JP2000247783A - 単結晶引き上げ装置及び単結晶引き上げ方法 - Google Patents

単結晶引き上げ装置及び単結晶引き上げ方法

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JP2000247783A
JP2000247783A JP11055739A JP5573999A JP2000247783A JP 2000247783 A JP2000247783 A JP 2000247783A JP 11055739 A JP11055739 A JP 11055739A JP 5573999 A JP5573999 A JP 5573999A JP 2000247783 A JP2000247783 A JP 2000247783A
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single crystal
crystal
pulling
habit line
locking means
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JP11055739A
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Kiyotaka Takano
清隆 高野
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Super Silicon Crystal Research Institute Corp
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 晶癖線を係止することなく単結晶を係止して
引き上げ可能にする。 【解決手段】 半導体単結晶2の径大部2bの近傍をC
CDカメラ20により撮像して画像処理ユニット21に
より晶癖線2dを判定し、回転中の晶癖線2dの円周方
向の位置を測定する。次いでくびれ係止部15をCCD
カメラ20により撮像して画像処理ユニット21により
くびれ係止部15の円周方向の位置を判定して溝15b
の円周方向の位置を測定して、回転中の溝15bの回転
方向の位置が晶癖線2dと一致するように、くびれ係止
部15の回転速度を制御して位置合わせし、位置合わせ
が完了すると、くびれ係止部15の回転速度を半導体単
結晶2と同じにしてくびれ係止部15の先端を閉じる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、引上げCZ(Czoc
hralski)法によりSi(シリコン)の無転位の単結晶
を製造するための単結晶引き上げ装置及び単結晶引き上
げ方法に関し、特に単結晶を係止して引き上げる技術に
関する。
【0002】
【従来の技術】一般に、引上げCZ法による単結晶製造
装置(単結晶引き上げ装置)では、高耐圧気密チャンバ
内を10torr程度に減圧して新鮮なAr(アルゴン)ガ
スを流すとともに、チャンバ内の下方に設けられた石英
るつぼ内の多結晶を加熱して溶融し、この溶融液の表面
に種結晶を上から浸漬し、種結晶と石英るつぼを回転、
上下移動させながら種結晶を引き上げることにより、種
結晶の下に上端が突出した円錐形の上部コーン部と、円
筒形のボディ部と下端が突出した円錐形の下部コーン部
より成る単結晶(いわゆるインゴット)を成長させるよ
うに構成されている。
【0003】また、近年では、単結晶が大口径化してそ
の分、重量も重くなり、種結晶を引き上げるのみではダ
ッシュネック部がその重量に耐えきれないので、ダッシ
ュネック部の下に「径大部」を形成してその下に「径小
部」を形成することにより「環状のくびれ」を形成し、
この「環状のくびれ」を別の係止部材(以下、くびれ係
止部材)で係止して引き上げる方式が知られている。ま
た、くびれの代わりに円筒形のボディ部を係止して引き
上げる方式も提案されている。そして、このような係止
部材は、単結晶が軸の回りを回転しながら軸方向に上昇
するので、これに追従するように垂直軸の回りを回転可
能にかつ軸方向に昇降可能に構成される。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】ところで、単結晶の無
転位化が発生すると単結晶の表面には単結晶に応じた数
の晶癖線が引き上げ方向に形成され、この晶癖線を誤っ
て把持すると応力集中が発生し破断しやすくなるので、
晶癖線を把持しないように注意を払う必要がある。ここ
で、垂直軸の回りを回転しながら垂直方向に上昇してい
る単結晶の晶癖線を作業員が目視して、晶癖線を把持し
ないように単結晶を把持する場合には、ある程度容易で
ある。しかしながら、CCDカメラなどの撮像手段と画
像処理を用いた場合には、把持爪がCCDカメラの視野
を妨害するので位置合わせすることが困難であるという
問題点がある。また、手動で位置合わせ作業を行う場合
にも、観測窓の位置によっては作業が困難となる場合が
ある。
【0005】本発明は上記の問題点に鑑み、晶癖線を把
持しないように位置合わせする作業を簡単にすることが
できる単結晶引き上げ装置及び単結晶引き上げ方法を提
供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明は上記目的を達成
するために、単結晶を把持する部材の回転を結晶の回転
と独立して行うことにより、把持前に係止部材の回転速
度を制御して円周方向の位置を晶癖線に位置合わせし、
位置合わせ完了後に同一速度で係止するようにしたもの
である。
【0007】すなわち本発明によれば、単結晶を回転さ
せながら引き上げる引き上げ手段と、単結晶の表面に引
き上げ方向に沿って形成される晶癖線に当接しないよう
に対向して設けられた複数の把持部を有し、前記把持部
が開閉可能な係止手段と、前記係止手段が開いた状態で
回転中及び引き上げ中の単結晶の表面上の晶癖線の円周
方向の位置に対して前記把持部が一致するように前記係
止手段の回転速度を制御して位置合わせを行い、位置合
わせ完了後に前記係止手段が単結晶と同一速度で回転す
るように制御し、同一速度状態で前記係止手段を閉じる
制御手段とを、有する単結晶引き上げ装置が提供され
る。
【0008】また、本発明によれば単結晶を回転させな
がら引き上げる単結晶引き上げ方法において、単結晶の
表面に引き上げ方向に沿って形成される晶癖線に当接し
ないように溝が設けられた複数の把持部、あるいは前記
晶癖線に当接しないように前記晶癖線のない部分のみを
把持する複数に分割された把持部を有する開閉可能な係
止手段が開いた状態で回転中及び引き上げ中の単結晶の
表面上の晶癖線の円周方向の位置に対して前記把持部が
一致するように前記係止手段の回転速度を制御して位置
合わせを行うステップと、前記係止手段が単結晶と同一
速度状態となったとき前記係止手段を閉じるステップと
を、有する単結晶引き上げ方法が提供される。
【0009】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態を説明する。図1は本発明に係る単結晶引き上
げ装置及び単結晶引き上げ方法の一実施形態を示す正面
断面図、図2は図1のくびれ係止部と晶癖線の円周方向
の位置を示す説明図、図3は晶癖線の円周方向の位置と
時間の関係を示す説明図、図4は図1のくびれ係止部と
晶癖線の円周方向の位置合わせを示す説明図である。
【0010】図1において、略円筒形の結晶格納チャン
バ1内には、図示省略されているが原料が収容された石
英るつぼが配置され、石英るつぼの回りにはヒータが配
置され、ヒータの回りには断熱材などが配置されてい
る。結晶格納チャンバ1の側壁には外部のCCDカメラ
20により内部を撮像するための観測窓1aが設けられ
ている。
【0011】結晶格納チャンバ1の上には、半導体単結
晶2を引き上げるために垂直軸方向(半導体単結晶2の
軸方向)に伸縮可能なベロー式のチャンバ3が配置さ
れ、チャンバ3の上にはベース4が固定されている。ま
た、ベース4の上には軸受け5a、磁気シール5b、軸
受け5cを介して単結晶係止部材(結晶保持装置)用チ
ャンバ5が垂直軸の回りを回転可能に取り付けられ、単
結晶係止部材用チャンバ5の上には軸受け6a、磁気シ
ール6b、軸受け6cを介してワイヤ巻き取りドラム用
チャンバ6が垂直軸の回りを回転可能に取り付けられて
いる。ベース4にはまた、単結晶係止部材用チャンバ5
とワイヤ巻き取りドラム用チャンバ6をそれぞれ回転す
るための保持装置回転ドライブ7、ワイヤ回転ドライブ
8が固定され、ドライブ7、8の各モータ(M)の回転
はそれぞれモータコントローラ23、24により制御さ
れる。
【0012】ワイヤ巻き取りドラム用チャンバ6内に
は、種結晶昇降用のワイヤ11を巻き取るためのワイヤ
巻き取りドライブ12が配置され、ワイヤ11の先端は
結晶ホルダ13を介して種結晶14が取り付けられて結
晶格納チャンバ1内に吊り下げられている。したがっ
て、ワイヤ11はワイヤ巻き取りドライブ12とベロー
式チャンバ3により昇降可能であり、また、ワイヤ回転
ドライブ8により垂直軸の回りを回転可能である。単結
晶係止部材用チャンバ5内には、半導体単結晶2のくび
れを係止するためのくびれ係止部(結晶保持装置)15
が配置され、くびれ係止部15の先端は油圧ピストン1
6により開閉可能である。したがって、くびれ係止部1
5はベロー式チャンバ3より昇降可能であり、また、保
持装置回転ドライブ7により垂直軸の回りを回転可能で
ある。
【0013】ここで、半導体単結晶2を製造する場合に
は、垂直方向については種結晶14の下にダッシュネッ
ク部2aを形成し、ダッシュネック部2aの下に径大部
2bを形成し、径大部2bの下にくびれ2cを形成し
て、くびれ係止部15の先端の閉じることによりくびれ
2cを支持(把持)する。なお、ここで支持あるいは把
持される「くびれ」とは、単に細い部分という意味では
なく、径拡大部2bの下方部分からその下の細い部分へ
かかる部分である。このとき、半導体単結晶2は引き上
げ時に常に垂直軸の回りを回転し、また、半導体単結晶
2の表面には複数の晶癖線2dが引き上げ方向に形成さ
れるので、くびれ係止部15の先端が係止時に晶癖線2
dに接触しないように回転方向を位置合わせする必要が
ある。
【0014】図2は一例として、4本の晶癖線2dが形
成された半導体単結晶2を係止するためのくびれ係止部
15の一対の先端部15aを示し、この先端部15aに
は、晶癖線2dに対向するように円周方向に4つの溝1
5bが形成された一対の溝入り緩衝材15cが取り付け
られている。溝入り緩衝材15cは先端部15aが完全
に閉じたときに半導体単結晶2の全周(晶癖線2dを除
く)を支持するようにリング状に形成されている。
【0015】次に半導体単結晶2の引き上げ動作、特に
晶癖線2dとくびれ係止部15の溝15bとの回転方向
の位置合わせ動作について説明する。まず、図1におい
て、くびれ係止部15の回転を停止し、また、上下方向
についてはCCDカメラ20の視野を妨げない位置で停
止させた状態で、ワイヤ11を引き上げて種結晶14の
下にダッシュネック部2aを形成し、ダッシュネック部
2aの下に径大部2bを形成し、径大部2bの下にくび
れ2cを形成する。そして、この回転中及び上昇中の径
大部2bの近傍をCCDカメラ20により撮像して画像
処理ユニット21により径大部2bの直径や輝度を測定
することにより回転中の晶癖線2dを判定し、次いでC
PU/人間22によりこの晶癖線2dの角度と絶対時間
の関係を把握することにより回転中の晶癖線2dの円周
方向の位置を測定する。ここで、半導体単結晶2が5r
pmで回転している場合には晶癖線2dの回転方向の位
置と時間の関係は、図3に示すようなサインカーブで表
すことができる。
【0016】次いでくびれ係止部15を半導体単結晶2
と同じ速度で回転させ、CCDカメラ20の視野まで下
降させてカメラ20により撮像して画像処理ユニット2
1により回転中のくびれ係止部15の円周方向の位置を
判定し、次いでCPU/人間22により溝15bの回転
方向の位置を測定する。このとき、晶癖線2dと溝15
bの回転方向の位置は一致していることは殆どない。そ
こで、溝15bの回転方向の位置が晶癖線2dと一致す
るようにくびれ係止部15の回転速度をモータコントロ
ーラ23、保持装置回転ドライブ7を介して制御して位
置合わせを行い、位置合わせが完了するとくびれ係止部
15の回転速度を半導体単結晶2と同じにする。ここ
で、溝15bが図4において破線で示すサインカーブの
ように位置ずれがある場合には、回転速度を調整するこ
とにより実線のサインカーブで示す晶癖線2dに対して
位置合わせすることができる。
【0017】位置合わせが完了すると、くびれ係止部1
5の先端部15aを徐々に閉じる。このとき、半導体単
結晶2の上昇速度を一定にするために、先端部15aが
くびれ2cに当接する前にくびれ係止部15の上昇を開
始し、先端部15aがくびれ2cに当接するとワイヤ1
1による引き上げをモータコントローラ24、ワイヤ回
転ドライブ8を介して停止する。
【0018】なお、くびれ係止部15が晶癖線2dに当
接しない構造としては、上記のような溝入り緩衝材15
cの代わりに、図5に示すようにくびれ係止部15の先
端を4分割して、この4本の先端15−1〜15−4が
閉じた状態でその間が晶癖線2dに当接しないように隙
間15−5を設けるようにしてもよい。
【0019】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、単
結晶を係止する部材の回転を種結晶の回転と独立して行
うことにより係止前に係止部材と晶癖線の円周方向の位
置合わせを行い、位置合わせ完了後に同一速度で係止す
るようにしたので、晶癖線を係止することなく単結晶を
係止して引き上げることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る単結晶引き上げ装置及び単結晶引
き上げ方法の一実施形態を示す正面断面図である。
【図2】図1のくびれ係止部と晶癖線の円周方向の位置
を示す説明図である。
【図3】晶癖線の円周方向の位置と時間の関係を示す説
明図である。
【図4】図1のくびれ係止部と晶癖線の円周方向の位置
合わせを示す説明図である。
【図5】図1のくびれ係止部の変形例を示す構成図であ
る。
【符号の説明】
2 半導体単結晶 2d 晶癖線 7 保持装置回転ドライブ 8 ワイヤ回転ドライブ 11 ワイヤ 15 くびれ係止部(結晶保持装置) 15b 溝 15c 溝入り緩衝材 15−5 隙間 20 CCDカメラ 21 画像処理ユニット

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 単結晶を回転させながら引き上げる引き
    上げ手段と、 単結晶の表面に引き上げ方向に沿って形成される晶癖線
    に当接しないように対向して設けられた複数の把持部を
    有し、前記把持部が開閉可能な係止手段と、 前記係止手段が開いた状態で回転中及び引き上げ中の単
    結晶の表面上の晶癖線の円周方向の位置に対して前記把
    持部が一致するように前記係止手段の回転速度を制御し
    て位置合わせを行い、位置合わせ完了後に前記係止手段
    が単結晶と同一速度で回転するように制御し、同一速度
    状態で前記係止手段を閉じる制御手段とを、 有する単結晶引き上げ装置。
  2. 【請求項2】 前記制御手段は、単結晶の表面上の晶癖
    線と前記係止手段を撮像して画像処理により前記位置合
    わせを行うことを特徴とする請求項1記載の単結晶引き
    上げ装置。
  3. 【請求項3】 前記把持部が半径方向に開閉可能な複数
    の部材を有し、かつ各部材が前記晶癖線に当接しないよ
    うに溝を有する請求項1記載の単結晶引き上げ装置。
  4. 【請求項4】 前記把持部が半径方向に開閉可能な4個
    以上の部材を有し、かつ各部材が前記晶癖線に当接しな
    いように前記晶癖線のない部分のみを把持するよう構成
    されている請求項1記載の単結晶引き上げ装置。
  5. 【請求項5】 単結晶を回転させながら引き上げる単結
    晶引き上げ方法において、 単結晶の表面に引き上げ方向に沿って形成される晶癖線
    に当接しないように溝が設けられた複数の把持部、ある
    いは前記晶癖線に当接しないように前記晶癖線のない部
    分のみを把持する複数に分割された把持部を有する開閉
    可能な係止手段が開いた状態で回転中及び引き上げ中の
    単結晶の表面上の晶癖線の円周方向の位置に対して前記
    把持部が一致するように前記係止手段の回転速度を制御
    して位置合わせを行うステップと、 位置合わせ完了後に前記係止手段が単結晶と同一速度で
    回転するように制御するステップと、 前記係止手段が単結晶と同一速度状態となったとき前記
    係止手段を閉じるステップとを、 有する単結晶引き上げ方法。
JP11055739A 1999-03-03 1999-03-03 単結晶引き上げ装置及び単結晶引き上げ方法 Withdrawn JP2000247783A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109957834A (zh) * 2017-12-22 2019-07-02 江苏维福特科技发展股份有限公司 滑动开合式晶体定位装置

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109957834A (zh) * 2017-12-22 2019-07-02 江苏维福特科技发展股份有限公司 滑动开合式晶体定位装置

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Effective date: 20060509