JP2000277777A - 太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トおよびそれを使用した太陽電池モジュ−ル - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 太陽電池モジュ−ルを構成する表面保護シ−
ト層として、フッ素系樹脂シ−トを使用するも、水分、
酸素等の侵入を防止する防湿性を著しく向上させ、更
に、耐光性、耐熱性、耐水性等の諸堅牢性についても、
その長期的な性能劣化を最小限に抑え、保護能力性に優
れ、より低コストで安全な太陽電池モジュ−ルを構成す
る表面保護シ−トを安定的に提供することである。 【解決手段】 フッ素系樹脂シ−トの片面に、無機酸化
物の蒸着薄膜を設け、更に、該無機酸化物の蒸着薄膜の
上に、金属アルコキシド化合物および／またはその加水
分解物をビヒクルの主成分とする組成物によるコ−ティ
ング膜を設けたことを特徴とする太陽電池モジュ−ル用
表面保護シ−トおよびそれを使用した太陽電池モジュ−
ルに関するものである。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、太陽電池モジュ−
ル用表面保護シ−トおよびそれを使用した太陽電池モジ
ュ−ルに関し、更に詳しくは、耐光性、耐熱性、耐水
性、防湿性、防汚性等に優れ、極めて保護能力が高い太
陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トおよびそれを使用し
た太陽電池モジュ−ルに関するものである。

【０００２】

【従来の技術】近年、環境問題に対する意識の高まりか
ら、クリ−ンなエネルギ−源としての太陽電池が注目さ
れ、現在、種々の形態からなる太陽電池モジュ−ルが開
発され、提案されている。而して、上記の太陽電池モジ
ュ−ルとしては、通常、表面保護シ−ト層、充填剤層、
光起電力素子としての太陽電池素子、充填剤層、およ
び、裏面保護シ−ト層等の順に積層し、真空吸引して加
熱圧着するラミネ−ション法等を利用して製造されてい
る。ところで、上記の太陽電池モジュ−ルを構成する表
面保護シ−ト層としては、現在、ガラス板等が、最も一
般的に使用され、その他、近年、フッ素系樹脂シ−ト等
の樹脂シ−トも、注目され、その開発が、急速に進めら
れている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】ところで、太陽電池
は、太陽光を吸収して光起電力することから、一般に、
太陽電池モジュ−ルを構成する表面保護シ−ト層として
は、太陽光が入射し、これを透過し、吸収する透過、吸
収性に富むと共に耐光性、耐熱性、耐水性等の諸堅牢性
に優れ、かつ、水分、酸素等の侵入を防止する防湿性に
優れ、更に、表面硬度が高く、かつ、表面の汚れ、ゴミ
等の蓄積を防止し、その保護能力性が高いこと、その他
等の条件が挙げられるものである。しかしながら、太陽
電池モジュ−ルを構成する表面保護シ−ト層として、現
在、最も一般的に使用されているガラス板等は、太陽光
の透過、吸収性に優れ、かつ、耐光性、耐熱性、耐水性
等の諸堅牢性に優れ、また、防湿性にも優れ、更に、表
面硬度が硬く、その保護能力性が高い等の利点を有する
が、可塑性、耐衝撃性、軽量化等に欠け、更に、その加
工性、施工性等に劣り、かつ、低コスト化等に欠けると
いう問題点がある。また、上記の太陽電池モジュ−ルを
構成する表面保護シ−ト層として、フッ素系樹脂等の樹
脂シ−トを使用する場合には、ガラス板等と比較して、
可塑性、耐衝撃性、軽量化、低コスト化等に富むもので
はあるが、耐光性、耐熱性、耐水性等の諸堅牢性に劣
り、特に、防湿性等に欠けるという問題点がある。そこ
で本発明は、太陽電池モジュ−ルを構成する表面保護シ
−ト層として、フッ素系樹脂シ−トを使用するも、水
分、酸素等の侵入を防止する防湿性を著しく向上させ、
更に、耐光性、耐熱性、耐水性等の諸堅牢性について
も、その長期的な性能劣化を最小限に抑え、保護能力性
に優れ、より低コストで安全な太陽電池モジュ−ルを構
成する表面保護シ−トを安定的に提供することである。

【０００４】

【課題を解決するための手段】本発明者は、上記のよう
な太陽電池モジュ−ルを構成する表面保護シ−ト層につ
いての問題点を解決すべく種々研究の結果、太陽電池モ
ジュ−ルを構成する表面保護シ−ト層として使用されて
いるガラス板の特性に着目し、まず、フッ素系樹脂シ−
トを基材シ−トとして使用し、その片面に、酸化珪素、
あるいは、酸化アルミニウム等の透明な、ガラス質から
なる無機酸化物の蒸着薄膜を設け、更に、該無機酸化物
の蒸着薄膜の上に、金属アルコキシド化合物および／ま
たはその加水分解物をビヒクルの主成分とする組成物に
よるコ−ティング膜を設けて太陽電池モジュ−ル用表面
保護シ−トを製造し、これを表面保護シ−ト層とし、そ
のコ−ティング膜面を内側にし、充填剤層、光起電力素
子としての太陽電池素子、充填剤層、および、裏面保護
シ−ト層等を順次に積層し、次いで、これらを一体的に
真空吸引して加熱圧着するラミネ−ション法等を利用し
て太陽電池モジュ−ルを製造したところ、特に、水分、
酸素等の侵入を防止する防湿性を著しく向上させ、更
に、耐光性、耐熱性、耐水性等の諸堅牢性についても、
その長期的な性能劣化を最小限に抑え、保護能力性に優
れ、かつ、より低コストで安全な太陽電池モジュ−ル用
表面保護シ−トおよびそれを使用した太陽電池モジュ−
ルを製造し得ることを見出して本発明を完成したもので
ある。

【０００５】すなわち、本発明は、フッ素系樹脂シ−ト
の片面に、無機酸化物の蒸着薄膜を設け、更に、該無機
酸化物の蒸着薄膜の上に、金属アルコキシド化合物およ
び／またはその加水分解物をビヒクルの主成分とする組
成物によるコ−ティング膜を設けたことを特徴とする太
陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トおよびそれを使用し
た太陽電池モジュ−ルに関するものである。

【０００６】

【発明の実施の形態】上記の本発明について以下に図面
等を用いて更に詳しく説明する。本発明にかかる太陽電
池モジュ−ル用表面保護シ−トおよびそれを使用した太
陽電池モジュ−ルについてその層構成を図面等を用いて
更に具体的に説明すると、図１、図２および図３は、本
発明にかかる太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トの層
構成についてその二三例を例示する概略的断面図であ
り、図４は、図１に示す本発明にかかる太陽電池モジュ
−ル用表面保護シ−トを使用して製造した太陽電池モジ
ュ−ルの層構成についてその一例を例示する概略的断面
図である。

【０００７】まず、本発明にかかる太陽電池モジュ−ル
用表面保護シ−トＡは、図１に示すように、フッ素系樹
脂シ−ト１の片面に、無機酸化物の蒸着薄膜２を設け、
更に、該無機酸化物の蒸着薄膜２の上に、金属アルコキ
シド化合物および／またはその加水分解物をビヒクルの
主成分とする組成物によるコ−ティング膜３を設けた構
成からなることを基本構造とするものである。而して、
本発明にかかる太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トに
ついて、別の例を例示すると、図２に示すように、フッ
素系樹脂シ−ト１の片面に、無機酸化物の蒸着薄膜２を
少なくとも２層以上設けた多層膜４を構成し、更に、該
多層膜４を構成する無機酸化物の蒸着薄膜２の上に、金
属アルコキシド化合物および／またはその加水分解物を
ビヒクルの主成分とする組成物によるコ−ティング膜３
を設けた構成からなる太陽電池モジュ−ル用表面保護シ
−トＡ₁ を挙げることができる。更に、本発明にかかる
太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トについて、他の例
を例示すると、図３に示すように、フッ素系樹脂シ−ト
１の片面に、まず、化学気相成長法による無機酸化物の
蒸着薄膜２ａを設け、次いで、該無機酸化物の蒸着薄膜
２ａの上に、物理気相成長法による無機酸化物の蒸着薄
膜２ｂを設けて無機酸化物の蒸着薄膜２ａ、２ｂからな
る２層以上の多層膜４ａを構成し、更に、該多層膜４ａ
を構成する無機酸化物の蒸着薄膜２ｂの上に、金属アル
コキシド化合物および／またはその加水分解物をビヒク
ルの主成分とする組成物によるコ−ティング膜３を設け
た構成からなる太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トＡ
₂ を挙げることができる。次に、本発明において、上記
の本発明にかかる太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−ト
を使用して製造した太陽電池モジュ−ルについてその一
例を例示すると、上記の図１に示す本発明にかかる太陽
電池モジュ−ル用表面保護シ−トＡを使用した例で説明
すると、図４に示すように、上記の図１に示す本発明に
かかる太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トＡに、その
コ−ティング膜３の面を内側にし、順次に、充填剤層１
１、光起電力素子としての太陽電池素子１２、充填剤層
１３、および、裏面保護シ−ト層１４等を積層し、次い
で、これらを一体として、真空吸引して加熱圧着するラ
ミネ−ション法等の通常の成形法を利用し、上記の各層
を一体成形体として太陽電池モジュ−ルＴを製造するこ
とができる。上記の例示は、本発明にかかる太陽電池モ
ジュ−ル用表面保護シ−トおよびそれを使用して製造し
た太陽電池モジュ−ルについてその一例を例示するもの
であり、本発明はこれにより限定されるものではない。
例えば、図示しないが、上記の太陽電池モジュ−ルにお
いては、太陽光の吸収性、補強、その他等の目的のもと
に、更に、他の層を任意に加えて積層することができる
ものである。

【０００８】次に、本発明において、本発明にかかる太
陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トおよびそれを使用し
た太陽電池モジュ−ルを構成する材料、製造法等につい
て更に詳しく説明すると、まず、本発明にかかる太陽電
池モジュ−ル用表面保護シ−ト、太陽電池モジュ−ル等
を構成するフッ素系樹脂シ−トとしては、例えば、ポリ
テトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）、テトラフルオロ
エチレンとペルフルオロアルキルビニルエ−テルとの共
重合体からなるペルフルオロアルコキシ樹脂（ＰＦ
Ａ）、テトラフルオロエチレンとヘキサフルオロプロピ
レンコポリマ−（ＦＥＰ）、テトラフルオロエチレンと
ペルフルオロアルキルビニルエ−テルとヘキサフルオロ
プロピレンコポリマ−（ＥＰＥ）、テトラフルオロエチ
レンとエチレンまたはプロピレンとのコポリマ−（ＥＴ
ＦＥ）、ポリクロロトリフルオロエチレン樹脂（ＰＣＴ
ＦＥ）、エチレンとクロロトリフルオロエチレンとのコ
ポリマ−（ＥＣＴＦＥ）、フッ化ビニリデン系樹脂（Ｐ
ＶＤＦ）、または、フッ化ビニル系樹脂（ＰＶＦ）から
なる透明性を有するフッ素系樹脂のフィルムないしシ−
トを使用することができる。なお、本発明において、上
記のフッ素系樹脂のフィルムないしシ−トの中でも、フ
ッ化ビニル系樹脂（ＰＶＦ）、または、テトラフルオロ
エチレンとエチレン若しくはプロピレンとのコポリマ−
（ＥＴＦＥ）からなるフッ素系樹脂シ−トが、透明性を
有し、太陽光の透過、吸収性等の観点から特に好ましい
ものである。而して、本発明において、上記のようなフ
ッ素系樹脂シ−トを使用することにより、該フッ素系樹
脂シ−トが有する優れた特性、特に、機械的特性、耐熱
性、光学特性等，更に、耐光性、耐熱性、耐水性、その
他等の超耐候性、耐汚染性、耐薬品性等の諸特性を利用
して太陽電池を構成する表面保護シ−トとするものであ
り、これにより、従来のガラス板等と同等の光学特性、
耐久性等を有し、また、そのフレキシブル性や機械的特
性等からガラス板よりも軽く、かつ、加工性等に優れ、
そのハンドリングし易い等の利点を有するものである。

【０００９】ところで、本発明において、上記のフッ素
系樹脂のフィルムないしシ−トとしては、例えば、上記
のフッ素系樹脂の１種ないしそれ以上を使用し、押し出
し法、キャスト成形法、Ｔダイ法、切削法、インフレ−
ション法、その他等の製膜化法を用いて、上記のフッ素
系樹脂を単独で製膜化する方法、あるいは、２種以上の
フッ素系樹脂を使用して多層共押し出し製膜化する方
法、更には、２種以上のフッ素系樹脂を使用し、製膜化
する前に混合して製膜化する方法等により、フッ素系樹
脂のフィルムないしシ−トを製造し、更に、要すれば、
例えば、テンタ−方式、あるいは、チュ−ブラ−方式等
を利用して１軸ないし２軸方向に延伸してなるフッ素系
樹脂のフィルムないしシ−トを使用することができる。
本発明において、フッ素系樹脂シ−トの膜厚としては、
１２〜２００μｍ位、より好ましくは、２５〜１５０μ
ｍ位が望ましい。また、本発明において、フッ素系樹脂
シ−トとしては、可視光透過率が、９０％以上、好まし
くは、９５％以上であって、入射する太陽光を全て透過
し、これを吸収する性質を有することが望ましいもので
ある。なお、上記において、フッ素系樹脂の製膜化に際
して、例えば、フィルムの加工性、耐熱性、耐候性、機
械的性質、寸法安定性、抗酸化性、滑り性、離形性、難
燃性、抗カビ性、電気的特性、その他等を改良、改質す
る目的で、種々のプラスチック配合剤や添加剤等を添加
することができ、その添加量としては、極く微量から数
十％まで、その目的に応じて、任意に添加することがで
きる。また、上記において、一般的な添加剤としては、
例えば、滑剤、架橋剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光
安定剤、充填剤、強化剤、補強剤、帯電防止剤、難燃
剤、耐炎剤、発泡剤、防カビ剤、顔料、その他等を使用
することができ、更には、改質用樹脂等も使用すること
がてきる。本発明においては、上記の添加剤の中でも、
特に、酸化防止剤、あるいは、紫外線吸収剤等を練れ込
み加工してなるフッ素系樹脂シ−トを使用することが望
ましいものである。

【００１０】また、本発明において、フッ素系樹脂シ−
トの表面は、必要に応じて、例えば、コロナ放電処理、
オゾン処理、酸素ガス若しくは窒素ガス等を用いて低温
プラズマ処理、グロ−放電処理、化学薬品等を用いて処
理する酸化処理、その他等の前処理を任意に施すことが
できる。上記の表面前処理は、無機酸化物の蒸着薄膜を
形成する前に別工程で実施してもよく、また、例えば、
低温プラズマ処理やグロ−放電処理等による表面処理の
場合は、上記の無機酸化物の蒸着薄膜を形成する前処理
としてインライン処理により前処理で行うことができ、
このような場合は、その製造コストを低減することがで
きるという利点がある。上記の表面前処理は、フッ素系
樹脂シ−トと無機酸化物の蒸着薄膜との密着性を改善す
るための方法として実施するものであるが、上記の密着
性を改善する方法として、その他、例えば、フッ素系樹
脂シ−トの表面に、予め、プライマ−コ−ト剤層、アン
ダ−コ−ト剤層、あるいは、蒸着アンカ−コ−ト剤層等
を任意に形成することもできる。上記の前処理のコ−ト
剤層としては、例えば、ポリエステル系樹脂、ポリウレ
タン系樹脂、その他等をビヒクルの主成分とする樹脂組
成物を使用することができる。また、上記において、コ
−ト剤層の形成法としては、例えば、溶剤型、水性型、
あるいは、エマルジョン型等のコ−ト剤を使用し、ロ−
ルコ−ト法、グラビアロ−ルコ−ト法、キスコ−ト法、
その他等のコ−ト法を用いてコ−トすることができ、そ
のコ−ト時期としては、フッ素系樹脂シ−トの製膜後、
あるいは、２軸延伸処理後の後工程として、あるいは、
製膜、あるいは、２軸延伸処理のインライン処理等で実
施することができる。

【００１１】次に、本発明において、本発明にかかる太
陽電池モジュ−ル用表面保護シ−ト、太陽電池モジュ−
ル等を構成する無機酸化物の蒸着薄膜について説明する
と、かかる無機酸化物の蒸着薄膜としては、例えば、物
理気相成長法、または、化学気相成長法、あるいは、そ
の両者を併用して、無機酸化物の蒸着薄膜の１層あるい
は２層以上の多層膜を形成して、製造することができる
ものである。上記の物理気相成長法による無機酸化物の
蒸着薄膜について更に詳しく説明すると、かかる物理気
相成長法による無機酸化物の蒸着薄膜としては、例え
ば、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレ−ティ
ング法等の物理気相成長法（Ｐｈｙｓｉｃａｌ Ｖａｐ
ｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ法、ＰＶＤ法）を用いて無
機酸化物の蒸着薄膜を形成することができる。本発明に
おいて、具体的には、金属の酸化物を原料とし、これを
加熱してフッ素系樹脂シ−トの上に蒸着する真空蒸着
法、または、原料として金属または金属の酸化物を使用
し、酸素を導入して酸化させてフッ素系樹脂シ−トの上
に蒸着する酸化反応蒸着法、更に酸化反応をプラズマで
助成するプラズマ助成式の酸化反応蒸着法等を用いて蒸
着膜を形成することができる。本発明において、物理気
相成長法による無機酸化物の薄膜薄膜を形成する方法に
ついて、その具体例を挙げると、図５は、巻き取り式真
空蒸着装置の一例を示す概略的構成図である。図５に示
すように、巻き取り式真空蒸着装置２１の真空チャンバ
−２２の中で、巻き出しロ−ル２３から繰り出すフッ素
系樹脂シ−ト１は、ガイドロ−ル２４、２５を介して、
冷却したコ−ティングドラム２６に案内される。而し
て、上記の冷却したコ−ティングドラム２６上に案内さ
れたフッ素系樹脂シ−ト１の上に、るつぼ２７で熱せら
れた蒸着源２８、例えば、金属アルミニウム、あるい
は、酸化アルミニウム等を蒸発させ、更に、必要なら
ば、酸素ガス吹出口２９より酸素ガス等を噴出し、これ
を供給しながら、マスク３０、３０を介して、例えば、
酸化アルミニウム等の無機酸化物の蒸着薄膜を成膜化
し、次いで、上記において、例えば、酸化アルミニウム
等の無機酸化物の蒸着薄膜を形成したフッ素系樹脂シ−
ト１を、ガイドロ−ル２５′、２４′を介して送り出
し、巻き取りロ−ル３１に巻き取ることによって、本発
明にかかる物理気相成長法による無機酸化物の蒸着薄膜
を形成することができる。なお、本発明においては、上
記のような無機酸化物の蒸着薄膜の形成法を２回以上繰
り返すか、あるいは、上記のような真空蒸着装置を２連
以上接続し、２層以上重層して２層あるいはそれ以上か
らなる無機酸化物の蒸着薄膜を形成することができる。
また、本発明においては、使用する金属、または金属の
酸化物としては、１種または２種以上の混合物で使用
し、異種の材質で混合した無機酸化物の薄膜を構成する
こともできる。

【００１２】上記において、無機酸化物の蒸着薄膜とし
ては、基本的に金属の酸化物を蒸着した薄膜であれば使
用可能であり、例えば、ケイ素（Ｓｉ）、アルミニウム
（Ａｌ）、マグネシウム（Ｍｇ）、カルシウム（Ｃ
ａ）、カリウム（Ｋ）、スズ（Ｓｎ）、ナトリウム（Ｎ
ａ）、ホウ素（Ｂ）、チタン（Ｔｉ）、鉛（Ｐｂ）、ジ
ルコニウム（Ｚｒ）、イットリウム（Ｙ）等の金属の酸
化物の蒸着薄膜を使用することができる。而して、好ま
しいものとしては、ケイ素（Ｓｉ）、アルミニウム（Ａ
ｌ）等の金属の酸化物の蒸着薄膜を挙げることができ
る。而して、上記の金属の酸化物の蒸着薄膜は、ケイ素
酸化物、アルミニウム酸化物、マグネシウム酸化物等の
ように金属酸化物として呼ぶことができ、その表記は、
例えば、ＳｉＯ_X 、ＡｌＯ_X 、ＭｇＯ_X 等のようにＭＯ
_X （ただし、式中、Ｍは、金属元素を表し、Ｘの値は、
金属元素によってそれぞれ範囲がことなる。）で表され
る。また、上記のＸの値の範囲としては、ケイ素（Ｓ
ｉ）は、０〜２、アルミニウム（Ａｌ）は、０〜１．
５、マグネシウム（Ｍｇ）は、０〜１、カルシウム（Ｃ
ａ）は、０〜１、カリウム（Ｋ）は、０〜０．５、スズ
（Ｓｎ）は、０〜２、ナトリウム（Ｎａ）は、０〜０．
５、ホウ素（Ｂ）は、０〜１、５、チタン（Ｔｉ）は、
０〜２、鉛（Ｐｂ）は、０〜１、ジルコニウム（Ｚｒ）
は０〜２、イットリウム（Ｙ）は、０〜１．５の範囲の
値をとることができる。上記において、Ｘ＝０の場合、
完全な金属であり、透明ではなく全く使用することがで
きない、また、Ｘの範囲の上限は、完全に酸化した値で
ある。本発明において、一般的に、ケイ素（Ｓｉ）、ア
ルミニウム（Ａｌ）以外は、使用される例に乏しく、ケ
イ素（Ｓｉ）は、１．０〜２．０、アルミニウム（Ａ
ｌ）は、０．５〜１．５の範囲の値のものを使用するこ
とができる。本発明において、上記のような無機酸化物
の薄膜の膜厚としては、使用する金属、または金属の酸
化物の種類等によって異なるが、例えば、５０〜２００
０Å位、好ましくは、１００〜１０００Å位の範囲内で
任意に選択して形成することが望ましい。

【００１３】次にまた、本発明において、上記の化学気
相成長法による無機酸化物の蒸着薄膜について更に説明
すると、かかる化学気相成長法による無機酸化物の蒸着
薄膜としては、例えば、プラズマ化学気相成長法、熱化
学気相成長法、光化学気相成長法等の化学気相成長法
（Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏ
ｎ法、ＣＶＤ法）等を用いて無機酸化物の蒸着薄膜を形
成することができる。本発明においては、具体的には、
フッ素系樹脂シ−トの一方の面に、有機珪素化合物等の
蒸着用モノマ−ガスを原料とし、キャリヤ−ガスとし
て、アルゴンガス、ヘリウムガス等の不活性ガスを使用
し、更に、酸素供給ガスとして、酸素ガス等を使用し、
低温プラズマ発生装置等を利用する低温プラズマ化学気
相成長法（ＣＶＤ法）を用いて酸化珪素等の無機酸化物
の蒸着薄膜を形成することができる。上記において、低
温プラズマ発生装置としては、例えば、高周波プラズ
マ、パルス波プラズマ、マイクロ波プラズマ等の発生装
置を使用することがてき、而して、本発明においては、
高活性の安定したプラズマを得るためには、高周波プラ
ズマ方式による発生装置を使用することが望ましい。

【００１４】具体的に、上記の低温プラズマ化学気相成
長法による無機酸化物の蒸着薄膜の形成法についてその
一例を例示して説明すると、図６は、上記のプラズマ化
学気相成長法による無機酸化物の蒸着薄膜の形成法につ
いてその概要を示す低温プラズマ化学気相成長装置の概
略的構成図である。上記の図６に示すように、本発明に
おいては、プラズマ化学気相成長装置４１の真空チャン
バ−４２内に配置された巻き出しロ−ル４３からフッ素
系樹脂シ−ト１を繰り出し、更に、該フッ素系樹脂シ−
ト１を、補助ロ−ル４４を介して所定の速度で冷却・電
極ドラム４５周面上に搬送する。而して、本発明におい
ては、ガス供給装置４６、４７および、原料揮発供給装
置４８等から酸素ガス、不活性ガス、有機珪素化合物等
の蒸着用モノマ−ガス、その他等を供給し、それらから
なる蒸着用混合ガス組成物を調整しなから原料供給ノズ
ル４９を通して真空チャンバ−４２内に該蒸着用混合ガ
ス組成物を導入し、そして、上記の冷却・電極ドラム４
５周面上に搬送されたフッ素系樹脂シ−ト１の上に、グ
ロ−放電プラズマ５０によってプラズマを発生させ、こ
れを照射して、酸化珪素等の無機酸化物の蒸着薄膜を形
成し、製膜化する。本発明においては、その際に、冷却
・電極ドラム４５は、チャンバ−外に配置されている電
源５１から所定の電力が印加されており、また、冷却・
電極ドラム４５の近傍には、マグネット５２を配置して
プラズマの発生が促進されており、次いで、上記で酸化
珪素等の無機酸化物の蒸着薄膜を形成したフッ素系樹脂
シ−ト１は、補助ロ−ル５３を介して巻き取りロ−ル５
４に巻き取って、本発明にかかるプラズマ化学気相成長
法による無機酸化物の蒸着薄膜を製造することができる
ものである。なお、図中、５５は、真空ポンプを表す。
また、本発明においては、上記のような無機酸化物の蒸
着薄膜の形成法を２回以上繰り返すか、あるいは、上記
のような低温プラズマ化学気相成長装置を２連以上接続
し、２層以上重層して、２層あるいはそれ以上からなる
無機酸化物の蒸着薄膜を形成することができる。上記の
例示は、その一例を例示するものであり、これによって
本発明は限定されるものではないことは言うまでもない
ことである。図示しないが、本発明においては、無機酸
化物の蒸着薄膜としては、無機酸化物の蒸着薄膜の１層
だけではなく、２層あるいはそれ以上を積層した積層体
の状態でもよく、また、使用する材料も１種または２種
以上の混合物で使用し、また、異種の材質で混合した無
機酸化物の蒸着薄膜を構成することもできる。

【００１５】上記において、酸化珪素等の無機酸化物の
蒸着薄膜を形成する有機珪素化合物等の蒸着用モノマ−
ガスとしては、例えば、１．１．３．３−テトラメチル
ジシロキサン、ヘキサメチルジシロキサン、ビニルトリ
メチルシラン、メチルトリメチルシラン、ヘキサメチル
ジシラン、メチルシラン、ジメチルシラン、トリメチル
シラン、ジエチルシラン、プロピルシラン、フェニルシ
ラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシ
シラン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラ
ン、フェニルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシ
シラン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、その他
等を使用することができる。本発明において、上記のよ
うな有機珪素化合物の中でも、１．１．３．３−テトラ
メチルジシロキサン、または、ヘキサメチルジシロキサ
ンを原料として使用することが、その取り扱い性、形成
された蒸着膜の特性等から、特に、好ましい原料であ
る。また、上記において、不活性ガスとしては、例え
ば、アルゴンガス、ヘリウムガス等を使用することがで
きる。

【００１６】本発明において、上記で形成される酸化珪
素の蒸着薄膜は、有機珪素化合物等のモノマ−ガスと酸
素ガス等とが化学反応し、その反応生成物がフッ素系樹
脂シ−トの上に密接着し、緻密な、柔軟性等に富む薄膜
を形成することができ、通常、一般式ＳｉＯ_X （ただ
し、Ｘは、０〜２の数を表す）で表される酸化珪素を主
体とする連続状の蒸着薄膜である。而して、上記の酸化
珪素の蒸着薄膜としては、透明性、バリア性等の点か
ら、一般式ＳｉＯ_X （ただし、Ｘは、１．３〜１．９の
数を表す。）で表される酸化珪素の蒸着膜を主体とする
薄膜であることが好ましいものである。上記において、
Ｘの値は、モノマ−ガスと酸素ガスのモル比、プラズマ
のエネルギ−等により変化するが、一般的に、Ｘの値が
小さくなればガス透過度は小さくなるが、膜自身が黄色
性を帯び、透明性が悪くなる。また、上記の酸化珪素の
蒸着薄膜は、珪素（Ｓｉ）と酸素（Ｏ）を必須構成元素
として有し、更に、炭素（Ｃ）と水素（Ｈ）のいずれが
一方、または、その両者の元素を微量構成元素として含
有する酸化珪素の蒸着膜からなり、かつ、その膜厚が、
５０Å〜５００Åの範囲であり、更に、上記の必須構成
元素と微量構成元素の構成比率が、膜厚方向において連
続的に変化しているものである。更に、上記の酸化珪素
の蒸着薄膜は、炭素からなる化合物を含有する場合に
は、その膜厚の深さ方向において炭素の含有量が減少し
ていることを特徴とするものである。

【００１７】而して、本発明において、上記の酸化珪素
の蒸着薄膜について、例えば、Ｘ線光電子分光装置（Ｘ
ｒａｙ Ｐｈｏｔｏｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｓｐｅｃｔｒｏ
ｓｃｏｐｙ、ＸＰＳ）、二次イオン質量分析装置（Ｓｅ
ｃｏｎｄａｒｙ Ｉｏｎ Ｍａｓｓ Ｓｐｅｃｔｒｏｓ
ｃｏｐｙ、ＳＩＭＳ）等の表面分析装置を用い、深さ方
向にイオンエッチングする等して分析する方法を利用し
て、酸化珪素の蒸着薄膜の元素分析を行うことより、上
記のような物性を確認することができるものである。ま
た、本発明において、上記の酸化珪素の蒸着薄膜の膜厚
としては、膜厚５０Å〜２０００Å位であることが望ま
しく、具体的には、その膜厚としては、１００〜１００
０Å位が望ましく、而して、上記において、１０００
Å、更には、２０００Åより厚くなると、その膜にクラ
ック等が発生し易くなるので好ましくなく、また、１０
０Å、更には、５０Å未満であると、バリア性の効果を
奏することが困難になることから好ましくないものであ
る。上記のおいて、その膜厚は、例えば、株式会社理学
製の蛍光Ｘ線分析装置（機種名、ＲＩＸ２０００型）を
用いて、ファンダメンタルパラメ−タ−法で測定するこ
とができる。また、上記において、上記の酸化珪素の蒸
着薄膜の膜厚を変更する手段としては、蒸着膜の体積速
度を大きくすること、すなわち、モノマ−ガスと酸素ガ
ス量を多くする方法や蒸着する速度を遅くする方法等に
よって行うことができる。

【００１８】ところで、本発明において、本発明にかか
る太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−ト、太陽電池モジ
ュ−ル等を構成する無機酸化物の蒸着薄膜として、例え
ば、物理気相成長法と化学気相成長法の両者を併用して
無機酸化物の蒸着薄膜の２層以上からなる多層膜を形成
する場合には、まず、フッ素系樹脂シ−トの上に、化学
気相成長法により、緻密で、柔軟性に富み、比較的にク
ラックの発生を防止し得る無機酸化物の蒸着薄膜を設
け、次いで、該無機酸化物の蒸着薄膜の上に、物理気相
成長法による無機酸化物の蒸着薄膜を設けて、２層以上
の多層膜からなる無機酸化物の蒸着薄膜を構成すること
が望ましいものである。

【００１９】次にまた、本発明において、無機酸化物の
蒸着薄膜の面に形成するプラズマ処理面について説明す
ると、かかるプラズマ処理面は、気体をア−ク放電によ
り電離させることにより生じるプラズマガスを利用して
表面改質を行なうプラズマ表面処理法等を利用してプラ
ズマ処理面を形成することができるものである。すなわ
は、本発明においては、酸素ガス、窒素ガス、アルゴン
ガス、ヘリウムガス等のガスをプラズマガスとして使用
する方法でプラズマ処理を行って、プラズマ処理面を形
成することができる。而して、本発明において、上記の
プラズマ処理としては、プラズマ放電処理の際に、酸素
ガス、または、酸素ガスとアルゴンガスまたはヘリウム
ガスとの混合ガスを使用してプラズマ処理を行なうこと
が好ましく、このようなプラズマ処理により、より低い
電圧でプラズマ処理を行なうことが可能であり、これに
より、無機酸化物の蒸着薄膜の劣化等を防止して、その
表面に、良好にプラズマ処理面を設けることができるも
のである。

【００２０】ところで、本発明において、上記のプラズ
マ処理としては、酸素ガスとアルゴンガスまたはヘリウ
ムガスとの混合ガスを使用してプラズマ処理を行うこと
が最も望ましく、また、そのプラズマ処理は、無機酸化
物の蒸着薄膜を形成した直後にインラインで行うことが
望ましいものである。すなわち、本発明においては、無
機酸化物の蒸着薄膜の表面に、例えば、その形成直後
で、かつ、蒸着薄膜が、ガイドロ−ル等に接する前に、
インラインでプラズマ処理を行うことにより、無機酸化
物の蒸着薄膜の表面に付着している不純物、塵等を除去
すると共に、更に、蒸着薄膜の表層近くに存在するハイ
ドロカ−ボングル−プ（例えば、Ｃ−Ｃ、Ｃ−Ｈ、Ｃ＝
等）が減少し、かつ、その表面の酸化度が増加し、多数
のカルボキシル基、ケト基、アセト基、ＯＨ基等が表面
にできて、その表面濡れ性が大幅に向上し、蒸着薄膜の
密接着性、印刷性、コ−ティング性等の後加工適性が向
上するものである。而して、本発明においては、上記の
ようなプラズマ処理面上に、後述するように、金属アル
コキシド化合物および／またはその加水分解物をビヒク
ルの主成分として含む組成物によるコ−ティング膜を設
けることにより、その密接着性を高め、ラミネ−ト強度
等に優れた積層材を形成することができ、しかも、無機
酸化物の蒸着薄膜とコ−ティング膜との２層からなるバ
リア性膜により、十分に、酸素ガスあるいは水蒸気等に
対する極めて高いバリア性を有し、それを使用して種々
の形態からなる積層材等を製造することができるもので
ある。しかも、本発明においては、密接着性に優れ、ラ
ミネ−ト強度を高めることができることから、例えば、
フィルムの巻き取り、印刷加工、ラミネ−ト加工、ある
いは、製袋加工等の後処理加工において、上記の無機酸
化物の蒸着薄膜にクラック等の発生等を防止することが
でき、いわゆる、後加工適性を向上させることができる
という利点も有するものである。また、本発明において
は、インラインでプラズマ処理を行うことから、その製
造コスト面においても、極めて優れているものである。

【００２１】なお、本発明において、上記のプラズマ処
理においては、プラズマ処理条件が極めて重要であり、
その条件によって得られる効果は、全く異なる。而し
て、本発明において、プラズマ処理と化学反応に影響す
る要因としては、プラズマ出力、ガスの種類、ガスの供
給量、および、処理時間等を挙げることができる。本発
明において、プラズマ処理としては、具体的には、酸素
ガスとアルゴンガスまたはヘリウムガスとの混合ガスを
使用することが望ましく、そして、その酸素ガスとアル
ゴンガスまたはヘリウムガスとの混合ガスのガス圧とし
ては、１〜１×１０^-4ｍｂａｒ位、より好ましくは、１
×１０^-1〜１×１０^-3ｍｂａｒ位が望ましく、また、酸
素ガスとアルゴンガスまたはヘリウムガスとの比率とし
ては、分圧比でアルゴンガスまたはヘリウムガス：酸素
ガス＝１：１〜１：１０位、より好ましくは、１：２〜
１：６位が望ましく、更に、そのプラズマ出力として
は、０．３〜２０ｋＷ位、より好ましくは、０．５〜１
５ｋＷ位が望ましく、更にまた、その処理速度として
は、５０〜５００ｍ／ｍｉｎ位、より好ましくは、１０
０〜４００ｍ／ｍｉｎ位が望ましい。上記の酸素ガスと
アルゴンガスまたはヘリウムガスとの分圧比において、
アルゴンガスまたはヘリウムガス分圧が高くなると、プ
ラズマで活性化される酸素分子が少なくなり、アルゴン
ガスまたはヘリウムガスが還元性ガスとして作用し、無
機酸化物の蒸着薄膜面に酸化被膜の形成、あるいは、水
酸基等の導入が阻害されることから好ましくないもので
ある。また、上記のプラズマ出力が、０．５ｋＷ未満、
更には、０．３ｋＷ未満の場合には、酸素ガスの活性化
が低下し、高活性の酸素原子が生成しにくいことから好
ましくなく、また、１５ｋＷを越えると、更には、２０
ｋＷを越えると、プラズマ出力が高すぎるので、無機酸
化物の蒸着薄膜の劣化によりクラック等が発生する傾向
になり、透明バリア性フィルムそのものの物性が低下す
るという問題を引き起こすことから好ましくないもので
ある。更に、上記の処理速度が、４００ｍ／ｍｉｎ以
上、更には、５００ｍ／ｍｉｎ以上であると、酸素プラ
ズマ量が少なく、また、５０ｍ／ｍｉｎ未満、更には、
３０ｍ／ｍｉｎ未満であると、無機酸化物の蒸着薄膜の
劣化等が急速に進み、バリア性が低下して好ましくない
ものである。

【００２２】ところで、本発明において、プラズマ処理
において、プラズマを発生させる方法としては、例え
ば、直流グロ−放電、高周波（Ａｕｄｉｏ Ｆｒｅｑｕ
ｅｎｃｙ：ＡＦ、Ｒａｄｉｏ Ｆｒｅｑｕｅｎｃｙ：Ｒ
Ｆ）放電、マイクロ波放電等の３通りの装置を利用して
行うことができる。而して、本発明においては、通常
は、１３．５６ＭＨｚの高周波（ＡＦ）放電装置を利用
して行うことができる。

【００２３】なお、本発明において、無機酸化物の蒸着
薄膜の表面に上記のようなプラズマ処理により形成され
るプラズマ処理面について、例えば、Ｘ線光電子分光装
置（Ｘｒａｙ Ｐｈｏｔｏｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｓｐｅｃ
ｔｒｏｓｃｏｐｙ、ＸＰＳ）、二次イオン質量分析装置
（Ｓｅｃｏｎｄａｒｙ Ｉｏｎ Ｍａｓｓ Ｓｐｅｃｔ
ｒｏｓｃｏｐｙ、ＳＩＭＳ）等の表面分析装置を用い、
深さ方向にイオンエッチングする等して分析する方法を
利用して、プラズマ処理部の分析を行うことより、前述
のように、不純物、塵等を除去されると共に、更に、そ
の処理面に薄くて平滑性の高い酸化被膜を形成したプラ
ズマ処理面であること、更に、例えば、水酸基（−ＯＨ
基）等の官能基が形成されているプラズマ処理面である
ことを確認することができるものである。具体的には、
Ｘ線源として、ＭｇＫα１．２、Ｘ線出力として１５Ｋ
ｖ、２０ｍＡの測定条件で表面〜１００ÅのＸＰＳ分析
を行い、Ｓｉ、Ｃ、Ｏ等の元素比を測定して処理状態を
確認することができる。また、本発明においては、蒸着
薄膜の表面自由エネルギ−は、濡れ試薬を用いて測定す
ることができる。本発明において、表面自由エネルギ−
が、４５ｄｙｎｅ／ｃｍ未満であると、良好な密接着性
は得られず、而して、表面自由エネルギ−が、４５ｄｙ
ｎｅ／ｃｍ、特に、５０ｄｙｎｅ／ｃｍ以上であること
が良好な密接着性を得る観点から好ましいものである。

【００２４】次に、本発明において、本発明にかかる太
陽電池モジュ−ル用表面保護シ−ト、太陽電池モジュ−
ル等を構成する金属アルコキシド化合物および／または
その加水分解物をビヒクルの主成分として含む組成物に
よるコ−ティング膜について説明すると、まず、上記の
金属アルコキシド化合物および／またはその加水分解物
としては、例えば、主に、一般式、Ｍ（０Ｒ）_n （式
中、Ｍは、Ｓｉ、Ｔｉ、Ａｌ、Ｂ、Ｚｒ、Ｗ、または、
Ｔａからなる金属原子を表し、Ｒは、Ｃ₁ 〜Ｃ₁₀からな
るアルキル基を表し、ｎは、１〜４の整数を表す。）で
表される金属アルコキシド化合物、または、その加水分
解物、あるいは、その両者の混合物等を使用することが
できる。上記において、金属アルコキシド化合物として
は、具体的には、例えば、テトラメトキシシラン、テト
ラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、テトライ
ソプロポキシシラン、テトラブトキシシラン、テトライ
ソブトキシシラン、テトラ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、
テトラ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、テトラ−ｎ−アミ
ルオキシシラン、テトライソアミルオキシシラン、テト
ラヘキシルオキシシラン、テトラヘプチルオキシシラ
ン、テトラオクチルオキシシラ、メチルトリメトキシシ
ラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキ
シシラン、メチルトリブトキシシラ、ジメチルジメトキ
シシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルジプロ
ポキシシラン、ジメチルジブトキシシラン、トリメチル
メトキシシラン、トリメチルエトキシシラン、トリメチ
ルブトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、γ−
（メタクリロキシプロピル）トリメトキシシラン、γ−
グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリ
クロロシラン、ビニルトリメトキシシラン、その他等の
アルコキシシラン化合物；トリメトキシアルミニウム、
トリエトキシアルミニウム、トリイソプロポキシアルミ
ニウム、その他等のアルミニウムアルコキシド化合物；
テトラメトキシジルコニウム、テトラエトキシジルコニ
ウム、テトライソプロポキシジルコニウム、テトラブト
キシジルコニウム、その他等のジルコニウムアルコキシ
ド化合物；テトラメトキシチタニウム、テトラエトキシ
チタニウム、テトライソプロポキシチタニウム、テトラ
ブトキシチタニウム、その他等のチタニウムアルコキシ
ド化合物；タンタルペンタプロポキシド、タンタルペン
タブトキシ、その他等のタンタルアルコキシド化合物；
ボロントリメトキシド、ボロントリブトキシド、その他
等のボロンアルコキシド化合物；その他等の１種ないし
２種以上の混合物を使用することができる。

【００２５】次に、本発明において、金属アルコキシド
化合物の加水分解物としては、上記のような金属アルコ
キシド化合物の１種ないし２種以上を適当な溶媒中に溶
解して、金属アルコキシド化合物の部分ないし完全加水
分解物を得ることができる。上記において、溶媒として
は、水、メタノ−ル、エタノ−ル、イソプロピルアルコ
−ル、ブタノ−ル、その他等のアルコ−ル類、上記の水
−アルコ−ル系等からなる混合溶媒、メチルエチルケト
ン、メチルイソブチルケトン、その他等のケトン類、酢
酸エチル、酢酸ブチル、その他等のエステル類、ハロゲ
ンカ炭化水素、トルエン、キシレン、その他等の芳香族
炭化水素類、その他等を使用することができる。なお、
本発明において、上記の加水分解を行う際には、例え
ば、硫酸、塩酸、硝酸等の鉱酸、酢酸、酒石酸等の有機
酸等を触媒として少量添加して使用することができる。

【００２６】次に、本発明において、上記の金属アルコ
キシド化合物および／またはその加水分解物をビヒクル
の主成分として含む組成物において、金属アルコキシド
化合物および／またはその加水分解物の含有量として
は、該金属アルコキシド化合物が１００％加水分解およ
び縮合したとして生じるＳｉＯ₂ 換算で０．１重量％以
上、好ましくは、０．１〜７０重量％、更には、０．１
〜２０重量％位になるように溶媒中に溶解させて使用す
ることが望ましい。上記において、０．１重量％未満で
あると、形成されるコ−ティング膜が、所望の特性、す
なわち、所望のバリア性能を有する被膜を形成すること
ができず、また、２０重量％、更には、７０重量％を越
えると、透明な均質の被膜を形成することが困難となる
ことから好ましくないものである。

【００２７】而して、本発明において、上記の金属アル
コキシド化合物および／またはその加水分解物をビヒク
ルの主成分として含む組成物によるコ−ティング膜を形
成するには、まず、例えば、金属アルコキシド化合物お
よび／またはその加水分解物の１種ないしそれ以上をビ
ヒクルの主成分とし、これに、更に、必要ならば、例え
ば、結合剤としての樹脂、充填剤、安定剤、可塑剤、酸
化防止剤、紫外線吸収剤等の光安定剤、分散剤、増粘
剤、乾燥剤、滑剤、帯電防止剤、架橋剤、その他等の添
加剤を任意に添加し、溶剤、希釈剤等で充分に混練して
なる溶剤型、水性型、あるいは、エマルジョン型等から
なる組成物を調整する。而して、本発明においては、上
記で調整した組成物を使用し、例えば、ロ−ルコ−ト
法、グラビアロ−ルコ−ト法、キスロ−ルコ−ト法、ス
クイ−ズロ−ルコ−ト法、リバ−スロ−ルコ−ト法、カ
−テンフロ−コ−ト法、その他等のコ−ティング法によ
り、コ−ティング量、例えば、０．１ｇ／ｍ² 〜１０ｇ
／ｍ² （乾燥状態）位、好ましくは、０．５ｇ／ｍ² 〜
５ｇ／ｍ² （乾燥状態）位になるようにコ−ティング
し、次いで、加熱乾燥、更には、エ−ジング処理等を施
して、本発明にかかるコ−ティング膜を形成することが
できる。上記において、上記の組成物としては、金属ア
ルコキシド化合物および／またはその加水分解物を溶解
ないし混練し、更に、これらを硬化させることから、
水、あるいは、アルコ−ル−水系溶液等を使用して調整
した組成物を使用することが好ましく、而して、上記の
アルコ−ル成分としては、例えば、ｎ−プロピルアルコ
−ル、イソプロピルアルコ−ル、ｎ−ブタノ−ル、ｔ−
ブタノ−ル、エチルアルコ−ル、メチルアルコ−ル等を
使用することができ、また、上記のアルコ−ル−水系溶
液において、アルコ−ルと水との配合割合としては、例
えば、アルコ−ル、５０〜７０重量部に対し水、５０〜
３０重量部の割合で配合してアルコ−ル−水系溶液を調
整することが望ましい。

【００２８】上記の組成物において、添加剤としては、
例えば、金属酸化物微粒子等の無機充填剤を同時に混合
して使用することが好ましいものである。かかる場合に
は、金属酸化物微粒子が、それ自身で硬い構造であるの
に比べ、その表面に多くの水酸基を持つＳｉＯ₂ 混合ゾ
ルが加熱等によりＳｉＯ₂ ゲル膜を形成する際に、その
表面の水酸基と反応し、コ−ティング膜を補強させると
いう利点を有するものである。上記の金属酸化物微粒子
としては、例えば、シリカ、アルミナ、チタニア、ジル
コニア、その他等を使用することができ、而して、その
粒子径としては、０．００５〜１．０μｍ位のものを少
量添加して使用することがてきる。

【００２９】また、上記の組成物においては、コ−ティ
ング膜の被膜性、コ−ティング膜の無機酸化物の蒸着薄
膜への密接着性、その他等のことから、例えば、水溶
性、親水性、疎水性、その他等の各種の樹脂の１種ない
し２種以上を添加することもできる。上記において、樹
脂としては、例えば、ポリエチレン系樹脂、ポリプロピ
レン系樹脂等のポリオレフィン系樹脂、あるいは、その
酸変性ポリオレフィン系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、
ポリアクリルあるいはメタクリル系樹脂、ポリスチレン
系樹脂、ポリビニルアルコ−ル系樹脂、エチレン−ビニ
ルアルコ−ル共重合体、ポリビニルブチラ−ル系樹脂、
ポリビニルピロリドン系樹脂、メチルセルロ−ス、エチ
ルセルロ−ス、カルボキシルメチルセルロ−ス、ニトロ
セルロ−ス、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、
フェノ−ル系樹脂、メラミン系樹脂、尿素系樹脂、ポリ
ウレタン系樹脂、その他等を使用することができる。

【００３０】次にまた、上記の組成物においては、架橋
剤として、例えば、二元反応性を有するシランカップリ
ング剤、あるいは、イソシアネ−ト化合物等を添加する
ことができる。上記のシランカップリング剤としては、
例えば、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、ビニ
ルトリクロロシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニ
ル−トリス（β−メトキシエトキシ）シラン、γ−メタ
クリルオキシプロピルトリメトキシシラン、β−（３、
４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビ
ニルトリアセトキシシラン、γ−メルカプトプロピルト
リメトキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）−γ−アミ
ノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β（アミノエチ
ル）−γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ
−ウレイドプロピルトリエトキシシラン、ビス（β−ヒ
ドロキシエチル）−γ−アミノプロピルトリエトキシシ
ラン、γ−アミノプロピルシリコ−ンの１種ないしそれ
以上を使用することができる。また、上記のイソシアネ
−ト化合物としては、その分子中に２個以上のイソシア
ネ−ト基を有するものを使用することができ、例えば、
トリレンジイソシアネ−ト、トリフェニルメタントリイ
ソシアネ−ト、テトラメチルキシレンジイソシアネ−
ト、その他等を使用することがてきる。その使用量とし
ては、微量添加するだけでよい。

【００３１】更に、本発明においては、金属アルコキシ
ド化合物および／またはその加水分解を架橋硬化させる
ために、更には、架橋剤等と反応させ、架橋構造を構成
する際に、例えば、硬化触媒等を添加することができ
る。上記の硬化触媒としては、例えば、水に実質的に不
溶であり、かつ、有機溶媒に可溶な第三アミン類、例え
ば、Ｎ．Ｎ−ジメチルベンジルアミン、トリプロピルア
ミン、トリブチルアミン、トリペンチルアミン等、ま
た、酸類として、例えば、硫酸、塩酸、硝酸等の鉱酸、
酢酸、酒石酸等の有機酸等を使用することができる。そ
の使用量としては、微量添加することで充分である。

【００３２】ところで、本発明において、上記の金属ア
ルコキシド化合物および／またはその加水分解物をビヒ
クルの主成分とし、これに、必要ならば、所望の添加剤
を任意に添加し、水、あるいは、アルコ−ル−水系溶
剤、希釈剤等で充分に混練してなる組成物を調整し、こ
れを通常のコ−ティング法でコ−ティングし、次いで、
加熱乾燥、更には、エ−ジング処理等を施すことによ
り、コ−ティング膜を形成することができる。而して、
上記のコ−ティング膜は、無機酸化物の蒸着薄膜との密
接着性に優れ、その両者の接着強度は極めて強く、その
層間において剥離する等の現象は認められず、更に、本
発明においては、無機酸化物の蒸着薄膜と上記のコ−テ
ィング膜との２層からなるバリア性膜を形成し、それに
より、その酸素ガス、水蒸気ガス等に対するバリア性を
更に向上させ、かつ、透明性、耐熱性、耐熱水性、ラミ
ネ−ト適性、その他等にも優れ、極めて良好な積層材を
製造し得るものである。

【００３３】次に、本発明において、太陽電池モジュ−
ルを構成する太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トの下
に積層する充填剤層について説明すると、かかる充填剤
層としては、太陽光が入射し、これを透過して吸収する
ことから透明性を有することが必要であり、また、表面
保護シ−トとの接着性を有することも必要であり、更
に、光起電力素子としての太陽電池素子の表面の平滑性
を保持する機能を果たすために熱可塑性を有すること、
更には、光起電力素子としての太陽電池素子の保護とう
いことから、耐スクラッチ性、衝撃吸収性等に優れてい
ることが必要である。具体的には、上記の充填剤層とし
ては、例えば、フッ素系樹脂、エチレン−酢酸ビニル共
重合体、アイオノマ−樹脂、エチレン−アクリル酸、ま
たは、メタクリル酸共重合体、ポリエチレン樹脂、ポリ
プロピレン樹脂、ポリエチレンあるいはポリプロピレン
等のポリオレフィン系樹脂をアクリル酸、イタコン酸、
マレイン酸、フマ−ル酸等の不飽和カルボン酸で変性し
た酸変性ポリオレンフィン系樹脂、ポリビニルブチラ−
ル樹脂、シリコ−ン系樹脂、エポキシ系樹脂、（メタ）
アクリル系樹脂、その他等の樹脂の１種ないし２種以上
の混合物を使用することができる。なお、本発明におい
ては、上記の充填剤層を構成する樹脂には、耐熱性、耐
光性、耐水性等の耐候性等を向上させるために、その透
明性を損なわない範囲で、例えば、架橋剤、熱酸化防止
剤、光安定剤、紫外線吸収剤、光酸化防止剤、その他等
の添加剤を任意に添加し、混合することができるもので
ある。而して、本発明においては、太陽光の入射側の充
填剤としては、耐光性、耐熱性、耐水性等の耐候性を考
慮すると、フッ素系樹脂、エチレン−酢酸ビニル系樹脂
が望ましい素材である。なお、上記の充填剤層の厚さと
しては、２００〜１０００μｍ位、より好ましくは、３
５０〜６００μｍ位が望ましい。

【００３４】次に、本発明において、太陽電池モジュ−
ルを構成する光起電力素子としての太陽電池素子につい
て説明すると、かかる太陽電池素子としては、従来公知
のもの、例えば、結晶性シリコン太陽電池素子、多結晶
シリコン太陽電池素子、アモルファスシリコン太陽電池
素子、銅インジウムセレナイド太陽電池素子、化合物半
導体太陽電池素子、その他等を使用することができる。
更には、例えば、薄膜多結晶シリコン太陽電池素子、薄
膜微結晶シリコン太陽電池素子、または、薄膜結晶シリ
コン太陽電子素子とアモルファス太陽電池素子のハイブ
リット素子等を使用することができる。

【００３５】次に、本発明において、太陽電池モジュ−
ルを構成する光起電力素子の下に積層する充填剤層につ
いて説明すると、かかる充填剤層としては、上記の太陽
電池モジュ−ル用表面保護シ−トの下に積層する充填剤
層と同様に、裏面保護シ−トとの接着性を有することも
必要であり、更に、光起電力素子としての太陽電池素子
の裏面の平滑性を保持する機能を果たすために熱可塑性
を有すること、更には、光起電力素子としての太陽電池
素子の保護とういことから、耐スクラッチ性、衝撃吸収
性等に優れていることが必要である。しかし、上記の太
陽電池モジュ−ルを構成する光起電力素子の下に積層す
る充填剤層としては、上記の太陽電池モジュ−ル用表面
保護シ−トの下に積層する充填剤層と異なり、必ずも、
透明性を有することを必要としないものである。具体的
には、上記の充填剤層としては、前述の太陽電池モジュ
−ル用表面保護シ−トの下に積層する充填剤層と同様
に、例えば、フッ素系樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重
合体、アイオノマ−樹脂、エチレン−アクリル酸、また
は、メタクリル酸共重合体、ポリエチレン樹脂、ポリプ
ロピレン樹脂、ポリエチレンあるいはポリプロピレン等
のポリオレフィン系樹脂をアクリル酸、イタコン酸、マ
レイン酸、フマ−ル酸等の不飽和カルボン酸で変性した
酸変性ポリオレンフィン系樹脂、ポリビニルブチラ−ル
樹脂、シリコ−ン系樹脂、エポキシ系樹脂、（メタ）ア
クリル系樹脂、その他等の樹脂の１種ないし２種以上の
混合物を使用することができる。なお、本発明において
は、上記の充填剤層を構成する樹脂には、耐熱性、耐光
性、耐水性等の耐候性等を向上させるために、その透明
性を損なわない範囲で、例えば、架橋剤、熱酸化防止
剤、光安定剤、紫外線吸収剤、光酸化防止剤、その他等
の添加剤を任意に添加し、混合することができるもので
ある。なお、上記の充填剤層の厚さとしては、２００〜
１０００μｍ位、より好ましくは、３５０〜６００μｍ
位が望ましい。

【００３６】次に、本発明において、太陽電池モジュ−
ルを構成する裏面保護シ−ト層について説明すると、か
かる裏面保護シ−トとしては、絶縁性の樹脂のフィルム
ないしシ−トを使用することができ、更に、耐熱性、耐
光性、耐水性等の耐候性を有し、物理的あるいは化学的
強度性、強靱性等に優れ、更に、光起電力素子としての
太陽電池素子の保護とういことから、耐スクラッチ性、
衝撃吸収性等に優れていることが必要である。上記の裏
面保護シ−トとしては、具体的には、例えば、ポリアミ
ド系樹脂（各種のナイロン）、ポリエステル系樹脂、ポ
リエチレン系樹脂、ポリプロピレン系樹脂、ポリスチレ
ン系樹脂、ポリカ−ボネ−ト系樹脂、アセタ−ル系樹
脂、セルロ−ス系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、その
他等の各種の樹脂のフィルムないしシ−トを使用するこ
とができる。上記の樹脂のフィルムないしシ−トとして
は、例えば、２軸延伸した樹脂のフィルムないしシ−ト
も使用することができる。また、上記の樹脂のフィルム
ないしシ−トにおいて、その膜厚としては、１２〜２０
０μｍ位、より好ましくは、２５〜１５０μｍ位が望ま
しい。

【００３７】なお、本発明において、本発明にかかる太
陽電池モジュ−ルを製造する際しては、その強度、耐候
性、耐スクラッチ性、その他等の諸堅牢性を向上させる
ために、その他の素材、例えば、低密度ポリエチレン、
中密度ポリエチレン、高密度ポリエチレン、線状低密度
ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−プロピレン
共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体、アイオノマ
−樹脂、エチレン−アクリル酸エチル共重合体、エチレ
ン−アクリル酸またはメタクリル酸共重合体、メチルペ
ンテンポリマ−、ポリブテン系樹脂、ポリ塩化ビニル系
樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹
脂、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合体、ポリ（メ
タ）アクリル系樹脂、ポリアクリルニトリル系樹脂、ポ
リスチレン系樹脂、アクリロニトリル−スチレン共重合
体（ＡＳ系樹脂）、アクリロニトリル−ブタジェン−ス
チレン共重合体（ＡＢＳ系樹脂）、ポリエステル系樹
脂、ポリアミド系樹脂、ポリカ−ボネ−ト系樹脂、ポリ
ビニルアルコ−ル系樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合
体のケン化物、フッ素系樹脂、ジエン系樹脂、ポリアセ
タ−ル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ニトロセルロ−
ス、その他等の公知の樹脂のフィルムないしシ−トから
任意に選択して使用することができる。本発明におい
て、上記のフィルムないしシ−トは、未延伸、一軸ない
し二軸方向に延伸されたもの等のいずれのものでも使用
することができる。また、その厚さは、任意であるが、
数μｍから３００μｍ位の範囲から選択して使用するこ
とができる。更に、本発明においては、フィルムないし
シ−トとしては、押し出し成膜、インフレ−ション成
膜、コ−ティング膜等のいずれの性状の膜でもよい。

【００３８】次に、本発明において、上記のような材料
を使用して太陽電池モジュ−ルを製造する方法について
説明すると、かかる製造法としては、公知の方法、例え
ば、上記に挙げた本発明にかかる太陽電池モジュ−ル用
表面保護シ−トを使用し、これに、そのコ−ティング膜
の面を内側にし、順次に、充填剤層、光起電力素子とし
ての太陽電池素子、充填剤層、および、裏面保護シ−ト
層等を積層し、更に、必要ならば、各層間に、その他の
素材を任意に積層し、次いで、これらを、真空吸引等に
より一体化して加熱圧着するラミネ−ション法等の通常
の成形法を利用し、上記の各層を一体成形体として加熱
圧着成形して、太陽電池モジュ−ルを製造することがで
きる。上記において、必要ならば、各層間の接着性等を
高めるために、（メタ）アクリル系樹脂、オレフィン系
樹脂、ビニル系樹脂、その他等の樹脂をビヒクルの主成
分とする加熱溶融型接着剤、溶剤型接着剤、光硬化型接
着剤、その他等を使用することができる。

【００３９】

【実施例】次に、本発明について実施例を挙げて更に具
体的に説明する。 実施例１ （１）．基材として、厚さ５０μｍのポリフッ化ビニル
樹脂シ−ト（ＰＶＦ）を使用し、これを巻き取り式真空
蒸着装置の送り出しロ−ルに装着し、次いで、これをコ
−ティングドラムの上に繰り出して、下記の条件で、ア
ルミニウムを蒸着源に用い、酸素ガスを供給しながら、
エレクトロンビ−ム（ＥＢ）加熱方式による反応真空蒸
着法により、上記のポリフッ化ビニル樹脂フィルムの易
接着処理面に、膜厚３００Åの酸化アルミニウムの蒸着
薄膜を形成した。 （蒸着条件） 蒸着源：アルミニウム 真空チャンバ−内の真空度：７．５×１０^-6ｍｂａｒ 蒸着チャンバ−内の真空度：２．１×１０^-6ｍｂａｒ ＥＢ出力：４０ＫＷ フィルム搬送速度：６００ｍ／分 （２）．次に、上記で膜厚３００Åの酸化アルミニウム
の蒸着薄膜を形成したポリフッ化ビニル樹脂フィルムに
ついて、その蒸着直後に、その酸化アルミニウムの蒸着
薄膜面に、グロ−放電プラズマ発生装置を使用し、プラ
ズマ出力、１５００Ｗ、酸素ガス（Ｏ₂ ）：アルゴンガ
ス（Ａｒ）＝１９：１からなる混合ガスを使用し、混合
ガス圧６Ｘ１０^-5Ｔｏｏｒ、処理速度４２０ｍ／ｍｉｎ
で酸素／アルゴン混合ガスプラズマ処理を行った。 （３）．他方、ジメチルジメトキシシラン２重量部とエ
タノ−ル１重量部と０．１規定の塩酸０．２重量部から
なる配合割合で混合して、５０℃にて２時間還流した。
得られたジメチルジメトキシシランの部分加水分解物溶
液に、メチルトリメトキシシラン２５重量部とエタノ−
ル５重量部とポリメチルメタクリレ−ト（ＰＭＭＡ）の
トルエン溶液（２０％）２０重量部とを添加し、室温に
て更に２時間攪拌して、塗布用の組成物を調整した。次
に、上記の酸化アルミニウムの蒸着薄膜のプラズマ処理
面に、上記で 得られた塗布用の組成物を使用し、これ
をグラビアロ−ルコ−ト法でコ−ティングして、厚さ
１．０ｇ／ｍ² （乾燥状態）のコ−ティング膜を形成
し、次いで、１２０℃で５分間加熱処理してコ−ティン
グ硬化膜を形成して、本発明にかかる太陽電池モジュ−
ル用表面保護シ−トを製造した。 （４）．次に、上記で製造した表面保護シ−トのコ−テ
ィング硬化膜面に、アモルファスシリコンからなる太陽
電池素子を並列に配置した厚さ３８μｍの２軸延伸ポリ
エチレンテレフタレ−トフィルム（受光面）を、その太
陽電池素子面を対向させ、アクリル系樹脂の接着剤層を
介して積層して、本発明にかかる太陽電池モジュ−ルを
製造した。 （５）．なお、上記において、上記の基材としての厚さ
５０μｍのポリフッ化ビニル樹脂シ−ト（ＰＶＦ）の代
わりに、厚さ５０μｍのテトラフルオロエチレン−エチ
レンコポリマ−からなるフッ素系樹脂シ−ト（ＥＴＦ
Ｅ）を使用し、上記と全く同様にして、同様な本発明に
かかる太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−ト、および、
太陽電池モジュ−ルを製造することができた。

【００４０】実施例２ （１）．基材として、厚さ５０μｍのポリフッ化ビニル
樹脂フィルム（ＰＶＦ）を使用し、これをプラズマ化学
気相成長装置の送り出しロ−ルに装着し、下記の条件で
厚さ３００Åの酸化珪素の蒸着薄膜を上記のポリフッ化
ビニル樹脂フィルムの易接着処理面に形成した。 （蒸着条件） 反応ガス混合比：ヘキサメチルジシロキサン：酸素ガ
ス：ヘリウム＝１：１０：１０（単位：ｓｌｍ） 真空チャンバ−内の真空度：５．０×１０^-6ｍｂａｒ 蒸着チャンバ−内の真空度：６．０×１０^-2ｍｂａｒ 冷却・電極ドラム供給電力：２０ｋＷ フィルムの搬送速度：８０ｍ／分 蒸着面：コロナ処理面 （２）．次に、上記で膜厚３００Åの酸化珪素の蒸着薄
膜を形成したポリフッ化ビニル樹脂フィルムについて、
その蒸着直後に、その酸化珪素の蒸着薄膜面に、出力、
１０ｋＷ、処理速度１００ｍ／ｍｉｎでコロナ放電処理
を行って、蒸着薄膜面の表面張力を３５ｄｙｎｅより６
０ｄｙｎｅに向上させた。 （３）．他方、テトラエトキシシラン２５重量部とエタ
ノ−ル１０重量部と０．１規定の塩酸５重量部の割合で
混合して、５０℃にて３時間還流した。得られたテトラ
エトキシシランの部分加水分解物溶液に、ポリメチルメ
タクリレ−ト（ＰＭＭＡ）のトルエン溶液（２０％）３
０重量部を添加し、室温にて更に２時間攪拌して、塗布
用の組成物を調整した。次に、上記の酸化珪素の蒸着薄
膜のコロナ処理面に、上記の塗布用の組成物をを使用
し、これをグラビアロ−ルコ−ト法でコ−ティングし
て、厚さ１．５ｇ／ｍ² （乾燥状態）のコ−ティング膜
を形成し、次いで、１２０℃で１分加熱処理してコ−テ
ィング硬化膜を形成して、本発明にかかる太陽電池モジ
ュ−ル用表面保護シ−トを製造した。 （４）．次に、上記で製造した表面保護シ−トのコ−テ
ィング硬化膜面に、アモルファスシリコンからなる太陽
電池素子を並列に配置した厚さ３８μｍの２軸延伸ポリ
エチレンテレフタレ−トフィルム（受光面）を、その太
陽電池素子面を対向させ、アクリル系樹脂の接着剤層を
介して積層して、本発明にかかる太陽電池モジュ−ルを
製造した。 （５）．なお、上記において、上記の基材としての厚さ
５０μｍのポリフッ化ビニル樹脂シ−ト（ＰＶＦ）の代
わりに、厚さ５０μｍのテトラフルオロエチレン−エチ
レンコポリマ−からなるフッ素系樹脂シ−ト（ＥＴＦ
Ｅ）を使用し、上記と全く同様にして、同様な本発明に
かかる太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−ト、および、
太陽電池モジュ−ルを製造することができた。

【００４１】実施例３ （１）．基材として、紫外線吸収剤を練り込み加工した
厚さ５０μｍのポリフッ化ビニル樹脂フィルム（ＰＶ
Ｆ）を使用し、その易接着処理面に、上記の実施例２と
全く同様にして、厚さ３００Åの酸化珪素の蒸着薄膜を
形成し、更に、その酸化珪素の蒸着薄膜面に、コロナ放
電処理を行って、蒸着薄膜面の表面張力を３５ｄｙｎｅ
より６０ｄｙｎｅに向上させた。 （２）．次に、上記でコロナ処理を行った酸化珪素の蒸
着薄膜を形成したポリフッ化ビニル樹脂フィルムを使用
し、上記の実施例１と全く同様にして、上記のポリフッ
化ビニル樹脂フィルムの酸化珪素の蒸着薄膜のコロナ処
理面に、膜厚３００Åの酸化アルミニウムの蒸着薄膜を
形成し、更に、酸化アルミニウムの蒸着薄膜面に、プラ
ズマ処理を行った。 （３）．他方、ジメチルジメトキシシラン５重量部とエ
タノ−ル２．５重量部と０．１規定の塩酸０．５重量部
とを混合して、５０℃にて２時間還流した。得られたジ
メチルジメトキシシランの部分加水分解物溶液に、メチ
ルトリメトキシシラン１５重量部とエタノ−ル３重量部
と環状ポリオレフィンのシクロヘキサン溶液（３０％）
１０重量部とを添加し、室温にて更に２時間攪拌して、
塗布用の組成物を調整した。次に、上記の酸化アルミニ
ウムの蒸着薄膜のプラズマ処理面に、上記で 得られた
塗布用の組成物を使用し、これをグラビアロ−ルコ−ト
法でコ−ティングして、厚さ２．０ｇ／ｍ² （乾燥状
態）のコ−ティング膜を形成し、次いで、１２０℃で１
分加熱処理してコ−ティング硬化膜を形成して、本発明
にかかる太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トを製造し
た。 （４）．次に、上記で製造した表面保護シ−トのコ−テ
ィング硬化膜面に、アモルファスシリコンからなる太陽
電池素子を並列に配置した厚さ３８μｍの２軸延伸ポリ
エチレンテレフタレ−トフィルム（受光面）を、その太
陽電池素子面を対向させ、アクリル系樹脂の接着剤層を
介して積層して、本発明にかかる太陽電池モジュ−ルを
製造した。 （５）．なお、上記において、上記の基材としての紫外
線吸収剤を練り込み加工した厚さ５０μｍのポリフッ化
ビニル樹脂シ−ト（ＰＶＦ）の代わりに、紫外線吸収剤
を練り込み加工した厚さ５０μｍのテトラフルオロエチ
レン−エチレンコポリマ−からなるフッ素系樹脂シ−ト
（ＥＴＦＥ）を使用し、上記と全く同様にして、同様な
本発明にかかる太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−ト、
および、太陽電池モジュ−ルを製造することができた。

【００４２】実施例４ （１）．上記の実施例１で製造した膜厚３００Åの酸化
アルミニウムの蒸着薄膜のプラズマ処理面に、上記の実
施例１と全く同様にして、膜厚３００Åの酸化アルミニ
ウムの蒸着薄膜を形成し、更に、酸化アルミニウムの蒸
着薄膜面に、プラズマ処理を行って、２層の酸化アルミ
ニウムの蒸着薄膜を形成した。 （２）．他方、テトラエトキシシラン２５重量部とエタ
ノ−ル１０重量部と０．１規定の塩酸５重量部とを混合
して、５０℃にて３時間還流した。得られたテトラエト
キシシランの部分加水分解物溶液に、フッ素系アクリル
樹脂液（旭硝子株式会社製、商品名、ルミフロン）２５
重量部を添加し、室温にて更に２時間攪拌して、塗布用
の組成物を調整した。次に、上記の酸化アルミニウムの
蒸着薄膜のプラズマ処理面に、上記の塗布用の組成物を
を使用し、これをグラビアロ−ルコ−ト法でコ−ティン
グして、厚さ０．５ｇ／ｍ² （乾燥状態）のコ−ティン
グ膜を形成し、次いで、１２０℃で５分間加熱処理して
コ−ティング硬化膜を形成して、本発明にかかる太陽電
池モジュ−ル用表面保護シ−トを製造した。更に、上記
で製造した表面保護シ−トを使用し、上記の実施例１と
同様にして本発明にかかる太陽電池モジュ−ルを製造し
た。

【００４３】実施例５ （１）．上記の実施例２において製造した酸化珪素の蒸
着薄膜のコロナ処理面に、上記の実施例２と全く同様に
して、膜厚３００Åの酸化珪素の蒸着薄膜を形成し、更
に、酸化珪素の蒸着薄膜面に、コロナ放電処理を行っ
て、２層の酸化珪素の蒸着薄膜を形成した。 （２）．他方、テトラエトキシシラン２０重量部と水５
０重量部とエタノ−ル３０重量部と０．１規定の塩酸５
重量部とをその割合で混合して、５０℃にて３時間還流
した。得られたテトラエトキシシランの部分加水分解物
溶液に、エチレン−ビニルアルコ−ル共重合体の水−イ
ソプロビ−ルアルコ−ル溶液（固形分８％）５０重量部
を添加し、室温にて更に２時間攪拌して、塗布用の組成
物を調整した。次に、上記の酸化珪素の蒸着薄膜のコロ
ナ処理面に、上記の塗布用の組成物をを使用し、これを
グラビアロ−ルコ−ト法でコ−ティングして、厚さ１．
０ｇ／ｍ² （乾燥状態）のコ−ティング膜を形成し、次
いで、１２０℃で５分間加熱処理してコ−ティング硬化
膜を形成して、本発明にかかる太陽電池モジュ−ル用表
面保護シ−トを製造した。更に、上記で製造した表面保
護シ−トを使用し、上記の実施例２と同様にして本発明
にかかる太陽電池モジュ−ルを製造した。

【００４４】比較例１ （１）．基材として、厚さ５０μｍのポリフッ化ビニル
樹脂フィルム（ＰＶＦ）を使用し、これを表面保護シ−
トとし、その片面に、アモルファスシリコンからなる太
陽電池素子を並列に配置した厚さ３８μｍの２軸延伸ポ
リエチレンテレフタレ−トフィルム（受光面）を、その
太陽電池素子面を対向させ、アクリル系樹脂の接着剤層
を介して積層して、太陽電池モジュ−ルを製造した。

【００４５】比較例２ 基材として、厚さ５０μｍのポリフッ化ビニル樹脂フィ
ルム（ＰＶＦ）を使用し、上記の実施例１と全く同様に
して、膜厚３００Åの酸化アルミニウムの蒸着薄膜を形
成し、更に、酸化アルミニウムの蒸着薄膜面に、プラズ
マ処理を行って、表面保護シ−トを製造した。次いで、
上記のプラズマ処理面に、アモルファスシリコンからな
る太陽電池素子を並列に配置した厚さ３８μｍの２軸延
伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルム（受光面）を、
その太陽電池素子面を対向させ、アクリル系樹脂の接着
剤層を介して積層して、太陽電池モジュ−ルを製造し
た。

【００４６】比較例３ 基材として、厚さ５０μｍのポリフッ化ビニル樹脂フィ
ルム（ＰＶＦ）を使用し、上記の実施例２と全く同様に
して、厚さ３００Åの酸化珪素の蒸着薄膜を、その易接
着処理面形成し、更に、その酸化珪素の蒸着薄膜面に、
コロナ放電処理を行って、表面保護シ−トを製造した。
次いで、上記のコロナ処理面に、アモルファスシリコン
からなる太陽電池素子を並列に配置した厚さ３８μｍの
２軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルム（受光
面）を、その太陽電池素子面を対向させ、アクリル系樹
脂の接着剤層を介して積層して、太陽電池モジュ−ルを
製造した。

【００４７】実験例 上記の実施例１〜５で製造した本発明にかかる表面保護
シ−トと比較例１〜３にかかる表面保護シ−トについ
て、全光線透過率を測定し、また、上記の実施例１〜５
で製造した太陽電池モジュ−ルと比較例１〜３で製造し
た太陽電池モジュ−ルについて太陽電池モジュ−ル評価
試験を行った。 （１）．全光線透過率の測定 これは、基材フィルムを基準とし、実施例１〜５で製造
した本発明にかかる表面保護シ−トと比較例１〜３にか
かる表面保護シ−トについてカラ−コンピュ−タ−を使
用して全光線透過率（％）を測定した。 （２）．太陽電池モジュ−ル評価試験 これは、ＪＩＳ規格Ｃ８９１７−１９８９に基づいて、
太陽電池モジュ−ルの環境試験を行い、試験前後の光起
電力の出力を測定して、比較評価した。 （３）．水蒸気透過度と酸素透過度の測定 水蒸気透過度は、実施例１〜５で製造した本発明にかか
る表面保護シ−トと比較例１〜３にかかる表面保護シ−
トについて、温度４０℃、湿度９０％ＲＨの条件で、米
国、モコン（ＭＯＣＯＮ）社製の測定機〔機種名、パ−
マトラン（ＰＥＲＭＡＴＲＡＮ）〕にて測定し、更に、
酸素透過度は、上記と同様の対象物について、温度２３
℃、湿度９０％ＲＨの条件で、米国、モコン（ＭＯＣＯ
Ｎ）社製の測定機〔機種名、オクストラン（ＯＸＴＲＡ
Ｎ）〕にて測定した。上記の測定結果について下記の表
１に示す。

【００４８】 上記の表１において、水蒸気透過度は、〔ｇ／ｍ² ／ｄ
ａｙ・４０℃・１００％ＲＨ〕の単位であり、また、酸
素透過度は、〔ｃｃ／ｍ² ／ｄａｙ・２３℃・９０％Ｒ
Ｈ〕の単位である。

【００４９】上記の表１に示す測定結果より明らかなよ
うに、実施例１〜５にかかる太陽電池モジュ−ル用表面
保護シ−トは、全光線透過率が高く、また、水蒸気バリ
ア性、酸素バリア性に優れていた。また、実施例１〜５
にかかる表面保護シ−トを使用した太陽電池モジュ−ル
は、その出力低下率も低いものであった。これに対し、
比較例１にかかる表面保護シ−トは、全光線透過率が高
いものの、水蒸気バリア性、酸素バリア性が低く、その
ため、これを使用した太陽電池モジュ−ルは、出力低下
率が高い等の問題点があった。更に、比較例２、３にか
かる表面保護シ−トは、全光線透過率が高く、また、水
蒸気バリア性、酸素バリア性に優れ、更に、出力低下率
も低いものであったが、実施例１〜５のそれらと比較す
ると、水蒸気バリア性、酸素バリア性において若干劣
り、出力低下率も若干高めであった。

【００５０】

【発明の効果】以上の説明で明らかなよう、本発明は、
太陽電池モジュ−ルを構成する表面保護シ−ト層として
使用されているガラス板の特性に着目し、まず、フッ素
系樹脂シ−トを基材シ−トとして使用し、その片面に、
酸化珪素、あるいは、酸化アルミニウム等の透明な、ガ
ラス質からなる無機酸化物の蒸着薄膜を設け、更に、該
無機酸化物の蒸着薄膜の上に、金属アルコキシド化合物
および／またはその加水分解物をビヒクルの主成分とす
る組成物によるコ−ティング膜を設けて太陽電池モジュ
−ル用表面保護シ−トを製造し、これを表面保護シ−ト
層とし、そのコ−ティング膜面を内側にし、充填剤層、
光起電力素子としての太陽電池素子、充填剤層、およ
び、裏面保護シ−ト層等を順次に積層し、次いで、これ
らを一体的に真空吸引して加熱圧着するラミネ−ション
法等を利用して太陽電池モジュ−ルを製造したところ、
特に、水分、酸素等の侵入を防止する防湿性を著しく向
上させ、更に、耐光性、耐熱性、耐水性等の諸堅牢性に
ついても、その長期的な性能劣化を最小限に抑え、保護
能力性に優れ、かつ、より低コストで安全な太陽電池モ
ジュ−ル用表面保護シ−トおよびそれを使用した太陽電
池モジュ−ルを製造し得ることができるというものであ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明にかかる太陽電池モジュ−ル用表面保護
シ−トについてその一例の層構成の概略を示す概略的断
面図である。

【図２】本発明にかかる太陽電池モジュ−ル用表面保護
シ−トについてその一例の層構成の概略を示す概略的断
面図である。

【図３】本発明にかかる太陽電池モジュ−ル用表面保護
シ−トについてその一例の層構成の概略を示す概略的断
面図である。

【図４】図１に示す本発明にかかる太陽電池モジュ−ル
用表面保護シ−トを使用して製造した太陽電池モジュ−
ルついてその一例の層構成の概略を示す概略的断面図で
ある。

【図５】物理気相成長法による無機酸化物の蒸着薄膜を
形成する方法についてその概要を示す巻き取り式真空蒸
着装置の概略的構成図である。

【図６】化学気相成長法による無機酸化物の蒸着薄膜を
形成する方法についてその概要を示す低温プラズマ化学
気相成長装置の概略的構成図である。

【符号の説明】

Ａ 太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−ト Ａ₁ 太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−ト Ａ₂ 太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−ト １ フッソ系樹脂シ−ト ２ 無機酸化物の蒸着薄膜 ２ａ 無機酸化物の蒸着薄膜 ２ｂ 無機酸化物の蒸着薄膜 ３ コ−ティング膜 ４ 多層膜 ４ａ 多層膜 Ｔ 太陽電池モジュ−ル １１ 充填剤層 １２ 太陽電池素子 １３ 充填剤層 １４ 裏面保護シ−ト

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 山本 浩 東京都新宿区市谷加賀町一丁目１番１号 大日本印刷株式会社内 (72)発明者 今野 克俊 東京都新宿区市谷加賀町一丁目１番１号 大日本印刷株式会社内 Ｆターム(参考） 5F051 BA14 BA15 CB12 CB14 CB30 JA03 JA04 JA05

Claims (16)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 フッ素系樹脂シ−トの片面に、無機酸化
   物の蒸着薄膜を設け、更に、該無機酸化物の蒸着薄膜の
   上に、金属アルコキシド化合物および／またはその加水
   分解物をビヒクルの主成分とする組成物によるコ−ティ
   ング膜を設けたことを特徴とする太陽電池モジュ−ル用
   表面保護シ−ト。
2. 【請求項２】 フッ素系樹脂シ−トが、可視光透過率が
   ９０％以上である透明フッ素系樹脂シ−トからなること
   を特徴とする上記の請求項１に記載する太陽電池モジュ
   −ル用表面保護シ−ト。
3. 【請求項３】 フッ素系樹脂シ−トが、フッ化ビニル系
   樹脂、または、エチレン−テトラフルオロエチレンコポ
   リマ−からなる透明フッ素系樹脂シ−トであることを特
   徴とする上記の請求項１〜２に記載する太陽電池モジュ
   −ル用表面保護シ−ト。
4. 【請求項４】 フッ素系樹脂シ−トが、紫外線吸収剤お
   よび／または酸化防止剤を練り込んでなることを特徴と
   する上記の請求項１〜３に記載する太陽電池モジュ−ル
   用表面保護シ−ト。
5. 【請求項５】 無機酸化物の蒸着薄膜が、物理気相成長
   法による無機酸化物の蒸着薄膜の１層ないし２層以上の
   多層膜からなることを特徴とする上記の請求項１〜４に
   記載する太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−ト。
6. 【請求項６】 無機酸化物の蒸着薄膜が、化学気相成長
   法による無機酸化物の蒸着薄膜の１層ないし２層以上の
   多層膜からなることを特徴とする上記の請求項１〜４に
   記載する太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−ト。
7. 【請求項７】 無機酸化物の蒸着薄膜が、物理気相成長
   法および化学気相成長法による２層以上の多層膜からな
   ることを特徴とする上記の請求項１〜４に記載する太陽
   電池モジュ−ル用表面保護シ−ト。
8. 【請求項８】 無機酸化物の蒸着薄膜が、化学気相成長
   法による無機酸化物の蒸着薄膜を設け、次に、該無機酸
   化物の蒸着薄膜の上に、物理気相成長法による無機酸化
   物の蒸着薄膜を設けた２層以上の多層膜からなることを
   特徴とする上記の請求項７に記載する太陽電池モジュ−
   ル用表面保護シ−ト。
9. 【請求項９】 無機酸化物の蒸着薄膜が、プラズマ処理
   面を形成していることを特徴とする上記の請求項１〜８
   に記載する太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−ト。
10. 【請求項１０】 プラズマ処理面の表面自由エネルギ−
    が、４５ｄｙｎｅ／ｃｍ以上であることを特徴とする上
    記の請求項９に記載する太陽電池モジュ−ル用表面保護
    シ−ト。
11. 【請求項１１】 組成物が、樹脂成分を含むことを特徴
    とする上記の請求項１〜１０に記載する太陽電池モジュ
    −ル用表面保護シ−ト。
12. 【請求項１２】 樹脂成分が、水溶性ないし親水性樹脂
    であることを特徴とする上記の請求項１１に記載する太
    陽電池モジュ−ル用表面保護シ−ト。
13. 【請求項１３】 組成物が、金属アルコキシド化合物お
    よび／またはその加水分解物の硬化触媒を含むことを特
    徴とする上記の請求項１〜１２に記載する太陽電池モジ
    ュ−ル用表面保護シ−ト。
14. 【請求項１４】 組成物が、金属酸化物微粒子を含むこ
    とを特徴とする上記の請求項１〜１３に記載する太陽電
    池モジュ−ル用表面保護シ−ト。
15. 【請求項１５】 組成物が、架橋剤を含むことを特徴と
    する上記の請求項１〜１４に記載する太陽電池モジュ−
    ル用表面保護シ−ト。
16. 【請求項１６】 フッ素系樹脂シ−トの片面に、無機酸
    化物の蒸着薄膜を設け、更に、該無機酸化物の蒸着薄膜
    の上に、金属アルコキシド化合物および／またはその加
    水分解物をビヒクルの主成分とする組成物によるコ−テ
    ィング膜を設けた太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−ト
    のコ−ティング膜面に、充填剤層、光起電力素子として
    の太陽電池素子、充填剤層、および、裏面保護シ−ト層
    を順次に積層し、これらを真空吸引して加熱圧着ラミネ
    −ション法等により一体成形体としたことを特徴とする
    太陽電池モュジュ−ル。