JP2001084896A - プラズマディスプレイパネルの製造方法及びプラズマディスプレイパネル - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 製造工程が少なくかつ簡素で小型の製造設備
を実現できる、プラズマディスプレイパネル製造方法を
提供する。 【解決手段】 透明電極１８は、前面ガラス基板１６上
に透明電極用薄膜４４を設け、レーザビーム６４を薄膜
上でＸ方向に連続的にかつＹ方向に所定の間隔をあけて
照射することでレーザビーム６４のライン状照射領域間
に薄膜を残して形成する。透明電極基板４６が備える位
置決めマーク１９の形成を、透明電極１８の形成と同一
装置、同一材料、及び同一工法により同一工程にて行
う。利用するマスク６６及び開口部７２も、同一のもの
であってもよい。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、プラズマディスプ
レイパネルの製造方法及びプラズマディスプレイパネ
ル、特に、プラズマディスプレイパネルの前面側に配置
される前面パネルの背後に透明電極を形成する方法に関
する。

【０００２】

【従来の技術】一般的に、プラズマディスプレイパネル
は、前面パネルと、この前面パネルに所定の間隔をあけ
て配置された背面パネルとを有し、これら前面パネルと
背面パネルとの間に放電空間が形成されている。前面パ
ネルは、一般にガラスからなる前面基板の背面側に、複
数の平行に配置された透明電極と、各透明電極の背面側
に配置されたバス電極と、これら透明電極とバス電極を
被覆する誘電体層と、この誘電体層を被覆する保護膜を
備えている。他方、背面パネルは、一般にガラスからな
る背面基板の前面側に、透明電極の長手方向と直交する
方向に伸びる複数の平行なデータ電極と、隣接するデー
タ電極の間に配置された隔壁と、隣接する隔壁の間に配
置された蛍光体とを備えている。

【０００３】プラズマディスプレイパネルを構成する複
数の構成要素のうち、特に、透明電極に着目すると、こ
の透明電極の形成方法は、透明電極に使用する材料の違
いに応じて、異なっている。現在利用されている透明電
極の材料は２つあり、一つはＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔ
ｉｎ Ｏｘｉｄｅ）と呼ばれる、酸化インジウムＩｎ ₂
Ｏ₃に錫Ｓｎを３〜１０％ドーピングした材料であり、
もう一つはネサ膜と呼ばれる、酸化錫ＳｎＯ₂を主成分
とする材料である。

【０００４】透明電極にＩＴＯを用いる場合、透明電極
は次のようにして形成される。まず、ガラス基板上に、
ＩＴＯ膜をその全面に成膜する。次に、ＩＴＯ膜上にフ
ォトレジストを塗布し、目的の透明電極パターンと同一
のパターンを有する金属マスクを用いて、フォトレジス
トを露光する。その後、フォトレジストを現像し、必要
な部分のＩＴＯ膜をエッチングした後、残ったフォトレ
ジストを除去し、透明電極を形成する。

【０００５】透明電極にネサ膜を用いる場合、透明電極
は次のようにして形成される。まず、ガラス基板上に、
ネサ膜をその全面に成膜する。次に、ＩＴＯの場合と同
様に、エッチング法により透明電極を形成する。ただ
し、ネサ膜の場合、リフトオフ法により、透明電極を形
成することもある。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかし、上述した従来
の透明電極形成方法は、数多くの工程（透明電極用薄膜
の成膜、フォトレジストの塗布、フォトレジストの露
光、現像、透明電極用薄膜のエッチング、残留フォトレ
ジストの除去）を必要とするため、製造設備が大型化
し、工程リードタイムも長くなるという問題がある。

【０００７】特に、プラズマディスプレイパネルは、小
型テレビはもとより、大型テレビの大型画面に利用が期
待されており、その際に要求される縦横数は最小１０ｃ
ｍから最大２ｍとなる。したがって、最大２ｍにも及ぶ
大きな基板に対して上述した多くの工程を順番に実施し
たり、各工程間で基板を搬送したりしなければならず、
その製造設備は非常に大型となる。

【０００８】また、透明電極の配置パターンを設計変更
するには、フォトレジストを露光するマスクを新たに製
作し直す必要があり、迅速な設計変更に対応し難い。

【０００９】さらに、環境問題が重視される現在、従来
の製造工程で使用されているフォトレジスト液、エッチ
ング液などの廃液処理に、非常に高額な費用がかかる。
また、環境保護の観点からすれば、そのような環境に負
荷を与える物質は、出来るだけ使用しないことが望まし
い。

【００１０】

【課題を解決するための手段】以上の問題点を解消する
ために、本発明に係るプラズマディスプレイパネルの製
造方法では、まず前面基板の背面上の所定領域に透明電
極用薄膜を形成する。次に、この透明電極用薄膜に、マ
スク、レンズを介して、レーザ発振器から周期的に出射
されるレーザビームを照射して透明電極を形成する。こ
の透明電極を構成する工程はさらに、（ａ）レーザビー
ムに対して前面基板を移動させながら、透明電極用薄膜
上において一つのレーザビームが照射される領域とこの
レーザビームに続いて出射される次のレーザビームが照
射される領域とが少なくとも一部で重なるようにレーザ
ビームを出射して透明電極用薄膜部分を順次消失させ、
これにより前面基板の露出する長溝を第１の方向に連続
して形成する工程と、（ｂ）工程（ａ）の終了後、形成
された長溝から第２の方向に所定の距離だけ離れた場所
にレーザビームの照射位置を移動する工程と、（ｃ）工
程（ａ）と（ｂ）を繰り返し、透明電極用薄膜に複数の
長溝を平行に形成し、これにより各隣接する長溝の間に
それぞれ透明電極を形成する工程からなる。そして、前
面基板の背面上の所定領域に位置決めマーク用薄膜を形
成し、この位置決めマーク用薄膜にレーザ発振器から周
期的に出射されるレーザビームを順次照射しつつ、照射
されるレーザビームと前面基板とを相対移動させて、位
置決めマークを形成する工程を含むことを特徴とする

【００１１】本発明に係るプラズマディスプレイパネル
の製造方法の他の形態は、上記の製造方法において、透
明電極を形成する薄膜と、位置決めマークを形成する薄
膜との間に、所定の間隔が置かれているものである。

【００１２】またさらに、本発明に係るプラズマディス
プレイパネルの製造方法の他の形態は、上記の製造方法
において、透明電極用薄膜に照射されるレーザビーム
と、位置決めマーク用薄膜に照射されるレーザビームと
が、照射前に同一経路を経ているものである。

【００１３】本発明に係るプラズマディスプレイパネル
は、前面基板と該前面基板との間に所定の間隔をあけて
略平行に配置された背面基板とを有し、背面基板に対向
する前面基板の背面上に、第１の方向に伸びる複数の第
１電極を平行に設け、前面基板に対向する背面基板の前
面上に、第1の方向と直交する第２の方向に伸びる複数
の第２電極を平行に設け、また、隣接する第２の電極の
間に隔壁を設け、さらに、隣接する第２の電極の間に蛍
光体を設けたプラズマディスプレイパネルである。その
ようなプラズマディスプレイパネルにおいて、第１の電
極は、まず、前面基板上に第１の電極用薄膜を設け、次
に、周期的に発振されるレーザビームをその薄膜上で第
１の方向に連続的にかつ第２の方向に所定の間隔をあけ
て照射することでレーザビームのライン状照射領域間に
薄膜を残して形成されており、さらに、前面基板上にマ
ーク用薄膜を設け、周期的に発振されるレーザビームを
そのマーク用薄膜上に連続的に照射することで所定のマ
ークが形成されていることを特徴とする。

【００１４】本発明に係るプラズマディスプレイパネル
の他の形態は、上記のプラズマディスプレイパネルにお
いて、電極を形成する薄膜と、マークを形成する薄膜と
の間に、所定の間隔が置かれるものである。

【００１５】

【発明の実施の形態】以下、添付図面を参照して本発明
の好適な実施の形態を説明する。図１は、プラズマディ
スプレイパネルの一部を切り出した、プラズマディスプ
レイパネルの断面構造を示す図である。この図に示すよ
うに、プラズマディスプレイパネル１０は、概略、透光
性を有する前面パネル１２と、この前面パネル１２の背
面側に配置され、画像情報に応じて光を発する背面パネ
ル１４とで構成されており、背面パネル１４から前面パ
ネル１２に向かう方向に光を発するようにしてある。

【００１６】前面パネル１２は、図面上最上層を構成す
る前面ガラス基板（前面基板）１６を有する。前面ガラ
ス基板１６の背面側に、第１の方向（Ｘ方向）に伸びる
複数の透明電極１８が、第１の方向に直交する第２の方
向（Ｙ方向）に所定の間隔をあけて、平行に配置されて
いる。各透明電極１８は、その背面側に、この透明電極
１８に沿って伸びる、高誘電材料からなるバス電極２０
を支持している。透明電極１８とバス電極２０は、誘電
体２２と、ガス放電によるスパッタリングから誘電体２
２を保護する、酸化マグネシウムＭｇＯからなる保護膜
２４とで被覆されている。

【００１７】背面パネル１４は、図面上最下層を構成す
る背面ガラス基板（背面基板）２６を有する。背面ガラ
ス基板２６の前面側に、第２の方向に伸びる複数のデー
タ電極２８が、第１の方向に所定の間隔をあけて、平行
に配置されており、これらのデータ電極２８が誘電体３
０で被覆されている。誘電体３０は、隣接するデータ電
極２８の中間に位置し、データ電極２８と平行に伸びる
隔壁３２を支持している。また、隣接する隔壁３２の間
には、これら隔壁３２の対向する側面と、隔壁３２の間
に位置する誘電体部分の表面を被覆するように、蛍光体
３４が塗布されている。図示するように、蛍光体３４は
その横断面が略Ｕ形状をしており、この蛍光体３４で囲
まれた放電空間３６に、前面パネル１２と背面パネル１
４を図示するように貼り合わせた後、放電ガスが封入さ
れる。

【００１８】図２は、前面ガラス基板１６の製造過程で
用いられる電極基板を示し、長方形の前面ガラス基板１
６の片面に、透明電極１８及び位置決めマーク１９を形
成した段階のものである。透明電極１８は、前面ガラス
基板１６の周縁に沿って伸びる所定のマージン領域に囲
まれた中央の長方形領域４０に形成されており、この長
方形領域４０において、前面ガラス基板１６の長辺方向
と平行にかつ前面ガラス基板１６の短辺方向に所定の間
隔をあけて、細い線状に伸びている。また、位置決めマ
ーク１９は、アラインメントマークとも呼ばれ、透明電
極１８の形成された前面ガラス基板１６の表面に各種の
加工処理を行う際の、基準となる位置や姿勢を決定する
役割を持つ。この位置決めマーク１９の形成の詳細につ
いては、後で説明する。

【００１９】図２の一部を拡大した図３に詳細に示すよ
うに、透明電極１８は、隣接する２つの透明電極１８が
一つの透明電極対４２を構成している。本実施形態で
は、一つの透明電極対４２を構成する２つの隣接する透
明電極１８は同一の横幅Ｌ１を有し、それらの間に所定
の空間ギャップＧ１が設けてある。また、隣接する透明
電極対４２の間には、透明電極１８間の空間ギャップＧ
１よりも大きな空間ギャップＧ２が設けてある。

【００２０】具体例を挙げると、４２インチのテレビ受
像器に利用されるプラズマディスプレイパネルの場合、
約５６０ｍｍ×１０００ｍｍの前面ガラス基板１６を用
いる。透明電極１８には、ＩＴＯ膜、又はネサ膜を用
い、その厚みは約１０００Åである。透明電極１８は、
横幅が３００〜４００μｍ、空間ギャップＧ１は５０〜
１００μｍ、空間ギャップＧ２は２００〜４００μｍの
範囲で、使用用途により、ある一定の値に設定される。
また、透明電極対４２のピッチＰ１は約１ｍｍに設定さ
れ、このように設定された透明電極対４２が約４８０組
配置される。

【００２１】透明電極１８の形成方法について説明す
る。まず、所定の縦横長さを有する前面ガラス基板１６
を用意する［図４（Ａ）］。次に、前面ガラス基板１６
の片面に、透明電極用薄膜４４を、従来と同様の方法
（例えば、ＰＶＤ：物理的気相成長法、ＣＶＤ：化学的
気相成長法）で成膜する［図４（Ｂ）］。本実施形態で
は、透明電極用薄膜４４として、厚さ約１０００ÅのＩ
ＴＯ膜を用いている。なお、透明電極用薄膜４４は、前
面ガラス基板１６の全面に形成する必要はなく、必要な
領域、またはこの必要な領域を囲むわずかに大きな領域
に形成するのが望ましい［図４（Ｃ）］。ここで、この
図４（Ｃ）の前面ガラス基板１６は、透明電極１８を形
成する長方形領域４０の透明電極用薄膜４４に加えて、
位置決めマーク１９を形成するための矩形領域の薄膜３
８も、自己の四隅に備えており、後で説明するようにそ
れら矩形領域の薄膜３８は、透明電極用薄膜４４と同じ
材料、方法により形成されている。なお、説明を簡略化
するために、以後、前面ガラス基板１６に透明電極用薄
膜４４の形成された基板を、透明電極基板４６という。

【００２２】次に、図５に示すレーザ加工装置５０を用
い、透明電極基板４６加工して透明電極１８を形成す
る。レーザ加工装置５０は、透明電極基板４６を載せる
ワークテーブル５２と、このワークテーブル５２を支持
するＸＹテーブル５４を有する。ＸＹテーブル５４は、
図示しない基台に固定された固定テーブル５６を有す
る。固定テーブル５６は、Ｙ方向に往復移動可能に摺動
テーブル５８を支持している。また、摺動テーブル５８
は、Ｙ方向に直交するＸ方向に往復移動可能にワークテ
ーブル５２を支持している。ワークテーブル５２と摺動
テーブル５８は、それぞれ図示しない駆動連結機構（例
えば、ねじ軸とねじ、又はベルトとプーリを含む機構）
を介して図示しないモータに駆動連結されており、対応
するモータの駆動に基づいて、それぞれＸ方向、Ｙ方向
に往復移動できるようにしてある。

【００２３】ＸＹテーブル５４の上方には、周期的にレ
ーザビームを発振するレーザ発振器６２を備えた光学系
６０が配置されている。例えば、レーザ発振器６２とし
ては、ＡＯＱＳＷ（電気音響光学素子）を用いた、短パ
ルス発振のＮｄ：ＹＡＧレーザが好適に利用できる。光
学系６０はまた、レーザ発振器６２で発振されたレーザ
ビーム６４を透明電極基板４６に導くために、可変コリ
メータ、シリンドリカルコリメータ（共に図示せず）等
と、マスク６６、全反射ミラー６８、結像レンズ７０が
配置されている。マスク６６は、長方形の開口部７２が
形成されている。したがって、開口部７２を通過したレ
ーザビーム６４の横断面形状は、開口部７２の形状に対
応して長方形に制限される。開口部７２を通過したレー
ザビーム６４の断面形状が開口部７２の形状に対応する
ためには、当然、マスク６６に到達するレーザビーム６
４の横断面は、開口部７２よりも大きくなければなら
ず、例えば、円形、楕円形を有する。開口部７２を通過
したレーザビーム６４は、全反射ミラー６８で反射した
後、結像レンズ７０で絞られて透明電極基板４６に照射
される。このとき透明電極基板４６に照射されるレーザ
ビーム６４のスポット形状、すなわち透明電極基板４６
でレーザビーム６４の照射される領域の形状は、開口部
７２の形に倣った小さな長方形を有する。

【００２４】図６（Ａ）、（Ｂ）は、透明電極基板４６
にレーザ発振器６２で発振された１パルス分のレーザビ
ームを照射することにより、この透明電極基板４６に形
成された長方形薄膜消失部７３の拡大平面形状及び拡大
断面形状を示す。

【００２５】次に、レーザ加工装置５０を用いて透明電
極基板４６上に透明電極１８を加工する工程を説明す
る。概略、本加工工程では、レーザ発振器６２から出射
されたレーザビーム６４を、透明電極基板４６上のレー
ザ加工点において、約８０ｍＪ／ｍｍ²のエネルギ密度
で、透明電極用薄膜４４に照射する。同時に、ＸＹテー
ブル５４を用いてワークテーブル５２及び透明電極基板
４６をＸ方向、Ｙ方向に移動させる。このとき、レーザ
ビーム６４の発振（オン、オフ）を、ＸＹテーブル５４
のＸ方向への相対速度に応じて同期制御する。

【００２６】具体的に、図７（Ａ）に示すように、マス
ク６６で長方形に整形されたレーザビーム６４の長辺を
Ｘ方向に一致させ、１パルス分のレーザビーム６４を透
明電極用薄膜４４に照射し、薄膜消失部７３を形成し、
対応する部分の前面ガラス基板１６を露出させる。次
に、図７（Ｂ）に示すように、ＸＹテーブル５４により
透明電極基板４６をＸ方向に所定距離（Ｘ方向送り量）
δｘだけ移動し、再び１パルス分のレーザビーム６４を
透明電極用薄膜４４に照射して、薄膜消失部７３を形成
する。同様にして、透明電極基板４６をＸ方向に移動し
ながら、透明電極基板４６がＸ方向にＸ方向送り量δｘ
だけ送られるごとに、１パルス分のレーザビーム６４を
透明電極用薄膜４４に照射し、図７（Ｃ）、（Ｄ）に示
すように、Ｘ方向に薄膜消失部７３を連続した長溝７４
を形成する。

【００２７】Ｘ方向送り量δｘは、透明電極基板４６上
において、１パルス分のレーザビーム６４の照射領域
と、これに続く１パルス分のレーザビーム６４の照射領
域が、Ｘ方向に所定分だけ重なり、その結果、透明電極
基板４６上で薄膜消失部７３が連続するように設定す
る。なお、図７において、照射領域の重合部７６が、網
点で表示してある。

【００２８】Ｘ方向に所定の長さの薄膜消失部７３が形
成されると、ＸＹテーブル５４をＹ方向に所定距離（Ｙ
方向送り量）δｙだけ移動し、上述と同様に、Ｘ方向に
長溝７４を形成し、これにより、図７（Ｄ）に示すよう
に、隣接する長溝７４の間に透明電極用薄膜４４の未消
失部が残り、この未消失部が透明電極１８として利用さ
れる。このようにして、Ｘ方向に連続した透明電極１８
を、Ｙ方向に所定の間隔をあけて、並列に形成する。

【００２９】なお、図３に示すように、各透明電極対４
２を構成している２つの透明電極１８の空間ピッチＧ１
と、隣接する透明電極対４２の間の空間ピッチＧ２とが
異なる場合、それぞれの空間ピッチＧ１、Ｇ２に対応し
た短辺方向幅を有する開口部７２をそれぞれ備えた２つ
のマスクを用意し、ＸＹテーブル５４をＹ方向に移動す
る際に、これらのマスクを切り替えるようにする。また
は、一つのマスクを使用する場合、狭い空間ピッチＧ１
用のマスクだけを設け、このマスクを利用し、広い空間
ピッチＧ２の透明電極薄膜部分を除去する場合、薄膜消
失部７３がＹ方向に重なるように、Ｙ方向に僅かだけＸ
Ｙテーブル５４を移動させて複数回にわたってレーザビ
ームを照射してもよい。

【００３０】ところで、透明電極１８が形成された透明
電極基板４６は、位置決めマーク１９を備えていること
が望ましい。位置決めマーク１９とは、透明電極１８の
形成された透明電極基板４６に対しさらに各種の加工処
理を施す際の、基準となる位置や姿勢を決定する役割を
持つマークであり、特に透明電極１８の位置と姿勢を表
示するものである。位置決めマーク１９を透明電極基板
４６上に形成する装置、材料、工法には、様々なものが
あるが、以下の本発明の実施形態では、位置決めマーク
１９形成を透明電極１８形成と同一装置、同一材料、及
び同一工法により同一工程にて行う。このように同一装
置、同一材料、及び同一工法により同一工程で行うと、
透明電極１８と位置決めマーク１９との相対精度を向上
させることになり、透明電極基板４６にさらに各種の加
工処理を施す場合に、それら加工処理による形成物と透
明電極１８との相対精度をも、向上させることができ
る。

【００３１】位置決めマーク１９の具体的形状として
は、透明電極１８の２次元平面における位置と姿勢とを
決定できる各種図形又は図形の組合せが用いられる。例
としては、図２に示されるように、十字形状が複数用い
られる。

【００３２】位置決めマーク１９は、レーザビーム６４
の照射後の残余の透明電極用薄膜４４により形成されて
もよい。また、図２のように、レーザビーム６４照射に
よりＩＴＯ膜からなる位置決めマーク用薄膜３８を消失
させた薄膜消失部７３’によって形成されてもよい。即
ち、矩形状をなす位置決めマーク用薄膜３８の中央部に
て薄膜の一部を消失させて位置決めマーク１９を配置す
ることができる。この場合、残余の薄膜３８が位置決め
マーク１９の外周縁を規定する枠部になる。具体的寸法
を挙げると、前に説明した４２インチのテレビ受像器に
利用されるプラズマディスプレイパネルの場合、 ・前面ガラス基板１６は、約５６０ｍｍ×１０００ｍｍ
の大きさであり、 ・透明電極１８は、約１０００Åの厚み、３００〜４０
０μｍの横幅、５０〜１００μｍの空間ギャップＧ１、
２００〜４００μｍの空間ギャップＧ２を備え、 ・透明電極対４２のピッチＰ１が約１ｍｍに設定され、
よって透明電極対４２が約４８０組配置されるのであっ
たが、このとき、位置決めマーク１９として、透明電極
基板４６の四隅それぞれの近傍に、 ・２ｍｍ×２ｍｍの正方形状枠部３８内に、 ・幅０．１〜０．５ｍｍの十字形をなすもの、 を配置することができる。

【００３３】図２の本発明の実施形態に係る透明電極１
８及び位置決めマーク１９の形成においては、図４
（Ｃ）のように形成された透明電極基板４６を利用する
のが至便である。図４（Ｃ）の透明電極基板４６におい
ては、中央部には透明電極１８の形成領域と略合同形の
矩形領域４０に透明電極用薄膜４４が形成され、四隅に
は位置決めマーク１９の大きさよりもやや大きい矩形領
域に位置決めマーク用薄膜３８が形成されている。

【００３４】位置決めマーク１９の形成は、透明電極４
６の形成と同様に行われる。即ち、レーザビーム６４を
透明電極基板４６の四隅の位置決めマーク用薄膜３８の
内部に照射しつつ、ＸＹテーブルを利用してレーザビー
ム６４と透明電極基板４６とを、十字形状に相対移動さ
せれば、その部分の位置決めマーク用薄膜３８が消失
し、十字形状をなす位置決めマーク１９が形成される
（図８、図９参照）。

【００３５】図８に示す実施形態では、位置決めマーク
１９の線幅と透明電極１８間の線幅とを、異なるものに
している。つまり、透明電極１８を形成する際のレーザ
ビーム６４による薄膜消失部７３は、細長い矩形状であ
るのに対して、位置決めマーク１９を形成する際のレー
ザビーム６４’による薄膜消失部７３’は上記薄膜消失
部７３よりも小さい略正方形状である。この２つの薄膜
消失部７３、７３’の形状の差異は、図５に示すよう
に、レーザビーム６４が通過するマスク６６の開口部７
２、７２’を切り換えることにより、実現される。

【００３６】図９に示す実施形態では、透明電極１８を
形成する際のレーザビーム６４による薄膜消失部７３
と、位置決めマーク１９を形成する際のレーザビーム６
４による薄膜消失部７３’とが、同一のものである。こ
れは、レーザビーム６４が通過する開口部７２が、同一
のものであるからである。位置決めマーク１９の十字形
状は、図９では縦線が太く横線が細いのであるが、縦横
の方向及びそれらの交点が明確に表示されているので、
位置決めマーク１９としての役割は十分に果たせる。さ
らに、マスク６６の開口部７２を切り換えることがない
ため、位置決めマーク１９と透明電極１８との相対的な
精度を、上述の図８の実施形態のように切り換える場合
に比べて、さらに向上させることができる。

【００３７】ところで、図８に示す実施形態において
は、マスク６６に複数の開口部７２を設けておき、透明
電極１８形成時と位置決めマーク１９形成時とで異なる
開口部７２を選択し利用するようにしている。このよう
に複数の形状の開口部を利用する実施形態においては、
開口部７２の形状が異なる複数のマスク６６を用意しそ
れらを切り換えて利用するようにしてもよい。さらに、
開口部７２を備える複数のマスク６６を、レーザビーム
の走行軸がそれぞれの開口部７２を通過するように前後
に重ねて配置し、複数の開口部の重なり及びそれらの相
対配置によって形成される横断形状によりレーザビーム
の横断面形状を制御するようにしてもよい（図１０参
照）。

【００３８】以上、プラズマディスプレイパネル及びそ
の製造方法について説明したが、上述した、薄膜を有す
る基板にレーザビームを照射して加工する方法は、プラ
ズマディスプレイパネルの製造方法だけに適用されるも
のでなく、広く、電極加工などの薄膜加工技術に適用で
きるものである。

【００３９】

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
に係るプラズマディスプレイパネルの製造方法等によれ
ば、従来の透明電極形成方法に比べて、製造工程が格段
に少なく、かつ簡素で小型の製造設備を実現できる。ま
た、マスクの設計変更等にも容易に対応でき、環境に対
しても負荷の少ない、高品質の透明電極を得ることがで
きる。

【００４０】また、位置決めマーク１９形成を透明電極
１８形成と同一装置、同一材料、及び同一工法により同
一工程にて行うと、透明電極１８と位置決めマーク１９
との相対精度を向上させることになり、透明電極基板４
６にさらに各種の加工処理を施す場合に、それら加工処
理による生成物と透明電極１８との相対精度をも、向上
させることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 プラズマディスプレイパネルの部分斜視図。

【図２】 透明電極及び位置決めマークを備えた前面ガ
ラス基板の平面図。

【図３】 前面ガラス基板上に形成された透明電極の部
分拡大平面図。

【図４】 透明電極の製造工程に用いられる透明電極基
板及びその製造工程説明図。

【図５】 レーザ加工装置の斜視図（１）。

【図６】 透明電極用薄膜に形成した薄膜消失部の拡大
平面図及び断面図。

【図７】 透明電極の製造工程を説明する図。

【図８】 透明電極及び位置決めマークの製造を説明す
る図（１）。

【図９】 透明電極及び位置決めマークの製造を説明す
る図（２）。

【図１０】 レーザ加工装置の斜視図（２）。

【符号の説明】 １０…プラズマディスプレイパネル、１２…前面パネ
ル、１４…背面パネル、１６…前面ガラス基板、１８…
透明電極、１９…位置決めマーク、２０…バス電極、２
２…誘電体、２４…保護膜、２６…背面ガラス基板、２
８…データ電極、３０…誘電体、３２…隔壁、３４…蛍
光体、３６…放電空間、３８…位置決めマーク用薄膜、
４４…透明電極用薄膜、４６…透明電極基板、５０…レ
ーザ加工装置、５４…ＸＹテーブル、６２…レーザ発振
器、６４…レーザビーム、６６…マスク、７２、７２’
…開口部、７３、７３’…薄膜消失部。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 藤原 伸也 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 Ｆターム(参考） 5C027 AA01 5C040 FA01 FA04 GB03 GB14 GC19 JA11 MA26

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 前面基板と該前面基板との間に所定の間
   隔をあけて略平行に配置された背面基板とを有し、 背面基板に対向する前面基板の背面上に、順次、第１の
   方向に平行に伸びる複数の透明電極と、各透明基板の背
   面上を透明電極と平行に伸びるバス電極と、これら透明
   電極とバス電極とを被覆する誘電体層と、誘電体層を被
   覆する保護膜とを設け、 前面基板に対向する背面基板の前面上に、第１の方向に
   略直交する第２の方向に平行に伸びる複数のデータ電極
   と、隣接するデータ電極の間にデータ電極と平行に伸び
   る隔壁と、隣接する隔壁の間に設けられた蛍光体とを設
   けたプラズマディスプレイパネルにおいて、 前面基板の背面上の所定領域に透明電極用薄膜を形成
   し、 この透明電極用薄膜に、レーザ発振器から周期的に出射
   されるレーザビームを照射して透明電極を形成する工程
   に、（ａ）レーザビームに対して前面基板を移動させな
   がら、透明電極用薄膜上において一つのレーザビームが
   照射される領域とこのレーザビームに続いて出射される
   次のレーザビームが照射される領域とが少なくとも一部
   で重なるようにレーザビームを出射して透明電極用薄膜
   部分を順次消失させ、これにより前面基板の露出する長
   溝を第１の方向に連続して形成する工程と、（ｂ）工程
   （ａ）の終了後、形成された長溝から第２の方向に所定
   の距離だけ離れた場所にレーザビームの照射位置を移動
   する工程と、（ｃ）工程（ａ）と（ｂ）を繰り返し、透
   明電極用薄膜に複数の長溝を平行に形成し、これにより
   各隣接する長溝の間にそれぞれ透明電極を形成する工程
   とを含む、プラズマディスプレイパネルの製造方法であ
   って、 さらに、前面基板の背面上の所定領域に位置決めマーク
   用薄膜を形成し、 この位置決めマーク用薄膜にレーザ発振器から周期的に
   出射されるレーザビームを順次照射しつつ、照射される
   レーザビームと前面基板とを相対移動させて、位置決め
   マークを形成する工程を、含むことを特徴とするプラズ
   マディスプレイパネルの製造方法。
2. 【請求項２】 透明電極を形成する薄膜と、位置決めマ
   ークを形成する薄膜との間に、所定の間隔が置かれる、
   請求項１に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方
   法。
3. 【請求項３】 透明電極用薄膜に照射されるレーザビー
   ムと、位置決めマーク用薄膜に照射されるレーザビーム
   とが、照射前に同一経路を経ている、請求項１又は請求
   項２に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
4. 【請求項４】 前面基板と該前面基板との間に所定の間
   隔をあけて略平行に配置された背面基板とを有し、 背面基板に対向する前面基板の背面上に、第１の方向に
   伸びる複数の第１電極を平行に設け、 前面基板に対向する背面基板の前面上に、第1の方向と
   直交する第２の方向に伸びる複数の第２電極を平行に設
   け、また、隣接する第２の電極の間に隔壁を設け、さら
   に、隣接する第２の電極の間に蛍光体を設けたプラズマ
   ディスプレイパネルにおいて、 第１の電極は、まず、前面基板上に第１の電極用薄膜を
   設け、次に、周期的に発振されるレーザビームをその薄
   膜上で第１の方向に連続的にかつ第２の方向に所定の間
   隔をあけて照射することでレーザビームのライン状照射
   領域間に薄膜を残して形成されており、 さらに、前面基板上にマーク用薄膜を設け、周期的に発
   振されるレーザビームをそのマーク用薄膜上に連続的に
   照射することで所定のマークが形成されていることを特
   徴とするプラズマディスプレイパネル。
5. 【請求項５】 電極を形成する薄膜と、マークを形成す
   る薄膜との間に、所定の間隔が置かれる、請求項４に記
   載のプラズマディスプレイパネル。