JPH07172981A - 半導体単結晶の製造装置および製造方法 - Google Patents

半導体単結晶の製造装置および製造方法

Info

Publication number
JPH07172981A
JPH07172981A JP34260993A JP34260993A JPH07172981A JP H07172981 A JPH07172981 A JP H07172981A JP 34260993 A JP34260993 A JP 34260993A JP 34260993 A JP34260993 A JP 34260993A JP H07172981 A JPH07172981 A JP H07172981A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
single crystal
gripping
straight body
holding
shaft
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP34260993A
Other languages
English (en)
Inventor
Shinji Higo
信司 肥後
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumco Techxiv Corp
Original Assignee
Sumco Techxiv Corp
Komatsu Electronic Metals Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sumco Techxiv Corp, Komatsu Electronic Metals Co Ltd filed Critical Sumco Techxiv Corp
Priority to JP34260993A priority Critical patent/JPH07172981A/ja
Publication of JPH07172981A publication Critical patent/JPH07172981A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

(57)【要約】 【目的】 CZ法を用いて大口径、大重量の単結晶を引
き上げる際に、ネック部の破断を防止し、安全かつ効率
的に単結晶を引き上げることができるようにする。 【構成】 引き上げシャフト1の周囲に環状の配管6
と、放射状に配設された複数個の空圧シリンダ7とを配
設し、前記配管6と各シリンダ7とをベローズ8とバル
ブ9とを介して接続する。各シリンダ7のピストンロッ
ドに、支持部材11の先端を支点とする把持アーム12
の上端を軸着する。ネック部17の温度が850°C〜
600°Cになったとき昇降装置に釣支された単結晶把
持装置を下降させ、配管5から空圧シリンダ7に不活性
ガスを供給し、把持アーム12を動かして単結晶18を
把持する。把持部材13が単結晶18に近接したら空圧
シリンダ7の作動速度を下げ、単結晶18に衝撃を与え
ないように制御する。単結晶18は把持したまま引き上
げる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体単結晶の製造装
置および製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】半導体素子の基板には主としてシリコン
単結晶が用いられているが、前記単結晶の製造方法の一
つとして、るつぼ内の原料融液から円柱状の単結晶を引
き上げるチョクラルスキー法(以下CZ法という)が用
いられている。CZ法においては、単結晶製造装置のチ
ャンバ内に設置したるつぼに原料である多結晶を充填
し、前記るつぼの周囲に設けたヒータによって原料を加
熱溶解した上、シードチャックに取り付けた種子結晶を
融液に浸漬し、シードチャックおよびるつぼを同方向ま
たは逆方向に回転しつつシードチャックを引き上げて単
結晶を成長させる。単結晶の引き上げ開始に当たり、種
子結晶に存在する転位が単結晶に伝播することを防止す
るため、結晶を細く絞って成長させ、ネック部を形成し
た後、肩部、直胴部を形成する。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】近年は半導体ウェーハ
の直径が大型化し、6インチを超える大口径ウェーハが
要求されるようになっているが、これに伴って単結晶の
重量が増大するため、るつぼから引き上げる途中でネッ
ク部が破断して単結晶が落下することがあり、ネック部
の引張強さが課題となっている。図9はネック部の温度
と引張強さとの相関を示す図で、ネック部は室温から5
00°Cまでは脆性破壊をし、このときの引張強さは1
4kg/mm2 である。600°C〜850°Cにおい
ては引張強さが増大し、その最高値は30kg/mm2
に達する。850°Cを超えると引張強さは急激に低下
し、900°Cを超えると10kg/mm2 未満とな
る。
【0004】上記課題を解決するため、特開昭62−2
88191では単結晶の直径を一旦縮小させて係合段部
を形成し、この係合段部に吊持手段を係止させることに
より、ネック部の破断に伴う単結晶の落下、倒壊等を防
止する単結晶成長方法が開示されている。また、特開昭
63−252991では、単結晶の直胴部の最上部に直
胴部より径が太い肩部を形成して落下防止保持部とする
CZ単結晶が開示されている。その他、特開平3−28
5893、特開平3−29589によれば、肩部形成の
際くびれ部を形成し、このくびれ部に把持手段を係合さ
せて大重量の単結晶を引き上げる結晶引き上げ装置が開
示されている。しかし、係合段部形成のため一旦大きく
した単結晶の直径を縮小させると単結晶に熱応力による
歪みが発生し、単結晶崩れが起こりやすくなる。また、
ネック部と直胴部との間に製品として使用できない係合
段部を形成する必要があるため、引き上げ作業が複雑化
し、材料の歩留りが悪くなる。
【0005】特開平4−321583による化合物半導
体単結晶の引き上げ法は、引き上げ軸に設けた開閉自在
な単結晶支えで単結晶を支持して引き上げることを特徴
としている。しかし、この引き上げ法は化合物半導体単
結晶の引き上げに限定されており、シリコン単結晶の製
造に適用した場合は次のような問題点がある。 (1)支持装置にステンレス製の足を用いているが、シ
リコン単結晶の製造工程においては温度が1400°C
以上に上昇するため、ステンレス鋼では強度的に耐えら
れない。 (2)ステンレス製のはさみリングの先端にジルコニア
ウールを付けたものを用いているが、使用中に前記ウー
ルの細片が落下して単結晶崩れの原因となる。 (3)鉄系構造材を用いているので、OSFの発生ある
いはデバイスのライフタイム低下など単結晶の品質に悪
影響を与える。
【0006】本発明は上記従来の問題点に着目してなさ
れたもので、大口径、大重量の単結晶を引き上げる際に
ネック部の破断あるいは係合段部形成による単結晶崩れ
の発生を防止し、安全かつ効率的に単結晶を引き上げる
ことができるような半導体単結晶の製造装置および製造
方法を提供することを目的としている。
【0007】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明に係る半導体単結晶の製造装置は、単結晶の
直胴部を把持する把持装置と、前記把持装置を引き上げ
シャフトに沿って上下に駆動する昇降装置とを備えたこ
とを特徴とし、前記把持装置は、引き上げシャフトの周
囲に配設した複数個の把持アームの下端に、高融点で、
かつ軟らかい材料からなる把持部材をそれぞれ取着し、
前記把持アームを駆動して把持部材を単結晶の直胴部に
圧接させることによって単結晶を把持するものとし、具
体的には、不活性ガスによって作動する複数個の空圧ア
クチュエータを引き上げシャフトの周囲に放射状に配設
し、前記空圧アクチュエータの端部に上端を軸着した把
持アームを駆動して単結晶の直胴部を把持する把持装置
としてもよく、引き上げシャフトの周囲に配設した複数
個の把持アームにそれぞれワイヤを連結し、DCまたは
ACモータを駆動して前記ワイヤに引張力を加えること
により、把持アームが単結晶の直胴部に押しつけられて
前記単結晶を把持する把持装置としてもよい。また、引
き上げシャフトの周囲に複数個のねじ軸を放射状に配設
し、これらのねじ軸に螺合したワイヤドラム付きナット
に巻き付けた把持用ワイヤをDCまたはACモータが巻
き取ることによって前記ねじ軸上を移動するワイヤドラ
ム付きナットが、引き上げシャフトの周囲に配設した複
数個の把持アームをそれぞれ単結晶の直胴部に押しつけ
て前記単結晶を把持する把持装置でもよく、引き上げシ
ャフトの周囲に配設した複数個の把持アームの上端にそ
れぞれラックを軸着し、DCまたはACモータの駆動力
で回転するピニオンが前記ラックを動かすことにより、
把持アームが単結晶の直胴部に押しつけられて前記単結
晶を把持する把持装置としてもよい。これらの把持装置
は、光センサまたはタッチセンサにより単結晶の直胴部
に対する把持アームの近接または接触を検出し、前記検
出から把持完了までの間は把持アームを低速で駆動して
単結晶に与える衝撃を緩和することを特徴としている。
【0008】また、本発明に係る半導体単結晶の製造方
法は、チョクラルスキー法による単結晶の引き上げにお
いて、ネック部の温度が850°C〜600°Cになっ
たときに単結晶の直胴部を把持することにより、ネック
部の破断を防止することを特徴としている。
【0009】
【作用】上記構成によれば、単結晶の直胴部を把持する
単結晶把持装置と、前記把持装置を引き上げシャフトに
沿って上下に駆動する昇降装置とを半導体単結晶製造装
置に備えたので、単結晶把持装置を使用しない原料溶解
工程や絞り工程、肩部形成工程においては、前記昇降装
置により単結晶把持装置を上方に退避させておくことが
でき、前記各工程の障害とならない。単結晶を把持する
把持部材には、高融点で、かつ軟らかい材料を用いたの
で、単結晶との密着性を高め、単結晶の滑りを防止する
とともに、高温のもとでの使用に耐えることができる。
また、把持力を発生させる手段として、不活性ガスによ
って駆動される空圧アクチュエータ、DCまたはACモ
ータの駆動力とワイヤの張力、ピニオンとラックとによ
る押し出しまたは引き込み力などを利用したので、簡単
な構造で把持力を得ることが可能である。
【0010】ネック部の引張強さは600°C〜850
°Cで最も大きく、この時点で単結晶把持操作を行うこ
とにしたので、前記把持操作に伴う単結晶の横揺れを生
じた場合でもネック部の破断を避けることができる。ま
た、単結晶と把持部材との接触時の衝撃を緩和する手段
として、光センサまたはタッチセンサにより単結晶に対
する把持部材の近接または接触を検出し、前記検出から
把持完了までの間は把持アームを低速で駆動させるよう
にすれば、ネック部に加わる振動、衝撃負荷が著しく軽
減され、ネック部の破断を更に確実に防止することが可
能となる。
【0011】
【実施例】以下に、本発明に係る半導体単結晶の製造装
置および製造方法の実施例について、図面を参照して説
明する。図1は請求項3に基づく空圧アクチュエータ駆
動方式の単結晶把持装置を備えた半導体単結晶製造装置
の部分模式図である。単結晶把持装置を上下動させる昇
降装置は、引き上げシャフト1に取着された円板2と、
この円板2の上面に取着された昇降用モータ3と、前記
モータ3によって駆動される巻き取りドラムに取着され
た昇降用ワイヤ4とによって構成されている。前記巻き
取りドラムにはエンコーダが装着されていて、単結晶把
持装置の昇降量を検出できるようになっている。また単
結晶把持装置は、半導体単結晶製造装置の上端外部から
引き上げシャフト1に沿って設けられた配管5と、この
配管5に接続され、前記引き上げシャフト1を取り囲む
環状の配管6と、前記配管6に接続し、引き上げシャフ
ト1の周囲に放射状に配設された複数個たとえば4個の
空圧シリンダ7にベローズ8とバルブ9とを介して接続
された4本の配管10と、前記空圧シリンダ7にそれぞ
れ取着された支持部材11と、空圧シリンダ7のピスト
ンロッドに上端を軸着され、前記支持部材11との軸着
部を支点として揺動する把持アーム12とによって構成
されている。前記空圧シリンダ7は、配管5から供給さ
れる不活性ガスたとえばアルゴンガスによって作動す
る。
【0012】半導体単結晶製造装置には、各把持アーム
12の上端近傍の位置を検出する光センサとして、水平
方向に発振されるレーザ光発光素子と受光素子とが設け
られ、上記空圧シリンダ7により把持アーム12の上端
が所定の量だけ押し出されるとレーザ光が遮断され、こ
れに連動してバルブ9が作動し、空圧シリンダ7の作動
すなわち把持操作が一時停止するようになっている。次
にバルブ9は半開し、空圧シリンダ7の作動速度が極め
て遅くなるようにアルゴンガスの流量が調節される。ま
た、各把持アーム12の下端には、タンタル、ニッケ
ル、銅など高融点で、かつ軟らかい材料、望ましくはこ
れらの金属のなまし材からなる把持部材13がそれぞれ
取着されている。なお、前記配管5には半導体単結晶製
造装置の上端外部に露出した部分にフローメータ14と
バルブ15とが装着されている。16は熱電対などの温
度センサを内蔵したシードチャックで、前記温度センサ
は種子結晶を介してネック部17の温度を検出すること
ができる。18は育成中の単結晶、19はるつぼ内に貯
留された融液である。
【0013】単結晶の育成に当たり、種子結晶を融液1
9に浸漬してなじませた後、絞り工程に入り、ネック部
17を形成した後、肩部を形成する。この間は昇降装置
の昇降用ワイヤ4を巻き上げ、単結晶把持装置を上方に
退避させておく。また、上記シードチャック16に内蔵
した温度センサにより絶えずネック部温度をモニタし、
この温度が850°C〜600°Cになったとき、すな
わちネック部の引張強さが最大値付近に到達したとき、
昇降用モータ3を駆動して単結晶把持装置を下降させ、
複数個の把持アーム12で直胴部を把持する。
【0014】直径24インチのるつぼを含むホットゾー
ンパーツを用いて直径8インチのシリコン単結晶を育成
した具体例について説明する。第1具体例では請求項3
に基づく空圧アクチュエータによる駆動方式の単結晶把
持装置(図1参照)を備えた半導体単結晶製造装置を用
い、石英るつぼにシリコン多結晶120kgを装填し、
溶解した。種子結晶を融液に浸漬した後引き上げてネッ
ク部17を形成し、無転位化した。次に肩部を形成し、
直胴部の形成工程に移行した。シードチャック16に装
着した熱電対によりネック部17の温度を検出し、この
温度が850°Cに低下したとき昇降用モータ3を駆動
して単結晶把持装置の把持部材13上端を単結晶18の
直胴部上端から約50mm下がった位置まで下降させ
た。把持装置の下降量は前記モータ3に配設されたエン
コーダによりモニタし、更にチャンバの窓から目視によ
り確認した。単結晶把持装置を下降させると、アルゴン
ガス通路を接続するベローズ8は圧縮状態から伸長状態
となる。
【0015】次に、空圧シリンダ7内に5kg/cm2
のアルゴンガスを充填して単結晶18の直胴部を把持し
た。把持に当たり、レーザ光発光素子から受光素子に向
けてレーザ光を発振しておく。把持アーム12の上端が
レーザ光を遮ったときにバルブ9が閉じられ、把持操作
は一時停止する。このときの単結晶18直胴部外周面と
把持部材13との隙間は5±1mmである。その後、単
結晶18に衝撃を与えないようにするため、把持部材1
3の移動速度が1mm/分となるようにアルゴンガスの
流量を調節し、単結晶18を把持した。
【0016】このようにして把持装置で単結晶を把持し
たまま、結晶長1600mm、重量115kgのシリコ
ン単結晶を引き上げ、所定の高さに到達後バルブ15を
大気開放して把持アームを開き、前記単結晶を取り出し
た。
【0017】単結晶直胴部に対する複数の把持部材の接
触を同期させるには、図1に示した環状の配管6と各空
圧シリンダ7に設けたバルブ9とを廃止し、各空圧シリ
ンダ7にそれぞれ独立に配管して不活性ガスを供給す
る。その場合、半導体単結晶製造装置の上端外部に露出
した各配管にバルブ、圧力コントローラ、流量コントロ
ーラを装着し、さきに述べた光センサによる把持アーム
位置検出機構により、単結晶18の直胴部外周面と把持
部材13との隙間が所定の寸法になった時点で前記バル
ブを作動させて把持操作を一時停止する。すべてのバル
ブが閉鎖された後各バルブを同時に開放し、把持部材1
3の移動速度が等しく、かつ遅くなるように制御された
圧力および流量の不活性ガスを各空圧シリンダ7に供給
する。あるいは、位置センサを装着して各空圧シリンダ
に対するそれぞれのピストンロッドの位置を検出し、そ
の値から把持部材の位置を算出・制御する方式でもよ
い。
【0018】図2は請求項4に基づくDC/ACモータ
駆動方式の単結晶把持装置を備えた半導体単結晶製造装
置の第1実施例の部分模式図、図3は図2のA−A断面
図である。図2以降の各図においては、図1と同一構成
要素について図1と同一符号を付し、説明を省略する。
単結晶把持装置を上下動させる昇降装置は、図1と同一
である。単結晶把持装置は、昇降用ワイヤ4に釣支さ
れ、引き上げシャフト1を取り巻く把持装置本体21
と、この把持装置本体21の上端に取着された複数個の
把持用ステップモータ22と、前記把持装置本体21の
下端に設けられた切り欠き円板21aに回動自在に軸着
されたプーリ23と、一端を前記把持用ステップモータ
22によって駆動される巻き取りドラムに固着され、他
端は前記プーリ23を介して把持アーム24に取着され
た把持用ワイヤ25とによって構成されている。把持ア
ーム24は、前記切り欠き円板21aに設けられた切り
欠き溝21b内を滑動自在である。
【0019】第2具体例では、上記DC/ACモータに
よる駆動方式の単結晶把持装置(図2参照)を備えた半
導体単結晶製造装置を用い、第1具体例と同様の単結晶
引き上げを行った。シードチャック16に装着した熱電
対によりネック部17の温度を検出し、この温度が85
0°Cに低下したとき昇降用モータ3を駆動して単結晶
把持装置を下降させた。前記把持装置の把持部材13上
端が単結晶18の直胴部上端から約50mm下がった位
置に下降したとき把持用ステップモータ22を駆動さ
せ、把持用ワイヤ25を巻き上げて把持アーム24を内
側に引き寄せ、単結晶18の直胴部を把持した。この単
結晶把持装置により、結晶長1600mm、重量115
kgのシリコン単結晶を引き上げることができた。
【0020】単結晶直胴部に対する各把持部材の接触を
同期させるには、把持用ステップモータ22にアブソリ
ュート型のエンコーダを装着し、把持用ワイヤ25を巻
き取るときの把持用ステップモータ22の巻き取りドラ
ムの回転数をセンシングして把持部材13の位置を算出
する。そして、算出された位置情報に基づいて把持用ス
テップモータ22の駆動を制御すればよい。
【0021】図4は請求項4に基づくDC/ACモータ
駆動方式の単結晶把持装置を備えた半導体単結晶製造装
置の第2実施例の部分模式図、図5は図4のA−A断面
図である。単結晶把持装置を上下動させる昇降装置は、
図1と同一である。単結晶把持装置は、昇降用ワイヤ4
に釣支され、引き上げシャフト1を取り巻く把持装置本
体31と、この把持装置本体31の上部に取着した少な
くとも1個の把持用ステップモータ22と、前記把持装
置本体31の胴部に遊嵌された回転筒32と、把持装置
本体31の上部に揺動自在に軸着された把持アーム33
と、前記回転筒32と把持アーム33とを連結する把持
用ワイヤ34とによって構成されている。また、前記把
持装置本体31の下端には切り欠き円板31aが設けら
れ、回転筒32は切り欠き円板31aに載置されてい
る。把持アーム33は、前記切り欠き円板31aに設け
られた切り欠き溝31b内を滑動自在である。
【0022】把持用ステップモータ22によって駆動さ
れるピニオンは、回転筒32の外周に設けられた歯車部
と噛み合い、前記回転筒32を任意の方向に回転させ
る。回転筒32の回転に伴って図5に示すように把持用
ワイヤ34が引っ張られ、把持アーム33が前記切り欠
き溝31b内を中心に向かって引き寄せられて単結晶1
8を把持する。単結晶18を製造装置から取り出すため
把持装置を開放する際には、把持用ステップモータ22
を逆回転させ、把持アーム33を戻しばねによって戻し
てもよく、前記把持用ワイヤ34に剛性の高いものを使
用してもよい。
【0023】第3具体例では、上記DC/ACモータに
よる駆動方式の単結晶把持装置(図4参照)を備えた半
導体単結晶製造装置を用い、第1具体例と同様の単結晶
引き上げを行った。把持部材13の上端が直胴部上端か
ら約50mm下がった位置に下降したとき把持用ステッ
プモータ22を駆動させ、回転筒32を回して把持アー
ム33を内側に引き寄せることにより、単結晶18を把
持した。この方式では、把持力は把持用ステップモータ
の駆動力によった。
【0024】図6は請求項5に基づくDC/ACモータ
駆動方式の単結晶把持装置を備えた半導体単結晶製造装
置の実施例の部分模式図、図7は図6のA−A断面図で
ある。単結晶把持装置を上下動させる昇降装置は、図1
と同一である。単結晶把持装置の把持装置本体41は、
引き上げシャフト1を取り巻く円筒の上端に環状の板を
有し、前記円筒の下端には放射状に複数個(本実施例の
場合は4個)のねじ軸41aを備えており、昇降用ワイ
ヤ4に釣支されいる。単結晶把持装置は、前記把持装置
本体41と、この把持装置本体41の上面に取着した複
数個の把持用ステップモータ22と、上端を把持装置本
体41に揺動自在に軸着された把持アーム42と、ねじ
軸41aに螺合されたワイヤドラム付きナット43と、
一端を前記把持用ステップモータ22のワイヤドラム
に、他端をワイヤドラム付きナット43にそれぞれ固着
された把持用ワイヤ44とによって構成されている。な
お、前記ねじ軸41aは把持アーム42に設けたキリ穴
に遊嵌されている。
【0025】単結晶18を把持する場合、昇降装置を駆
動して単結晶把持装置を所定の位置に下降させる。次
に、把持用ステップモータ22を駆動すると、把持用ス
テップモータ22の巻き取りドラムがワイヤドラム付き
ナット43のドラムから把持用ワイヤ44を巻き取る。
これにより、ワイヤドラム付きナット43がねじ軸41
a上を回転、移動し、把持アーム42を内側に押しつけ
るので、所定の把持力が得られる。また、前記把持装置
を開放する場合は、把持用ステップモータ22を逆回転
させた上、ワイヤドラム付きナット43を手でゆるめ
る。
【0026】単結晶直胴部に対する各把持部材の接触を
同期させるには、把持用ステップモータ22にアブソリ
ュート型のエンコーダを装着し、把持用ワイヤ44を巻
き取るときの把持用ステップモータ22の巻き取りドラ
ムの回転数をセンシングして把持部材13の位置を算出
する。そして、算出された位置情報に基づいて把持用ス
テップモータ22の駆動を制御すればよい。
【0027】第4具体例では請求項5に基づくDC/A
Cモータによる駆動方式の単結晶把持装置(図6参照)
を備えた半導体単結晶製造装置を用い、第1例と同様の
単結晶引き上げを行った。把持部上端が直胴部上端から
約50mm下がった位置に下降したとき把持用ステップ
モータ22を駆動させ、ワイヤドラム付きナット43を
回転させることにより把持アーム42を内側に押して単
結晶18を把持した。この単結晶把持装置においても、
結晶長1600mm、重量115kgのシリコン単結晶
を引き上げることができた。
【0028】図8は、請求項6に基づくDC/ACモー
タ駆動方式の単結晶把持装置を備えた半導体単結晶製造
装置の実施例を示す部分模式図である。単結晶把持装置
を上下動させる昇降装置は、図1と同一である。単結晶
把持装置は、把持装置本体51と、この把持装置本体5
1の上部に取着した複数個たとえば4個の把持用ステッ
プモータ22と、前記把持用ステップモータ22によっ
て駆動されるピニオンと噛み合うラック52と、4個の
把持アーム53とからなる。把持アーム53の上端は前
記ラック52に、把持アーム53の中間部は前記把持装
置本体51の下端にそれぞれ軸着されている。
【0029】把持アーム53の下端に取着した把持部材
13の単結晶18に対する位置を算出するため、各把持
用ステップモータ22にはアブソリュート型のエンコー
ダが装着されている。各把持部材13が同期するよう
に、前記エンコーダが出力する位置情報に基づいて各把
持用ステップモータ22が制御される。把持装置本体5
1に対するラック52の位置を位置センサによって検出
し、これに基づいて把持部材13の位置を算出してもよ
い。
【0030】各把持アームによる把持動作を同期させる
手段としてタッチセンサを用いる場合について、図8を
例にとって説明する。把持アーム53の上端近傍の動き
は、さきに述べた光センサによって検出され、把持部材
13と単結晶18の直胴部との距離が所定の寸法に達す
ると、各ステップモータ22の回転速度が低下して把持
部材13を徐々に接近させるようになっている。ラック
52と把持アーム53との軸着部および把持装置本体5
1下端と把持アーム53中間部との軸着部の双方にそれ
ぞれ絶縁体を配設して電気的に絶縁し、引き上げシャフ
ト1に取着された昇降装置の円板2と把持アーム53と
を電気的に接続する。引き上げシャフト1と把持アーム
53との間にたとえば100Vの電圧を印加すると、把
持部材13が単結晶18に接触したときのみ回路が形成
され、電気信号が出力される。この出力信号により把持
用ステップモータ22の駆動が停止され、複数個の把持
用ステップモータ22の駆動がすべて停止するまで、再
駆動されない。そして、すべての把持用ステップモータ
22が停止した後、すなわち各把持部材13がすべて単
結晶18に接触した後、各ステップモータ22を同時に
再駆動し、単結晶18に振動や衝撃を与えることなく、
確実に把持する。
【0031】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、空
圧アクチュエータまたはDC/ACモータを利用して複
数個の把持アームで育成中の単結晶の直胴部を把持する
こととし、把持操作のタイミングを単結晶のネック部温
度が850°C〜600°Cに下がったとき、すなわち
ネック部の引張強さが最大になったときとしたので、ネ
ック部を破断させることなく、確実に把持することがで
きる。更に、光センサやタッチセンサを利用して複数個
の把持アームの単結晶に対する近接または接触を検出
し、前記検出から把持完了までの間は把持アームを低速
で駆動することにより、単結晶に与える振動、衝撃を著
しく緩和することができる。本発明による単結晶製造装
置および製造方法を用いて単結晶を把持したまま単結晶
の引き上げを行えば、安全かつ効率的に大口径、大重量
の単結晶を引き上げることができ、単結晶インゴットの
生産性の向上が可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】空圧アクチュエータ駆動方式の単結晶把持装置
を備えた半導体単結晶製造装置の部分模式図である。
【図2】DC/ACモータ駆動方式の単結晶把持装置を
備えた半導体単結晶製造装置の第1実施例を示す部分模
式図である。
【図3】図2のA−A断面図である。
【図4】DC/ACモータ駆動方式の単結晶把持装置を
備えた半導体単結晶製造装置の第2実施例を示す部分模
式図である。
【図5】図4のA−A断面図である。
【図6】DC/ACモータ駆動方式の単結晶把持装置を
備えた半導体単結晶製造装置の第3実施例を示す部分模
式図である。
【図7】図6のA−A断面図である。
【図8】DC/ACモータ駆動方式の単結晶把持装置を
備えた半導体単結晶製造装置の第4実施例を示す部分模
式図である。
【図9】ネック部の温度と引張強さとの相関を示す図で
ある。
【符号の説明】
1 引き上げシャフト 7 空圧シリンダ 12,24,33,42,53 把持アーム 13 把持部 17 ネック部 18 単結晶 22 把持用ステップモータ 25,34,44 把持用ワイヤ 41a ねじ軸 43 ワイヤドラム付きナット 52 ラック

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 単結晶の直胴部を把持する把持装置と、
    前記把持装置を引き上げシャフトに沿って上下に駆動す
    る昇降装置とを備えたことを特徴とする半導体単結晶の
    製造装置。
  2. 【請求項2】 引き上げシャフトの周囲に配設した複数
    個の把持アームの下端に、高融点で、かつ軟らかい材料
    からなる把持部材をそれぞれ取着し、前記把持アームを
    駆動して把持部材を単結晶の直胴部に圧接させることに
    よって単結晶を把持する把持装置を備えたことを特徴と
    する請求項1の半導体単結晶の製造装置。
  3. 【請求項3】 不活性ガスによって作動する複数個の空
    圧アクチュエータを引き上げシャフトの周囲に放射状に
    配設し、前記空圧アクチュエータの端部に上端を軸着し
    た把持アームを駆動して単結晶の直胴部を把持する把持
    装置を備えたことを特徴とする請求項2の半導体単結晶
    の製造装置。
  4. 【請求項4】 引き上げシャフトの周囲に配設した複数
    個の把持アームにそれぞれワイヤを連結し、DCまたは
    ACモータを駆動して前記ワイヤに引張力を加えること
    により、把持アームが単結晶の直胴部に押しつけられて
    前記単結晶を把持する把持装置を備えたことを特徴とす
    る請求項2の半導体単結晶の製造装置。
  5. 【請求項5】 引き上げシャフトの周囲に複数個のねじ
    軸を放射状に配設し、これらのねじ軸に螺合したワイヤ
    ドラム付きナットに巻き付けた把持用ワイヤをDCまた
    はACモータが巻き取ることによって前記ねじ軸上を移
    動するワイヤドラム付きナットが、引き上げシャフトの
    周囲に配設した複数個の把持アームをそれぞれ単結晶の
    直胴部に押しつけて前記単結晶を把持する把持装置を備
    えたことを特徴とする請求項2の半導体単結晶の製造装
    置。
  6. 【請求項6】 引き上げシャフトの周囲に配設した複数
    個の把持アームの上端にそれぞれラックを軸着し、DC
    またはACモータの駆動力で回転するピニオンが前記ラ
    ックを動かすことにより、把持アームが単結晶の直胴部
    に押しつけられて前記単結晶を把持する把持装置を備え
    たことを特徴とする請求項2の半導体単結晶の製造装
    置。
  7. 【請求項7】 光センサまたはタッチセンサにより単結
    晶の直胴部に対する把持アームの近接または接触を検出
    し、前記検出から把持完了までの間は把持アームを低速
    で駆動して単結晶に与える衝撃を緩和することを特徴と
    する請求項2の半導体単結晶の製造装置。
  8. 【請求項8】 チョクラルスキー法による単結晶の引き
    上げにおいて、ネック部の温度が850°C〜600°
    Cになったときに単結晶の直胴部を把持することによ
    り、ネック部の破断を防止することを特徴とする半導体
    単結晶の製造方法。
JP34260993A 1993-12-14 1993-12-14 半導体単結晶の製造装置および製造方法 Pending JPH07172981A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP34260993A JPH07172981A (ja) 1993-12-14 1993-12-14 半導体単結晶の製造装置および製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP34260993A JPH07172981A (ja) 1993-12-14 1993-12-14 半導体単結晶の製造装置および製造方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH07172981A true JPH07172981A (ja) 1995-07-11

Family

ID=18355102

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP34260993A Pending JPH07172981A (ja) 1993-12-14 1993-12-14 半導体単結晶の製造装置および製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH07172981A (ja)

Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1998010125A1 (fr) * 1996-09-03 1998-03-12 Sumitomo Metal Industries, Ltd. Appareil pour tirage de monocristal
EP0834607A1 (en) * 1996-09-26 1998-04-08 Shin-Etsu Handotai Company Limited Crystal pulling method and apparatus
EP0837160A1 (en) * 1996-10-18 1998-04-22 Shin-Etsu Handotai Company Limited Crystal pulling method
EP0864670A2 (de) * 1997-03-15 1998-09-16 Leybold Systems GmbH Hebezeug für eine Vorrichtung zum Ziehen von Einkristallen
EP0867532A2 (en) * 1997-03-28 1998-09-30 Super Silicon Crystal Research Institute Corp. Single crystal pulling apparatus
EP0867533A2 (en) * 1997-03-27 1998-09-30 Super Silicon Crystal Research Institute Corp. Single crystal growing apparatus ans single crystal growing method
EP0867534A2 (en) * 1997-03-28 1998-09-30 Super Silicon Crystal Research Institute Corp. Semiconductor single crystal manufacturing apparatus
EP0869202A2 (en) * 1997-03-31 1998-10-07 Super Silicon Crystal Research Institute Corp. Single crystal pulling apparatus, single crystal support mechanism, and single crystal pulling method
US5986085A (en) * 1997-04-25 1999-11-16 Transgenomic, Inc. Matched ion polynucleotide chromatography (MIPC) process for separation of polynucleotide fragments
US6130500A (en) * 1997-12-03 2000-10-10 Lg Electronics Inc. Doming effect resistant shadow mask for cathode ray tube and its fabricating method
US6217648B1 (en) 1997-09-05 2001-04-17 Super Silicon Crystal Research Institute Corporation Single crystal pull-up apparatus and single crystal pull-up method
CN109505004A (zh) * 2017-09-15 2019-03-22 银川隆基硅材料有限公司 一种避免拉晶过程中单晶硅棒掉落的方法
CN111979577A (zh) * 2020-09-15 2020-11-24 连城凯克斯科技有限公司 硅单晶四爪等力矩在线抓取装置
CN112725885A (zh) * 2020-12-22 2021-04-30 江苏大学 一种单晶硅夹持爪装置及其工作方法

Cited By (30)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6139633A (en) * 1996-09-03 2000-10-31 Sumitomo Metal Industries, Ltd. Single crystal pulling apparatus
KR100310780B1 (ko) * 1996-09-03 2001-10-18 고지마 마타오 단결정 인상장치
WO1998010125A1 (fr) * 1996-09-03 1998-03-12 Sumitomo Metal Industries, Ltd. Appareil pour tirage de monocristal
US5964941A (en) * 1996-09-26 1999-10-12 Shin-Etsu Handotai., Ltd. Crystal pulling method and apparatus
EP0834607A1 (en) * 1996-09-26 1998-04-08 Shin-Etsu Handotai Company Limited Crystal pulling method and apparatus
EP0837160A1 (en) * 1996-10-18 1998-04-22 Shin-Etsu Handotai Company Limited Crystal pulling method
US5882397A (en) * 1996-10-18 1999-03-16 Shin Etsu Handotai Co., Ltd. Crystal pulling method
EP0864670A2 (de) * 1997-03-15 1998-09-16 Leybold Systems GmbH Hebezeug für eine Vorrichtung zum Ziehen von Einkristallen
EP0864670A3 (de) * 1997-03-15 2000-04-26 Leybold Systems GmbH Hebezeug für eine Vorrichtung zum Ziehen von Einkristallen
DE19710856B4 (de) * 1997-03-15 2007-03-22 Crystal Growing Systems Gmbh Hebezeug für eine Vorrichtung zum Ziehen von Einkristallen
EP0867533A2 (en) * 1997-03-27 1998-09-30 Super Silicon Crystal Research Institute Corp. Single crystal growing apparatus ans single crystal growing method
EP0867533A3 (en) * 1997-03-27 1999-11-17 Super Silicon Crystal Research Institute Corp. Single crystal growing apparatus ans single crystal growing method
US6117234A (en) * 1997-03-27 2000-09-12 Super Silicon Crystal Research Institute Corp. Single crystal growing apparatus and single crystal growing method
KR19980079892A (ko) * 1997-03-28 1998-11-25 모리 레이자로 단결정 인상장치
EP0867534A2 (en) * 1997-03-28 1998-09-30 Super Silicon Crystal Research Institute Corp. Semiconductor single crystal manufacturing apparatus
EP0867532A3 (en) * 1997-03-28 1999-11-24 Super Silicon Crystal Research Institute Corp. Single crystal pulling apparatus
EP0867534A3 (en) * 1997-03-28 1999-11-24 Super Silicon Crystal Research Institute Corp. Semiconductor single crystal manufacturing apparatus
US6022411A (en) * 1997-03-28 2000-02-08 Super Silicon Crystal Research Institute Corp. Single crystal pulling apparatus
US6033472A (en) * 1997-03-28 2000-03-07 Super Silicon Crystal Research Institute Corp. Semiconductor single crystal manufacturing apparatus
EP0867532A2 (en) * 1997-03-28 1998-09-30 Super Silicon Crystal Research Institute Corp. Single crystal pulling apparatus
EP0869202A2 (en) * 1997-03-31 1998-10-07 Super Silicon Crystal Research Institute Corp. Single crystal pulling apparatus, single crystal support mechanism, and single crystal pulling method
US6077348A (en) * 1997-03-31 2000-06-20 Super Silicon Crystal Research Institute Corp. Single crystal pulling apparatus, single crystal support mechanism, and single crystal pulling method
EP0869202A3 (en) * 1997-03-31 1999-11-17 Super Silicon Crystal Research Institute Corp. Single crystal pulling apparatus, single crystal support mechanism, and single crystal pulling method
US5986085A (en) * 1997-04-25 1999-11-16 Transgenomic, Inc. Matched ion polynucleotide chromatography (MIPC) process for separation of polynucleotide fragments
US6217648B1 (en) 1997-09-05 2001-04-17 Super Silicon Crystal Research Institute Corporation Single crystal pull-up apparatus and single crystal pull-up method
US6130500A (en) * 1997-12-03 2000-10-10 Lg Electronics Inc. Doming effect resistant shadow mask for cathode ray tube and its fabricating method
CN109505004A (zh) * 2017-09-15 2019-03-22 银川隆基硅材料有限公司 一种避免拉晶过程中单晶硅棒掉落的方法
CN109505004B (zh) * 2017-09-15 2021-07-13 银川隆基硅材料有限公司 一种避免拉晶过程中单晶硅棒掉落的方法
CN111979577A (zh) * 2020-09-15 2020-11-24 连城凯克斯科技有限公司 硅单晶四爪等力矩在线抓取装置
CN112725885A (zh) * 2020-12-22 2021-04-30 江苏大学 一种单晶硅夹持爪装置及其工作方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH07172981A (ja) 半導体単結晶の製造装置および製造方法
US5935321A (en) Single crystal ingot and method for growing the same
EP0826796B1 (en) Method and equipment for growing single crystals
JPH1036187A (ja) 単結晶の引上げ方法及び装置
JP5005747B2 (ja) 単結晶を引き上げるための装置
KR100310780B1 (ko) 단결정 인상장치
JP2990658B2 (ja) 単結晶引上装置
JP3400312B2 (ja) 単結晶引上げ装置及び単結晶引上げ方法
JPH05270974A (ja) 単結晶引上装置
JP2007008773A (ja) 単結晶引上装置及びその制御方法
JPH10120487A (ja) 単結晶引上装置および引上方法
JP3986622B2 (ja) 単結晶保持装置及び単結晶保持方法
US6273945B1 (en) Single crystal producing apparatus and method
JP2000034189A (ja) 単結晶引上げ装置及び引き上げ方法
JP4026694B2 (ja) 単結晶保持装置
JP4052753B2 (ja) 単結晶成長装置及び単結晶成長方法
JP3474076B2 (ja) 単結晶引上げ装置
JPH09202685A (ja) 単結晶引き上げ装置
JPH10273390A (ja) 半導体単結晶製造装置
JPH1192278A (ja) 単結晶引き上げ方法および単結晶把持装置
JPH11217294A (ja) 半導体単結晶引上げ装置及び単結晶引上げ方法
JPH09227282A (ja) 単結晶引上げ装置
JPH1081582A (ja) 単結晶引上装置
JPH10279385A (ja) 単結晶引上げ装置及び単結晶引上げ方法
JPH11106281A (ja) 単結晶引上げ装置