JP2001096937A - 印刷版用支持体及びその製造方法並びに印刷版及びその製造方法 - Google Patents

印刷版用支持体及びその製造方法並びに印刷版及びその製造方法

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JP2001096937A
JP2001096937A JP27660799A JP27660799A JP2001096937A JP 2001096937 A JP2001096937 A JP 2001096937A JP 27660799 A JP27660799 A JP 27660799A JP 27660799 A JP27660799 A JP 27660799A JP 2001096937 A JP2001096937 A JP 2001096937A
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hydrophilic layer
printing plate
particles
layer
producing
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JP27660799A
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Takahiro Mori
孝博 森
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Konica Minolta Inc
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  • Manufacture Or Reproduction Of Printing Formes (AREA)
  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 印刷適性(水量ラチチュード)、地汚れ及び
ブランケット汚れが改善される印刷版用支持体及び印刷
版とそれらの製造方法を提供する。改善された感度を有
する熱溶融性素材(ワックスなど)を含有する画像記録
層を使用した印刷版とその製造方法を提供する。 【解決手段】 基材上に親水性層を有する印刷版用支
持体において、該親水性層が、平均で0.2〜50μm
のピッチで平均膜厚よりも膜厚が薄い領域(ピット形状
等)を有する。基材上に親水性層を形成した後に、該
親水性層を部分的に除去することで、上記領域を形成す
る印刷版用支持体の製造方法。基材上に平均粒径0.
2〜10μmの粒子を含有する親水性層を形成した後
に、該親水性層の一部を除去することによって該親水性
層表面にピット形状を形成する。基材上に、画像記録
層と親水性層を有する印刷版において、該親水性層が上
記領域を有する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はCTP(Compu
ter to Plate)システムに適する印刷版用
支持体及びその製造方法並びに印刷版及びその製造方法
に関し、さらに具体的には、湿し水を用いて印刷する印
刷版の非画像部の保水性の改良、及びワックス含有画像
層を使用する印刷版の感度の改良に関する。なお、本明
細書において印刷版とは、平版印刷版を意味し、また通
常の印刷版の他に、基材上に画像記録層を有し像様露光
等を行って印刷版となる印刷版作製材料を意味する。
【0002】
【従来の技術】印刷データのデジタル化に伴い、安価で
取り扱いが容易でPS版と同等の印刷適性を有したCT
Pシステムに適した材料や方法が求められている。特に
近年、インクジェット記録方式によるCTPや、赤外線
レーザー記録による種々の方式のCTPが提案されてい
る。
【0003】インクジェット方式によるCTPに用いら
れる印刷版の支持体としては、従来のPS版に用いられ
ているアルミ砂目を使用する場合も考えられているが、
生産適性やコストダウンのために、基材上に親水性層を
設けた支持体が数多く提案されている。
【0004】また、赤外線レーザー記録による種々の方
式のCTP用印刷版の中でも特別な現像処理を必要とし
ない、いわゆるドライCTP(印刷機上での現像を含
む)といわれる印刷版材料が注目されている。この種の
ものとして、たとえば、特表平8−507727号、特
開平6−186750号、特開平6−199064号、
特開平7−314934号各公報等に記載されているも
のが挙げられる。
【0005】特開平6−186750号公報には、イン
ク又はインク付着防止液体に対して親和性の異なる第1
層及び第2層を有するプレートを赤外線レーザーで走査
し、これらの層の1層以上をアブレーションにより除去
して画像を形成する方法及び装置が開示されている。
【0006】特開平6−199064号公報には、赤外
線吸収層である上層第1層と、その下層である第2層と
を基体上に有するか、上層第1層と、その下層である赤
外線吸収層である第2層とを有し、該1層及び該2層が
インク又はインク付着防止液に対して異なる親和性を示
し、アブレーションにより画像を形成するレーザー記録
用平版印刷版材料が開示されている。
【0007】特開平7−314934号公報には、アブ
レーションしない最上層と、アブレーションするチタン
又はチタン合金薄層金属層と、基体とを有し、上記最上
層及び基体がインク又はインク不溶性流体に対して異な
る親和性を示すレーザー記録用印刷部材とアブレーショ
ンにより画像形成する方法が開示されている。
【0008】特開平10−58636号には、基板上に
レーザー感応性の親水性膨潤層(好ましくは色顔料また
は黒色染料を含有する)を有し、レーザー照射で該親水
性膨潤層をアブレーションにより除去しインク着肉画像
を形成する平版印刷版原版が開示されている。
【0009】しかし、これらの技術によって得られた印
刷版はいずれも満足のいく印刷適性を有しておらず、特
に湿し水を使用するタイプの印刷版では、親水性層の表
面形状が特に考慮されておらず、アルミ砂目を使用した
PS版に対して、印刷ラチチュード狭く、ブランケット
汚れや汚し回復性といった汚れ性も劣っている。
【0010】湿し水を使用する印刷での印刷ラチチュー
ドを改善するために、特開平10−58636号では、
基板上にレーザー感応性の親水性膨潤層を設けることを
提案しているが、膨潤する層は耐久性が低く、印刷初期
の印刷ラチチュードを改善することができたとしても、
その性能を維持していくことが困難であり、また、膨潤
層自体にインクエマルジョンが浸透してその親水性を低
下させ、印刷汚れとなる懸念を有している。
【0011】一方、CTP用材料として、マイクロカプ
セル化された親油性成分と親水性バインダーポリマーと
を含有する親水性層を支持体上に有する感熱平版印刷原
版を露光により露光部表面がカプセルから放出される親
油性成分で親油化されることにより平版印刷版が得られ
る技術が開示されている(特開平7−1849号公
報)。しかし、該印刷原版は感度が実用上十分ではな
い。
【0012】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、第1
に印刷適性(水量ラチチュード)、地汚れ及びブランケ
ット汚れが改善される印刷版用支持体及びその製造方法
並びに印刷版及びその製造方法を提供することであり、
第2に、改善された感度を有する熱溶融性素材(ワック
スなど)含有画像層を使用した印刷版とその製造方法を
提供することである。
【0013】
【課題を解決するための手段】本発明者は、鋭意検討の
結果、上記の問題を解決し、湿し水を使用する印刷での
印刷ラチチュードが広く、かつ、ブランケット汚れや汚
し回復性に優れた、インクジェット記録もしくは溶融熱
転写等で画像を形成するCTPに適した印刷版用支持体
とその製造方法、及び赤外線レーザー記録方式のCTP
に適した熱溶融性素材を含有する印刷版とその製造方法
を見出すにいたったものである。
【0014】上記目的を達成する本発明の構成は下記
(1)〜(28)である。
【0015】(1)基材上に親水性層を有する印刷版用
支持体において、該親水性層が、平均で0.2〜50μ
mのピッチで平均膜厚よりも膜厚が薄い領域を有するこ
とを特徴とする印刷版用支持体。
【0016】(2)領域がピット形状を有することを特
徴とする上記(1)に記載の印刷版用支持体。
【0017】(3)基材上に親水性層を形成した後に、
該親水性層を部分的に除去することで、平均で0.2〜
50μmのピッチで該親水性層の平均膜厚よりも膜厚が
薄い領域を形成することを特徴とする印刷版用支持体の
製造方法。
【0018】(4)基材上に平均粒径0.2〜10μm
の粒子を含有する親水性層を形成した後に、該親水性層
中の粒子を含む層の一部を除去することによって該親水
性層表面にピット形状を形成することを特徴とする印刷
版用支持体の製造方法。
【0019】(5)親水性層中に含有する平均粒径0.
2〜10μmの粒子が該親水性層全体の20〜90wt
%であることを特徴とする上記(4)に記載の印刷版用
支持体の製造方法。
【0020】(6)親水性層中に含有する平均粒径0.
2〜10μmの粒子が多孔質無機粒子、非多孔質有機粒
子及び多孔質有機粒子から選ばれる少なくとも一種を含
むことを特徴とする上記(4)に記載の印刷版用支持体
の製造方法。
【0021】(7)多孔質有機粒子として多孔性多糖類
粒子を含むことを特徴とする上記(4)に記載の印刷版
用支持体の製造方法。
【0022】(8)親水性層が含有する平均粒径0.2
〜10μmの粒子が該親水性層用塗布液中に分散してい
る状態から、塗布層中で乾燥する過程において、その粒
径が収縮することを特徴とする上記(4)に記載の印刷
版用支持体の製造方法。
【0023】(9)基材上に、画像記録層と親水性層を
有する印刷版において、該親水性層が、平均で0.2〜
50μmのピッチで該親水性層の平均膜厚よりも膜厚が
薄い領域を有することを特徴とする印刷版。
【0024】(10)領域がピット形状を有することを
特徴とする上記(9)に記載の印刷版。
【0025】(11)基材上に順に、画像記録層と、平
均粒径0.2〜10μmの粒子を含有する親水性層を有
することを特徴とする印刷版。
【0026】(12)画像記録層がインク受容性の熱溶
融性素材を含有し、かつ、基材上のいずれかの層に光熱
変換素材を含有することを特徴とする上記(9)〜(1
1)のいずれか1項に記載の印刷版。
【0027】(13)画像記録層が光熱変換素材を含有
することを特徴とする上記(9)〜(11)のいずれか
1項に記載の印刷版。
【0028】(14)画像記録層が赤外線若しくは近赤
外線を吸収して、その一部若しくは全部を破壊すること
を特徴とする上記(9)〜(11)のいずれか1項に記
載の印刷版。
【0029】(15)親水性層中に含有する平均粒径
0.2〜10μmの粒子が該親水性層全体の20〜90
wt%であることを特徴とする上記(11)に記載の印
刷版。
【0030】(16)親水性層中に含有する平均粒径
0.2〜10μmの粒子が多孔質無機粒子、非多孔質有
機粒子及び多孔質有機粒子から選ばれる少なくとも一種
を含むことを特徴とする上記(11)に記載の印刷版。
【0031】(17)多孔質有機粒子として多孔性多糖
類粒子を含むことを特徴とする上記(11)に記載の印
刷版。
【0032】(18)基材上に順に、画像記録層と親水
性層を形成した後に、該親水性層を部分的に除去するこ
とで、該親水性層に、平均で1〜50μmのピッチで該
親水性層の平均膜厚よりも膜厚が薄い領域を形成するこ
とを特徴とする印刷版の製造方法。
【0033】(19)基材上に順に、画像記録層と、平
均粒径0.2〜10μmの粒子を含有する親水性層を形
成した後に、該親水性層中の該粒子を含む層の一部を除
去することによって該親水性層表面にピット形状を形成
することを特徴とする印刷版の製造方法。
【0034】(20)親水性層中に含有する平均粒径
0.2〜10μmの粒子が該親水性層全体の20〜90
wt%であることを特徴とする上記(19)に記載の印
刷版の製造方法。
【0035】(21)親水性層中に含有する平均粒径
0.2〜10μmの粒子が多孔質無機粒子、非多孔質有
機粒子及び多孔質有機粒子から選ばれる少なくとも一種
を含むことを特徴とする上記(19)に記載の印刷版の
製造方法。
【0036】(22)多孔質有機粒子として多孔性多糖
類粒子を含むことを特徴とする上記(19)に記載の印
刷版の製造方法。
【0037】(23)親水性層が含有する平均粒径0.
2〜10μmの粒子が該親水性層用塗布液中に分散して
いる状態から、塗布層中で乾燥する過程において、その
粒径が収縮することを特徴とする上記(19)に記載の
印刷版の製造方法。
【0038】(24)親水性層を部分的に除去する工程
が、画像記録後に行われることを特徴とする上記(1
8)又は(19)に記載の印刷版の製造方法。
【0039】(25)親水性層を部分的に除去する工程
が、印刷機上で行われることを特徴とする上記(1
8)、(19)又は(24)に記載の印刷版の製造方
法。
【0040】(26)画像記録層がインク受容性の熱溶
融性素材を含有し、かつ、基材上のいずれかの層に光熱
変換素材を含有することを特徴とする上記(18)、
(19)、(24)又は(25)に記載の印刷版の製造
方法。
【0041】(27)画像記録層が光熱変換素材を含有
することを特徴とする上記(18)、(19)、(2
4)又は(25)に記載の印刷版の製造方法。
【0042】(28)画像記録層が赤外線若しくは近赤
外線を吸収して、その一部若しくは全部を破壊すること
を特徴とする上記(19)、(24)又は(25)に記
載の印刷版の製造方法。
【0043】本発明は、印刷時の非画像部となる親水性
層に平均して0.2〜50μmのピッチで膜厚の薄い領
域を形成することで、印刷に適した表面形状を形成する
ものである。特に好ましくは、膜厚の薄い領域がピット
形状を有していることで、これはPS版アルミ砂目の形
状に酷似し、親水性層素材の高度な親水性との相乗効果
でPS版アルミ砂目を凌駕する親水性を保持させること
が可能となる。
【0044】また、インクジェット方式によるCTP用
印刷版の支持体としては、インクが油性インクの場合に
は、親水性のピット形状部にインクを保持して広がりを
押さえる効果があるため、解像度が向上でき、また、イ
ンクが固形溶融インクの場合では、インクがピット形状
部に食い込み、その投錨効果で耐刷性が向上するといっ
た利点があげられる。
【0045】さらに、基材上に熱溶融性のインク受容性
素材を含有する層を有し、その上に親水性層を有するタ
イプの赤外線レーザー記録方式のCTP用印刷版におい
ては、親水性層が平均して0.2〜50μmのピッチで
膜厚の薄い領域を有すること、特に膜厚の薄い領域がピ
ット形状を有することで、印刷適性が向上するだけでな
く、親水性層の膜厚が薄い領域でインク受容性素材が浸
出し易くなるために、インク着肉を生じるための必要露
光エネルギーが減少し、高感度なCTPとすることがで
きる。
【0046】
【発明の実施の形態】本発明の印刷版用支持体及び印刷
版の基材としては、印刷版の基板として公知の材料を使
用することができる。例えば、金属板、プラスチックフ
ィルム、ポリオレフィン等で処理された紙、上記材料を
適宜貼り合わせた複合基材等が挙げられる。基材の厚さ
としては、印刷機に取り付け可能であれば特に制限され
るものではないが、50〜500μmのものが一般的に
取り扱いやすい。
【0047】金属板としては、鉄、ステンレス、アルミ
ニウム等が挙げられるが、比重と剛性との関係から特に
アルミニウムが好ましい。アルミニウム板は、通常その
表面に存在する圧延・巻取り時に使用されたオイルを除
去するためにアルカリ、酸、溶剤等で脱脂した後に使用
される。脱脂処理としては特にアルカリ水溶液による脱
脂が好ましい。また、塗布層との接着性を向上させるた
めに、塗布面に易接着処理や下塗り層塗布を行うことが
好ましい。例えば、ケイ酸塩やシランカップリング剤等
のカップリング剤を含有する液に浸漬するか、液を塗布
した後、十分な乾燥を行う方法が挙げられる。陽極酸化
処理も易接着処理の一種と考えられ、使用することがで
きる。また、陽極酸化処理と上記浸漬または塗布処理を
組合わせて使用することもできる。また、公知の方法で
粗面化されたアルミニウム板を使用することもできる。
【0048】プラスチックフィルムの材料としては、ポ
リエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレー
ト、ポリイミド、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリ
スルホン、ポリフェニレンオキサイド、セルロースエス
テル類等を挙げることができる。特にポリエチレンテレ
フタレート、ポリエチレンナフタレートが好ましい。こ
れらプラスチックフィルムは塗布層との接着性を向上さ
せるために、塗布面に易接着処理や下塗り層塗布を行う
ことが好ましい。易接着処理としては、コロナ放電処理
や火炎処理、プラズマ処理、紫外線照射処理等が挙げら
れる。また、下塗り層としては、ゼラチンやラテックス
を含む層等が挙げられる。
【0049】また、複合基材としては、上記材料を適宜
貼り合わせて使用するが、親水性層を形成する前に貼り
合わせても良く、また、親水性層を形成した後に貼り合
わせても良く、印刷機に取り付ける直前に貼り合わせて
もよい。
【0050】本発明の印刷版用支持体及び印刷版の親水
性層は、一旦層を形成した後に、例えば基材上に親水性
層塗布液を塗布し乾燥し層を形成させた後に、該層を部
分的に除去することで、平均で0.2〜50μmのピッ
チで平均膜厚よりも膜厚が薄い領域を形成するものであ
る。該領域は、印刷版の場合は、平均で1〜50μmの
ピッチとすることが好ましい。(以下、これらの領域を
「領域A」と記す)本発明において領域Aはピット形
状、即ち穴状であることが好ましい。
【0051】上記平均膜厚は試料の断面を走査型電子顕
微鏡(SEM)により観察して測定する。具体的には、
断面の5000倍のSEM画像をデジタル画像として一
試料について5視野撮影し、画像処理を行って親水性層
部分の平均膜厚を算出する。
【0052】本発明において、「平均で0.2〜50μ
mのピッチで」とは、親水性層の表面が形成する凹凸の
周期性の中で、もっとも頻繁に見られる周期が0.2〜
50μmの範囲にあることを意味する。具体的には、試
料の断面のSEM観察から判断する。該断面のSEM画
像(1000倍、5000倍、10000倍の中から凹
凸の状態を見て選択)を、連続して5視野デジタル画像
として取り込み、親水性層表面の凹凸の状態を数値化し
て粗さ曲線とする。粗さ曲線に対して、FFT処理を行
いpower spectral densityを求
める。周期性の最も強い周期を平均ピッチとする。
【0053】湿し水を使用する印刷において、印刷適性
を向上させるには、親水性層の素材としての親水性のほ
かに、その表面形状が非常に重要である。
【0054】まず第一として、親水性素材の表面積を増
加させることで親水性をさらに向上させることが挙げら
れる。これには数nm〜数100nmオーダーでの多孔
性が密接に関連しており、親水性層中に多孔質な素材
や、数nm〜数100nmの粒径の微粒子を添加するこ
となどで達成できる。
【0055】次に第二として、適正な表面形状を有する
ことが挙げられる。これは、数μm〜50μmオーダー
のうねり成分と、0.2μm〜数μmオーダーの微細な
粗さが重畳して形成されていることが好ましい。0.2
μm〜数μmオーダーの微細な粗さは、特にピット形状
を有していることが好ましく、ピット形状とすること
で、表面を極薄い水膜で完全に覆うことが可能となっ
て、印刷ラチチュードや汚れ性が改善される。
【0056】従来提案されてきた、塗布またはスプレー
等により形成される親水性層は、この0.2μm〜数μ
mオーダーの微細な粗さを、対応する径の粒子を配合す
ることにより形成している。しかし、粒子を添加するだ
けの粗さ形成手段では、粗さ形状は凸状であり、より有
利な凹状即ちピット状の粗さを形成することはできな
い。
【0057】本発明では親水性層形成後に親水性層を部
分的に除去することで、凹状の粗さ、特にピット状の粗
さを形成することを可能とした。
【0058】親水性層の部分的な除去は、例えば、親水
性層中に部分的に結合力が弱い部分や耐水性が低い部分
を形成しておき、親水性層表面をこすったり、粘着ロー
ル等で表面の一部を引き剥がしたり、高圧水流で洗浄し
たり、水中でこするといった手段で行うことができる。
【0059】また、本発明の親水性層を、画像形成能を
版上に有する赤外線レーザー記録用CTP用印刷版等に
適用した場合には、親水性層の部分的な除去を、版を印
刷機にセットした後、印刷機上で版胴を回転させながら
湿し水を供給しつつ、インクロールやブランケットと接
触させて何らかの力を加えることで行うことができる。
【0060】親水性層中の部分的に結合力が弱い部分や
耐水性が低い部分の形成には、例えば親水性層の結合剤
として、比較的結合力の弱い粒径が50nm以上のコロ
イダルシリカや、アルミナゾルや、水溶性樹脂を適当量
添加することで行うことができる。
【0061】また、親水性層に含有するその他の素材と
比較的結合力が低い充填材を添加することでも部分的に
結合力が弱い部分を形成することができる。例えば、平
板状粘土鉱物や、一般的な無機粒子、多孔質無機粒子、
有機粒子、多孔質有機粒子などである。特に形状が球状
に近い粒子の方が、粒子を除去した部分がピット形状を
形成するために好ましい。これらの充填材は親水性であ
ることが好ましい。
【0062】親水性層に含有させ後に除去することによ
って該親水性層表面にピット状の粗さを形成するための
粒子は、親水性層を形成する該粒子以外の素材と比較的
結合力が低い粒子である。該粒子の粒径は、平均粒径で
0.2〜10μmが好ましく、0.5〜6μmがさらに
好ましい。該粒子の添加量は、親水性層全体の20〜9
0wt%であることが好ましく、30〜70wt%であ
ることがさらに好ましい。また、親水性層を形成した際
の該粒子の密度は、最密充填から粒子間距離が平均して
50μm以内であることが好ましく、30μm以内であ
ることがさらに好ましく、10μm以内であることがさ
らに好ましい。
【0063】基材上に熱溶融性のインク受容性素材を含
有する層(画像記録層)を有し、該層の上に本発明の親
水性層を有するタイプの赤外線レーザー記録方式の印刷
版においては、親水性層に形成した領域Aの膜厚が、そ
の最も薄い部分で(例えばピット形状の底面部で)、
0.5μm以下であることが好ましく、0.3μm以下
であることがさらに好ましく、0.2μm以下であるこ
とがさらに好ましい。
【0064】領域Aを形成するための、親水性層中に部
分的に結合力が弱い部分や耐水性の低い部分を形成する
ための素材、及び親水性層に含有させ後に除去すること
によって該親水性層表面にピットを形成する粒子とし
て、下記(a)〜(h)のような粒子及び下記(i)〜
(k)のような結合剤を用いることができる。
【0065】(a)多孔質シリカまたは多孔質アルミノ
シリケート粒子 多孔質シリカ粒子は一般に湿式法または乾式法により製
造される。湿式法ではケイ酸塩水溶液を中和して得られ
るゲルを乾燥、粉砕するか、中和して析出した沈降物を
粉砕することで得ることができる。乾式法では四塩化珪
素を水素と酸素とともに燃焼し、シリカを析出すること
で得られる。これらの粒子は製造条件の調整により多孔
性や粒径を制御することが可能である。多孔質シリカ粒
子としては、湿式法のゲルから得られるものが特に好ま
しい。
【0066】多孔質アルミノシリケート粒子は、例えば
特開平10−71764号に記載されている方法により
製造される。すなわち、アルミニウムアルコキシドと珪
素アルコキシドを主成分として加水分解法により合成さ
れた非晶質な複合体粒子である。粒子中のアルミナとシ
リカの比率は1:4〜4:1の範囲で合成することが可
能である。また、製造時にその他の金属のアルコキシド
を添加して3成分以上の複合体粒子として製造したもの
も本発明に使用できる。これらの複合体粒子も製造条件
の調整により多孔性や粒径を制御することが可能であ
る。
【0067】粒子の多孔性としては、分散前の状態で、
細孔容積で1.0ml/g以上であることが好ましく、
1.2ml/g以上であることがより好ましく、1.8
ml/g以上2.5ml/g以下であることがさらに好
ましい。細孔容積は塗膜の保水性と密接に関連してお
り、細孔容積が大きいほど保水性が良好となって印刷時
に汚れにくく、水量ラチチュードも広くなるが、2.5
ml/gよりも大きくなると粒子自体が非常に脆くなる
ため塗膜の耐久性が低下する。細孔容積が1.0ml/
g未満の場合には、印刷時の汚れにくさ、水量ラチチュ
ードの広さが不充分となる。
【0068】粒径としては、親水性層に含有されている
状態で(分散破砕工程を経た場合も含めて)、実質的に
1μm以下であることが好ましく、0.5μm以下であ
ることがさらに好ましい。粗大な粒子が存在すると親水
性層表面に多孔質で急峻な突起が形成され、突起周囲に
インクが残りやすくなって非画線部汚れが劣化する。
【0069】(b)ゼオライト粒子 ゼオライトは結晶性のアルミノケイ酸塩であり、細孔径
が0.3〜1nmの規則正しい三次元網目構造の空隙を
有する多孔質体である。天然および合成ゼオライトを合
わせた一般式は、次のように表される。
【0070】 (MI,MII1/2m(AlmSin2(m+n))・xH2O ここで、MI、MIIは交換性のカチオンであって、MI
はLi+、Na+、K+、Tl+、Me4+(TMA)、E
4+(TEA)、Pr4+(TPA)、C7
152 +、C816+等であり、MIIはCa2+、Mg2+
Ba2+、Sr2+、C8182 2+等である。また、n≧m
であり、m/nの値つまりはAl/Si比率は1以下と
なる。Al/Si比率が高いほど交換性カチオンの量が
多く含まれるため極性が高く、したがって親水性も高
い。好ましいAl/Si比率は0.4〜1.0であり、
さらに好ましくは0.8〜1.0である。
【0071】本発明で使用するゼオライト粒子として
は、Al/Si比率が安定しており、また粒径分布も比
較的シャープである合成ゼオライトが好ましく、たとえ
ば、ゼオライトA:Na12(Al12Si1248)・27
2O;Al/Si比率1.0、ゼオライトX:Na86
(Al86Si106384)・264H2O;Al/Si比
率0.811、ゼオライトY:Na56(Al56Si136
384)・250H2O;Al/Si比率0.412等が
挙げられる。
【0072】Al/Si比率が0.4〜1.0である親
水性の高い多孔質粒子を含有することによって親水性層
自体の親水性も大きく向上し、印刷時に汚れにくく、水
量ラチチュードも広くなる。また、指紋跡の汚れも大き
く改善される。Al/Si比率が0.4未満では親水性
が不充分であり、上記性能の改善効果が小さくなる。粒
径としては、親水性層に含有されている状態で(分散破
砕工程を経た場合も含めて)、実質的に1μm以下であ
ることが好ましく、0.5μm以下であることがさらに
好ましい。粗大な粒子が存在すると親水性層表面に多孔
質で急峻な突起が形成され、突起周囲にインクが残りや
すくなって非画線部汚れが劣化する。多孔質粒子は親水
性層全体の30〜95wt%であることが好ましく、5
0〜90wt%であることがより好ましい。
【0073】(c)平均粒径100nm以下の金属酸化
物微粒子 平均粒径100nm以下の金属酸化物微粒子としては、
コロイダルシリカ、アルミナゾル、チタニアゾル、その
他の金属酸化物のゾルが挙げられる。金属酸化物微粒子
の形態としては、球状、針状、羽毛状、その他のいずれ
の形態でも良い。平均粒径としては、3〜100nmで
あることが好ましく、平均粒径が異なる数種の金属酸化
物微粒子を併用することもできる。また、粒子表面に表
面処理がなされていてもよい。金属酸化物微粒子はその
造膜性を利用して、結合剤としての使用が可能である。
有機の結合剤を用いるよりも親水性の低下が少なく、親
水性層への使用に適している。上記のなかでも特にコロ
イダルシリカが比較的低温の乾燥条件であっても造膜性
が高く好ましい。コロイダルシリカの場合、粒子径は小
さいほど結合力が強くなる。粒子径が100nmよりも
大きくなると結合力は大きく低下し、結合剤として使用
した場合には強度が不足する。
【0074】これらの金属酸化物微粒子を多孔質シリカ
粒子とともに使用する場合は、微粒子自体が陽電荷を帯
びている状態で使用することが好ましく、例えば、アル
ミナゾルや酸性コロイダルシリカを使用することが好ま
しい。また、これらの金属酸化物微粒子を多孔質アルミ
ノシリケート粒子及び/又はゼオライト粒子とともに使
用する場合は、微粒子自体が陰電荷をおびている状態で
使用することが好ましく、例えば、アルカリコロイダル
シリカを使用することが好ましい。多孔質シリカ粒子と
多孔質アルミノシリケート粒子および/またはゼオライ
ト粒子とともに使用する場合は、例えば、表面をAlで
処理して広いpH範囲での安定性を付与したコロイダル
シリカを使用することが好ましい。
【0075】(d)新モース硬度5以上の無機粒子 多孔質ではない金属酸化物粒子(シリカ、アルミナ、チ
タニア、ジルコニア、酸化鉄、酸化クロム等)や金属炭
化物粒子(炭化珪素等)、窒化ホウ素粒子、ダイアモン
ド粒子等が挙げられる。粒子は鋭角な角を有していない
方が好ましく、例えば溶融シリカ粒子、シラスバルーン
粒子等球形に近い粒子が好ましい。
【0076】多孔質でないことの指標としては、比表面
積がBET値で50m2/g以下であることが好まし
く、10m2/g以下であることがさらに好ましい。ま
た、平均粒径は親水性層の層厚の1〜2倍であることが
好ましく、1.1〜1.5倍であることがさらに好まし
い。また粒度分布がシャープであることが好ましく、平
均粒径の0.8〜1.2倍の範囲に全体の60%以上が
含まれることが好ましく、さらに、平均粒径の2倍以上
の粒子が5%以下であることが好ましい。
【0077】親水性層の厚さとしては、0.2〜10μ
mが好ましく、0.5〜5μmがさらに好ましい。した
がって平均粒径は0.2〜20μmであることが好まし
く、0.5〜10μmであることがさらに好ましい。
【0078】新モース硬度5以上の無機粒子の含有量と
しては、親水性層全体の1〜50wt%であることが好
ましく、3〜30wt%であることがより好ましい。
【0079】(e)層状鉱物粒子 層状鉱物粒子としては、カオリナイト、ハロイサイト、
クリソタイル、タルク、スメクタイト(モンモリロナイ
ト、バイデライト、ヘクトライト、サボナイト等)、バ
ーミキュライト、マイカ(雲母)、クロライトといった
粘土鉱物および、ハイドロタルサイト、層状ポリケイ酸
塩(カネマイト、マカタイト、アイアライト、マガディ
アイト、ケニヤアイト等)等が挙げられる。
【0080】中でも、単位層(ユニットレイヤー)の電
荷密度が高いほど極性が高く、親水性も高いと考えられ
る。好ましい電荷密度としては0.25以上、さらに好
ましくは0.6以上である。このような電荷密度を有す
る層状鉱物としては、スメクタイト(電荷密度0.25
〜0.6;陰電荷)、バーミキュライト(電荷密度0.
6〜0.9;陰電荷)、マイカ(電荷密度〜1;陰電
荷)、ハイドロタルサイト(電荷密度〜2;陽電荷)、
マガディアイト(電荷密度〜1;陰電荷)等が挙げられ
る。特に、合成フッ素雲母は粒径等安定した品質のもの
を入手することができ好ましい。また、合成フッ素雲母
の中でも、膨潤性であるものが好ましく、自由膨潤であ
るものがさらに好ましい。
【0081】また、上記の層状鉱物のインターカレーシ
ョン化合物(ピラードクリスタル等)や、イオン交換処
理を施したもの、表面処理(シランカップリング剤等)
を施したものも使用することができる。
【0082】平板状層状鉱物粒子のサイズとしては、親
水性層中に含有されている状態で(膨潤工程、分散剥離
工程を経た場合も含めて)、平均粒径(粒子の最大長)
が20μm以下であり、また平均アスペクト比(粒子の
最大長/粒子の厚さ)が20以上の薄層状であることが
好ましく、平均粒径が10μm以下であり、平均アスペ
クト比が50以上であることがさらに好ましい。粒子サ
イズが上記範囲にある場合、薄層状粒子の特徴である平
面方向の連続性および柔軟性が塗膜に付与され、クラッ
クが入りにくく強靱な塗膜とすることができる。粒子径
が上記範囲をはずれると、不必要な表面粗さの増加を伴
って、非画線部の汚れやブランケット汚れが劣化する場
合がある。また、アスペクト比が上記範囲以下である場
合、柔軟性が不充分となり、塗膜のクラック抑制効果が
低減する。
【0083】層状鉱物粒子の含有量は、親水性層全体の
1〜50wt%であることが好ましく、3〜30wt%
であることがより好ましい。
【0084】(f)分散破砕した多孔質粒子または分散
剥離した層状鉱物粒子 粒子の分散破砕または層剥離には大きく乾式と湿式とに
分けることができる。乾式の分散破砕では乾燥工程が不
要であるため工程は比較的シンプルとなるが、サブミク
ロンオーダーまでの分散破砕および100nm以下の層
厚までの層剥離には通常湿式の方が有利である。乾式の
分散破砕装置としては、高速回転衝撃剪断式ミル(例え
ばアニュラータイプのイノマイザ)、気流式粉砕機(ジ
ェットミル)、ロール式ミル、乾式の媒体撹拌ミル(例
えばボールミル)、圧縮剪断型粉砕機(例えばオングミ
ル)などが使用できる。湿式の分散破砕装置としては、
湿式の媒体撹拌ミル(例えばボールミル、アクアマイ
ザ)、高速回転式剪断摩擦式ミル(例えばコロイドミ
ル)などが使用できる。
【0085】分散破砕後の多孔質粒子の粒径は実質的に
1μm以下であることが好ましく、0.5μm以下であ
ることがさらに好ましい。また、粗大粒子が残存した場
合には分級もしくはろ過により除去してもよい。また、
分散破砕後の層状鉱物粒子は平均粒径(粒子の最大長)
が20μm以下であり、また平均アスペクト比(粒子の
最大長/粒子の厚さ)が20以上の薄層状であることが
好ましく、平均粒径が10μm以下であり、平均アスペ
クト比が50以上であることがさらに好ましい。また、
層状鉱物粒子の分散破砕の前に後述する膨潤工程を行っ
てもよい。
【0086】特に、湿式分散を行った場合は、多孔質粒
子、層状鉱物粒子ともに乾燥させることなく塗布液を調
製することが好ましい。分散破砕または分散剥離を行っ
た粒子を乾燥させると再凝集を生じる場合があるためで
ある。塗布液の固形分濃度を調整するために濃縮または
希釈することは行ってもよい。
【0087】さらに、上記分散破砕または分散剥離工程
において、表面処理剤を添加することで粒子に表面処理
を行うこともできる。また、上記分散破砕または分散剥
離工程において、塗布液に添加する他の成分を添加して
同時に分散してもよく、あるいは上記分散破砕または分
散剥離工程の後で、塗布液に添加する他の成分を添加し
て再度分散を行ってもよい。分散破砕または分散剥離工
程においては、メカノケミカルな反応が同時に起こって
いると考えられ、塗布液に添加する他の成分と同時に分
散した場合、塗膜となった際の強度向上効果が得られる
場合がある。
【0088】(g)膨潤性層状鉱物粒子 自由膨潤である膨潤性合成フッ素雲母は水と混合・撹拌
するだけでも十分に膨潤し、平均厚さで10nm以下の
薄層に分断して安定した分散液となる。
【0089】Mg−バーミキュライトは、例えば下記の
ようなイオン交換処理を行うことで膨潤性を示すように
なる。
【0090】Mg−バーミキュライト+クエン酸リチウ
ムaq.→Li−バーミキュライト+クエン酸マグネシ
ウムaq.。
【0091】さらに浸透圧で限定膨潤したLi−バーミ
キュライトを機械的に分散・層剥離することで平均厚さ
10nm以下の薄層にまで分断することが可能となる。
【0092】(h)有機粒子 有機粒子としては、ナイロン、PMMA、シリコーン、
テフロン(登録商標)、ポリエチレン、ポリスチレン等
の一般的な架橋樹脂粒子が使用できる。また、マンノー
ス、プルラン、アルギン酸、デキストリン、グルコマン
ナン、デンプン、グアガム、セルロース誘導体などをの
多糖類を多価金属イオンや、グリシジル基を有する一般
的な架橋剤、ホルマリンを含有する架橋剤で架橋して水
に不溶化した多糖類粒子も使用可能である。これらの粒
子はあらかじめ水分散液として調製されていてもよい
し、分散液になんらかの分散剤が含有されていてもよ
い。
【0093】これらの中では水系塗布液への分散性や、
粒子自体の親水性を考慮すると、テフロン粒子または多
糖類粒子が好ましい。多糖類粒子としては特開平10−
297078号に記載されている多孔質多糖類粒子が使
用できる。特にアルギン酸を多価金属イオンで架橋した
アルギン酸多価金属塩粒子が好ましい。アルギン酸多価
金属塩粒子は、高親水性であるが、本発明の親水性層で
使用する結合剤、たとえばコロイダルシリカといった無
機素材との結合力は比較的弱く、粒子部分を除去しやす
い。また、水分散液として得られるアルギン酸多価金属
塩粒子は、水により膨潤しているために、乾燥により粒
径が収縮するが、一旦、乾燥させてしまうと、再度水に
分散させても膨潤しにくいという性質を持つ。アルギン
酸多価金属塩粒子を本発明に使用する場合は、膨潤した
状態で塗布液に添加してもよいし、一旦乾燥させた粒子
を塗布液中に再分散させてもよいが、膨潤した状態で使
用すると、乾燥過程での収縮により親水性層マトリクス
との間に空隙を形成し、その後の処理で粒子が除去され
やすくなり、好ましい。
【0094】本発明において、親水性層中に含有する平
均粒径0.2〜10μmの粒子が、多孔質無機粒子、非
多孔質有機粒子及び多孔質有機粒子から選ばれる少なく
とも一種を含むことが好ましい。また、多孔質有機粒子
として多孔性多糖類粒子を含むことが好ましい。
【0095】さらにまた、親水性層が含有する平均粒径
0.2〜10μmの粒子が該親水性層用塗布液中に分散
している状態から、塗布層中で乾燥する過程において、
その粒径が収縮するものであることが好ましい。このよ
うな粒子としては、前記膨潤性層状鉱物粒子が挙げられ
る。
【0096】(i)有機の結合剤または有機の添加剤 上記成分以外にも親水性層中には有機の結合剤または添
加剤を含有させることができる。有機の結合剤としては
親水性を有するものが好ましい。例えば、カゼイン、大
豆タンパク、合成タンパク等のタンパク質類、キチン
類、澱粉類、ゼラチン類、アルギン酸塩、ポリビニルア
ルコール、シリル変性ポリビニルアルコール、カチオン
変性ポリビニルアルコール、メチルセルロース、カルボ
キシメチルセルロースやヒドロキシエチルセルロース等
のセルロース誘導体、ポリエチレンオキサイド、ポリプ
ロピレンオキサイド、ポリエチレングリコール、ポリビ
ニルエーテル、スチレン−ブタジエン共重合体、メチル
メタクリレート−ブタジエン共重合体の共役ジエン系重
合体ラテックス、アクリル系重合体ラテックス、ビニル
系重合体ラテックス、ポリアクリルアミド、ポリビニル
ピロリドン等が挙げられる。
【0097】また、親水性層中にはカチオン性樹脂を含
有してもよい。カチオン性樹脂としては、ポリエチレン
アミン、ポリプロピレンポリアミン等のようなポリアル
キレンポリアミン類またはその誘導体、第三級アミノ基
や第四級アンモニウム基を有するアクリル樹脂、ジアク
リルアミン等が挙げられる。カチオン性樹脂は微粒子状
の形態で添加してもよい。これは、例えば特開平6−1
61101号に記載のカチオン性マイクロゲルが挙げら
れる。
【0098】さらに、親水性層中には架橋剤を添加して
もよい。架橋剤としては、例えば、メラミン樹脂、イソ
シアネート化合物、イソオキサゾール類、アルデヒド
類、N−メチロール化合物、ジオキサン誘導体、活性ビ
ニル化合物、活性ハロゲン化合物等を挙げることができ
る。
【0099】(j)ケイ酸塩水溶液の結合剤 親水性層に添加する結合剤としては、ケイ酸塩水溶液も
使用することができる。ケイ酸Na、ケイ酸K、ケイ酸
Liといったアルカリ金属ケイ酸塩が好ましく、そのS
iO2/M2O比率はケイ酸塩を添加した際の塗布液全体
のpHが13を超えない範囲となるように選択すること
が好ましい(無機粒子の溶解を防止)。
【0100】(k)ゾル−ゲル法による無機または有機
−無機ハイブリッドの結合剤 親水性層に添加する結合剤としては、いわゆるゾル−ゲ
ル法による無機ポリマーもしくは有機−無機ハイブリッ
ドポリマーを使用することができる。ゾル−ゲル法によ
る無機ポリマーもしくは有機−無機ハイブリッドポリマ
ーの形成については、例えば「ゾル−ゲル法の応用」
(作花済夫 著/アグネ承風社 発行)に記載されてい
るか、または本書に引用されている文献に記載されてい
る公知の方法を使用することができる。
【0101】親水性層中に含有する上記のような有機成
分は、たとえ親水性の樹脂であっても耐久性、耐水性等
を向上させるために架橋させた場合は親水性が大きく低
下し、印刷時の汚れ原因となる。また、有機成分は多孔
質粒子の開口部を塞いだり、孔中に浸透することで親水
性層の多孔性を損なって保水性を低下させる可能性もあ
る。以上の理由から有機成分の添加量は少ない方が好ま
しい。具体的には、好ましくは、親水性層全体に対する
有機成分の量が重量比で0〜50%であり、より好まし
くは1〜30%であり、さらに好ましくは2〜20%で
ある。
【0102】本発明の印刷版用支持体の親水性層の好ま
しい例としては、ゼオライトとコロイダルシリカの分散
液を塗設した層、多孔質アルミノシリケートとコイダル
シリカの分散液を塗設した層、多孔質アルミノシリケー
ト、コイダルシリカ、ポリビニルアルコール、メラミン
樹脂及び反応促進剤からなる分散液を塗設した層、テフ
ロン微粒子分散液を塗設した層、アルギン酸カルシウム
微粒子分散液を塗設した層等が挙げられる。
【0103】親水性層の塗布量は、乾燥後/部分的な除
去処理を行う前で、0.1〜10g/m2が適当であ
り、好ましくは、0.5〜5g/m2である。上記の分
散液を塗布、乾燥して親水性層を形成した後、上記親
水性層の表面を製版用スポンジで拭う、粘着ロール等
を上記親水性層表面へ粘着させた後引きはがす、高圧
水流で洗浄する、印刷機の版胴に取り付け、水つけロ
ーラーのみを版につけて版胴を回転させる、もしくは通
常の印刷を行う等の手段で該親水性層の一部を除去する
ことにより、平均で0.2〜50μmのピッチで平均膜
厚より膜厚が薄い領域Aを形成させることができる。
【0104】基材と親水性層の間にはその他の層を形成
してもよい。例えば、親水性層の接着性を改善する下引
き層や、長波長の緩やかな粗さを付与するうねり形成
層、親水性層が受ける応力を緩和するクッション層など
である。また、これらいずれかの層が光熱変換素材を含
有していてもよい。
【0105】本発明の印刷版用支持体を用いて印刷版を
製造するには、インクジェット方式、溶融熱転写方式等
により、該支持体の親水性層表面にインク受容性の画像
を形成することができる。
【0106】インクジェット方式のインクとしては以下
のようなものが挙げられる。インク受容性素材分散水性
インクとして、例えば、ラテックス微粒子やワックス微
粒子などのインク受容性素材を分散させた水溶液。可視
画性を向上させるために顔料や染料を含有してもよく、
その他結合剤や分散剤を含有してもよい。支持体上に画
像を形成した後に加熱して、インク受容性素材を溶融
し、多孔質な親水性層内部に浸透させることでより強固
な画像とすることができるため、インク受容性素材とし
ては溶融粘度の低いものが好ましい。例えばポリエチレ
ン、マイクロクリスタリン、カルナバ等のワックス微粒
子が挙げられる。
【0107】油性インクとして、例えば、以下の公開公
報に記載の油性インクが使用できる。特開平10−29
7083号、同10−298472号、同10−298
473号、同10−298479号、同10−3062
44号、同10−306245号、同10−32483
3号、同10−324834号、同10−315617
号、同10−316916号、同10−316917
号、同10−316920号、同11−43638号、
同11−78226号、同11−92705号等各公
報。
【0108】熱溶融固形インクとしては、例えば、特開
平11−139016号、同11−139017号に記
載のものが使用できる。
【0109】熱溶融転写方式としては、例えば、赤外光
に吸収の少ない基材上に熱溶融インク層を形成したイン
クシートを用い、インクシートの熱溶融インク層と親水
性層を密着させながら、インクシートの基材側から赤外
線レーザー露光を行って、露光部のインクを溶融して親
水性層に転写することで行うことができる。この際、光
熱変換素材は、親水性層側(親水性層中およびまたは親
水性層よりも基材に近い層)に含有していてもよいし、
インクシート側(インク層自体およびまたはインク層よ
りも基材に近い層)に含有してもよいし、双方に含有し
てもよい。
【0110】画像部は溶融転写した後、さらに多孔質な
親水性層内部に浸透させることでより強固な画像とする
ことができるため、インク層中に含まれるインク受容性
素材としては溶融粘度が低いものが好ましく、例えばポ
リエチレン、マイクロクリスタリン、カルナバ等のワッ
クスである。
【0111】次に、本発明の印刷版について説明する。
本発明の印刷版は、基材上に少なくとも画像記録層と親
水性層とを有する。該画像記録層としては、公知のCT
P用印刷版における画像記録層を適用することができ
る。画像記録層としては、例えば次の〜が挙げられ
る。画像様加熱又は露光エネルギーを光熱変換素材で
熱に変え、その熱で破壊や溶融が起こる層(アブレーシ
ョン層)で、基材と親水性層との間に設け、支持体上親
水性層側の少なくとも1層に光熱変換素材を含有する。
インク受容性熱溶融性素材を含有する層、インク受
容性の熱溶融性素材及び光熱変換材素材を含有する層。
【0112】親水性層は、前記した通り、領域Aを有
し、好ましくは、領域Aがピット形状であること、及び
親水性層が平均粒径0.2〜10μmの粒子を含有する
ことである。領域Aをピット形状とする手段として親水
性層に上記粒子を含有させることについては前述した通
りである。
【0113】本発明の印刷版は、基材上に順に、画像記
録層と親水性層を形成した後に、該親水性層を部分的に
除去することで、該親水性層に、平均で1〜50μmの
ピッチで平均膜厚よりも膜厚が薄い領域を形成する製造
方法によって製造することができる。また、基材上に順
に、画像記録層と、平均粒径0.2〜10μmの粒子を
含有する親水性層を形成した後に、該親水性層中の該粒
子を含む層の一部を除去することによって該親水性層表
面にピット形状を形成することを特徴とする印刷版の製
造方法によって製造することできる。これらは、前記し
た印刷版支持体の領域Aを設ける手段と同じ方法を適用
することができる。
【0114】本発明の印刷版の製造方法のひとつの形態
において、親水性層を部分的に除去する工程が、画像記
録後に行われる形態が挙げられる。その形態として、親
水性層を部分的に除去する工程が、印刷機上で行われる
形態が挙げられる。より具体的には、基材上に画像記録
層と親水性層を有する印刷版の画像記録層に放射及び熱
の少なくとも一方のエネルギーを像様に与え、印刷機の
印刷シリンダー上に設置し、湿し水及び/又はインキを
該親水性層に供給することにより該親水性層を部分的に
除去するものである。
【0115】本発明の印刷版において、画像記録層が含
有するインク受容性の熱溶融性素材は、印刷版において
インク受容性の画像部を形成し得る物質で、水反撥性で
あることが好ましい。また、軟化点40℃以上150℃
以下、融点50℃以上200℃以下であることが好まし
く、軟化点60℃以上100℃以下、融点80℃以上1
50℃以下であることがさらに好ましい。軟化点が40
℃未満、または融点が50℃未満では保存性が問題であ
り、軟化点が150℃よりも高い、または融点200℃
よりも高い場合では感度が低下する。
【0116】水反撥性インク受容性の熱溶融性素材とし
ては、パラフィン、ポリオレフィン、マイクロワック
ス、脂肪酸系ワックス及び酸化ポリエチレンワックス等
が挙げられる。これらは分子量800から10000程
度のものであり、通常高圧及び低圧重合法により低密度
及び高密度ポリエチレンとして、また高分子ポリオレフ
ィンの熱分解により得られる。また、乳化しやすくする
ためにこれらのワックスを酸化し、水酸基、エステル
基、カルボキシル基、アルデヒド基、ペルオキシド基な
どの極性基を導入することもできる。また、軟化点を下
げたり作業性を向上させるためにこれらのワックスを併
用する事も可能である。後者としては、ステアロアミ
ド、リノレンアミド、ラウリルアミド、ミリステルアミ
ド、硬化牛脂肪酸アミド、パルミトアミド、オレイン酸
アミド、米糖脂肪酸アミド、ヤシ脂肪酸アミドまたはこ
れらの脂肪酸アミドのメチロール化物、メチレンビスス
テラロアミド、エチレンビスステラロアミドなどが挙げ
られ、これらの併用も可能である。また、クマロン-イ
ンデン樹脂、ロジン変性フェノール樹脂、テルペン変性
フェノール樹脂、キシレン樹脂、ケトン樹脂、アクリル
樹脂、アイオノマー、これらの樹脂の共重合体も使用す
る事ができる。
【0117】また、熱溶融性素材の形態としては、粒径
0.05〜10μmの粒子状であることが好ましい。さ
らに好ましくは、0.1〜5μmである。粒径が0.0
5μm未満であると、画像形成層の強度が低下して、印
刷版としての耐刷性が低下し、10μmよりも大きい場
合は、解像度が低下する。
【0118】粒子状の熱溶融性素材即ちインク受容性素
材粒子は、内部と表層との組成が連続的に変化していた
り、もしくは異なる素材で被覆されていてもよい。被覆
方法は公知のマイクロカプセル形成方法、ゾルゲル法、
静電吸着法等が適用できる。
【0119】基材上に画像記録層と親水性層を有する印
刷版において、該親水性層が平均で0.2〜50μmの
ピッチで該親水性層の平均膜厚よりも膜厚が薄い領域
(A)を有し、該画像記録層がインク受容性の熱熔融性
素材を含有し、かつ基材上のいずれかの層に光熱変換素
材を含有する形態、上記において領域(A)がピット形
状を有する形態、上記において親水性層が平均粒径が
0.2〜10μmの粒子を含有する形態、及び画像記録
層が光熱変換素材即ち入射放射線を吸収し、かつそれを
熱に変換しうる物質を含有する形態が挙げられる。
【0120】光熱変換素材としては赤外線を熱に変換す
る機能、すなわち近赤外〜赤外部に吸収の有る素材を使
用することができる。そのひとつとして、一般的な赤外
吸収色素(シアニン、フタロシアニン)が挙げられる。
ただし、水溶性の色素を層中に添加すると層全体の耐水
性、耐久性が低下するため好ましくない。また水不溶性
の色素を添加する場合は水系分散液中に固体色素を極微
粒子状に均一に分散させることが困難であり、凝集した
状態の色素では光熱変換効率が悪い。また、印刷時の汚
れ原因となる。
【0121】赤外部に吸収を有する光熱変換材の中で
も、素材自体が導電性を有する素材であることが好まし
い。半導体であってもよい。このような素材としては、
金属、導電性カーボン、グラファイト、導電性金属酸化
物等が挙げられる。これらの中でも特に導電性金属酸化
物が好ましい。
【0122】金属としては、粒径が0.5μm以下、好
ましくは100nm以下、さらに好ましくは50nm以
下の微粒子であれば、いずれの金属であっても使用する
ことができる。形状としては、球状、片状、針状等いず
れの形状でもよい。特にコロイド状金属微粒子(Ag、
Au等)が好ましい。
【0123】導電性カーボンとしては特にファーネスブ
ラックやアセチレンブラックの使用が好ましい。粒度
(d50)は100nm以下であることが好ましく、50
nm以下であることがさらに好ましい。また、下式で示
される導電性指標が30以上であることが好ましく、5
0以上であることがさらに好ましい。
【0124】導電性指標={比表面積(m2/g)×D
BP吸油量(ml/100g)}1/2/(1+揮発分) グラファイトとしては、粒径が0.5μm以下、好まし
くは100nm以下、さらに好ましくは50nm以下の
微粒子を使用することができる。
【0125】導電性(もしくは半導体)金属酸化物とし
ては、ZnO、AlをドープしたZnO、SnO2、S
bをドープしたSnO2(ATO)、Snを添加したI
23(ITO)、TiO2、TiO2を還元したTiO
(酸化窒化チタン、一般的にはチタンブラック)などが
挙げられる。また、これらの金属酸化物で心材(BaS
4、TiO2、9Al232B2O、K2OnTiO
2等)を被覆したものも使用することができる。これら
の粒径は、0.5μm以下、好ましくは100nm以
下、さらに好ましくは50nm以下である。これらのな
かではチタンブラックが特に好ましい。
【0126】光熱変換素材は基材上の親水性層を有する
側に形成されるいずれかの層に含有させることができ
る。また、これらの光熱変換素材は2種以上を併用する
ことが可能である。また、これらの光熱変換素材の層中
での分散の程度が光熱変換効率に密接に関連しており、
より高度に分散させることが光熱変換素材含有量あたり
の発熱量を上げることになり、より少ない添加量で高感
度を達成可能となる。分散方法としては一般的な混練、
分散方法が使用可能であり、分散剤を含有させることも
できる。
【0127】さらに、これらの光熱変換素材は、心材粒
子表面に薄く被覆して使用することが可能である。被覆
方法としては、一般的なマイクロカプセルの形成方法を
利用して被覆することが可能である。例えば、近藤保・
小石真純共著の「マイクロカプセル−その製法・性質・
応用」(1985年 三共出版株式会社)に記載されて
いるか、引用されている文献に記載されている種々の方
法が利用可能であるが、これに限るものではない。その
中でも以下に挙げる方法が適している。
【0128】スプレー乾燥法 使用する光熱変換素材の分散液を用意する。結合剤、溶
媒は適宜選択する。分散工程は通常の混練及び分散方法
を利用できる。被覆分のみの分散であるため高効率であ
り、また、目的の機能を発揮する層として必要とされる
結合剤、溶媒とは異なったものを使用することができる
利点もある。例えば溶剤系の塗布層に添加する被覆粒子
を水系分散液で作製するといったことが挙げられる。
【0129】この分散液に心材粒子を均一に懸濁させ、
これを噴霧乾燥して被覆粒子を得る。この工程は例えば
一般的に使用されているスプレードライ造粒装置を使用
して行うことができる。光熱変換素材分散液の濃度は
0.1〜10wt%が好ましく、心材粒子の懸濁濃度は
10〜50wt%であることが好ましい。
【0130】乾式法 心材粒子と被覆素材とを衝突させて、静電気力や物理的
食込み等で心材表面に被覆素材を固定させる方法であ
る。この方法においては、物理的衝撃で心材粒子自体が
破砕しないことが好ましく、特にナイロン、PMMA、
シリコーン、テフロンといった有機粒子を心材として用
いる場合に適している。
【0131】被覆は例えばサンドグラインダー、ボール
ミル等の分散機を使用して行うことができる。また、分
散ビーズを用いない高速気流中衝撃法である奈良機械製
作所製のハイブリタイザーのような装置を使用すると、
被覆粒子の回収が容易となり好ましい。分散ビーズ(ガ
ラス、セラミック等)を用いた場合の処理は、例えば回
転数300〜2000rpmで5〜60分の処理時間で
被覆を行う。ハイブリタイザーを使用した場合は、周速
50〜150m/secで、1〜20分の処理時間で被
覆を行う。
【0132】一般にチタンブラックは塗布液中に均一に
分散させることが困難であり、混練等の前分散を必要と
するが、心材として数μm径の有機粒子(PMMA、テ
フロン、アルギン酸Ca等)と同時に乾式で分散するこ
とにより、物理的食込み、静電的吸着により心材粒子表
面に薄く固着/被覆し、被覆された粒子自体は塗布液中
での分散が容易であることから、効率的に高度にチタン
ブラックが分散した光熱変換機能を有する層を形成する
ことが可能となる。
【0133】本発明の親水性層に光熱変換素材を添加す
る場合は、特に導電性金属酸化物を使用することが好ま
しい。親水性層中に導電性金属酸化物を含有させること
で、層中の極性成分が増加し、親水性が向上する。
【0134】本発明の印刷版のひとつの形態として、画
像形成層が赤外線を吸収してその一部もしくは全部が破
壊する層(以下「アブレーション層」という)であり、
該層の上に本発明の親水性層を有する構成の印刷版が挙
げられる。そのようなものとして、例えば、ポリエチレ
ン、ポリプロピレン、ポリエステル、ポリアミド、アク
リル樹脂、塩化ビニル樹脂、塩化ビニリデン樹脂、ポリ
ビニルブチラール樹脂、ニトロセルロースなどの連続相
とカーボンブラックなどの光熱変換材の不連続相からな
るアブレーション層が挙げられる。この形態の場合、加
熱された部分で、該アブレーション層上部が溶融又は軟
化すると同時に、上の親水性層が破壊され、アブレーシ
ョン層の上部と一体化してインキ受容性の画像部が形成
されるもの等が代表的なものとして挙げられる。また、
アブレーション層として、特開平6−186750号公
報、同6−199064号公報、同7−314934号
公報、同10−58636号公報等に記載された技術を
適用することができる。
【0135】アブレーション・タイプの印刷版におい
て、親水性層はレーザー露光前に部分的な除去処理を行
って、領域A、即ち凹状、ピット状の粗さを形成してお
いてもよく、また、レーザー露光後、印刷機への設置前
に除去処理を行ってもよく、レーザー露光後、印刷機上
で除去処理を行ってもよい。
【0136】レーザー露光部(即ち、画像部)は、アブ
レーション層が破壊されているため、画像部の親水性層
は基材と接着していない状態となり、レーザー露光後の
親水性層の部分的な除去処理工程か又は印刷機上で同時
に除去され、一部残存したアブレーション層か、その下
のインク着肉層、もしくは基材表面のいずれかでインク
着肉させて画像を形成する。
【0137】アブレーション・タイプの印刷版の場合、
親水性層の塗布量は、乾燥後、部分的な除去処理を行う
前で、0.1〜10g/m2が適当であり、好ましくは
0.5〜5g/m2である。
【0138】赤外線レーザー露光CTP用印刷版として
の別の構成として、インク受容性素材浸出しタイプの印
刷版がある。該印刷版は、基材上にインク受容性の熱溶
融性素材を含有する画像記録層を有し、さらにその上に
本発明の親水性層を有する構成の印刷版である。該印刷
版において、光熱変換素材はいずれの層が含有していて
もよく、基材と画像形成層との間にさらに光熱変換素材
を含有する層を設けてもよい。
【0139】インク受容性の熱溶融性素材としては、軟
化点40℃以上150℃以下、融点50度以上200℃
以下であることが好ましく、軟化点60℃以上100℃
以下、融点80度以上150℃以下であることがさらに
好ましい。軟化点が40℃未満、または融点が50℃未
満では保存性が問題であり、軟化点が150℃よりも高
い、または融点200℃よりも高い場合では感度が低下
する。
【0140】インク受容性の熱溶融性素材としては、パ
ラフィン、ポリオレフィン、マイクロクリスタリンワッ
クス、脂肪酸系ワックス及び酸化ポリエチレンワックス
等が挙げられる。これらは分子量800から10000
程度のものであり、通常高圧及び低圧重合法により低密
度及び高密度ポリエチレンとして、また高分子ポリオレ
フィンの熱分解により得られる。また、乳化しやすくす
るためにこれらのワックスを酸化し、水酸基、エステル
基、カルボキシル基、アルデヒド基、ペルオキシド基な
どの極性基を導入することもできる。また、軟化点を下
げたり作業性を向上させるためにこれらのワックスを併
用する事も可能である。後者としては、ステアロアミ
ド、リノレンアミド、ラウリルアミド、ミリスチルアミ
ド、硬化牛脂肪酸アミド、パルミトアミド、オレイン酸
アミド、米糖脂肪酸アミド、ヤシ脂肪酸アミドまたはこ
れらの脂肪酸アミドのメチロール化物、メチレンビスス
テアロアミド、エチレンビスステアロアミドなどが挙げ
られ、これらの併用も可能である。また、クマロン−イ
ンデン樹脂、ロジン変性フェノール樹脂、テルペン変性
フェノール樹脂、キシレン樹脂、ケトン樹脂、アクリル
樹脂、アイオノマー、これらの樹脂の共重合体も使用す
る事ができる。
【0141】また、熱溶融性素材の形態としては、0.
05〜10μmの粒子状であることが好ましい。さらに
好ましくは、0.1〜5μmであり、さらに好ましくは
0.2〜2μmである。0.05μm未満では画像記録
層の強度が低下する場合があり、印刷版としての耐刷性
低下が懸念される。10μmよりも大きい場合は解像度
が低下する。また、熱溶融性素材粒子は内部と表層との
組成が連続的に変化していたり、もしくは異なる素材で
被覆されていてもよい。
【0142】被覆方法は公知のマイクロカプセル形成方
法、ゾルゲル法等が使用できる。親水性層の塗布量とし
ては、乾燥後/部分的な除去処理を行う前で、0.1〜
5g/m2であり、好ましくは、0.2〜3g/m2であ
る。
【0143】また、親水性層の部分的除去処理を行った
後の膜厚の薄い領域の膜厚が、その最も薄い部分で(例
えばピット形状の底面部で)、0.5μm以下であるこ
とが好ましく、0.3μm以下であることがさらに好ま
しく、0.2μm以下であることがさらに好ましい。
【0144】本発明の印刷版の画像記録層には、上記以
外に、公知のCTP用印刷版における画像記録層に用い
られる添加剤等を含有させることができる。
【0145】《請求項記載の構成要件以外の事項》本発
明の印刷版には、親水性層の上に傷つき防止、取り扱い
性向上等の目的で、さらに保護層を設けてもよい。保護
層はシートを貼合して印刷時に剥離するタイプでもよい
し、水溶性樹脂等を含有させて、印刷時に除去されるよ
うなものであってもよい。また、基材裏面にバックコー
ト層を設けてもよい。
【0146】本発明の印刷版の製造において、基材上に
画像記録層を設けるには一般的な塗布方法が使用可能で
ある。熱溶融素材を含有する層の塗布乾燥時、および基
材上に熱溶融素材を含有する層が形成された後のその他
の層の塗布乾燥時は、熱溶融素材の融点以下の温度で乾
燥させることが好ましく、融点以上の温度で乾燥させる
場合も1分以下の短時間での乾燥が好ましい。また、塗
布乾燥後に適宜エイジング処理を行うこともできる。エ
イジング処理は乾燥雰囲気中、40〜70℃で6〜20
0時間行うことが好ましい。
【0147】赤外線露光CTP用印刷版としては、いず
れかの層に露光可視画性を示すような素材を添加するこ
とができる。例えば、感熱紙に使用されている公知の技
術を適用することができる。また、露光加熱により層の
光透過性や光散乱性を変化させることで、露光部と未露
光部との識別性を付与してもよい。
【0148】本発明の印刷版の像様露光は、近赤外線レ
ーザー(800〜850nm)による露光が好ましい。
露光手段としてはサーマルCTP用の一般的な露光機が
使用できる。露光エネルギーは100〜500mJ/c
2が好ましい。
【0149】
【実施例】塗布液の作製 表1〜表5に示す組成及び分散条件で分散液を調製し、
ろ過して親水性層用塗布液1−1〜1−14並びに画像
記録層用塗布液であるアブレーション層用塗布液2−1
〜2−3及び熱溶融素材含有層用塗布液3−1〜3−6
を調製した。
【0150】
【表1】
【0151】
【表2】
【0152】
【表3】
【0153】
【表4】
【0154】
【表5】
【0155】基材の作製 Al基材1 厚さ0.24mmの1050材アルミニウム基材を、2
wt%水酸化ナトリウム水溶液を用い、50℃で30秒
間浸漬して脱脂した。十分に水洗した後、2wt%3号
ケイ酸ナトリウム水溶液に70℃で30秒間浸漬処理
し、水洗した後、十分に乾燥した。
【0156】Al基材2 Al基材1と同様にして脱脂したアルミニウム基材を、
20wt%硫酸水溶液を用い、25℃で20Vの電圧で
陽極酸化処理して、0.5g/m2の陽極酸化皮膜を形
成した。水洗した後、Al基材1と同様にしてケイ酸ナ
トリウム処理を行った。
【0157】Al基材3 Al基材1と同様にして脱脂したアルミニウム基材を、
2.0wt%硝酸水溶液に10秒間浸漬・中和し、30
℃、2.0wt%硝酸水溶液を用いて、ピークの電流密
度が60A/dm2の正弦波で正の電気量が500C/
dm2となるように電解粗面化処理を行った。次いで、
1wt%水酸化ナトリウム水溶液を用い、30℃で20
秒間浸漬し、水洗した後、Al基材2と同様にして陽極
酸化処理とケイ酸ナトリウム処理を行った。
【0158】Al基材4 Al基材2と同様にして陽極酸化皮膜を形成したアルミ
ニウム基材表面に、特開平8−240914号の実施例
1に記載されているものと同一の方法により有機−無機
ゾルゲル皮膜を形成した。
【0159】PET基材 下塗り層の形成 厚さ0.18mmのポリエチレンテレフタレート(PE
T)フィルムに以下の方法により2層からなる下塗り層
を形成してPET基材とした。
【0160】第1下塗り層 PET基材の塗布面にコロナ放電処理を施した後、下記
組成の塗布液を、20℃、相対湿度55%の雰囲気下で
ワイヤーバーにより乾燥後の膜厚が0.4μmとなるよ
うに塗布し、140℃で2分間乾燥を行った。
【0161】 〈第1下塗り層用塗布液組成〉 アクリルラテックス粒子(n−ブチルアクリレート/t−ブチルアクリレート /スチレン/ヒドロキシエチルメタクリレート=28/22/25/25 (モル%) 36.9g 界面活性剤(A) 0.36g 硬膜剤(a) 0.98g 上記に蒸留水を加えて1000mlとし、塗布液とし
た。
【0162】第2下塗り層 上記フィルムの第1下塗り層を形成した面にコロナ放電
処理を施した後、下記組成の塗布液を、35℃、相対湿
度22%の雰囲気下でエアーナイフ方式により乾燥後の
膜厚が0.1μmとなるように塗布した。その後、14
0℃で2分間乾燥を行った。
【0163】 〈第2下塗り層用塗布液組成〉 ゼラチン 9.6g 界面活性剤(A) 0.4g 硬膜剤(b) 0.1g 上記に蒸留水を加えて1000mlとし、塗布液とし
た。
【0164】
【化1】
【0165】実施例1−1〜1−16、比較例1−1〜
1−7 印刷版用支持体の作製 表6〜表8に示す基材上に、同表に示す親水性層の塗布
液をワイヤーバーを用いて同表記載の塗布量となるよう
に塗布し、80℃で3分間乾燥した後、相対湿度30
%、55℃の条件で48時間エイジングを行った。その
後、同表の「親水性層の部分的除去処理」の欄に「あ
り」と記載されているものは、親水性層表面に流水
(℃)をかけながら、製版用スポンジでこすり、親水性
層の部分的除去処理を行い、親水性層表面を純水で十分
に洗浄した後、80℃で3分間乾燥し印刷版用支持体を
得た。また、「なし」と記載されているものは、上記部
分的除去処理をせずに印刷版支持体とした。
【0166】表面形状観察 上記各支持体について、表面を非接触の3次元表面粗さ
計(WYKO社製のRST Plus)を用いて測定し
た。測定された表面形状粗さRaを表6〜表8に示す。
該測定は、VSIモードで行い、40倍の倍率で一試料
につき、5箇所の測定を行い、粗さパラメータについて
は平均した数値を記載した。なお、測定にあたって、試
料表面に白金パラジウムによる蒸着処理を15nmの厚
さとなるように施した。
【0167】印刷版の作製 表6〜表8に示した画像形成インクを用い、インクジェ
ット方式により画像形成した印刷版を作製した。表9に
インクジェット方式に用いたインク組成を示す。
【0168】なお、組成[1]のインクは水性インク用
のインクジェットプリンタで、組成[2]のインクはソ
リッドインク用のインクジェットプリンタで記録を行っ
た。また、組成[1]のインクを使用した印刷版につい
ては画像を形成した後、90℃で5分間加熱処理を行っ
た。これらの印刷版を用いて、下記印刷方法で印刷し、
印刷適性及び画像強度を測定した。その結果を表6〜表
8に示す。
【0169】印刷方法:印刷機として三菱重工業(株)
製DAIYA1F−1を用い、コート紙、湿し水(東京
インキ(株)製H液SG−51 濃度1.5%)及びイ
ンキ(東洋インキ(株)製トーヨーキングハイエコーM
紅)を使用して印刷を行った。
【0170】印刷適性(地汚れの発生し難さ):湿し水
供給量を低減していった際の地汚れの発生し難さを評価
した。
【0171】印刷適性(汚し回復性):1000枚印刷
後、湿し水の供給を切り、インクのみを印刷版全体に付
けた後、再度湿し水を供給して、印刷を再開した。紙面
非画線部の汚れの程度が1000枚印刷時点と同等にな
った印刷枚数で汚し回復性を評価した(枚数が多いほど
不良である)。
【0172】印刷適性(ブランケット汚れ):1000
枚印刷後のブランケット上の非画線部に相当する部分の
汚れを透明粘着テープで剥ぎ取った後、白紙に貼りつけ
て、反射濃度を測定した。表6〜表8に示す数値は、ブ
ランケット汚れ濃度測定値から白紙の濃度を引いた数値
である。
【0173】画像強度:画像の小点部の欠落が始まる印
刷枚数を評価した。
【0174】
【表6】
【0175】
【表7】
【0176】
【表8】
【0177】
【表9】
【0178】実施例1−12の印刷版用支持体の領域A
を形成した親水性層表面のSEM写真を図1、図2に、
領域Aを形成前の親水性層表面のSEM写真を図3、図
4に示す。
【0179】実施例2−1〜2−11、比較例2−1〜
2−5 印刷版の作製 表10〜表12に示す基材上に、画像形成層である同表
記載のアブーション層及び親水性層をこの順に設けた。
これら各層はワイヤーバーを用いて同表記載の塗布量と
なるように塗布した後、70℃で5分間乾燥し、相対湿
度30%、55℃の条件で48時間エイジングを行っ
た。その後、表10〜表12の「親水性層の部分的除去
処理」の欄に「あり」と記載されているものは、親水性
層表面に流水をかけながら、製版用スポンジでこすり、
親水性層の部分的除去処理を行い、親水性層表面を純水
で十分に洗浄した後、70℃で5分間乾燥して印刷版材
料を作製し、得られた印刷版を画像形成層を外側にして
レーザー露光機のドラムに巻きつけ、830nmの赤外
線レーザーで4000dpiの解像度(レーザービーム
径6μm)で露光エネルギー量を400mj/cm2
して画像様に露光し、印刷版を得た。一方、「なし」と
記載されているものは、上記部分的除去処理を施こさず
に印刷版とし、この印刷版を、上記と同条件で画像様に
露光した後、親水性層表面に流水をかけながら、製版用
スポンジでこすり、親水性層の部分的除去処理を行い、
親水性層表面を純水で十分に洗浄した後、70℃で5分
間乾燥して印刷版を作製した。
【0180】表面形状評価 上記各印刷版について、非画像部の表面を実施例1と同
様の方法により測定した。観察された表面形状を表10
〜表12に示す。また、上記印刷版について、実施例1
と同様にして印刷適性を測定、評価した。その結果を表
10〜表12に示す。
【0181】
【表10】
【0182】
【表11】
【0183】
【表12】
【0184】実施例3−1〜3−11、比較例3−1〜
3−5 印刷版の作製 表13〜表15に示す基材上に画像形成層である同表記
載の光熱変換層、熱溶融素材含有層及び親水性層の各塗
布液をこの順に塗設した。これら各塗布液はワイヤーバ
ーを用いて同表記載の塗布量となるように塗布した後、
70℃で5分間乾燥した。また、得られた印刷版は相対
湿度30%、55℃の条件で48時間エイジングを行っ
た。その後、同表の「親水性層の部分的除去処理」の欄
に「あり」と記載されているものは、親水性層表面に流
水をかけながら、製版用スポンジでこすり、親水性層の
部分的除去処理を行い、親水性層表面を純水で十分に洗
浄した後、70℃で5分間乾燥して印刷版を作製し、得
られた印刷版を、画像形成層を外側にしてレーザー露光
機のドラムに巻きつけ、830nmの赤外線レーザーで
4000dpiの解像度(レーザービーム径6μm)で
露光エネルギーを表13〜表15に記載したように変化
させながら画像様に露光することによって印刷版を得
た。また、「なし」と記載されているものは、上記部分
的除去処理を施こさずに印刷版とし、この印刷版を、前
記と同様にして画像様に露光した後、親水性層表面に流
水をかけながら、製版用スポンジでこすり、親水性層の
部分的除去処理を行い、親水性層表面を純水で十分に洗
浄した後、70℃で5分間乾燥して印刷版とした。
【0185】上記各印刷版について、印刷評価前後の非
画像部部分の表面を実施例1と同様の方法により測定し
た。観察された表面形状を表13〜表15に示す。ま
た、上記印刷版について、下記方法で感度を評価し、実
施例1と同様にして印刷適性を測定、評価した。その結
果を表13〜表15に示す。
【0186】感度評価方法:目視判断でかすれのない良
好な印刷画像が得られた最低の露光エネルギー量を感度
とた。
【0187】
【表13】
【0188】
【表14】
【0189】
【表15】
【0190】
【発明の効果】本発明によれば、印刷適性(水量ラチチ
ュード)、地汚れ及びブランケット汚れが改善される印
刷版用支持体及び印刷版並びにそれらの製造方法が提供
される。また、改善された感度を有する熱溶融性素材を
含有する画像記録層を使用した印刷版及びその製造方法
が提供される。
【図面の簡単な説明】
【図1】実施例1−12の印刷版用支持体の領域Aを形
成した親水性層表面のSEM写真である。
【図2】実施例1−12の印刷版用支持体の領域Aを形
成した親水性層表面のSEM写真(図1より高倍率)で
ある。
【図3】実施例1−12の印刷版用支持体の領域Aを形
成前の親水性層表面のSEM写真である。
【図4】実施例1−12の印刷版用支持体の領域Aを形
成前の親水性層表面のSEM写真(図3より高倍率)で
ある。
フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G03F 7/004 501 G03F 7/004 501 505 505 7/11 501 7/11 501 Fターム(参考) 2H025 AA00 AA01 AB03 AC08 AD01 AD03 CC20 DA02 DA36 EA05 FA01 FA03 2H084 AA14 AA38 CC05 2H096 AA07 AA08 BA16 BA20 CA20 DA10 EA04 JA02 JA03 2H114 AA04 AA10 AA24 AA27 AA28 AA30 BA01 BA05 BA10 DA03 DA05 DA14 DA15 DA42 DA43 DA45 DA46 DA51 DA59 DA61 DA62 DA73 DA75 EA02 EA04 FA01 FA11 FA13 FA18 GA01 GA02 GA08 GA09 GA34 GA38

Claims (28)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 基材上に親水性層を有する印刷版用支持
    体において、該親水性層が、平均で0.2〜50μmの
    ピッチで平均膜厚よりも膜厚が薄い領域を有することを
    特徴とする印刷版用支持体。
  2. 【請求項2】 領域がピット形状を有することを特徴と
    する請求項1記載の印刷版用支持体。
  3. 【請求項3】 基材上に親水性層を形成した後に、該親
    水性層を部分的に除去することで、平均で0.2〜50
    μmのピッチで該親水性層の平均膜厚よりも膜厚が薄い
    領域を形成することを特徴とする印刷版用支持体の製造
    方法。
  4. 【請求項4】 基材上に平均粒径0.2〜10μmの粒
    子を含有する親水性層を形成した後に、該親水性層中の
    粒子を含む層の一部を除去することによって該親水性層
    表面にピット形状を形成することを特徴とする印刷版用
    支持体の製造方法。
  5. 【請求項5】 親水性層中に含有する平均粒径0.2〜
    10μmの粒子が該親水性層全体の20〜90wt%で
    あることを特徴とする請求項4記載の印刷版用支持体の
    製造方法。
  6. 【請求項6】 親水性層中に含有する平均粒径0.2〜
    10μmの粒子が多孔質無機粒子、非多孔質有機粒子及
    び多孔質有機粒子から選ばれる少なくとも一種を含むこ
    とを特徴とする請求項4記載の印刷版用支持体の製造方
    法。
  7. 【請求項7】 多孔質有機粒子として多孔性多糖類粒子
    を含むことを特徴とする請求項4記載の印刷版用支持体
    の製造方法。
  8. 【請求項8】 親水性層が含有する平均粒径0.2〜1
    0μmの粒子が該親水性層用塗布液中に分散している状
    態から、塗布層中で乾燥する過程において、その粒径が
    収縮することを特徴とする請求項4記載の印刷版用支持
    体の製造方法。
  9. 【請求項9】 基材上に、画像記録層と親水性層を有す
    る印刷版において、該親水性層が、平均で0.2〜50
    μmのピッチで該親水性層の平均膜厚よりも膜厚が薄い
    領域を有することを特徴とする印刷版。
  10. 【請求項10】 領域がピット形状を有することを特徴
    とする請求項9記載の印刷版。
  11. 【請求項11】 基材上に順に、画像記録層と、平均粒
    径0.2〜10μmの粒子を含有する親水性層を有する
    ことを特徴とする印刷版。
  12. 【請求項12】 画像記録層がインク受容性の熱溶融性
    素材を含有し、かつ、基材上のいずれかの層に光熱変換
    素材を含有することを特徴とする請求項9〜11のいず
    れか1項に記載の印刷版。
  13. 【請求項13】 画像記録層が光熱変換素材を含有する
    ことを特徴とする請求項9〜11のいずれか1項に記載
    の印刷版。
  14. 【請求項14】 画像記録層が赤外線若しくは近赤外線
    を吸収して、その一部若しくは全部を破壊することを特
    徴とする請求項9〜11のいずれか1項に記載の印刷
    版。
  15. 【請求項15】 親水性層中に含有する平均粒径0.2
    〜10μmの粒子が該親水性層全体の20〜90wt%
    であることを特徴とする請求項11記載の印刷版。
  16. 【請求項16】 親水性層中に含有する平均粒径0.2
    〜10μmの粒子が多孔質無機粒子、非多孔質有機粒子
    及び多孔質有機粒子から選ばれる少なくとも一種を含む
    ことを特徴とする請求項11記載の印刷版。
  17. 【請求項17】 多孔質有機粒子として多孔性多糖類粒
    子を含むことを特徴とする請求項11記載の印刷版。
  18. 【請求項18】 基材上に順に、画像記録層と親水性層
    を形成した後に、該親水性層を部分的に除去すること
    で、該親水性層に、平均で1〜50μmのピッチで該親
    水性層の平均膜厚よりも膜厚が薄い領域を形成すること
    を特徴とする印刷版の製造方法。
  19. 【請求項19】 基材上に順に、画像記録層と、平均粒
    径0.2〜10μmの粒子を含有する親水性層を形成し
    た後に、該親水性層中の該粒子を含む層の一部を除去す
    ることによって該親水性層表面にピット形状を形成する
    ことを特徴とする印刷版の製造方法。
  20. 【請求項20】 親水性層中に含有する平均粒径0.2
    〜10μmの粒子が該親水性層全体の20〜90wt%
    であることを特徴とする請求項19記載の印刷版の製造
    方法。
  21. 【請求項21】 親水性層中に含有する平均粒径0.2
    〜10μmの粒子が多孔質無機粒子、非多孔質有機粒子
    及び多孔質有機粒子から選ばれる少なくとも一種を含む
    ことを特徴とする請求項19記載の印刷版の製造方法。
  22. 【請求項22】 多孔質有機粒子として多孔性多糖類粒
    子を含むことを特徴とする請求項19記載の印刷版の製
    造方法。
  23. 【請求項23】 親水性層が含有する平均粒径0.2〜
    10μmの粒子が該親水性層用塗布液中に分散している
    状態から、塗布層中で乾燥する過程において、その粒径
    が収縮することを特徴とする請求項19記載の印刷版の
    製造方法。
  24. 【請求項24】 親水性層を部分的に除去する工程が、
    画像記録後に行われることを特徴とする請求項18又は
    19記載の印刷版の製造方法。
  25. 【請求項25】 親水性層を部分的に除去する工程が、
    印刷機上で行われることを特徴とする請求項18、19
    又は24記載の印刷版の製造方法。
  26. 【請求項26】 画像記録層がインク受容性の熱溶融性
    素材を含有し、かつ、基材上のいずれかの層に光熱変換
    素材を含有することを特徴とする請求項18、19、2
    4又は25記載の印刷版の製造方法。
  27. 【請求項27】 画像記録層が光熱変換素材を含有する
    ことを特徴とする請求項18、19、24又は25記載
    の印刷版の製造方法。
  28. 【請求項28】 画像記録層が赤外線若しくは近赤外線
    を吸収して、その一部若しくは全部を破壊することを特
    徴とする請求項19、24又は25記載の印刷版の製造
    方法。
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