JP2001074374A - 乾燥装置および乾燥方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】被乾燥物の表面から確実にパーティクルを除去
できかつ被乾燥物の表面にしみ（ウォ−タマーク）が生
じることを防止する乾燥装置を提供する。 【解決手段】乾燥装置１は乾燥槽７と処理液供給部６と
ベーパ供給部１８と第１及び第２の不活性ガス供給装置
２，４２を備えている。乾燥槽７はウェーハ３を収容す
る。処理液供給部６は乾燥槽７内に純水を供給する。ベ
ーパ供給部１８は有機溶剤加温タンク１９とスリット２
１とを備えている。有機溶剤加温タンク１９は内槽２２
と外槽２３とを備えている。内槽２２は有機溶剤を収容
する。外槽２３内には加熱液体が供給される。有機溶剤
が加熱されベーパが発生する。スリット２１は乾燥槽７
と有機溶剤加温タンク１９とを連通する。第１の不活性
ガス供給装置２は乾燥槽７の上部から不活性ガスを供給
する。第２の不活性ガス供給装置４２は内槽２２に収容
された有機溶剤に不活性ガスを供給する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、例えば洗浄後の半
導体ウェ−ハ、液晶表示装置用の基板及び記録ディスク
用の基板、またマスク用基盤や他種の基盤などの被乾燥
物を乾燥させる乾燥装置および乾燥方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】洗浄工程及び水洗い工程（以下リンス工
程と呼ぶ）などの処理後の半導体ウェ−ハ（以下、単に
ウェーハと呼ぶ）などの被乾燥物を乾燥するための装置
として、前記ウェーハの表面に付着した処理液としての
純水を有機溶剤などと置換させ、その後、表面に付着し
た有機溶剤を蒸発させるベーパ乾燥装置が知られてい
る。

【０００３】ベーパ乾燥装置は、装置の外郭を構成する
装置本体と、ウェーハを支持する支持装置と、液回収部
などを備えている。前記装置本体は、有機溶剤を収容す
る乾燥槽などを備えている。有機溶剤Ｙの一例として、
イソプロピルアルコール（isopropyl alcohol ：以下Ｉ
ＰＡと呼ぶ）が用いられる。乾燥槽の底部に加熱装置が
設けられている。加熱装置は、有機溶剤を加熱して、こ
の有機溶剤を含んだベーパを発生させる。

【０００４】支持装置は、被乾燥物の一例としてのウェ
ーハを乾燥槽内に出し入れするとともに、ウェーハを乾
燥槽内に支持する。液回収部は、ウェーハの表面におい
て有機溶剤と置換された純水などを装置外へ排出する。

【０００５】前記被乾燥物の一例としてのウェーハは、
乾燥槽内に挿入される前に、洗浄工程において、処理液
としてのフッ化水素や純水などの洗浄液によって洗浄さ
れているとともに、この洗浄工程後のリンス工程におい
て、処理液としての純水などのリンス液によって、水洗
いされている。このため、乾燥槽内に挿入される前のウ
ェーハは、その表面に純水などの処理液が付着してい
る。

【０００６】純水などの処理液が付着したウェーハは、
支持装置によって支持され、乾燥槽内に挿入されること
によって、ベーパにさらされる。この状態になるとウェ
ーハの表面においてベーパが凝縮し、ウェーハの表面に
有機溶剤が付着する。

【０００７】このため、ウェーハの表面に付着していた
純水などの処理液が有機溶剤と置換する。置換した処理
液はウェーハの表面から流れ落ち、液回収部によって回
収される。そしてウェーハの表面の有機溶剤が蒸発する
ことにより、ウェーハが短時間に乾燥する。また、ウェ
ーハの表面に付着していた異物であるパーティクルは、
ウェーハの表面から処理液が流れ落ちる際に、この処理
液とともに流れ落ちる。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】リンス工程において、
純水などによって水洗いされる際に、パーティクルが、
ウェーハの表面に付着しようとする。このため、リンス
工程が施されたウェーハの表面に付着した純水はパーテ
ィクルを含んでいることがある。このように、パーティ
クルが乾燥槽内に持ち込まれることがある。

【０００９】このため、前述した構成のベーパ乾燥装置
を用いると、ウェーハの表面に付着していたパーティク
ルは、ウェーハの表面から洗浄液が流れ落ちる際に、洗
浄液とともに流れ落ちる。しかし、洗浄液が流れ落ちる
だけでは、パーティクルがウェーハの表面から充分に除
去されないことがあり、好ましくない。

【００１０】また、前述したように、純水などの処理液
によって水洗いされたウェーハは、乾燥槽に挿入された
直後は比較的低温となっている。このため、乾燥槽にウ
ェーハが挿入された直後から有機溶剤が急激に凝縮し、
乾燥槽内のベーパの体積が急激に減少する。加熱装置が
有機溶剤を加熱し続けているので、有機溶剤はベーパを
発生し続けるが、ウェーハ全体が再びベーパによって覆
われるまでに、例えば数十秒程度かかることがある。

【００１１】ベーパによって覆われるまでの間、ウェー
ハは空気によって自然乾燥される。このとき、ウェーハ
に付着していた処理液の滴の輪郭に沿って、自然酸化膜
すなわちウォータマークと呼ばれるしみが生じ、好まし
くない。特に、洗浄工程において、ウェーハがフッ化水
素などによって洗浄されている場合には、ウェーハ３の
表面が疎水性となっているとともに活性化されているた
め、ウォータマークが生じ易くなっている。

【００１２】さらに、前述したように、ウェーハの表面
に瞬時に有機溶剤が凝縮するため、このウェーハの表面
に比較的多量な有機溶剤が凝縮する。このため、有機溶
剤を使用量が比較的多くなる傾向となっていた。また、
常に有機溶剤を加熱・沸騰させてベーパを発生させる必
要があるため、加熱手段のランニングコストが高騰する
傾向となっていた。したがって、乾燥工程にかかる作業
コストが高騰する傾向となっていた。

【００１３】前述したように比較的多量な有機溶剤を用
いる必要があるため、比較的大きな径を有するウェーハ
の表面に付着した純水と置換するために必要な有機溶剤
を含んだベーパを確保することが困難となる傾向となっ
ていた。

【００１４】本発明は前記事情に着目してなされたもの
で、その第１の目的とするところは、ウェーハ等の被乾
燥物の表面から確実にパーティクルを除去することがで
きかつ被乾燥物の表面にウォ−タマークを生じさせない
乾燥装置および乾燥方法を提供することにある。第２の
目的は、ウェーハ等の被乾燥物を乾燥させる乾燥工程に
おいて作業工程にかかるコストを抑制することができる
乾燥装置を提供することにある。

【００１５】

【課題を解決するための手段】前記課題を解決し第１の
目的を達成するために、請求項１に記載の乾燥装置は、
洗浄された被乾燥物を乾燥する装置であって、内部に前
記被乾燥物を収容する乾燥槽と、前記乾燥槽内に前記被
乾燥物よりも低温の処理液を供給する処理液供給手段
と、前記乾燥槽内に前記乾燥槽内に加熱有機溶剤を供給
する有機溶剤供給手段と、有機溶剤を含んだベーパを供
給するベーパ供給手段とを備えたことを特徴としてい
る。

【００１６】前記第１の目的を達成するために、請求項
２に記載の乾燥装置は、請求項１に記載の乾燥装置にお
いて、前記処理液供給手段が前記乾燥槽の下部から前記
処理液を乾燥槽内に供給するとともに、前記乾燥槽内に
この乾燥槽の上部から不活性ガスを吹き込む第１の不活
性ガス供給手段を備えたことを特徴としている。

【００１７】第１の目的を達成するために、請求項３に
記載の乾燥装置は、請求項１に記載の乾燥装置におい
て、前記加熱有機溶剤供給手段が、前記乾燥槽の外部に
設けられた有機溶剤を収容する有機溶剤収容槽と、前記
有機溶剤収容槽内の有機溶剤を加熱することにより、前
記加熱有機溶剤を生成する加熱手段と、前記加熱手段に
より生成された加熱有機溶剤を前記乾燥槽の上部から前
記処理液に向けて供給する溶剤吐出手段と、前記溶剤吐
出手段から吐出された加熱有機溶剤を前記乾燥槽内の処
理液の液面全体に均一に供給することにより前記液面上
に有機溶剤を含んだ強固な膜を形成する溶剤拡散手段と
を具備したことを特徴としている。

【００１８】前記第１の目的を達成するために、請求項
４に記載のベーパ乾燥装置は、請求項１に記載の乾燥装
置において、前記ベーパ供給手段が、前記乾燥槽の外周
面に取付けられかつ内部に有機溶剤を収容する有機溶剤
収容槽と、前記有機溶剤収容槽内の有機溶剤を加熱する
ことによりベーパを発生させる加熱手段と、前記乾燥槽
の内部と前記有機溶剤収容槽の内部とを互いに連通する
連通穴と、を備え、前記加熱手段により発生させたベー
パを前記乾燥槽内の処理液の液面に向かって供給するこ
とを特徴としている。また、前記ベーパを発生させるた
めの他の手段として、乾燥槽の外部で加熱した有機溶剤
を、前記有機溶剤収容槽に導入してもよい。

【００１９】前記第１の目的に加え第２の目的を達成す
るために、請求項５に記載の乾燥装置は、請求項４に記
載の乾燥装置において、前記有機溶剤収容槽内に収容さ
れた有機溶剤に不活性ガスを吹き込む第２の不活性ガス
供給手段を備えたことを特徴としている。

【００２０】前記第１及び第２の目的を達成するため
に、請求項６に記載の乾燥装置は、請求項５に記載の乾
燥装置において、前記処理液供給手段が前記乾燥槽内に
供給された処理液を乾燥槽外へ排出可能であるととも
に、前記被乾燥物を前記乾燥槽内に保持するとともに前
記被乾燥物の一部と当接する保持手段と、前記被乾燥物
を乾燥槽内において昇降自在に支持するとともに前記処
理液供給手段が処理液を乾燥槽外へ排出する際に前記被
乾燥物が保持部と当接しないように支持する支持手段
と、を備えたことを特徴としている。

【００２１】請求項１に記載の乾燥装置は、内部に乾燥
槽内に処理液を供給する処理液供給手段を備えている。
前記乾燥装置は、乾燥槽内に処理液として純水を供給す
ることによって、乾燥槽内を洗浄することができる。こ
のため、乾燥槽内に侵入したパーティクルを確実に乾燥
槽内から除去することができる。したがって、被乾燥物
の表面からパーティクルを確実に除去することが可能と
なる。

【００２２】また、乾燥槽内に処理液が満たされていて
かつベーパ供給手段が乾燥槽内にベーパを供給するの
で、乾燥槽内の処理液の上方が有機溶剤を含んだベーパ
によって満たされる。このため、被乾燥物を一旦処理液
に没した後この処理液の液面に対し相対的に上方に引き
上げて、被乾燥物の表面に有機溶剤が凝縮した際に、被
乾燥物の表面全体に有機溶剤が凝縮するまでは、被乾燥
物の少なくとも一部が乾燥槽内に供給された処理液に浸
かっている。このため、有機溶剤が凝縮して被乾燥物に
熱量を与えても、被乾燥物が冷やされる。したがって、
被乾燥物の表面全体に有機溶剤が凝縮するまでは、被乾
燥物の温度がベーパの温度より低く保たれる。被乾燥物
の表面に確実に有機溶剤を凝縮することが可能となる。
したがって、被乾燥物の表面にウォータマークが生じる
ことが抑制される。

【００２３】請求項２に記載の乾燥装置は、第１の不活
性ガス供給手段が、乾燥槽の上部から例えば窒素などの
不活性ガスを供給するので、処理液供給手段によって供
給された処理液の上方が有機溶剤を含んだベーパと不活
性ガスとによって満たされることとなる。乾燥槽内に挿
入された被乾燥物が不活性ガスによって覆われるので、
酸素と接することが抑制される。したがって、被乾燥物
の表面にウォータマークが生じることが抑制される。

【００２４】請求項３に記載の乾燥装置は、処理液とし
て常温（２０℃前後）の純水を用いて、乾燥槽と別な所
で加熱して生成した加熱有機溶剤（温度：６０〜８０
℃、供給量：５０〜１５０ｃｃ）を前記溶剤吐出手段に
より、前記処理液に向けて吐出する。吐出された加熱有
機溶剤は、溶剤拡散手段によって処理液の液面全体に均
一に拡散し、処理液の液面上に有機溶剤を含んだ強固な
膜を形成する。この膜は、目視で明確に処理液と分離さ
れており、薄くて均一な膜厚（数ｍｍ）が形成される。

【００２５】また、その後、請求項４に記載の乾燥装置
により、連続で有機溶剤を含んだベーパが処理液に供給
されても、破壊されず、ほとんど膜が厚くならないので
均一な膜厚が確保されている。つまり、処理液側には、
拡散され難く、有機溶剤の濃度が濃い膜が形成されてい
く。

【００２６】膜から５ｍｍ程度下方の処理液中の有機溶
剤濃度は、形成時からまた連続でベーパが処理液に供給
されても、有機溶剤濃度０％が保たれている。

【００２７】このため、被乾燥物を一旦処理液内に没し
た後この処理液の液面に対して相対的に上方に引き上げ
て、被乾燥物が前述した有機溶剤を含んだ膜を通過する
際に、有機溶剤が被乾燥物の表面に略均一に付着してい
く。この膜と請求項４に記載の乾燥装置の相乗効果によ
り、処理液面から出て来た被乾燥物の表面は、有機溶剤
との置換により処理液が除去されて、有機溶剤で濡れた
被乾燥物面が現れる。従って、処理液と有機溶剤が連続
で置換されるため、ウォータマークの発生を防止でき
る。

【００２８】この膜を形成するときに重要なことは、処
理液と有機溶剤の間に所定のまたはそれ以上の温度差及
び所定量のまたはそれ以上の有機溶剤を瞬時に供給する
必要がある。

【００２９】処理液面に有機溶剤を供給した際、この処
理液と混合して形成された有機溶剤膜は、有機溶剤が混
合していない処理液面と比較した場合、表面張力が小さ
く、有機溶剤膜と有機溶剤が混合されていない処理液面
の間の表面張力の勾配ができている。このため、液面上
では、有機溶剤が混合されていない処理液面から有機溶
剤膜が強い張力で引張られる。従って、すばやく、処理
液の液面全体に有機溶剤が拡散されて有機溶剤を含んだ
膜が形成される。このとき、処理液の温度が低く、処理
液と有機溶剤との間に温度差が大きいほど、表面張力の
勾配が大きくなり、拡散が速く、薄くて均一な膜厚の有
機溶剤膜が形成される。

【００３０】また、有機溶剤の供給量が少ない場合、処
理液面全体に有機溶剤が行き渡らず、厚さの不均一な膜
が形成される。乾燥槽の大きさに適合した供給量が必要
である。また、ゆっくり供給した場合、必要な表面張力
の勾配が保てず、薄くて均一な膜厚の有機溶剤膜が形成
されない。

【００３１】前述の条件から外れた場合、有機溶剤膜は
形成されるが、厚くて膜厚が不均一であり、請求項４に
記載の乾燥装置による、連続で有機溶剤を含んだベーパ
が処理液の表面に供給されたとき、僅かな液面のゆれで
膜が破壊される。また、膜が破壊されない場合でも、膜
が厚くなって行き、有機溶剤が処理液側に拡散され、膜
内の有機溶剤濃度は薄くなっている。このような膜の状
態で、前述の被乾燥物が有機溶剤を含んだ膜を通過する
際に、被乾燥物の表面に処理液が残留し易い。

【００３２】特公平６−１０３６８６号公報で、処理液
が温純水（有機溶剤蒸気と同程度の温度と記されてい
る）で、その表面上に有機溶剤蒸気を供給して、処理液
の上部に乾燥流体層（処理液と有機溶剤の混合層）を形
成すると記されているが、この場合の乾燥流体層は、前
述の通り、処理液と有機溶剤との間に所定のまたはそれ
以上の温度差および所定量のまたはそれ以上の有機溶剤
を瞬時に供給されないため、薄くて均一な膜厚の乾燥流
体層（有機溶剤膜）が形成されず、連続で供給される有
機溶剤蒸気が乾燥流体層に混合された場合、有機溶剤が
処理液側に拡散され、乾燥流体層（処理液と有機溶剤の
混合層）が厚くなるだけで、有機溶剤濃度の濃い乾燥流
体層が形成されない（その厚さは１／２インチに達する
と記されている）。よって、前述の被乾燥物が有機溶剤
を含んだ膜を通過する際に、被乾燥物の表面に処理液が
残留し易い。

【００３３】処理液の面上に有機溶剤膜を形成せずに、
処理液面上に有機溶剤蒸気または有機溶剤ミストを供給
した場合は、前述の通り有機溶剤が処理液中に無限に拡
散されていき、処理液面から下方の２００ｍｍ程度でも
有機溶剤が試験で確認されている。

【００３４】請求項４に記載の乾燥装置は、連続して乾
燥槽内に供給される有機溶剤を含んだベーパが、前述し
た有機溶剤を含んだ膜及びこの膜を通過後の被乾燥物の
表面に凝縮して、体積を減少させるので、常にベーパ内
に処理液の液面に向かう流れが生じる。この流れに伴っ
て、ベーパの凝縮が、前述した有機溶剤を含んだ膜及び
被乾燥物の表面で連続的に行われる。この凝縮と請求項
３に記載の乾燥装置の相乗効果により、パーティクルの
除去に必要とされる充分な量の有機溶剤を、連続して被
乾燥物の表面に供給することができる。したがって、確
実にパーティクルを除去できるとともに、ウォータマー
クの発生を防止できる。乾燥槽内の被乾燥物が、前述し
た有機溶剤を含む膜を通過する際に、有機溶剤が被乾燥
物の表面にほぼ均一に付着するため、この膜内の有機溶
剤が減少する。しかし前述した有機溶剤を含むベーパが
この膜に連続して凝縮するため、膜は破壊されることな
く、強固な膜を維持することができる。

【００３５】請求項５に記載の乾燥装置は、第２の不活
性ガス供給手段がベーパ供給手段の有機溶剤収容槽内に
不活性ガスを供給する。このため、有機溶剤収容槽内に
生じた有機溶剤を含んだベーパが不活性ガスによって希
釈される。したがって、乾燥工程に用いる有機溶剤の使
用量を抑制することとなって、乾燥工程にかかるコスト
を抑制することができる。

【００３６】また、ベーパが不活性ガスによって希釈さ
れるので、ベーパの体積が増加する。このため、被乾燥
物の表面に有機溶剤を含んだベーパが凝縮しても、被乾
燥物が分離した不活性ガスによって覆われることとな
る。したがって、ウォータマークの発生をより確実に抑
制できる。

【００３７】請求項６に記載の乾燥装置は、処理液供給
手段が、乾燥槽内の処理液を外部へ排出可能であるとと
もに、支持部が、処理液供給手段が処理液を排出する際
に保持部と被乾燥物とが互いに接触しないように被乾燥
物を支持する。

【００３８】このため、処理液を乾燥槽外へ排出する際
に、被乾燥物と保持部とが互いに接触しないので、これ
らの被乾燥物の表面に処理液が残留することを防止でき
る。したがって、ウォータマークの発生をより確実に防
止できる。

【００３９】請求項７に記載の乾燥装置は、加熱有機溶
剤を処理面に供給することによって形成された有機溶剤
を含んだ膜は、その後の請求項４に記載の乾燥装置によ
り連続でベーパが処理液に供給されて処理液に凝縮され
ても、前記膜より下側に拡散されないため、前記膜より
下側の処理液を回収し、再処理して使用する。従って、
一定量以上の有機溶剤が混入した処理液は、再処理して
使用することは難しいが、本乾燥装置は、請求項３の通
り、処理液の面上に形成された膜は、数ｍｍと薄いた
め、膜より下側を再処理して使用でき、経済的である。

【００４０】本発明の乾燥方法は、請求項８に記載した
ように、乾燥槽内に処理液を導入する工程と、前記乾燥
槽内の処理液中に被乾燥物を浸漬する工程と、前記処理
液の液面上に有機溶剤を供給することによって前記処理
液の液面に有機溶剤を含む均一な膜を形成する工程と、
前記乾燥槽内に有機溶剤のベーパを連続的に供給する工
程と、前記乾燥槽内の処理液を排出することによって処
理液上に被乾燥物をその上部側から露出させつつこの被
乾燥物の表面に前記液面上の有機溶剤を付着させ、か
つ、前記有機溶剤のベーパを前記被乾燥物の表面および
前記処理液上の有機溶剤の膜に連続的に凝縮させる凝縮
工程とを具備している。

【００４１】なお、この明細書で言う、不活性ガスと
は、窒素をはじめとして、アルゴン、ヘリウム等の希ガ
ス類元素のように、化学的に不活性で、有機溶剤と反応
しないガスを意味している。また、本明細書で言う純水
とは、塵などの水以外の物質の混合量を極めて少なくし
た水を示している。

【００４２】

【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施形態につい
て、図１から図１１を参照して説明する。

【００４３】図１は本発明の一実施形態の乾燥装置１の
縦断面図を示し、図２ないし図１１は乾燥装置１を用い
た乾燥方法の工程を示している。

【００４４】図１に示すように、乾燥装置１は、装置１
の外郭を構成する装置本体４と、処理液供給手段として
の処理液供給部６と、加熱有機溶剤供給手段としての加
熱有機溶剤加温タンク１９と、ベーパ供給手段としての
ベーパ供給部１８と、第１及び第２の不活性ガス供給手
段をそれぞれなす第１及び第２の不活性ガス供給装置
２，４２と、加熱有機溶剤供給手段としての加熱有機溶
剤供給装置５０と、保持手段をなす保持部５と、支持手
段をなす支持部３７と、を備えている。

【００４５】前記装置本体４は、乾燥槽７と外周槽８と
を有する二重構造となっている。乾燥槽７は、槽本体１
１と、オーバフロ液収容槽１２と、を備えている。槽本
体１１は、箱状に形成されており、その内部に、処理液
の一例としての純水Ｊ（図２などに示す）が収容され
る。槽本体１１の上端部には、内部に被乾燥物の一例と
ての半導体ウェーハ３（以下ウェーハと呼ぶ）が通るこ
とのできる開口部１３が形成されている。

【００４６】オーバフロ液収容槽１２は、槽本体１１の
外周を包囲している。オーバフロ液収容槽１２は槽本体
１１の外周面に取付けられている。オーバフロ液収容槽
１２は、槽本体１１の外周面から上方に向かって延びて
いる。オーバフロ液収容槽１２は、処理液供給部６など
から供給されて槽本体１１の開口部１３から溢れた処理
液としての純水Ｊが流れこむようになっている。オーバ
フロ液収容槽１２の下端部には、オーバフロ液排出管１
４が接続している。オーバフロ液排出管１４は、オーバ
フロ液収容槽１２内に流れ込んだ純水Ｊを装置１外へ排
出する。

【００４７】外周槽８は乾燥槽７の外周を包囲してい
る。外周槽８は、箱状に形成されている。この外周槽８
により、乾燥槽７の内部は、装置本体４の外部と熱的に
遮断される。乾燥槽７と外周槽８の上部には、それぞれ
ウェーハ３が通ることのできる大きさの上部開口９，１
０が形成されている。乾燥槽７の上部開口９は開口部に
相当する。また、乾燥槽７の上端部には、上部開口９を
閉じて乾燥槽７の内部を装置本体４の外部と遮断可能な
蓋４５が開閉自在に取付けられている。

【００４８】乾燥工程前のウェーハ３は、搬送装置１０
０（図１１に示す）によって、装置１の上方まで搬送さ
れた後、前記上部開口９，１０を通して乾燥槽７内に搬
入される。また、乾燥されたウェーハ３は、前記上部開
口９，１０を通して、前述した搬送装置１００によって
装置１外へ搬出され次工程に移される。

【００４９】乾燥槽７は、例えばイソプロピルアルコー
ル（ＩＰＡ：isopropyl alcohol ）等の有機溶剤Ｙによ
って腐食されにくい材料（例えば石英など）からなる。
外周槽８は、乾燥槽７の内部を装置本体４の外部と熱的
に遮断するために、ステンレス鋼板等などのように熱伝
導率の比較的低い材料からなる。

【００５０】処理液供給部６は、給排液管１５と、この
管１５に設けられた弁１６と、を備えている。給排液管
１５は、一端が乾燥槽７の槽本体１１の下端部の開口１
１ａに接続されているとともに、他端が外周槽８を貫通
して装置１の外部まで延びて形成されている。処理液供
給部６は、弁１６の開閉などを制御することによって、
乾燥槽７の槽本体１１内に処理液の一例としての純水Ｊ
を供給するとともに、槽本体１１内の純水を装置１の外
部に排出する。処理液供給部６は、乾燥槽７の槽本体１
１の下部の開口１１ａから純水Ｊを供給する。処理液供
給部６は、槽本体１１内に純水Ｊを供給することによっ
て、乾燥槽７の内部を水洗いする。また、前記給排液管
１５には、開閉弁１７ａを介して有機排気管１７が接続
している。

【００５１】ベーパ供給部１８は、有機溶剤収容槽とし
ての有機溶剤加温タンク１９と、温液給排液部２０と、
連通穴としてのスリット２１と、を備えている。

【００５２】有機溶剤加温タンク１９は、乾燥槽７の上
端部に位置するオーバフロ液収容槽１２の外周面に取り
つけられている。有機溶剤加温タンク１９は、内槽２２
と、外槽２３と、を備えた二重構造をなしている。内槽
２２と外槽２３とは互いに流体密に接合している。

【００５３】内槽２２の内部には、例えばイソプロピル
アルコール（ＩＰＡ：isopropyl alcohol ）等の有機溶
剤Ｙ（図３などに示す）が収容される。内槽２２には、
その下部に溶剤供給管２４が接続している。溶剤供給管
２４は、装置１の外部から内槽２２の内部に有機溶剤Ｙ
を供給する。

【００５４】外槽２３の内部には、有機溶剤加熱手段と
しての加熱された温水またはオイルなどの加熱液体Ｋ
（図２などに示す）が収容される。外槽２３の内部に
は、温液給排液部２０の後述する温液供給管２５を介し
て加熱液体Ｋが供給される。温液給排液部２０は、温液
供給管２５と、温液排出管２６と、を備えている。温液
供給管２５は、外槽２３に接続している。温液供給管２
５は、外槽２３の内部に加熱された温水またはオイルな
どの加熱液体Ｋを供給する。温液排出管２６は、外槽２
３の下部に接続している。温液排出管２６は、外槽２３
内に収容された加熱液体Ｋを装置１外へ排出する。

【００５５】前述した構成によって、温液供給管２５を
介して加熱液体Ｋが供給されて、温液排出管２６が外槽
２３内の加熱液体Ｋを排出することによって、外槽２３
内に加熱液体を循環させる。加熱液体を循環させること
によって、内槽２２内に供給された有機溶剤Ｙを加熱す
る。加熱された有機溶剤Ｙは、ベーパＶ（図３などに示
す）を発生する。または、ヒータ１０６によって外部で
加熱された有機溶剤Ｙを、内槽２２内に導入することに
より、ベーパを発生させる。

【００５６】スリット２１は、乾燥槽７のオーバフロ液
収容槽１２の側壁を貫通して形成されている。スリット
２１は、有機溶剤加温タンク１９の内槽２２の内部と乾
燥槽７の内部とを互いに連通している。スリット２１
は、槽本体１１の開口部１３の上方に位置している。前
述した構成によって、加熱液体Ｋが有機溶剤Ｙを加熱す
ることによって生じるベーパＶは、スリット２１を介し
て乾燥槽７内に供給される。なお、前述した外槽２３と
温液供給管２５と温液排出管２６とは、本明細書に記し
た加熱手段を構成している。または、ヒータ１０６によ
って外部で加熱された有機溶剤Ｙを内槽２２内に導入
し、ベーパを発生させるとともに、このベーパをスリッ
ト２１から乾燥槽７内に供給する。

【００５７】第１の不活性ガス供給手段としての第１の
不活性ガス供給装置２は、乾燥槽７の上部に設けられて
いる。第１の不活性ガス供給装置２は、例えば窒素ガス
などの不活性ガスＮ（図２などに示す）を常温、または
加熱して、乾燥槽７の内部に供給する。第１の不活性ガ
ス供給装置２は、ガス供給管３４などを備えている。ガ
ス供給管３４は、乾燥槽７の上部としてのオーバフロ液
収容槽１２の上端部に一端が開口している。ガス供給管
３４は、その他端が外周槽８を貫通して不活性ガス供給
源に接続している。

【００５８】不活性ガス供給源からガス供給管３４に供
給された不活性ガスＮは、乾燥槽７のオーバフロ液収容
槽１２の上端部からこのオーバフロ液収容槽１２内に噴
出して、槽本体１１の上側に供給される。このように、
第１の不活性ガス供給装置２は、乾燥槽７の上部として
の上端部から乾燥槽７内に不活性ガスＮを吹き込む。

【００５９】第２の不活性ガス供給装置４２は、ガス供
給管３０と、噴射管３１と、この噴射管３１に設けた複
数の図示しないガス噴射口とを備えている。第２の不活
性ガス供給装置４２は、例えば窒素ガスなどの不活性ガ
スＮを内槽２２の内部に供給する。ガス供給管３０の一
端は図示しない不活性ガス供給源に接続されている。ガ
ス供給管３０の他端は、噴射管３１に接続されている。
噴射管３１は、有機溶剤加温タンク１９の内槽２２を構
成する壁に沿って設けられている。噴射管３１は、溶剤
供給管２４の上方に位置している。複数のガス噴射口
は、噴射管３１の長手方向に沿って所定間隔で設けられ
ている。これらのガス噴射口は、オリフィス形状に形成
されている。

【００６０】第２の不活性ガス供給装置４２は、不活性
ガス供給源からガス供給管３０を介して噴射管３１に不
活性ガスＮ１（図６などに示す）を供給する。供給され
た不活性ガスＮ１は、ガス噴射口から、有機溶剤加温タ
ンク１９の内槽２２の内部に収容された有機溶剤Ｙ内に
噴出する。このように、第２の不活性ガス供給装置４２
は、有機溶剤Ｙに不活性ガスＮ１を吹き込んで、有機溶
剤Ｙを含んだベーパＶを希釈する。

【００６１】加熱有機溶剤供給手段としての加熱有機溶
剤供給装置５０は、乾燥槽７の上部に設けられている。
加熱有機溶剤供給装置５０は、例えばイソプロピルアル
コール（ＩＰＡ：isopropyl alcohol ）等の加熱有機溶
剤Ｚ（図１などに示す）を供給するために乾燥槽７の上
部としてのオーバフロ液収容槽１２の上端部に一端が開
口している。溶剤供給管５５は、その他端が外周槽８を
貫通して、有機溶剤供給源としての溶剤収容槽１０５に
接続されている。溶剤収容槽１０５には、有機溶剤を加
熱するためのヒータ１０６が設けられている。

【００６２】図１２に示すように乾燥槽７は、溶剤吐出
手段として機能する吐出口１１０と、溶剤拡散手段とし
て機能する樋１１１とを具備している。吐出口１１０は
溶剤供給管５５に接続され、樋１１１に向かって有機溶
剤を吐出する。図１３に示すように、樋１１１と槽本体
１１の内壁１１２との間に、０．５ｍｍ程度の隙間Ｇ
が、内壁１１２の幅方向のほぼ全長にわたって形成され
ている。

【００６３】加熱有機溶剤供給源から溶剤供給管５５に
供給された加熱有機溶剤Ｚは、乾燥槽７のオーバフロ液
収容槽１２の上端部から槽本体１１内に供給して、槽本
体１１内に満たされている純水Ｊの上面に有機溶剤膜Ｍ
を形成する。

【００６４】保持部５は、乾燥槽７の槽本体１１の内部
に設けられている。保持部５は、搬送装置１００によっ
て槽本体１１の内部に搬送されてきた洗浄後のウェーハ
３を乾燥槽７内に保持する。

【００６５】支持部３７は、昇降アーム３８を備えてい
る。昇降アーム３８は、乾燥槽７内において昇降自在と
なっている。昇降アーム３８は、保持部５に保持された
ウェーハ３を上下方向に昇降自在に支持することができ
る。昇降アーム３８がウェーハ３を上方に変位させた状
態で支持すると、このウェーハ３と保持部５とは互いに
接触しないようになっている。

【００６６】次に、前述した乾燥装置１の作用について
説明する。

【００６７】まず、ウェーハ３などの被乾燥物の搬入を
待つ待機工程において、図２に示すように、乾燥槽７の
槽本体１１の内部には給排液管１５などを介して処理液
供給源から純水Ｊが供給されている。この槽本体１１の
開口部１３からあふれ出た純水Ｊは、オーバフロ液収容
槽１２の内部に流れ込み、オーバフロ液排出管１４から
装置本体４外へと排出されている。こうして、乾燥槽７
の内部を純水Ｊによって水洗いすることによって、乾燥
槽７の内部に侵入したパーティクルを洗い流して装置１
の外部に排出する。

【００６８】このとき、第１の不活性ガス供給装置２の
ガス供給管３４を介して、乾燥槽７の上部から図中矢印
Ｎで示す不活性ガスが供給されている。このため、乾燥
槽７の内部に収容される純水Ｊの液面Ｓの上方は、不活
性ガスＮによって満たされることとなる。

【００６９】また、有機溶剤加温タンク１９の外槽２３
の内部に、温液供給管２５を介して、例えば２５℃から
８５℃までの範囲内の所定温度まで加熱された温水また
はオイルなどの加熱液体Ｋを供給するとともに、温液排
出管２６から加熱液体Ｋを装置１外へ排出して、前記外
槽２３内に加熱液体Ｋを循環させる。

【００７０】そして、図３に示すように、加熱液体Ｋが
循環することによって加熱された有機溶剤加温タンク１
９の内槽２２の内部に、溶剤供給管２４を介して有機溶
剤Ｙを所定量供給する。内槽２２内に有機溶剤Ｙを含ん
だベーパＶが生じる。または、ヒータ１０６によって加
熱された有機溶剤Ｙを内槽２２に導入することにより、
内槽２２内に、有機溶剤を含んだベーパＶが発生する。
有機溶剤加温タンク１９の内槽２２の内部に供給された
有機溶剤Ｙが予め定められた所定量でかつ所定温度に達
すると、図４に示すように、搬送装置１００を用いて、
リンス工程が施されたウェーハ３を乾燥装置１の上方に
位置させる。なお、このとき、第２の不活性ガス供給装
置４２の噴射管３１のガス噴射口は、有機溶剤Ｙの液面
下に埋没する。

【００７１】図５に示すように、乾燥槽７の上部の蓋４
５を開け、搬送装置１００を用いてウェーハ３を乾燥槽
７の内部の保持部５上に載置して、蓋４５を閉じる。こ
のとき、図２に示した待機状態から引き続き第１の不活
性ガス供給装置２のガス供給管３４を介して乾燥槽７内
に不活性ガスＮを供給している。乾燥槽７内の純水Ｊの
液面Ｓの上方が再び不活性ガスＮによって満たされた
後、給排液管１５からの純水Ｊの供給を停止し、給排液
管１５と下部開口１１ａを介して、乾燥槽７の槽本体１
１の内部から純水Ｊを乾燥槽７外に所定量排出する。純
水Ｊを所定量排出したのち、排出を停止し、加熱有機溶
剤供給装置５０で、加熱された一定温度の加熱有機溶剤
Ｙ（温度：６０〜８０℃、供給量：５０〜１５０ｃｃ）
を、溶剤供給管５５の吐出口１１０（図１４に示す）か
ら、乾燥槽７内の樋１１１に向かって供給する。樋１１
１上に供給された加熱有機溶剤Ｙは、隙間Ｇから内壁１
１２全体を伝い、純水Ｊの液面Ｓに向かって流れ落ち
る。こうして加熱有機溶剤Ｙが純水Ｊの液面Ｓ全体に速
やかに均一に拡散し、液面Ｓ上に有機溶剤Ｙを含んだ均
一な有機溶剤膜Ｍを形成する（図６参照）。

【００７２】この膜は、目視で明確に処理液と分離され
ており、薄くて均一な膜厚（数ｍｍ）が形成される。ま
た、その後、連続で有機溶剤Ｙを含んだベーパＶが純水
Ｊの上面に供給されても、破壊されず、ほとんど膜が厚
くならないので均一な膜厚が確保されている。つまり、
純水Ｊ側には、拡散され難く、有機溶剤の濃度が濃い膜
Ｍが形成されていく。

【００７３】有機溶剤膜Ｍから数ｍｍ下の純水Ｊ中には
有機溶剤が拡散されておらず、有機溶剤濃度は０％であ
る。

【００７４】そして、第１の不活性ガス供給装置２のガ
ス供給管３４からの不活性ガスＮの供給を停止するとと
もに、第２の不活性ガス供給装置４２のガス供給管３
０、噴射管３１などを介して噴射ノズルから内槽２２内
に収容された有機溶剤Ｙ内に不活性ガスＮ１を供給す
る。有機溶剤加温タンク１９内に生じた有機溶剤Ｙを含
んだベーパＶが不活性ガスＮ１によって希釈されて体積
が増大する。

【００７５】体積が増大した不活性ガス希釈有機溶剤ベ
ーパＶは、図６に示すようにスリット２１を介して乾燥
槽７内に侵入する。乾燥槽７内に侵入した不活性ガス希
釈有機溶剤ベーパＶは、純水Ｊの液面Ｓで冷却されるこ
とにより凝縮し、液面Ｓ上に拡散するとともに、純水Ｊ
の液面Ｓ上の有機溶剤膜Ｍに溶け込み、有機溶剤濃度の
濃い膜Ｍが維持される。このときの第２の不活性ガス供
給装置４２が内槽２２内に供給する不活性ガスＮ１の流
量を、５〜１０Ｌ／ｍｉｎ程度とする。不活性ガス流量
をさらに多くすると、乾燥槽７内に供給される不活性ガ
ス希釈有機溶剤ベーパＶが増加し、乾燥条件は向上する
が、有機溶剤の消費量が増える。乾燥槽７内は、上部か
ら不活性ガスＮ及びこの不活性ガス希釈有機溶剤ベーパ
Ｖ雰囲気、有機溶剤膜Ｍ、純水Ｊ（有機溶剤を含んだ純
水面）、純水Ｊが形成される。

【００７６】図７に示すように、給排液管１５を介し
て、乾燥槽７の槽本体１１の内部から純水Ｊを乾燥槽７
外へ排出する。このとき、引き続き第２の不活性ガス供
給装置４２から不活性ガスＮ１を供給する。そして、不
活性ガス希釈有機溶剤ベーパＶを引き続き発生させてス
リット２１などを介して乾燥槽７内に連続して不活性ガ
ス希釈有機溶剤ベーパＶを供給する。また、純水Ｊを排
出することによって、この純水Ｊの液面Ｓが下降するこ
とに伴ない、ウェーハ３が上部側から露出してゆく。つ
まり、ウェーハ３が液面Ｓに対し相対的に上昇する。

【００７７】連続して乾燥槽７内に供給される不活性ガ
ス希釈有機溶剤ベーパＶは、純水Ｊの液面Ｓの下降に伴
って露出するウェーハ３の表面に図中の平行斜線Ｑで示
すように凝縮して体積が減少する。このため、不活性ガ
ス希釈有機溶剤ベーパＶは、常に、純水Ｊの液面Ｓに向
かって移動する。不活性ガス希釈有機溶剤ベーパＶ内に
液面Ｓに向かう図中の矢印Ｆに沿った流れが生じる。

【００７８】したがって、ウェーハ３の表面上におい
て、付着した純水Ｊと有機溶剤Ｙとの置換が連続して行
われる。そして、純水Ｊの液面Ｓ上に、表面に有機溶剤
Ｙが凝縮したウェーハ３が現れる。さらに、このとき、
ウェーハ３の表面で有機溶剤Ｙが凝縮した不活性ガス希
釈有機溶剤ベーパＶの不活性ガスＮ，Ｎ１は、ウェーハ
３を覆うこととなる。

【００７９】図８に示すように、昇降アーム３８の上部
が、純水Ｊの液面Ｓから露出した時点で、昇降アーム３
８を上昇させてウェーハ３を保持部５と接触しないよう
に支持させる。このときも不活性ガス希釈有機溶剤ベー
パＶに液面Ｓに向かう矢印Ｆに沿った流れが生じる。純
水Ｊの排出が完了した時点には、図９中の平行斜線Ｑで
示すように、ウェーハ３の表面に付着していた純水Ｊは
完全に有機溶剤Ｙと置換されている。ウェーハ３の表面
は、有機溶剤Ｙによって濡れた状態となっている。純水
Ｊの排出完了後、予め設定された時間、第１の不活性ガ
ス供給装置２からは、常温または加熱された不活性ガス
Ｎの供給を続け、かつ、第２の不活性ガス供給装置４２
から不活性ガスＮ１の供給を続ける。

【００８０】予め設定された時間が経過した後、図１０
に示すように、昇降アーム３８を下降させて、保持部５
でウェーハ３を保持する。有機溶剤加温タンク１９内に
収容された有機溶剤Ｙを溶剤供給管２４などを介して排
出する。第１の不活性ガス供給装置２からは引き続き常
温または加熱された不活性ガスＮを供給する。第２の不
活性ガス供給装置４２から供給された不活性ガスＮ１
は、外槽２３内に収容された加熱液体Ｋなどによって加
熱されて、スリット２１などを介して乾燥槽７内に供給
される。

【００８１】このとき同時に、有機排気管１７を介し
て、乾燥槽７の内部に残存していた不活性ガス希釈有機
溶剤ベーパＶ及びウェーハ３の表面から発散した有機溶
剤Ｙを含んだガスを、乾燥槽７外へ排出する。このた
め、乾燥槽７内に図中の矢印Ｆに沿ったガスの流れ（給
排液管１５が接続した下端部に向かう流れ）が生じる。
このため、乾燥槽７の内部から、徐々に、不活性ガス希
釈有機溶剤ベーパＶ及びウェーハ３の表面から発散した
有機溶剤Ｙを含んだガスが減少して、ウェーハ３の表面
上に付着した有機溶剤Ｙが除去される。また、同時に、
図示しないオーバフロ供給管から純水をオーバフロ液収
容槽１２内に供給し、オーバフロ液排出管１４から排出
しながら、槽本体１１を冷却することにより、ウェーハ
３の表面に付着している有機溶剤Ｙの除去を促進する。

【００８２】ウェーハ３の表面に付着していた有機溶剤
Ｙを乾燥させて、このウェーハ３の表面から有機溶剤Ｙ
を除去した後、第１および第２の不活性ガス供給装置
２，４２からの不活性ガスＮ，Ｎ１の供給を停止し、蓋
４５を開いて、搬送装置１００を用いて乾燥槽７の内部
からウェーハ３を搬出して、次工程に移送する。

【００８３】ウェーハ３を搬出した後、図１１に示すよ
うに、乾燥槽７の内部に給排液管１５を介して純水Ｊを
供給するとともに、第１の不活性ガス供給装置２を用い
て、純水Ｊの液面Ｓ上を不活性ガスＮで満たして図２に
示す待機状態にもどる。そして、図２から図１０に示す
工程を繰り返して次のウェーハ３の乾燥工程を行う。

【００８４】本実施形態によれば、ウェーハ３を乾燥さ
せる待機状態において、給排液管１５を介して純水Ｊを
供給し、オーバフロ液収容槽１２などを介して純水Ｊを
乾燥槽７外へ排出することによって、純水Ｊを循環させ
て、乾燥槽７の内部を洗浄する。乾燥槽７内に侵入した
パーティクルを除去する。したがって、ウェーハ３の表
面にパーティクルが残留することを確実に防止できる。

【００８５】第１及び第２の不活性ガス供給装置２，４
２が、乾燥槽７の内部に不活性ガスＮ，Ｎ１を供給す
る。このため、乾燥槽７の内部において、純水Ｊの上方
が不活性ガスＮ，Ｎ１または不活性ガス希釈有機溶剤ベ
ーパＶによって満たされ、ウェーハ３が大気中の酸素な
どと接触することが抑制される。したがって、ウェーハ
３の表面にウォータマークが生じることが防止される。

【００８６】乾燥槽７の内部に純水Ｊを満たし、この満
たされた純水Ｊの内部にウェーハ３を浸けた後、乾燥槽
７内の純水Ｊを排出して、ウェーハ３の表面に付着して
いた純水Ｊを有機溶剤Ｙと置換する。このとき、ウェー
ハ３の表面全体に有機溶剤Ｙが凝縮するまでは、このウ
ェーハ３の少なくとも一部が乾燥槽７内に収容された純
水Ｊに浸かっているため、有機溶剤Ｙが凝縮してウェー
ハ３に熱量を与えても、ウェーハ３が冷やされる。

【００８７】したがって、ウェーハ３の表面全体に有機
溶剤が凝縮するまでは、ウェーハ３の温度がベーパＶの
温度より低く保たれる。ウェーハ３の表面に確実に有機
溶剤Ｙを凝縮することが可能となる。したがって、ウェ
ーハ３の表面にウォータマークが生じることが抑制され
る。

【００８８】また、加熱有機溶剤Ｚを純水Ｊの液面Ｓに
供給して、純水Ｊの液面Ｓに有機溶剤Ｙを含んだ膜Ｍを
形成する。このため、ウェーハ３が純水Ｊの液面Ｓを通
過して前述した有機溶剤Ｙを含んだ膜Ｍを通過する際
に、有機溶剤Ｙがウェーハ３の表面に略均一に付着す
る。

【００８９】同時に、有機溶剤加温タンク１９などから
有機溶剤Ｙを含んだベーパＶが乾燥槽７内に引き続き供
給されるので、不活性ガス希釈有機溶剤ベーパＶに純水
Ｊの液面Ｓに向かう流れＦが生じる。この不活性ガス希
釈有機溶剤ベーパＶの流れＦに伴って、有機溶剤Ｙがウ
ェーハ３の表面に付着する。このため、パーティクルの
除去に必要とされる充分な量の有機溶剤Ｙを、連続して
ウェーハ３の表面に凝縮させることができる。したがっ
て、確実にパーティクルを除去できるとともに、ウォー
タマークの発生を防止できる。

【００９０】第２の不活性ガス供給装置４２は、内槽２
２に収容された有機溶剤Ｙに不活性ガスＮ１を供給す
る。このため、内槽２２内に生じた不活性ガス希釈有機
溶剤ベーパＶが不活性ガスＮ１によって希釈される。し
たがって、乾燥工程に用いる有機溶剤の使用量を抑制す
ることとなって、乾燥工程にかかるコストを抑制するこ
とができる。

【００９１】また、不活性ガス希釈有機溶剤ベーパＶが
不活性ガスＮ１によって希釈されるので、不活性ガス希
釈有機溶剤ベーパＶの体積が増加する。このため、ウェ
ーハ３の表面に不活性ガス希釈有機溶剤ベーパＶが凝縮
しても、ウェーハ３が不活性ガス希釈有機溶剤ベーパＶ
によって覆われることとなる。したがって、ウォータマ
ークの発生をより確実に抑制できる。

【００９２】純水Ｊ面に形成された有機溶剤膜Ｍより下
側には有機溶剤が拡散されていないため、乾燥槽７の下
部開口７ａより排出された純水Ｊは有機溶剤膜Ｍ付近の
純水Ｊだけを廃液し、他の純水Ｊは再処理して使用でき
るため、乾燥工程に用いる純水Ｊの使用量を抑制するこ
とができる。

【００９３】乾燥槽７の内部の純水Ｊを排出する際に、
ウェーハ３が保持部５に接触しないように、昇降アーム
３８がウェーハ３を支持するため、ウェーハ３と保持部
５との互いの接触部分に純水が残留することが防止でき
る。したがって、ウォータマークの発生をより確実に防
止できる。

【００９４】本発明の乾燥装置１および乾燥方法は、前
述した実施形態に制約されるものではない。本発明は半
導体ウェーハ以外の被乾燥物、例えば、液晶表示装置用
のガラス基板や、光記録ディスクおよび磁気記録ディス
ク等の記録ディスク用基板などの各種基板を乾燥する用
途にも適用できる。

【００９５】

【発明の効果】請求項１に記載の本発明によると、乾燥
槽内に侵入したパーティクルを確実に除去することがで
きるので、被乾燥物の表面にパーティクルが付着するこ
とを防止できる。また、被乾燥物の表面全体に有機溶剤
が付着するまでは、被乾燥物の温度が低く保たれる。こ
のため、被乾燥物の表面に確実に有機溶剤を凝縮させる
ことができ、ウォータマークの発生を抑制することがで
きる。

【００９６】請求項２に記載の本発明によると、請求項
１の効果にくわえ、乾燥槽内に挿入された被乾燥物が不
活性ガスに覆われるので、酸素と接することが抑制され
る。したがって、被乾燥物の表面にウォータマークが発
生することをより確実に抑制できる。

【００９７】請求項３に記載の本発明によると、請求項
１の効果にくわえ、有機溶剤を加熱することにより生成
された加熱有機溶剤を処理液の液面に向かって供給する
ことにより、処理液の液面上に有機溶剤を含んだ膜を形
成することができ、被乾燥物がこの有機溶剤を含んだ膜
を通過する際に有機溶剤が被乾燥物の表面に略均一に付
着する。また、ベーパ内に処理液の液面に向かう流れが
生じる。したがって、確実にパーティクルを除去できる
とともに、ウォータマークの発生を確実に抑制できる。

【００９８】請求項４に記載の発明によると、連続して
乾燥槽内に供給される有機溶剤を含んだベーパが、前述
した有機溶剤を含んだ膜及びこの膜を通過後の被乾燥物
の表面に凝縮して、体積を減少させるので、常にベーパ
内に処理液の液面に向かう流れが生じる。この流れに伴
って、ベーパの凝縮が、前述した有機溶剤を含んだ膜及
び被乾燥物の表面で連続的に行われる。

【００９９】請求項５に記載の本発明によると、請求項
４の効果にくわえ、ベーパが不活性ガスによって希釈さ
れるので、乾燥工程にかかるコストを抑制できる。さら
に、被乾燥物の表面に有機溶剤が凝縮してベーパの体積
が減少してもこのベーパ内に不活性ガスが吹き込まれる
ので、被乾燥物がベーパに常に覆われる。したがって、
被乾燥物の表面にウォータマークが生じることが抑制さ
れる。

【０１００】請求項６に記載の本発明によると、請求項
５の効果にくわえ、支持部が、処理液供給手段が処理液
を排出する際に保持部と被乾燥物とが互いに接触しない
ように被乾燥物を支持する。このため、ウォータマーク
の発生をより確実に防止できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施形態の乾燥装置の縦断面図。

【図２】同実施形態の乾燥装置においてウェーハを乾燥
槽に挿入する前の待機状態を示す図。

【図３】同実施形態の乾燥装置においてウェーハを乾燥
槽に挿入する前の状態を示す縦断面図。

【図４】同実施形態の乾燥装置においてウェーハが乾燥
槽に挿入される直前の乾燥準備完了状態を示す縦断面
図。

【図５】同実施形態の乾燥装置においてウェーハが乾燥
槽に挿入された状態を示す縦断面図。

【図６】同実施形態の乾燥装置において処理液の液面上
に有機溶剤膜が形成された状態を示す縦断面図。

【図７】同実施形態の乾燥装置において乾燥槽内の純水
を排出する状態を示す縦断面図。

【図８】同実施形態の乾燥装置において昇降アームによ
ってウェーハを支持した状態を示す縦断面図。

【図９】同実施形態の乾燥装置において乾燥槽内の純水
の排出が完了した状態を示す縦断面図。

【図１０】同実施形態の乾燥装置においてウェーハの乾
燥工程が終了した状態を示す縦断面図。

【図１１】同実施形態の乾燥装置において乾燥したウェ
ーハを次工程に移送する状態を示す縦断面図。

【図１２】同実施形態の槽本体と、加熱有機溶剤供給装
置の一部を示す斜視図。

【図１３】図１２に示された槽本体と樋の一部の縦断面
図。

【図１４】図１２に示された槽本体に加熱有機溶剤を供
給する様子を示す槽本体の一部の斜視図。

【符号の説明】 １…乾燥装置 ２…第１の不活性ガス供給装置（第１の不活性ガス供給
手段） ３…半導体ウェーハ（被乾燥物） ５…保持部（保持手段） ６…処理液供給部（処理液供給手段） ７…乾燥槽 １８…ベーパ供給部（ベーパ供給手段） １９…有機溶剤加温タンク（有機溶剤収容槽） ２３…外槽（加熱手段） ２５…温液供給管（加熱手段） ２３…温液排出管（加熱手段） ４２…第２の不活性ガス供給装置（第２の不活性ガス供
給手段） Ｙ…有機溶剤 Ｖ…ベーパ Ｎ，Ｎ１…不活性ガス Ｊ…純水（処理液） Ｓ…液面 Ｍ…有機溶剤膜

フロントページの続き (72)発明者 渡辺 和俊 茨城県牛久市桂町2200−48 オメガセミコ ン電子株式会社内 (72)発明者 高橋 博樹 茨城県牛久市桂町2200−48 オメガセミコ ン電子株式会社内 Ｆターム(参考） 3L113 AA01 AB02 AB10 AC01 AC20 AC28 AC45 AC46 AC48 AC49 AC67 BA04 DA04 DA24

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】洗浄された被乾燥物を乾燥する装置であっ
   て、 内部に前記被乾燥物を収容する乾燥槽と、 前記乾燥槽内に処理液を供給する処理液供給手段と、 前記乾燥槽内に加熱有機溶剤を供給する有機溶剤供給手
   段と、 前記乾燥槽内に有機溶剤を含んだベーパを供給するベー
   パ供給手段と、 を備えたことを特徴とする乾燥装置。
2. 【請求項２】前記処理液供給手段が前記乾燥槽の下部か
   ら前記処理液を乾燥槽内に供給および排出可能な給排液
   管を有し、かつ、前記乾燥槽内にこの乾燥槽の上部から
   常温または加熱された不活性ガスを吹き込む第１の不活
   性ガス供給手段を備えたことを特徴とする請求項１記載
   の乾燥装置。
3. 【請求項３】前記加熱有機溶剤供給手段が、 前記乾燥槽の外部に設けられた有機溶剤を収容する有機
   溶剤収容槽と、 前記有機溶剤収容槽内の有機溶剤を加熱することによ
   り、前記加熱有機溶剤を生成する加熱手段と、 前記加熱手段により生成された加熱有機溶剤を前記乾燥
   槽の上部から前記処理液に向けて供給する溶剤吐出手段
   と、 前記溶剤吐出手段から吐出された加熱有機溶剤を前記乾
   燥槽内の処理液の液面全体に均一に供給することにより
   前記液面上に有機溶剤を含んだ膜を形成する溶剤拡散手
   段とを具備した特徴とする請求項１記載の乾燥装置。
4. 【請求項４】前記ベーパ供給手段が、 前記乾燥槽の外周面に取付けられかつ内部に有機溶剤を
   収容する有機溶剤収容槽と、前記有機溶剤収容槽内の有
   機溶剤を加熱することによりベーパを発生させる加熱手
   段と、前記乾燥槽の内部と前記有機溶剤収容槽の内部と
   を互いに連通する連通穴と、を備え、 前記加熱手段により発生させたベーパを前記乾燥槽内の
   処理液の液面に向かって供給することを特徴とする請求
   項１記載の乾燥装置。
5. 【請求項５】前記有機溶剤収容槽内に収容された有機溶
   剤に不活性ガスを吹き込む第２の不活性ガス供給手段を
   備えたことを特徴とする請求項４記載の乾燥装置。
6. 【請求項６】前記処理液供給手段が前記乾燥槽内に供給
   された処理液を乾燥槽外へ排出可能であるとともに、前
   記被乾燥物を前記乾燥槽内に保持するとともに前記被乾
   燥物の一部と当接する保持手段と、 前記被乾燥物を乾燥槽内において昇降自在に支持すると
   ともに前記処理液供給手段が処理液を乾燥槽外へ排出す
   る際に前記被乾燥物が保持部と当接しないように支持す
   る支持手段と、 を備えたことを特徴とする請求項５記載の乾燥装置。
7. 【請求項７】前記加熱有機溶剤で前記処理液の液面上に
   形成された有機溶剤を含んだ膜を形成することにより、
   有機溶剤を加熱することによって発生したベーパを前記
   乾燥槽内の処理液の液面に向かって供給し、前記処理液
   の液面上にベーパが凝縮したとしても、前記有機溶剤膜
   より下側に有機溶剤が拡散されず、前記有機溶剤膜の下
   側の処理液を再処理して使用できることを特徴とする請
   求項１記載の乾燥装置。
8. 【請求項８】乾燥槽内に処理液を導入する工程と、 前記乾燥槽内の処理液中に被乾燥物を浸漬する工程と、 前記処理液の液面上に有機溶剤を供給することによって
   前記処理液の液面に有機溶剤を含む均一な膜を形成する
   工程と、 前記乾燥槽内に有機溶剤のベーパを連続的に供給する工
   程と、 前記乾燥槽内の処理液を排出することによって処理液上
   に被乾燥物をその上部側から露出させつつこの被乾燥物
   の表面に前記液面上の有機溶剤を付着させ、かつ、前記
   有機溶剤のベーパを前記被乾燥物の表面および前記処理
   液上の有機溶剤の膜に連続的に凝縮させる凝縮工程と、 を具備したことを特徴とする乾燥方法。