物粒子を含有する層を被覆して設けて印刷版材
料を形成した場合、赤外線レーザー露光時における熱溶
融性素材の昇華が抑制され、かつ該印刷版材料表面の擦
り傷発生が防止されることを見いだした。また、上記層
状鉱物粒子を含有する層は、塗布加工時に層状鉱物粒子
が印刷版材料の多孔質表面を覆うために、該印刷版材料
表面の多孔性を損なわずに層を形成することが可能であ
ると考えられ、このため熱溶融性素材の、該熱溶融性素
材を含有する層と層状鉱物粒子を含有する層との界面
(印刷面)への溶出を阻害することがなく、赤外線レー
ザー露光により高感度の印刷版材料を形成することがで
きることを見いだした。
【0018】さらに、層状鉱物粒子を含有する層は特別
な処理を施さなくても印刷時までに、含水布等による軽
い払拭又は印刷時の湿し水処理等により殆んどが印刷版
表面から除去されて熱溶融性素材が該印刷版表面に溶出
して画像形成が行なわれるため、高感度の印刷版材料が
得られ、かつ高解像度の印刷版が得られることを見いだ
すに至った。
な処理を施さなくても印刷時までに、含水布等による軽
い払拭又は印刷時の湿し水処理等により殆んどが印刷版
表面から除去されて熱溶融性素材が該印刷版表面に溶出
して画像形成が行なわれるため、高感度の印刷版材料が
得られ、かつ高解像度の印刷版が得られることを見いだ
すに至った。
【0019】以下、本発明を詳細に説明する。 [印刷版材料の層構成]本発明の印刷版材料は、基材上
に少なくとも熱溶融性素材を含有する層(以後、単に記
録層ともいう)と該記録層上に層状鉱物粒子を含有する
層(以後、単に保護層ともいう)を設けたものであり、
必要により該記録層と保護層との間に微細な多孔質粒子
を含有する層(以後親水性層ともいう)を設けることが
できる。また本発明の印刷版材料は、基材と記録層との
間に少なくとも一層、例えば下引き層及び/又は光熱変
換素材を含有する層等を設けることができる。また、基
材の裏面(記録層の反対側)にはバックコート層等を設
けることができる。なお、上記記録層において、保護層
直下の記録層は便宜上親水性記録層と称し、保護層の下
に親水性層と下層記録層からなる複合記録層を設けたも
のと区別する。
に少なくとも熱溶融性素材を含有する層(以後、単に記
録層ともいう)と該記録層上に層状鉱物粒子を含有する
層(以後、単に保護層ともいう)を設けたものであり、
必要により該記録層と保護層との間に微細な多孔質粒子
を含有する層(以後親水性層ともいう)を設けることが
できる。また本発明の印刷版材料は、基材と記録層との
間に少なくとも一層、例えば下引き層及び/又は光熱変
換素材を含有する層等を設けることができる。また、基
材の裏面(記録層の反対側)にはバックコート層等を設
けることができる。なお、上記記録層において、保護層
直下の記録層は便宜上親水性記録層と称し、保護層の下
に親水性層と下層記録層からなる複合記録層を設けたも
のと区別する。
【0020】以下、本発明の印刷版材料において特に好
ましい層構成を説明する。図1は上記層構成を示す図で
あり、図1(A)は基材1上に親水性記録層2a及び保
護層3を設けてなる構成(請求項1に対応)であり、こ
こでは保護層3に層状鉱物粒子が含有されると共に親水
性記録層2aには熱溶融性素材及び光熱変換素材が含有
される。図1(B)は基材1上に下層記録層2bと親水
性層2cからなる複合記録層2d及び保護層3をこの順
に設けた構成(請求項3に対応)であり、ここでは保護
層3に層状鉱物粒子が含有され、下層記録層2bには熱
溶融性素材及び光熱変換素材が含有されると共に親水性
層2cには微細な多孔質粒子が含有され、さらに必要に
より光熱変換素材が含有される。図1(C)は基材1上
に光熱変換層4、親水性記録層2a及び保護層3をこの
順に設けた構成(請求項4に対応)であり、ここでは保
護層3に層状鉱物粒子が含有されと共に親水性記録層2
aには熱溶融性素材が含有され、さらに必要により光熱
変換素材が含有され、また光熱変換層4には光熱変換素
材が含有される。図1(D)は基材1上に光熱変換層
4、下層記録層2bと親水性層2cからなる複合記録層
2d及び保護層3をこの順に設けた構成(請求項4に対
応)であり、ここでは保護層3に層状鉱物粒子が含有さ
れと共に親水性層2cには微細な多孔質粒子が含有さ
れ、さらに必要により光熱変換素材が含有され、下層記
録層2bには熱溶融性素材が含有され、さらに必要によ
り光熱変換素材が含有され、また光熱変換層4には光熱
変換素材が含有される。なお、上記親水性記録層2a及
び複合記録層2d(下層記録層2b+親水性層2c)を
含めて単に記録層2ともいう。
ましい層構成を説明する。図1は上記層構成を示す図で
あり、図1(A)は基材1上に親水性記録層2a及び保
護層3を設けてなる構成(請求項1に対応)であり、こ
こでは保護層3に層状鉱物粒子が含有されると共に親水
性記録層2aには熱溶融性素材及び光熱変換素材が含有
される。図1(B)は基材1上に下層記録層2bと親水
性層2cからなる複合記録層2d及び保護層3をこの順
に設けた構成(請求項3に対応)であり、ここでは保護
層3に層状鉱物粒子が含有され、下層記録層2bには熱
溶融性素材及び光熱変換素材が含有されると共に親水性
層2cには微細な多孔質粒子が含有され、さらに必要に
より光熱変換素材が含有される。図1(C)は基材1上
に光熱変換層4、親水性記録層2a及び保護層3をこの
順に設けた構成(請求項4に対応)であり、ここでは保
護層3に層状鉱物粒子が含有されと共に親水性記録層2
aには熱溶融性素材が含有され、さらに必要により光熱
変換素材が含有され、また光熱変換層4には光熱変換素
材が含有される。図1(D)は基材1上に光熱変換層
4、下層記録層2bと親水性層2cからなる複合記録層
2d及び保護層3をこの順に設けた構成(請求項4に対
応)であり、ここでは保護層3に層状鉱物粒子が含有さ
れと共に親水性層2cには微細な多孔質粒子が含有さ
れ、さらに必要により光熱変換素材が含有され、下層記
録層2bには熱溶融性素材が含有され、さらに必要によ
り光熱変換素材が含有され、また光熱変換層4には光熱
変換素材が含有される。なお、上記親水性記録層2a及
び複合記録層2d(下層記録層2b+親水性層2c)を
含めて単に記録層2ともいう。
【0021】上記各構成はあくまで好ましい例であっ
て、本発明の印刷版材料の構成がこれらに限定されるも
のではない。また、本発明の印刷版材料においては、上
記保護層3上に本発明の効果をより大ならしめるため必
要に応じて後述する第2の保護層をさらに設けることが
できる。また、上記各構成において、必要により基材1
の塗布面側に下引き層を設けることができる。以下、上
記各構成の層について順次説明する。 〈保護層3〉本発明の保護層3中には本発明の特徴であ
る層状鉱物粒子が含有され、印刷版材料表面を被覆し
て、該印刷版材料の取り扱い中の擦り傷発生を防止し、
しかも印刷版材料が印刷機上に到るまでには殆んどの保
護層3が除去されるため親水性記録層2a又は複合記録
層2d(下層記録層2b+親水性層2c)上には高感度
特性が付与されると共に高解像度の鮮明な画像を形成す
ることができる印刷版が得られる。
て、本発明の印刷版材料の構成がこれらに限定されるも
のではない。また、本発明の印刷版材料においては、上
記保護層3上に本発明の効果をより大ならしめるため必
要に応じて後述する第2の保護層をさらに設けることが
できる。また、上記各構成において、必要により基材1
の塗布面側に下引き層を設けることができる。以下、上
記各構成の層について順次説明する。 〈保護層3〉本発明の保護層3中には本発明の特徴であ
る層状鉱物粒子が含有され、印刷版材料表面を被覆し
て、該印刷版材料の取り扱い中の擦り傷発生を防止し、
しかも印刷版材料が印刷機上に到るまでには殆んどの保
護層3が除去されるため親水性記録層2a又は複合記録
層2d(下層記録層2b+親水性層2c)上には高感度
特性が付与されると共に高解像度の鮮明な画像を形成す
ることができる印刷版が得られる。
【0022】なお、上記保護層3の膜厚は0.1〜5μ
mの範囲が好ましく、0.3〜3μmがより好ましく、
該保護層3中に含有される層状鉱物粒子の量は保護層3
中1〜95質量%が好ましく、3〜80質量%がより好
ましい。 《層状鉱物粒子》上記保護層3中に含有される層状鉱物
粒子としては、平板状のものが主体であり、好ましくは
カオリナイト、ハロイサイト、クリソタイル、タルク、
スメクタイト(モンモリロナイト、バイデライト、ヘク
トライト、サボナイト等)、バーミキュライト、マイカ
(雲母)、クロライトといった水膨潤性平板状粘土鉱物が
特に好ましく、その他ハイドロタルサイト、層状ポリケ
イ酸塩(カネマイト、マカタイト、アイアライト、マガ
ディアイト、ケニヤアイト等)等が挙げられる。
mの範囲が好ましく、0.3〜3μmがより好ましく、
該保護層3中に含有される層状鉱物粒子の量は保護層3
中1〜95質量%が好ましく、3〜80質量%がより好
ましい。 《層状鉱物粒子》上記保護層3中に含有される層状鉱物
粒子としては、平板状のものが主体であり、好ましくは
カオリナイト、ハロイサイト、クリソタイル、タルク、
スメクタイト(モンモリロナイト、バイデライト、ヘク
トライト、サボナイト等)、バーミキュライト、マイカ
(雲母)、クロライトといった水膨潤性平板状粘土鉱物が
特に好ましく、その他ハイドロタルサイト、層状ポリケ
イ酸塩(カネマイト、マカタイト、アイアライト、マガ
ディアイト、ケニヤアイト等)等が挙げられる。
【0023】中でも、単位層(ユニットレイヤー)の電
荷密度が高いものほど極性が高く、かつ親水性も高く好
ましい。好ましい電荷密度としては0.25以上、さら
に好ましくは0.6以上である。このような電荷密度を
有する層状鉱物としては、スメクタイト(電荷密度0.
25〜0.6:陰電荷)、バーミキュライト(電荷密度
0.6〜0.9:陰電荷)、マイカ(〜1:陰電荷)、
ハイドロタルサイト(〜2:陽電荷)、マガディアイト
(〜1:陰電荷)等が挙げられる。
荷密度が高いものほど極性が高く、かつ親水性も高く好
ましい。好ましい電荷密度としては0.25以上、さら
に好ましくは0.6以上である。このような電荷密度を
有する層状鉱物としては、スメクタイト(電荷密度0.
25〜0.6:陰電荷)、バーミキュライト(電荷密度
0.6〜0.9:陰電荷)、マイカ(〜1:陰電荷)、
ハイドロタルサイト(〜2:陽電荷)、マガディアイト
(〜1:陰電荷)等が挙げられる。
【0024】特に、合成フッ素雲母は粒径等が安定した
品質のものを入手することができ好ましい。また、合成
フッ素雲母の中でも、膨潤性であるものが好ましく、自
由膨潤であるものがさらに好ましい。また、層状鉱物粒
子のインターカレーション化合物(ピラードクリスタル
等)や、イオン交換処理を施したもの、表面処理(シラ
ンカップリング剤処理等)を施したものも使用すること
ができる。
品質のものを入手することができ好ましい。また、合成
フッ素雲母の中でも、膨潤性であるものが好ましく、自
由膨潤であるものがさらに好ましい。また、層状鉱物粒
子のインターカレーション化合物(ピラードクリスタル
等)や、イオン交換処理を施したもの、表面処理(シラ
ンカップリング剤処理等)を施したものも使用すること
ができる。
【0025】上記層状鉱物粒子のサイズとしては、層中
に含有されている状態で(後述される膨潤工程、分散剥
離工程を経た場合も含めて)、平均粒径(粒子の最大
長)が20μm以下であり、また平均アスペクト比(粒
子の最大長/粒子の厚さ)が20以上の薄層状であるこ
とが好ましく、平均粒径が10μm以下であり、平均ア
スペクト比が50以上であることがさらに好ましい。
に含有されている状態で(後述される膨潤工程、分散剥
離工程を経た場合も含めて)、平均粒径(粒子の最大
長)が20μm以下であり、また平均アスペクト比(粒
子の最大長/粒子の厚さ)が20以上の薄層状であるこ
とが好ましく、平均粒径が10μm以下であり、平均ア
スペクト比が50以上であることがさらに好ましい。
【0026】粒子サイズが上記範囲にある場合、層状鉱
物粒子の特徴である平面方向の連続性及び柔軟性が塗膜
に付与され、クラックが入りにくく乾燥状態で強靭な塗
膜とすることができる。粒子径が上記範囲をはずれる
と、擦り傷抑制効果が低下する場合がある。また、アス
ペクト比が上記範囲以下である場合、柔軟性が不充分と
なり、同様に引っかきによるキズ抑制効果が低下する場
合がある。
物粒子の特徴である平面方向の連続性及び柔軟性が塗膜
に付与され、クラックが入りにくく乾燥状態で強靭な塗
膜とすることができる。粒子径が上記範囲をはずれる
と、擦り傷抑制効果が低下する場合がある。また、アス
ペクト比が上記範囲以下である場合、柔軟性が不充分と
なり、同様に引っかきによるキズ抑制効果が低下する場
合がある。
【0027】ところで、上記保護層3中には層状鉱物粒
子の外、水溶性樹脂及び/又は平均粒径100μm以下
の金属酸化物微粒子からなる結合剤、さらには粒径1〜
10μmのマット剤が含有されるのが好ましい。また、
上記保護層3中に含有される層状鉱物粒子のうち膨潤性
合成フッ素化雲母は特に極薄層粒子であるため、少量の
添加でも効果が見られる。 《結合剤としての水溶性樹脂》保護層3中に含有されて
もよい水溶性樹脂としては例えば、カゼイン、大豆タン
パク、合成タンパク等のタンパク質類、キチン類、澱粉
類、ゼラチン類、アルギン酸塩、ポリビニルアルコー
ル、シリル変性ポリビニルアルコール、カチオン変性ポ
リビニルアルコール、メチルセルロース、カルボキシメ
チルセルロースやヒドロキシエチルセルロース等のセル
ロース誘導体、ポリエチレンオキサイド、ポリプロピレ
ンオキサイド、ポリエチレングリコール、ポリビニルエ
ーテル、スチレン−ブタジエン共重合体、メチルメタク
リレート−ブタジエン共重合体の共役ジエン系重合体ラ
テックス、アクリル系重合体ラテックス、ビニル系重合
体ラテックス、ポリアクリルアミド、ポリビニルピロリ
ドン等が挙げられる。
子の外、水溶性樹脂及び/又は平均粒径100μm以下
の金属酸化物微粒子からなる結合剤、さらには粒径1〜
10μmのマット剤が含有されるのが好ましい。また、
上記保護層3中に含有される層状鉱物粒子のうち膨潤性
合成フッ素化雲母は特に極薄層粒子であるため、少量の
添加でも効果が見られる。 《結合剤としての水溶性樹脂》保護層3中に含有されて
もよい水溶性樹脂としては例えば、カゼイン、大豆タン
パク、合成タンパク等のタンパク質類、キチン類、澱粉
類、ゼラチン類、アルギン酸塩、ポリビニルアルコー
ル、シリル変性ポリビニルアルコール、カチオン変性ポ
リビニルアルコール、メチルセルロース、カルボキシメ
チルセルロースやヒドロキシエチルセルロース等のセル
ロース誘導体、ポリエチレンオキサイド、ポリプロピレ
ンオキサイド、ポリエチレングリコール、ポリビニルエ
ーテル、スチレン−ブタジエン共重合体、メチルメタク
リレート−ブタジエン共重合体の共役ジエン系重合体ラ
テックス、アクリル系重合体ラテックス、ビニル系重合
体ラテックス、ポリアクリルアミド、ポリビニルピロリ
ドン等が挙げられる。
【0028】また、保護層3中には必要によりカチオン
性樹脂を含有しても良い。カチオン性樹脂としては、ポ
リエチレンアミン、ポリプロピレンアミン等のようなポ
リアルキレンアミン類またはその誘導体、第3級アミノ
基や第4級アンモニウム基を有するアクリル樹脂、ジア
クリルアミン樹脂等が挙げられる。なお、上記のように
保護層3中に用いられる水溶性樹脂は含水布等による簡
単な払拭により下層の記録層2から除去可能な樹脂が主
として用いられるが、少量であれば後述するメラミン樹
脂等の架橋剤を併用してもよい。
性樹脂を含有しても良い。カチオン性樹脂としては、ポ
リエチレンアミン、ポリプロピレンアミン等のようなポ
リアルキレンアミン類またはその誘導体、第3級アミノ
基や第4級アンモニウム基を有するアクリル樹脂、ジア
クリルアミン樹脂等が挙げられる。なお、上記のように
保護層3中に用いられる水溶性樹脂は含水布等による簡
単な払拭により下層の記録層2から除去可能な樹脂が主
として用いられるが、少量であれば後述するメラミン樹
脂等の架橋剤を併用してもよい。
【0029】また、後述する記録層2にも水溶性樹脂が
用いられるが、この場合にはその上に画像形成を行うも
のであるため、含水布等による払拭により容易に除去又
は剥離されないよう架橋剤を含有させた水溶性樹脂が用
いられる。 《結合剤としての平均粒径100nm以下の金属酸化物
微粒子》保護層3中に含有されてもよい平均粒径100
nm以下の金属酸化物微粒子としては、コロイダルシリ
カ、アルミナゾル、チタニアゾル、その他の金属酸化物
のゾルが挙げられる。金属酸化物微粒子の形態として
は、球状、針状、羽毛状、その他のいずれの形態でも良
い。平均粒径としては、3〜100nmであることが好
ましく、平均粒径が異なる数種の金属酸化物微粒子を併
用することもできる。また、粒子表面に表面処理がなさ
れていても良い。
用いられるが、この場合にはその上に画像形成を行うも
のであるため、含水布等による払拭により容易に除去又
は剥離されないよう架橋剤を含有させた水溶性樹脂が用
いられる。 《結合剤としての平均粒径100nm以下の金属酸化物
微粒子》保護層3中に含有されてもよい平均粒径100
nm以下の金属酸化物微粒子としては、コロイダルシリ
カ、アルミナゾル、チタニアゾル、その他の金属酸化物
のゾルが挙げられる。金属酸化物微粒子の形態として
は、球状、針状、羽毛状、その他のいずれの形態でも良
い。平均粒径としては、3〜100nmであることが好
ましく、平均粒径が異なる数種の金属酸化物微粒子を併
用することもできる。また、粒子表面に表面処理がなさ
れていても良い。
【0030】金属酸化物微粒子はその造膜性を利用し
て、結合剤としての使用が可能であり、有機の結合剤を
用いるよりも親水性の低下が少なく、且つ造膜性も良好
である等印刷版材料の結合剤として好適に利用される。
上記のなかでも特にコロイダルシリカが比較的低温の乾
燥条件であっても造膜性が高く好ましい。コロイダルシ
リカの場合、粒子径は小さいほど結合力が強くなる。粒
子径が100nmよりも大きくなると結合力は大きく低
下し、結合剤として使用した場合には強度が不足する。
て、結合剤としての使用が可能であり、有機の結合剤を
用いるよりも親水性の低下が少なく、且つ造膜性も良好
である等印刷版材料の結合剤として好適に利用される。
上記のなかでも特にコロイダルシリカが比較的低温の乾
燥条件であっても造膜性が高く好ましい。コロイダルシ
リカの場合、粒子径は小さいほど結合力が強くなる。粒
子径が100nmよりも大きくなると結合力は大きく低
下し、結合剤として使用した場合には強度が不足する。
【0031】上記金属酸化物微粒子を後述されるマット
剤(粒径1〜10μm)としての多孔質シリカ粒子と共
に使用する場合は、微粒子自体が陽電荷を帯びている状
態で使用することが好ましく、例えば、アルミナゾルや
酸性コロイダルシリカを使用することが好ましい。ま
た、上記金属酸化物微粒子を後述する充填剤(粒径1μ
m未満)としての、例えば多孔質アルミノシリケート粒
子及び/又はゼオライト粒子とともに使用する場合は、
金属酸化物微粒子自体が陰電荷をおびている状態で使用
することが好ましく、例えば、アルカリコロイダルシリ
カを使用することが好ましい。また、上記金属酸化物微
粒子を充填剤としての多孔質シリカ粒子若しくは多孔質
アルミノシリケート粒子及び/又はゼオライト粒子とと
もに使用する場合は、例えば、表面をAlで処理して広
いpH範囲での安定性を付与したコロイダルシリカを使
用することが好ましい。
剤(粒径1〜10μm)としての多孔質シリカ粒子と共
に使用する場合は、微粒子自体が陽電荷を帯びている状
態で使用することが好ましく、例えば、アルミナゾルや
酸性コロイダルシリカを使用することが好ましい。ま
た、上記金属酸化物微粒子を後述する充填剤(粒径1μ
m未満)としての、例えば多孔質アルミノシリケート粒
子及び/又はゼオライト粒子とともに使用する場合は、
金属酸化物微粒子自体が陰電荷をおびている状態で使用
することが好ましく、例えば、アルカリコロイダルシリ
カを使用することが好ましい。また、上記金属酸化物微
粒子を充填剤としての多孔質シリカ粒子若しくは多孔質
アルミノシリケート粒子及び/又はゼオライト粒子とと
もに使用する場合は、例えば、表面をAlで処理して広
いpH範囲での安定性を付与したコロイダルシリカを使
用することが好ましい。
【0032】上記水溶性樹脂及び/又は金属酸化物微粒
子を保護層3の結合剤として用いる場合の、該保護層3
中の含有量は保護層3に対して1〜30質量%が好まし
く、1質量%未満では下層の記録層2の保護作用が不足
して、印刷版材料表面に傷がつきやすく、30質量%を
越えると下層の記録層2の多孔質表面の細孔を塞いでし
まい印刷版材料の感度低下を招く。 《マット剤》保護層3中に含有されてもよいマット剤
は、層状鉱物粒子の擦り傷防止効果を促進する作用があ
り、1〜10μm、さらに好ましくは1〜6μmの下記
に示す無機粒子、有機粒子の何れもが用いられる。異種
素材の粒子を2種以上併用することもでき、平均粒子径
の異なる2種以上の粒子を併用することもできる。添加
量は保護層3中1〜30質量%が好ましい。 (無機粒子)シリカ、アルミナ、アルミノシリケート、
チタニア、ジルコニアといった一般的な金属酸化物粒子
を使用することができる。ただし、塗料中に添加、分散
した際の沈降が問題となるため、見かけ比重が1.5以
下である多孔質粒子であることが好ましい。また、形状
は球形に近いことが好ましく、該多孔質粒子としては、
多孔質シリカ粒子、多孔質アルミノシリケート粒子等が
挙げられる。 (有機粒子)ナイロン、ポリメチルメタクリレート、シ
リコーン、テフロン、ポリエチレン、ポリスチレン等の
一般的な架橋樹脂粒子が使用できる。また、マンノー
ス、プルラン、アルギン酸、デキストリン、グルコマン
ナン、デンプン、グアガム、セルロース誘導体などをの
多糖類を多価金属イオンや、グリシジル基を有する一般
的な架橋剤、ホルマリンを含有する架橋剤で架橋して水
に不溶化した多糖類粒子も使用可能である。これらの粒
子はあらかじめ水分散液として調製されていてもよい
し、分散液に何らかの分散剤が含有されていてもよい。
子を保護層3の結合剤として用いる場合の、該保護層3
中の含有量は保護層3に対して1〜30質量%が好まし
く、1質量%未満では下層の記録層2の保護作用が不足
して、印刷版材料表面に傷がつきやすく、30質量%を
越えると下層の記録層2の多孔質表面の細孔を塞いでし
まい印刷版材料の感度低下を招く。 《マット剤》保護層3中に含有されてもよいマット剤
は、層状鉱物粒子の擦り傷防止効果を促進する作用があ
り、1〜10μm、さらに好ましくは1〜6μmの下記
に示す無機粒子、有機粒子の何れもが用いられる。異種
素材の粒子を2種以上併用することもでき、平均粒子径
の異なる2種以上の粒子を併用することもできる。添加
量は保護層3中1〜30質量%が好ましい。 (無機粒子)シリカ、アルミナ、アルミノシリケート、
チタニア、ジルコニアといった一般的な金属酸化物粒子
を使用することができる。ただし、塗料中に添加、分散
した際の沈降が問題となるため、見かけ比重が1.5以
下である多孔質粒子であることが好ましい。また、形状
は球形に近いことが好ましく、該多孔質粒子としては、
多孔質シリカ粒子、多孔質アルミノシリケート粒子等が
挙げられる。 (有機粒子)ナイロン、ポリメチルメタクリレート、シ
リコーン、テフロン、ポリエチレン、ポリスチレン等の
一般的な架橋樹脂粒子が使用できる。また、マンノー
ス、プルラン、アルギン酸、デキストリン、グルコマン
ナン、デンプン、グアガム、セルロース誘導体などをの
多糖類を多価金属イオンや、グリシジル基を有する一般
的な架橋剤、ホルマリンを含有する架橋剤で架橋して水
に不溶化した多糖類粒子も使用可能である。これらの粒
子はあらかじめ水分散液として調製されていてもよい
し、分散液に何らかの分散剤が含有されていてもよい。
【0033】これらの中では水系塗料への分散性や、粒
子自体の親水性を考慮すると、テフロン粒子または多糖
類粒子が好ましい。多糖類粒子としては特開平10−2
97078号公報に記載されている多孔質多糖類粒子が
使用できる。特にアルギン酸を多価金属イオンで架橋し
たアルギン酸多価金属塩粒子が好ましい。上記有機、無
機の粒子の保護層3中の添加量は1〜30質量%であ
る。保護層3中の添加量が30質量%を越えると記録層
2の多孔質表面の細孔を塞いでしまい印刷版材料の感度
低下を招く、また1質量%未満では印刷版材料表面の擦
り傷防止効果を発揮することができない。 《充填剤》保護層3中に充填剤として含有されてもよい
微細な多孔質粒子(マット剤の場合と同様擦り傷防止の
効果もある)としては、多孔質シリカ粒子、多孔質アル
ミノシリケート粒子、ゼオライト粒子、多孔質多糖類多
価金属塩粒子が使用可能であり、後述の分散破砕によ
り、粒子径1μm未満として使用することが好ましい。
子自体の親水性を考慮すると、テフロン粒子または多糖
類粒子が好ましい。多糖類粒子としては特開平10−2
97078号公報に記載されている多孔質多糖類粒子が
使用できる。特にアルギン酸を多価金属イオンで架橋し
たアルギン酸多価金属塩粒子が好ましい。上記有機、無
機の粒子の保護層3中の添加量は1〜30質量%であ
る。保護層3中の添加量が30質量%を越えると記録層
2の多孔質表面の細孔を塞いでしまい印刷版材料の感度
低下を招く、また1質量%未満では印刷版材料表面の擦
り傷防止効果を発揮することができない。 《充填剤》保護層3中に充填剤として含有されてもよい
微細な多孔質粒子(マット剤の場合と同様擦り傷防止の
効果もある)としては、多孔質シリカ粒子、多孔質アル
ミノシリケート粒子、ゼオライト粒子、多孔質多糖類多
価金属塩粒子が使用可能であり、後述の分散破砕によ
り、粒子径1μm未満として使用することが好ましい。
【0034】上記微細な多孔質粒子を保護層3中に充填
剤として含有させた場合、印刷時に保護層3の一部が残
存していても、画像部の熱溶融素材がその部分にまで溶
出しているため、インク着肉不良とならないなどの利点
を有する。なお、保護層3中への添加量は合計して1〜
30質量%が好ましい。なお、上記粒子径1μm未満の
微細な多孔質粒子は後記する記録層2に親水性を付与す
ると共に加熱時、熱溶融性素材の表面層上への溶出を促
進する促進剤として用いられるものであり、記録層2の
項でさらに説明する。 〈記録層2〉本発明の印刷版材料では、前記保護層3の
下層として、少なくとも赤外線レーザーの照射により熱
溶融性素材を表面層に溶出してインク受容性の画像を形
成する記録層2が設けられる。上記記録層2における親
水性記録層2a及び下層記録層2b中の熱溶融性素材の
含有量は好ましくは5〜90質量%、より好ましくは1
0〜70質量%である。
剤として含有させた場合、印刷時に保護層3の一部が残
存していても、画像部の熱溶融素材がその部分にまで溶
出しているため、インク着肉不良とならないなどの利点
を有する。なお、保護層3中への添加量は合計して1〜
30質量%が好ましい。なお、上記粒子径1μm未満の
微細な多孔質粒子は後記する記録層2に親水性を付与す
ると共に加熱時、熱溶融性素材の表面層上への溶出を促
進する促進剤として用いられるものであり、記録層2の
項でさらに説明する。 〈記録層2〉本発明の印刷版材料では、前記保護層3の
下層として、少なくとも赤外線レーザーの照射により熱
溶融性素材を表面層に溶出してインク受容性の画像を形
成する記録層2が設けられる。上記記録層2における親
水性記録層2a及び下層記録層2b中の熱溶融性素材の
含有量は好ましくは5〜90質量%、より好ましくは1
0〜70質量%である。
【0035】これらの親水性記録層2a及び下層記録層
2bは主として親水性の結合剤中に親油性の熱溶融性素
材を分散含有して形成されるため、熱溶融性素材の種
類、量、結合剤の種類、量等により印刷版材料としての
適性な親水性が得られず良質の画像が得られないことが
ある。特に記録層中に熱溶融性素材を例えば60質量%
以上と多く含む場合には油性成分が多くなり、単独では
鮮明な印刷画像が得られない場合が生ずる。そこで本発
明では熱溶融性素材を例えば60質量%以下、好ましく
は50質量%以下と少なめに含有させた場合で、それ自
体で十分な親水性が得られる場合の記録層を親水性記録
層2aとし、これを保護層3の直下に設ける構成(図1
(A)及び図1(C))が好ましく用いられる。また熱
溶融性素材を例えば50質量%以上、好ましくは60質
量%以上と多き目に含有させた場合で、それ自体では十
分な親水性が得られない場合の記録層を下層記録層2b
とし、その上にさらに熱溶融性素材を余り含有していな
い親水性層2cを設けてなる複合記録層2dの構成(図
1(B)及び図1(D))が好ましく用いられる。
2bは主として親水性の結合剤中に親油性の熱溶融性素
材を分散含有して形成されるため、熱溶融性素材の種
類、量、結合剤の種類、量等により印刷版材料としての
適性な親水性が得られず良質の画像が得られないことが
ある。特に記録層中に熱溶融性素材を例えば60質量%
以上と多く含む場合には油性成分が多くなり、単独では
鮮明な印刷画像が得られない場合が生ずる。そこで本発
明では熱溶融性素材を例えば60質量%以下、好ましく
は50質量%以下と少なめに含有させた場合で、それ自
体で十分な親水性が得られる場合の記録層を親水性記録
層2aとし、これを保護層3の直下に設ける構成(図1
(A)及び図1(C))が好ましく用いられる。また熱
溶融性素材を例えば50質量%以上、好ましくは60質
量%以上と多き目に含有させた場合で、それ自体では十
分な親水性が得られない場合の記録層を下層記録層2b
とし、その上にさらに熱溶融性素材を余り含有していな
い親水性層2cを設けてなる複合記録層2dの構成(図
1(B)及び図1(D))が好ましく用いられる。
【0036】上記親水性記録層2a及び下層記録層2b
の膜厚は0.1〜5μmの範囲が好ましく、0.3〜3
μmがより好ましい。また、親水性層2cの膜厚は0.
01〜3μmが好ましく、下層記録層2bと親水性層2
cを含む複合記録層2dの膜厚は0.1〜10μmとす
るのが好ましい。 《熱溶融性素材》親水性記録層2a及び下層記録層2b
に含有されるインク受容性の熱溶融性素材の特性として
は、軟化点40〜150℃、融点50〜200℃である
ことが好ましく、軟化点は60〜100℃、融点は80
〜150℃であることがさらに好ましい。軟化点が40
℃未満、又は融点が50℃未満では保存性が問題であ
り、軟化点が150℃を越え、又は融点が200℃を越
える場合は感度が低下する。
の膜厚は0.1〜5μmの範囲が好ましく、0.3〜3
μmがより好ましい。また、親水性層2cの膜厚は0.
01〜3μmが好ましく、下層記録層2bと親水性層2
cを含む複合記録層2dの膜厚は0.1〜10μmとす
るのが好ましい。 《熱溶融性素材》親水性記録層2a及び下層記録層2b
に含有されるインク受容性の熱溶融性素材の特性として
は、軟化点40〜150℃、融点50〜200℃である
ことが好ましく、軟化点は60〜100℃、融点は80
〜150℃であることがさらに好ましい。軟化点が40
℃未満、又は融点が50℃未満では保存性が問題であ
り、軟化点が150℃を越え、又は融点が200℃を越
える場合は感度が低下する。
【0037】上記インク受容性の熱溶融性素材として
は、パラフィン、ポリオレフィン、マイクロクリスタリ
ンワックス、脂肪酸系ワックス及び酸化ポリエチレンワ
ックス等が挙げられる。これらは分子量800から10
000程度のものであり、通常高圧及び低圧重合法によ
り低密度及び高密度ポリエチレンとして、また高分子ポ
リオレフィンの熱分解により得られる。また、乳化しや
すくするためにこれらのワックスを酸化し、水酸基、エ
ステル基、カルボキシル基、アルデヒド基、ペルオキシ
ド基などの極性基を導入することもできる。また、軟化
点を下げたり作業性を向上させるためにこれらのワック
スを併用することも可能である。後者としては、ステア
リン酸アミド、リノレン酸アミド、ラウリル酸アミド、
ミリスチン酸アミド、硬化牛脂肪酸アミド、パルミチン
酸アミド、オレイン酸アミド、米糖脂肪酸アミド、ヤシ
脂肪酸アミド又はこれらの脂肪酸アミドのメチロール化
物、メチレンビスステアロアミド、エチレンビスステア
ロアミドなどが挙げられ、これらの併用も可能である。
また、クマロン−インデン樹脂、ロジン変性フェノール
樹脂、テルペン変性フェノール樹脂、キシレン樹脂、ケ
トン樹脂、アクリル樹脂、アイオノマー、これらの樹脂
の共重合体も使用することができる。
は、パラフィン、ポリオレフィン、マイクロクリスタリ
ンワックス、脂肪酸系ワックス及び酸化ポリエチレンワ
ックス等が挙げられる。これらは分子量800から10
000程度のものであり、通常高圧及び低圧重合法によ
り低密度及び高密度ポリエチレンとして、また高分子ポ
リオレフィンの熱分解により得られる。また、乳化しや
すくするためにこれらのワックスを酸化し、水酸基、エ
ステル基、カルボキシル基、アルデヒド基、ペルオキシ
ド基などの極性基を導入することもできる。また、軟化
点を下げたり作業性を向上させるためにこれらのワック
スを併用することも可能である。後者としては、ステア
リン酸アミド、リノレン酸アミド、ラウリル酸アミド、
ミリスチン酸アミド、硬化牛脂肪酸アミド、パルミチン
酸アミド、オレイン酸アミド、米糖脂肪酸アミド、ヤシ
脂肪酸アミド又はこれらの脂肪酸アミドのメチロール化
物、メチレンビスステアロアミド、エチレンビスステア
ロアミドなどが挙げられ、これらの併用も可能である。
また、クマロン−インデン樹脂、ロジン変性フェノール
樹脂、テルペン変性フェノール樹脂、キシレン樹脂、ケ
トン樹脂、アクリル樹脂、アイオノマー、これらの樹脂
の共重合体も使用することができる。
【0038】また、熱溶融性素材の形態としては、0.
05〜10μmの粒子状であることが好ましい。さらに
好ましくは、0.1〜5μmであり、さらに好ましくは
0.2〜2μmである。0.05μm未満だと、記録層
表面の強度が低下する場合があり、印刷版としたときの
耐刷性低下が懸念される。10μmを越えると、解像度
が低下する。
05〜10μmの粒子状であることが好ましい。さらに
好ましくは、0.1〜5μmであり、さらに好ましくは
0.2〜2μmである。0.05μm未満だと、記録層
表面の強度が低下する場合があり、印刷版としたときの
耐刷性低下が懸念される。10μmを越えると、解像度
が低下する。
【0039】また、熱溶融性素材粒子は内部と表層との
組成が連続的に変化していたり、もしくは異なる素材で
被覆されていてもよい。被覆方法は公知のマイクロカプ
セル形成方法、ゾルゲル法等が使用できる。 《結合剤としての親水性樹脂》上記記録層2中には前記
保護層3の場合と同様に結合剤としての親水性樹脂が層
中に1〜30質量%の範囲で含有されが、さらに好まし
くは安定した記録層を形成するため該親水性樹脂を架橋
して強化する架橋剤、例えばメラミン樹脂、イソシアネ
ート化合物、イソオキサゾール類、アルデヒド類、N−
メチロール化合物、ジオキサン誘導体、活性ビニル化合
物又は活性ハロゲン化合物等を含有することができる。
組成が連続的に変化していたり、もしくは異なる素材で
被覆されていてもよい。被覆方法は公知のマイクロカプ
セル形成方法、ゾルゲル法等が使用できる。 《結合剤としての親水性樹脂》上記記録層2中には前記
保護層3の場合と同様に結合剤としての親水性樹脂が層
中に1〜30質量%の範囲で含有されが、さらに好まし
くは安定した記録層を形成するため該親水性樹脂を架橋
して強化する架橋剤、例えばメラミン樹脂、イソシアネ
ート化合物、イソオキサゾール類、アルデヒド類、N−
メチロール化合物、ジオキサン誘導体、活性ビニル化合
物又は活性ハロゲン化合物等を含有することができる。
【0040】さらに、上記記録層2中には親水性樹脂と
共に、又は該親水性樹脂に代えて結合剤として平均粒径
100nm以下の金属酸化物粒子を含有されてもよい。
さらに又、記録層2中には前記保護層3に含有されたマ
ット剤としての平均粒径1〜10μm、好ましくは1〜
6μmの無機粒子及び/又は有機微粒子が含有されても
よい。 《充填剤としての微細な多孔質粒子》上記記録層2中に
は表面層の親水性化と、赤外線レーザー照射により熱溶
融素材を表面に溶出しやすくするため後述の方法により
粒子径が1μm未満に分散粉砕された微細な多孔質粒子
が層中に10〜90質量%、好ましくは15〜80質量
%含有される。上記微細な多孔質粒子としては代表的に
多孔質シリカ粒子、多孔質アルミノシリケート粒子、ゼ
オライト粒子、多孔質多糖類多価金属塩粒子が使用可能
である。 (多孔質シリカ粒子、多孔質アルミノシリケート粒子)
多孔質シリカ粒子は一般に湿式法または乾式法により製
造される。湿式法ではケイ酸塩水溶液を中和して得られ
るゲルを乾燥、粉砕するか、中和して析出した沈降物を
粉砕することで得ることができる。乾式法では四塩化珪
素を水素と酸素とともに燃焼し、シリカを析出すること
で得られる。これらの粒子は製造条件の調整により多孔
性や粒径を制御することが可能である。
共に、又は該親水性樹脂に代えて結合剤として平均粒径
100nm以下の金属酸化物粒子を含有されてもよい。
さらに又、記録層2中には前記保護層3に含有されたマ
ット剤としての平均粒径1〜10μm、好ましくは1〜
6μmの無機粒子及び/又は有機微粒子が含有されても
よい。 《充填剤としての微細な多孔質粒子》上記記録層2中に
は表面層の親水性化と、赤外線レーザー照射により熱溶
融素材を表面に溶出しやすくするため後述の方法により
粒子径が1μm未満に分散粉砕された微細な多孔質粒子
が層中に10〜90質量%、好ましくは15〜80質量
%含有される。上記微細な多孔質粒子としては代表的に
多孔質シリカ粒子、多孔質アルミノシリケート粒子、ゼ
オライト粒子、多孔質多糖類多価金属塩粒子が使用可能
である。 (多孔質シリカ粒子、多孔質アルミノシリケート粒子)
多孔質シリカ粒子は一般に湿式法または乾式法により製
造される。湿式法ではケイ酸塩水溶液を中和して得られ
るゲルを乾燥、粉砕するか、中和して析出した沈降物を
粉砕することで得ることができる。乾式法では四塩化珪
素を水素と酸素とともに燃焼し、シリカを析出すること
で得られる。これらの粒子は製造条件の調整により多孔
性や粒径を制御することが可能である。
【0041】上記多孔質シリカ粒子としては、湿式法の
ゲルから得られるものが特に好ましく、多孔質アルミノ
シリケート粒子は例えば特開平10−71764号公報
に記載されている方法により製造される。即ち、アルミ
ニウムアルコキシドと珪素アルコキシドを主成分として
加水分解法により合成された非晶質な複合体粒子であ
る。粒子中のアルミナとシリカの比率は1:4〜4:1
の範囲で合成することが可能である。また、製造時にそ
の他の金属のアルコキシドを添加して3成分以上の複合
体粒子として製造したものも本発明に使用できる。これ
らの複合体粒子も製造条件の調整により多孔性や粒径を
制御することが可能である。
ゲルから得られるものが特に好ましく、多孔質アルミノ
シリケート粒子は例えば特開平10−71764号公報
に記載されている方法により製造される。即ち、アルミ
ニウムアルコキシドと珪素アルコキシドを主成分として
加水分解法により合成された非晶質な複合体粒子であ
る。粒子中のアルミナとシリカの比率は1:4〜4:1
の範囲で合成することが可能である。また、製造時にそ
の他の金属のアルコキシドを添加して3成分以上の複合
体粒子として製造したものも本発明に使用できる。これ
らの複合体粒子も製造条件の調整により多孔性や粒径を
制御することが可能である。
【0042】粒子の多孔性としては、分散前の状態で、
細孔容積で1.0cm3/g以上であることが好まし
く、1.2cm3/g以上であることがより好ましく、
1.8cm3/g以上2.5cm3/g以下であることが
さらに好ましい。細孔容積は塗膜の保水性と密接に関連
しており、細孔容積が大きいほど保水性が良好となって
印刷時に汚れにくく、水量ラチチュードも広くなるが、
2.5cm3/gよりも大きくなると粒子自体が非常に
脆くなるため塗膜の耐久性が低下すり、細孔容積が1.
0cm3/g未満の場合には、印刷時の汚れにくさ、水
量ラチチュードの広さが不充分となる。また粒径は前記
のように1μm未満が好ましく、粗大な粒子が存在する
と記録層2表面に多孔質で急峻な突起が形成され、突起
周囲にインクが残りやすくなって非画線部汚れが劣化す
る。 (ゼオライト粒子)上記ゼオライトは結晶性のアルミノ
ケイ酸塩であり、細孔径が0.3〜1nmの規則正しい
三次元網目構造の空隙を有する多孔質体である。天然お
よび合成ゼオライトを合わせた一般式は、次のように表
される。
細孔容積で1.0cm3/g以上であることが好まし
く、1.2cm3/g以上であることがより好ましく、
1.8cm3/g以上2.5cm3/g以下であることが
さらに好ましい。細孔容積は塗膜の保水性と密接に関連
しており、細孔容積が大きいほど保水性が良好となって
印刷時に汚れにくく、水量ラチチュードも広くなるが、
2.5cm3/gよりも大きくなると粒子自体が非常に
脆くなるため塗膜の耐久性が低下すり、細孔容積が1.
0cm3/g未満の場合には、印刷時の汚れにくさ、水
量ラチチュードの広さが不充分となる。また粒径は前記
のように1μm未満が好ましく、粗大な粒子が存在する
と記録層2表面に多孔質で急峻な突起が形成され、突起
周囲にインクが残りやすくなって非画線部汚れが劣化す
る。 (ゼオライト粒子)上記ゼオライトは結晶性のアルミノ
ケイ酸塩であり、細孔径が0.3〜1nmの規則正しい
三次元網目構造の空隙を有する多孔質体である。天然お
よび合成ゼオライトを合わせた一般式は、次のように表
される。
【0043】 (MI,MII1/2)m(AlmSinO2(m+n))・xH2O ここで、MI、MIIは交換性のカチオンであって、MI
はLi+、Na+、K+、Tl+、Me4N+(TMA)、E
t4N+(TEA)、Pr4N+(TPA)、C7H
15N2 +、C8H16N+等であり、MIIはCa2+、Mg2+、
Ba2+、Sr2+、C8H18N2 2+等である。また、n≧m
であり、m/nの値つまりはAl/Si比率は1以下と
なる。Al/Si比率が高いほど交換性カチオンの量が
多く含まれるため極性が高く、したがって親水性も高
い。好ましいAl/Si比率は0.4〜1.0であり、
さらに好ましくは0.8〜1.0である。
はLi+、Na+、K+、Tl+、Me4N+(TMA)、E
t4N+(TEA)、Pr4N+(TPA)、C7H
15N2 +、C8H16N+等であり、MIIはCa2+、Mg2+、
Ba2+、Sr2+、C8H18N2 2+等である。また、n≧m
であり、m/nの値つまりはAl/Si比率は1以下と
なる。Al/Si比率が高いほど交換性カチオンの量が
多く含まれるため極性が高く、したがって親水性も高
い。好ましいAl/Si比率は0.4〜1.0であり、
さらに好ましくは0.8〜1.0である。
【0044】本発明で使用するゼオライト粒子として
は、Al/Si比率が安定しており、また粒径分布も比
較的シャープである合成ゼオライトが好ましく、例え
ば、ゼオライトA:Na12(Al12Si12O48)・27
H2O;Al/Si比率1.0、ゼオライトX:Na86
(Al86Si106O384)・264H2O;Al/Si比
率0.811、ゼオライトY:Na56(Al56Si136
O384)・250H2O;Al/Si比率0.412等が
挙げられる。
は、Al/Si比率が安定しており、また粒径分布も比
較的シャープである合成ゼオライトが好ましく、例え
ば、ゼオライトA:Na12(Al12Si12O48)・27
H2O;Al/Si比率1.0、ゼオライトX:Na86
(Al86Si106O384)・264H2O;Al/Si比
率0.811、ゼオライトY:Na56(Al56Si136
O384)・250H2O;Al/Si比率0.412等が
挙げられる。
【0045】Al/Si比率が0.4〜1.0である親
水性の高い多孔質粒子を含有することによって記録層2
表面自体の親水性も大きく向上し、印刷時に汚れにく
く、水量ラチチュードも広くなる。また、指紋跡の汚れ
も大きく改善される。Al/Si比率が0.4未満では
親水性が不充分であり、上記性能の改善効果が小さくな
る。粒径としては、記録層2に含有されている状態で
(分散破砕工程を経た場合も含めて)、実質的に1μm
未満であることが好ましく、0.5μm以下であること
がさらに好ましい。粗大な粒子が存在すると記録層2表
面に多孔質で急峻な突起が形成され、突起周囲にインク
が残りやすくなって非画線部汚れが生ずる。
水性の高い多孔質粒子を含有することによって記録層2
表面自体の親水性も大きく向上し、印刷時に汚れにく
く、水量ラチチュードも広くなる。また、指紋跡の汚れ
も大きく改善される。Al/Si比率が0.4未満では
親水性が不充分であり、上記性能の改善効果が小さくな
る。粒径としては、記録層2に含有されている状態で
(分散破砕工程を経た場合も含めて)、実質的に1μm
未満であることが好ましく、0.5μm以下であること
がさらに好ましい。粗大な粒子が存在すると記録層2表
面に多孔質で急峻な突起が形成され、突起周囲にインク
が残りやすくなって非画線部汚れが生ずる。
【0046】上記微細な多孔質粒子は記録層2の5〜9
5質量%であることが好ましく、10〜90質量%であ
ることがより好ましい。 《新モース硬度5以上の無機粒子》また、記録層2中に
は多孔質でない、新モース硬度5以上の無機粒子が含有
されてもよい。多孔質ではない金属酸化物粒子(シリ
カ、アルミナ、チタニア、ジルコニア、酸化鉄、酸化ク
ロム等)や金属炭化物粒子(炭化珪素等)、窒化ホウ素
粒子、ダイアモンド粒子等が挙げられる。粒子は鋭角な
角を有していない方が好ましく、例えば溶融シリカ粒
子、シラスバルーン粒子等球形に近い粒子が好ましい。
5質量%であることが好ましく、10〜90質量%であ
ることがより好ましい。 《新モース硬度5以上の無機粒子》また、記録層2中に
は多孔質でない、新モース硬度5以上の無機粒子が含有
されてもよい。多孔質ではない金属酸化物粒子(シリ
カ、アルミナ、チタニア、ジルコニア、酸化鉄、酸化ク
ロム等)や金属炭化物粒子(炭化珪素等)、窒化ホウ素
粒子、ダイアモンド粒子等が挙げられる。粒子は鋭角な
角を有していない方が好ましく、例えば溶融シリカ粒
子、シラスバルーン粒子等球形に近い粒子が好ましい。
【0047】多孔質でないことの指標としては、比表面
積がBET値で50m2/g以下であることが好まし
く、10m2/g以下であることがさらに好ましい。ま
た、平均粒径は記録層2(親水性記録層2a、下層記録
層2b又は親水性層2c)厚の1〜2倍であることが好
ましく、1.1〜1.5倍であることがさらに好まし
い。また粒度分布がシャープであることが好ましく、平
均粒径の0.8〜1.2倍の範囲に全体の60質量%以
上が含まれることが好ましく、さらに、平均粒径の2倍
を越える粒子が全体の5質量%以下であることが好まし
い。
積がBET値で50m2/g以下であることが好まし
く、10m2/g以下であることがさらに好ましい。ま
た、平均粒径は記録層2(親水性記録層2a、下層記録
層2b又は親水性層2c)厚の1〜2倍であることが好
ましく、1.1〜1.5倍であることがさらに好まし
い。また粒度分布がシャープであることが好ましく、平
均粒径の0.8〜1.2倍の範囲に全体の60質量%以
上が含まれることが好ましく、さらに、平均粒径の2倍
を越える粒子が全体の5質量%以下であることが好まし
い。
【0048】新モース硬度5以上の無機粒子の含有量と
しては、記録層2中1〜50質量%であることが好まし
く、3〜30質量%であることがより好ましい。 〈親水性層2c〉上記複合記録層2d(下層記録層2b
+親水性層2c)における親水性層2cは記録層表面を
親水性化すると共に赤外線レーザーによる加熱時に下層
記録層2b中の熱溶融性素材を記録層表面に溶出させや
すくするための層であり、前記記録層2の項で説明した
多孔質粒子、結合剤として水溶性樹脂、平均粒径100
nm以下の金属酸化物粒子、マット剤、充填剤等が添加
され、特に充填剤としての前記微細な多孔質粒子が10
〜90質量%含有される。また、熱溶融性素材は含有し
ないか、又は含有したとしても10質量%以下とするの
が好ましい。 〈多孔質粒子の分散破砕または層状鉱物粒子の分散剥離
工程〉上記記録層2、特には、親水性記録層2a、親水
性層2c等に含有される微細な多孔質粒子の分散破砕又
は保護層3に含有される層状鉱物粒子の層剥離には大き
く乾式と湿式とに分けることができる。乾式の分散破砕
では乾燥工程が不要であるため工程は比較的シンプルと
なるが、サブミクロンオーダーまでの分散破砕及び10
0nm以下の層厚までの層剥離には通常湿式の方が有利
である。
しては、記録層2中1〜50質量%であることが好まし
く、3〜30質量%であることがより好ましい。 〈親水性層2c〉上記複合記録層2d(下層記録層2b
+親水性層2c)における親水性層2cは記録層表面を
親水性化すると共に赤外線レーザーによる加熱時に下層
記録層2b中の熱溶融性素材を記録層表面に溶出させや
すくするための層であり、前記記録層2の項で説明した
多孔質粒子、結合剤として水溶性樹脂、平均粒径100
nm以下の金属酸化物粒子、マット剤、充填剤等が添加
され、特に充填剤としての前記微細な多孔質粒子が10
〜90質量%含有される。また、熱溶融性素材は含有し
ないか、又は含有したとしても10質量%以下とするの
が好ましい。 〈多孔質粒子の分散破砕または層状鉱物粒子の分散剥離
工程〉上記記録層2、特には、親水性記録層2a、親水
性層2c等に含有される微細な多孔質粒子の分散破砕又
は保護層3に含有される層状鉱物粒子の層剥離には大き
く乾式と湿式とに分けることができる。乾式の分散破砕
では乾燥工程が不要であるため工程は比較的シンプルと
なるが、サブミクロンオーダーまでの分散破砕及び10
0nm以下の層厚までの層剥離には通常湿式の方が有利
である。
【0049】乾式の分散破砕装置としては、高速回転衝
撃剪断式ミル(例えばアニュラータイプのイノマイ
ザ)、気流式粉砕機(ジェットミル)、ロール式ミル、
乾式の媒体攪拌ミル(例えばボールミル)、圧縮剪断型
粉砕機(例えばオングミル)などが使用できる。湿式の
分散破砕装置としては、湿式の媒体攪拌ミル(例えばボ
ールミル、アクアマイザ)、高速回転式剪断摩擦式ミル
(例えばコロイドミル)などが使用できる。分散破砕後
の微細な多孔質粒子の粒径は実質的に1μm未満である
ことが好ましく、0.5μm以下であることがさらに好
ましい。また、粗大粒子が残存した場合には分級若しく
はろ過により除去してもよい。
撃剪断式ミル(例えばアニュラータイプのイノマイ
ザ)、気流式粉砕機(ジェットミル)、ロール式ミル、
乾式の媒体攪拌ミル(例えばボールミル)、圧縮剪断型
粉砕機(例えばオングミル)などが使用できる。湿式の
分散破砕装置としては、湿式の媒体攪拌ミル(例えばボ
ールミル、アクアマイザ)、高速回転式剪断摩擦式ミル
(例えばコロイドミル)などが使用できる。分散破砕後
の微細な多孔質粒子の粒径は実質的に1μm未満である
ことが好ましく、0.5μm以下であることがさらに好
ましい。また、粗大粒子が残存した場合には分級若しく
はろ過により除去してもよい。
【0050】また、分散破砕後の層状鉱物粒子は前述し
たように平均粒径20μm以下が好ましく、10μm以
下がより好ましく、また平均アスペクト比は20以上が
好ましく、50以上がより好ましい。また、層状鉱物粒
子は、分散破砕を行う前に後述する膨潤工程を行っても
よい。特に湿式分散を行った場合は、微細な多孔質粒
子、層状鉱物粒子ともに乾燥させることなく塗布液を調
整することが好ましい。分散破砕または分散剥離を行っ
た粒子を乾燥させると再凝集を生じる場合があるためで
ある。塗布液の固形分濃度を調整するために濃縮または
希釈することは行ってもよい。
たように平均粒径20μm以下が好ましく、10μm以
下がより好ましく、また平均アスペクト比は20以上が
好ましく、50以上がより好ましい。また、層状鉱物粒
子は、分散破砕を行う前に後述する膨潤工程を行っても
よい。特に湿式分散を行った場合は、微細な多孔質粒
子、層状鉱物粒子ともに乾燥させることなく塗布液を調
整することが好ましい。分散破砕または分散剥離を行っ
た粒子を乾燥させると再凝集を生じる場合があるためで
ある。塗布液の固形分濃度を調整するために濃縮または
希釈することは行ってもよい。
【0051】さらに、上記分散破砕または分散層剥離工
程において、表面処理剤を添加することで粒子に表面処
理を行うこともできる。また、上記分散破砕または分散
層剥離工程において、塗布液に添加する他の成分を添加
して同時に分散しても良く、あるいは上記分散破砕また
は分散層剥離工程の後で、塗布液に添加する他の成分を
添加して再度分散を行ってもよい。分散破砕または分散
層剥離工程においては、メカノケミカルな反応が同時に
起こっていると考えられ、塗布液に添加する他の成分と
同時に分散した場合、塗膜となった際の強度向上効果が
得られる場合がある。 〈層状鉱物粒子の膨潤工程〉保護層3に含有される自由
膨潤である膨潤性合成フッ素雲母は水と混合・攪拌する
だけでも十分に膨潤し、平均厚さで10nm以下の薄層
に分断して安定した分散液となる。
程において、表面処理剤を添加することで粒子に表面処
理を行うこともできる。また、上記分散破砕または分散
層剥離工程において、塗布液に添加する他の成分を添加
して同時に分散しても良く、あるいは上記分散破砕また
は分散層剥離工程の後で、塗布液に添加する他の成分を
添加して再度分散を行ってもよい。分散破砕または分散
層剥離工程においては、メカノケミカルな反応が同時に
起こっていると考えられ、塗布液に添加する他の成分と
同時に分散した場合、塗膜となった際の強度向上効果が
得られる場合がある。 〈層状鉱物粒子の膨潤工程〉保護層3に含有される自由
膨潤である膨潤性合成フッ素雲母は水と混合・攪拌する
だけでも十分に膨潤し、平均厚さで10nm以下の薄層
に分断して安定した分散液となる。
【0052】Mg−バーミキュライトは、例えば下記の
ようなイオン交換処理を行うことで膨潤性を示すように
なる。Mg−バーミキュライト+クエン酸リチウム水溶
液→Li−バーミキュライト+クエン酸マグネシウム水
溶液。さらに浸透圧で限定膨潤したLi−バーミキュラ
イトを機械的に分散・層剥離することで平均厚さ10n
m以下の薄層にまで分断することが可能となる。 〈赤外線レーザー露光CTP用として添加可能な光熱変
換素材〉上記光熱変換素材としては赤外線を熱に変換す
る機能、すなわち近赤外〜赤外部に吸収を有する素材が
用いられ、増感剤としての機能を有し、記録層2に高感
度特性を付与することがでる。通常は記録層2の下層に
光熱変換素材を含有す層5が設けられるが、必要によ
り、保護層3、記録層2(親水性記録層2a、下層記録
層2b、親水性層2c)等の印刷版材料を構成する何れ
かの層に含有されてもよい。なお、光熱変換素材を含有
する層(光熱変換層4)を設ける場合の層厚は0.1〜
2μmが好ましい。
ようなイオン交換処理を行うことで膨潤性を示すように
なる。Mg−バーミキュライト+クエン酸リチウム水溶
液→Li−バーミキュライト+クエン酸マグネシウム水
溶液。さらに浸透圧で限定膨潤したLi−バーミキュラ
イトを機械的に分散・層剥離することで平均厚さ10n
m以下の薄層にまで分断することが可能となる。 〈赤外線レーザー露光CTP用として添加可能な光熱変
換素材〉上記光熱変換素材としては赤外線を熱に変換す
る機能、すなわち近赤外〜赤外部に吸収を有する素材が
用いられ、増感剤としての機能を有し、記録層2に高感
度特性を付与することがでる。通常は記録層2の下層に
光熱変換素材を含有す層5が設けられるが、必要によ
り、保護層3、記録層2(親水性記録層2a、下層記録
層2b、親水性層2c)等の印刷版材料を構成する何れ
かの層に含有されてもよい。なお、光熱変換素材を含有
する層(光熱変換層4)を設ける場合の層厚は0.1〜
2μmが好ましい。
【0053】上記光熱変換素材のひとつとして、一般的
な赤外吸収色素(シアニン、フタロシアニン)が挙げら
れる。ただし、水溶性の色素を層中に添加すると層全体
の耐水性、耐久性が低下するため好ましくない。また水
不溶性の色素を添加する場合は水系分散液中に固体色素
を極微粒子状に均一に分散させることが困難であり、凝
集した状態の色素では光熱変換効率が悪く、また、印刷
時の汚れの原因となる。
な赤外吸収色素(シアニン、フタロシアニン)が挙げら
れる。ただし、水溶性の色素を層中に添加すると層全体
の耐水性、耐久性が低下するため好ましくない。また水
不溶性の色素を添加する場合は水系分散液中に固体色素
を極微粒子状に均一に分散させることが困難であり、凝
集した状態の色素では光熱変換効率が悪く、また、印刷
時の汚れの原因となる。
【0054】赤外部に吸収を有する光熱変換材の中で
も、素材自体が導電性を有する素材であることが好まし
く、半導体であっても良い。このような素材としては、
金属、導電性カーボン、グラファイト、導電性金属酸化
物等が挙げられる。これらの中でも特に導電性金属酸化
物が好ましい。金属としては、粒径が0.5μm以下、
好ましくは0.1μm以下、さらに好ましくは0.05
μm以下の微粒子であれば、いずれの金属であっても使
用することができる。形状としては、球状、片状、針状
等いずれの形状でも良い。特にコロイド状金属微粒子
(Ag、Au等)が好ましい。
も、素材自体が導電性を有する素材であることが好まし
く、半導体であっても良い。このような素材としては、
金属、導電性カーボン、グラファイト、導電性金属酸化
物等が挙げられる。これらの中でも特に導電性金属酸化
物が好ましい。金属としては、粒径が0.5μm以下、
好ましくは0.1μm以下、さらに好ましくは0.05
μm以下の微粒子であれば、いずれの金属であっても使
用することができる。形状としては、球状、片状、針状
等いずれの形状でも良い。特にコロイド状金属微粒子
(Ag、Au等)が好ましい。
【0055】導電性カーボンとしては特にファーネスブ
ラックやアセチレンブラックの使用が好ましい。粒度
(d50)は100nm以下であることが好ましく、50
nm以下であることがさらに好ましい。また、下式で示
される導電性指標が30以上であることが好ましく、5
0以上であることがさらに好ましい。 導電性指標=(比表面積m2/g×DBP吸油量ml/
100g)1/2/(1+揮発分) グラファイトとしては、粒径が0.5μm以下、好まし
くは0.1μm以下、さらに好ましくは0.05μm以
下の微粒子を使用することができる。
ラックやアセチレンブラックの使用が好ましい。粒度
(d50)は100nm以下であることが好ましく、50
nm以下であることがさらに好ましい。また、下式で示
される導電性指標が30以上であることが好ましく、5
0以上であることがさらに好ましい。 導電性指標=(比表面積m2/g×DBP吸油量ml/
100g)1/2/(1+揮発分) グラファイトとしては、粒径が0.5μm以下、好まし
くは0.1μm以下、さらに好ましくは0.05μm以
下の微粒子を使用することができる。
【0056】導電性(もしくは半導体)金属酸化物とし
ては、ZnO、AlをドープしたZnO、SnO2、S
bをドープしたSnO2(ATO)、Snを添加したI
n2O3(ITO)、TiO2、TiO2を還元したTiO
(酸化窒化チタン、一般的にはチタンブラック)などが
挙げられる。また、これらの金属酸化物で心材(BaS
O4、TiO2、9Al2O3・2B2O、K2O・nTiO
2等)を被覆したものも使用することができる。これら
の粒径は、0.5μm以下、好ましくは100nm以
下、さらに好ましくは50nm以下である。これらのな
かではチタンブラックが特に好ましい。
ては、ZnO、AlをドープしたZnO、SnO2、S
bをドープしたSnO2(ATO)、Snを添加したI
n2O3(ITO)、TiO2、TiO2を還元したTiO
(酸化窒化チタン、一般的にはチタンブラック)などが
挙げられる。また、これらの金属酸化物で心材(BaS
O4、TiO2、9Al2O3・2B2O、K2O・nTiO
2等)を被覆したものも使用することができる。これら
の粒径は、0.5μm以下、好ましくは100nm以
下、さらに好ましくは50nm以下である。これらのな
かではチタンブラックが特に好ましい。
【0057】また、これらの光熱変換素材は2種以上を
併用することが可能である。また、これらの光熱変換素
材の層中での分散の程度が光熱変換効率に密接に関連し
ており、より高度に分散させることが光熱変換素材含有
量あたりの発熱量を上げることになり、より少ない添加
量で高感度を達成可能となる。分散方法としては一般的
な混練、分散方法が使用可能であり、分散剤を含有させ
ることもできる。
併用することが可能である。また、これらの光熱変換素
材の層中での分散の程度が光熱変換効率に密接に関連し
ており、より高度に分散させることが光熱変換素材含有
量あたりの発熱量を上げることになり、より少ない添加
量で高感度を達成可能となる。分散方法としては一般的
な混練、分散方法が使用可能であり、分散剤を含有させ
ることもできる。
【0058】なお、光熱変換素材を含有する層4を構成
する場合の該光熱変換素材の含有量は1〜90質量%、
より好ましくは2〜80質量%である。またその他の層
に含有する場合の含有量は、30質量%以下が好まし
い。分散方法としては一般的な混練、分散方法が使用可
能であり、分散剤を含有させることもできる。さらに、
これらの光熱変換素材は、心材粒子表面に薄く被覆して
使用することが可能である。被覆方法としては、一般的
なマイクロカプセルの形成方法を利用して被覆すること
が可能である。例えば、近藤保・小石真純共著の「マイ
クロカプセル−その製法・性質・応用」(1985年三
共出版株式会社)に記載されているか、引用されている
文献に記載されている種々の方法が利用可能であるが、
これに限るものではない。その中でも以下に挙げる方法
が適している。 《スプレー乾燥法》結合剤及び溶媒を適宜選択して光熱
変換素材の分散液を用意する。分散工程は通常の混練、
分散方法を利用でき、被覆分のみの分散であるため高効
率であり、また、目的の機能を発揮する層として必要と
される結合剤、溶媒とは異なったものを使用することが
できる利点もある。例えば溶剤系の塗布層に添加する被
覆粒子を水系分散液で作成するといったことが挙げられ
る。この分散液に心材粒子を均一に懸濁させ、これを噴
霧乾燥して被覆粒子を得る。この工程は例えば一般的に
使用されているスプレードライ造粒装置を使用して行う
ことができる。
する場合の該光熱変換素材の含有量は1〜90質量%、
より好ましくは2〜80質量%である。またその他の層
に含有する場合の含有量は、30質量%以下が好まし
い。分散方法としては一般的な混練、分散方法が使用可
能であり、分散剤を含有させることもできる。さらに、
これらの光熱変換素材は、心材粒子表面に薄く被覆して
使用することが可能である。被覆方法としては、一般的
なマイクロカプセルの形成方法を利用して被覆すること
が可能である。例えば、近藤保・小石真純共著の「マイ
クロカプセル−その製法・性質・応用」(1985年三
共出版株式会社)に記載されているか、引用されている
文献に記載されている種々の方法が利用可能であるが、
これに限るものではない。その中でも以下に挙げる方法
が適している。 《スプレー乾燥法》結合剤及び溶媒を適宜選択して光熱
変換素材の分散液を用意する。分散工程は通常の混練、
分散方法を利用でき、被覆分のみの分散であるため高効
率であり、また、目的の機能を発揮する層として必要と
される結合剤、溶媒とは異なったものを使用することが
できる利点もある。例えば溶剤系の塗布層に添加する被
覆粒子を水系分散液で作成するといったことが挙げられ
る。この分散液に心材粒子を均一に懸濁させ、これを噴
霧乾燥して被覆粒子を得る。この工程は例えば一般的に
使用されているスプレードライ造粒装置を使用して行う
ことができる。
【0059】光熱変換素材分散液の濃度は0.1〜10
質量%が好ましく、心材粒子の懸濁濃度は10〜50質
量%であることが好ましい。 《乾式分散法》心材粒子と被覆素材とを衝突させて、静
電気力や物理的食込み等で心材表面に被覆素材を固定さ
せる方法である。この方法においては、物理的衝撃で心
材粒子自体が破砕しないことが好ましく、特にナイロ
ン、PMMA、シリコーン、テフロンといった有機粒子
を心材として用いる場合に適している。
質量%が好ましく、心材粒子の懸濁濃度は10〜50質
量%であることが好ましい。 《乾式分散法》心材粒子と被覆素材とを衝突させて、静
電気力や物理的食込み等で心材表面に被覆素材を固定さ
せる方法である。この方法においては、物理的衝撃で心
材粒子自体が破砕しないことが好ましく、特にナイロ
ン、PMMA、シリコーン、テフロンといった有機粒子
を心材として用いる場合に適している。
【0060】被覆は例えばサンドグラインダー、ボール
ミル等の分散機を使用して行うことができる。また、分
散ビーズを用いない高速気流中衝撃法である奈良機械製
作所製のハイブリタイザーのような装置を使用すると、
被覆粒子の回収が容易となり好ましい。分散ビーズ(ガ
ラス、セラミック等)を用いた場合の処理は、例えば回
転数300〜2000rpmで5〜60分の処理時間で
被覆を行う。ハイブリタイザーを使用した場合は、周速
50〜150m/secで、1〜20分の処理時間で被
覆を行う。
ミル等の分散機を使用して行うことができる。また、分
散ビーズを用いない高速気流中衝撃法である奈良機械製
作所製のハイブリタイザーのような装置を使用すると、
被覆粒子の回収が容易となり好ましい。分散ビーズ(ガ
ラス、セラミック等)を用いた場合の処理は、例えば回
転数300〜2000rpmで5〜60分の処理時間で
被覆を行う。ハイブリタイザーを使用した場合は、周速
50〜150m/secで、1〜20分の処理時間で被
覆を行う。
【0061】一般にチタンブラックは塗布液中に均一に
分散させることが困難であり、混練等の前分散を必要と
するが、心材として数μm径の有機粒子(PMMA、テ
フロン、アルギン酸Ca等)と同時に乾式で分散するこ
とにより、物理的食込み、静電的吸着により心材粒子表
面に薄く固着/被覆し、被覆された粒子自体は塗布液中
での分散が容易であることから、効率的に高度にチタン
ブラックが分散した光熱変換機能を有する層を形成する
ことが可能となる。
分散させることが困難であり、混練等の前分散を必要と
するが、心材として数μm径の有機粒子(PMMA、テ
フロン、アルギン酸Ca等)と同時に乾式で分散するこ
とにより、物理的食込み、静電的吸着により心材粒子表
面に薄く固着/被覆し、被覆された粒子自体は塗布液中
での分散が容易であることから、効率的に高度にチタン
ブラックが分散した光熱変換機能を有する層を形成する
ことが可能となる。
【0062】本発明の印刷版材料の記録層2(親水性記
録層2a、下層記録層2b、親水性層2c)等に光熱変
換素材を添加する場合は、特に導電性金属酸化物を使用
することが好ましい。上記記録層2中に導電性金属酸化
物を含有させることで、層中の極性成分が増加し、親水
性が向上する。 〈基材〉基材としては、印刷版の基板として使用される
公知の材料を使用することができる。例えば、金属板、
プラスチックフィルム、ポリオレフィン等で処理された
紙、上記材料を適宜貼り合わせた複合基材等が挙げられ
る。基材の厚さとしては、印刷機に取り付け可能であれ
ば特に制限されるものではないが、50〜500μmの
ものが一般的に取り扱いやすい。
録層2a、下層記録層2b、親水性層2c)等に光熱変
換素材を添加する場合は、特に導電性金属酸化物を使用
することが好ましい。上記記録層2中に導電性金属酸化
物を含有させることで、層中の極性成分が増加し、親水
性が向上する。 〈基材〉基材としては、印刷版の基板として使用される
公知の材料を使用することができる。例えば、金属板、
プラスチックフィルム、ポリオレフィン等で処理された
紙、上記材料を適宜貼り合わせた複合基材等が挙げられ
る。基材の厚さとしては、印刷機に取り付け可能であれ
ば特に制限されるものではないが、50〜500μmの
ものが一般的に取り扱いやすい。
【0063】金属板としては、鉄、ステンレス、アルミ
ニウム等が挙げられるが、比重と剛性との関係から特に
アルミニウムが好ましい。アルミニウム板は、通常その
表面に存在する圧延・巻取り時に使用されたオイルを除
去するためにアルカリ、酸、溶剤等で脱脂した後に使用
される。脱脂処理としては特にアルカリ水溶液による脱
脂が好ましい。また、塗布層との接着性を向上させるた
めに、塗布面に易接着処理や下引き層塗布を行うことが
好ましい。例えば、ケイ酸塩やシランカップリング剤等
のカップリング剤を含有する液に浸漬するか、液を塗布
した後、十分な乾燥を行う方法が挙げられる。陽極酸化
処理も易接着処理の一種と考えられ、使用することがで
きる。また、陽極酸化処理と上記浸漬または塗布処理を
組合わせて使用することもできる。また、公知の方法で
粗面化されたアルミニウム板を使用することもできる。
ニウム等が挙げられるが、比重と剛性との関係から特に
アルミニウムが好ましい。アルミニウム板は、通常その
表面に存在する圧延・巻取り時に使用されたオイルを除
去するためにアルカリ、酸、溶剤等で脱脂した後に使用
される。脱脂処理としては特にアルカリ水溶液による脱
脂が好ましい。また、塗布層との接着性を向上させるた
めに、塗布面に易接着処理や下引き層塗布を行うことが
好ましい。例えば、ケイ酸塩やシランカップリング剤等
のカップリング剤を含有する液に浸漬するか、液を塗布
した後、十分な乾燥を行う方法が挙げられる。陽極酸化
処理も易接着処理の一種と考えられ、使用することがで
きる。また、陽極酸化処理と上記浸漬または塗布処理を
組合わせて使用することもできる。また、公知の方法で
粗面化されたアルミニウム板を使用することもできる。
【0064】プラスチックフィルムとしては、ポリエチ
レンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリ
イミド、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリスルホ
ン、ポリフェニレンオキサイド、セルロースエステル類
等を挙げることができる。特にポリエチレンテレフタレ
ート、ポリエチレンナフタレートが好ましい。これらプ
ラスチックフィルムは塗布層との接着性を向上させるた
めに、塗布面に易接着処理や下引き層の塗布を行うこと
が好ましい。易接着処理としては、コロナ放電処理や火
炎処理、プラズマ処理、紫外線照射処理等が挙げられ
る。また、下引き層としては、ゼラチンやラテックスを
含む層等が挙げられる。
レンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリ
イミド、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリスルホ
ン、ポリフェニレンオキサイド、セルロースエステル類
等を挙げることができる。特にポリエチレンテレフタレ
ート、ポリエチレンナフタレートが好ましい。これらプ
ラスチックフィルムは塗布層との接着性を向上させるた
めに、塗布面に易接着処理や下引き層の塗布を行うこと
が好ましい。易接着処理としては、コロナ放電処理や火
炎処理、プラズマ処理、紫外線照射処理等が挙げられ
る。また、下引き層としては、ゼラチンやラテックスを
含む層等が挙げられる。
【0065】また、複合基材としては、上記材料を適宜
貼り合わせて使用するが、記録層2を形成する前に貼り
合わせても良く、また、記録層2を形成した後に貼り合
わせても良く、印刷機に取り付ける直前に貼り合わせて
もよい。 〈第2保護層〉本発明の印刷版材料の各層の構成は以上
のようであるが、本発明の擦り傷防止効果をより大なら
しめるため、層状鉱物粒子を含有する保護層3の表面に
さらに第2の保護層を設けることができる。上記第2の
保護層には水溶性樹脂、例えばポリビニルアルコール、
カルボキシメチルセルロース等の水溶液を好ましくは
0.01〜1μm厚に塗布加工するか、該水溶性樹脂の
水溶液中に層状鉱物粒子を分散含有させた分散液を同様
に塗布加工して得られる。なお、上記層状鉱物粒子の含
有量は第2の保護層中0.01〜10質量%が好まし
い。 〈各層の塗布/乾燥方法/その他〉一般的な塗布方法が
使用可能である。
貼り合わせて使用するが、記録層2を形成する前に貼り
合わせても良く、また、記録層2を形成した後に貼り合
わせても良く、印刷機に取り付ける直前に貼り合わせて
もよい。 〈第2保護層〉本発明の印刷版材料の各層の構成は以上
のようであるが、本発明の擦り傷防止効果をより大なら
しめるため、層状鉱物粒子を含有する保護層3の表面に
さらに第2の保護層を設けることができる。上記第2の
保護層には水溶性樹脂、例えばポリビニルアルコール、
カルボキシメチルセルロース等の水溶液を好ましくは
0.01〜1μm厚に塗布加工するか、該水溶性樹脂の
水溶液中に層状鉱物粒子を分散含有させた分散液を同様
に塗布加工して得られる。なお、上記層状鉱物粒子の含
有量は第2の保護層中0.01〜10質量%が好まし
い。 〈各層の塗布/乾燥方法/その他〉一般的な塗布方法が
使用可能である。
【0066】特に熱溶融素材を含有する記録層2(特に
親水性記録層2a及び記録層2b)の塗布乾燥時、及び
基材上に該記録層2が形成された後のその他の層の塗布
乾燥時は、熱溶融素材の融点以下の温度で乾燥させるこ
とが好ましく、融点以上の温度で乾燥させる場合も1分
以下の短時間での乾燥が好ましい。また、塗布乾燥後に
適宜エイジング処理を行うこともできる。エイジング処
理は乾燥雰囲気、40〜70℃で6〜200時間行うこ
とが好ましい。 〈可視画性の付与方法〉何れかの層に露光可視画性を示
すような素材を添加することができる。例えば、感熱紙
に使用されている公知の技術を適用することができる。
親水性記録層2a及び記録層2b)の塗布乾燥時、及び
基材上に該記録層2が形成された後のその他の層の塗布
乾燥時は、熱溶融素材の融点以下の温度で乾燥させるこ
とが好ましく、融点以上の温度で乾燥させる場合も1分
以下の短時間での乾燥が好ましい。また、塗布乾燥後に
適宜エイジング処理を行うこともできる。エイジング処
理は乾燥雰囲気、40〜70℃で6〜200時間行うこ
とが好ましい。 〈可視画性の付与方法〉何れかの層に露光可視画性を示
すような素材を添加することができる。例えば、感熱紙
に使用されている公知の技術を適用することができる。
【0067】また、露光加熱により層の光透過性や光散
乱性を変化させることで、露光部と未露光部との識別性
を付与してもよい。 〈露光方法〉近赤外線レーザー(800〜850nm)
による露光が好ましい。サーマルCTP用の一般的な露
光機が使用できる。露光エネルギーは100〜500m
J/cm2が好ましい。
乱性を変化させることで、露光部と未露光部との識別性
を付与してもよい。 〈露光方法〉近赤外線レーザー(800〜850nm)
による露光が好ましい。サーマルCTP用の一般的な露
光機が使用できる。露光エネルギーは100〜500m
J/cm2が好ましい。
【0068】
【実施例】以下、本発明を実施例により具体的に説明す
るが本発明はこれにより限定されるものではない。 〔光熱変換素材被覆粒子懸濁液の製造〕心材粒子の表面
をサンドグラインダーとガラスビーズ(ハイビー20)
を用いた乾式法により光熱変換素材及びその他の素材で
被覆した。ディスクの回転数は800rpmとした。心
材粒子および被覆素材、処理時間を表1に示した。
るが本発明はこれにより限定されるものではない。 〔光熱変換素材被覆粒子懸濁液の製造〕心材粒子の表面
をサンドグラインダーとガラスビーズ(ハイビー20)
を用いた乾式法により光熱変換素材及びその他の素材で
被覆した。ディスクの回転数は800rpmとした。心
材粒子および被覆素材、処理時間を表1に示した。
【0069】また、被覆した粒子は、サンドグラインダ
ーにさらに純水を加えて攪拌し、ガラスビーズと分離し
て、表1に示す10質量%の被覆粒子懸濁液[1−1]
及び[1−2]を塗布液[1]グループとして調製し
た。
ーにさらに純水を加えて攪拌し、ガラスビーズと分離し
て、表1に示す10質量%の被覆粒子懸濁液[1−1]
及び[1−2]を塗布液[1]グループとして調製し
た。
【0070】
【表1】
【0071】〔塗布液の製造〕塗布液[2]グループ
(塗布液[2−1]、[2−2]、[2−3]、[2−
4]、[2−5]、[2−6])、塗布液[3]グルー
プ(塗布液[3−1]、[3−2]、[3−3]、[3
−4])及び塗布液[4]グループ(塗布液[4−
1]、[4−2]、[4−3]、[4−4]、[4−
5]、[4−6]、[4−7])を下記表2、表3、表
4及び表5に示す組成、分散、ろ過の手順でそれぞれ調
液した。
(塗布液[2−1]、[2−2]、[2−3]、[2−
4]、[2−5]、[2−6])、塗布液[3]グルー
プ(塗布液[3−1]、[3−2]、[3−3]、[3
−4])及び塗布液[4]グループ(塗布液[4−
1]、[4−2]、[4−3]、[4−4]、[4−
5]、[4−6]、[4−7])を下記表2、表3、表
4及び表5に示す組成、分散、ろ過の手順でそれぞれ調
液した。
【0072】
【表2】
【0073】
【表3】
【0074】
【表4】
【0075】
【表5】
【0076】〔基材〕基材として下記2種類のアルミニ
ウム基材1、アルミニウム基材2及びPET(ポリエチ
レンテレフタレート)基材を調製した。 〈アルミニウム基材1〉厚さ0.24mmの1050材
アルミニウム基材を2質量%水酸化Na水溶液に50℃
で30秒間浸漬して脱脂した。これを十分に水洗した
後、20質量%硫酸水溶液を用い、25℃で20Vの電
圧で陽極酸化処理して、0.5g/m2の陽極酸化皮膜
を形成した。十分に水洗した後、2質量%3号ケイ酸N
a水溶液に70℃で30秒間浸漬処理し、水洗した後、
十分に乾燥してアルミニウム基材1を得た。 〈アルミニウム基材2〉アルミニウム基材1と同様にし
て陽極酸化皮膜を形成したアルミニウム基材表面に、特
開平8−240914号公報の実施例1に記載されてい
る方法により有機−無機ゾルゲル皮膜を形成してアルミ
ニウム基材2を得た。 〈PET基材〉 《第1下引き層塗布》PET基材の塗布面にコロナ放電
処理を施した後、下記組成の第一下引き層塗布液を20
℃、相対湿度55%の雰囲気下でワイヤーバーにより塗
布し、140℃で2分間乾燥して0.4μmの膜厚の第
1下引き層を形成した。 (第1下引き層組成) アクリルラテックス粒子:n−ブチルアクリレート/t−ブチルアクリレート /スチレン/ヒドロキシエチルメタクリレート=28/22/25/25 36.9g 界面活性剤(A) 0.36g 硬膜剤(a) 0.98g 以上に蒸留水を加えて1000mlとし、塗布液とし
た。 (第2下引き層塗布)上記PET基材の第1下引き層を
形成した面にコロナ放電処理を施した後、下記第2下引
き層塗布液を、35℃、相対湿度22%の雰囲気下でエ
アーナイフ方式により塗布し、140℃で2分間乾燥し
て0.1μm厚の第2下引き層を形成した。 (第2下引き層組成) ゼラチン 9.6g 界面活性剤(A) 0.4g 硬膜剤(b) 0.1g 以上に蒸留水を加えて1000mlとし、塗布液とし
た。
ウム基材1、アルミニウム基材2及びPET(ポリエチ
レンテレフタレート)基材を調製した。 〈アルミニウム基材1〉厚さ0.24mmの1050材
アルミニウム基材を2質量%水酸化Na水溶液に50℃
で30秒間浸漬して脱脂した。これを十分に水洗した
後、20質量%硫酸水溶液を用い、25℃で20Vの電
圧で陽極酸化処理して、0.5g/m2の陽極酸化皮膜
を形成した。十分に水洗した後、2質量%3号ケイ酸N
a水溶液に70℃で30秒間浸漬処理し、水洗した後、
十分に乾燥してアルミニウム基材1を得た。 〈アルミニウム基材2〉アルミニウム基材1と同様にし
て陽極酸化皮膜を形成したアルミニウム基材表面に、特
開平8−240914号公報の実施例1に記載されてい
る方法により有機−無機ゾルゲル皮膜を形成してアルミ
ニウム基材2を得た。 〈PET基材〉 《第1下引き層塗布》PET基材の塗布面にコロナ放電
処理を施した後、下記組成の第一下引き層塗布液を20
℃、相対湿度55%の雰囲気下でワイヤーバーにより塗
布し、140℃で2分間乾燥して0.4μmの膜厚の第
1下引き層を形成した。 (第1下引き層組成) アクリルラテックス粒子:n−ブチルアクリレート/t−ブチルアクリレート /スチレン/ヒドロキシエチルメタクリレート=28/22/25/25 36.9g 界面活性剤(A) 0.36g 硬膜剤(a) 0.98g 以上に蒸留水を加えて1000mlとし、塗布液とし
た。 (第2下引き層塗布)上記PET基材の第1下引き層を
形成した面にコロナ放電処理を施した後、下記第2下引
き層塗布液を、35℃、相対湿度22%の雰囲気下でエ
アーナイフ方式により塗布し、140℃で2分間乾燥し
て0.1μm厚の第2下引き層を形成した。 (第2下引き層組成) ゼラチン 9.6g 界面活性剤(A) 0.4g 硬膜剤(b) 0.1g 以上に蒸留水を加えて1000mlとし、塗布液とし
た。
【0077】
【化1】
【0078】実施例1〜12及び比較例1〜4 〈印刷版材料の作製〉表6及び7に示す基材及び層構成
(光熱変換素材を含有する下層、熱溶融性素材を含有す
る記録層、親水性層、層状鉱物粒子を含有する保護層、
第2保護層)で印刷版材料を作製した。各層はワイヤー
バーを用いて指定の付量となるように塗布した後、70
℃で3分間乾燥した。また、得られた印刷版材料は相対
湿度30%、55℃の条件で48時間エイジングを行
い、実施例1〜12及び比較例1〜4の16種類の印刷
版材料を得た。 〈赤外線レーザー露光による印刷版の作製〉得られた1
6種類の印刷版材料を画像形成層を外側にしてレーザー
露光機のドラムに巻きつけ、830nmの赤外線レーザ
ーで4000dpiの解像度(レーザービーム径6μ
m)で露光エネルギー量を変化させながら画像様に露光
して、16種類の印刷版を調製した。 〈印刷方法〉 印刷機:三菱重工業株製「DAIYA1F−1」を用
い、コート紙、湿し水(東京インキ株製「H液SG−5
1、濃度1.5%」)、インキ(東洋インキ株製「トー
ヨーキングハイエコーM紅」)を使用し、かつ上記16
種類の印刷版を使用して印刷を行った。 〈感度評価方法〉目視判断でかすれのない良好な印刷画
像が得られた最低の露光エネルギー量を感度とし、測定
結果を表7に示した。 〈擦り傷耐性評価方法〉耐摩耗性試験機「HEIDON
−18」を用い、0.1mm径の触針で50g、100
g、150g、200gと荷重を変化させて、画像形成
後の印刷版非画像部表面を摺動させ、印刷時に汚れとし
て確認される摺動傷が何gの荷重で付けられたものであ
るか評価し、その結果を表7に示した。
(光熱変換素材を含有する下層、熱溶融性素材を含有す
る記録層、親水性層、層状鉱物粒子を含有する保護層、
第2保護層)で印刷版材料を作製した。各層はワイヤー
バーを用いて指定の付量となるように塗布した後、70
℃で3分間乾燥した。また、得られた印刷版材料は相対
湿度30%、55℃の条件で48時間エイジングを行
い、実施例1〜12及び比較例1〜4の16種類の印刷
版材料を得た。 〈赤外線レーザー露光による印刷版の作製〉得られた1
6種類の印刷版材料を画像形成層を外側にしてレーザー
露光機のドラムに巻きつけ、830nmの赤外線レーザ
ーで4000dpiの解像度(レーザービーム径6μ
m)で露光エネルギー量を変化させながら画像様に露光
して、16種類の印刷版を調製した。 〈印刷方法〉 印刷機:三菱重工業株製「DAIYA1F−1」を用
い、コート紙、湿し水(東京インキ株製「H液SG−5
1、濃度1.5%」)、インキ(東洋インキ株製「トー
ヨーキングハイエコーM紅」)を使用し、かつ上記16
種類の印刷版を使用して印刷を行った。 〈感度評価方法〉目視判断でかすれのない良好な印刷画
像が得られた最低の露光エネルギー量を感度とし、測定
結果を表7に示した。 〈擦り傷耐性評価方法〉耐摩耗性試験機「HEIDON
−18」を用い、0.1mm径の触針で50g、100
g、150g、200gと荷重を変化させて、画像形成
後の印刷版非画像部表面を摺動させ、印刷時に汚れとし
て確認される摺動傷が何gの荷重で付けられたものであ
るか評価し、その結果を表7に示した。
【0079】
【表6】
【0080】
【表7】
【0081】表6及び7より、実施例の印刷版材料を用
いた印刷版により画像形成を行った場合は高感度特性を
有し、かつ擦り傷耐性に優れていて汚れ発生がないが、
比較例の印刷版材料を用いた印刷版により画像形成を行
った場合は感度低下が大であるか、低荷重で擦り傷によ
る汚れ発生の何れかを生じていて、実用性に乏しいこと
が分かる。
いた印刷版により画像形成を行った場合は高感度特性を
有し、かつ擦り傷耐性に優れていて汚れ発生がないが、
比較例の印刷版材料を用いた印刷版により画像形成を行
った場合は感度低下が大であるか、低荷重で擦り傷によ
る汚れ発生の何れかを生じていて、実用性に乏しいこと
が分かる。
【0082】
【発明の効果】実施例により実証されたように、本発明
の印刷版材料及びその製造方法並びに該印刷版材料を用
いた印刷版の製造方法によれば、明室で取扱いが可能
で、赤外線レーザー照射により直接画像形成が可能であ
り、露光装置汚染の懸念がなく、現像処理が不要であ
り、さらに高感度で解像度も良好であり、擦り傷等によ
る汚れ発生のない等、優れた効果を有する。
の印刷版材料及びその製造方法並びに該印刷版材料を用
いた印刷版の製造方法によれば、明室で取扱いが可能
で、赤外線レーザー照射により直接画像形成が可能であ
り、露光装置汚染の懸念がなく、現像処理が不要であ
り、さらに高感度で解像度も良好であり、擦り傷等によ
る汚れ発生のない等、優れた効果を有する。
【図1】層構成を示す図である。
1 基材 2a 親水性記録層 2b 下層記録層 2c 親水性層 2d 複合記録層 3 保護層 4 光熱変換層
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2H025 AA01 AA02 AB03 AC08 AD01 AD03 CB53 CC20 DA01 DA29 DA36 DA40 FA03 2H096 AA07 AA08 BA16 BA20 CA20 EA04 2H114 AA04 AA22 AA24 BA01 DA04 DA15 DA25 DA43 DA56 DA79 EA01 EA02 GA05 GA09 GA34 GA38
Claims (13)
- 【請求項1】 基材上に基材側から順に、熱溶融性素材
を含有する層と、層状鉱物粒子を含有する層とを有する
ことを特徴とする印刷版材料。 - 【請求項2】 前記層状鉱物粒子を含有する層が、その
一部又は全部が画像形成後でかつ印刷前に、又は印刷時
に除去される層であることを特徴とする請求項1に記載
の印刷版材料。 - 【請求項3】 前記熱溶融性素材を含有する層と、層状
鉱物粒子を含有する層との間にさらに多孔質粒子を含有
する層を有することを特徴とする請求項1又は2に記載
の印刷版材料。 - 【請求項4】 前記基材と、熱溶融性素材を含有する層
との間にさらに少なくとも一層を有することを特徴とす
る請求項1〜3の何れか1項に記載の印刷版材料。 - 【請求項5】 前記層の何れかの一層又は複数の層が、
光熱変換素材を含有することを特徴とする請求項1〜4
の何れか1項に記載の印刷版材料。 - 【請求項6】 前記層状鉱物粒子のアスペクト比が、2
0以上であることを特徴とする請求項1〜5の何れか1
項に記載の印刷版材料。 - 【請求項7】 前記層状鉱物粒子が、水膨潤性平板状粘
土鉱物であることを特徴とする請求項1〜6の何れか1
項に記載の印刷版材料。 - 【請求項8】 前記層状鉱物粒子を含有する層が、さら
に水溶性樹脂及び/又は平均粒径100nm以下の金属
酸化物微粒子を含有することを特徴とする請求項1〜7
の何れか1項に記載の印刷版材料。 - 【請求項9】 前記層状鉱物粒子を含有する層が、さら
に多孔質粒子を含有することを特徴とする請求項1〜8
の何れか1項に記載の印刷版材料。 - 【請求項10】 前記層状鉱物粒子を含有する層が、さ
らに1〜10μmの粒子を含有することを特徴とする請
求項1〜9の何れか1項に記載の印刷版材料。 - 【請求項11】 前記請求項1〜10の何れか1項に記
載の印刷版材料を塗布加工法により製造することを特徴
とする印刷版材料の製造方法。 - 【請求項12】 基材上に基材側から順に、熱溶融性素
材を含有する層と、層状鉱物粒子を含有する層とを有す
る印刷版材料を用いた印刷版の製造方法において、画像
形成後に該層状鉱物粒子を含有する層の一部又は全部を
除去することを特徴とする印刷版の製造方法。 - 【請求項13】 前記層状鉱物粒子を含有する層の一部
又は全部の除去を、印刷機上で行うことを特徴とする請
求項12に記載の印刷版の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP29989699A JP2001113848A (ja) | 1999-10-21 | 1999-10-21 | 印刷版材料及びその製造方法並びに印刷版の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP29989699A JP2001113848A (ja) | 1999-10-21 | 1999-10-21 | 印刷版材料及びその製造方法並びに印刷版の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001113848A true JP2001113848A (ja) | 2001-04-24 |
Family
ID=17878253
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP29989699A Pending JP2001113848A (ja) | 1999-10-21 | 1999-10-21 | 印刷版材料及びその製造方法並びに印刷版の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2001113848A (ja) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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1999
- 1999-10-21 JP JP29989699A patent/JP2001113848A/ja active Pending
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