JP2000268962A

JP2000268962A - 有機ｅｌ素子

Info

Publication number: JP2000268962A
Application number: JP11073983A
Authority: JP
Inventors: Hisamitsu Takahashi; 尚光高橋; Yasuhiro Iiizumi; 安広飯泉
Original assignee: Futaba Corp
Current assignee: Futaba Corp
Priority date: 1999-03-18
Filing date: 1999-03-18
Publication date: 2000-09-29

Abstract

(57)【要約】【課題】高輝度、高効率、更には長期にわたって良好
な発光特性を持続した青色発光を得る。【解決手段】少なくとも一方が透明な一対の電極間に
有機化合物からなる有機層が積層された有機ＥＬ素子に
おいて、下記化学式（化１）で示される化合物を有機層
に含有する。【化１】（式中、Ｒ₁〜Ｒ₂₂はそれぞれ独立に、水素原子、ハロ
ゲン原子、水酸基、メルカプト基、シアノ基、アミノ
基、ニトロ基、置換もしくは無置換のアルキル基、置換
もしくは無置換のアルコキシ基、置換もしくは無置換の
アルキルチオ基、置換もしくは無置換のＮ−モノアルキ
ルアミノ基、置換もしくは無置換のＮ，Ｎ−ジアルキル
アミノ基、置換もしくは無置換のアリール基、置換もし
くは無置換のアリールオキシ基、置換もしくは無置換の
アリールチオ基、置換もしくは無置換の複素環基を示
す。さらに隣接した置換基同士で結合して置換もしくは
無置換の芳香族環または置換もしくは無置換の複素環を
形成してもよい。）

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、少なくとも一方が
透明である一対の電極間に有機化合物からなる有機層が
積層された有機エレクトロルミネッセンス素子（以下、
有機ＥＬ素子という）に関する。

【０００２】

【従来の技術】有機ＥＬ素子は、蛍光性有機化合物を含
む薄膜を陰極と陽極の間に挟んだ構造を有し、前記薄膜
に電子およびホール（正孔）を注入して再結合させるこ
とにより励起子（エキシトン）を生成させ、この励起子
が失活する際の光の放出（蛍光・燐光）を利用して表示
を行う表示素子である。

【０００３】図５は前記有機ＥＬ素子の基本構成を示す
図である。この有機ＥＬ素子２１は、基板２２上の陽極
（アノード）２３にＩＴＯ（Indium Tin Oxide）を使用
し、ホール輸送層２４に下記化学式（化２）の構造式で
示すDiamine を使用し、有機発光層２５に下記化学式
（化３）の構造式で示すトリス（８−キノリノラト）ア
ルミニウム(III) （Ａｌｑ₃）を使用し、陰極（カソー
ド）２６にマグネシウムと銀の合金を使用している。有
機の各層の厚みは５０ｎｍ程度である。各層の成膜は真
空蒸着で行っている。この有機ＥＬ素子２１に直流１０
Ｖを加えると１０００ｃｄ／ｍ²程度の緑色の発光が得
られる。この発光はＩＴＯの陽極２３側から取り出す。

【０００４】

【化２】

【０００５】

【化３】

【０００６】また、１９８９年のアプライドフィジクス
レタースでは、発光層であるＡｌｑ ₃にクマリンやＤＣ
Ｍを数ｍｏｌ％ドープすることでドーパントからの発光
が得られ、多色化と同時に高効率化を可能にした。その
後、国内の研究機関からキナクリドンやルブレン等のド
ーパント材料が報告されている。

【０００７】ところで、有機ＥＬ素子を青色に発光させ
るためのドーパント材料としては、下記化学式（化４）
の構造式で示すペリレンがＥ．Ｋｏｄａｋより報告さ
れ、また、下記化学式（化５）の構造式で示すＢＣｚＶ
Ｂｉが出光興産より報告されている。

【０００８】

【化４】

【０００９】

【化５】

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、これま
でに報告されている青色ドーパント材料の発光効率は高
いが、上述したペリレンのＥＬスペクトルのピーク波長
は４５５ｎｍ，４８５ｎｍを示し、また、ＢＣｚＶＢｉ
のＥＬスペクトルのピーク波長は４７８ｎｍを示してお
り、青色発光する有機ＥＬ素子としては、まだ改善すべ
き点がある。

【００１１】そこで、本発明は、上記問題点に鑑みてな
されたものであり、前記化学式（化１）の有機化合物を
発光層やドーパントに用いることにより青色発光が得ら
れ、また、上記有機化合物をホール輸送層として機能さ
せることができ、高輝度、高効率、更には長期にわたっ
て良好な発光特性を持続することができる有機ＥＬ素子
を提供することを目的としている。

【００１２】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、請求項１の発明は、少なくとも一方が透明である一
対の電極間に有機化合物からなる有機層が積層された有
機ＥＬ素子において、前記化学式（化１）で示される化
合物を前記有機層に含有することを特徴とする。

【００１３】請求項２の発明は、請求項１の有機ＥＬ素
子において、前記一対の電極のうちの陰極と前記有機層
の発光層との間に有機化合物からなる電子輸送層が配さ
れたことを特徴とする。

【００１４】請求項３の発明は、少なくとも一方が透明
である一対の電極間に有機化合物からなるホール注入
層、ホール輸送層、発光層が積層された有機ＥＬ素子に
おいて、前記化学式（化１）で示される化合物を前記ホ
ール輸送層に含有することを特徴とする。

【００１５】

【発明の実施の形態】図１は本発明による有機ＥＬ素子
の構造を示す図である。

【００１６】図１に示すように、有機ＥＬ素子１Ａ
（１）は、絶縁性および透光性を有するガラス等の基板
２の上に陽極（アノード）３としてのＩＴＯが成膜され
ている。陽極３の上には有機層４が成膜されている。

【００１７】有機層４は、陽極３の上に成膜されるホー
ル注入層４ａ、ホール注入層４ａの上に成膜されるホー
ル輸送層４ｂ、ホール輸送層４ｂの上に成膜される発光
層４ｃ、発光層４ｃの上に成膜される電子輸送層４ｄか
ら構成される。

【００１８】ホール注入層４ａは、下記化学式（化６）
の構造式で示すＣｕＰｃ（銅フタロシアニン）からな
り、陽極３の上に成膜される。

【００１９】

【化６】

【００２０】ホール輸送層４ｂは、下記化学式（化７）
の構造式で示すα−ＮＰＤ（Ｎ，Ｎ’−ビス−（１−ナ
フチル）−Ｎ，Ｎ’−ジフェニルベンジジン）からな
り、ホール注入層４ａの上に成膜される。

【００２１】

【化７】

【００２２】発光層４ｃは、前記化学式（化１）の構造
式で示す化合物（ホスト材料）からなり、ホール注入層
４ｂの上に成膜される。

【００２３】なお、前記化１のＲ₁〜Ｒ₂₂は、それぞれ
独立に、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、メルカプト
基、シアノ基、アミノ基、ニトロ基、置換もしくは無置
換のアルキル基、置換もしくは無置換のアルコキシ基、
置換もしくは無置換のアルキルチオ基、置換もしくは無
置換のＮ−モノアルキルアミノ基、置換もしくは無置換
のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、置換もしくは無置換の
アリール基、置換もしくは無置換のアリールオキシ基、
置換もしくは無置換のアリールチオ基、置換もしくは無
置換の複素環基を示す。ただし、さらに隣接した置換基
同士で結合して置換もしくは無置換の芳香族環または置
換もしくは無置換の複素環を形成してもよい。

【００２４】電子輸送層４ｄは、前記化学式（化３）の
構造式で示すＡｌｑ₃からなり、発光層４ｃの上に成膜
される。この電子輸送層４ｄを構成するＡｌｑ₃は、フ
ォトルミネッセンスのピーク波長が５２３ｎｍにある。

【００２５】有機層４（電子輸送層４ｄ）の上には、電
子注入層５としてのＬｉＦが成膜されている。電子注入
層５の上には、陰極（カソード）６としての金属薄膜か
らなるＡｌが成膜されている。

【００２６】次に、図２は本発明による有機ＥＬ素子の
他の構成を示す図である。なお、図２において図１と同
一の構成要素には同一番号を付し、その説明を省略して
いる。

【００２７】図２に示す有機ＥＬ素子１Ｂ（１）は、有
機層４の積層構造が異なる他は図１の有機ＥＬ素子１Ａ
と同一である。すなわち、有機ＥＬ素子１Ｂの有機層４
は、陽極３の上に成膜されるＣｕＰｃからなるホール注
入層４ａ、α−ＮＰＤに前記化学式（化１）の化合物が
添加されてホール注入層４ａの上に成膜される発光層４
ｃ、発光層４ｃの上に成膜される下記化学式（化８）の
構造式で示すＡｌ₂Ｏ（ＯＸＺ）₄からなるホールブロ
ッキング層４ｅ、ホールブロッキング層４ｄの上に成膜
されるＡｌｑ₃からなる電子輸送層４ｄによって構成さ
れる。

【００２８】

【化８】

【００２９】次に、図３は本発明による有機ＥＬ素子の
他の構成を示す図である。なお、図３において図１と同
一の構成要素には同一番号を付し、その説明を省略して
いる。

【００３０】図３に示す有機ＥＬ素子１Ｃ（１）は、有
機層４の積層構造が異なる他は図１の有機ＥＬ素子１Ａ
と同一である。すなわち、有機ＥＬ素子１Ｃの有機層４
は、陽極３の上に成膜されるＣｕＰｃからなるホール注
入層４ａ、ホール注入層４ａの上に成膜される前記化学
式（化１）の化合物からなるホール輸送層４ｂ、ホール
輸送層４ｂの上に成膜されるＡｌｑ₃からなる電子輸送
層４ｄによって構成される。

【００３１】次に、前記化学式（化１）の具体的な化合
物の構造式（化９〜化３８）を示す。また、これら化合
物を代表して、化合物（化９、化１４、化２２）の合成
方法について説明する。

【００３２】

【化９】

【００３３】前記化９を合成する場合には、フラスコに
インジゴ（東京化成製）をジメチルスルホキシド（ＤＭ
ＳＯ）と共に入れ、攪拌溶解する。続いて、この溶液に
ナトリウムメトキシド（ＮａＯＭｅ）を加え、室温で３
０分間攪拌する。次に、この混合溶液に塩化ベンジルを
加えて８０℃で１時間混合攪拌する。反応終了後、溶液
を氷水の中に投入する。この水溶液中から反応生成物を
トルエンで抽出する。さらに、エバポレーターによりト
ルエンを除去、真空乾燥して固形物を得る。この固形物
をトルエンで再溶解し、シリカゲルカラムクロマトグラ
フィーで分離・精製して目的の化合物（化９）が得られ
る。

【００３４】このようにして得られる化合物（化９）の
フォトルミネッセンスを図４に示す。この図４に示すよ
うに、上記化合物（化９）は、クロロホルム溶液中での
蛍光スペクトルのピーク波長が４１８ｎｍの青色の発光
を示した。

【００３５】

【化１０】

【００３６】

【化１１】

【００３７】

【化１２】

【００３８】

【化１３】

【００３９】

【化１４】

【００４０】前記化１４を合成する場合には、フラスコ
にインジゴ（東京化成製）をジメチルスルホキシド（Ｄ
ＭＳＯ）と共に入れ、攪拌溶解する。続いて、この溶液
にナトリウムメトキシド（ＮａＯＭｅ）を加え、室温で
３０分間攪拌する。次に、この混合溶液に１−（クロロ
メチル）ナフタレンを加えて８０℃で１時間混合攪拌す
る。反応終了後、溶液を氷水の中に投入する。この水溶
液中から反応生成物をトルエンで抽出する。さらに、エ
バポレーターによりトルエンを除去、真空乾燥して固形
物を得る。この固形物をトルエンで再溶解し、シリカゲ
ルカラムクロマトグラフィーで分離・精製して目的の化
合物（化１４）が得られる。上記合成方法によって得ら
れる化合物（化１４）は、４１８ｎｍにピークのある青
色の蛍光を示した。

【００４１】

【化１５】

【００４２】

【化１６】

【００４３】

【化１７】

【００４４】

【化１８】

【００４５】

【化１９】

【００４６】

【化２０】

【００４７】

【化２１】

【００４８】

【化２２】

【００４９】前記化２２を合成する場合には、フラスコ
にインジゴ（東京化成製）をジメチルスルホキシド（Ｄ
ＭＳＯ）と共に入れ、攪拌溶解する。続いて、この溶液
にナトリウムメトキシド（ＮａＯＭｅ）を加え、室温で
３０分間攪拌する。次に、この混合溶液に９−（クロロ
メチル）アントラセンを加えて８０℃で１時間混合攪拌
する。反応終了後、溶液を氷水の中に投入する。この水
溶液中から反応生成物をトルエンで抽出する。さらに、
エバポレーターによりトルエンを除去、真空乾燥して固
形物を得る。この固形物をトルエンで再溶解し、シリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーで分離・精製して目的の
化合物（化２２）が得られる。上記合成方法によって得
られる化合物（化２２）は、４２０ｎｍにピークのある
青色の蛍光を示した。

【００５０】

【化２３】

【００５１】

【化２４】

【００５２】

【化２５】

【００５３】

【化２６】

【００５４】

【化２７】

【００５５】

【化２８】

【００５６】

【化２９】

【００５７】

【化３０】

【００５８】

【化３１】

【００５９】

【化３２】

【００６０】

【化３３】

【００６１】

【化３４】

【００６２】

【化３５】

【００６３】

【化３６】

【００６４】

【化３７】

【００６５】

【化３８】

【００６６】なお、化合物（化９、化１４、化２２）以
外の化合物についても、同様にインジゴと対応するクロ
ロメチル化合物と反応させることで得ることができる。

【００６７】

【実施例】（実施例１）…化合物（化９）を発光層に使
用した有機ＥＬ素子ガラスからなる基板２の上にＩＴＯをストライプ状にパ
ターン形成（パターン幅２ｍｍ）して陽極３を形成し、
このＩＴＯ付き基板２をアセトン等で湿式洗浄して乾燥
する。その後、ＩＴＯ付き基板２を蒸着装置にセット
し、チャンバー内を１０^-5ｔｏｒｒの真空にする。続い
て、ＩＴＯ付き基板２の陽極３の上にマスクを介して１
０ｍｍ²角に２０ｎｍの膜厚でＣｕＰｃを蒸着してホー
ル注入層４ａとする。さらにホール注入層４ａの上に６
０ｎｍの膜厚でα−ＮＰＤを蒸着してホール輸送層４ｂ
とする。そして、ホール輸送層４ｂの上に化合物（化
９）を４０ｎｍの膜厚で蒸着して発光層４ｃとする。そ
の後、マスクを介して０．５ｎｍの膜厚でストライプ状
（パターン幅２ｍｍ）にＬｉＦを蒸着して電子注入層５
とし、電子注入層５の上にＡｌを膜厚１２０ｎｍで蒸着
して陰極６とする。

【００６８】そして、上記のようにして完成された素子
の陽極３側にプラス、陰極６側にマイナスの直流電圧を
印加したところ、この素子のＡｌｑ₃から４５０ｎｍに
ピークを持つ青色のＥＬスペクトルが得られた。また、
駆動寿命も改善された。

【００６９】（実施例２）…化合物（化９）をドーパン
トに使用した有機ＥＬ素子ガラスからなる基板２の上にＩＴＯをストライプ状にパ
ターン形成（パターン幅２ｍｍ）して陽極３を形成し、
このＩＴＯ付き基板２をアセトン等で湿式洗浄して乾燥
する。その後、ＩＴＯ付き基板２を蒸着装置にセット
し、チャンバー内を１０^-5ｔｏｒｒの真空にする。続い
て、ＩＴＯ付き基板２の陽極３の上にマスクを介して１
０ｍｍ²角に２０ｎｍの膜厚でＣｕＰｃを蒸着してホー
ル注入層４ａとする。そして、ホール注入層４ａの上に
化合物（化９）とα−ＮＰＤを共蒸着する。

【００７０】このとき、化合物（化９）はα−ＮＰＤに
対して０．５ｍｏｌ％とする。そして、全体の膜厚が４
０ｎｍからなる発光層４ｃとした。また、発光層４ｃの
上にＡｌ₂Ｏ（ＯＸＺ）₄を膜厚１ｎｍで蒸着してホー
ルブロッキング層４ｅとし、さらにホールブロッキング
層４ｅの上にＡｌｑ₃を膜厚２０ｎｍで蒸着して電子輸
送層４ｄとする。その後、マスクを介して０．５ｎｍの
膜厚でストライプ状（パターン幅２ｍｍ）にＬｉＦを蒸
着して電子注入層５とし、電子注入層５の上にＡｌを膜
厚１２０ｎｍで蒸着して陰極６とする。

【００７１】そして、上記のようにして完成された素子
の陽極３側にプラス、陰極６側にマイナスの直流電圧を
印加したところ、この素子から青色のＥＬスペクトルが
得られた。また、駆動寿命も改善された。

【００７２】（実施例３）…化合物（化１４）を発光層
に使用した有機ＥＬ素子ガラスからなる基板２の上にＩＴＯをストライプ状にパ
ターン形成（パターン幅２ｍｍ）して陽極３を形成し、
このＩＴＯ付き基板２をアセトン等で湿式洗浄して乾燥
する。その後、ＩＴＯ付き基板２を蒸着装置にセット
し、チャンバー内を１０^-5ｔｏｒｒの真空にする。続い
て、ＩＴＯ付き基板２の陽極３の上にマスクを介して１
０ｍｍ²角に２０ｎｍの膜厚でＣｕＰｃを蒸着してホー
ル注入層４ａとする。さらにホール注入層４ａの上に６
０ｎｍの膜厚でα−ＮＰＤを蒸着してホール輸送層４ｂ
とする。そして、ホール輸送層４ｂの上に化合物（化１
４）を４０ｎｍの膜厚で蒸着して発光層４ｃとする。ま
た、発光層４ｃの上にＡｌｑ ₃を膜厚２０ｎｍで蒸着し
て電子輸送層４ｄとする。その後、マスクを介して０．
５ｎｍの膜厚でストライプ状（パターン幅２ｍｍ）にＬ
ｉＦを蒸着して電子注入層５とし、電子注入層５の上に
Ａｌを膜厚１２０ｎｍで蒸着して陰極６とする。

【００７３】そして、上記のようにして完成された素子
の陽極３側にプラス、陰極６側にマイナスの直流電圧を
印加したところ、この素子から４５０ｎｍにピークを持
つ青色のＥＬスペクトルが得られた。また、駆動寿命も
改善された。

【００７４】（実施例４）…化合物（化１４）をホール
輸送層に使用した有機ＥＬ素子ガラスからなる基板２の上にＩＴＯをストライプ状にパ
ターン形成（パターン幅２ｍｍ）して陽極３を形成し、
このＩＴＯ付き基板２をアセトン等で湿式洗浄して乾燥
する。その後、ＩＴＯ付き基板２を蒸着装置にセット
し、チャンバー内を１０^-5ｔｏｒｒの真空にする。続い
て、ＩＴＯ付き基板２の陽極３の上にマスクを介して１
０ｍｍ²角に２０ｎｍの膜厚でＣｕＰｃを蒸着してホー
ル注入層４ａとする。さらにホール注入層４ａの上に化
合物（化１４）を４０ｎｍの膜厚で蒸着してホール輸送
層４ｂとする。そして、ホール輸送層４ｂの上にＡｌｑ
₃を５０ｎｍの膜厚で蒸着して発光層４ｃとする。その
後、マスクを介して０．５ｎｍの膜厚でストライプ状
（パターン幅２ｍｍ）にＬｉＦを蒸着して電子注入層５
とし、電子注入層５の上にＡｌを膜厚１２０ｎｍで蒸着
して陰極６とする。

【００７５】そして、上記のようにして完成された素子
の陽極３側にプラス、陰極６側にマイナスの直流電圧を
印加したところ、この素子のＡｌｑ₃から５２０ｎｍに
ピークを持つ青色のＥＬスペクトルが得られた。また、
駆動寿命も改善された。

【００７６】（実施例５）…化合物（化２８）をホール
輸送層に使用した有機ＥＬ素子ガラスからなる基板２の上にＩＴＯをストライプ状にパ
ターン形成（パターン幅２ｍｍ）して陽極３を形成し、
このＩＴＯ付き基板２をアセトン等で湿式洗浄して乾燥
する。その後、ＩＴＯ付き基板２を蒸着装置にセット
し、チャンバー内を１０^-5ｔｏｒｒの真空にする。続い
て、ＩＴＯ付き基板２の陽極３の上にマスクを介して１
０ｍｍ²角に２０ｎｍの膜厚でＣｕＰｃを蒸着してホー
ル注入層４ａとする。さらにホール注入層４ａの上に化
合物（化２８）を４０ｎｍの膜厚で蒸着してホール輸送
層４ｂとする。そして、ホール輸送層４ｂの上にＡｌｑ
₃を５０ｎｍの膜厚で蒸着して発光層４ｃとする。その
後、マスクを介して０．５ｎｍの膜厚でストライプ状
（パターン幅２ｍｍ）にＬｉＦを蒸着して電子注入層５
とし、電子注入層５の上にＡｌを膜厚１２０ｎｍで蒸着
して陰極６とする。

【００７７】そして、上記のようにして完成された素子
の陽極３側にプラス、陰極６側にマイナスの直流電圧を
印加したところ、この素子のＡｌｑ₃から５２０ｎｍに
ピークを持つ青色のＥＬスペクトルが得られた。また、
駆動寿命も改善された。

【００７８】このように、本例の有機ＥＬ素子によれ
ば、前記化合物（化１）の具体的構造を示す化合物（化
９〜化３８）を発光層や発光層のドーパントとして用い
た場合に、青色発光が得られた。

【００７９】上記化合物（化９〜化３８）は、蛍光の量
子収率が高いため、高輝度、高効率、また長期にわたっ
て良好な発光特性を持続する有機ＥＬ素子の作製が可能
となった。

【００８０】上記化合物（化９〜化３８）はホール輸送
層として機能し、化合物（化９〜化３８）によりホール
輸送層を形成することにより、高輝度、高効率、また長
期にわたって良好な発光特性を持続する有機ＥＬ素子の
作製が可能となった。

【００８１】

【発明の効果】以上の説明で明らかなように、本発明の
有機ＥＬ素子によれば、青色発光が得られ、高輝度、高
効率、また長期にわたって良好な発光特性を持続する有
機ＥＬ素子の作製が可能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明による有機ＥＬ素子の構造を示す図

【図２】本発明による有機ＥＬ素子の他の構造を示す図

【図３】本発明による有機ＥＬ素子の他の構造を示す図

【図４】発光材料として使用される化合物（化７）のフ
ォトルミネッセンスを示す図

【図５】従来の有機ＥＬ素子の構造を示す図

【符号の説明】

１…有機ＥＬ素子、２…基板、３…陽極、４…有機層、
４ａ…ホール注入層、４ｂ…ホール輸送層、４ｃ…発光
層、４ｄ…電子輸送層、４ｅ…ホールブロッキング層、
５…電子注入層、６…陰極。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】少なくとも一方が透明である一対の電極
間に有機化合物からなる有機層が積層された有機ＥＬ素
子において、下記化学式（化１）で示される化合物を前記有機層に含
有することを特徴とする有機ＥＬ素子。【化１】（式中、Ｒ₁〜Ｒ₂₂はそれぞれ独立に、水素原子、ハロ
ゲン原子、水酸基、メルカプト基、シアノ基、アミノ
基、ニトロ基、置換もしくは無置換のアルキル基、置換
もしくは無置換のアルコキシ基、置換もしくは無置換の
アルキルチオ基、置換もしくは無置換のＮ−モノアルキ
ルアミノ基、置換もしくは無置換のＮ，Ｎ−ジアルキル
アミノ基、置換もしくは無置換のアリール基、置換もし
くは無置換のアリールオキシ基、置換もしくは無置換の
アリールチオ基、置換もしくは無置換の複素環基を示
す。さらに隣接した置換基同士で結合して置換もしくは
無置換の芳香族環または置換もしくは無置換の複素環を
形成してもよい。）
【請求項２】前記一対の電極のうちの陰極と前記有機
層の発光層との間に有機化合物からなる電子輸送層が配
されたことを特徴とする有機ＥＬ素子。
【請求項３】少なくとも一方が透明である一対の電極
間に有機化合物からなるホール注入層、ホール輸送層、
発光層が積層された有機ＥＬ素子において、前記化学式（化１）で示される化合物を前記ホール輸送
層に含有することを特徴とする有機ＥＬ素子。