JP3964989B2 - 耐光性のｕｖフィルターとしての４，４−ジアリールブタジエンの使用、サンスクリーン含有の化粧品または製薬学的調剤、４，４−ジアリールブタジエンおよび製薬学的調剤 - Google Patents
耐光性のｕｖフィルターとしての４，４−ジアリールブタジエンの使用、サンスクリーン含有の化粧品または製薬学的調剤、４，４−ジアリールブタジエンおよび製薬学的調剤 Download PDFInfo
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、特に３２０〜４００ｎｍの領域の紫外線からヒトの表皮または毛髪を保護するための化粧品用調剤および製薬学的調剤における耐光性のＵＶフィルターとしての４，４−ジアリールブタジエンの使用に関する。
【０００２】
【従来の技術】
化粧品用調剤および製薬学的調剤で使用される日焼け止め剤は、ヒトの皮膚での日光の有害な作用を阻止するかまたは少なくともその作用の重大性を減少させるはたらきを有する。しかしながらまた、日焼け止め剤は他の成分を紫外線による分解または破壊（breakdown）から保護するためにも使用される。毛髪の化粧品用調剤での目的は、紫外線によるケラチン繊維への損傷を減少させることである。
【０００３】
地球の表面に到達する日光はＵＶ−Ｂ線（２８０〜３２０ｎｍ）およびＵＶ−Ａ線（＞３２０ｎｍ）を有し、それらは可視光領域と直接的に隣接している。ヒトの皮膚への作用、特にＵＶ−Ｂ線での作用は日焼けとして現れる。従って、この産業ではＵＶ−Ｂ線を吸収しかつ日焼けを防ぐ物質を比較的多数提供している。
【０００４】
ところで、皮膚科学的な調査によって、ＵＶ−Ａ線も、例えばケラチンまたはエラスチンを損傷させることにより皮膚の損傷およびアレルギーを完全に引き起こすことができるということが判明した。このことによって、皮膚の弾性能および保水能が減少する、すなわち皮膚は柔軟性を失い、しわを形成するようになる。太陽光線が強い地域で皮膚癌の発生率が顕著に高いことは、日光、特にＵＶ−Ａ線による細胞中の遺伝情報への損傷も引き起こされることを示す。従って、全ての調査結果によりＵＶ−Ａ領域に有効なフィルター物質を開発することが必要である。
【０００５】
日焼け止め剤においては、特に吸収極大が３２０〜３８０ｎｍの範囲にありＵＶ−Ａフィルターとして使用できる、化粧品用調剤または製薬学的調剤のための日焼け止め剤の需要が高まっている。更に、最低量を使用しても所望の効果が得られるように、このタイプの日焼け止め剤は高い比吸光度を有するべきである。また、化粧品用の製品のための日焼け止め剤は多くの他の必要条件、例えば化粧品用オイルにおける良好な溶解性、該日焼け止め剤で製造したエマルジョンの高い安定性、毒性学的認容性および固有の臭いが僅かであることならびに固有の色がほとんどないこと等の条件を満たさねばならない。
【０００６】
日焼け止め剤が満たさねばならないもう１つの必要条件は十分な耐光性である。しかしながら、従来の入手可能なＵＶ−Ａを吸収する日焼け止め剤では、あるとしても不十分な耐光性を有するにすぎない。
【０００７】
フランス特許第２４４０９３３号明細書では、ＵＶ−Ａフィルターとして、４−（１，１−ジメチルエチル）−４’−メトキシジベンゾイルメタンが記載されている。そこでは、波長２８０〜３８０ｎｍのあらゆる紫外線を吸収させるために前記の特定のＵＶ−Ａフィルター（GIVAUDANによって“PARSOL 1789”という銘柄で販売されている）と種々のＵＶ−Ｂフィルターとを混合させることを提案している。
【０００８】
しかしながら、該ＵＶ−Ａフィルターは、それを単独でまたはＵＶ−Ｂフィルターと混合して使用する場合に長時間の日光浴中の皮膚の持続的保護を保証するのに十分な光化学的な安定性を有さず、このことは、あらゆる紫外線からの皮膚の有効な保護を望むのであれば規則的かつ短時間の間隔での繰り返しの適用が必要であるということを意味する。
【０００９】
そのために、欧州特許出願公開第０５１４４９１号明細書では、ＵＶ−Ｂ領域におけるフィルターとして作用する２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリル酸エステルを添加することによって耐光性が不十分なＵＶ−Ａフィルターの安定化を開示している。
【００１０】
更に、欧州特許出願公開第０２５１３９８号明細書では、リンカーを使用することによってＵＶ−Ａ線を吸収する発色団とＵＶ−Ｂ線を吸収する発色団とを結合させることを提案している。このことは、化粧品調剤におけるＵＶ−ＡとＵＶ−Ｂフィルターとの自由な組合せはもはや可能ではなく、かつ発色団の化学結合における問題点は一定の組合せだけが可能であるにすぎないという欠点を有する。
【００１１】
米国特許第４，９５０，４６７号明細書では、化粧品用の製品でのＵＶ吸収剤として、２，４−ペンタジエン酸誘導体の使用を記載している。該特許において同様に有利であると記載される一アリール置換化合物は、耐光性が不十分であるという欠点を有している。
【００１２】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の課題は、ＵＶ−Ａ領域に高い吸光度を有し、耐光性であり、固有の色が僅かである、すなわち鮮鋭なバンド構造（sharp band structure）を有し、かつ置換基に依存して油または水に可溶である化粧品用途および製薬学的用途のための日焼け止め剤を提供することである。
【００１３】
【課題を解決するための手段】
前記課題は、式Ｉ：
【００１４】
【化６】
【００１５】
［式中、ジエン系はＺ，Ｚ、Ｚ，Ｅ、Ｅ，ＺまたはＥ，Ｅ配置もしくはその混合物であり、かつ置換基および変数は互いに独立して以下のものを表す：
Ｒ1およびＲ2：水素、非置換または置換の、Ｃ1〜Ｃ20−アルキル、Ｃ2〜Ｃ10−アルケニル、Ｃ3〜Ｃ10−シクロアルキル、Ｃ3〜Ｃ10−シクロアルケニル、Ｃ1〜Ｃ12−アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ20−アルコキシカルボニル、Ｃ1〜Ｃ12−アルキルアミノ、Ｃ1〜Ｃ12−ジアルキルアミノ、アリール、ヘテロアリール、水溶性を与えかつカルボキシレート、スルホネートまたはアンモニウム基からなる基から選択される置換基；
Ｒ3：水素、ＣＯＯＲ5、ＣＯＲ5、ＣＯＮＲ5Ｒ6、ＣＮ、Ｏ＝Ｓ（−Ｒ5）＝Ｏ、Ｏ＝Ｓ（−ＯＲ5）＝Ｏ、Ｒ7Ｏ−Ｐ（−ＯＲ8）＝Ｏ、非置換または置換の、Ｃ1〜Ｃ20−アルキル、Ｃ2〜Ｃ10−アルケニル、Ｃ3〜Ｃ10−シクロアルキル、Ｃ7〜Ｃ10−ビシクロアルキル、Ｃ3〜Ｃ10−シクロアルケニル、Ｃ7〜Ｃ10−ビシクロアルケニル、アリール、ヘテロアリール；
Ｒ4：ＣＯＯＲ6、ＣＯＲ6、ＣＯＮＲ5Ｒ6、ＣＮ、Ｏ＝Ｓ（−Ｒ6）＝Ｏ、Ｏ＝Ｓ（−ＯＲ6）＝Ｏ、Ｒ7Ｏ−Ｐ（−ＯＲ8）＝Ｏ、非置換または置換の、Ｃ1〜Ｃ20−アルキル、Ｃ2〜Ｃ10−アルケニル、Ｃ3〜Ｃ10−シクロアルキル、Ｃ7〜Ｃ10−ビシクロアルキル、Ｃ3〜Ｃ10−シクロアルケニル、Ｃ7〜Ｃ10−ビシクロアルケニル、アリール、ヘテロアリール；
Ｒ5〜Ｒ8：水素、非置換または置換の、Ｃ1〜Ｃ20−アルキル、Ｃ2〜Ｃ10−アルケニル、Ｃ3〜Ｃ10−シクロアルキル、Ｃ7〜Ｃ10−ビシクロアルキル、Ｃ3〜Ｃ10−シクロアルケニル、Ｃ7〜Ｃ10−ビシクロアルケニル、アリール、ヘテロアリール；
ｎ：１〜３；
置換基Ｒ3〜Ｒ8は、それぞれの場合において炭素原子と共に結合して更に縮合環化する５または６員環を共に形成してもよい］の４，４−ジアリールブタジエンの、ヒトの皮膚またはヒトの毛髪を太陽光線から保護するための化粧品用調剤および製薬学的調剤での耐光性のＵＶフィルターとしての単独またはＵＶ領域で吸収しかつ化粧品用調剤および製薬学的調剤において自体公知の化合物と共の使用によって解決される。
【００１６】
挙げることができるアルキル基Ｒ1〜Ｒ8の例としては、分枝鎖状または非分枝鎖状Ｃ1〜Ｃ20−アルキル鎖、有利にはメチル、エチル、ｎ−プロピル、１−メチルエチル、ｎ−ブチル、１−メチルプロピル、２−メチルプロピル、１，１−ジメチルエチル、ｎ−ペンチル、１−メチルブチル、２−メチルブチル、３−メチルブチル、２，２−ジメチルプロピル、１−エチルプロピル、ｎ−ヘキシル、１，１−ジメチルプロピル、１，２−ジメチルプロピル、１−メチルペンチル、２−メチルペンチル、３−メチルペンチル、４−メチルペンチル、１，１−ジメチルブチル、１，２−ジメチルブチル、１，３−ジメチルブチル、２，２−ジメチルブチル、２，３−ジメチルブチル、３，３−ジメチルブチル、１−エチルブチル、２−エチルブチル、１，１，２−トリメチルプロピル、１，２，２−トリメチルプロピル、１−エチル−１−メチルプロピル、１−エチル−２−メチルプロピル、ｎ−ヘプチル、ｎ−オクチル、ｎ−ノニル、ｎ−デシル、ｎ−ウンデシル、ｎ−ドデシル、ｎ−トリデシル、ｎ−テトラデシル、ｎ−ペンタデシル、ｎ−ヘキサデシル、ｎ−ヘプタデシル、ｎ−オクタデシル、ｎ−ノナデシルまたはｎ−エイコシルである。
【００１７】
挙げることができるアルケニル基Ｒ1〜Ｒ8の例は、分枝鎖状または非分枝鎖状Ｃ2〜Ｃ10−アルケニル鎖、有利にはビニル、プロペニル、イソプロペニル、１−ブテニル、２−ブテニル、１−ペンテニル、２−ペンテニル、２−メチル−１−ブテニル、２−メチル−２−ブテニル、３−メチル−１−ブテニル、１−ヘキセニル、２−ヘキセニル、１−ヘプテニル、２−ヘプテニル、１−オクテニルまたは２−オクテニルである。
【００１８】
挙げることができるシクロアルキル基Ｒ1〜Ｒ8の例は、有利には非置換またはアルキル置換Ｃ3〜Ｃ10−シクロアルキル環、例えばシクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、１−メチルシクロプロピル、１−エチルシクロプロピル、１−プロピルシクロプロピル、１−ブチルシクロプロピル、１−ペンチルシクロプロピル、１−メチル−２−ブチルシクロプロピル、１，２−ジメチルシクロプロピル、１−メチル−２−エチルシクロプロピル、シクロオクチル、シクロノニルまたはシクロデシルである。
【００１９】
Ｒ1〜Ｒ8のために挙げることができるシクロアルケニル基は、有利には非置換またはアルキル置換の、１つ以上の二重結合を有するＣ3〜Ｃ10−シクロアルケニル環、例えばシクロプロペニル、シクロブテニル、シクロペンテニル、シクロペンタジエニル、シクロヘキセニル、１，３−シクロヘキサジエニル、１，４−シクロヘキサジエニル、シクロヘプテニル、シクロヘプタトリエニル、シクロオクテニル、１，５−シクロオクタジエニル、シクロオクタテトラエニル、シクロノネニルまたはシクロデセニルである。
【００２０】
シクロアルケニルおよびシクロアルキル基は、非置換または１つ以上、例えば１〜３個の基、例えばフッ素、塩素または臭素のようなハロゲン、シアノ、ニトロ、アミノ、Ｃ1〜Ｃ4−アルキルアミノ、Ｃ1〜Ｃ4−ジアルキルアミノ、ヒドロキシル、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシまたは他の基によって置換されていてもよく、または１〜３個のヘテロ原子、例えば硫黄、窒素（遊離原子価を水素またはＣ1〜Ｃ4−アルキルによって飽和させることができる）または酸素を環中に有してもよい。
【００２１】
Ｒ3〜Ｒ8のために挙げることができるビシクロアルキルまたはビシクロアルケニル基は、飽和または不飽和のＣ7〜Ｃ10の二環式の環系、特に二環式テルペン、例えばピナン、ピネン、ボルナンもしくはショウノウ誘導体、またはアダマンタンである。
【００２２】
Ｒ1〜Ｒ2のための適当なアルコキシ基は、１〜１２個の炭素原子、有利には１〜８個の炭素原子を有しているものである。
【００２３】
挙げることができる例は：
メトキシ− エトキシ−
イソプロポキシ− ｎ−プロポキシ−
１−メチルプロポキシ− ｎ−ブトキシ−
ｎ−ペントキシ− ２−メチルプロポキシ−
３−メチルブトキシ− １，１−ジメチルプロポキシ−
２，２−ジメチルプロポキシ− ヘキソキシ−
１−メチル−１−エチルプロポキシ− ヘプトキシ−
オクトキシ− ２−エチルヘキソキシ−
である。
【００２４】
Ｒ1およびＲ2のためのアルコキシカルボニル基の例は、前記のアルコキシ基または例えば２０個以下の炭素原子を有するイソ−Ｃ15アルコールのような高級アルコールから誘導される基を有するものである。
【００２５】
Ｒ1およびＲ2のための適当なモノ−またはジアルキルアミノ基は、１〜１２個の炭素原子を有するアルキル基、例えばメチル、ｎ−プロピル、ｎ−ブチル、２−メチルプロピル、１，１−ジメチルプロピル、ヘキシル、ヘプチル、２−エチルヘキシル、イソプロピル、１−メチルプロピル、ｎ−ペンチル、３−メチルブチル、２，２−ジメチルプロピル、１−メチル−１−エチルプロピルおよびオクチルを有するものである。
【００２６】
アリールとは、芳香環または環系の中に６〜１８個の炭素原子を有する環系、例えばフェニルまたはナフチルであり、それぞれは非置換または１つ以上の基、例えばフッ素、塩素もしくは臭素のようなハロゲン、シアノ、ニトロ、アミノ、Ｃ1〜Ｃ4−アルキルアミノ、Ｃ1〜Ｃ4−ジアルキルアミノ、ヒドロキシ、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシまたは他の基によって置換されていてもよい。非置換または置換の、フェニル、メトキシフェニルおよびナフチルが有利である。
【００２７】
ヘテロアリール基は、有利には１つ以上の複素芳香族の３〜７員環を有する単一のまたは縮合環化した芳香環である。環または環系に存在してもよいヘテロ原子は１つ以上の窒素、硫黄および／または酸素原子である。
【００２８】
Ｒ1およびＲ2のための、親水性基、すなわち式Ｉの化合物を水溶性にする基は、例えばカルボキシルおよびスルホ基、ならびに特にそれらの生理学的に認容性のカチオンとの塩、例えばアルキル金属塩またはトリアルキルアンモニウム塩、例えばトリ（ヒドロキシアルキル）アンモニウム塩もしくは２−ヒドロキシメチル−２−プロピルアンモニウム塩である。また、任意の生理学的に認容性のアニオンを有するアンモニウム基、特にアルキルアンモニウム基が適当である。
【００２９】
式Ｉの有利な化合物は、
Ｒ1およびＲ2が、互いに独立して、水素、Ｃ1〜Ｃ12−アルキル、Ｃ1〜Ｃ8−アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ12−アルキルアミノ、Ｃ1〜Ｃ12−ジアルキルアミノ、水溶性を与えかつカルボキシレート、スルホネートまたはアンモニウム基からなる基から選択される置換基であり、
Ｒ3が、水素、ＣＯＯＲ5、ＣＯＲ5、ＣＯＮＲ5Ｒ6、ＣＮ、非置換または置換の、Ｃ1〜Ｃ12−アルキル、Ｃ3〜Ｃ6−シクロアルキル、Ｃ7〜Ｃ10−ビシクロアルキル、フェニル、ナフチル、チエニルであり、
Ｒ4が、ＣＯＯＲ6、ＣＯＲ6、ＣＯＮＲ5Ｒ6、ＣＮ、非置換または置換の、Ｃ1〜Ｃ12−アルキル、Ｃ3〜Ｃ10−シクロアルキル、Ｃ7〜Ｃ10−ビシクロアルキル、フェニル、ナフチル、チエニルであり、
Ｒ5およびＲ6が、互いに独立して、水素、非置換または置換の、Ｃ1〜Ｃ12−アルキル、Ｃ3〜Ｃ6−シクロアルキル、Ｃ7〜Ｃ10−ビシクロアルキル、フェニル、ナフチルであり、
ｎが１〜３である化合物である。
【００３０】
Ｒ1〜Ｒ6のために特に有利なＣ1〜Ｃ12−アルキル基は、メチル、エチル、ｎ−プロピル、１−メチルエチル、ｎ−ブチル、１−メチルプロピル、２−メチルプロピル、１，１−ジメチルエチル、ｎ−ペンチル、１−メチルブチル、２−メチルブチル、３−メチルブチル、２，２−ジメチルプロピル、２−エチルヘキシルである。
【００３１】
Ｒ3〜Ｒ6のために特に有利なシクロアルキル基は、分枝鎖状または非分枝鎖状シクロペンチルおよびシクロヘキシルである。
【００３２】
Ｒ1およびＲ2のためのモノ−またはジアルキルのために適当かつ特に有利なアルキル基は、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｎ−ブチル、２−メチルプロピル、１，１−ジメチルプロピルおよび２−エチルヘキシルである。
【００３３】
Ｒ3〜Ｒ6のために特に有利なビシクロアルキル基はショウノウ誘導体である。
【００３４】
置換基Ｒ1およびＲ2はそれぞれ芳香環にオルト、メタおよび／またはパラ位に結合させてもよい。二置換した芳香環の場合（ｎ＝２）、Ｒ1およびＲ2はオルト／パラまたはメタ／パラ位にあることができる。ｎ＝１である式Ｉの化合物は、Ｒ1がＲ2と同一でありかつ両者の基がパラ位にあるものが有利である。
【００３５】
更に、Ｒ4またはＲ3がそれぞれＣＯＯＲ5またはＣＯＯＲ6である場合、Ｒ3またはＲ4は、Ｈ、ＣＮ、非置換または置換の、Ｃ1〜Ｃ20−アルキル、Ｃ2〜Ｃ10−アルケニル、アリール、ヘテロアリールではない式Ｉの化合物を使用するのが特に有利である。
【００３６】
極めて特に有利である式Ｉの化合物は、
Ｒ1およびＲ2が、互いに独立して、水素、Ｃ1〜Ｃ12−アルキル、Ｃ1〜Ｃ8−アルコキシ、水溶性を与えかつカルボキシレート、スルホネートまたはアンモニウム基からなる基から選択される置換基であり、
Ｒ3が水素、ＣＯＯＲ5、ＣＯＲ5、ＣＯＮＲ5Ｒ6、ＣＮ、Ｃ3〜Ｃ6−シクロアルキル、Ｃ7〜Ｃ10−ビシクロアルキルであり、
Ｒ4がＣＯＯＲ6、ＣＯＲ6、ＣＯＮＲ5Ｒ6、ＣＮ、Ｃ3〜Ｃ6−シクロアルキル、Ｃ7〜Ｃ10−ビシクロアルキルであり、Ｒ4がＣＮであり、またはＲ3が水素またはＣＮである場合、Ｒ3またはＲ4はＣＯＯＲ5またはＣＯＯＲ6ではなく、
Ｒ5およびＲ6が、互いに独立して、水素、非置換または置換の、Ｃ1〜Ｃ12−アルキル、Ｃ3〜Ｃ6−シクロアルキル、Ｃ7〜Ｃ10−ビシクロアルキル、フェニル、ナフチルであり、
ｎが１〜３であるものである。
【００３７】
更に、著しい耐光性を有する式Ｉの化合物（ｎ＝１）は、置換基Ｒ1〜Ｒ4が第１表に示される組合せで存在するものである。
【００３８】
第１表：
【００３９】
【表１】
【００４０】
【表２】
【００４１】
【表３】
【００４２】
【表４】
【００４３】
【表５】
【００４４】
【表６】
【００４５】
同様に、Ｒ1およびＲ2が、互いに独立して、水素、Ｃ1〜Ｃ12−アルキル、Ｃ1〜Ｃ8−アルコキシ、水溶性を与えかつカルボキシレート、スルホネートまたはアンモニウム基からなる基から選択される置換基であり、
Ｒ3がＣＯＯＲ5、ＣＯＲ5、ＣＯＮＲ5Ｒ6であり、
Ｒ4がＣＯＯＲ6、ＣＯＲ6、ＣＯＮＲ5Ｒ6であり、
Ｒ5およびＲ6が、互いに独立して、水素、非置換または置換の、Ｃ1〜Ｃ12−アルキル、Ｃ3〜Ｃ6−シクロアルキル、Ｃ7〜Ｃ10−ビシクロアルキル、フェニル、ナフチルであり、
ｎが１〜３である式Ｉの化合物の使用が極めて特に有利である。というのも、該化合物が著しく耐光性でありかつ同時に無色であるからである。
【００４６】
また、本発明は、式Ｉａ：
【００４７】
【化７】
【００４８】
［式中、ジエン系はＺ，Ｚ、Ｚ，Ｅ、Ｅ，ＺまたはＥ，Ｅ配置もしくはその混合物であり、かつ置換基及び変数は互いに独立して以下のものを表す：
Ｒ1およびＲ2：水素、非置換または置換の、Ｃ1〜Ｃ20−アルキル、Ｃ2〜Ｃ10−アルケニル、Ｃ3〜Ｃ10−シクロアルキル、Ｃ3〜Ｃ10−シクロアルケニル、Ｃ1〜Ｃ12−アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ20−アルコキシカルボニル、Ｃ1〜Ｃ12−アルキルアミノ、Ｃ1〜Ｃ12−ジアルキルアミノ、アリール、ヘテロアリール、水溶性を与えかつカルボキシレート、スルホネートまたはアンモニウム基からなる基から選択される置換基；
Ｒ3：ＣＯＯＲ5、ＣＯＮＲ5Ｒ6；
Ｒ4：ＣＯＯＲ6、ＣＯＮＲ5Ｒ6；
Ｒ5およびＲ6：水素、非置換または置換の、Ｃ1〜Ｃ20−アルキル、Ｃ2〜Ｃ10−アルケニル、Ｃ3〜Ｃ10−シクロアルキル、Ｃ7〜Ｃ10−ビシクロアルキル、Ｃ3〜Ｃ10−シクロアルケニル、Ｃ7〜Ｃ10−ビシクロアルケニル、アリール、ヘテロアリール；
ｎ：１〜３；
Ｒ1およびＲ2が水素である場合、Ｒ3およびＲ4はＣＯＯＣＨ3でなくてもよい］の４，４−ジアリールブタジエンに関する。
【００４９】
有利な４，４−ジアリールブタジエンは、式Ｉｂ：
【００５０】
【化８】
【００５１】
［式中、ジエン系はＺ，Ｚ、Ｚ，Ｅ、Ｅ，ＺまたはＥ，Ｅ配置もしくはその混合物であり、かつ置換基及び変数は互いに独立して以下のものを表す：
Ｒ1およびＲ2：水素、Ｃ1〜Ｃ20−アルキル、Ｃ1〜Ｃ12−アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ20−アルコキシカルボニル；
Ｒ3：ＣＯＯＲ5、ＣＯＮＲ5Ｒ6；
Ｒ4：ＣＯＯＲ6、ＣＯＮＲ5Ｒ6；
Ｒ5およびＲ6：水素、非置換または置換の、Ｃ1〜Ｃ20−アルキル、Ｃ2〜Ｃ10−アルケニル、Ｃ3〜Ｃ10−シクロアルキル、Ｃ7〜Ｃ10−ビシクロアルキル、Ｃ3〜Ｃ10−シクロアルケニル、Ｃ7〜Ｃ10−ビシクロアルケニル、アリール、ヘテロアリール；
Ｒ1およびＲ2が水素である場合、Ｒ3およびＲ4はＣＯＯＣＨ3でなくてもよい］で示されるものである。
【００５２】
特に有利な４，４−ジアリールブタジエンは、式Ｉｃ：
【００５３】
【化９】
【００５４】
［式中、ジエン系はＺ，Ｚ、Ｚ，Ｅ、Ｅ，ＺまたはＥ，Ｅ配置もしくはその混合物であり、かつ置換基及び変数は互いに独立して以下のものを表す：
Ｒ1およびＲ2：水素、Ｃ1〜Ｃ20−アルキル、Ｃ1〜Ｃ12−アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ20−アルコキシカルボニル；
Ｒ3：ＣＯＯＲ5、ＣＯＮＲ5Ｒ6；
Ｒ4：ＣＯＯＲ6、ＣＯＮＲ5Ｒ6；
Ｒ5およびＲ6：水素、非置換または置換の、Ｃ1〜Ｃ20−アルキル、Ｃ2〜Ｃ10−アルケニル、Ｃ3〜Ｃ10−シクロアルキル、Ｃ7〜Ｃ10−ビシクロアルキル、Ｃ3〜Ｃ10−シクロアルケニル、Ｃ7〜Ｃ10−ビシクロアルケニル、アリール、ヘテロアリール；
Ｒ1およびＲ2が水素である場合、Ｒ3およびＲ4はＣＯＯＣＨ3でなくてもよい］で示されるものである。
【００５５】
化合物Ｉａ〜Ｉｃの置換基Ｒ1〜Ｒ6のより正確な定義は、冒頭に既に記載した化合物Ｉの記載と一致する。
【００５６】
本発明で使用される式Ｉの化合物は、以下の反応式による縮合によって製造することができる：
【００５７】
【化１０】
【００５８】
その際、式中のＲ1〜Ｒ4は請求項１記載のものを表す。
【００５９】
前記の縮合は塩基または酸のいずれかで触媒することができる。適当な触媒は、第三アミン、例えばピリジン、モルホリン、トリエチルアミン、トリエタノールアミン、
第二アミン例えばピペリジン、ジメチルアミン、ジエチルアミン、
ＮＨ3、ＮａＮＨ2、ＫＮＨ2、ＮＨ4ＯＡｃ、
塩基性アルミナ、塩基性イオン交換体、
Ｎａ2ＣＯ3、Ｋ2ＣＯ3、
酸触媒、例えば氷酢酸、ギ酸、プロピオン酸、
ＨＣｌ、Ｈ2ＳＯ4、ＨＮＯ3、
酸性イオン交換体
である。
【００６０】
一般に、触媒の量は、使用されるアルデヒドの量に対して０．１〜５０モル％、有利には０．５〜２０モル％である。
【００６１】
有利に使用される温度は２０〜１５０℃、特に３０〜１００℃、特に有利に４０〜８０℃である。圧力に関する特定の条件は必要なく、反応は一般に大気圧下で実施する。
【００６２】
使用できる溶剤は、アルコール、例えばメタノール、エタノールまたはイソプロパノール、芳香族化合物、例えばトルエンまたはキシレン、炭化水素、例えばヘプタンまたはヘキサン、塩素化炭化水素、例えばクロロホルムまたはジクロロメタン、ミグリオール（miglyol）、テトラヒドロフランである。しかしながらまた、反応は溶剤なしでも実施できる。
【００６３】
例えば、触媒としてピペリジンの存在下でのβ−フェニルシンナムアルデヒドとジエチルマロネートとの反応によって、第２表の化合物１が得られる。
【００６４】
また、塩基性触媒の存在下でのエステル交換反応によって、メチルまたはエチルエステル、例えば第２表の化合物１から出発して長鎖エステルを製造することが可能である。
【００６５】
エステル交換反応のための適当な触媒は：
塩基性アルカリ金属およびアルカリ土類金属塩、有利には前駆体と生成物の両者にも不溶性でありかつ反応終了後に容易に除去できるもの、特に有利には炭酸ナトリウム、炭酸カリウムまたは炭酸カルシウムもしくは重炭酸ナトリウム、アルカリ土類金属オキシド、有利には酸化カルシウムまたは酸化マグネシウム、および塩基性ゼオライトである。
【００６６】
一般に、触媒の量は、使用されるエステルの量に対して１〜８０モル％、有利に５〜５０モル％である。
【００６７】
使用されるアルコールの量は、使用される最初のエステル、例えば第２表の化合物１の量と少なくとも等モルでなければならない。２００〜５００モル％の量のアルコールが有利に使用される。
【００６８】
形成するメタノールまたはエタノールは蒸留により除去する。
【００６９】
温度は５０〜２５０℃、特に６０〜１５０℃を有利に使用する。圧力に関しての特定の条件は必要なく、一般に反応は大気圧下で実施する。
【００７０】
使用できる溶剤は、不活性の高沸点化合物、例えばキシレン、トルエンまたは使用されるアルコールと液体の短鎖アルカン、例えばヘキサンおよびヘプタンとの混合物である。使用するアルコールの他に溶剤を使用しないのが有利である。
【００７１】
エステル交換反応は、バッチ式または連続的のいずれかで実施する。連続的な方法では、反応体を有利には不溶塩基の固定相に通過させる。
【００７２】
Ｒ3≠Ｒ4である場合、本発明による式Ｉの化合物は、原理的にそれらの種々の幾何異性体であることができる、すなわちジエン系はＺ，Ｚ、Ｚ，Ｅ、Ｅ，Ｚおよび／またはＥ，Ｅ配置を有する。有利な化粧品用日焼け止め剤は、全てがＥ配置および／または全てがＺ配置の異性体、極めて特に全てがＥ配置であるものが有利である。
【００７３】
Ｒ3＝Ｒ4であれば、Ｃ−３とＣ−４間の炭素−炭素の二重結合では、Ｅおよび／またはＺ配置、有利にはＺ配置を有することができる。
【００７４】
また、本発明は、化粧品用調剤および製薬学的調剤において自体公知でありかつ日焼け止め剤としてＵＶ−ＡおよびＵＶ−Ｂ領域を吸収する化合物と共に１種類以上の式Ｉの化合物を一般にＵＶ−Ｂを吸収する化合物より少量で使用する化粧品用調剤および製薬学的調剤の全量に対して０．１〜１０重量％、有利には１〜７重量％からなる化粧品用調剤および製薬学的調剤に関する。
【００７５】
日焼け止め剤を含有する化粧品用調剤および製薬学的調剤は、原則的に少なくとも１種類の油相を有するキャリヤーをベースとする。しかしながらまた、専ら水性の基材を有する調剤では、親水性の置換基を有する化合物を使用している。従って、油、水中油および油中水のエマルジョン、クリームおよびペースト、保護リップスティック基材または非油脂性（non-greasy）ゲルが適当である。
【００７６】
従って、これらのタイプの日焼け止め製品は液状、ペースト状または固体形、例えば油中水クリーム、水中油クリームおよびローション、エーロゾルフォームクリーム、ゲル、オイル、グリーススティック、粉剤、スプレーまたは水性アルコールローションであることができる。
【００７７】
慣用の化粧品用オイル成分の例は、パラフィン油、ステアリン酸グリセリル、ミリスチン酸イソプロピル、アジピン酸ジイソプロピル、セチルステアリル２−エチルヘキサノエート、水素化ポリイソブテン、ペトロラタム、カプリル酸／カプリン酸トリグリセリド、微晶蝋、ラノリンおよびステアリン酸である。
【００７８】
添加物として適当な慣用の化粧品用助剤は、例えば共乳化剤（coemulsifier）、油脂および蝋、安定剤、増粘剤、生体活性物質、フィルム形成剤、芳香剤、染料、真珠光沢剤、防腐剤、顔料、電解質（例えば硫酸マグネシウム）およびｐＨ調節剤である。適当かつ有利な共乳化剤は、公知のＷ／ＯならびにＯ／Ｗ乳化剤、例えばポリグリセロールエステル、ソルビタンエステルまたは部分的にエステル化したグリセリドである。油脂の典型的な例はグリセリドであり、挙げることができる蝋は特に蜜蝋、パラフィン蝋またはマイクロワックス（microwax）、あるいは親水性の蝋と混合したものである。使用することができる安定剤は、脂肪酸の金属塩、例えばステアリン酸マグネシウム、ステアリン酸アルミニウムおよび／またはステアリン酸亜鉛である。適当な増粘剤の例は架橋ポリアクリル酸およびそれらの誘導体、多糖、特にキサンタンガム、グァールグァール（guar-guar）、アガーアガー（agar-agar）、アルギン酸塩およびチロース、カルボキシメチルセルロースおよびヒドロキシエチルセルロース、また脂肪アルコール、モノグリセリドおよび脂肪酸、ポリアクリレート、ポリビニルアルコールおよびポリビニルピロリドンである。生体活性物質の例は植物エキス、蛋白質水解物およびビタミン複合体（complex）である。使用されるフィルム形成剤の例は、親水コロイド、例えばキトサン、微結晶性キトサンまたは四級化キトサン、ポリビニルピロリドン、ビニルピロリドン／酢酸ビニルコポリマー、アクリル酸系列のポリマー、第４セルロース誘導体および類似化合物である。適当な防腐剤の例は、ホルムアルデヒド溶液、ｐ−ヒドロキシベンゾエートまたはソルビン酸である。適当な真珠泊剤の例は、ジステアリン酸グリコールエステル、例えばジステアリン酸エチレングリコール、また脂肪酸および脂肪酸モノグリコールエステルである。使用できる染料は、表のような化粧品の用途に適当でありかつ認容性の、例えばVerlag Chemie,Weinheim,1984発行のFarbstoffkommission der Deutschen Forschungsgemeinschaftの刊行文献“Kosmetische Faerbemittel”に列記されている物質である。これらの染料は通常、混合物の総重量に対して０．００１〜０．１％の濃度で使用する。
【００７９】
助剤および添加物の総含量は、組成物に対して１〜８０、有利には６〜４０重量％であることができ、かつ非水性含量（“活性物質”）は２０〜８０、有利には３０〜７０重量％であることができる。該組成物は自体公知の方法、すなわち例えばホット、コールド、ホット−ホット／コールドまたはＰＩＴ乳化によって製造することができる。この方法は純粋な機械的方法であり、化学反応は実施されない。
【００８０】
最後に、本発明での使用のためのＵＶフィルターの混合の完全な系において該物質が安定であれば、ＵＶ領域内で吸収し自体公知である他の物質を使用することも可能である。
【００８１】
ヒトの表皮を保護するために使用される化粧品用調剤および製薬学的調剤における日焼け止め剤のほとんどはＵＶ−Ｂ領域、すなわち２８０〜３２０ｎｍの領域内の紫外光を吸収する化合物からなっている。本発明により使用されるＵＶ−Ａ吸収剤の含量は、例えばＵＶ−ＢおよびＵＶ−Ａ吸収物質の総重量に対して１０〜９０％、有利には２０〜５０％である。
【００８２】
任意のＵＶ−ＡおよびＵＶ−Ｂフィルター物質は、式Ｉの化合物を混合して使用するＵＶフィルター物質として本発明のように使用するのに適当である。挙げることができる例としては：
【００８３】
【表７】
【００８４】
【表８】
【００８５】
最後に、また微粉にした顔料、例えば二酸化チタン及び酸化亜鉛が挙げることができる。
【００８６】
ＵＶ線からヒトの毛髪を保護するために、本発明による式Ｉの日焼け止め剤は、シャンプー、ローション、ゲル、ヘアースプレー、エーロゾルフォームクリーム又はエマルジョン中に、濃度０．１〜１０重量％、有利には１〜７重量％で混入させることができる。特定の製剤は特に洗浄、着色及び整髪のために使用することができる。
【００８７】
一般に本発明により使用される化合物は、鮮鋭なバンド構造を伴うＵＶ−Ａ線の領域に特に高い吸収を有する。更に、該化合物は化粧品用オイルに易溶性であり、かつ化粧品用調剤中に容易に混入させることができる。特に、化合物Ｉを使用して製造したエマルジョンは高い安定性を示し、化合物Ｉ自体は高い耐光性を示し、かつ化合物Ｉで製造した製品は快い触感を有する。
【００８８】
また、本発明による式Ｉの化合物のＵＶフィルタ効果は、活性物質及び助剤を安定化するのに化粧品用調剤及び医薬製剤において使用することができる。
【００８９】
また、本発明は、薬剤としての使用のための式Ｉの化合物、及び皮膚の炎症及びアレルギーの予防的治療ならびに一定のタイプの皮膚癌を予防するための医薬組成物（活性物質として少なくとも１種類の式Ｉの化合物の有効量からなる）に関する。
【００９０】
本発明による医薬組成物は、経口で又は局所に投与することができる。経口投与のためには、医薬組成物は特に香錠、ゼラチンカプセル、被覆タブレット、シロップ剤、液剤、乳剤又は懸濁剤の形である。該医薬組成物は、例えば軟膏、クリーム、ゲル、スプレー、液剤又はローションとして局部に使用する。
【００９１】
【実施例】
Ｉ．製造
例１
第２表の番号１の化合物の製造方法
β−フェニルシンナムアルデヒド０．１モル及びマロン酸ジエチル０．１モルをメタノール１００ｍｌ中に溶解させ、ピペリジン及び氷酢酸をそれぞれ１ｍｌずつ添加し、かつその混合物を５時間還流させた。次いで、水で希釈しかつ０℃に冷却しその温度で最終生成物が晶出した。その結晶を濾別しかつ乾燥させ、第２表の化合物１が無色の結晶で３３ｇ（理論値の９０％）得られた。純度：＞９９％（ＧＣ）
第２表の化合物２及び３ならびに８〜１５の製造は例１のようにして実施する。
【００９２】
化合物１８〜２０は、例１のようにマロン酸ジエチルと相応のメチル−、ｔ−ブチル−又はメトキシ置換β−フェニルシンナムアルデヒドとを反応させることによって製造した。
【００９３】
例２
第２表の化合物４〜７は、例１からの化合物と適当なアルコールとを触媒として炭酸ナトリウムの存在下でエステル交換反応することによって製造した。遊離したエタノールを留去し、かつ油状物として生成した所望の生成物４〜７を蒸留によって精製した。
【００９４】
例３
第２表の番号１７の化合物の製造方法
キシレン４０ｍｌ中のショウノウ０．１モルをＫＯＨ０．１モルと混合し、かつ加熱し還流させた。次いで、キシレン中のβ−シンナムアルデヒド０．１０５モルの溶液をゆっくりと６時間かけて滴加した。室温にまで冷却した後、水を添加し、かつ有機相を水で２回洗浄し、かつ次いで硫酸ナトリウム上で乾燥させた。溶媒を除去した後の油性の残留物をメタノール／水から晶出させた。第２表の化合物１７の無色の結晶２２ｇ（６４％）が得られた。純度９９％（ＨＰＬＣ、異性体の混合物）。
【００９５】
第２表の化合物１６の製造は、例２のようにβ−フェニルシンナムアルデヒドとピナコロンとを反応させることによって実施する。
【００９６】
第２表：
【００９７】
【表９】
【００９８】
【表１０】
【００９９】
【表１１】
【０１００】
第３表及び第４表の化合物は、類似の方法又は全般の部分に記載されているように製造することができる。
【０１０１】
第３表：
【０１０２】
【表１２】
【０１０３】
【表１３】
【０１０４】
【表１４】
【０１０５】
【表１５】
【０１０６】
【表１６】
【０１０７】
【表１７】
【０１０８】
【表１８】
【０１０９】
【表１９】
【０１１０】
【表２０】
【０１１１】
【表２１】
【０１１２】
第４表：
【０１１３】
【表２２】
【０１１４】
【表２３】
【０１１５】
【表２４】
【０１１６】
【表２５】
【０１１７】
【表２６】
【０１１８】
【表２７】
【０１１９】
【表２８】
【０１２０】
【表２９】
【０１２１】
【表３０】
【０１２２】
【表３１】
【０１２３】
例４
耐光性試験のための規準化した方法（サンテスト）
試験すべき日焼け止め剤の５重量％のアルコール溶液を、エッペンドルフピペット（２０μｌ）を使用してガラス板のフライス盤加工した領域に塗布する。アルコールの存在のため、その溶液は粗面化したガラス表面上にむらなく分配される。塗布した量は、サンクリーム中の平均日光保護率を得るのに必要な日焼け止め剤の量に相当する。その試験中に、４枚のガラス板を毎度照射する。蒸発時間及び照射をそれぞれ３０分間続ける。ガラス板は、照射中にサンテスト装置の基底部に位置する水冷却システムによって僅かに冷却する。照射中のサンテスト装置の内部の温度は４０℃である。試料を照射した後に、該試料を暗い色の５０ｍｌ目盛りのフラスコ中でエタノールで洗浄し、かつ光度計で測定する。ブランク試料を同様にガラス板に塗布し、かつ室温で３０分間蒸発させる。他の試料のように、該試料をエタノールで洗浄し、かつ１００ｍｌに希釈しかつ測定する。
【０１２４】
耐光性比較試験：
１．
【０１２５】
【化１１】
【０１２６】
２．
【０１２７】
【化１２】
【０１２８】
化粧品用途のためのエマルジョンの一般的な製造方法
あらゆる油溶性成分を撹拌容器中で８５℃に加熱する。あらゆる成分が、溶融するか又は液相として存在する場合、水相は均質化によって混入させる。該エマルジョンを撹拌して約４０℃に冷却し、香りを付けかつ均質化し、次いで継続的に撹拌しながら２５℃に冷却する。
調剤
例５
リップケア組成物
質量含有量（mass content） （重量％）
ユーセリナムアンヒドリカム（anhydricum） １００まで
グリセロール １０．００
二酸化チタン １０．００
第２表の番号１の化合物 ５．００
オクチルメトキシシンナメート ８．００
酸化亜鉛 ５．００
ヒマシ油 ４．００
ステアリン酸／カプリン酸／カプリル酸／ ４．００
アジピン酸ペンタエリトリチル
ステアリン酸グリセリルＳＥ ３．００
クオータニウム（quaternium）−１８ベントナイト ２．００
ＰＥＧ−４５／ドデシルグリコールコポリマー １．５０
例６
リップケア組成物
質量含有量 （重量％）
ユーセリナムアンヒドリカム １００まで
グリセロール １０．００
二酸化チタン １０．００
第２表の番号２０の化合物 ５．００
オクチルメトキシシンナメート ８．００
酸化亜鉛 ５．００
ヒマシ油 ４．００
ステアリン酸／カプリン酸／カプリル酸／ ４．００
アジピン酸ペンタエリトリチル
ステアリン酸グリセリルＳＥ ３．００
蜜蝋 ２．００
微晶蝋 ２．００
クオータニウム−１８ベントナイト ２．００
ＰＥＧ−４５／ドデシルグリコールコポリマー １．５０
例７
微小顔料を伴う日焼け止め組成物
質量含有量 （重量％）
水 １００まで
オクチルメトキシシンナメート １０．００
ＰＥＧ−７水素化ヒマシ油 ６．００
二酸化チタン ６．００
第２表の番号１の化合物 ５．００
鉱油 ５．００
イソアミルｐ−メトキシシンナメート ５．００
プロピレングリコール ５．００
ホホバ油 ３．００
４−メチルベンジリデンショウノウ ３．００
ＰＥＧ−４５／ドデシルグリコールコポリマー ２．００
ジメチコーン １．００
ＰＥＧ−４０水素化ヒマシ油 ０．５０
酢酸トコフェリル ０．５０
フェノキシエタノール ０．５０
ＥＤＴＡ ０．２０
例８
微小顔料を伴う日焼け止め組成物
質量含有量 （重量％）
水 １００まで
オクチルメトキシシンナメート １０．００
ＰＥＧ−７水素化ヒマシ油 ６．００
二酸化チタン ６．００
第２表の番号２０の化合物 ５．００
鉱油 ５．００
イソアミルｐ−メトキシシンナメート ５．００
プロピレングリコール ５．００
ホホバ油 ３．００
４−メチルベンジリデンショウノウ ３．００
ＰＥＧ−４５／ドデシルグリコールコポリマー ２．００
ジメチコーン １．００
ＰＥＧ−４０水素化ヒマシ油 ０．５０
酢酸トコフェリル ０．５０
フェノキシエタノール ０．５０
ＥＤＴＡ ０．２０
例９
非油脂性ゲル
質量含有量 （重量％）
水 １００まで
オクチルメトキシシンナメート ８．００
二酸化チタン ７．００
第２表の番号１の化合物 ５．００
グリセロール ５．００
ＰＥＧ−２５ ＰＡＢＡ ５．００
４−メチルベンジリデンショウノウ １．００
アクリレートＣ１０〜Ｃ３０アクリル酸アルキル ０．４０
クロスポリマー
イミダゾリジニルウレア ０．３０
ヒドロキシエチルセルロース ０．２５
ナトリウムメチルパラベン ０．２５
二ナトリウムＥＤＴＡ ０．２０
芳香剤 ０．１５
ナトリウムプロピルパラベン ０．１５
水酸化ナトリウム ０．１０
例１０
非油脂性ゲル
質量含有量 （重量％）
水 １００まで
オクチルメトキシシンナメート ８．００
二酸化チタン ７．００
第２表の番号２０の化合物 ５．００
グリセロール ５．００
ＰＥＧ−２５ ＰＡＢＡ ５．００
４−メチルベンジリデンショウノウ １．００
アクリレートＣ１０〜Ｃ３０アクリル酸アルキル ０．４０
クロスポリマー
イミダゾリジニルウレア ０．３０
ヒドロキシエチルセルロース ０．２５
ナトリウムメチルパラベン ０．２５
二ナトリウムＥＤＴＡ ０．２０
芳香剤 ０．１５
ナトリウムプロピルパラベン ０．１５
水酸化ナトリウム ０．１０
例１１
サンクリーム（ＳＰＦ２０）
質量含有量 （重量％）
水 １００まで
オクチルメトキシシンナメート ８．００
二酸化チタン ８．００
ＰＥＧ−７水素化ヒマシ油 ６．００
第２表の番号１の化合物 ５．００
鉱油 ６．００
酸化亜鉛 ５．００
パルミチン酸イソプロピル ５．００
イミダゾリジニルウレア ５．００
ホホバ油 ３．００
ＰＥＧ−４５／ドデシルグリコールコポリマー ２．００
４−メチルベンジリデンショウノウ １．００
ステアリン酸マグネシウム ０．６０
酢酸トコフェリル ０．５０
メチルパラベン ０．２５
二ナトリウムＥＤＴＡ ０．２０
プロピルパラベン ０．１５
例１２
サンクリーム（ＳＰＦ２０）
質量含有量 （重量％）
水 １００まで
オクチルメトキシシンナメート ８．００
二酸化チタン ８．００
ＰＥＧ−７水素化ヒマシ油 ６．００
第２表の番号２０の化合物 ５．００
鉱油 ６．００
酸化亜鉛 ５．００
パルミチン酸イソプロピル ５．００
イミダゾリジニルウレア ５．００
ホホバ油 ３．００
ＰＥＧ−４５／ドデシルグリコールコポリマー ２．００
４−メチルベンジリデンショウノウ １．００
ステアリン酸マグネシウム ０．６０
酢酸トコフェリル ０．５０
メチルパラベン ０．２５
二ナトリウムＥＤＴＡ ０．２０
プロピルパラベン ０．１５
例１３
耐水性サンクリーム
質量含有量 （重量％）
水 １００まで
オクチルメトキシシンナメート ８．００
ＰＥＧ−７水素化ヒマシ油 ５．００
プロピレングリコール ５．００
パルミチン酸イソプロピル ４．００
カプリル酸／カプリン酸トリグリセリド ４．００
第２表の番号１の化合物 ５．００
グリセロール ４．００
ホホバ油 ３．００
４−メチルベンジリデンショウノウ ２．００
二酸化チタン ２．００
ＰＥＧ−４５／ドデシルグリコールコポリマー １．５０
ジメチコーン １．５０
硫酸マグネシウム ０．７０
ステアリン酸マグネシウム ０．５０
芳香剤 ０．１５
例１４
耐水性サンクリーム
質量含有量 （重量％）
水 １００まで
オクチルメトキシシンナメート ８．００
ＰＥＧ−７水素化ヒマシ油 ５．００
プロピレングリコール ５．００
パルミチン酸イソプロピル ４．００
カプリル酸／カプリン酸トリグリセリド ４．００
第２表の番号２０の化合物 ５．００
グリセロール ４．００
ホホバ油 ３．００
４−メチルベンジリデンショウノウ ２．００
二酸化チタン ２．００
ＰＥＧ−４５／ドデシルグリコールコポリマー １．５０
ジメチコーン １．５０
硫酸マグネシウム ０．７０
ステアリン酸マグネシウム ０．５０
芳香剤 ０．１５
例１５
サンミルク（ＳＰＦ６）
質量含有量 （重量％）
水 １００まで
鉱油 １０．００
ＰＥＧ−７水素化ヒマシ油 ６．００
パルミチン酸イソプロピル ５．００
オクチルメトキシシンナメート ３．５０
第２表の番号１の化合物 ５．００
カプリル酸／カプリン酸トリグリセリド ３．００
ホホバ油 ３．００
ＰＥＧ−４５／ドデシルグリコールコポリマー ２．００
硫酸マグネシウム ０．７０
ステアリン酸マグネシウム ０．６０
酢酸トコフェリル ０．５０
グリセロール ０．３０
メチルパラベン ０．２５
プロピルパラベン ０．１５
トコフェロール ０．０５
例１６
サンミルク（ＳＰＦ６）
質量含有量 （重量％）
水 １００まで
鉱油 １０．００
ＰＥＧ−７水素化ヒマシ油 ６．００
パルミチン酸イソプロピル ５．００
オクチルメトキシシンナメート ３．５０
第２表の番号２０の化合物 ５．００
カプリル酸／カプリン酸トリグリセリド ３．００
ホホバ油 ３．００
ＰＥＧ−４５／ドデシルグリコールコポリマー ２．００
硫酸マグネシウム ０．７０
ステアリン酸マグネシウム ０．６０
酢酸トコフェリル ０．５０
グリセロール ０．３０
メチルパラベン ０．２５
プロピルパラベン ０．１５
トコフェロール ０．０５
【発明の属する技術分野】
本発明は、特に３２０〜４００ｎｍの領域の紫外線からヒトの表皮または毛髪を保護するための化粧品用調剤および製薬学的調剤における耐光性のＵＶフィルターとしての４，４−ジアリールブタジエンの使用に関する。
【０００２】
【従来の技術】
化粧品用調剤および製薬学的調剤で使用される日焼け止め剤は、ヒトの皮膚での日光の有害な作用を阻止するかまたは少なくともその作用の重大性を減少させるはたらきを有する。しかしながらまた、日焼け止め剤は他の成分を紫外線による分解または破壊（breakdown）から保護するためにも使用される。毛髪の化粧品用調剤での目的は、紫外線によるケラチン繊維への損傷を減少させることである。
【０００３】
地球の表面に到達する日光はＵＶ−Ｂ線（２８０〜３２０ｎｍ）およびＵＶ−Ａ線（＞３２０ｎｍ）を有し、それらは可視光領域と直接的に隣接している。ヒトの皮膚への作用、特にＵＶ−Ｂ線での作用は日焼けとして現れる。従って、この産業ではＵＶ−Ｂ線を吸収しかつ日焼けを防ぐ物質を比較的多数提供している。
【０００４】
ところで、皮膚科学的な調査によって、ＵＶ−Ａ線も、例えばケラチンまたはエラスチンを損傷させることにより皮膚の損傷およびアレルギーを完全に引き起こすことができるということが判明した。このことによって、皮膚の弾性能および保水能が減少する、すなわち皮膚は柔軟性を失い、しわを形成するようになる。太陽光線が強い地域で皮膚癌の発生率が顕著に高いことは、日光、特にＵＶ−Ａ線による細胞中の遺伝情報への損傷も引き起こされることを示す。従って、全ての調査結果によりＵＶ−Ａ領域に有効なフィルター物質を開発することが必要である。
【０００５】
日焼け止め剤においては、特に吸収極大が３２０〜３８０ｎｍの範囲にありＵＶ−Ａフィルターとして使用できる、化粧品用調剤または製薬学的調剤のための日焼け止め剤の需要が高まっている。更に、最低量を使用しても所望の効果が得られるように、このタイプの日焼け止め剤は高い比吸光度を有するべきである。また、化粧品用の製品のための日焼け止め剤は多くの他の必要条件、例えば化粧品用オイルにおける良好な溶解性、該日焼け止め剤で製造したエマルジョンの高い安定性、毒性学的認容性および固有の臭いが僅かであることならびに固有の色がほとんどないこと等の条件を満たさねばならない。
【０００６】
日焼け止め剤が満たさねばならないもう１つの必要条件は十分な耐光性である。しかしながら、従来の入手可能なＵＶ−Ａを吸収する日焼け止め剤では、あるとしても不十分な耐光性を有するにすぎない。
【０００７】
フランス特許第２４４０９３３号明細書では、ＵＶ−Ａフィルターとして、４−（１，１−ジメチルエチル）−４’−メトキシジベンゾイルメタンが記載されている。そこでは、波長２８０〜３８０ｎｍのあらゆる紫外線を吸収させるために前記の特定のＵＶ−Ａフィルター（GIVAUDANによって“PARSOL 1789”という銘柄で販売されている）と種々のＵＶ−Ｂフィルターとを混合させることを提案している。
【０００８】
しかしながら、該ＵＶ−Ａフィルターは、それを単独でまたはＵＶ−Ｂフィルターと混合して使用する場合に長時間の日光浴中の皮膚の持続的保護を保証するのに十分な光化学的な安定性を有さず、このことは、あらゆる紫外線からの皮膚の有効な保護を望むのであれば規則的かつ短時間の間隔での繰り返しの適用が必要であるということを意味する。
【０００９】
そのために、欧州特許出願公開第０５１４４９１号明細書では、ＵＶ−Ｂ領域におけるフィルターとして作用する２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリル酸エステルを添加することによって耐光性が不十分なＵＶ−Ａフィルターの安定化を開示している。
【００１０】
更に、欧州特許出願公開第０２５１３９８号明細書では、リンカーを使用することによってＵＶ−Ａ線を吸収する発色団とＵＶ−Ｂ線を吸収する発色団とを結合させることを提案している。このことは、化粧品調剤におけるＵＶ−ＡとＵＶ−Ｂフィルターとの自由な組合せはもはや可能ではなく、かつ発色団の化学結合における問題点は一定の組合せだけが可能であるにすぎないという欠点を有する。
【００１１】
米国特許第４，９５０，４６７号明細書では、化粧品用の製品でのＵＶ吸収剤として、２，４−ペンタジエン酸誘導体の使用を記載している。該特許において同様に有利であると記載される一アリール置換化合物は、耐光性が不十分であるという欠点を有している。
【００１２】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の課題は、ＵＶ−Ａ領域に高い吸光度を有し、耐光性であり、固有の色が僅かである、すなわち鮮鋭なバンド構造（sharp band structure）を有し、かつ置換基に依存して油または水に可溶である化粧品用途および製薬学的用途のための日焼け止め剤を提供することである。
【００１３】
【課題を解決するための手段】
前記課題は、式Ｉ：
【００１４】
【化６】
［式中、ジエン系はＺ，Ｚ、Ｚ，Ｅ、Ｅ，ＺまたはＥ，Ｅ配置もしくはその混合物であり、かつ置換基および変数は互いに独立して以下のものを表す：
Ｒ1およびＲ2：水素、非置換または置換の、Ｃ1〜Ｃ20−アルキル、Ｃ2〜Ｃ10−アルケニル、Ｃ3〜Ｃ10−シクロアルキル、Ｃ3〜Ｃ10−シクロアルケニル、Ｃ1〜Ｃ12−アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ20−アルコキシカルボニル、Ｃ1〜Ｃ12−アルキルアミノ、Ｃ1〜Ｃ12−ジアルキルアミノ、アリール、ヘテロアリール、水溶性を与えかつカルボキシレート、スルホネートまたはアンモニウム基からなる基から選択される置換基；
Ｒ3：水素、ＣＯＯＲ5、ＣＯＲ5、ＣＯＮＲ5Ｒ6、ＣＮ、Ｏ＝Ｓ（−Ｒ5）＝Ｏ、Ｏ＝Ｓ（−ＯＲ5）＝Ｏ、Ｒ7Ｏ−Ｐ（−ＯＲ8）＝Ｏ、非置換または置換の、Ｃ1〜Ｃ20−アルキル、Ｃ2〜Ｃ10−アルケニル、Ｃ3〜Ｃ10−シクロアルキル、Ｃ7〜Ｃ10−ビシクロアルキル、Ｃ3〜Ｃ10−シクロアルケニル、Ｃ7〜Ｃ10−ビシクロアルケニル、アリール、ヘテロアリール；
Ｒ4：ＣＯＯＲ6、ＣＯＲ6、ＣＯＮＲ5Ｒ6、ＣＮ、Ｏ＝Ｓ（−Ｒ6）＝Ｏ、Ｏ＝Ｓ（−ＯＲ6）＝Ｏ、Ｒ7Ｏ−Ｐ（−ＯＲ8）＝Ｏ、非置換または置換の、Ｃ1〜Ｃ20−アルキル、Ｃ2〜Ｃ10−アルケニル、Ｃ3〜Ｃ10−シクロアルキル、Ｃ7〜Ｃ10−ビシクロアルキル、Ｃ3〜Ｃ10−シクロアルケニル、Ｃ7〜Ｃ10−ビシクロアルケニル、アリール、ヘテロアリール；
Ｒ5〜Ｒ8：水素、非置換または置換の、Ｃ1〜Ｃ20−アルキル、Ｃ2〜Ｃ10−アルケニル、Ｃ3〜Ｃ10−シクロアルキル、Ｃ7〜Ｃ10−ビシクロアルキル、Ｃ3〜Ｃ10−シクロアルケニル、Ｃ7〜Ｃ10−ビシクロアルケニル、アリール、ヘテロアリール；
ｎ：１〜３；
置換基Ｒ3〜Ｒ8は、それぞれの場合において炭素原子と共に結合して更に縮合環化する５または６員環を共に形成してもよい］の４，４−ジアリールブタジエンの、ヒトの皮膚またはヒトの毛髪を太陽光線から保護するための化粧品用調剤および製薬学的調剤での耐光性のＵＶフィルターとしての単独またはＵＶ領域で吸収しかつ化粧品用調剤および製薬学的調剤において自体公知の化合物と共の使用によって解決される。
【００１６】
挙げることができるアルキル基Ｒ1〜Ｒ8の例としては、分枝鎖状または非分枝鎖状Ｃ1〜Ｃ20−アルキル鎖、有利にはメチル、エチル、ｎ−プロピル、１−メチルエチル、ｎ−ブチル、１−メチルプロピル、２−メチルプロピル、１，１−ジメチルエチル、ｎ−ペンチル、１−メチルブチル、２−メチルブチル、３−メチルブチル、２，２−ジメチルプロピル、１−エチルプロピル、ｎ−ヘキシル、１，１−ジメチルプロピル、１，２−ジメチルプロピル、１−メチルペンチル、２−メチルペンチル、３−メチルペンチル、４−メチルペンチル、１，１−ジメチルブチル、１，２−ジメチルブチル、１，３−ジメチルブチル、２，２−ジメチルブチル、２，３−ジメチルブチル、３，３−ジメチルブチル、１−エチルブチル、２−エチルブチル、１，１，２−トリメチルプロピル、１，２，２−トリメチルプロピル、１−エチル−１−メチルプロピル、１−エチル−２−メチルプロピル、ｎ−ヘプチル、ｎ−オクチル、ｎ−ノニル、ｎ−デシル、ｎ−ウンデシル、ｎ−ドデシル、ｎ−トリデシル、ｎ−テトラデシル、ｎ−ペンタデシル、ｎ−ヘキサデシル、ｎ−ヘプタデシル、ｎ−オクタデシル、ｎ−ノナデシルまたはｎ−エイコシルである。
【００１７】
挙げることができるアルケニル基Ｒ1〜Ｒ8の例は、分枝鎖状または非分枝鎖状Ｃ2〜Ｃ10−アルケニル鎖、有利にはビニル、プロペニル、イソプロペニル、１−ブテニル、２−ブテニル、１−ペンテニル、２−ペンテニル、２−メチル−１−ブテニル、２−メチル−２−ブテニル、３−メチル−１−ブテニル、１−ヘキセニル、２−ヘキセニル、１−ヘプテニル、２−ヘプテニル、１−オクテニルまたは２−オクテニルである。
【００１８】
挙げることができるシクロアルキル基Ｒ1〜Ｒ8の例は、有利には非置換またはアルキル置換Ｃ3〜Ｃ10−シクロアルキル環、例えばシクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、１−メチルシクロプロピル、１−エチルシクロプロピル、１−プロピルシクロプロピル、１−ブチルシクロプロピル、１−ペンチルシクロプロピル、１−メチル−２−ブチルシクロプロピル、１，２−ジメチルシクロプロピル、１−メチル−２−エチルシクロプロピル、シクロオクチル、シクロノニルまたはシクロデシルである。
【００１９】
Ｒ1〜Ｒ8のために挙げることができるシクロアルケニル基は、有利には非置換またはアルキル置換の、１つ以上の二重結合を有するＣ3〜Ｃ10−シクロアルケニル環、例えばシクロプロペニル、シクロブテニル、シクロペンテニル、シクロペンタジエニル、シクロヘキセニル、１，３−シクロヘキサジエニル、１，４−シクロヘキサジエニル、シクロヘプテニル、シクロヘプタトリエニル、シクロオクテニル、１，５−シクロオクタジエニル、シクロオクタテトラエニル、シクロノネニルまたはシクロデセニルである。
【００２０】
シクロアルケニルおよびシクロアルキル基は、非置換または１つ以上、例えば１〜３個の基、例えばフッ素、塩素または臭素のようなハロゲン、シアノ、ニトロ、アミノ、Ｃ1〜Ｃ4−アルキルアミノ、Ｃ1〜Ｃ4−ジアルキルアミノ、ヒドロキシル、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシまたは他の基によって置換されていてもよく、または１〜３個のヘテロ原子、例えば硫黄、窒素（遊離原子価を水素またはＣ1〜Ｃ4−アルキルによって飽和させることができる）または酸素を環中に有してもよい。
【００２１】
Ｒ3〜Ｒ8のために挙げることができるビシクロアルキルまたはビシクロアルケニル基は、飽和または不飽和のＣ7〜Ｃ10の二環式の環系、特に二環式テルペン、例えばピナン、ピネン、ボルナンもしくはショウノウ誘導体、またはアダマンタンである。
【００２２】
Ｒ1〜Ｒ2のための適当なアルコキシ基は、１〜１２個の炭素原子、有利には１〜８個の炭素原子を有しているものである。
【００２３】
挙げることができる例は：
メトキシ− エトキシ−
イソプロポキシ− ｎ−プロポキシ−
１−メチルプロポキシ− ｎ−ブトキシ−
ｎ−ペントキシ− ２−メチルプロポキシ−
３−メチルブトキシ− １，１−ジメチルプロポキシ−
２，２−ジメチルプロポキシ− ヘキソキシ−
１−メチル−１−エチルプロポキシ− ヘプトキシ−
オクトキシ− ２−エチルヘキソキシ−
である。
【００２４】
Ｒ1およびＲ2のためのアルコキシカルボニル基の例は、前記のアルコキシ基または例えば２０個以下の炭素原子を有するイソ−Ｃ15アルコールのような高級アルコールから誘導される基を有するものである。
【００２５】
Ｒ1およびＲ2のための適当なモノ−またはジアルキルアミノ基は、１〜１２個の炭素原子を有するアルキル基、例えばメチル、ｎ−プロピル、ｎ−ブチル、２−メチルプロピル、１，１−ジメチルプロピル、ヘキシル、ヘプチル、２−エチルヘキシル、イソプロピル、１−メチルプロピル、ｎ−ペンチル、３−メチルブチル、２，２−ジメチルプロピル、１−メチル−１−エチルプロピルおよびオクチルを有するものである。
【００２６】
アリールとは、芳香環または環系の中に６〜１８個の炭素原子を有する環系、例えばフェニルまたはナフチルであり、それぞれは非置換または１つ以上の基、例えばフッ素、塩素もしくは臭素のようなハロゲン、シアノ、ニトロ、アミノ、Ｃ1〜Ｃ4−アルキルアミノ、Ｃ1〜Ｃ4−ジアルキルアミノ、ヒドロキシ、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、Ｃ1〜Ｃ4−アルコキシまたは他の基によって置換されていてもよい。非置換または置換の、フェニル、メトキシフェニルおよびナフチルが有利である。
【００２７】
ヘテロアリール基は、有利には１つ以上の複素芳香族の３〜７員環を有する単一のまたは縮合環化した芳香環である。環または環系に存在してもよいヘテロ原子は１つ以上の窒素、硫黄および／または酸素原子である。
【００２８】
Ｒ1およびＲ2のための、親水性基、すなわち式Ｉの化合物を水溶性にする基は、例えばカルボキシルおよびスルホ基、ならびに特にそれらの生理学的に認容性のカチオンとの塩、例えばアルキル金属塩またはトリアルキルアンモニウム塩、例えばトリ（ヒドロキシアルキル）アンモニウム塩もしくは２−ヒドロキシメチル−２−プロピルアンモニウム塩である。また、任意の生理学的に認容性のアニオンを有するアンモニウム基、特にアルキルアンモニウム基が適当である。
【００２９】
式Ｉの有利な化合物は、
Ｒ1およびＲ2が、互いに独立して、水素、Ｃ1〜Ｃ12−アルキル、Ｃ1〜Ｃ8−アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ12−アルキルアミノ、Ｃ1〜Ｃ12−ジアルキルアミノ、水溶性を与えかつカルボキシレート、スルホネートまたはアンモニウム基からなる基から選択される置換基であり、
Ｒ3が、水素、ＣＯＯＲ5、ＣＯＲ5、ＣＯＮＲ5Ｒ6、ＣＮ、非置換または置換の、Ｃ1〜Ｃ12−アルキル、Ｃ3〜Ｃ6−シクロアルキル、Ｃ7〜Ｃ10−ビシクロアルキル、フェニル、ナフチル、チエニルであり、
Ｒ4が、ＣＯＯＲ6、ＣＯＲ6、ＣＯＮＲ5Ｒ6、ＣＮ、非置換または置換の、Ｃ1〜Ｃ12−アルキル、Ｃ3〜Ｃ10−シクロアルキル、Ｃ7〜Ｃ10−ビシクロアルキル、フェニル、ナフチル、チエニルであり、
Ｒ5およびＲ6が、互いに独立して、水素、非置換または置換の、Ｃ1〜Ｃ12−アルキル、Ｃ3〜Ｃ6−シクロアルキル、Ｃ7〜Ｃ10−ビシクロアルキル、フェニル、ナフチルであり、
ｎが１〜３である化合物である。
【００３０】
Ｒ1〜Ｒ6のために特に有利なＣ1〜Ｃ12−アルキル基は、メチル、エチル、ｎ−プロピル、１−メチルエチル、ｎ−ブチル、１−メチルプロピル、２−メチルプロピル、１，１−ジメチルエチル、ｎ−ペンチル、１−メチルブチル、２−メチルブチル、３−メチルブチル、２，２−ジメチルプロピル、２−エチルヘキシルである。
【００３１】
Ｒ3〜Ｒ6のために特に有利なシクロアルキル基は、分枝鎖状または非分枝鎖状シクロペンチルおよびシクロヘキシルである。
【００３２】
Ｒ1およびＲ2のためのモノ−またはジアルキルのために適当かつ特に有利なアルキル基は、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｎ−ブチル、２−メチルプロピル、１，１−ジメチルプロピルおよび２−エチルヘキシルである。
【００３３】
Ｒ3〜Ｒ6のために特に有利なビシクロアルキル基はショウノウ誘導体である。
【００３４】
置換基Ｒ1およびＲ2はそれぞれ芳香環にオルト、メタおよび／またはパラ位に結合させてもよい。二置換した芳香環の場合（ｎ＝２）、Ｒ1およびＲ2はオルト／パラまたはメタ／パラ位にあることができる。ｎ＝１である式Ｉの化合物は、Ｒ1がＲ2と同一でありかつ両者の基がパラ位にあるものが有利である。
【００３５】
更に、Ｒ4またはＲ3がそれぞれＣＯＯＲ5またはＣＯＯＲ6である場合、Ｒ3またはＲ4は、Ｈ、ＣＮ、非置換または置換の、Ｃ1〜Ｃ20−アルキル、Ｃ2〜Ｃ10−アルケニル、アリール、ヘテロアリールではない式Ｉの化合物を使用するのが特に有利である。
【００３６】
極めて特に有利である式Ｉの化合物は、
Ｒ1およびＲ2が、互いに独立して、水素、Ｃ1〜Ｃ12−アルキル、Ｃ1〜Ｃ8−アルコキシ、水溶性を与えかつカルボキシレート、スルホネートまたはアンモニウム基からなる基から選択される置換基であり、
Ｒ3が水素、ＣＯＯＲ5、ＣＯＲ5、ＣＯＮＲ5Ｒ6、ＣＮ、Ｃ3〜Ｃ6−シクロアルキル、Ｃ7〜Ｃ10−ビシクロアルキルであり、
Ｒ4がＣＯＯＲ6、ＣＯＲ6、ＣＯＮＲ5Ｒ6、ＣＮ、Ｃ3〜Ｃ6−シクロアルキル、Ｃ7〜Ｃ10−ビシクロアルキルであり、Ｒ4がＣＮであり、またはＲ3が水素またはＣＮである場合、Ｒ3またはＲ4はＣＯＯＲ5またはＣＯＯＲ6ではなく、
Ｒ5およびＲ6が、互いに独立して、水素、非置換または置換の、Ｃ1〜Ｃ12−アルキル、Ｃ3〜Ｃ6−シクロアルキル、Ｃ7〜Ｃ10−ビシクロアルキル、フェニル、ナフチルであり、
ｎが１〜３であるものである。
【００３７】
更に、著しい耐光性を有する式Ｉの化合物（ｎ＝１）は、置換基Ｒ1〜Ｒ4が第１表に示される組合せで存在するものである。
【００３８】
第１表：
【００３９】
【表１】
【表２】
【表３】
【表４】
【表５】
【表６】
同様に、Ｒ1およびＲ2が、互いに独立して、水素、Ｃ1〜Ｃ12−アルキル、Ｃ1〜Ｃ8−アルコキシ、水溶性を与えかつカルボキシレート、スルホネートまたはアンモニウム基からなる基から選択される置換基であり、
Ｒ3がＣＯＯＲ5、ＣＯＲ5、ＣＯＮＲ5Ｒ6であり、
Ｒ4がＣＯＯＲ6、ＣＯＲ6、ＣＯＮＲ5Ｒ6であり、
Ｒ5およびＲ6が、互いに独立して、水素、非置換または置換の、Ｃ1〜Ｃ12−アルキル、Ｃ3〜Ｃ6−シクロアルキル、Ｃ7〜Ｃ10−ビシクロアルキル、フェニル、ナフチルであり、
ｎが１〜３である式Ｉの化合物の使用が極めて特に有利である。というのも、該化合物が著しく耐光性でありかつ同時に無色であるからである。
【００４６】
また、本発明は、式Ｉａ：
【００４７】
【化７】
［式中、ジエン系はＺ，Ｚ、Ｚ，Ｅ、Ｅ，ＺまたはＥ，Ｅ配置もしくはその混合物であり、かつ置換基及び変数は互いに独立して以下のものを表す：
Ｒ1およびＲ2：水素、非置換または置換の、Ｃ1〜Ｃ20−アルキル、Ｃ2〜Ｃ10−アルケニル、Ｃ3〜Ｃ10−シクロアルキル、Ｃ3〜Ｃ10−シクロアルケニル、Ｃ1〜Ｃ12−アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ20−アルコキシカルボニル、Ｃ1〜Ｃ12−アルキルアミノ、Ｃ1〜Ｃ12−ジアルキルアミノ、アリール、ヘテロアリール、水溶性を与えかつカルボキシレート、スルホネートまたはアンモニウム基からなる基から選択される置換基；
Ｒ3：ＣＯＯＲ5、ＣＯＮＲ5Ｒ6；
Ｒ4：ＣＯＯＲ6、ＣＯＮＲ5Ｒ6；
Ｒ5およびＲ6：水素、非置換または置換の、Ｃ1〜Ｃ20−アルキル、Ｃ2〜Ｃ10−アルケニル、Ｃ3〜Ｃ10−シクロアルキル、Ｃ7〜Ｃ10−ビシクロアルキル、Ｃ3〜Ｃ10−シクロアルケニル、Ｃ7〜Ｃ10−ビシクロアルケニル、アリール、ヘテロアリール；
ｎ：１〜３；
Ｒ1およびＲ2が水素である場合、Ｒ3およびＲ4はＣＯＯＣＨ3でなくてもよい］の４，４−ジアリールブタジエンに関する。
【００４９】
有利な４，４−ジアリールブタジエンは、式Ｉｂ：
【００５０】
【化８】
［式中、ジエン系はＺ，Ｚ、Ｚ，Ｅ、Ｅ，ＺまたはＥ，Ｅ配置もしくはその混合物であり、かつ置換基及び変数は互いに独立して以下のものを表す：
Ｒ1およびＲ2：水素、Ｃ1〜Ｃ20−アルキル、Ｃ1〜Ｃ12−アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ20−アルコキシカルボニル；
Ｒ3：ＣＯＯＲ5、ＣＯＮＲ5Ｒ6；
Ｒ4：ＣＯＯＲ6、ＣＯＮＲ5Ｒ6；
Ｒ5およびＲ6：水素、非置換または置換の、Ｃ1〜Ｃ20−アルキル、Ｃ2〜Ｃ10−アルケニル、Ｃ3〜Ｃ10−シクロアルキル、Ｃ7〜Ｃ10−ビシクロアルキル、Ｃ3〜Ｃ10−シクロアルケニル、Ｃ7〜Ｃ10−ビシクロアルケニル、アリール、ヘテロアリール；
Ｒ1およびＲ2が水素である場合、Ｒ3およびＲ4はＣＯＯＣＨ3でなくてもよい］で示されるものである。
【００５２】
特に有利な４，４−ジアリールブタジエンは、式Ｉｃ：
【００５３】
【化９】
［式中、ジエン系はＺ，Ｚ、Ｚ，Ｅ、Ｅ，ＺまたはＥ，Ｅ配置もしくはその混合物であり、かつ置換基及び変数は互いに独立して以下のものを表す：
Ｒ1およびＲ2：水素、Ｃ1〜Ｃ20−アルキル、Ｃ1〜Ｃ12−アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ20−アルコキシカルボニル；
Ｒ3：ＣＯＯＲ5、ＣＯＮＲ5Ｒ6；
Ｒ4：ＣＯＯＲ6、ＣＯＮＲ5Ｒ6；
Ｒ5およびＲ6：水素、非置換または置換の、Ｃ1〜Ｃ20−アルキル、Ｃ2〜Ｃ10−アルケニル、Ｃ3〜Ｃ10−シクロアルキル、Ｃ7〜Ｃ10−ビシクロアルキル、Ｃ3〜Ｃ10−シクロアルケニル、Ｃ7〜Ｃ10−ビシクロアルケニル、アリール、ヘテロアリール；
Ｒ1およびＲ2が水素である場合、Ｒ3およびＲ4はＣＯＯＣＨ3でなくてもよい］で示されるものである。
【００５５】
化合物Ｉａ〜Ｉｃの置換基Ｒ1〜Ｒ6のより正確な定義は、冒頭に既に記載した化合物Ｉの記載と一致する。
【００５６】
本発明で使用される式Ｉの化合物は、以下の反応式による縮合によって製造することができる：
【００５７】
【化１０】
その際、式中のＲ1〜Ｒ4は請求項１記載のものを表す。
【００５９】
前記の縮合は塩基または酸のいずれかで触媒することができる。適当な触媒は、第三アミン、例えばピリジン、モルホリン、トリエチルアミン、トリエタノールアミン、
第二アミン例えばピペリジン、ジメチルアミン、ジエチルアミン、
ＮＨ3、ＮａＮＨ2、ＫＮＨ2、ＮＨ4ＯＡｃ、
塩基性アルミナ、塩基性イオン交換体、
Ｎａ2ＣＯ3、Ｋ2ＣＯ3、
酸触媒、例えば氷酢酸、ギ酸、プロピオン酸、
ＨＣｌ、Ｈ2ＳＯ4、ＨＮＯ3、
酸性イオン交換体
である。
【００６０】
一般に、触媒の量は、使用されるアルデヒドの量に対して０．１〜５０モル％、有利には０．５〜２０モル％である。
【００６１】
有利に使用される温度は２０〜１５０℃、特に３０〜１００℃、特に有利に４０〜８０℃である。圧力に関する特定の条件は必要なく、反応は一般に大気圧下で実施する。
【００６２】
使用できる溶剤は、アルコール、例えばメタノール、エタノールまたはイソプロパノール、芳香族化合物、例えばトルエンまたはキシレン、炭化水素、例えばヘプタンまたはヘキサン、塩素化炭化水素、例えばクロロホルムまたはジクロロメタン、ミグリオール（miglyol）、テトラヒドロフランである。しかしながらまた、反応は溶剤なしでも実施できる。
【００６３】
例えば、触媒としてピペリジンの存在下でのβ−フェニルシンナムアルデヒドとジエチルマロネートとの反応によって、第２表の化合物１が得られる。
【００６４】
また、塩基性触媒の存在下でのエステル交換反応によって、メチルまたはエチルエステル、例えば第２表の化合物１から出発して長鎖エステルを製造することが可能である。
【００６５】
エステル交換反応のための適当な触媒は：
塩基性アルカリ金属およびアルカリ土類金属塩、有利には前駆体と生成物の両者にも不溶性でありかつ反応終了後に容易に除去できるもの、特に有利には炭酸ナトリウム、炭酸カリウムまたは炭酸カルシウムもしくは重炭酸ナトリウム、アルカリ土類金属オキシド、有利には酸化カルシウムまたは酸化マグネシウム、および塩基性ゼオライトである。
【００６６】
一般に、触媒の量は、使用されるエステルの量に対して１〜８０モル％、有利に５〜５０モル％である。
【００６７】
使用されるアルコールの量は、使用される最初のエステル、例えば第２表の化合物１の量と少なくとも等モルでなければならない。２００〜５００モル％の量のアルコールが有利に使用される。
【００６８】
形成するメタノールまたはエタノールは蒸留により除去する。
【００６９】
温度は５０〜２５０℃、特に６０〜１５０℃を有利に使用する。圧力に関しての特定の条件は必要なく、一般に反応は大気圧下で実施する。
【００７０】
使用できる溶剤は、不活性の高沸点化合物、例えばキシレン、トルエンまたは使用されるアルコールと液体の短鎖アルカン、例えばヘキサンおよびヘプタンとの混合物である。使用するアルコールの他に溶剤を使用しないのが有利である。
【００７１】
エステル交換反応は、バッチ式または連続的のいずれかで実施する。連続的な方法では、反応体を有利には不溶塩基の固定相に通過させる。
【００７２】
Ｒ3≠Ｒ4である場合、本発明による式Ｉの化合物は、原理的にそれらの種々の幾何異性体であることができる、すなわちジエン系はＺ，Ｚ、Ｚ，Ｅ、Ｅ，Ｚおよび／またはＥ，Ｅ配置を有する。有利な化粧品用日焼け止め剤は、全てがＥ配置および／または全てがＺ配置の異性体、極めて特に全てがＥ配置であるものが有利である。
【００７３】
Ｒ3＝Ｒ4であれば、Ｃ−３とＣ−４間の炭素−炭素の二重結合では、Ｅおよび／またはＺ配置、有利にはＺ配置を有することができる。
【００７４】
また、本発明は、化粧品用調剤および製薬学的調剤において自体公知でありかつ日焼け止め剤としてＵＶ−ＡおよびＵＶ−Ｂ領域を吸収する化合物と共に１種類以上の式Ｉの化合物を一般にＵＶ−Ｂを吸収する化合物より少量で使用する化粧品用調剤および製薬学的調剤の全量に対して０．１〜１０重量％、有利には１〜７重量％からなる化粧品用調剤および製薬学的調剤に関する。
【００７５】
日焼け止め剤を含有する化粧品用調剤および製薬学的調剤は、原則的に少なくとも１種類の油相を有するキャリヤーをベースとする。しかしながらまた、専ら水性の基材を有する調剤では、親水性の置換基を有する化合物を使用している。従って、油、水中油および油中水のエマルジョン、クリームおよびペースト、保護リップスティック基材または非油脂性（non-greasy）ゲルが適当である。
【００７６】
従って、これらのタイプの日焼け止め製品は液状、ペースト状または固体形、例えば油中水クリーム、水中油クリームおよびローション、エーロゾルフォームクリーム、ゲル、オイル、グリーススティック、粉剤、スプレーまたは水性アルコールローションであることができる。
【００７７】
慣用の化粧品用オイル成分の例は、パラフィン油、ステアリン酸グリセリル、ミリスチン酸イソプロピル、アジピン酸ジイソプロピル、セチルステアリル２−エチルヘキサノエート、水素化ポリイソブテン、ペトロラタム、カプリル酸／カプリン酸トリグリセリド、微晶蝋、ラノリンおよびステアリン酸である。
【００７８】
添加物として適当な慣用の化粧品用助剤は、例えば共乳化剤（coemulsifier）、油脂および蝋、安定剤、増粘剤、生体活性物質、フィルム形成剤、芳香剤、染料、真珠光沢剤、防腐剤、顔料、電解質（例えば硫酸マグネシウム）およびｐＨ調節剤である。適当かつ有利な共乳化剤は、公知のＷ／ＯならびにＯ／Ｗ乳化剤、例えばポリグリセロールエステル、ソルビタンエステルまたは部分的にエステル化したグリセリドである。油脂の典型的な例はグリセリドであり、挙げることができる蝋は特に蜜蝋、パラフィン蝋またはマイクロワックス（microwax）、あるいは親水性の蝋と混合したものである。使用することができる安定剤は、脂肪酸の金属塩、例えばステアリン酸マグネシウム、ステアリン酸アルミニウムおよび／またはステアリン酸亜鉛である。適当な増粘剤の例は架橋ポリアクリル酸およびそれらの誘導体、多糖、特にキサンタンガム、グァールグァール（guar-guar）、アガーアガー（agar-agar）、アルギン酸塩およびチロース、カルボキシメチルセルロースおよびヒドロキシエチルセルロース、また脂肪アルコール、モノグリセリドおよび脂肪酸、ポリアクリレート、ポリビニルアルコールおよびポリビニルピロリドンである。生体活性物質の例は植物エキス、蛋白質水解物およびビタミン複合体（complex）である。使用されるフィルム形成剤の例は、親水コロイド、例えばキトサン、微結晶性キトサンまたは四級化キトサン、ポリビニルピロリドン、ビニルピロリドン／酢酸ビニルコポリマー、アクリル酸系列のポリマー、第４セルロース誘導体および類似化合物である。適当な防腐剤の例は、ホルムアルデヒド溶液、ｐ−ヒドロキシベンゾエートまたはソルビン酸である。適当な真珠泊剤の例は、ジステアリン酸グリコールエステル、例えばジステアリン酸エチレングリコール、また脂肪酸および脂肪酸モノグリコールエステルである。使用できる染料は、表のような化粧品の用途に適当でありかつ認容性の、例えばVerlag Chemie,Weinheim,1984発行のFarbstoffkommission der Deutschen Forschungsgemeinschaftの刊行文献“Kosmetische Faerbemittel”に列記されている物質である。これらの染料は通常、混合物の総重量に対して０．００１〜０．１％の濃度で使用する。
【００７９】
助剤および添加物の総含量は、組成物に対して１〜８０、有利には６〜４０重量％であることができ、かつ非水性含量（“活性物質”）は２０〜８０、有利には３０〜７０重量％であることができる。該組成物は自体公知の方法、すなわち例えばホット、コールド、ホット−ホット／コールドまたはＰＩＴ乳化によって製造することができる。この方法は純粋な機械的方法であり、化学反応は実施されない。
【００８０】
最後に、本発明での使用のためのＵＶフィルターの混合の完全な系において該物質が安定であれば、ＵＶ領域内で吸収し自体公知である他の物質を使用することも可能である。
【００８１】
ヒトの表皮を保護するために使用される化粧品用調剤および製薬学的調剤における日焼け止め剤のほとんどはＵＶ−Ｂ領域、すなわち２８０〜３２０ｎｍの領域内の紫外光を吸収する化合物からなっている。本発明により使用されるＵＶ−Ａ吸収剤の含量は、例えばＵＶ−ＢおよびＵＶ−Ａ吸収物質の総重量に対して１０〜９０％、有利には２０〜５０％である。
【００８２】
任意のＵＶ−ＡおよびＵＶ−Ｂフィルター物質は、式Ｉの化合物を混合して使用するＵＶフィルター物質として本発明のように使用するのに適当である。挙げることができる例としては：
【００８３】
【表７】
【表８】
最後に、また微粉にした顔料、例えば二酸化チタン及び酸化亜鉛が挙げることができる。
【００８６】
ＵＶ線からヒトの毛髪を保護するために、本発明による式Ｉの日焼け止め剤は、シャンプー、ローション、ゲル、ヘアースプレー、エーロゾルフォームクリーム又はエマルジョン中に、濃度０．１〜１０重量％、有利には１〜７重量％で混入させることができる。特定の製剤は特に洗浄、着色及び整髪のために使用することができる。
【００８７】
一般に本発明により使用される化合物は、鮮鋭なバンド構造を伴うＵＶ−Ａ線の領域に特に高い吸収を有する。更に、該化合物は化粧品用オイルに易溶性であり、かつ化粧品用調剤中に容易に混入させることができる。特に、化合物Ｉを使用して製造したエマルジョンは高い安定性を示し、化合物Ｉ自体は高い耐光性を示し、かつ化合物Ｉで製造した製品は快い触感を有する。
【００８８】
また、本発明による式Ｉの化合物のＵＶフィルタ効果は、活性物質及び助剤を安定化するのに化粧品用調剤及び医薬製剤において使用することができる。
【００８９】
また、本発明は、薬剤としての使用のための式Ｉの化合物、及び皮膚の炎症及びアレルギーの予防的治療ならびに一定のタイプの皮膚癌を予防するための医薬組成物（活性物質として少なくとも１種類の式Ｉの化合物の有効量からなる）に関する。
【００９０】
本発明による医薬組成物は、経口で又は局所に投与することができる。経口投与のためには、医薬組成物は特に香錠、ゼラチンカプセル、被覆タブレット、シロップ剤、液剤、乳剤又は懸濁剤の形である。該医薬組成物は、例えば軟膏、クリーム、ゲル、スプレー、液剤又はローションとして局部に使用する。
【００９１】
【実施例】
Ｉ．製造
例１
第２表の番号１の化合物の製造方法
β−フェニルシンナムアルデヒド０．１モル及びマロン酸ジエチル０．１モルをメタノール１００ｍｌ中に溶解させ、ピペリジン及び氷酢酸をそれぞれ１ｍｌずつ添加し、かつその混合物を５時間還流させた。次いで、水で希釈しかつ０℃に冷却しその温度で最終生成物が晶出した。その結晶を濾別しかつ乾燥させ、第２表の化合物１が無色の結晶で３３ｇ（理論値の９０％）得られた。純度：＞９９％（ＧＣ）
第２表の化合物２及び３ならびに８〜１５の製造は例１のようにして実施する。
【００９２】
化合物１８〜２０は、例１のようにマロン酸ジエチルと相応のメチル−、ｔ−ブチル−又はメトキシ置換β−フェニルシンナムアルデヒドとを反応させることによって製造した。
【００９３】
例２
第２表の化合物４〜７は、例１からの化合物と適当なアルコールとを触媒として炭酸ナトリウムの存在下でエステル交換反応することによって製造した。遊離したエタノールを留去し、かつ油状物として生成した所望の生成物４〜７を蒸留によって精製した。
【００９４】
例３
第２表の番号１７の化合物の製造方法
キシレン４０ｍｌ中のショウノウ０．１モルをＫＯＨ０．１モルと混合し、かつ加熱し還流させた。次いで、キシレン中のβ−シンナムアルデヒド０．１０５モルの溶液をゆっくりと６時間かけて滴加した。室温にまで冷却した後、水を添加し、かつ有機相を水で２回洗浄し、かつ次いで硫酸ナトリウム上で乾燥させた。溶媒を除去した後の油性の残留物をメタノール／水から晶出させた。第２表の化合物１７の無色の結晶２２ｇ（６４％）が得られた。純度９９％（ＨＰＬＣ、異性体の混合物）。
【００９５】
第２表の化合物１６の製造は、例２のようにβ−フェニルシンナムアルデヒドとピナコロンとを反応させることによって実施する。
【００９６】
第２表：
【００９７】
【表９】
【表１０】
【表１１】
第３表及び第４表の化合物は、類似の方法又は全般の部分に記載されているように製造することができる。
【０１０１】
第３表：
【０１０２】
【表１２】
【表１３】
【表１４】
【表１５】
【表１６】
【表１７】
【表１８】
【表１９】
【表２０】
【表２１】
第４表：
【０１１３】
【表２２】
【表２３】
【表２４】
【表２５】
【表２６】
【表２７】
【表２８】
【表２９】
【表３０】
【表３１】
例４
耐光性試験のための規準化した方法（サンテスト）
試験すべき日焼け止め剤の５重量％のアルコール溶液を、エッペンドルフピペット（２０μｌ）を使用してガラス板のフライス盤加工した領域に塗布する。アルコールの存在のため、その溶液は粗面化したガラス表面上にむらなく分配される。塗布した量は、サンクリーム中の平均日光保護率を得るのに必要な日焼け止め剤の量に相当する。その試験中に、４枚のガラス板を毎度照射する。蒸発時間及び照射をそれぞれ３０分間続ける。ガラス板は、照射中にサンテスト装置の基底部に位置する水冷却システムによって僅かに冷却する。照射中のサンテスト装置の内部の温度は４０℃である。試料を照射した後に、該試料を暗い色の５０ｍｌ目盛りのフラスコ中でエタノールで洗浄し、かつ光度計で測定する。ブランク試料を同様にガラス板に塗布し、かつ室温で３０分間蒸発させる。他の試料のように、該試料をエタノールで洗浄し、かつ１００ｍｌに希釈しかつ測定する。
【０１２４】
耐光性比較試験：
１．
【０１２５】
【化１１】
２．
【０１２７】
【化１２】
化粧品用途のためのエマルジョンの一般的な製造方法
あらゆる油溶性成分を撹拌容器中で８５℃に加熱する。あらゆる成分が、溶融するか又は液相として存在する場合、水相は均質化によって混入させる。該エマルジョンを撹拌して約４０℃に冷却し、香りを付けかつ均質化し、次いで継続的に撹拌しながら２５℃に冷却する。
調剤
例５
リップケア組成物
質量含有量（mass content） （重量％）
ユーセリナムアンヒドリカム（anhydricum） １００まで
グリセロール １０．００
二酸化チタン １０．００
第２表の番号１の化合物 ５．００
オクチルメトキシシンナメート ８．００
酸化亜鉛 ５．００
ヒマシ油 ４．００
ステアリン酸／カプリン酸／カプリル酸／ ４．００
アジピン酸ペンタエリトリチル
ステアリン酸グリセリルＳＥ ３．００
クオータニウム（quaternium）−１８ベントナイト ２．００
ＰＥＧ−４５／ドデシルグリコールコポリマー １．５０
例６
リップケア組成物
質量含有量 （重量％）
ユーセリナムアンヒドリカム １００まで
グリセロール １０．００
二酸化チタン １０．００
第２表の番号２０の化合物 ５．００
オクチルメトキシシンナメート ８．００
酸化亜鉛 ５．００
ヒマシ油 ４．００
ステアリン酸／カプリン酸／カプリル酸／ ４．００
アジピン酸ペンタエリトリチル
ステアリン酸グリセリルＳＥ ３．００
蜜蝋 ２．００
微晶蝋 ２．００
クオータニウム−１８ベントナイト ２．００
ＰＥＧ−４５／ドデシルグリコールコポリマー １．５０
例７
微小顔料を伴う日焼け止め組成物
質量含有量 （重量％）
水 １００まで
オクチルメトキシシンナメート １０．００
ＰＥＧ−７水素化ヒマシ油 ６．００
二酸化チタン ６．００
第２表の番号１の化合物 ５．００
鉱油 ５．００
イソアミルｐ−メトキシシンナメート ５．００
プロピレングリコール ５．００
ホホバ油 ３．００
４−メチルベンジリデンショウノウ ３．００
ＰＥＧ−４５／ドデシルグリコールコポリマー ２．００
ジメチコーン １．００
ＰＥＧ−４０水素化ヒマシ油 ０．５０
酢酸トコフェリル ０．５０
フェノキシエタノール ０．５０
ＥＤＴＡ ０．２０
例８
微小顔料を伴う日焼け止め組成物
質量含有量 （重量％）
水 １００まで
オクチルメトキシシンナメート １０．００
ＰＥＧ−７水素化ヒマシ油 ６．００
二酸化チタン ６．００
第２表の番号２０の化合物 ５．００
鉱油 ５．００
イソアミルｐ−メトキシシンナメート ５．００
プロピレングリコール ５．００
ホホバ油 ３．００
４−メチルベンジリデンショウノウ ３．００
ＰＥＧ−４５／ドデシルグリコールコポリマー ２．００
ジメチコーン １．００
ＰＥＧ−４０水素化ヒマシ油 ０．５０
酢酸トコフェリル ０．５０
フェノキシエタノール ０．５０
ＥＤＴＡ ０．２０
例９
非油脂性ゲル
質量含有量 （重量％）
水 １００まで
オクチルメトキシシンナメート ８．００
二酸化チタン ７．００
第２表の番号１の化合物 ５．００
グリセロール ５．００
ＰＥＧ−２５ ＰＡＢＡ ５．００
４−メチルベンジリデンショウノウ １．００
アクリレートＣ１０〜Ｃ３０アクリル酸アルキル ０．４０
クロスポリマー
イミダゾリジニルウレア ０．３０
ヒドロキシエチルセルロース ０．２５
ナトリウムメチルパラベン ０．２５
二ナトリウムＥＤＴＡ ０．２０
芳香剤 ０．１５
ナトリウムプロピルパラベン ０．１５
水酸化ナトリウム ０．１０
例１０
非油脂性ゲル
質量含有量 （重量％）
水 １００まで
オクチルメトキシシンナメート ８．００
二酸化チタン ７．００
第２表の番号２０の化合物 ５．００
グリセロール ５．００
ＰＥＧ−２５ ＰＡＢＡ ５．００
４−メチルベンジリデンショウノウ １．００
アクリレートＣ１０〜Ｃ３０アクリル酸アルキル ０．４０
クロスポリマー
イミダゾリジニルウレア ０．３０
ヒドロキシエチルセルロース ０．２５
ナトリウムメチルパラベン ０．２５
二ナトリウムＥＤＴＡ ０．２０
芳香剤 ０．１５
ナトリウムプロピルパラベン ０．１５
水酸化ナトリウム ０．１０
例１１
サンクリーム（ＳＰＦ２０）
質量含有量 （重量％）
水 １００まで
オクチルメトキシシンナメート ８．００
二酸化チタン ８．００
ＰＥＧ−７水素化ヒマシ油 ６．００
第２表の番号１の化合物 ５．００
鉱油 ６．００
酸化亜鉛 ５．００
パルミチン酸イソプロピル ５．００
イミダゾリジニルウレア ５．００
ホホバ油 ３．００
ＰＥＧ−４５／ドデシルグリコールコポリマー ２．００
４−メチルベンジリデンショウノウ １．００
ステアリン酸マグネシウム ０．６０
酢酸トコフェリル ０．５０
メチルパラベン ０．２５
二ナトリウムＥＤＴＡ ０．２０
プロピルパラベン ０．１５
例１２
サンクリーム（ＳＰＦ２０）
質量含有量 （重量％）
水 １００まで
オクチルメトキシシンナメート ８．００
二酸化チタン ８．００
ＰＥＧ−７水素化ヒマシ油 ６．００
第２表の番号２０の化合物 ５．００
鉱油 ６．００
酸化亜鉛 ５．００
パルミチン酸イソプロピル ５．００
イミダゾリジニルウレア ５．００
ホホバ油 ３．００
ＰＥＧ−４５／ドデシルグリコールコポリマー ２．００
４−メチルベンジリデンショウノウ １．００
ステアリン酸マグネシウム ０．６０
酢酸トコフェリル ０．５０
メチルパラベン ０．２５
二ナトリウムＥＤＴＡ ０．２０
プロピルパラベン ０．１５
例１３
耐水性サンクリーム
質量含有量 （重量％）
水 １００まで
オクチルメトキシシンナメート ８．００
ＰＥＧ−７水素化ヒマシ油 ５．００
プロピレングリコール ５．００
パルミチン酸イソプロピル ４．００
カプリル酸／カプリン酸トリグリセリド ４．００
第２表の番号１の化合物 ５．００
グリセロール ４．００
ホホバ油 ３．００
４−メチルベンジリデンショウノウ ２．００
二酸化チタン ２．００
ＰＥＧ−４５／ドデシルグリコールコポリマー １．５０
ジメチコーン １．５０
硫酸マグネシウム ０．７０
ステアリン酸マグネシウム ０．５０
芳香剤 ０．１５
例１４
耐水性サンクリーム
質量含有量 （重量％）
水 １００まで
オクチルメトキシシンナメート ８．００
ＰＥＧ−７水素化ヒマシ油 ５．００
プロピレングリコール ５．００
パルミチン酸イソプロピル ４．００
カプリル酸／カプリン酸トリグリセリド ４．００
第２表の番号２０の化合物 ５．００
グリセロール ４．００
ホホバ油 ３．００
４−メチルベンジリデンショウノウ ２．００
二酸化チタン ２．００
ＰＥＧ−４５／ドデシルグリコールコポリマー １．５０
ジメチコーン １．５０
硫酸マグネシウム ０．７０
ステアリン酸マグネシウム ０．５０
芳香剤 ０．１５
例１５
サンミルク（ＳＰＦ６）
質量含有量 （重量％）
水 １００まで
鉱油 １０．００
ＰＥＧ−７水素化ヒマシ油 ６．００
パルミチン酸イソプロピル ５．００
オクチルメトキシシンナメート ３．５０
第２表の番号１の化合物 ５．００
カプリル酸／カプリン酸トリグリセリド ３．００
ホホバ油 ３．００
ＰＥＧ−４５／ドデシルグリコールコポリマー ２．００
硫酸マグネシウム ０．７０
ステアリン酸マグネシウム ０．６０
酢酸トコフェリル ０．５０
グリセロール ０．３０
メチルパラベン ０．２５
プロピルパラベン ０．１５
トコフェロール ０．０５
例１６
サンミルク（ＳＰＦ６）
質量含有量 （重量％）
水 １００まで
鉱油 １０．００
ＰＥＧ−７水素化ヒマシ油 ６．００
パルミチン酸イソプロピル ５．００
オクチルメトキシシンナメート ３．５０
第２表の番号２０の化合物 ５．００
カプリル酸／カプリン酸トリグリセリド ３．００
ホホバ油 ３．００
ＰＥＧ−４５／ドデシルグリコールコポリマー ２．００
硫酸マグネシウム ０．７０
ステアリン酸マグネシウム ０．６０
酢酸トコフェリル ０．５０
グリセロール ０．３０
メチルパラベン ０．２５
プロピルパラベン ０．１５
トコフェロール ０．０５
Claims (11)
- 式Ｉ：
Ｒ1およびＲ2：水素、Ｃ 1〜Ｃ20−アルキル、Ｃ2〜Ｃ10−アルケニル、Ｃ3〜Ｃ10−シクロアルキル、Ｃ3〜Ｃ10−シクロアルケニル、Ｃ1〜Ｃ12−アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ20−アルコキシカルボニル、Ｃ1〜Ｃ12−アルキルアミノ、Ｃ1〜Ｃ12−ジアルキルアミノ、アリール、水溶性を与えかつカルボキシレート、スルホネートまたはアンモニウム基からなる基から選択される置換基；
Ｒ3：水素、ＣＯＯＲ5、ＣＯＲ5、ＣＯＮＲ5Ｒ6、ＣＮ、Ｃ 1〜Ｃ20−アルキル、Ｃ2〜Ｃ10−アルケニル、Ｃ3〜Ｃ10−シクロアルキル、Ｃ 3〜Ｃ10−シクロアルケニル、アリール；
Ｒ4：ＣＯＯＲ6、ＣＯＲ6、ＣＯＮＲ5Ｒ6、ＣＮ；
Ｒ5〜Ｒ 6 ：水素、Ｃ 1〜Ｃ20−アルキル、Ｃ2〜Ｃ10−アルケニル、Ｃ3〜Ｃ10−シクロアルキル、Ｃ7〜Ｃ10−ビシクロアルキル、Ｃ3〜Ｃ10−シクロアルケニル、Ｃ7〜Ｃ10−ビシクロアルケニル、アリール；
ｎ：１〜３］の４，４−ジアリールブタジエンの、ヒトの皮膚またはヒトの毛髪を太陽光線から保護するための化粧品用調剤または製薬学的調剤での耐光性のＵＶフィルターとしての、単独でのまたはＵＶ領域で吸収しかつ化粧品用調剤および製薬学的調剤において自体公知の化合物と一緒の使用。 - 請求項１記載の式Ｉの化合物の耐光性ＵＶ−Ａフィルターとしての使用。
- 請求項１または２記載の式Ｉの化合物の化粧品用調剤および製薬学的調剤におけるＵＶ安定剤としての使用。
- 請求項１から３までのいずれか１項記載の式Ｉの化合物の使用であって、置換基および変数は互いに独立して以下のものを表す：
Ｒ1およびＲ2：水素、Ｃ1〜Ｃ12−アルキル、Ｃ1〜Ｃ8−アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ12−アルキルアミノ、Ｃ1〜Ｃ12−ジアルキルアミノ、水溶性を与えかつカルボキシレート、スルホネートまたはアンモニウム基からなる基から選択される置換基；
Ｒ3：水素、ＣＯＯＲ5、ＣＯＲ5、ＣＯＮＲ5Ｒ6、ＣＮ、Ｃ 1〜Ｃ12−アルキル、Ｃ3〜Ｃ6−シクロアルキル、フェニル、ナフチル；
Ｒ4：ＣＯＯＲ6、ＣＯＲ6、ＣＯＮＲ5Ｒ6、ＣＮ；
Ｒ5およびＲ6：水素、Ｃ 1〜Ｃ12−アルキル、Ｃ3〜Ｃ6−シクロアルキル、フェニル、ナフチル；
ｎは１〜３である、使用。 - ２８０から４００ｎｍの領域の範囲内のＵＶ光からヒトの皮膚またはヒトの毛髪を保護するための日焼け止め剤含有の化粧品用調剤または製薬学的調剤において、化粧品用または製薬学的に適当なキャリヤー中に、単独でまたはＵＶ領域に吸収を有しかつ化粧品用調剤及び製薬学的調剤のために自体公知の化合物と共に、式Ｉ：
- ＵＶ−Ａフィルターとして、置換基及び変数が請求項４に定義したものを表す式Ｉの化合物からなる請求項５記載のサンスクリーン含有の化粧品用調剤または製薬学的調剤。
- 式Ｉａ：
Ｒ1およびＲ2：水素、Ｃ 1〜Ｃ20−アルキル、Ｃ2〜Ｃ10−アルケニル、Ｃ3〜Ｃ10−シクロアルキル、Ｃ3〜Ｃ10−シクロアルケニル、Ｃ1〜Ｃ12−アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ20−アルコキシカルボニル、Ｃ1〜Ｃ12−アルキルアミノ、Ｃ1〜Ｃ12−ジアルキルアミノ、アリール、水溶性を与えかつカルボキシレート、スルホネートまたはアンモニウム基からなる基から選択される置換基；
Ｒ3：ＣＯＯＲ5、ＣＯＮＲ5Ｒ6；
Ｒ4：ＣＯＯＲ6、ＣＯＮＲ5Ｒ6；
Ｒ5およびＲ6：水素、Ｃ 1〜Ｃ20−アルキル、Ｃ2〜Ｃ10−アルケニル、Ｃ3〜Ｃ10−シクロアルキル、Ｃ7〜Ｃ10−ビシクロアルキル、Ｃ3〜Ｃ10−シクロアルケニル、Ｃ7〜Ｃ10−ビシクロアルケニル、アリール；
ｎ：１〜３、
Ｒ1およびＲ2が水素である場合、Ｒ3およびＲ4はＣＯＯＣＨ3 でない］の４，４−ジアリールブタジエン。 - 式Ｉｂ：
Ｒ1およびＲ2：水素、Ｃ1〜Ｃ20−アルキル、Ｃ1〜Ｃ12−アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ20−アルコキシカルボニル；
Ｒ3：ＣＯＯＲ5、ＣＯＮＲ5Ｒ6；
Ｒ4：ＣＯＯＲ6、ＣＯＮＲ5Ｒ6；
Ｒ5およびＲ6：水素、Ｃ 1〜Ｃ20−アルキル、Ｃ2〜Ｃ10−アルケニル、Ｃ3〜Ｃ10−シクロアルキル、Ｃ7〜Ｃ10−ビシクロアルキル、Ｃ3〜Ｃ10−シクロアルケニル、Ｃ7〜Ｃ10−ビシクロアルケニル、アリール；
Ｒ1およびＲ2が水素である場合、Ｒ3およびＲ4はＣＯＯＣＨ3 でない］の４，４−ジアリールブタジエン。 - 式Ｉｃ：
Ｒ1およびＲ2：水素、Ｃ1〜Ｃ20−アルキル、Ｃ1〜Ｃ12−アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ20−アルコキシカルボニル；
Ｒ3：ＣＯＯＲ5、ＣＯＮＲ5Ｒ6；
Ｒ4：ＣＯＯＲ6、ＣＯＮＲ5Ｒ6；
Ｒ5およびＲ6：水素、Ｃ 1〜Ｃ20−アルキル、Ｃ2〜Ｃ10−アルケニル、Ｃ3〜Ｃ10−シクロアルキル、Ｃ7〜Ｃ10−ビシクロアルキル、Ｃ3〜Ｃ10−シクロアルケニル、Ｃ7〜Ｃ10−ビシクロアルケニル、アリール；
Ｒ1およびＲ2が水素である場合、Ｒ3およびＲ4はＣＯＯＣＨ3 でない］の４，４−ジアリールブタジエン。 - ヒトの表皮を保護するために使用される薬品としての使用のための式Ｉの化合物。
- 請求項１記載の式Ｉの少なくとも１種類の化合物の有効量からなるヒトの表皮を保護するために使用される製薬学的調剤。
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