JP2001052602A - プラズマディスプレイパネル、プラズマディスプレイパネルの製造方法及び装置、並びに透明電極基板の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 製造工程が少なくかつ簡素で小型の製造設備
を実現できる、プラズマディスプレイパネル製造方法及
び製造装置を提供する。 【解決手段】 前面ガラス基板１６上に透明電極用薄膜
４４を設け、レーザビーム６４を薄膜上に連続的に所定
の間隔をあけて照射する。すると、レーザビーム６４の
ライン状照射領域間に薄膜が残され、残された薄膜が透
明電極１８となる。レーザビーム６４の断面形状は、マ
スク６６により制限される。マスク６６はビーム走行軸
を軸として回転して様々な向きをとる。制御手段８４
が、レーザ６４の出射のタイミングと、マスク６６の向
きと、前面ガラス基板１６の移動とを制御するため、様
々な形状の透明電極１８を形成することができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、プラズマディスプ
レイパネルの製造方法、製造装置及びプラズマディスプ
レイパネル、特に、プラズマディスプレイパネルの前面
側に配置される前面パネルの背後に透明電極を形成する
方法、装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】一般的に、プラズマディスプレイパネル
は、前面パネルと、この前面パネルに所定の間隔をあけ
て配置された背面パネルとを有し、これら前面パネルと
背面パネルとの間に放電空間が形成されている。前面パ
ネルは、一般にガラスからなる前面基板の背面側に、複
数の平行に配置された透明電極と、各透明電極の背面側
に配置されたバス電極と、これら透明電極とバス電極を
被覆する誘電体層と、この誘電体層を被覆する保護膜を
備えている。他方、背面パネルは、一般にガラスからな
る背面基板の前面側に、透明電極の長手方向と直交する
方向に伸びる複数の平行なデータ電極と、隣接するデー
タ電極の間に配置された隔壁と、隣接する隔壁の間に配
置された蛍光体とを備えている。

【０００３】プラズマディスプレイパネルを構成する複
数の構成要素のうち、特に、透明電極に着目すると、こ
の透明電極の形成方法は、透明電極に使用する材料の違
いに応じて、異なっている。現在利用されている透明電
極の材料は２つあり、一つはＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔ
ｉｎ Ｏｘｉｄｅ）と呼ばれる、酸化インジウムＩｎ ₂
Ｏ₃に錫Ｓｎを３〜１０％ドーピングした材料であり、
もう一つはネサ膜と呼ばれる、酸化錫ＳｎＯ₂を主成分
とする材料である。

【０００４】透明電極にＩＴＯを用いる場合、透明電極
は次のようにして形成される。まず、ガラス基板上に、
ＩＴＯ膜をその全面に成膜する。次に、ＩＴＯ膜上にフ
ォトレジストを塗布し、目的の透明電極パターンと同一
のパターンを有する金属マスクを用いて、フォトレジス
トを露光する。その後、フォトレジストを現像し、必要
な部分のＩＴＯ膜をエッチングした後、残ったフォトレ
ジストを除去し、透明電極を形成する。

【０００５】透明電極にネサ膜を用いる場合、透明電極
は次のようにして形成される。まず、ガラス基板上に、
ネサ膜をその全面に成膜する。次に、ＩＴＯの場合と同
様に、エッチング法により透明電極を形成する。ただ
し、ネサ膜の場合、リフトオフ法により、透明電極を形
成することもある。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかし、上述した従来
の透明電極形成方法は、数多くの工程（透明電極用薄膜
の成膜、フォトレジストの塗布、フォトレジストの露
光、現像、透明電極用薄膜のエッチング、残留フォトレ
ジストの除去）を必要とするため、製造設備が大型化
し、工程リードタイムも長くなるという問題がある。

【０００７】特に、プラズマディスプレイパネルは、小
型テレビはもとより、大型テレビの大型画面に利用が期
待されており、その際に要求される縦横数は最小１０ｃ
ｍから最大２ｍとなる。したがって、最大２ｍにも及ぶ
大きな基板に対して上述した多くの工程を順番に実施し
たり、各工程間で基板を搬送したりしなければならず、
その製造設備は非常に大型となる。

【０００８】また、透明電極の配置パターンを設計変更
するには、フォトレジストを露光するマスクを新たに製
作し直す必要があり、迅速な設計変更に対応し難い。

【０００９】本発明においては、精度の高い線状の透明
電極を効率的に形成し、更に透明電極の配置パターンの
設計変更にも容易に対応できるように、様々な方向に伸
びる線状透明電極を形成する、プラズマディスプレィの
製造方法及び製造装置を提供することを目的とする。

【００１０】

【課題を解決するための手段】以上の問題点を解消する
ために、本発明に係るプラズマディスプレイパネルの製
造方法では、まず前面基板の背面上の所定領域に透明電
極用薄膜を形成する。次に、この透明電極用薄膜に、レ
ンズ等を介して、レーザ発振器から周期的に出射される
レーザビームを照射して透明電極を形成する。この透明
電極を形成する工程は、（ａ） レーザビームの横断面
よりも小さな開口部を有し、この開口部の中心を通る垂
直な軸の周りを回転可能な整形プレートに対し、その開
口部がレーザビームの横断面に含まれるように該レーザ
ビームを当て、開口部により制限された横断面形状を有
する整形後レーザビームを出射する工程と、（ｂ） 整
形後レーザビームのレーザスポットを透明電極薄膜上に
連続して照射し、第１の方向に伸びる第１の長溝を形成
する工程と、（ｃ） 工程（ｂ）の終了後、整形プレー
トを回転して整形後レーザビームのレーザスポットを、
第１の方向と所定角度をなす第２の方向に方向付け、次
に、レーザビームに対して透明電極用薄膜を第２の方向
に移動すると共に、整形後レーザビームのレーザスポッ
トを透明電極薄膜上に連続して照射し、第１の長溝に連
続して第２の長溝を形成する工程とを含む。

【００１１】本発明に係るプラズマディスプレイパネル
の製造装置では、前面基板の背面上の所定領域に形成さ
れた透明電極用薄膜から透明電極を形成する装置が、
（ａ） 周期的にレーザビームを出射するレーザ発振器
と、（ｂ） レーザ発振器から出射されるレーザビーム
の光路上に配置され、レーザビームの横断面よりも小さ
な開口部を有し、この開口部の中心を通る垂直な軸の周
りで回転可能な整形プレートと、（ｃ） レーザビーム
の光路に垂直な平面上で、このレーザビームに対して透
明電極用薄膜を担持した前面基板を任意の方向に移動す
るテーブルと、を備える。

【００１２】本発明に係るプラズマディスプレイパネル
では、前面基板と該前面基板との間に所定の間隔をあけ
て略平行に配置された背面基板とを有し、背面基板に対
向する前面基板の背面上に、第１の方向に伸びる複数の
第１電極を略平行に設け、前面基板に対向する背面基板
の前面上に、第1の方向と略直交する第２の方向に伸び
る複数の第２電極を平行に設け、また、隣接する第２の
電極の間に隔壁を設け、さらに、隣接する第２の電極の
間に蛍光体を設けたことを、まず前提としている。この
プラズマディスプレイパネルにおいて、第１の電極は、
まず、前面基板上に第１の電極用薄膜を設け、次に、周
期的に発振されるレーザビームを、薄膜上で、第１の方
向にそして少なくとも一部について第１の方向と交わる
方向に連続的に、かつ第２の方向に所定の間隔をあけて
照射することでレーザビームのライン状照射領域間に薄
膜を残して形成されており、レーザビームは、任意のレ
ーザビームが照射される薄膜上の照射領域と、続くレー
ザビームが照射される薄膜上の照射領域とが一部重合す
るように照射されることを特徴とする。

【００１３】本発明に係る透明電極基板製造方法は、ま
ず、基板の表面に透明電極形成のための薄膜を設け、周
期的に発振されるレーザビームを該薄膜に照射して所定
の方向に連続した薄膜消失部を生成するものである。こ
の透明電極基板製造方法において、（ａ） レーザビー
ムの横断面よりも小さな開口部を有し、この開口部の中
心を通る垂直な軸の周りを回転可能な整形プレートに対
し、その開口部がレーザビームの横断面に含まれるよう
に該レーザビームを当て、開口部により制限された横断
面形状を有する整形後レーザビームを出射する工程と、
（ｂ） 整形後レーザビームのレーザスポットを透明電
極薄膜上に連続して照射し、第１の方向に伸びる第１の
長溝を形成する工程と、（ｃ） 工程（ｂ）の終了後、
整形プレートを回転して整形後レーザビームのレーザス
ポットを、第１の方向と所定角度をなす第２の方向に方
向付け、次に、レーザビームに対して透明電極用薄膜を
第２の方向に移動すると共に、整形後レーザビームのレ
ーザスポットを透明電極薄膜上に連続して照射し、第１
の長溝に連続して第２の長溝を形成する工程とを含む。

【００１４】

【発明の実施の形態】以下、添付図面を参照して本発明
の好適な実施の形態を説明する。図１は、プラズマディ
スプレイパネルの一部を切り出した、プラズマディスプ
レイパネルの断面構造を示す図である。この図に示すよ
うに、プラズマディスプレイパネル１０は、概略、透光
性を有する前面パネル１２と、この前面パネル１２の背
面側に配置され、画像情報に応じて光を発する背面パネ
ル１４とで構成されており、背面パネル１４から前面パ
ネル１２に向かう方向に光を発するようにしてある。

【００１５】前面パネル１２は、図面上最上層を構成す
る前面ガラス基板（前面基板）１６を有する。前面ガラ
ス基板１６の背面側に、第１の方向（Ｘ方向）に伸びる
複数の透明電極１８が、第１の方向に直交する第２の方
向（Ｙ方向）に所定の間隔をあけて、平行に配置されて
いる。各透明電極１８は、その背面側に、この透明電極
１８に沿って伸びる、高誘電材料からなるバス電極２０
を支持している。透明電極１８とバス電極２０は、誘電
体２２と、ガス放電によるスパッタリングから誘電体２
２を保護する、酸化マグネシウムＭｇＯからなる保護膜
２４とで被覆されている。

【００１６】背面パネル１４は、図面上最下層を構成す
る背面ガラス基板（背面基板）２６を有する。背面ガラ
ス基板２６の前面側に、第２の方向に伸びる複数のデー
タ電極２８が、第１の方向に所定の間隔をあけて、平行
に配置されており、これらのデータ電極２８が誘電体３
０で被覆されている。誘電体３０は、隣接するデータ電
極２８の中間に位置し、データ電極２８と平行に伸び
る、隔壁３２を支持している。また、隣接する隔壁３２
の間には、これら隔壁３２の対向する側面と、隔壁３２
の間に位置する誘電体３０部分の表面を被覆するよう
に、蛍光体３４が塗布されている。図示するように、蛍
光体３４はその横断面が略Ｕ形状をしており、この蛍光
体３４で囲まれた放電空間３６に、前面パネル１２と背
面パネル１４を図示するように貼り合わせた後、放電ガ
スが封入される。

【００１７】図２は、前面ガラス基板１６の製造過程で
用いられる電極基板を示し、長方形の前面ガラス基板１
６の片面に、透明電極１８を形成した段階のものであ
る。透明電極１８は、前面ガラス基板１６の周縁に沿っ
て伸びる所定のマージン領域に囲まれた中央の長方形領
域４０に形成されている。さらに透明電極１８は、この
長方形領域４０の短辺付近以外においては、前面ガラス
基板１６の長辺方向と平行にかつ前面ガラス基板１６の
短辺方向に所定の間隔をあけて、細い線状に伸びている
が、一方、この長方形領域４０の短辺付近においては、
後で説明するように電流を流すための電源ドライバの電
極と対応（接続）するために、それぞれ一部について全
面ガラス基板１６の長辺に対して斜め方向に形成されて
いる。

【００１８】図２の一部であるＡ領域を拡大した図３に
詳細に示すように、透明電極１８は、隣接する２つの透
明電極１８が一つの透明電極対４２を構成している。本
実施形態では、一つの透明電極対４２を構成する２つの
隣接する透明電極１８は同一の横幅Ｌ１を有し、それら
の間に所定の空間ギャップＧ１が設けてある。また、隣
接する透明電極対４２の間には、透明電極１８間の空間
ギャップＧ１よりも大きな空間ギャップＧ２が設けてあ
る。

【００１９】具体例を挙げると、透明電極１８には、Ｉ
ＴＯ膜、又はネサ膜を用い、その厚みは１０００〜２０
００Åである。透明電極１８は、横幅が３００〜４００
μｍ、空間ギャップＧ１は５０〜１００μｍ、空間ギャ
ップＧ２は２００〜４００μｍの範囲で、使用用途によ
り、ある一定の値に設定される。

【００２０】一方、図４は、図２の長方形領域４０の短
辺付近であるＢ領域を拡大した図であり、透明電極１８
の端部の配置構成を表す。図において、右方は長方形領
域４０の中央部方向であり、左方は端部である。長方形
領域４０の中央部では、複数の透明電極１８が、空間ギ
ャップＧ１と空間ギャップＧ２とを交互に挟んで、平行
に伸びている。しかし、長方形領域４０端部での透明電
極１８間の空間ギャップは、透明電極１８が外部の回路
（例えば、電源ドライバの電極）と適切に接続されなけ
ればならないため、長方形領域４０中央部の空間ギャッ
プ（Ｇ１、Ｇ２）とは異なるように形成されることがあ
る。図４に示す実施形態では、長方形領域４０最端部で
の透明電極１８間の空間ギャップは、すべて同じ空間ギ
ャップＧａとなっている。したがって、長方形領域４０
短辺に近い部位Ｓ１では、透明電極１８が長方形領域４
０長辺に対し斜行しており、さらに斜行の角度（即ち、
長方形領域４０長辺方向に対する角度）Ｄ１、Ｄ２等
も、一定の値にはならない。

【００２１】上記のように直線状部分と折線状部分とを
含む、透明電極１８の形成方法について、以下に説明す
る。

【００２２】まず、所定の縦横長さを有する前面ガラス
基板１６を用意する［図５（Ａ）］。次に、前面ガラス
基板１６の片面に、透明電極用薄膜４４を、従来と同様
の方法（例えば、ＰＶＤ：物理的気相成長法、ＣＶＤ：
化学的気相成長法）で成膜する［図５（Ｂ）］。本実施
形態では、透明電極用薄膜４４として、厚さ約１０００
ÅのＩＴＯ膜を用いている。なお、透明電極用薄膜４４
は、前面ガラス基板１６の前面に形成する必要はなく、
必要な領域、またはこの必要な領域を囲むわずかに大き
な領域に形成してもよい［図５（Ｃ）］。なお、説明を
簡略化するために、以後、前面ガラス基板１６に透明電
極用薄膜４４の形成された基板を、透明電極基板４６と
いう。

【００２３】次に、図６に示すレーザ加工装置５０を用
い、透明電極基板４６を加工して透明電極１８を形成す
る。レーザ加工装置５０は、透明電極基板４６を載せる
ワークテーブル５２と、このワークテーブル５２を支持
するＸＹテーブル５４を有する。ＸＹテーブル５４は、
図示しない基台に固定された固定テーブル５６を有す
る。固定テーブル５６は、Ｙ方向に往復移動可能に摺動
テーブル５８を支持している。また、摺動テーブル５８
は、Ｙ方向に直交するＸ方向に往復移動可能にワークテ
ーブル５２を支持している。ワークテーブル５２と摺動
テーブル５８は、それぞれ図示しない駆動連結機構（例
えば、ねじ軸とねじ、又はベルトとプーリを含む機構）
を介して図示しないモータに駆動連結されており、対応
するモータの駆動に基づいて、それぞれＸ方向、Ｙ方向
に往復移動できるようにしてある。

【００２４】ＸＹテーブル５４の上方には、周期的にレ
ーザビームを発振するレーザ発振器６２を備えた光学系
６０が配置されている。例えば、レーザ発振器６２とし
ては、ＡＯＱＳＷ（電気音響光学素子）を用いた、短パ
ルス発振のＮｄ：ＹＡＧレーザが好適に利用できる。光
学系６０はまた、レーザ発振器６２で発振されたレーザ
ビーム６４を透明電極基板４６に導くために、可変コリ
メータ、シリンドリカルコリメータ（共に図示せず）等
と、マスク６６、マスクホルダ６７、全反射ミラー６
８、結像レンズ７０が配置されている。マスク６６は、
長方形の開口部７２が形成されている。したがって、開
口部７２を通過したレーザビーム６４の横断面形状は、
開口部７２の形状に対応して長方形に制限される。ま
た、マスク６６は、開口部７２の長方形の中心を貫く直
線を軸として回転するように、マスクホルダ６７に保持
されている。マスクホルダ６７は、外部からの信号によ
り、開口部７２の長方形の向きを設定する（図７参
照）。即ちマスクホルダ６７は、外部信号に基づいて、
マスク６６を回転させ回転位置を決定し固定する。開口
部７２を通過したレーザビーム６４の断面形状が開口部
７２の形状に対応するためには、当然、マスク６６に到
達するレーザビーム６４の横断面は、開口部７２の長方
形の対角線を直径とする円形よりも、大きくなければな
らず、例えば、円形、楕円形を有する。回転位置を固定
された開口部７２を通過したレーザビーム６４は、全反
射ミラー６８で反射した後、結像レンズ７０で絞られて
透明電極基板４６に照射される。このとき透明電極基板
４６に照射されるレーザビーム６４のスポット形状、す
なわち透明電極基板４６でレーザビーム６４の照射され
る領域の形状は、開口部７２の形に倣った小さな長方形
を有する。

【００２５】次に、レーザ加工装置５０を用いて透明電
極基板４６上に透明電極１８を加工する工程を説明す
る。概略、本加工工程では、レーザ発振器６２から出射
されたレーザビーム６４を、透明電極基板４６上のレー
ザ加工点において、透明電極用薄膜４４に照射する。同
時に、ＸＹテーブル５４を用いてワークテーブル５２及
び透明電極基板４６をＸ方向、Ｙ方向に移動させる。こ
のとき、レーザビーム６４の発振（オン、オフ）を、Ｘ
Ｙテーブル５４のＸ方向又はＹ方向への相対速度と、マ
スク６６の長方形開口部７２の向きの切替とに応じて、
同期制御する。

【００２６】具体的に、まず、特にＸ方向に直線状に伸
びる透明電極１８間の空間ギャップの形成について述べ
る。図８（Ａ）に示すように、マスク６６で長方形に整
形されたレーザビーム６４の長辺をＸ方向に一致させ、
１パルス分のレーザビーム６４を透明電極用薄膜４４に
照射し、薄膜消失部７２を形成し、対応する部分の前面
ガラス基板１６を露出させる。次に、図８（Ｂ）に示す
ように、ＸＹテーブル５４により透明電極基板４６をＸ
方向に所定距離（Ｘ方向送り量）δαだけ移動し、再び
１パルス分のレーザビーム６４を透明電極用薄膜４４に
照射して、薄膜消失部７２を形成する。同様にして、透
明電極基板４６をＸ方向に移動しながら、透明電極基板
４６がＸ方向にＸ方向送り量δαだけ送られるごとに、
１パルス分のレーザビーム６４を透明電極用薄膜４４に
照射し、図８（Ｃ）、（Ｄ）に示すように、Ｘ方向に薄
膜消失部７２を連続した長溝７４を形成する。

【００２７】Ｘ方向送り量δαは、透明電極基板４６上
において、１パルス分のレーザビーム６４の照射領域
と、これに続く１パルス分のレーザビーム６４の照射領
域が、Ｘ方向に重なり、その結果、透明電極基板４６上
で薄膜消失部７２が連続するように設定する。なお、図
８において、照射領域の重合部７６が、網点で表示して
ある。

【００２８】Ｘ方向に所定の長さの薄膜消失部７２が形
成されると、ＸＹテーブル５４をＹ方向に所定距離（Ｙ
方向送り量）δｙだけ移動し、上述と同様に、Ｘ方向に
長溝７４を形成し、これにより、図８（Ｄ）に示すよう
に、隣接する長溝７４の間に透明電極用薄膜４４の未消
失部が残り、この未消失部が透明電極１８として利用さ
れる。このようにして、Ｘ方向に連続した透明電極１８
を、Ｙ方向に所定の間隔をあけて、並列に形成する。

【００２９】なお、図３に示すように、各透明電極対４
２を構成している２つの透明電極１８の空間ピッチＧ１
と、隣接する透明電極対４２の間の空間ピッチＧ２とが
異なる場合、それぞれの空間ピッチＧ１、Ｇ２に対応し
た短辺方向幅を有する開口部７２をそれぞれ備えた２つ
のマスクを用意し、ＸＹテーブル５４をＹ方向に移動す
る際に、これらのマスクを切り替えるようにする。また
は、一つのマスクを使用する場合、狭い空間ピッチＧ１
用のマスクだけを設け、このマスクを利用し、広い空間
ピッチＧ２の透明電極薄膜部分を除去する場合、電極消
失部がＹ方向に重なるように、Ｙ方向に僅かだけＸＹテ
ーブル５４を移動させて複数回にわたってレーザビーム
を照射してもよい。

【００３０】ところで、上述のように薄膜消失部７２を
形成し前面ガラス基板１６を露出させるにあたって、マ
スク６６で長方形に整形されたレーザビーム６４の長辺
をＸ方向に一致させるように、マスク６６の向きを固定
するものと仮定する。上記において既に明らかなよう
に、Ｘ方向に直線状に伸びる透明電極１８間の空間ギャ
ップの形成においては、このようにマスク６６が固定さ
れていても問題は無い。ところが、図４における透明電
極１８斜行部分（Ｓ１）を、この固定されたマスク６を
用いて形成しようとすると、図９に示すように、ＸＹテ
ーブル５４を斜め方向に動かしつつ長方形の薄膜消失部
７２を形成することになり、その結果、透明電極１８の
斜行部分（Ｓ１）の縁部が鋸歯形状になってしまう。そ
うすると、透明電極１８の幅精度が悪くなり、さらには
透明電極１８の幅を狭くする配置パターン設計には対応
できなくなってしまう。

【００３１】本発明に係るマスク６６及びその開口部７
２は、マスクホルダ６７により外部の信号（図１１参
照）に基づいて、中心軸を回転軸として回転しあらゆる
向きに設定される。したがって、図４における透明電極
１８斜行部分（Ｓ１）の形成の際には、図７（ｂ）の如
くマスク６６の向きを設定し、１パルス分のレーザビー
ム６４を透明電極用薄膜４４に照射し、薄膜消失部７２
を形成し、対応する部分の前面ガラス基板１６を露出さ
せる。次に、ＸＹテーブル５４により透明電極基板４６
を、Ｘ方向にδαの余弦（ｃｏｓｉｎｅ）成分、Ｙ方向
にδαの正弦（ｓｉｎｅ）成分だけ移動し、再び１パル
ス分のレーザビーム６４を透明電極用薄膜４４に照射し
て、薄膜消失部７２を形成する（図１０）。同様にし
て、透明電極基板４６をＸ方向及びＹ方向に移動しなが
ら、透明電極基板４６が斜め方向にδαだけ送られる毎
に、１パルス分のレーザビーム６４を透明電極用薄膜４
４に照射し、図１０の区間Ｂに示すように、斜め方向に
薄膜消失部７２を連続させ斜溝７６を形成する。

【００３２】透明電極１８の上記の斜行角度（即ち、長
方形領域４０長辺方向に対する角度）は、前で説明した
ように、様々な値（例えば、Ｄ１、Ｄ２、・・・）をと
る。したがって、その斜行の角度に合わせて、マスク６
６及びその開口部７２の向きを外部からの信号に従いマ
スクホルダ６７が設定し固定する。マスクホルダ６７の
マスク６６角度切替動作と、マスク６６の向き（角度）
に同期させてのＸＹテーブル５４の移動動作と、レーザ
発振器６２からのレーザ発振動作との、タイミングの調
整は、図１１に示すように、同期制御部８０が行う。同
期制御部８０はコントローラ８４に含まれ、そのコント
ローラ８４にはさらにメモリ部８２が備わる。メモリ部
８２には透明電極基板４６上の透明電極１８全体分の形
状情報がストアされており、その形状情報を基に同期制
御部８０は上記タイミング調整を行う。

【００３３】マスク６６の開口部７２を、図７（ｃ）の
ように図７（ａ）と直交する向きにすることもできる。
したがって、レーザビーム６４を透明電極用薄膜４４に
連続して照射しする際に、ＸＹテーブル５４により透明
電極基板４６がＹ方向に所定距離δαだけ送られるごと
に、１パルス分のレーザビーム６４を照射するならば、
図１２の区間Ｃに示すように、長方形領域４０の短辺に
平行な方向に薄膜消失部７２を連続した縦溝７８を形成
することができる。

【００３４】以上、プラズマディスプレイパネル及びそ
の製造方法について説明したが、上述した、薄膜を有す
る基板にレーザビームを照射して加工する方法は、プラ
ズマディスプレイパネルの製造方法だけに適用されるも
のでなく、広く、電極加工などの薄膜加工技術に適用で
きるものである。

【００３５】

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
に係るプラズマディスプレイパネルの製造方法等によれ
ば、従来の透明電極形成方法に比べて、製造工程が格段
に少なく、かつ簡素で小型の製造設備を実現できる。ま
た、透明電極配置パターンの設計変更等にも容易に対応
でき、しかも、高品質で精度が高く様々な形状を持つ透
明電極を得ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 プラズマディスプレイパネルの部分斜視図。

【図２】 透明電極を備えた前面ガラス基板の平面図。

【図３】 前面ガラス基板上に形成された透明電極の部
分拡大平面図（１）。

【図４】 前面ガラス基板上に形成された透明電極の部
分拡大平面図（２）。

【図５】 透明電極の製造工程に用いられる透明電極基
板及びその製造工程説明図。

【図６】 レーザ加工装置の斜視図。

【図７】 マスク及びマスクホルダの、Ｃ（図６）から
見た正面図。

【図８】 透明電極の製造工程を説明する図。

【図９】 斜行する透明電極の製造工程を説明する図
（１）。

【図１０】 斜行する透明電極の製造工程を説明する図
（２）。

【図１１】 コントローラの役割を説明するブロック
図。

【図１２】 透明電極の製造工程を説明する図。

【符号の説明】

１０…プラズマディスプレイパネル、１２…前面パネ
ル、１４…背面パネル、１６…前面ガラス基板、１８…
透明電極、２０…バス電極、２２…誘電体、２４…保護
膜、２６…背面ガラス基板、２８…データ電極、３０…
誘電体、３２…隔壁、３４…蛍光体、３６…放電空間、
４４…透明電極用薄膜、５０…レーザ加工装置、５４…
ＸＹテーブル、６２…レーザ発振器、６４…レーザビー
ム、６６…マスク、６７…マスクホルダ、７２…薄膜消
失部、７８…欠損部、８０…同期制御部、８２…メモリ
部、８４…コントローラ。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 田中 博由 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 Ｆターム(参考） 5C027 AA01 5C040 FA01 FA04 GB03 GB14 GC19 JA11 JA40 MA25 MA26

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 前面基板と該前面基板との間に所定の間
   隔をあけて略平行に配置された背面基板とを有し、 背面基板に対向する前面基板の背面上に、順次、第１の
   方向に略平行に伸びる複数の透明電極と、各透明基板の
   背面上を透明電極と平行に伸びるバス電極と、これら透
   明電極とバス電極とを被覆する誘電体層と、誘電体層を
   被覆する保護膜とを設け、 前面基板に対向する背面基板の前面上に、第１の方向に
   略直交する第２の方向に平行に伸びる複数のデータ電極
   と、隣接するデータ電極の間にデータ電極と平行に伸び
   る隔壁と、隣接する隔壁の間に設けられた蛍光体とを設
   けたプラズマディスプレイパネルにおいて、 前面基板の背面上の所定領域に透明電極用薄膜を形成
   し、 この透明電極用薄膜に、レーザ発振器から周期的に出射
   されるレーザビームを照射して透明電極を形成する工程
   に、（ａ） レーザビームの横断面よりも小さな開口部
   を有し、この開口部の中心を通る垂直な軸の周りを回転
   可能な整形プレートに対し、その開口部がレーザビーム
   の横断面に含まれるように該レーザビームを当て、開口
   部により制限された横断面形状を有する整形後レーザビ
   ームを出射する工程と、（ｂ） 整形後レーザビームの
   レーザスポットを透明電極薄膜上に連続して照射し、第
   １の方向に伸びる第１の長溝を形成する工程と、（ｃ）
   工程（ｂ）の終了後、整形プレートを回転して整形後
   レーザビームのレーザスポットを、第１の方向と所定角
   度をなす第２の方向に方向付け、次に、レーザビームに
   対して透明電極用薄膜を第２の方向に移動すると共に、
   整形後レーザビームのレーザスポットを透明電極薄膜上
   に連続して照射し、第１の長溝に連続して第２の長溝を
   形成する工程とを含む、プラズマディスプレイパネルの
   製造方法。
2. 【請求項２】 前面基板と該前面基板との間に所定の間
   隔をあけて略平行に配置された背面基板とを有し、 背面基板に対向する前面基板の背面上に、順次、第１の
   方向に略平行に伸びる複数の透明電極と、各透明基板の
   背面上を透明電極と平行に伸びるバス電極と、これら透
   明電極とバス電極とを被覆する誘電体層と、誘電体層を
   被覆する保護膜とを設け、 前面基板に対向する背面基板の前面上に、第１の方向に
   略直交する第２の方向に平行に伸びる複数のデータ電極
   と、隣接するデータ電極の間にデータ電極と平行に伸び
   る隔壁と、隣接する隔壁の間に設けられた蛍光体とを設
   けたプラズマディスプレイパネルの製造装置であって、 前面基板の背面上の所定領域に形成された透明電極用薄
   膜を加工して透明電極を形成する装置が、（ａ） 周期
   的にレーザビームを出射するレーザ発振器と、（ｂ）
   レーザ発振器から出射されるレーザビームの光路上に配
   置され、レーザビームの横断面よりも小さな開口部を有
   し、この開口部の中心を通る垂直な軸の周りで回転可能
   な整形プレートと、（ｃ） レーザビームの光路に垂直
   な平面上で、このレーザビームに対して透明電極用薄膜
   を担持した前面基板を任意の方向に移動するテーブル
   と、を備えたプレズマディスプレイパネルの製造装置。
3. 【請求項３】 前面基板と該前面基板との間に所定の間
   隔をあけて略平行に配置された背面基板とを有し、 背面基板に対向する前面基板の背面上に、第１の方向に
   伸びる複数の第１電極を略平行に設け、 前面基板に対向する背面基板の前面上に、第1の方向と
   略直交する第２の方向に伸びる複数の第２電極を平行に
   設け、また、隣接する第２の電極の間に隔壁を設け、さ
   らに、隣接する第２の電極の間に蛍光体を設けたプラズ
   マディスプレイパネルにおいて、 第１の電極は、まず、前面基板上に第１の電極用薄膜を
   設け、次に、周期的に発振されるレーザビームを、薄膜
   上で、第１の方向にそして少なくとも一部について第１
   の方向と交わる方向に連続的に、かつ第２の方向に所定
   の間隔をあけて照射することでレーザビームのライン状
   照射領域間に薄膜を残して形成されており、 レーザビームは、任意のレーザビームが照射される薄膜
   上の照射領域と、続くレーザビームが照射される薄膜上
   の照射領域とが一部重合するように照射されることを特
   徴とするプラズマディスプレイパネル。
4. 【請求項４】 基板の表面に透明電極形成のための薄膜
   を設け、周期的に発振されるレーザビームを該薄膜に照
   射して所定の方向に連続した薄膜消失部を生成する透明
   電極基板製造方法において、（ａ） レーザビームの横
   断面よりも小さな開口部を有し、この開口部の中心を通
   る垂直な軸の周りを回転可能な整形プレートに対し、そ
   の開口部がレーザビームの横断面に含まれるように該レ
   ーザビームを当て、開口部により制限された横断面形状
   を有する整形後レーザビームを出射する工程と、（ｂ）
   整形後レーザビームのレーザスポットを透明電極薄膜
   上に連続して照射し、第１の方向に伸びる第１の長溝を
   形成する工程と、（ｃ） 工程（ｂ）の終了後、整形プ
   レートを回転して整形後レーザビームのレーザスポット
   を、第１の方向と所定角度をなす第２の方向に方向付
   け、次に、レーザビームに対して透明電極用薄膜を第２
   の方向に移動すると共に、整形後レーザビームのレーザ
   スポットを透明電極薄膜上に連続して照射し、第１の長
   溝に連続して第２の長溝を形成する工程とを含む透明電
   極基板製造方法。