JP2005128238A - マスクリピータ、パターン描画装置、及びグレースケール手法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 従来のマスクリピータでは、スキャン型露光装置を利用すると、スキャン方向で繋ぎ合わせ露光が良好にできなかったが、本発明のマスクリピータ100では、スキャン方向に長いストロークを有するマスクステージ101とXYステージ106を用いるため、スキャン方向で繋ぎ合わせ露光が不要になった。
【選択図】 図1
Description
Proceedings of SPIE, Vol.4186, 第16〜21頁、第34〜45頁 日経マイクロデバイス、2000年5月号、第145〜148頁
101 マスクステージ
102、202 マザーマスク
103 レーザ光照射領域
104、225、235、504 縮小投影光学系
105、226 マスク
106、203、227、506 XYステージ
107 パターン投影部
200 マスク作成システム
210、500 パターン描画装置
220 マスクリピータ
223 マスクステージ
228 パターン投影部
230 光パターン発生部
231、503 DMD
232 マイクロレンズアレイ
233 ピンホール板
234a、234b レンズ
236、507 DMD投影パターン
300、350 紫外対応DMD駆動機構
302 マイクロミラー
303 ウインド
304 循環系
305 ファン
306 清浄化フィルタ
307 潤滑油蒸気供給タンク
321a、321b ランディングパッド
322a、322b 潤滑油
310 ベース
320 支柱
330a、330b ペルチェ素子
351 劣化潤滑油回収タンク
400 電子ビーム露光装置
401 電子銃
402a、402b 電子レンズ
403 アパーチャ
404 レジスト
410 加速電子
501 パルスレーザ装置
502 ミラー
505 基板
L21、L22、L51、L52 レーザ光
Claims (10)
- マスクを描画するために、前記マスクよりも大きなマザーマスクにパターン描画してから、前記マザーマスクを縮小投影することで、マスクを描画するパターン描画装置において、マザーマスク用ステージとして設けられたスキャン方向に長いストロークを有するスキャン型露光機構、露光装置用縮小投影光学系、微小ミラー用潤滑油の循環系、ピンホール板の冷却機構、及び、互いに直交する2つの方向にオーバーラップさせながらパターンの描画を行う機構の少なくとも一つを備えていることを特徴とするパターン描画装置。
- マスクを描画するために、前記マスクよりも大きなマザーマスクにパターン描画してから、前記マザーマスクを縮小投影することで、マスクを描画するマスクリピータにおいて、前記マスクリピータとして、スキャン型露光機構を有し、前記スキャン型露光機構におけるマザーマスク用マスクステージは、スキャン方向に対して、繋ぎ合せ露光を不要とする長さのストロークを有することを特徴とするマスクリピータ。
- 請求項2において、前記スキャン方向のストロークは132mmより長いことを特徴とするマスクリピータ。
- スキャン方向及び当該スキャン方向と直交するステップ方向とを有し、縮小露光することによってマスクを形成するのに使用されるマザーマスクにおいて、前記スキャン方向の長さが繋ぎ合せ露光を不要にするような長さを有することを特徴とするマザーマスク。
- レーザ光発生部と二次元配列状の微小ミラーを含むパターン描画装置において、前記二次元配列状の微小ミラーに、該ミラーに接する気体を移動させる循環系が取り付けられ、かつ前記循環系内に潤滑油を含むタンクをつなげることを特徴とするパターン描画装置。
- 前記潤滑剤がフッ素系ポリマーであることを特徴とする請求項5記載のパターン描画装置。
- レーザ光発生部、二次元配列状の微小ミラー、マイクロレンズアレイ、及び照射されたレーザ光を多数の細い光線に分割できるピンホール板を含むパターン描画装置において、前記ピンホール板を強制冷却できる構造を備えたことを特徴とするパターン描画装置。
- 照射されたレーザ光を多数の細い光線に分割できるピンホール板の作成法として、石英ガラスの表面に金属膜を付け、前記金属膜の上に塗布されたレジストに電子ビーム露光装置を用いてホール状に露光させることで、前記金属膜にホール状の穴を形成することを特徴として製造されたパターン描画装置用ピンホール板。
- パルス状レーザ光発生部と二次元配列状の微小ミラーを含み、かつ前記微小ミラーを基板上に縮小投影させるパターン描画を行う方法において、1回のパルス状レーザ光によって前記基板上に投影される前記二次元配列状の微小ミラーの投影パターンを、前記基板における直交する2つの移動方向の両方にオーバーラップさせながらパターン転写することを特徴とするグレースケール手法。
- 二次元的に配列された微小ミラー、マイクロレンズアレイ、及び、縮小投影光学系を含むパターン描画装置において、前記縮小投影光学系に、露光装置用の縮小投影光学系を用いたことを特徴とするパターン描画装置。
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