JP4026695B2 - 単結晶保持装置 - Google Patents

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、CZ法による半導体単結晶の製造に用いられ、特に大重量の単結晶の引き上げに好適な単結晶保持装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
単結晶シリコンは一般にCZ法を用いて製造されている。CZ法では、単結晶製造装置内に設置した石英るつぼに多結晶シリコンを充填し、石英るつぼの周囲に設けたヒータによって前記多結晶シリコンを加熱溶解して融液とする。そして、シードホルダに取り付けた種結晶を融液に浸漬し、シードホルダおよび石英るつぼを互いに同方向または逆方向に回転させながらシードホルダを引き上げて単結晶シリコンを所定の直径および長さに成長させる。
【0003】
種結晶には、融液に浸漬したときの熱衝撃で転位が発生する。この転位を除去するため、ダッシュネック法を用いて直径3〜4mm程度のネック部を種結晶の下方に形成し、転位をネック部の表面に逃がす。そして、無転位化が確認された後、肩部を形成して単結晶を所定の直径まで拡大させ、次いで直胴部形成に移行する。
【0004】
近年、半導体デバイス生産の効率化、歩留り向上等を目的とした単結晶の大径化あるいは軸方向長さの増大に伴ってその重量が増大し、ネック部の強度が限界に近づいている。そのため、従来の結晶引上げ方法ではネック部が破断するおそれがあり、安全な単結晶育成ができない。この対策として、単結晶育成中にその荷重をネック部から保持装置へ移し換える引上げ装置や引上げ方法が提案されている。このような装置、方法によれば単結晶重量の大部分を保持装置で支えるため、ネック部の破断が防止され、ネック部が破断した場合でも保持装置により単結晶の落下を防止することができる。
【0005】
たとえば、特開平5−270975で開示された単結晶引上げ装置は、単結晶の直胴部上端に形成した凸部を保持する保持機構を、結晶引上げワイヤ巻取装置とは別個の独立したワイヤ巻取装置によって引き上げる構成とし、シードホルダの上方に設けた昇降用リングが上フックを押し上げると、これに連動して下フックが閉じて単結晶を保持する構造になっている。また、特公平7−103000で開示された結晶引上げ装置は、単結晶のくびれ部を保持する爪を有し、ワイヤの巻き取りまたは巻き戻しにより開閉する複数の把持レバーと、把持レバーの開きを防止するリングとを用いて前記単結晶を保持する構成としている。一方、特公平7−515で開示された結晶引上げ装置は、シードホルダに連結された引上げ軸に沿って上下動可能な把持ホルダの下端に、下方への回転が一定角度で停止する複数の爪を設け、これらの爪を単結晶のくびれ部に掛止させて前記単結晶を保持する構成である。把持ホルダを引上げ軸に沿って下降させることにより、前記爪の先端が単結晶の拡径部に接触しながら上方に開き、拡径部を通過すると爪の自重で閉じ姿勢に戻るようにしている。この結晶引上げ装置では、爪がくびれ部の上側に形成した拡径部に倣って開閉するため、特別な爪開閉駆動装置を必要としない。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記結晶引上げ装置には、それぞれ次のような問題点がある。
(1)上記単結晶保持装置には、保持手段を単結晶のくびれ部の高さまで移動し、くびれ部を保持した後引き上げるための駆動装置と、保持爪等の保持手段を待機姿勢すなわち開姿勢から保持姿勢すなわち閉姿勢に変化させるための駆動装置とが必要である。特開平5−270975及び特公平7−103000による単結晶引上げ装置は、保持手段を昇降させるための駆動装置と、保持爪等の保持手段を待機姿勢すなわち開姿勢から保持姿勢すなわち閉姿勢に変えるための駆動装置とを兼用させているが、両者の兼用は操作制御が複雑化して信頼性、確実性の面から好ましくない。
(2)特公平7−515による結晶引上げ装置は、保持手段を開閉する駆動装置が不要であるが、拡径部あるいはシードホルダの表面を爪が滑りながら保持姿勢をとることになる。従って、爪が拡径部あるいはシードホルダの表面を擦ることによる発塵の可能性が高く、育成中の単結晶が汚染されるおそれがある。
【0007】
本発明は上記従来の問題点に着目してなされたもので、単結晶保持手段を待機姿勢から保持姿勢に移行させる際に特別な保持手段駆動装置を必要とせず、保持手段と単結晶等との接触による発塵がなく、かつ、簡素な構造の単結晶保持装置を提供することを目的としている。
【0008】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するため、本発明に係る単結晶保持装置の第1は、単結晶の肩部上方に形成したくびれ部を保持しつつ単結晶を引き上げる単結晶保持装置であって、育成中の単結晶の肩部によって押し上げられる駆動力伝達手段と、駆動力伝達手段の上昇に伴って待機姿勢から保持姿勢に変化するくびれ部保持手段とを備えていることを特徴とする。
上記構成によれば、単結晶の育成に伴って上昇する肩部が駆動力伝達手段を押し上げると、くびれ部保持手段が保持姿勢をとる。従って、待機姿勢のくびれ部保持手段を保持姿勢に変換させる手段として、肩部の上昇に伴って上昇する駆動力伝達手段以外に特別な駆動機構を必要とせず、単結晶が所定の高さまで成長すればくびれ部保持手段を自動的に保持姿勢とすることができる。前記くびれ部保持手段の姿勢変換は、単結晶保持装置を所定の高さに静止させた場合、単結晶のくびれ部高さまで下降させた場合のいずれにおいても達成可能である。
【0009】
本発明に係る単結晶保持装置の第2は、単結晶の肩部上方に形成したくびれ部を保持しつつ単結晶を引き上げる単結晶保持装置であって、育成中の単結晶の肩部で押し上げられることにより、待機姿勢から保持姿勢に変化するくびれ部保持手段を備えていることを特徴とする。
上記構成によれば、くびれ部保持手段は肩部で押し上げられることにより、待機姿勢から保持姿勢に変化する。従って、待機姿勢のくびれ部保持手段を保持姿勢に変換させるための特別な駆動手段は何も必要とせず、単結晶が所定の高さに引き上げられたとき、あるいは単結晶保持装置をくびれ部高さまで下降させたときに、くびれ部保持手段を自動的に保持姿勢にすることができる。
【0010】
【発明の実施の形態および実施例】
次に、本発明に係る単結晶保持装置の実施例について図面を参照して説明する。
図1、図2に単結晶保持装置の第1実施例を示す。単結晶製造装置の図示しないプルチャンバ上方に設けられた真空容器1内に、結晶引上げワイヤ巻取り装置2と単結晶保持装置10を昇降させる複数のワイヤ巻取り装置11とが設置されている。結晶引上げワイヤ巻取り装置2から炉体中心に垂下する結晶引上げワイヤ3の下端にはシードホルダ4が繋着され、複数のワイヤ巻取り装置11から垂下する保持装置引上げワイヤ12の下端には単結晶保持装置10の保持装置本体13が繋着されている。また、図示しないメインチャンバ内に融液5を貯留するるつぼ6が回転ならびに昇降可能に設置され、るつぼ6の周囲には図示しないヒータ、断熱筒が設置されている。
【0011】
単結晶保持装置10は、リング状の板からなる保持装置本体13と、保持装置本体13の下側に設置された複数の軸14の回りに垂直面内で回動するくびれ部保持手段、すなわち爪15と、保持装置本体13の下側に設置された複数の円筒状のガイド16と、駆動力伝達手段としてガイド16内を上下方向に摺動可能なプッシュロッド17とを備えている。前記軸14の端部には、軸心と直角方向に突出するピン18が固着されている。
【0012】
上記構成の単結晶保持装置10の動作について、図1、図2を参照して説明する。
通常の単結晶引き上げと同様に結晶引上げワイヤ3を巻き戻し、シードホルダ4に装着した種結晶7を融液5に浸漬してなじませた後、結晶引上げワイヤ3を巻き取りながらネック部8を形成する。更に、単結晶9の拡径部9aとくびれ部9bとを形成した後、肩部9c及び直胴部9dの形成に移行する。この間、単結晶保持装置10は保持装置引上げワイヤ12によって結晶引上げワイヤ3と同一の回転速度で同じ方向に回転しながら、メインチャンバ内の上部に吊り下げられて待機している。このとき、爪15の先端は上方を指し、下限位置にあるプッシュロッド17の上端にピン18が当接して安定した姿勢を保っている。従って、シードホルダ4や拡径部9aは爪15の内側部分先端に触れることなく通過することができる。
【0013】
単結晶9の育成が進み、拡径部9aが爪15の先端位置を通過した後、プッシュロッド17の下端が肩部9cに当接する。待機中の単結晶保持装置10を、プッシュロッド17の下端が肩部9cに近接する高さまで下降させた後、肩部9cをプッシュロッド17に当接させるようにしてもよい。プッシュロッド17は肩部9cによって押し上げられ、図2の左半分に示すようにピン18を押し上げる。これにより、爪15の先端は垂直面内で内側に回転し、爪15の後端部側面が保持装置本体13の下面に当接すると回転を停止する。爪15は図2の右半分に示すように先端が単結晶9の中心方向を向く姿勢となるが、爪15の前記回転はくびれ部9bの近傍で行われるため、単結晶9のどの部分にも接触せず、爪15は閉じた状態となる。
【0014】
次に、ワイヤ巻取り装置11が駆動され、保持装置引上げワイヤ12が結晶引上げワイヤ3より速い速度で巻き取られる。爪15の先端は図2の右半分に示すように拡径部9aの下側円錐面に当接して単結晶9を保持する。以後、保持装置引上げワイヤ12の巻き取り速度は結晶引上げワイヤ3の巻き取り速度と一致するように制御され、結晶引上げワイヤ3による単結晶引き上げから保持装置引上げワイヤ12による単結晶引き上げに移行する。なお、プッシュロッド17は、単結晶保持装置10が上昇したとき自重により下限位置に戻る。
【0015】
図3及び図4に単結晶保持装置の第2実施例を示す。この単結晶保持装置20の保持装置本体21は、対向する一対の側板22、22と、側板22、22を連結する2枚の上板23、23及び下板24、24とによって、単結晶9の拡径部9aを取り囲む枠形となるように構成されている。側板22には、単結晶9のくびれ部9bを保持する2本の保持ロッド25を待機位置または保持位置に駐止させ、必要に応じて前記位置間を移動させるための切り欠き穴22aが設けられている。上板23には保持装置引上げワイヤ12が繋着され、保持装置本体21は昇降自在である。下板24の上面は側板22に設けられた保持ロッド25の待機位置と一致し、下板24の中央部にはプッシュロッド26を垂直に保持する段付き穴が設けられている。前記プッシュロッド26は、単結晶9の軸心に向かって下降する傾斜面をもつ頭部と、角柱状で先端に球面をもつロッド部とからなっている。また、保持ロッド25は円柱状で、両端に脱落防止のためのフランジが設けられている。
【0016】
上記構成の単結晶保持装置20の動作について、図4を参照して説明する。
単結晶9の拡径部9aが側板22の切り欠き穴22a上端の位置に到達するまでの間、単結晶保持装置20は保持装置引上げワイヤ12によって単結晶9と同一の回転速度で同じ方向に回転しつつ、炉内の所定位置に待機している。保持ロッド25は切り欠き穴22a内の待機位置、すなわちプッシュロッド26の直上に置かれ、プッシュロッド26は下限位置に静止している。
【0017】
拡径部9aが側板22の切り欠き穴22a上端の位置近傍に到達すると、プッシュロッド26が肩部9cによって押し上げられ、図4の左半分に示すように保持ロッド25を押し上げる。あるいは、プッシュロッド26の下端が肩部9cに近接する高さまで単結晶保持装置20を下降させてもよい。プッシュロッド26の上面は傾斜しているため、押し上げられた保持ロッド25は内側に向かって転動し、保持位置に落ち込む。ここで、保持装置引上げワイヤ12が結晶引上げワイヤ3より速い速度で巻き取られると、図4の右半分に示すように保持ロッド25が拡径部9aの下側円錐面に当接して単結晶9を保持する。以後、保持装置引上げワイヤ12の巻き取り速度は結晶引上げワイヤ3の巻き取り速度と一致するように制御され、結晶引上げワイヤ3による単結晶引き上げから保持装置引上げワイヤ12による単結晶引き上げに移行する。なお、プッシュロッド26は、単結晶保持装置20が上昇したとき自重により下限位置に戻る。
【0018】
本実施例では2枚の側板を対向させ、2本の保持ロッドで単結晶のくびれ部を保持する構成としたが、これに限るものではなく、たとえば3枚の側板を用いて正三角形の枠体を形成し、この枠体に装着した3本の保持ロッドで3方向からくびれ部を保持するようにしてもよい。
【0019】
図5及び図6に単結晶保持装置の第3実施例を示す。この単結晶保持装置30は、円筒状の保持装置本体31と、保持装置本体31の内側に軸32によって揺動自在に取着された複数の爪33と、爪33の近傍に取着され、爪33の揺動範囲を制限するストッパピン34及びストッパピン35とによって構成され、保持装置引上げワイヤ12によって吊り下げられている。
【0020】
上記構成の単結晶保持装置30の動作について、図5、図6を参照して説明する。
単結晶に形成された拡径部9aが単結晶保持装置30の中に進入するまでの間、単結晶保持装置30の保持装置本体31は、図5に示すように保持装置引上げワイヤ12によって単結晶と同一の回転速度で同じ方向に回転しつつ、炉内の所定位置に待機している。爪33の重心位置は軸32の中心を通る鉛直線よりも外側にあるため、爪33の先端は上方を指し、爪33の側面がストッパピン34に当接した位置で静止している。従って、シードホルダや拡径部9aは爪33に接触することなく通過することができる。
【0021】
単結晶9の育成が進み、くびれ部9bが爪33の先端位置近傍まで上昇すると、図6の左半分に示すように肩部9cが爪33の下端に当接する。あるいは、爪33の下端が肩部9cに近接する高さまで単結晶保持装置30を下降させてもよい。爪33の下端には、肩部9cの斜面に垂直で上向きの押し上げ力Fが作用し、爪33の先端は内側に回転する。そして、爪33の側面がストッパピン35に当接した位置で回転を停止する。次に、保持装置引上げワイヤ12が結晶引上げワイヤより速い速度で巻き取られると、図6の右半分に示すように爪33が拡径部9aの下側円錐面に当接して単結晶9を保持する。以後、保持装置引上げワイヤ12の巻き取り速度は結晶引上げワイヤの巻き取り速度と一致するように制御され、結晶引上げワイヤによる単結晶引き上げから保持装置引上げワイヤ12による単結晶引き上げに移行する。
【0022】
上記の各実施例において、単結晶保持装置が融液、ヒータ等による高温に曝されて劣化しないよう、待機高さを任意に調節することができる。また、単結晶保持装置で単結晶を保持した後は、単結晶重量の大部分を保持装置引上げワイヤによって負担し、一部を結晶引上げワイヤによって負担しつつ単結晶の育成を継続するが、保持装置引上げワイヤと結晶引上げワイヤとの荷重負担割合は任意に定めるものとする。なお、上記の各実施例ではワイヤ方式の単結晶製造装置について説明したが、本発明はシャフト方式の単結晶製造装置に対しても適用可能である。
【0023】
【発明の効果】
以上説明したように本発明によれば、次の効果が得られる。
(1)単結晶保持手段を待機姿勢から保持姿勢に変換させるための駆動装置を必要とせず、単結晶保持装置を昇降させる駆動装置を昇降専用装置として使用することにしたので、装置の信頼性や動作の確実性の高い単結晶保持装置とすることができる。
(a)単結晶保持装置を昇降させるための駆動装置以外に、単結晶を保持するための駆動装置を必要としないので、装置の信頼性や動作の確実性の高い単結晶保持装置とすることができる。
(2)単結晶のくびれ部を保持するまでは単結晶保持装置のいかなる部分も単結晶に接触しないので、従来技術のように単結晶あるいはシードホルダ等の表面をなぞることによる発塵が皆無となる。
(3)単結晶保持時及びその後の荷重増加に対応する爪の開き防止機構(または保持ロッドの移動防止機構)を特に設ける必要がなく、構造の簡素な単結晶保持装置であるため、取扱いが容易である。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1実施例による単結晶保持装置の正面図で、爪が開いている状態を示す。
【図2】図1の単結晶保持装置の説明図で、左半分は爪が閉じ始めた状態、右半分は単結晶のくびれ部を保持した状態を示す。
【図3】本発明の第2実施例による単結晶保持装置の側面図である。
【図4】図3の単結晶保持装置の説明図で、左半分はプッシュロッドが上昇を開始した状態、右半分は単結晶のくびれ部を保持した状態を示す。
【図5】本発明の第3実施例による単結晶保持装置の説明図で、爪が開いている状態を示す。
【図6】図5の単結晶保持装置の説明図で、左半分は爪の下端が単結晶の肩部に当接した状態、右半分は単結晶のくびれ部を保持した状態を示す。
【符号の説明】
2 結晶引上げワイヤ巻取り装置
3 結晶引上げワイヤ
9 単結晶
9a 拡径部
9b くびれ部
9c 肩部
10,20,30 単結晶保持装置
11 ワイヤ巻取り装置
12 保持装置引上げワイヤ
13,21,31 保持装置本体
15,33 爪
16 ガイド
17,26 プッシュロッド
18 ピン
22 側板
22a 切り欠き穴
25 保持ロッド
34,35 ストッパピン

Claims (1)

  1. くびれ部(9b)を保持しつつ単結晶(9) を引き上げる単結晶保持装置(10,20) であって、
    前記単結晶(9) の肩部(9c)で下端が押し上げられることによって回動し、待機姿勢から前記くびれ部 (9b) を挟み込む保持姿勢に変化する複数のくびれ部保持手段(33) を備えている
    ことを特徴とする単結晶保持装置。
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