JP2001092149A - 処理液温調装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 処理液の加熱時及び冷却時のオーバーシュー
トを軽減し、かつ加熱源及び冷却源の無駄なオン・オフ
動作を抑制する。 【解決手段】 ヒータユニット２０６の発熱部２０６Ａ
に対して、循環パイプ２１０の小孔２１０Ａを対向させ
て配置し、循環によって冷却された処理液を直接発熱部
２０６Ａへ向けて噴出させるようにし、ヒータユニット
２０６のオフへの切替えのための温度しきい値と、ポン
プ２１２のオンへの切替えのための温度しきい値と、に
差を持たせたため、オーバーシュートが軽減されると共
に、温度上昇及び温度下降時の傾きを和らげることがで
き、処理液の温度を安定させることができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、感光材料を処理す
る処理液の温度を調整するための感光材料処理装置の処
理液温調装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】感光材料処理装置では、画像露光をした
感光材料を搬送しながら、この感光材料を処理液に浸漬
したり、水平搬送する感光材料の表面に処理液を吹き付
けるなどして、複数の処理液によって処理をする。

【０００３】例えば、感光性平版印刷版（以下「ＰＳ
版」と言う）を処理する感光材料処理装置（ＰＳ版プロ
セッサー）では、ＰＳ版を現像液に浸漬して現像処理を
した後、水洗水で水洗処理をして版面保護のためのガム
液等の不感脂化処理液を塗布する不感脂化処理を行な
う。

【０００４】このようなＰＳ版プロセッサーにおいて、
特に現像液等は処理をする適性な温度が常温よりも高い
ため、ヒータを現像液等の中に配置して加熱するように
している。現像液の温度は、温度センサにより検出さ
れ、この温度センサの検出値に基づいてヒータがオン・
オフ制御される。

【０００５】一方、現像液の温度が高すぎる場合、逆に
冷却する必要がある。そこで、冷却源（チラー）によっ
て冷却された媒体が循環する冷却パイプの一部を現像液
に浸漬させ、過加熱された現像液を適性な温度に保持す
るようにしている。このチラー源も前記温度センサの検
出値に基づいてオン・オフ制御されている。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】ここで、ヒータやチラ
ーは、単純なオン・オフ制御であるため、共にオーバー
シュートがあり、加熱しすぎ及び冷却しすぎが繰り返さ
れ、現像液温度が不安定となっていた。

【０００７】この不安定な分、余計にオン・オフ制御が
必要となり、ヒータ及びチラーを無駄に動作させること
にもなる。

【０００８】本発明は上記事実を考慮し、処理液の加熱
時及び冷却時のオーバーシュートを軽減し、かつ加熱源
及び冷却源の無駄なオン・オフ動作を抑制することがで
きる処理液温調装置を得ることが目的である。

【０００９】

【課題を解決するための手段】請求項１に係る発明は、
感光材料を処理する貯留された処理液の温度を調整する
処理液温調装置であって、前記貯留された処理液中に配
設され前記処理液を加熱する加熱手段と、前記貯留され
た処理液を管路に取り入れる取入口と、前記取入口から
前記管路に取り入れた前記処理液を前記加熱手段に向け
て吐出する吐出口と、前記取入口から取り入れた前記処
理液を前記管路を介して前記吐出口へ循環させる循環手
段と、前記管路の途中に設けて循環する前記処理液を冷
却する冷却手段と、を備えたことを特徴としている。

【００１０】請求項２に記載の発明は、前記請求項１に
記載の発明のおいて、前記加熱手段をオフにする温度と
前記冷却手段をオンにする温度、または前記加熱手段を
オンにする温度と前記冷却手段をオフにする温度のうち
の少なくとも一方に温度差を持たせたことを特徴として
いる。する請求項１記載の処理液温調装置。

【００１１】請求項３に記載の発明は、前記請求項１又
は請求項２に記載の発明のおいて、循環する前記処理液
を前記冷却手段によって冷却する前記管路の処理液流入
側と処理液流出側のうちの一方を上位とし他方を下位と
して、前記管路の下位位置に前記処理液の排出口を設け
たことを特徴としている。

【００１２】請求項１に記載の発明によれば、冷却手段
によって冷却された処理液を吐出口から吐出して、再度
処理液中へ戻すときに、加熱手段にこの冷却された処理
液を吹き付けるようにしたため、加熱手段による加熱度
合い（傾き）を弱め加熱手段オフ後のオーバーシュート
を軽減することができる。また、冷却された処理液も加
熱手段から熱を受けるため、冷却手段オフ後のオーバー
シュートが軽減される。

【００１３】ここで、請求項２に記載の発明のように、
加熱手段をオフにする温度と前記冷却手段をオンにする
温度、または前記加熱手段をオンにする温度と前記冷却
手段をオフにする温度のうちの少なくとも一方に温度差
を持たせることにより、加熱された処理液と冷却された
処理液とが適度な安定した温度調整が可能となる。

【００１４】請求項３に記載の発明によれば、処理液を
冷却する管路の処理液流入側と流出側のうちの一方を上
位、他方を下位とする構造とすることで、循環用手段の
非作動時等において、管路の下位の処理液流出口を開放
することによって管路内の処理液を自重で管路外へ流出
させることができ、管路内に処理液が長期間滞留するこ
とによる処理液に含まれる薬剤等の析出や固化の発生を
防止することができる。

【００１５】

【発明の実施の形態】図１には、本実施の形態に係る処
理液温調装置２００が示されている。

【００１６】処理タンク２０２内には、感光材料等の被
処理部材を処理するための処理液２０４が貯留されてい
る。

【００１７】処理液２０４は、処理するときの適温があ
り、この適温に維持するための手段として、処理タンク
２０２内には、ヒータユニット２０６が設置されてい
る。

【００１８】ヒータユニット２０６は、棒状の発熱部２
０６Ａを備えており、この発熱部２０６Ａへ防水用配管
２０６Ｂ内で電気的配線を施すことによって、発熱部２
０６Ａを発熱させることができる。処理液２０４は、こ
の発熱部２０６Ａの発熱によって加熱される。

【００１９】また、処理タンク２０２内には、温度セン
サ２０８が配設されている。温度センサ２０８の検出部
は、処理タンク２０２の処理液２０４中にあり、処理液
２０４の平均的な温度を検出することができる位置に配
置されている。すなわち、ヒータユニット２０６の発熱
部２０６Ａの接近しすぎず、かつ遠すぎない位置に配置
されている。

【００２０】この温度センサ２０８によって検出された
処理液２０４の温度は、温調制御部（図示省略）に入力
されるようになっている。この温調制御部には、前記ヒ
ータユニット２６を通電、非通電（オン・オフ）するた
めのドライバ（図示省略）も接続されている。ここで、
温調制御部では、温度センサ２０８からの検出温度に基
づいて、ヒータユニット２０６のオン・オフ制御を実行
している。

【００２１】本実施の形態では、処理液２０４の調整温
度が３０℃であり、このときのヒータユニット２０６の
オンタイミングは２９．９℃、オフタイミングは３０．
１℃である。

【００２２】ところで、ヒータユニット２０６のオン・
オフ制御のみで処理液２０４が調整温度（３０℃）に安
定すればよいが、オン・オフ制御の特性上、オーバシュ
ートが存在するため、処理液２０４は、ある温度幅（振
幅）で正弦波状の温度特性となる。

【００２３】これを抑制するために、処理タンク２０２
には、冷却手段の一部を構成する循環パイプ２１０を配
設している。

【００２４】循環パイプ２１０は、後述する配管構成に
より、処理タンク２０２内の処理液２０４を所定の流量
で循環させる役目を有している。この処理液の循環によ
って処理タンク２０２内の処理液２０４の温度むらを軽
減することができる。

【００２５】本実施の形態では、この処理液循環用の配
管系に処理液２０４を冷却する手段を装備しており、前
記温度センサ２０８からの検出温度に基づいて循環・循
環停止（後述するポンプ２１２のオン・オフ）を実行し
ている。本実施の形態では、処理液２０４の調整温度が
３０℃の場合に、３０．５℃で循環オン、２９．９℃で
循環オフとしている。

【００２６】以下、処理液循環兼冷却配管構造を説明す
る。

【００２７】図１に示される如く、処理タンク２０２の
底部には、処理液２０４を処理タンク２０２から排出す
るための排出口２１４が設けられ、この排出口２１４か
ら排出された処理液２０４は、配管２１６によって、円
筒形フィルタ２１８の底部に位置するフィルタ流入口２
１８Ａに接続されている。

【００２８】なお、この配管２１６は分岐され、分岐さ
れた側の配管２２０は、ストップバルブ２２２を介して
解放されている。

【００２９】フィルタ２１８の周面には、フィルタ２１
８内で処理液２０４に含まれるゴミ等が取り除かれた処
理液２０４が流出する流出口２１８Ｂが設けられ、この
流出口２１８Ｂは、配管２２４を介してポンプ２１２の
流入口２１２Ａに接続されている。

【００３０】ポンプ２１２は、所謂羽根車構造であり、
軸芯部に流入した処理液２０４を、遠心力によって内周
面方向へ移動させる。ポンプ２１２の周面には、接線方
向に沿った流出口２１２Ｂが設けられており、内周面と
いう移動方向の制限がなくなった処理液２０４が流出口
２１２Ｂから勢いよく流出する構造となっている。

【００３１】このポンプ２１２の流出口２１２Ｂは、配
管２２６を介して熱交換部２２８の流入口２２８Ａに接
続されている。

【００３２】熱交換部２２８は、箱型の冷却タンク２３
０と、この冷却タンク２３０内に配設された循環パイプ
被冷却部としての螺旋状の熱交換パイプ２３２とで構成
されている。この熱交換パイプ２３２の上位側開口は、
前記熱交換部２２８の流入口２２８Ａに接続されてお
り、下位側開口は、前記流入口２２８Ａに対して同一面
の対角線上に設けられた流出口２２８Ｂに接続されてい
る。

【００３３】すなわち、ポンプ２１２から吐出された処
理液２０４は、熱交換パイプ２３２の上位開口から熱交
換部２２８へ入り込み、下位開口から排出されることに
なる。

【００３４】冷却タンク２３０には、冷却装置（チラ
ー）２３４との間での循環（配管２３６、２３８によ
る）によって冷却水が常に貯留されている。このため、
処理液２０４は熱交換パイプ２３２を通過することによ
って降温冷却される。

【００３５】また、この冷却タンク２３０には、冷却水
排出口２３０Ａが設けられている。この冷却水排出口２
３０Ａは、冷却タンク２３０内の冷却水を廃棄する場合
に用いられるものであり、この冷却水排出口２３０Ａに
は、廃棄用の配管２４０が接続されている。この廃棄用
の配管２４０の途中にはストップバルブ２４２が設けら
れており、通常は閉じられている。

【００３６】熱交換部２２８の流出口２２８Ｂは、配管
２４４を介して処理タンク２０２の外側の側部に配設さ
れたチャンバー２４６の流入口２４６Ａに接続されてい
る。このチャンバー２４６の流出口２４６Ｂは、処理タ
ンク２０２内に配設された循環パイプ２１０の一端が接
続されている。

【００３７】循環パイプ２１０は、直線状で、処理タン
ク２０２内において前記ヒータユニット２０６の発熱部
２０６Ａの軸線と平行に、かつ接近して配置されてい
る。また、循環パイプ２１０の前記発熱部２０６Ａに向
けられた周面には、軸線方向に沿って複数の小孔２１０
Ａが設けられ、この小孔２１０Ａから冷却された処理液
２０４が吐出するようになっている。なお、上記構造の
ため、吐出する処理液（冷却された後の処理液）２０４
は、発熱部２０６Ａに直接吹き付けられることになる。

【００３８】なお、熱交換部２２８の流出口２２８Ｂに
接続された配管２４４は、途中で分岐されており、この
分岐された配管２４８は、ストップバルブ２５０を介し
て開放されている。

【００３９】また、発熱部２０６Ａに向けて冷却した処
理液２０４を吐出するのに発熱部２０６Ａの軸線方向端
部に冷却した処理液２０４を吐出する吐出口を設けて、
冷却した処理液２０４を発熱部２０６Ａの表面の軸線方
向端部から他端部い沿って流れるようにして発熱部２０
６Ａを冷却するようにしてもよい。

【００４０】以下に本実施の形態の作用を説明する。 （温調制御）図２に示される如く、例えば常温（約２０
℃）からヒータユニット２０６をオンさせつづけ（図２
の矢印Ａ）、３０．１℃となった時点でヒータユニット
２０６をオフする（図２の矢印Ｂ）。このとき、ヒータ
ユニット２０６がオフにあっても、余熱により処理液２
０４は加熱し続けられオーバーシュートしていく。この
オーバーシュートにより処理液２０４の温度が３０．５
℃なると、ポンプ２１２がオンして処理液２０４の循環
が開始される（図２矢印Ｃ）。

【００４１】処理タンク２０２内の約３０℃の処理液２
０４が循環するとき、熱交換部２２８の熱交換パイプ２
３２を通過し、このときに約２３℃の冷却水によって冷
却されて熱交換パイプ３２を出るときに約２６℃に冷や
された処理液２０４は、処理タンク２０２へ戻される。
冷却された処理液２０４は、小孔２１０Ａから発熱部２
０６Ａに向けて吐出されるため、発熱部２０６Ａの余熱
が急激に減少し、オーバーシュートを軽減する。これに
より、処理液２０４は３０．５℃を若干超えた時点がピ
ークとなり、従来のように３１．０℃までオーバーシュ
ートせずに降温傾向となる。

【００４２】次に、処理液２０４が循環されて冷却され
た処理液２０４によって徐々に温度低下していき、２
９．９℃になると、循環のためのポンプ２１２がオフ
し、同時にヒータユニット２０６をオンさせる。これに
より、処理液２０４は、２９．９℃を若干下回った程度
で昇温傾向に転換する。

【００４３】なお、熱交換部２２８で冷やされた処理液
２０４は小孔２１０Ａから発熱部２０６Ａ向けて吐出さ
れるときは約２７℃になっている。

【００４４】なお処理液２０４の温度が低下して２９．
９℃になったときにポンプ２１２のオフとヒータユニッ
ト２０６のオンと同時に行なうようにしたが処理液２０
４の温度が低下して２９．９℃になる前にポンプ２１２
のオフを行ないその後時間をずらしてヒータユニット２
０６をオンするようにしてもよい。ここで、ヒータユニ
ット２０６をオンした後処理液２０４の温度は２９．９
℃を若干下回った程度で昇温傾向に転換する。

【００４５】このように、本実施の形態では、処理液２
０４自体を循環させ、かつこの循環中に冷却し、さら
に、冷却した処理液２０４をヒータユニット２０６の発
熱部２０６Ａに向かって直接吐出する構造とすると共
に、ヒータユニット２０６のオフへの切替えの温度と、
循環のためのポンプ２１２のオンへの切替えの温度とに
差を設けることによって、従来の温度特性（図２の鎖線
参照）に比べて、時間軸（横軸）の各位置における温度
特性の傾きを小さくし、かつオーバーシュート幅（振
幅）を少なくすることができる。従って、処理液２０４
の温度を安定させることができる。 （処理液２０４の廃液）処理タンク２０２内の処理液２
０４は、定期的に交換することになっている。この場
合、循環系（冷却系）の配管内に処理液２０４が滞留し
ていると、処理液２０４に含まれる薬剤が固化、析出
し、配管路を塞いでしまうことがあり得る。このため、
処理液２０４の交換時には、当該配管内の処理液２０４
を完全に廃棄する必要がある。

【００４６】そこで、本実施の形態では、螺旋状の熱交
換部２２８の処理液流入口２２８Ａを上位側として、流
出口２２８Ｂを下位側としたため、ポンプ２１２の停止
中にストップバルブ２２０、２５０を開放すると、ポン
プ２１２の上流側及び下流側共に配管路が開放され、処
理液２０４を自重で完全に廃棄することができる。

【００４７】なお、これとは逆に処理液流出口２２８Ｂ
を上位側処理液流入口２２８Ａを下位側に配置してスト
ップバルブ２２０、２５０を開放するようにしてもよ
い。

【００４８】

【実施例】以下に第１の実施の形態で説明した温調装置
の適用例を示す。この実施例では、上記第１の実施の形
態で説明した温調装置２００を感光性平版印刷版処理装
置（以下「ＰＳ版プロセッサー」に適用したものであ
る。

【００４９】温調が必要は処理液２０４とは、主に後述
する現像部２２の現像槽２４に貯留された現像液であ
る。 （ＰＳ版プロセッサー１０の全体構造）図３に示される
如く、ＰＳ版プロセッサー１０は、図示しない焼付装置
によって画像焼付けが行なわれた感光性平版印刷版（以
下「ＰＳ版１２」と言う）を現像液で処理する。

【００５０】ＰＳ版プロセッサー１０は、ＰＳ版１２を
現像液で処理するための現像部２２と、現像液による処
理の終了したＰＳ版１２の表面の洗浄と不感脂化処理を
行なうフィニッシャー部２６とが設けられている。現像
部２２は、現像槽２４を備えており、フィニッシャー部
２６は、第１フィニッシャー槽２８、第２フィニッシャ
ー槽３０を備えている。

【００５１】ＰＳ版プロセッサー１０には、処理タンク
１８が配置されており、この処理タンク１８を複数の隔
壁２０によって仕切ることにより、現像槽２４、第１フ
ィニッシャー槽２８及び第２フィニッシャー槽３０が形
成されている。処理タンク１８は、複数の隔壁２０が樹
脂の一体成形によって形成されている。なお、図１で
は、処理タンク１８の形状を模式的に示している。

【００５２】ＰＳ版プロセッサー１０の外板パネル１４
の上部開口を覆う蓋部４０には、現像部２２とフィニッ
シャー部２６との間にＰＳ版１２を挿入するリエントリ
ー用の副挿入口３８が設けられている。この副挿入口３
８は、現像液による処理を除く処理、すなわち、フィニ
ッシャー部２６で洗浄不感脂化処理を行なうためのＰＳ
版１２の挿入用となっている。

【００５３】現像部２２へのＰＳ版１２の挿入側には、
一対のゴム製搬送ローラ３２が配設されており、画像が
焼付けられたＰＳ版１２は、外板パネル１４から突設さ
れた挿入台１６上に載置され、挿入口３４からこの一対
の搬送ローラ３２の間へ挿入されるようになっている。
なお、ＰＳ版プロセッサー１０によって処理されるＰＳ
版１２は、両面に感光層が形成されており、挿入口３４
からＰＳ版プロセッサー１０内へ挿入されるようになっ
ている。

【００５４】一対の搬送ローラ３２は、挿入口３４へＰ
Ｓ版１２が挿入されたことを、挿入口３４の近傍に設け
た図示しない検出器により検出すると作動する図示しな
い駆動手段の駆動力によって回転し、挿入されたＰＳ版
１２を挟持して、ＰＳ版１２を水平方向に対して約１５
°〜３１°の角度傾斜させながら現像部２２へ送り込む
ようになっている。

【００５５】現像部２２には、上方が開口され底部中央
部が下方へ向けて突出された略逆山形状の現像槽２４が
設けられており、この現像槽２４には、処理液としてＰ
Ｓ版１２を処理する現像液が貯留される。また、現像槽
２４内には、ＰＳ版１２の搬送方向に沿った下側にガイ
ド板１００が配設されている。ガイド板１００は、ＰＳ
版１２の搬送方向に沿った上流側と下流側とに２分割さ
れており、その間には、串ローラ１１１が配置されてい
る。搬送ローラ３２によって送り込まれたＰＳ版１２
は、ガイド板１００の上面に沿って案内搬送される。

【００５６】ガイド板１００には、複数のコロローラ
（小型ローラ）１０２が取り付けられている。コロロー
ラ１０２は、ガイド板１００の上面に沿って搬送される
ＰＳ版１２と接触することにより回転し、ＰＳ版１２に
ガイド板１００の上面と接触する摺動による傷つきの発
生を防止している。

【００５７】ガイド板１００は、現像槽２４の底部に沿
って逆山形形状に配置されており、現像槽２４には、こ
のガイド板１００の最低位置を挟んだ上流側及び下流側
のそれぞれに、ブラシローラ１０４、１０６が配置され
ている。このブラシローラ１０４、１０６は、ガイド板
１００上を案内されるＰＳ版１２の上面に対向されてい
る。また、現像槽２４内には、ガイド板１００の下流側
に、ＰＳ版１２の下面に対向するブラシローラ１０８が
配設されている。

【００５８】ブラシローラ１０４、１０６、１０８は、
図示しない駆動手段の駆動力によってＰＳ版１２の搬送
方向に沿って回転駆動されるようになっている。ＰＳ版
１２は、現像液に浸漬されることにより、感光層が露光
画像に応じて膨潤するようになっており、ブラシローラ
１０４、１０６、１０８は、膨潤した不要な感光層をＰ
Ｓ版１２の表面から掻き落とす役目を有している。な
お、ＰＳ版１２が片面（上面）にのみ感光層を有すると
きには、ブラシローラ１０４、１０６によってＰＳ版１
２の版面（上面）側の不要な感光層を除去し、ＰＳ版１
２が両面に感光層を有するときには、ブラシローラ１０
４、１０６によってＰＳ版１２の表面側の不要な感光層
を除去すると共に、ブラシローラ１０８によって裏面
（下面）側の感光層が除去される。

【００５９】ＰＳ版１２から不要な感光層を掻き落とす
ブラシローラ１０４、１０６、１０８の機能を十分に発
揮させるためには、ＰＳ版１２を所定の押圧力でこれら
のブラシローラ１０４、１０６、１０８に押圧する必要
がある。このため、ブラシローラ１０４、１０６には、
串ローラ１１１及びコロローラ１０２が設けられている
ガイド板１００が対向し、ブラシローラ１０８には、串
ローラ１１０が対向して配置されている。これにより、
ブラシローラ１０４、１０６、１０８のそれぞれは所定
の押圧力で、ＰＳ版１２に接触しながら回転するように
なっている。

【００６０】ここで、ブラシローラ１０４に対してガイ
ド板１００はわずかに接触する位置に串ローラ１１１及
びコロローラ１０２は接触しない両端の位置に配置され
ている。またブシローラ１０６に対してもガイド板１０
０はわずかに接触する位置に、コロローラ１０２は接触
しない両端の位置に配置されている。これによって、ブ
ラシローラ１０４、１０６の毛先に部分的な曲がりくせ
が生じることがなく、ＰＳ版１２の版面を均一に強くこ
することができる。

【００６１】ブラシローラ１０８の下流側には、ＰＳ版
１２の裏面に対向する串ローラ１１２が配設され、さら
に、現像部２２の最下流には、一対のゴム製搬送ローラ
１１４が配設されている。ブラシローラ１０８と串ロー
ラ１１０の間を通過したＰＳ版１２は、串ローラ１１２
に案内されて現像槽２４の現像液中から送り出されて一
対のスクイズローラ１１４の間へ送り込まれる。

【００６２】現像部２２には、現像槽２４内の現像液の
液面を覆う液面蓋５０が配置されている。この液面蓋５
０は、下面が現像液の液面より下方となるように配置さ
れ、現像液の液面と空気との接触面積を極力少なくする
ことにより、空気中の炭酸ガスによる現像液の劣化や現
像液中の水分の蒸発を防止している。

【００６３】ＰＳ版１２の搬送方向に沿った液面蓋５０
の両端には、ブレード１１６が取り付けられている。上
流側のブレード１１６は、対で配置されている搬送ロー
ラ３２に接触されており、下流側のブレード１１６は、
対で配置されている搬送ローラ１１４に接触されてお
り、これにより、現像液が外気にさらされるのを防止し
ている。

【００６４】また、排出口３６をＰＳ版１２が通過しな
い時は、シャッター１７２を閉状態にすると共に、現像
部２２の上方をカバー４０で覆って、カバー４０の下面
に液面蓋５０の上端に対応して設けた溝４１に液面蓋５
０の上端を嵌入状態にすることにより、現像部２２内の
空気の流動を抑えて、この空気中の炭酸ガスによる現像
液の劣化を防止している。

【００６５】また、液面蓋５０の下面には、ＰＳ版１２
の搬送方向上流側と下流側の端部に串ローラ１１８、１
２０が取り付けられている。これらの串ローラ１１８、
１２０は、現像槽２４内を搬送されるＰＳ版１２が液面
蓋５０と接触するのを防止している。これにより、ＰＳ
版１２の搬送中に、ＰＳ版１２に若干の弛みが生じた場
合でも、ＰＳ版１２の上面が、感光層を損傷させるほど
硬い液面蓋５０に当接してしまうことがない。

【００６６】対で配置されているスクイズローラ１１４
は、図示しない駆動手段の駆動力によって回転するよう
になっており、これにより、ＰＳ版１２はスクイズロー
ラ１１４によって現像液が絞り取られた後、次工程であ
るフィニッシャー部２６へ送り出される。

【００６７】フィニッシャー部２６は、ＰＳ版１２の搬
送方向に沿って第１フィニッシャー槽２８と第２フィニ
ッシャー槽３０が設けられている。第１フィニッシャー
槽２８及び第２フィニッシャー槽３０のそれぞれには、
ＰＳ版１２の表面を洗浄するための水洗水と不感脂化処
理するためのフィニッシャー液（例えばガム液）が貯留
される。

【００６８】現像部２２に隣接する第１フィニッシャー
槽２８内には、２対の搬送ローラ５２、５３が配設され
ている。これらの搬送ローラ５２、５３は、図示しない
駆動手段の駆動力によって回転駆動して、現像部２２か
ら送り込まれたＰＳ版１２を挟持して略水平に搬送す
る。

【００６９】搬送ローラ５２と搬送ローラ５３の間に
は、ＰＳ版１２の上面及び下面に対向してスプレーパイ
プ５６、１２２が配設されている。スプレーパイプ５
６、１２２は、搬送ローラ５２、５３の軸線方向、すな
わち、ＰＳ版１２の搬送方向に沿って設けられ、ＰＳ版
１２に対向する位置に所定間隔で図示しない吐出口が形
成されている。この吐出口は、スプレーパイプ５６、１
２２の中空の内部に達しており、図示しないポンプによ
って第１フィニッシャー槽２８内の水洗水が汲み上げら
れてスプレーパイプ５６、１２２内に供給されることに
より、この水洗水がＰＳ版１２の上面及び下面へ向けて
吐出される。

【００７０】スプレーパイプ５６、１２２から吐出され
てＰＳ版１２に付着した水洗水は、ＰＳ版１２が一対の
搬送ローラ５３に挟持されることにより、ＰＳ版１２の
上面及び下面に均一に延ばされた後、ＰＳ版１２の表面
から絞り落とされる。これにより、ＰＳ版１２の表面に
付着して残っている現像液が洗い落とされる。

【００７１】第２のフィニッシャー槽３０内には、一対
の搬送ローラ５８が設けられている。ＰＳ版１２は、第
１フィニッシャー槽２８の搬送ローラ５３によって一対
の搬送ローラ５８の間へ送り込まれるようになってい
る。この搬送ローラ５３と搬送ローラ５８との間では、
搬送ローラ５８の方が低位置になるようにＰＳ版１２が
水平方向に対して僅かに傾斜された状態で搬送されるよ
うになっている。

【００７２】第２フィニッシャー槽３０内には、搬送ロ
ーラ５８の上流側にスプレーパイプ１２４が設けられて
いる。このスプレーパイプ１２４は、ＰＳ版１２の上面
に対向して搬送ローラ５８の軸線に沿った配置され、Ｐ
Ｓ版１２に対向する位置に所定の間隔で吐出口が形成さ
れている。

【００７３】また、スプレーパイプ１２４の下方には、
ＰＳ版１２の下面に対向して流出ユニット１２６が配置
されている。この流出ユニット１２６には、ＰＳ版１２
の幅方向に沿って所定の間隔で内部と連通するスリット
が形成されている。

【００７４】スプレーパイプ１２４及び流出ユニット１
２６のそれぞれには、第２フィニッシャー槽３０内に貯
留されているフィニッシャー液が図示しないポンプによ
って汲み上げられて供給されるようになっている。スプ
レーパイプ１２４は、このフィニッシャー液を吐出口か
らＰＳ版１２の上面へ向けて吐出するようになってい
る。これにより、ＰＳ版１２の上面にフィニッシャー液
が均一に塗布される。

【００７５】一対の搬送ローラ５８は、図示しない駆動
手段の駆動力によって回転するようになっており、フィ
ニッシャー部２６で不感脂化処理の終了したＰＳ版１２
は、一対の搬送ローラ５８によって搬送されて、排出口
３６から排出される。

【００７６】フィニッシャー部２６の下流側には、乾燥
装置１５０が配設されており、排出口３６が乾燥装置１
５０への挿入口となっており、ＰＳ版１２は、排出口３
６から排出されることにより乾燥装置１５０内へ送り込
まれる。

【００７７】なお、本発明が適用されるＰＳ版プロセッ
サー１０としては、乾燥装置１５０を設けずに、不感脂
化処理の終了したＰＳ版１２をそのまま排出するもので
あっても良い。

【００７８】支持ローラ１７０及び搬送ローラ１５２及
びモルトンローラ１５４は、図示しない駆動手段の駆動
力によって回転駆動するようになっており、排出口３６
から乾燥装置１５０内に送り込まれたＰＳ版１２は、支
持ローラ１７０によって下面側が支持されながら搬送さ
れた後、搬送ローラ１５２及びモルトンローラ１５４に
挟持搬送されて、排出口１５８から排出される。

【００７９】乾燥装置１５０内には、支持ローラ１７０
と搬送ローラ１５２の間及び搬送ローラ１５２とモルト
ンローラ１５４の間に吹出しダクト１６０が配置されて
いる。吹出しダクト１６０は、ＰＳ版１２の上面側及び
下面側のそれぞれに対向して対で配置されている。

【００８０】吹出しダクト１６０は、長手方向がＰＳ版
１２の幅方向に沿って配置されており、ＰＳ版１２に対
向する面に、長手方向がＰＳ版１２の幅方向に沿ったス
リット状の吹出し口１６２が形成されている。この吹出
しダクト１６０は、長手方向の一端側が閉塞されてお
り、他端側から図示しない乾燥風発生手段によって発生
された乾燥風が供給されるようになっている。吹出しダ
クト１６０内に供給された乾燥風は、吹出し口１６２か
らＰＳ版１２の上面及び下面へ向けて吹出される。

【００８１】フィニッシャー液が塗布されてい乾燥装置
１５０内に送り込まれたＰＳ版１２は、吹出しダクト１
６０から乾燥風が吹き付けられることによりフィニッシ
ャー液が乾燥されたのち、排出口１５８から排出され
る。なお、排出口３６には、ＰＳ版プロセッサー１２が
ＰＳ版１２の処理を行なうときに開放されるシャッター
１７２が設けられており、ＰＳ版１２の非処理時に排出
口３６を閉鎖することにより乾燥装置１５０から乾燥風
がフィニッシャー部２６内へ入り込むのを防止してい
る。 （本実施の形態の適用と対応）上記構成のＰＳ版プロセ
ッサー１０の現像部２２の現像槽２４は、本実施の形態
で説明した処理タンク２０２に相当する。

【００８２】また、ヒータユニット２０６の発熱部２０
６Ａ及び循環パイプ２１０は、ガイド板１００と、現像
槽２４の底部との間に配置することによって、ＰＳ版１
２の搬送を妨げることはない。

【００８３】また、熱交換部２２８、チラー２３４及び
フィルタ２１８やポンプ２１２は、現像部２２の下方に
配置すればよい。すなわち、現像部２２、フィニッシャ
ー部２６及び乾燥部１５０で構成さえる筐体は、枠状の
架台の上端に支持されており、床面との間には空間があ
る。通常この空間には電気制御盤やバルブ等が配設され
たり、補充液タンク等が配設されており、これらと同様
に上記構成部品を配設すればよい。

【００８４】以上説明したように、本実施の形態では、
ヒータユニット２０６の発熱部２０６Ａに対して、循環
パイプ２１０の小孔２１０Ａを対向させて配置し、循環
によって冷却された処理液を直接発熱部２０６Ａへ向け
て吐出させるようにし、ヒータユニット２０６のオフへ
の切替えの温度と、ポンプ２１２のオンへの切替えの温
度と、に差を持たせたため、オーバーシュートが軽減さ
れると共に、温度上昇及び温度下降時の傾きを和らげる
ことができ、処理液の温度を安定させることができる。

【００８５】また、ＰＳ版プロセッサー１０外への処理
液の排出時には、配管系の全ての配管路内に滞留してい
る処理液を自重によって簡単に排出することができるた
め、滞留によって生じる、処理液に含まれる薬剤の固
化、析出を防止でき、配管路内を常にクリーンにするこ
とができる。

【００８６】なお、本実施の形態に係る温調装置は、Ｐ
Ｓ版プロセッサー１０の現像部２２の現像液に限らず、
フィニッシャー部２６の水洗水又はフィニッシャー液等
の他の処理液の温調にも適用可能であるし、銀塩写真フ
ィルムや印画紙等、他の感光材料の現像処理や定着処理
のための処理液の温調にも適用可能である。

【００８７】また、本実施の形態に係る温調製造は、処
理タンク２０２内にヒータユニット２０６及びヒータユ
ニット２０６に向けて低温の処理液を吐出する循環パイ
プ２１０を設けたが、これに限らずヒータユニット２０
６と循環パイプ２１０を処理タンク２０２に通用するタ
ンク内等に設けて、このタンク内等で処理タンク２０２
から引き込んだ処理液を温調して再び処理タンク２０２
に戻すようにしてもよい。

【００８８】また、広く処理液を用いて処理する構成に
おいて、処理液を単純なオン・オフ制御で温調し、かつ
オーバーシュートを軽減することが望ましい装置であれ
ば、適用可能である。

【００８９】

【発明の効果】以上説明した如く本発明に係る処理液温
調装置は、処理液の加熱時及び冷却時のオーバーシュー
トを軽減し、かつ加熱源及び冷却源の無駄なオン・オフ
動作を抑制することができるという優れた効果を有す
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本実施の形態に係る温調装置の概略図である。

【図２】 温調時のヒータユニットと循環用ポンプの動
作状態を示すタイミングチャートである。

【図３】本実施の形態で説明した温調装置が適用可能な
ＰＳ版プロセッサーの実施例を示す概略構成図である。

【符号の説明】

２２ 現像部 ２４ 現像槽（処理槽） ２００ 温調装置 ２０２ 処理タンク ２０４ 処理液 ２０６ ヒータユニット ２０６Ａ 発熱部 ２０８ 温度センサ ２１０ 循環パイプ ２１０Ａ 小孔 ２１２ ポンプ ２１８ フィルタ ２２８ 熱交換部 ２３２ 熱交換パイプ ２３６ チラー

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 感光材料を処理する貯留された処理液の
   温度を調整する処理液温調装置であって、前記貯留され
   た処理液中に配設され前記処理液を加熱する加熱手段
   と、前記貯留された処理液を管路に取り入れる取入口
   と、前記取入口から前記管路に取り入れた前記処理液を
   前記加熱手段に向けて吐出する吐出口と、前記取入口か
   ら取り入れた前記処理液を前記管路を介して前記吐出口
   へ循環させる循環手段と、前記管路の途中に設けて循環
   する前記処理液を冷却する冷却手段と、を備えたことを
   特徴とする処理液温調装置。
2. 【請求項２】 前記加熱手段をオフにする温度と前記冷
   却手段をオンにする温度、または前記加熱手段をオンに
   する温度と前記冷却手段をオフにする温度のうちの少な
   くとも一方に温度差を持たせたことを特徴とする請求項
   １記載の処理液温調装置。
3. 【請求項３】 循環する前記処理液を前記冷却手段によ
   って冷却する前記管路の処理液流入側と処理液流出側の
   うちの一方を上位とし他方を下位として、前記管路の下
   位位置に前記処理液の排出口を設けたことを特徴とする
   請求項１または請求項２記載の処理液温調装置。