JP5305938B2 - 露光装置、光源装置及びデバイス製造方法 - Google Patents
露光装置、光源装置及びデバイス製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5305938B2 JP5305938B2 JP2009009423A JP2009009423A JP5305938B2 JP 5305938 B2 JP5305938 B2 JP 5305938B2 JP 2009009423 A JP2009009423 A JP 2009009423A JP 2009009423 A JP2009009423 A JP 2009009423A JP 5305938 B2 JP5305938 B2 JP 5305938B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- optical element
- mirror
- wavelength
- reflective optical
- light
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03B—APPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
- G03B27/00—Photographic printing apparatus
- G03B27/32—Projection printing apparatus, e.g. enlarger, copying camera
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03B—APPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
- G03B27/00—Photographic printing apparatus
- G03B27/72—Controlling or varying light intensity, spectral composition, or exposure time in photographic printing apparatus
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70483—Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
- G03F7/7055—Exposure light control in all parts of the microlithographic apparatus, e.g. pulse length control or light interruption
- G03F7/70575—Wavelength control, e.g. control of bandwidth, multiple wavelength, selection of wavelength or matching of optical components to wavelength
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70858—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
- G03F7/70883—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature of optical system
- G03F7/70891—Temperature
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Atmospheric Sciences (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Epidemiology (AREA)
- Public Health (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Description
反射されるEUV光の反射率は最大でも0.7程度であり、反射されなかったEUV光は多層膜中又は基板中で吸収され、そのエネルギーの大部分が熱になる。また、特許文献1には、デブリ除去用の加熱装置を備えたEUV光源の集光ミラーが開示されている。このため、露光時において、集光ミラーの温度は上昇する。
本発明の他の側面としての光源装置は、プラズマからの放射光を集光する反射光学素子を有する光源装置であって、 前記反射光学素子は、回転楕円面を有し、前記プラズマの発生位置が該回転楕円面の一方の焦点位置となるように配置され、該プラズマからの前記放射光を他方の焦点位置に集光して結像するように構成され、前記反射光学素子は、複数の膜を積層して構成された多層膜ミラーであり、前記複数の膜の厚さは、前記反射光学素子の中心から半径方向に離れるにつれて大きくなるように変化しており、所定の温度において、前記反射光学素子に所定の角度で入射した光の反射率がピークとなる第1の波長は、前記光源装置からの光を用いてレチクルのパターンの像を基板に投影する投影光学系での光の反射率がピークとなる第2の波長よりも短い。
なお、本実施例において、「常温」とは、例えば0℃乃至100℃の範囲の温度である。集光ミラー104や照明系ミラーは、露光時には200℃乃至500℃程度まで温度が上昇する。
レチクル301とウエハ308とは、光学的に共役の関係に配置される。露光装置1は、ステップ・アンド・スキャン方式の露光装置であるため、レチクル301とウエハ308とを走査することにより、レチクル301のパターンをウエハ308に縮小投影する。
ウエハステージ309は、例えば、リニアモータを利用してXYZ方向にウエハ308を移動する。レチクル301とウエハ308とは、同期して走査される。また、レチクルステージ303の位置とウエハステージ309の位置とは、例えばレーザー干渉計などにより監視され、両者は一定の速度比率で駆動される。
101:プラズマ
104:集光ミラー
201:照明系第1ミラー
202:オプティカルインテグレータ
203:照明系第2ミラー
204:照明系第3ミラー
301:レチクル
304:投影系第1ミラー
305:投影系第2ミラー
306:投影系第3ミラー
307:投影系第4ミラー
308:ウエハ
Claims (7)
- プラズマからの放射光を集光する第1の反射光学素子と、
第2の反射光学素子を備え、前記第1の反射光学素子で集光された光をレチクルに照明する照明光学系と、
前記レチクルのパターンの像を基板に投影する投影光学系とを有し、
前記第1の反射光学素子は、回転楕円面を有し、前記プラズマの発生位置が該回転楕円面の一方の焦点位置となるように配置され、該プラズマからの前記放射光を他方の焦点位置に集光して結像するように構成され、
前記第1の反射光学素子は、複数の膜を積層して構成された多層膜ミラーであり、
前記複数の膜の厚さは、前記第1の反射光学素子の中心から半径方向に離れるにつれて大きくなるように変化しており、
所定の温度において、前記第1の反射光学素子に所定の角度で入射した光の反射率がピークとなる第1の波長は、前記投影光学系での光の反射率がピークとなる第2の波長よりも短いことを特徴とする露光装置。 - 前記第1の反射光学素子が第1の温度である場合の前記第1の波長は、前記投影光学系が該第1の温度よりも低い第2の温度である場合の前記第2の波長と一致することを特徴とする請求項1記載の露光装置。
- 前記第1の反射光学素子は、回転楕円面内におけるピーク波長分布を有することを特徴とする請求項1記載の露光装置。
- 前記第1の反射光学素子の中心付近よりも該第1の反射光学素子の端部付近の方が、常温時におけるピーク波長が大きいことを特徴とする請求項3記載の露光装置。
- 前記第1の反射光学素子の中心付近よりも該第1の反射光学素子の端部付近の方が、前記プラズマからの放射光による温度上昇が小さいことを特徴とする請求項4に記載の露光装置。
- 請求項1乃至5のいずれか一に記載の露光装置を用いて基板を露光するステップと、
露光された前記基板を現像するステップと、を有することを特徴とするデバイス製造方法。 - プラズマからの放射光を集光する反射光学素子を有する光源装置であって、
前記反射光学素子は、回転楕円面を有し、前記プラズマの発生位置が該回転楕円面の一方の焦点位置となるように配置され、該プラズマからの前記放射光を他方の焦点位置に集光して結像するように構成され、
前記反射光学素子は、複数の膜を積層して構成された多層膜ミラーであり、
前記複数の膜の厚さは、前記反射光学素子の中心から半径方向に離れるにつれて大きくなるように変化しており、
所定の温度において、前記反射光学素子に所定の角度で入射した光の反射率がピークとなる第1の波長は、前記光源装置からの光を用いてレチクルのパターンの像を基板に投影する投影光学系での光の反射率がピークとなる第2の波長よりも短いことを特徴とする光源装置。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009009423A JP5305938B2 (ja) | 2009-01-20 | 2009-01-20 | 露光装置、光源装置及びデバイス製造方法 |
US12/690,503 US20100182583A1 (en) | 2009-01-20 | 2010-01-20 | Exposure apparatus and device manufacturing method |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009009423A JP5305938B2 (ja) | 2009-01-20 | 2009-01-20 | 露光装置、光源装置及びデバイス製造方法 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010171031A JP2010171031A (ja) | 2010-08-05 |
JP2010171031A5 JP2010171031A5 (ja) | 2012-03-01 |
JP5305938B2 true JP5305938B2 (ja) | 2013-10-02 |
Family
ID=42336715
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009009423A Expired - Fee Related JP5305938B2 (ja) | 2009-01-20 | 2009-01-20 | 露光装置、光源装置及びデバイス製造方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20100182583A1 (ja) |
JP (1) | JP5305938B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102436152B (zh) * | 2011-12-22 | 2013-06-19 | 北京理工大学 | 一种深紫外光刻照明系统 |
JP5729517B1 (ja) | 2014-03-28 | 2015-06-03 | Toto株式会社 | 反応焼結炭化珪素部材 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3309890B2 (ja) * | 1995-04-06 | 2002-07-29 | 日本電信電話株式会社 | 多層膜x線反射鏡 |
JP2003315532A (ja) * | 2002-04-22 | 2003-11-06 | Sony Corp | 極短紫外光の反射体およびその製造方法、位相シフトマスク、並びに露光装置 |
US7959310B2 (en) * | 2006-09-13 | 2011-06-14 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Optical arrangement and EUV lithography device with at least one heated optical element, operating methods, and methods for cleaning as well as for providing an optical element |
DE102008002403A1 (de) * | 2008-06-12 | 2009-12-17 | Carl Zeiss Smt Ag | Verfahren zum Herstellen einer Mehrlagen-Beschichtung, optisches Element und optische Anordnung |
-
2009
- 2009-01-20 JP JP2009009423A patent/JP5305938B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2010
- 2010-01-20 US US12/690,503 patent/US20100182583A1/en not_active Abandoned
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2010171031A (ja) | 2010-08-05 |
US20100182583A1 (en) | 2010-07-22 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US10324383B2 (en) | Chucks and clamps for holding objects of a lithographic apparatus and methods for controlling a temperature of an object held by a clamp of a lithographic apparatus | |
TWI528116B (zh) | 形成光譜純度濾光器之方法 | |
JP5449358B2 (ja) | レチクル、リソグラフィ装置、およびレチクルを生成する方法 | |
JP2007329368A (ja) | 多層膜ミラー、評価方法、露光装置及びデバイス製造方法 | |
TWI597579B (zh) | 輻射源 | |
US7083290B2 (en) | Adjustment method and apparatus of optical system, and exposure apparatus | |
JP2008270739A (ja) | 光学装置、多層膜反射鏡、露光装置、及びデバイス製造方法 | |
JP2005109158A (ja) | 冷却装置及び方法、それを有する露光装置、デバイスの製造方法 | |
JP6140191B2 (ja) | リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 | |
US9063277B2 (en) | Mirror, method of manufacturing the same, exposure apparatus, and device manufacturing method | |
JP2004311780A (ja) | 露光装置 | |
JP2004273572A (ja) | 収差測定装置及び方法 | |
US7543948B2 (en) | Multilayer mirror manufacturing method, optical system manufacturing method, exposure apparatus, and device manufacturing method | |
JP2010199503A (ja) | 光学素子、露光装置及びデバイス製造方法 | |
TWI452440B (zh) | 多層鏡及微影裝置 | |
US8030628B2 (en) | Pulse modifier, lithographic apparatus and device manufacturing method | |
JP5305938B2 (ja) | 露光装置、光源装置及びデバイス製造方法 | |
JP3958261B2 (ja) | 光学系の調整方法 | |
JP4591686B2 (ja) | 多層膜反射鏡 | |
JP2005308629A (ja) | ミラーユニット及びそれの製造方法 | |
JP2007183120A (ja) | 多層膜ミラー、製造方法、露光装置及びデバイス製造方法 | |
TW202119124A (zh) | 微影設備及偵測輻射光束之方法 | |
TWI453526B (zh) | 經組態以將一光學元件安裝於用於一微影裝置之一模組中之座、用於一微影裝置之模組及經建構及配置以將一力施加於一微影裝置之一模組之一光學元件之一周邊上的彈性構件 | |
JP4393227B2 (ja) | 露光装置、デバイスの製造方法、露光装置の製造方法 | |
JP2004273926A (ja) | 露光装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120116 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20120116 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20130118 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130129 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130325 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130528 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130625 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |