JP2000319628A - 光安定性ｕｖフィルターとしてのアミノ置換されたヒドロキシベンゾフェノンの使用、該化合物を含有する光保護剤及びアミノ置換されたヒドロキシベンゾフェノン - Google Patents

光安定性ｕｖフィルターとしてのアミノ置換されたヒドロキシベンゾフェノンの使用、該化合物を含有する光保護剤及びアミノ置換されたヒドロキシベンゾフェノン

Info

Publication number
JP2000319628A
JP2000319628A JP2000115373A JP2000115373A JP2000319628A JP 2000319628 A JP2000319628 A JP 2000319628A JP 2000115373 A JP2000115373 A JP 2000115373A JP 2000115373 A JP2000115373 A JP 2000115373A JP 2000319628 A JP2000319628 A JP 2000319628A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
alkyl
light
formula
cycloalkyl
amino
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2000115373A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4705220B2 (ja
Inventor
Thorsten Dr Habeck
ハーベック トルステン
Frank Prechtl
プレヒトル フランク
Thomas Dr Wuensch
ヴュンシュ トーマス
Horst Westenfelder
ヴェステンフェルダー ホルスト
Sylke Haremza
ハレンツァ ジルケ
Thorsten Bach
バッハ トルステン
Anja Spiegel
シュピーゲル アーニャ
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
BASF SE
Original Assignee
BASF SE
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by BASF SE filed Critical BASF SE
Publication of JP2000319628A publication Critical patent/JP2000319628A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4705220B2 publication Critical patent/JP4705220B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D295/00—Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms
    • C07D295/04—Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms with substituted hydrocarbon radicals attached to ring nitrogen atoms
    • C07D295/10—Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms with substituted hydrocarbon radicals attached to ring nitrogen atoms substituted by doubly bound oxygen or sulphur atoms
    • C07D295/112—Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms with substituted hydrocarbon radicals attached to ring nitrogen atoms substituted by doubly bound oxygen or sulphur atoms with the ring nitrogen atoms and the doubly bound oxygen or sulfur atoms separated by carbocyclic rings or by carbon chains interrupted by carbocyclic rings
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
    • A61K8/00—Cosmetics or similar toiletry preparations
    • A61K8/18—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition
    • A61K8/30—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic compounds
    • A61K8/40—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic compounds containing nitrogen
    • A61K8/41—Amines
    • A61K8/411—Aromatic amines, i.e. where the amino group is directly linked to the aromatic nucleus
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
    • A61K8/00—Cosmetics or similar toiletry preparations
    • A61K8/18—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition
    • A61K8/30—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic compounds
    • A61K8/40—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic compounds containing nitrogen
    • A61K8/44—Aminocarboxylic acids or derivatives thereof, e.g. aminocarboxylic acids containing sulfur; Salts; Esters or N-acylated derivatives thereof
    • A61K8/445—Aminocarboxylic acids or derivatives thereof, e.g. aminocarboxylic acids containing sulfur; Salts; Esters or N-acylated derivatives thereof aromatic, i.e. the carboxylic acid directly linked to the aromatic ring
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
    • A61K8/00—Cosmetics or similar toiletry preparations
    • A61K8/18—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition
    • A61K8/30—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic compounds
    • A61K8/49—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic compounds containing heterocyclic compounds
    • A61K8/4906—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic compounds containing heterocyclic compounds with one nitrogen as the only hetero atom
    • A61K8/4913—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic compounds containing heterocyclic compounds with one nitrogen as the only hetero atom having five membered rings, e.g. pyrrolidone carboxylic acid
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61P—SPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
    • A61P17/00—Drugs for dermatological disorders
    • A61P17/16—Emollients or protectives, e.g. against radiation
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61P—SPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
    • A61P43/00—Drugs for specific purposes, not provided for in groups A61P1/00-A61P41/00
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61Q—SPECIFIC USE OF COSMETICS OR SIMILAR TOILETRY PREPARATIONS
    • A61Q1/00—Make-up preparations; Body powders; Preparations for removing make-up
    • A61Q1/02—Preparations containing skin colorants, e.g. pigments
    • A61Q1/04—Preparations containing skin colorants, e.g. pigments for lips
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61Q—SPECIFIC USE OF COSMETICS OR SIMILAR TOILETRY PREPARATIONS
    • A61Q17/00—Barrier preparations; Preparations brought into direct contact with the skin for affording protection against external influences, e.g. sunlight, X-rays or other harmful rays, corrosive materials, bacteria or insect stings
    • A61Q17/04—Topical preparations for affording protection against sunlight or other radiation; Topical sun tanning preparations
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C225/00—Compounds containing amino groups and doubly—bound oxygen atoms bound to the same carbon skeleton, at least one of the doubly—bound oxygen atoms not being part of a —CHO group, e.g. amino ketones
    • C07C225/22—Compounds containing amino groups and doubly—bound oxygen atoms bound to the same carbon skeleton, at least one of the doubly—bound oxygen atoms not being part of a —CHO group, e.g. amino ketones having amino groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings of the carbon skeleton
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C229/00—Compounds containing amino and carboxyl groups bound to the same carbon skeleton
    • C07C229/52—Compounds containing amino and carboxyl groups bound to the same carbon skeleton having amino and carboxyl groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings of the same carbon skeleton
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
    • A61K2800/00—Properties of cosmetic compositions or active ingredients thereof or formulation aids used therein and process related aspects
    • A61K2800/40—Chemical, physico-chemical or functional or structural properties of particular ingredients
    • A61K2800/52—Stabilizers
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C2601/00—Systems containing only non-condensed rings
    • C07C2601/12—Systems containing only non-condensed rings with a six-membered ring
    • C07C2601/14—The ring being saturated

Abstract

(57)【要約】 【課題】 太陽光線からの人間の皮膚又は人間の毛髪の
保護のための化粧品及び医薬調剤。 【解決手段】 光安定性ＵＶフィルターとして、一般式
Ｉ： 【化１】 で示されるアミノ置換されたヒドロキシベンゾフェノン
を、単独又は化粧品及び医薬調剤について自体公知のＵ
Ｖ領域で吸収性の化合物と一緒に使用する。 【効果】 本発明により、太陽光線から人間の皮膚又は
人間の毛髪が保護される。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、殊に３２０〜４０
０ｎｍの範囲内のＵＶ光からの人間の表皮又は人間の毛
髪の保護のための化粧品及び医薬調剤における光安定性
ＵＶフィルターとしての、アミノ置換されたヒドロキシ
ベンゾフェノンの使用に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】化粧品及び医薬調剤において使用される
光保護剤には、人間の皮膚に対する太陽光線の有害な影
響を阻止するか又は少なくともその影響を低減させると
いう使命がある。あるいはまたその上、これらの光保護
剤は、ＵＶ光線による破壊又は分解からの他の内容物の
保護にも用いられている。整髪料の場合には、ＵＶ光に
よるケラチン繊維の損傷を少なくするものでなければな
らない。
【０００３】地表に達する太陽光線には、ＵＶ−Ｂ−光
（２８０〜３２０ｎｍ）とＵＶ−Ａ−光（＞３２０ｎ
ｍ）とが含まれているが、これらは、可視光線の領域に
隣接している。人間の皮膚への影響は、特にＵＶ−Ｂ−
光の場合に日焼けによってはっきりと現れている。その
ため、産業界により、ＵＶ−Ｂ−光を吸収し、ひいては
日焼けを阻止する相当数の物質が提供されている。
【０００４】ところで、皮膚科学的試験により、ＵＶ−
Ａ−光も、例えばケラチン又はエラスチンを損傷させる
ことによって、十分に皮膚の損傷及びアレルギーを誘発
しうるということが判明した。これによって、皮膚の弾
力及び保水能が少なく、即ち、皮膚がしなやかさをなく
していき、しわができやすくなる。太陽光線が強い地域
での極めて高い皮膚癌発生率は、太陽光線、殊にＵＶ−
Ａ−光によって、細胞中の遺伝情報の損傷も引き起こさ
れているようである。従って、これら全ての知識によ
り、ＵＶ−Ａ−領域用の効率的なフィルター物質の開発
が必然的なものにさせられている。
【０００５】就中、ＵＶ−Ａ−フィルターとして使用で
き、従って、その吸収最大値が約３２０〜３８０ｎｍの
範囲内でなければならない、化粧品及び医薬調剤用の光
保護剤に対する需要の増大が存在している。できるだけ
少ない使用量を用いて望ましい効果を達成するために
は、この種の光保護剤は、付加的に高い固有吸光率を有
していなければならない。更に、化粧品調製物用の光保
護剤は、他の多数の要求、例えば化粧品用オイル中への
良好な可溶性、これらを用いて製造される乳濁液の高い
安定性、毒物学的に懸念されないこと並びに僅かな固有
香及び僅かな固有色をも充足するものでなければならな
い。
【０００６】光保護剤が充足しなければならないもう１
つの要求は、十分な光安定性である。しかし、これは、
これまでに入手可能なＵＶ−Ａ−吸収性光保護剤用いた
場合に保証されていないか又は不十分に保証されるに過
ぎないものである。
【０００７】フランス共和国特許第２４４０９３３号中
には、ＵＶ−Ａ−フィルターとしての４−（１，１−ジ
メチルエチル）−４′−メトキシジベンゾイルメタンが
記載されている。この特殊なＵＶ−Ａ−フィルターは、
GIVAUDAN社から「PARSOL 1789」の名称で販売されてお
り、２８０〜３８０ｎｍの波長を有する全てのＵＶ−光
を吸収させるために種々のフィルターと組み合わせるこ
とが提案されている。
【０００８】しかしながら、このＵＶ−Ａ−フィルター
は、これが単独又はＵＶ−Ｂ−フィルターと組み合わせ
て使用される場合に、より長い日光浴の間の皮膚の持続
的な保護を保証するには光化学的に安定性が不十分であ
り、これにより、ＵＶ−光全体から皮膚を効果的に保護
しようとする場合に、規則的かつ短い間隔で繰り返し使
用することを必要とするのである。
【０００９】それ故、欧州特許出願公開第０５１４４９
１号によれば、不十分な光安定性ＵＶ−Ａ−フィルター
が、それ自体がＵＶ−Ｂ−領域でフィルターとして使用
されている２−シアン−３，３−ジフェニルアクリル酸
エステルの添加によって安定化されるとのことである。
【００１０】更に、欧州特許出願公開第０２５１３９８
号及び同第０４１６８３７号によれば、ＵＶ−Ａ−光及
びＵＶ−Ｂ−光を吸収する発色団を分子中の結合肢によ
って１つにまとめることが既に提案されている。これに
は、一方で化粧品調剤中でのＵＶ−Ａ−フィルターとＵ
Ｖ−Ｂ−フィルターとの自由な組合せがもはや不可能で
あり、発色団の化学結合の際の困難性が特定の組合せの
みを許容するという欠点がある。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】従って、 ＵＶ−Ａ−
領域で高い吸光率で吸収し、光安定性であり、僅かな固
有色、即ち、先鋭なバンド構造を有し、置換基に応じて
オイル又は水中に溶解する化粧品及び医薬品の目的のた
めの光保護剤を提供するという課題が存在していた。
【００１２】
【課題を解決するための手段】前記課題は、本発明によ
れば、一般式Ｉ：
【００１３】
【化５】
【００１４】〔式中、不定項目は、互いに独立に以下の
意味を有する：Ｒ1及びＲ2は、水素原子、Ｃ1〜Ｃ20−
アルキル、Ｃ2〜Ｃ10−アルケニル、Ｃ3〜Ｃ10−シクロ
アルキル、Ｃ3〜Ｃ10−シクロアルケニルであるが、こ
の場合、置換基Ｒ1及びＲ2は、これらと結合している窒
素原子と一緒になって５員環又は６員環を形成していて
もよく；Ｒ3及びＲ4は、Ｃ1〜Ｃ20−アルキル、Ｃ2〜Ｃ
10−アルケニル、Ｃ3〜Ｃ10−シクロアルキル、Ｃ3〜Ｃ
10−シクロアルケニル、Ｃ1〜Ｃ12−アルコキシ、Ｃ1〜
Ｃ20−アルコキシカルボニル、Ｃ1〜Ｃ12−アルキルア
ミノ、Ｃ1〜Ｃ12−ジアルキルアミノ、アリール、ヘテ
ロアリールであるが、ニトリル基、カルボキシレート
基、スルホネート基又はアンモニウム基からなるグルー
プから選択された水溶性する置換基で置換されていても
よく；Ｘは、水素原子、ＣＯＯＲ5、ＣＯＮＲ6Ｒ7であ
り；Ｒ5〜Ｒ7は、水素原子、Ｃ1〜Ｃ20−アルキル、Ｃ2
〜Ｃ10−アルケニル、Ｃ3〜Ｃ10−シクロアルキル、Ｃ3
〜Ｃ10−シクロアルケニル、−（Ｙ−Ｏ）o−Ｚ、アリ
ールであり；Ｙは、−（ＣＨ2）2−、−（ＣＨ2）3−、
−（ＣＨ2）4−、−ＣＨ（ＣＨ3）−ＣＨ2−であり；Ｚ
は、−ＣＨ2−ＣＨ3、−ＣＨ2−ＣＨ2−ＣＨ3、−ＣＨ2
−ＣＨ2−ＣＨ2−ＣＨ 3、−ＣＨ（ＣＨ3）−ＣＨ3であ
り；ｍは、０〜３であり；ｎは、０〜４であり；ｏは、
１〜２０である〕で示されるアミノ置換されたヒドロキ
シベンゾフェノンを、太陽光線から人間の皮膚又は人間
の毛髪の保護のための化粧品又は医薬調剤中での光安定
性ＵＶフィルターとして、単独又は化粧品及び医薬調剤
のための自体公知の、ＵＶ−Ａ−領域で吸収性の化合物
と組み合わせて使用することによって解決された。
【００１５】アルキル基Ｒ1〜Ｒ7としては、分枝鎖状又
は非分枝鎖状のＣ1〜Ｃ20−アルキル鎖、有利にメチ
ル、エチル、ｎ−プロピル、１−メチルエチル、ｎ−ブ
チル、１−メチルプロピル、２−メチルプロピル、１，
１−ジメチルエチル、ｎ−ペンチル、１−メチルブチ
ル、２−メチルブチル、３−メチルブチル、２，２−ジ
メチルプロピル、１−エチルプロピル、ｎ−ヘキシル、
１，１−ジメチルプロピル、１，２−ジメチルプロピ
ル、１−メチルペンチル、２−メチルペンチル、３−メ
チルペンチル、４−メチルペンチル、１，１−ジメチル
ブチル、１，２−ジメチルブチル、１，３−ジメチルブ
チル、２，２−ジメチルブチル、２，３−ジメチルブチ
ル、３，３−ジメチルブチル、１−エチルブチル、２−
エチルブチル、１，１，２−トリメチルプロピル、１，
２，２−トリメチルプロピル、１−エチル−１−メチル
プロピル、１−エチル−２−メチルプロピル、ｎ−ヘプ
チル、ｎ−オクチル、２−エチルヘキシル、ｎ−ノニ
ル、ｎ−デシル、ｎ−ウンデシル、ｎ−ドデシル、ｎ−
トリデシル、ｎ−テトラデシル、ｎ−ペンタデシル、ｎ
−ヘキサデシル、ｎ−ヘプタデシル、ｎ−オクタデシ
ル、ｎ−ノナデシル又はｎ−エイコシルが挙げられる。
【００１６】アルケニル基Ｒ1〜Ｒ7としては、分枝鎖状
又は非分枝鎖状のＣ2〜Ｃ10−アルケニル鎖、有利にビ
ニル、プロペニル、イソプロペニル、１−ブテニル、２
−ブテニル、１−ペンテニル、２−ペンテニル、２−メ
チル−１−ブテニル、２−メチル−２−ブテニル、３−
メチル−１−ブテニル、１−ヘキセニル、２−ヘキセニ
ル、１−ヘプテニル、２−ヘプテニル、１−オクテニル
又は２−オクテニルが挙げられる。
【００１７】シクロアルキル基としては、Ｒ1〜Ｒ7につ
いては、有利に分枝鎖状又は非分枝鎖状のＣ3〜Ｃ10−
シクロアルキル鎖、例えばシクロプロピル、シクロブチ
ル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチ
ル、１−メチルシクロプロピル、１−エチルシクロプロ
ピル、１−プロピルシクロプロピル、１−ブチルシクロ
プロピル、１−ペンチルシクロプロピル、１−メチル−
１−ブチルシクロプロピル、１，２−ジメチルシクロプ
ロピル、１−メチル−２−エチルシクロプロピル、シク
ロオクチル、シクロノニル又はシクロデシルが挙げられ
る。
【００１８】シクロアルケニル基としては、Ｒ1〜Ｒ7に
ついては、有利に分枝鎖状又は非分枝鎖状の、１個又は
それ以上の二重結合を有するＣ3〜Ｃ10−シクロアルケ
ニル鎖、例えばシクロプロペニル、シクロブテニル、シ
クロペンテニル、シクロペンタジエニル、シクロヘキセ
ニル、１，３−シクロヘキサジエニル、１，４−シクロ
ヘキサジエニル、シクロヘプテニル、シクロヘプタトリ
エニル、シクロオクテニル、１，５−シクロオクタジエ
ニル、シクロオクタテトラエニル、シクロノネニル又は
シクロデシルが挙げられる。
【００１９】シクロアルケニル基及びシクロアルキル基
は、１個又はそれ以上の、例えば１〜３個の基、例えば
ハロゲン原子、例えばフッ素、塩素又は臭素、シアノ、
ニトロ、アミノ、Ｃ1〜Ｃ4−アルキルアミノ、Ｃ1〜Ｃ4
−ジアルキルアミノ、ヒドロキシ、Ｃ1〜Ｃ4−アルキ
ル、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシ又は別の基で置換されていて
もよいか又は１〜３個のヘテロ原子、例えば遊離原子価
が水素原子又はＣ1〜Ｃ4−アルキルで飽和されていても
よい硫黄、窒素あるいは酸素を環中に有していてもよ
い。
【００２０】Ｒ3及びＲ4のアルコキシ基としては、Ｃ−
原子１〜１２個、有利にＣ−原子１〜８個を有するもの
が該当する。
【００２１】例えば次のものが挙げられる：メトキシ
−、エトキシ−、イソプロポキシ−、ｎ−プロポキシ
−、１−メチルプロポキシ−、ｎ−ブトキシ−、ｎ−ペ
ントキシ−、２−メチルプロポキシ−、３−メチルブト
キシ−、１，１−ジメチルプロポキシ−、２，２−ジメ
チルプロポキシ−、ヘキソキシ−、１−メチル−１−エ
チルプロポキシ−、ヘプトキシ−、オクトキシ−、２−
エチルヘキソキシ−。
【００２２】Ｒ3及びＲ4のアルコキシカルボニル基は、
例えば上記のアルコキシ基又は例えば２０個までのＣ−
原子を有する高級アルコールの基、例えばイソ−Ｃ15−
アルコールを有するエステルである。
【００２３】Ｒ3及びＲ4のモノアルキルアミノ基もしく
はジアルキルアミノ基としては、Ｃ−原子１〜１２個を
有するアルキル基、例えばメチル−、ｎ−プロピル−、
ｎ−ブチル−、２−メチルプロピル−、１，１−ジメチ
ルプロピル−、ヘキシル−、ヘプチル−、２−エチルヘ
キシル−、イソプロピル−、１−メチルプロピル−、ｎ
−ペンチル−、３−メチルブチル−、２，２−ジメチル
プロピル−、１−メチル−１−エチルプロピル−及びオ
クチルを有するものが該当する。
【００２４】アリールとは、芳香環又は環系中に炭素原
子６〜１８個を有する環系、例えば１個又はそれ以上の
基、例えばハロゲン原子、例えばフッ素、塩素又は臭
素、シアノ、ニトロ、アミノ、Ｃ1〜Ｃ4−アルキルアミ
ノ、Ｃ1〜Ｃ4−ジアルキルアミノ、ヒドロキシ、Ｃ1〜
Ｃ4−アルキル、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシ又は別の基で置
換されていてもよいフェニル又はナフチルである。有利
に、置換されていてもよいフェニル、メトキシフェニル
及びナフチルである。
【００２５】ヘテロアリール基は、好ましくは単環又
は、１個又はそれ以上のヘテロ芳香族の３〜７員環を有
する縮合した芳香族環系である。ヘテロ原子としては、
１個又はそれ以上の窒素原子、硫黄原子及び／又は酸素
原子が環又は環系中に含まれていてもよい。
【００２６】Ｒ3及びＲ4の親水性の基、即ち、式Ｉの化
合物の水溶性にするのを可能にする基は、例えばニトリ
ル基並びにカルボキシ基及びスルホキシ基、殊に任意の
生理学的に認容性のカチオンを有するこれらの塩、例え
ばアルカリ塩又はトリアルキルアンモニウム塩、例えば
トリ−（ヒドロキシアルキル）−アンモニウム塩又は２
−メチルプロパン−１−オール−２−アンモニウム塩で
ある。更に、アンモニウム基、殊に任意の生理学的に認
容性のアニオンを有するアルキルアンモニウム基が該当
する。
【００２７】置換基Ｒ1及びＲ2は、これらが結合してい
る窒素原子と一緒になって５員又は６員環、例えばピロ
リジン環又はピペリジン環を形成することができる。
【００２８】アミノ基は、カルボニル基に対して相対的
にオルト位、メタ位又はパラ位に存在していてもよい。
有利には、パラ位である。
【００２９】有利に、式Ｉｂ：
【００３０】
【化６】
【００３１】〔式中、置換基は、互いに独立に以下の意
味を有する：Ｒ1及びＲ2は、水素原子、Ｃ1〜Ｃ12−ア
ルキルであるが、この場合、置換基Ｒ1及びＲ2は、これ
らと結合している窒素原子と一緒になって５員環又は６
員環を形成していてもよく；Ｒ5は、水素原子、Ｃ1〜Ｃ
12−アルキル、Ｃ3〜Ｃ6−シクロアルキルである〕で示
される化合物である。
【００３２】Ｒ1、Ｒ2及びＲ5としては、分枝鎖状又は
非分枝鎖状のＣ1〜Ｃ12−アルキル鎖、有利にメチル、
エチル、ｎ−プロピル、１−メチルエチル、ｎ−ブチ
ル、１−メチルプロピル、２−メチルプロピル、１，１
−ジメチルエチル、ｎ−ペンチル、１−メチルブチル、
２−メチルブチル、３−メチルブチル、２，２−ジメチ
ルプロピル、１−エチルプロピル、ｎ−ヘキシル、１，
１−ジメチルプロピル、１，２−ジメチルプロピル、１
−メチルペンチル、２−メチルペンチル、３−メチルペ
ンチル、４−メチルペンチル、１，１−ジメチルブチ
ル、１，２−ジメチルブチル、１，３−ジメチルブチ
ル、２，２−ジメチルブチル、２，３−ジメチルブチ
ル、３，３−ジメチルブチル、１−エチルブチル、２−
エチルブチル、１，１，２−トリメチルプロピル、１，
２，２−トリメチルプロピル、１−エチル−１−メチル
プロピル、１−エチル−２−メチルプロピル、ｎ−ヘプ
チル、ｎ−オクチル又は２−エチルヘキシルが挙げられ
る。
【００３３】特に有利なアルキル基としては、Ｒ1、Ｒ2
及びＲ5については、メチル、エチル、ｎ−プロピル、
１−メチルエチル、ｎ−ブチル、１−メチルプロピル、
２−メチルプロピル、１，１，−ジメチルエチル、ｎ−
ペンチル、１−メチルブチル、２−メチルブチル、３−
メチルブチル、２，２−ジメチルプロピル、２−エチル
ヘキシルが挙げられる。
【００３４】Ｃ3〜Ｃ6−シクロアルキル基としては、Ｒ
5については、特に有利にシクロプロピル、シクロペン
チル及びシクロヘキシルが挙げられる。
【００３５】更に、式Ｉｂの化合物は、置換基Ｒ1、Ｒ2
及びＲ5が、表１中に挙げた組合せである場合に特に光
安定性の性質を示している。
【００３６】表 １：
【００３７】
【化７】
【００３８】
【表１】
【００３９】
【表２】
【００４０】
【表３】
【００４１】
【表４】
【００４２】
【表５】
【００４３】
【表６】
【００４４】
【表７】
【００４５】
【表８】
【００４６】表１中に記載した化合物は、＞９５％、有
利に＞９８％の光安定性を示している。
【００４７】また、本発明は、式Ｉｃ：
【００４８】
【化８】
【００４９】〔式中、変動項目は、互いに独立に以下の
意味を有する：Ｒ1及びＲ2は、水素原子、Ｃ1〜Ｃ8−ア
ルキルであるが、この場合、置換基Ｒ1及びＲ2は、これ
らと結合している窒素原子と一緒になって５員環又は６
員環を形成していてもよく；Ｘは、ＣＯＯＲ5、ＣＯＮ
Ｒ6Ｒ7であり；Ｒ5は、Ｃ2〜Ｃ12−アルキル、Ｃ5〜Ｃ6
−シクロアルキルであり；Ｒ6及びＲ7は、水素原子、Ｃ
1〜Ｃ12−アルキル、Ｃ5〜Ｃ6−シクロアルキルであ
る〕で示されるアミノ置換されたヒドロキシベンゾフェ
ノンに関するものでもある。
【００５０】アルキル基Ｒ1及びＲ2としては、分枝鎖状
又は非分枝鎖状のＣ1〜Ｃ8−アルキル鎖、有利にメチ
ル、エチル、ｎ−プロピル、１−メチルエチル、ｎ−ブ
チル、１−メチルプロピル、２−メチルプロピル、１，
１−ジメチルエチル、ｎ−ペンチル、１−メチルブチ
ル、２−メチルブチル、３−メチルブチル、２，２−ジ
メチルプロピル、１−エチルプロピル、ｎ−ヘキシル、
１，１−ジメチルプロピル、１，２−ジメチルプロピ
ル、１−メチルペンチル、２−メチルペンチル、３−メ
チルペンチル、４−メチルペンチル、１，１−ジメチル
ブチル、１，２−ジメチルブチル、１，３−ジメチルブ
チル、２，２−ジメチルブチル、２，３−ジメチルブチ
ル、３，３−ジメチルブチル、１−エチルブチル、２−
エチルブチル、１，１，２−トリメチルプロピル、１，
２，２−トリメチルプロピル、１−エチル−１−メチル
プロピル、１−エチル−２−メチルプロピル、ｎ−ヘプ
チル、ｎ−オクチル又は２−エチルヘキシルが挙げられ
る。
【００５１】アルキル基Ｒ5としては、分枝鎖状又は非
分枝鎖状のＣ2〜Ｃ12−アルキル鎖、有利にエチル、ｎ
−プロピル、１−メチルエチル、ｎ−ブチル、１−メチ
ルプロピル、２−メチルプロピル、１，１−ジメチルエ
チル、ｎ−ペンチル、１−メチルブチル、２−メチルブ
チル、３−メチルブチル、２，２−ジメチルプロピル、
１−エチルプロピル、ｎ−ヘキシル、１，１−ジメチル
プロピル、１，２−ジメチルプロピル、１−メチルペン
チル、２−メチルペンチル、３−メチルペンチル、４−
メチルペンチル、１，１−ジメチルブチル、１，２−ジ
メチルブチル、１，３−ジメチルブチル、２，２−ジメ
チルブチル、２，３−ジメチルブチル、３，３−ジメチ
ルブチル、１−エチルブチル、２−エチルブチル、１，
１，２−トリメチルプロピル、１，２，２−トリメチル
プロピル、１−エチル−１−メチルプロピル、１−エチ
ル−２−メチルプロピル、ｎ−ヘプチル、ｎ−オクチ
ル、２−エチルヘキシル、ｎ−ノニル、ｎ−デシル、ｎ
−ウンデシル又はｎ−ドデシルが挙げられる。
【００５２】アルキル基Ｒ6及びＲ7としては、分枝鎖状
又は非分枝鎖状のＣ1〜Ｃ12−アルキル鎖、有利にメチ
ル、エチル、ｎ−プロピル、１−メチルエチル、ｎ−ブ
チル、１−メチルプロピル、２−メチルプロピル、１，
１−ジメチルエチル、ｎ−ペンチル、１−メチルブチ
ル、２−メチルブチル、３−メチルブチル、２，２−ジ
メチルプロピル、１−エチルプロピル、ｎ−ヘキシル、
１，１−ジメチルプロピル、１，２−ジメチルプロピ
ル、１−メチルペンチル、２−メチルペンチル、３−メ
チルペンチル、４−メチルペンチル、１，１−ジメチル
ブチル、１，２−ジメチルブチル、１，３−ジメチルブ
チル、２，２−ジメチルブチル、２，３−ジメチルブチ
ル、３，３−ジメチルブチル、１−エチルブチル、２−
エチルブチル、１，１，２−トリメチルプロピル、１，
２，２−トリメチルプロピル、１−エチル−１−メチル
プロピル、１−エチル−２−メチルプロピル、ｎ−ヘプ
チル、ｎ−オクチル又は２−エチルヘキシルが挙げられ
る。
【００５３】シクロアルキル基としては、Ｒ5〜Ｒ7につ
いては、有利に分枝鎖状又は非分枝鎖状のＣ5〜Ｃ6−シ
クロアルキル鎖、例えばシクロペンチル又はシクロヘキ
シルが挙げられる。
【００５４】有利には、互いに独立にＲ1及びＲ2が、Ｃ
1〜Ｃ4−アルキル、Ｒ5が、Ｃ3〜Ｃ 8−アルキル、Ｒ6及
びＲ7が、Ｃ1〜Ｃ8−アルキルを表す式Ｉｃの化合物で
ある。
【００５５】特に有利には、置換基のそれぞれ上記の一
覧から、互いに独立にＲ1及びＲ2が、エチル、Ｒ5が、
Ｃ5〜Ｃ8−アルキル、Ｒ6及びＲ7が、Ｃ1〜Ｃ8−アルキ
ルを表す式Ｉｃの化合物である。
【００５６】本発明により使用すべき式Ｉの化合物は、
相応するフェノールの直接アシル化によって製造するこ
とができる。
【００５７】従って例えば、２−（４−ジメチルアミノ
−２−ヒドロキシベンゾイル）−安息香酸メチルエステ
ル（１）もしくは２−（２−ヒドロキシ−４−プロリジ
ン−１−イル−ベンゾイル）−安息香酸メチルエステル
（２）の合成は、無水フタル酸を用いるメタ−ジエチル
アミノフェノールもしくは３−ピロリジン−１−イル−
フェノールのアシル化及び引き続くエステル化によって
行うことができる。
【００５８】
【化９】
【００５９】
【化１０】
【００６０】更に、（４−ジエチルアミノ−２−ヒドロ
キシルベンゾイル）−フェニルメタノン（３）を、メタ
−ジエチルアミノフェノールと塩化ベンゾイルとの反応
及び引き続くＡｌＣｌ3を用いるフリース転位によって
製造することができる。
【００６１】
【化１１】
【００６２】フリーデル・クラフツ反応並びにフリース
転位についての詳細は、Organikum、VEB Deutscher Ver
lag der Wissenschaften、Berlin、１９８６、第３２３
〜３２７頁並びにHouben-Weyl、第７／２ａ巻、１９７
３、第３７９〜３８９頁中に存在する。
【００６３】更に、本発明の対象は、式Ｉの化合物の１
種又はそれ以上を化粧品及び医薬調剤の全体量に対し
て、０．１〜１０質量％、有利に１〜７質量％で、化粧
品及び医薬調剤について自体公知の、ＵＶ−Ａ−領域及
びＵＶ−Ｂ−領域で吸収性の化合物と一緒に光保護剤と
して含有しているが、この場合、式Ｉの化合物は、通
常、ＵＶ−Ｂ−吸収性化合物よりも少ない量で使用され
ている、化粧品及び医薬調剤である。
【００６４】光保護剤を含有する化粧品及び医薬調剤
は、通常、少なくとも１つの油相を有する担持剤を基礎
としている。あるいはまた、親水性置換基を有する化合
物の使用の際には、水性基剤のみを基礎とする調剤も可
能である。従って、オイル、水中油滴型乳濁液及び油中
水滴型乳濁液、クリーム及びペースト、口唇保護用ステ
ィック材又は無脂ジェル剤が対当する。
【００６５】乳濁液としては、就中、分散した形で存在
する式Ｉのアミノ置換されたヒドロキシベンゾフェノン
を有するＯ／Ｗ−マクロ乳濁液、Ｏ／Ｗ−ミクロ乳濁液
又はＯ／Ｗ／Ｏ−乳濁液も該当するが、この場合、これ
らの乳濁液は、ドイツ連邦共和国特許出願公開第１９７
２５１２１号に記載の位相反転技術によって得られる。
【００６６】添加剤として該当しうる通常の化粧品用助
剤は、例えば補助乳濁液、脂肪及びワックス、安定剤、
増粘剤、生物由来作用物質、薄膜形成剤、香料、染料、
真珠光沢剤、保存剤、顔料、電解質（例えば硫酸マグネ
シウム）及びｐＨ調節剤である。補助乳濁液としては、
有利に、公知のＷ／Ｏ−乳濁液及びこれとともにＯ／Ｗ
−乳濁液、例えばポリグリセリンエステル、ソルビタン
エステル又は部分エステル化したグリセリドが該当す
る。脂肪の代表例は、グリセリドであり；ワックスとし
ては、就中、場合により親水性ワックスと組み合わせた
密蝋、パラフィンワックス又はミクロワックスが挙げら
れる。安定剤としては、脂肪酸の金属塩、例えばステア
リン酸マグネシウム、ステアリン酸アルミニウム及び／
又はステアリン酸亜鉛を使用することができる。適当な
増粘剤は、例えば架橋したポリアクリル酸及びその誘導
体、多糖類、殊にキサンタン−ガム、Guar-Guar、Agar-
Agar、アルギネート及びチロース、カルボキシメチルセ
ルロース及びヒドロキシエチルセルロース、更に脂肪ア
ルコール、モノグリセリド及び脂肪酸、ポリアクリレー
ト、ポリビニルアルコール及びポリビニルピロリドンで
ある。生物由来作用物質とは、例えば植物抽出物、蛋白
加水分解物及びビタミン複合物のことである。常用の薄
膜形成剤は、例えば親水コロイド、例えばキトサン、微
晶質キトサン又は四級化キトサン、ポリビニルピロリド
ン、ビニルピロリドン−酢酸ビニルコポリマー、アクリ
ル酸系列のポリマー、第四級セルロース誘導体等の化合
物である。保存剤としては、例えばホルムアルデヒド溶
液、ｐ−ヒドロキシ安息香酸塩又はソルビン酸が適して
いる。真珠光沢剤としては、例えばグリコールジステア
リン酸エステル、例えばジステアリン酸エチレングリコ
ール、あるいはまた脂肪酸及び脂肪酸モノグリコールエ
ステルが該当する。染料としては、 Verlag Chemie、We
inheim、１９８４で刊行されたドイツ連邦共和国の研究
機関の染料委員会（Farbstoffkommission der Deutsche
n Forschungsgemeinschaft）の刊行物「Kosmetische Fa
erbemittel」中にまとめられているような、化粧品の目
的に適しかつ許容される物質を使用することができる。
これらの染料は、通常、混合物全体に対して、０．００
１〜０．１質量％の濃度で使用されている。
【００６７】酸化防止剤の付加的な量は、一般に有利で
ある。従って、有用な酸化防止剤としては、化粧品及び
／又は皮膚科学的使用に適するか又は常用の全ての酸化
防止剤を使用することができる。
【００６８】好ましくは、酸化防止剤は、アミノ酸（例
えばグリシン、ヒスチジン、チロシン、トリプトファ
ン）及びこれらの誘導体、イミダゾール（例えばウロカ
ニン酸）及びその誘導体、ペプチド、例えばＤ，Ｌ−カ
ルノシン、Ｄ−カルノシン、Ｌ−カルノシンおｙびこれ
らの誘導体（例えばアンセリン）、カロチノイド、カロ
チン（例えばβ−カロチン、リコピン）及びこれらの誘
導体、クロロゲン酸及びその誘導体、リポ酸及びその誘
導体（例えばジヒドロリポ酸）、アウロチオグルコー
ス、プロピルチオウラシル及び別のチオール（例えばチ
オロドキシン、グルタチオン、システイン、シスチン、
シスタミン及びこれらのグルコシルエステル、Ｎ−アセ
チルエステル、メチルエステル、エチルエステル、プロ
ピルエステル、アミルエステル、ブチルエステル及びラ
ウリルエステル、パラミトイルエステル、オレイルエス
テル、γ−リノレイルエステル、コレステリルエステル
及びグリセリルエステル）並びにこれらの塩、次ラウリ
ルチオジプロピオネート、ジステアリルチオジプロピオ
ネート、チオジプロピオン酸及びこれらの誘導体（エス
テル、エーテル、ペプチド、リピド、ヌクレオチド、ヌ
クレオシド及び塩）並びに極めて少ない認容性の用量
（例えばpmol〜μmol/kg）でのスルホキシイミン化合物
（例えばブチオニンスルホキシイミン、ホモシステイン
スルホキシイミン、ブチオニンスルホン、ペンタチオニ
ンスルホキシイミン、ヘキサチオニンスルホキシイミ
ン、ヘプタチオニンスルホキシイミン）、他の（金属）
−キレート化剤（例えばα−ヒドロキシ脂肪酸、パルミ
チン酸、フィチン酸、ラクトフェリン）、α−ヒドロキ
シ酸（例えばクエン酸、乳酸、リンゴ酸）、フミン酸、
没食子酸、胆汁抽出物、ビリブリン、ビリベルジン、ED
TA及びこれらの誘導体、不飽和脂肪酸及びその誘導体
（例えばγ−リノレン酸、リノール酸、オレイン酸）、
葉酸及びその誘導体、ユビキノン及びユビキノール及び
これらの誘導体、ビタミンＣ及びその誘導体（例えばア
スコルビン酸パラミテート、Ｍｇ−アスコルビン酸ホス
フェート、アスコルビン酸アセテート）、トコフェロー
ル及びその誘導体（例えばビタミンＥ−アセテート、ト
コトリエノール）、ビタミンＡ及びその誘導体（ビタミ
ンＡ−パラミテート）並びに安息香樹脂のコニフェリル
安息香酸塩、ルチン酸及びその誘導体、α−グリコシル
ルチン、フェルラ酸、フルフリリデングルシトール、カ
ルノシン、ブチルヒドロキシトルオール、ブチルヒドロ
キシアニソール、ノルジヒドログアジャク樹脂酸、ノル
ジヒドログアジャレト酸、トリヒドロキシブチロフェノ
ン、尿酸及びこれらの誘導体、マンノース及びその誘導
体、亜鉛及びその誘導体（例えばＺｎＯ、ＺｎＳ
Ｏ4）、セレン及びその誘導体（例えばセレンメチオニ
ン）、スチルベン及びその誘導体（例えば酸化スチルベ
ン、トランス酸化スチルベン）からなるグループから選
択されている。
【００６９】調剤中での前記の酸化防止剤（１種又はそ
れ以上の化合物）の量は、調剤の質量全体に対して、有
利に０．００１〜３０質量％、特に有利に０．０５〜２
０質量％、殊に１〜１０質量％である。
【００７０】ビタミンＥ及び／又はその誘導体が、１種
又はそれ以上の酸化防止剤である場合には、そのそれぞ
れの濃度が、調製物の質量全体に対して０．００１〜１
０質量％の範囲から選択されていることが有利である。
【００７１】ビタミンＡ及び／又はその誘導体もしくは
カロチノイドが、１種又はそれ以上の酸化防止剤である
場合には、そのそれぞれの濃度が、調製物の質量全体に
対して０．００１〜１０質量％の範囲から選択されてい
ることが有利である。
【００７２】化粧品における通常のオイル成分は、例え
ばパラフィン油、ステアリン酸グリセリル、ミリスチン
酸イソプロピル、アジピン酸ジイソプロピル、２−エチ
ルヘキサン酸セチルステアリルエステル、水素化したポ
リイソブテン、ワセリン、カプリル酸／カプリン酸−ト
リグリセリド、微晶質ワックス、ラノリン及びステアリ
ン酸である。
【００７３】助剤及び添加剤の全体量は、薬剤に対し
て、１〜８０質量％、有利に６〜４０質量％及び非水性
分（「活性物質」）２０〜８０質量％、有利に３０〜７
０質量％であってもよい。薬剤の製造は、自体公知の方
法で、即ち、例えば熱時乳化、冷時乳化、熱時−熱時／
冷時乳化もしくはＰＩＴ乳化によって行うことができ
る。この場合、純粋に機械的方法、化学的方法は行われ
ない。
【００７４】従って、この種の日焼け止め調製物は、液
状形、ペースト状形又は固形で、例えば油中水滴型クリ
ーム、水中油滴型クリーム及び油中水滴型ローション、
水中油滴型ローション、エーロゾル−フォームクリー
ム、ジェル、オイル、油性スティック、パウダー、スプ
レー又はアルコール系水性ローションとして存在してい
てもよい。
【００７５】最終的に、ＵＶ領域で吸収性の他の自体公
知の物質は、それがＵＶフィルターからの本発明により
使用すべき組合せ物のシステム全体において安定性であ
る限り一緒に使用することができる。
【００７６】人間の表皮の保護に使用する化粧品及び医
薬調剤における光保護剤の大部分は、ＵＶ−Ｂ−領域、
即ち、２８０〜３２０ｎｍの範囲内でＵＶ−光を吸収す
る化合物からなるものである。例えば、本発明により使
用すべきＵＶ−Ａ−吸収剤の割合は、ＵＶ−Ｂ及びＵＶ
−Ａを吸収する物質の全体量に対して、１０〜９０質量
％、有利に２０〜５０質量％である。
【００７７】本発明により使用すべき式Ｉの化合物と組
み合わせて使用されるＵＶフィルター物質としては、任
意のＵＶ−Ａ−フィルター物質及びＵＶ−Ｂ−フィルタ
ー物質が該当する。
【００７８】例えば以下のものが挙げられる：
【００７９】
【表９】
【００８０】
【表１０】
【００８１】本発明による化粧品及び皮膚科用調剤は、
有利に更に、金属酸化物及び／又は別の水中に難溶性又
は不溶性の金属化合物、殊にチタンの酸化物（Ｔｉ
Ｏ2）、亜鉛の酸化物（ＺｎＯ）、鉄の酸化物（例えば
Ｆｅ2Ｏ3）、ジルコニウムの酸化物（ＺｒＯ2）、珪素
の酸化物（ＳｉＯ）、マンガンの酸化物（例えばＭｎ
Ｏ）、アルミニウムの酸化物（Ａｌ2Ｏ3）、セリウムの
酸化物（例えばＣｅ2Ｏ3）、相応する金属の混合酸化物
並びに前記酸化物からなる混合物を基礎とする無機顔料
を含有していてもよい。ＴｉＯ2及びＺｎＯを基礎とす
る顔料が特に有利である。
【００８２】必然的ではないが、無機顔料が疎水性の形
で存在している場合、即ち、これらが表面的に撥水性処
理されていることが、本発明の範囲内では特に有利であ
る。
【００８３】この表面処理は、顔料が、自体公知の方法
により、例えばドイツ連邦共和国特許出願公開第３３１
４７４２号明細書中に記載されているように、薄い疎水
清掃を設けられていてもよい。
【００８４】ＵＶ−光からの人間の毛髪の保護のために
は、本発明による式Ｉの光保護剤を、シャンプー、ロー
ション、ジェル、ヘアスプレー、エーロゾル−フォーム
クリーム又は乳濁液中に、０．１〜１０質量％、有利に
１〜７質量％の濃度で混入することができる。この場
合、それぞれの調製物は、就中、毛髪の洗浄、染色並び
に整髪に使用することができる。
【００８５】本発明により使用すべき化合物は、通常、
先鋭なバンド構造を有するＵＶ−Ａ−光の領域での特に
高い吸収能によって顕著である。更に、これらは、化粧
品用オイルに良好に溶解し、かつ容易に化粧品調製物中
に混入することができる。化合物Ｉを用いて製造した乳
濁液は、特にその高い安定性、化合物Ｉ自体がその高い
光安定性によって顕著であり、Ｉを用いて製造した調剤
は、その心地よい肌触りによって顕著である。
【００８６】本発明による式ＩのＵＶフィルター作用
は、化粧品及び医薬調剤中の作用物質及び助剤の安定化
にも使用することができる。
【００８７】以下の実施例においては、アミノ弛緩され
たヒドロキシベンゾフェノンの製造及び使用が詳細に説
明されている。
【００８８】
【実施例】Ｉ．製造 例 １ ２−（４−ジエチルアミノ−２−ヒドロキシベンゾイ
ル）−安息香酸−メチルエステルの製造
【００８９】
【化１２】
【００９０】無水トルオール６０ｍｌ中の３−ジエチル
アミノフェノール３．１１ｇ（１８．８ミリモル）及び
無水フタル酸２．８８ｇ（１９．４ミリモル）の溶液
を、還流下に２１時間加熱した。真空中での溶剤の除去
後に、残分をクロロホルム１００ｍｌ中に溶解させた。
有機相を、希塩酸２０ｍｌでそれぞれ６回及び水２０ｍ
ｌで１回洗浄し、次に、飽和炭酸水素ナトリウム溶液そ
れぞれ２０ｍｌで６回抽出させた。合わせた水性抽出物
を、希硫酸で酸性化にしてｐＨ＜２にし、ジエチルエー
テル５０ｍｌで３回抽出させた。合わせた水性抽出物
を、酸性化してｐＨ＜２にし、かつジエチルエーテル５
０ｍｌで３回抽出させた。有機相を合わせ、水５０ｍｌ
で洗浄し、硫酸マグネシウムにより乾燥させ、濾過し、
かつ溶剤を真空下に除去した。
【００９１】この粗製生成物を無水メタノール４０ｍｌ
及び濃硫酸１ｍｌ中に溶解させ、還流下に１９時間加熱
した。溶剤を、真空下で除去し、かつ残分を酢酸エチル
エステル中に入れた。飽和炭酸水素ナトリウム溶液及び
水を用いる洗浄。硫酸ナトリウムによる乾燥、濾過及び
溶剤の除去により、オイルが生じたが、これを、フラッ
シュ・クロマトグラフィー（展開剤：ペンタン／酢酸エ
ステル８０：２０）によって精製した。これは、２−
（４−ジエチルアミノ−２−ヒドロキシベンゾイル）−
安息香酸メチルエステル０．７７ｇ（２．４ミリモル）
を含有しており、その構造を、ＮＭＲ−分光分析により
確認した。λmax：３５４ｎｍ；Ｅ1 1：１１７３。
【００９２】例 ２ （４−ジエチルアミノ−２−ヒドロキシフェニル）−フ
ェニルケトンの製造
【００９３】
【化１３】
【００９４】ａ）無水トルオール１００ｍｌ中の３−ジ
エチルアミノフェノール２．９９ｇ（１８．１ミリモ
ル）、塩化ベンゾイル２．７ｍｌ（２３．６ミリモル）
及びピリジン２ｍｌの溶液を、還流下に３時間加熱し
た。真空下での溶剤の除去後に、粗製生成物をフラッシ
ュ・クロマトグラフィー（展開剤：ペンタン／酢酸エス
テル９０：１０）を用いて精製した。安息香酸−（３−
ジエチルアミノ）−フェニルエステル０．８ｇが得られ
た。
【００９５】ｂ）安息香酸−（３−ジエチルアミノ）−
フェニルエステル０．７８ｇ（２．９ミリモル）及び三
塩化アルミニウム１．１６ｇ（８．７ミリモル）を混合
しかつ４時間で１７５℃にまで加熱した。冷却後に、こ
の反応混合物を氷水及び濃塩酸２ｍｌで加水分解した。
これを室温で１時間攪拌してから、この反応混合物にジ
クロルメタン５０ｍｌを添加した。有機相を分離し、水
相をジクロルメタン１０ｍｌで２回抽出した。合わせた
有機相を硫酸ナトリウムにより乾燥させ、濾過し、かつ
溶剤を真空下に除去した。粗製生成物を、フラッシュ・
クロマトグラフィー（展開剤：ペンタン／メチル−第三
ブチルエーテル９０：１０）によって精製した。（４−
ジエチルアミノ−２−ヒドロキシフェニル）−フェニル
ケトン０．２２ｇが得られた。融点４６〜４８℃；λ
max：３５９ｎｍ；Ｅ1 1：１２８０。
【００９６】例 ３ ２−（２−ヒドロキシ−４−ピロリジン−１−イル−ベ
ンゾール）−安息香酸の製造
【００９７】
【化１４】
【００９８】３−ピロリジン−１−イル−フェノール
３．４８ｇ（２１．３ミリモル）を、無水トルオール６
０ｍｌ中に溶解させた。無水フタル酸３．４７ｇ（２
３．４ミリモル）の添加後に、この反応混合物を還流下
に２２時間加熱した。冷却後に、溶剤を真空下に除去
し、かつ残分をクロロホルム１００ｍｌ中に入れた。有
機相を、希塩酸２０ｍｌで６回洗浄し、次に、水相がほ
とんどローダニン染料を含有しなくなるまで水で洗浄し
た。有機相を、飽和炭酸水素ナトリウム溶液それぞれ２
０ｍｌで抽出した。合わせた水性抽出物を、希硫酸で酸
性化し（ｐＨ＜２）、かつエーテルそれぞれ５０ｍｌで
３回抽出した。合わせた有機相を、水で洗浄し、硫酸マ
グネシウムにより乾燥させ、濾過し、かつ溶剤を真空下
に除去した。２−（２−ヒドロキシ−４−ピロリジン−
１−イル−ベンゾール）−安息香酸４．２２ｇ（１３．
５ミリモル）が固体として得られた。融点：２０３℃；
λmax：３５５ｎｍ；Ｅ1 1：１１６７。
【００９９】例 ４ ２−（２−ヒドロキシ−４−ピロリジン−１−イル−ベ
ンゾール）−安息香酸メチルエステルの製造
【０１００】
【化１５】
【０１０１】無水メタノール４０ｍｌ中の２−（２−ヒ
ドロキシ−４−ピロリジン−１−イル−ベンゾール）−
安息香酸１．３２ｇ（４．２ミリモル）の溶液に、濃硫
酸１ｍｌを滴加した。この反応混合物を、還流下に１６
時間加熱した。溶剤を、真空下に除去した。残分を、酢
酸エチルエステル１００ｍｌ中に入れ、飽和炭酸水素ナ
トリウム溶液及び水で洗浄し、硫酸ナトリウムにより乾
燥させ、濾過し、かつ溶剤を真空下に除去した。粗製生
成物を、フラッシュ・クロマトグラフィー（展開剤：ペ
ンタン／メチル−第三ブチルエーテル５０：５０）によ
って精製した。２−（２−ヒドロキシ−４−ピロリジン
−１−イル−ベンゾール）−安息香酸メチルエステル
１．１４ｇ（３．５ミリモル）が得られた。融点：１６
４℃；λma x：３５５ｎｍ；Ｅ1 1：１１７９。
【０１０２】表２の化合物１〜８の製造を、上記の例と
同様に行った。
【０１０３】表 ２：
【０１０４】
【化１６】
【０１０５】
【表１１】
【０１０６】
【化１７】
【０１０７】
【表１２】
【０１０８】
【化１８】
【０１０９】
【表１３】
【０１１０】例 ５ 光安定性の測定のための標準方法（陽光試験） 試験すべき光保護剤の５質量％のアルコール溶液を、エ
ッペンドルフ・ピペット（２０μｌ）を用いてガラス小
板のフライス板の上に塗布する。アルコールの存在によ
って、この溶液は、ざらざらにされたガラス表面の上に
均一に分布する。塗布された量は、日焼け止めクリ−ム
剤中で、平均的な光保護ファクターの達成のために必要
とされる光保護剤の量に対応している。試験の際に、そ
れぞれ４個のガラス小板に照射する。蒸発時間及び照射
は、それぞれ３０分間である。これらのガラス小板を、
照射の間に、陽光試験装置の底部に存在する水冷装置に
よって若干冷却する。陽光試験装置の内部の温度は、照
射の間には４０℃である。試料に照射した後に、試料
を、暗色の５０ｍｌのメスフラスコ中でエタノールで洗
浄し、かつ光度計を用いて測定する。空試料を、同様に
ガラス小板上に塗布し、かつ室温で３０分間蒸発させ
る。別の試料と同様に、これらをエタノールで洗い落と
し、１００ｍｌにまで希釈し、かつ測定する。
【０１１１】化粧品用の乳濁液の製造のための一般的説
明 全ての油溶性成分を、攪拌釜中で８５℃にまで昇温させ
る。全ての成分が融解した場合もしくは液相として存在
する場合には、水相を均一にしつつ混入する。撹拌下
に、乳濁液を約４０℃にまで冷却させ、香料を添加し、
均一化し、次に絶えず攪拌しつつ２５℃にまで冷却す
る。
【０１１２】 調剤 例 ６ リップケア剤用の組成 材料含分 （質量％） 無水オイセリン 合計して１００になるまで グリセリン １０．００ 微粉砕した二酸化チタン １０．００ 表２のNo. ２の化合物 ５．００ メトキシ桂皮酸オクチル ８．００ 酸化亜鉛 ５．００ ひまし油 ４．００ ステアリン酸ペンタエリトリチル／カプレート／ アジピン酸カプリレート ４．００ ステアリン酸グリセリルＳＥ ３．００ 密蝋 ２．００ 微晶質ワックス ２．００ 四級化アンモニウム化合物−１８ベントナイト ２．００ ＰＥＧ−４５／ドデシルグリコールコポリマー １．５０ 例 ７ リップケア剤用の組成 材料含分 （質量％） 無水オイセリン 合計して１００になるまで グリセリン １０．００ 微粉砕した二酸化チタン １０．００ 表２のNo. ３の化合物 ５．００ メトキシ桂皮酸オクチル ８．００ 酸化亜鉛 ５．００ ひまし油 ４．００ ステアリン酸ペンタエリトリチル／カプレート／ アジピン酸カプリレート ４．００ ステアリン酸グリセリルＳＥ ３．００ 密蝋 ２．００ 微晶質ワックス ２．００ 四級化アンモニウム化合物−１８ベントナイト ２．００ ＰＥＧ−４５／ドデシルグリコールコポリマー １．５０ 例 ８ 微小顔料を含有する日焼け止め剤用の組成 材料含分 （質量％） 水 合計して１００になるまで メトキシ桂皮酸オクチル １０．００ ＰＥＧ−７−水素化したひまし油 ６．００ 微粉砕した二酸化チタン ６．００ 表２のNo. ２の化合物 ５．００ 鉱油 ５．００ ｐ−メトキシ桂皮酸イソアミル ５．００ プロピレングリコール ５．００ ホホバ油 ３．００ ４−メチルベンジリデン樟脳 ３．００ ＰＥＧ−４５／ドデシルグリコールコポリマー ２．００ ジメチコン １．００ ＰＥＧ−４０−水素化したひまし油 ０．５０ 酢酸トコフェリル ０．５０ フェノキシエタノール ０．５０ ＥＤＴＡ ０．２０ 例 ９ 微小顔料を含有する日焼け止め剤用の組成 材料含分 （質量％） 水 合計して１００になるまで メトキシ桂皮酸オクチル １０．００ ＰＥＧ−７−水素化したひまし油 ６．００ 微粉砕した二酸化チタン ６．００ 表２のNo. ３の化合物 ５．００ 鉱油 ５．００ ｐ−メトキシ桂皮酸イソアミル ５．００ プロピレングリコール ５．００ ホホバ油 ３．００ ４−メチルベンジリデン樟脳 ３．００ ＰＥＧ−４５／ドデシルグリコールコポリマー ２．００ ジメチコン １．００ ＰＥＧ−４０−水素化したひまし油 ０．５０ 酢酸トコフェリル ０．５０ フェノキシエタノール ０．５０ ＥＤＴＡ ０．２０ 例 １０ 無脂ジェル 材料含分 （質量％） 水 合計して１００になるまで メトキシ桂皮酸オクチル ８．００ 微粉砕した二酸化チタン ７．００ 表２のNo. ２の化合物 ５．００ グリセリン ５．００ ＰＥＧ−２５ ＰＡＢＡ ５．００ ４−メチルベンジリデン樟脳 １．００ アクリレート Ｃ10〜Ｃ30− アルキルアクリレート架橋ポリマー ０．４０ イミダゾリジニル尿素 ０．３０ ヒドロキシエチルセルロース ０．２５ メチルパラベンナトリウム ０．２５ ＥＤＴＡ二ナトリウム ０．２０ 香料 ０．１５ プロピルパラベンナトリウム ０．１５ 水酸化ナトリウム ０．１０ 例 １１ 無脂ジェル 材料含分 （質量％） 水 合計して１００になるまで メトキシ桂皮酸オクチル ８．００ 微粉砕した二酸化チタン ７．００ 表２のNo. ３の化合物 ５．００ グリセリン ５．００ ＰＥＧ−２５ ＰＡＢＡ ５．００ ４−メチルベンジリデン樟脳 １．００ アクリレート Ｃ10〜Ｃ30− アルキルアクリレート架橋ポリマー ０．４０ イミダゾリジニル尿素 ０．３０ ヒドロキシエチルセルロース ０．２５ メチルパラベンナトリウム ０．２５ ＥＤＴＡ二ナトリウム ０．２０ 香料 ０．１５ プロピルパラベンナトリウム ０．１５ 水酸化ナトリウム ０．１０ 例 １２ 日焼け止めクリーム（ＬＳＦ２０） 材料含分 （質量％） 水 合計して１００になるまで メトキシ桂皮酸オクチル ８．００ 微粉砕した二酸化チタン ８．００ ＰＥＧ−７−水素化したひまし油 ６．００ 表２のNo. ２の化合物 ５．００ 鉱油 ６．００ 酸化亜鉛 ５．００ パルミチン酸イソプロピル ５．００ イミダゾリジニル尿素 ０．３０ ホホバ油 ３．００ ＰＥＧ−４５／ドデシルグリコールコポリマー ２．００ ４−メチルベンジリデン樟脳 １．００ ステアリン酸マグネシウム ０．６０ 酢酸トコフェリル ０．５０ メチルパラベン ０．２５ ＥＤＴＡ二ナトリウム ０．２０ プロピルパラベンナトリウム ０．１５ 例 １３ 日焼け止めクリーム（ＬＳＦ２０） 材料含分 （質量％） 水 合計して１００になるまで メトキシ桂皮酸オクチル ８．００ 微粉砕した二酸化チタン ８．００ ＰＥＧ−７−水素化したひまし油 ６．００ 表２のNo. ３の化合物 ５．００ 鉱油 ６．００ 酸化亜鉛 ５．００ パルミチン酸イソプロピル ５．００ イミダゾリジニル尿素 ０．３０ ホホバ油 ３．００ ＰＥＧ−４５／ドデシルグリコールコポリマー ２．００ ４−メチルベンジリデン樟脳 １．００ ステアリン酸マグネシウム ０．６０ 酢酸トコフェリル ０．５０ メチルパラベン ０．２５ ＥＤＴＡ二ナトリウム ０．２０ プロピルパラベンナトリウム ０．１５ 例 １４ 耐水性日焼け止めクリーム 材料含分 （質量％） 水 合計して１００になるまで メトキシ桂皮酸オクチル ８．００ ＰＥＧ−７−水素化したひまし油 ５．００ プロピレングリコール ５．００ パルミチン酸イソプロピル ４．００ カプリル酸／カプリン酸トリグリセリド ４．００ 表２のNo. ２の化合物 ５．００ グリセリン ４．００ ホホバ油 ３．００ ４−メチルベンジリデン樟脳 ２．００ 微粉砕した二酸化チタン ２．００ ＰＥＧ−４５／ドデシルグリコールコポリマー １．５０ ジメチコン １．５０ 硫酸マグネシウム ０．７０ ステアリン酸マグネシウム ０．５０ 香料 ０．１５ 例 １５ 耐水性日焼け止めクリーム 材料含分 （質量％） 水 合計して１００になるまで メトキシ桂皮酸オクチル ８．００ ＰＥＧ−７−水素化したひまし油 ５．００ プロピレングリコール ５．００ パルミチン酸イソプロピル ４．００ カプリル酸／カプリン酸トリグリセリド ４．００ 表２のNo. ３の化合物 ５．００ グリセリン ４．００ ホホバ油 ３．００ ４−メチルベンジリデン樟脳 ２．００ 微粉砕した二酸化チタン ２．００ ＰＥＧ−４５／ドデシルグリコールコポリマー １．５０ ジメチコン １．５０ 硫酸マグネシウム ０．７０ ステアリン酸マグネシウム ０．５０ 香料 ０．１５ 例 １６ 日焼け止め用乳液（ＬＳＦ６） 材料含分 （質量％） 水 合計して１００になるまで 鉱油 １０．００ ＰＥＧ−７−水素化したひまし油 ６．００ パルミチン酸イソプロピル ５．００ メトキシ桂皮酸オクチル ３．５０ 表２のNo. ２の化合物 ５．００ カプリル酸／カプリン酸トリグリセリド ３．００ ホホバ油 ３．００ ＰＥＧ−４５／ドデシルグリコールコポリマー ２．００ 硫酸マグネシウム ０．７０ ステアリン酸マグネシウム ０．６０ 酢酸トコフェリル ０．５０ グリセリン ３．００ メチルパラベン ０．２５ プロピルパラベン ０．１５ トコフェロール ０．０５ 例 １７ 日焼け止め用乳液（ＬＳＦ６） 材料含分 （質量％） 水 合計して１００になるまで 鉱油 １０．００ ＰＥＧ−７−水素化したひまし油 ６．００ パルミチン酸イソプロピル ５．００ メトキシ桂皮酸オクチル ３．５０ 表２のNo. ３の化合物 ５．００ カプリル酸／カプリン酸トリグリセリド ３．００ ホホバ油 ３．００ ＰＥＧ−４５／ドデシルグリコールコポリマー ２．００ 硫酸マグネシウム ０．７０ ステアリン酸マグネシウム ０．６０ 酢酸トコフェリル ０．５０ グリセリン ３．００ メチルパラベン ０．２５ プロピルパラベン ０．１５ トコフェロール ０．０５
フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ａ６１Ｋ 31/24 Ａ６１Ｋ 31/24 31/40 31/40 Ａ６１Ｐ 17/16 Ａ６１Ｐ 17/16 Ｃ０７Ｃ 225/22 Ｃ０７Ｃ 225/22 229/52 229/52 // Ｃ０７Ｄ 295/14 Ｃ０７Ｄ 295/14 Ｚ (72)発明者 フランク プレヒトル ドイツ連邦共和国 フランクフルト ヴィ ーラントシュトラーセ 61 (72)発明者 トーマス ヴュンシュ ドイツ連邦共和国 シュパイヤー ザンク ト クララ クロスターヴェーク 12 (72)発明者 ホルスト ヴェステンフェルダー ドイツ連邦共和国 ノイシュタット ミュ ラー−トゥルガウ−ヴェーク ６ (72)発明者 ジルケ ハレンツァ ドイツ連邦共和国 ネッカーゲミュント リンクシュトラーセ 13 (72)発明者 トルステン バッハ ドイツ連邦共和国 マールブルク シュピ ーゲルスルストヴェーク 14 (72)発明者 アーニャ シュピーゲル ドイツ連邦共和国 マールブルク ウニヴ ェルジィテーツシュトラーセ 47

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 一般式Ｉ： 【化１】 〔式中、不定項目は、互いに独立に以下の意味を有す
    る：Ｒ1及びＲ2は、水素原子、Ｃ1〜Ｃ20−アルキル、
    Ｃ2〜Ｃ10−アルケニル、Ｃ3〜Ｃ10−シクロアルキル、
    Ｃ3〜Ｃ10−シクロアルケニルであるが、この場合、置
    換基Ｒ1及びＲ2は、これらと結合している窒素原子と一
    緒になって５員環又は６員環を形成していてもよく；Ｒ
    3及びＲ4は、Ｃ1〜Ｃ20−アルキル、Ｃ2〜Ｃ10−アルケ
    ニル、Ｃ3〜Ｃ10−シクロアルキル、Ｃ3〜Ｃ10−シクロ
    アルケニル、Ｃ1〜Ｃ12−アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ20−アル
    コキシカルボニル、Ｃ1〜Ｃ12−アルキルアミノ、Ｃ1〜
    Ｃ12−ジアルキルアミノ、アリール、ヘテロアリールで
    あるが、ニトリル基、カルボキシレート基、スルホネー
    ト基又はアンモニウム基からなるグループから選択され
    た水溶性する置換基で置換されていてもよく；Ｘは、水
    素原子、ＣＯＯＲ5、ＣＯＮＲ6Ｒ7であり；Ｒ5〜Ｒ
    7は、水素原子、Ｃ1〜Ｃ20−アルキル、Ｃ2〜Ｃ10−ア
    ルケニル、Ｃ3〜Ｃ10−シクロアルキル、Ｃ3〜Ｃ10−シ
    クロアルケニル、−（Ｙ−Ｏ）o−Ｚ、アリールであ
    り；Ｙは、−（ＣＨ2）2−、−（ＣＨ2）3−、−（ＣＨ
    2）4−、−ＣＨ（ＣＨ3）−ＣＨ2−であり；Ｚは、−Ｃ
    Ｈ2−ＣＨ3、−ＣＨ2−ＣＨ2−ＣＨ3、−ＣＨ2−ＣＨ2
    −ＣＨ2−ＣＨ 3、−ＣＨ（ＣＨ3）−ＣＨ3であり；ｍ
    は、０〜３であり；ｎは、０〜４であり；ｏは、１〜２
    ０である〕で示されるアミノ置換されたヒドロキシベン
    ゾフェノンの使用。
  2. 【請求項２】 光安定性のＵＶ−Ａ−フィルターとして
    の請求項１による式Ｉの化合物の使用。
  3. 【請求項３】 化粧品及び医薬調剤におけるＵＶ安定剤
    としての請求項１又は２に記載の式Ｉの化合物の使用。
  4. 【請求項４】 アミノ置換されたヒドロキシベンゾフェ
    ノンが、一般式Ｉｂ： 【化２】 〔式中、置換基は、互いに独立に以下の意味を有する：
    Ｒ1及びＲ2は、水素原子、Ｃ1〜Ｃ12−アルキルである
    が、この場合、置換基Ｒ1及びＲ2は、これらと結合して
    いる窒素原子と一緒になって５員環又は６員環を形成し
    ていてもよく；Ｒ5は、水素原子、Ｃ1〜Ｃ12−アルキ
    ル、Ｃ3〜Ｃ6−シクロアルキルである〕を有する、請求
    項１から３までのいずれか１項に記載の使用。
  5. 【請求項５】 ２８０〜４００ｎｍの範囲内のＵＶ光か
    らの人間の表皮又は人間の毛髪の保護のための光保護剤
    を含有する化粧品及び医薬調剤において、これらが、化
    粧品及び医薬品に適する担持剤中で、単独又は化粧品及
    び医薬調剤にとって自体公知のＵＶ領域で吸収性の化合
    物と一緒に、式Ｉ： 【化３】 〔式中、変動項目は、請求項１により定義された意味を
    有する〕で示される化合物の光安定性ＵＶフィルターと
    しての有効量を含有していることを特徴とする、光保護
    剤を含有する化粧品及び医薬調剤。
  6. 【請求項６】 変動項目が、請求項４により定義された
    意味を有する式Ｉｂの化合物を、ＵＶ−Ａ−フィルター
    として含有する、請求項５に記載の光保護剤を含有する
    化粧品及び医薬調剤。
  7. 【請求項７】 一般式Ｉｃ： 【化４】 〔式中、変動項目は、互いに独立に以下の意味を有す
    る：Ｒ1及びＲ2は、水素原子、Ｃ1〜Ｃ8−アルキルであ
    るが、この場合、置換基Ｒ1及びＲ2は、これらと結合し
    ている窒素原子と一緒になって５員環又は６員環を形成
    していてもよく；Ｘは、ＣＯＯＲ5、ＣＯＮＲ6Ｒ7であ
    り；Ｒ5は、Ｃ2〜Ｃ12−アルキル、Ｃ5〜Ｃ6−シクロア
    ルキルであり；Ｒ6及びＲ7は、水素原子、Ｃ1〜Ｃ12−
    アルキル、Ｃ5〜Ｃ6−シクロアルキルである〕で示され
    るアミノ置換されたヒドロキシベンゾフェノン。
JP2000115373A 1999-04-20 2000-04-17 光安定性ｕｖフィルターとしてのアミノ置換されたヒドロキシベンゾフェノンの使用、該化合物を含有する光保護剤及びアミノ置換されたヒドロキシベンゾフェノン Expired - Lifetime JP4705220B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19917906.9 1999-04-20
DE19917906A DE19917906A1 (de) 1999-04-20 1999-04-20 Verwendung von aminosubstituierten Hydroxybenzophenonen als photostabile UV-Filter in kosmetischen und pharmazeutischen Zubereitungen

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2000319628A true JP2000319628A (ja) 2000-11-21
JP4705220B2 JP4705220B2 (ja) 2011-06-22

Family

ID=7905241

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000115373A Expired - Lifetime JP4705220B2 (ja) 1999-04-20 2000-04-17 光安定性ｕｖフィルターとしてのアミノ置換されたヒドロキシベンゾフェノンの使用、該化合物を含有する光保護剤及びアミノ置換されたヒドロキシベンゾフェノン

Country Status (11)

Country Link
US (1) US6409995B1 (ja)
EP (2) EP1466585A3 (ja)
JP (1) JP4705220B2 (ja)
CN (2) CN100566713C (ja)
AT (1) ATE275929T1 (ja)
AU (1) AU773111B2 (ja)
DE (2) DE19917906A1 (ja)
DK (1) DK1046391T3 (ja)
ES (1) ES2228322T3 (ja)
PT (1) PT1046391E (ja)
SI (1) SI1046391T1 (ja)

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003146865A (ja) * 2001-09-07 2003-05-21 Basf Ag 安定剤及びアミノ置換ヒドロキシベンゾフェノンを含有し、乳化剤を僅かしか含まないか又は全く含まない水中油型の系
KR20030047811A (ko) * 2001-12-07 2003-06-18 로레알 차단제의 상승작용성 혼합물에 기초한 일광차단 화장조성물, 및 이의 용도
JP2006509834A (ja) * 2002-12-12 2006-03-23 チバ　スペシャルティ　ケミカルズ　ホールディング　インコーポレーテッド アミノ置換ヒドロキシフェニルベンゾフェノン誘導体
JP2007530637A (ja) * 2004-04-02 2007-11-01 チバ　スペシャルティ　ケミカルズ　ホールディング　インコーポレーテッド 色素沈着を防ぐためのベンゾフェノンｕｖフィルタの使用
JP2008533188A (ja) * 2005-03-21 2008-08-21 フエルレル インターナショナル，ソシエダッド アノニマ 安息香酸エステル化合物、組成物、これらに関する使用及び方法
JP4764817B2 (ja) * 2003-03-24 2011-09-07 チバ ホールディング インコーポレーテッド 対称性トリアジン誘導体
JP2013503144A (ja) * 2009-08-28 2013-01-31 ロレアル 少なくとも１種の親油性２−ヒドロキシベンゾフェノン遮蔽剤及び少なくとも２つのアルキルアミノベンゾエート基で置換されているケイ素ｓ−トリアジンを含む組成物
JP2021533088A (ja) * 2019-10-11 2021-12-02 エイエステック カンパニー，リミテッド ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシルの製造方法

Families Citing this family (101)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1041879B2 (en) 1997-10-10 2012-03-21 Pure Bioscience Disinfectant and method of making
US7261905B2 (en) * 1999-04-07 2007-08-28 Pure Bioscience Disinfectant and method of making
DE10012408A1 (de) * 2000-03-15 2001-09-20 Basf Ag Verwendung von Lichtschutzmittelkombinationen, die als wesentlichen Bestandteil aminosubstituierte Hydroxybenzophenone enthalten als photostabile UV-Filter in kosmetischen und pharmazeutischen Zubereitungen
US6890953B2 (en) * 2000-04-06 2005-05-10 Innovative Medical Services Process for treating water
DE10063946A1 (de) 2000-12-20 2002-07-04 Basf Ag Verwendung von Lichtschutzmittelkombinationen, die als wesentlichen Bestandteil 2,2'-p-Phenylen-bis(3,1-benzoxazin-4-on) enthalten als photostabile UV-Filter in kosmetischen und pharmazeutischen Zubereitungen
DE10113058A1 (de) * 2001-03-15 2002-09-19 Basf Ag Verwendung von Lichtschutzmittelkombinationen, die als wesentlichen Bestandteil 2-(4-Alkoxy-anilinomethylen)-malonsäure-dialkylester enthalten als photostabile UV-Filter in kosmetischen und pharmazeutischen Zubereitungen
DE10143962A1 (de) * 2001-09-07 2003-03-27 Basf Ag Kosmetische und dermatologische Zubereitungen in Form von O/W-Emulsionen, enthaltend ein aminosubstituiertes Hydroxybenzophenon
DE10143960A1 (de) * 2001-09-07 2003-03-27 Basf Ag Kosmetische und dermatologische Zubereitungen in Stiftform, enthaltend ein aminosubstituiertes Hydroxybenzophenon
DE10143963A1 (de) * 2001-09-07 2003-03-27 Basf Ag Kosmetische und dermatologische Zubereitungen in Form von W/O-Emulsionen, enthaltend ein aminosubstituiertes Hydroxybenzophenon
EP1434562B1 (de) * 2001-09-29 2017-08-16 Beiersdorf AG Kosmetische und dermatologische stifte
DE10155960A1 (de) * 2001-11-09 2003-05-22 Beiersdorf Ag Kosmetische und dermatologische Stifte
EP1302199A3 (fr) 2001-10-16 2004-07-28 L'oreal Compositions pour la coloration de la peau proche du bronzage naturel a base d'un pigment du type monascus et utilisations
DE10155966A1 (de) * 2001-11-09 2003-05-22 Beiersdorf Ag Emulgatorfreie kosmetische und dermatologische Lichtschutzformulierungen mit einem Gehalt an Hydroxybenzophenonen
DE10155956A1 (de) * 2001-11-09 2003-05-22 Beiersdorf Ag Selbstschäumende, schaumförmige, nachschäumende oder schäumbare kosmetische oder dermatologische Zubereitungen
DE10155963A1 (de) * 2001-11-09 2003-05-22 Beiersdorf Ag Kosmetische und dermatologische Lichtschutzformulierungen mit einem Gehalt an Hydroxybenzophenonen, Triazin- und/oder Benzotriazol-Derivaten
DE10155958A1 (de) 2001-11-09 2003-05-22 Beiersdorf Ag Kosmetische und dermatologische Lichtschutzformulierungen mit einem Gehalt an Hydroxybenzophenonen und Alkylnaphthalaten
JP2005507946A (ja) * 2001-11-09 2005-03-24 バイヤースドルフ・アクチエンゲゼルシヤフト オクタデセンジカルボン酸およびｕｖフィルター物質を含有する化粧品および／もしくは皮膚科学的調製物
DE10155962A1 (de) * 2001-11-09 2003-05-22 Beiersdorf Ag Kosmetische und dermatologische Lichtschutzformulierungen mit einem Gehalt an Hydroxybenzophenonen und Acrylamid-Polymeren
DE10155957A1 (de) * 2001-11-09 2003-05-22 Beiersdorf Ag Kosmetische und dermatologische Lichtschutzformulierungen mit einem Gehalt an Hydroxybenzophenonen und Pentanatrium-Ethylendiamintetramethylenphosphonat
DE10155965A1 (de) * 2001-11-09 2003-05-22 Beiersdorf Ag Kosmetische und dermatologische Lichtschutzformulierungen mit einem Gehalt an Hydroxybenzophenonen und Iminodibernsteinsäure und/oder ihren Salzen
DE10155959A1 (de) * 2001-11-09 2003-05-22 Beiersdorf Ag Kosmetische und/oder dermatologische Wirkstoffkombination
DE10155865A1 (de) * 2001-11-14 2003-05-28 Beiersdorf Ag Kosmetische und/oder dermatologische Lichtschutzzubereitung
DE10157489A1 (de) * 2001-11-23 2003-06-12 Beiersdorf Ag Kosmetische und/oder dermatologische Lichtschutzzubereitung
FR2833168B1 (fr) * 2001-12-07 2004-08-27 Oreal Composition filtrante contenant un filtre du type derive du dibenzoylmethane et un derive de 2-hydroxybenzophenone aminosubstitue
FR2833166B1 (fr) * 2001-12-07 2004-08-27 Oreal Composition autobronzante contenant un derive du 2-hydroxybenzophenone aminosubstitue et un agent autobronzant
FR2833169B1 (fr) * 2001-12-07 2004-07-16 Oreal Composition filtrante contenant un derive de 1,3,5-triazine, un derive du dibenzoylmethane, et un derive de 2-hydroxybenzophenone aminosubstitue
FR2833170B1 (fr) 2001-12-07 2004-07-16 Oreal Compositions cosmetiques antisolaires a base d'un melange synergique de filtres et utilisations
DE10162844A1 (de) * 2001-12-20 2003-07-03 Beiersdorf Ag Kosmetische und dermatologische Lichtschutzformulierungen mit einem Gehalt an Bis-Resorcinyltriazinderivaten und Benzoxazol-Derivaten
DE10162840A1 (de) * 2001-12-20 2003-07-03 Beiersdorf Ag Kosmetische und dermatologische Lichtschutzformulierungen mit einem Gehalt an wasserlöslichen UV-Filtersubstanzen und Benzoxazol-Derivaten
DE10249367A1 (de) * 2001-12-20 2003-07-17 Beiersdorf Ag Kosmetische und dermatologische Lichtschutzformulierungen mit einem Gehalt an Hydroxybenzophenonen und Benzoxazol-Derivaten
DE10162842A1 (de) * 2001-12-20 2003-07-03 Beiersdorf Ag Kosmetische und dermatologische Lichtschutzformulierungen mit einem Gehalt an Benzotriazolen und Benzoxazol-Derivaten
US20050142080A1 (en) * 2001-12-20 2005-06-30 Beiersdorf Ag Cosmetic or dermatological light protection formulation with a benzoxazole derivative
WO2003053393A1 (de) * 2001-12-20 2003-07-03 Beiersdorf Ag Komestiche und dermatologische lichtschutzformulierungen mit einem gehalt an hydroxybenzophenonen und benzoxazol-derivaten
DE10216508A1 (de) * 2002-04-11 2003-10-23 Beiersdorf Ag Kosmetische und dermatologische Formulierungen mit einem Gehalt an Hydroxybenzophenonen und einem oder mehreren vorgelatinisierten, quervernetzten Stärkederivaten
US7388102B2 (en) 2002-04-12 2008-06-17 Dsm Ip Assets B.V. Organosilicone derivatives of amino hydroxybenzophenones and their use as UV-A filters in cosmetic preparations
DE10221805A1 (de) * 2002-05-15 2003-11-27 Basf Ag Verfahren zur Herstellung von 2-(4-N,N-Dialkylamino-2-hydroxybenzoyl)benzoesäureestern
US7041278B2 (en) * 2002-07-31 2006-05-09 Coty Inc Cosmetic compositions with improved thermal stability and wear
US20040044073A1 (en) * 2002-08-31 2004-03-04 Innovative Medical Services Composition and process for treating acne
DE10240863A1 (de) * 2002-09-04 2004-03-18 Basf Ag Verwendung von 2-(4-Diethylamino-2-hydroxybenzoyl)-benzoesäure-n-hexylester in kosmetischen oder dermatologischen Zubereitungen zur Behandlung von Haaren
US7435438B1 (en) 2003-05-16 2008-10-14 Pure Bioscience Disinfectant and method of use
DE10327468A1 (de) * 2003-06-18 2005-01-05 Beiersdorf Ag Wässrig-alkoholische kosmetische und dermatologische Zubereitungen mit einem Gehalt an UV-A-Filtersubstanzen
DE10328547A1 (de) * 2003-06-24 2005-01-13 Basf Ag Mischung bestehend aus einem UV-A- und einem UV-B-Filter
CA2536955A1 (en) * 2003-08-28 2005-03-10 Pure Bioscience Silver dihydrogen citrate compositions comprising a second antimicrobial agent
DE10342861A1 (de) * 2003-09-15 2005-04-21 Basf Ag Pulverförmiger Zubereitungen, enthaltend eine Mischung von 2,4,6-Trianilino-p-(carbo-2'-ethylhexyl-1'-oxi)-1,3,5-triazin und Diethylamino-hydroxybenzoyl-hexyl-benzoat
EP1722863B1 (en) 2003-12-04 2012-02-08 DSM IP Assets B.V. Microcapsules with uv filter activity and process for producing them
EP1727515B1 (en) 2004-03-25 2014-04-30 DSM IP Assets B.V. Uv absorbing chromophores covalently bonded to hyperbranched polymers
CN1933802B (zh) 2004-03-26 2011-07-06 帝斯曼知识产权资产管理有限公司 包含hdac抑制剂和类维生素a的组合的组合物
DE102004028629A1 (de) * 2004-06-15 2006-06-08 Basf Ag Stabilisierung von Farbstoffen in kosmetischen und dermatologischen Zubereitungen
KR101371911B1 (ko) 2004-06-28 2014-03-10 디에스엠 아이피 어셋츠 비.브이. 단백질 가수분해산물을 함유하는 화장품 조성물
US20060051430A1 (en) * 2004-09-07 2006-03-09 Arata Andrew B Silver dihydrogen citrate compositions
CN101120052B (zh) * 2005-02-17 2012-06-06 出光兴产株式会社 对420nm的波长光具有吸收能力的热塑性树脂组合物及其成型体
JP5086802B2 (ja) * 2005-02-17 2012-11-28 出光興産株式会社 ４１０ｎｍの波長光に対して吸収能を持つ熱可塑性透明組成物およびその成形体
EP1752192B1 (en) * 2005-08-12 2010-02-03 The Procter and Gamble Company Oxidizing hair coloring agents containing m-Aminophenol derivatives
JP5113756B2 (ja) 2005-09-20 2013-01-09 ディーエスエム アイピー アセッツ ビー．ブイ． 新規カルボン酸誘導体
EP1959914B1 (en) 2005-12-09 2014-05-21 DSM IP Assets B.V. Cosmetic or dermatological compositions comprising modified titanium dioxide particles
WO2007090832A1 (en) * 2006-02-09 2007-08-16 Ciba Holding Inc. Hydroxybenzophenone derivatives
DE102006006413A1 (de) * 2006-02-13 2007-08-23 Merck Patent Gmbh UV-Filter-Kapsel
WO2007121916A2 (en) 2006-04-21 2007-11-01 Dsm Ip Assets B.V. Use of opioid receptor antagonists
CN101505712B (zh) 2006-06-16 2013-03-20 帝斯曼知识产权资产管理有限公司 基于超支化缩合聚合物的组合物以及超支化缩合聚合物
ES2409170T5 (es) * 2006-06-23 2024-01-19 Basf Se Procedimiento para el aumento del factor de protección solar de un preparado cosmético y/o dermatológico
US20100055218A1 (en) 2006-07-14 2010-03-04 Daniel Raederstorff Novel compositions
EP2120846A2 (en) * 2007-03-07 2009-11-25 Basf Se Use of amines and amides for the stabilization of organic micronized uv absorbers
AU2008248760A1 (en) 2007-05-02 2008-11-13 Basf Se Method for the crystallization of 2-(4-N,N-diethyl amino-2-hydroxy benzoyl)-benzoic acid-n-hexyl ester
EP1994921A1 (fr) 2007-05-21 2008-11-26 L'Oreal Composition parfumante comprenant l'association d'un filtre A hydroxyaminobenzophenone, d'un filtre B cinnamate et d'un composé C pipéridinol, benzotriazole ou dibenzoylméthane
DE102007024342A1 (de) * 2007-05-22 2008-11-27 Beiersdorf Ag Kosmetische Zubereitung mit spezieller UV-Filterkombination
EP2070524A1 (en) 2007-12-11 2009-06-17 DSM IP Assets B.V. Compositions comprising Magnolol and/or Honokiol and glucosamine and use thereof for the treatment, co-treatment or prevention of inflammatory disorders
EP2070525A1 (en) 2007-12-11 2009-06-17 DSM IP Assets B.V. Compositions comprising Magnolol and/or Honokiol and chondroitin and use thereof for the treatment, co-treatment or prevention of inflammatory disorders
DE102008018789A1 (de) * 2008-04-11 2009-10-15 Beiersdorf Ag Parfümierte kosmetische Zubereitung mit Citronellol
DE102008018788A1 (de) 2008-04-11 2009-10-15 Beiersdorf Ag Parfümierte kosmetische Zubereitung
DE102008021631A1 (de) * 2008-04-25 2009-10-29 Beiersdorf Ag Lichtschutzfilterkombination mit 2,4,6-Tris-(biphenyl)-1,3,5-triazin
BRPI1007969A2 (pt) 2009-02-23 2016-02-23 Dsm Ip Assets Bv extratos de cajanus e glucosamina para desordens inflamatórias.
WO2010125092A1 (en) * 2009-04-28 2010-11-04 Interquim, S.A. 3-dialkylaminophenyl 2-alkoxycarbonylbenzoic compounds
FR2949327B1 (fr) * 2009-08-28 2011-12-09 Oreal Composition contenant un filtre du type 2-hydroxybenzophenone lipophile et une s-triazine siliciee substituee par au moins deux groupes alkylaminobenzoates
JP2011074070A (ja) 2009-09-07 2011-04-14 Fujifilm Corp 紫外線吸収性組成物
EP2510041A1 (en) 2009-12-09 2012-10-17 DSM IP Assets B.V. Uv absorbing dentritic polyether prepared by polymerization of oxetanes
US20130004437A1 (en) * 2009-12-09 2013-01-03 Alexander Schlifke-Poschalko Novel compound
US20130115179A1 (en) * 2009-12-09 2013-05-09 Anne Janssen Novel compounds
WO2011121093A1 (en) 2010-03-31 2011-10-06 Dsm Ip Assets B.V. Use of organic compounds in hair care
EP2558055B1 (en) 2010-04-12 2016-08-17 DSM IP Assets B.V. Hair treatment composition containing gambogic acid, ester or amide
CN103002866B (zh) 2010-07-23 2016-03-16 帝斯曼知识产权资产管理有限公司 甜菊或衍生物在毛发护理中的局部用途
EP2522330A1 (en) 2011-05-09 2012-11-14 DSM IP Assets B.V. Use of resveratrol and an edelweiss extract
EP2522328A1 (en) 2011-05-09 2012-11-14 DSM IP Assets B.V. Use of resveratrol and ascorbyl-2-glucoside
EP2522329A1 (en) 2011-05-09 2012-11-14 DSM IP Assets B.V. Use of resveratrol and arbutin
EP2522331A1 (en) 2011-05-09 2012-11-14 DSM IP Assets B.V. Use of resveratrol and niacinamide
EP2522332A1 (en) 2011-05-09 2012-11-14 DSM IP Assets B.V. Use of resveratrol and magnesium-ascorbyl-phosphate
EP2522335A1 (en) 2011-05-09 2012-11-14 DSM IP Assets B.V. Use of resveratrol and sodium-ascorbyl-phophate
US20140227205A1 (en) 2011-06-08 2014-08-14 Dsm Ip Assets B.V. Topical composition
US20140308220A1 (en) 2011-06-08 2014-10-16 Dsm Ip Assets B.V. Topical composition
US9060945B2 (en) 2012-01-09 2015-06-23 Dsm Ip Assets B.V. Use of danielone and derivatives thereof in skin care
EP2623094A1 (en) 2012-02-02 2013-08-07 DSM IP Assets B.V. Use of an edelweiss extract
MX363602B (es) 2013-01-21 2019-03-28 Oreal Composicion cosmetica o dermatologica que comprende una merocianina y un agente de filtracion de los rayos ultravioleta a del tipo de 2-hidroxibenzofenona substituida con amino y/o un agente de filtracion de los rayos ultravioleta a organico, hidrofilico.
ES2693045T3 (es) 2013-01-21 2018-12-07 L'oréal Composición cosmética o dermatológica que comprende una merocianina, un agente de filtro UVB orgánico y un agente de filtro UVA orgánico adicional
WO2014207002A1 (en) 2013-06-27 2014-12-31 Dsm Ip Assets B.V. Method for producing 2-(4-n,n-dialkylamino-2-hydroxybenzoyl) benzoates
CN105339344B (zh) * 2013-06-27 2018-04-20 帝斯曼知识产权资产管理有限公司 生产2‑(4‑n,n‑二烷基氨基‑2‑羟基苯甲酰基)苯甲酸酯的方法
EP2873440A1 (en) 2013-11-19 2015-05-20 DSM IP Assets B.V. Use of an edelweiss extract in hair care for stimulating hair growth
EP2873414A1 (en) 2013-11-19 2015-05-20 DSM IP Assets B.V. Use of an edelweiss extract in hair care for the prevention of hair graying
JP2017530975A (ja) 2014-10-17 2017-10-19 ディーエスエム アイピー アセッツ ビー．ブイ． １０−ヒドロキシステアリン酸を含む化粧用組成物の使用
WO2016090081A1 (en) 2014-12-04 2016-06-09 Lubrizol Advanced Materials, Inc. Viscosity modification of organic phase containing compositions
EP3421096A1 (en) 2017-06-30 2019-01-02 Athenion AG Method for solubilizing poorly water-soluble cosmetic agents
EP3709956A1 (en) 2017-11-13 2020-09-23 DSM IP Assets B.V. Cosmetic or dermatological compositions
CN112010771B (zh) * 2020-09-08 2023-05-02 河北建新化工股份有限公司 一种2-（4-二乙氨基-2-羟基苯甲酰基）苯甲酸正己酯的制备方法

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3265497A (en) * 1961-04-29 1966-08-09 Renker Belipa G M B H Fa Electrophotographic material
JPS63139158A (ja) * 1986-11-29 1988-06-10 Kanebo Ltd ４−ジメチルアミノベンゾフエノン誘導体
JPH01153651A (ja) * 1987-12-10 1989-06-15 Kemipuro Kasei Kk 紫外線安定剤
JPH0693217A (ja) * 1990-03-30 1994-04-05 Ciba Geigy Ag コーティング組成物

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3883557A (en) * 1973-07-27 1975-05-13 Ncr Co Trimethylfluoran compounds
NL190101C (nl) * 1978-11-13 1993-11-01 Givaudan & Cie Sa Dibenzoylmethaanverbinding en tegen licht beschermend preparaat.
DE3505285A1 (de) * 1985-02-15 1986-08-21 Ciba-Geigy Ag, Basel Verfahren zur herstellung von basisch substituierten fluoranverbindungen
DE3781048T2 (de) 1986-06-27 1992-12-17 Procter & Gamble Chromophore, sonnenschutzpraeparate und verfahren zur verhuetung des sonnenbrandes.
US5087445A (en) 1989-09-08 1992-02-11 Richardson-Vicks, Inc. Photoprotection compositions having reduced dermal irritation
FR2658075B1 (fr) * 1990-02-14 1992-05-07 Oreal Composition cosmetique filtrante photostable contenant un filtre uv-a et un beta,beta-diphenylacrylate ou alpha-cyano-beta,beta-diphenylacrylate d'alkyle.
US5587150A (en) * 1990-02-14 1996-12-24 L'oreal Photostable cosmetic screening composition containing a UV-A screening agent and an alkyl β, β-diphenylacrylate or α-cyano-β,β-diphenylacrylate
JPH05163275A (ja) * 1991-12-12 1993-06-29 Mitsui Toatsu Chem Inc 新規なフルオラン化合物
DE19726121A1 (de) 1997-06-20 1998-12-24 Beiersdorf Ag Kosmetische und dermatologische Lichtschutzformulierungen in Form von Emulsionen, insbesondere O/W-Makroemulsionen, O/W-Mikroemulsionen oder O/W/O-Emulsionen, mit einem Gehalt an Bis-Resorcinyltriazinderivaten

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3265497A (en) * 1961-04-29 1966-08-09 Renker Belipa G M B H Fa Electrophotographic material
JPS63139158A (ja) * 1986-11-29 1988-06-10 Kanebo Ltd ４−ジメチルアミノベンゾフエノン誘導体
JPH01153651A (ja) * 1987-12-10 1989-06-15 Kemipuro Kasei Kk 紫外線安定剤
JPH0693217A (ja) * 1990-03-30 1994-04-05 Ciba Geigy Ag コーティング組成物

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003146865A (ja) * 2001-09-07 2003-05-21 Basf Ag 安定剤及びアミノ置換ヒドロキシベンゾフェノンを含有し、乳化剤を僅かしか含まないか又は全く含まない水中油型の系
KR20030047811A (ko) * 2001-12-07 2003-06-18 로레알 차단제의 상승작용성 혼합물에 기초한 일광차단 화장조성물, 및 이의 용도
JP2006509834A (ja) * 2002-12-12 2006-03-23 チバ　スペシャルティ　ケミカルズ　ホールディング　インコーポレーテッド アミノ置換ヒドロキシフェニルベンゾフェノン誘導体
KR101057747B1 (ko) * 2002-12-12 2011-08-19 시바 홀딩 인코포레이티드 아미노 치환 히드록시페닐 벤조페논 유도체
JP4764817B2 (ja) * 2003-03-24 2011-09-07 チバ ホールディング インコーポレーテッド 対称性トリアジン誘導体
JP2007530637A (ja) * 2004-04-02 2007-11-01 チバ　スペシャルティ　ケミカルズ　ホールディング　インコーポレーテッド 色素沈着を防ぐためのベンゾフェノンｕｖフィルタの使用
JP2008533188A (ja) * 2005-03-21 2008-08-21 フエルレル インターナショナル，ソシエダッド アノニマ 安息香酸エステル化合物、組成物、これらに関する使用及び方法
US8545816B2 (en) 2005-03-21 2013-10-01 Ferrer Internacional, S.A. Benzoic acid ester compounds, compositions, uses and methods related thereto
JP2013503144A (ja) * 2009-08-28 2013-01-31 ロレアル 少なくとも１種の親油性２−ヒドロキシベンゾフェノン遮蔽剤及び少なくとも２つのアルキルアミノベンゾエート基で置換されているケイ素ｓ−トリアジンを含む組成物
JP2021533088A (ja) * 2019-10-11 2021-12-02 エイエステック カンパニー，リミテッド ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシルの製造方法
JP7195351B2 (ja) 2019-10-11 2022-12-23 エイエステック カンパニー，リミテッド ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシルの製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
ES2228322T3 (es) 2005-04-16
CN100566713C (zh) 2009-12-09
EP1046391A3 (de) 2000-11-08
CN1273088A (zh) 2000-11-15
EP1046391A2 (de) 2000-10-25
SI1046391T1 (en) 2005-04-30
CN1160052C (zh) 2004-08-04
EP1466585A3 (de) 2007-05-02
US6409995B1 (en) 2002-06-25
ATE275929T1 (de) 2004-10-15
EP1466585A2 (de) 2004-10-13
AU2886900A (en) 2000-10-26
DK1046391T3 (da) 2004-10-18
DE50007725D1 (de) 2004-10-21
CN1554325A (zh) 2004-12-15
AU773111B2 (en) 2004-05-20
PT1046391E (pt) 2005-01-31
EP1046391B1 (de) 2004-09-15
DE19917906A1 (de) 2000-10-26
JP4705220B2 (ja) 2011-06-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2000319628A (ja) 光安定性ｕｖフィルターとしてのアミノ置換されたヒドロキシベンゾフェノンの使用、該化合物を含有する光保護剤及びアミノ置換されたヒドロキシベンゾフェノン
JP3964989B2 (ja) 耐光性のｕｖフィルターとしての４，４−ジアリールブタジエンの使用、サンスクリーン含有の化粧品または製薬学的調剤、４，４−ジアリールブタジエンおよび製薬学的調剤
JP2000198762A (ja) オリゴマ―状ジアリ―ルブタジエン
JP2000169354A (ja) 化粧用調剤および製薬学的調剤における光安定性のＵＶフィルタ―としての二量体α―アルキル―スチロ―ル誘導体
JP2001261540A (ja) 光安定性ｕｖフィルタとしての光保護剤組合物の使用及び光保護剤組合物を含有する化粧品調製物及び医薬品調製物
JP2001348318A (ja) 必須の成分として、化粧品調剤および医薬品調剤における光安定性のｕｖフィルターとしての４，４’−ジアリールブタジエンを含有するサンスクリーン配合物
JP2000044452A (ja) ４，４―ジアリ―ルブタジエンのｕｖフィルタ―、サンスクリ―ン含有化粧品及び製剤としての使用、４，４―ジアリ―ルブタジエン及び製剤
JP2007530637A (ja) 色素沈着を防ぐためのベンゾフェノンｕｖフィルタの使用
US6488915B1 (en) Use of sunscreen combinations which comprise, as essential constituent, 2-(4-alkoxyanilinomethylene) malonic dialkyl esters as photostable UV filters in cosmetic and pharmaceutical preparations
JP2001240525A (ja) 化粧品用または皮膚科用光線保護剤調製物
JP2005539052A (ja) 化粧品および医薬品における光安定性ｕｖフィルターとしてのジケトピペラジン誘導体の使用
AU778388B2 (en) Use of cyclic enamines as light protection agents
JP4021572B2 (ja) 置換α−メチルスチレン誘導体のＵＶフィルターとしての使用、それを含有する日焼け止め剤および製薬学的調剤
JPH1067635A (ja) 化粧品調剤におけるＵＶ−Ａフィルタとしてのα−アシル−，β−アリルアシルニトリルの使用および該化合物を含有する光保護剤並びに前記種類の新規化合物
US6132703A (en) Cosmetic and pharmaceutical preparations containing photostable UV filters
AU713802B2 (en) Substituted benzylidenecyanoacetic esters
JP3779641B2 (ja) 光線保護剤としてエナミノトリアジンを含む化粧用または医薬用調製物、ならびに新規なエナミノトリアジン

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20061227

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20091016

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20100107

A602 Written permission of extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602

Effective date: 20100113

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20100216

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100317

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20100614

A602 Written permission of extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602

Effective date: 20100617

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20100715

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100903

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20101202

RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20101227

RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20101228

RD13 Notification of appointment of power of sub attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7433

Effective date: 20110201

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20110210

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821

Effective date: 20110201

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20110311

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 4705220

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

EXPY Cancellation because of completion of term