JP2000315580A - 有機エレクトロルミネッセンス素子およびその製造方法 - Google Patents

有機エレクトロルミネッセンス素子およびその製造方法

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JP2000315580A
JP2000315580A JP11124478A JP12447899A JP2000315580A JP 2000315580 A JP2000315580 A JP 2000315580A JP 11124478 A JP11124478 A JP 11124478A JP 12447899 A JP12447899 A JP 12447899A JP 2000315580 A JP2000315580 A JP 2000315580A
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久幸 川村
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 駆動電圧が低く、発光輝度が高い有機EL素
子およびその製造方法を提供する。 【解決手段】 少なくとも陽極層、有機発光媒体、およ
び陰極層を順次に積層した有機EL素子において、有機
発光媒体が低分子有機発光物質からなり、陽極層との界
面付近の低分子有機発光物質を酸化する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、有機エレクトロ
ルミネッセンス素子(以下、「有機EL素子」とも称す
る。)に関する。さらに詳しくは、民生用および工業用
の表示機器(ディスプレイ)あるいはプリンターヘッド
の光源等に用いて好適な有機EL素子に関する。
【0002】
【従来の技術】従来の有機EL素子の一例が、文献1:
「低駆動電圧厚膜有機EL素子」、谷口彬雄著、M&B
E Vol.10,No.1(1999)に開示されて
いる。この文献1に開示された有機EL素子40は、図
4に示されるように、陰極層42と透明電極である陽極
層44との間に、陰極層42から順次に電子輸送層4
6、有機発光層48が設けられている。そして、有機発
光層48には、低電圧駆動を目的として、トリフェニル
アミン単位を含むポリカーボネート樹脂に、アクセプタ
ー性ドーパントを0.1〜30重量%程度の配合量でド
ープしてある。このアクセプター性ドーパントとして
は、ヨウ素、塩化アンチモン、クロラニル、TCNQ、
TNE、TBPAH、CEBTFB等が使用されてい
る。
【0003】また、図5に示すように、従来の有機EL
素子の他例が、文献2:「特開平4−297076号公
報」に開示されている。この文献2に開示された有機E
L素子60は、陰極層58と透明電極である陽極層50
との間に、三層の有機膜52,54および56を挟んだ
有機膜積層体を有している。そして、低い駆動電圧にお
いて、高い発光輝度(発光効率)を得ることを目的とし
て、陰極層58と接する第1の有機膜52には、ドナー
性不純物がドープされており、一方、陽極層50と接す
る第2の有機膜54にはアクセプタ不純物がドープされ
ている。このアクセプタ不純物としては、CN置換化合
物およびキノン化合物(例えばクロラニル)が使用され
ている。そして、第1の有機膜52と第2の有機膜とに
挟まれた第3の有機膜を発光層56としている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、文献1
に開示された有機EL素子40は、有機発光材料である
ポリカーボネート樹脂が高分子材料であって、アクセプ
ター性ドーパントを均一に分散できないためと思われる
が、TCNQ、クロラニル、CEBTFB等を用いた場
合に、これらが結晶化して、有機EL素子を実質的に作
製することが出来ないという問題が見られた。
【0005】また、文献2に開示された第2の有機膜5
4は、正孔注入層としての機能を発揮しているが、この
第2の有機膜54において、アクセプタ不純物として用
いているCN置換化合物やキノン化合物は、アクセプタ
ー性が強く、その電子親和力は3.7eV以上と高い値
である。したがって、これらのアクセプタ不純物は、低
イオン化ポテンシャルである発光材料と反応して、電荷
移動錯体または励起錯体(エキシプレックス)を形成し
やすい傾向がある。そのため、有機EL素子の発光輝度
が低下したり、寿命が短いという問題があった。
【0006】そこで、本発明の発明者らは上記問題を鋭
意検討したところ、有機発光媒体に低分子有機発光物質
を用いることにより、凝集力の強い酸化性ドーパントを
用いた場合であっても結晶化を効率的に防止することが
できることを見出した。すなわち、酸化性ドーパント等
を用いて、陽極層との界面付近の低分子有機発光物質を
部分的に酸化させることにより、低分子有機発光物質が
陽極層と直接接触する場合と比較して正孔注入性を向上
させることができる。よって、本発明は、正孔注入層を
設けることなく、駆動電圧が低く、発光輝度が高い有機
EL素子およびこのような有機EL素子が効率的に得ら
れる製造方法を提供することを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明の有機EL素子の
態様によれば、少なくとも陽極層、有機発光媒体、およ
び陰極層からなる構造を有する有機エレクトロルミネッ
センス素子において、有機発光媒体が低分子有機発光物
質からなり、陽極層との界面付近の低分子有機発光物質
が酸化してあることを特徴とする。このように構成する
と、陽極層と、酸化した低分子有機発光物質とが接触す
ることになり、正孔の注入性が良好となるため、有機E
L素子の低電圧駆動が容易となる。また、有機発光媒体
に低分子有機発光物質を用いているため、容易に酸化し
やすいという利点も得られる。なお、有機発光媒体が正
孔注入機能や正孔輸送機能を有する層を含む場合には、
これらの層の界面を酸化させることにする。
【0008】また、本発明の有機EL素子を構成するに
あたり、有機発光媒体が低分子有機発光物質および酸化
性ドーパントを含むことを特徴としている。このように
構成すると、酸化性ドーパントにより低分子有機発光物
質が強制的に酸化されるため、正孔の注入性が良好とな
り、有機EL素子の低電圧駆動が容易となる。また、低
分子有機発光物質を用いているため、酸化性ドーパント
を均一に混合することができ、酸化性ドーパントの結晶
化を有効に防止することができる。
【0009】また、本発明の有機EL素子を構成するに
あたり、酸化性ドーパントを陽極層と有機発光媒体との
界面付近における低分子有機発光物質中に局在させて含
むことが好ましい。このように構成すると、酸化性ドー
パントの使用量を可及的に少なくすることができ、正孔
の注入性の良好さを維持したままで、酸化性ドーパント
の結晶化による影響を有効に防止することができる。な
お、陽極層と有機発光媒体との界面付近とは、好ましく
は、有機発光媒体の界面から、例えば厚さ1〜200Å
の範囲内の領域を意味する。
【0010】また、本発明の有機EL素子を構成するに
あたり、酸化性ドーパントが、キノン誘導体、ハロゲン
化金属、ルイス酸、有機酸、ハロゲン化金属塩、ルイス
酸塩、フラーレン類、および有機酸塩からなる群から選
択される少なくとも一つの化合物であることが好まし
い。これらの酸化性ドーパントであれば、適当な酸化力
を有するとともに、低分子有機発光物質と混合されるこ
とにより、自身の結晶化を有効に防止することができ
る。
【0011】また、本発明の有機EL素子を構成するに
あたり、低分子有機発光物質の平均分子量を2000以
下の値とすることが好ましい。このような低分子有機発
光物質を用いれば、酸化性ドーパントをより均一に混合
することができ、酸化性ドーパントの結晶化を有効に防
止することができるとともに、酸化性ドーパントにより
容易に自身が酸化されて、正孔の注入性を向上させるこ
とができる。
【0012】また、本発明の有機EL素子を構成するに
あたり、有機発光媒体に、下記一般式(1)〜(3)で
表されるいずれか一つのスチリル基を有する低分子有機
発光物質を含むことが好ましい。
【0013】
【化4】
【0014】[一般式(1)中、Ar1は、炭素数が6
〜40の芳香族基であり、Ar2、Ar3、およびAr4
は、それぞれ水素原子または炭素数が6〜40の芳香族
基であって、少なくとも一つは芳香族基であり、縮合数
nは、1〜6の整数である。]
【0015】
【化5】
【0016】[一般式(2)中、Ar5は、炭素数が6
〜40の芳香族基であり、Ar6およびAr7は、それぞ
れ水素原子または炭素数が6〜40の芳香族基であり、
Ar5、Ar6およびAr7の少なくとも一つはスチリル
基で置換されており、縮合数mは、1〜6の整数であ
る。]
【0017】
【化6】
【0018】[一般式(3)中、Ar9〜Ar13は、炭
素数が6〜40の芳香族基であり、Ar8およびAr14
は、それぞれ水素原子または炭素数が6〜40の芳香族
基であり、Ar8〜Ar14の少なくとも一つはスチリル
基で置換されており、縮合数p、q、r、sは、それぞ
れ0または1である。]
【0019】また、本発明の有機EL素子を構成するに
あたり、有機発光媒体における電子移動度をμe、正孔
移動度をμhとしたときに、下記条件を満足することが
好ましい。 μh>μe>μh/1000 このように構成することにより、有機発光媒体において
電子と、正孔とを効率的に再結合させることができ、低
電圧の電圧印加であっても高い発光輝度を得ることがで
きる。なお、有機発光材料における電子移動度(μe
および正孔移動度(μh)は、タイムオブフライト(T
OF)法を用いて、1×104〜1×106V/cm・s
の直流電圧を印加した条件で測定することができる。
【0020】また、本発明の別の態様は、上述したいず
れかの有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法で
あり、陽極層との界面付近における有機発光媒体の低分
子有機発光物質を酸化する工程を含むことを特徴とす
る。このように製造方法を実施すると、陽極層との界面
付近における低分子有機発光物質が酸化されて、正孔の
注入性が良好となるため、有機EL素子の低電圧駆動が
容易となる。
【0021】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して、この発明
の実施の形態について説明する。なお、参照する図面
は、この発明が理解できる程度に各構成成分の大きさ、
形状および配置関係を概略的に示してあるに過ぎない。
したがって、この発明は図示例にのみ限定されるもので
はない。また、図面では、断面を表すハッチングを省略
する場合がある。
【0022】[第1の実施形態]まず、図1を参照し
て、本発明の有機EL素子における第1の実施形態につ
いて説明する。図1は、有機EL素子100の断面図で
あり、陽極層10、有機発光媒体12、陰極層16を、
基板上(図示せず。)に順次に積層した構造を有してい
ることを表している。そして、第1の実施形態では、有
機発光媒体12を低分子有機発光物質および酸化性ドー
パントから構成している。以下、第1の実施形態におけ
る特徴的な部分である有機発光媒体12について中心に
説明する。したがって、その他の構成部分、例えば、陽
極層10や陰極層16の構成や製法については、一般的
な構成を採ることができるため、簡単に説明するものと
する。
【0023】(1)有機発光媒体 (低分子有機発光物質)有機発光媒体の構成材料として
使用する低分子有機発光物質は、以下の3つの機能を併
せ持つことが好ましい。 (a)電荷の注入機能:電界印加時に陽極あるいは正孔
注入層から正孔を注入することができる一方、陰極層あ
るいは電子注入域から電子を注入することができる機能 (b)輸送機能:注入された正孔および電子を電界の力
で移動させる機能 (c)発光機能:電子と正孔の再結合の場を提供し、こ
れらを発光につなげる機能 ただし、上記(a)〜(c)の各機能全てを併せもつこ
とは、必ずしも必要ではなく、例えば正孔の注入輸送性
が電子の注入輸送性より大きく優れているものの中にも
有機発光材料として好適なものがある。
【0024】したがって、本発明においては、有機発光
媒体に上述した一般式(1)〜(3)で表されるスチリ
ル基を有する低分子有機発光物質(芳香族環化合物と称
する場合がある。)を使用することが好ましい。なお、
スチリル基としては、下記一般式(4)で表されるスチ
リル基が好ましい。
【0025】
【化7】
【0026】[一般式(4)中、Ar15Ar16、および
Ar17は、それぞれ水素原子または炭素数が6〜40の
芳香族基である。]
【0027】また、一般式(1)〜(3)で表される低
分子有機発光物質において、炭素数が6〜40の芳香族
基のうち、好ましい核原子数5〜40のアリール基とし
ては、フェニル、ナフチル、アントラニル、フェナンス
リル、ピレニル、クリセニル、コロニル、ビフェニル、
ターフェニル、ピローリル、フラニル、チオフェニル、
ベンゾチオフェニル、オキサジアゾリル、ジフェニルア
ントラニル、インドリル、カルバゾリル、ピリジル、ベ
ンゾキノリル等が挙げられる。なお、炭素数が6〜40
の芳香族基は、さらに置換基により置換されているのも
良く、好ましい置換基として、炭素数1〜6のアルキル
基(エチル基、メチル基、i−プロピル基、n−プロピ
ル基、s−ブチル基、t−ブチル基、ペンチル基、ヘキ
シル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等)、炭
素数1〜6のアルコキシ基(エトキシ基、メトキシ基、
i−プロポキシ基、n−プロポキシ基、s−ブトキシ
基、t−ブトキシ基、ペントキシ基、ヘキシルオキシ
基、シクロペントキシ基、シクロヘキシルオキシ基
等)、核原子数5〜40のアリール基、核原子数5〜4
0のアリール基で置換されたアミノ基、核原子数5〜4
0のアリール基を有するエステル基、炭素数1〜6のア
ルキル基を有するエステル基、シアノ基、ニトロ基、ハ
ロゲン原子が挙げられる。また、一般式(1)〜(3)
で表される低分子有機発光物質において、好ましい核原
子数5〜40のアリーレン基としては、フェニレン、ナ
フチレン、アントラニレン、フェナンスリレン、ピレニ
レン、クリセニレン、コロニレン、ビフェニレン、ター
フェニレン、ピローリレン、フラニレン、チオフェニレ
ン、ベンゾチオフェニレン、オキサジアゾリレン、ジフ
ェニルアントラニレン、インドリレン、カルバゾリレ
ン、ピリジレン、ベンゾキノリレン等が挙げられる。
【0028】また、有機発光媒体に、ベンゾチアゾール
系、ベンゾイミダゾール系、ベンゾオキサゾール系等の
蛍光増白剤や、スチリルベンゼン系化合物、8−キノリ
ノール誘導体を配位子とする金属錯体を併用することも
好ましい。また、ジスチリルアリーレン骨格の有機発光
材料、例えば4,4'一ビス(2,2−ジフェニルビニ
ル)ビフェニル)等をホストとし、当該ホストに青色か
ら赤色までの強い蛍光色素、例えばクマリン系あるいは
ホストと同様の蛍光色素をドープした材料を併用するこ
とも好適である。
【0029】また、優れた密着性が得られ、有機発光媒
体にスムーズに電子が移動できるとともに、機械的強度
を向上させることができる観点から、陰極と有機発光媒
体との間に電子注入域、あるいは陽極と有機発光媒体と
の間に正孔注入域を設けてもよい。この時、この電子注
入域あるいは正孔注入域の構成材料と有機発光媒体の構
成材料とを部分的に一致させることが好ましい。すなわ
ち、有機発光媒体と電子注入域あるいは有機発光媒体と
正孔注入域とに、上述した一般式(1)〜(3)で表さ
れる芳香族環化合物をそれぞれ使用することが好まし
い。なお、有機発光媒体に電子注入域を設けた場合に
は、同一種類の芳香族環化合物を使用することが好まし
い。例えば、有機発光媒体において、同一種類の芳香族
環化合物を50重量%以上使用することが好ましく、6
0重量%以上使用することがより好ましい。
【0030】(酸化性ドーパント)有機発光媒体に添加
する酸化性ドーパント(アクセプター性ドーパントと称
する場合がある。)としては、有機発光媒体を部分的に
でも酸化可能な化合物であれば使用可能であるが、好ま
しくは、キノン誘導体、ハロゲン化金属、ルイス酸、有
機酸、ハロゲン化金属塩、ルイス酸塩、および有機酸塩
からなる群から選択される少なくとも一つの化合物であ
る。これらの化合物は、適当な酸化力を有するととも
に、低分子有機発光物質の結晶化を増長させることが少
ないためである。より具体的には、好ましい酸化性ドー
パントとして、塩化アンチモン(SbCl3)、C6O
(フラーレン)、チオケトン、TCNQ(7,7,8,8-テト
ラシアノキノジメタン)、TCNE(テトラシアノエチ
レン)、キノン誘導体、弗化ホウ素、トリフェニルボラ
ン等が挙げられる。すなわち、本発明では、凝集力が強
い酸化性ドーパント、例えばTCNQを用いた場合で
も、低分子有機発光物質と均一に混合するため、酸化性
ドーパントの結晶化を有効に防止することができる。
【0031】また、酸化性ドーパントの添加量を、有機
発光媒体を構成する材料全体を100重量%としたとき
に、0.01〜50重量%の範囲内の値とすることが好
ましい。この理由は、酸化性ドーパントの添加量が、
0.01重量%未満となると、酸化が不十分となり、有
機EL素子の低電圧駆動が困難となったり、あるいは発
光輝度が低下したりする場合があるためである。一方、
酸化性ドーパントの添加量が50重量%を超えると、逆
に、発光輝度が低下したり、寿命が短くなる場合がある
ためである。したがって、発光輝度等のバランスがより
良好となる観点から、酸化性ドーパントの添加量を0.
2〜30重量%の範囲内の値とすることがより好まし
く、0.5〜10重量%の範囲内の値とすることがさら
に好ましい。
【0032】また、酸化性ドーパントの添加量に関し
て、低分子有機発光物質と酸化性ドーパントとの添加比
率を1:1〜20:1(モル比)の範囲内の値とするこ
とが好ましい。低分子有機発光物質と酸化性ドーパント
との添加比率がこれらの範囲外となると、有機EL素子
の発光輝度が低下したり、寿命が短くなる傾向がある。
したがって、低分子有機発光物質と酸化性ドーパントと
の添加比率を1:1〜10:1(モル比)の範囲内の値
とすることがより好ましく、1:1〜5:1の範囲内の
値とすることがさらに好ましい。
【0033】また、酸化性ドーパントは、有機発光媒体
中に均一に分散している必要は必ずしもなく、むしろ酸
化性ドーパントを陽極層との界面付近に局在させて含む
ことが好ましい。このように構成すると、同一の酸化効
果を得るためには、酸化性ドーパントの使用量を可及的
に少なくすることができる。したがって、正孔の注入性
の良好さを維持したままで、低分子有機発光物質の結晶
化を有効に防止することができる。なお、酸化性ドーパ
ントを陽極層との界面付近に局在させた場合、同一の酸
化程度を得るために、酸化性ドーパントの使用量を少な
くすることができる。
【0034】(形成方法)次に、有機発光媒体を形成す
る方法について説明する。例えば、蒸着法、スピンコー
ト法、キャスト法、LB法等の公知の方法を適用するこ
とができる。また、上述したように、正孔注入域と有機
発光媒体とは、同一方法で形成することが好ましく、例
えば、正孔注入域を蒸着法で製膜する場合には、有機発
光媒体も蒸着法で製膜することが好ましい。
【0035】また、有機発光媒体は、気相状態の材料化
合物から沈着されて形成された薄膜や、溶液状態または
液相状態の材料化合物から固体化されて形成された膜で
ある、分子堆積膜とすることが好ましい。通常、この分
子堆積膜は、LB法により形成された薄膜(分子累積
膜)とは、凝集構造や高次構造の相違や、それに起因す
る機能的な相違により区分することができる。さらに
は、樹脂等の結着剤と有機発光材料とを溶剤に溶かして
溶液とした後、これをスピンコート法等により薄膜化す
ることによっても、有機発光媒体を形成することができ
る。
【0036】(有機発光媒体の膜厚)このようにして形
成された有機発光媒体の膜厚については特に制限はな
く、状況に応じて適宜選択することができるが、5nm
〜5μmの範囲内の値であることが好ましい。この理由
は、有機発光媒体の膜厚が5nm未満となると、発光輝
度が低下する場合があるためであり、一方、有機発光媒
体の膜厚が5μmを超えると、印加電圧の値が高くなる
傾向がある。したがって、有機発光媒体の膜厚を10n
m〜3μmの範囲内の値とすることがより好ましく、2
0nm〜1μmの範囲内の値とすることがさらに好まし
い。
【0037】(3)電極 (陽極層)陽極層としては、仕事関数の大きい(例え
ば、4.0eV以上)金属、合金、電気電導性化合物ま
たはこれらの混合物を使用することが好ましい。具体的
には、インジウムチンオキサイド(ITO)、インジウ
ムジンクオキサイド、スズ、酸化亜鉛、金、白金、パラ
ジウム等の1種を単独で、または2種以上を組み合わせ
て使用することができる。また、陽極層の厚さも特に制
限されるものではないが、10〜1000nmの範囲内
の値とするのが好ましく、10〜200nmの範囲内の
値とするのがより好ましい。さらに、陽極層に関して
は、有機発光媒体から発射された光を外部に有効に取り
出すことが出来るように、実質的に透明、より具体的に
は、光透過率が10%以上の値であることが好ましい。
【0038】(陰極層)一方、陰極層には、仕事関数の
小さい(例えば、4.0eV未満)金属、合金、電気伝
導性化合物またはこれらの混合物を使用することが好ま
しい。具体的には、マグネシウム、アルミニウム、イン
ジウム、リチウム、ナトリウム、銀等の1種を単独で、
または2種以上を組み合わせて使用することができる。
また陰極層の厚さも特に制限されるものではないが、1
0〜1000nmの範囲内の値とするのが好ましく、1
0〜200nmの範囲内の値とするのがより好ましい。
【0039】[第2の実施形態]第2の実施形態におけ
る有機EL素子は、第1の実施形態における有機EL素
子と同様に、図1に示す構成を有している。そして、第
2の実施形態における有機EL素子100は、電子注入
域14に、電子輸送性化合物と、還元性ドーパントとを
含んで構成してある。以下、第2の実施形態における特
徴的な部分である電子注入域14について説明するもの
とし、その他の構成部分、例えば、陽極層10や陰極層
16等の構成や製法については第1の実施形態と同様の
構成とすることができる。
【0040】(1)電子注入域 (電子輸送性化合物)電子輸送性化合物としては、陰極
から注入された電子を有機発光媒体に伝達する機能を有
している化合物であれば、広く使用することができる。
具体的に、例えば、窒素原子を含まない芳香族環からな
る芳香族環化合物(単に、非窒素複素環化合物と称する
場合がある。)や、含窒素複素環化合物を含有する有機
化合物(単に、含窒素複素環化合物と称する場合があ
る。)を挙げることができる。
【0041】非窒素複素環化合物 非窒素複素環化合物は、すなわち、炭素(C)および水
素(H)からなる芳香族環を含む化合物、または、炭素
(C)、水素(H)および酸素(O)からなる芳香族環
を含む化合物と定義される。ただし、芳香族環以外の分
子中に窒素原子を含むことは差し支えなく、窒素原子を
含まない芳香族環同士を、例えば窒素原子により結合す
ることはむしろ好ましい。また、炭素および水素からな
る芳香族環の化合物と、炭素、水素および酸素からなる
芳香族環の化合物とは、それぞれ単独で使用しても良い
し、あるいは組み合わせて使用しても良い。このように
非窒素複素環化合物を後述する還元性ドーパントと併用
することにより、優れた電子注入性が得られるととも
に、隣接する発光域の構成材料と反応することを抑制す
ることができる。すなわち、非窒素複素環化合物は、炭
素および水素からなる芳香族環、または炭素、水素およ
び酸素からなる芳香族環から構成されており、窒素含有
芳香族環や電気吸引基(例えば−CN基、−NO2基、
アミド基、イミド基)といった窒素含有基を含んでいな
い。したがって、電子注入域と発光域との界面に、発光
効率の低い電荷移動錯体またはエキシプレックスが発生
することを効率的に抑制することができる。
【0042】好ましい非窒素複素環化合物として、アン
トラセン、フルオレン、ペリレン、ピレン、フェナント
レン、クリセン、テトラセン、ルブレン、ターフェニレ
ン、クォーターフェニレン、セクシフェニレン、トリフ
ェニレン、ピセン、コロネル、ジフェニルアントラセ
ン、ベンツ[a]アントラセンおよびビナフタレンからな
る群から選択される少なくとも一つの芳香族環を含む芳
香族環化合物が挙げられる。また、非窒素複素環化合物
は、スチリル基置換された芳香族環、ジスチリル基置換
された芳香族環またはトリススチリル基置換された芳香
族環を有するとさらに良い。このようにスチリル基置換
(ジスチリル基置換およびトリスチリル基置換を含む。
以下、同様である。)された芳香族環を有することによ
り、有機EL素子の発光輝度や寿命をより向上させるこ
とができる。このようにスチリル基置換された基を含む
芳香族環化合物としては、例えば、有機発光媒体に使用
される一般式(1)〜(3)で表される芳香族環化合物
と同様の芳香族環化合物が挙げられる。
【0043】含窒素複素環化合物 また、電子輸送性化合物として、含窒素複素環化合物を
挙げることができる。このように含窒素複素環化合物を
用いた場合であっても、後述する還元性ドーパントのう
ち、仕事関数が2.9eV以下の還元性ドーパントを使
用することにより、有機発光媒体材料と反応することを
効率的に抑制して、高い発光輝度を得ることができる。
【0044】このような含窒素複素環化合物は、窒素原
子を有する複素環を有する化合物と定義されるが、具体
的に、含窒素錯体や含窒素環化合物が挙げられる。好ま
しい含窒素錯体として、8−キノリノール誘導体を配位
子とする金属錯体やフタロシアニン誘導体が挙げられ
る。また、好ましい含窒素環化合物としては、オキサジ
アゾール誘導体、チアジアゾール誘導体、トリアゾール
誘導体、キノキサリン誘導体およびキノリン誘導体等を
挙げることができる。さらに、含窒素複素環化合物とし
て、アントロン誘導体、フレオレニリメタン誘導体、カ
ルボジイミド、ナフタレンペリレン等の複素環テトラカ
ルボン酸無水物を使用することも好ましい。
【0045】(還元性ドーパント)第2の実施形態にお
ける電子注入域は、電子輸送性化合物とともに、還元性
ドーパントを含有していることを特徴とする。
【0046】種類 還元性ドーパントとは、電子輸送性化合物が酸化された
場合に、それを還元できる物質と定義される。したがっ
て、還元性ドーパントの種類は、一定の還元性を有する
ものであれば特に制限されるものではないが、具体的
に、アルカリ金属、アルカリ土類金属、希土類金属、ア
ルカリ金属の酸化物、アルカリ金属のハロゲン化物、ア
ルカリ土類金属の酸化物、アルカリ土類金属のハロゲン
化物、希土類金属の酸化物または希土類金属のハロゲン
化物からなる群から選択される少なくとも一つの物質で
あることが好ましい。
【0047】また、好ましいアルカリ金属としては、例
えば、Li(リチウム、仕事関数:2.93eV)、N
a(ナトリウム、仕事関数:2.36eV)、K(カリ
ウム、仕事関数:2.3eV)、Rb(ルビジウム、仕
事関数:2.16eV)およびCs(セシウム、仕事関
数:1.95eV)が挙げられる。なお、括弧内の仕事
関数の値は、化学便覧(基礎編II,P493,日本化
学会編)に記載されたものであり、以下同様である。ま
た、好ましいアルカリ土類金属としては、例えば、Ca
(カルシウム、仕事関数:2.9eV)、Mg(マグネ
シウム、仕事関数:3.66eV)、Ba(バリウム、
仕事関数:2.52eV)、およびSr(ストロンチウ
ム、仕事関数:2.0〜2.5eV)が挙げられる。な
お、ストロンチウムの仕事関数の値は、フィジィックス
オブ セミコンダクターデバイス(N.Y.ワイロー
1969年,P366)に記載されたものである。ま
た、好ましい希土類金属としては、例えば、Yb(イッ
テルビウム、仕事関数:2.6eV)、Eu(ユーロビ
ウム、仕事関数:2.5eV)、Gd(ガドニウム、仕
事関数:3.1eV)およびEn(エルビウム、仕事関
数:2.5eV)があげられる。
【0048】また、好ましいアルカリ金属酸化物として
は、例えば、Li2O、LiOおよびNaOがあげられ
る。また、好ましいアルカリ土類金属酸化物としては、
例えば、CaO、BaO、SrO、BeOおよびMgO
があげられる。また、好ましいアルカリ金属のハロゲン
化物としては、例えば、LiF、NaFおよびKFとい
ったフッ化物のほかに、LiCl、KClおよびNaC
lが挙げられる。また、好ましいアルカリ土類金属のハ
ロゲン化物としては、例えば、CaF2、BaF2、Sr
2、MgF2およびBeF2といったフッ化物や、フッ
化物以外のハロゲン化物が挙げられる。
【0049】また、好ましい還元性ドーパントとして、
アルカリ金属が配位した芳香族化合物も挙げられる。こ
のアルカリ金属が配位した芳香族化合物は、例えば、下
記一般式(5)で表される。 A+Ar20-・・・(5) ただし、一般式(5)中のAは、アルカリ金属を表す。
また、Ar20は、炭素数10〜40の芳香族化合物であ
る。この(5)式で表される芳香族化合物としては、例
えば、アントラセン、ナフタレン、ジフェニルアントラ
セン、ターフェニル、クォーターフェニル、キンクフェ
ニル、セクシフェニルおよびこれらの誘導体があげられ
る。
【0050】添加量 電子注入域における還元性ドーパントの添加量を、電子
注入域を構成する材料全体を100重量%としたとき
に、0.01〜50重量%の範囲内の値とすることが好
ましい。還元性ドーパントの添加量が、0.01重量%
未満となると、有機EL素子の発光輝度が低下したり、
寿命が短くなる傾向がある。一方、還元性ドーパントの
添加量が50重量%を超えると、逆に、発光輝度が低下
したり、寿命が短くなる傾向がある。したがって、発光
輝度や寿命のバランスがより良好となる観点から、還元
性ドーパントの添加量を0.2〜20重量%の範囲内の
値とすることがより好ましい。
【0051】また、還元性ドーパントの添加量に関し
て、電子輸送性化合物と還元性ドーパントとの添加比率
を1:20〜20:1(モル比)の範囲内の値とするこ
とが好ましい。電子輸送性化合物と還元性ドーパントと
の添加比率がこれらの範囲外となると、有機EL素子の
発光輝度が低下したり、寿命が短くなる傾向がある。し
たがって、電子輸送性化合物と還元性ドーパントとの添
加比率を1:10〜10:1(モル比)の範囲内の値と
することがより好ましく、1:5〜5:1の範囲内の値
とすることがさらに好ましい。
【0052】(電子親和力)また、第2実施形態におけ
る電子注入域の電子親和力を1.8〜3.6eVの範囲
内の値とすることが好ましい。電子親和力の値が1.8
eV未満となると、電子注入性が低下し、駆動電圧の上
昇,発光効率の低下をまねく傾向があり、一方で、電子
親和力の値が3.6eVを超えると、発光効率の低い錯
体が発生しやすくなったり、ブロッキング接合の発生を
効率的に抑制することができる。したがって、電子注入
域の電子親和力を、1.9〜3.0eVの範囲内の値と
することがより好ましく、2.0〜2.5eVの範囲内
の値とすることがさらに好ましい。また、電子注入域と
有機発光媒体との電子親和力の差を1.2eV以下の値
とすることが好ましく、0.5eV以下の値とすること
がより好ましい。この電子親和力の差が小さいほど、電
子注入域から有機発光媒体への電子注入が容易となり、
高速応答可能な有機EL素子とすることができる。
【0053】(ガラス転移点)また、第2実施形態にお
ける電子注入域のガラス転移点(ガラス転移温度)を、
100℃以上の値とするのが好ましく、より好ましく
は、105〜200℃の範囲内の値とすることである。
このように電子注入域のガラス転移点を制限することに
より、有機EL素子100の耐熱温度を容易に85℃以
上とすることができる。したがって、発光時に、電流注
入層から有機発光媒体へ電流が注入されてジュール熱が
発生したとしても、電子注入域が短時間で破壊される傾
向が少なくなり、有機EL素子の長寿命化を図ることが
できる。なお、電子注入域のガラス転移点は、電子注入
域を構成する成分について、示差熱走査型熱量計(DS
C)を用い、窒素気流中、昇温速度10℃/分の条件で
加熱した場合に得られる比熱変化曲線から、比熱の変化
点として求めることができる。この点、他の実施形態や
実施例においても同様である。
【0054】(エネルギーギャップ)また、第2実施形
態における電子注入域のエネルギーギャップ(バンドギ
ャップエネルギー)を2.7eV以上の値とすることが
好ましく、3.0eV以上の値とすることがより好まし
い。このように、エネルギーギャップの値を所定値以
上、例えば2.7eV以上と大きくしておけば、正孔が
有機発光媒体を超えて電子注入域に移動することが少な
くなる。したがって、正孔と電子との再結合の効率が向
上し、有機EL素子の発光輝度が高まるとともに、電子
注入域自体が発光することを回避することができる。
【0055】(電子注入域の構造)また、第2実施形態
における電子注入域の構造についても、特に制限される
ものではなく、一層構造に限らず、例えば、二層構造ま
たは三層構造であっても良い。また、電子注入域の厚さ
について特に制限されるものではないが、例えば0.1
nm〜1μmの範囲内の値とするのが好ましく、1〜5
0nmの範囲内の値とするのがより好ましい。
【0056】(電子注入域の形成方法)次に、電子注入
域を形成する方法について説明する。電子注入域の形成
方法については、均一な厚さを有する薄膜層として形成
出来れば特に制限されるものではないが、例えば、蒸着
法、スピンコート法、キャスト法、LB法等の公知の方
法を適用することができる。なお、窒素原子を含まない
芳香族環化合物と、還元性ドーパントとは同時蒸着する
ことが好ましいが、この蒸着法については、第3の実施
形態において詳述する。
【0057】また、電子注入域と、有機発光媒体の形成
方法を一致させることが好ましい。例えば、有機発光媒
体を蒸着法で形成する場合には、電子注入域も蒸着法で
形成するのが好ましい。このように同一方法で製膜する
と、電子注入域と有機発光媒体とを連続的に製膜できる
ので、設備の簡略化や精算時間の短縮を図る上で有利で
ある。また、電子注入域と有機発光媒体とが酸化される
機会が少なくなるので、有機EL素子における発光輝度
を向上させることも可能となる。
【0058】[第3の実施形態]次に、図2および図3
を参照して、本発明の第3の実施形態について説明す
る。第3の実施形態は、有機発光媒体等が大面積であっ
ても構成材料の組成比を均一とし、有機EL素子の駆動
電圧のばらつきを低下させ、寿命の均一化を図ることが
できるとともに、省スペース可が可能な有機EL素子の
製造方法を提供するものである。なお、第3の実施形態
において、陽極層10との界面付近の低分子有機発光物
質を酸化する工程を含んでいることは言うまでもない。
【0059】すなわち、図2および図3に示すような真
空蒸着装置201を一例として用い、基板203に対向
して配置した複数の蒸着源212A〜212Fから、異
なる蒸着材料を同時に蒸発させて製膜を行う有機EL素
子用薄膜層の蒸着方法であって、基板203に、当該基
板203を自転させるための回転軸線213Aを設定
し、蒸着源212A〜212Fをそれぞれ基板203の
回転軸線213Aから離れた位置に配設し、基板203
を自転させながら蒸着を行うことを特徴とする。
【0060】ここで、図2および図3に示す真空蒸着装
置201は、真空槽210と、この真空槽210内の上
部に設置された、基板203を固定するための基板ホル
ダ211と、この基板ホルダ211の下方に対向配置さ
れた、蒸着材料を充填するための複数(6個)の蒸着源
212A〜212Fとを含んで構成されている。この真
空槽210は、排気手段(図示せず。)により、内部を
所定の減圧状態に維持できるようになっている。なお、
蒸着源の数は、図面上6つ示されているが、これに限定
されるものではなく、5つ以下であってもよく、あるい
は7つ以上であってもよい。
【0061】また、基板ホルダ211は、基板203の
周縁部を支持する保持部212を備え、真空槽210内
で、基板203を水平に保持するように構成されてい
る。この基板ホルダ211の上面の中央部分には、基板
203を回転(自転)させるための回転軸部213が垂
直方向に立設されている。この回転軸部213には、回
転騒動手段であるモータ214が接続され、モータ21
4の回転動作により、基板ホルダ211に保持された基
板203が、当該基板ホルダ211とともに回転軸部2
13を回転中心として自転するようになっている。すな
わち、基板203の中心には、回転軸部213による回
転軸線213Aが垂直方向に設定されている。
【0062】次に、このように構成された真空蒸着装置
201を用いて、有機発光媒体12および電子注入域1
4を基板203上に製膜する方法について、具体的に説
明する。まず、図2に示すような平面正方形状の基板2
03を用意し、この基板203を基板ホルダ211の保
持部212に係止して水平な状態とする。この点、図2
に示す基板203が水平状態に保持されているのは、こ
のことを示している。
【0063】ここで、仮想円221上で、隣接する二つ
の蒸着源212B、212C、および212Dに、電子
輸送性化合物と、還元性ドーパントと、酸化性ドーパン
トをそれぞれ充填した後、排気手段により真空槽210
内を所定の真空度、例えば1.0×10-4Torrにな
るまで減圧する。なお、有機発光媒体12等を形成する
にあたり、二種類以上の電子輸送性化合物を蒸着するこ
とも好ましく、あるいは、正孔輸送性化合物と電子輸送
性化合物とを組み合わせて均一に蒸着したり、さらに
は、正孔輸送性化合物に対して、陰極に近い程電子輸送
性化合物の濃度を高めることも好ましい。
【0064】次いで、蒸着源212B〜212Dをそれ
ぞれ加熱して、有機発光媒体12を形成する際には、電
子輸送性化合物と酸化性ドーパントとを蒸着させ、電子
注入域14を形成する際には、電子輸送性化合物と還元
性ドーパントとを蒸着させるとともに、モータ214を
回転騒動させて、基板203を回転軸線213Aに沿っ
て所定速度、例えば1〜100rpmで回転させる。こ
のようにして、基板203を自転させながら電子輸送性
化合物および還元性ドーパント等を同時蒸着して有機発
光媒体12あるいは電子注入域14を製膜する。
【0065】このとき、有機発光媒体12を形成するに
あたり、陽極層10からの正孔の注入性を向上させるた
めに、有機発光媒体12における陽極層10と接する部
分を酸化させることになる。この酸化方法は特に制限さ
れるものではないが、例えば、以下に示す第1〜第4の
方法をそれぞれ独立、あるいは適宜組み合わせて実施す
ることが好ましい。
【0066】第1の方法 電子輸送性化合物および酸化性ドーパントの蒸着速度の
合計値を一定速度に保持したまま、陽極層10との界面
付近では酸化性ドーパントの蒸着速度を電子輸送性化合
物の蒸着速度よりも早くし、その後は、酸化性ドーパン
トの蒸着速度を徐々に遅くする一方、電子輸送性化合物
の蒸着速度を早くすることにより、陽極層10との界面
付近での電子輸送性化合物を部分酸化することができ
る。
【0067】第2の方法 陽極層10上に予め酸化性ドーパントを存在(塗布)し
ておき、その状態で、電子輸送性化合物を蒸着すること
により、陽極層10との界面付近での電子輸送性化合物
を選択的に部分酸化することができる。
【0068】第3の方法 電子輸送性化合物の蒸着開始時には、大気圧状態、すな
わち、酸素が比較的多い酸化雰囲気とし、その後は、減
圧状態、すなわち、酸素が比較的少ない非酸化状態とす
ることにより、陽極層10との界面付近での電子輸送性
化合物の部分酸化を達成することができる。
【0069】第4の方法 電子輸送性化合物の蒸着開始時には、基板温度を高温、
すなわち、比較的酸化雰囲気とし、その後は、基板温度
を低温、すなわち、比較的非酸化状態とすることによ
り、陽極層10との界面付近での電子輸送性化合物の部
分酸化を達成することができる。
【0070】また、図3に示すように、蒸着源212B
および212Cは、基板203の回転軸線213Aか
ら、水平方向に所定距離Mだけずれた位置に設けられて
いるので、基板203の回転により、電子輸送性化合物
および還元性ドーパントの基板203への入射角度を規
則的に変化させることができる。したがって、蒸着材料
を基板203に対して一様に付着させることができ、電
子注入域14の膜面内で、蒸着材料の組成比が均一、例
えば、濃度ムラが±10%(モル換算)である薄膜層を
確実に製膜することができる。また、このように蒸着を
実施することにより、基板203を公転させなくてもよ
いので、そのスペースや設備が不要になり、最小限のス
ペースで経済的に製膜を行うことができる。なお、基板
を公転させるとは、基板以外に存在する回転軸の周りを
回転させることをいい、自転させる場合よりも広い空間
が必要となる。
【0071】また、第3の実施形態の製造方法を実施す
るにあたり、基板203の形状は特に限定されないが、
例えば、図2に示すように、基板203が短形平板状で
ある場合、この基板203の回転軸線213Aを中心と
する仮想円221の円周上に沿って複数の蒸着源212
A〜212Fを配設し、仮想円221の半径をM、基板
203の一辺の長さをLとしたときに、M>(1/2)
×Lを満足することが望ましい。なお、基板203の辺
の長さがそれぞれ同一でなく、異なる場合には、最も長
い辺の長さをLとする。このように構成することによ
り、複数の蒸着源212A〜212Fから、基板203
に対する蒸着材料の入射角度を互いに同一にできるの
で、蒸着材料の組成比をより容易に制御することができ
る。また、このように構成することにより、蒸発材料
が、基板203に対して一定の入射角度を以て蒸発され
るため、垂直に入射することがなくなり、膜面内におけ
る組成比の均一性を一層向上させることができる。
【0072】また、第3の実施形態の製造方法を実施す
るにあたり、図2に示すように、複数の蒸着源212A
〜212Fを、基板203の回転軸線213Aを中心と
する仮想円221の円周上に配設し、複数の蒸着源21
2A〜212Fの配設数(個数)をnとしたときに、各
蒸着源212A〜212Fを、仮想円221の中心から
360°/nの角度で配設することが好ましい。例え
ば、蒸着源212を6個配設する場合には、仮想円22
1の中心から60°の角度で配設することが好適であ
る。このように配置すると、基板203の各部分に対し
て、複数の蒸着材料を順次重ねるように製膜できるの
で、膜の厚さ方向において、組成比が規則的に異なる薄
膜層を容易に製膜することができる。
【0073】以上、説明した実施形態においては、この
発明を特定の条件で構成した例について説明したが、こ
の実施形態は、種々の変更を行うことができる。例え
ば、上述した実施形態においては、有機発光媒体と電子
注入域とを個別に設けたが、有機発光媒体と電子注入域
とを併せて一つの層としても良い。また、陰極層と陽極
層との間に、任意好適な層、例えば、有機半導体層や無
機半導体層、あるいは付着改善層を挿入しても良い。
【0074】
【実施例】[実施例1] (1)有機EL素子の製造準備 実施例1の有機EL素子を製造するにあたっては、ま
ず、厚さ1.1mm、縦200mm、横200mmの透
明なガラス基板上に、陽極層としてITOの透明電極膜
を形成した。次いで、イソプロピルアルコールで超音波
洗浄し、さらに、N2(窒素ガス)雰囲気中で乾燥させ
た後、UV(紫外線)およびオゾンを用いてさらに10
分間洗浄した。以下、このガラス基板と陽極層とを併せ
て基板とする。次いで、洗浄した基板を、真空蒸着装置
(日本真空技術(株)製)における真空槽の基板ホルダに
装着するとともに、界面付近の有機発光媒体材料(DP
VTPおよびDDQ)、発光媒体材料(DPVTPおよ
びDPAVBi)、電子注入域用材料(Alq)、陰極
層材料(アルミニウムおよびリチウム)をそれぞれ各蒸
着源に充填した。なお、DPVTP、DDQおよびDP
AVBiの構造式を下記式(6)、下記式(7)および
下記式(8)にそれぞれ示す。
【0075】
【化8】
【0076】
【化9】
【0077】
【化10】
【0078】(2)有機EL素子の製造 次いで、真空槽内を、1×10-6Torrの真空度にな
るまで減圧した後、基板の陽極層上に、厚さ100Åの
界面付近の層、厚さ400Åの発光媒体、厚さ200Å
の電子注入域、および厚さ2000Åの陰極層を順次に
積層して有機EL素子を得た。また、有機発光媒体を形
成する際には、第3の実施形態に示す方法にしたがいD
PVTPおよびDDQを同時蒸着し、DPVTPの蒸着
速度を50Å/秒とし、DDQの蒸着速度を10Å/秒
とした。また、電子輸送域を形成する際にも、DPVT
PおよびDPAVBiを同時蒸着し、DPVTPの蒸着
速度を50Å/秒とし、DPAVBiの蒸着速度を1Å
/秒とした。また、Alqの蒸着速度を2Å/秒とし
た。さらに、陰極層を形成するする際にも、アルミニウ
ムおよびリチウムを同時蒸着し、アルミニウムの蒸着速
度を10Å/秒とし、リチウムの蒸着速度を0.1Å/
秒とした。なお、有機発光媒体の形成から陰極層の形成
までの間は、一度も真空状態を破ることなく有機EL素
子を作製した。
【0079】(3)有機EL素子の評価 得られた有機EL素子における陰極層をマイナス(−)
電極、陽極層をプラス(+)電極として、両電極間に6
Vの直流電圧を印加した。このときの電流密度は1.5
mA/cm2であり、そのときの発光輝度は64cd/
2であり、発光色は青色であった。
【0080】[実施例2]実施例2では、実施例1の界
面付近の有機発光媒体材料として、下記式(9)で表さ
れるTPDおよびDDQを用い、次いで、正孔輸送性材
料であるTPD(厚さ100Å)を単独で用いた後、実
施例1と同様の発光媒体材料を用いたほかは、実施例1
と同様に有機EL素子を作製し、6Vの直流電圧を印加
して発光状態を評価した。その結果、電流密度は2.1
mA/cm2であり、そのときの発光輝度は65cd/
2であり、発光色は青色であった。
【0081】
【化11】
【0082】[実施例3]実施例3では、実施例1の界
面付近の有機発光媒体材料および発光媒体材料の両方に
おけるDPVTPの代わりに、下記式(10)で表され
るSA−1を用いたほかは、実施例1と同様に有機EL
素子を作製し、6Vの直流電圧を印加して発光状態を評
価した。その結果、電流密度は1.6mA/cm2であ
り、そのときの発光輝度は59cd/m2であり、発光
色は青色であった。
【0083】
【化12】
【0084】[実施例4]実施例4では、実施例1の界
面付近の有機発光媒体材料および発光媒体材料の両方に
おけるDPVTPの代わりに、下記式(11)で表され
るSA−2を用いたほかは、実施例1と同様に有機EL
素子を作製し、6Vの直流電圧を印加して発光状態を評
価した。その結果、電流密度は1.6mA/cm2であ
り、そのときの発光輝度は59cd/m2であり、発光
色は青色であった。
【0085】
【化13】
【0086】[実施例5]実施例5では、実施例1の有
機発光媒体におけるDPAVBiを用いなかったほか
は、実施例1と同様に有機EL素子を作製し、6Vの直
流電圧を印加して発光状態を評価した。その結果、電流
密度は1.1mA/cm2であり、そのときの発光輝度
は24cd/m2であり、発光色は青色であった。
【0087】[実施例6]実施例6では、実施例1の有
機発光媒体におけるDPVTPおよびDPAVBiの代
わりに、DPVTPおよびAlqを同時蒸着したほか
は、実施例1と同様に有機EL素子を作製し、6Vの直
流電圧を印加して発光状態を評価した。なお、DPVT
PおよびAlqの蒸着速度をそれぞれ25Å/秒とし
た。その結果、電流密度は1.1mA/cm2であり、
そのときの発光輝度は22cd/m2であり、発光色は
緑色であった。
【0088】[実施例7]実施例7では、実施例1の有
機発光媒体におけるDPVTPおよびDPAVBiを一
定蒸着速度で同時蒸着する代わりに、DPVTPおよび
Alqの蒸着速度の合計値を50Å/秒に保持しなが
ら、DPVTPの蒸着速度を徐々に遅くするとともに、
Alqの蒸着速度は徐々に速くしたほかは、実施例1と
同様に有機EL素子を作製した。すなわち、有機発光媒
体の形成開始時には、DPVTPのみを50Å/秒で蒸
着し、DPVTPの蒸着速度を徐々に遅くする一方、A
lqの同時蒸着を開始し、有機発光媒体の厚がさ400
Åになった時点で、Alqの蒸着速度が50Å/秒とな
るように調節して蒸着した。そして、実施例1と同様に
6Vの直流電圧を印加して発光状態を評価した。その結
果、電流密度は1.2mA/cm2であり、そのときの
発光輝度は25cd/m2であり、発光色は緑色であっ
た。
【0089】[実施例8]実施例8では、実施例1の電
子注入域用材料におけるAlqの代わりに、DPVTP
およびCsを同時蒸着したほかは、実施例1と同様に有
機EL素子を作製した。この時のDPVTPの蒸着速度
は50Å/秒で、Csの蒸着速度は10Å/秒であっ
た。そして、実施例1と同様に6Vの直流電圧を印加し
て発光状態を評価した。その結果、電流密度は1.4m
A/cmであり、そのときの発光輝度は31cd/m
であり、発光色は青色であった。
【0090】[比較例1]比較例1では、実施例1の有
機発光媒体におけるDDQを同時蒸着せずに、DPVT
Pを酸化しなかったほかは、実施例1と同様に有機EL
素子を作製し、6Vの直流電圧を印加して発光状態を評
価した。その結果、電流密度は0.3mA/cm2と著
しく低くなり、そのときの発光輝度は11cd/m2
あり、発光色は青色であった。
【0091】[比較例2]比較例2では、実施例1の有
機発光媒体におけるDPVTPおよびDDQの代わり
に、TPDのみを用いたほかは、実施例1と同様に有機
EL素子を作製し、6Vの直流電圧を印加して発光状態
を評価した。その結果、電流密度は0.8mA/cm2
と著しく低くなり、そのときの発光輝度は30cd/m
2であり、発光色は青色であった。
【0092】[比較例3]比較例3では、実施例1の有
機発光媒体におけるDDQおよび電子輸送域におけるD
PAVBiを用いなかったほかは、実施例1と同様に有
機EL素子を作製し、6Vの直流電圧を印加して発光状
態を評価した。その結果、電流密度は0.3mA/cm
2と著しく低くなり、そのときの発光輝度は7cd/m2
であり、発光色は青色であった。
【0093】
【発明の効果】以上、詳細に説明したように、本発明の
有機EL素子によれば、陽極層との界面付近の低分子有
機発光物質を、酸化性ドーパント等を用いて酸化するこ
とにより、低電圧駆動(一例として、直流電圧7V以
下)において、発光効率の向上(一例として、発光輝度
30cd/m2以上)を図ることができようになった。
【0094】また、本発明の有機EL素子の製造方法に
よれば、陽極層との界面付近の低分子有機発光物質を酸
化する工程を含むことにより、低電圧駆動(一例とし
て、直流電圧7V以下)において、高い発光効率(一例
として、発光輝度30cd/m2以上)を有する有機E
L素子を効率的に提供することができようになった。
【図面の簡単な説明】
【図1】第1〜第2の実施形態における有機EL素子の
断面図である。
【図2】第3の実施形態における真空蒸着装置の斜視図
である。
【図3】第3の実施形態における真空蒸着装置の断面図
である。
【図4】従来の有機EL素子の断面図である(その
1)。
【図5】従来の有機EL素子の断面図である(その
2)。
【符号の説明】
10 陽極層 12 有機発光媒体 14 電子注入域 16 陰極層 18 正孔注入輸送層 20 透光性基板(ガラス基板) 30 基板 100、102、104 有機EL素子 201 真空蒸着装置 203 基板 210 真空槽 211 基板ホルダ 212 保持部 212A〜212F 蒸着源 213 回転軸部 213A 回転軸線 214 モータ 221 仮想円

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 少なくとも陽極層、有機発光媒体、およ
    び陰極層からなる有機エレクトロルミネッセンス素子に
    おいて、 前記有機発光媒体が低分子有機発光物質からなり、陽極
    層との界面付近の低分子有機発光物質が酸化してあるこ
    とを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子。
  2. 【請求項2】 前記有機発光媒体が酸化性ドーパントを
    含むことを特徴とする請求項1に記載の有機エレクトロ
    ルミネッセンス素子。
  3. 【請求項3】 前記酸化性ドーパントを、前記陽極層と
    の界面付近の低分子有機発光物質中に局在させて含むこ
    とを特徴とする請求項2に記載の有機エレクトロルミネ
    ッセンス素子。
  4. 【請求項4】 前記酸化性ドーパントが、キノン誘導
    体、ハロゲン化金属、ルイス酸、有機酸、ハロゲン化金
    属塩、ルイス酸塩、有機酸塩、およびフラーレン類から
    なる群から選択される少なくとも一つの化合物であるこ
    とを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載の有
    機エレクトロルミネッセンス素子。
  5. 【請求項5】 前記低分子有機発光物質の平均分子量を
    2000以下の値とすることを特徴とする請求項1〜4
    のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス
    素子。
  6. 【請求項6】 前記低分子有機発光物質が、下記一般式
    (1)〜(3)で表されるいずれか一つのスチリル基を
    有する化合物であることを特徴とする請求項1〜5の有
    機エレクトロルミネッセンス素子。 【化1】 [一般式(1)中、Ar1は、炭素数が6〜40の芳香
    族基であり、Ar2、Ar3、およびAr4は、それぞれ
    水素原子または炭素数が6〜40の芳香族基であって、
    少なくとも一つは芳香族基であり、縮合数nは、1〜6
    の整数である。] 【化2】 [一般式(2)中、Ar5は、炭素数が6〜40の芳香
    族基であり、Ar6およびAr7は、それぞれ水素原子ま
    たは炭素数が6〜40の芳香族基であり、Ar5、Ar6
    およびAr7の少なくとも一つはスチリル基で置換され
    ており、縮合数mは、1〜6の整数である。] 【化3】 [一般式(3)中、Ar9〜Ar13は、炭素数が6〜4
    0の芳香族基であり、Ar8およびAr14は、それぞれ
    水素原子または炭素数が6〜40の芳香族基であり、A
    8〜Ar14の少なくとも一つはスチリル基で置換され
    ており、縮合数p、q、r、sは、それぞれ0または1
    である。]
  7. 【請求項7】 前記有機発光媒体における電子移動度を
    μe、正孔移動度をμhとしたときに、下記条件を満足す
    ることを特徴とする請求項1〜6のいずれか一項に記載
    の有機エレクトロルミネッセンス素子。μh>μe>μh
    /1000
  8. 【請求項8】 請求項1〜7のいずれか一項に記載の有
    機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法において、
    前記陽極層との界面付近の低分子有機発光物質を酸化す
    る工程を含むことを特徴とする有機エレクトロルミネッ
    センス素子の製造方法。
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