JP2000348605A - プラズマディスプレイパネルの電極基板製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ＰＤＰの電極基板の製造技術において、精度
の高い線状電極を能率的に作製でき、設計変更にも容易
に対応できるようにする。 【解決手段】 透明基板１０の表面に多数の透明な線状
電極２０が並設されたプラズマディスプレイパネルの電
極基板を製造する方法であって、線状電極２０になる透
明導電膜を表面に有する透明基板１０にレーザ光Ｌを照
射するとともに、レーザ光Ｌの照射経路に配置された遮
蔽板６０に備える開口部６２で、透明基板１０に照射さ
れるレーザ光Ｌの断面形状を制御し、レーザ光Ｌの照射
位置と透明基板１０とを相対的に移動させて、レーザ光
Ｌの断面形状に対応する部分の透明導電膜を順次消失さ
せ、透明導電膜が残された部分として線状電極２０を形
成する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、プラズマディスプ
レイの電極基板製造方法に関し、微小なセル空間で発生
させたプラズマを利用して画像を表示させるプラズマデ
ィスプレイに用いられる電極基板を製造する技術を対象
にしている。

【０００２】

【従来の技術】プラズマディスプレイ（ＰＤＰと略称す
る）は、ブラウン管式の画像表示装置に比べて、はるか
に薄型に製造でき、画像表示面が平坦であることなどか
ら、いわゆる壁掛け型の大型画像表示装置などとして有
用であるとされている。

【０００３】ＰＤＰの基本的な構造を図１に示す。基板
１００の上に、多数の線状をなすデータ電極１０１が間
隔をあけて並設されている。データ電極１０１は誘電体
層１０２で覆われ、誘電体層１０２の上には、等間隔で
配置された隔壁１０３で仕切られた空間（セル）の内壁
に蛍光体層１０４が塗工されている。蛍光体層１０４と
してＲＧＢの３色を各セル毎に順番に配置しておけば、
カラー画像が表示できる。ここまでが、背面基板として
製造される。次に、前面基板として、ガラス等からなる
透明基板１１０の下面に、前記背面基板側のデータ電極
１０１と直交する方向に延び、ＩＴＯなどの透明導電材
料からなる線状電極１１１が多数間隔をあけて平行に配
置されている。線状電極１１１は、Ｍｇ０層１１２およ
び誘電体層１１３で覆われている。このような構造の前
面基板と背面基板とを接合一体化させてＰＤＰが構成さ
れる。

【０００４】背面基板のデータ電極１０１と前面基板の
線状電極１１１との交差位置毎にセル空間でプラズマを
発生させて蛍光体層１０４を発光させる。発光は、透明
な前面基板を通過して透明基板１１０の外側から観察さ
れる。上記交点の集合で画像が表示される。

【０００５】このようなＰＤＰのうち、前面基板の線状
電極１１１を作製する方法としては、透明基板１１０の
表面全体に透明導電膜を形成したあと、いわゆるフォト
リソグラフ技術を適用して、不要部分の透明導電膜を除
去することで、線状電極１１１を形成している。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】従来における前記ＰＤ
Ｐにおける線状電極の形成方法では、透明導電膜の成
膜、レジスト塗布、露光、現像、エッチングおよびレジ
スト除去など多くの工程が必要であり、加工設備が大掛
かりになり作業時間も長くかかるという問題がある。

【０００７】特に、前記した大型画面のＴＶ装置の場合
には、縦横数１０cmもの大きな面積に対して、前記フォ
トリソグラフの各工程を順番に実施したり、各工程間で
基板を搬送したりしなければならないため、製造設備が
大型化してしまう。

【０００８】また、線状電極の配置パターンを設計変更
するときには、レジスト印刷用のマスク版を新たに作製
し直す必要があるため、迅速な設計変更には対応し難
い。

【０００９】本発明の課題は、ＰＤＰの電極基板の製造
技術において、精度の高い線状電極を能率的に作製で
き、設計変更にも容易に対応できるようにすることであ
る。

【００１０】

【課題を解決するための手段】本発明にかかるプラズマ
ディスプレイパネルの電極基板製造方法は、透明基板の
表面に多数の透明な線状電極が並設されたプラズマディ
スプレイパネルの電極基板を製造する方法である。線状
電極になる透明導電膜を表面に有する透明基板にレーザ
光を照射するとともに、レーザ光の照射経路に配置され
た遮蔽板に備える開口部で、透明基板に照射されるレー
ザ光の断面形状を制御し、レーザ光の照射位置と透明基
板とを相対的に移動させて、レーザ光の断面形状に対応
する部分の透明導電膜を順次消失させ、透明導電膜が残
された部分として線状電極を形成する。 〔プラズマディスプレイ〕ＰＤＰ（プラズマディスプレ
イ）の基本的な構造は、通常のＰＤＰと同様で良い。基
板の材料、基板の上に作製する各種機能膜、電極の材料
および配置構造、蛍光体層や放電セルの構造などは、目
的とする機能や要求性能に合わせて適宜に設定すること
ができる。

【００１１】ＰＤＰには少なくとも、透明基板と、透明
基板の表面に配置される多数の透明な線状電極とを備え
ている。 〔透明基板および線状電極〕透明基板は、ガラスや合成
樹脂などの透明材料からなり、線状電極は、ＩＴＯやＳ
ｎＯ₂ などの透明でかつ導電性の材料が用いられる。

【００１２】透明基板の表面に、線状電極になる透明導
電膜を形成するには、通常の成膜技術が適用できる。透
明導電材料のペーストを塗工したり、各種の厚膜および
薄膜形成技術を適用したりすることができる。

【００１３】透明導電膜は、透明基板の全面に形成して
おいてもよいし、線状電極等の作製に必要になる概略領
域のみに形成しておくこともできる。

【００１４】透明導電膜を、位置決めマークの形成に利
用することができる。位置決めマークは、アライメント
マークとも呼ばれ、透明基板の表面に各種の加工処理を
行う際の基準となる位置や姿勢を決定する役目がある。 〔レーザ光〕透明導電膜にレーザ光を照射し、レーザ光
のエネルギーで透明導電膜を消失させることで、レーザ
光の照射パターンに対応する形状で透明導電膜を除去す
ることができる。

【００１５】レーザ光としては、透明導電膜を確実かつ
正確な形状で除去できるものであれば良く、例えば、Ｙ
ＡＧレーザ、エキシマレーザ、窒素レーザなどが利用で
きる。

【００１６】レーザ光の照射位置と透明基板とを相対的
に移動させることで、レーザ光の断面形状に対応する部
分の透明導電膜が順次消失し、前記移動パターンにした
がって、所望の形状パターンで透明導電膜を除去するこ
とができる。

【００１７】透明導電膜のうち、線状電極などとして残
しておく部分を除いて、不要な部分を除去してしまう。
線状電極を形成する場合、線状電極の外形よりも外側部
分および線状電極同士の間に必要な線状の隙間部分に存
在する透明導電膜を除去することになる。

【００１８】レーザ光の照射位置と透明基板との相対的
移動は、レーザ光の照射位置と透明基板との何れか一方
あるいは両方を移動させればよい。レーザ光の照射位置
を一定にしておき、透明基板をその面方向で前後左右に
移動させることができる。透明基板を固定しておき、レ
ーザ光の照射位置を移動させることもできる。透明基板
を前後左右の何れかに移動させ、レーザ光の照射位置を
透明基板の移動方向と直交する方向に移動させることも
できる。 〔遮蔽板および開口部〕透明導電膜に照射されるレーザ
光の断面形状、すなわち、レーザ光で消失させられる透
明導電膜の除去領域の形状を制御するために、開口部を
備えた遮蔽板を、レーザ光の発振器から透明導電膜の表
面に至る間の照射経路の途中に配置しておく。

【００１９】遮蔽板は、光が透過しない材料であれば、
金属、セラミックなどが適宜使用できる。

【００２０】開口部は、レーザ光の断面形状に合わせて
任意の形状に設定できる。線状電極の形成には、矩形状
などの比較的に単純な図形状の開口部が好ましい。矩形
状の一部が変形したものでも良い。矩形の隅部をアール
付けすなわち円弧状に形成しておくことができる。

【００２１】なお、開口部で断面形状が制御されたレー
ザ光を、レンズなどの光学系を用いて光学的に絞れば、
開口部の断面形状と相似形であって縮小された微小な断
面形状のレーザ光を透明導電膜に照射することができ
る。

【００２２】通常はレーザ光のビーム中心と開口部の中
心とは一致するが、レーザ光のビーム中心を開口部の中
心に対して偏った位置に配置することもできる。この場
合、レーザ光のビーム断面の外周縁の一部が、開口部の
内周縁よりも内側に配置される場合が生じる。

【００２３】開口部の形状は、線状電極および位置決め
マークの形状に合わせて適切な形状が選択される。線状
電極の形成時と位置決めマークの形成時とで、形状の異
なる開口部を用いることができる。この場合、一つの遮
蔽板に複数の開口部を設けておき、レーザ光の照射経路
に何れかの開口部が配置されるように遮蔽板を移動させ
ることができる。開口部の形状が異なる複数の遮蔽板を
取り替えて、レーザ光の照射経路に配置することもでき
る。さらに、形状が異なる開口部を備えた遮蔽板を前後
に重ねて、開口部の重なりによって形成される断面形状
でレーザ光の断面形状を制御することもできる。 〔レーザ加工〕本発明の電極基板製造方法は、ＰＤＰに
限らず、同様の課題を有する部材の製造にも適用でき
る。具体的には、液晶基板などの電子装置用基板に対す
るレーザ加工が挙げられる。この場合、ＰＤＰの透明導
電膜の代わりに、それぞれの目的に合わせた各種機能を
果たす被加工膜を用いることができ、線状電極の代わり
に各種形状の加工形状部を形成することができる。

【００２４】

【発明の実施の形態】〔電極基板の構造〕図２〜図４に
示す電極基板は、ＰＤＰの前面基板となるものであり、
透明基板１０の表面に、透明導電膜からなる線状電極２
０および位置決めマーク３２が形成された段階のものを
表している。

【００２５】透明基板１０は矩形状のガラス板である。
透明導電膜はＩＴＯ膜であり、透明導電膜からなる線状
電極２０は、透明基板１０の中央に、透明基板１０の長
辺方向と平行に細い線状に延びており、多数の線状電極
２０が間隔をあけて並設されている。

【００２６】図４に詳しく示すように、一対の電極２０
ａと２０ｂとが１組になって、この電極２０ａ、２０ｂ
の組が複数組並んで配置される。電極２０ａの幅Ｗ₁ と
電極２０ｂの幅Ｗ₂ は同じに設定されている。各電極間
の隙間２１のうち、各組の電極２０ａ、２０ｂ同士の隙
間２１の幅Ｇ₁ は、隣接する組同士の間隔の幅Ｇ₂ に比
べて狭くなっている。

【００２７】図２に示すように、位置決めマーク３２
は、外形が正方形状をなす枠部３０の中央に十字状の切
り抜きとして形成されている。透明基板１０の四隅近く
にそれぞれ配置された位置決めマーク３２を基準にし
て、それらの中央に配置される線状電極２０の位置と姿
勢を知ることができる。

【００２８】電極基板の具体的寸法例を示すと、４２イ
ンチサイズのＴＶ受像機となるＰＤＰに対して、５６０
×１０００mmの透明基板１０を用い、透明導電膜の厚み
は約１０００Åである。線状電極２０は、線幅Ｗ₁ とＷ
₂ が３００〜４００μｍ、線間Ｇ₁ が５０〜１００μ
ｍ、Ｇ₂ が２００〜４００μｍの範囲にある一定の値に
設定される。線状電極２０の長さは９２０mmに設定され
る。このような線状電極２０ａと２０ｂの組が４８０組
配置される。位置決めマーク３２として、透明基板１０
の四隅それぞれの近くに、２×２mmの正方形状枠部３０
に幅０．１〜０．５mmの十字形をなす位置決めマーク３
２を配置する。 〔加工前の透明基板〕図５は、上記のような構造の電極
基板を製造する前の段階の透明基板１０を示している。

【００２９】透明基板１０の中央には、線状電極２０の
形成領域２２よりも１回り大きな矩形領域２４に透明導
電膜が形成されている。透明基板１０の四隅には、位置
決めマーク３２を切り抜く前の正方形板状をなす枠部３
０が、やはり透明導電膜で形成されている。枠部３０も
最終の仕上がり寸法よりも１回り大きめに形成されてい
る。

【００３０】このような透明基板１０を作製するには、
ペースト状の透明導電材料を、前記矩形領域２４および
枠部３０に塗工すればよい。矩形領域２４および枠部の
外形精度はそれほど要求されないので、簡単なスクリー
ン印刷などの技術を適用すればよい。 〔電極加工装置〕図６に示す装置は、図５に示す透明基
板１０から図２に示す電極基板を製造する。

【００３１】透明基板１０は、ＸＹテーブル４０の作業
台４２に取り付けられる。ＸＹテーブル４０は、作業台
４２が、その下部の摺動台４４に対してＸ方向に移動自
在に設置されている。摺動台４４は、その下部の固定台
４６に対してＹ方向に移動自在に設置されている。その
結果、作業台４２はＸＹ両方向に自由に移動させること
ができる。

【００３２】ＸＹテーブル４０の上方には、レーザ発振
器５０が配置されている。具体的には、レーザ発振器５
０として、ＡＯＱsw（電気音響光学素子）を用いた短パ
ルス発振のＹＡＧレーザが使用される。レーザ発振器５
０からはレーザ光Ｌが照射される。レーザ光Ｌは、可変
コリメータ５２、全反射ミラー５４、結像レンズ５６な
どの光学系を経て、作業台４２の透明基板１０の表面に
照射される。

【００３３】レーザ光Ｌの照射経路の途中には、遮蔽板
６０が配置されている。遮蔽板６０には矩形状の開口部
６２が貫通形成されており、レーザ光Ｌが開口部６２を
通過することで、レーザ光Ｌの断面形状が制御される。

【００３４】具体的には、レーザ発振器５０および可変
コリメータ５２を通過した段階のレーザ光Ｌは、その断
面形状が円形あるいは楕円形をなしている。しかし、レ
ーザ光Ｌが開口部６２を通過したあとは、レーザ光Ｌの
断面形状は、開口部６２の形状と同じ矩形状になる。な
お、開口部６２で断面形状が制御されたレーザ光Ｌは、
結像レンズ５６で絞られた形で透明基板１０に照射され
るので、開口部６２の面積あるいは寸法が縮小された断
面形状のレーザ光Ｌが透明基板１０に照射される。

【００３５】図７〜図９は、開口部６２の機能をより具
体的に示している。レーザ光Ｌのレーザビーム断面Ｌs
が、遮蔽板６０の開口部６２で制御されて矩形断面にな
り、透明基板１０の表面において、レーザ光Ｌの照射に
よって消去された透明導電膜の領域２３が矩形状になっ
ている。 〔電極加工〕図５に示す透明基板１０の矩形領域２４
に、レーザ光Ｌを照射して、線状電極２０以外の不要部
分の透明導電膜を除去する。

【００３６】図６に示すように、レーザ光Ｌを、約１０
０mJ/mm²のエネルギ密度で連続的なパルス状態で、透明
基板１０の上に照射しながら、ＸＹテーブル４０を作動
させて、作業台４２および透明基板１０をＸ方向に移動
させる。

【００３７】図８、図９に示すように、遮蔽板６０の開
口部６２で制御されたレーザ光Ｌは、断面形状が矩形状
で透明導電膜に照射され、その部分の透明導電膜を消失
させて除去する。透明導電膜が除去された領域２３の外
側の部分が線状電極２０として残る。なお、レーザ光Ｌ
のエネルギーで溶融した透明導電膜が、除去領域２３の
外周縁に沿って盛り上がった形になって畝部２５が形成
される。

【００３８】図９で、透明基板１０が右方向（白矢印と
反対方向）に移動すると、レーザ光Ｌの照射範囲は相対
的に左方向（白矢印方向）に移動することになり、その
部分の透明導電膜を消失させて除去する。これを繰り返
すことで、前記図５の矩形領域２４内に、矩形状の除去
領域２３が連続的に並んだ線状の消失除去部分が形成さ
れていく。

【００３９】１本の線状除去部分が形成されれば、図６
において、ＸＹテーブル４０をＹ方向に一定量だけ作動
させて、前記作業を繰り返す。このようにして、矩形領
域２４内に、多数の線状除去部分が形成される。このと
き、ＸＹテーブル４０の移動速度と、レーザ光Ｌとして
断続的に照射されるパルスのパルス間隔とを同期させる
ことで、前記した矩形状の除去領域２３が連続的に隙間
なく、かつ、不必要な重複もない状態で並んだ状態で、
線状の除去部分が形成できる。

【００４０】図５において、矩形領域２４の内側の線状
電極形成領域２２に多数の線状除去部分が形成されたあ
と、矩形領域２４と形成領域２２との間の矩形の枠状部
分についても、透明導電膜を削除する。

【００４１】このようにして、透明導電膜が削除されず
に残った部分が、複数本の線状電極２０として形成され
る。

【００４２】なお、図４に示すように、線状電極２０ａ
と線状電極２０ｂとの間隔Ｇ₁ と、線状電極２０ｂと線
状電極２０ａとの間隔Ｇ₂ とが違っている場合、間隔Ｇ
₁ にレーザ光Ｌを照射するときに使用する遮蔽板６０の
開口部６２と、間隔Ｇ₂ にレーザ光Ｌを照射するときに
使用する遮蔽板６０の開口部６２とを、幅の異なるもの
に交換することで、異なった間隔Ｇ₁ 、Ｇ₂ にも容易に
対応して線状除去部分の形成を行うことができる。ま
た、開口部６２は同じものでも、幅の広いほうの間隔Ｇ
₂ を形成する際には、レーザ光Ｌの照射位置を幅方向に
変えて複数回の除去作業を行って所定の幅で透明導電膜
１０を除去することができる。

【００４３】位置決めマーク３２についても、枠部３０
の必要な領域にレーザ光Ｌを照射すれば、所望の形状を
有する位置決めマーク３２が形成できる。 〔隅部が円弧状の開口部〕図１０、図１１に示す実施形
態は、遮蔽板６０の開口部６２の構造が前記実施形態と
異なる。

【００４４】図１０に示すように、開口部６２が、概略
矩形状をなすとともに、矩形の四隅部６４が円弧状に丸
められている。

【００４５】このような開口部６２を有する遮蔽板６０
を用いて、前記同様に線状電極２０の形成を行うと、図
１１に示すように、レーザ光Ｌによる除去領域２３は、
隅部Ｌc に丸みのある矩形状になる。

【００４６】前記図７に示す矩形状の開口部６２を採用
した場合に形成される除去領域２３は、図９に示すよう
に、隅部２７に角のある矩形状である。この場合、直交
する２辺が鋭角で交わる隅部２７で、レーザ光Ｌの回折
が生じ易い。また、透明導電膜が溶融したときの熱応力
や歪みなどの影響も隅部２７に集中し易い。その結果、
隅部２７の周辺で、除去領域２３の輪郭が不明瞭にな
り、除去領域２３の内周縁に凹凸が生じてしまうことが
ある。このような輪郭が不明瞭な部分を有する除去領域
２３を並べて、線状電極２０の外形が形成されると、線
状電極２０の外形線も不明瞭になり、外形幅の精度が悪
くなる。線状電極２０の外形が不明瞭になれば、ＰＤＰ
を構成したときの電極性能や画像表示品質にも悪影響が
生じる。

【００４７】これに対し、図１１に示すように、除去領
域２３の隅部２７が丸みを有していれば、直交する２辺
が滑らかに移行するので、レーザ光Ｌの回折が起き難く
なる。熱応力や歪みも集中し難い。その結果、除去領域
２３の輪郭は明瞭になり、滑らかな外形を有するものと
なり、外形幅精度も向上する。

【００４８】このように明瞭で滑らかな外形を有する除
去領域２３を並べて、線状電極２０の外形を形成すれ
ば、線状電極２０の外形は明瞭で滑らかなものとなり、
外形幅精度も確保できることになり、ＰＤＰの品質性能
を向上させることができる。

【００４９】なお、この実施形態の場合、隣接して形成
される除去領域２３同士の境界部分では、除去領域２３
の隅部２７に相当する幅だけ重ねるようにしてレーザ光
Ｌを照射することで、線状電極２０の外形に隅部２７の
丸みが表れないようにすることができる。 〔開口部の位置変更〕図１２〜図１４に示す実施形態
は、遮蔽板６０の開口部６２と、レーザ光Ｌのビーム断
面Ｌs との位置をずらせる。

【００５０】図１２に示すように、遮蔽板６０に形成さ
れる矩形状の開口部６２の位置を、遮蔽板６０の中心に
対して側方に少しずらせている。レーザ光Ｌは、遮蔽板
６０の中心と同心位置に照射される。

【００５１】その結果、開口部６２の側方部分が、レー
ザ光Ｌのビーム断面Ｌs よりも少し外側に配置されるこ
とになる。ビーム断面Ｌs の外周縁の一部が、開口部６
２の内縁よりも少し内側に配置されている。

【００５２】図１３は、レーザ光Ｌを透明基板１０に照
射したときの状態を表している。レーザ光Ｌによる透明
導体膜の除去領域２３のうち、レーザ光Ｌのビーム断面
Ｌsが開口部６２の内縁よりも内側に配置されていた側
（図中、左側）では、レーザ光Ｌの外縁でエネルギーが
徐々に弱くなっている部分が透明導体膜に照射されるた
め、前記した畝部２５が形成されない。

【００５３】図１４に示す平面形状では、ビーム断面Ｌ
s の楕円形状をなす外縁にしたがって、除去領域２３の
一部が楕円形をなしている。この楕円形の部分には、畝
部２５も形成されていない。

【００５４】レーザ光Ｌを透明基板１０と相対移動させ
て、前記のような構造の除去領域２３を並べて形成して
いくと、先に形成された除去領域２３の隣に新たな除去
領域２３を形成したときに、新たに形成する除去領域２
３では、先に形成された除去領域２３の畝部２５を消失
除去させる必要がない。新たな除去領域２３は、先の除
去領域２３のうちの畝部２５がない楕円形の周縁を有す
る平坦な部分に重ねて形成されるからである。

【００５５】畝部２５は、透明導体膜の他の部分に比べ
て厚みが増えているから、レーザ光Ｌによる消失作用が
行われ難い。畝部２５を完全に消失させるには、それだ
け強い高エネルギーのレーザ光Ｌが必要になる。畝部２
５を完全に消失できるだけの過大なエネルギー強度を与
えることで、畝部２５以外の透明導体膜の加工に悪影響
を及ぼす可能性が生じる。

【００５６】したがって、上記実施形態では、畝部２５
を消失させる必要がない分だけ、レーザ光Ｌの消費エネ
ルギーを小さくできたり、作業能率を高めたり、仕上が
りを良好にできることになる。開口部６２とレーザ光Ｌ
のビーム断面Ｌs との位置が一致している通常の形態で
は約１００mJ/mm²のエネルギ密度が必要な場合でも、前
記実施形態を採用するだけで、エネルギ密度が８０mJ/m
m²でも十分な加工が行えるようになり、エネルギ効率の
大幅な向上が達成されることが確認された。

【００５７】上記実施形態で、遮蔽板６０に配置する開
口部６２を、前記図１０に示されたような、隅部に丸み
がある矩形状にしておくこともできる。この場合には、
図１４における除去領域２３の隅部２７が、円弧状の明
瞭で滑らかな形状に変わることになり、形成される線状
電極２０の外形が明瞭で精度の高いものとなる。

【００５８】

【発明の効果】本発明にかかるＰＤＰの電極基板製造方
法は、透明基板に形成された透明導体膜から、不要部分
をレーザ光の照射によって消失除去し、残された部分を
線状電極として形成するので、従来のフォトリソグラフ
法による電極作製に比べて、工程が少なく設備も簡単に
なる。レーザ光の照射位置と透明基板との相対移動を制
御するだけで、様々な寸法あるいは配置パターンの線状
電極が容易に作製でき、設計変更にも迅速に対応するこ
とができる。

【００５９】レーザ光の照射経路の途中に配置される遮
蔽板の開口部の配置構造を変更することで、精度が高く
性能に優れた線状電極を能率的に作製できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施形態を表すＰＤＰの模式的構造図

【図２】電極基板の平面図

【図３】電極基板の要部断面図

【図４】線状電極の配置構造図

【図５】線状電極加工前の電極基板の平面図

【図６】線状電極加工装置の全体構造斜視図

【図７】別の実施形態を表す遮蔽板の正面図

【図８】透明導電膜の加工部分を表す拡大断面図

【図９】同上の平面図

【図１０】別の実施形態を表す遮蔽板の正面図

【図１１】透明導電膜の加工部分を表す拡大断面図

【図１２】別の実施形態を表す遮蔽板の正面図

【図１３】透明導電膜の加工部分を表す拡大断面図

【図１４】同上の平面図

【符号の説明】

１０ 透明基板 ２０ 線状電極 ２３ 除去領域 ２５ 畝部 ２７ 隅部 ３０ 位置決めマーク用枠部 ３２ 位置決めマーク ４０ ＸＹテーブル ５０ レーザ発振器 ５２〜５６ 光学系 ６０ 遮蔽板 ６２ 開口部 Ｌ レーザ光 Ｌs レーザビーム断面

フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｈ０１Ｊ 11/02 Ｈ０１Ｊ 11/02 Ｂ (72)発明者 井上 勇 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 田中 博由 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 Ｆターム(参考） 5C027 AA01 5C040 FA01 GA02 GB02 GC06 JA40 MA22 MA23 MA24 MA25 MA26 5C094 AA05 AA14 AA43 AA48 AA51 BA31 CA19 EA04 EA05 EB02 FA01 FB02 GB10

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 透明基板の表面に多数の透明な線状電極
   が並設されたプラズマディスプレイパネルの電極基板を
   製造する方法であって、前記線状電極になる透明導電膜
   を表面に有する前記透明基板にレーザ光を照射するとと
   もに、 レーザ光の照射経路に配置された遮蔽板に備える開口部
   で、透明基板に照射されるレーザ光の断面形状を制御
   し、 レーザ光の照射位置と透明基板とを相対的に移動させ
   て、レーザ光の断面形状に対応する部分の透明導電膜を
   順次消失させ、 透明導電膜が残された部分として線状電極を形成するプ
   ラズマディスプレイパネルの電極基板製造方法。
2. 【請求項２】 前記透明導電膜を残す部分が、前記線状
   電極に加えて、線状電極が形成される領域の外側に配置
   される位置決めマーク用の枠部であり、 前記透明基板に線状電極を形成するとともに前記枠部に
   位置決めマークを形成する請求項１に記載のプラズマデ
   ィスプレイパネルの電極基板製造方法。
3. 【請求項３】 前記遮蔽板の開口部の形状を、前記透明
   基板に対するレーザ光の照射位置によって変える請求項
   １または２に記載のプラズマディスプレイパネルの電極
   基板製造方法。
4. 【請求項４】 前記遮蔽板の開口部の形状を、概略矩形
   状で隅部が弧状をなすものとする請求項１〜３の何れか
   に記載のプラズマディスプレイパネルの電極基板製造方
   法。
5. 【請求項５】 前記遮蔽板の開口部が、前記透明基板に
   対するレーザ光の相対的な移動方向で、前記レーザ光の
   ビーム断面の外周縁よりも外側に開口部の内周縁が配置
   される請求項１〜４の何れかに記載のプラズマディスプ
   レイパネルの電極基板製造方法。