JP2000338437A - 走査光学装置及び画像形成装置 - Google Patents

走査光学装置及び画像形成装置

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JP2000338437A
JP2000338437A JP11149585A JP14958599A JP2000338437A JP 2000338437 A JP2000338437 A JP 2000338437A JP 11149585 A JP11149585 A JP 11149585A JP 14958599 A JP14958599 A JP 14958599A JP 2000338437 A JP2000338437 A JP 2000338437A
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浩司 豊田
Manabu Kato
加藤  学
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    • HELECTRICITY
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    • H04N1/04Scanning arrangements, i.e. arrangements for the displacement of active reading or reproducing elements relative to the original or reproducing medium, or vice versa
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Abstract

(57)【要約】 【課題】走査光学手段に回折部を用いた場合でも、被走
査面上の照度分布を略均一に保ち、良好なる画像出力が
可能な走査光学装置及び画像形成装置を得ること。 【解決手段】光源手段1から射出された光束を偏向手段
5に導光し、該偏向手段で偏向された光束を少なくとも
一面に回折部と、少なくとも一面に屈折部とを有する走
査光学手段6により被走査面7上に結像させ、該被走査
面上を光走査する走査光学装置において、該走査光学手
段の画角による該回折部の回折効率変化と、該屈折部の
透過率変化とを相殺させる構成とすることにより、該被
走査面上における照度分布を略均一にしたこと。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は走査光学装置及び画
像形成装置に関し、特に走査光学手段に回折部を有する
場合でも、被走査面上の照度分布を均一に保ち、良好な
る画像出力が得られる、例えばレーザービームプリンタ
やデジタル複写機等の装置に好適なものである。
【0002】
【従来の技術】従来よりレーザービームプリンタやデジ
タル複写機等の画像形成装置に用いられている走査光学
装置は画像信号に応じて光源手段から射出された光束を
偏向手段で偏向し、該偏向された光束を走査光学手段に
より被走査面である感光ドラム面上にスポット状に結像
させ、該感光ドラム面上を光走査することにより画像形
成を行っている。
【0003】さらに走査光学手段の少なくとも一面に回
折部を有する走査光学装置が、例えば特開平10-68903号
公報等で提案されている。同公報では走査光学手段に屈
折部と回折部とを有する走査光学素子を用いている。こ
の屈折部と回折部のパワーを所望の条件を満たすように
設定することにより、該走査光学装置の温度変動に伴う
主走査方向の倍率変化及びピント変化が、該走査光学素
子の屈折部と回折部とのパワー変化と、光源手段である
半導体レーザーの波長変動により補正されるようにして
いる。このことにより環境温度が変動した場合でも、高
精細な画像を得ることが可能になる。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】走査光学手段に回折部
を設けて回折によるパワーを発生させるためには、図1
0に示すように、回折格子101のピッチPを変化させ
て形成する必要がある。例えば光軸から離れるに従い回
折格子101のピッチを変化させることにより、凸のパ
ワーや凹のパワーを持たせることが可能になる。上記特
開平10-68903号公報で提案されている回折部は、主走査
方向において光軸から軸外に離れるに従い次第にピッチ
が小さくなるように変化させることにより、凸のパワー
を発生させ、所望の結像性能を得ている。
【0005】一般に回折格子のピッチが小さくなればな
るほど、使用次数の回折光に対して、他の不要次数の回
折光の強度が増大する。そのため不要次数の回折光の光
量が増えることにより、使用次数の回折光の光量が減少
する。これは当然回折部に入射する入射光に対して、回
折部を通過後の使用次数の回折光の光量が減少すること
を意味するものであり、ピッチを小さくすることに伴
い、使用次数の回折光の回折効率が低下する。従って上
記のように走査光学手段に回折によるパワーを持たせる
場合、その回折効率は軸上から軸外に向かい低下するた
め、回折部に起因する照度分布も低下する傾向にある。
【0006】また照度分布に起因する他の要因として各
光学面での表面反射がある。図9は例えば屈折率1.5
25の光学部材にS偏光の光束を入射させたときの反射
率及び透過率の角度依存性を示した説明図である。各光
学面における表面反射は入射角が増大するほど大きなも
のとなる。したがって走査光学手段においては、一般に
軸上から軸外に向かうほど入射角が増大するため、各光
学面での表面反射も大きくなり、逆に透過率が下がって
いくことになる。このことにより、もし回折部を有する
走査光学手段にS偏光で光束を入射させた場合、透過率
及び回折効率が軸上から軸外に向かって共に低下するた
め、被走査面上における照度分布も軸上から軸外に向か
って低下する。この結果、中央部に対して周辺部の濃度
が薄い画像が出力されてしまう等の弊害が発生してしま
う。
【0007】本発明は走査光学手段に回折部を用いた場
合でも、被走査面上の照度分布を均一に保ち、良好なる
画像出力が得られる走査光学装置及び画像形成装置の提
供を目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】請求項1の発明の走査光
学装置は、光源手段から射出された光束を偏向手段に導
光し、該偏向手段で偏向された光束を少なくとも一面に
回折部と、少なくとも一面に屈折部とを有する走査光学
手段により被走査面上に結像させ、該被走査面上を光走
査する走査光学装置において、該走査光学手段の画角に
よる該回折部の回折効率変化と、該屈折部の透過率変化
とを相殺させる構成とすることにより、該被走査面上に
おける照度分布を略均一にしたことを特徴としている。
【0009】請求項2の発明は請求項1の発明におい
て、前記光源手段から射出される光束の偏光方向を前記
走査光学手段の画角による回折部の回折効率変化と屈折
部の透過率変化とを相殺するように設定したことを特徴
としている。
【0010】請求項3の発明は請求項1の発明におい
て、前記光源手段から射出される光束の偏光方向が主走
査断面に対して略平行となるように、該光源手段を配置
したことを特徴としている。
【0011】請求項4の発明は請求項1、2又は3の発
明において、前記画角をθとし、該画角θにおける前記
回折部の回折効率をId(θ)、前記屈折部の透過率を
It(θ)としたとき、走査画角内において、 0.8<(Id(θ) ×It( θ))/(Id(0) ×It(0))<1.2 なる条件を満足することを特徴としている。
【0012】請求項5の発明は請求項1、2又は3の発
明において、前記光源手段は半導体レーザーより成るこ
とを特徴としている。
【0013】請求項6の発明の走査光学装置は、光源手
段から射出された光束を偏向手段に導光し、該偏向手段
で偏向された光束を少なくとも一面に回折部と、少なく
とも一面に屈折部とを有する走査光学手段により被走査
面上に結像させ、該被走査面上を光走査する走査光学装
置において、該偏向手段と該被走査面との間の光路内に
少なくとも1つの反射手段を配置し、該走査光学手段の
画角による回折部の回折効率変化と屈折部の透過率変
化、及び該反射手段の画角による反射率変化とを相殺さ
せる構成とすることにより、該被走査面上における照度
分布を略均一にしたことを特徴としている。
【0014】請求項7の発明は請求項6の発明におい
て、前記光源手段から射出される光束の偏光方向を前記
走査光学手段の画角による回折部の回折効率変化と屈折
部の透過率変化、及び前記反射手段の画角による反射率
変化とを相殺するように設定したことを特徴としてい
る。
【0015】請求項8の発明は請求項6の発明におい
て、前記光源手段から射出される光束の偏光方向が主走
査断面に対して略平行となるように、該光源手段を配置
したことを特徴としている。
【0016】請求項9の発明は請求項6の発明におい
て、前記光源手段から射出される光束の偏光方向が主走
査断面に対して略垂直となるように、該光源手段を配置
したことを特徴としている。
【0017】請求項10の発明は請求項6、7、8又は
9の発明において、前記画角をθとし、該画角θにおけ
る前記走査光学手段の回折部の回折効率をId(θ)、
屈折部の透過率をIt(θ)、前記反射手段の反射率を
Ir(θ)としたとき、走査画角内において、 0.8<(Id(θ) ×It( θ) ×Ir( θ))/(Id(0) ×It(0) ×
Ir(0))<1.2 なる条件を満足することを特徴としている。
【0018】請求項11の発明は請求項6、7、8又は
9の発明において、前記光源手段は半導体レーザーより
成ることを特徴としている。
【0019】請求項12の発明の走査光学装置は、光源
手段から射出された光束を偏向手段に導光し、該偏向手
段で偏向された光束を少なくとも一面に回折部と、少な
くとも一面に屈折部とを有する走査光学手段により被走
査面上に結像させ、該被走査面上を光走査する走査光学
装置において、該偏向手段と該被走査面との間の光路内
に少なくとも1つのフィルターを配置し、該走査光学手
段の画角による回折部の回折効率変化と屈折部の透過率
変化、及び該フィルターの画角による透過率変化とを相
殺させる構成とすることにより、該被走査面上における
照度分布を略均一にしたことを特徴としている。
【0020】請求項13の発明は請求項12の発明にお
いて、前記光源手段から射出される光束の偏光方向を前
記走査光学手段の画角による回折部の回折効率変化と屈
折部の透過率変化、及び前記フィルターの画角による透
過率変化とを相殺するように設定したことを特徴として
いる。
【0021】請求項14の発明は請求項12の発明にお
いて、前記光源手段から射出される光束の偏光方向が主
走査断面に対して略平行となるように、該光源手段を配
置したことを特徴としている。
【0022】請求項15の発明は請求項12の発明にお
いて、前記光源手段から射出される光束の偏光方向が主
走査断面に対して略垂直となるように、該光源手段を配
置したことを特徴としている。
【0023】請求項16の発明は請求項12、13、1
4又は15の発明において、前記画角をθとし、該画角
θにおける前記走査光学手段の回折部の回折効率をId
(θ)、屈折部の透過率をIt(θ)、前記フィルター
の透過率をIf(θ)としたとき、走査画角内におい
て、 0.8<(Id(θ) ×It( θ) ×If( θ))/(Id(0) ×It(0) ×
If(0))<1.2 なる条件を満足することを特徴としている。
【0024】請求項17の発明は請求項12、13、1
4又は15の発明において、前記光源手段は半導体レー
ザーより成ることを特徴としている。
【0025】請求項18の発明の画像形成装置は、前記
請求項1乃至17のいずれか1項記載の走査光学装置を
用いて画像形成を行なうことを特徴としている。
【0026】
【発明の実施の形態】[実施形態1]図1は本発明の走
査光学装置をレーザービームプリンタやデジタル複写機
等の画像形成装置に用いたときの実施形態1の主走査方
向の要部断面図(主走査断面図)である。
【0027】同図において1は光源手段であり、例えば
半導体レーザーより成っている。本実施形態では後述す
る走査光学手段6に入射する光束がほぼP偏光で入射す
るように半導体レーザー1を配置している。即ち、半導
体レーザー1の水平横モード方向が主走査断面に対して
略平行となるように、該半導体レーザー1を配置してい
る。
【0028】2はコリメーターレンズであり、光源手段
1から出射された発散光束を略平行光束に変換してい
る。3は開口絞りであり、コリメーターレンズ2から射
出した光束(光ビーム)を所望の最適なビーム形状に形
成している。4はシリンドリカルレンズ(シリンダーレ
ンズ)であり、副走査方向にのみ所定の屈折力を有して
おり、開口絞り3を通過した光束を後述する偏向手段5
の偏向面5a近傍に副走査断面内において結像(主走査
断面内においては長手の線像)させている。
【0029】5は偏向手段としての光偏向器であり、例
えばポリゴンミラー(回転多面鏡)より成り、モーター
等の駆動手段(不図示)により図中矢印A方向に一定速
度で回転している。
【0030】6はfθ特性を有する走査光学手段(走査
レンズ系)であり、少なくとも一面が屈折部を有する第
1の走査光学素子(屈折素子)6aと、少なくとも一面
が回折部11を有する第2の走査光学素子(回折素子)
6bとを有している。第1、第2の走査光学素子6a,
6bは共にプラスチック材料で形成されている。走査光
学手段6は副走査断面内において光偏向器5の偏向面5
aと被走査面7との間を略共役関係にすることにより、
倒れ補正機能を有している。7は被走査面としての感光
ドラム面である。
【0031】本実施形態において半導体レーザー1から
出射した発散光束はコリメーターレンズ2によって略平
行光束に変換され、開口絞り3によって所望のビーム形
状に整形してシリンドリカルレンズ4に入射する。シリ
ンドリカルレンズ4に入射した略平行光束のうち主走査
断面内においてはそのままの状態で射出する。また副走
査断面内においては収束して光偏向器5の偏向面5a近
傍にほぼ線像(主走査方向に長手の線像)として結像す
る。そして光偏向器5の偏向面5aで反射偏向された光
束は第1、第2の走査光学素子6a,6bにより被走査
面7上にスポット状に結像され、該光偏向器5を矢印A
方向に回転させることによって、該感光ドラム面7上を
矢印B方向(主走査方向)に光走査している。これによ
り記録媒体である感光ドラム面7上に画像記録を行なっ
ている。
【0032】図2は例えば屈折率1.525の光学部材
(屈折部)にP偏光で光束を入射させたときの反射率及
び透過率の角度依存性を示した説明図である。同図から
明らかなように各光学面(レンズ面)における表面反射
は入射角がブリュースター角まで増大するほど低くくな
り、ブリュースター角で一旦ゼロになった後、今度は増
大に転じる。
【0033】走査光学手段においては一般に主走査方向
において軸上から軸外に向かうほど入射角は増大する
が、ブリュースター角を越えることは無く、本実施形態
においてもブリュースター角以下の入射角で構成されて
いる。したがって、屈折部の各光学面での表面反射は軸
上から軸外に向かい低くなり、逆に透過率は高くなって
いくことになる。
【0034】また本実施形態では走査光学手段6の第2
の走査光学素子6bの被走査面側の第2面6b1に回折
部11を設けている。この回折部11は凸のパワーを持
つように形成されており、そのため回折格子のピッチは
主走査方向において軸上から軸外に向かい次第に小さく
なっている。回折格子のピッチが小さくなればなるほ
ど、前述した如く使用次数の回折光に対して、他の不要
次数の回折光の強度が増大する。本実施形態では1次回
折光を使用するものであるが、図3(A),(B),(C)で示す
ように、この1次回折光に対して他の0次、−1次、−
2次、……、2次、3次、……、の回折光の強度が増大
する。したがって、軸上から軸外に向かい1次回折光の
回折効率が低下することにより、回折部11に起因する
照度分布も軸上から軸外に向かい低下することになる。
【0035】本実施形態においては画角θ(走査光学手
段6の光軸と、光偏向器5によって反射偏向された後の
光束との成す角)における回折部の回折効率をId
(θ)、屈折部の透過率をIt(θ)とすると、回折効
率に起因する照度は軸上で正規化するとId(θ)/I
d(0)、屈折部の透過率に起因する照度は軸上で正規
化するとIt(θ)/It(0)で表わすことができる
ので、被走査面7上における最終的な照度は軸上で正規
化すると、 (Id(θ) ×It( θ))/(Id(0) ×It(0)) となる。良好なる画像を得るためには、被走査面7上に
おける照度分布が±20%以内にあることが望ましい。
そこで本実施形態では走査画角内において、 0.8<(Id(θ) ×It( θ))/(Id(0) ×It(0))<1.2 ‥‥‥(1) なる条件を満足させている。
【0036】即ち、本実施形態では軸上から軸外に向か
い回折部の回折効率が低下するため、走査光学手段6に
入射する光束をP偏光にすることにより、屈折部の透過
率を軸上から軸外に向かい増加させて、光学系全系とし
て相殺させることにより、上記条件式(1)を満たす構
成としている。
【0037】図4に本実施形態による走査光学手段6の
屈折部の透過率、回折部の回折効率、被走査面7上にお
ける最終的な全系での照度分布を示す。
【0038】このように本実施形態においては上述の如
く走査光学手段6の画角θによる回折部の回折効率変化
と、屈折部の透過率変化とを相殺させる構成とすること
により、走査光学手段6に回折部を用いた場合でも、図
4に示すように被走査面7上の照度分布を略均一に保つ
ことができ、これにより良好なる画像を得ている。
【0039】[実施形態2]図5は本発明の走査光学装
置をレーザービームプリンタやデジタル複写機等の画像
形成装置に用いたときの実施形態2の主走査方向の要部
断面図(主走査断面図)である。同図において図1に示
した要素と同一要素には同符番を付している。
【0040】本実施形態において前述の実施形態1と異
なる点は、走査光学手段6と被走査面7との間の光路内
に反射率の角度依存性を有する反射手段としての折り返
しミラー8を配置した点と、回折部11に与えるパワー
をより強いものにした点である。その他の構成及び光学
的作用は実施形態1と略同様であり、これにより同様な
効果を得ている。
【0041】即ち、本実施形態において回折部11のパ
ワーが強くなればなるほど、回折格子のピッチはより小
さく形成する必要がある。そして回折格子のピッチが小
さくなればなるほど、使用次数である1次回折光の回折
効率が低下する。本実施形態は実施形態1よりも回折格
子の最小ピッチが小さいため回折効率の低下も大きく、
P偏光の光束を用いたとしても、屈折部の透過率だけで
は相殺させることができない。
【0042】そこで本実施形態ではこの未補正分を相殺
させるため、走査光学手段6と被走査面7との間の光路
内に反射率の角度依存性を有する折り返しミラー8を配
置し、この折り返しミラー8の反射率を軸上から軸外に
向かい高くなるように構成することにより、未補正分を
相殺させ、これにより光学系全系として略均一なる照度
分布を得ている。
【0043】本実施形態においては画角θにおける回折
部の回折効率をId(θ)、屈折部の透過率をIt
(θ)、折り返しミラー8の反射率をIr(θ)とする
と、回折効率に起因する照度は軸上で正規化するとId
(θ)/Id(0)、屈折部の透過率に起因する照度は
軸上で正規化するとIt(θ)/It(0)、折り返し
ミラー8の反射率に起因する照度は軸上で正規化すると
Ir(θ)/Ir(0)で表わすことができるので、被
走査面7上における最終的な照度は軸上で正規化する
と、 (Id(θ) ×It( θ) ×Ir( θ))/(Id(0) ×It(0) ×Ir
(0)) となる。良好なる画像を得るためには、前述の如く被走
査面7上における照度分布が±20%以内にあることが
望ましい。そこで本実施形態では走査画角内において、 0.8<(Id(θ) ×It( θ) ×Ir( θ))/(Id(0) ×It(0) ×Ir(0))<1.2 ‥‥‥(2) なる条件を満足させている。
【0044】即ち、本実施形態では軸上から軸外に向か
い回折部の回折効率が低下するため、走査光学手段6に
入射する光束をP偏光にすることにより、屈折部の透過
率を軸上から軸外に向かい増加させて、さらに折り返し
ミラー8の反射率を軸上から軸外に向かい増加させて、
光学系全系として相殺させることにより、上記条件式
(2)を満たす構成としている。
【0045】図6に本実施形態による走査光学手段6の
屈折部の透過率、回折部の回折効率、折り返しミラー8
の反射率、被走査面7上における最終的な全系での照度
分布を示す。
【0046】このように本実施形態においては上述の如
く走査光学手段6の画角θによる回折部の回折効率変化
と屈折部の透過率変化、及び折り返しミラー8の画角θ
による反射率変化とを相殺させる構成とすることによ
り、走査光学手段6に回折部を用いた場合でも、図6に
示すように被走査面7上の照度分布を略均一に保つこと
ができ、これにより良好なる画像を得ている。
【0047】[実施形態3]図7は本発明の走査光学装
置をレーザービームプリンタやデジタル複写機等の画像
形成装置に用いたときの実施形態3の主走査方向の要部
断面図(主走査断面図)である。同図において図1に示
した要素と同一要素には同符番を付している。
【0048】本実施形態において前述の実施形態1と異
なる点は、走査光学手段6と被走査面7との間の光路内
に反射率の角度依存性を有する反射手段としての折り返
しミラー8を配置した点と、走査光学手段6に入射する
光束をS偏光になるように半導体レーザー1を配置した
点である。その他の構成及び光学的作用は実施形態1と
略同様であり、これにより同様な効果を得ている。
【0049】即ち、本実施形態では半導体レーザー1の
水平横モード方向が主走査断面に対して略垂直となるよ
うに該半導体レーザー1を配置している。
【0050】本実施形態ではS偏光の光束を用いている
ため、図9から明らかなように各光学面の表面反射は軸
上から軸外に向かい増大する。したがって、屈折部の透
過率は軸上から軸外に向かい低下することになる。また
回折部の回折効率も軸上から軸外に向かい低下する。こ
のため屈折部の透過率と回折部の回折効率から得られる
被走査面上の照度分布は軸上から軸外に向かい低下する
方向に助長されることになる。
【0051】そこで本実施形態ではこれを補正するため
に走査光学手段6と被走査面7との間の光路内に反射率
の角度依存性を有する折り返しミラー8を配置し、この
折り返しミラー8の反射率を軸上から軸外に向かい高く
なるように構成することにより、光学系全系として略均
一なる照度分布を得ている。
【0052】本実施形態においては前述の実施形態2と
同様に画角θにおける回折部の回折効率をId(θ)、
屈折部の透過率をIt(θ)、折り返しミラー8の反射
率をIr(θ)とすると、回折効率に起因する照度は軸
上で正規化するとId(θ)/Id(0)、屈折部の透
過率に起因する照度は軸上で正規化するとIt(θ)/
It(0)、折り返しミラー8の反射率に起因する照度
は軸上で正規化するとIr(θ)/Ir(0)で表わす
ことができるので、被走査面7上における最終的な照度
は軸上で正規化すると、 (Id(θ) ×It( θ) ×Ir( θ))/(Id(0) ×It(0) ×Ir
(0)) となる。良好なる画像を得るためには、前述の如く被走
査面7上における照度分布が±20%以内にあることが
望ましい。そこで本実施形態では走査画角内において、 0.8<(Id(θ) ×It( θ) ×Ir( θ))/(Id(0) ×It(0) ×Ir(0))<1.2 ‥‥‥(2) なる条件を満足させている。
【0053】即ち、本実施形態では走査光学手段6に入
射する光束をS偏光にしているため、軸上から軸外に向
かい回折部の回折効率が低下すると共に屈折部の透過率
も軸上から軸外に向かい低下している。そこで本実施形
態では折り返しミラー8の反射率を軸上から軸外に向か
い増加させて、光学系全系として相殺させることによ
り、上記条件式(2)を満たす構成としている。
【0054】図8に本実施形態による走査光学手段6の
屈折部の透過率、回折部の回折効率、折り返しミラー8
の反射率、被走査面上における最終的な全系での照度分
布を示す。
【0055】このように本実施形態においては上述の如
く走査光学手段6の画角θによる回折部の回折効率変化
と屈折部の透過率変化、及び折り返しミラー8の画角θ
による反射率変化とを相殺させる構成とすることによ
り、走査光学手段6に回折部を用いた場合でも、図8に
示すように被走査面7上の照度分布を略均一に保つこと
ができ、これにより良好なる画像を得ている。
【0056】尚、各実施形態ではfθ特性の補正が不足
することにより、被走査面上における走査スピードにバ
ラツキが生じ、それに起因する照度分布のバラツキが考
慮されていないが、当然この走査スピードを考慮した上
で照度分布の均一性を補正することも可能である。
【0057】また各実施形態では光束の偏光方向を被走
査面に対して略平行方向あるいは略垂直方向としたが、
それに限らず偏光方向を被走査面に対して所定の角度を
つけて、照度分布を略均一に補正しても良い。
【0058】また各実施形態2、3では光偏向器と被走
査面との間の光路内に折り返しミラー(反射手段)を配
置したが、該折り返しミラーに代わり、画角により透過
率を異ならせるフィルター(例えばNDフィルター等)
を配置しても本発明は前述の実施形態2,3と同様の効
果を得ることができる。
【0059】即ち、フィルターを用いた場合には画角θ
における回折部の回折効率をId(θ)、屈折部の透過
率をIt(θ)、フィルターの透過率をIf(θ)とす
ると、回折効率に起因する照度は軸上で正規化するとI
d(θ)/Id(0)、屈折部の透過率に起因する照度
は軸上で正規化するとIt(θ)/It(0)、フィル
ターの透過率に起因する照度は軸上で正規化するとIf
(θ)/If(0)で表わすことができるので、被走査
面上における最終的な照度は軸上で正規化すると、 (Id(θ) ×It( θ) ×If( θ))/(Id(0) ×It(0) ×If
(0)) となる。良好なる画像を得るためには、前述の如く被走
査面上における照度分布が±20%以内にあることが望
ましい。そこで走査画角内において、 0.8<(Id(θ) ×It( θ) ×If( θ))/(Id(0) ×It(0) ×If(0))<1.2 ‥‥‥(3) なる条件を満足させている。
【0060】このように折り返しミラーに代わりにフィ
ルターを用いた場合においても上述の如く走査光学手段
の画角θによる回折部の回折効率変化と屈折部の透過率
変化、及びフィルターの画角θによる透過率変化とを相
殺させる構成とすることにより、走査光学手段に回折部
を用いた場合でも、被走査面上の照度分布を略均一に保
つことができる。
【0061】また上述した折り返しミラーとフィルター
とを組合わせて、走査光学手段の画角θによる回折部の
回折効率変化と屈折部の透過率変化、及び折り返しミラ
ーの画角θによる反射率変化、及びフィルターの画角θ
による透過率変化とを相殺させる構成としても良い。
【0062】また各実施形態では走査光学手段を2つの
走査光学素子より構成し、該2つの走査光学素子に各々
回折部と屈折部とを設けたが、これに限らず、例えば走
査光学手段を1つの走査光学素子より構成し、該1つの
走査光学素子に回折部と屈折部を設けて構成しても良
い。
【0063】また各実施形態では光源手段として単一の
光束を射出する半導体レーザーを用いたが、複数の光束
を射出するマルチビーム半導体レーザーを用いても本発
明は前述の各実施形態と同様に適用することができる。
【0064】また各実施形態では屈折部と回折部とのパ
ワー比を最適にすることにより、走査光学装置の温度変
動に伴う主走査、副走査方向の倍率変化及びピント変化
を、該屈折部と回折部とのパワー変化と、光源手段であ
る半導体レーザーの波長変動により補正されるようにし
ている。
【0065】
【発明の効果】本発明によれば前述の如く、(1) 走査光
学手段の画角による回折部の回折効率変化と屈折部の透
過率変化とを相殺させる構成とすることにより、(2) 走
査光学手段の画角による回折部の回折効率変化と屈折部
の透過率変化、及び反射手段の画角による反射率変化と
を相殺させる構成とすることにより、(3) 走査光学手段
の画角による回折部の回折効率変化と屈折部の透過率変
化、及びフィルターの画角による透過率変化とを相殺さ
せる構成とすることにより、走査光学手段に回折部を用
いた場合でも、被走査面上の照度分布を略均一に保つこ
とができ、これにより良好なる画像出力が可能な走査光
学装置及び画像形成装置を達成することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の実施形態1の主走査方向の要部断面
【図2】 P偏光の反射率、透過率の入射角度依存性を
示す説明図
【図3】 不要次数の回折光の回折効率を示す説明図
【図4】 本発明の実施形態1の照度分布を示す説明図
【図5】 本発明の実施形態2の主走査方向の要部断面
【図6】 本発明の実施形態2の照度分布を示す説明図
【図7】 本発明の実施形態3の主走査方向の要部断面
【図8】 本発明の実施形態3の照度分布を示す説明図
【図9】 S偏光の反射率、透過率の入射角度依存性を
示す説明図
【図10】 回折格子の形状を示す説明図
【符号の説明】
1 光源手段(半導体レーザー) 2 コリメーターレンズ 3 開口絞り 4 シリンドリカルレンズ 5 偏向手段(回転多面鏡) 5a 偏向面 6 走査光学手段 6a 第1の走査光学素子 6b 第2の走査光学素子 7 被走査面(感光ドラム面) 8 反射手段(折り返しミラー) 11 回折格子
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2C362 AA11 AA26 BA85 BA86 2H045 AA01 CB32 5C072 AA03 BA17 CA06 CA15 DA04 DA20 DA21 DA23 HA02 HA06 HB01 RA12 XA01 XA05

Claims (18)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 光源手段から射出された光束を偏向手段
    に導光し、該偏向手段で偏向された光束を少なくとも一
    面に回折部と、少なくとも一面に屈折部とを有する走査
    光学手段により被走査面上に結像させ、該被走査面上を
    光走査する走査光学装置において、 該走査光学手段の画角による該回折部の回折効率変化
    と、該屈折部の透過率変化とを相殺させる構成とするこ
    とにより、該被走査面上における照度分布を略均一にし
    たことを特徴とする走査光学装置。
  2. 【請求項2】 前記光源手段から射出される光束の偏光
    方向を前記走査光学手段の画角による回折部の回折効率
    変化と屈折部の透過率変化とを相殺するように設定した
    ことを特徴とする請求項1記載の走査光学装置。
  3. 【請求項3】 前記光源手段から射出される光束の偏光
    方向が主走査断面に対して略平行となるように、該光源
    手段を配置したことを特徴とする請求項1記載の走査光
    学装置。
  4. 【請求項4】 前記画角をθとし、該画角θにおける前
    記回折部の回折効率をId(θ)、前記屈折部の透過率
    をIt(θ)としたとき、走査画角内において、 0.8<(Id(θ) ×It( θ))/(Id(0) ×It(0))<1.2 なる条件を満足することを特徴とする請求項1、2又は
    3記載の走査光学装置。
  5. 【請求項5】 前記光源手段は半導体レーザーより成る
    ことを特徴とする請求項1、2又は3記載の走査光学装
    置。
  6. 【請求項6】 光源手段から射出された光束を偏向手段
    に導光し、該偏向手段で偏向された光束を少なくとも一
    面に回折部と、少なくとも一面に屈折部とを有する走査
    光学手段により被走査面上に結像させ、該被走査面上を
    光走査する走査光学装置において、 該偏向手段と該被走査面との間の光路内に少なくとも1
    つの反射手段を配置し、該走査光学手段の画角による回
    折部の回折効率変化と屈折部の透過率変化、及び該反射
    手段の画角による反射率変化とを相殺させる構成とする
    ことにより、該被走査面上における照度分布を略均一に
    したことを特徴とする走査光学装置。
  7. 【請求項7】 前記光源手段から射出される光束の偏光
    方向を前記走査光学手段の画角による回折部の回折効率
    変化と屈折部の透過率変化、及び前記反射手段の画角に
    よる反射率変化とを相殺するように設定したことを特徴
    とする請求項6記載の走査光学装置。
  8. 【請求項8】 前記光源手段から射出される光束の偏光
    方向が主走査断面に対して略平行となるように、該光源
    手段を配置したことを特徴とする請求項6記載の走査光
    学装置。
  9. 【請求項9】 前記光源手段から射出される光束の偏光
    方向が主走査断面に対して略垂直となるように、該光源
    手段を配置したことを特徴とする請求項6記載の走査光
    学装置。
  10. 【請求項10】 前記画角をθとし、該画角θにおける
    前記走査光学手段の回折部の回折効率をId(θ)、屈
    折部の透過率をIt(θ)、前記反射手段の反射率をI
    r(θ)としたとき、走査画角内において、 0.8<(Id(θ) ×It( θ) ×Ir( θ))/(Id(0) ×It(0) ×
    Ir(0))<1.2 なる条件を満足することを特徴とする請求項6、7、8
    又は9記載の走査光学装置。
  11. 【請求項11】 前記光源手段は半導体レーザーより成
    ることを特徴とする請求項6、7、8又は9記載の走査
    光学装置。
  12. 【請求項12】 光源手段から射出された光束を偏向手
    段に導光し、該偏向手段で偏向された光束を少なくとも
    一面に回折部と、少なくとも一面に屈折部とを有する走
    査光学手段により被走査面上に結像させ、該被走査面上
    を光走査する走査光学装置において、 該偏向手段と該被走査面との間の光路内に少なくとも1
    つのフィルターを配置し、該走査光学手段の画角による
    回折部の回折効率変化と屈折部の透過率変化、及び該フ
    ィルターの画角による透過率変化とを相殺させる構成と
    することにより、該被走査面上における照度分布を略均
    一にしたことを特徴とする走査光学装置。
  13. 【請求項13】 前記光源手段から射出される光束の偏
    光方向を前記走査光学手段の画角による回折部の回折効
    率変化と屈折部の透過率変化、及び前記フィルターの画
    角による透過率変化とを相殺するように設定したことを
    特徴とする請求項12記載の走査光学装置。
  14. 【請求項14】 前記光源手段から射出される光束の偏
    光方向が主走査断面に対して略平行となるように、該光
    源手段を配置したことを特徴とする請求項12記載の走
    査光学装置。
  15. 【請求項15】 前記光源手段から射出される光束の偏
    光方向が主走査断面に対して略垂直となるように、該光
    源手段を配置したことを特徴とする請求項12記載の走
    査光学装置。
  16. 【請求項16】 前記画角をθとし、該画角θにおける
    前記走査光学手段の回折部の回折効率をId(θ)、屈
    折部の透過率をIt(θ)、前記フィルターの透過率を
    If(θ)としたとき、走査画角内において、 0.8<(Id(θ) ×It( θ) ×If( θ))/(Id(0) ×It(0) ×
    If(0))<1.2 なる条件を満足することを特徴とする請求項12、1
    3、14又は15記載の走査光学装置。
  17. 【請求項17】 前記光源手段は半導体レーザーより成
    ることを特徴とする請求項12、13、14又は15記
    載の走査光学装置。
  18. 【請求項18】 前記請求項1乃至17のいずれか1項
    記載の走査光学装置を用いて画像形成を行なうことを特
    徴とする画像形成装置。
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