JP2000351888A - 光半導体封止用エポキシ樹脂組成物 - Google Patents

光半導体封止用エポキシ樹脂組成物

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JP2000351888A
JP2000351888A JP11167057A JP16705799A JP2000351888A JP 2000351888 A JP2000351888 A JP 2000351888A JP 11167057 A JP11167057 A JP 11167057A JP 16705799 A JP16705799 A JP 16705799A JP 2000351888 A JP2000351888 A JP 2000351888A
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Japan
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epoxy resin
bisphenol
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dihydroxy
formula
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JP11167057A
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English (en)
Inventor
Tomoe Umeyama
智江 梅山
Takumi Kobayashi
小林  巧
Yoshihiro Kawada
義浩 川田
Masahiro Imaizumi
雅裕 今泉
Haruki Niimoto
昭樹 新本
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Nippon Kayaku Co Ltd
Original Assignee
Nippon Kayaku Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】光透過性、耐湿熱性、耐半田リフロー性に優れ
た光半導体封止用エポキシ樹脂組成物を提供する。 【解決手段】エポキシ樹脂、下記式1 【化1】 (式中XはC1〜C4の低級アルキリデン基、シクロヘキ
シリデン基、O、S又はSO2を表し、R1、R2、R
3、R4はC1〜4の低級アルキル基、C3〜C4の低級
アルケニル基又はハロゲン基であり、R1、R2、R
3、R4は同一でも異なっていても良く、mは0〜4の
整数であり、nは平均値で1以上の数である。)で示さ
れるビスフェノール類末端フェノール樹脂、促進剤を含
有するエポキシ樹脂組成物。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、光透過性、耐湿熱
性に優れた光半導体封止用エポキシ樹脂に関する。
【0002】
【従来の技術】オプトエレクトロニクス関連分野では硬
化剤として酸無水物を用いたエポキシ樹脂組成物が透明
性に優れ、又、波長900〜1000nmの近赤外領域
での透過率にも優れているのでフォトセンサー等に使用
されている。しかし、酸無水物を用いたエポキシ樹脂組
成物は温度100〜125℃、湿度85〜100%RH
という高温高湿条件下に置かれた場合、酸無水物とエポ
キシ基の反応により生じたエステル基が加水分解され白
濁して光透過率が著しく低下するという欠点を有してい
る。この問題点を改良するためシリコーンオイルを添加
して耐湿性を良くする方法(特開昭61−12772
3)、カップリング剤を添加し耐湿性を良くする方法
(特開昭61−127724)等が提案されているが、
未だ満足するものは得られていない。従って耐湿性が必
要とされるエリアセンサー等の用途にはガラスを用いて
機密封止した光半導体が用いられているが組立コストが
高いという欠点があり、生産性に優れた光半導体エポキ
シ樹脂系成形材料が望まれている。更に近年回路基板に
電子部品を搭載するに際し、基板全体を半田浴に浸漬し
て半田付けする方法が採られている。この場合半導体自
身も230℃以上の高温に曝されるためチップと封止樹
脂の界面で剥離したり、封止樹脂自体にクラックが入っ
たりする問題が発生する。この様な現象に対する樹脂特
性を耐半田リフロー性というが光半導体用封止材の場合
熱衝撃に対して弱く耐半田リフロー性を満足するものは
まだ得られていない。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】高温高湿下でも光透過
率の低下が小さく、作業性にも優れ又耐半田リフロー性
にも優れる光半導体用エポキシ樹脂組成物が求められて
いる。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明者らは前記した課
題を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、上記問題点を満
足させる光半導体用エポキシ樹脂組成物が得られること
を見出したものである。即ち本発明は(1)(A)エポ
キシ樹脂、(B)下記式1
【0005】
【化3】
【0006】(式中XはC1〜C4の低級アルキリデン
基、シクロヘキシリデン基、O、S又はSO2を表し、
R1、R2、R3、R4はC1〜4の低級アルキル基、
3〜C4の低級アルケニル基又はハロゲン基であり、R
1、R2、R3、R4は同一でも異なっていても良く、
mは0〜4の整数であり、nは平均値で1以上の数であ
る。)で示されるビスフェノール類末端フェノール樹
脂、(C)促進剤を含有する光半導体用エポキシ樹脂組
成物、(2)(1)のビスフェノール類末端フェノール
樹脂が式2
【0007】
【化4】
【0008】(式中pは1以上の整数である)で示され
るビスフェノール類末端フェノール樹脂である請求項1
の光半導体用エポキシ樹脂組成物、(3)(1)または
(2)に記載のエポキシ樹脂組成物で封止された光半導
体、に関する。
【0009】
【発明の実施の形態】本発明で用いられるエポキシ樹脂
としては特に制限はなく、例えばポリフェノール化合物
のグリシジルエーテル化物である多官能エポキシ樹脂、
各種ノボラック樹脂のグリシジルエーテル化物である多
官能エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、複素環式エポ
キシ樹脂、グリシジルエステル系エポキシ樹脂、グリシ
ジルアミン系エポキシ樹脂、ハロゲン化フェノール類を
グリシジル化したエポキシ樹脂等があげられる。
【0010】ポリフェノール類化合物のグリシジルエー
テル化物である多官能エポキシ樹脂としては、例えばビ
スフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノール
S、4,4’−ビフェニルフェノール、テトラメチルビ
スフェノールA、ジメチルビスフェノールA、テトラメ
チルビスフェノールF、ジメチルビスフェノールF、テ
トラメチルビスフェノールS、ジメチルビスフェノール
S、テトラメチル−4,4’−ビフェノール、ジメチル
−4,4’−ビフェニルフェノール、1−(4−ヒドロ
キシフェニル)−2−[4−(1,1−ビス−(4−ヒ
ドロキシフェニル)エチル)フェニル]プロパン、2,
2’−メチレン−ビス(4−メチル−6−tert−ブ
チルフェノール)、4,4’−ブチリデン−ビス(3−
メチル−6−tert−ブチルフェノール)、トリスヒ
ドロキシフェニルメタン、レゾルシノール、ハイドロキ
ノン、ピロガロール、ジイソプロピリデン骨格を有する
フェノール類、1,1−ジ−4−ヒドロキシフェニルフ
ルオレン等のフルオレン骨格を有するフェノール類、フ
ェノール化ポリブタジエン等のポリフェノール化合物の
グリシジルエーテル化物である多官能エポキシ樹脂等が
挙げられる。
【0011】各種ノボラック樹脂のグリシジルエーテル
化物である多官能エポキシ樹脂としては、例えばフェノ
ール、クレゾール類、エチルフェノール類、ブチルフェ
ノール類、オクチルフェノール類、ビスフェノールA、
ビスフェノールF、ビスフェノールS、ナフトール類等
の各種フェノールを原料とするノボラック樹脂、キシリ
レン骨格含有フェノールノボラック樹脂、ジシクロペン
タジエン骨格含有フェノールノボラック樹脂、ビフェニ
ル骨格含有フェノールノボラック樹脂、フルオレン骨格
含有フェノールノボラック樹脂等の各種ノボラック樹脂
のグリシジルエーテル化物が挙げられる。
【0012】脂環式エポキシ樹脂としては例えば3,4
−エポキシシクロヘキシルメチル3’,4’−シクロヘ
キシルカルボキシレート等、及びシクロヘキサン等の脂
肪族骨格を有する脂環式エポキシ樹脂があげられ、脂肪
族系エポキシ樹脂としては例えば1,4−ブタンジオー
ル、1,6−ヘキサンジオール、ポリエチレングリコー
ル、ポリプロピレングリコール、ペンタエリスリトー
ル、キシリレングリコール誘導体等の多価アルコールの
グリシジルエーテル類があげられ、複素環式エポキシ樹
脂としては例えばイソシアヌル環、ヒダントイン環等の
複素環を有する複素環式エポキシ樹脂があげられ、グリ
シジルエステル系エポキシ樹脂としては例えばヘキサヒ
ドロフタル酸ジグリシジルエステル、テトラヒドロフタ
ル酸ジグリシジルエステル等のカルボン酸類からなるエ
ポキシ樹脂があげられる。
【0013】グリシジルアミン系エポキシ樹脂としては
例えばアニリン、トルイジン、p−フェニレンジアミ
ン、m−フェニレンジアミン、ジアミノジフェニルメタ
ン誘導体、ジアミノメチルベンゼン誘導体等のアミン類
をグリシジル化したエポキシ樹脂があげられ、ハロゲン
化フェノール類をグリシジル化したエポキシ樹脂として
は例えばブロム化ビスフェノールA、ブロム化ビスフェ
ノールF、ブロム化ビスフェノールS、ブロム化フェノ
ールノボラック、ブロム化クレゾールノボラック、クロ
ル化ビスフェノールS、クロル化ビスフェノールA等の
ハロゲン化フェノール類をグリシジル化したエポキシ樹
脂が挙げられる。
【0014】これらエポキシ樹脂の使用にあたっては特
に制限はなく、使用用途により適宜選択されるが通常ビ
スフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノール
S、4,4’−ビフェニルフェノール、テトラメチル−
4,4’−ビフェノール、1−(4−ヒドロキシフェニ
ル)−2−[4−(1,1−ビス−(4−ヒドロキシフ
ェニル)エチル)フェニル]プロパン、トリスヒドロキ
シフェニルメタン、レゾルシノール、2,6−ジter
t−ブチルハイドロキノン、ジイソプロピリデン骨格を
有するフェノール類、1,1−ジ−4−ヒドロキシフェ
ニルフルオレン等のフルオレン骨格を有するフェノール
類のグリシジル化物である多官能エポキシ樹脂、フェノ
ール、クレゾール類、ビスフェノールA、ビスフェノー
ルS、ナフトール類等の各種フェノールを原料とするノ
ボラック樹脂、ジシクロペンタジエン骨格含有フェノー
ルノボラック樹脂、ビフェニル骨格含有フェノールノボ
ラック樹脂、フルオレン骨格含有フェノールノボラック
樹脂等の各種ノボラック樹脂のグリシジルエーテル化
物、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル3’,4’
−シクロヘキシルカルボキシレート等のシクロヘキサン
骨格を有する脂環式エポキシ樹脂、1,6−ヘキサンジ
オール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリ
コールのグリシジルエーテル類、トリグリシジルイソシ
アヌレート、ヘキサヒドロフタル酸ジグリシジルエステ
ルが用いられる。 更に、これらエポキシ樹脂は耐熱性
付与等必要に応じ1種又は2種以上の混合物として用い
ることが出来る。
【0015】本発明で用いられるビスフェノール類末端
フェノール樹脂は、硬化剤として作用するもので、上記
式1で示される。上記式1において、C1〜C4の低級ア
ルキリデンとしては、例えばメチレン、エチリデン、プ
ロピリデン、イソプロピリデン、ブチリデン、イソブチ
リデン等があげられ、C1〜4の低級アルキル基として
は、例えばメチル基、エチル基、n−プロピル基、イソ
プロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、t−ブチル
基等があげられ、C3〜C4の低級アルケニル基として
は、例えばプロペニル基、ブテニル基等があげられ、ハ
ロゲン原子としては、例えばフッ素原子、塩素原子、臭
素原子、ヨウ素原子等があげられる。nは、平均値で1
以上、好ましくは1〜13程度である。
【0016】上記式1で示される樹脂としては、例えば
上記式2で示される樹脂である東都化成製のTH−40
00(式1において、Xがイソプロピリデン、mが0、
nが平均値で約9.5である樹脂)があげられる。
【0017】このようなビスフェノール類末端多価フェ
ノール樹脂のエポキシ樹脂に対する使用割合は、エポキ
シ樹脂のエポキシ当量1に対し0.4〜1.5当量の範
囲であり、好ましくは0.5〜1.3当量の範囲であ
り、更に好ましくは0.6〜1.2当量の範囲であり、
特に好ましくは0.7〜1.1当量の範囲である。この
ビスフェノール類末端多価フェノール樹脂は、ビスフェ
ノール類を原料として得られる式3
【0018】
【化5】
【0019】(式中X、R1、R2、R3、R4、mは
前記と同じであり、qは0又は1以上の整数である。)
で示されるエポキシ樹脂をトリフェニルホスフィン等の
触媒の存在下ビスフェノール類と100〜200℃で加
熱することにより得られる。
【0020】この反応に用いられるビスフェノール類と
しては、例えばビスフェノールA、3,3’−ジメチル
ビスフェノールA、3,3’,5,5’−テトラメチル
ビスフェノールA、3,3’−ジアリルビスフェノール
A、3,3’,5,5’−テトラプロピルビスフェノー
ルA、2,2’−ジメチルビスフェノールA、3,3’
−ジブロモビスフェノールA、3,3’,5,5’−テ
トラブロモビスフェノールA、ビスフェノールF、3,
3’−ジメチルビスフェノールF、3,3’,5,5’
−テトラメチルビスフェノールF、3,3’−ジアリル
ビスフェノールF、3,3’,5,5’−テトラプロピ
ルビスフェノールF、2,2’−ジメチルビスフェノー
ルF、3,3’−ジブロモビスフェノールF、3,
3’,5,5’−テトラブロモビスフェノールF、プロ
ピリデンジフェノール、ブチリデンジフェノール、イソ
ブチリデンジフェノール、シクロヘキシリデンジフェノ
ール、4,4’−ジヒドロキシビフェニルエーテル、
4,4’−ジヒドロキシ3,3’−ジメチルビフェニル
エーテル、4,4’−ジヒドロキシ3,3’,5,5’
−テトラメチルビフェニルエーテル、4,4’−ジヒド
ロキシ3,3’−ジアリルビフェニルエーテル、4,
4’−ジヒドロキシ3,3’,5,5’−テトラプロピ
ルビフェニルエーテル、4,4’−ジヒドロキシ2,
2’−ジメチルビフェニルエーテル、4,4’−ジヒド
ロキシ3,3’−ジブロモビフェニルエーテル、4,
4’−ジヒドロキシ3,3’,5,5’−テトラブロモ
ビフェニルエーテル、4,4’−ジヒドロキシジフェニ
ルスルフォン、4,4’−ジヒドロキシ3,3’−ジメ
チルジフェニルスルフォン、4,4’−ジヒドロキシ
3,3’,5,5’−テトラメチルジフェニルスルフォ
ン、4,4’−ジヒドロキシ3,3’−ジアリルジフェ
ニルスルフォン、4,4’−ジヒドロキシ3,3’,
5,5’−テトラプロピルジフェニルスルフォン、4,
4’−ジヒドロキシ2,2’−ジメチルジフェニルスル
フォン、4,4’−ジヒドロキシ3,3’−ジブロモジ
フェニルスルフォン、4,4’−ジヒドロキシ3,
3’,5,5’−テトラブロモジフェニルスルフォン、
4,4’−ジヒドロキシジフェニルスルフォン、4,
4’−ジヒドロキシ3,3’−ジメチルジフェニルスル
フォン、4,4’−ジヒドロキシ3,3’,5,5’−
テトラメチルジフェニルスルフォン、4,4’−ジヒド
ロキシ3,3’−ジアリルジフェニルスルフォン、4,
4’−ジヒドロキシ3,3’,5,5’−テトラプロピ
ルジフェニルスルフォン、4,4’−ジヒドロキシ2,
2’−ジメチルジフェニルスルフォン、4,4’−ジヒ
ドロキシ3,3’−ジブロモジフェニルスルフォン、
4,4’−ジヒドロキシ3,3’,5,5’−テトラブ
ロモジフェニルスルフォン、4,4’−ジヒドロキシビ
フェニル、4,4’−ジヒドロキシ3,3’−ジメチル
ビフェニル、4,4’−ジヒドロキシ3,3’,5,
5’−テトラメチルビフェニル、4,4’−ジヒドロキ
シ3,3’−ジアリルビフェニル、4,4’−ジヒドロ
キシ3,3’,5,5’−テトラプロピルビフェニル、
4,4’−ジヒドロキシ2,2’−ジメチルビフェニ
ル、4,4’−ジヒドロキシ3,3’−ジブロモビフェ
ニル、4,4’−ジヒドロキシ3,3’,5,5’−テ
トラブロモビフェニルが挙げられる。
【0021】好ましくはビスフェノールA、3,3’−
ジメチルビスフェノールA、3,3’,5,5’−テト
ラメチルビスフェノールA、3,3’−ジアリルビスフ
ェノールA、3,3’,5,5’−テトラブロモビスフ
ェノールA、ビスフェノールF、3,3’−ジメチルビ
スフェノールF、3,3’,5,5’−テトラメチルビ
スフェノールF、3,3’−ジアリルビスフェノール
F、3,3’,5,5’−テトラブロモビスフェノール
F、プロピリデンジフェノール、ブチリデンジフェノー
ル、シクロヘキシリデンジフェノール、4,4’−ジヒ
ドロキシビフェニルエーテル、4,4’−ジヒドロキシ
3,3’−ジメチルビフェニルエーテル、4,4’−ジ
ヒドロキシ3,3’,5,5’−テトラメチルビフェニ
ルエーテル、4,4’−ジヒドロキシ3,3’−ジアリ
ルビフェニルエーテル、4,4’−ジヒドロキシビフェ
ニルスルフォン、4,4’−ジヒドロキシ3,3’−ジ
メチルビフェニルスルフォン、4,4’−ジヒドロキシ
3,3’,5,5’−テトラメチルビフェニルスルフォ
ン、4,4’−ジヒドロキシ3,3’−ジアリルビフェ
ニルスルフォン、4,4’−ジヒドロキシ2,2’−ジ
メチルビフェニルスルフォン、4,4’−ジヒドロキシ
3,3’−ジブロモビフェニルスルフォン、4,4’−
ジヒドロキシ3,3’,5,5’−テトラブロモビフェ
ニルスルフォン、4,4’−ジヒドロキシビフェニル、
4,4’−ジヒドロキシ3,3’−ジメチルビフェニ
ル、4,4’−ジヒドロキシ3,3’,5,5’−テト
ラメチルビフェニル、4,4’−ジヒドロキシ3,3’
−ジアリルビフェニル、4,4’−ジヒドロキシ2,
2’−ジメチルビフェニル、4,4’−ジヒドロキシ
3,3’,5,5’−テトラブロモビフェニル等があげ
られる。
【0022】更に好ましくはビスフェノールA、3,
3’−ジアリルビスフェノールA、3,3’,5,5’
−テトラブロモビスフェノールA、ビスフェノールF、
3,3’−ジアリルビスフェノールF、シクロヘキシリ
デンジフェノール、4,4’−ジヒドロキシビフェニル
エーテル、4,4’−ジヒドロキシ3,3’−ジアリル
ビフェニルエーテル、4,4’−ジヒドロキシビフェニ
ルスルフォン、4,4’−ジヒドロキシ3,3’−ジア
リルビフェニルスルフォン、4,4’−ジヒドロキシビ
フェニル、4,4’−ジヒドロキシ3,3’,5,5’
−テトラメチルビフェニル、4,4’−ジヒドロキシ
3,3’−ジアリルビフェニルである。
【0023】本発明で使用する硬化剤には、硬化物性に
悪影響を及ぼさない範囲で、酸無水物系硬化剤、又はフ
ェノールノボラック樹脂を併用することが出来る。酸無
水物系硬化剤としては、例えばフタル酸無水物、トリメ
リット酸無水物、ピロメリット酸無水物、ベンゾフェノ
ンテトラカルボン酸無水物、エチレングリコール無水ト
リメリット酸無水物、ビフェニルテトラカルボン酸無水
物等の芳香族カルボン酸無水物、アゼライン酸、セバシ
ン酸、ドデカン二酸等の脂肪族カルボン酸の無水物、テ
トラヒドロフタル酸無水物、ヘキサヒドロフタル酸無水
物、ナジック酸無水物、ヘット酸無水物、ハイミック酸
無水物等の脂環式カルボン酸無水物が挙げられる。
【0024】フェノールノボラック樹脂としては、例え
ばフェノール、クレゾール類、ビスフェノールA、ビス
フェノールS、ビフェノール、ナフトール類等の各種フ
ェノールを原料とするノボラック樹脂、ジシクロペンタ
ジエン骨格含有フェノールノボラック樹脂、ビフェニル
骨格含有フェノールノボラック樹脂、三井化学ザイロッ
ク樹脂で代表されるフェニルアルキリデン骨格含有ノボ
ラック樹脂等の各種ノボラック樹脂が挙げられる。
【0025】本発明で用いられる促進剤としては、例え
ば2−メチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾー
ル、2−ウンデシルイミダゾール、2−ヘプタデシルイ
ミダゾール、2−フェニル−4−メチルイミダゾール、
1−ベンジル−2−フェニルイミダゾール、1−ベンジ
ル−2−メチルイミダゾール、、1−シアノエチル−2
−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−フェニ
ルイミダゾール、1−シアノエチル−2−ウンデシルイ
ミダゾール、2,4−ジアミノ−6(2’−メチルイミ
ダゾール(1’))エチル−s−トリアジン、2,4−
ジアミノ−6(2’−ウンデシルイミダゾール
(1’))エチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ
−6(2’−エチル,4−メチルイミダゾール
(1’))エチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ
−6(2’−メチルイミダゾール(1’))エチル−s
−トリアジン・イソシアヌル酸付加物、2-メチルイミ
ダゾールイソシアヌル酸の2:3付加物、2−フェニル
イミダゾールイソシアヌル酸付加物、2−フェニル−
3,5−ジヒドロキシメチルイミダゾール、2−フェニ
ル−4−ヒドロキシメチル−5−メチルイミダゾール、
1−シアノエチル−2−フェニル−3,5−ジシアノエ
トキシメチルイミダゾールの各種イミダゾール類、及
び、それらイミダゾール類とフタル酸、イソフタル酸、
テレフタル酸、トリメリット酸、ピロメリット酸、ナフ
タレンジカルボン酸、マレイン酸、蓚酸等の多価カルボ
ン酸との塩類,ジシアンジアミド等のアミド類、1,8
−ジアザ−ビシクロ(5.4.0)ウンデセン−7等の
ジアザ化合物及びそれらのフェノール類、前記多価カル
ボン酸類、又はフォスフィン酸類との塩類、テトラブチ
ルアンモニウムブロマイド、セチルトリメチルアンモニ
ウムブロマイド、トリオクチルメチルアンモニウムブロ
マイド等のアンモニウム塩、トリフェニルホスフィン、
テトラフェニルホスホニウムテトラフェニルボレート等
のホスフィン類、2,4,6−トリスアミノメチルフェ
ノール等のフェノール類、アミンアダクト、及びこれら
硬化剤をマイクロカプセルにしたマイクロカプセル型硬
化促進剤等が挙げられる。これら硬化促進剤のどれを用
いるかは、例えば透明性、硬化速度、作業条件といった
得られる透明樹脂組成物に要求される特性によって適宜
選択される。
【0026】本発明のエポキシ樹脂組成物には、目的に
応じ着色剤、カップリング剤、レベリング剤、滑剤等を
適宜添加することが出来る。着色剤としては特に制限は
なく、フタロシアニン、アゾ、ジスアゾ、キナクリド
ン、アントラキノン、フラバントロン、ペリノン、ペリ
レン、ジオキサジン、縮合アゾ、アゾメチン系の各種有
機系色素、酸化チタン、硫酸鉛、クロムエロー、ジンク
エロー、クロムバーミリオン、弁殻、コバルト紫、紺
青、群青、カーボンブラック、クロムグリーン、酸化ク
ロム、コバルトグリーン等の無機顔料が挙げられる。
【0027】レベリング剤としてはエチルアクリレー
ト、ブチルアクリレート、2−エチルヘキシルアクリレ
ート等のアクリレート類からなる分子量4000〜12
000のオリゴマー類、エポキシ化大豆脂肪酸、エポキ
シ化アビエチルアルコール、水添ひまし油、チタン系カ
ップリング剤等が挙げられる。滑剤としてはパラフィン
ワックス、マイクロワックス、ポリエチレンワックス等
の炭化水素系滑剤、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミ
チン酸、ステアリン酸、アラキジン酸、ベヘン酸等の高
級脂肪酸系滑剤、ステアリルアミド、パルミチルアミ
ド、オレイルアミド、メチレンビスステアロアミド、エ
チレンビスステアロアミド等の高級脂肪酸アミド系滑
剤、硬化ひまし油、ブチルステアレート、エチレングリ
コールモノステアレート、ペンタエリスリトール(モノ
−,ジ−,トリ−,又はテトラ−)ステアレート等の高
級脂肪酸エステル系滑剤、セチルアルコール、ステアリ
ルアルコール、ポリエチレングリコール、ポリグリセロ
ール等のアルコール系滑剤、ラウリン酸、ミリスチン
酸、パルミチン酸、ステアリン酸、アラキジン酸、ベヘ
ン酸、リシノール酸、ナフテン酸等のマグネシウム、カ
ルシウム、カドニウム、バリウム、亜鉛、鉛等の金属塩
である金属石鹸類、カルナウバロウ、カンデリラロウ、
密ロウ、モンタンロウ等の天然ワックス類が挙げられ
る。
【0028】カップリング剤としては、3−グリシドキ
シプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロ
ピルメチルジメトキシシラン、3−グリシドキシプロピ
ルメチルジメトキシシラン、2−(3,4−エポキシシ
クロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、N−(2−
アミノエチル)3−アミノプロピルメチルジメトキシシ
ラン、N−(2−アミノエチル)3−アミノプロピルメ
チルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリエト
キシシラン、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラ
ン、ビニルトリメトキシシラン、N−(2−(ビニルベ
ンジルアミノ)エチル)3−アミノプロピルトリメトキ
シシラン塩酸塩、3−メタクリロキシプロピルトリメト
キシシラン、3−クロロプロピルメチルジメトキシシラ
ン、3−クロロプロピルトリメトキシシラン等のシラン
系カップリング剤剤、イソプロピル(N−エチルアミノ
エチルアミノ)チタネート、イソプロピルトリイソステ
アロイルチタネート、チタニュウムジ(ジオクチルピロ
フォスフェート)オキシアセテート、テトライソプロピ
ルジ(ジオクチルフォスファイト)チタネート、ネオアル
コキシトリ(p−N−(β−アミノエチル)アミノフェニ
ル)チタネート等のチタン系カップリング剤、Zr−ア
セチルアセトネート、Zr−メタクリレート、Zr−プ
ロピオネート、ネオアルコキシジルコネート、ネオアル
コキシトリスネオデカノイルジルコネート、ネオアルコ
キシトリス(ドデカノイル)ベンゼンスルフォニルジルコ
ネート、ネオアルコキシトリス(エチレンジアミノエチ
ル)ジルコネート、ネオアルコキシトリス(m−アミノフ
ェニル)ジルコネート、アンモニウムジルコニウムカー
ボネート、Al−アセチルアセトネート、Al−メタク
リレート、Al−プロピオネート等のジルコニウム、或
いはアルミニウム系カップリング剤が挙げられるが好ま
しくはシリコン系カップリング剤である。カップリング
剤を使用する事により耐湿信頼性が優れ、吸湿後の接着
強度の低下が少ない硬化物が得られる。
【0029】本発明のエポキシ樹脂組成物は、例えば上
記のエポキシ樹脂、フェノール類末端フェノール樹脂、
及び促進剤、さらに必要に応じ、カップリング剤、着色
剤、レベリング剤等の配合成分を、配合成分が固形の場
合はヘンシェルミキサー、ナウターミキサー等の配合機
を用いて混合後、ニーダー、エクストルーダー、加熱ロ
ールを用いて80〜120℃で混練し冷却後、粉砕し
て、粉末状として、得られる。一方、配合成分が液状の
場合はプラネタリーミキサー等を用いて均一に分散して
本発明のエポキシ樹脂組成物とする。こうして得られた
本発明のエポキシ樹脂組成物が固形の場合は、封止前の
光半導体素子を金型にセットし低圧トランスファー成型
機等の成型機で成形後、又液状の場合は封止前の光半導
体素子をセットした型に注型、或いはディスペンス後、
100〜200℃に加熱して硬化させ、本発明の光半導
体素子とする。
【0030】光半導体素子としては、例えば赤外線受光
素子等の受光素子、発光素子、受発光素子、フォトカプ
ラー、フォトダイオード、フォトトランジスタ等があげ
られる。
【0031】
【実施例】次に実施例によって、本発明を更に具体的に
説明するが、本発明がこれらの実施例のみの限定される
ものではない。実施例、比較例において「部」は重量部
を意味する。
【0032】実施例1−4、比較例 下記表1の組成に従って、各成分をミキサーで混合した
後2軸ニーダー(栗本鉄工製S1型ニーダー)を用いて
混練する。得られた混練物を粉砕し均一に混合して、エ
ポキシ樹脂組成物を得た。得られたエポキシ樹脂組成物
をタブレットマシーンでタブレット化し、耐湿熱性試験
及び耐半田リフロー性試験を行った。
【0033】耐湿熱性試験及び耐半田リフロー性試験は
次の方法で行った。 (1)耐湿熱性試験 タブレット化したエポキシ樹脂組成物を使用して、トラ
ンスファー成型機により縦40mm、横20mm、厚さ
1mmの試験片を作成した。得られた試験片を121
℃、202kPaの条件下24時間処理した。未処理及
び処理した時の950nmにおける波長での光透過率を
測定した。処理前後での値の差が小さい程良い。 (2)耐半田リフロー性試験 タブレット化したエポキシ樹脂組成物を使用して、4,
2アロイフレーム上に2*2*1mmのシリコンチップ
を搭載した模擬素子を用いて、トランスファー成形又は
注型することにより模擬素子を封止する。封止した素子
を260℃の半田浴に10秒間2回浸漬した後の状態を
超音波顕微鏡を用いてチップと樹脂界面の剥離、クラッ
クの状態を観察した。変化しないものを○、剥離、又は
クラックの生じたものを×とする。
【0034】 表1 実施例 比較例 1 2 3 4 1 エポキシ樹脂1 100 100 エポキシ樹脂2 100 エポキシ樹脂3 100 エポキシ樹脂4 100 硬化剤1 40.6 189.8 171.6 220 硬化剤2 16.9 TPP 4 4 2 3 2 (光透過性) 耐湿熱性試験前 85.6 88.1 86.1 85.7 87.3 耐湿熱性試験後 65.4 68.6 74.5 72.1 *) 耐半田リフロー性 ○ ○ ○ ○ × *)試験片が白化し測定が不可能であった。
【0035】本発明で用いた成分は下記のものである。 エポキシ樹脂1:ビスフェノールA型エポキシ樹脂(三
井化学製エポミックR−304) エポキシ樹脂2:多価フェノール型エポキシ樹脂(日本
化薬製NC−6000) エポキシ樹脂3:クレゾールノボラック型エポキシ樹脂
(日本化薬製EOCN104S) エポキシ樹脂4:脂環式エポキシ樹脂(ダイセル製EH
PE3150) 硬化剤1:ビスフェノールA末端フェノール樹脂(東都
化成製TH−4000) 硬化剤2:ヘキサヒドロ無水フタル酸 促進剤1:トリフェニルフォスフィン
【0036】
【発明の効果】表1の耐湿熱性試験結果から明らかなよ
うに、本発明により、耐湿熱性に優れ、且つ耐半田リフ
ロー性にも優れる光半導体封止用エポキシ樹脂組成物が
得られた。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H01L 33/00 H01L 31/02 B Fターム(参考) 4J002 CC03X CC04X CC05X CC06X CC07X CD00W CD02W CD03W CD05W CD06W CD07W CD12W CD13W CD14W EN086 EN136 EP026 EU116 EU136 EU186 EU196 EW016 EW176 FD090 FD14X FD156 FD170 GJ02 GP00 GQ05 4J036 AA01 AB00 AB01 AB02 AB07 AB10 AB15 AB17 AC00 AC07 AD01 AD08 AD09 AD21 AF01 AF06 AG00 AG07 AG13 AH00 AH01 AH04 AH07 AJ08 AJ09 DA04 DB05 DC02 DC21 DC41 DC45 DC46 DD07 DD09 FB08 JA07 4M109 AA01 BA01 CA05 CA21 EA04 EB02 EB03 EB04 EB06 EB08 EB09 EC01 EC03 EC05 EC09 EC11 5F041 AA31 AA34 DA44 5F088 BA11 JA06

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】(A)エポキシ樹脂、(B)下記式1 【化1】 (式中XはC1〜C4の低級アルキリデン基、シクロヘキ
    シリデン基、O、S又はSO2を表し、R1、R2、R
    3、R4はC1〜4の低級アルキル基、C3〜C4の低級
    アルケニル基又はハロゲン基であり、R1、R2、R
    3、R4は同一でも異なっていても良く、mは0〜4の
    整数であり、nは平均値で1以上の数である。)で示さ
    れるビスフェノール類末端フェノール樹脂、(C)促進
    剤を含有する光半導体用エポキシ樹脂組成物。
  2. 【請求項2】ビスフェノール類末端フェノール樹脂が式
    2 【化2】 (式中pは1以上の整数である)で示されるビスフェノ
    ール類末端フェノール樹脂である請求項1の光半導体用
    エポキシ樹脂組成物。
  3. 【請求項3】請求項1または2に記載のエポキシ樹脂組
    成物で封止された光半導体。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2003096310A (ja) * 2001-09-26 2003-04-03 Shigeru Koshibe 赤外光透明樹脂組成物
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JP2010018736A (ja) * 2008-07-11 2010-01-28 Nitto Denko Corp 半導体封止用エポキシ樹脂組成物およびその製法ならびにそれにより得られる半導体装置
WO2024024442A1 (ja) * 2022-07-25 2024-02-01 株式会社日本触媒 樹脂組成物

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