例えば、樹脂製のシート状の基材は可撓性を有し、加工性も良いことから、その一方の面に、真空雰囲気で所定の金属膜や酸化物膜等の所定の薄膜を単体または多層で成膜したり、エッチングや熱処理を施したりして電子部品や光学部品とすることが知られている。このような真空処理を施す真空処理装置は例えば特許文献1で知られている。このものは、真空雰囲気の形成が可能な真空チャンバを備え、真空チャンバ内にはキャンローラが設けられ、キャンローラの周囲に配置される仕切り板で真空チャンバが上下2室に区画されている。
一方の室(真空処理室)には、各種の真空処理を施す処理ユニットが配置され、他方の室(搬送室)には、巻き掛けられたシート状の基材を一定の速度で繰り出す繰出ローラと、真空処理済みのシート状の基材を巻き取る巻取ローラと、キャンローラを経た繰出ローラと巻取ローラとの間でのシート状の基材の移送を案内する、互いに平行に配置される複数本のガイドローラとが設けられている。そして、例えば、処理ユニットが例えば真空蒸着法により成膜する蒸着源である場合には、蒸着源に設けた蒸着材料を昇華または気化させ、この昇華または気化した蒸着粒子をキャンローラに巻き掛けられたシート状の基材の部分に付着、堆積させて所定の薄膜が蒸着(成膜)される。
ところで、処理ユニットが、蒸着源やスパッタリングカソードである場合、それらに利用される蒸着材料やターゲットは所謂消耗品であるため、材料補充やターゲット交換が必要になる。また、真空チャンバ内でシート状の基材に対して成膜処理を施すと、真空チャンバ内に設けられる隔壁(防着板を含む)や、その内部でシート状の基材を一定の張力を加えた状態で走行させる搬送ローラとしてのキャンローラやガイドローラといった部品にも着膜することになる。このため、定期的に真空チャンバを大気開放し、着膜の除去(クリーニング)や部品交換を実施して真空処理装置を初期状態に戻すメンテナンスを実施することが必要となる。通常、シート状の基材を繰り出すための繰出ローラ、巻取ローラ、ガイドローラやキャンローラといった各駆動部品は、例えば、アライメント精度の維持のため、単一の支持部品(支持板や真空チャンバの壁部等)で支持させて一体として取り扱われるように真空チャンバ内に設けられる。このため、材料補充やターゲット交換だけを実施するときでさえも、真空チャンバ内の全ての室を同時に大気雰囲気に戻すしかない、言い換えると、搬送室を真空雰囲気に維持したまま、真空処理室を大気雰囲気に戻すことができないという問題がある。
一方、メンテナンス実施時の作業性を向上できるようにした真空処理装置は例えば特許文献2で知られている。このものは、シート状の基材が巻き掛けられるドラムを収容する真空チャンバを有し、真空チャンバ内には、ドラム(キャンローラ)の周囲に互いに隔絶された複数の処理空間を区画する複数個の隔壁が設けられている。真空チャンバの隔壁には各処理空間を夫々臨むように取付開口が設けられ、この取付開口を介して処理ユニットが着脱自在に設けられている。処理ユニットの各々は、真空チャンバの外壁面に当接して取付開口を閉塞可能な支持体を備え、各支持体が、取付開口を閉塞可能な取付位置とこの取付位置からドラムの軸線方向一方に離間した退避位置との間で進退自在な第1の台車で一体に保持されている。隔壁の各々は、真空チャンバ内に存して処理空間を画成する区画位置とこの区画位置からドラムの軸線方向他方に離間した他の退避位置との間で進退自在な第2の台車で一体に保持される。
真空チャンバには、軸線方向と水平に直交する方向から上流側真空チャンバと下流側真空チャンバとが連設され、上流側真空チャンバにシート状の基材が巻回され、一定の速度でこのシート状の基材を繰り出す繰出ローラが設けられ、下流側真空チャンバに成膜済みのシート状の基材を巻き取る巻取ローラが設けられている。このような場合でも、上記と同様、各駆動部品は、単一の支持部品(真空チャンバ、上流側真空チャンバ及び下流側真空チャンバに共通の支持板等)で支持させて一体として取り扱われるようにすることが通常である。そして、メンテナンス実施時には、真空チャンバを大気開放して、第2の台車を区画位置から軸線方向他方に移動させ、他の退避位置に到達すると、他の台車で保持された隔壁が真空チャンバ外の広い空間へと取り出される。その後、第1の台車を取付位置から退避位置に移動させると、第1の台車で保持された処理ユニットが真空チャンバ外の広い空間へと取り出される。このため、ターゲットの交換や蒸着材料の充填等の処理ユニットに対するメンテナンスを作業性良く実施できる。然し、第1の台車を移動させた状態でも、各駆動部品は真空チャンバ内に残るので、作業者は、真空チャンバ内に入って作業をせざるを得ない。このような場合、単一の支持部品から真空チャンバの本体が移動できるように構成することも考えられるが、第1及び第2の各台車に加えて、追加の台車も必要になり、これでは、部品点数が増加してコストアップを招来するといった問題も生じる。
以下、図面を参照して、処理ユニットを真空蒸着法により成膜処理するための蒸着源とし、真空雰囲気中でシート状の基材Swを走行させながら、シート状の基材Swの両面に成膜する場合を例に本発明の真空処理装置の実施形態を説明する。以下においては、搬送ローラとしてのキャンローラの軸線方向が水平方向に一致する姿勢でキャンローラが真空チャンバVc内に収容されているものとし、軸線方向をX軸方向、同一の水平面内でX軸に直交する方向をY軸方向、X軸及びY軸に直交する鉛直方向をZ軸方向とし、上、下といった方向は、真空処理装置の設置姿勢で示す図1を基準とする。
図1及び図2を参照して、本実施形態の真空処理装置DMは、中央の真空処理室Msと、第1及び第2の各搬送室Ts1,Ts2とを備える真空チャンバVcを備える。特に図示して説明しないが、真空処理室Msと各搬送室Ts1,Ts2とには、排気管を介してターボ分子ポンプ、ロータリーポンプ等で構成される真空ポンプユニットが接続され、真空雰囲気を形成できるようになっている。真空処理室Msは、直方体状の輪郭を持ち、互いに対向するY軸方向の側壁面を夫々開口したチャンバ本体としての第1チャンバ部1と、第1チャンバ部1の開口11,12aをOリング等の真空シールSvを介して密閉可能に夫々覆う隔壁としての第1及び第2の支持プレート21,22とで画成されている。第1及び第2の支持プレート21,22の上面及び下面の所定位置には、Y軸方向に貫通する第1のねじ孔Sh1が穿設され、また、第1チャンバ部1の開口11,12aに第1及び第2の支持プレート21,22を取り付けたとき、第1のねじ孔Sh1に対応する第1チャンバ部1の壁面部分には、第2のねじ孔Sh2が穿設されている。そして、第1チャンバ部1の開口11,12aへの第1及び第2の支持プレート21,22の取付状態で、第1及び第2の各ねじ孔Sh1,Sh2に締結ボルトFb1,Fb2を締結することで、真空シールSvが第1チャンバ部1の開口11,12aの周囲に位置する壁面部分と第1及び第2の支持プレート21,22とに圧接した状態で両者を固定できるようになっている。この場合、第1及び第2の各ねじ孔Sh1,Sh2と締結ボルトFb1,Fb2が本実施形態の係合手段を構成する。
また、第1及び第2の支持プレート21,22の互いに背向する側には、第1及び第2の支持フレーム31,32が夫々取り付けられ、第1及び第2の支持プレート21,22のZ軸方向に起立した姿勢が維持できるようにしている。第1の支持フレーム31の下面には、床面Fに敷設したレール部材Rlに摺動自在に移動するスライダ31が設けられ、第1チャンバ部1の開口11からY軸方向一方(図2中、左側)に離間した退避位置と、第1チャンバ部1の開口11を閉塞する密閉位置との間で移動自在となっている(図2参照)。この場合、レール部材Rlとスライダ31とが本実施形態の単一の移動手段を構成する。
第1チャンバ部1のX軸方向両側には、直方体状の輪郭を持ち、Y軸方向他方の側壁面(図2中、右側壁)のみを開口したチャンバ本体としての第2チャンバ部41,42が夫々連設され、各搬送室Ts1,Ts2が、第2チャンバ部41,42とY軸方向他側に位置する第2の支持プレート22とで画成されている。この場合、特に図示して説明しないが、上記と同様、第2の支持プレート22の上面及び下面の所定位置には、Y軸方向に貫通する第1のねじ孔Sh1が穿設され、また、第2チャンバ部41,42の開口12b,12bに第2の支持プレート22を取り付けたとき、第1のねじ孔Sh1に対応する第2チャンバ部41,42の壁面部分には、第2のねじ孔Sh2が穿設されている。そして、各第2チャンバ部41,42の開口12b,12bへの第2の支持プレート22の取付状態で、第1及び第2の各ねじ孔Sh1,Sh2に締結ボルトFb2を締結することで、図外の真空シールが第2チャンバ部41,42の開口12b,12bの周囲に位置する壁面部分と第2の支持プレート22とに圧接した状態で第2チャンバ部41,42を第2の支持プレート22に固定できるようになっている。なお、本実施形態では、第1チャンバ部1の開口12aと第2チャンバ部41,42の各開口12b,12bとを閉じる第2の支持プレート22が単一である場合を例に説明しているが、第1チャンバ部1の開口12aと、第2チャンバ部41,42の開口12b,12bとを夫々開閉自在に閉じるように第2の支持プレート22を複数で構成することができ、この場合、夫々を単一の支持フレーム32で支持させればよい。
互いに向かい合う第1チャンバ部1と第2チャンバ部41,42のX軸方向に位置する側壁には、シート状の基材Swの通過を許容する透孔13a,13b,41,42が夫々開設されると共に、第1チャンバ部1と第2チャンバ部41,42の両側壁間の隙間には、この隙間を通過するシート状の基材Swの部分を覆うようにしてロードロックバルブ5が設けられ、真空雰囲気中にて一貫してシート状の基材Swが搬送できると共に真空処理室Msと両搬送室Ts1,Ts2とを隔絶できるようにしている。なお、この種の真空処理装置DMに利用されるロードロックバルブ5としては公知のものが利用できるため、ここでは詳細な説明を省略する。なお、ロードロックバルブ5を自動で作動させるには、何らの動力(電力や圧縮空気など)を供給する必要がある。このような場合、例えば、第1の支持プレート21または第2の支持プレート22を通して動力供給に必要な配管や配線がなされ、このとき、後述の第1及び第2の支持プレート21,22とチャンバ本体1,41,42との着脱に同期して接断されるコネクタが所定位置に適宜設けられる。コネクタ以外の手法としてケーブルベア(登録商標)の利用も考えられる。
X軸方向一方(図1中、左側)に位置する第1の搬送室Ts1には、成膜前のシート状の基材Swが巻回される繰出ローラWrが設けられている。繰出ローラWrの回転軸Waは、第2の支持プレート22に軸支され、真空チャンバVc外に設けられるモータM1により回転駆動されるようになっている。第2の搬送室Ts2には、成膜済みシート状の基材Swを巻き取る巻取ローラUrが設けられている。巻取ローラUrの回転軸Uaもまた、第2の支持プレート22に軸支され、真空チャンバVc外に設けられるモータM2により回転駆動されるようになっている。なお、両搬送室Ts1,Ts2には、シート状の基材Swの搬送を案内する搬送ローラとしてのガイドローラGrが適宜設けられ、ガイドローラGrの回転軸Gaもまた第2の支持プレート22に夫々軸支されている。
真空処理室Msには、ガイドローラGrと、キャンローラCrとが設けられ、キャンローラCrの周囲を搬送される間にシート状の基材Swが冷却されるようになっている。ガイドローラGrとキャンローラCrとの回転軸Ga,Caもまた、第2の支持プレート22に軸支され、キャンローラCrは、真空チャンバVc外に設けられるモータM3により回転駆動されるようになっている。そして、真空処理室Ms内に、X軸方向に水平搬送されるシート状の基材Swの両面に対して成膜処理を行うための処理ユニットとして2個の蒸着源ES1,ES2が設けられている。
図3及び図4も参照して、各蒸着源ES1,ES2は、同一構成を有し、主筒体6と副筒体7とを備える。この場合、第1の支持プレート21のY軸方向外側面には、各蒸着源ES1,ES2を設置しようとする位置や数に応じて拡張チャンバEcが連設されている。特に図示して説明しないが、拡張チャンバEcには、排気管を介してターボ分子ポンプ、ロータリーポンプ等で構成される真空ポンプユニットとベントバルブとが接続されている。そして、拡張チャンバEc内に、円筒形状の輪郭を持ち、その長手方向がZ軸方向に合致する姿勢で各蒸着源ES1,ES2の主筒体6が配置されている。
主筒体6は、有底筒状の輪郭を持ち、そのZ軸方向の下部には、所定の充填率で固体の蒸着材料Emが充填される坩堝部61が設けられている。蒸着材料Emとしては、シート状の基材Swに成膜(蒸着)しようとする薄膜の組成に応じて適宜選択され、例えば、アルミニウム、リチウム、インジウム及びその合金などの金属材料や有機材料が用いられる。主筒体6の上面開口には開閉扉Edが設けられ、開閉扉Edを閉じると、主筒体6内を密閉できるようになっている。坩堝部61にはまた、その上面開口61aを開閉自在に閉塞する蓋体62が設けられている。この場合、主筒体6内には、アクチュエータ63が設けられ、アクチュエータ63により、蓋体62をZ軸方向に起立させた起立姿勢と、その上面開口61aを閉塞する水平姿勢(図3参照)との間で蓋体62を揺動させると共に、水平姿勢のときに、蓋体62を坩堝部61に向けて押しつけ、蓋体62と坩堝部61との接触面圧を確保することができるようにしている(言い換えると、後述のように、蒸着材料Emの昇華または気化によりその内部圧力が上昇した時でも、蓋体62と坩堝部61との間のコンダクタンスを確保し、蒸着材料Emが主筒体6内へ不都合な漏洩が発生しないようにしている)。なお、このようなアクチュエータ63としては公知のものが利用できるため、これ以上の説明は省略する。
主筒体6の外周面には、先端に取付フランジ64aを備える、Y軸方向にのびる円筒状の分岐管部64が突設され、開閉扉Edを閉じた状態では、主筒体6の内部雰囲気は、分岐管部64のみが連通する対象となっている。分岐管部64は、第1の支持プレート21に設けた透孔21に挿通してその先端が真空処理室Msまで突出している。分岐管部64のZ軸方向の高さ位置は、少なくとも坩堝部61内に充填される蒸着材料Emの上層部分より上方に位置するように設定されている。主筒体6内にはまた、加熱手段としてのシースヒータ8aが設けられ、シースヒータ8aに図外の電源から通電することで、坩堝部61内の蒸着材料Emだけでなく、主筒体6内の内面や蓋体62をその全面に亘って加熱できるようにしている。
真空処理室Ms内に位置する副筒体7は、両端に取付フランジ64aに対応する取付フランジ71,72を備える円筒形状の輪郭を持ち、シート状の基材Swの幅より長くなるように定寸されている。そして、取付フランジ64aと、Y軸方向一方の取付フランジ71とを当接させた状態で、締結手段としてのボルトBoで両者を締結することで、主筒体6に副筒体7が着脱自在に取り付けられ、ホルダHdで位置決め支持されている。主筒体6に対する副筒体7の固定方法は、上記に限定されるものではなく、例えば、クランプ等を用いることもできる。このとき、副筒体7をその孔軸(Y軸に一致)回りに所定の角度だけ回転させて固定すれば、後述の放出開口75の位相が任意に変更できるようになる。本実施形態では、第1の搬送室Ts1側に位置する蒸着源ES1では、放出開口75がZ軸方向上方を向く姿勢とされ、第2の搬送室Ts2側に位置する蒸着源ES2では、放出開口75がZ軸方向下方を向く姿勢とされる(図1参照)。Y軸方向他方の取付フランジ72には、副筒体7内を閉塞する蓋板73が装着され、この蓋板73が、後述の分布板76を保持するようにしている。このとき、主筒体6と副筒体7の内部雰囲気は連通し、かつ、この内部雰囲気と外部との連通口は後述する放出開口75以外には存在しない状態となる。また、蓋板73と、Y軸方向他方の取付フランジ72とを当接させた状態で、締結手段としてのボルトBoで両者を締結することで、蓋板73が着脱自在に取り付けられるようになっている。
副筒体7の外周面には、一方の取付フランジ71からY軸方向に離間させてレーストラック状の輪郭を持つ突条74が設けられると共に、突条74で囲繞されるようにしてY軸方向に長手のスリット状の放出開口75が開設されている。蒸着源ES1,ES2の取付状態では、放出開口75が真空処理室Ms内で搬送されるシート状の基材Swの部分に対向するようになっている。副筒体7内にはまた、主筒体6から副筒体7に移送される、昇華または気化した蒸着材料Emが、放出開口75に導かれる際に通過する分布孔76aが形成された分布板76が挿設されている。分布板76は、図4に示すように、放出開口75を跨いで副筒体7のY軸方向略全長に亘ってのびる長さと、放出開口75より広い幅(X軸方向の長さ)を有する。分布孔76aは、放出開口75の直下に位置させて形成された単一の長孔で構成され、主筒体6側からそのY軸方向他方に設けて連続してその開口面積が増加するようにしたものである。開口面積の増加量は、シート状の基材Swに成膜したときのY軸方向(シート状の基材Swの幅方向)における膜厚分布を考慮して適宜設定される。
上記実施形態では、単一の長孔で分布孔76aを構成するものを例に説明するが、シート状の基材Swに成膜したときの膜厚分布を略均一にできるものであれば、これに限定されるものではなく、例えば、面積の異なる孔を複数個開設して構成することもできる。また、上記実施形態では、分布板76を用いるものを例に説明するが、放出開口75を主筒体6側からそのY軸方向他方に設けて連続してその開口面積が増加するようにして、分布板76を省略することもできる。更に、副筒体7内には、加熱手段としてのシースヒータ8bが設けられ、シースヒータ8bに図外の電源から通電することで、副筒体7の内面や分布板76の表面をその全面に亘って加熱できるようにしている。本実施形態では、副筒体7内にシースヒータ8bを設けているが、坩堝部61内の蒸着材料Emを加熱するときに放射や伝熱で主筒体6や副筒体7が十分に加熱できるのであれば、これを省略することもできる。
上記真処理着装置DMにて、シート状の基材Swを走行させながら、シート状の基材Swの両面に成膜する場合、先ず、大気雰囲気の拡張チャンバEc内にて、開閉扉Edを開け、アクチュエータ63により蓋体62を起立姿勢にした状態で、各蒸着源の各蒸着源ES1,ES2の坩堝部61に所定の充填率で蒸着材料Emを充填する。このとき、真空チャンバVcの一方の搬送室Tc1には、繰出ローラWrにシート状の基材Swが巻回され、その先端部が、真空処理室Ms内の各ガイドローラGr及びキャンローラCrに夫々巻き掛けられた後、他方の搬送室Tc2に案内され、ガイドローラGrを経て巻取ローラUrに取り付けられ、この状態で真空処理室Ms及び両搬送室Ts1,Ts2が所定圧力まで真空排気された待機状態となっている。
蒸着材料Emを充填した後、蓋体62を水平姿勢にして上面開口61aを閉鎖すると共に開閉扉Edを閉じた後、各拡張チャンバEc内を真空排気する。各拡張チャンバEc内が所定圧力に達すると、シースヒータ8a,8bに通電されて坩堝部61を含む各蒸着源ES1,ES2の主筒体6と副筒体7とが加熱される。ここで、加熱により蒸着材料Emが所定温度に達すると、例えば、坩堝部61内の蒸着材料Emが液化し、坩堝部61に充填された蒸着材料Emは、その蒸着材料Emが持つ蒸気圧曲線に従って上層部分から気化し始める。このとき、坩堝部61内の圧力(蒸着材料Emの分圧)は、所定温度に対応した蒸気圧まで上昇し、蒸気圧律速で気化が抑制される熱的な平衡状態へ移行し、坩堝部61内に充填されている蒸着材料Emが全て液化する(シースヒータ8aの通電電流(ヒータ出力)が安定する)。
次に、モータM1~M3を回転駆動して、シート状の基材Swを一定の速度で走行させると共に、アクチュエータ63により蓋体62を起立姿勢にする。すると、真空雰囲気中の真空処理室Ms内に存する副筒体7との分圧の差が平衡状態となるように、気化した蒸着材料Emはその蒸気圧を保ちつつ主筒体6を経て副筒体7に移送(拡散)され、分布板76により放出開口75へと導かれて、放出開口75から真空雰囲気中に放出される。このとき、蒸着源ES1では、放出開口75を上向きとしているため、デポアップでシート状の基材Swの一方の面に成膜される。そして、キャンローラCrの周囲を搬送される間でシート状の基材Swが一旦冷却され、次に、蒸着源ES2では、放出開口75を下向きとしているため、デポダウンでシート状の基材Swの他方の面に成膜される。両面に成膜されたシート状の基材Swは、他の搬送室Ts2へと搬送されて巻取ローラUrに巻き取られ、他の搬送室Tc2を大気開放した後、成膜処理済みのシート状の基材Swが回収される。
ところで、蒸着材料Emの種類の変更に伴う分布板76の交換、副筒体7のクリーニングやシースヒータ8a,8bの交換といったメンテナンスを実施する場合、第1の支持プレート21と第1チャンバ部1とを互いに締結する締結ボルトFb1の全てを取り外す(言い換えると、第1チャンバ部1及びこれに夫々連設された各第2チャンバ部41,42と、第2の支持プレート22とを選択的に係合する)。そして、真空チャンバVcを大気開放した後、スライダ31を介して、第1の支持フレーム31をX軸方向一方に移動させる。これにより、図5に示すように、第1の支持プレート21で支持された蒸着源ES1,ES2の副筒体7を真空処理室Msから離間した広い空間に取り出すことができ、メンテナンスの作業性を向上することができる。
他方、特に真空処理室Ms内に存するキャンローラCrやガイドローラGrに着膜したものの除去や、真空処理室Ms及び各搬送室Ts1,Ts2内のガイドローラGrの交換といったメンテナンスを実施する場合、第2の支持プレート22と第1チャンバ部1及び第2チャンバ部41,42とを互いに締結する締結ボルトFb2の全てを取り外す(言い換えると、チャンバ本体1,41,42と第1の支持プレート21とを選択的に係合する)。そして、真空チャンバVcを大気開放した後、スライダ31を介して、第1の支持フレーム31をX軸方向一方に移動させる。これにより、図6に示すように、第1の支持プレート21が第1チャンバ部1とこれに夫々連設された各第2チャンバ部41,42と共に一体に移動され、第2の支持プレート22で軸支されたキャンローラCr、繰出ローラWr、巻取ローラUr及び及びガイドローラGrがむき出しのまま残る。これにより、第1チャンバ部1及び各第2チャンバ部41,42を画成する隔壁などの作業空間を制限するものがない状態でメンテナンスを実施することができる。この場合、繰出ローラWrへのシート状の基材Swのセットや、キャンローラCr等を経たシート状の基材Swの巻取ローラUrまでの通紙作業だけでなく、シート状の基材Swの走行調整作業も実施できる。
なお、メンテナンス終了後に、スライダ31を介して第1の支持フレーム31をX軸方向他方に移動させるとき、第1の支持プレート21と第1チャンバ部1とが、または、第2の支持プレート22と第1チャンバ部1及び各第2チャンバ部41,42とが位置決めされた状態で再取り付けされるようにガイド手段を設けることもできる。このようなガイド手段としては、図7に示すように、第1の支持プレート21とチャンバ本体1と、第2の支持プレート22と第1チャンバ部1及び各第2チャンバ部41,42との所定位置に設けられた位置決めブロック91a~91dの互いに対向する部分に、X軸方向にのびるように突設されたガイドピン92a,92bと、このガイドピン92a,92bを受け入れるガイド孔93a,93bとで構成することができる。
以上の実施形態によれば、締結ボルトFb1,Fb2により選択的に第1または第2の各支持プレート21,22と、第1チャンバ部1及び各第2チャンバ部41,42とを選択的に係合し、スライダ31を介して第1の支持フレーム31をX軸方向一方に移動させたときに、離脱されるものがかわるようにしたため、少ない部品点数でメンテナンスの作業性を向上することができる。しかも、各蒸着源ES1,ES2への材料補充や各蒸着源ES1,ES2の構成部品の交換といったメンテナンスを実施する場合、及び、各搬送ローラに着膜したものの除去や搬送ローラの交換といったメンテナンスを実施する場合でも、移動手段を移動させる方向が同一方向になるため、メンテナンスを実施するために必要なスペースは、第1チャンバ部1を基準にその一方向(図5,6中、左側)のみにあれば済み、装置の占有面積を小さくできて有利である。また、第1チャンバ部1に、一の側面にのみ開口12b,12bを設けた各第2チャンバ部41,42がロードロックバルブ5を介して連設されているような場合には、各第2チャンバ部41,42の下方空間に、例えば配線や配管を設置するための空間ができ、有利である。なお、従来例のように、キャンローラの周囲に互いに隔絶された複数の処理空間を区画するために隔壁を配置するような場合、各隔壁を第1または第2の各支持プレートまたは第1チャンバ部1で支持させておけばよい。
以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態のものに限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない限り、種々の変形が可能である。上記実施形態では、処理ユニットとして、蒸着源ES1,ES2を例に説明したが、これに限定されるものではなく、処理ユニットとして、真空蒸着やCVDにより成膜を行うときの蒸着源や、エッチングや熱処理を行うときの構成部品を第1の支持プレート21で支持させて設けることもできる。また、上記実施形態では、係合手段が各ねじ孔Sh1,Sh2と締結ボルトFb1,Fb2とで構成されるものを例とし、作業者の手作業で選択的な係合を行うものを例としたがこれに限定されるものではない。例えば、締結ボルトに代えて着脱容易な締結具(所謂クイックファスナ)を利用することができ、他方、何らの動力(電力や圧縮空気など)を供給して自動で選択的な係合を行うようにしてもよい。
また、上記実施形態では、レール部材Rlとスライダ31とで単一の移動手段を構成したものを例に説明したが、第1の支持フレーム31をその起立姿勢を維持したままX軸方向に移動できるものであれば、これに限定されるものではなく、例えば台車を利用することもできる。更に、上記実施形態では、第2チャンバ部41,42のY軸方向他方の側壁面(図2中、右側壁)のみに開口12b,12bを設けたものを例に説明したが、これに限定されるものではなく、開口12b,12bに対面する第2チャンバ部41,42の側壁面にも開口(図示せず)を設け、第1の支持フレーム31で開閉自在に閉塞されるように構成することもできる。