JP2000294981A - 電磁波シールド性接着フィルム、これを用いた電磁波遮蔽構成体及びディスプレイ - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】電磁波シールド性と、透明性非視認性および良
好な接着特性を有する電磁波シールド性接着フィルムを
得ることを課題とする。 【解決手段】導電性金属により描かれた幾何学図形を有
する電磁波シールドフィルムにおいて、その導電性金属
面側を、貯蔵弾性率（Ｇ'）が２５℃で５×１０⁵Ｐａ以
上かつ８０℃で５×１０⁴Ｐａ以下の接着剤で被覆した
電磁波シールド性接着フィルム。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明はＣＲＴ、ＰＤＰ（プ
ラズマ）、液晶、ＥＬなどのディスプレイ前面から発生
する電磁波のシールド性および赤外線の遮蔽性を有する
電磁波シールド性接着フィルム、これを用いた電磁波遮
蔽構成体及びディスプレイに関する。

【０００２】

【従来の技術】近年各種の電気設備や電子応用設備の利
用が増加するのに伴い、電磁気的なノイズ妨害も増加の
一途をたどっている。ノイズは大きく分けて伝導ノイズ
と放射ノイズに分けられ、伝導ノイズの対策としては、
ノイズフィルタなどを用いる方法がある。一方、放射ノ
イズの対策としては、電磁気的に空間を絶縁する必要が
あるため、筐体を金属体または高導電体にするとか、回
路基板と回路基板の間に金属板を挿入するとか、ケーブ
ルを金属箔で巻き付けるなどの方法が取られている。こ
れらの方法では、回路や電源ブロックの電磁波シールド
効果を期待できるが、ＣＲＴ、ＰＤＰなどのディスプレ
イ前面より発生する電磁波シールド用途としては、不透
明であるため適用できなかった。

【０００３】電磁波シールド性と透明性を両立させる方
法として、透明性基材上に金属または金属酸化物を蒸着
して薄膜導電層を形成する方法（特開平１−２７８８０
０号公報、特開平５−３２３１０１号公報参照）が提案
されている。一方、良導電性繊維を透明基材に埋め込ん
だ電磁波シールド材（特開平５−３２７２７４号公報、
特開平５−２６９９１２号公報参照）や金属粉末等を含
む導電性樹脂を透明基板上に直接印刷した電磁波シール
ド材料（特開昭６２−５７２９７号公報、特開平２−５
２４９９号公報参照）、さらには、厚さが２ｍｍ程度の
ポリカーボネート等の透明基板上に透明樹脂層を形成
し、その上に無電解めっき法により銅のメッシュパター
ンを形成した電磁波シールド材料（特開平５−２８３８
８９号公報参照）が提案されている。

【０００４】電磁波シールド性と透明性を両立させる方
法として、特開平１−２７８８００号公報、特開平５−
３２３１０１号公報に示されている透明性基材上に金属
または金属酸化物を蒸着して薄膜導電層を形成する方法
は、透明性が達成できる程度の膜厚（数１００Å〜２，
０００Å）にすると導電層の表面抵抗が大きくなりすぎ
るため、３０ＭＨｚ〜１ＧＨｚで要求される３０ｄＢ以
上のシールド効果が要求されるところ、２０ｄＢ以下と
不十分となる。

【０００５】良導電性繊維を透明基材に埋め込んだ電磁
波シールド材（特開平５−３２７２７４号公報、特開平
５−２６９９１２号公報）では、３０ＭＨｚ〜１ＧＨｚ
の電磁波シールド効果は４０〜５０ｄＢと十分大きい
が、電磁波漏れのないように導電性繊維を規則配置させ
るためには、繊維径を３５μｍ以上の太さにせざるを得
ず、繊維が肉眼で見えるようになる（以後視認性とい
う）ので、ディスプレイ用途には適したものではなかっ
た。

【０００６】また、特開昭６２−５７２９７号公報、特
開平２−５２４９９号公報の金属粉末等を含む導電性樹
脂を透明基板上に直接印刷した電磁波シールド材料の場
合も同様に、印刷精度の限界からライン幅の最小幅は、
１００μｍ前後となり視認性が発現するため適したもの
ではなかった。

【０００７】さらに特開平５−２８３８８９号公報に記
載の厚さが２ｍｍ程度のポリカーボネート等の透明基板
上に透明樹脂層を形成し、その上に無電解めっき法によ
り銅のメッシュパターンを形成したシールド材料では、
無電解めっきの密着力を確保するために、透明基板の表
面を粗化する必要がある。この粗化手段として、一般に
クロム酸や過マンガン酸などの毒性の高い酸化剤を使用
しなければならず、この方法は、ＡＢＳ以外の樹脂で
は、満足できる粗化を行うことは困難となる。また、こ
の方法により、電磁波シールド性と透明性は達成できた
としても、透明基板の厚さを小さくすることは困難で、
フィルム化の方法としては適していなかった。さらに透
明基板が厚いと、ディスプレイに密着させることができ
ないため、そこから電磁波の漏洩が大きくなる。また、
この方法では、製造面において、シールド材料を巻物等
にすることができないため嵩高くなることや自動化に適
していないために製造コストがかさむという欠点もあっ
た。ディスプレイ前面から発生する電磁波のシールド性
については、３０ＭＨｚ〜１ＧＨｚにおける３０ｄＢ以
上の電磁波シールド機能の他に、良好な可視光透過性、
さらに可視光透過率が大きいだけでなく、電磁波の漏れ
を防止するためディスプレイ面に密着して貼付けられる
接着性、シールド材の存在を肉眼で確認することができ
ない特性である非視認性も必要とされる。

【０００８】シールド材の接着性についてはガラスや汎
用プラスチック板に対し比較的低温で容易に貼付き、長
期間にわたって良好な密着性を有することが必要であ
る。しかし、電磁波シールド性、赤外線遮蔽性、透明性
・非視認性、接着性等の特性を同時に十分満たす接着フ
ィルムとしては、これまで満足なものは得られていなか
った。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】本発明はかかる点に鑑
み、電磁波シールド性と、透明性非視認性および良好な
接着特性を有する電磁波シールド性接着フィルム、これ
を用いた電磁波遮蔽構成体及びディスプレイを得ること
を課題とする。

【００１０】

【課題を解決するための手段】本発明は次のものに関す
る。 （１） 導電性金属により描かれた幾何学図形を有する
電磁波シールドフィルムにおいて、その導電性金属面側
を、貯蔵弾性率（Ｇ’）が２５℃で５×１０⁵Ｐａ以上
かつ８０℃で５×１０⁴Ｐａ以下の接着剤で被覆した電
磁波シールド性接着フィルム。 （２） 接着剤の屈折率が１．４５〜１．７０の範囲に
ある（１）記載の電磁波シールド性接着フィルム。 （３） 接着剤が重量平均分子量５万〜１００万の範囲
のアクリル系重合体と重量平均分子量１００〜１０，０
００の範囲のアクリル系重合体とのブレンドである
（１）または（２）記載の電磁波シールド性接着フィル
ム。 （４） 重量平均分子量５万〜１００万の範囲のアクリ
ル系重合体と重量平均分子量１００〜１万の範囲のアク
リル系重合体とのブレンド比が、重量比で９０／１０〜
１０／９０である（３）の記載の電磁波シールド性接着
フィルム。 （５） 被覆した接着剤の厚さが導電性金属の厚さ以上
であることを特徴とする（１）〜（４）のいずれかに記
載の電磁波シールド性接着フィルム。 （６） 接着剤が、接着剤付きプラスチックフィルムで
ある（１）〜（５）のいずれかに記載の電磁波シールド
性接着フィルム。 （７） 接着剤付きプラスチックフィルムのプラスチッ
クフィルムが剥離できることを特徴とする（６）記載の
電磁波シールド性接着フィルム。 （８） 被覆した接着剤付きプラスチックフィルムのプ
ラスチックフィルムを剥離し、露出した接着剤を介して
被着体に容易に接着することができることを特徴とする
（７）記載の電磁波シールド性接着フィルム。 （９） 導電性金属で描かれた幾何学図形のライン幅が
４０μｍ以下、ライン間隔が１００μｍ以上、ライン厚
さが４０μｍ以下である（１）〜（８）のいずれかに記
載の電磁波シールド性接着フィルム。 （１０） 電磁波シールドフィルムの導電性金属が、厚
さ０．５〜４０μｍの銅、アルミニウムまたはニッケル
である（１）〜（９）のいずれかに記載の電磁波シール
ド性接着フィルム。 （１１） 電磁波シールドフィルムのプラスチックフィ
ルムがポリエチレンテレフタレートフィルムまたはポリ
カーボネートフィルムである（１）〜（１０）のいずれ
かに記載の電磁波シールド性接着フィルム。 （１２） 導電性金属が銅であり、少なくともその表面
が黒化処理されていることを特徴とする（１）〜（１
１）のいずれかに記載の電磁波シールド性接着フィル
ム。 （１３） 導電性金属が常磁性金属である（１）〜（１
１）のいずれかに記載の電磁波シールド性接着フィル
ム。 （１４） 導電性金属で描かれた幾何学図形の開口率が
５０％以上であることを特徴とする（１）〜（１３）の
いずれかに記載の電磁波シールド性接着フィルム。 （１５） 幾何学図形の形成方法が、マイクロリソグラ
フ法、スクリーン印刷法または凹版オフセット印刷法を
利用する方法である（１）〜（１４）のいずれかに記載
の電磁波シールド性接着フィルム。 （１６） マイクロリソグラフ法がケミカルエッチング
法である（１５）記載の電磁波シールド性接着フィル
ム。 （１７） （１）〜（１６）のいずれかに記載の電磁波
シールド性接着フィルムとプラスチック基板もしくはガ
ラス板から構成される電磁波遮蔽構成体。 （１８） （１）〜（１７）のいずれかに記載の電磁波
シールド性接着フィルムをプラスチック基板もしくはガ
ラス板の少なくとも片面に貼り合わせてなる電磁波遮蔽
構成体。 （１９） （１）〜（１６）のいずれかに記載の電磁波
シールド性接着フィルムを用いたディスプレイ。 （２０） （１７）〜（１９）のいずれかに記載の電磁
波遮蔽構成体を用いたディスプレイ。

【００１１】

【発明の実施の形態】以下本発明を詳細に説明する。本
発明で用いる導電性金属で描かれた幾何学図形を有した
電磁波シールドフィルムは、プラスチックフィルムの片
面に接着剤を介して幾何学図形を配置した構成もしくは
プラスチックフィルムの片面に直接幾何学図形を配置し
たいずれの構成でももちいることができる。導電性金属
面側を被覆する接着剤は、２５℃での貯蔵弾性率
（Ｇ’）が５×１０⁵Ｐａ以上かつ８０℃でのＧ’が５
×１０⁴Ｐａ以下と良好な高温流動性を示す組成物であ
るとが好ましく、電磁波シールド性接着フィルムを被着
体であるディスプレイ、ガラス板、プラスチック板に接
着剤を介して容易に接着することができる。この接着剤
は、上述した電磁波シールドフィルムを被覆すると同時
に導電性金属で描かれた幾何学図形の開口に流動し凹凸
を充填することで散乱が防止でき高い透明性が得られ
る。上記の導電性金属面側を被覆する接着剤は、電磁波
シールド性接着フィルムの導電性金属面側を被覆する層
として形成されているが、この層は、接着剤溶液を塗布
して乾燥することにより、また、接着剤を溶融塗布する
ことにより、作製することができる。また、接着剤付き
プラスチックフィルムの接着剤層側と電磁波シールドフ
ィルムの導電性金属面側を併せるようにして接着し、プ
ラスチックフィルムを剥離することにより、上記の電磁
波シールド性接着フィルムを作製することができる。電
磁波シールド性接着フィルムは、その接着剤を介して被
着体と接着させられる。この接着剤は、前記したとお
り、貯蔵弾性率Ｇ’が５×１０⁵Ｐａ以上、好ましくは
１×１０⁶Ｐａ以上であり、使用環境下ではタックフリ
ーとなるため、被着体の上に置いた電磁波シールド性接
着フィルムを自由に位置合わせするこができる。さら
に、上記の接着剤は、接着温度例えば８０℃では５×１
０⁴Ｐａ以下、好ましくは１×１０³Ｐａ以下であり、流
動性が良好であるため、電磁波シールド性接着フィルム
を被着体にラミネートやプレス成形により、また曲面、
複雑形状を有する被着体にも容易に接着することができ
る。本発明に記載された接着剤の貯蔵弾性率はＧ’は、
厚み０.５ｍｍ程度の接着剤皮膜を作製し、粘弾性測定
装置で測定して得られた値とする。粘弾性測定装置とし
ては、レオメトリック・サイエンティフィック・エフ・
イー社製の商品名ＡＲＥＳ−２ＫＳＴＤ等を使用するこ
とができる。

【００１２】前記接着剤としては、長期使用に対して黄
変しにくい耐候性良好なアクリル系重合体が好適に用い
られる。アクリル系重合体とは、メチルアクリレート、
エチルアクリレート、プロピルアクリレート、ブチルア
クリレート、ジエチルプロピルアクリレート、エチルヘ
キシルアクリレート、ドデシルアクリレート、テトラデ
シルアクリレート等の炭素数１〜２４アルキル基を有す
るアルキルアクリレート、２−ニトロ−２−メチルプロ
ピルアクリレート等のニトロアルキルアクリレート、シ
クロヘキシルアクリレート、トリメチルシクロヘキシル
アクリレート等のシクロアルキルアクリレート、ヒドロ
キシエチルアクリレート、ヒドロキシプロピルアクリレ
ート等のヒドロキシアルキルアクリレート、エトキシプ
ロピルアクリレート等のアルコキシアルキルアクリレー
ト、グリシジルアクリレート、アクリル酸、アクリルア
ミド、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、
プロピルメタクリレート、ブチルメタクリレート、ジエ
チルプロピルメタクリレート、エチルヘキシルメタクリ
レート、デシルメタクリレート、テトラデシルメタクリ
レート、ジエチルプロピルメタクリレート等の炭素数１
〜２４アルキル基を有するアルキルメタクリレート、２
−ニトロ−２−メチルプロピルメタクリレート等のニト
ロアルキルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレ
ート、トリメチルシクロヘキシルメタクリレート等のシ
クロアルキルメタクリレート、ヒドロキシエチルメタク
リレート、ヒドロキシプロピルメタクリレート等のヒド
ロキシアルキルメタクリレート、エトキシプロピルメタ
クリレート等のアルコキシアルキルメタクリレート、グ
リシジルメタクリレート、メタクリル酸、メタクリルア
ミドなどのアクリルモノマを単独または２種以上組み合
わせて得られるポリマーである。例えば単独重合体とし
ては、ポリエチルアクリレート(n=1.469)、ポリブチル
アクリレート(n=1.466)、ポリ−２−エチルヘキシルア
クリレート(n=1.463)、ポリ−ｔ−ブチルアクリレート
(n=1.464)、ポリ−３−エトキシプロピルアクリレート
(n=1.465)、ポリ（オキシカルボニルテトラメチレン）
(n=1.465)、ポリメチルアクリレート(n=1.472〜1.48
0)、ポリイソプロピルメタクリレート(n=1.473)、ポリ
ドデシルメタクリレート(n=1.474)、ポリテトラデシル
メタクリレート(n=1.475)、ポリ−ｎ−プロピルメタク
リレート(n=1.484)、ポリ−３，３，５−トリメチルシ
クロヘキシルメタクリレート(n=1.484)、ポリエチルメ
タクリレート(n=1.485)、ポリ−２−ニトロ−２−メチ
ルプロピルメタクリレート(n=1.487)、ポリ−１，１−
ジエチルプロピルメタクリレート(n=1.489)、ポリメチ
ルメタクリレート(n=1.489)などがあげられる。共重合
体としては、上述の(メタ)アクリルモノマを２種以上組
み合わせたブロック共重合(n=1.48〜1.49)体またはラン
ダム共重合体(n=1.48〜1.49)があげられる。接着剤の官
能基モノマとしては、グリシジルメタクリレート（グリ
シジル基）、アクリル酸（カルボキシル基）、ヒドロキ
シエチルメタクリレート及びヒドロキシエチルアクリレ
ート（水酸基）、アクリルアミド（アミノ基）等を使用
することができ、それ以外の材料を用いてもよい。なお
上記において、かっこ内のｎは屈折率を示し、以下にお
いても同様である。

【００１３】上述した貯蔵弾性率にするための接着剤組
成としては、重量平均分子量５万〜１００万の範囲のア
クリル共重合体と重量平均分子量１００〜１０，０００
の範囲のアクリル共重合体とをブレンドし、その比が重
量部で９０／１０〜１０／９０であることが好ましい。
これらの範囲から外れると、貯蔵弾性率が所定の値から
大きく異なり、透明性もしくは被着体への接着性の低下
を招く。本発明の電磁波シールドフィルムに用いる接着
剤としては、被覆する接着剤との相溶性、透明性の点か
ら、屈折率が同じアクリル系重合体が好適であるが、以
下の材料についても使用することができる。天然ゴム
(屈折率ｎ=1.52)、ポリイソプレン(n=1.521)、ポリ−
１，２−ブタジエン(n=1.50)、ポリイソブテン(n=1.505
〜1.51)、ポリブテン(n=1.513)、ポリ−２−ヘプチル−
１，３−ブタジエン(n=1.50)、ポリ−２−ｔ−ブチル−
１，３−ブタジエン(n=1.506)、ポリ−１，３−ブタジ
エン(n=1.515)などの（ジ）エン類、ポリオキシエチレ
ン(n=1.456)、ポリオキシプロピレン(n=1.450)、ポリビ
ニルエチルエーテル(n=1.454)、ポリビニルヘキシルエ
ーテル(n=1.459)、ポリビニルブチルエーテル(n=1.456)
などのポリエーテル類、ポリビニルアセテート(n=1.46
7)、ポリビニルプロピオネート(n=1.467)などのポリエ
ステル類、ポリウレタン(n=1.5〜1.6)、エチルセルロー
ス(n=1.479)、ポリ塩化ビニル(n=1.54〜1.55)、ポリア
クリロニトリル(n=1.52)、ポリメタクリロニトリル(n=
1.52)、ポリスルホン(n=1.633)、ポリスルフィド(n=1.
6)、フェノキシ樹脂(n=1.5〜1.6)。本発明で使用する接
着剤には必要に応じて、架橋剤、希釈剤、可塑剤、酸化
防止剤、充填剤、着色剤、紫外線吸収剤や粘着付与剤な
どの添加剤を配合してもよい。

【００１４】本発明に用いる接着剤付プラスチックフィ
ルムにおいて、剥離可能なプラスチックフィルムである
ことが好ましい。プラスチックフィルムを剥離後露出し
た接着剤により被着体に接着することができるようにす
るためであり、一般的な離型フィルムが使用できる。例
えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレンー酢酸
ビニル等のポリオレフィンフィルム、シリコーン離型フ
ィルム、フッ素フィルム、ポリメチルペンテンフィルム
などが好適に用いられる。またこれらを積層した多層フ
ィルムの形態でもよい。上記接着剤付プラスチックフィ
ルムとして、剥離できないか普通では剥離が困難なプラ
スチックフィルムに接着剤を積層したものを使用しても
よいが、この場合には、さらに別に接着剤を介して、被
着体に接着することになる。本発明で用いる電磁波シー
ルドフィルムの導電性金属面側を被覆するための接着剤
の屈折率は１．４５〜１．７０のものを使用するのが好
ましい。特に、電磁波シールドフィルムのプラスチック
フィルム及びプラスチックフィルムと導電性金属とを接
着するために使用した接着剤及び被着体の屈折率がそれ
ぞれ、１．４５〜１．７０であることが好ましい。この
場合に、界面での散乱が少なく、可視光透過率が低下し
にくくなる。本発明で用いる被覆する接着剤の厚さは、
導電性金属の厚さ以上が必要であり、それを下回ると導
電性金属が完全に接着剤で被覆できず、被着体への接着
阻害及び気泡の残存を生じる。接着剤の厚さは、５００
μｍ以下が好ましい。これを超えると電磁波シールド性
接着フィルムの総厚みが厚くなり被着体への接着阻害が
生じる。

【００１５】本発明の接着剤付きプラスチックフィルム
を電磁波シールト゛フィルムの導電性金属面に被覆する方
法として、プレス法、ロールラミネート法、真空加圧式
ラミネート法、真空加熱パック法、オートクレーブ法が
あげられるがそれ以外の方法または組み合わせでもよ
い。また、被着体に接着する方法として、まずプラスチ
ックフィルムを剥離し、露出した接着剤を介して上述し
た設備により被着体に接着させる。本発明の接着剤は流
動性が非常に良好であり、ロールラミネート法、真空加
圧式ラミネート法を利用して接着することが好ましく、
また、接着時の温度は３０〜１００℃が好ましい。接着
時の温度がこの範囲外であると接着剤の浸み出し量が多
くなり外観が不良となったり、被着体との接着性が低下
する傾向がある。

【００１６】本発明の導電性金属として、銅、アルミニ
ウム、ニッケル、鉄、金、銀、ステンレス、タングステ
ン、クロム、チタンなどの金属、あるいはそれらの金属
の２種以上を組み合わせた合金を使用することができ
る。導電性や回路加工の容易さ、価格の点から銅、アル
ミニウムまたはニッケルが適しており、金属箔、めっき
金属、蒸着などの真空下で形成される金属等が使われ
る。厚さは、０．５〜４０μｍが好ましい。厚さが４０
μｍを超えると、細かいライン幅の形成が困難であった
り、視野角が狭くなる。また厚さが０．５μｍ未満で
は、表面抵抗が大きくなり、電磁波シールド効果が劣る
傾向にある。

【００１７】導電性金属が銅であり、少なくともその表
面が黒化処理されたものであると、コントラストが高く
なり好ましい。また、導電性金属が経時的に酸化され退
色することを防止することもできる。黒化処理とは、導
電性金属の表面を黒くすることであるが、この黒化処理
は、幾何学図形の形成前又は形成後に行えばよいが、通
常形成後において、プリント配線板分野で行われている
方法を用いて行うことができる。黒化処理の方法として
は導電性金属の表面を酸化して酸化銅とする方法、例え
ば、亜塩素酸ナトリウム（３１ｇ／ｌ）、水酸化ナトリ
ウム（１５ｇ／ｌ）、燐酸三ナトリウム（１２ｇ／ｌ）
の水溶液中、９５℃で２分間処理する方法がある。ま
た、黒化処理の方法としては導電性金属上に無電解ニッ
ケルメッキを施す方法がある。導電性金属が、常磁性金
属であると、磁場シールド性に優れるために好ましい。
常磁性金属としては、ニッケル、鉄、ステンレス、チタ
ン等がある。

【００１８】かかる導電性金属まず、上記プラスチック
フィルムの片面の全面又はほぼ全面にその層を形成し、
それから、所望の幾何学的図形に加工するのが一般的で
ある。導電性金属の層をプラスチックフィルムに密着さ
せる方法としては、電磁波シールドフィルムの導電性金
属面側を被覆するための接着剤と同系の前記したアクリ
ル系重合体からなる接着剤を介してプラスチックフィル
ムと導電性金属のフィルム又は箔を貼合せるのが最も簡
便である。導電性金属の導電層の厚みを小さくする必要
がある場合は、プラスチックフィルムに、真空蒸着法、
スパッタリング法、イオンプレート法、化学蒸着法、無
電解・電気めっき法などの薄膜形成技術のうちの１の方
法によりまたは２以上の方法を組み合わせることにより
導電性金属の層を形成することにより達成できる。導電
性金属の厚みは４０μｍ以下とすることが好ましく、厚
みが薄いほどディスプレイの視野角が広がり電磁波シー
ルド材料として好ましく、１８μｍ以下とすることがさ
らに好ましい。

【００１９】本発明の電磁波シールドフィルムに使用す
るプラスチックフィルムとしては、ポリエチレンテレフ
タレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレートなどの
ポリエステル類、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ
スチレン、ＥＶＡなどのポリオレフィン類、ポリ塩化ビ
ニル、ポリ塩化ビニリデンなどのビニル系樹脂、ポリサ
ルホン、ポリエーテルサルホン、ポリカーボネート、ポ
リアミド、ポリイミド、アクリル樹脂などのプラスチッ
クからなるフィルムで全可視光透過率が７０％以上で厚
さが１ｍｍ以下のものが好ましい。これらは単層で使う
こともできるが、２層以上を組み合わせた多層フィルム
として使用してもよい。前記プラスチックフィルムのう
ち透明性、耐熱性、取り扱いやすさ、価格の点からポリ
エチレンテレフタレートフィルムまたはポリカーボネー
トフィルムが好ましい。プラスチックフィルム厚さは、
５〜５００μｍが好ましい。５μｍ未満だと取り扱い性
が悪くなり、５００μｍを超えると可視光の透過率が低
下してくる。１０〜２００μｍとすることがより好まし
い。

【００２０】本発明の導電性金属で描かれた幾何学図形
は、正三角形、二等辺三角形、直角三角形などの三角
形、正方形、長方形、ひし形、平行四辺形、台形などの
四角形、（正）六角形、（正）八角形、（正）十二角
形、（正）二十角形などの（正）ｎ角形（ｎは正の整
数）、円、だ円、星型などを組み合わせた模様であり、
これらの単位の単独の繰り返し、あるいは２種類以上組
み合わせで使うことも可能である。電磁波シールド性の
観点からは三角形が最も有効であるが、可視光透過性の
点からは同一のライン幅なら（正）ｎ角形のｎ数が大き
いほど開口率が上がるが、可視光透過性の点から開口率
は５０％以上が必要とされる。開口率は、６０％以上が
さらに好ましい。開口率は、電磁波シールド性接着フィ
ルムの有効面積に対する有効面積から導電性金属で描か
れた幾何学図形の導電性金属の面積を引いた面積の比の
百分率である。ディスプレイ画面の面積を電磁波シール
ド性接着フィルムの有効面積とした場合、その画面が見
える割合となる。

【００２１】前記した導電性金属の層から幾何学図形を
形成する方法としては、マイクロリソグラフ法、スクリ
ーン印刷法、凹版オフセット印刷法等を利用する方法を
もちいることができる。なかでもマイクロリソグラフ法
を利用する方法が回路加工の精度の点から有効である。
マイクロリソグラフ法を利用する方法は、プラスチック
フィルム上に形成された導電性金属の層に活性電磁波の
照射により感光する感光層を設け、この感光層に像様露
光し、現像してレジスト像を形成し、ついで、導電性金
属をエッチングして導電性金属の幾何学的模様を形成
し、最後にレジストを剥離する方法である。上記のマイ
クロリソグラフ法には、フォトリソグラフ法、Ｘ線リソ
グラフ法、電子線リソグラフ法、イオンビームリソグラ
フ法などがる。これらの中でも、ケミカルエッチング法
を使用したフォトリソグラフ法は、その簡便性、経済
性、回路加工精度などの点から最も好ましい。フォトリ
ソグラフ法の中ではケミカルエッチング法の他にも無電
解めっきや電気めっきによる方法、または無電解めっき
や電気めっきとケミカルエッチング法を組み合わせて幾
何学図形を形成することも可能である。スクリーン印刷
法又は凹版オフセット印刷法については、プラスチック
フィルム上に導電性インクを直接印刷する方法があり、
また、プラスチックフィルム、接着剤、導電性金属箔か
ら構成されるＭＣＦの導電性金属箔面にエッチングレジ
ストインクを印刷し、硬化させた後エッチング処理によ
り導電性金属の幾何学図形を形成し、この後レジストを
剥離する方法がある。

【００２２】このような幾何学図形のライン幅は４０μ
ｍ以下、ライン間隔は１００μｍ以上、ライン厚みは４
０μｍ以下の範囲とするのが好ましい。また幾何学図形
の非視認性の観点からライン幅は２５μｍ以下、可視光
透過率の点からライン間隔は１２０μｍ以上、ライン厚
み１８μｍ以下がさらに好ましい。ライン幅は、４０μ
ｍ以下、好ましくは２５μｍ以下が好ましく、あまりに
小さく細くなると表面抵抗が大きくなりすぎてシールド
効果に劣るので１μｍ以上が好ましい。ライン厚みは４
０μｍ以下が好ましく、あまりに厚みが薄いと表面抵抗
が大きくなりすぎてシールド効果に劣るので０．５μｍ
以上が好ましく、さらに１μｍ以上がさらに好ましい。
ライン間隔は、大きいほど開口率は向上し、可視光透過
率は向上する。前述のようにディスプレイ前面に使用す
る場合、開口率は５０％以上が必要であるが、６０％以
上がさらに好ましい。ライン間隔が大きくなり過ぎる
と、電磁波シールド性が低下するため、ライン幅は１０
００μｍ（１ｍｍ）以下とするのが好ましい。なお、ラ
イン間隔は、幾何学図形等の組合せで複雑となる場合、
繰り返し単位を基準として、その面積を正方形の面積に
換算してその一辺の長さをライン間隔とする。

【００２３】本発明で使用する被着体はガラス板もしく
はプラスチック板が好適である。プラスチック板とは、
プラスチックからなる板であり、具体的には、ポリスチ
レン樹脂(n=1.59)、アクリル樹脂(n=1.49)、ポリメチル
メタクリレート樹脂(n=1.49)、ポリカーボネート樹脂(n
=1.58)、ポリ塩化ビニル樹脂(n=1.54)、ポリ塩化ビニリ
デン樹脂(n=1.6〜1.63)、ポリエチレン樹脂(n=1.51)、
ポリプロピレン樹脂(n=1.50)、ポリアミド樹脂(n=1.5
2)、ポリアミドイミド樹脂(n=1.5)、ポリエーテルイミ
ド樹脂(n=1.5)、ポリエーテルケトン樹脂(n=1.45)、ポ
リアリレート樹脂(n=1.5〜1.6)、ポリアセタール樹脂(n
=1.5〜1.6)、ポリブチレンテレフタレート樹脂(n=1.5
7)、ポリエチレンテレフタレート樹脂(n=1.58)などの熱
可塑性ポリエステル樹脂、酢酸セルロース樹脂(n=1.4
9)、フッ素樹脂(n=1.4〜1.5)、ポリスルホン樹脂(n=1.6
3)、ポリエーテルスルホン樹脂(n=1.45〜1.6)、ポリメ
チルペンテン樹脂(n=1.45〜1.6)、ポリウレタン樹脂(n=
1.45〜1.6)、フタル酸ジアリル樹脂(n=1.45〜1.6)など
の熱可塑性樹脂や熱硬化性樹脂が挙げれれる。これらの
中でも透明性に優れるポリスチレン樹脂、アクリル樹
脂、ポリメチルメタクリレート樹脂、ポリカーボネート
樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリエチレンテレフタレー
ト樹脂、ポリメチルペンテン樹脂が好適に用いられる。
またガラス板としては、ケイ酸塩ガラス（ケイ酸ガラ
ス、ケイ酸アルカリガラス、ソーダ石灰ガラス、カリ石
灰ガラス、鉛ガラス、バリウムガラス、ホウケイ酸ガラ
ス）、リン酸塩ガラス、ホウ酸塩ガラス等が好適であ
る。上記のプラスチック基板又はガラス板は、ディスプ
レイの画面そのものであってもよい。プラスチック基板
又はガラス板の厚みは、０．５ｍｍ〜５ｍｍであること
がディスプレイの保護や強度、取扱性から好ましい。

【００２４】本発明の電磁波遮蔽構成体は、電磁波シー
ルド性接着フィルムとガラス板もしくはプラスチック板
から構成され、その組合せは多数有る。図１は本発明の
電磁波シールド性接着フィルムの断面図であり、接着剤
１と導電性金属で描かれた幾何学図形２とプラスチック
フィルム３、接着剤４とプラスチックフィルム５から電
磁波シールド性接着フィルム６が構成される。この電磁
波シールド性接着フィルム６は、図２（ａ）に示すよう
にディスプレイの画面７（表示デバイスの前面ガラス基
板）に直接形成しても良いし、図２（ｂ）に示すように
ガラス板もしくはプラスチック板８の片面に形成し、ど
ちらかの面をディスプレイ画面に接着剤又は取付治具を
介してディスプレイ画面に設ける。図２（ｃ）は、電磁
波シールド性接着フィルム６のプラスチックフィルム面
側に接着剤４を形成し、２枚のガラス板もしくはプラス
チック板８で挟み込んだ電磁波遮蔽構成体９である。電
磁波シールド性接着フィルムや電磁波遮蔽構成体のいず
れかの面には、赤外線遮蔽性を有する層、反射防止処理
を有する層、防眩処理を有する層、表面硬度の高い耐擦
性を有する層を形成することができる。これらは例示で
あり、この他の形態で使用することができる。ガラス板
の片面に電磁波シールド性接着フィルムを接着し、この
ガラス板をディスプレイ前面に取り付けガラス面がディ
スプレイ装置の外側になるようにしてもよい。また、接
着剤１をなくして、プラスチックフィルム３に直接導電
性金属で描かれた幾何学図形を形成した構成にしてもよ
い

【００２５】本発明の電磁波シールド性接着フィルム
は、接着剤、幾何学図形を有する導電性金属及びプラス
チックフィルムもしくは幾何学図形を有する導電性金属
及びプラスチックフィルムからからなる電磁波シールド
フィルムと、それを被覆するための接着剤付きプラスチ
ックフィルムから基本的に構成される。得られた電磁波
シールド性接着フィルムの構成材料の中で、接着剤付き
プラスチックフィルムの接着剤に特徴を有する。すなわ
ち、導電性金属は金属箔の使用が好ましく、この場合接
着性向上のため金属箔の面を粗化形状にすることが多
く、幾何学図形を形成すると、除去された金属部分は、
接着層にその粗化形状を転写して金属と接している接着
剤の部分に粗化形状が転写されてしまい可視光線がそこ
で散乱されてしまうので光線透過率が低下し透明性が損
なわれる。このため、電磁波シールドフィルム自体は半
透明あるは不透明となってしまう。そこで、本発明の接
着剤付きプラスチックフィルムにより粗化形状の転写に
より形成された接着剤の凹凸面を接着剤で完全にしかも
容易に充填することにより散乱の防止が図れ、さらにプ
ラスチックフィルムと接着剤との屈折率が近い材料を用
いているため、本来の透明性が発現するようになると考
えられる。さらにプラスチックフィルム上の導電性材料
で形成された幾何学図形は、ライン幅が非常に小さいた
め肉眼で視認されない。またライン間隔も十分に大きい
ため見掛け上透明性を発現すると考えられる。一方、遮
蔽すべき電磁波の波長に比べて、幾何学図形のライン間
隔は十分に小さく、優れたシールド性を発現すると考え
られる。

【００２６】

【作用】本発明における接着剤は、加温することにより
貯蔵安定性が顕著に低下し、液状化することで電磁波シ
ールドフィルムの凹凸面に容易に流動し、充填すること
ができる。また、ガラス等の被着体に対して接着剤を介
して張り付けることができるので、別個に背着剤が不要
になり、また、ロール貼りすることが可能であるので量
産性の点で優れている。

【００２７】

【実施例】次に実施例に於いて本発明を具体的に述べる
が、本発明はこれに限定されるものではない。 実施例１ プラスチックフィルムとして厚さ５０μｍのポリエチレ
ンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（東洋紡績株式会
社製、商品名Ａ−４１００、屈折率ｎ=１．５７５）を
用い、その片面に下記作製例で作製の接着剤１を室温で
アプリケータを用いて２０μｍの乾燥塗布厚になるよう
に塗布し、９０℃、２０分間加熱乾燥させた。その接着
剤１を介して導電性金属である厚さ１２μｍの電解銅箔
を、その粗化面が接着剤側になるようにして、１８０
℃、３０Ｋｇｆ／ｃｍ、０.５ｍ/分の条件で加熱ラミネ
ートして導電性金属付きプラスチックフィルムである銅
箔付きＰＥＴフィルムを得た。得られた銅箔付きＰＥＴ
フィルムにケミカルエッチング法を使用したフォトリソ
グラフ工程（レジストフィルム貼付け−露光−現像−ケ
ミカルエッチング−レジストフィルム剥離）を経て、ラ
イン幅２５μｍ、ライン間隔２５０μｍの銅格子パター
ンをＰＥＴフィルム上に形成し、電磁波シールドフィル
ム１を得た。この電磁波シールドフィルム１の可視光透
過率は２０％以下であった。この電磁波シールドフィル
ムに、下記作製例で作製の接着剤２を乾燥後の厚みが２
０μｍとなるように塗布した５０μｍの離型ＰＥＴフィ
ルム（帝人株式会社製、商品名Ｇ１Ｗ）を接着剤２と導
電性金属とが接するようにロールラミネータ（大成ラミ
ネータ株式会社製、商品名ＶＡ−７００）により８０
℃、１０ｋｇｆ／ｃｍ、０.５ｍ/分の条件で貼合せて電
磁波シールド性接着フィルムを得た。得られた電磁波シ
ールド性接着フィルムの離型ＰＥＴフィルムを剥離し、
ガラス板（日本板硝子株式会社製、厚み３ｍｍ）に露出
した接着剤が接するようにして８０℃、１０ｋｇｆ／ｃ
ｍ、０.５ｍ/分の条件でロールラミネータにより貼合せ
て電磁波遮蔽構成体１を得た。

【００２８】＜接着剤１の作製例＞５００ｃｍ³の温度
計、冷却管、窒素導入管を有した三つ口フラスコにトル
エン２００ｃｍ³、メタクリル酸メチル（ＭＭＡ）５０
g、メタクリル酸エチル（ＥＭＡ）５g、グリシジルメタ
クリレート（ＧＭＡ）２g、ＡＩＢＮ２５０mgを入れ、
窒素でバブリングさせながら１００℃で３時間、還流中
で攪拌を行った。その後、メタノールで再沈殿させ、得
られたポリマーをろ過後、減圧乾燥してポリアクリル酸
エステルを得た。これをポリアクリル酸エステルＡとす
る。この収率は７５重量％であった。これを接着剤１と
した。 ポリアクリル酸エステルＡの特性 組成：MMA／EMA／GMA=57／38／5（重量比） 重量平均分子量Mw：70万〔ゲルパーミエーションクロマ
トグラフィー（ＧＰＣ）により測定した標準ポリスチレ
ン換算値、以下同じ。〕 ガラス転移温度Tg：20℃〔ディファレンシャルスキャニ
ングカロリーメーター（ＤＳＣ）により測定。以下同
じ。〕 上記の接着剤１の組成物の溶媒乾燥後の屈折率は１．４
８であった。 ＜接着剤２の作成例＞接着剤１と同様にしてポリアクリ
ル酸エステルを合成した。これをポリアクリル酸エステ
ルＢとする。 ポリアクリル酸エステルＢの特性 組成：MMA／EMA／GMA=66／29／5（重量比） Mw=7000 Tg=40℃） 接着剤組成物を接着剤２とした。 ポリアクリル酸エステルＡ ３０重量部 及び ポリアクリル酸エステルＢ ７０重量部 を混合することにより作製し、これを接着剤２とした。
接着剤２の溶媒乾燥後の屈折率は１．４９であった。

【００２９】実施例２ 接着剤２を下記作製例で作製した接着剤３に変更したこ
と以外は実施例１と同じ。 ＜接着剤３の組成物＞接着剤１と同様にしてポリアクリ
ル酸エステルＣ及びＤを合成した。 ポリアクリル酸エステルＣの特性 組成：MMA／EA／AA=9／86／5（重量比） Mw=35万 Tg=-40℃） ポリアクリル酸エステルＤ 組成：MMA／EA／AA=85／10／5 Mw=4000 Tg=80℃ 接着剤組成物を ポリアクリル酸エステルＣ ２０重量部 及び ポリアクリル酸エステルＤ ８０重量部 を混合することにより作製し、これを接着剤３とした。
接着剤３の溶媒乾燥後の屈折率は１.４８であった。

【００３０】実施例３ 接着剤２を下記作製例で作製した接着剤４に変更したこ
と以外は実施例１と同じ。 ＜接着剤４の組成物＞接着剤１と同様にしてポリアクリ
ル酸エステルＥ及びＦを合成した。 ポリアクリル酸エステルＥ 組成：MMA／EA／HEMA=66／29／5（重量比） Mw=20万 Tg=-40℃） ポリアクリル酸エステルＦ 組成：MMA／EA／HEMA=85／10／5（重量比） Mw=5000 Tg=80℃ 接着剤組成物を ポリアクリル酸エステルＥ ４０重量部 及び ポリアクリル酸エステルＦ ６０重量部 を混合することにより作製し、これを接着剤４とした。
接着剤４の溶媒乾燥後の屈折率は１.４８であった。

【００３１】実施例４ ガラス板をアクリル板（株式会社クラレ製、商品名コモ
グラス、厚み３ｍｍ）に変更したこと以外は実施例１と
同じ。

【００３２】実施例５ プラスチックフィルムをＰＥＴ（５０μｍ）からポリカ
ーボネートフィルム（５０μｍ、ｎ＝１．５８）に、接
着剤２の厚みを２０μｍから４０μｍにした以外は実施
例１と同じ。

【００３３】実施例６ ライン幅を２５μｍから３０μｍに、ライン間隔を２５
０μｍから５００μｍに、接着剤の厚みを２０μｍから
３０μｍにした以外は実施例１と同じ。

【００３４】実施例７ フォトリソグラフ工程を経てＰＥＴフィルム上に形成し
た銅格子パターンに黒化処理を施したこと以外は実施例
１と同様にして電磁波遮蔽構成体７を得た。

【００３５】実施例８ 銅箔付きＰＥＴフィルムの銅箔表面にスクリーン印刷法
を用いてエッチングレジスト（日立化成工業株式会社
製、商品名ＲＡＹＣＡＳＴ）を格子パターン（ライン幅
２５μｍ、ライン間隔２５０μｍ）状に形成し、９０℃
１５分間プレベークした後、高圧水銀ランプで紫外線
を９０ｍＪ／ｃｍ２照射した。その後、エッチングレジ
ストで覆われていない銅箔をエッチングにより除去し、
エッチングレジストを剥離する工程を経て電磁波シール
ドフィルムを得た以外は実施例１と同様にして電磁波遮
蔽構成体８を得た。

【００３６】比較例１ 下記組成を接着剤５の組成物とし、接着剤２の代わりに
これを使用したこと以外は実施例１と同じ。 ＜接着剤５の組成物＞ ポリアクリル酸エステルＡ ９５重量部 及び ポリアクリル酸エステルＢ ５重量部 接着剤５の溶媒乾燥後の屈折率は１．４９であった。

【００３７】比較例２ 下記組成を接着剤６の組成物とし、接着剤２の代わりに
これを使用したこと以外は実施例１と同じ。 ＜接着剤６の組成物＞接着剤１と同様にしてポリアクリ
ル酸エステルＧを合成した。 ポリアクリル酸エステルＧの特性 組成：MMA／EMA／GMA=27／68／5（重量比） Mw=70万 Tg=-20℃ 接着剤６の溶媒乾燥後の屈折率は１．４９であった。

【００３８】比較例３ 下記組成を接着剤７の組成物とし、接着剤２の代わりに
これを使用したこと以外は実施例１と同じ。 ＜接着剤７の組成物＞飽和ポリエステル樹脂（東洋紡績
株式会社製、商品名バイロンＵＲ−１４００、Ｍｗ＝５
万、軟化点８０℃） 接着剤７の溶媒乾燥後の屈折率は１．６５であった。

【００３９】比較例４ 下記組成を接着剤８の組成物とし、接着剤２の代わりに
これを使用したこと以外は実施例１と同じ。 ＜接着剤８の組成物＞フェノールーホルムアルデヒド樹
脂（Ｍｗ＝５万、軟化点８５℃） 接着剤８の溶媒乾燥後の屈折率は１．７３であった。

【００４０】比較例５ 導電材料として０．１μｍ（１、０００Å）全面蒸着さ
せたＩＴＯ蒸着ＰＥＴを使い、パターンを形成しない
で、直接接着剤２の組成物を塗布した以外は実施例１と
同じ。

【００４１】以上のようにして得られた電磁波シールド
性接着フィルムの導電性金属材料で描かれた幾何学図形
の開口率、接着剤の屈折率、接着剤の弾性率、電磁波シ
ールド性、可視光透過率、非視認性、接着力、色差を測
定した。結果を表１、２及び３に示した。

【００４２】なお、電磁波シールドフィルムに被覆する
接着剤組成物の屈折率は、屈折計（株式会社アタゴ光学
機械製作所製、アッベ屈折計）により２５℃の条件で測
定した。導電性金属で描かれた幾何学図形の開口率は顕
微鏡写真をもとに実測した。電磁波シールドフィルムに
被覆する接着剤の弾性率は、０.５ｍｍ程度の接着剤皮
膜を作製し、粘弾性測定装置（レオメトリック・サイエ
ンティフィック・エフ・イー社製、商品名ＡＲＥＳ−２
ＫＳＴＤ、せん断モード）で測定した。電磁波遮蔽構成
体の電磁波シールド性は、同軸導波管変換器（日本高周
波株式会社製、ＴＷＣ−Ｓ−０２４）のフランジ間に試
料を挿入し、スペクトラムアナライザー（ＹＨＰ製、８
５１０Ｂベクトルネットワークアナライザー）を用い、
周波数３０ＭＨz〜１ＧＨｚで測定した。可視光透過率
の測定は、ダブルビーム分光光度計（株式会社日立製作
所製、２００−１０型）を用いて、４００〜７００ｎｍ
の透過率の平均値を用いた。非視認性は、ガラス板に電
磁波シールド性接着フィルムを貼り付けた電磁波遮蔽構
成体を０．５ｍ離れた場所から目視して導電性金属で形
成された幾何学図形を認識できるかどうかで評価し、認
識できないものを良好とし、認識できるものをＮＧとし
た。接着力は、電磁波遮蔽構成体の電磁波シールド性接
着フィルムと被着体との接着性をレオメータ（不動工業
株式会社製、商品名ＮＲＭ−３００２Ｄ−Ｈ）により剥
離速度５０ｍｍ/分、剥離角度９０°、剥離温度２５℃
の条件で測定した。色差は、電磁波遮蔽構成体をサンシ
ャインウェザーメータ（スガ試験機株式会社製、商品名
ＳＵＶ−Ｗ１１）により降雨１２ｍｉｎ/ｈ ２００ｈ
の耐候性処理を行った前後の色相変化を分光測色計（ミ
ノルタ株式会社、商品名ＣＭ−５０８Ｄ）で測定した。

【００４３】

【表１】

【００４４】

【表２】

【００４５】

【表３】

【００４６】比較例１〜４では、接着剤５〜８の８０℃
での貯蔵弾性が、それぞれ５×１０４Ｐａを超えている
ため接着剤の流動性が低く、電磁波シールドフィルムの
接着剤の凹凸面への充填が不完全なため、可視光透過率
に劣った。また、上記接着剤はぬれにくく被着体に十分
に密着しないので接着性に劣った。さらに、比較例３及
び４において使用している接着剤は飽和ポリエステル、
フェノールーホルムアルデヒド樹脂であるため、紫外線
で黄変し、色差が大幅に増加した。比較例４は、接着剤
８の屈折率が１．７３と高く接着剤とプラスチックフィ
ルムとの界面での散乱が大きく、さらに可視光透過率の
低下を招いた。本発明の実施例で示した、導電性金属で
描かれた幾何学図形を有し、その開口率が５０％以上
で、接着剤に２種のアクリル共重合体のブレンド組成物
で、貯蔵弾性率が５×１０⁶Ｐａ以上（２５℃）かつ５
×１０⁴Ｐａ以下（８０℃）で、屈折率が１．４５〜
１．７０の範囲にあり、接着剤の厚みが導電性金属の厚
さ以上の接着剤がいずれも好ましい値を示した。また、
導電性金属で描かれたライン幅が、４０μｍ以下、ライ
ン間隔が１００μｍ以上、ライン厚みが４０μｍ以下の
導電性金属が好ましい値を示した。また、実施例７で示
した銅を黒化処理した電磁波遮蔽構成体は、コントラス
トが大きく鮮明な画像を快適に鑑賞することができた。

【００４７】被覆した接着剤付きプラスチックフィルム
のプラスチックフィルムを剥離することにより、被着体
にロールラミネータ等により容易に貼付けて使用でき、
しかも密着性が優れているので電磁波漏れがなくシール
ド機能が特に良好である。また、

【００４８】

【発明の効果】請求項１における電磁波シールド性接着
フィルムは、貯蔵弾性率Ｇ’が２５℃で５×１０⁵Ｐａ
以上かつ８０℃で５×１０⁴Ｐａ以下である接着剤で被
覆することにより可視光透過率、非視認性などの光学的
特性が良好で、しかも長時間にわたって高温および高温
多湿での接着特性に変化が少なく良好であり、優れた電
磁波シールド性接着フィルムを提供することができる。
さらに、紫外線で黄変・劣化しにくいので、屋外での長
期使用ができる。請求項２における電磁波シールド性接
着フィルムは、接着剤の屈折率を１．４５〜１．７０と
することにより、さらに透明性、像鮮明性に優れる。請
求項３における電磁波シールド性接着フィルムは、接着
剤の材料を重量平均分子量５万〜１００万の範囲のアク
リル共重合体と重量平均分子量１００〜１０，０００の
範囲のアクリル共重合体とのブレンドとすることによ
り、さらに、透明性、接着性にる。請求項４における電
磁波シールド性接着フィルムは、接着剤の材料として特
定の分子量のものブレンド比を重量比で９０／１０〜１
０／９０とすることにより、さらに透明性、接着性に優
れる。請求項５における電磁波シールド性接着フィルム
は、接着剤の厚さを導電性金属の厚さ以上にすることに
より、さらに透明性、接着性に優れる。請求項６におけ
る電磁波シールド性接着フィルムは、可視光透過率、非
視認性などの光学的特性が良好であるものとして容易に
作製することができる。請求項７ににおける電磁波シー
ルド接着フィルム記載は、接着剤付きプラスチックフィ
ルムのプラスチックフィルムを剥離可能とすることによ
り、被着体への接着作業が容易になる請求項８における
電磁波シールド性接着フィルムは、ロールラミネータ等
の使用で被着体に接着するとすることにより、被着体へ
の接着作業性、その量産性に優れる。請求項９における
電磁波シールド性接着フィルムは、導電性金属で描かれ
た幾何学図形のライン幅を４０μｍ以下、ライン間隔を
１００μｍ以上、ライン厚みを４０μｍ以下とすること
により、電磁波シールド性と透明性及び広視野角を得る
ことができる。請求項１０における電磁波シールド性接
着フィルムは、導電性金属付きプラスチックフィルムの
導電性金属を、厚さ０．５〜４０μｍの銅、アルミニウ
ムまたはニッケルとすることにより、電磁波シールド性
及び加工性に優れ、安価になる。請求項１１における電
磁波シールド性接着フィルムは、導電性金属付きプラス
チックフィルムのプラスチックフィルムをポリエチレン
テレフタレートフィルムまたはポリカーボネートフィル
ムとすることにより、安価で透明性、耐熱性に優れる。
請求項１２における電磁波シールド性接着フィルムは、
導電性金属が銅であり、少なくともその表面が黒化処理
されていることにより、コントラストと電磁波シールド
性に優れる。請求項１３における電磁波シールド性接着
フィルムは、導電性金属を常磁性金属とすることによ
り、磁場シールド性に優れる。請求項１４における電磁
波シールド性接着フィルムは、導電性金属で描かれた幾
何学図形の開口率を５０％以上にすることにより、可視
光透過率に優れる。請求項１５における電磁波シールド
性接着フィルムは、幾何学図形の形成方法がマイクロリ
ソグラフ法、スクリーン印刷法又は凹版オフセット印刷
法を利用する方法であるので、安価で量産性に優れ、ま
た、透明性に優れるとともに簡便な接着性を有する。請
求項１６における電磁波シールド性接着フィルムは、ケ
ミカルエッチング法により導電性金属を描画することに
より、安価で可視光透過率に優れる。

【００４９】請求項１７における電磁波遮蔽構成体は、
電磁波シールド性接着フィルム及びガラス板もしくはプ
ラスチック板で構成されるので、透明性を有する電磁波
シールド性に優れた基板とすることができ、ディスプレ
イに提供することができる。請求項１８における電磁波
遮蔽構成体は、電磁波シールド性接着フィルムをガラス
板もしくはプラスチック板の少なくとも片面に貼合せる
ことにより、透明性を有する電磁波シールド性に優れた
基板とすることができ、取扱性が容易で、ディスプレイ
に提供することができる。請求項１９におけるディスプ
レイは、電磁波シールド性と透明性を有する電磁波シー
ルド性接着フィルムを用いることにより、軽量、コンパ
クトで透明性に優れ電磁波漏洩が少ない。請求項２０に
おけるディスプレイは、電磁波シールド性と透明性を有
する電磁波遮蔽構成体を用いることにより、軽量、コン
パクトで電磁波漏洩が少なくディスプレイ保護板を兼用
したディスプレイとして提供することができる。このデ
ィスプレイは、可視光透過率が大きく、非視認性が良好
であるのでディスプレイの輝度を高めることなく通常の
状態とほぼ同様の条件下で鮮明な画像を快適に鑑賞する
ことができる。本発明の電磁波シールド性接着フィルム
及び電磁波遮蔽構成体は、電磁波シールド性や透明性に
優れているため、ディスプレイの他に電磁波を発生した
り、あるいは電磁波から保護する測定装置、測定機器や
製造装置の内部をのぞく窓や筐体、特に透明性を要求さ
れる窓のような部位に設けて使用することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明の電磁波シールド性接着フィルムの断
面図である。

【図２】 本発明の電磁波シールド性接着フィルムのデ
ィスプレイ使用例（ａ）及び電磁波シールド性接着フィ
ルムとプラスチック基板もしくはガラス板から構成され
る電磁波遮蔽構成体（（ｂ）〜（ｆ））の例。

【符号の説明】

１．接着剤 ２．導電性金属で描かれた幾何学図形 ３．プラスチックフィルム ４．接着剤 ５．プラスチックフィルム ６．電磁波シールド性接着フィルムス板 ７．ディスプレイの画面（表示デバイスの前面ガラス基
板） ８．ガラス板もしくはプラスチック板 ９．電磁波遮蔽構成体

フロントページの続き (72)発明者 登坂 実 茨城県下館市大字小川1500番地 日立化成 工業株式会社下館研究所内 (72)発明者 橋塲 綾 茨城県下館市大字小川1500番地 日立化成 工業株式会社下館研究所内 Ｆターム(参考） 5E321 AA04 BB21 CC16 GG05 GH01 5G435 AA00 AA12 AA14 AA16 AA17 BB02 BB05 BB06 BB12 FF01 GG33 HH02 HH12 KK07

Claims (20)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 導電性金属により描かれた幾何学図形を
   有する電磁波シールドフィルムにおいて、その導電性金
   属面側を、貯蔵弾性率（Ｇ’）が２５℃で５×１０⁵Ｐ
   ａ以上かつ８０℃で５×１０⁴Ｐａ以下の接着剤で被覆
   した電磁波シールド性接着フィルム。
2. 【請求項２】 接着剤の屈折率が１．４５〜１．７０の
   範囲にある請求項１記載の電磁波シールド性接着フィル
   ム。
3. 【請求項３】 接着剤が重量平均分子量５万〜１００万
   の範囲のアクリル系重合体と重量平均分子量１００〜１
   万の範囲のアクリル系重合体とのブレンドである請求項
   １または２記載の電磁波シールド性接着フィルム。
4. 【請求項４】 重量平均分子量５万〜１００万の範囲の
   アクリル系重合体と重量平均分子量１００〜１０，００
   ０の範囲のアクリル系重合体とのブレンド比が、重量比
   で９０／１０〜１０／９０である請求項３の記載の電磁
   波シールド性接着フィルム。
5. 【請求項５】 被覆した接着剤の厚さが導電性金属の厚
   さ以上であることを特徴とする請求項１〜４のいずれか
   に記載の電磁波シールド性接着フィルム。
6. 【請求項６】 接着剤が、接着剤付きプラスチックフィ
   ルムである請求項１〜５のいずれかに記載の電磁波シー
   ルド性接着フィルム。
7. 【請求項７】 接着剤付きプラスチックフィルムのプラ
   スチックフィルムが剥離できることを特徴とする請求項
   ６記載の電磁波シールド性接着フィルム。
8. 【請求項８】 被覆した接着剤付きプラスチックフィル
   ムのプラスチックフィルムを剥離し、露出した接着剤を
   介して被着体に容易に接着することができることを特徴
   とする請求項７記載の電磁波シールド性接着フィルム。
9. 【請求項９】 導電性金属で描かれた幾何学図形のライ
   ン幅が４０μｍ以下、ライン間隔が１００μｍ以上、ラ
   イン厚さが４０μｍ以下である請求項１〜８のいずれか
   に記載の電磁波シールド性接着フィルム。
10. 【請求項１０】 電磁波シールドフィルムの導電性金属
    が、厚さ０．５〜４０μｍの銅、アルミニウムまたはニ
    ッケルである請求項１〜９のいずれかに記載の電磁波シ
    ールド性接着フィルム。
11. 【請求項１１】 電磁波シールドフィルムのプラスチッ
    クフィルムがポリエチレンテレフタレートフィルムまた
    はポリカーボネートフィルムである請求項１〜１０のい
    ずれかに記載の電磁波シールド性接着フィルム。
12. 【請求項１２】 導電性金属が銅であり、少なくともそ
    の表面が黒化処理されていることを特徴とする請求項１
    〜１１のいずれかに記載の電磁波シールド性接着フィル
    ム。
13. 【請求項１３】 導電性金属が常磁性金属である請求項
    １〜１１のいずれかに記載の電磁波シールド性接着フィ
    ルム。
14. 【請求項１４】 導電性金属で描かれた幾何学図形の開
    口率が５０％以上であることを特徴とする請求項１〜１
    ３のいずれかに記載の電磁波シールド性接着フィルム。
15. 【請求項１５】 幾何学図形の形成方法が、マイクロリ
    ソグラフ法、スクリーン印刷法または凹版オフセット印
    刷法を利用する方法である請求項１〜１４のいずれかに
    記載の電磁波シールド性接着フィルム。
16. 【請求項１６】 マイクロリソグラフ法がケミカルエッ
    チング法である請求項１５記載の電磁波シールド性接着
    フィルム。
17. 【請求項１７】 請求項１〜１６のいずれかに記載の電
    磁波シールド性接着フィルムとプラスチック基板もしく
    はガラス板から構成される電磁波遮蔽構成体。
18. 【請求項１８】 請求項１〜１７のいずれかに記載の電
    磁波シールド性接着フィルムをプラスチック基板もしく
    はガラス板の少なくとも片面に貼り合わせてなる電磁波
    遮蔽構成体。
19. 【請求項１９】 請求項1〜１６のいずれかに記載の電
    磁波シールド性接着フィルムを用いたディスプレイ。
20. 【請求項２０】 請求項１７〜１９のいずれかに記載の
    電磁波遮蔽構成体を用いたディスプレイ。