JP2001013297A - 反射光学素子および露光装置 - Google Patents

反射光学素子および露光装置

Info

Publication number
JP2001013297A
JP2001013297A JP11185696A JP18569699A JP2001013297A JP 2001013297 A JP2001013297 A JP 2001013297A JP 11185696 A JP11185696 A JP 11185696A JP 18569699 A JP18569699 A JP 18569699A JP 2001013297 A JP2001013297 A JP 2001013297A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
reflective
region
film
reflection
ray
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP11185696A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP2001013297A5 (https=
Inventor
Katsumi Sugizaki
克己 杉崎
Katsuhiko Murakami
勝彦 村上
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nikon Corp
Original Assignee
Nikon Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nikon Corp filed Critical Nikon Corp
Priority to JP11185696A priority Critical patent/JP2001013297A/ja
Publication of JP2001013297A publication Critical patent/JP2001013297A/ja
Publication of JP2001013297A5 publication Critical patent/JP2001013297A5/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70216Mask projection systems
    • G03F7/70233Optical aspects of catoptric systems, i.e. comprising only reflective elements, e.g. extreme ultraviolet [EUV] projection systems

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
  • Mounting And Adjusting Of Optical Elements (AREA)
  • Lenses (AREA)
  • Optical Filters (AREA)
JP11185696A 1999-06-30 1999-06-30 反射光学素子および露光装置 Pending JP2001013297A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11185696A JP2001013297A (ja) 1999-06-30 1999-06-30 反射光学素子および露光装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11185696A JP2001013297A (ja) 1999-06-30 1999-06-30 反射光学素子および露光装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2001013297A true JP2001013297A (ja) 2001-01-19
JP2001013297A5 JP2001013297A5 (https=) 2006-03-30

Family

ID=16175277

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP11185696A Pending JP2001013297A (ja) 1999-06-30 1999-06-30 反射光学素子および露光装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2001013297A (https=)

Cited By (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002334832A (ja) * 2001-02-13 2002-11-22 Carl Zeiss Semiconductor Manufacturing Technologies Ag 振動を緩衝させるためのシステム
JP2002346784A (ja) * 2001-05-30 2002-12-04 Amada Co Ltd ミラー温度制御機構を有するレーザー加工機及びレーザー加工機のミラー温度制御方法
WO2004034447A1 (ja) * 2002-10-10 2004-04-22 Nikon Corporation 極短紫外線光学系用反射ミラー、極短紫外線光学系、極短紫外線光学系の使用方法、極短紫外線光学系の製造方法、極短紫外線露光装置、及び極短紫外線露光装置の使用方法
JP2004247462A (ja) * 2003-02-13 2004-09-02 Canon Inc 冷却装置、それを有する光学部材並びに露光装置
JP2005501221A (ja) * 2001-01-23 2005-01-13 カール ツァイス エスエムテー アーゲー 193nmより短い波長を用いた照明光学系のための、不使用領域を持つ集光器
JP2005064391A (ja) * 2003-08-19 2005-03-10 Canon Inc 光学部材の冷却方法、冷却装置、露光装置、及び、デバイスの製造方法
JP2005128238A (ja) * 2003-10-23 2005-05-19 Tadahiro Omi マスクリピータ、パターン描画装置、及びグレースケール手法
JP2005175187A (ja) * 2003-12-11 2005-06-30 Canon Inc 光学部材、冷却方法、冷却装置、露光装置、デバイス製造方法、及びデバイス
JP2005302963A (ja) * 2004-04-09 2005-10-27 Canon Inc 露光装置
JP2009081419A (ja) * 2007-08-14 2009-04-16 Asml Netherlands Bv リソグラフィ装置および熱光学マニピュレータの制御方法
US7663734B2 (en) 2003-04-11 2010-02-16 Tadahiro Ohmi Pattern writing system and pattern writing method
JP2010245541A (ja) * 2009-04-09 2010-10-28 Carl Zeiss Smt Ag 光線束を案内するためのミラー
JP2011520240A (ja) * 2007-08-24 2011-07-14 カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー 制御可能な光学素子、熱アクチュエータによる光学素子の操作方法および半導体リソグラフィのための投影露光装置
JP2011222958A (ja) * 2010-03-25 2011-11-04 Komatsu Ltd ミラーおよび極端紫外光生成装置
US8508854B2 (en) 2006-09-21 2013-08-13 Carl Zeiss Smt Gmbh Optical element and method
KR20210006346A (ko) * 2018-04-24 2021-01-18 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. 방사선 빔을 위한 반사 광학 요소
CN113936840A (zh) * 2021-10-22 2022-01-14 中国科学院上海高等研究院 一种温控x射线变形镜
WO2022074023A1 (de) * 2020-10-08 2022-04-14 Carl Zeiss Smt Gmbh Adaptives optisches element für die mikrolithographie

Cited By (27)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005501221A (ja) * 2001-01-23 2005-01-13 カール ツァイス エスエムテー アーゲー 193nmより短い波長を用いた照明光学系のための、不使用領域を持つ集光器
US7460212B2 (en) 2001-01-23 2008-12-02 Carl-Zeiss Smt Ag Collector configured of mirror shells
JP2002334832A (ja) * 2001-02-13 2002-11-22 Carl Zeiss Semiconductor Manufacturing Technologies Ag 振動を緩衝させるためのシステム
JP2002346784A (ja) * 2001-05-30 2002-12-04 Amada Co Ltd ミラー温度制御機構を有するレーザー加工機及びレーザー加工機のミラー温度制御方法
WO2004034447A1 (ja) * 2002-10-10 2004-04-22 Nikon Corporation 極短紫外線光学系用反射ミラー、極短紫外線光学系、極短紫外線光学系の使用方法、極短紫外線光学系の製造方法、極短紫外線露光装置、及び極短紫外線露光装置の使用方法
JP2004247462A (ja) * 2003-02-13 2004-09-02 Canon Inc 冷却装置、それを有する光学部材並びに露光装置
US7663734B2 (en) 2003-04-11 2010-02-16 Tadahiro Ohmi Pattern writing system and pattern writing method
JP2005064391A (ja) * 2003-08-19 2005-03-10 Canon Inc 光学部材の冷却方法、冷却装置、露光装置、及び、デバイスの製造方法
JP2005128238A (ja) * 2003-10-23 2005-05-19 Tadahiro Omi マスクリピータ、パターン描画装置、及びグレースケール手法
JP2005175187A (ja) * 2003-12-11 2005-06-30 Canon Inc 光学部材、冷却方法、冷却装置、露光装置、デバイス製造方法、及びデバイス
JP2005302963A (ja) * 2004-04-09 2005-10-27 Canon Inc 露光装置
US8508854B2 (en) 2006-09-21 2013-08-13 Carl Zeiss Smt Gmbh Optical element and method
US8891172B2 (en) 2006-09-21 2014-11-18 Carl Zeiss Smt Gmbh Optical element and method
JP2009081419A (ja) * 2007-08-14 2009-04-16 Asml Netherlands Bv リソグラフィ装置および熱光学マニピュレータの制御方法
JP2011211237A (ja) * 2007-08-14 2011-10-20 Asml Netherlands Bv リソグラフィ投影装置
US8861102B2 (en) 2007-08-14 2014-10-14 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and thermal optical manipulator control method
US8064151B2 (en) 2007-08-14 2011-11-22 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and thermal optical manipulator control method
US8325322B2 (en) 2007-08-24 2012-12-04 Carl Zeiss Smt Gmbh Optical correction device
JP2011520240A (ja) * 2007-08-24 2011-07-14 カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー 制御可能な光学素子、熱アクチュエータによる光学素子の操作方法および半導体リソグラフィのための投影露光装置
JP2010245541A (ja) * 2009-04-09 2010-10-28 Carl Zeiss Smt Ag 光線束を案内するためのミラー
US8717531B2 (en) 2009-04-09 2014-05-06 Carl Zeiss Smt Gmbh Mirror for guiding a radiation bundle
JP2011222958A (ja) * 2010-03-25 2011-11-04 Komatsu Ltd ミラーおよび極端紫外光生成装置
KR20210006346A (ko) * 2018-04-24 2021-01-18 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. 방사선 빔을 위한 반사 광학 요소
KR102760637B1 (ko) 2018-04-24 2025-02-03 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. 방사선 빔을 위한 반사 광학 요소
WO2022074023A1 (de) * 2020-10-08 2022-04-14 Carl Zeiss Smt Gmbh Adaptives optisches element für die mikrolithographie
CN113936840A (zh) * 2021-10-22 2022-01-14 中国科学院上海高等研究院 一种温控x射线变形镜
CN113936840B (zh) * 2021-10-22 2023-08-25 中国科学院上海高等研究院 一种温控x射线变形镜

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2001013297A (ja) 反射光学素子および露光装置
US7250616B2 (en) Temperature adjustment apparatus, exposure apparatus having the same, and device fabricating method
US6727980B2 (en) Apparatus and method for pattern exposure and method for adjusting the apparatus
CN102047151B (zh) 辐射系统、辐射收集器、辐射束调节系统、用于辐射系统的光谱纯度滤光片以及用于形成光谱纯度滤光片的方法
JP3564104B2 (ja) 露光装置及びその制御方法、これを用いたデバイスの製造方法
US7436490B2 (en) Exposure apparatus using blaze type diffraction grating to diffract EUV light and device manufacturing method using the exposure apparatus
JP2008270802A (ja) 光学装置、多層膜反射鏡、露光装置、及びデバイス製造方法
JP4639092B2 (ja) リソグラフィ装置及びデバイス製造方法
JPH11345761A (ja) 走査型露光装置
US7265812B2 (en) Cooling apparatus
JP2004095993A (ja) 光学部品冷却方法、光学部品冷却装置及びそれを有するeuv露光装置
JP4307130B2 (ja) 露光装置
JP2000036449A (ja) 露光装置
JPH11243052A (ja) 露光装置
JP2000100697A (ja) 露光装置の調整方法及び露光装置
JPH05291117A (ja) 投影露光方法およびその装置
JP2004260043A (ja) Euv光学系及びeuv露光装置
US7360366B2 (en) Cooling apparatus, exposure apparatus, and device fabrication method
JP4378140B2 (ja) 照明光学系及び露光装置
JP2001110713A (ja) 反射型光学素子及び該光学素子を備える照明光学装置、投影露光装置、デバイス製造方法
JP5305938B2 (ja) 露光装置、光源装置及びデバイス製造方法
JP2004273926A (ja) 露光装置
JPH06177003A (ja) 投影露光方法および投影露光装置

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20060210

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20060210

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20070511

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20070515

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20070925