JP2001013297A - 反射光学素子および露光装置 - Google Patents
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Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11185696A JP2001013297A (ja) | 1999-06-30 | 1999-06-30 | 反射光学素子および露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11185696A JP2001013297A (ja) | 1999-06-30 | 1999-06-30 | 反射光学素子および露光装置 |
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| Publication Number | Publication Date |
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| JP2001013297A true JP2001013297A (ja) | 2001-01-19 |
| JP2001013297A5 JP2001013297A5 (https=) | 2006-03-30 |
Family
ID=16175277
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11185696A Pending JP2001013297A (ja) | 1999-06-30 | 1999-06-30 | 反射光学素子および露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001013297A (https=) |
Cited By (18)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002334832A (ja) * | 2001-02-13 | 2002-11-22 | Carl Zeiss Semiconductor Manufacturing Technologies Ag | 振動を緩衝させるためのシステム |
| JP2002346784A (ja) * | 2001-05-30 | 2002-12-04 | Amada Co Ltd | ミラー温度制御機構を有するレーザー加工機及びレーザー加工機のミラー温度制御方法 |
| WO2004034447A1 (ja) * | 2002-10-10 | 2004-04-22 | Nikon Corporation | 極短紫外線光学系用反射ミラー、極短紫外線光学系、極短紫外線光学系の使用方法、極短紫外線光学系の製造方法、極短紫外線露光装置、及び極短紫外線露光装置の使用方法 |
| JP2004247462A (ja) * | 2003-02-13 | 2004-09-02 | Canon Inc | 冷却装置、それを有する光学部材並びに露光装置 |
| JP2005501221A (ja) * | 2001-01-23 | 2005-01-13 | カール ツァイス エスエムテー アーゲー | 193nmより短い波長を用いた照明光学系のための、不使用領域を持つ集光器 |
| JP2005064391A (ja) * | 2003-08-19 | 2005-03-10 | Canon Inc | 光学部材の冷却方法、冷却装置、露光装置、及び、デバイスの製造方法 |
| JP2005128238A (ja) * | 2003-10-23 | 2005-05-19 | Tadahiro Omi | マスクリピータ、パターン描画装置、及びグレースケール手法 |
| JP2005175187A (ja) * | 2003-12-11 | 2005-06-30 | Canon Inc | 光学部材、冷却方法、冷却装置、露光装置、デバイス製造方法、及びデバイス |
| JP2005302963A (ja) * | 2004-04-09 | 2005-10-27 | Canon Inc | 露光装置 |
| JP2009081419A (ja) * | 2007-08-14 | 2009-04-16 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置および熱光学マニピュレータの制御方法 |
| US7663734B2 (en) | 2003-04-11 | 2010-02-16 | Tadahiro Ohmi | Pattern writing system and pattern writing method |
| JP2010245541A (ja) * | 2009-04-09 | 2010-10-28 | Carl Zeiss Smt Ag | 光線束を案内するためのミラー |
| JP2011520240A (ja) * | 2007-08-24 | 2011-07-14 | カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー | 制御可能な光学素子、熱アクチュエータによる光学素子の操作方法および半導体リソグラフィのための投影露光装置 |
| JP2011222958A (ja) * | 2010-03-25 | 2011-11-04 | Komatsu Ltd | ミラーおよび極端紫外光生成装置 |
| US8508854B2 (en) | 2006-09-21 | 2013-08-13 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Optical element and method |
| KR20210006346A (ko) * | 2018-04-24 | 2021-01-18 | 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. | 방사선 빔을 위한 반사 광학 요소 |
| CN113936840A (zh) * | 2021-10-22 | 2022-01-14 | 中国科学院上海高等研究院 | 一种温控x射线变形镜 |
| WO2022074023A1 (de) * | 2020-10-08 | 2022-04-14 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Adaptives optisches element für die mikrolithographie |
-
1999
- 1999-06-30 JP JP11185696A patent/JP2001013297A/ja active Pending
Cited By (27)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005501221A (ja) * | 2001-01-23 | 2005-01-13 | カール ツァイス エスエムテー アーゲー | 193nmより短い波長を用いた照明光学系のための、不使用領域を持つ集光器 |
| US7460212B2 (en) | 2001-01-23 | 2008-12-02 | Carl-Zeiss Smt Ag | Collector configured of mirror shells |
| JP2002334832A (ja) * | 2001-02-13 | 2002-11-22 | Carl Zeiss Semiconductor Manufacturing Technologies Ag | 振動を緩衝させるためのシステム |
| JP2002346784A (ja) * | 2001-05-30 | 2002-12-04 | Amada Co Ltd | ミラー温度制御機構を有するレーザー加工機及びレーザー加工機のミラー温度制御方法 |
| WO2004034447A1 (ja) * | 2002-10-10 | 2004-04-22 | Nikon Corporation | 極短紫外線光学系用反射ミラー、極短紫外線光学系、極短紫外線光学系の使用方法、極短紫外線光学系の製造方法、極短紫外線露光装置、及び極短紫外線露光装置の使用方法 |
| JP2004247462A (ja) * | 2003-02-13 | 2004-09-02 | Canon Inc | 冷却装置、それを有する光学部材並びに露光装置 |
| US7663734B2 (en) | 2003-04-11 | 2010-02-16 | Tadahiro Ohmi | Pattern writing system and pattern writing method |
| JP2005064391A (ja) * | 2003-08-19 | 2005-03-10 | Canon Inc | 光学部材の冷却方法、冷却装置、露光装置、及び、デバイスの製造方法 |
| JP2005128238A (ja) * | 2003-10-23 | 2005-05-19 | Tadahiro Omi | マスクリピータ、パターン描画装置、及びグレースケール手法 |
| JP2005175187A (ja) * | 2003-12-11 | 2005-06-30 | Canon Inc | 光学部材、冷却方法、冷却装置、露光装置、デバイス製造方法、及びデバイス |
| JP2005302963A (ja) * | 2004-04-09 | 2005-10-27 | Canon Inc | 露光装置 |
| US8508854B2 (en) | 2006-09-21 | 2013-08-13 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Optical element and method |
| US8891172B2 (en) | 2006-09-21 | 2014-11-18 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Optical element and method |
| JP2009081419A (ja) * | 2007-08-14 | 2009-04-16 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置および熱光学マニピュレータの制御方法 |
| JP2011211237A (ja) * | 2007-08-14 | 2011-10-20 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ投影装置 |
| US8861102B2 (en) | 2007-08-14 | 2014-10-14 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and thermal optical manipulator control method |
| US8064151B2 (en) | 2007-08-14 | 2011-11-22 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and thermal optical manipulator control method |
| US8325322B2 (en) | 2007-08-24 | 2012-12-04 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Optical correction device |
| JP2011520240A (ja) * | 2007-08-24 | 2011-07-14 | カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー | 制御可能な光学素子、熱アクチュエータによる光学素子の操作方法および半導体リソグラフィのための投影露光装置 |
| JP2010245541A (ja) * | 2009-04-09 | 2010-10-28 | Carl Zeiss Smt Ag | 光線束を案内するためのミラー |
| US8717531B2 (en) | 2009-04-09 | 2014-05-06 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Mirror for guiding a radiation bundle |
| JP2011222958A (ja) * | 2010-03-25 | 2011-11-04 | Komatsu Ltd | ミラーおよび極端紫外光生成装置 |
| KR20210006346A (ko) * | 2018-04-24 | 2021-01-18 | 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. | 방사선 빔을 위한 반사 광학 요소 |
| KR102760637B1 (ko) | 2018-04-24 | 2025-02-03 | 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. | 방사선 빔을 위한 반사 광학 요소 |
| WO2022074023A1 (de) * | 2020-10-08 | 2022-04-14 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Adaptives optisches element für die mikrolithographie |
| CN113936840A (zh) * | 2021-10-22 | 2022-01-14 | 中国科学院上海高等研究院 | 一种温控x射线变形镜 |
| CN113936840B (zh) * | 2021-10-22 | 2023-08-25 | 中国科学院上海高等研究院 | 一种温控x射线变形镜 |
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