KR101057747B1 - 아미노 치환 히드록시페닐 벤조페논 유도체 - Google Patents
아미노 치환 히드록시페닐 벤조페논 유도체 Download PDFInfo
- Publication number
- KR101057747B1 KR101057747B1 KR1020057010430A KR20057010430A KR101057747B1 KR 101057747 B1 KR101057747 B1 KR 101057747B1 KR 1020057010430 A KR1020057010430 A KR 1020057010430A KR 20057010430 A KR20057010430 A KR 20057010430A KR 101057747 B1 KR101057747 B1 KR 101057747B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- sub
- delete delete
- alkyl
- radical
- formula
- Prior art date
Links
- 0 CC(*)(C=C1)C=Cc2c1nc(-c1ccccc1)[s]2 Chemical compound CC(*)(C=C1)C=Cc2c1nc(-c1ccccc1)[s]2 0.000 description 1
- IIBIBYDAEBLKIV-BUHFOSPRSA-N CCN(CC)c(cc1)cc(O)c1C(c1c(C(O)OC/C=C/COC(c(cccc2)c2C(c(ccc(N(CC)CC)c2)c2O)=O)=O)cccc1)=O Chemical compound CCN(CC)c(cc1)cc(O)c1C(c1c(C(O)OC/C=C/COC(c(cccc2)c2C(c(ccc(N(CC)CC)c2)c2O)=O)=O)cccc1)=O IIBIBYDAEBLKIV-BUHFOSPRSA-N 0.000 description 1
- VJWICKMBULZQCX-UHFFFAOYSA-N CCN(CC)c1ccc(C(c(cccc2)c2C(Nc(cc2)ccc2C(NC)=O)=O)=O)c(O)c1 Chemical compound CCN(CC)c1ccc(C(c(cccc2)c2C(Nc(cc2)ccc2C(NC)=O)=O)=O)c(O)c1 VJWICKMBULZQCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D295/00—Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms
- C07D295/16—Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms acylated on ring nitrogen atoms
- C07D295/18—Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms acylated on ring nitrogen atoms by radicals derived from carboxylic acids, or sulfur or nitrogen analogues thereof
- C07D295/182—Radicals derived from carboxylic acids
- C07D295/192—Radicals derived from carboxylic acids from aromatic carboxylic acids
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
- A61K8/00—Cosmetics or similar toiletry preparations
- A61K8/18—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition
- A61K8/30—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic compounds
- A61K8/40—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic compounds containing nitrogen
- A61K8/42—Amides
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
- A61K8/00—Cosmetics or similar toiletry preparations
- A61K8/18—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition
- A61K8/30—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic compounds
- A61K8/40—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic compounds containing nitrogen
- A61K8/44—Aminocarboxylic acids or derivatives thereof, e.g. aminocarboxylic acids containing sulfur; Salts; Esters or N-acylated derivatives thereof
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
- A61K8/00—Cosmetics or similar toiletry preparations
- A61K8/18—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition
- A61K8/30—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic compounds
- A61K8/49—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic compounds containing heterocyclic compounds
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
- A61K8/00—Cosmetics or similar toiletry preparations
- A61K8/18—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition
- A61K8/30—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic compounds
- A61K8/49—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic compounds containing heterocyclic compounds
- A61K8/4973—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic compounds containing heterocyclic compounds with oxygen as the only hetero atom
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61Q—SPECIFIC USE OF COSMETICS OR SIMILAR TOILETRY PREPARATIONS
- A61Q17/00—Barrier preparations; Preparations brought into direct contact with the skin for affording protection against external influences, e.g. sunlight, X-rays or other harmful rays, corrosive materials, bacteria or insect stings
- A61Q17/04—Topical preparations for affording protection against sunlight or other radiation; Topical sun tanning preparations
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C229/00—Compounds containing amino and carboxyl groups bound to the same carbon skeleton
- C07C229/52—Compounds containing amino and carboxyl groups bound to the same carbon skeleton having amino and carboxyl groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings of the same carbon skeleton
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C237/00—Carboxylic acid amides, the carbon skeleton of the acid part being further substituted by amino groups
- C07C237/28—Carboxylic acid amides, the carbon skeleton of the acid part being further substituted by amino groups having the carbon atom of at least one of the carboxamide groups bound to a carbon atom of a non-condensed six-membered aromatic ring of the carbon skeleton
- C07C237/32—Carboxylic acid amides, the carbon skeleton of the acid part being further substituted by amino groups having the carbon atom of at least one of the carboxamide groups bound to a carbon atom of a non-condensed six-membered aromatic ring of the carbon skeleton having the nitrogen atom of the carboxamide group bound to an acyclic carbon atom of a hydrocarbon radical substituted by oxygen atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C237/00—Carboxylic acid amides, the carbon skeleton of the acid part being further substituted by amino groups
- C07C237/28—Carboxylic acid amides, the carbon skeleton of the acid part being further substituted by amino groups having the carbon atom of at least one of the carboxamide groups bound to a carbon atom of a non-condensed six-membered aromatic ring of the carbon skeleton
- C07C237/34—Carboxylic acid amides, the carbon skeleton of the acid part being further substituted by amino groups having the carbon atom of at least one of the carboxamide groups bound to a carbon atom of a non-condensed six-membered aromatic ring of the carbon skeleton having the nitrogen atom of the carboxamide group bound to an acyclic carbon atom of a hydrocarbon radical substituted by nitrogen atoms not being part of nitro or nitroso groups
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C237/00—Carboxylic acid amides, the carbon skeleton of the acid part being further substituted by amino groups
- C07C237/28—Carboxylic acid amides, the carbon skeleton of the acid part being further substituted by amino groups having the carbon atom of at least one of the carboxamide groups bound to a carbon atom of a non-condensed six-membered aromatic ring of the carbon skeleton
- C07C237/40—Carboxylic acid amides, the carbon skeleton of the acid part being further substituted by amino groups having the carbon atom of at least one of the carboxamide groups bound to a carbon atom of a non-condensed six-membered aromatic ring of the carbon skeleton having the nitrogen atom of the carboxamide group bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C237/00—Carboxylic acid amides, the carbon skeleton of the acid part being further substituted by amino groups
- C07C237/28—Carboxylic acid amides, the carbon skeleton of the acid part being further substituted by amino groups having the carbon atom of at least one of the carboxamide groups bound to a carbon atom of a non-condensed six-membered aromatic ring of the carbon skeleton
- C07C237/42—Carboxylic acid amides, the carbon skeleton of the acid part being further substituted by amino groups having the carbon atom of at least one of the carboxamide groups bound to a carbon atom of a non-condensed six-membered aromatic ring of the carbon skeleton having nitrogen atoms of amino groups bound to the carbon skeleton of the acid part, further acylated
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D277/00—Heterocyclic compounds containing 1,3-thiazole or hydrogenated 1,3-thiazole rings
- C07D277/02—Heterocyclic compounds containing 1,3-thiazole or hydrogenated 1,3-thiazole rings not condensed with other rings
- C07D277/20—Heterocyclic compounds containing 1,3-thiazole or hydrogenated 1,3-thiazole rings not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D277/32—Heterocyclic compounds containing 1,3-thiazole or hydrogenated 1,3-thiazole rings not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
- C07D277/38—Nitrogen atoms
- C07D277/44—Acylated amino or imino radicals
- C07D277/46—Acylated amino or imino radicals by carboxylic acids, or sulfur or nitrogen analogues thereof
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D277/00—Heterocyclic compounds containing 1,3-thiazole or hydrogenated 1,3-thiazole rings
- C07D277/60—Heterocyclic compounds containing 1,3-thiazole or hydrogenated 1,3-thiazole rings condensed with carbocyclic rings or ring systems
- C07D277/62—Benzothiazoles
- C07D277/64—Benzothiazoles with only hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals attached in position 2
- C07D277/66—Benzothiazoles with only hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals attached in position 2 with aromatic rings or ring systems directly attached in position 2
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D313/00—Heterocyclic compounds containing rings of more than six members having one oxygen atom as the only ring hetero atom
- C07D313/02—Seven-membered rings
- C07D313/06—Seven-membered rings condensed with carbocyclic rings or ring systems
- C07D313/10—Seven-membered rings condensed with carbocyclic rings or ring systems condensed with two six-membered rings
- C07D313/12—[b,e]-condensed
Landscapes
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Veterinary Medicine (AREA)
- Animal Behavior & Ethology (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Public Health (AREA)
- Epidemiology (AREA)
- Birds (AREA)
- Dermatology (AREA)
- Cosmetics (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Pyrane Compounds (AREA)
- Acyclic And Carbocyclic Compounds In Medicinal Compositions (AREA)
Abstract
본 발명은 하기 일반식(1)의 아미노 치환 히드록시페닐 벤조페논 유도체에 관한 것이다:
상기 식에서,
R1 및 R2는 서로 독립적으로 C1-C20 알킬; C2-C20 알케닐; C3-C10 시클로알킬; C3-C10 시클로알케닐이거나; 또는 R1 및 R2는 연결 질소 원자와 함께 5- 또는 6-원 헤테로시클릭 고리를 형성하고;
n1은 1∼4의 수이고;
n1 이 1일 때,
R3은 포화 또는 불포화 헤테로시클릭 라디칼; 히드록시-C1-C5 알킬; 1 이상의 C1-C5 알킬로 임의로 치환된 시클로헥실; 헤테로시클릭 라디칼, 아미노카르보닐 또는 C1-C5 알킬카르복시로 임의로 치환된 페닐이고;
n1 이 2일 때,
R3은 카르보닐- 또는 카르복시기에 의해 임의로 치환되는 알킬렌, 시클로알킬렌 또는 알케닐렌 라디칼이거나; 또는 R3은 A와 함께 하기 일반식(1a)의 2가 라디칼을 형성하고:
상기 식에서,
n2은 1∼3의 수이고;
n1 이 3일 때,
R3은 알칸트리일 라디칼이고;
n1 이 4일 때,
R3은 알칸테트라일 라디칼이고;
A는 -O- 또는 -N(R5)-이고; 그리고
R5는 수소, C1-C5 알킬 또는 히드록시-C1-C5 알킬이다.
이들 화합물은 태양광 차단에 있어 UV 필터로서 유용하다.
히드록시벤조페닐, UV 필터
Description
본 발명은 아미노 치환 히드록시페닐 벤조페논 유도체, 이들 화합물의 제조방법, 바람직하기로는 이들 UV 흡수제의 인간 및 동물의 모발 보호용 및 UV 선 손상으로부터의 보호를 위한 용도, 및 이들 화합물을 포함하는 화장품 조성물에 관한 것이다.
신규 화합물은 하기 일반식(1)에 해당한다:
상기 식에서,
R1 및 R2는 서로 독립적으로 수소, C1-C20 알킬; C2-C20 알케닐; C3-C10 시클로알킬; C3-C10 시클로알케닐이거나; 또는 R1 및 R2는 연결 질소 원자와 함께 5- 또는 6-원 헤테로시클릭 고리를 형성하고;
n1은 1∼4의 수이고;
n1 이 1일 때,
R3은 포화 또는 불포화 헤테로시클릭 라디칼; 히드록시-C1-C5 알킬; 1 이상의 C1-C5 알킬로 임의로 치환된 시클로헥실; 헤테로시클릭 라디칼, 아미노카르보닐 또는 C1-C5 알킬카르복시로 임의로 치환된 페닐이고;
n1 이 2일 때,
R3은 사슬 중간에 카르보닐- 또는 카르복시기를 임의로 갖는 알킬렌, 시클로알킬렌, 알케닐렌, 또는 페닐렌 라디칼; 또는 일반식 
의 라디칼이고, 또는 R3은 A와 함께 하기 일반식(1a)의 2가 라디칼을 형성하고:
상기 식에서,
n2은 1∼3의 수이고;
n1 이 3일 때,
R3은 알칸트리일 라디칼이고;
n1 이 4일 때,
R3은 알칸테트라일 라디칼이고;
A는 -O- 또는 -N(R5)-이고; 그리고
R5는 수소, C1-C5 알킬 또는 히드록시-C1-C5 알킬이다.
C1-C20 알킬은 직쇄 또는 측쇄, 비치환 또는 치환된 알킬 기, 예컨대 메틸, 에틸, 프로필, 이소프로필, n-부틸, n-헥실, 시클로헥실, n-데실, n-도데실, n-옥타데실, 아이코실, 메톡시에틸, 에톡시프로필, 2-에틸헥실, 히드록시에틸, 클로로프로필, N,N-디에틸아미노프로필, 시아노에틸, 펜에틸, 벤질, p-삼차부틸펜에틸, p-삼차옥틸페녹시에틸, 3-(2,4-디-삼차 아밀페녹시)-프로필, 에톡시카르보닐메틸-2-(2-히드록시에톡시)에틸 또는 2-푸릴에틸이다.
C2-C20 알케닐의 예로는 알릴, 메탈릴, 이소프로페닐, 2-부테닐, 3-부테닐, 이소부테닐, n-펜타-2,4-디에닐, 3-메틸-부트-2-에닐, n-옥트-2-에닐, n-도데스-2-에닐, 이소-도데시닐, n-도데스-2-에닐 또는 n-옥타뎃-4-에닐이 있다.
C3-C10 시클로알킬의 예로는 시클로프로필, 시클로부틸, 시클로펜틸, 시클로헵틸, 시클로옥틸, 시클로노닐 또는 시클로도데실 및 바람직하게는 시클로헥실이 있다. 이들 라디칼은 이를테면 1 이상의 동일하거나 다른 C1-C4 알킬 라디칼, 바람직하게는 메틸 및/또는 히드록시로 치환될 수 있다. 시클로알킬 라디칼이 1 이상의 라디칼로 치환되는 경우, 시클로알킬 라디칼은 1, 2 또는 4, 바람직하게는 1 또는 2의 동일하거나 다른 라디칼로 치환되는 것이 바람직하다.
C3-C10 시클로알케닐의 예로는 시클로프로페닐, 시클로부테닐, 시클로펜테닐, 시클로헵테닐, 시클로옥테닐, 시클로노네닐 또는 시클로데세닐 및 바람직하게는 시클로헥세닐이 있다. 이들 라디칼은 이를테면 1 이상의 동일하거나 다른 C1-C4 알킬 라디칼, 바람직하게는 메틸 및/또는 히드록시로 치환될 수 있다. 시클로알케닐 라디칼이 1 이상의 라디칼로 치환되는 경우, 시클로알케닐 라디칼은 1, 2, 3 또는 4, 바람직하게는 1 또는 2의 동일하거나 다른 라디칼로 치환되는 것이 바람직하다.
히드록시 치환 C1-C5 알킬기의 예로는 히드록시메틸, 히드록시에틸, 히드록시프로필, 히드록시부틸 또는 히드록시펜틸이 있다.
알킬렌 라디칼은 바람직하게는 C1-C12 알킬렌 라디칼, 이를테면 메틸렌, 에틸렌, 프로필렌, 부틸렌, 헥실렌 또는 옥틸렌이다.
알킬렌 라디칼은 임의로는 1 이상의 C1-C5 알킬 라디칼로 치환될 수 있다.
R1 및 R2가 헤테로시클릭 라디칼인 경우, 이들은 1, 2, 3 또는 4의 동일 또는 상이한 고리 헤테로 원자를 포함한다. 특히 바람직한 것은 1, 2 또는 3, 특히 1 또는 2의 동일 또는 상이한 헤테로 원자를 함유하는 헤테로사이클이다. 헤테로사이클은 모노- 또는 폴리-시클릭, 이를테면 모노-, 비- 또는 트리-시클릭일 수 있다. 이들 헤테로사이클은 모노- 또는 비시클릭, 특히 모노시클릭이다. 고리는 바람직하게는 5, 6 또는 7개의 고리 구성 원소를 함유한다. 일반식(1) 또는 (2)의 화합물에서 존재하는 라디칼이 유도되는 모노시클릭 및 비시클릭 헤테로시클릭 시스템의 예로 는 피롤, 푸란, 티오펜, 이미다졸, 피라졸, 1,2,3-트리아졸, 1,2,4-트리아졸, 피리딘, 피리다진, 피리미딘, 피라진, 피란, 티오피란, 1,4-디옥산, 1,2-옥사진, 1,3-옥사진, 1,4-옥사진, 인돌, 벤조티오펜, 벤조푸란, 피롤리딘, 피페리딘, 피페라진, 모르폴린 및 티오모르폴린이 있다.
바람직한 일반식(1)의 화합물은 다음과 같이 정의되는 것이다:
R1 및 R2는 서로 독립적으로 수소; C1-C20 알킬; C2-C20 알케닐; C3-C10 시클로알킬; C3-C10 시클로알케닐이거나; 또는 R1 및 R2는 연결 질소 원자와 함께 5- 또는 6-원 헤테로시클릭 고리를 형성하고;
n1은 1∼4의 수이고;
n1 이 1일 때,
R3은 포화 또는 불포화 헤테로시클릭 라디칼; 히드록시-C1-C5 알킬; 1 이상의 C1-C5 알킬로 치환된 시클로헥실이고;
n1 이 2일 때,
R3은 사슬 중간에 카르보닐- 또는 카르복시기를 임의로 갖는 알킬렌-, 시클로알킬렌-, 알케닐렌 라디칼이고;
n1 이 3일 때,
R3은 알칸트리일 라디칼이고;
n1 이 4일 때,
R3은 알칸테트라일 라디칼이고;
A는 -O- 또는 -N(R5)-이고; 그리고
R5는 수소, C1-C5 알킬 또는 히드록시-C1-C5 알킬이다.
더욱 바람직한 일반식(1)의 화합물은 다음과 같이 정의되는 것이다:
R1 및 R2는 C1-C20 알킬; 바람직하기로는 C1-C5 알킬; 가장 바람직하기로는 에틸인 것이다.
일반식(1)에서 바람직한 것은 R1 및 R2가 동일한 것이다.
일반식(1)에서 n1 이 1인 경우, R3이 포화 또는 불포화 헤테로시클릭 라디칼; 특히 포화 헤테로시클릭 라디칼인 화합물이 바람직하다.
이들 화합물 중에서, 바람직한 것은 R3가 1 이상의 헤테로 원자를 갖는 5, 6 또는 7의 구성 원소의 모노 시클릭 라디칼이고, 더욱 바람직한 것은 R3가 모르폴리닐; 피페라진일; 피페리딜; 피라졸리디닐; 이마다졸리디닐; 또는 피롤리디닐이다.
n1 이 1일 때, 일반식(1)의 또 다른 관심있는 화합물은 R3이 불포화 헤테로시클릭 라디칼, 바람직하게는 폴리시클릭 라디칼인 것이다.
가장 바람직한 일반식(1)의 화합물은 R3이 일반식(1a) 
의 라디칼이 고, 그리고 R5가 1 또는 2의 헤테로 원자를 갖는 폴리시클릭 헤테로방향족 라디칼인 것이다.
더욱 바람직한 일반식(1)의 화합물은 R3이 일반식(1b) 
(여기서 R6는 수소 또는 C1-C5 알킬임)의 라디칼인 것이다.
n1 이 2일 때, R3은 바람직하게는 C1-C12 알킬렌 라디칼, 가장 바람직하게는 C2-C8 알킬렌 라디칼이다.
가장 바람직한 일반식(1)의 화합물은 다음과 같이 정의되는 것이다:
R3이 일반식 
;
r이 0 또는 1이며; 그리고
q가 0∼5이다.
일반식(1)에서 n1 이 3인 경우, R3은 일반식(1c) 
, (1d) 
또는 (1e) 
의 라디칼이고, 그리고 p가 0∼3이다.
R1, R2 및 A는 일반식(1)에서 정의한 바와 같다.
일반식(1)에서 n1 이 4인 경우, R3은 일반식 
또는 
의 라디칼이다.
R1, R2 및 A는 일반식(1)에서 정의한 바와 같다.
본 발명의 바람직한 화합물은 하기 일반식(2)에 해당된다:
상기 식에서,
R1 및 R2는 서로 독립적으로 수소; 또는 C1-C5 알킬이고;
A는 -NH 또는 -O-이고; 그리고
R3은 포화 또는 불포화 헤테로시클릭 라디칼이다.
본 발명의 또 다른 바람직한 화합물은 하기 일반식(3)에 해당된다:
상기 식에서,
R1 및 R2는 서로 독립적으로 수소; 또는 C1-C5 알킬이고;
A는 -NH 또는 -O-이고; 그리고
R3은 C1-C12 알킬렌이다.
본 발명의 또 다른 바람직한 화합물은 하기 일반식(4)에 해당된다:
상기 식에서,
R1 및 R2는 서로 독립적으로 수소; 또는 C1-C5 알킬이고;
A는 -NH 또는 -O-이고; 그리고
R3은 
또는 
이고; 그리고
p는 0∼3이다.
본 발명의 또 다른 바람직한 화합물은 하기 일반식(5)에 해당된다:
상기 식에서,
R3은 
또는 
의 라디칼이고; 그리고
R1 , R2 및 A는 일반식(1)에서 정의한 바와 같다.
본 발명의 예시적인 화합물은 하기와 같다:
일반식(1)의 화합물은 EP-1,046,391에 기재된 공지의 방법으로 제조될 수 있다.
바람직하게는, 일반식(1)의 화합물은 다음 단계(a) 및 (b)에 의해 제조될 수 있다:
(a) 하기 일반식(6a)의 화합물을 하기 일반식(6b)의 화합물로 탈수소화 반응시키고;
(b) 상기에서 얻어진 무수물을 화합물(4c1) H-N(R4)-R3 또는 H-O-R3와 반응시켜 하기 일반식(1)의 화합물을 얻게된다:
상기 식에서,
R1 및 R2는 서로 독립적으로 수소; C1-C20 알킬; C2-C20 알케닐; C3-C10 시클로알킬; C3-C10 시클로알케닐이거나; 또는 R1 및 R2는 연결 질소 원자와 함께 5- 또는 6-원 헤테로시클릭 고리를 형성하고;
n1은 1∼4의 수이고;
n1 이 1일 때,
R3은 수소; C1-C20 알킬; 히드록시-C1-C5 알킬; C2-C20 알케닐; 비치환되거나 1 이상의 C1-C5 알킬로 치환된 C3-C10-시클로헥실; (Y-O)pZ; C6-C10 아릴; 또는 포화 또는 불포화 헤테로시클릭 라디칼이고;
Y는 C1-C12 알킬렌이고;
Z는 C1-C5 알킬이고;
p는 1∼20이고;
n1 이 2일 때,
R3은 사슬 중간에 카르보닐- 또는 카르복시기를 임의로 갖는 알킬렌, 시클로알킬렌, 알케닐렌 라디칼이고;
n1 이 3일 때,
R3은 알칸트리일 라디칼이고;
n1 이 4일 때,
R3은 알칸테트라일 라디칼이고;
A는 -O- 또는 -N(R5)-이고;
R5는 수소, C1-C5 알킬 또는 히드록시-C1-C5 알킬이고; 그리고
R5는 수소, C1-C5 알킬 또는 히드록시-C1-C5 알킬이다.
제조 방법도 본 발명의 또 다른 목적이다.
하기 일반식(7)의 화합물은 본 발명의 방법에 따라 바람직하게 제조될 수 있다:
상기 식에서,
R1 및 R2는 서로 독립적으로 C1-C12 알킬이고; 그리고
R5는 수소; C1-C12 알킬; 또는 C3-C6 시클로알킬이다.
반응은 통상 25∼200℃, 바람직하기로는 실온에서 실시된다. 일반적으로, 용매는 이 반응 단계에서 불필요하다. 그러나, 용매가 사용되는 경우, 실시예에서 사용되는 용매가 바람직하다.
일반식(1)의 화합물은 x-HCl-염으로서 쉽게 재결정화될 수 있다.
하기 일반식(6b')의 중간체는 공지되지 않은 화합물이다:
상기 식에서,
R1' 및 R2"는 서로 독립적으로 수소; C1-C20 알킬; C2-C20 알케닐; C3-C10 시클로알킬; C3-C10 시클로알케닐이거나; 또는 R1 및 R2는 연결 질소 원자와 함께 5- 또는 6-원 헤테로시클릭 고리를 형성한다.
이들은 유기 UV 필터의 제조를 위한 출발 화합물이다.
일반식(6b')의 화합물은 본 발명의 또 다른 목적이다.
일반식(1)의 화합물은 UV 필터로서, 즉 자외선에 민감한 유기 물질, 특히 UV 선의 작용에 대해 인간 및 동물 피부 및 모발을 보호하는 용도로 특히 적합하다. 따라서, 이러한 화합물들은 화장품, 의약 및 동물 의약 제조 시 광 보호제로서 적합하다.
그러므로, 본 발명의 또 다른 목적은 화장품에서 허용되는 담체나 보조제와 함께 일반식(1)의 화합물 1 이상을 포함하는 화장품 제제를 제공하는 데 있다.
본 발명에 따른 UV 흡수제는 용해 상태(용해성 유기 필터, 용해된 유기 필터) 또는 미세화된 상태(나노크기의 유기 필터, 미립자 유기 필터, UV-흡수제 안료)로 사용될 수 있다.
미립자 제조에 적합한 공지 방법, 예컨대 아래의 방법이 미세화된 UV 흡수제의 제조에 이용될 수 있다:
- 볼밀 내 지르코늄 실리케이트 볼과 같은 경질 연마 매질, 및 물 또는 적합한 유기 용매 중의 보호성 계면활성제 또는 보호성 중합체를 사용한 습윤 분쇄 (펌핑가능한 분산액용 저 점도 미세화 공정);
- 연속 또는 비연속 (회분식) 혼련기를 이용한 습윤 혼련 (펌핑 불가능한 페이스트용 고점도 미세화 공정). 습윤 혼련 공정의 경우, 용매 (물 또는 화장품에 허용가능한 오일), 연마보조제(계면활성제, 유화제) 및 중합성 연마보조제가 사용될 수 있다.
양쪽 공정이 바람직하게 이용될 수 있다.
- 수성 현탁액 또는 유기 용매를 함유하는 현탁액과 같은 적합한 용매, 또는 물, 에탄올, 디클로로에탄, 톨루엔 또는 N-메틸피롤리돈중의 참 용액으로 부터 분무-건조;
- UV 필터 또는 필터들이 용해된 초임계액(예컨대 CO2)의 RESS 공정(Rapid Expansion of Supercritical Solutions)에 따른 팽창, 또는 1 또는 그 이상의 UV 필터가 적합한 유기 용매에 용해된 용액과 함께 액체 이산화탄소의 팽창에 의해;
- 초임계액을 포함한 적합한 용매로 부터 재석출에 의해 (GASR 공정 = Gas Anti-Solvent Recrystallisation/PCA 공정 = Precipitation with Compressed Anti-solvents).
미세화된 유기 UV 흡수제를 제조하기 위한 분쇄 장치로서는 예컨대 제트 분쇄기, 볼 분쇄기, 진동 분쇄기 또는 해머 분쇄기, 바람직하게는 고속 혼합 분쇄기일 수 있다. 더욱 더 바람직한 분쇄기는 모던 볼 분쇄기이며, 이들 유형의 분쇄기의 제작사는 예컨대 Netzsch (LMZ mill), Drais (DCP-Viscoflow 또는 Cosmo), Buehler AG (원심분리형 분쇄기) 또는 Bachhofer 이다. 연마는 연마보조제를 사용하여 바람직하게 실시된다.
미세화된 유기 UV 흡수제의 제조를 위한 혼련 장치의 예는 전형적인 시그마-블레이드 회분식 혼련기 뿐만 아니라 직렬 배치 혼련기(IKA-Werke) 또는 연속적 혼련기 (Continua, Werner und Pfleiderer 사 제조)이다.
상술한 모든 미세화 공정에 유용한 저분자량 연마보조제는 하기 "유화제", "계면활성제" 및 "지방 알코올" 부분에 수록된 분산제, 계면활성제 및 유화제이다.
수성 분산액용으로 유용한 중합성 연마보조제는 Mn > 500 g/몰의 화장품에 허용되는 수용성 중합체, 예컨대 아크릴레이트(살케어 유형), 변형된 또는 비변형 다당류, 폴리글루코시드 또는 크산탄 검이다. 또한 알킬화 비닐 피롤리돈 중합체, 비닐피롤리돈/비닐 아세테이트 공중합체, 아실 글루타메이트, 알킬 폴리글루코시드, 세테아레트-25 또는 인지질이 사용될 수 있다. 오일 분산액은 화장품에 허용되는 왁스 중합체 또는 천연 왁스를 가공하는 동안 및 가공한 후 점도를 조절하기 위해 중합성 연마보조제로서 포함할 수 있다. 다른 유용한 중합성 연마보조제의 예는 이하의 "중합체" 부분에 기재되어 있다.
유용한 용매는 물, 염수, (폴리-)에틸렌 글리콜, 글리세롤 또는 화장품에 허용되는 오일이다. 다른 유용한 용매는 이하의 "지방산의 에스테르", "글리세릴 에스테르 및 유도체를 비롯한 천연 및 합성 트리글리세리드", "진주빛 왁스", "탄화수소 오일" 및 "실리콘 및 실록산" 부분에 기재되어 있다.
이렇게 하여 얻어진 미세화된 UV 흡수제의 평균 입도는 0.02∼2 ㎛, 바람직하게는 0.03∼1.5 ㎛, 보다 특히 0.05∼1.0 ㎛이다.
본 발명의 또 다른 목적은 (a)0.02∼2 ㎛의 입경을 갖는 하기 일반식(1')의 미분화된 UV 흡수제와 (b)적절한 분산제를 포함하는 UV 흡수 분산액을 제공하는 데 있다:
상기 식에서,
R1 및 R2는 서로 독립적으로 수소; C1-C20 알킬; C2-C20 알케닐; C3-C10 시클로알킬; C3-C10 시클로알케닐이거나; 또는 R1 및 R2는 연결 질소 원자와 함께 5- 또는 6-원 헤테로시클릭 고리를 형성하고;
n1 이 1일 때,
R3은 수소; C1-C20 알킬; 히드록시-C1-C5 알킬; C2-C20 알케닐; 비치환되거나 1 이상의 C1-C5 알킬로 치환된 C3-C10-시클로헥실; (Y-O)pZ; C6-C10 아릴; 또는 포화 또는 불포화 헤테로시클릭 라디칼이고;
Y는 C1-C12 알킬렌이고;
Z는 C1-C5 알킬이고;
p는 1∼20이고;
n1 이 2일 때,
R3은 사슬 중간에 카르보닐- 또는 카르복시기를 임의로 갖는 알킬렌-, 시클로알킬렌, 알케닐렌 라디칼이고;
n1 이 3일 때,
R3은 알칸트리일 라디칼이고;
n1 이 4일 때,
R3은 알칸테트라일 라디칼이고;
A는 -O- 또는 -N(R5)-이고; 그리고
R5는 수소, C1-C5 알킬 또는 히드록시-C1-C5 알킬이다.
본 발명에 따른 UV 흡수제는 건조 분말 형태로 사용될 수 있다. 이를 위하여, UV 흡수제는 진공 분무(atomisation), 반대 전류 분무-건조 등과 같은 공지된 연마 방법으로 처리시킨다. 이러한 분말의 입도는 0.1 ㎛∼2 ㎛이다. 응집 발생을 피하기 위하여, UV 흡수제는 분말 공정 이전에 표면활성 화합물에 의해, 예컨대 음이온, 비이온 또는 양쪽성 계면활성제, 인지질 또는 예컨대 PVP, 아크릴레이트 등의 공지 중합체에 의해 코팅될 수 있다.
본 발명에 따른 UV 흡수제는 화장품용 특정 담체, 예컨대 고형분 지질 나노입자(SLN) 또는 UV 흡수제가 캡슐화된 불활성 졸-겔 마이크로캡슐에 사용될 수 있다.
본 발명에 따른 화장품 제제 또는 약제학적 조성물은 1 이상의 추가의 UV 필터를 포함할 수 있다.
화장품 또는 약제학적 제제는 UV 흡수제(들)을 통상의 방법에 의해, 예컨대 개별 성분을 간단히 교반함으로써, 특히 이미 공지된 화장품 UV 흡수제, 예컨대 옥틸 메톡시신남메이트, 살리실산 이소옥틸 에스테르 등의 용해 특성을 이용함으로써 보조제와 함께 물리적으로 혼합시켜 제조할 수 있다. UV 흡수제는 예컨대 추가의 처리없이 또는 미세화된 상태로 또는 분말 형태로 사용될 수 있다.
화장품 또는 약제학적 제제는 조성물의 전체 중량을 기준하여 0.5%∼40중량%의 1개 UV 흡수제 또는 UV 흡수제 혼합물을 함유한다.
본 발명에 따른 일반식(1)의 UV 흡수제 및 임의의 다른 광보호제의 혼합비(중량기준) 1:99 내지 99:1, 특히 1:95 내지 95:1, 바람직하게는 10:90 내지 90:10를 이용하는 것이 바람직하다. 특히 중요한 혼합비는 20:80 내지 80;20, 특히 40: 60 내지 60:40, 바람직하게는 약 50:50 이다. 이러한 혼합물은 용해도를 향상시키거나 UV 흡수를 증가시키기 위해 사용될 수 있다.
본 발명에 따른 일반식(1)의 UV 흡수제 또는 UV 필터의 조합물은 피부, 모발 및/또는 천연 또는 인공 모발 칼러를 보호하는데 유용하다.
본 발명에 따른 UV 흡수제와 함께 부가적으로 사용될 수 있는 적합한 UV 필터 물질은 임의의 UV-A 및 UV-B 필터 물질이다.
화장품 또는 약제학적 제제는 예컨대 크림, 겔, 로션, 알코올성 및 수성/알코올성 용액, 유제, 왁스/지방 조성물, 스틱 제제, 분말 또는 연고일 수 있다. 상술한 UV 필터 이외에, 화장품 또는 약제학적 제제는 이하에 기재한 바와 같이 추가의 보조제를 함유할 수 있다.
모든 수성- 및 오일-함유 유제(예컨대 W/O, O/W, O/W, O/W/O 및 W/O/W 유제 또는 마이크로유제)로서, 상기 제제는 예컨대 조성물의 전체 중량을 기준하여 0.1∼30중량%, 바람직하게는 0.1∼15중량%, 특히 0.5∼10중량%의 1 이상의 UV 흡수제, 조성물의 전체 중량을 기준하여 1∼60 중량%, 특히 5∼50중량%, 바람직하게는 10∼ 35중량%의 1 이상의 오일 성분, 조성물의 전체 중량을 기준하여 0∼30중량%, 특히 1∼30중량%, 바람직하게는 4∼20 중량%의 1 이상의 유화제, 조성물의 전체 중량을 기준하여 10∼90 중량%, 특히 30∼90 중량%의 물, 및 조성물의 전체 중량을 기준하여 0∼88.9 중량%, 특히 1∼50 중량%의 추가의 화장품에 허용되는 보조제를 함유한다.
본 발명에 따른 화장품 또는 의약 조성물/제제는 1 이상의 하기 추가 성분, 이를테면 지방 알코올, 글리세릴 에스테르 및 유도체 진주빛 왁스를 포함한 지방산 에스테르, 천연 또는 합성 트리글리세라이드, 탄화수소 오일, 실리콘 또는 실옥산(유기-치환 폴리실옥산), 불화 또는 과불화 오일, 유화제, 보조제 및 첨가제, 슈퍼패팅제, 계면활성제, 견뢰도 조절제/증점제 및 레올로지 조절제, 중합체, 비듬제거제, 필름 형성제, 산화방지제, 향수제, 보존제 및 박테리아-억제제, 향료 오일, 착색제, 또는 SPF 촉진제로서 중합체 비즈 또는 중공 구를 포함할 수 있다.
화장품 또는 의약 제제
화장품 또는 의약 배합물은 여러 화장품 제제에 함유된다. 예를 들면 특히 다음 제제를 고려하게 된다:
-정제 또는 액체 비누, 무비누 세제 또는 세정 페이스트 형태의 피부-세척 및 세정 제제와 같은 스킨-케어 제제;
-액체(포옴 배스, 밀크, 샤우어 제제)와 같은 배스 제제 또는 배스 큐브 및 배스 염과 같은 고체 배스 제제;
-스킨 에멀젼, 멀티 에멀젼 또는 스킨 오일과 같은 스킨-케어 제제;
-데이 크림 또는 파우더 크림, 페이스 파우더(루스 또는 압축), 루즈 또는 크림 메이크업 형태의 얼굴 메이크업과 같은 개인 화장품 케어 제제, 아이섀도우 제제, 마스카라, 아이라이너, 아이 크림 또는 아이-픽스 크림과 같은 아이-케어 제제; 입술 윤곽 연필, 입술 광택, 립스틱과 같은 입술-케어 제제; 손톱 바니쉬, 손톱 바니쉬 제거제, 손톱 경화제 또는 각질 제거제와 같은 손톱-케어 제제;
-푸트 배스, 푸트 파우더, 푸트 크림 또는 푸트 발삼, 특수 탈취제 및 제한제 또는 못-제거 제제와 같은 발-케어 제제;
-썬 밀크, 로숀, 크림 또는 오일, 썬블록 또는 트로피컬, 프리-탠닝 제제 또는 애프터-썬 크림과 같은 광보호 제제;
-자체-탠닝 크림과 같은 스킨 탠닝 제제;
-피부 표백 또는 피부 백화 제제와 같은 안료 제거 제제;
-곤충 퇴치 오일, 로숀, 스프레이 또는 스틱과 같은 곤충 퇴치제;
-탈취제 스프레이, 펌프-액션 스프레이, 탈취제 겔, 스틱 또는 롤-온과 같은 탈취제;
-발한 억제 스틱, 크림 또는 롤-온과 같은 발한 억제제;
-합성 세제(고체 또는 액체), 박리 또는 스크럽 제제 또는 박리 마스크와 같은 흠있는 피부를 보호하고 세정하기 위한 제제;
-화학 형태(탈모)의 헤어-제거 제제, 이를테면 헤어-제거 분말, 액체 헤어-제거 제제, 크림-또는 페이스트-포옴 헤어 제거 제제, 겔 형태나 에어로졸 포옴 형태의 헤어 제거 제제;
-면도 비누, 발포 면도 크림, 비발포 면도크림, 포옴 및 겔과 같은 면도 제제, 드라이 면도, 애프터셰이브, 또는 애프터 셰이브 로숀과 같은 면도 제제;
-방향제(Cologne, 화장실용 방향제, 향료, 화장실 향료 및 향료), 향료 오일 또는 향로 크림과 같은 향료 제제;
-샴푸 및 컨디셔너 형태의 헤어세척 제제와 같은 화장품 헤어-처리 제제, 전처리 제제, 헤어 토닉, 스타일링 크림, 스타일링 겔, 포마드, 헤어 린스, 처리 팩, 고강도 헤어 처리와 같은 헤어-케어 제제, 파마 웨이브(핫 웨이브, 마일드 웨이브, 콜드 웨이브)용 헤에 웨이빙 제제와 같은 헤어 구조 제제, 헤어 스트레이트 제제, 액체 헤어-세팅 제제, 헤어 포옴, 헤어 스프레이, 과산화 수소 용액, 표백 샴푸, 표백 크림, 표백 분말, 표백 페이스트 또는 오일, 일시, 반 영구 또는 영구 헤어 착색제와 같은 표백 제제, 헨나(henna) 또는 카모밀(camomile)과 같은 자체-산화 염료 또는 천연 헤어 착색제를 함유하는 제제.
프리젠테이션 형태
열거한 최종 배합물은 이를 테면 하기와 같은 여러 가지 프레젠테이션 형태로 존재할 수 있다:
-W/O, O/W, O/W/O, W/O/W 또는 PIT 에멀젼 및 모든 종류의 마이크로 에멀젼과 같은 액체 제제 형태,
-겔 형태,
-오일, 크림, 밀크 또는 로션 형태,
-파우더, 라커, 정제 또는 메이크업 형태,
-스틱 형태,
-스프레이(추진 가스 또는 펌프 작용 스프레이와 함께) 또는 에어졸 형태,
-포옴 형태, 또는
-페이스트 형태.
피부용 화장품 제제로서 특히 중요한 것은, 썬밀크, 로숀, 크림, 오일, 썬블록 또는 트로피컬과 같은 광 보호 제제, 프리탠닝 제제 또는 애프터썬 제제, 피부-탠닝 제제, 이를테면 자체-탠닝 크림이다. 특히 관심있는 것은, 스프레이 형태의 태양 보호 크림, 태양 보호 로숀, 태양 보호 밀크 및 태양 보호 제제이다.
모발용 화장품 제제로서 특히 중요한 것은 샴푸 형태의 헤어처리, 특히 헤어 세척 제제, 헤어 컨디셔너, 헤어-케어 제제, 이를 테면 전처리 제제, 헤어토닉, 스타일링 크림, 스타일링 겔, 포마드, 헤어 린스, 처리 팩, 고강도 헤어 처리, 헤어-스트레이트 제제, 액체 헤어-세팅 제제, 헤어 포옴 및 헤어스프레이이다. 특히 관심있는 것은 샴푸 형태의 헤어-세척 제제이다.
샴푸는 이를테면 다음 조성을 갖는다: 본 발명에 따른 UV 흡수제 0.01∼5 중량%, 나트륨 라우레트-2-설페이트 12.0중량%, 코카미도프로필 베타인 4.0 중량%, 염화 나트륨 3.0 중량% 및 나머지를 100%로 보충하는 물.
예를 들면, 특히 다음 헤어-화장품 배합물이 이용될 수 있다:
a1) 본 발명에 따른 UV-흡수제, PEG-6-C10 옥소알코올 및 소르비탄 세스퀴올레이트로 이루어진 자발적 유화 스톡 배합물, 여기에 물 및 어떠한 소망의 4급 암 모늄 화합물, 이를테면 4% 밍크아미도프로필 디메틸-2-히드록시에틸암모늄 클로라이드 또는 Quaternium 80이 첨가된다.
a2) 본 발명에 따른 UV-흡수제, 트리부틸 시트레이트 및 PEG-20-소르비탄 모노올레에이트로 이루어진 자발적 유화 스톡 배합물, 여기에 물 및 어떠한 소망의 4급 암모늄 화합물, 이를테면 4% 밍크아미도프로필 디메틸-2-히드록시에틸암모늄 클로라이드 또는 Quaternium 80이 첨가된다.
b) 부틸 트리글리콜 및 트리부틸 시트레이트 중의 본 발명에 따른 UV 흡수제의 쿼트(quat)-도포 용액;
c) n-알킬피롤리돈과 함께 본 발명에 따른 UV 흡수제의 용액 또는 혼합물.
이러한 배합물에서 기타 공지의 성분들은 방부제, 살균제 및 세균발육 저지제, 향료, 염료, 안료, 증점제, 습윤제, 가습제, 지방, 오일, 왁스 또는 화장품 및 개인 케어 배합물의 기타 공지 성분, 이를테면 알코올, 폴리알코올, 폴리머, 전해질, 유기 용매, 실리콘 유도체, 완화제, 유화제 또는 유화 계면활성제, 분산제, 산화방지제, 자극방지베 및 항염증제 등이 있다.
신규 화합물의 제조
실시예 1: 3-디에틸아미노-디벤조-옥세핀(DEDO)의 제조
하기 일반식(101a)의 화합물 62.7g을 반응 용기 중의 아세트산 에틸 에스테르 400g에 교반 하에 실온에서 현탁시킨다:
아세트산 에틸 에스테르 200g에 용해된 디시클로헥실카르보디이미드 44.4g의 용액을 상기 현탁액에 혼합한다. 온도를 약 30℃까지 상승시킨다. 현탁액을 약 10 시간 동안 실온에서 강하게 교반한 다음 여과한다. 증발 후, 아세트산 에틸 에스테르(60g)/시클로헥산(220g)의 혼합물로부터 결정화함으로써 황색 결정으로서 하기 일반식(101)의 순수 생성물을 얻는다:
수율: 42g;
Fp: 83.5℃
분석: C,H,N 함량은 이론치에 해당하고; H-NMR; C-NMR; MS에 의해 옥세핀 구조로 밝혀졌다.
이와 유사한 방법으로, 디시클로헥실 카르보디이미드 대신에 아세트산 무수물로 BB-산을 탈수시켜 화합물을 얻을 수 있다.
실시예 2: 하기 일반식(102)의 화합물의 제조
2-(4-아미노페닐)-6-메틸-벤조티아졸 7.2g을 실온에서 디에틸렌글리콜-디메틸에테르 60 ml에 현탁시킨다. 디에틸렌글리콜-디메틸에테르 20 ml에 용해된 일반식(101)의 화합물 10.6g의 용액을 교반 하에 첨가하고, 그 반응 물질을 90℃까지 가열한다. 4시간 동안 반응시킨 후, 반응 물질을 실온까지 냉각시킨 후 조 생성물을 여과 분리한다. 조 생성물을 에탄올로 추출하여 순수 화합물을 얻는다.
수율: 7.3 g, 베이지색 분말
Fp: 225 ℃
C=71.6%; H=5.2%; N=7.8%; S=5.96%
모든 값은 이론치에 해당한다.
디옥산 중에서의 UV 스펙트럼
1. 336 nm에서 최대; e= 57318
2. 360 nm에서 최대; e= 49032
실시예 3: 활성 성분 38 %를 함유하는 분산액의 제조
19.3g의 분말 진주 ER 120 S, 0.3-0.4 mm를 갖는 Dispermat LC에서 일반식(102)의 화합물 3.4g, Arlacel P 135 0.3g 및 Crodamol AB 5.3g을 4.5 시간 동안 분쇄한다. 매우 미세하게 분쇄되고 SPF 16.4를 갖는 분산액을 얻는다. 이 분산액은 매우 양호한 범위의 UV-범위(320∼380 nm)를 커버한다.
실시예 4: 하기 일반식(103)의 화합물의 제조
일반식(101)의 화합물 6g을 디옥산 40 ml에 용해한다. 4-아미노벤즈아미드 2.5g을 교반과 동시에 상기 용액에 첨가한다. 85℃에서 2 시간 동안 반응시킨 후, 진공하에서 디옥산을 제거한 다음, 잔류물을 2-메톡시에탄올로부터 재결정화하여 순수 생성물을 얻은다.
수율: 7.3 g, 백색 결정
Fp: 254 ℃
원소 분석: C, H, N 함량은 이론치에 해당한다.
디옥산 중에서의 UV 스펙트럼
358 nm에서 최대; e= 34848
실시예 5: 하기 일반식(104)의 화합물의 제조
1,6-헥단디올 2.36g, 톨루엔 6g 및 일반식(101)의 화합물 11.8g을 110℃에서 5시간 동안 교반한다. 그 다음, 톨루엔을 증류 제거하고 증류된 잔류물을 아세톤으로 재결정화시킨다.
수율: 7.2 g, 백색 결정
Fp: 148 ℃
실시예 6: 하기 일반식(105)의 화합물의 제조
일반식(101)의 화합물 9.2g, 메탄올의 라세미체 혼합물 14.4g, 디에틸렌글리콜-디메틸에테르 18ml, 1,8-디아자비시클로(5.4.0)-운데스-7-엔(1,5,5) 0.1g을 100℃에서 2 시간 동안 교반한다. 그 다음, 용매를 진공에서 제거하고, 그 잔류물을 컬럼크로마토그라프법(Kieselgel 60/톨루엔-아세트산 에스테르 8:2)으로 분리한다.
수율: 12.8 g의 광택성 비결정질 물질
분석: C/H/N = 74.5%/8.4%/3.04% (이론치에 해당)
디옥산 중에서의 UV 스펙트럼
351 nm에서 최대; e= 38565
실시예 7: 하기 일반식(106)의 화합물의 제조
일반식(101)의 화합물 6g을 실온에서 디옥산 30 ml에 용해한다. 디옥산 20 ml에 용해된 1,6-디아미노헥산 1.16g을 교반 하에 상기 용액에 첨가한다. 실온에서 반응 물질을 12시간 동안 계속 교반한 다음, 디옥산을 진공에서 제거하고 물로 추출한 후 메탄올로 조 생성물을 재결정화한다.
수율: 4.2 g의 황색 결정
Fp: 160 ℃
원소 분석: 이론치에 해당.
실시예 8: 하기 일반식(107)의 화합물의 제조
일반식(101)의 화합물 9g과 아닐린 8.4g을 디에틸렌글리콜-디메틸에테르 18 ml에 용해한다. 70℃까지 가온한 다음, 이 온도에서 3 시간 동안 교반한다. 반응 물질을 진공에서 증발시킨 후, 메탄올로 재결정화한여 순수 생성물을 얻는다.
수율: 6.2 g, 황색 결정
Fp: 152 ℃
디옥산 중에서의 UV 스펙트럼
359 nm에서 최대; e= 34724
실시예 9: 하기 일반식(108)의 화합물의 제조
일반식(101)의 화합물 7.4g을 디옥산 25 ml에 용해한다. 디옥산 10 ml에 용해된 모르폴린 3.3g을 상기 용액에 넣고 교반한다. 반응 물질을 실온에서 약 20 시간 교반한 다음, 반응 혼합물을 진공 증발시키고, 아세트산 에틸 에스테르로 순수 생성물을 재결정화시킨다.
수율: 7.5 g, 황색 결정
Fp: 155 ℃
디옥산 중에서의 UV 스펙트럼
360 nm에서 최대; e= 37900
실시예 10: 하기 일반식(109)의 화합물의 제조
일반식(101)의 화합물 9g, 디에틸렌글리콜-디메틸에테르 30 ml에 용해된 디에탄올아민 9.5g을 85℃에서 3 시간 동안 교반한다. 반응 물질을 진공(0.03 mB/70℃)에서 건조시킨다. 잔류물을 70℃에서 약 250 ml로 추출한다. 순수 화합물을 냉각시킨 후 수성 상으로부터 재결정화시킨다.
수율: 2.1 g, 황색 결정
Fp: 141 ℃
디옥산 중에서의 UV 스펙트럼
359 nm에서 최대; e= 35080
실시예 11: 하기 일반식(110)의 화합물의 제조
4-디에틸아미노-2-히드록시-벤조페논-카본산(BB-산) 125.2g, 아세트산 에틸 에스테르 700 ml, 탄산칼륨 38.8g 및 아세트산 무수물 53.1g을 실온에서 16시간 동안 강하게 교반한다. 반응 혼합물을 여과한 후, 그 여액을 157g이 될 때까지 증발시킨다. 무수물 형태의 BB-산(DEDO)을 하기 일반식(101)의 증발 잔류물로부터 재결정화시킨다:
수율: 99 g, 황색 결정
Fp: 82 ℃
결정질을 디에틸렌글리콜-디메틸에테르 18g에 용해시키고, 2-부텐-1,4-디올 14.6g을 첨가한 다음, 4-디메틸아미노-피리딘 1.1g을 110℃에서 교반 하에 디-에스테르(일반식(110)의 화합물)에 첨가한다. 이론치의 수율이 얻어진다. 컬럼 크로마토그라피법(Kieselgel 60/용리액: 톨루엔 아세트산 에틸 에스테르/8:2)에 의해 순수 화합물을 얻는다. 파편 형태의 순수 생성물은 무정형 황색 분말이다. 이는 이를테면 10% 이상의 Finsolve TN(C 12-15 알킬벤조에이트)의 양호한 용해도를 갖는다.
디옥산 중의 UV-스펙트럼: 351 nm에서 최대, mol Ext. 65551
실시예 12: 하기 일반식(111)의 화합물의 제조
실시예 11과 유사한 방법으로, 2-부텐-1,4-디올 대신에 2,2-디메틸-1,3-프로판디올 17.3g을 무수물 형태의 BB-산과 반응시킨다. 조 생성물을 상기 방법에 따라 처리할 수 있다. 얻어진 화합물은 무정형의 황색 분말이다.
Finsolve TN 용해도 ＞ 30%
에탄올중 UV 스펙트럼: 354 nm에서 최대, mol Ext. 65296
실시예 13∼23: 추가 히드록시페닐 벤조페논 유도체의 제조
실시예 11에 기재된 방법에 따라 다음 화합물들이 제조될 수 있다.
| 실시예 | 일반식 번호 | 구조식 |
| 13 | 112 |
 |
| 14 | 113 |
 |
| 15 | 114 |
 |
| 16 | 115 |
 |
| 17 | 116 |
 |
| 18 | 117 |
 |
| 19 | 118 |
 |
| 20 | 119 |
 |
| 21 | 120 |
 |
| 22 | 121 |
 |
| 23 | 122 |
 |
적용 실시예
실시예 24: 태양광 차단제의 제조
| Sinnowax AO Cerasynt SD-V 세틸 알코올 Dow Corning 200 Fluid Witconol TN 일반식(110)의 화합물 옥틸 트리아존 부틸 메톡시디벤조일메탄 글리세린 EDTA |
7g 2g 1.5g 1g 15g 2g 2g 1.5g 10g 0.2g |
| 보존제/탈이온수 | Exp. 100g |
실시예 25: 태양광 차단 배합물의 제조
| SINNOWAX AO Cerasynt SD-V 세틸알코올 Dow Corning 200 Fluid Witconol Witconol TN 옥틸 트리아존 부틸 메톡시디벤조일메탄 Parsol 1789 (Hoffman-La Roche) 글리세린 일반식 (111)의 화합물 |
7g 2g 1.5g 1g 15g 2g 2g 1.5g 10g 2g |
| 보존제/탈이온수 | Exp. 100g |
실시예 26: 태양광 차단 배합물의 제조
| Arlacel 165 FL 스테아릴 알코올 Stearine TP Dow Corning 200 Fluid Witconol TN 트리에탄올아민 일반식 (111)의 화합물 옥틸 트리아존 부틸 메톡시디벤조일메탄 글리세린 Amphisol K Synhalen K Methocel F4M EDTA 트리에탄올아민 보존제/탈이온수 |
2g 1g 2.5g 0.5g 15g 0.5g 1.5g 2g 1g 5g 1g 0.3g 0.1g 0.2g auf pH = 7 exp. 100g |
실시예 27: O/W 에멀젼
(A):
일반식(110) 또는 (111)의 화합물 3g
참기름 10g
글리세릴 스테아르산염 4g
스테아르산 1g
세틸 알코올 0.5g
폴리소르베이트 20 0.2g
(B):
프로필렌 글리콜 4g
폴리파라벤 0.05g
메틸파라벤 0.15g
트리에탄올아민 0.1g
카보머(Carbomer) 934 0.1g
물 ad 100ml
에멀젼의 제조
상(A):
먼저, UV 흡수제를 참기름에 용해시킨다. 다른 성분(A)를 가하여 혼합한다.
상(B):
프로필파라벤 및 메틸파라벤을 프로필렌 글리콜에 용해시킨다. 60ml의 물을 가하고 70℃로 가열한 후, 그 안에서 카보머 934가 에멀젼화된다.
에멀젼:
격렬한 기계적 에너지를 적용하면서,(A)를 (B)에 서서히 가한다. 부피는 물을 가하여 100ml로 맞춘다.
실시예 28: 일용 케어 크림, 타입 O/W
INCI명
% w/w(사용량)
부분A 글리세릴 스테아레이트 (및) 세테아릴 알코올 (및)
세틸 팔마트산염 (및) 코코글리세라이드 4.0
세테아레트-12 4.0
세테아릴 알코올 2.0
디카프릴일 에테르 4.5
에틸헥실 스테아레이트 4.0
헥실 라우레이트 3.5
에틸헥실트리아존 1.0
벤질리덴 말로네이트 폴리실록산 2.0
HDI/트리메틸올 헥실-락톤 교차중합제 (및) 실리카 5.0
스테아릴 디메티콘 1.0
디메티콘 2.0
세틸 알코올 0.8
일반식(110) 또는 (111)의 화합물 2.0
부분B 물 q.s. ∼ 100
물 (및) 슬레로글루칸 (및) 페녹시에탄올 2.0
글리세롤 2.0
부분C 스테아레트-10 알릴 에테르/아크릴레이트 공중합체 0.45
페녹시에탄올 (및) 메틸파라벤 (및) 에틸파라벤 (및) 0.7
부틸파라벤 (및) 프로필파라벤 (및) 이소부틸파라벤
부분D 아쿠아 (및) 토코페릴 아세테이트 (및) 카프릴릭/카프릭 4.0
트리글리세리드 (및) 폴리소르베이트 80 (및) 레시틴
부분E 물 (및) 수산화나트륨 q.s.
프래그런스 q.s.
제조과정
부분A 및 부분B을 각각 80℃까지 가열한다. 계속하여 교반하면서, 부분A를 부분B에 붓는다. 혼합물을 20초간 울트라 터락스(Ultra Turrax)로 11,000rpm에서 균질화시킨다. 혼합물을 60℃로 냉각시키고, 부분C를 가한다. 30℃이하의 온도에서 부분D를 가하고 pH값을 수산화나트륨으로 조정하여 6.5∼7.0이 되게 한다. 최종적으로, 프래그런스를 가한다.
실시예 29: 태양광 차단 크림, 타입 O/W
INCI명
% w/w(사용량)
부분A 폴리글리세릴-3 메틸글루코스 디스테아레이트 2.0
데실 올레이트 5.7
이소프로필 팔미테이트 5.8
카프릴릭/카프릭 트리글리세리드 6.5
일반식(110) 또는 (111)의 화합물 2.0
에틸헥실 메톡시신남메이트 5.0
세틸 알코올 0.7
부분B 글리세롤 3.0
카보머 0.3
물 q.s. ∼ 100
부분C 페녹시에탄올 (및) 메틸파라벤 (및) 에틸파라벤 (및) 0.5
부틸파라벤 (및) 프로필파라벤 (및) 이소부틸파라벤
부분D 2,2'-메틸렌 비스-(6-(2H-벤조트리아졸-2-일)-4- 8.0
(1,1,3,3-테트라메틸부틸)-페놀(Tinosorb M) (및)
아쿠아 (및) 데실 글루코시드 (및) 프로필렌 글리콜
(및) 크산탄 검
물 20.0
부분E 물 (및) 수산화나트륨 q.s.
프래그런스 q.s.
제조과정
부분A 및 부분B을 각각 75℃까지 가열한다. 계속하여 교반하면서, 부분A를 부분B에 붓는다. 혼합물을 15초간 울트라 터락스(Ultra Turrax)에 의해 11,000rpm에서 균질화시킨다. 혼합물을 60℃로 냉각시키고, 부분C 및 부분D를 혼합한다. 혼합물을 다시 단시간(5초/11,000rpm) 동안 균질화시키고 온건하게 교반시키면서 냉각시킨다. 실온에서, 수산화나트륨 용액으로 pH값을 5.5∼6.0이 되게 조정한다. 최종적으로, 프래그런스를 가한다.
실시예 30: 일용 케어 UV-보호 로션
INCI명
% w/w(사용량)
부분A 올레트-3 포스페이트 0.6
스테아르트-21 2.5
스테아르트-2 1.0
세틸 알코올 0.8
스테아릴 알코올 1.5
트리베헤닌 0.8
이소헥사데칸 8.0
일반식(110) 또는 (111)의 화합물 5.0
부분B 물 q.s. ∼ 100
글리세롤 2.0
2,2'-메틸렌 비스-(6-(2H-벤조트리아졸-2-일)-4- 3.0
(1,1,3,3-테트라메틸부틸)-페놀(Tinosorb M) (및)
아쿠아 (및) 데실 글루코시드 (및) 프로필렌 글리콜
(및) 크산탄 검
디소듐 EDTA 0.1
부분C 물 20.0
디아졸리디닐우레아 (및) 요오도프로피닐 부틸카바메이트 0.15
프로필렌 글리콜 4.0
부분D 소디움 아크릴레이트 공중합체 (및) 액체 파라핀 1.5
(및) PPG-1 트리데세트-6
시클로펜타실록산 4.5
PEG-12 디메티콘 2.0
토코페릴 아세테이트 0.45
물 (및) 시트르산 q.s.
부분E 프래그런스 q.s.
제조과정
부분A 및 부분B를 각각 75℃까지 가열한다. 계속하여 교반하면서, 부분A를 부분B에 붓는다. 에멀젼화 직후, 부분 D로부터 SF1202 및 SF1288을 혼합물에 도입한다. 혼합물을 30초간 울트라 터락스(Ultra Turrax)에 의해 11,000rpm에서 균질화한 후, 65℃로 냉각시키고, 살케어(SALCARE(R) SC 91)를 혼합한다. 50℃ 이하의 온도에서, 부분C를 가한다. 35℃ 이하의 온도에서, 비타민 E 아세테이트를 혼합하고 계속하여 pH를 시트르산으로 조정한다. 실온에서, 부분E를 가한다.
실시예 31: 태양광 차단 크림, 타입 O/W
INCI명
% w/w(사용량)
부분A 폴리글리세릴-3-메틸글루코스 디스테아레이트 2.0
데실 올레에이트 5.7
이소프로필 팔미테이트 5.8
카프릴릭/카프릭 트리글리세리드 6.5
일반식(110) 또는 (111)의 화합물 2.0
에틸헥실 메톡시신남메이트 5.0
세틸 알코올 0.7
부분B 글리세롤 3.0
카보머 0.3
물 q.s. ∼ 100
부분C 페녹시에탄올 (및) 메틸파라벤 (및) 에틸파라벤 (및) 0.5
부틸파라벤 (및) 프로필파라벤 (및) 이소부틸파라벤
부분D 2,2'-메틸렌 비스-(6-(2H-벤조트리아졸-2-일)-4- 8.0
(1,1,3,3-테트라메틸부틸)-페놀 (및) 아쿠아 (및)
데실 글루코시드 (및) 프로필렌 글리콜 (및) 크산탄 검
물 20.0
부분E 물 (및) 수산화나트륨 q.s.
프래그런스 q.s.
제조과정
부분A 및 부분B를 각각 75℃까지 가열한다. 계속하여 교반하면서, 부분A를 부분B에 붓는다. 혼합물을 15초간 울트라 터락스(Ultra Turrax)에 의해 11,000rpm에서 균질화시킨다. 혼합물을 65℃로 냉각시키고, 부분C 및 부분D를 혼합한다. 혼합물을 다시 단시간(5초/11,000rpm) 동안 균질화시킨다. 온건하게 교반시키면서 더 냉각시킨 후, 실온에서 용액을 수산화나트륨으로 pH값을 조정한다. pH 5.5 ∼ 6.0의 용액을 얻는다. 최종적으로, 프래그런스를 가한다.
실시예 32: 태양광 차단 크림, 타입 O/W
INCI명
% w/w(사용량)
부분A 폴리글리세릴-3-메틸글루코스 디스테아레이트 2.0
데실 올레에이트 5.7
이소프로필 팔미테이트 5.8
카프릴릭/카프릭 트리글리세리드 6.5
일반식(110) 또는 (111)의 화합물(50%) 및 유비눌 A 2.0
플러스 CAS Reg. No. 302776-68-7(50%)
에틸헥실 메톡시신남메이트 5.0
세틸 알코올 0.7
부분B 글리세롤 3.0
카보머 0.3
물 q.s. ∼ 100
부분C 페녹시에탄올 (및) 메틸파라벤 (및) 에틸파라벤 (및) 0.5
부틸파라벤 (및) 프로필파라벤 (및) 이소부틸파라벤
부분D 2,2'-메틸렌 비스-(6-(2H-벤조트리아졸-2-일)-4- 8.0
(1,1,3,3-테트라메틸부틸)-페놀 (및) 아쿠아 (및)
데실 글루코시드 (및) 프로필렌 글리콜 (및) 크산탄 검
물 20.0
부분E 물 (및) 수산화나트륨 q.s.
프래그런스 q.s.
제조과정
부분A 및 부분B를 각각 75℃까지 가열한다. 계속하여 교반하면서, 부분A를 부분B에 붓는다. 혼합물을 15초간 울트라 터락스(Ultra Turrax)에 의해 11,000rpm 에서 균질화시킨다. 혼합물을 60℃로 냉각시킨 후, 부분C 및 부분D를 혼합한다. 혼합물을 다시 단시간(5초/11,000rpm) 동안 균질화시킨다. 온건하게 교반시키면서 더 냉각시킨 후, 실온에서 용액을 수산화나트륨 용액으로 pH값을 5.5 ∼ 6.0으로 조정한다. 최종적으로, 프래그런스를 가한다.
Claims (29)
- 하기 일반식(1)의 화합물:(1)
상기 식에서,R1 및 R2는 서로 독립적으로 수소, C1-C20 알킬; C2-C20 알케닐; C3-C10 시클로알킬; C3-C10 시클로알케닐이거나; 또는 R1 및 R2는 연결 질소 원자와 함께 5- 또는 6-원 헤테로시클릭 고리를 형성하고, 이때 상기 고리는 피롤, 푸란, 티오펜, 이미다졸, 피라졸, 1,2,3-트리아졸, 1,2,4-트리아졸, 피리딘, 피리다진, 피리미딘, 피라진, 피란, 티오피란, 1,4-디옥산, 1,2-옥사진, 1,3-옥사진, 1,4-옥사진, 인돌, 벤조티오펜, 벤조푸란, 피롤리딘, 피페리딘, 피페라진, 모르폴린 및 티오모르폴린으로부터 유도되는 5, 6 또는 7개의 고리 구성 원소를 함유하며;n1은 1 또는 2의 수이고;n1 이 1일 때,R3은 모르폴리닐, 피페라진일, 피페리딜, 피라졸리디닐, 이마다졸리디닐, 피롤리디닐, 또는 R3이 일반식(1b)(여기서 R6는 수소 또는 C1-C5 알킬임)으로부터 선택되는 포화 또는 불포화 헤테로시클릭 라디칼이고;
n1 이 2일 때,R3은 사슬 중간에 카르보닐- 또는 카르복시기를 임의로 갖는 알킬렌, 시클로알킬렌, 알케닐렌, 또는 페닐렌 라디칼; 또는 일반식의 라디칼이고, 또는 R3은 A와 함께 하기 일반식(1a)의 2가 라디칼을 형성하고:
(1a)
상기 식에서,n2은 1∼3의 수이고;A는 -O- 또는 -N(R5)-이고; 그리고R5는 수소, C1-C5 알킬 또는 히드록시-C1-C5 알킬이다. - 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- (a) 하기 일반식(6a)의 화합물을 하기 일반식(6b)의 화합물로 탈수소화 반응시키고:(6a)
(6b) 그리고
(b) 상기에서 얻어진 무수물을 화합물(6c1) H-N(R5)-R3 또는 (6c2) H-O-R3와 반응시켜 하기 일반식(1')의 화합물을 제조하는 방법:(1')
상기 식에서,R1 및 R2는 서로 독립적으로 수소; C1-C20 알킬; C2-C20 알케닐; C3-C10 시클로알킬; C3-C10 시클로알케닐이거나; 또는 R1 및 R2는 연결 질소 원자와 함께 5- 또는 6-원 헤테로시클릭 고리를 형성하고, 이때 상기 고리는 피롤, 푸란, 티오펜, 이미다졸, 피라졸, 1,2,3-트리아졸, 1,2,4-트리아졸, 피리딘, 피리다진, 피리미딘, 피라진, 피란, 티오피란, 1,4-디옥산, 1,2-옥사진, 1,3-옥사진, 1,4-옥사진, 인돌, 벤조티오펜, 벤조푸란, 피롤리딘, 피페리딘, 피페라진, 모르폴린 및 티오모르폴린으로부터 유도되는 5, 6 또는 7개의 고리 구성 원소를 함유하며;n1은 1 또는 2의 수이고;n1 이 1일 때,R3은 모르폴리닐, 피페라진일, 피페리딜, 피라졸리디닐, 이마다졸리디닐, 피롤리디닐, 또는 R3이 일반식(1b)(여기서 R6는 수소 또는 C1-C5 알킬임)으로부터 선택되는 포화 또는 불포화 헤테로시클릭 라디칼이고;
n1 이 2일 때,R3은 사슬 중간에 카르보닐- 또는 카르복시기를 임의로 갖는 알킬렌, 시클로알킬렌, 알케닐렌 라디칼; 또는 일반식의 라디칼이고, 또는 R3은 A와 함께 하기 일반식(1a)의 2가 라디칼을 형성하고:
(1a)
상기 식에서,n2은 1∼3의 수이고;A는 -O- 또는 -N(R5)-이고; 그리고R5는 수소, C1-C5 알킬 또는 히드록시-C1-C5 알킬이다. - 삭제
- 삭제
- 삭제
- 화장품에 허용되는 담체나 보조제와 함께 제 1항에 따른 일반식(1)의 화합물 1 이상을 포함하는 화장품 제제.
- 삭제
- 삭제
- (a) 0.02∼2 ㎛의 입경을 갖는 하기 일반식(1')의 미분화된 UV 흡수제와 (b) 적절한 분산제를 포함하는 UV 흡수 분산액:(1')
상기 식에서,R1 및 R2는 서로 독립적으로 수소; C1-C20 알킬; C2-C20 알케닐; C3-C10 시클로알킬; C3-C10 시클로알케닐이거나; 또는 R1 및 R2는 연결 질소 원자와 함께 5- 또는 6-원 헤테로시클릭 고리를 형성하고, 이때 상기 고리는 피롤, 푸란, 티오펜, 이미다졸, 피라졸, 1,2,3-트리아졸, 1,2,4-트리아졸, 피리딘, 피리다진, 피리미딘, 피라진, 피란, 티오피란, 1,4-디옥산, 1,2-옥사진, 1,3-옥사진, 1,4-옥사진, 인돌, 벤조티오펜, 벤조푸란, 피롤리딘, 피페리딘, 피페라진, 모르폴린 및 티오모르폴린으로부터 유도되는 5, 6 또는 7개의 고리 구성 원소를 함유하며;n1은 1 또는 2의 수이고;n1 이 1일 때,R3은 모르폴리닐, 피페라진일, 피페리딜, 피라졸리디닐, 이마다졸리디닐, 피롤리디닐, 또는 R3이 일반식(1b)(여기서 R6는 수소 또는 C1-C5 알킬임)으로부터 선택되는 포화 또는 불포화 헤테로시클릭 라디칼이고;
n1 이 2일 때,R3은 사슬 중간에 카르보닐- 또는 카르복시기를 임의로 갖는 알킬렌, 시클로알킬렌, 알케닐렌 라디칼; 또는 일반식의 라디칼이고, 또는 R3은 A와 함께 하기 일반식(1a)의 2가 라디칼을 형성하고:
(1a)
상기 식에서,n2은 1∼3의 수이고;A는 -O- 또는 -N(R5)-이고; 그리고R5는 수소, C1-C5 알킬 또는 히드록시-C1-C5 알킬이다.
Applications Claiming Priority (7)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| EP02406093.1 | 2002-12-12 | ||
| EP02406093 | 2002-12-12 | ||
| CH20031113/03 | 2003-06-25 | ||
| CH11132003 | 2003-06-25 | ||
| EP03102297 | 2003-07-25 | ||
| EP03102297.3 | 2003-07-25 | ||
| PCT/EP2003/050937 WO2004052837A2 (en) | 2002-12-12 | 2003-12-03 | Amino substituted hydroxyphenyl benzophenone derivatives |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20050085469A KR20050085469A (ko) | 2005-08-29 |
| KR101057747B1 true KR101057747B1 (ko) | 2011-08-19 |
Family
ID=32511848
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020057010430A KR101057747B1 (ko) | 2002-12-12 | 2003-12-03 | 아미노 치환 히드록시페닐 벤조페논 유도체 |
Country Status (11)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US7374749B2 (ko) |
| EP (1) | EP1569893B1 (ko) |
| JP (1) | JP4566907B2 (ko) |
| KR (1) | KR101057747B1 (ko) |
| CN (1) | CN100349857C (ko) |
| AT (1) | ATE553076T1 (ko) |
| AU (1) | AU2003298343B2 (ko) |
| BR (1) | BR0316607B1 (ko) |
| ES (1) | ES2381872T3 (ko) |
| MX (1) | MX271169B (ko) |
| WO (1) | WO2004052837A2 (ko) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9203541B2 (en) | 2012-09-28 | 2015-12-01 | Intel Corporation | Methods and apparatus for multiphase sampling of modulated light |
Families Citing this family (24)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB2412866A (en) * | 2004-04-02 | 2005-10-12 | Ciba Sc Holding Ag | Amino-benzophenone UV filter formulations for the prevention of tanning |
| DE102005023634A1 (de) * | 2005-05-19 | 2006-11-23 | Beiersdorf Ag | Wirkstoffkombinationen aus 2-(4'-(Diethylamino)-2'-hydoxybenzoyl)-benzoesäurehexylester und einem oder mehreren Glucosylglyceriden |
| GB2433439A (en) | 2005-12-21 | 2007-06-27 | Ciba Sc Holding Ag | Use of transmission dyes to protect human skin from UV radiation |
| US7999128B2 (en) * | 2006-02-09 | 2011-08-16 | Basf Se | Hydroxybenzophenone derivatives |
| DE102007005334A1 (de) | 2007-02-01 | 2008-08-07 | Beiersdorf Ag | Piperazinderivate in diolhaltigen kosmetischen Zubereitungen |
| DE102007005336A1 (de) * | 2007-02-01 | 2008-08-07 | Beiersdorf Ag | UV-Filterkombination mit Piperazinderivaten |
| DE102007005333A1 (de) * | 2007-02-01 | 2008-08-07 | Beiersdorf Ag | Organische Mikropigmente in kosmetischen Lichtschutzemulsionen |
| DE102007005335A1 (de) * | 2007-02-01 | 2008-08-07 | Beiersdorf Ag | Lichtschutzzubereitung mit einer Kombination von Mikropigmenten |
| BRPI0808405A2 (pt) * | 2007-03-07 | 2014-07-15 | Basf Se | Usos de animais e amidas, composição comsmética, e, uso da composição cosmética |
| ES2603878T3 (es) * | 2007-05-08 | 2017-03-01 | Basf Se | Modificaciones cristalinas de colorantes de transmisión |
| CN101687823B (zh) * | 2007-07-04 | 2013-12-18 | 巴斯夫欧洲公司 | 纳米级uv吸收剂的制备 |
| DE102007038414A1 (de) | 2007-08-09 | 2009-02-12 | Beiersdorf Ag | Neue kosmetische Emulgatorkombination |
| BRPI0820644B1 (pt) * | 2007-11-29 | 2022-06-14 | Basf Se | Método de preparação de uma composição, e, composição |
| EP2238121A1 (de) * | 2008-02-06 | 2010-10-13 | Merck Patent GmbH | Uva filter auf der basis von ascorbinsäurederivaten |
| CN102573772A (zh) * | 2009-11-05 | 2012-07-11 | 莱雅公司 | 包含衍生自4-羧基-2-吡咯烷酮的酯和亲脂性掩蔽剂的化妆品组合物、所述衍生物作为二苯甲酮亲脂性掩蔽剂的溶剂的应用 |
| RU2013130746A (ru) * | 2011-01-28 | 2015-01-10 | Моументив Перформенс Матириалз Гмбх | Уф-фотозащитная косметическая композиция |
| CN103059168B (zh) * | 2013-01-17 | 2014-09-17 | 长沙新宇高分子科技有限公司 | 一种二苯甲酮类光引发剂及其制备方法 |
| ES2724247T3 (es) * | 2013-06-27 | 2019-09-09 | Dsm Ip Assets Bv | Método para producir benzoatos de 2-(4-N,N-dialquilamino-2-hidroxibenzoilo) |
| US9982150B2 (en) | 2013-08-12 | 2018-05-29 | Sun Chemical Corporation | Oligomeric aminoketones and their use as photoinitiators |
| CA3001656C (en) | 2015-12-02 | 2020-10-13 | Novartis Ag | Water-soluble uv-absorbing compounds and uses thereof |
| US10254567B2 (en) | 2016-02-22 | 2019-04-09 | Novartis Ag | UV-absorbing vinylic monomers and uses thereof |
| MA49566A (fr) | 2017-07-11 | 2020-05-20 | Vertex Pharma | Carboxamides utilisés en tant qu'inhibiteurs des canaux sodiques |
| JP7015775B2 (ja) * | 2018-11-28 | 2022-02-03 | 芳弘 二村 | 遺伝子修復作用を呈するポリフェノール誘導体 |
| WO2023247598A1 (en) * | 2022-06-22 | 2023-12-28 | Skinosive | Multi-photoprotective compounds and uses thereof |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000319628A (ja) * | 1999-04-20 | 2000-11-21 | Basf Ag | 光安定性ｕｖフィルターとしてのアミノ置換されたヒドロキシベンゾフェノンの使用、該化合物を含有する光保護剤及びアミノ置換されたヒドロキシベンゾフェノン |
| JP2002308751A (ja) * | 2001-03-15 | 2002-10-23 | Basf Ag | 化粧品および医薬製剤における光安定性ｕｖフィルターとしてのサンスクリーン剤の組合せの使用 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE19855649A1 (de) * | 1998-12-03 | 2000-06-08 | Basf Ag | Dimere alpha-Alkyl-Styrolderivate als photostabile UV-Filter in kosmetischen und pharmazeutischen Zubereitungen |
| FR2833164B1 (fr) * | 2001-12-07 | 2004-07-16 | Oreal | Compositions cosmetiques antisolaires a base d'un melange synergique de filtres et utilisations |
| JP2015098471A (ja) * | 2013-11-18 | 2015-05-28 | 東洋合成工業株式会社 | 化学種発生向上試剤 |
-
2003
- 2003-12-03 EP EP03796081A patent/EP1569893B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2003-12-03 AU AU2003298343A patent/AU2003298343B2/en not_active Ceased
- 2003-12-03 ES ES03796081T patent/ES2381872T3/es not_active Expired - Lifetime
- 2003-12-03 MX MXPA05006197 patent/MX271169B/es active IP Right Grant
- 2003-12-03 KR KR1020057010430A patent/KR101057747B1/ko active IP Right Grant
- 2003-12-03 WO PCT/EP2003/050937 patent/WO2004052837A2/en active Application Filing
- 2003-12-03 CN CNB2003801058851A patent/CN100349857C/zh not_active Expired - Lifetime
- 2003-12-03 JP JP2005502323A patent/JP4566907B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2003-12-03 BR BRPI0316607-4A patent/BR0316607B1/pt active IP Right Grant
- 2003-12-03 AT AT03796081T patent/ATE553076T1/de active
- 2003-12-03 US US10/537,940 patent/US7374749B2/en not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000319628A (ja) * | 1999-04-20 | 2000-11-21 | Basf Ag | 光安定性ｕｖフィルターとしてのアミノ置換されたヒドロキシベンゾフェノンの使用、該化合物を含有する光保護剤及びアミノ置換されたヒドロキシベンゾフェノン |
| JP2002308751A (ja) * | 2001-03-15 | 2002-10-23 | Basf Ag | 化粧品および医薬製剤における光安定性ｕｖフィルターとしてのサンスクリーン剤の組合せの使用 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9203541B2 (en) | 2012-09-28 | 2015-12-01 | Intel Corporation | Methods and apparatus for multiphase sampling of modulated light |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| ES2381872T3 (es) | 2012-06-01 |
| AU2003298343B2 (en) | 2010-02-25 |
| MXPA05006197A (es) | 2005-08-19 |
| ATE553076T1 (de) | 2012-04-15 |
| CN1726184A (zh) | 2006-01-25 |
| BR0316607A (pt) | 2005-10-11 |
| BR0316607B1 (pt) | 2014-12-23 |
| US20060018846A1 (en) | 2006-01-26 |
| JP4566907B2 (ja) | 2010-10-20 |
| AU2003298343A1 (en) | 2004-06-30 |
| KR20050085469A (ko) | 2005-08-29 |
| US7374749B2 (en) | 2008-05-20 |
| WO2004052837A3 (en) | 2004-09-10 |
| MX271169B (es) | 2009-10-23 |
| EP1569893A2 (en) | 2005-09-07 |
| JP2006509834A (ja) | 2006-03-23 |
| WO2004052837A2 (en) | 2004-06-24 |
| CN100349857C (zh) | 2007-11-21 |
| EP1569893B1 (en) | 2012-04-11 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR101057747B1 (ko) | 아미노 치환 히드록시페닐 벤조페논 유도체 | |
| KR101339934B1 (ko) | 전송 염료의 용도 | |
| JP4344241B2 (ja) | トリアジン誘導体、およびサンスクリーンとしてのその使用 | |
| JP5078611B2 (ja) | メロシアニン誘導体 | |
| JP2007514709A (ja) | 化粧品用メロシアニン誘導体 | |
| JP5984332B2 (ja) | 微粉化有機ｕｖ吸収剤のための粉砕助剤 | |
| MX2007010933A (es) | Compuestos de esteres benzoicos, composiciones, usos y metodos relacionados. | |
| KR101538527B1 (ko) | 나노스케일 ｕｖ 흡수제의 제조 | |
| JP5903213B2 (ja) | 透過染料の結晶変態 | |
| EP1117638B1 (en) | Biphenyl compounds substituted by camphor or hydantoin derivatives as sunscreen compositions | |
| JP5294877B2 (ja) | ヒドロキシベンゾフェノン誘導体 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A201 | Request for examination | ||
| E902 | Notification of reason for refusal | ||
| E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
| GRNT | Written decision to grant | ||
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20150724 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20160809 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20170731 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20180801 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20190813 Year of fee payment: 9 |