JP2001035799A5 - - Google Patents
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- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 24
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 7
- 229910052904 quartz Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 5
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 4
- 230000002093 peripheral Effects 0.000 description 3
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 description 2
- 230000000875 corresponding Effects 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- 239000006200 vaporizer Substances 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
Description
【特許請求の範囲】
【請求項1】 処理室内に被処理体を載置して加熱するサセプタを設け、該サセプタと対向して処理ガスを供給するシャワーヘッドを設け、前記処理室の底部側に処理室内を減圧排気するための排気部を設けてなる枚葉式熱処理装置において、前記処理室の少なくとも内面を石英により形成すると共に、底部側隅部を流線形に形成したことを特徴とする枚葉式熱処理装置。
【請求項2】 前記処理室にその内面温度を加熱制御する加熱手段が設けられていることを特徴とする請求項1記載の枚葉式熱処理装置。
【請求項3】 前記処理室が金属製の外容器と、この外容器の内側に収容された石英製の内容器とからなり、内容器の内外の圧力をバランスさせるための圧力バランス手段が設けられていることを特徴とする請求項1または2記載の枚葉式熱処理装置。
【請求項4】 前記シャワーヘッドの少なくとも処理ガスと接する部分が石英により形成されていることを特徴とする請求項1記載の枚葉式熱処理装置。
【請求項5】 前記シャワーヘッドに少なくとも処理ガスと接する部分を加熱制御する加熱手段が設けられていることを特徴とする請求項1または4記載の枚葉式熱処理装置。
【請求項6】 前記シャワーヘッドに近接して液体原料の気化器および流量制御弁等を含むガス供給源が設けられていることを特徴とする請求項1,4または5記載の枚葉式熱処理装置。
【請求項7】 前記処理室は上部が開放された処理室本体と、この処理室本体の上部開放部を閉塞する蓋体とから構成され、前記処理室本体の内面にこれを被覆するように石英製の被覆部材が設けられ、この被覆部材の内面隅部が流線形に形成され、前記サセプタの外周面も、前記被覆部材の内面に対応して流線形に形成されていることを特徴とする請求項1記載の枚葉式熱処理装置。
【請求項8】 前記処理室本体と前記被覆部材との間に抵抗発熱体が設けられていることを特徴とする請求項7記載の枚葉式熱処理装置。
【請求項9】 前記外容器及び前記内容器はそれぞれ上部が開放された有底箱状に形成され、外容器の上縁部および内容器の上縁部にはそれぞれ外向きのフランジ部が形成されており、外容器のフランジ部の上面に内容器のフランジ部が載置され、内容器のフランジ部は外容器のフランジ部にフランジ押えにより固定されていることを特徴とする請求項3記載の枚葉式熱処理装置。
【請求項10】 前記外容器の側壁と内容器の側壁との間には隙間が設けられており、この隙間に不活性ガスを供給して侵入処理ガスを希釈化する不活性ガス供給管が外容器に接続されていることを特徴とする請求項3または9記載の枚葉式熱処理装置。
【請求項1】 処理室内に被処理体を載置して加熱するサセプタを設け、該サセプタと対向して処理ガスを供給するシャワーヘッドを設け、前記処理室の底部側に処理室内を減圧排気するための排気部を設けてなる枚葉式熱処理装置において、前記処理室の少なくとも内面を石英により形成すると共に、底部側隅部を流線形に形成したことを特徴とする枚葉式熱処理装置。
【請求項2】 前記処理室にその内面温度を加熱制御する加熱手段が設けられていることを特徴とする請求項1記載の枚葉式熱処理装置。
【請求項3】 前記処理室が金属製の外容器と、この外容器の内側に収容された石英製の内容器とからなり、内容器の内外の圧力をバランスさせるための圧力バランス手段が設けられていることを特徴とする請求項1または2記載の枚葉式熱処理装置。
【請求項4】 前記シャワーヘッドの少なくとも処理ガスと接する部分が石英により形成されていることを特徴とする請求項1記載の枚葉式熱処理装置。
【請求項5】 前記シャワーヘッドに少なくとも処理ガスと接する部分を加熱制御する加熱手段が設けられていることを特徴とする請求項1または4記載の枚葉式熱処理装置。
【請求項6】 前記シャワーヘッドに近接して液体原料の気化器および流量制御弁等を含むガス供給源が設けられていることを特徴とする請求項1,4または5記載の枚葉式熱処理装置。
【請求項7】 前記処理室は上部が開放された処理室本体と、この処理室本体の上部開放部を閉塞する蓋体とから構成され、前記処理室本体の内面にこれを被覆するように石英製の被覆部材が設けられ、この被覆部材の内面隅部が流線形に形成され、前記サセプタの外周面も、前記被覆部材の内面に対応して流線形に形成されていることを特徴とする請求項1記載の枚葉式熱処理装置。
【請求項8】 前記処理室本体と前記被覆部材との間に抵抗発熱体が設けられていることを特徴とする請求項7記載の枚葉式熱処理装置。
【請求項9】 前記外容器及び前記内容器はそれぞれ上部が開放された有底箱状に形成され、外容器の上縁部および内容器の上縁部にはそれぞれ外向きのフランジ部が形成されており、外容器のフランジ部の上面に内容器のフランジ部が載置され、内容器のフランジ部は外容器のフランジ部にフランジ押えにより固定されていることを特徴とする請求項3記載の枚葉式熱処理装置。
【請求項10】 前記外容器の側壁と内容器の側壁との間には隙間が設けられており、この隙間に不活性ガスを供給して侵入処理ガスを希釈化する不活性ガス供給管が外容器に接続されていることを特徴とする請求項3または9記載の枚葉式熱処理装置。
請求項6記載の枚葉式熱処理装置は、前記シャワーヘッドに近接して液体原料の気化器および流量制御弁等を含むガス供給源が設けられていることを特徴とする。
請求項7記載の枚葉式熱処理装置は、前記処理室は上部が開放された処理室本体と、この処理室本体の上部開放部を閉塞する蓋体とから構成され、前記処理室本体の内面にこれを被覆するように石英製の被覆部材が設けられ、この被覆部材の内面隅部が流線形に形成され、前記サセプタの外周面も、前記被覆部材の内面に対応して流線形に形成されていることを特徴とする。
請求項8記載の枚葉式熱処理装置は、前記処理室本体と前記被覆部材との間に抵抗発熱体が設けられていることを特徴とする。
請求項9記載の枚葉式熱処理装置は、前記外容器及び前記内容器はそれぞれ上部が開放された有底箱状に形成され、外容器の上縁部および内容器の上縁部にはそれぞれ外向きのフランジ部が形成されており、外容器のフランジ部の上面に内容器のフランジ部が載置され、内容器のフランジ部は外容器のフランジ部にフランジ押えにより固定されていることを特徴とする。
請求項10記載の枚葉式熱処理装置は、前記外容器の側壁と内容器の側壁との間には隙間が設けられており、この隙間に不活性ガスを供給して侵入処理ガスを希釈化する不活性ガス供給管が外容器に接続されていることを特徴とする。
請求項7記載の枚葉式熱処理装置は、前記処理室は上部が開放された処理室本体と、この処理室本体の上部開放部を閉塞する蓋体とから構成され、前記処理室本体の内面にこれを被覆するように石英製の被覆部材が設けられ、この被覆部材の内面隅部が流線形に形成され、前記サセプタの外周面も、前記被覆部材の内面に対応して流線形に形成されていることを特徴とする。
請求項8記載の枚葉式熱処理装置は、前記処理室本体と前記被覆部材との間に抵抗発熱体が設けられていることを特徴とする。
請求項9記載の枚葉式熱処理装置は、前記外容器及び前記内容器はそれぞれ上部が開放された有底箱状に形成され、外容器の上縁部および内容器の上縁部にはそれぞれ外向きのフランジ部が形成されており、外容器のフランジ部の上面に内容器のフランジ部が載置され、内容器のフランジ部は外容器のフランジ部にフランジ押えにより固定されていることを特徴とする。
請求項10記載の枚葉式熱処理装置は、前記外容器の側壁と内容器の側壁との間には隙間が設けられており、この隙間に不活性ガスを供給して侵入処理ガスを希釈化する不活性ガス供給管が外容器に接続されていることを特徴とする。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20732799A JP4286981B2 (ja) | 1999-07-22 | 1999-07-22 | 枚葉式熱処理装置 |
US09/549,343 US6402848B1 (en) | 1999-04-23 | 2000-04-13 | Single-substrate-treating apparatus for semiconductor processing system |
KR1020000020918A KR100574116B1 (ko) | 1999-04-23 | 2000-04-20 | 반도체 처리 시스템의 매엽식 처리 장치 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20732799A JP4286981B2 (ja) | 1999-07-22 | 1999-07-22 | 枚葉式熱処理装置 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001035799A JP2001035799A (ja) | 2001-02-09 |
JP2001035799A5 true JP2001035799A5 (ja) | 2006-08-24 |
JP4286981B2 JP4286981B2 (ja) | 2009-07-01 |
Family
ID=16537930
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP20732799A Expired - Fee Related JP4286981B2 (ja) | 1999-04-23 | 1999-07-22 | 枚葉式熱処理装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4286981B2 (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4569042B2 (ja) * | 2001-05-18 | 2010-10-27 | 東京エレクトロン株式会社 | 熱処理装置 |
JP4354908B2 (ja) * | 2002-06-10 | 2009-10-28 | 東京エレクトロン株式会社 | 処理装置 |
JP5010235B2 (ja) * | 2006-10-26 | 2012-08-29 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 気相成長方法 |
JP5107185B2 (ja) * | 2008-09-04 | 2012-12-26 | 東京エレクトロン株式会社 | 成膜装置、基板処理装置、成膜方法及びこの成膜方法を実行させるためのプログラムを記録した記録媒体 |
WO2012060079A1 (ja) * | 2010-11-05 | 2012-05-10 | シャープ株式会社 | 酸化アニール処理装置及び酸化アニール処理を用いた薄膜トランジスタの製造方法 |
JP5541406B2 (ja) * | 2012-08-28 | 2014-07-09 | 三菱マテリアル株式会社 | セメント製造装置 |
-
1999
- 1999-07-22 JP JP20732799A patent/JP4286981B2/ja not_active Expired - Fee Related
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