JP2000334269A - 排ガス浄化装置 - Google Patents
排ガス浄化装置Info
- Publication number
- JP2000334269A JP2000334269A JP11149808A JP14980899A JP2000334269A JP 2000334269 A JP2000334269 A JP 2000334269A JP 11149808 A JP11149808 A JP 11149808A JP 14980899 A JP14980899 A JP 14980899A JP 2000334269 A JP2000334269 A JP 2000334269A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- storage
- temperature
- catalyst
- exhaust gas
- low
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Exhaust Gas Treatment By Means Of Catalyst (AREA)
- Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】低温域から高温域まで効率よくNOx を吸蔵還元
することができ、かつ高温域における触媒の劣化を抑制
する。 【解決手段】低温域の排ガス中のNOx を効率よく吸蔵す
る低温型NOx 吸蔵還元型触媒１と、高温域の排ガス中の
NOx を効率よく吸蔵する高温型NOx 吸蔵還元型触媒２
と、低温型NOx 吸蔵還元型触媒１及び高温型NOx 吸蔵還
元型触媒２への排ガス流の流入を制御する制御装置とよ
りなり、低温域の排ガスが低温型NOx 吸蔵還元型触媒１
に流入し、高温域の排ガスが高温型NOx 吸蔵還元型触媒
２に流入するように選択的に制御装置が制御するように
構成した。低温域及び高温域それぞれに適したNOx 吸蔵
還元型触媒によってNOx を吸蔵還元することができる。
することができ、かつ高温域における触媒の劣化を抑制
する。 【解決手段】低温域の排ガス中のNOx を効率よく吸蔵す
る低温型NOx 吸蔵還元型触媒１と、高温域の排ガス中の
NOx を効率よく吸蔵する高温型NOx 吸蔵還元型触媒２
と、低温型NOx 吸蔵還元型触媒１及び高温型NOx 吸蔵還
元型触媒２への排ガス流の流入を制御する制御装置とよ
りなり、低温域の排ガスが低温型NOx 吸蔵還元型触媒１
に流入し、高温域の排ガスが高温型NOx 吸蔵還元型触媒
２に流入するように選択的に制御装置が制御するように
構成した。低温域及び高温域それぞれに適したNOx 吸蔵
還元型触媒によってNOx を吸蔵還元することができる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はNOx 吸蔵還元型触媒
を用いた排ガス浄化装置に関する。本発明の排ガス浄化
装置によれば、低温域から高温域までNOx を有効に吸蔵
還元することができる。
を用いた排ガス浄化装置に関する。本発明の排ガス浄化
装置によれば、低温域から高温域までNOx を有効に吸蔵
還元することができる。
【０００２】
【従来の技術】リーンバーンエンジンにおいて、常時は
酸素過剰の燃料リーン条件で燃焼させ、間欠的に燃料ス
トイキ〜リッチ条件とすることにより排ガスを還元雰囲
気としてNOx を還元浄化するシステムが開発され、実用
化されている。そしてこのシステムに最適な触媒とし
て、リーン雰囲気でNOx を吸蔵し、ストイキ〜リッチ雰
囲気で吸蔵されたNOx を放出するNOx 吸蔵材を用いたNO
x 吸蔵還元型の排ガス浄化用触媒が開発されている。
酸素過剰の燃料リーン条件で燃焼させ、間欠的に燃料ス
トイキ〜リッチ条件とすることにより排ガスを還元雰囲
気としてNOx を還元浄化するシステムが開発され、実用
化されている。そしてこのシステムに最適な触媒とし
て、リーン雰囲気でNOx を吸蔵し、ストイキ〜リッチ雰
囲気で吸蔵されたNOx を放出するNOx 吸蔵材を用いたNO
x 吸蔵還元型の排ガス浄化用触媒が開発されている。
【０００３】例えば特開平5-317652号公報には、Baなど
のアルカリ土類金属とPtをアルミナなどの多孔質酸化物
担体に担持した排ガス浄化用触媒が提案されている。ま
た特開平 6-31139号公報には、Ｋなどのアルカリ金属と
Ptをアルミナなどの多孔質酸化物担体に担持した排ガス
浄化用触媒が提案されている。さらに特開平5-168860号
公報には、Laなどの希土類元素とPtをアルミナなどの多
孔質酸化物担体に担持した排ガス浄化用触媒が提案され
ている。
のアルカリ土類金属とPtをアルミナなどの多孔質酸化物
担体に担持した排ガス浄化用触媒が提案されている。ま
た特開平 6-31139号公報には、Ｋなどのアルカリ金属と
Ptをアルミナなどの多孔質酸化物担体に担持した排ガス
浄化用触媒が提案されている。さらに特開平5-168860号
公報には、Laなどの希土類元素とPtをアルミナなどの多
孔質酸化物担体に担持した排ガス浄化用触媒が提案され
ている。
【０００４】このNOx 吸蔵還元型触媒を用いれば、空燃
比をリーン側からパルス状にストイキ〜リッチ側となる
ように制御することにより、排ガスもリーン雰囲気から
パルス状にストイキ〜リッチ雰囲気となり、リーン側で
はNOx がNOx 吸蔵材に吸蔵され、それがストイキ又はリ
ッチ側で放出されてHCやCOなどの還元性成分と反応して
浄化される。したがって、リーンバーンエンジンからの
排ガスであってもNOxを効率良く浄化することができ
る。また排ガス中のHC及びCOは、貴金属により酸化され
るとともにNOx の還元にも消費されるので、HC及びCOも
効率よく浄化される。
比をリーン側からパルス状にストイキ〜リッチ側となる
ように制御することにより、排ガスもリーン雰囲気から
パルス状にストイキ〜リッチ雰囲気となり、リーン側で
はNOx がNOx 吸蔵材に吸蔵され、それがストイキ又はリ
ッチ側で放出されてHCやCOなどの還元性成分と反応して
浄化される。したがって、リーンバーンエンジンからの
排ガスであってもNOxを効率良く浄化することができ
る。また排ガス中のHC及びCOは、貴金属により酸化され
るとともにNOx の還元にも消費されるので、HC及びCOも
効率よく浄化される。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】ところが冬季の始動時
など排ガス温度が低温の場合には、NOx 吸蔵材へのNOx
の吸蔵が困難となり、NOx 浄化率が低下するという不具
合があった。例えばNOx 吸蔵材としてBaとＫを担持した
NOx 吸蔵還元型触媒が知られている。Ba及びＫは、一般
に安定な炭酸塩として担持されている。このようなNOx
吸蔵還元型触媒では、炭酸バリウムは 300〜 550℃以上
の温度範囲でNOx をよく吸蔵し、炭酸カリウムは 400℃
以上でNOx をよく吸蔵するため、 300℃以上の温度範囲
で効率よくNOx を吸蔵還元することができる。しかしNO
x の排出量低減という目的において、始動時の排出量低
減はきわめて重要であり、このためより低温側でのNOx
吸蔵還元能の向上が必要となっている。つまり 250℃あ
るいは 200℃という低温域におけるNOx 吸蔵性能を向上
させることが必要である。
など排ガス温度が低温の場合には、NOx 吸蔵材へのNOx
の吸蔵が困難となり、NOx 浄化率が低下するという不具
合があった。例えばNOx 吸蔵材としてBaとＫを担持した
NOx 吸蔵還元型触媒が知られている。Ba及びＫは、一般
に安定な炭酸塩として担持されている。このようなNOx
吸蔵還元型触媒では、炭酸バリウムは 300〜 550℃以上
の温度範囲でNOx をよく吸蔵し、炭酸カリウムは 400℃
以上でNOx をよく吸蔵するため、 300℃以上の温度範囲
で効率よくNOx を吸蔵還元することができる。しかしNO
x の排出量低減という目的において、始動時の排出量低
減はきわめて重要であり、このためより低温側でのNOx
吸蔵還元能の向上が必要となっている。つまり 250℃あ
るいは 200℃という低温域におけるNOx 吸蔵性能を向上
させることが必要である。
【０００６】また高温域においては、NOx 吸蔵材と担体
のアルミナなどとの反応が生じ、 BaAl2O4などの固溶体
を生成する場合がある。このようにNOx 吸蔵材が固溶体
となると、NOx 吸蔵材のNOx 吸蔵能が消失しNOx の還元
浄化が困難となるという問題がある。本発明はこのよう
な事情に鑑みてなされたものであり、低温域から高温域
まで効率よくNOx を吸蔵還元することができ、かつ高温
域における触媒の劣化を抑制することを目的とする。
のアルミナなどとの反応が生じ、 BaAl2O4などの固溶体
を生成する場合がある。このようにNOx 吸蔵材が固溶体
となると、NOx 吸蔵材のNOx 吸蔵能が消失しNOx の還元
浄化が困難となるという問題がある。本発明はこのよう
な事情に鑑みてなされたものであり、低温域から高温域
まで効率よくNOx を吸蔵還元することができ、かつ高温
域における触媒の劣化を抑制することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決する本発
明の排ガス浄化装置の特徴は、排ガス流路に設けられ低
温域の排ガス中のNOx を効率よく吸蔵する低温型NOx 吸
蔵還元型触媒と、排ガス流路に設けられ高温域の排ガス
中のNOx を効率よく吸蔵する高温型NOx 吸蔵還元型触媒
と、低温型NOx 吸蔵還元型触媒及び高温型NOx 吸蔵還元
型触媒への排ガス流の流入を制御する制御装置と、より
なり、低温域の排ガスが低温型NOx 吸蔵還元型触媒に流
入し、高温域の排ガスが高温型NOx 吸蔵還元型触媒に流
入するように選択的に制御装置が制御するように構成さ
れたことにある。
明の排ガス浄化装置の特徴は、排ガス流路に設けられ低
温域の排ガス中のNOx を効率よく吸蔵する低温型NOx 吸
蔵還元型触媒と、排ガス流路に設けられ高温域の排ガス
中のNOx を効率よく吸蔵する高温型NOx 吸蔵還元型触媒
と、低温型NOx 吸蔵還元型触媒及び高温型NOx 吸蔵還元
型触媒への排ガス流の流入を制御する制御装置と、より
なり、低温域の排ガスが低温型NOx 吸蔵還元型触媒に流
入し、高温域の排ガスが高温型NOx 吸蔵還元型触媒に流
入するように選択的に制御装置が制御するように構成さ
れたことにある。
【０００８】なお低温型NOx 吸蔵還元型触媒にはNOx 吸
蔵材としてアルカリ金属の硝酸塩及びアルカリ土類金属
の硝酸塩の少なくとも一方が担持され、高温型NOx 吸蔵
還元型触媒にはNOx 吸蔵材としてアルカリ金属の炭酸塩
及びアルカリ土類金属の炭酸塩の少なくとも一方が担持
されていることが望ましい。
蔵材としてアルカリ金属の硝酸塩及びアルカリ土類金属
の硝酸塩の少なくとも一方が担持され、高温型NOx 吸蔵
還元型触媒にはNOx 吸蔵材としてアルカリ金属の炭酸塩
及びアルカリ土類金属の炭酸塩の少なくとも一方が担持
されていることが望ましい。
【０００９】
【発明の実施の形態】本発明の排ガス浄化装置では、制
御装置の制御により、低温域の排ガスは低温時にNOx を
効率よく吸蔵する低温型NOx 吸蔵還元型触媒に流入し、
高温域の排ガスは高温時にNOx を効率よく吸蔵する高温
型NOx 吸蔵還元型触媒に流入する。したがって低温域か
ら高温域までNOx を効率よく吸蔵還元することができ
る。
御装置の制御により、低温域の排ガスは低温時にNOx を
効率よく吸蔵する低温型NOx 吸蔵還元型触媒に流入し、
高温域の排ガスは高温時にNOx を効率よく吸蔵する高温
型NOx 吸蔵還元型触媒に流入する。したがって低温域か
ら高温域までNOx を効率よく吸蔵還元することができ
る。
【００１０】NOx 吸蔵還元触媒としては、多孔質酸化物
からなる担体に、NOx 吸蔵材と貴金属を担持したものが
用いられる。多孔質酸化物としては、γ-Al2O3、SiO2、
ZrO2、TiO2、SiO2-Al2O3、ゼオライトなどが例示され
る。また担体中には、CeO2あるいはCeO2／ZrO2などの酸
素吸蔵放出能を有する酸化物を含むことも好ましい。こ
れにより浄化性能を一層向上させることができる。
からなる担体に、NOx 吸蔵材と貴金属を担持したものが
用いられる。多孔質酸化物としては、γ-Al2O3、SiO2、
ZrO2、TiO2、SiO2-Al2O3、ゼオライトなどが例示され
る。また担体中には、CeO2あるいはCeO2／ZrO2などの酸
素吸蔵放出能を有する酸化物を含むことも好ましい。こ
れにより浄化性能を一層向上させることができる。
【００１１】またNOx 吸蔵材となるNOx 吸蔵元素として
は、アルカリ金属、アルカリ土類金属及び希土類元素か
ら選ばれる少なくとも一種が用いられる。アルカリ金属
としてはLi、Na、Ｋ、Csが例示される。アルカリ土類金
属とは周期表2A族元素をいいBa、Be、Mg、Ca、Srなどが
例示される。また希土類元素としては、Sc、Ｙ、La、C
e、Pr、Nd、Dy、Ybなどが例示される。これらの元素の
炭酸塩、硝酸塩などをNO x 吸蔵材として用いることがで
きる。なお炭酸塩はそのままNOx 吸蔵能が発現される
が、硝酸塩は還元されやすく排ガス中の還元成分によっ
て還元されることによってNOx 吸蔵能が発現される。
は、アルカリ金属、アルカリ土類金属及び希土類元素か
ら選ばれる少なくとも一種が用いられる。アルカリ金属
としてはLi、Na、Ｋ、Csが例示される。アルカリ土類金
属とは周期表2A族元素をいいBa、Be、Mg、Ca、Srなどが
例示される。また希土類元素としては、Sc、Ｙ、La、C
e、Pr、Nd、Dy、Ybなどが例示される。これらの元素の
炭酸塩、硝酸塩などをNO x 吸蔵材として用いることがで
きる。なお炭酸塩はそのままNOx 吸蔵能が発現される
が、硝酸塩は還元されやすく排ガス中の還元成分によっ
て還元されることによってNOx 吸蔵能が発現される。
【００１２】このNOx 吸蔵材の担持量は、担体１リット
ルあたり0.05〜 1.0モルの範囲が望ましい。担持量が0.
05モルより少ないとNOx 吸蔵能力が小さくNOx 浄化性能
が低下し、 1.0モルを超えて含有しても効果が飽和し他
の成分量の低下による不具合が生じる。貴金属として
は、Pt，Rh，Pd，IrあるいはRuの１種又は複数種を用い
ることができる。この貴金属の担持量は、担体基材１リ
ットルあたりに、Pt及びPdの場合は 0.1〜20ｇが好まし
く、 0.5〜10ｇが特に好ましい。またRhの場合は0.01〜
10ｇが好ましく、0.05〜5ｇが特に好ましい。
ルあたり0.05〜 1.0モルの範囲が望ましい。担持量が0.
05モルより少ないとNOx 吸蔵能力が小さくNOx 浄化性能
が低下し、 1.0モルを超えて含有しても効果が飽和し他
の成分量の低下による不具合が生じる。貴金属として
は、Pt，Rh，Pd，IrあるいはRuの１種又は複数種を用い
ることができる。この貴金属の担持量は、担体基材１リ
ットルあたりに、Pt及びPdの場合は 0.1〜20ｇが好まし
く、 0.5〜10ｇが特に好ましい。またRhの場合は0.01〜
10ｇが好ましく、0.05〜5ｇが特に好ましい。
【００１３】またNOx 吸蔵還元型触媒の形状は、ペレッ
ト型あるいはハニカム形状のモノリス型などとすること
ができる。モノリス型の場合には、コージェライトや金
属箔などから形成されたハニカム形状の耐熱性基材に、
上記担体粉末をコートしてコート層を形成し、そのコー
ト層にNOx 吸蔵材と貴金属を担持することで形成するこ
とができる。
ト型あるいはハニカム形状のモノリス型などとすること
ができる。モノリス型の場合には、コージェライトや金
属箔などから形成されたハニカム形状の耐熱性基材に、
上記担体粉末をコートしてコート層を形成し、そのコー
ト層にNOx 吸蔵材と貴金属を担持することで形成するこ
とができる。
【００１４】NOx 吸蔵還元型触媒のNOx 吸蔵能は温度依
存性が大きく、その温度依存性はNO x 吸蔵還元型触媒の
組成によって変化する。したがって低温型NOx 吸蔵還元
型触媒と高温型NOx 吸蔵還元型触媒の区分は、相対的に
低温域でNOx 吸蔵能が高いNO x 吸蔵還元型触媒を低温型
に用い、相対的に高温域でNOx 吸蔵能が高いNOx 吸蔵還
元型触媒を高温型に用いればよい。
存性が大きく、その温度依存性はNO x 吸蔵還元型触媒の
組成によって変化する。したがって低温型NOx 吸蔵還元
型触媒と高温型NOx 吸蔵還元型触媒の区分は、相対的に
低温域でNOx 吸蔵能が高いNO x 吸蔵還元型触媒を低温型
に用い、相対的に高温域でNOx 吸蔵能が高いNOx 吸蔵還
元型触媒を高温型に用いればよい。
【００１５】例えばNOx 吸蔵元素の種類及びその塩の種
類によってNOx 吸蔵能の温度依存性が異なり、NOx 浄化
に有効なNOx 吸着性能を示す最低温度は表１のように示
される。なお表１において、硝酸塩については硝酸塩が
一旦還元された後の最低NOx吸蔵温度である。
類によってNOx 吸蔵能の温度依存性が異なり、NOx 浄化
に有効なNOx 吸着性能を示す最低温度は表１のように示
される。なお表１において、硝酸塩については硝酸塩が
一旦還元された後の最低NOx吸蔵温度である。
【００１６】
【表１】 したがって表１に示すNOx 吸蔵材を種々選択して用いる
ことにより、低温型NO x 吸蔵還元型触媒と高温型NOx 吸
蔵還元型触媒を構成することができる。
ことにより、低温型NO x 吸蔵還元型触媒と高温型NOx 吸
蔵還元型触媒を構成することができる。
【００１７】低温型NOx 吸蔵還元型触媒と高温型NOx 吸
蔵還元型触媒は、排ガス流路に直列又は並列に配置され
る。そして制御装置により、低温時には排ガスが低温型
NOx吸蔵還元型触媒に流入し、高温時には排ガスが高温
型NOx 吸蔵還元型触媒に流入するように制御される。こ
の制御装置としては、例えば形状記憶合金あるいはバイ
メタルから形成された弁とし、所定温度で一方あるいは
両方のNOx 吸蔵還元型触媒の入口を開閉するように構成
することができる。また、温度センサーと切換バルブを
配置し、温度センサーによって排ガス温度が所定温度の
時に切換バルブを制御して、一方あるいは両方のNOx 吸
蔵還元型触媒の入口を開閉する構成としてもよい。
蔵還元型触媒は、排ガス流路に直列又は並列に配置され
る。そして制御装置により、低温時には排ガスが低温型
NOx吸蔵還元型触媒に流入し、高温時には排ガスが高温
型NOx 吸蔵還元型触媒に流入するように制御される。こ
の制御装置としては、例えば形状記憶合金あるいはバイ
メタルから形成された弁とし、所定温度で一方あるいは
両方のNOx 吸蔵還元型触媒の入口を開閉するように構成
することができる。また、温度センサーと切換バルブを
配置し、温度センサーによって排ガス温度が所定温度の
時に切換バルブを制御して、一方あるいは両方のNOx 吸
蔵還元型触媒の入口を開閉する構成としてもよい。
【００１８】排ガス温度が低温域の場合には、低温型NO
x 吸蔵還元型触媒のみに排ガスが流入するように構成し
てもよいが、低温型NOx 吸蔵還元型触媒を通過した排ガ
スがさらに高温型NOx 吸蔵還元型触媒に流入するように
構成することが好ましい。このようにすれば、低温型NO
x 吸蔵還元型触媒における反応により排ガス温度が上昇
するので、高温型NOx 吸蔵還元型触媒においてもNOx を
吸蔵還元することが可能となる場合がある。しかし排ガ
ス温度が高温域の場合には、排ガスは高温型NO x 吸蔵還
元型触媒にのみ流入するように構成することが好まし
い。低温型NOx 吸蔵還元型触媒に高温域の排ガスが流入
すると、NOx 吸蔵材と担体との反応が生じてアルミネー
トなどが生成し、NOx 吸蔵能が消失する場合がある。
x 吸蔵還元型触媒のみに排ガスが流入するように構成し
てもよいが、低温型NOx 吸蔵還元型触媒を通過した排ガ
スがさらに高温型NOx 吸蔵還元型触媒に流入するように
構成することが好ましい。このようにすれば、低温型NO
x 吸蔵還元型触媒における反応により排ガス温度が上昇
するので、高温型NOx 吸蔵還元型触媒においてもNOx を
吸蔵還元することが可能となる場合がある。しかし排ガ
ス温度が高温域の場合には、排ガスは高温型NO x 吸蔵還
元型触媒にのみ流入するように構成することが好まし
い。低温型NOx 吸蔵還元型触媒に高温域の排ガスが流入
すると、NOx 吸蔵材と担体との反応が生じてアルミネー
トなどが生成し、NOx 吸蔵能が消失する場合がある。
【００１９】例えば硝酸バリウム（ Ba(NO3)2)は、 500
℃以上の高温で Al2O3と反応して BaAl2O4が生成するの
で、低温型NOx 吸蔵還元型触媒には用いることができる
が、500℃以上で用いられる高温型NOx 吸蔵還元型触媒
には用いられない。しかし炭酸バリウム（ Ba(CO3)2)は
分解温度が1200℃と高く、 500℃以上の高温でも BaAl2
O4の生成が抑制されるので、高温型NOx 吸蔵還元型触媒
として用いることができる。
℃以上の高温で Al2O3と反応して BaAl2O4が生成するの
で、低温型NOx 吸蔵還元型触媒には用いることができる
が、500℃以上で用いられる高温型NOx 吸蔵還元型触媒
には用いられない。しかし炭酸バリウム（ Ba(CO3)2)は
分解温度が1200℃と高く、 500℃以上の高温でも BaAl2
O4の生成が抑制されるので、高温型NOx 吸蔵還元型触媒
として用いることができる。
【００２０】
【実施例】以下、実施例により本発明を具体的に説明す
る。 （実施例１）図１に本実施例の排ガス浄化装置の模式図
を示す。この排ガス浄化装置は、２種類のNOx 吸蔵還元
型触媒が排ガス流路に直列に配置され、上流側に配置さ
れた低温型NOx 吸蔵還元型触媒１と、その下流側に配置
された高温型NOx 吸蔵還元型触媒２とから構成されてい
る。また低温型NOx 吸蔵還元型触媒１の上流側と高温型
NOx 吸蔵還元型触媒２の入口とを連結するバイパス通路
３が設けられている。そして低温型NOx 吸蔵還元型触媒
１の入口とバイパス通路３の入口は近接して設けられ、
両入口を開閉可能な切換バルブ４が設けられている。
る。 （実施例１）図１に本実施例の排ガス浄化装置の模式図
を示す。この排ガス浄化装置は、２種類のNOx 吸蔵還元
型触媒が排ガス流路に直列に配置され、上流側に配置さ
れた低温型NOx 吸蔵還元型触媒１と、その下流側に配置
された高温型NOx 吸蔵還元型触媒２とから構成されてい
る。また低温型NOx 吸蔵還元型触媒１の上流側と高温型
NOx 吸蔵還元型触媒２の入口とを連結するバイパス通路
３が設けられている。そして低温型NOx 吸蔵還元型触媒
１の入口とバイパス通路３の入口は近接して設けられ、
両入口を開閉可能な切換バルブ４が設けられている。
【００２１】切換バルブ４はデジタル回路からなる制御
系５からの信号により駆動され、低温型NOx 吸蔵還元型
触媒１の入口を閉じるとともにバイパス通路３の入口を
開き、あるいは低温型NOx 吸蔵還元型触媒１の入口を開
くとともにバイパス通路３の入口を閉じるように構成さ
れている。また低温型NOx 吸蔵還元型触媒１の上流側の
排気流路には温度センサー６が配置され、温度センサー
６の検出信号は制御系５に入力されている。なお図１は
切換バルブ４が低温型NOx 還元型触媒１の入口を閉じた
状態を示す。また切換バルブ４と、制御系５及び温度セ
ンサー６とで、本発明にいう制御装置が構成されてい
る。
系５からの信号により駆動され、低温型NOx 吸蔵還元型
触媒１の入口を閉じるとともにバイパス通路３の入口を
開き、あるいは低温型NOx 吸蔵還元型触媒１の入口を開
くとともにバイパス通路３の入口を閉じるように構成さ
れている。また低温型NOx 吸蔵還元型触媒１の上流側の
排気流路には温度センサー６が配置され、温度センサー
６の検出信号は制御系５に入力されている。なお図１は
切換バルブ４が低温型NOx 還元型触媒１の入口を閉じた
状態を示す。また切換バルブ４と、制御系５及び温度セ
ンサー６とで、本発明にいう制御装置が構成されてい
る。
【００２２】低温型NOx 吸蔵還元型触媒１は、コージェ
ライト製のハニカム形状の基材と、基材表面に形成され
たγ-Al2O3からなるコート層と、コート層に担持された
硝酸バリウム及びPtとから構成されている。硝酸バリウ
ムは基材１リットルあたりBaとして 0.2モル担持され、
Ptは基材１リットルあたり 1.0ｇ担持されている。また
高温型NOx 吸蔵還元型触媒２は、コージェライト製のハ
ニカム形状の基材と、基材表面に形成されたγ-Al2O3か
らなるコート層と、コート層に担持された炭酸バリウム
及びPtとから構成されている。炭酸バリウムは基材１リ
ットルあたりBaとして 0.2モル担持され、Ptは基材１リ
ットルあたり 1.0ｇ担持されている。
ライト製のハニカム形状の基材と、基材表面に形成され
たγ-Al2O3からなるコート層と、コート層に担持された
硝酸バリウム及びPtとから構成されている。硝酸バリウ
ムは基材１リットルあたりBaとして 0.2モル担持され、
Ptは基材１リットルあたり 1.0ｇ担持されている。また
高温型NOx 吸蔵還元型触媒２は、コージェライト製のハ
ニカム形状の基材と、基材表面に形成されたγ-Al2O3か
らなるコート層と、コート層に担持された炭酸バリウム
及びPtとから構成されている。炭酸バリウムは基材１リ
ットルあたりBaとして 0.2モル担持され、Ptは基材１リ
ットルあたり 1.0ｇ担持されている。
【００２３】制御系５は、温度センサー５からの信号が
入力され、排ガス温度が 400℃未満の場合には切換バル
ブ４が低温型NOx 吸蔵還元型触媒１の入口を開くととも
にバイパス通路３の入口を閉じるように制御し、排ガス
温度が 400℃以上の場合には切換バルブ４が低温型NOx
吸蔵還元型触媒１の入口を閉じるとともにバイパス通路
３の入口を開くように制御している。
入力され、排ガス温度が 400℃未満の場合には切換バル
ブ４が低温型NOx 吸蔵還元型触媒１の入口を開くととも
にバイパス通路３の入口を閉じるように制御し、排ガス
温度が 400℃以上の場合には切換バルブ４が低温型NOx
吸蔵還元型触媒１の入口を閉じるとともにバイパス通路
３の入口を開くように制御している。
【００２４】上記のように構成された本実施例の排ガス
浄化装置では、排ガス温度が 400℃未満の場合には、制
御系５の制御により切換バルブ４が低温型NOx 吸蔵還元
型触媒１の入口を開くとともにバイパス通路３の入口を
閉じている。したがって排ガスは、低温型NOx 吸蔵還元
型触媒１を通過した後に高温型NOx 吸蔵還元型触媒２を
通過する。
浄化装置では、排ガス温度が 400℃未満の場合には、制
御系５の制御により切換バルブ４が低温型NOx 吸蔵還元
型触媒１の入口を開くとともにバイパス通路３の入口を
閉じている。したがって排ガスは、低温型NOx 吸蔵還元
型触媒１を通過した後に高温型NOx 吸蔵還元型触媒２を
通過する。
【００２５】低温型NOx 吸蔵還元型触媒１では、ストイ
キ〜リッチ雰囲気の排ガスが通過する際に硝酸バリウム
が還元され、NOx 吸蔵材は酸化バリウムあるいは水酸化
バリウムとなる。したがって 400℃未満の低温域におい
てもリーン雰囲気でNOx を効率よく吸蔵して再び硝酸塩
となる。そしてNOx が除去された排ガスが高温型NOx吸
蔵還元型触媒２に流入し、排ガス中のHC及びCOが浄化さ
れる。また吸蔵されたNOx は、ストイキ〜リッチ雰囲気
で放出されて還元除去される。
キ〜リッチ雰囲気の排ガスが通過する際に硝酸バリウム
が還元され、NOx 吸蔵材は酸化バリウムあるいは水酸化
バリウムとなる。したがって 400℃未満の低温域におい
てもリーン雰囲気でNOx を効率よく吸蔵して再び硝酸塩
となる。そしてNOx が除去された排ガスが高温型NOx吸
蔵還元型触媒２に流入し、排ガス中のHC及びCOが浄化さ
れる。また吸蔵されたNOx は、ストイキ〜リッチ雰囲気
で放出されて還元除去される。
【００２６】そして排ガス温度が 400℃以上になると、
制御系５の制御により切換バルブ４が低温型NOx 吸蔵還
元型触媒１の入口を閉じるとともにバイパス通路３の入
口を開く。したがって高温域の排ガスは、低温型NOx 吸
蔵還元型触媒１に流入することなく高温型NOx 吸蔵還元
型触媒２に流入する。これにより低温型NOx 吸蔵還元型
触媒１が高温となるのが防止され、 BaAl2O4の生成が防
止されるため、低温型NOx 吸蔵還元型触媒１のNOx 吸蔵
能が維持される。そして高温型NOx 吸蔵還元型触媒２に
流入した排ガス中のNOx は、リーン雰囲気で炭酸バリウ
ムに吸蔵され、ストイキ〜リッチ雰囲気で放出されて還
元除去される。また高温型NOx 吸蔵還元型触媒２では、
高温でもBaと Al2O3との反応が生じにくいので、 BaAl2
O4の生成によりNOx 吸蔵能が消失するような不具合もな
い。
制御系５の制御により切換バルブ４が低温型NOx 吸蔵還
元型触媒１の入口を閉じるとともにバイパス通路３の入
口を開く。したがって高温域の排ガスは、低温型NOx 吸
蔵還元型触媒１に流入することなく高温型NOx 吸蔵還元
型触媒２に流入する。これにより低温型NOx 吸蔵還元型
触媒１が高温となるのが防止され、 BaAl2O4の生成が防
止されるため、低温型NOx 吸蔵還元型触媒１のNOx 吸蔵
能が維持される。そして高温型NOx 吸蔵還元型触媒２に
流入した排ガス中のNOx は、リーン雰囲気で炭酸バリウ
ムに吸蔵され、ストイキ〜リッチ雰囲気で放出されて還
元除去される。また高温型NOx 吸蔵還元型触媒２では、
高温でもBaと Al2O3との反応が生じにくいので、 BaAl2
O4の生成によりNOx 吸蔵能が消失するような不具合もな
い。
【００２７】したがって本実施例の排ガス浄化装置によ
れば、低温域から 400℃以上の高温域まで効率よくNOx
を吸蔵還元することができる。また BaAl2O4の生成が防
止されているので、高温時の劣化が抑制され、高い浄化
性能を長期間維持することができる。上記した排ガス浄
化装置で用いている低温型NOx 吸蔵還元型触媒１と高温
型NO x 吸蔵還元型触媒２のNOx 吸蔵量を、それぞれ単独
で測定した。測定は、先ずリッチ雰囲気の排ガスを接触
させ、次いでリーン雰囲気の排ガスを接触させてリーン
雰囲気におけるNOx 吸蔵量を測定した。排ガス温度は、
リッチ雰囲気及びリーン雰囲気ともに 250℃と 500℃の
２水準で行った。結果を図２及び図３に示す。なお図２
及び図３においては、NOx 吸蔵量は高温型NOx 吸蔵還元
型触媒２のNOx吸蔵量に対する比で示している。
れば、低温域から 400℃以上の高温域まで効率よくNOx
を吸蔵還元することができる。また BaAl2O4の生成が防
止されているので、高温時の劣化が抑制され、高い浄化
性能を長期間維持することができる。上記した排ガス浄
化装置で用いている低温型NOx 吸蔵還元型触媒１と高温
型NO x 吸蔵還元型触媒２のNOx 吸蔵量を、それぞれ単独
で測定した。測定は、先ずリッチ雰囲気の排ガスを接触
させ、次いでリーン雰囲気の排ガスを接触させてリーン
雰囲気におけるNOx 吸蔵量を測定した。排ガス温度は、
リッチ雰囲気及びリーン雰囲気ともに 250℃と 500℃の
２水準で行った。結果を図２及び図３に示す。なお図２
及び図３においては、NOx 吸蔵量は高温型NOx 吸蔵還元
型触媒２のNOx吸蔵量に対する比で示している。
【００２８】図２及び図３より、 250℃においては低温
型NOx 吸蔵還元型触媒１の方がNOx吸蔵量が多く、 500
℃では高温型NOx 吸蔵還元型触媒２の方がNOx 吸蔵量が
多いことが明らかである。また低温型NOx 吸蔵還元型触
媒１と高温型NOx 吸蔵還元型触媒２について、それぞれ
Ｘ線回折分析を行った。結果を図４に示す。なお分析
は、未使用の新品と、H2を１％含む窒素ガス雰囲気中に
て 500℃で 0.5時間加熱保持したものと、NOを800ppm及
びO2を７％含む窒素ガス雰囲気中にて 500℃で 0.5時間
加熱保持したものとの３水準にて行った。また回折ピー
ク強度は、所定の値を１とした相対比率で示している。
型NOx 吸蔵還元型触媒１の方がNOx吸蔵量が多く、 500
℃では高温型NOx 吸蔵還元型触媒２の方がNOx 吸蔵量が
多いことが明らかである。また低温型NOx 吸蔵還元型触
媒１と高温型NOx 吸蔵還元型触媒２について、それぞれ
Ｘ線回折分析を行った。結果を図４に示す。なお分析
は、未使用の新品と、H2を１％含む窒素ガス雰囲気中に
て 500℃で 0.5時間加熱保持したものと、NOを800ppm及
びO2を７％含む窒素ガス雰囲気中にて 500℃で 0.5時間
加熱保持したものとの３水準にて行った。また回折ピー
ク強度は、所定の値を１とした相対比率で示している。
【００２９】図４より、高温型NOx 吸蔵還元型触媒２で
は BaAl2O4のピークが観察されなかったのに対し、低温
型NOx 吸蔵還元型触媒１では 500℃の加熱により酸化雰
囲気及び還元雰囲気ともに BaAl2O4のピークが現れてい
る。したがって低温型NOx 吸蔵還元型触媒１は、 500℃
未満で使用する必要があるが、高温型NOx 吸蔵還元型触
媒２は 500℃で使用しても劣化せず高温劣化しにくいこ
とがわかる。
は BaAl2O4のピークが観察されなかったのに対し、低温
型NOx 吸蔵還元型触媒１では 500℃の加熱により酸化雰
囲気及び還元雰囲気ともに BaAl2O4のピークが現れてい
る。したがって低温型NOx 吸蔵還元型触媒１は、 500℃
未満で使用する必要があるが、高温型NOx 吸蔵還元型触
媒２は 500℃で使用しても劣化せず高温劣化しにくいこ
とがわかる。
【００３０】さらに高温型NOx 吸蔵還元型触媒２では、
H2還元によって硝酸バリウムが還元され、NOを800ppm及
びO2を７％含むガス中のNOx を吸蔵して再び硝酸バリウ
ムが生成していることが明らかであり、高温域でNOx を
吸蔵還元していることが明らかである。なお新品におい
て硝酸バリウムが存在しているのは、Ptの担持時に用い
た硝酸水溶液によってBaが硝酸塩となったものである。
H2還元によって硝酸バリウムが還元され、NOを800ppm及
びO2を７％含むガス中のNOx を吸蔵して再び硝酸バリウ
ムが生成していることが明らかであり、高温域でNOx を
吸蔵還元していることが明らかである。なお新品におい
て硝酸バリウムが存在しているのは、Ptの担持時に用い
た硝酸水溶液によってBaが硝酸塩となったものである。
【００３１】上記した本実施例の排ガス浄化装置におい
て、高温型NOx 吸蔵還元型触媒２のNOx 吸蔵能を発現さ
せるためには、含まれる硝酸塩を一旦還元する必要があ
る。この意味において、上流側の低温型NOx 吸蔵還元型
触媒１に例えばZrO2にRhを担持したものなど、水性ガス
シフト反応によってH2を生成するような触媒成分を含ま
せることも好ましい。このようにすれば、還元力の大き
なH2が生成されて下流側の高温型NOx 吸蔵還元型触媒２
に流入するので、高温型NOx 吸蔵還元型触媒２中の硝酸
塩を確実に還元することができ、NOx 吸蔵還元能が一層
向上する。
て、高温型NOx 吸蔵還元型触媒２のNOx 吸蔵能を発現さ
せるためには、含まれる硝酸塩を一旦還元する必要があ
る。この意味において、上流側の低温型NOx 吸蔵還元型
触媒１に例えばZrO2にRhを担持したものなど、水性ガス
シフト反応によってH2を生成するような触媒成分を含ま
せることも好ましい。このようにすれば、還元力の大き
なH2が生成されて下流側の高温型NOx 吸蔵還元型触媒２
に流入するので、高温型NOx 吸蔵還元型触媒２中の硝酸
塩を確実に還元することができ、NOx 吸蔵還元能が一層
向上する。
【００３２】なお本実施例の排ガス浄化装置では、制御
系５の制御によって駆動される切換バルブ４を用いてい
るが、 400℃近傍の温度で変形する形状記憶合金やバイ
メタルから形成された弁を切換バルブ４の代用とするこ
ともできる。この場合には、制御系５と温度センサー６
とを不要とすることができる。 （実施例２）図５に第２の実施例の排ガス浄化装置を示
す。この装置では、低温型NOx 吸蔵還元型触媒１と高温
型NOx 吸蔵還元型触媒２を並列に配置し、それぞれに分
岐する分岐点に低温型NOx 吸蔵還元型触媒１の入口と高
温型NOx 吸蔵還元型触媒２の入口を開閉可能な切換バル
ブ４を配置している。
系５の制御によって駆動される切換バルブ４を用いてい
るが、 400℃近傍の温度で変形する形状記憶合金やバイ
メタルから形成された弁を切換バルブ４の代用とするこ
ともできる。この場合には、制御系５と温度センサー６
とを不要とすることができる。 （実施例２）図５に第２の実施例の排ガス浄化装置を示
す。この装置では、低温型NOx 吸蔵還元型触媒１と高温
型NOx 吸蔵還元型触媒２を並列に配置し、それぞれに分
岐する分岐点に低温型NOx 吸蔵還元型触媒１の入口と高
温型NOx 吸蔵還元型触媒２の入口を開閉可能な切換バル
ブ４を配置している。
【００３３】この排ガス浄化装置では、排ガス温度が 4
00℃未満の場合には、制御系５の制御により切換バルブ
４が低温型NOx 吸蔵還元型触媒１の入口を開くとともに
高温型NOx 吸蔵還元型触媒２の入口を閉じ、排ガスは低
温型NOx 吸蔵還元型触媒１にのみ流入する。これにより
NOx は低温型NOx 吸蔵還元型触媒１において効率よく吸
蔵還元され、排出が抑制される。
00℃未満の場合には、制御系５の制御により切換バルブ
４が低温型NOx 吸蔵還元型触媒１の入口を開くとともに
高温型NOx 吸蔵還元型触媒２の入口を閉じ、排ガスは低
温型NOx 吸蔵還元型触媒１にのみ流入する。これにより
NOx は低温型NOx 吸蔵還元型触媒１において効率よく吸
蔵還元され、排出が抑制される。
【００３４】そして排ガス温度が 400℃以上になると、
制御系５の制御により切換バルブ４が高温型NOx 吸蔵還
元型触媒２の入口を開くとともに低温型NOx 吸蔵還元型
触媒１の入口を閉じ、排ガスは高温型NOx 吸蔵還元型触
媒２にのみ流入する。図５はこのときの切換バルブ４の
状態で示している。これによりNOx は高温型NOx 吸蔵還
元型触媒２において効率よく吸蔵還元され、排出が抑制
される。また BaAl2O4の生成もなく劣化も防止されてい
る。
制御系５の制御により切換バルブ４が高温型NOx 吸蔵還
元型触媒２の入口を開くとともに低温型NOx 吸蔵還元型
触媒１の入口を閉じ、排ガスは高温型NOx 吸蔵還元型触
媒２にのみ流入する。図５はこのときの切換バルブ４の
状態で示している。これによりNOx は高温型NOx 吸蔵還
元型触媒２において効率よく吸蔵還元され、排出が抑制
される。また BaAl2O4の生成もなく劣化も防止されてい
る。
【００３５】
【発明の効果】すなわち本発明の排ガス浄化装置によれ
ば、低温域から高温域まで幅広い温度ウィンドウで排ガ
ス中のNOx を吸蔵還元することができる。また高温時に
担体とNOx 吸蔵材とが反応してNOx 吸蔵能が消失するよ
うな不具合が防止され、高温時の劣化が防止される。
ば、低温域から高温域まで幅広い温度ウィンドウで排ガ
ス中のNOx を吸蔵還元することができる。また高温時に
担体とNOx 吸蔵材とが反応してNOx 吸蔵能が消失するよ
うな不具合が防止され、高温時の劣化が防止される。
【図１】本発明の一実施例の排ガス浄化装置の構成を説
明する模式的断面図である。
明する模式的断面図である。
【図２】実施例１の排ガス浄化装置に用いた低温型NOx
吸蔵還元型触媒と高温型NOx 吸蔵還元型触媒の 250℃に
おけるNOx 吸蔵量を示すグラフである。
吸蔵還元型触媒と高温型NOx 吸蔵還元型触媒の 250℃に
おけるNOx 吸蔵量を示すグラフである。
【図３】実施例１の排ガス浄化装置に用いた低温型NOx
吸蔵還元型触媒と高温型NOx 吸蔵還元型触媒の 500℃に
おけるNOx 吸蔵量を示すグラフである。
吸蔵還元型触媒と高温型NOx 吸蔵還元型触媒の 500℃に
おけるNOx 吸蔵量を示すグラフである。
【図４】実施例１の排ガス浄化装置に用いた低温型NOx
吸蔵還元型触媒と高温型NOx 吸蔵還元型触媒のＸ線回折
強度を示すグラフである。
吸蔵還元型触媒と高温型NOx 吸蔵還元型触媒のＸ線回折
強度を示すグラフである。
【図５】本発明の第２の実施例の排ガス浄化装置の構成
を説明する模式的断面図である。
を説明する模式的断面図である。
１：低温型NOx 吸蔵還元型触媒 ２：高温型NOx 吸蔵
還元型触媒 ３：バイパス通路 ４：切換バルブ ５：制御系 ６：温度センサー
還元型触媒 ３：バイパス通路 ４：切換バルブ ５：制御系 ６：温度センサー
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 4D048 AA06 AB02 BA01X BA03X BA06X BA14Y BA15X BA30X BA39X BA42X BA46X BA50X BB02 CA01 CC25 CC26 CC32 CC46 DA01 DA02 DA06 DA20 4G069 AA03 BA01A BA01B BA02A BA03A BA04A BA05A BA05B BA07A BA13B BB02B BB12A BB12B BB16A BB16B BC01A BC02A BC03A BC04A BC06A BC08A BC09A BC10A BC11A BC12A BC13A BC13B BC71B BC75B CA02 CA03 CA08 CA13 EA02Y EA18 EE08 EE09
Claims (2)
- 【請求項１】 排ガス流路に設けられ低温域の排ガス中
のNOx を効率よく吸蔵する低温型NOx 吸蔵還元型触媒
と、排ガス流路に設けられ高温域の排ガス中のNOx を効
率よく吸蔵する高温型NOx 吸蔵還元型触媒と、該低温型
NOx 吸蔵還元型触媒及び該高温型NOx 吸蔵還元型触媒へ
の排ガス流の流入を制御する制御装置と、よりなり、 低温域の排ガスが該低温型NOx 吸蔵還元型触媒に流入
し、高温域の排ガスが該高温型NOx 吸蔵還元型触媒に流
入するように選択的に該制御装置が制御するように構成
されたことを特徴とする排ガス浄化装置。 - 【請求項２】 前記低温型NOx 吸蔵還元型触媒にはNOx
吸蔵材としてアルカリ金属の硝酸塩及びアルカリ土類金
属の硝酸塩の少なくとも一方が担持され、前記高温型NO
x 吸蔵還元型触媒にはNOx 吸蔵材としてアルカリ金属の
炭酸塩及びアルカリ土類金属の炭酸塩の少なくとも一方
が担持されていることを特徴とする請求項１に記載の排
ガス浄化装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11149808A JP2000334269A (ja) | 1999-05-28 | 1999-05-28 | 排ガス浄化装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11149808A JP2000334269A (ja) | 1999-05-28 | 1999-05-28 | 排ガス浄化装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000334269A true JP2000334269A (ja) | 2000-12-05 |
Family
ID=15483172
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11149808A Pending JP2000334269A (ja) | 1999-05-28 | 1999-05-28 | 排ガス浄化装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000334269A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002126453A (ja) * | 2000-10-25 | 2002-05-08 | Toyota Motor Corp | 排ガス浄化装置 |
| WO2007052817A1 (ja) * | 2005-11-07 | 2007-05-10 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | 排ガス浄化装置 |
| JP2007244975A (ja) * | 2006-03-15 | 2007-09-27 | Ryukoku Univ | 自動車排ガス処理触媒およびその製造方法 |
-
1999
- 1999-05-28 JP JP11149808A patent/JP2000334269A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002126453A (ja) * | 2000-10-25 | 2002-05-08 | Toyota Motor Corp | 排ガス浄化装置 |
| WO2007052817A1 (ja) * | 2005-11-07 | 2007-05-10 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | 排ガス浄化装置 |
| JP2007244975A (ja) * | 2006-03-15 | 2007-09-27 | Ryukoku Univ | 自動車排ガス処理触媒およびその製造方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3454334B2 (ja) | 排気浄化方法及びその装置 | |
| WO2007055160A1 (ja) | 内燃機関の排気浄化装置 | |
| WO2006059471A1 (ja) | ＮＯｘ浄化システム | |
| EP1064985A2 (en) | Exhaust gas purifying system | |
| JP3821343B2 (ja) | 排ガス浄化装置 | |
| JP2002126453A (ja) | 排ガス浄化装置 | |
| JP3685463B2 (ja) | 排ガス浄化用触媒 | |
| JP4453700B2 (ja) | 内燃機関の排気ガス浄化装置 | |
| WO2005064130A1 (en) | Device and process for removing nitrogen oxides from the exhaust gas of internal combustion engines with the aid of catalytically generated ammonia | |
| JP2000015101A (ja) | 排ガス浄化用触媒 | |
| JP2000334269A (ja) | 排ガス浄化装置 | |
| JP2004216224A (ja) | ＮＯｘ吸蔵還元型触媒 | |
| JP3417702B2 (ja) | 窒素酸化物吸蔵組成物及び排気ガス浄化方法 | |
| JP2002168117A (ja) | 排気ガス浄化システム | |
| JPH07308578A (ja) | 排ガス浄化用触媒 | |
| JP3560147B2 (ja) | 排気ガス浄化システム | |
| JP2001252563A (ja) | 排ガス浄化用触媒及び排ガス浄化装置 | |
| JP2001179100A (ja) | 水素生成用触媒と排ガス浄化用触媒及び排ガス浄化方法 | |
| JP4039128B2 (ja) | 内燃機関の排ガス浄化触媒と排ガス浄化方法及び排ガス浄化装置 | |
| JP4045588B2 (ja) | 排気ガス浄化システム | |
| JP2002331240A (ja) | 排ガス浄化用触媒及び排ガス浄化装置 | |
| JPH09299795A (ja) | 排ガス浄化用触媒 | |
| JP3739223B2 (ja) | 排ガス浄化用触媒 | |
| JP2001198461A (ja) | 酸化還元触媒 | |
| JP2000126554A (ja) | 排気ガス浄化装置及びその使用方法 |