JP2001108852A - 光メモリ素子及び光メモリ素子用積層体並びにその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 コア層及びクラッド層を樹脂製にすること
で、コア層を導波する光を散乱させるための凹凸パター
ンを簡易に形成できるようにして、光メモリ素子を容易
且つ安価に実現できるようにするとともに、それらの樹
脂の収縮による光メモリ素子の反曲を抑制できるように
する。 【解決手段】 樹脂製のコア層２と、その両面部に積層
された樹脂製のクラッド層３，８と、これらのコア層２
とクラッド層３，８との界面２３，２８の少なくとも一
方（２８）に設けられた凹凸部と、クラッド層３に積層
された樹脂製基体層４と、この樹脂製基体層４に積層さ
れた、クラッド層３と同等の収縮率を有する樹脂製のク
ラッド層５と、このクラッド層５に積層された、コア層
２と同等の収縮率を有する樹脂製のコア層６とをそなえ
て構成する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、光メモリ素子及び
光メモリ素子用積層体並びにその製造方法に関し、特
に、光導波路デバイスを用いて構成される光メモリ素子
及び光メモリ素子用積層体並びにその製造方法に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】近年、予め所定の散乱光を生じるように
パターンが刻まれた平面（カード）型の光導波路中に光
を導入し、光導波面の外部に画像を結像させる技術が提
案されている（IEEE Photon.Technol.Lett.,vol.9,pp.9
58-960,JULY1997 等参照）。即ち、例えば図１５に模式
的に示すように、光導波路として機能するように屈折率
や膜厚を調整されたコア（層）１０１と、このコア層１
０１を挟む形でその両側（両面部）に設けられた（第
１，第２の）クラッド（層）１０２とをそなえて成るカ
ード型のスラブ型光導波路デバイス１００において、コ
ア層１０１とクラッド層１０２との界面に微細な凹凸が
存在していた場合、コア層（光導波路）１０１にレンズ
１０３を介して光（レーザ光）を導入すると、導入光の
一部がその凹凸部分で散乱し、散乱光がクラッド層１０
２を通じて外部に出てくる。

【０００３】従って、光導波面（光導波路１０１）から
所定距離に特定の画像が結像するような光の散乱強度と
位相とを計算し、その計算に応じた微細な凹凸パターン
を予めコア層１０１に刻み込んでおけば、光導波面の外
部に所望の画像を結像させることができる。つまり、コ
ア層１０１は情報の記録層として機能することになる。

【０００４】そして、例えば、光導波面の外部に出てき
た散乱光を上記所定距離に設置したＣＣＤ受像器１０４
により受光して、結像画像を２次元のディジタルパター
ン〔例えば、明暗の２値のパターン、もしくは、明度
（グレイスケール）による多値のパターン等〕化してデ
ィジタル信号化すれば、既存のディジタル画像処理装置
（図示省略）で結像画像に対し所望の画像処理を実施す
ることができる。

【０００５】また、例えば図１６に模式的に示すよう
に、上記のクラッド層１０２とコア層１０１とを繰り返
し積層して、光導波路（記録層）１０１を複数個積層し
た場合、或る光導波路１０１で散乱した光は、別の光導
波路１０１を横切ることになるが、通常、コア層１０１
とクラッド層１０２の屈折率差が極めて小さいので、そ
の散乱光が別の光導波路１０１に形成された凹凸で再散
乱することは殆ど無く、結像画像が乱れることは無い。
従って、積層数に比例して数多くの画像やパターンを結
像できることになる。

【０００６】つまり、光導波路デバイス１００はその積
層数に比例した容量を有する光メモリ素子（ＲＯＭ等の
記録媒体）として使用できるのである。なお、この光メ
モリ素子は、理論上では、１層で約１ギガバイト程度の
容量をもたせることができ、１００層程度まで積層する
ことが可能であるといわれており、将来的には、動画像
の記録等に十分対応できる大容量ＲＯＭとして使用され
ることが有望視されている。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】ところで、光導波路デ
バイス１００のコア層１０１における上記の微細な凹凸
パターンは、例えば、次のような手法で形成される。即
ち、まず、図１７（Ａ）に模式的に示すように、（第１
の）クラッド層１０２となる平板状のガラス等の上にフ
ォトレジストを塗布し、光あるいは電子線等の露光とそ
の現像によりそのガラス（クラッド層１０２）上に、結
像させたい像に応じたピット（凹凸パターン）を形成す
る。

【０００８】その後、その凹凸パターン上にコア層１０
１を形成する。これにより、凹凸パターンの形成された
コア層１０１が作製され、このコア層１０１上にさらに
第２のクラッド層１０２を形成することにより、１層分
の光導波路デバイス（光メモリ素子）が作製される。そ
して、上記と同様に、クラッド層１０２上に露光と現像
によって凹凸パターンを形成し、その上にコア層１０１
を形成することを繰り返し行なうことで、図１７（Ｂ）
に模式的に示すように、多層構造の光メモリ素子（以
下、「多層光メモリ」ということがある）１００ａが作
製される。

【０００９】しかしながら、このような露光と現像とを
用いた手法では、１層分の光メモリ素子１００の作製に
非常に時間及びコストがかかってしまうので、大容量の
多層光メモリ１００ａを作製するには、膨大な時間とコ
ストがかかるという課題がある。本発明は、このような
課題に鑑み創案されたもので、コア層及びクラッド層を
樹脂製にすることで、上記の凹凸パターンを簡易に形成
できるようにして、光メモリ素子を容易且つ安価に実現
できるようにするとともに、それらの樹脂の収縮による
光メモリ素子の反曲を抑制できるようにすることを目的
とする。

【００１０】

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、本発明の光メモリ素子（請求項１）は、樹脂製の
第１コア層と、この第１コア層の両面部に積層された樹
脂製の第１及び第２クラッド層と、これらの第１コア層
と第１及び第２クラッド層との界面の少なくとも一方に
設けられた凹凸部と、上記の第１クラッド層に積層され
た樹脂製基体層と、この樹脂製基体層に積層された、上
記第１クラッド層と同等の収縮率を有する樹脂製の第３
クラッド層と、この第３クラッド層に積層された、上記
第１コア層と同等の収縮率を有する樹脂製の第２コア層
とをそなえて成ることを特徴としている。

【００１１】また、本発明の光メモリ素子（請求項２）
は、樹脂製の第１コア層と、この第１コア層の両面部に
積層された樹脂製の第１及び第２クラッド層と、これら
の第１コア層と第１及び第２クラッド層との界面の少な
くとも一方に設けられた凹凸部とをそなえて成る光導波
部材が複数個積層されるとともに、これらの各光導波部
材間に、一方の面部に該第１クラッド層と同等の収縮率
を有する樹脂製の第３クラッド層が積層されるととも
に、該第３クラッド層に該第１コア層と同等の収縮率を
有する樹脂製の第２コア層が積層された、樹脂製基体層
が設けられていることを特徴としている。

【００１２】さらに、本発明の光メモリ素子用積層体
（請求項３）は、樹脂製基体層と、この樹脂製基体層の
両面部に積層された、それぞれ同等の収縮率を有する樹
脂製クラッド層と、これらの各樹脂製クラッド層のそれ
ぞれに積層された、それぞれ同等の収縮率を有する樹脂
製コア層と、これらの各樹脂製コア層の少なくとも一方
の表面に設けられた凹凸部とをそなえて成ることを特徴
としている。

【００１３】また、本発明の光メモリ素子の製造方法
（請求項４）は、上記請求項３記載の光メモリ素子用積
層体を複数個用意し、これらの各光メモリ素子用積層体
を、接着後に樹脂製クラッド層として機能する接着剤に
より積層接着することを特徴としている。ここで、上記
（請求項４記載）の光メモリ素子用積層体は、例えば、
次の各工程により製造することができる（請求項５）。

【００１４】（１）表面に凹凸形状を有するスタンパ上
に所望の硬化性樹脂材からなるコア剤を塗布し硬化させ
て樹脂製の第１コア層を形成する第１工程 （２）この第１コア層上に所望の硬化性樹脂材からなる
クラッド剤を介して樹脂製基体層となる樹脂製フィルム
部材を貼着する第２工程 （３）上記のクラッド剤を硬化させて樹脂製の第１クラ
ッド層を形成する第３工程 （４）上記のクラッド剤と同じ硬化性樹脂材からなるク
ラッド剤を樹脂製フィルム部材上に塗布し硬化させて樹
脂製の第２クラッド層を形成する第４工程 （５）この第２クラッド層上に上記のコア剤と同じ硬化
性樹脂材からなるコア剤を塗布し硬化させて樹脂製の第
２コア層を形成する第５工程 （６）スタンパからこれらの各コア層，各クラッド層及
び樹脂製フィルム部材を一体に分離する第６工程 また、本発明の光メモリ素子（請求項６）は、樹脂製の
第１コア層と、この第１コア層の両面部に積層された樹
脂製の第１及び第２クラッド層と、これらの第１コア層
と第１及び第２クラッド層との界面の少なくとも一方に
設けられた凹凸部と、上記の第１クラッド層に積層され
た樹脂製基体層と、この樹脂製基体層に積層された、上
記の第１コア層及び第１クラッド層の合成収縮率と同等
の収縮率を有する樹脂材から成る樹脂層とをそなえて成
ることを特徴としている。

【００１５】さらに、本発明の光メモリ素子（請求項
７）は、樹脂製の第１コア層と、この第１コア層の両面
部に積層された樹脂製の第１及び第２クラッド層と、こ
れらの第１コア層と第１及び第２クラッド層との界面の
少なくとも一方に設けられた凹凸部とをそなえて成る光
導波部材が複数個積層されるとともに、これらの各光導
波部材間に、一方の面部に、該第１コア層及び該第１ク
ラッド層の合成収縮率と同等の収縮率を有する樹脂材か
ら成る樹脂層が積層された、樹脂製基体層が設けられて
いることを特徴としている。

【００１６】また、本発明の光メモリ素子用積層体（請
求項８）は、樹脂製基体層と、この樹脂製基体層の一方
の面部に積層された樹脂製クラッド層と、この樹脂製ク
ラッド層に積層された樹脂製コア層と、この樹脂製コア
層の表面に設けられた凹凸部と、上記の樹脂製基体層の
他方の面部に積層された、上記の樹脂製コア層及び樹脂
製クラッド層の合成収縮率と同等の収縮率を有する樹脂
材から成る樹脂層とをそなえて成ることを特徴としてい
る。

【００１７】さらに、本発明の光メモリ素子の製造方法
（請求項９）は、上記 請求項８記載の光メモリ素子用
積層体を複数個用意し、これらの各光メモリ素子用積層
体を、接着後に樹脂製クラッド層として機能する接着剤
により積層接着することを特徴としている。ここで、上
記（請求項９記載）の光メモリ素子用積層体は、例え
ば、次の各工程により製造することができる（請求項１
０）。

【００１８】（１）表面に凹凸形状を有するスタンパ上
に所望の硬化性樹脂材からなるコア剤を塗布し硬化させ
て樹脂製の第１コア層を形成する第１工程 （２）この第１コア層上に所望の硬化性樹脂材からなる
クラッド剤を介して樹脂製基体層となる樹脂製フィルム
部材を貼着する第２工程 （３）上記のクラッド剤を硬化させて樹脂製の第１クラ
ッド層を形成する第３工程 （４）上記のコア剤及びクラッド剤の合成収縮率と同等
の収縮率を有する硬化性樹脂剤を樹脂製フィルム部材上
に塗布し硬化させて樹脂層を形成する第４工程 （５）スタンパからこれらのコア層，各クラッド層，樹
脂製フィルム部材及び樹脂層を一体に分離する第５工程 さらに、本発明の光メモリ素子（請求項１１）は、樹脂
製の第１コア層と、この第１コア層の両面部に積層され
た樹脂製の第１及び第２クラッド層と、これらの第１コ
ア層と第１及び第２クラッド層との界面の少なくとも一
方に設けられた凹凸部と、上記の第１クラッド層に積層
された樹脂製基体層と、この樹脂製基体層に積層され
た、上記の第１クラッド層と同等の収縮率を有する樹脂
製の第３クラッド層とをそなえて成ることを特徴として
いる。

【００１９】さらに、本発明の光メモリ素子用積層体
（請求項１２）は、樹脂製基体層と、この樹脂製基体層
の両面部に積層された、それぞれ同等の収縮率を有する
樹脂製クラッド層と、これらの各樹脂製クラッド層の一
方に積層された樹脂製コア層と、上記の樹脂製コア層と
樹脂製クラッド層との界面に設けられた凹凸部とをそな
えて成ることを特徴としている。

【００２０】また、本発明の光メモリ素子の製造方法
（請求項１３）は、上記請求項１２記載の光メモリ素子
用積層体を複数個用意し、これらの各光メモリ素子用積
層体を、接着後に樹脂製クラッド層として機能する接着
剤により積層接着することを特徴としている。ここで、
上記（請求項１３記載）の光メモリ素子用積層体は、例
えば、次の各工程により製造することができる（請求項
１４）。

【００２１】（１）表面に凹凸形状を有するスタンパ上
に所望の硬化性樹脂材からなるクラッド剤を介して樹脂
製基体層となる樹脂製フィルム部材を貼着する第１工程 （２）上記のクラッド剤を硬化させて樹脂製の第１クラ
ッド層を形成する第２工程 （３）上記の樹脂製フィルム部材上に上記のクラッド剤
と同じ硬化性樹脂材からなるクラッド剤を塗布し硬化さ
せて樹脂製の第２クラッド層を形成する第３工程 （４）上記の各クラッド層及び樹脂製フィルム部材を一
体に分離する第４工程 （５）スタンパにより上記凹凸形状の形成された第１ク
ラッド層上に所望の硬化性樹脂材からなるコア剤を塗布
し硬化させて樹脂製コア層を形成する第５工程 また、本発明の光メモリ素子（請求項１５）は、樹脂製
の第１コア層と、この第１コア層の両面部に積層された
樹脂製の第１及び第２クラッド層と、これらの第１コア
層と上記の第１及び第２クラッド層との界面の少なくと
も一方に設けられた凹凸部と、上記の第１及び第２クラ
ッド層の一方に積層された、第１コア層と同等の収縮率
を有する樹脂製の第２コア層とをそなえて成ることを特
徴としている。

【００２２】さらに、本発明の光メモリ素子（請求項１
６）は、樹脂製の第１コア層と、この第１コア層の両面
部に積層された樹脂製の第１及び第２クラッド層と、上
記の第１コア層と上記の第１及び第２クラッド層との界
面の少なくとも一方に設けられた凹凸部とをそなえて成
る光導波部材が複数個積層されるとともに、これらの各
光導波部材間に、上記の第１コア層と同等の収縮率を有
する樹脂製の第２コア層が設けられていることを特徴と
している。

【００２３】また、本発明の光メモリ素子用積層体（請
求項１７）は、樹脂製クラッド層と、この樹脂製クラッ
ド層の両面部に積層された樹脂製コア層とをそなえると
ともに、上記の各樹脂製コア層の少なくとも一方の表面
に凹凸部が設けられていることを特徴としている。さら
に、本発明の光メモリ素子の製造方法（請求項１８）
は、上記請求項１７記載の光メモリ素子用積層体を複数
個用意し、これらの各光メモリ素子用積層体を、接着後
に樹脂製クラッド層として機能する接着剤により積層接
着することを特徴としている。

【００２４】ここで、上記（請求項１８記載）の光メモ
リ素子用積層体は、例えば、次の各工程により製造する
ことができる（請求項１９）。 （１）表面に凹凸形状を有するスタンパ上に所望の硬化
性樹脂材からなるコア剤を介して樹脂製クラッド層とし
て機能する樹脂製フィルム部材を貼着する第１工程 （２）上記のコア剤を硬化させて樹脂製の第１コア層を
形成する第２工程 （３）上記の樹脂製フィルム部材上に上記のコア剤と同
じ硬化性樹脂材からなるコア剤を塗布し硬化させて樹脂
製の第２コア層を形成する第３工程 （４）スタンパから上記の各コア層及び樹脂製フィルム
部材を一体に分離する第４工程 さらに、本発明の光メモリ素子用積層体（請求項２０）
は、樹脂製基体層と、この樹脂製基体層の両面部に積層
された、それぞれ同等の収縮率を有する樹脂製クラッド
層と、これらの各樹脂製クラッド層の一方の表面に設け
られた凹凸部とをそなえて成ることを特徴としている。

【００２５】また、本発明の光メモリ素子の製造方法
（請求項２１）は、この光メモリ素子用積層体を複数個
用意し、これらの各光メモリ素子用積層体を、接着後に
樹脂製コア層として機能する接着剤により積層接着する
ことを特徴としている。ここで、上記（請求項２１記
載）の光メモリ素子用積層体は、例えば、次の各工程に
より製造することができる（請求項２２）。

【００２６】（１）表面に凹凸形状を有するスタンパ上
に所望の硬化性樹脂材からなるクラッド剤を介して樹脂
製基体層となる樹脂製フィルム部材を貼着する第１工程 （２）上記のクラッド剤を硬化させて樹脂製の第１クラ
ッド層を形成する第２工程 （３）上記の樹脂製フィルム部材上に上記のクラッド剤
と同じ硬化性樹脂材からなるクラッド剤を塗布し硬化さ
せて樹脂製の第２クラッド層を形成する第３工程 （４）上記の各クラッド層及び樹脂製フィルム部材を一
体に分離する第４工程

【００２７】

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態を説明する。 （Ａ）第１実施形態の説明 まず、本第１実施形態の光メモリ素子（光メモリ素子用
積層体）の製造方法について、図１に示す模式的側面図
を用いて説明する。

【００２８】始めに、図１（Ａ）に示すように、表面に
結像させたい画像（情報）に応じた所望の凹凸パターン
（凹凸形状；ピット）の刻まれたスタンパ１上に、所定
の膜厚でコア剤（液状コア樹脂）２を塗布する。このコ
ア剤２には、本実施形態では、紫外線（ＵＶ光）を照射
することにより硬化する紫外線硬化性樹脂材から成るも
のを使用し、このようにスタンパ１へ塗布した後、紫外
線を照射して完全に硬化させることで樹脂製のコア層２
を形成する（以上、請求項５の第１工程）。

【００２９】次に、このようにコア剤２を完全硬化させ
た後、図１（Ｂ）に示すように、その上に、コア層２よ
りも屈折率の小さい紫外線硬化性樹脂材から成るクラッ
ド剤（液状クラッド樹脂）３を塗布し、その上から、例
えば図１（Ｃ）に示すように、気泡が入らないように静
かに樹脂製基体層となる樹脂フィルム（樹脂製フィルム
部材）４を載置する。つまり、コア層２にクラッド剤３
を介して樹脂フィルム４を貼着（ラミネート）する（請
求項５の第２工程）。

【００３０】そして、コア層２の形成と同様に、紫外線
を照射してクラッド剤３を硬化させれば、コア層２より
も屈折率の小さい樹脂製のクラッド層３が形成されると
ともに、樹脂フィルム４の接着が行なわれる（請求項５
の第３工程）。ここで、これらのコア層２，クラッド層
３及び樹脂フィルム４をスタンパ１から一体に（積層体
２３４として）剥離（分離）すれば、その積層体２３４
を基に、下記もしくはに示す工程により、１層分の
光メモリ素子、もしくは、多層構造の光メモリ素子（以
下、多層光メモリともいう）を作製可能であるが、この
時点で、積層体２３４をスタンパ１から剥離してしまう
と、積層体２３４がカール（反曲）してしまう。

【００３１】積層体２３４のスタンパ１の凹凸パター
ン（以下、単に「凹凸」ともいう）が転写されたコア層
２上にクラッド層を形成する。 積層体２３４を複数個用意して、それらの各積層体２
３４を接着後にクラッド層として機能する接着剤により
積層接着する。 即ち、通常、紫外線硬化性樹脂材等の硬化性樹脂材は硬
化時に収縮するものが多いため、樹脂フィルム４の一方
（スタンパ１側）の面部側にのみ上述のごとくコア剤２
及びクラッド剤３を硬化させてコア層２及びクラッド層
３を形成すると、コア剤２及びクラッド剤３の硬化時の
収縮力が樹脂フィルム４の一方の面部のみに働いてしま
い、この状態で、スタンパ１からの剥離工程を行なう
と、樹脂フィルム４、つまり、積層体２３４が反曲して
しまうのである。

【００３２】そこで、本実施形態では、このような樹脂
フィルム４の反曲を防止すべく、上述のごとくクラッド
層３を形成した段階では、スタンパ１からの剥離工程は
行なわずに、図１（Ｄ）及び図１（Ｅ）に示すように、
樹脂フィルム４上に、さらに、樹脂製のクラッド層５を
形成し、このクラッド層５上に、さらに、樹脂製のコア
層６を形成する。

【００３３】より具体的には、図１（Ｄ）に示すよう
に、樹脂フィルム４上に、上記のクラッド剤３と同じ紫
外線硬化性樹脂材から成るクラッド剤（液状クラッド樹
脂）５をクラッド剤３と同じ膜厚で塗布した後、紫外線
照射によりそのクラッド剤５を硬化させて、樹脂製のク
ラッド層５を形成し（請求項５の第４工程）、次いで、
図１（Ｅ）に示すように、このクラッド層５上に、上記
のコア剤２と同じ紫外線硬化性樹脂材から成るコア剤
（液状コア樹脂）６をコア剤２と同じ膜厚だけ塗布した
後、紫外線照射によりこのコア剤６を硬化させて、樹脂
製のコア層６を形成する（請求項５の第５工程）。

【００３４】これにより、樹脂フィルム４を中心とし
て、それぞれ同じ紫外線硬化性樹脂材からなるクラッド
層３，５及びコア層２，６がそれぞれ同じ膜厚で（つま
り、硬化時の収縮率がそれぞれ同じ樹脂が）対象に積層
された状態となり、樹脂フィルム４の両面部において、
これらのクラッド層３，５及びコア層２，６の形成時の
収縮力が同等に働くことになる。つまり、クラッド層５
及びコア層６は、樹脂フィルム４の一方の面部に積層さ
れた樹脂層（クラッド層３及びコア層２）に対する収縮
バランス層として機能するのである。

【００３５】よって、この状態で、図１（Ｆ）に示すよ
うに、スタンパ１から上記の各コア層２，６と各クラッ
ド層３，５と樹脂フィルム４とを一体に剥離（分離）す
れば（請求項５の第６工程）、樹脂フィルム４は反曲せ
ず、平面性の高い積層体（光メモリ素子用積層体）７
（以下、「１層フィルム７」という）が製造される。即
ち、樹脂フィルム４と、その両面部に積層された、それ
ぞれ同じ樹脂材，同じ膜厚の（つまり、それぞれ同等の
収縮率を有する）クラッド層３，５と、これらの各クラ
ッド層３，５のそれぞれに積層された、それぞれ同じ樹
脂材，同じ膜厚の（それぞれ同等の収縮率を有する）コ
ア層２，６と、これらの各コア層２，６の一方（コア層
２）の表面に設けられた凹凸（ピット）とをそなえて成
る、１層フィルム７（請求項３に相当）が製造される。

【００３６】なお、上記のコア剤２，６やクラッド剤
３，５には、塗布時には液体でその後、硬化させること
のできる樹脂であれば、上記紫外線硬化性樹脂以外の光
硬化性樹脂や、熱を加えることで硬化する熱硬化性樹脂
等の所望の硬化性樹脂を適用してもよい。ただし、少な
くとも、スタンパ１の凹凸が転写されるコア剤２には、
上記の紫外線硬化性樹脂を適用するのが好ましく、ま
た、使用材料点数の削減の点から、コア剤６，クラッド
剤３，５にも、上述のごとく紫外線硬化性樹脂を適用す
るのが好ましい。具体的には、例えば、アクリル系，エ
ポキシ系，チオール系の各樹脂などがよい。

【００３７】さらに、コア剤２，６やクラッド剤３，５
の塗布方法には、例えば、スピンコート法，ブレードコ
ート法，グラビアコート法，ダイコート法等があるが、
塗布膜厚と均一性を満足すればどのような塗布方法を用
いてもよい。ここで、コア層２の膜厚については、少な
くとも、コア層２が光導波路として機能するだけの膜厚
であればよい。例えば、使用光波長域が可視光の波長域
であれば、コア層２はおおよそ０．５μｍ〜３．０μｍ
程度になると考えられる。

【００３８】従って、この場合、コア層６の膜厚も、お
およそ０．５μｍ〜３．０μｍ程度になる。また、この
場合、クラッド層３，５の膜厚に関しては特に制限は無
いが、全体の厚みを薄くすることを考慮すれば、それぞ
れ、１００μｍ以下にするのが好ましい。あえて下限を
規定するなら、例えば、０．１μｍ以上になると思われ
る。

【００３９】また、樹脂フィルム４は、使用光波長域
（コア層２を導波させるレーザ光の波長域）で透明で
（散乱光を透過でき）、光学的な特性や膜厚の均一性，
力学的な強度などが許す限り、できるだけ薄い方が良
い。これは、１つには、図２により後述するように樹脂
フィルム４が何層にもわたって積層された状態になって
も、上記の凹凸で散乱した散乱光を最終的に外部へ放出
できるようにするためと、上記の１層フィルム７の厚み
を薄くする〔ひいては、最終的に製造される光メモリ素
子５Ａの小型化を図る〕ためであるが、本実施形態で
は、それだけでなく、樹脂フィルム４とコア層２との間
にあるクラッド剤３内に気泡を入りにくくするためでも
ある。

【００４０】即ち、クラッド剤３の塗布されたコア層２
上に樹脂フィルム４を載置（貼着）する工程で、樹脂フ
ィルム４の厚みが薄いと柔軟性（可塑性）に優れるた
め、樹脂フィルム４を図１（Ｃ）中に二点鎖線で示すよ
うに曲げながら少しずつ接触させてゆくことによって、
載置面積をゆっくりと増加させることが可能になり、ク
ラッド剤３内に気泡が混入してその部分の屈折率や膜厚
が変化してしまう等の影響を抑止することができるので
ある。

【００４１】このため、樹脂フィルム４には、例えば、
ポリカーボネート，アートン（日本合成ゴム社製）など
の非品質ポリオレフィンや、ＰＥＴ（ポリエチレンテレ
フタレート），ＰＥＮ（ポリエチレンナフタレート）等
の光学特性に優れる（ＰＥＮはさらに耐熱性にも優れ
る）熱可塑性の樹脂フィルム４が好適（特に、上記のＰ
ＥＴやＰＥＮはいずれも均一な厚みのフィルムを得られ
やすいので好適）で、これらのいずれかを熱延伸或いは
溶媒キャスト等の方法で、例えば１００μｍ以下の厚さ
にしたものがよい。

【００４２】これ以上厚みが厚いと、樹脂フィルム４の
可塑性が乏しくなり樹脂フィルム４をクラッド剤３に載
置する際に気泡が混入しやすくなってしまう。逆に、樹
脂フィルム４の厚みが極端に薄い場合、例えば１μｍよ
りも薄いような場合は、樹脂フィルム４をスタンパ１か
ら剥離する際に破れたりすることがあるので好ましくな
い。

【００４３】次に、図１（Ｆ）により上述したごとくス
タンパ１から剥離して得られる１層フィルム７を複数個
（枚）用意し、これらの各１層フィルム７を、例えば図
２に示すように、接着後に樹脂製のクラッド層として機
能する接着剤８により積層接着する（請求項４に相
当）。即ち、或る１層フィルム７のコア層２と他の１層
フィルム７のコア層６とを接着剤８を介して相互に積層
して接着する。

【００４４】なお、この際、各１層フィルム７にそれぞ
れ予め接着剤８を塗布しておいてもよいし、１層フィル
ム７の積層毎に接着剤８を塗布していってもよい。ま
た、この接着剤８には、屈折率がコア層２，６よりも僅
かに小さくクラッド層３，５と略同一の値をもつ透明な
ものを用いればよいが、使用材料点数の削減を考慮する
なら、クラッド剤３，５と同一のもの、即ち、紫外線硬
化性樹脂材からなるクラッド剤を適用して、各１層フィ
ルム７の積層後に、紫外線を照射してそのクラッド剤を
硬化させることで、クラッド層８を形成しつつ各１層フ
ィルム７を接着するのがよい。また、このときのクラッ
ド層８の膜厚は、クラッド層８とクラッド層３とが下記
のように光導波路デバイス（光導波部材）２３８の構成
要素として対になるので、クラッド層３の膜厚と同一で
あるのが好ましい。

【００４５】これにより、樹脂製のコア層２と、その両
面部に積層された樹脂製のクラッド層３，８と、これら
のコア層２とクラッド層３，８との界面２３，２８の一
方（界面２８）に設けられた凹凸とをそなえて成る光導
波路デバイス２３８が複数個積層されるとともに、これ
らの各光導波路デバイス２３８間に、積層体４５６〔一
方の面部にクラッド層３と同じ樹脂製のクラッド層５が
積層されるとともに、このクラッド層５にコア層２と同
じ樹脂製のコア層６が積層された樹脂フィルム４〕が設
けられた、多層光メモリ５Ａ（請求項２に相当）が作製
される。

【００４６】そして、上述のごとく構成された多層光メ
モリ５Ａでは、例えば、或る光導波路デバイス２３８の
コア層２に光を入力すると、その入力光がクラッド層
３，８との界面２３，２８の一方（界面２８）に設けら
れた凹凸（ピット）で散乱する。このときの散乱光は上
下方向のそれぞれに伝播してゆき最終的に多層光メモリ
５Ａの両面部から外部へ放出される。

【００４７】なお、上述のごとく多層光メモリ５Ａの両
面部から散乱光を放出させる必要が無い場合、例えば、
ＣＣＤ受像器を多層光メモリ５Ａの上面部側のみに設置
する場合は、最下層に位置する樹脂フィルム４について
は、必ずしも使用光波長域で透明である必要は無い。以
上のように、本第１実施形態によれば、コア層２とその
両面部に積層された各クラッド層３，８がいずれも樹脂
製なので、従来のようにフォトレジストの露光と現像と
を用いることなく、上述したごとくスタンパ１の転写に
より凹凸のついたコア層２を簡単に形成することができ
る。

【００４８】また、本実施形態では、スタンパ１上に塗
布したコア剤２を硬化させてから、樹脂フィルム４の貼
着工程を行なうので、貼着圧力によるコア層２の膜厚変
動が生じず、光メモリ素子５Ａの光導波条件を決定する
上で特に重要なコア層２の膜厚制御が容易である。さら
に、樹脂フィルム４を中心として、その両面部側に、そ
れぞれ同じ紫外線硬化性樹脂材からなる樹脂製のクラッ
ド層３，５とコア層２，６とを同じ膜厚で対象となるよ
うに形成することで、樹脂フィルム４の両面部側に設け
られた各樹脂層２，３，５，６の硬化時の収縮バランス
を確保した上で、スタンパ１からの分離工程を行なうの
で、樹脂フィルム４の反曲を最小限に抑制した１層フィ
ルム（光メモリ素子用積層体）７を極めて容易且つ確実
に製造することができる。

【００４９】また、このように１層フィルム７の反曲が
最小限に抑制されていることから、多層光メモリ５Ａを
製造する際の積層工程が容易になり、多層光メモリ５Ａ
を極めて短期間で大量に生産することが可能となるの
で、安価な多層光メモリ５Ａを早期に提供することがで
きる。さらに、この場合、製造される多層光メモリ５Ａ
の反曲も最小限に抑制されるので、高い平面性を得るこ
とができ、これにより、情報読取時の信頼性も向上す
る。

【００５０】また、本実施形態では、１層フィルム７の
積層工程で使用する接着剤８がクラッド層として機能す
る（兼用になる）ので、多層光メモリ５Ａの厚みも薄く
することができ、多層光メモリ５Ａの小型化にも寄与す
る。なお、上述した実施形態では、コア層２及びクラッ
ド層３に対する収縮バランス層を、コア層２と同じ樹脂
材（紫外線硬化性樹脂材），同じ膜厚のコア層６と、ク
ラッド層３と同じ樹脂材（紫外線硬化性樹脂材），同じ
膜厚のクラッド層５とで形成しているが、コア層２及び
クラッド層３の硬化時の収縮バランスをとることができ
れば、コア層６，クラッド層５の材質や膜厚はコア層
２，クラッド層３の材質や膜厚と異なっていてもよい。

【００５１】例えば、コア剤６，クラッド剤５に、同じ
紫外線硬化性樹脂材でも、コア剤２，クラッド剤３より
も硬化時の収縮率が高いものを適用すれば、コア剤６，
クラッド剤５の塗布膜厚は、コア剤２，クラッド剤３の
塗布膜厚よりも薄くすることができ、また、紫外線硬化
性樹脂材以外でも、コア剤２，クラッド剤３と同等の収
縮率をもつ樹脂材を適用すれば、コア層２及びクラッド
層３の硬化時の収縮バランスをとって、樹脂フィルム４
の反曲を防止することができる。

【００５２】さらに、上述した例では、樹脂フィルム４
上に、まず、クラッド層５を形成し、このクラッド層５
上にコア層６を形成しているが、これとは逆に、樹脂フ
ィルム４上に、まず、コア層６を形成し、このコア層６
上にクラッド層５を形成しても、コア層２及びクラッド
層３の硬化時の収縮バランスをとって、樹脂フィルム４
の反曲を防止することが可能である。

【００５３】また、上述した例では、コア層２上にクラ
ッド剤３を塗布し、その上から樹脂フィルム４を載置す
ることで樹脂フィルム４の貼着を行なっているが、例え
ば、クラッド剤３を予め塗布した樹脂フィルム４をコア
層２に貼着してもよいし、樹脂フィルム４とコア層２と
の双方にクラッド剤３を塗布しておき、これらを貼り合
わせてもよい。さらに、両面部に予めクラッド剤３，５
を塗布した樹脂フィルム４をコア層２に貼着してもよ
い。

【００５４】ところで、上述した実施形態では、複数の
１層フィルム７を積層接着することで多層光メモリ５Ａ
を製造しているが、例えば図３に模式的に示すように、
スタンパ１から剥離した１層フィルム７の凹凸のついた
コア層２上に、樹脂製のクラッド層８を個別に形成すれ
ば、１層分の光メモリ素子（以下、１層光メモリとい
う）５ａが製造される。

【００５５】即ち、樹脂製のコア層２と、このコア層２
の両面部に積層された樹脂製のクラッド層３，８と、こ
れらのコア層２と各クラッド層３，８との界面の少なく
とも一方に設けられた凹凸と、クラッド層３に積層され
た樹脂フィルム４と、この樹脂フィルム４に積層され
た、クラッド層３と同じ樹脂材，同じ膜厚の（つまり、
同等の収縮率を有する）樹脂製のクラッド層５と、この
クラッド層５に積層された、コア層２と同じ樹脂材，同
じ膜厚の樹脂製のコア層６とをそなえて成る、１層光メ
モリ５ａ（請求項１に相当）が製造される。

【００５６】この場合のクラッド層８の形成手法は、ク
ラッド層３やクラッド層５の形成手法と同様に、紫外線
硬化性樹脂材からなるクラッド剤をコア層２上に塗布し
硬化させてもよいし、溶媒に溶解したクラッド剤をコア
層２上に塗布し乾燥させてもよい。ただし、１層光メモ
リ５ａの反曲の抑制を考慮するなら、後者の手法を採っ
た方がよい。

【００５７】このように、本実施形態では、１層光メモ
リ５ａも、その反曲を最小限に抑制しながら、極めて容
易に短期間で大量生産することが可能となり、安価で、
しかも、平面性が高く散乱光による情報読取時の信頼性
の高い光メモリ素子５ａを早期に提供することができ
る。そして、この１層光メモリ５ａを複数個、単なる接
着剤を介して積層接着すれば、上述した多層光メモリ５
Ａと同等の容量をもった多層光メモリを製造できる。

【００５８】なお、この場合の接着剤には、使用光波長
域で透明なもので、接着後に簡単に剥がれないものであ
れば、どのようなものを適用してもよい。例えば、光硬
化型，熱硬化型，室温硬化型，ホットメルト型，２液混
合型等の各種の型の接着剤が適用可能であり、材質とし
ては、アクリル系，エポキシ系，シアノアクリレート
系，ウレタン系，オレフィン系等がある。ただし、接着
対象層であるコア層６やクラッド層８の材質を考慮して
接着相性の良い組み合わせを選定するのがよい。

【００５９】（Ｂ）第２実施形態の説明 次に、本発明の第２実施形態としての光メモリ素子（光
メモリ素子用積層体）の製造方法について、図４及び図
５に示す模式的側面図を用いて説明する。ただし、以下
（後述する第３及び第４実施形態も含む）において、第
１実施形態にて既述の符号と同一符号を付したものは、
それぞれ第１実施形態と同様のものを示し、その詳細な
説明（材質や寸法等）については省略する。

【００６０】始めに、この場合も、図４（Ａ）に示すよ
うに、スタンパ１上に、所定の膜厚となるようにコア剤
２を塗布し、紫外線照射により、このコア剤２を完全に
硬化させることで樹脂製のコア層２を形成する（請求項
１０の第１工程）。次に、このようにコア剤２を完全硬
化させた後、図４（Ｂ）に示すように、その上に、コア
層２よりも屈折率の小さいクラッド剤３を塗布し、その
上から、例えば図４（Ｃ）に示すように、第１実施形態
と同様、クラッド剤３に気泡が入らないように樹脂製基
体層となる樹脂フィルム４を載置する。つまり、コア層
２にクラッド剤３を介して樹脂フィルム４を貼着（ラミ
ネート）する（請求項１０の第２工程）。

【００６１】そして、コア層２の形成と同様に、紫外線
を照射してクラッド剤３を硬化させて、コア層２よりも
屈折率の小さい樹脂製のクラッド層３を形成するととも
に、樹脂フィルム４の接着を行なう（請求項５の第３工
程）。次に、図４（Ｄ）に示すように、樹脂フィルム４
上に、或る膜厚（ただし、コア層２及びクラッド層３の
２層分の膜厚よりも薄い膜厚が良い）で上記のコア剤２
及びクラッド剤３の硬化時のそれぞれの収縮率（収縮
力）の合計（合成収縮率）と同等の収縮率をもつように
その成分を調整された紫外線硬化性樹脂材から成る樹脂
剤（収縮バランス剤）９を上記膜厚で塗布したのち、紫
外線照射によりこの樹脂剤９を硬化させて、樹脂層（収
縮バランス層）９を形成する（請求項１０の第４工
程）。

【００６２】これにより、樹脂フィルム４の両面部側に
おいて、クラッド剤３及びコア剤２の硬化による収縮力
と、樹脂層９の硬化による収縮力とが同等に働くので、
樹脂フィルム４の両面部間の紫外線硬化性樹脂剤の収縮
バランスがとられる。つまり、本第２実施形態では、コ
ア剤２及びクラッド剤３の硬化による収縮力と同等の収
縮力を、コア層２及びクラッド層３の２層分の膜厚より
も薄い膜厚の１層分の樹脂層９により実現しているので
ある。

【００６３】よって、この状態で、図４（Ｅ）に示すよ
うに、スタンパ１から上記の各コア層２，６と各クラッ
ド層３，５と樹脂フィルム４とを一体に剥離（分離）す
しても（請求項１０の第５工程）、樹脂フィルム４は反
曲せず、平面性の高い積層体（光メモリ素子用積層体）
１０（以下、「１層フィルム１０」という）が製造され
ることになる。

【００６４】即ち、樹脂フィルム４と、この樹脂フィル
ム４の一方の面部に積層された樹脂製のクラッド層３
と、このクラッド層３に積層された樹脂製のコア層２
と、このコア層２の表面に設けられた凹凸（ピット）
と、樹脂フィルム４の他方の面部に積層された、コア層
２及びクラッド層３の合成収縮率と同等の収縮率を有す
る樹脂材から成る樹脂層９とをそなえて成る、１層フィ
ルム１０（請求項８に相当）が製造される。

【００６５】なお、上記のコア剤２やクラッド剤３に
は、塗布時には液体でその後、硬化させることのできる
樹脂であれば、上記紫外線硬化性樹脂以外の光硬化性樹
脂や、熱を加えることで硬化する熱硬化性樹脂等の所望
の硬化性樹脂を適用してもよい。ただし、少なくとも、
スタンパ１の凹凸が転写されるコア剤２には、上記の紫
外線硬化性樹脂を適用するのが好ましい。また、樹脂剤
９には、上述のごとくコア剤２やクラッド剤３と同じも
の（紫外線硬化性樹脂）を用いることが好ましいが、光
学特性を満たしていれば、どのようなものを用いてもよ
い。

【００６６】さらに、コア剤２やクラッド剤３，樹脂剤
９の塗布方法については、この場合も、例えば、スピン
コート法，ブレードコート法，グラビアコート法，ダイ
コート法等が適用できるが、塗布膜厚と均一性を満足す
ればどのような塗布方法を用いてもよい。また、樹脂フ
ィルム４は、第１実施形態と同様の理由から、本実施形
態においても、使用光波長域（コア層２を導波させるレ
ーザ光の波長域）で透明で（散乱光を透過でき）、光学
的な特性や膜厚の均一性，力学的な強度などが許す限
り、できるだけ薄い方が良い。

【００６７】次に、図４（Ｅ）により上述したごとくス
タンパ１から剥離して得られる１層フィルム１０を複数
個（枚）用意し、これらの各１層フィルム１０を、例え
ば図５に示すように、接着後に樹脂製のクラッド層（ク
ラッド剤）として機能する接着剤８により積層接着する
（請求項９に相当）。例えば、或る１層フィルム１０の
コア層２と他の１層フィルム１０の樹脂層９とを接着剤
８を介して相互に積層して接着する。

【００６８】なお、この際、各１層フィルム１０にそれ
ぞれ予め接着剤８を塗布しておいてもよいし、１層フィ
ルム１０の積層毎に接着剤８を塗布していってもよい。
また、この接着剤８についても、第１実施形態と同様
に、屈折率がコア層２よりも僅かに小さくクラッド層３
と略同一の値をもつ透明なものを用いればよいが、使用
材料点数の削減を考慮するなら、クラッド層（クラッド
剤）３と同一のものがよい。

【００６９】これにより、樹脂製のコア層２と、このコ
ア層２の両面部に積層された樹脂製のクラッド層３，８
と、これらのコア層２とクラッド層３，８との界面２
３，２８の一方（界面２８）に設けられた凹凸とをそな
えて成る光導波路デバイス（光導波部材）２３８が複数
個積層されるとともに、これらの各光導波路デバイス２
３８間に、積層体４９（一方の面部に樹脂層９の積層さ
れた樹脂フィルム４）が設けられた、多層光メモリ５Ｂ
（請求項７に相当）が作製される。

【００７０】そして、上述のごとく構成された多層光メ
モリ５Ｂでも、例えば、或る光導波路デバイス２３８の
コア層２に光を入力すると、その入力光がクラッド層
３，８との界面２３，２８の一方（界面２８）に設けら
れた凹凸（ピット）で散乱する。このときの散乱光は上
下方向のそれぞれに伝播してゆき最終的に多層光メモリ
５Ｂの両面部から外部へ放出される。

【００７１】なお、上述のごとく多層光メモリ５Ｂの両
面部から散乱光を放出させる必要が無い場合、例えば、
ＣＣＤ受像器を多層光メモリ５Ｂの上面部側のみに設置
する場合は、最下層に位置する樹脂フィルム４について
は、必ずしも使用光波長域で透明である必要は無い。以
上のように、本第２実施形態においても、コア層２とそ
の両面部に積層された各クラッド層３，８がいずれも樹
脂製なので、従来のようにフォトレジストの露光と現像
とを用いることなく、スタンパ１の転写により凹凸のつ
いたコア層２を簡単に形成することができる。また、ス
タンパ１上に塗布したコア剤２を硬化させてから、樹脂
フィルム４の貼着工程を行なうので、貼着圧力によるコ
ア層２の膜厚変動（つまり、光導波条件の変動）が生じ
ず、光メモリ素子５Ｂの光導波条件を決定する上で重要
なコア層２の膜厚制御が容易である。

【００７２】さらに、本第２実施形態では、コア層２及
びクラッド層３に対する収縮バランスをコア層２及びク
ラッド層３の２層分の膜厚よりも薄い膜厚の１層分の樹
脂層９によってとるので、樹脂フィルム４（つまり、１
層フィルム１０）の反曲を最小限に抑制するとともに、
製造される１層フィルム１０の厚みも薄くすることがで
きる。

【００７３】従って、１層フィルム１０の積層工程が容
易になり、多層光メモリ５Ｂを極めて短期間で大量に生
産することが可能となり、安価な多層光メモリ５Ｂを早
期に提供することができるとともに、上述のごとく１層
フィルム１０自体の厚みが薄くなっていることに加え
て、この場合も、接着剤８がクラッド層として機能する
（兼用になる）ことから、多層光メモリ５Ｂの大幅な小
型化を図ることが可能である。また、多層光メモリ５Ｂ
の平面性も向上しており、情報読取時の信頼性も向上し
ている。

【００７４】なお、本実施形態においても、コア層２上
にクラッド剤３を塗布し、その上から樹脂フィルム４を
載置することで樹脂フィルム４の貼着を行なっている
が、例えば、クラッド剤３を予め塗布した樹脂フィルム
４をクラッド剤３の塗布面を介してコア層２に貼着して
もよいし、樹脂フィルム４とコア層２との双方にクラッ
ド剤３を塗布しておき、これらを貼り合わせてもよい。
また、予め一方の面部に予めクラッド剤３を塗布し、他
方の面部に樹脂剤９を塗布した樹脂フィルム４をコア層
２に貼着してもよい。

【００７５】ところで、本第２実施形態においても、例
えば図６に模式的に示すように、スタンパ１から剥離し
た１層フィルム１０の凹凸のついたコア層２上に、樹脂
製のクラッド層８を個別に形成すれば、１層分の光メモ
リ素子（以下、１層光メモリという）５ｂが製造され
る。即ち、樹脂製のコア層２（請求項６の第１コア層に
相当）と、このコア層２の両面部に積層された樹脂製の
クラッド層３，８（請求項６の第１及び第２クラッド層
に相当）と、これらのコア層２と各クラッド層３，８と
の界面の少なくとも一方に設けられた凹凸と、クラッド
層３に積層された樹脂フィルム４と、この樹脂フィルム
４に積層された、コア層２及びクラッド層３の合成収縮
率と同等の収縮率を有する樹脂材から成る樹脂層９とを
そなえて成る、１層光メモリ５ｂが製造される。

【００７６】この場合のクラッド層８の形成手法につい
ても、クラッド層３の形成手法と同様に、紫外線硬化性
樹脂材からなるクラッド剤をコア層２上に塗布し硬化さ
せてもよいし、溶媒に溶解したクラッド剤をコア層２上
に塗布し乾燥させてもよいが、１層光メモリ５ｂの反曲
の抑制を考慮するなら、後者の手法を採った方がよい。

【００７７】このように、１層光メモリ５ｂも、その反
曲を最小限に抑制し、また、その厚みも薄くしながら、
極めて容易に短期間で大量生産することが可能となり、
小型で安価、しかも、平面性が高く散乱光による情報読
取時の信頼性の高い１層光メモリ５ｂを早期に提供する
ことができる。そして、この１層光メモリ５ｂを複数
個、単なる接着剤を介して積層接着すれば、上述した多
層光メモリ５Ｂと同等の容量をもった多層光メモリを製
造できる。

【００７８】なお、この場合の接着剤についても、第１
実施形態と同様に、使用光波長域で透明なもので、接着
後に簡単に剥がれないものであれば、どのようなものを
適用してもよい。 （Ｃ）第３実施形態の説明 次に、本発明の第３実施形態としての光メモリ素子（光
メモリ素子用積層体）の製造方法について、図７及び図
８に示す模式的側面図を用いて説明する。

【００７９】始めに、図７（Ａ）に示すように、スタン
パ１上に、所定の膜厚となるようにクラッド剤３を所定
の膜厚となるように塗布し、その上から、図７（Ｂ）に
示すように、第１実施形態と同様、クラッド剤３に気泡
が入らないように樹脂製基体層となる樹脂フィルム４を
載置する。つまり、スタンパ１にクラッド剤３を介して
樹脂フィルム４を貼着（ラミネート）する（請求項１
４，２２の第１工程）。

【００８０】その後、紫外線照射により、クラッド剤３
を硬化させて樹脂製のクラッド層３を形成するととも
に、樹脂フィルム４の接着を行なう（請求項１４，２２
の第２工程）。次に、図７（Ｃ）に示すように、樹脂フ
ィルム４上に、クラッド剤３と同じ紫外線硬化性樹脂材
からなるクラッド剤５をクラッド剤３と同じ膜厚で塗布
した後、紫外線照射により、このクラッド剤５を硬化さ
せて樹脂製のクラッド層５を形成する（請求項１４，２
２の第３工程）。

【００８１】これにより、樹脂フィルム４の両面部にそ
れぞれ同じ樹脂材，同じ膜厚のクラッド層３，５が形成
され、樹脂フィルム４の両面部側において、各クラッド
層（クラッド剤）３，５の硬化時の収縮力が同等に働
き、樹脂フィルム４の両面部間の紫外線硬化性樹脂によ
る収縮バランスがとられた状態となる。よって、図７
（Ｄ）に示すように、スタンパ１から上記の各クラッド
層３，５と樹脂フィルム４とを一体に剥離（分離）して
も（請求項１４，２２の第４工程）、樹脂フィルム４は
反曲せず、平面性の高い積層体３４５、即ち、樹脂フィ
ルム４と、この樹脂フィルム４の両面部に積層された、
それぞれ同じ樹脂材からなる（つまり、同等の収縮率を
有する）クラッド層３，５と、これらの各クラッド層
３，５の一方（クラッド層３）の表面に設けられた凹凸
とをそなえて成る、積層体（光メモリ素子用積層体：請
求項２０に相当）３４５が製造される。

【００８２】そして、図７（Ｅ）に示すように、この積
層体３４５の上下を反転して、凹凸のついたクラッド層
３上に、さらに、樹脂製のコア層２を形成する（請求項
１４の第５工程）と、樹脂フィルム４と、その両面部に
積層された、同じ樹脂材からなるクラッド層３，５と、
これらのコア層２とクラッド層３との界面２３に設けら
れた凹凸（ピット）とを有して成る、積層体（光メモリ
素子用積層体：請求項１２に相当）１１（以下、１層フ
ィルム１１という）が製造される。

【００８３】なお、このときのコア層２の形成手法は、
紫外線硬化性樹脂材からなるコア剤をクラッド層３上に
塗布し硬化させてもよいし、溶媒に溶解したコア剤をク
ラッド層３上に塗布し乾燥させてもよいが、１層フィル
ム１１の反曲の抑制を考慮するなら、後者の手法を採っ
た方がよい。次に、上述のごとく製造される１層フィル
ム１１を複数枚用意し、これらの各１層フィルム１１
を、例えば図８に示すように、接着後に樹脂製のクラッ
ド層として機能する接着剤８により積層接着する。例え
ば、或る１層フィルム１１のコア層２と他の１層フィル
ム１１のクラッド層５とを接着剤８を介して相互に積層
して接着する。

【００８４】なお、この場合も、各１層フィルム１１に
それぞれ予め接着剤８を塗布しておいてもよいし、１層
フィルム１１の積層毎に接着剤８を塗布していってもよ
い。また、この接着剤８についても、第１実施形態と同
様に、屈折率がコア層２よりも僅かに小さくクラッド層
３と略同一の値をもつ透明なものを用いればよいが、使
用材料点数の削減を考慮するなら、クラッド層（クラッ
ド剤）３と同一のものがよい。

【００８５】また、この場合は、接着剤８がクラッド層
として機能するので、図８中に示すように、クラッド層
５と接着剤８とが１層分のクラッド層５８として機能す
ることになる。これにより、樹脂製のコア層２と、この
コア層２の両面部に積層された樹脂製のクラッド層３，
５８と、これらのコア層２とクラッド層３，５８との界
面２３，２８の一方（界面２３）に設けられた凹凸とを
そなえて成る光導波路デバイス（光導波部材）２３５８
が複数個積層されるとともに、これらの各光導波路デバ
イス２３５８間に樹脂フィルム４の設けられた、多層光
メモリ５Ｃが製造される。

【００８６】そして、上述のごとく構成された多層光メ
モリ５Ｃでも、例えば、或る光導波路デバイス２３５８
のコア層２に光を入力すると、その入力光がクラッド層
３，５８との界面２３，２８の一方（界面２３）に設け
られた凹凸（ピット）で散乱し、その散乱光が上下方向
のそれぞれに伝播してゆき、最終的に多層光メモリ５Ｃ
の両面部から外部へ放出される。

【００８７】なお、この場合も、上述のごとく多層光メ
モリ５Ｃの両面部から散乱光を放出させる必要が無い場
合は、最下層に位置する樹脂フィルム４については、必
ずしも使用光波長域で透明である必要は無い。以上のよ
うに、本第３実施形態においても、コア層２とその両面
部に積層された各クラッド層３，８（５８）がいずれも
樹脂製なので、従来のようにフォトレジストの露光と現
像とを用いることなく、上述したごとくスタンパ１の転
写により凹凸のついたコア層２を簡単に形成することが
できる。

【００８８】さらに、樹脂フィルム４の両面部に、それ
ぞれ同じ紫外線硬化性樹脂材からなるクラッド層３，５
を同じ膜厚で形成することで、樹脂フィルム４の両面部
に設けられた各クラッド層３，５の硬化時の収縮バラン
スを確保した上で、スタンパ１からの分離工程を行なっ
たのち、クラッド層３上へのコア層２の形成を行なうの
で、平面性の高い１層フィルム１１を極めて容易且つ確
実に製造することができる。

【００８９】また、このように１層フィルム１１の反曲
が最小限に抑制されていることから、多層光メモリ５Ｃ
を製造する際の積層工程が容易になり、多層光メモリ５
Ｃを極めて短期間で大量に生産することが可能となり、
安価な多層光メモリ５Ｃを早期に提供することができ
る。さらに、製造される多層光メモリ５Ｃの反曲も最小
限に抑制されるので、高い平面性を得ることができ、こ
れにより、情報読取時の信頼性も向上する。

【００９０】また、本実施形態でも、１層フィルム１１
の積層工程で使用する接着剤８がクラッド層として機能
する（兼用になる）ので、多層光メモリ５Ｃの厚みも薄
くすることができ、多層光メモリ５Ｃの小型化にも寄与
する。なお、上述した例では、スタンパ１上にクラッド
剤３を塗布し、その上から樹脂フィルム４を載置するこ
とで樹脂フィルム４の貼着を行なっているが、例えば、
クラッド剤３を予め塗布した樹脂フィルム４をスタンパ
１上に貼着してもよいし、樹脂フィルム４とスタンパ１
との双方にクラッド剤３を塗布しておき、これらを貼り
合わせてもよい。また、予め両面部にクラッド剤３，５
を塗布した樹脂フィルム４をスタンパ１に貼着してもよ
い。

【００９１】ところで、本第３実施形態においても、例
えば図９に模式的に示すように、コア層２上に、さら
に、樹脂製のクラッド層８を個別に形成すれば、１層光
メモリ５ｃが製造される。即ち、樹脂製のコア層２と、
このコア層２の両面部に積層された樹脂製のクラッド層
３，８と、これらのコア層２とクラッド層３，８との界
面２３，２８の一方（界面２３）に設けられた凹凸と、
クラッド層３に積層された樹脂フィルム４と、この樹脂
フィルム４に積層された、クラッド層３と同じ樹脂材か
らなる（つまり、同等の収縮率を有する）樹脂製のクラ
ッド層５とをそなえて成る、１層光メモリ５ｃ（請求項
１１に相当）が製造される。

【００９２】このように、１層光メモリ５ｃも、その反
曲を最小限に抑制しながら、極めて容易に短期間で大量
生産することが可能となり、小型で安価、しかも、平面
性が高く散乱光による情報読取時の信頼性の高い１層光
メモリ５ｃを早期に提供することができる。そして、こ
の１層光メモリ５ｃを複数個、単なる接着剤を介して積
層接着すれば、上述した多層光メモリ５Ｃと同等の容量
をもった多層光メモリを製造できる。

【００９３】なお、この場合の接着剤についても、第１
実施形態と同様に、使用光波長域で透明なもので、接着
後に簡単に剥がれないものであれば、どのようなものを
適用してもよい。ところで、上述した多層光メモリ５Ｃ
と同等の容量を有する多層光メモリは、次のようにして
も製造することができる。即ち、図７（Ｄ）により前述
したように、スタンパ１からの分離工程によって得られ
る積層体３４５を複数個用意し、これらの各積層体を、
例えば図１０に模式的に示すように、接着後にコア層と
して機能する接着剤１２により積層接着するのである。

【００９４】なお、この場合も、各積層体３４５にそれ
ぞれ予め接着剤１２を塗布しておいてもよいし、積層体
３４５の積層毎に接着剤１２を塗布していってもよい。
また、接着剤１２は、屈折率がクラッド層３，５よりも
僅かに大きくコア層２と略同一の値をもつ透明なものを
用いればよいが、使用材料点数の削減を考慮するなら、
コア層（コア剤）２と同一のものがよい。即ち、紫外線
硬化性樹脂材からなるコア剤を適用して、各１層フィル
ム１１の積層後に、紫外線を照射してそのコア剤を硬化
させることで、コア層１２を形成しつつ各１層フィルム
１１を接着するのがよい。

【００９５】これにより、樹脂製のコア層１２と、この
コア層１２の両面部に積層された樹脂製のクラッド層
３，５と、これらのコア層１２とクラッド層３，５との
界面１２３，１２５の一方（界面１２３）に設けられた
凹凸とをそなえて成る光導波路デバイス１２３５が複数
個積層されるとともに、これらの各光導波路デバイス１
２３５間に樹脂フィルム４が設けられた、多層光メモリ
５Ｄが製造される。

【００９６】つまり、この多層光メモリ５Ｄは、上述し
た多層光メモリ５Ｃにおけるクラッド層８が不要な構造
になる。従って、上記の多層光メモリ５Ｃと同等の容量
をもった多層光メモリ５Ｄを、上述した多層光メモリ５
Ｃよりも薄く実現することができる。また、スタンパ１
からの分離時の反曲を最小限に抑制した平面性の高い積
層体３４５を、複数個、クラッド層３上にコア層２を形
成せずにそのまま、接着剤１２を介して積層接着するの
で、より短期間で多層光メモリ５Ｄを製造することが可
能である。

【００９７】なお、上述した例では、各クラッド層３，
５の材質及び膜厚をそれぞれ同じにすることで、樹脂フ
ィルム４の両面部間の収縮バランスをとっているが、少
なくとも、この収縮バランスをとることができれば、各
クラッド層３，５の材質や膜厚はそれぞれ異なっていて
もよい。例えば、クラッド剤５に、同じ紫外線硬化性樹
脂材でも、クラッド剤３よりも硬化時の収縮率が高いも
のを適用すれば、クラッド剤５の塗布膜厚は、クラッド
剤３の塗布膜厚よりも薄くすることができ、また、紫外
線硬化性樹脂材以外でも、クラッド剤３と同等の収縮率
をもつ樹脂材を適用すれば、上記の収縮バランスをとっ
て、樹脂フィルム４の反曲を防止することができる。

【００９８】（Ｄ）第４実施形態の説明 次に、本発明の第４実施形態としての光メモリ素子（光
メモリ素子用積層体）の製造方法について、図１１及び
図１２に示す模式的側面図を用いて説明する。まず、図
１１（Ａ）に示すように、スタンパ１上に、所定の膜厚
となるようにコア剤２を塗布し、図１１（Ｂ）に示すよ
うに、その上から、樹脂製のクラッド層として機能する
樹脂フィルム（樹脂製フィルム部材）４′を載置する。
つまり、スタンパ１に、コア剤２を介して、樹脂製のク
ラッド層として機能する樹脂フィルム４′をラミネート
（貼着）する（請求項１９の第１工程）。

【００９９】次に、上記のコア剤２を、紫外線照射によ
り硬化させてコア層２を形成するとともに、樹脂フィル
ム４′の接着を行ない（請求項１９の第２工程）、その
後、図１１（Ｃ）に示すように、樹脂フィルム４′上
に、さらに、コア剤２と同じ紫外線硬化性樹脂材からな
るコア剤６をコア剤２と同じ膜厚で塗布し、紫外線照射
により硬化させて樹脂製のコア層６を形成する（請求項
１９の第３工程）。

【０１００】これにより、樹脂フィルム４′の両面部側
において、各コア層（コア剤）２，６の硬化時の収縮力
が同等に働き、樹脂フィルム４′の両面部間の紫外線硬
化性樹脂による収縮バランスがとられた状態となる。よ
って、図１１（Ｄ）に示すように、各コア層２，６及び
樹脂フィルム４′をスタンパ１から一体に（積層体４２
６として）剥離（分離）しても（請求項１９の第４工
程）、樹脂フィルム４′は反曲せず、平面性の高い積層
体（光メモリ素子用積層体）１３（以下、「１層フィル
ム１３」という）、即ち、樹脂フィルム（クラッド層）
４′と、このクラッド層４′の両面部に積層された、そ
れぞれ同じ樹脂材，同じ膜厚（つまり、同等の収縮率を
有する）樹脂製のコア層２，６とをそなえるとともに、
これらの各コア層２，６の一方（コア層２）の表面に凹
凸の設けられた、１層フィルム１３（請求項１７に相
当）が製造される。

【０１０１】そして、上述のごとく製造される１層フィ
ルム１３を複数枚用意し、これらの各１層フィルム１３
を、例えば図１２に示すように、接着後に樹脂製のクラ
ッド層（クラッド剤）として機能する接着剤８により積
層接着する（請求項１８に相当）。即ち、例えば、或る
１層フィルム１３のコア層２と他の１層フィルム１３の
コア層６とを接着剤８を介して相互に積層して接着す
る。

【０１０２】なお、この場合も、各１層フィルム１３に
それぞれ予め接着剤８を塗布しておいてもよいし、１層
フィルム１３の積層毎に接着剤８を塗布していってもよ
い。また、この接着剤８についても、屈折率がコア層
２，６よりも僅かに小さくクラッド層４′と略同一の値
をもつ透明なものを用いればよい。これにより、図１２
中に示すように、樹脂製のコア層２と、このコア層２の
両面部に積層された樹脂製のクラッド層４′，８と、こ
れらのコア層２とクラッド層４′，８の界面２４，２８
の一方（界面２８）に設けられた凹凸とをそなえて成る
光導波路デバイス（光導波部材）２４８が複数個積層さ
れるとともに、これらの各光導波路デバイス２４８間
に、コア層２と同じ樹脂材，同じ膜厚の（つまり、コア
層２と同等の収縮率を有する）コア層６が設けられた、
多層光メモリ５Ｅ（請求項１６に相当）が製造される。

【０１０３】そして、上述のごとく構成された多層光メ
モリ５Ｅでも、例えば、或る光導波路デバイス２４８の
コア層２に光を入力すると、その入力光がクラッド層
４′，８との界面２３，２８の一方（界面２８）に設け
られた凹凸（ピット）で散乱し、その散乱光が上下方向
のそれぞれに伝播してゆき、最終的に多層光メモリ５Ｅ
の両面部から外部へ放出される。

【０１０４】以上のように、本第３実施形態において
も、コア層２とその両面部に積層された各クラッド層
４′，８がいずれも樹脂製なので、従来のようにフォト
レジストの露光と現像とを用いることなく、上述したご
とくスタンパ１の転写により凹凸のついたコア層２を簡
単に形成することができる。さらに、樹脂フィルム４′
の両面部に、それぞれ同じ紫外線硬化性樹脂材からなる
コア層２，６を同じ膜厚で形成することで、樹脂フィル
ム４′の両面部に設けられた各コア層２，６の硬化時の
収縮バランスを確保した上で、スタンパ１からの分離工
程を行なうので、平面性の高い１層フィルム１３を極め
て容易且つ確実に製造することができる。

【０１０５】また、このように１層フィルム１３の反曲
が最小限に抑制されていることから、多層光メモリ５Ｅ
を製造する際の積層工程が容易になり、多層光メモリ５
Ｅを極めて短期間で大量に生産することが可能となり、
安価な多層光メモリ５Ｅを早期に提供することができ
る。さらに、製造される多層光メモリ５Ｅの反曲も最小
限に抑制されるので、高い平面性を得ることができ、こ
れにより、情報読取時の信頼性も向上する。

【０１０６】また、本実施形態では、樹脂フィルム４′
がクラッド層として機能するとともに、１層フィルム１
３の積層工程で使用する接着剤８がクラッド層として機
能する（兼用になる）ので、多層光メモリ５Ｅの厚みを
さらに薄くして、その大幅な小型化を図ることもでき
る。なお、上述した例では、スタンパ１上にコア剤２を
塗布し、その上から樹脂フィルム４を載置することで樹
脂フィルム４′の貼着を行なっているが、例えば、コア
剤２を予め塗布した樹脂フィルム４′をスタンパ１上に
貼着してもよいし、樹脂フィルム４′とスタンパ１との
双方にコア剤２を塗布しておき、これらを貼り合わせて
もよい。また、予め両面部にコア剤２，６を塗布した樹
脂フィルム４′をスタンパ１に貼着してもよい。

【０１０７】ところで、本第４実施形態においても、例
えば図１３に模式的に示すように、１層フィルム１３の
上下を反転して、凹凸のついたコア層２上に、さらに、
樹脂製のクラッド層８を個別に形成すれば、１層光メモ
リ５ｅが製造される。即ち、樹脂製のコア層２と、この
コア層２の両面部に積層された樹脂製のクラッド層
４′，８と、これらのコア層２とクラッド層４′，８と
の界面２４，２８の一方（界面２８）に設けられた凹凸
と、各クラッド層４′，８の一方（クラッド層４′）に
積層された、コア層２と同じ樹脂材，同じ膜厚の（つま
り、コア層２と同等の収縮率を有する）コア層６とをそ
なえて成る、１層光メモリ５ｅ（請求項１５に相当）が
製造される。

【０１０８】このように、１層光メモリ５ｅも、その反
曲と厚みを最小限に抑制しながら、極めて容易に短期間
で大量生産することが可能となり、小型で安価、しか
も、平面性が高く散乱光による情報読取時の信頼性の高
い１層光メモリ５ｅを早期に提供することができる。そ
して、この１層メモリ５ｅを複数個、単なる接着剤を介
して積層接着すれば、上述した多層光メモリ５Ｅと同等
の容量をもった多層光メモリを製造できる。

【０１０９】なお、この場合の接着剤についても、使用
光波長域で透明なもので、接着後に簡単に剥がれないも
のであれば、どのようなものを適用してもよい。 （Ｅ）その他 上述した例では、樹脂フィルム４（４′）を貼着する
際、貼着対象のクラッド剤３やコア剤２を、貼着前に予
めある程度硬化（不完全硬化）させておき、この状態
で、樹脂フィルム４（４′）の貼着を行なってもよい。
このようにすれば、樹脂フィルム４（４′）の貼着圧力
によるクラッド剤３やコア剤２の膜厚変動を抑制するこ
とができるので、クラッド層３やコア層２の膜厚制御が
容易になる。特に、光導波路であるコア層２の膜厚制御
は非常に重要であるので、コア剤２を半硬化させること
は有効である。

【０１１０】また、多層光メモリ５Ａや５Ｂ〜５Ｅを製
造する際、上述した１層光メモリ５ｂや５ｃ，５ｅ，１
層フィルム１０や１１，１３，積層体３４５を貼り合わ
せる（積層する）向きは同一方向でもよいし、互い違い
等のように違った向きでもよい。例えば、１層フィルム
１０や１１の場合は、コア層２同士を接着後にクラッド
層として機能する接着剤８により接着することで得られ
る積層体を複数用意し、これらの積層体を単なる接着剤
で積層接着することも可能である。

【０１１１】さらに、このような積層工程においては、
多層光メモリ５Ａや５Ｂ〜５Ｅの物理的な強度を確保す
るために支持基板となる平板等を一緒に貼り合わせても
良い。例えば、多層光メモリ５Ａ〜５Ｅの表面或いは内
部に適宜数の平板を積層接着しても良い。ただし、スラ
ブ型光導波路デバイス２３８や２４８，１２３５，２３
５８が平板に両側から挟み込まれる場合は、少なくとも
一方（散乱光の外部放出面）が使用光波長領域で透明で
なければならない。

【０１１２】また、上述した例では、いずれも、凹凸
（ピット）がコア層とクラッド層との界面の一方に設け
られているが、本発明はこれに限定されず、例えば、こ
れらのコア層とクラッド層との界面の他方に設けられて
いてもよいし、各界面の双方に設けられていてもよい。
つまり、コア層を伝播（導波）する入力光を散乱させる
ことができる構造になっていればよい。

【０１１３】さらに、上述した１層フィルム１０や１
１，１３，積層体３４５において、収縮バランス層とし
て機能する樹脂層（１層フィルム１０の場合はクラッド
層５及びコア層６、１層フィルム１１の場合は樹脂層
９、１層フィルム１３の場合はコア層６，積層体３４５
の場合はクラッド層５）にも、凹凸（ピット）を設けて
もよい。

【０１１４】このようにすれば、上記の各樹脂層は収縮
バランス層として機能するだけでなく、別の光導波路デ
バイスの構成要素としても機能することになる。従っ
て、光メモリ素子の平面性を高く保ちながら、その容量
を大幅に増加することが可能になる。また、上述した実
施形態では、樹脂フィルム４をラミネートする際、気泡
の混入を防止するために、樹脂フィルム４を曲げながら
静置しているが、この際に、例えば、ローラ等を用いて
樹脂フィルム４に一定の圧力を加えておけば、気泡混入
（接着むら）防止効果がより高くなる。ただし、この場
合、加圧により樹脂フィルム４（４′）のラミネート対
象のクラッド層３の膜厚が変動してしまう可能性が高
い。

【０１１５】そこで、例えば、クラッド層３を形成する
際、クラッド剤３を２層に分けて塗布・硬化させること
で、これを防止することが考えられる。例えば、図１
（Ａ）〜図１（Ｃ）や図４（Ａ）〜図４（Ｃ）により前
述した各工程を例にすると、次のような代替工程が考え
られる。即ち、まず、図１４（Ａ）に示すように、スタ
ンパ１上にコア剤２を塗布し硬化させてコア層２を形成
した後、図１４（Ｂ）に示すように、その上に、紫外線
硬化性樹脂材からなるクラッド剤（液状クラッド樹脂）
３ａを塗布し硬化させてクラッド層３ａを形成する。

【０１１６】その後、図１４（Ｃ）に示すように、上記
のクラッド層３ａ上に、クラッド剤３ａと同じクラッド
剤（液状クラッド樹脂）３ｂを塗布し、その上から、例
えば図１４（Ｄ）に示すように、ローラ等を用いて加圧
しながら樹脂フィルム４をラミネートする。このとき、
コア剤２及びクラッド剤３ａはそれぞれ硬化してコア層
２及びクラッド層３ａとなっているので、いずれの層
２，３ａの膜厚は変動しない（必要なコア膜厚，クラッ
ド膜厚が確保される）。

【０１１７】かかる状態で、クラッド剤３ｂを硬化させ
れば、クラッド層３ａと同じ材質のクラッド層３ｂが形
成されるとともに、樹脂フィルム４の接着が行なわれ
る。これにより、コア層２と樹脂フィルム４との間に、
１層分のクラッド層３として機能するクラッド層３ａ，
３ｂが形成される。このように、クラッド層３を段階的
に形成することで、コア層２だけでなくクラッド層３の
膜厚制御も容易になるので、所望の光導波条件をもった
光メモリ素子（１層光メモリ，多層光メモリ）を確実に
実現することができる。なお、上記のラミネート時の加
圧値は、具体的には、例えば、単位長さ当たりの圧力
（線圧力）で、０．０１〜１０〔Ｎ（ニュートン）／ｃ
ｍ〕の範囲の値が好ましく、より好ましくは、０．１〜
１（Ｎ／ｃｍ）の範囲の値がよい。

【０１１８】なお、上記のプロセスは、加圧による膜厚
変動が生じうる被ラミネート対象の樹脂剤であれば同様
に適用することが可能である。例えば、図７（Ａ），
（Ｂ）や図１１（Ａ），（Ｂ）に示す工程において、樹
脂フィルム４や４′を加圧しながらクラッド剤３やコア
剤２にラミネートしたい場合には、これらのクラッド剤
３やコア剤２を上記と同様に段階的に塗布・硬化すれば
よいことになる。

【０１１９】また、上述した実施形態では、成形済の樹
脂フィルム４（４′）の貼着（ラミネート）による積層
を行なっているが、例えば、乾燥後に樹脂フィルム４
（４′）として機能する樹脂材を溶媒に溶解したもの
（樹脂フィルム剤）を塗布し乾燥させることで、樹脂フ
ィルム４（４′）の積層（形成と接着）を行なうように
してもよい。

【０１２０】そして、本発明は上述した各実施形態に限
定されるものではなく、上記以外にも、本発明の趣旨を
逸脱しない範囲で種々変形して実施することができる。

【０１２１】

【発明の効果】以上詳述したように、本発明の光メモリ
素子（請求項１）によれば、樹脂製の第１コア層と、こ
の第１コア層の両面部に積層された樹脂製の第１及び第
２クラッド層と、これらの第１コア層と第１及び第２ク
ラッド層との界面の少なくとも一方に設けられた凹凸部
と、上記の第１クラッド層に積層された樹脂製基体層
と、この樹脂製基体層に積層された、上記第１クラッド
層と同等の収縮率を有する樹脂製の第３クラッド層と、
この第３クラッド層に積層された、上記第１コア層と同
等の収縮率を有する樹脂製の第２コア層とをそなえてい
るので、次のような利点が得られる。

【０１２２】（ａ）上記の第１コア層とその両面部に積
層された第１及び第２クラッド層とがいずれも樹脂製な
ので、従来のようにフォトレジストの露光と現像とを用
いることなく、スタンパの転写により凹凸のついたコア
層を簡単に形成することができる。従って、１層分の光
メモリ素子を極めて容易に短期間で大量生産することが
可能となり、安価な光メモリ素子を早期に提供すること
ができる。

【０１２３】（ｂ）樹脂製基体層の両面部において、樹
脂製の（第１及び第３）クラッド層及び樹脂製の（第１
及び第２）コア層による収縮力がそれぞれ同等に働くの
で、樹脂製基体層の両面部間の収縮バランスが確保され
て、樹脂製基体層ひいては光メモリ素子の反曲を最小限
に抑制することができる。また、本発明の光メモリ素子
（請求項２）によれば、樹脂製の第１コア層と、この第
１コア層の両面部に積層された樹脂製の第１及び第２ク
ラッド層と、これらの第１コア層と第１及び第２クラッ
ド層との界面の少なくとも一方に設けられた凹凸部とを
そなえて成る光導波部材が複数個積層されるとともに、
これらの各光導波部材間に、一方の面部に上記の第１ク
ラッド層と同等の収縮率を有する樹脂製の第３クラッド
層が積層されるとともに、この第３クラッド層に上記の
第１コア層と同等の収縮率を有する樹脂製の第２コア層
が積層された、樹脂製基体層が設けられているので、次
のような利点が得られる。

【０１２４】（ａ）光導波部材を構成する上記の第１コ
ア層とその両面部に積層された第１及び第２クラッド層
とがいずれも樹脂製なので、従来のようにフォトレジス
トの露光と現像とを用いることなく、スタンパの転写に
より凹凸のついたコア層を簡単に形成することができ
る。従って、１層分の光導波部材を極めて容易に短期間
で大量生産することが可能となり、この光導波部材を多
層に積層した多層構造の光メモリ素子（以下、多層光メ
モリという）を、安価且つ早期に提供できる。

【０１２５】（ｂ）樹脂製基体層の両面部において、樹
脂製の（第１及び第３）クラッド層及び樹脂製の（第１
及び第２）コア層による収縮力がそれぞれ同等に働くの
で、樹脂製基体層の両面部間の収縮バランスが確保され
て、樹脂製基体層ひいては多層光メモリの反曲を最小限
に抑制することができる。さらに、本発明の光メモリ素
子用積層体（請求項３）によれば、樹脂製基体層を中心
として、それぞれ同等の収縮率を有する樹脂製クラッド
層と樹脂製コア層とが対象に積層されているので、樹脂
製基体層の両面部側において、各樹脂層の収縮力が同等
に働いて、樹脂製基体層の両面部間の収縮バランスが確
保され、樹脂製基体層の反曲が最小限に抑制される。

【０１２６】そして、この光メモリ素子用積層体を複数
個用意し、これらの各光メモリ素子用積層体を、接着後
に樹脂製クラッド層として機能する接着剤により積層接
着すれば、各光メモリ素子用積層体の反曲が最小限に抑
制されていることから、その積層工程が容易になり、多
層光メモリを極めて短期間で大量に生産することが可能
となり、安価な多層光メモリを早期に提供することがで
きる。また、この場合は、上記の接着剤と樹脂製クラッ
ド層とが兼用になるので、多層光メモリの厚みも薄くす
ることができる（請求項４）。

【０１２７】ここで、上記の光メモリ素子用積層体は、
例えば、（１）表面に凹凸形状を有するスタンパ上に所
望の硬化性樹脂材からなるコア剤を塗布し硬化させて樹
脂製の第１コア層を形成する第１工程と、（２）この第
１コア層上に所望の硬化性樹脂材からなるクラッド剤を
介して樹脂製基体層となる樹脂製フィルム部材を貼着す
る第２工程と、（３）上記のクラッド剤を硬化させて樹
脂製の第１クラッド層を形成する第３工程と、（４）上
記のクラッド剤と同じ硬化性樹脂材からなるクラッド剤
を樹脂製フィルム部材上に塗布し硬化させて樹脂製の第
２クラッド層を形成する第４工程と、（５）この第２ク
ラッド層上に上記のコア剤と同じ硬化性樹脂材からなる
コア剤を塗布し硬化させて樹脂製の第２コア層を形成す
る第５工程と、（６）スタンパから上記の各コア層，各
クラッド層及び樹脂製フィルム部材を一体に分離する第
６工程とにより製造することができる。

【０１２８】従って、この製造方法（請求項５）によれ
ば、次のような利点が得られる。 （ａ）従来のようにフォトレジストの露光と現像とを用
いることなく、スタンパからの転写によって凹凸のつい
たコア層を容易に形成することができる。 （ｂ）スタンパ上に塗布したコア剤を硬化させてから、
樹脂製フィルム部材の貼着工程を行なうので、貼着圧力
による樹脂製の（第１）コア層の膜厚変動（光導波条件
の変動）が生じず、光メモリ素子の光導波条件を決定す
るのに重要な凹凸のついた（第１）コア層の膜厚制御が
容易である。

【０１２９】（ｃ）樹脂製基体層（樹脂フィルム部材）
を中心として、その両面部側に、それぞれ同じ硬化性樹
脂材からなる樹脂製のクラッド層とコア層とを対象とな
るように、順次、形成することで、樹脂製基体層の両面
部側に設けられた各硬化性樹脂層の硬化時の収縮バラン
スを確保した上で、スタンパからの分離工程を行なうの
で、樹脂製基体層の反曲を最小限に抑制した光メモリ素
子用積層体を極めて容易且つ確実に製造することができ
る。

【０１３０】また、本発明の光メモリ素子（請求項６）
によれば、樹脂製の第１コア層と、この第１コア層の両
面部に積層された樹脂製の第１及び第２クラッド層と、
これらの第１コア層と第１及び第２クラッド層との界面
の少なくとも一方に設けられた凹凸部と、上記の第１ク
ラッド層に積層された樹脂製基体層と、この樹脂製基体
層に積層された、上記の第１コア層及び第１クラッド層
それぞれの硬化時収縮率の合計（合成収縮率）と同等の
収縮率を有する樹脂材から成る樹脂層とをそなえて成る
ので、次のような利点が得られる。

【０１３１】（ａ）上記の第１コア層とその両面部に積
層された第１及び第２クラッド層とがいずれも樹脂製な
ので、従来のようにフォトレジストの露光と現像とを用
いることなく、スタンパの転写により凹凸のついたコア
層を簡単に形成することができる。従って、１層分の光
メモリ素子を極めて容易に短期間で大量生産することが
可能となり、安価な光メモリ素子を早期に提供すること
ができる。

【０１３２】（ｂ）樹脂製基体層の両面部において、上
記の第１コア層及び第１クラッド層による収縮力と１層
分の上記樹脂層の収縮力とが同等に働くので、樹脂製基
体層の両面部間の収縮バランスがとられる。従って、樹
脂製基体層ひいては１層分の光メモリ素子の反曲を抑制
しつつ、その厚みも薄くすることができる。さらに、本
発明の光メモリ素子（請求項７）によれば、樹脂製の第
１コア層と、この第１コア層の両面部に積層された樹脂
製の第１及び第２クラッド層と、これらの第１コア層と
第１及び第２クラッド層との界面の少なくとも一方に設
けられた凹凸部とをそなえて成る光導波部材が複数個積
層されるとともに、これらの各光導波部材間に、一方の
面部に、上記の第１コア層及び第１クラッド層の合成収
縮率と同等の収縮率を有する樹脂材から成る樹脂層が積
層された、樹脂製基体層が設けられているので、次のよ
うな利点が得られる。

【０１３３】（ａ）光導波部材を構成する上記の第１コ
ア層とその両面部に積層された第１及び第２クラッド層
とがいずれも樹脂製なので、従来のようにフォトレジス
トの露光と現像とを用いることなく、スタンパの転写に
より凹凸のついたコア層を簡単に形成することができ
る。従って、１層分の光導波部材を極めて容易に短期間
で大量生産することが可能となり、この光導波部材を多
層に積層した多層光メモリを、安価且つ早期に提供でき
る。

【０１３４】（ｂ）樹脂製基体層の両面部において、上
記の第１コア層及び第１クラッド層による収縮力と１層
分の上記樹脂層の収縮力とが同等に働くので、樹脂製基
体層の両面部間の収縮バランスが確保されて、樹脂製基
体層ひいては多層光メモリの反曲を最小限に抑制するこ
とができる。従って、樹脂製基体層ひいては多層光メモ
リの反曲を最小限に抑制することができる。また、収縮
バランスをとるための樹脂層が１層なので、多層光メモ
リの小型化にも寄与する。

【０１３５】また、本発明の光メモリ素子用積層体（請
求項８）によれば、樹脂製基体層の一方の面部に積層さ
れた第１コア層及び第１クラッド層の収縮率と、他方の
面部に積層された１層分の樹脂層の収縮率とが同等なの
で、樹脂製基体層の両面部においてそれぞれ同等の収縮
力が働き、樹脂製基体層の両面部間の収縮バランスがと
られる。従って、樹脂製基体層の反曲が最小限に抑制さ
れ、この場合は、その厚みも薄くすることができる。

【０１３６】そして、この光メモリ素子用積層体を複数
個用意し、これらの各光メモリ素子用積層体を、接着後
に樹脂製クラッド層として機能する接着剤により積層接
着すれば、各光メモリ素子用積層体の反曲が最小限に抑
制されていることから、その積層工程が容易になり、多
層光メモリを極めて短期間で大量に生産することが可能
となり、安価な多層光メモリを早期に提供することがで
きる。また、この場合は、光メモリ素子用積層体自体の
厚みも薄くなっており、しかも、上記の接着剤と樹脂製
クラッド層とが兼用になるので、多層光メモリの厚みを
さらに薄くして小型化を図ることができる（請求項
９）。

【０１３７】ここで、上記の光メモリ素子用積層体は、
例えば、（１）表面に凹凸形状を有するスタンパ上に所
望の硬化性樹脂材からなるコア剤を塗布し硬化させて樹
脂製の第１コア層を形成する第１工程と、（２）この第
１コア層上に所望の硬化性樹脂材からなるクラッド剤を
介して樹脂製基体層となる樹脂製フィルム部材を貼着す
る第２工程と、（３）上記のクラッド剤を硬化させて樹
脂製の第１クラッド層を形成する第３工程と、（４）上
記のコア剤及びクラッド剤の合成収縮率と同等の収縮率
を有する硬化性樹脂剤を樹脂製フィルム部材上に塗布し
硬化させて樹脂層を形成する第４工程と、（５）スタン
パから上記のコア層，各クラッド層，樹脂製フィルム部
材及び樹脂層を一体に分離する第５工程とにより製造す
ることができる。

【０１３８】従って、この製造方法（請求項１０）によ
れば、次のような利点が得られる。 （ａ）従来のようにフォトレジストの露光と現像とを用
いることなく、スタンパからの転写によって凹凸のつい
た（第１）コア層を容易に形成することができる。 （ｂ）スタンパ上に塗布したコア剤を硬化させてから、
樹脂製フィルム部材の貼着工程を行なうので、貼着圧力
による樹脂製の（第１）コア層の膜厚変動（光導波条件
の変動）が生じず、光メモリ素子の光導波条件を決定す
るのに重要な凹凸のついた（第１）コア層の膜厚制御が
容易である。

【０１３９】（ｃ）樹脂製基体層（樹脂フィルム部材）
を中心として、その一方の面部に、硬化性樹脂材からな
る第１コア層及び第１クラッド層を形成し、他方の面部
にこれらの各層の合成収縮率と同等の収縮率を有する硬
化性樹脂材からなる樹脂層を形成することで、これらの
各層の収縮バランスをとった上で、スタンパからの分離
工程を行なうので、樹脂製基体層の反曲を最小限に抑制
した光メモリ素子用積層体を極めて容易且つ確実に製造
することができる。

【０１４０】（ｄ）上記の第１コア層及び第１クラッド
層に対する上記収縮バランスを１層分の樹脂層（コア剤
及びクラッド剤の合成収縮率と同等の収縮率を有する硬
化性樹脂剤）でとることができるので、光メモリ素子用
積層体の厚みを薄くすることができる。さらに、本発明
の光メモリ素子（請求項１１）によれば、樹脂製の第１
コア層と、この第１コア層の両面部に積層された樹脂製
の第１及び第２クラッド層と、これらの第１コア層と第
１及び第２クラッド層との界面の少なくとも一方に設け
られた凹凸部と、上記の第１クラッド層に積層された樹
脂製基体層と、この樹脂製基体層に積層された、上記の
第１クラッド層と同等の収縮率を有する樹脂製の第３ク
ラッド層とをそなえて成るので、次のような利点が得ら
れる。

【０１４１】（ａ）上記の第１コア層とその両面部に積
層された第１及び第２クラッド層とがいずれも樹脂製な
ので、従来のようにフォトレジストの露光と現像とを用
いることなく、スタンパの転写により凹凸のついたコア
層を簡単に形成することができる。従って、１層分の光
メモリ素子を極めて容易に短期間で大量生産することが
可能となり、安価な光メモリ素子を早期に提供すること
ができる。

【０１４２】（ｂ）少なくとも、樹脂製基体層の両面部
に積層された各クラッド層の収縮率が同等なので、樹脂
製基体層を中心として、これらの各層の収縮バランスが
とられる。従って、樹脂製基体層ひいては１層分の光メ
モリ素子の反曲を或る程度抑制することが可能である。
また、本発明の光メモリ素子用積層体（請求項１２）に
よれば、樹脂製基体層の両面部に積層された、それぞれ
同等の収縮率を有する樹脂製クラッド層と、これらの各
樹脂製クラッド層の一方に積層された樹脂製コア層と、
上記の樹脂製コア層と樹脂製クラッド層との界面に設け
られた凹凸部とをそなえているので、少なくとも、樹脂
製基体層の両面部において上記各樹脂製クラッド層によ
り同等の収縮力が働き、樹脂製基体層の両面部間の収縮
バランスがとらる。従って、樹脂製基体層ひいては光メ
モリ素子用積層体の反曲が抑制される。

【０１４３】そして、この光メモリ素子用積層体を複数
個用意し、これらの各光メモリ素子用積層体を、接着後
に樹脂製クラッド層として機能する接着剤により積層接
着すれば、各光メモリ素子用積層体の反曲が抑制されて
いることから、その積層工程が容易になり、多層光メモ
リを極めて短期間で大量に生産することが可能となり、
安価な多層光メモリを早期に提供することができる。ま
た、接着剤が樹脂製クラッド層として兼用になるので、
多層光メモリの厚みを薄くして小型化も図ることができ
る（請求項１３）。

【０１４４】ここで、この光メモリ素子用積層体は、例
えば、（１）表面に凹凸形状を有するスタンパ上に所望
の硬化性樹脂材からなるクラッド剤を介して樹脂製基体
層となる樹脂製フィルム部材を貼着する第１工程と、
（２）上記のクラッド剤を硬化させて樹脂製の第１クラ
ッド層を形成する第２工程と、（３）上記の樹脂製フィ
ルム部材上に上記のクラッド剤と同じ硬化性樹脂材から
なるクラッド剤を塗布し硬化させて樹脂製の第２クラッ
ド層を形成する第３工程と、（４）上記の各クラッド層
及び樹脂製フィルム部材を一体に分離する第４工程と、
（５）スタンパにより上記凹凸形状の形成された第１ク
ラッド層上に樹脂製コア層を形成する第５工程とにより
製造することができる。

【０１４５】従って、この製造方法（請求項１４）によ
れば、次のような利点が得られる。 （ａ）従来のようにフォトレジストの露光と現像とを用
いることなく、スタンパからの転写によって凹凸のつい
た樹脂製コア層を容易に形成することができる。 （ｂ）樹脂製基体層（樹脂フィルム部材）を中心とし
て、その両面部に、同じ硬化性樹脂材からなるクラッド
層を形成して、これらの各層の収縮バランスをとった上
で、スタンパからの分離工程を行ない、その後、樹脂製
コア層の形成を行なうので、樹脂製基体層の反曲を最小
限に抑制した光メモリ素子用積層体を極めて容易且つ確
実に製造することができる。また、樹脂製コア層の膜厚
制御も容易である。

【０１４６】また、本発明の光メモリ素子（請求項１
５）によれば、樹脂製の第１コア層と、この第１コア層
の両面部に積層された樹脂製の第１及び第２クラッド層
と、これらの第１コア層と上記の第１及び第２クラッド
層との界面の少なくとも一方に設けられた凹凸部と、上
記の第１及び第２クラッド層の一方に積層された、第１
コア層と同等の収縮率を有する樹脂製の第２コア層とを
そなえて成るので、次のような利点が得られる。

【０１４７】（ａ）上記の第１コア層とその両面部に積
層された第１及び第２クラッド層とがいずれも樹脂製な
ので、従来のようにフォトレジストの露光と現像とを用
いることなく、スタンパの転写により凹凸のついたコア
層を簡単に形成することができる。従って、１層分の光
メモリ素子を極めて容易に短期間で大量生産することが
可能となり、安価な光メモリ素子を早期に提供すること
ができる。

【０１４８】（ｂ）樹脂製基体層を中心として、その両
面部に同等の収縮率を有する第１及び第２コア層が積層
されているので、樹脂製基体層の両面部間の収縮バラン
スがとられて、樹脂製基体層の反曲、ひいては、１層分
の光メモリ素子の反曲が抑制される。さらに、本発明の
光メモリ素子（請求項１６）によれば、樹脂製の第１コ
ア層と、この第１コア層の両面部に積層された樹脂製の
第１及び第２クラッド層と、これらの第１コア層と上記
の第１及び第２クラッド層との界面の少なくとも一方に
設けられた凹凸部とをそなえて成る光導波部材が複数個
積層されるとともに、これらの各光導波部材間に、上記
の第１コア層と同等の収縮率を有する樹脂製の第２コア
層が設けられているので、次のような利点が得られる。

【０１４９】（ａ）光導波部材を構成する上記の第１コ
ア層とその両面部に積層された第１及び第２クラッド層
とがいずれも樹脂製なので、従来のようにフォトレジス
トの露光と現像とを用いることなく、スタンパの転写に
より凹凸のついたコア層を簡単に形成することができ
る。従って、１層分の光導波部材を極めて容易に短期間
で大量生産することが可能となり、この光導波部材を多
層に積層した多層光メモリを、安価且つ早期に提供でき
る。

【０１５０】（ｂ）樹脂製基体層の両面部において、上
記の第１コア層による収縮力と第２コア層による収縮力
とが同等に働くので、樹脂製基体層の両面部間の収縮バ
ランスが確保されて、樹脂製基体層ひいては多層光メモ
リの反曲を最小限に抑制することができる。従って、樹
脂製基体層ひいては多層光メモリの反曲を最小限に抑制
することができる。また、収縮バランスをとるための樹
脂層が第２コア層の１層だけなので、多層光メモリの小
型化にも寄与する。

【０１５１】さらに、本発明の光メモリ素子用積層体
（請求項１７）によれば、樹脂製クラッド層と、この樹
脂製クラッド層の両面部に積層された、それぞれ同等の
収縮率を有する樹脂製コア層とをそなえるとともに、上
記の各樹脂製コア層の少なくとも一方の表面に凹凸部が
設けられているので、樹脂製基体層の両面部間の収縮バ
ランスがとられる。従って、樹脂製基体層ひいては光メ
モリ素子用積層体の反曲が抑制される。また、樹脂製基
体層には、その両面部に樹脂製コア層が設けられている
だけであるので、その厚みも薄くなる。

【０１５２】そして、この光メモリ素子用積層体を複数
個用意し、これらの各光メモリ素子用積層体を、接着後
に樹脂製クラッド層として機能する接着剤により積層接
着すれば、各光メモリ素子用積層体の反曲が抑制されて
いることから、その積層工程がになり、多層光メモリを
極めて短期間で大量に生産することが可能となり、安価
な多層光メモリを早期に提供することができる。また、
この場合は、各光メモリ素子用積層体の厚みがそれぞれ
薄いことと、接着剤が樹脂製クラッド層として兼用にな
ることから、多層光メモリの厚みを大幅に薄くしてその
小型化を図ることができる（請求項１８）。

【０１５３】ここで、この光メモリ素子用積層体は、例
えば、（１）表面に凹凸形状を有するスタンパ上に所望
の硬化性樹脂材からなるコア剤を介して樹脂製クラッド
層として機能する樹脂製フィルム部材を貼着する第１工
程と、（２）上記のコア剤を硬化させて樹脂製の第１コ
ア層を形成する第２工程と、（３）上記の樹脂製フィル
ム部材上に上記のコア剤と同じ硬化性樹脂材からなるコ
ア剤を塗布し硬化させて樹脂製の第２コア層を形成する
第３工程と、（４）スタンパから上記の各コア層及び樹
脂製フィルム部材を一体に分離する第４工程とにより製
造することができる。

【０１５４】従って、この製造方法（請求項１９）によ
れば、次のような利点が得られる。 （ａ）従来のようにフォトレジストの露光と現像とを用
いることなく、スタンパからの転写によって凹凸のつい
た樹脂製コア層を容易に形成することができる。 （ｂ）樹脂製基体層（樹脂フィルム部材）を中心とし
て、その両面部に、同じ硬化性樹脂材からなるコア層を
形成して、これらの各層の収縮バランスをとった上で、
スタンパからの分離工程を行なうので、樹脂製基体層の
反曲を最小限に抑制した光メモリ素子用積層体を極めて
容易且つ確実に製造することができる。

【０１５５】（ｃ）前述した他の製造方法よりも、製造
工程が簡略化されているので、１つの光メモリ素子用積
層体の製造期間がさらに短縮されて、１層分の光メモリ
素子，多層光メモリのさらなる大量生産が可能になる。
さらに、本発明の光メモリ素子用積層体（請求項２０）
によれば、樹脂製基体層と、この樹脂製基体層の両面部
に積層された、それぞれ同等の収縮率を有する樹脂製ク
ラッド層と、これらの各樹脂製クラッド層の一方の表面
に設けられた凹凸部とをそなえて成るので、この場合
も、樹脂製基体層の両面部間の収縮バランスがとられ
る。従って、樹脂製基体層ひいては光メモリ素子用積層
体の反曲が抑制される。また、樹脂製基体層には、その
両面部に樹脂製クラッド層が設けられているだけである
ので、その厚みも薄くなる。

【０１５６】そして、この光メモリ素子用積層体を複数
個用意し、これらの各光メモリ素子用積層体を、接着後
に樹脂製コア層として機能する接着剤により積層接着す
れば、各光メモリ素子用積層体の反曲が抑制されている
ことから、その積層工程がになり、多層光メモリを極め
て短期間で大量に生産することが可能となり、安価な多
層光メモリを早期に提供することができる。また、この
場合は、各光メモリ素子用積層体の厚みがそれぞれ薄い
ことと、接着剤が樹脂製コア層として兼用になることか
ら、多層光メモリの厚みを大幅に薄くしてその小型化を
図ることができる（請求項２１）。

【０１５７】ここで、この光メモリ素子用積層体は、例
えば、（１）表面に凹凸形状を有するスタンパ上に所望
の硬化性樹脂材からなるクラッド剤を介して樹脂製基体
層となる樹脂製フィルム部材を貼着する第１工程と、
（２）上記のクラッド剤を硬化させて樹脂製の第１クラ
ッド層を形成する第２工程と、（３）上記の樹脂製フィ
ルム部材上に上記のクラッド剤と同じ硬化性樹脂材から
なるクラッド剤を塗布し硬化させて樹脂製の第２クラッ
ド層を形成する第３工程と、（４）上記の各クラッド層
及び樹脂製フィルム部材を一体に分離する第４工程とに
より製造することができる。

【０１５８】従って、この製造方法（請求項２２）によ
れば、次のような利点が得られる。 （ａ）従来のようにフォトレジストの露光と現像とを用
いることなく、スタンパからの転写によって、樹脂製コ
ア層と界面を形成すべき樹脂製クラッド層に容易に凹凸
を形成することができる。 （ｂ）樹脂製基体層（樹脂フィルム部材）を中心とし
て、その両面部に、同じ硬化性樹脂材からなる樹脂製ク
ラッド層を形成して、これらの各層の収縮バランスをと
った上で、スタンパからの分離工程を行なうので、樹脂
製基体層の反曲を最小限に抑制した光メモリ素子用積層
体を極めて容易且つ確実に製造することができる。

【０１５９】（ｃ）凹凸のついた樹脂製クラッド層上に
樹脂製コア層を形成するための工程が省略されているの
で、１つの光メモリ素子用積層体の製造期間が短縮され
て、１層分の光メモリ素子，多層光メモリのさらなる大
量生産が可能になる。

【図面の簡単な説明】

【図１】（Ａ）〜（Ｆ）はいずれも本発明の第１実施形
態としての光メモリ素子（光メモリ素子用積層体）の製
造方法を説明するための模式的側面図である。

【図２】本発明の第１実施形態としての光メモリ素子
（多層光メモリ）の製造方法を説明するための模式的側
面図である。

【図３】本発明の第１実施形態としての光メモリ素子
（１層光メモリ）の製造方法を説明するための模式的側
面図である。

【図４】（Ａ）〜（Ｅ）はいずれも本発明の第２実施形
態としての光メモリ素子（光メモリ素子用積層体）の製
造方法を説明するための模式的側面図である。

【図５】本発明の第２実施形態としての光メモリ素子
（多層光メモリ）の製造方法を説明するための模式的側
面図である。

【図６】本発明の第２実施形態としての光メモリ素子
（１層光メモリ）の製造方法を説明するための模式的側
面図である。

【図７】（Ａ）〜（Ｅ）はいずれも本発明の第３実施形
態としての光メモリ素子（光メモリ素子用積層体）の製
造方法を説明するための模式的側面図である。

【図８】本発明の第３実施形態としての光メモリ素子
（多層光メモリ）の製造方法を説明するための模式的側
面図である。

【図９】本発明の第３実施形態としての光メモリ素子
（１層光メモリ）の製造方法を説明するための模式的側
面図である。

【図１０】本発明の第３実施形態としての光メモリ素子
（多層光メモリ）の他の製造方法を説明するための模式
的側面図である。

【図１１】（Ａ）〜（Ｄ）はいずれも本発明の第４実施
形態としての光メモリ素子（光メモリ素子用積層体）の
製造方法を説明するための模式的側面図である。

【図１２】本発明の第４実施形態としての光メモリ素子
（多層光メモリ）の製造方法を説明するための模式的側
面図である。

【図１３】本発明の第４実施形態としての光メモリ素子
（１層光メモリ）の製造方法を説明するための模式的側
面図である。

【図１４】（Ａ）〜（Ｄ）はいずれもその他の光メモリ
素子の製造方法を説明するための模式的側面図である。

【図１５】従来の光メモリ素子の動作原理を説明するた
めの模式的斜視図である。

【図１６】従来の光メモリ素子の動作原理を説明するた
めの模式的斜視図である。

【図１７】（Ａ），（Ｂ）は従来の光メモリ素子の製造
方法を説明するための模式的斜視図である。

【符号の説明】

１ スタンパ ２ コア剤（液状コア樹脂；コア層） ３，３ａ，３ｂ クラッド剤（液状クラッド樹脂；クラ
ッド層） ５ クラッド剤〔液状クラッド樹脂；クラッド層（収縮
バランス用）〕 ６ コア剤〔液状コア樹脂；コア層（収縮バランス
用）〕 ４ 樹脂フィルム（樹脂製フィルム部材：樹脂製基体
層） ４′ 樹脂フィルム（クラッド層） ５Ａ〜５Ｅ 光メモリ素子（多層光メモリ） ５ａ〜５ｃ，５ｅ 光メモリ素子（１層光メモリ） ７，１０，１１，１３ 積層体（光メモリ素子用積層
体：１層フィルム） ８ 接着剤（クラッド層） ９ 樹脂層（収縮バランス層） １２ 接着剤（コア層） ２３，２４，２８，１２３，１２５ 界面 ４９，４５６ 積層体 ５８ クラッド層 ２３８，２４８，１２３５，２３５８ 光導波路デバイ
ス（光導波部材） ３４５ 積層体（光メモリ素子用積層体）

Claims (22)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 樹脂製の第１コア層と、 該第１コア層の両面部に積層された樹脂製の第１及び第
   ２クラッド層と、 上記の第１コア層と第１及び第２クラッド層との界面の
   少なくとも一方に設けられた凹凸部と、 該第１クラッド層に積層された樹脂製基体層と、 該樹脂製基体層に積層された、該第１クラッド層と同等
   の収縮率を有する樹脂製の第３クラッド層と、 該第３クラッド層に積層された、該第１コア層と同等の
   収縮率を有する樹脂製の第２コア層とをそなえて成るこ
   とを特徴とする、光メモリ素子。
2. 【請求項２】 樹脂製の第１コア層と、該第１コア層の
   両面部に積層された樹脂製の第１及び第２クラッド層
   と、上記の第１コア層と第１及び第２クラッド層との界
   面の少なくとも一方に設けられた凹凸部とをそなえて成
   る光導波部材が複数個積層されるとともに、 該光導波部材間に、 一方の面部に該第１クラッド層と同等の収縮率を有する
   樹脂製の第３クラッド層が積層されるとともに、該第３
   クラッド層に該第１コア層と同等の収縮率を有する樹脂
   製の第２コア層が積層された、樹脂製基体層が設けられ
   ていることを特徴とする、光メモリ素子。
3. 【請求項３】 樹脂製基体層と、 該樹脂製基体層の両面部に積層された、それぞれ同等の
   収縮率を有する樹脂製クラッド層と、 上記の各樹脂製クラッド層のそれぞれに積層された、そ
   れぞれ同等の収縮率を有する樹脂製コア層と、 上記の各樹脂製コア層の少なくとも一方の表面に設けら
   れた凹凸部とをそなえて成ることを特徴とする、光メモ
   リ素子用積層体。
4. 【請求項４】 請求項３記載の光メモリ素子用積層体を
   複数個用意し、該光メモリ素子用積層体を、接着後に樹
   脂製クラッド層として機能する接着剤により積層接着す
   ることを特徴とする、光メモリ素子の製造方法。
5. 【請求項５】 表面に凹凸形状を有するスタンパ上に所
   望の硬化性樹脂材からなるコア剤を塗布し硬化させて樹
   脂製の第１コア層を形成する第１工程と、 該第１コア層上に所望の硬化性樹脂材からなるクラッド
   剤を介して樹脂製基体層となる樹脂製フィルム部材を貼
   着する第２工程と、 該クラッド剤を硬化させて樹脂製の第１クラッド層を形
   成する第３工程と、 該クラッド剤と同じ硬化性樹脂材からなるクラッド剤を
   該樹脂製フィルム部材上に塗布し硬化させて樹脂製の第
   ２クラッド層を形成する第４工程と、 該第２クラッド層上に該コア剤と同じ硬化性樹脂材から
   なるコア剤を塗布し硬化させて樹脂製の第２コア層を形
   成する第５工程と、 該スタンパから上記の各コア層，各クラッド層及び樹脂
   製フィルム部材を一体に分離する第６工程とをそなえて
   成ることを特徴とする、光メモリ素子用積層体の製造方
   法。
6. 【請求項６】 樹脂製の第１コア層と、 該第１コア層の両面部に積層された樹脂製の第１及び第
   ２クラッド層と、 上記の第１コア層と第１及び第２クラッド層との界面の
   少なくとも一方に設けられた凹凸部と、 該第１クラッド層に積層された樹脂製基体層と、 該樹脂製基体層に積層された、該第１コア層及び該第１
   クラッド層の合成収縮率と同等の収縮率を有する樹脂材
   から成る樹脂層とをそなえて成ることを特徴とする、光
   メモリ素子。
7. 【請求項７】 樹脂製の第１コア層と、該第１コア層の
   両面部に積層された樹脂製の第１及び第２クラッド層
   と、上記の第１コア層と第１及び第２クラッド層との界
   面の少なくとも一方に設けられた凹凸部とをそなえて成
   る光導波部材が複数個積層されるとともに、 該光導波部材間に、 一方の面部に、該第１コア層及び該第１クラッド層の合
   成収縮率と同等の収縮率を有する樹脂材から成る樹脂層
   が積層された、樹脂製基体層が設けられていることを特
   徴とする、光メモリ素子。
8. 【請求項８】 樹脂製基体層と、 該樹脂製基体層の一方の面部に積層された樹脂製クラッ
   ド層と、 該樹脂製クラッド層に積層された樹脂製コア層と、 該樹脂製コア層の表面に設けられた凹凸部と、 該樹脂製基体層の他方の面部に積層された、該樹脂製コ
   ア層及び該樹脂製クラッド層の合成収縮率と同等の収縮
   率を有する樹脂材から成る樹脂層とをそなえて成ること
   を特徴とする、光メモリ素子用積層体。
9. 【請求項９】 請求項８記載の光メモリ素子用積層体を
   複数個用意し、該光メモリ素子用積層体を、接着後に樹
   脂製クラッド層として機能する接着剤により積層接着す
   ることを特徴とする、光メモリ素子の製造方法。
10. 【請求項１０】 表面に凹凸形状を有するスタンパ上に
    所望の硬化性樹脂材からなるコア剤を塗布し硬化させて
    樹脂製の第１コア層を形成する第１工程と、 該第１コア層上に所望の硬化性樹脂材からなるクラッド
    剤を介して樹脂製基体層となる樹脂製フィルム部材を貼
    着する第２工程と、 該クラッド剤を硬化させて樹脂製の第１クラッド層を形
    成する第３工程と、 該コア剤及び該クラッド剤の合成収縮率と同等の収縮率
    を有する硬化性樹脂剤を該樹脂製フィルム部材上に塗布
    し硬化させて樹脂層を形成する第４工程と、 該スタンパから上記のコア層，各クラッド層，樹脂製フ
    ィルム部材及び樹脂層を一体に分離する第５工程とをそ
    なえて成ることを特徴とする、光メモリ素子用積層体の
    製造方法。
11. 【請求項１１】 樹脂製の第１コア層と、 該第１コア層の両面部に積層された樹脂製の第１及び第
    ２クラッド層と、 上記の第１コア層と第１及び第２クラッド層との界面の
    少なくとも一方に設けられた凹凸部と、 該第１クラッド層に積層された樹脂製基体層と、 該樹脂製基体層に積層された、該第１クラッド層と同等
    の収縮率を有する樹脂製の第３クラッド層とをそなえて
    成ることを特徴とする、光メモリ素子。
12. 【請求項１２】 樹脂製基体層と、 該樹脂製基体層の両面部に積層された、それぞれ同等の
    収縮率を有する樹脂製クラッド層と、 上記の各樹脂製クラッド層の一方に積層された樹脂製コ
    ア層と、 該樹脂製コア層と該樹脂製クラッド層との界面に設けら
    れた凹凸部とをそなえて成ることを特徴とする、光メモ
    リ素子用積層体。
13. 【請求項１３】 請求項１２記載の光メモリ素子用積層
    体を複数個用意し、該光メモリ素子用積層体を、接着後
    に樹脂製クラッド層として機能する接着剤により積層接
    着することを特徴とする、光メモリ素子の製造方法。
14. 【請求項１４】 表面に凹凸形状を有するスタンパ上に
    所望の硬化性樹脂材からなるクラッド剤を介して樹脂製
    基体層となる樹脂製フィルム部材を貼着する第１工程
    と、 該クラッド剤を硬化させて樹脂製の第１クラッド層を形
    成する第２工程と、 該樹脂製フィルム部材上に該クラッド剤と同じ硬化性樹
    脂材からなるクラッド剤を塗布し硬化させて樹脂製の第
    ２クラッド層を形成する第３工程と、 上記の各クラッド層及び樹脂製フィルム部材を一体に分
    離する第４工程と、 該スタンパにより該凹凸形状の形成された該第１クラッ
    ド層上に樹脂製コア層を形成する第５工程とをそなえて
    成ることを特徴とする、光メモリ素子用積層体の製造方
    法。
15. 【請求項１５】 樹脂製の第１コア層と、 該第１コア層の両面部に積層された樹脂製の第１及び第
    ２クラッド層と、 該第１コア層と上記の第１及び第２クラッド層との界面
    の少なくとも一方に設けられた凹凸部と、 上記の第１及び第２クラッド層の一方に積層された、該
    第１コア層と同等の収縮率を有する樹脂製の第２コア層
    とをそなえて成ることを特徴とする、光メモリ素子。
16. 【請求項１６】 樹脂製の第１コア層と、該第１コア層
    の両面部に積層された樹脂製の第１及び第２クラッド層
    と、該第１コア層と上記の第１及び第２クラッド層との
    界面の少なくとも一方に設けられた凹凸部とをそなえて
    成る光導波部材が複数個積層されるとともに、 該光導波部材間に、 該第１コア層と同等の収縮率を有する樹脂製の第２コア
    層が設けられていることを特徴とする、光メモリ素子。
17. 【請求項１７】 樹脂製クラッド層と、 該樹脂製クラッド層の両面部に積層された、それぞれ同
    等の収縮率を有する樹脂製コア層とをそなえるととも
    に、 上記の各樹脂製コア層の少なくとも一方の表面に凹凸部
    が設けられていることを特徴とする、光メモリ素子用積
    層体。
18. 【請求項１８】 請求項１７記載の光メモリ素子用積層
    体を複数個用意し、該光メモリ素子用積層体を、接着後
    に樹脂製クラッド層として機能する接着剤により積層接
    着することを特徴とする、光メモリ素子の製造方法。
19. 【請求項１９】 表面に凹凸形状を有するスタンパ上に
    所望の硬化性樹脂材からなるコア剤を介して樹脂製クラ
    ッド層として機能する樹脂製フィルム部材を貼着する第
    １工程と、 該コア剤を硬化させて樹脂製の第１コア層を形成する第
    ２工程と、 該樹脂製フィルム部材上に該コア剤と同じ硬化性樹脂材
    からなるコア剤を塗布し硬化させて樹脂製の第２コア層
    を形成する第３工程と、 該スタンパから上記の各コア層及び樹脂製フィルム部材
    を一体に分離する第４工程とをそなえて成ることを特徴
    とする、光メモリ素子用積層体の製造方法。
20. 【請求項２０】 樹脂製基体層と、 該樹脂製基体層の両面部に積層された、それぞれ同等の
    収縮率を有する樹脂製クラッド層と、 上記の各樹脂製クラッド層の一方の表面に設けられた凹
    凸部とをそなえて成ることを特徴とする、光メモリ素子
    用積層体。
21. 【請求項２１】 請求項２０記載の光メモリ素子用積層
    体を複数個用意し、該光メモリ素子用積層体を、接着後
    に樹脂製コア層として機能する接着剤により積層接着す
    ることを特徴とする、光メモリ素子の製造方法。
22. 【請求項２２】 表面に凹凸形状を有するスタンパ上に
    所望の硬化性樹脂材からなるクラッド剤を介して樹脂製
    基体層となる樹脂製フィルム部材を貼着する第１工程
    と、 該クラッド剤を硬化させて樹脂製の第１クラッド層を形
    成する第２工程と、 該樹脂製フィルム部材上に該クラッド剤と同じ硬化性樹
    脂材からなるクラッド剤を塗布し硬化させて樹脂製の第
    ２クラッド層を形成する第３工程と、 上記の各クラッド層及び樹脂製フィルム部材を一体に分
    離する第４工程とをそなえて成ることを特徴とする、光
    メモリ素子用積層体の製造方法。