JP2001057096A - 多重化メモリ及びそれを用いたセンサ並びに制御システム - Google Patents
多重化メモリ及びそれを用いたセンサ並びに制御システムInfo
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Abstract
い多重化メモリ及び圧力センサを提供する。 【解決手段】メモリセル100〜113…がマトリクス
状に配置され、同一データが割り当ての複数のメモリセ
ルに書き込まれる。同一データは、例えば正極性と負極
性の相補データ、前記複数のメモリセルに1つのライト
ドライバ10により書き込めるよう、ライトドライバ1
0からのデータ伝送線D,DNがD0〜D1Nに分岐さ
れて、前記複数のメモリセルに接続され、これらのデー
タ伝送線の分岐線が複数のメモリセルから同一データを
読み出すためのデータ伝送線を兼用して、リード/ライ
ト切り換え回路7,8、ワイヤードオアを介してセンス
アンプ9の入力側に接続されている。
Description
式と不揮発性メモリへの適用並びに各種センサへの応用
に関する。
ために、同一データを複数のメモリに記憶して多重化
し、複数メモリから読み出した同一データを多数決処理
するものが報告されている。このような従来例は、特開
平6−83716号公報,特開平10−55316号公報に記載され
ている。
リに同一データを書き込み、前記3つのメモリから読み
出した3つのデータを専用ハードで多数決処理し1つの
データを生成していた。こうすることで、どれか1つの
メモリが壊れてもシステムとしては正しいデータを出力
することが可能となる。
の技術が記載されており、具体的には、1つのデータに
対して複数個の記憶素子を割り当てたメモリ装置におい
て、データ読み出しを割り当ての複数記憶素子に流れる
電流の総和を電流差動型の読み出し回路によって判定電
流と比較することによってデータの読み出しを行ってい
る。
は、書き込んだデータが時間と共に変化しデータを正し
く読み出せない場合や、書き換えを繰り返すうちに書き
込みが正しく行えないといった、万一の場合も想定し
て、これに対処する手段を講じることが信頼性を高める
ことになる。
メモリでは、経時的変化による記憶データの不良を検出
する方法が、特開平6−282992号公報,特開平7−98988
号公報に提案されている。この記憶データ不良検出方法
では、記憶されている不揮発性メモリの閾値変化を検知
し、メモリの経時的変化が閾値を超えれば、救済用メモ
リセルへ置き換えることで書き換え動作の寿命を延ばす
と共にシステム全体の信頼性を向上させている。
モリを圧力センサへ適用した例として、特開平9−11331
0号公報,特開平10−281912 号公報があげられるが、不
揮発性メモリの信頼性向上に関しては触れられていな
い。
報,特開平10−55316 号公報の例では、独立したメモリ
を3つ並べて3重化しているが、読み出しデータを多数
決処理するための専用ハードを付加しなければならなか
った。
98988 号公報に示すように、不良メモリセルを救済用メ
モリセルへ置き換えるといった方式を採用しなければな
らなかった。
あり、その第1の目的は同一データを割り当ての複数の
メモリセルに記憶する多重化メモリにおいて、メモリ周
辺回路及び配線の合理化を図ることで、装置全体の面
積,消費電力を今まで以上に抑えることにある。
向上させ、より一層、信頼性を高めた多重化メモリを実
現させることにある。
の各種センサについて、センサ特性等の補正データ等セ
ンサ動作に必要なデータを低コストで高い信頼をもって
記憶し得るようにすることにある。
に第1の発明は、同一のデータが記憶される複数のメモ
リセルとセンスアンプ回路又は同一のデータが記憶され
る複数のメモリセルとライトドライバとをスイッチ素子
を介して接続するようにし、データの読み出し時又は書
き込み時に、それぞれのスイッチのオン,オフのタイミ
ングを制御するようにしたことを特徴とする。
ルがマトリクス状に配置され、同一データが割り当ての
複数のメモリセルに書き込まれる多重化されたメモリで
あって、同一データを、複数のメモリセルに1つのライ
トドライバにより書き込めるよう該ライトドライバから
のデータ伝送線が分岐されて複数のメモリセルに接続さ
れ、データ伝送線の分岐線が複数のメモリセルから同一
データを読み出すためのデータ伝送線を兼用して、これ
らの分岐線がリード/ライト切り換え回路,ワイヤード
・オアを介してセンスアンプの入力側に接続されている
ことを特徴とする。
ルがマトリクス状に配置され、同一データが割り当ての
複数のメモリセルに書き込まれる多重化されたメモリで
あって、同一データを、複数のメモリセルに1つのライ
トドライバにより書き込めるよう該ライトドライバから
のデータ伝送線が複数に分けられて複数のメモリセルに
接続され、これらの各データ伝送線は、それぞれのメモ
リセルから途中位置までがデータ読み出し用の伝送線を
兼用して、リード/ライト切り換え回路,ワイヤード・
オアを介してセンスアンプの入力側に接続されているこ
とを特徴とする。
ルがマトリクス状に配置され、同一データが割り当ての
複数のメモリセルに書き込まれる多重化されたメモリで
あって、同一データが正極性,負極性の相補データによ
り構成され、これらの相補データが一対のメモリセルに
より記憶され、この同一データを記憶する一対のメモリ
セルを複数備えて多重化され、正極性の相補データと負
極性の相補データが差動回路を介して読み出されるよう
構成したことを特徴とする。
の物理量を検出して電気信号に変換するセンサにおい
て、検出に必要なデータを上記の発明のいずれか或いは
組み合わせに係る多重化メモリに記憶して備えているこ
とを特徴とする。
の発明の実施の形態の項で説明する。
例により説明する。各図において、同一要素には同一の
符号を付してある。
メモリの回路構成図を示したものである。この多重化メ
モリは、中央演算処理装置(CPU),信号処理装置な
ど(以下、演算処理を行うものを総称して「プロセッ
サ」と称す。)と接続されデータ処理装置が構成され
る。このようなデータ処理装置におけるプロセッサと多
重化メモリとの間では、プロセッサから出力されたアド
レス信号によって多重化メモリへデータが書き込まれた
り、多重化メモリからデータが読み出される。
ロセッサとデータを伝送するための複数のデータ信号線
(以下、「データバス」と称す。),アドレスを伝送す
るための複数のアドレス信号線(以下、「アドレスバ
ス」と称す。),制御信号を伝送するための複数の制御
信号線(以下、「制御バス」と称す。)によって接続さ
れる。データバスは、多重化メモリへ書き込まれるデー
タと多重化メモリから読み出されたデータを共用して送
るものである。制御バスは、主なものとしてデータの書
き込みを制御するライトコントロール信号WCTL、デ
ータの読み出しを制御するリードコントロール信号RC
TLなどがある。このようにプロセッサと接続された多
重化メモリについて以下、詳細に説明する。
−nは、それぞれ1ビット分のメモリ(多重化メモリ)
であり、全部でnビットのメモリを構成している。1a
−1〜1a−nの各ビットのメモリ構成は、同様にして
あるので、ここでは、代表としてメモリ1a−1の構成
について説明する。
5は、多数のメモリセル100〜103,110〜11
3…(図示ではメモリセルの一部のみを表示し、残りは
省略している)をマトリクス状に配置してなり、同一デ
ータが割り当ての複数のメモリセルに書き込まれる。
と負極性の相補しあう一対のデータにより構成し、正極
性のデータ(相補データ)を記憶するメモリセルと負極
性のデータ(相補データ)を記憶するメモリセルとで一
対のメモリセルが構成されている。例えば本実施例で
は、メモリセル100と101を1ビットのデータを書
き込む一対のメモリセルとし(ワードW0の選択により
メモリセル100に正極性のデータを書き込み、メモリ
セル101に負極性のデータを書き込む)、メモリセル
102と103を上記メモリセル100,101と同一
データ(ビット)を書き込むもう一対のメモリセルとし
ている(メモリセル102に正極性のデータを書き込
み、メモリセル103に負極性のデータを書き込む)。
同様にしてメモリセル110と111を1ビットのデー
タを書き込む一対のメモリセルとし(ワードW1の選択
によりメモリセル110に正極性のデータを書き込み、
メモリセル111には負極性のデータを書き込む)、メ
モリセル112と113を上記メモリセル110と11
1と同一データを書き込むもう一対のメモリセルとして
いる。以下、図示省略した残りのメモリセルについても
同様に構成している。すなわち、本実施例では、同一デ
ータを2重化されたメモリセルにより記憶されるように
してある。
ら送られてくるアドレス信号ADDに基づきワード線W
0〜Wnのいずれかを選択するもので、ワード線によ
り、選択すべきメモリセルのX座標が決定される。アド
レス信号ADDやライトコントロール信号WCTL及び
リードコントロール信号RCTLは本多重化メモリと接
続するプロセッサから送られてくる。
L)、4はリードコントロール回路(RCTL)、7は
ライト切り換え回路、8はリード切り換え回路、9はデ
ータ読み出し用のセンスアンプ(データ読み出し部)、
10はライトドライバ(データ書き込み部)であり、こ
れらの機能について以下に述べる。
性書き込みデータWD及び負極性書き込みデータWD
N)を、ワード線で割り当てた複数のメモリセルに1つ
のライトドライバ(WDRV)10で書き込めるよう
に、ライトドライバ10からの正極性書き込みデータ伝
送線D及び負極性書き込みデータ伝送線DNがそれぞれ
途中からD0,D1及びD0N,D1Nのように分岐し
て複数のメモリセルに接続される。D0,D0Nで1ビ
ットの正/負極性データのデータ伝送線を構成し、D
1,D1Nでもう一方の正/負極性データのデータ伝送
線を構成して、2重化している。このうち、分岐線D0
は2重化メモリのうち一方の正極性データ書き込み用の
メモリセル100,110,…のデータ伝送線となり、
分岐線D1はもう一方の正極性データ書き込み用のメモ
リセル102,112,…のデータ伝送線となる。同様
に、分岐線D0Nは2重化メモリのうち一方の負極性デ
ータ書き込み用のメモリセル101,111,…のデー
タ伝送線となり、分岐線D1Nはもう一方の負極性デー
タ書き込み用のメモリセル103,113,…のデータ
伝送線となる。
割り当ての複数のメモリセル(例えば、メモリセル10
0,102や110,112等)から同一データを読み
出すためのデータ伝送線を兼用して、正極性データ用の
分岐線D0,D1がデータ伝送線D0′,D1′,ライ
ト切り換え回路7,リード切り換え回路8,ワイヤード
・オア,入力線D′を介してセンスアンプ9の一方の入
力側に接続され、負極性データ用の分岐線D0N,D1
Nがデータ伝送線D0N′,D1N′,ライト切り換え
回路7,リード切り換え回路8,ワイヤード・オア,入
力線DN′を介してセンスアンプ9のもう一方の入力側
に接続されている。
どちらのメモリへ書き込みを行うか選択するためのもの
で、NMOSFET50〜53より成る。NMOSFET50がデータ
伝送線D0を選択するためのスイッチ素子、NMOSFET5
1 がデータ伝送線D0Nを選択するためのスイッチ素
子、NMOSFET52 がデータ伝送線D1を選択するための
スイッチ素子、NMOSFET53 がデータ伝送線D1Nを選
択するためのスイッチ素子となる。これらのNMOSFET5
0〜53 は、ライトコントロール回路3から出力され
るライト切り換え信号WC0,WC1によりオン,オフ
制御され、WC0は、NMOSFET50,51を制御し、W
C1は、NMOSFET52,53を制御する。
モリに接続されているプロセッサから送られてくるライ
ト制御のためのライトコントロール信号WCTLによっ
てライト切り換え信号WC0,WC1のレベルの切り換
えを行っている。このライト切り換え信号WC0,WC
1のレベルの切り換えとして2つのモードがある。1つ
は、ライト切り換え信号WC0,WC1をほぼ同時にハ
イレベルまたはロウレベルに制御するもので、ハイレベ
ルの状態で多重化メモリに同時にデータが書き込まれる
(ワードW0の選択でメモリセル100,101,10
2,103にほぼ同じタイミングでデータが書き込まれ
る。)ものである。もう1つは、ライト切り換え信号W
C0とライト切り換え信号WC1とを交互にハイレベル
又はロウレベルに制御するもので、多重化メモリに交互
にデータが書き込まれる(ワードW0の選択でメモリセ
ル100,101とメモリセル102,103とが別々
のタイミングでデータが書き込まれる。)ものである。
の構成がある。
セッサから送られてくる図示しないモード選択信号によ
って予め上記した2つのモードのいずれかが設定され、
ライトコントロール信号WCTLが入力されたら、設定
されたモードに従って、ライト切り換え信号WC0,W
C1のレベルの切り換えを行う。このようにモードを予
め設定する構成とすることで、書き込み時にプロセッサ
はライトコントロール信号WCTLを多重化メモリに送
るだけでよい。
してライト切り換え信号WC0,WC1のレベルを制御す
る信号,ライト切り換え信号WC0のレベルを制御する
信号,ライト切り換え信号WC1のレベルを制御する信
号を用意し、プロセッサからこれらのいずれかの信号を
ライトコントロール回路3に送る。このようにライトコ
ントロール信号WCTLの内容によってライト切り換え
信号WC0,WC1のレベルを制御する構成とすれば、
ライトコントロール回路3の構造が比較的簡単になる。
クロックに同期してライト切り換え信号WC0,WC1
を制御することで、本多重化メモリを外部のクロックに
同期して動作させることもできる。この場合、多重化し
たメモリセルに同時にデータを書き込む場合には、ライ
トコントロール回路3はクロックに同期してライト切り
換え信号WC0,WC1を同時にハイレベル又はロウレ
ベルにすればよいが、多重化したメモリへ交互にデータ
を書き込む場合には、次のいずれかの構成とする必要が
ある。
のメモリセルにデータを書き込む方法である。
ール回路3に予めモードを設定するようにした場合、ラ
イトコントロール回路3は、最初のクロックでライト切
り換え信号WC0をハイレベルにし、次のクロックでW
C1をハイレベルに切り換えるようにクロックでライト
切り換え信号WC0,WC1を制御する。また、この場
合、プロセッサからは2つのクロックの間、ライトコン
トロール信号WCTLをライトコントロール回路3に送
る。
ロール信号WCTLによって制御する場合には、プロセ
ッサからクロック毎にライト切り換え信号WC0,WC
1のレベルを制御する信号を送るようにする。
多重化されたメモリセルに交互にデータを書き込む方法
である。
ロール回路3に予めモードを設定するようにした場合、
ライトコントロール回路3はクロックの前半サイクルに
ライト切り換え信号WC0をハイレベルにし、次の後半
サイクルでWC1をハイレベルに切り替えるようにライ
ト切り換え信号WC0,WC1を制御する。この場合、
プロセッサからは1つのクロックの間、ライトコントロ
ール信号WCTLをライトコントロール回路3に送る。
らの読み出しを選択するためのもので、NMOSFET28〜
31により構成される。NMOSFET28がデータ伝送線D
0′ひいてはD0を選択するためのスイッチ素子、NMOS
FET29がデータ伝送線D0N′ひいてはD0Nを選択する
ためのスイッチ素子、NMOSFET30 がデータ伝送線D
1′ひいてはD1を選択するためのスイッチ素子、NMOS
FET31 がデータ伝送線D1N′ひいてはD1Nを選択
するためのスイッチ素子となる。これらのNMOSFET28
〜31 は、リードコントロール回路4から出力される
リード切り換え信号RC0,RC1によりオン,オフ制
御され、RC0は、NMOSFET28,29を制御し、RC1
は、NMOSFET30,31 を制御する。この時、リード制
御のためのリードコントロール信号RCTLは、本多重
化メモリに接続されたプロセッサにより制御される。
モリに接続されているプロセッサから送られてくるリー
ド制御のためのリードコントロール信号RCTLによっ
てリード切り換え信号RC0,RC1のレベルの切り換
えを行っている。このリード切り換え信号RC0,RC
1のレベルの切り換えとして2つのモードがある。1つ
は、リード切り換え信号RC0,RC1をほぼ同時にハ
イレベルまたはロウレベルに制御するもので、ハイレベ
ルの状態で多重化メモリから同時にデータが読み出され
る(ワードW0の選択により、メモリセル100,10
1,102,103のデータがほぼ同じタイミングでセン
スアンプ9へ送られる。)ものである。もう1つは、リ
ード切り換え信号RC0とリード切り換え信号RC1と
を交互にハイレベル又はロウレベルに制御するもので、
多重化メモリから交互にデータが読み出される(ワード
W0の選択によりメモリセル100,101とメモリセ
ル102,103のデータが別々のタイミングでセンス
アンプ9へ送られる。)ものである。
の構成がある。
セッサから送られてくる図示しないモード選択信号によ
って予め上記した2つのモードのいずれかが設定され、
リードコントロール信号RCTLが入力されたら、設定
されたモードに従って、リード切り換え信号RC0,R
C1のレベルの切り換えを行う。このようにモードを予
め設定する構成とすることで、読み出し時にプロセッサ
はリードコントロール信号RCTLを多重化メモリに送
るだけでよい。
してリード切り換え信号RC0,RC1のレベルを制御す
る信号,リード切り換え信号RC0のレベルを制御する
信号,リード切り換え信号RC1のレベルを制御する信
号を用意し、プロセッサからこれらのいずれかの信号を
リードコントロール回路4に送る。このようにリードコ
ントロール信号RCTLの内容によってリード切り換え
信号RC0,RC1のレベルを制御する構成とすれば、
リードコントロール回路4の構造が比較的簡単になる。
クロックに同期してリード切り換え信号RC0,RC1
を制御することで、本多重化メモリを外部のクロックに
同期して動作させることもできる。この場合、多重化し
たメモリセルに同時にデータを読み出す場合には、リー
ドコントロール回路4はクロックに同期してリード切り
換え信号RC0,RC1を同時にハイレベル又はロウレ
ベルにすればよいが、多重化したメモリから交互にデー
タを読み出す場合には、次のいずれかの構成とする必要
がある。
のメモリセルからデータを読み出す方法である。
ール回路4に予めモードを設定するようにした場合、リ
ードコントロール回路4は、最初のクロックでリード切
り換え信号RC0をハイレベルにし、次のクロックでR
C1をハイレベルに切り換えるようにクロックでリード
切り換え信号RC0,RC1を制御する。また、この場
合、プロセッサからは2つのクロックの間、リードコン
トロール信号RCTLをリードコントロール回路4に送
る。
ロール信号RCTLによって制御する場合には、プロセ
ッサからクロック毎にリード切り換え信号RC0,RC
1のレベルを制御する信号を送るようにする。
多重化されたメモリセルから交互にデータを読み出す方
法である。
ロール回路4に予めモードを設定するようにした場合、
リードコントロール回路4はクロックの前半サイクルに
リード切り換え信号RC0をハイレベルにし、次の後半
サイクルでRC1をハイレベルに切り換えるようにリー
ド切り換え信号RC0,RC1を制御する。この場合、
プロセッサからは1つのクロックの間、リードコントロ
ール信号RCTLをリードコントロール回路3に送る。
岐線)D0,D1及びD0N,D1Nは、多重化メモリ
セルのY座標を決定する信号線でもあり、これらの信号
線を選択するライト切り換え回路7,リード切り換え回
路8は、その意味で、メモリセルアレイ5のYデコーダ
を兼用することにもなる。
しデータ、RDNは同じく負極性の読み出しデータ、R
DATAはセンスアンプ9からの読み出しデータ、WD
は正極性の書き込みデータ、WDNは負極性の書き込み
データ、WDATAはメモリセルへの書き込みデータで
ある。
書き込み動作)について説明する。尚、ここでは多重化
したメモリセルへ交互にデータを書き込む場合について
説明する。また、説明の補助として図17にライト動作
時のタイミングチャートを示す。このタイミングチャー
トは、それぞれの信号のハイレベルとロウレベルの切り
換えのタイミングを示したものである。
WDATAは、ライトドライバ10により正極性のライ
トデータWDと負極性のライトデータWDNに変換され
る。データWD,WDNは、データ伝送線D,DNに分
けられ、ワード線W0〜W1及びライト切り換え回路7
を介して選択された伝送線D0,D0N,D1,D1Nを
介して所定のメモリセルへ入力される。
書き込みデータWD,WDNを、2重化したメモリセル
のどちらか片方へ書き込むように制御し、2重化された
メモリセルへ2回に分けて書き込む。例えば、Xデコー
ダ2がアドレス信号ADDに基づきワード線W0を選択
した場合で、ライトコントロール回路3がプロセッサか
ら送られてくるライトコントロール信号WCTLに基づ
きライト切り換え信号WC0をハイレベルにすると(こ
のとき、WC1はローレベルにある)、NMOSEFT50,5
1がオンし、正極性のデータWDがデータ伝送線D,D
0を介してメモリセル100に書き込まれ、負極性のデ
ータWDNがデータ伝送線DN,D0Nを介してメモリ
セル101に書き込まれる。次いで、ライト切り換え信
号WC1がハイレベルになり(このとき、WC0はロー
レベルにある)、NMOSEFT52,53がオンし、上記と
同一の正極性のデータWDがデータ伝送線D,D1を介
してメモリセル102に書き込まれ、同じく負極性のデ
ータWDNがデータ伝送線DN,D1Nを介してメモリ
セル103に書き込まれる。このようにしてデータを多
重化して格納する。すなわち、メモリセル100,10
2へは正極性の同じデータが書き込まれ、メモリセル1
01,103へは負極性の同じデータが書き込まれる。
き込めるように制御すると、ライトドライバ10の負荷
駆動能力を小さく設計することができる。また、ライト
ドライバ10の負荷駆動能力を大きく設計できれば、ラ
イト切り換え信号WC0,WC1を同時にハイレベルに
し、ライト切り換え回路7内の全てのNMOSEFT 50〜5
3をオンすることで、多重化(ここでは2重化メモリ)
された割り当ての複数メモリセルの全てに同時にデータ
を書き込むことが可能である。以上のデータ書き込み動
作モードの時には、リード切り換え回路8内の全てのMO
SFET28〜31は、オフするように制御されている。な
お、メモリセル110,111や112,113以降の
多重化メモリセルについても、ワード線W1以降の選択
及びライト切り換え回路7,リード切り換え回路8のコ
ントロールにより同様のデータ書き込みがなされる。
説明の補助として図18にリード動作時のタイミングチ
ャートを示す。
0,WC1は、共にローレベルとなるよう制御されてお
り、NMOSEFT50〜53 は全てオフしている。一方、リ
ード切り換え信号RC0,RC1は少なくとも一方或い
は両方がハイレベルとなっている。
り換え信号RC0,RC1の両方がハイレベルとなり、
NMOSEFT28〜31の全てがオンする。NMOSEFT28〜3
1全てが同時にオンした場合は、データ伝送線D0,D
0NとD1,D1Nが同時に選択される。
コーダ2のデコード動作により、例えばワード線W0が
選択されると、メモリセル100〜103からデータが
読み出される。伝送線D0,D0Nを介して、正/負極
性の相補データがメモリセル100,101から読み出
され、伝送線D1,D1Nを介してもう一方のメモリセ
ル102,103から上記と同じ正/負極性の相補デー
タが読み出される。
00,102の正極性のデータは、伝送線D0,D0′
とD1,D1′を介してワイヤードオアされ、このワイ
ヤードオアにより正極性データが加算され、正極性のデ
ータRDとしてセンスアンプ9へ入力される。メモリセ
ル101,103の負極性のデータは、データ線D0N,D
0N′とD1N,D1N′を介してワイヤードオアさ
れ、このワイヤードオアにより負極性データが加算さ
れ、負極性のデータRDNとしてセンスアンプ9へ入力
される。
差動のセンスアンプ9により増幅されセンスアンプ9か
らのリードデータRDATAとして読み出される。この
ように2重化されたメモリセルからの読み出しデータ
を、ワイヤードオアにより加算し、差動のセンスアンプ
9を用いてリードデータRDATAを得ることは、多数
決処理して読み出すことと等価である。すなわち相補デ
ータを2重化した実質的に4重化したメモリセルによる
多数決を意味し、4つのメモリセル100〜103のうち
の1つが壊れても、センスアンプ9への入力信号RD,
RNには差があるためセンスアンプ9からは正しくデー
タが読み出される。
2,113以降の多重化メモリセルについても、ワード
線W1以降の選択及びライト切り換え回路7,リード切
り換え回路8のコントロールにより同様のデータ読み出
しがなされる。
出された同一データは、スイッチ手段(スイッチ素子2
8〜31)を介してワイヤードオアされるが、さらにリ
ードコントロール回路4によってスイッチ素子を制御す
ることで、ワイヤードオアする信号線数の選択を可能に
している。
オンさせれば、ワイヤードオアする信号線数は正/負極
性データ用の合計で、D0,D0N,D1,D1Nの4
本となり、スイッチ素子28,29或いは30,31を
オンさせればワイヤードオアする信号線数は正極,負極
性データにつき各1本(ワイヤードオアの片側の信号線
だけ)となり、スイッチ素子29〜31を全てオフさせ
れば、ワイヤードオアする信号線数は零となる。
ードオアする信号線数の選択数を切り換え可能にするこ
とにより、読み出しデータの多数決処理,メモリセルの
診断,データの書き込み/読み出しを配線の合理化をは
かりつつ実現させることができる。
化されたメモリセルへの同時書き込み、交互の書き込
み、リードコントロール回路4による多重化されたメモ
リセルからの同時読み出し、交互の読み出しは、ライト
コントロール回路3,リードコントロール回路4により
スイッチ素子のオン,オフのタイミングを制御すること
に相当する。同様に、データの書き込み時にリードコン
トロール回路4によるスイッチ素子のオフ,データ読み
出し時にライトコントロール回路3によるスイッチ素子
のオフも、スイッチ素子のオン,オフのタイミングを制
御していることに相当する。
す。
ば、図1のメモリセル100,102に相当する)、N
は負極メモリセル(例えば、図1のメモリセル101,
103に相当する)であり、正/負極性の相補データが
2重化メモリにより記憶されている。図2(a)は、全
てのメモリが健全な状態であり、この時は正極性の相補
データの電流値は2iとなり、負極性の相補データの電
流値が0となって、差動のセンスアンプを介してリード
データRDATAが得られる。図2(b)は、メモリセ
ルの1つが壊れた場合(ここでは、正極性の一方のデー
タが壊れた場合を例示している)であり、この場合に
も、もう一方の正極性データが確保されていることによ
り正常なリードデータRDATAが得られる。
データにより1ビットのデータを構成し、これを差動回
路(センサアンプ)を介して読み出すようにすれば、判
定用のリファレンス信号を作る回路が不要となる。な
お、図3のように相補データを用いないで正極性データ
だけで多重化メモリを構成した場合においては、判定用
のリファレンス信号を必要とする。正/負極性の相補デ
ータを用いた場合には、次のような利点がある。書き込
みデータWDATAにノイズが含まれ、正極性のデータ
WD,負極性データWDNがそのノイズの影響を受けて
メモリセルに書き込まれても、読み出し時には正/負極
性データの差動によりノイズが相補的に打ち消しあうの
で、リファレンス信号を用いる方式より一層の信頼性を
高める。
8をパストランジスタを介してワイヤードオアする構成
としているが、正極性データ同士,負極性データ同士の
読み出し信号を加算する手段が有れば同様の効果が得ら
れる。
CTLに基づき、リード切り換え信号RC0及びRC1
のいずれか一方を選択(ハイレベル信号)にして、リー
ド切り換え回路8のNMOSEFT28,29か、NMOSEFT3
0,31の一方側をオンさせることにより、2重化され
たデータをそれぞれ単独に読み出すことも可能である。
これにより、それぞれのデータが正しく書き込まれてい
るかをチェックすることが可能になる。
りNMOSEFT28,29 がオンした場合は、伝送線D0,
D0Nを介して相補データが読み出される。また、NMOS
EFT30,31がオンした場合は、2重化のもう一方の
相補データが伝送線D1,D1Nを介して読み出され
る。
ロックに同期させて動作させる場合には、ライトドライ
バ10,センスアンプ9にそれぞれラッチ回路を設け
て、外部からのクロックに同期してライトドライバ10
へデータを送り、外部からのクロックに同期してセンス
アンプ9からのデータをデータバスに出力するようにす
ればよい。
奏する。
モリセルの1つが壊れても正常なデータを読み出すこと
が可能である。
N,D1Nのように多重化の複数のメモリセルに対応し
て分岐化し、この分岐線D0,D1及びD0N,D1N
をリード切り換え回路7、ライト切り換え回路8を介し
てライトドライバ10及びセンスアンプ9に切り換え可
能に接続することで、データ伝送線の一部を読み出し
/書き込み兼用とし、しかも、リード切り換え回路
7,ライト切り換え回路8がマトリクス状のメモリセル
のYデコーダも兼用し、専用のYデコーダを省略可能に
し、さらにセンスアンプ9及びライトドライバ10を
多重化されたメモリセルに共用することができる。その
結果、多重化メモリセルの周辺回路及び配線構造の合理
化,簡略化を図ることで、多重化に伴う面積,消費電力
増加のオーバヘッドを、メモリセルの増分のみに抑える
ことが可能である。また、多重化メモリからの読み出し
データをワイヤードオアによる加算と差動のセンスアン
プによる読み出しで多数決処理しているため、多数決処
理のための専用ハードを不要とすることが可能となる。
独で読み出せることにより、メモリテストを容易に行う
ことが可能である。この場合、図1に示したそれぞれの
センスアンプ9から出力されるリードデータRDATA
を保持するラッチ回路を設ける。このラッチ回路は、多
重化された分だけ設ける。つまり2重化されていれば2
つのラッチ回路,3重化されていれば3つのラッチ回路
を設ける。なお、この場合には、ラッチ回路を選択する
ための切り換え器が必要になる。この切り換え器の制御
は、リードコントロール回路RCTから出力されるリー
ド切り換え信号RC0,RC1によって行う。更に、多
重化されたデータの比較を行うためにそれぞれのラッチ
回路から出力されたデータを比較する比較回路を設け
る。ラッチ回路に格納されたデータは、比較回路へ送ら
れ比較される。これにより、メモリ装置だけで故障診断
をリアルタイムに行うことができる。例えば、データを
比較した結果、データ間に相違がある場合に比較回路か
ら“1”を、相違がない場合に“0”を出力するように
し、この故障診断結果をデータバスを介してプロセッサ
に送ることで、プロセッサ側で多重化メモリのどの部分
が故障したのか検出することが可能となる。
ら読み出したデータをプロセッサへ送り、プロセッサで
一致しないビットを検出することで、故障診断を行うこ
とが可能となる。
ータを記憶させることで、データの多数決判定処理に用
いるリファレンス信号を不要とし、また、ノイズに強い
多重化メモリを実現することが可能になる。
能な不揮発性メモリへ適用すれば、書き込みデータの経
時的変化によるデータ故障に対して高い信頼性を確保で
きる。また、書き込みと消去を繰り返すことによるメモ
リセルに対する過度のストレスによる劣化に対してもデ
ータを保証できるため、書き込み回数に対する寿命向上
を図ることができる。特に、EPROM等の不揮発性メ
モリの経時劣化による閾値の微妙な変化に対しては、セ
ンスアンプ以降での、ある閾値に対するデジタル的な0
/1判定よりもセンスアンプ以前に相補信号によりその
差信号を読み出す方が信頼性が高い。すなわち、不揮発
性メモリでは、2重化しなくとも相補でデータを保持
し、その差信号をアナログ的に読み出すことが信頼性の
面で効果がある。
(SRAM)等に適用すれば、アルファ線によるソフト
エラーが発生しても正常に動作を継続することが可能で
ある。アルファ線によるソフトエラー率に見合ったメモ
リ多重化(たとえば3重化や4重化)を実現すれば宇宙
での使用にも耐えうる多重化メモリを実現することが可
能である。
の一例を示す。
T、308〜316はNMOSEFT、320,321は反転回
路である。
アンプであり、正極性のメモリセル読み出しデータRD
と負極性のメモリセル読み出しデータRDNの電流差を
検知してセンスアンプからリードデータRDATAを出
力する。
01とNMOSEFT308,310により中間電位にクラン
プされている。すなわち、データRDの電位が中間電位
から下がった場合には、NMOSEFT308のコンダクタン
スが下がりNMOSEFT310のゲート電位が上昇する。こ
れによりNMOSEFT310 のコンダクタンスが上がること
でデータRDが高い電位へ引き上げられる。また、負極
性読み出しデータRDの電位が中間電位から上がった場
合は、NMOSFET308のコンダクタンスが上がり NMOSE
FT310のゲート電位が下がる。これによりNMOSEFT3
10のコンダクタンスが下がることでデータRDが低い
電位へ引き下げられる。このようにして、データRDは
中間電位にクランプされる。
302とNMOSEFT309,311により上記同様のクラ
ンプ動作を行う。このように正/負極性の読み出しデー
タRD,RDNをクランプするのは、電位が変動する
と、差動回路の動作スピードが遅くなるため、そのよう
な事態が生じないようにするためである。
は、負荷となるPMOSFET303,304により電圧信号
に変換され、PMOSFET306,307のゲートへ入力さ
れる。 PMOSFET306,307とNMOSEFT312,31
3により差動回路を構成している。差動回路の出力信号
はPMOSFET307のドレインとNMOSEFT313のドレイン
の接続点から出力され反転回路320を介してセンスア
ンプ出力RDATAとなる。
流供給用であり、PMOSFET303,304と共にセンス
アンプ活性時のみオンするように動作する。センスアン
プ活性化信号SAONはセンスアンプ活性時にハイレベ
ルとなり、非活性時にはローレベルとなる。
路321を介してPMOSFET303〜305とNMOSEFT31
4〜316へ入力されている。NMOSEFT314〜316
はセンスアンプ非活性時にオンし読み出しデータRD,
RDNと差動回路出力をローレベルへプルダウンする。
前の状態(すなわちリードデータRD,RDNの電流が
同一となっている状態)で差動回路の出力データが中間
電位とならないように、負荷用PMOSFET303 と304
は異なったコンダクタンスに設定している。
メモリの回路構成図である。本多重化メモリも第1の実
施例で説明したようにプロセッサとデータバス,アドレ
スバス,制御バスを介して接続し、データ処理装置を構
成することができる。
は、リード/ライトコントロール回路11とライト切り
換え回路12及びリード切り換え回路13である。
路11は、リードとライトのコントロール回路を一体化
し、リード/ライトコントロール信号R/WCTLによ
りライト切り換え信号WC10とリード切り換え信号R
C10が選択的に出力される。従って、プロセッサから
はリード/ライトコントロール信号R/WCTLが出力
される。尚、実施例1で説明したようにライトコントロ
ール信号WCTL,リードコントロール信号RCTLを
リード/ライトコントロール回路11に入力するように
してもよい。
〜61 は、ライトコントロール信号WC10がハイレ
ベルのとき全てオンする。これによりメモリセルアレイ
5へのデータ書き込み時は、データ伝送線D0,D1及
びD0N,D1Nの全てが選択され、例えばワード線W
0が選択されている時にはメモリセル100〜103へ
一斉にデータが書き込まれる。この時、リード切り換え
信号RC10はローレベルとなっており、リード切り換
え回路13内のNMOSFET 62〜65は全てオフし、書き
込みデータのセンスアンプ9への回り込みを防止してい
る。
リなどでは、書き込み電圧は高電圧となるため、センス
アンプなどの高耐圧MOSを使用していない回路への高
電圧の回り込みを防止するのは重要である。
〜65 は、リード切り換え信号RC10がハイレベルのと
き全てオンする。これはデータの読み込み時は常に多重
化メモリを多数決処理して読み出していることを意味す
る。この時ライト切り換え信号WC10はローレベルの
ためライト切り換え回路12内NMOSFET58〜61 は全
てオフしている。
をそれぞれ片方ずつ読み出してチェックできない点を除
けば図1に示した実施例と同様の効果を得ることができ
る。また、本実施例では、第1実施例に比べて、リード
/ライトコントロール回路11の構成を簡単にでき、多
重化メモリの周辺回路をさらに簡略化できる効果があ
る。尚、本多重化メモリを外部のクロックに同期させて
動作させる場合には、第1の実施例で説明したのと同様
に、ライトドライバ10,センスアンプ9にラッチ回路
を設ける。
メモリの回路構成図である。本多重化メモリも第1の実
施例で説明したようにプロセッサとデータバス,アドレ
スバス,制御バスを介して接続し、データ処理装置を構
成することができる。
ード/ライトコントロール回路11を一体化したこと
と、Yデコーダ14,Yスイッチ15を使用した点、及
びライト切り換え回路16,リード切り換え回路17の
構成である。
れるアドレス信号ADDの一部を入力し、多重化された
マトリクス配置のメモリセル100〜103,110〜
113,…のY座標(データ伝送線D0,D0N,D1,D
1N)を選択するもので、Yデコーダ14の出力信号Y
0,Y1でYスイッチ15内のNMOSFET66〜69を制御
している。
データ伝送線(分岐線)D0,D0N,D1,D1Nに
設けられ、Yデコーダ14の出力信号Y0がハイレベル
になるとNMOSFET66,67 がオンし、データ伝送線D
0,D0Nが選択され、出力信号Y1がハイレベルにな
るとNMOSFET68,69 がオンし、データ伝送線D1,
D1Nが選択される。
0,D0NとD1,D1Nをそれぞれ個別に選択できる
ようにしたことで、ライト切り換え回路16とリード切
り換え回路17内のMOSFETの個数を半減してい
る。
OSFET70と71とで構成され、NMOSFET70は、分岐前
の伝送線Dに設けられ、NMOSFET71は、分岐前の伝送
線DNに設けられている。
と73とで構成され、NMOSFET72は、ワイヤードオア
後の入力線D′に設けられ、NMOSFET73 は、ワイヤー
ドオア後の入力線DN′に設けられている。
は、ライト切り換え信号WC10がハイレベルとなりラ
イト切り換え回路16のNMOSFET70,71がオンし、
リード切り換え信号RC10はローレベルになって、リ
ード切り換え回路17のNMOSFET72,73がオフする。
ード出力信号Y0がハイレベルになりNMOSFET66,67
がオンする。この時、例えばワードW0が選択されてい
れば、メモリセル100に正極性の相補データが書き込
まれ、メモリセル101に負極性の相補データが書き込
まれる。次いで、デコード出力信号Y0に代わって出力
信号Y1がハイレベルになると、NMOSFET68,69 が
オンすることで、上記と同一の正極性の相補データがメ
モリ102に書き込まれ、同じく負極性の相補データが
メモリ103に書き込まれる。
時にハイレベルにすることも可能であり、この場合には
割り当ての多重化メモリセルの全てに同時に正/負極性
の相補データが書き込まれる。
は、通常は、Yデコーダ14のデコード出力信号Y0,
Y1のいずれもハイレベルとなり、Yスイッチ15のNM
OSFET66,67,68,69の全てがオンする。ライ
ト切り換え信号WC10はローレベルで、ライト切り換
え回路16のNMOSFET70,71 はオフし、リード切り
換え信号RC10はハイレベルで、リード切り換え回路
17のNMOSFET72,73がオンすることで、ワード信号
W0〜Wnのうち選択されたメモリセル、例えばメモリ
セル100と102の正極性データがワイヤードオアに
より加算されて読み出され、読み出し信号RDとなって
センスアンプ9に入力され、メモリセル101と103
の負極性データもワイヤードオアにより加算されて読み
出され、読み出し信号RDNとなってセンスアンプ9に
入力される。
も、その分、ライト切り換え回路16及びリード切り換
え回路17を構成するスイッチ素子数が減り、また、リ
ード/ライトコントロール回路11を1つにまとめるこ
とができるので、多重化メモリの周辺回路のオーバヘッ
ドを最小限に抑えることが可能である。また、リード/
ライトコントロール回路を1つにまとめても、図5の実
施例と異なってデータ伝送線D0,D0NとD1,D1
Nとを選択して、第1実施例同様にメモリセルを片方ず
つ故障診断チェックすることが可能になる。これにより
高信頼の多重化メモリを実現することが可能である。
期させて動作させる場合には、第1の実施例で説明した
ようにライトドライバ10,センスアンプ9にクロック
に同期して動作するラッチ回路を設ければよい。
メモリの回路構成図である。本多重化メモリも第1の実
施例で説明したようにプロセッサとデータバス,アドレ
スバス,制御バスを介して接続し、データ処理装置を構
成することができる。
した各実施例と異なる点は、大きくは、多重化(3重
化)メモリに記憶するデータを正/負極性の相補データ
に代えて同極性データとした点、及び1つのライトドラ
イバ6から出る同一データの伝送線をD0,D1,D2
と複数に分けた点である。
は、それぞれ1ビット分の多重化メモリであり、メモリ
セルアレイ21は、ワード線W0〜Wnにより選択可能
にマトリクス配置されたメモリセルより成る。本実施例
では、3重化メモリを構築するために、メモリセル15
0,151,152には同極性の同一データが記憶さ
れ、メモリセル160,161,162以降も同様に同
一データが記憶されるようにしてある。
は3重化メモリセル)に1つのライトドライバ6により
書き込めるよう、該ライトドライバ6からのデータ伝送
線D0,D1,D2が複数に分けられて割り当ての複数
のメモリセル150,151,152、160,16
1,162…に接続され、これらの各データ伝送線D
0,D1,D2は、それぞれのメモリセルから途中位置
までがデータ読み出し用の伝送線を兼用して、伝送線D
0′,D1′,D2′,リード/ライト切り換え回路2
2,23、ワイヤードオアを介してセンスアンプ9の入
力側に接続されている。
トロール回路19,ライト切り換え回路22、リード切
り換え回路23の機能は、基本的には、今まで述べてき
たものと同様の機能をなすものである。
〜76により構成され、このうち NMOSFET74はデー
タ伝送線D0に設けられ、NMOSFET75はデータ伝送線
D1に設けられ、NMOSFET76はデータ伝送線D2に設
けられる。
〜79により構成され、このうち NMOSFET77はデー
タ伝送線D0′に接続され、NMOSFET78はデータ伝送
線D1′に接続され、NMOSFET79はデータ伝送線D2′
に接続される。上記ライト切り換え回路22及びリード
切り換え回路23は、Yデコーダの機能も兼用する。
はリファレンス信号発生回路20のコントロール信号、
WC0,WC1,WC2はライト切り換え信号、RC
0,RC1,RC2はリード切り換え信号、WD0,W
D1,WD2は同極性の同一書き込みデータである。
例が正/負極性の相補のデータを記憶したメモリセルを
2重化していたのに対し、同極性の同一のデータを記憶
したメモリセルを3重化している。
る。
は、ライト切り換え信号WC0,WC1,WC2が1つ
ずつ順番に或いは同時にハイレベルとなり、ライト切り
換え回路22のNMOSFET74〜76 が順番に或いは同時
にオンし、リード切り換え信号RC0,RC1,RC2
はローレベルになって、リード切り換え回路23のNMOS
FET77,78,79 がオフになる。この時、例えばワ
ード線W0が選択されていれば、3重化されたメモリセ
ル150,151,152に同一のデータが単独で或い
は同時に書き込む制御がなされる。
(リード時)には、ライト切り換え信号WC0,WC
1,WC2がローレベルとなり、ライト切り換え回路2
2のNMOSFET74〜76 がオフし、リード切り換え信号
RC0,RC1,RC2はハイレベルになって、リード
切り換え回路23のNMOSFET77,78,79 がオンす
る。この時、例えば、ワード線W0が選択されるとメモ
リセル150〜152から同一のデータがデータ線D
0,D1,D2及びD0′,D1′,D2′を介して読
み出され、これらのデータがワイヤードオアにより加算
され、読み出し信号RDとなってセンスアンプ9に入力
される。
リファレンス信号Refが入力され、読み出しデータR
DATAが出力される。
ード切り換え信号RC0,RC1,RC2を上記のよう
に同時にハイレベルにするほかに、1つずつ順番にハイ
レベルにして、リード切り換え回路23のNMOSFET7
7,78,79 を順番にオンさせ、3重化されたメモ
リセルのそれぞれを単独で読み出す制御も可能である。
このようにすることで、各メモリセルが故障診断も可能
になる。リファレンス信号発生回路20は、3重化され
たメモリセルを単独でリードする場合と複数加算してリ
ードの場合に応じてリファレンス信号Refを変化させ
ている。
コントロール回路19は、第1の実施例で説明したライ
トコントロール回路3,リードコントロール回路4と同
様に構成すればよい。更に、本多重化メモリを外部のク
ロックに同期させて動作させる場合には、第1の実施例
で説明した構成とすればよい。
に多重メモリセルの周辺回路の合理化,簡略化を図り得
るほかに、個々のメモリセルへデータを直接リード/ラ
イトできるため、メモリセルのテストが、図1,図5,
図6に示した正/負極性の相補データでリード/ライト
する方式に比べて容易である。また、図1,図5,図6
の実施例に対してメモリセルの個数を3/4に削減可能
である。
信号を必要とすること、及び多重化されたメモリセルの
単独リードと一括リードを切り換える際に、リファレン
ス信号の信号レベルを切り換える手段が必要となるなど
制御回路が若干複雑となる。図8は本発明の第5の実施
例に係る多重化メモリである。本多重化メモリも第1の
実施例で説明したようにプロセッサとデータバス,アド
レスバス,制御バスを介して接続し、データ処理装置を
構成することができる。本実施例と既述の実施例との異
なる大きな点は、図1〜図7までの実施例がワード線方
向(X座標方向)にメモリセルを多重化していたのに対
して、データ線方向(Y座標方向)にメモリセルを多重
化しているのが特徴である。
は、それぞれ1ビット分のメモリを示す。
実施例と同様に、一のデータが正/負極性の相補データ
を用いており、ライトドライバ10からのデータ伝送線
のうち正極性のデータ伝送線Dは途中で符号D10,D
11に示すように分岐され、負極性のデータ伝送線DN
は途中で符号D10N,D11Nに示すように分岐され
て、割り当ての複数のメモリセルに接続されている。上
記データ伝送線(分岐線)D10,D11,D10N,
D11Nはデータ読み出し用のデータ伝送線を兼用し
て、それぞれリード/ライト切り換え回路16,17を
介してセンスアンプ9の入力側に接続されている。
…は多重化するメモリセルを選択するための多重化切り
換え回路であり、複数のゲート回路例えばアンドゲート
により構成される。ゲート25−1の入力側にはワード
W0とリード/ライトコントロール回路11から出力さ
れる多重化メモリ選択信号RWC0が入力され、その出
力線がワード線となる。ゲート25−2の入力側にはワ
ードW0とリード/ライトコントロール回路11から出
力される多重化メモリ選択信号RWC1が入力され、そ
の出力線がワード線となる。
側にはワードW1と多重化メモリ選択信号RWC0が入
力され、その出力線がワード線となる。ゲート25−4
の入力側にはワードW1と多重化メモリ選択信号RWC
1が入力され、その出力線がワード線となる。
16との間にはYスイッチ15が設けてある。Yスイッ
チ15はNMOSFET66〜69より成り、NMOSFET66はデ
ータ伝送線D10に、NMOSFET67はデータ伝送線D1
0Nに、NMOSFET68はデータ伝送線D11に、NMOSFET
69はデータ伝送線D11Nに設けてある。
−1と第2のカラム26−2とに分けられている。
時)は、例えば、多重化メモリ切り換え信号RWC0が
ハイレベル,RWC1がローレベルになるよう制御さ
れ、ワードW0がハイレベル、また、Yデコード14の
出力信号Y0によりNMOSFET66,67がオンすれば、メ
モリセル200,201が選択される。この状態で、ラ
イト切り換え回路16のスイッチ素子70,71をオン
しておけば、正極性の相補データWDがデータ伝送線D
10を介してメモリセル200に書き込まれ、負極性の
相補データWDNがデータ伝送線D10Nを介してメモ
リセル201に書き込まれる。
イトモード)において、多重化メモリ切り換え信号RW
C0がローレベル,RWC1がハイレベルに切り換わる
と(ここではワードはW0が選択されているものとす
る)、メモリセル202,203に上記と同一の正/負
極性の相補データがそれぞれ書き込まれることで多重化
メモリが構築される。
ードW1が選択されると、多重化メモリ切り換え信号R
WC0がハイレベルの状態では、メモリセル210,2
11に正/負極性の相補データが書き込まれ、RWC1
がハイレベルの状態ではメモリセル212,213に正
/負極性の相補データが書き込まれる。
重化されたメモリに同一データが書き込まれる。
るか、第2カラムの多重化メモリを選択するかは、Yス
イッチ15のスイッチ素子66,67か68,69の切
り換え制御により可能である。
ータを単独に書き込むか、多重化メモリの双方にデータ
を同時に書き込むかは、多重化メモリ切り換え信号RW
C0,RWC1を用いて任意に制御可能である。ここで
は、200〜203、204〜207、210〜21
3、214〜217がそれぞれの2重化メモリを構成し
ている。
を説明する。
り換え信号RWC0,RWC1…、ワードW0,W1
…、Yデコード出力信号Y0,Y1、リード/ライトの
切り換え信号WC10,RC10により多重化メモリセ
ルが選択されることで行われる。
メモリ切り換え信号RWC0,RWC1がハイレベル,Yデ
コード出力信号Y0がハイレベル,Y1がローレベル,
ライト切り換え信号WC10がローレベル,リード切り
換え信号RC10がハイレベルであれば、スイッチ素子
66,67及び72,73がオン状態になって、メモリ
セル200〜203がデータ伝送線D10N,D10N
を介してセンスアンプ9に接続される。
00,202の同一データが読み出されて、データ伝送
線D10上でワイヤードオアされ、その加算データが読
み出しデータRDとしてセンスアンプ9に入力される
(ここでは、D10の分岐線D10−1,D10−2が
D10上でワイヤードオアされることになり、分岐線D
10−3,D10−4も同様である)。一方、負極性側
では、メモリセル201,203の同一データが読み出
されて、データ伝送線D10N上でワイヤードオアさ
れ、その加算データが読み出しデータRDNとしてセン
スアンプ9に入力される(ここでは、D10Nの分岐線
D10N−1,D10N−2がD10N上でワイヤードオア
されることになり、分岐線D10N−3,D10N−4
も同様である)。最終的にはセンスアンプ9から読み出
しデータRDATAとして出力される。これにより、差
動のセンスアンプ9により多数決処理されデータが読み
出される。
には、多重化メモリ切り換え信号RWC0,RWC1の
いずれか一方をハイレベルとし、それとワードW0,W
1のいずれか1つを選択することにより、2重化された
メモリセルのうち片方を単独でリードすることができ
る。
路11は、データの書き込み時に、多重化されたメモリ
セルへの同時書き込みと交互の書き込みを制御すること
ができる。またデータの読み出し時も同様に、多重化さ
れたメモリセルから同時読み出しと交互の読み出しを制
御することができる。これは、リード/ライトコントロ
ール回路11が、第1の実施例で説明したライトコント
ロール回路3,リードコントロール回路4の両機能を実
現できるようにすればよい。
ド選択信号によって制御する場合には、リード/ライト
コントロール回路11に次のようなレジスタを設けて制
御する。
定することができる。リード/ライトコントロール回路
11は、プロセッサから送られてくるリード/ライトコ
ントロール信号R/WCTLを取り込み、リードコント
ロール信号か、ライトコントロール信号かを判別し、そ
れぞれのレジスタの内容によって、多重化メモリ切り換
え信号RWC0,RWC1を制御する。
ようにリード/ライトコントロール信号R/WCTLに
よって、同時書き込み,交互書き込み,同時読み出し,
交互読み出しを指定できるようにすれば、リード/ライ
トコントロール回路11はレジスタを設ける必要がな
く、リード/ライトコントロール信号R/WCTLによ
って多重化メモリ切り換え信号RWC0,RWC1を制
御することができる。
同期して動作する場合には、第1の実施例で説明したの
と同様にライトドライバ10,センスアンプ9にそれぞ
れクロックに同期して動作するラッチ回路を設ける。
モリセルにおいて、ワード線を多重化切り換え回路25
−1〜25−4を介して分離し、データ線D10,D1
0N及びD11,D11Nのそれぞれがワイヤードオア
の出力線としていることが特徴である。例えば200〜
203のメモリセルの場合、ワード線をゲート回路25
−1,25−2を介して分離している。
リセル200,202でデータ線D10を共有し(メモ
リセル210,212についても同様)、負極性データ
であるメモリセル201,203でデータ線D10Nを
それぞれ共有している(メモリセル211,213につ
いても同様)。
での実施例がワード線方向にメモリセルを多重化してい
たのに対して、データ線方向にメモリセルを多重化して
いる。これにより図1,図5,図6,図7に示した実施
例に対して、メモリ面積の縦横比を変更することができ
る。また、Yデコーダによるカラム選択回路を設けたこ
とでメモリの大容量化への対応が容易となる。
化メモリである。
化切り換え回路25−1〜25−4を削除しており、そ
の他の構成は図8と同様にしてある。
ード/ライトはできなくなり、全て多重化でのリード/
ライト動作となる。したがって、多重化メモリのそれぞ
れ単独ではメモリテストは行えないが、多重化切り換え
回路が削除できたことで図8の実施例に比較して小面積
化を実現することができる。
れるデータ処理装置及び多重化メモリの構成について説
明した。
用した制御システムについて説明する。この制御システ
ムは、複数のデータ処理装置と、この複数のデータ処理
装置からデータを収集したり、それぞれの局所データ処
理装置に制御データなどを配信する中央データ処理装置
から構成される。データ処理装置,中央データ処理装置
ともにデータを処理するプロセッサと、データを記憶す
るメモリとを主な構成要素とし、システムの適用対象に
よって、その他の要素を付加する。
理装置の第1の実施例を示したものである。これは圧力
センサから出力される信号を中央データ処理装置で収集
して制御するシステムにおいて、圧力センサの特性のば
らつきを補正するためのものであり、圧力センサ400
とデータ処理装置401から構成されている。
出力される信号をデジタル信号に変換するA/D変換器
402,温度センサ404,温度センサ404から出力
される信号をデジタル信号に変換するA/D変換器40
3,演算器405,演算器405によって演算されたデ
ジタル信号をアナログ信号に変換するD/A変換器40
6,本発明の多重化メモリを適用したEPROM408,A/D
変換機402,403,D/A変換器406へクロック信号
を供給する発振器407,EPROM408に格納するデータを
外部から書き込むための外部インタフェース回路409
により構成される。
00の特性のばらつきの補正を行うと共に発振器407
の発振周波数の調整を行う構成となっている。これを実
現するために、EPROM408はnビットのメモリで構成し、
外部インターフェース回路409から信号線425を介
してnビットのデータが書き込まれるようになってお
り、ワードによって書き込み場所を指定して圧力センサ
の特性のばらつきの補正を行うためのデータ(以下、
「補正データ」と称す。)と発振器の発振周波数の調整
を行うためのデータ(以下、「調整データ」と称す。)
とを記憶する。EPROM408に記憶された補正データは信号
線423を介して演算器405へ送られ、調整データは
信号線424を介して発振器407へ送られる。本実施
例では、補正データはnビットとし、調整データはmビ
ット(m<n)としている。従ってEPROM408のセンスア
ンプは、n+m個有している。従って、ワードによって
調整データの読み出しを指定した場合には、m個のセン
スアンプが選択され、mビットのデータを信号線424
を介して発振器へ送り、ワードによって補正データの読
み出しを指定した場合にはn個のセンスアンプが選択さ
れnビットのデータを信号線423を介して演算器40
5へ送っている。
いて説明する。まず初期設定として補正データと調整デ
ータとを外部インタフェース回路409からEPROM408へ
書き込む。補正データとは、予め圧力センサの特性を検
査し、圧力センサの特性を直線に近似するためのデータ
である。調整データとは、予め発振器の特性を検査し、
動作させたい周波数にするためのデータである。
400の出力信号の補正について説明する。圧力センサ
400から得られる圧力センサの出力信号と温度センサ
404から得られる温度センサの出力信号をそれぞれA/
D変換器402及び403によりデジタル信号に変換
し、演算器405へ入力する。演算器405はEPROM408
から補正データを読み出し、この補正データと温度セン
サからの出力信号に基づいて圧力センサの特性を直線に
近似した場合の圧力センサの出力信号を演算によって求
める。得られたデータは圧力センサの出力として信号線
421を介してD/A変換器でアナログ信号に変換し、
圧力センサ出力430として出力される。図10に示し
た圧力センサは自動車のエンジンルーム内などの過酷な
環境で使用される。この場合、特に高温等の影響でEP
ROMへ書き込んだデータが経時的劣化を起こしやす
い。このような場合に本発明の多重化メモリをEPRO
Mへ適用すると、1つのメモリセルが劣化してもメモリ
出力は多数決処理により正常なデータを出力できるた
め、高信頼の圧力センサを実現することができる。さら
に圧力センサなどの製品立ち上げ時の初期歩留まりを上
げることも可能である。次に、データ処理装置401の
発振器407の発振周波数の調整について説明する。図
11は、発振器の発振周波数の調整方法を示す図であ
る。図中、CLKは発振器407から出力されるクロッ
ク信号、500は分周及びデューティ調整回路、CLK
_divはクロック信号CLKの分周とデューティを調
整した分周信号、408は発振周波数調整データが格納
されているEPROMであり、発振周波数の調整に必要
な部分のみを示している。EPROM408はmビットの調整デ
ータを格納する多重化されたメモリセル501と、多重
化されたメモリセルから読み出されたデータを加算し、
増幅するm個のセンスアンプ9、センスアンプ9からの
出力信号SAOを格納し、CLK_divによって格納
したデータを出力するm個のラッチ回路502から構成
され、ラッチ回路は調整データOSCCTLを出力する。
する。EPROM408から読み出された相補データRD,RD
Nはセンスアンプ9で増幅されラッチ回路502へ取り
込まれる。ラッチ回路502から出力された調整データ
OSCCTLは、発振器407へ入力される。調整データOSCC
TLは複数ビットで構成され、その信号により発振器40
7の発振周波数を調整する。発振器407から出力され
たクロック信号CLKは、一旦、分周およびデューティ調
整回路500で、図11に示す波形の様にクロック信号
CLKの分周とデューティの調整が行われCLK_di
vとして出力される。このCLK_divが、センスア
ンプ9の活性化信号及びラッチ回路502のクロックと
なっている。すなわち、CLK_divがハイレベルの
期間にセンスアンプ9が動作しEPROM408のデータを読み
出すとともにラッチ回路502へデータが伝搬する。CL
K_divがハイレベルからローレベルへ変化するとセ
ンスアンプ9は動作を停止しラッチ回路502はその時
の読み出されたデータを保持する。これにより読み出し
動作の低消費電力化が可能となる。
データOSCCTLで発振器407を調整し、周波数調整後の
発振器からのクロック信号CLKに同期して調整データ
を読み出すためのセンスアンプ9とラッチ回路502を
制御することは、制御信号が帰還しているため以下に示
すような問題が発生する。この問題とは、調整データOS
CCTLが電源投入時には不確定(ラッチ回路502の保持
データが不確定)となるため、発振器407が高い周波
数で発振する場合が有るという問題である。
間にセンスアンプ9とラッチ回路502が動作するが、
発振器407が高い周波数で発振した場合、クロック信
号CLKのパルス幅が狭くなり、EPROM408からの読み出
しデータをラッチ回路502へ取りこめないという、ディ
レイ不良が発生する問題である。
では分周信号CLK_divのパルス幅をクロック信号
CLKのパルス幅の2倍に設定している。これにより、
例えば電源投入時などにクロック信号CLKが通常動作
時の2倍の発振周波数で発振してパルス幅が通常の1/
2になった場合でも、CLK_divのパルス幅がディ
レイ不良を起こさない正常時のパルス幅を確保でき、EP
ROM408からの読み出しデータSAOをセンスアンプ9で
増幅しラッチ回路502に取り込むことが可能となる。
回路502の記憶データが不定の場合やラッチ回路50
2の記憶データがノイズ等により破壊された場合におい
ても、発振器407が発振しクロック信号CLKを出力
している限りは、何サイクルか所定のクロック数だけ待
てばEPROM408から調整データOSCCTLが読み出され、クロ
ック信号CLKが所望の周波数に安定する。
ーティとパルス幅を調整しているが、これは設計により
変更可能である。デューティの調整はセンスアンプ9や
ラッチ回路502などの読み出し回路の低消費電力化に
寄与し、パルス幅は先に述べたように発振器407の未
調整時の最高動作周波数により決定するものである。図
11に示す実施例によれば、不揮発性メモリなどの記憶
装置に書き込んだデータにより発振器の発振周波数を制
御できることは、システムの応答速度を可変にできると
ともにクロック信号に同期して動作している論理回路部
の消費電力を可変にできる効果がある。すなわち、装置
組み立て後において、システムの応答性と低消費電力性
をシステムの仕様に合わせて変更できる効果がある。
憶装置の読み出し用クロックのデューティとパルス幅を
調整できることは、記憶装置の読み出し時の消費電力を
可変にできるとともに、電源投入時などのクロック周波
数未調整時においても、一定期間以内に記憶データを読
み出し発振器の発振周波数を所望の周波数へ設定できる
効果がある。
を同一の半導体基板上に形成して、1チップのLSIと
することもできる。
たデータ処理装置401を一体にして圧力センサ装置を
構成することもできる。
処理装置の第2の実施例である。図中、600はセン
サ、601は入出力レンジ切り換えデータ、602は各
パーツ毎に動作レンジを切り換えるためのレンジ切り換
え信号である。
601をEPROM408へ書き込み、EPROM408から読み出した
レンジ切り換え信号602により、A/D変換器40
2,403及びD/A変換器406の動作レンジを切り
換えている。
モリ408の入出力レンジ切り換えデータを書き換える
ことにより、データ処理装置401の回路構成を変更す
ることなく、センサ600を各種の仕様のセンサへ取り
換え可能である。
サ,大気圧センサ,燃料タンク圧センサ,ブレーキ圧セ
ンサ,燃料圧センサなと多種が考えられ、それぞれ出力
信号の電圧範囲が異なっている。
してLSIを構成することができる。
処理装置の第3の実施例である。図中、700はバイア
ス電流調整データ、701は各パーツの電流調整信号で
ある。図13では、バイアス電流調整データ700を不
揮発性メモリ408へ書き込み、不揮発性メモリ408
から読み出した電流調整信号701により、A/D変換
器402,403及びD/A変換器406の消費電力を
調整している。
モリ408のバイアス電流調整データを書き換えること
により、特性補正LSI401の回路構成を変更することなく
各パーツの消費電力を調整可能である。
処理装置の第4の実施例である。図中、800はテスト
モード/通常動作のモード切り換えデータ、801は各
パーツの動作モード切り換え信号である。図14では、
モード切り換えデータ800をEPROM408へ書き込み、EP
ROM408から読み出したモード切り換え信号801によ
り、A/D変換器402,403及び演算器405,D
/A変換器406,発振器407のテストモードと通常
動作モードのモード切り換えを行っている。
モード切り換えデータを書き換えることにより、テスト
モードと通常動作モードを切り替えることが可能とな
り、テストを容易に行うことが可能である。
処理装置の第5の実施例である。図中、900は製造番
号などの製品識別データである。本実施例に示した製品
識別データ900は、製品出荷時に不揮発性メモリ40
8へ書き込んでいる。これにより、製品が市場に投入さ
れた後に不良が発生した場合などにおいて、製品の追跡
調査を行いやすくなり不良となった原因究明などを容易
に行うことが可能となる。
エンジン制御に適用した実施例を示したものである。図
中、1000はエンジンコントールユニットであり、先
に説明した中央データ処理装置に相当するものである。
1001は図10に示した圧力センサ400とデータ処
理装置401を一体にした圧力センサ装置、1002は
圧力センサ装置1001から出力される圧力検知信号、
1003は燃料インジェクタ、1004はインジェクタ
1003の制御信号、1005は吸気弁、1006は点火プ
ラグ、1007は点火プラグの制御信号、1008は排
気弁、1009は吸気管、1010は排気管、1011
はシリンダー、1012はピストンである。
説明する。シリンダー1011には、吸気弁1005が
開いて空気とインジェクタ1003から噴射した燃料の
混合気が吸入される。吸入された混合気は、点火プラグ
1006により添加され爆発しピストン1012を動か
す。爆発後の排気は、排気弁1008が開いて排気管1
010へ送り出される。この時、圧力センサ装置100
1から出力される圧力検知信号は吸気管1009に流れ
る空気流量によって変化する。つまり、圧力センサ装置
1001から出力される圧力検知信号は吸気管1009
に流れる空気流量の検出センサとして働き、その信号を
エンジンコントロールユニット1000へ伝えている。
エンジンコントロールユニット1000は、圧力検知信
号1002のほか、各種センサからの信号を受け取り、イン
ジェクタ1003の燃料噴射量や点火プラグ1006の
点火タイミングを制御している。これにより動力性能や
排気ガス中の不純物濃度などを制御している。
小さく高信頼で低コストの圧力センサをエンジン制御シ
ステムに適用していることから、エンジン制御システム
そのものも高信頼で低コスト化を実現できる効果があ
る。また、圧力センサ内の不揮発性メモリのデータを書
き換えることにより、仕様の異なるシステムにもフレキ
シブルに対応可能である。さらに、圧力センサ内の不揮
発性メモリにセンサの製品識別番号を書き込むことによ
り、センサ不良時にメーカの製品追跡調査を容易に行え
るようになり、同種のセンサを搭載したシステムの割り
出しも行いやすくなるといった効果がある。
れば、装置全体の面積,消費電力を今まで以上に抑える
ことができる。
層、信頼性を高めた多重化メモリを実現することができ
る。
込みデータの経時的変化によるデータ故障に対して高い
信頼性を確保できる。また、書き込みと消去を繰り返す
ことによるメモリセルに対する過度のストレスによる劣
化に対してもデータを保証できるため、書き込み回数を
増加させることができる。
を実現できる。
回路構成を示した図である。
出し動作の原理を説明するための図である。
を説明するための図である。
回路構成を示した図である。
回路構成を示した図である。
回路構成を示した図である。
回路構成を示した図である。
回路構成を示した図である。
システムにおける第1の実施例に係わるデータ処理装置
の構成を示した図である。
示した図である。
システムにおける第2の実施例に係わるデータ処理装置
の構成を示した図である。
システムにおける第3の実施例に係わるデータ処理装置
の構成を示した図である。
システムにおける第4の実施例に係わるデータ処理装置
の構成を示した図である。
システムにおける第5の実施例に係わるデータ処理装置
の構成を示した図である。
システムの応用例を示した図である。
ートを示した図である。
ートを示した図である。
ードコントロール回路、5…メモリセルアレイ、7…ラ
イト切り換え回路、8…リード切り換え回路、9…セン
スアンプ、10…ライトドライバ、11…リード/ライ
トコントロール回路、14…Yデコーダ、15…Yスイ
ッチ、20…リファレンス信号発生回路、25−1〜2
5−4…多重化切り換え回路。
Claims (15)
- 【請求項1】マトリクス状に配置され、同一のデータを
記憶する複数のメモリセルと、 複数の前記メモリセルから読み出された同一のデータを
加算及び増幅する複数のセンスアンプ回路と、 複数の前記メモリセルと前記センスアンプ回路との接続
を制御する複数のスイッチ素子と、 複数の前記スイッチ素子を制御する制御回路とを有し、 前記制御回路は、それぞれの前記スイッチのオン,オフ
を制御することによって前記メモリセルから読み出され
たデータを前記センスアンプ回路へ伝送するタイミング
を制御する多重化メモリ。 - 【請求項2】マトリクス状に配置され、同一のデータを
記憶する複数のメモリセルと、 外部から入力されたデータから前記メモリセルへ書き込
むための相補データを生成するデータ生成回路と、 複数の前記メモリセルから読み出された同一のデータを
加算及び増幅する複数のセンスアンプ回路と、 複数の前記メモリセルと前記データ生成回路との接続及
び前記メモリセルと前記センスアンプ回路との接続を制
御する複数のスイッチ素子と、 複数の前記スイッチ素子を制御する制御回路とを有し、 前記制御回路は、それぞれの前記スイッチのオン,オフ
を制御することによって前記データ生成回路から前記メ
モリセルへのデータの伝送のタイミング又は前記メモリ
セルから読み出されたデータを前記センスアンプ回路へ
伝送するタイミングを制御する多重化メモリ。 - 【請求項3】メモリセルがマトリクス状に配置され、同
一データが割り当ての複数のメモリセルに書き込まれる
多重化されたメモリであって、 前記同一データを、前記複数のメモリセルに1つのライ
トドライバにより書き込めるよう該ライトドライバから
のデータ伝送線が分岐されて前記複数のメモリセルに接
続され、前記データ伝送線の分岐線が前記複数のメモリ
セルから同一データを読み出すためのデータ伝送線を兼
用して、これらの分岐線がリード/ライト切り換え回
路,ワイヤード・オアを介してセンスアンプの入力側に
接続されていることを特徴とする多重化メモリ。 - 【請求項4】メモリセルがマトリクス状に配置され、同
一データが割り当ての複数のメモリセルに書き込まれる
多重化されたメモリであって、 前記同一データを、前記複数のメモリセルに1つのライ
トドライバにより書き込めるよう該ライトドライバから
のデータ伝送線が複数に分けられて前記複数のメモリセ
ルに接続され、これらの各データ伝送線は、それぞれの
メモリセルから途中位置までがデータ読み出し用の伝送
線を兼用して、リード/ライト切り換え回路,ワイヤー
ド・オアを介してセンスアンプの入力側に接続されてい
ることを特徴とする多重化メモリ。 - 【請求項5】メモリセルがマトリクス状に配置され、同
一データが割り当ての複数のメモリセルに書き込まれる
多重化されたメモリであって、 前記同一データが正極性,負極性の相補データにより構
成され、これらの相補データが一対のメモリセルにより
記憶され、この同一データを記憶する前記一対のメモリ
セルを複数備えて多重化され、正極性の相補データと負
極性の相補データが差動回路を介して読み出されるよう
構成したことを特徴とする多重化メモリ。 - 【請求項6】メモリセルがマトリクス状に配置され、同
一データが割り当ての複数のメモリセルに書き込まれる
多重化されたメモリであって、 前記同一データが正極性,負極性の相補データにより構
成された不揮発性メモリであることを特徴とする多重化
メモリ。 - 【請求項7】前記複数のメモリセルに記憶された同一の
データを、全て同時に読み出すほかに、必要に応じてメ
モリセルを選択して読み出す手段を備えている請求項3
ないし6のいずれか1項記載の多重化メモリ。 - 【請求項8】検出対象の物理量を検出して電気信号に変
換するセンサにおいて、検出に必要なデータを請求項3
ないし7のいずれか1項に記載の多重化メモリに記憶し
て備えていることを特徴とするセンサ。 - 【請求項9】検出対象の物理量を検出して電気信号に変
換するセンサにおいて、センサの特性を補正するための
補正データを、請求項3ないし7のいずれか1項に記載
の多重化メモリに記憶して備えていることを特徴とする
センサ。 - 【請求項10】発振器を内蔵したセンサにおいて、前記
発振器の発振周波数を切り換えるためのデータを不揮発
性メモリに記憶して備えていることを特徴とするセン
サ。 - 【請求項11】センサが、検出対象の物理量を検出して
電気信号に変換する検出手段と、該検出手段の出力信号
を補正する補正手段から構成され、 前記補正手段の入力或いは出力信号レベルのレンジ切り
換えを、不揮発性メモリに記憶したデータにより制御可
能であることを特徴とするセンサ。 - 【請求項12】検出対象の物理量を検出して電気信号に
変換するセンサにおいて、センサの消費電力を不揮発性
メモリに記憶したデータにより制御可能であることを特
徴とするセンサ。 - 【請求項13】検出対象の物理量を検出して電気信号に
変換するセンサにおいて、テストモードと通常動作モー
ドの切り換えを不揮発性メモリに記憶したデータにより
制御可能であることを特徴とするセンサ。 - 【請求項14】検出対象の物理量を検出して電気信号に
変換するセンサにおいて、センサの製品識別データを内
蔵の不揮発性メモリに記憶していることを特徴とするセ
ンサ。 - 【請求項15】検出対象の物理量を検出して電気信号に
変換するセンサを備え、センサの出力信号に応じて各種
制御を行う制御システムにおいて、 前記制御システムが、請求項1ないし13のいずれか1
項に記載の多重化メモリまたはセンサを備えていること
を特徴とする制御システム。
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JP25122099A JP2001057096A (ja) | 1999-06-11 | 1999-09-06 | 多重化メモリ及びそれを用いたセンサ並びに制御システム |
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JP11-165372 | 1999-06-11 | ||
JP25122099A JP2001057096A (ja) | 1999-06-11 | 1999-09-06 | 多重化メモリ及びそれを用いたセンサ並びに制御システム |
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Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004348937A (ja) * | 2003-05-23 | 2004-12-09 | Hynix Semiconductor Inc | マルチビット制御機能を有する不揮発性強誘電体メモリ装置 |
JP2005259334A (ja) * | 2004-02-10 | 2005-09-22 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 不揮発性メモリ |
JP2005285223A (ja) * | 2004-03-30 | 2005-10-13 | Renesas Technology Corp | 不揮発性半導体記憶装置及びそのデータ書き換え方法 |
JP2006048779A (ja) * | 2004-08-02 | 2006-02-16 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 不揮発性半導体記憶装置およびその製造方法 |
JP2006294102A (ja) * | 2005-04-07 | 2006-10-26 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 半導体記憶装置 |
WO2010137097A1 (ja) * | 2009-05-26 | 2010-12-02 | パナソニック株式会社 | 半導体記憶装置、および半導体集積回路 |
US8085588B2 (en) | 2009-04-30 | 2011-12-27 | Spansion Llc | Semiconductor device and control method thereof |
JP2016522527A (ja) * | 2013-04-02 | 2016-07-28 | マイクロン テクノロジー, インク. | Rramおよびrramに対して情報を格納し検索する方法 |
JP2022056399A (ja) * | 2020-09-29 | 2022-04-08 | シャープセミコンダクターイノベーション株式会社 | メモリデバイス |
-
1999
- 1999-09-06 JP JP25122099A patent/JP2001057096A/ja active Pending
Cited By (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004348937A (ja) * | 2003-05-23 | 2004-12-09 | Hynix Semiconductor Inc | マルチビット制御機能を有する不揮発性強誘電体メモリ装置 |
JP4582764B2 (ja) * | 2003-05-23 | 2010-11-17 | 株式会社ハイニックスセミコンダクター | マルチビット制御機能を有する不揮発性強誘電体メモリ装置 |
JP2005259334A (ja) * | 2004-02-10 | 2005-09-22 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 不揮発性メモリ |
JP2005285223A (ja) * | 2004-03-30 | 2005-10-13 | Renesas Technology Corp | 不揮発性半導体記憶装置及びそのデータ書き換え方法 |
JP4589675B2 (ja) * | 2004-08-02 | 2010-12-01 | パナソニック株式会社 | 不揮発性半導体記憶装置およびその製造方法 |
JP2006048779A (ja) * | 2004-08-02 | 2006-02-16 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 不揮発性半導体記憶装置およびその製造方法 |
JP4684719B2 (ja) * | 2005-04-07 | 2011-05-18 | パナソニック株式会社 | 半導体記憶装置 |
JP2006294102A (ja) * | 2005-04-07 | 2006-10-26 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 半導体記憶装置 |
US8085588B2 (en) | 2009-04-30 | 2011-12-27 | Spansion Llc | Semiconductor device and control method thereof |
WO2010137097A1 (ja) * | 2009-05-26 | 2010-12-02 | パナソニック株式会社 | 半導体記憶装置、および半導体集積回路 |
US8422267B2 (en) | 2009-05-26 | 2013-04-16 | Panasonic Corporation | Semiconductor memory device and semiconductor integrated circuit |
JP2016522527A (ja) * | 2013-04-02 | 2016-07-28 | マイクロン テクノロジー, インク. | Rramおよびrramに対して情報を格納し検索する方法 |
US10157673B2 (en) | 2013-04-02 | 2018-12-18 | Micron Technology, Inc. | Resistive random access memory having multi-cell memory bits |
US10157669B2 (en) | 2013-04-02 | 2018-12-18 | Micron Technology, Inc. | Method of storing and retrieving information for a resistive random access memory (RRAM) with multi-memory cells per bit |
US10170183B1 (en) | 2013-04-02 | 2019-01-01 | Micron Technology, Inc. | Method of storing and retrieving data for a resistive random access memory (RRAM) array with multi-memory cells per bit |
US10304532B2 (en) | 2013-04-02 | 2019-05-28 | Micron Technology, Inc. | Methods of storing and retrieving information for RRAM with multi-cell memory bits |
JP2022056399A (ja) * | 2020-09-29 | 2022-04-08 | シャープセミコンダクターイノベーション株式会社 | メモリデバイス |
US11508436B2 (en) | 2020-09-29 | 2022-11-22 | Sharp Semiconductor Innovation Corporation | Memory device |
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