JP2001003168A - 真空成膜装置 - Google Patents
真空成膜装置Info
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11173350A JP2001003168A (ja) | 1999-06-18 | 1999-06-18 | 真空成膜装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11173350A JP2001003168A (ja) | 1999-06-18 | 1999-06-18 | 真空成膜装置 |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001003168A true JP2001003168A (ja) | 2001-01-09 |
| JP2001003168A5 JP2001003168A5 (enExample) | 2006-04-20 |
Family
ID=15958797
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11173350A Abandoned JP2001003168A (ja) | 1999-06-18 | 1999-06-18 | 真空成膜装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001003168A (enExample) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006299417A (ja) * | 2005-04-08 | 2006-11-02 | Applied Films Gmbh & Co Kg | 基板コーティング装置及びモジュール |
| JP2008031493A (ja) * | 2006-07-26 | 2008-02-14 | Kobe Steel Ltd | 連続成膜装置 |
| JP2008031492A (ja) * | 2006-07-26 | 2008-02-14 | Kobe Steel Ltd | 連続成膜装置 |
| DE102005042762B4 (de) * | 2004-09-09 | 2016-10-20 | Kabushiki Kaisha Kobe Seiko Sho | Vorrichtung zur kontinuierlichen Beschichtung |
| JP2017500447A (ja) * | 2013-12-10 | 2017-01-05 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドApplied Materials,Incorporated | 処理デバイス用、特に内部に有機材料を含むデバイス用の処理装置、及び処理真空チャンバから保守真空チャンバへ又は保守真空チャンバから処理真空チャンバへ蒸発源を移送するための方法 |
| DE102016107983A1 (de) * | 2016-04-29 | 2017-11-02 | Von Ardenne Gmbh | Prozesskammeranordnung und Prozessieranordnung |
| CN110512185A (zh) * | 2019-09-03 | 2019-11-29 | 肇庆宏旺金属实业有限公司 | 一种钢卷开收卷真空工作室 |
-
1999
- 1999-06-18 JP JP11173350A patent/JP2001003168A/ja not_active Abandoned
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE102005042762B4 (de) * | 2004-09-09 | 2016-10-20 | Kabushiki Kaisha Kobe Seiko Sho | Vorrichtung zur kontinuierlichen Beschichtung |
| JP2006299417A (ja) * | 2005-04-08 | 2006-11-02 | Applied Films Gmbh & Co Kg | 基板コーティング装置及びモジュール |
| US7972486B2 (en) | 2005-04-08 | 2011-07-05 | Applied Materials Gmbh & Co. Kg | Machine for coating a substrate, and module |
| JP2008031493A (ja) * | 2006-07-26 | 2008-02-14 | Kobe Steel Ltd | 連続成膜装置 |
| JP2008031492A (ja) * | 2006-07-26 | 2008-02-14 | Kobe Steel Ltd | 連続成膜装置 |
| JP2017500447A (ja) * | 2013-12-10 | 2017-01-05 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドApplied Materials,Incorporated | 処理デバイス用、特に内部に有機材料を含むデバイス用の処理装置、及び処理真空チャンバから保守真空チャンバへ又は保守真空チャンバから処理真空チャンバへ蒸発源を移送するための方法 |
| DE102016107983A1 (de) * | 2016-04-29 | 2017-11-02 | Von Ardenne Gmbh | Prozesskammeranordnung und Prozessieranordnung |
| CN110512185A (zh) * | 2019-09-03 | 2019-11-29 | 肇庆宏旺金属实业有限公司 | 一种钢卷开收卷真空工作室 |
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