JP2001006141A - 磁気ヘッドの製造方法 - Google Patents

磁気ヘッドの製造方法

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JP2001006141A JP11173337A JP17333799A JP2001006141A JP 2001006141 A JP2001006141 A JP 2001006141A JP 11173337 A JP11173337 A JP 11173337A JP 17333799 A JP17333799 A JP 17333799A JP 2001006141 A JP2001006141 A JP 2001006141A
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  • Manufacturing & Machinery (AREA)
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 フェムトスライダー等の微小サイズの磁気ヘ
ッドを高精度にかつ歩留りよく製造する。 【解決手段】 ウエハプロセスにより基板の表面に磁性
膜等を成膜して磁気ヘッド素子を形成する磁気ヘッドの
製造方法において、前記基板として、スライダーの長さ
寸法よりも厚さ寸法の厚いウエハ５０を使用し、基板に
成膜した後、あるいは基板に成膜して裏面を研削した状
態でのウエハ５０の厚さをスライダーの長さ寸法よりも
厚く設定したウエハ５０からロウバー５２を切り出し
し、該ロウバー５２に所要の加工を施してスライダーを
形成する。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は磁気ディスク装置に
使用する磁気ヘッドの製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】磁気ディスク装置に使用する磁気ヘッド
は、Al2O3TiO等のセラミック製のウエハを基板とし、基
板に磁性膜等を成膜した後、ウエハをロウバーに切断
し、ロウバーにラッピングを施し、ＡＢＳ面にパターン
を形成し、ロウバーを個片のスライダーに切断すること
によって形成する。
【０００３】この磁気ヘッドの製造に使用するウエハに
は、従来はスライダーの長さ寸法と同一の厚さ、もしく
はスライダーの長さ寸法よりも僅かに厚いものを使用し
ている。なお、スライダーの長さ寸法とは、図８に示す
スライダーで、Ｌの長さをいう。ウエハの厚さがスライ
ダーの長さ寸法よりも厚い場合には、ウエハの裏面を研
削してウエハの厚さをスライダーの長さ寸法に一致させ
た後、ウエハからロウバーを切り出す。なお、以下でロ
ウバーの幅という場合は、このスライダーの長さ方向の
寸法の意味である。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】磁気ヘッドに使用する
スライダーは磁気ディスク装置が高密度になるととも
に、ますます小型化する傾向にある。表１に、ナノスラ
イダー、ピコスライダー、フェムトスライダーのおよそ
の寸法を示す。
【０００５】
【表１】
【０００６】表１に示すように、スライダーの小型化に
より、スライダーは長さが１ｍｍ程度以下、厚さが０．
２〜０．３ｍｍ程度となる。ウエハから切り出しするロ
ウバーは、スライダーが多数個連設されたものであり、
幅および厚さ寸法に対して長手方向の寸法がきわめて長
いものである。このように、ロウバーが細長くかつ薄く
なる結果、ロウバー全体としての剛性が低下し、ロウバ
ーを加工する際における加工精度が問題になる。ロウバ
ーを加工する際には支持治具にロウバーを接着して所要
の加工を施す。ロウバーの剛性が低下すると、成膜工程
による残留応力等によってロウバー自体が変形して反っ
たりするから、これによって所要の加工精度が得られな
くなることが生じる。
【０００７】また、ロウバーに反り等の変形が生じてい
ると、ロウバーを治具内に正確に配列できないことか
ら、ＡＢＳ面を加工する際における露光等の処理が高精
度にできなくなる。また、ロウバーが小型であることか
ら、ロウバーを洗浄したり各種治具へセットしたりする
操作が難しく、正確にセットするために工数が増えると
ともに、操作時にロウバーのエッジ部が欠けたりして歩
留りが低下するという問題もある。
【０００８】本発明は、これらの問題点を解消すべくな
されたものであり、その目的とするところは、スライダ
ーが小型化しても、支持治具に正確にロウバーを支持す
ることが可能になり、これによって高精度の加工を可能
にし、製造歩留りを向上させることができる磁気ヘッド
の製造方法を提供するにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記目的を達
成するため次の構成を備える。すなわち、ウエハプロセ
スにより基板の表面に磁性膜等を成膜して磁気ヘッドを
形成する磁気ヘッドの製造方法において、前記基板とし
て、スライダーの長さ寸法よりも厚さ寸法の厚いウエハ
を使用することを特徴とする。一定の厚さ以上のウエハ
を使用することによってウエハの変形が防止でき、高精
度の加工が可能になる。また、基板に成膜した後、ある
いは基板に成膜して裏面を研削した状態でのウエハの厚
さをスライダーの長さ寸法よりも厚く設定したウエハか
らロウバーを切り出しし、該ロウバーに所要の加工を施
してスライダーを形成することを特徴とする。また、ウ
エハから切り出しした、スライダーの長さ寸法よりも幅
寸法の広いロウバーを支持治具に支持して加工を施すこ
とを特徴とする、ロウバーの幅寸法を広くすることによ
ってロウバーの変形を防止し、ロウバーに対する加工精
度を高めることができる。また、ウエハから切り出しし
たロウバーを、スライダー部の余長部であるダミー部を
同じ側にして治具にセットし、露光・現像操作によりＡ
ＢＳ面にパターンを形成することを特徴とする。ダミー
部が形成されていることによって、高精度の露光ができ
る。また、ＡＢＳ面にパターンを形成した後、ロウバー
からダミー部を除去し、スライダー部を個片に切断して
スライダーを形成することを特徴とする。また、ウエハ
プロセスにより基板の表面に磁性膜等の所定の膜を積層
して磁気ヘッドを形成する磁気ヘッドの製造方法におい
て、前記磁性膜の成膜後、前記ウエハを複数のロウバー
に切り出しし、切り出されたロウバーの端面を前記膜の
積層方向に所定量除去することを特徴とする。
【００１０】
【発明の実施の形態】以下、本発明の好適な実施形態に
ついて、添付図面と共に詳細に説明する。図１は磁気ヘ
ッドの製造工程において、ウエハから個片のスライダー
を形成するまでの工程をフロー図によって示している。
以下、このフロー図に従って磁気ヘッドの製造工程を説
明する。ステップ１０はAl2O3TiO等のセラミックのウエ
ハの表面に磁性膜等を成膜して磁気ヘッド素子を形成し
たウエハを形成した状態である。
【００１１】本発明では、磁気ヘッドの製造に使用する
ウエハの厚さをスライダーの長さ（Ｌ）よりも厚く設定
したものを使用する。従来の製造方法では、スライダー
の長さとウエハの厚さとを一致させ、ウエハに成膜して
磁気ヘッド素子を形成した後、ウエハからロウバーを切
り出ししている。スライダーの長さとウエハの厚さとを
一致させたことにより、スライダーの長さと同一の幅の
ロウバーとして得られる。本発明では、フェムトスライ
ダーを製造する場合のように、スライダーの長さが極め
て微小な場合には、スライダーの長さ寸法よりも厚さ寸
法の厚いウエハを使用して加工する。一定以上の厚さの
ウエハを使用し、ウエハとしての剛性を高め、ウエハプ
ロセスでの取扱い性を低下させることなく、高精度のパ
ターニング等を可能にするという目的がある。
【００１２】図１でのウエハ切断工程（ステップ１２）
は成膜後のウエハからロウバーを切り出しする工程であ
る。図２にウエハ５０をロウバー５２に切断する例を示
す。ロウバー５２はスライダーの厚さ（Ｄ）の間隔でウ
エハ５０をスライシングして得られる。図３にウエハ５
０から切り出ししたロウバー５２を拡大して示す。ウエ
ハ５０の厚さ方向がスライダーの長さ方向となる。ロウ
バー５２の一方の端面に磁気ヘッド素子５４が一列状に
並んでいる。
【００１３】本実施形態では成膜後のウエハからロウバ
ー５２を切断する際に、ウエハ５０の裏面を研削するこ
となく、そのまま切り出しする。図３でロウバー５２の
他端面側に形成されるダミー部５６は、スライダーの規
定の長さＬよりもウエハ５０を厚く形成したことによ
り、ロウバー５２の幅方向の寸法がスライダーの長さＬ
よりも長く形成される部分である。５５はスライダー部
であり、後工程で個片のスライダーになる部分である。
たとえば、フェムトスライダーを形成する場合、スライ
ダーの長さＬが０．８５ｍｍであっても、ウエハ５０と
しては従来使用している厚さ２．０ｍｍあるいは１．２
５ｍｍの製品を使用して、そのウエハからそのままロウ
バーを切り出しする。この場合は、図３でＬの長さが
０．８５ｍｍとなり、ダミー部５６がウエハ５０の残り
分の厚さとなる。
【００１４】このように、ウエハ５０としてスライダー
の長さＬよりも厚い製品を使用することにより、ロウバ
ー５２の剛性を高めることができロウバー５２の変形を
生じにくくすることができる。ロウバー５２の剛性を高
めることができれば、ウエハ５０に成膜した際に生じた
残留応力等にによってワークが変形するといったことを
効果的に防止することが可能になる。フェムトスライダ
ーのように、きわめて微細なスライダーを加工する場合
には、ロウバーの変形が無視できなくなる。
【００１５】ウエハから加工用のロウバーを形成する具
体的な方法としては以下のような方法がある。第１の方
法は、厚さ２ｍｍのセラミック基板を使用し、成膜した
後、そのままウエハをスライシングしてロウバー５２を
得る方法である。成膜によってウエハ５０の厚さが約
２．０５ｍｍになる。したがって、ロウバー５２は幅寸
法が２．０５ｍｍのワークとして得られる。第２の方法
は、厚さ２ｍｍのセラミック基板を使用し、成膜した
後、ウエハの裏面を研削してウエハの厚さを１．２５ｍ
ｍまで研削し、ロウバー５２にスライシングする方法で
ある。この場合、ロウバー５２は幅寸法が１．２５ｍｍ
となる。第３の方法は、厚さ１．２ｍｍセラミック基板
を使用し、成膜した後、そのままウエハをスライシング
してロウバー５２を得る方法である。成膜によってウエ
ハ５０の厚さが約１．２５ｍｍになる。したがって、ロ
ウバー５２は幅寸法が１．２５ｍｍのワークとして得ら
れる。
【００１６】これらの第１〜第３の方法では、ロウバー
５２を幅寸法が２．０５ｍｍあるいは１．２５ｍｍのワ
ークに形成して加工する。磁気ヘッドを製造するセラミ
ック基板としては、従来、２ｍｍと１．２ｍｍの厚さの
基板が使用されている。従来のナノスライダーあるいは
ピコスライダーの製造工程ではこれらの基板を使用して
一定の信頼性及び加工精度が得られている。上記方法
は、これらと同様の条件設定としたものである。なお、
本発明に係る磁気ヘッドの製造方法は、スライダーとし
て必要とする長さ以上の幅寸法にロウバー５２を加工し
ておき、ロウバー５２の変形を防止して加工する点に特
徴がある。したがって、ロウバーの幅寸法すなわちウエ
ハ５０の厚さは上記例の条件に限定されるものではな
い。ウエハ５０から切り出したロウバー５２が所定の剛
性を備え、変形が防止できるよう設定すればよい。
【００１７】ウエハ５０から切り出したロウバー５２
は、ラッピング等の加工を施すため、ワックス等を用い
て支持治具に接着する（ステップ１４）。ロウバー５２
の剛性を高めたことにより、支持治具にロウバー５２を
接着する際の変形が防止でき、ロウバー５２を精度よく
支持治具に接着することができる。支持治具にロウバー
５２を接着した状態で、ＥＬＧラッピング、クラウンラ
ッピング（ステップ１６）等を施す。支持治具に高精度
にロウバー５２が接着されることから、ラッピングによ
ってＭＲハイトを正確に調節することができ、特性のば
らつきのない磁気ヘッドを得ることができる。また、ク
ラウン、キャンバー、ツイスト等のラッピングを高精度
に行うことができる。
【００１８】次に、平坦な治具にロウバー５２を配列し
てヘッド保護膜を形成し（ステップ１８）、ＡＢＳ面を
形成する工程（ステップ２０）に進む。ＡＢＳ面を形成
する工程では、露光・現像およびエッチング工程を繰り
返してロウバー５２の表面に所定のパターンを形成す
る。露光・現像およびエッチング工程は、きわめて高精
度にパターンを形成するためのものであるから、治具内
にロウバー５２を配列する場合には正確にロウバー５２
を配列する必要がある。
【００１９】図６は治具６０にロウバーを配置する従来
方法を示す。図６(a) が平面図、図６(b) が断面図であ
る。ロウバー５８を位置決めして配置するため、治具６
０の治具枠６０ａに沿ってロウバー５８を整列させて配
置する。隣接するロウバー５８の間にダミーバー５９を
配置しているのは、ロウバー５８を露光する際にエッジ
部を超えて露光し、エッジ部まで正確にパターンが形成
されるようにするためである。すなわち、ダミーバー５
９をスペーサとして使用するとともに、ロウバー５８に
隣接してダミーバー５９を配置することによってロウバ
ー５８の変形を補正し、正確な露光がなされるようにし
ている。
【００２０】なお、ロウバー５８の変形がさほどでない
場合には、治具６０上に所定間隔をあけてロウバー５８
を配列する方法も可能である。しかしながら、図７に示
すように、ロウバー５８に平面配置で大きく湾曲するよ
うな変形があった場合には、露光区域を分けながら露光
しなければならない。図の破線区域が、各々露光する区
域を示す。ロウバーの幅寸法が２．０５ｍｍの従来のナ
ノスライダーでは、ロウバーの湾曲量は１μｍ以下であ
り、ロウバーの幅寸法が１．２５ｍｍのピコウライダー
では、ロウバーの湾曲量が４〜８μｍ程度である。これ
に対して、ロウバーの幅寸法が０．８５ｍｍ程度のフェ
ムトスライダーでは、湾曲量が１２〜２５μｍ程度にな
るものと予想される。このフェムトスライダーでの湾曲
量をナノスライダーのそれと比較すると１０倍以上にも
なり、この場合にはロウバーの湾曲を補正しない限り、
高精度のスライダーを得ることができなくなる。
【００２１】図４は上述した製造方法によって形成した
ロウバー５２を治具６０にセットした状態を示す。上述
したように、ロウバー５２は必要とするスライダーの長
さよりも幅寸法を広く形成し、ナノスライダーあるいは
ピコスライダーを形成する場合と同程度の幅寸法に形成
しているから剛性が高く、変形を防止して治具６０に正
確に配列できる。また、各々のロウバー５２にはすべて
ダミー部５６が形成されているから、ダミー部５６を同
じ側にしてロウバー５２を配列することによって、ダミ
ー部５６がスペーサとして機能し、隣接するロウバー５
２に対する露光が干渉することを防止することができ
る。このように、本実施形態の方法によれば、ロウバー
５２を治具６０内に配置する際にダミーバー５９を用意
する必要がなく、治具６０にロウバー５２を配列するだ
けで、ロウバー５２を正確に露光・現像することが可能
となる。
【００２２】また、ロウバー５２が平面内で湾曲する量
を小さく抑えることができるから、１本のロウバー５２
を露光する際に、露光区域を複数に分割することなく、
一括して露光することが可能になる。これによって、効
率的でかつ高精度の露光が可能となり、きわめて高精度
にＡＢＳ面のパターンを形成することができる。
【００２３】図１のフロー図で、ロウバー幅切断工程
（ステップ２２）は、ＡＢＳ面のパターンを形成した
後、ロウバー５２からダミー部５６を除去する工程てあ
る。図５にロウバー５２からダミー部５６を除去する方
法を示す。ロウバー５２にはスライダー部５５とダミー
部５６とが形成されているから、スライダー部５５とダ
ミー部５６との境界でロウバー５２を長手方向にスライ
シングすることにより、ロウバー５２からダミー部５６
を除去することができる。６２がスライシング用の砥石
である。ダミー部５６を除去した後、スライダー個片化
工程（ステップ２４）により、スライダー部５５を幅方
向に切断して個片のスライダーが得られる。洗浄／検査
／出荷工程（ステップ２６）は、個片に形成したスライ
ダーを洗浄、検査して出荷する工程である。
【００２４】以上説明したように、本発明に係る磁気ヘ
ッドの製造方法によれば、スライダーの長さ寸法よりも
厚さ寸法の厚いウエハを使用したことによって、ウエハ
の変形を防止することができ、ウエハプロセスにおいて
高精度の加工を可能とすることができる。また、ウエハ
からロウバーを切り出す際もウエハの厚さのまま、もし
くはウエハの裏面を研削した場合でもスライダーの長さ
寸法よりもウエハの厚さ寸法を厚く形成して切り出すこ
とによって、ロウバーの変形を防止し、高精度の加工を
可能にする。これによって、磁気ヘッドを歩留りよく製
造することが可能になる。
【００２５】
【発明の効果】本発明に係る磁気ヘッドの製造方法は、
高精度の加工を可能にするものであり、フェムトスライ
ダー等のきわめて微小なサイズの磁気ヘッドの製造方法
として好適に利用することができる。また、高精度の加
工が可能であることから、信頼性の高い製品を製造する
ことができ、製造上の歩留りを向上させることが可能に
なる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係る磁気ヘッドの製造方法を示すフロ
ー図である。
【図２】ウエハからロウバーを形成する方法を示す説明
図である。
【図３】ロウバーの構成を拡大して示す説明図である。
【図４】治具にロウバーを配置した状態の平面図および
断面図である。
【図５】ロウバーからダミー部を除去する方法を示す説
明図である。
【図６】治具にロウバーを配置した状態の従来の平面図
および断面図である。
【図７】ロウバーが湾曲した状態を示す説明図である。
【図８】スライダーの斜視図である。
【符号の説明】
５０ ウエハ ５２ ロウバー ５４ 磁気ヘッド素子 ５５ スライダー部 ５６ ダミー部 ５８ ロウバー ５９ ダミーバー ６０ 治具 ６０ａ 治具枠

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 ウエハプロセスにより基板の表面に磁性
    膜等を成膜して磁気ヘッドを形成する磁気ヘッドの製造
    方法において、 前記基板として、スライダーの長さ寸法よりも厚さ寸法
    の厚いウエハを使用することを特徴とする磁気ヘッドの
    製造方法。
  2. 【請求項２】 基板に成膜した後、あるいは基板に成膜
    して裏面を研削した状態でのウエハの厚さをスライダー
    の長さ寸法よりも厚く設定したウエハからロウバーを切
    り出しし、 該ロウバーに所要の加工を施してスライダーを形成する
    ことを特徴とする請求項１記載の磁気ヘッドの製造方
    法。
  3. 【請求項３】 ウエハから切り出しした、スライダーの
    長さ寸法よりも幅寸法の広いロウバーを支持治具に支持
    して加工を施すことを特徴とする請求項２記載の磁気ヘ
    ッドの製造方法。
  4. 【請求項４】 ウエハから切り出ししたロウバーを、ス
    ライダー部の余長部であるダミー部を同じ側にして治具
    にセットし、 露光・現像操作によりＡＢＳ面にパターンを形成するこ
    とを特徴とする請求項２または３記載の磁気ヘッドの製
    造方法。
  5. 【請求項５】 ＡＢＳ面にパターンを形成した後、ロウ
    バーからダミー部を除去し、 スライダー部を個片に切断してスライダーを形成するこ
    とを特徴とする請求項２、３または４記載の磁気ヘッド
    の製造方法。
  6. 【請求項６】 ウエハプロセスにより基板の表面に磁性
    膜等の所定の膜を積層して磁気ヘッドを形成する磁気ヘ
    ッドの製造方法において、 前記磁性膜の成膜後、前記ウエハを複数のロウバーに切
    り出しし、 切り出されたロウバーの端面を前記膜の積層方向に所定
    量除去することを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2002097803A1 (fr) * 2001-05-25 2002-12-05 Fujitsu Limited Curseur de tete avec actionneur a ralenti et procede de fabrication de ce curseur de tete
JP2011008845A (ja) * 2009-06-24 2011-01-13 Hitachi High-Technologies Corp 磁気ヘッド搬送装置、磁気ヘッド検査装置、及び磁気ヘッド製造方法

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7000310B2 (en) * 2003-12-12 2006-02-21 Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. Method of handling a workpiece
JP2009158070A (ja) * 2007-12-27 2009-07-16 Fujitsu Ltd 磁気ヘッドスライダの製造方法

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04201071A (ja) * 1990-11-29 1992-07-22 Fuji Electric Co Ltd 磁気ヘッドスライダーの研摩治具及び研摩方法
US5321882A (en) * 1992-09-22 1994-06-21 Dastek Corporation Slider fabrication
JP2883279B2 (ja) * 1994-09-22 1999-04-19 日本碍子株式会社 ラップ治具およびそれを使用したラップ加工方法
JPH1116115A (ja) * 1997-06-20 1999-01-22 Hitachi Ltd 磁気ヘッドの製法
JP3318512B2 (ja) * 1997-06-21 2002-08-26 ティーディーケイ株式会社 磁気ヘッドの研磨方法及び装置
JP3982890B2 (ja) * 1997-08-06 2007-09-26 富士通株式会社 研磨装置、この装置に用いられる研磨治具、及び、この研磨治具に取り付けられる被研磨物取付部材
JP3604559B2 (ja) * 1998-05-06 2004-12-22 Ｔｄｋ株式会社 スライダの製造方法および製造用補助具
JP3439129B2 (ja) * 1998-08-25 2003-08-25 富士通株式会社 磁気ヘッドの製造方法

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2002097803A1 (fr) * 2001-05-25 2002-12-05 Fujitsu Limited Curseur de tete avec actionneur a ralenti et procede de fabrication de ce curseur de tete
JP2011008845A (ja) * 2009-06-24 2011-01-13 Hitachi High-Technologies Corp 磁気ヘッド搬送装置、磁気ヘッド検査装置、及び磁気ヘッド製造方法

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