JP2000344591A - 単結晶製造装置 - Google Patents

単結晶製造装置

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JP2000344591A
JP2000344591A JP11153458A JP15345899A JP2000344591A JP 2000344591 A JP2000344591 A JP 2000344591A JP 11153458 A JP11153458 A JP 11153458A JP 15345899 A JP15345899 A JP 15345899A JP 2000344591 A JP2000344591 A JP 2000344591A
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JP
Japan
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single crystal
crystal
holding
knob
retainer
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JP11153458A
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English (en)
Inventor
Yoshihiro Akashi
義弘 明石
Teruo Kageyama
輝男 蔭山
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Nippon Steel Corp
Original Assignee
Sumitomo Metal Industries Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 単結晶の上端部に形成したノブ部で単結晶を
機械的に保持して引上げる場合に、その保持を確実にす
る。 【解決手段】 単結晶10のノブ部12を把持して引上
げる保持器6を、保持器本体8と把持ユニット9とで構
成する。把持ユニット9は、保持器本体8内を水平方向
に自由に移動し得るスライド板9aと、スライド板9a
上に取付けられた複数の爪部材9b,9bとからなる。
複数の爪部材9b,9bでノブ部12を把持する動作に
伴い、把持ユニット9がノブ部12に対して芯合わせさ
れるため、保持器6による結晶保持が確実なものとな
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、CZ法による引上
げを用いた単結晶製造装置に関し、更に詳しくは、単結
晶の上端部に形成されたノブ部で単結晶を機械的に保持
しつつ引上げる単結晶製造装置に関する。
【0002】
【従来の技術】半導体デバイスの製造に使用されるシリ
コンウエーハの素材としては、CZ法により製造された
シリコン単結晶が多用されている。CZ法によるシリコ
ン単結晶の製造では、周知の通り、引上げ軸の下端に保
持された種結晶を、坩堝内に形成されたシリコン融液に
漬け、この状態から引上げ軸を回転させながら上昇させ
ることにより、種結晶の下方にシリコンの単結晶を育成
する。
【0003】ここで種結晶は、シリコン単結晶からなる
直径が10数mm程度の細い棒体であり、上部が種ホル
ダーに連結され、下部がシリコン融液に浸漬される。こ
のような種結晶を高温のシリコン融液に浸漬すると、熱
衝撃により転位が導入されるため、種結晶をシリコン融
液に浸漬した後に種結晶の直径を絞り、しばらくの間こ
の状態を維持して結晶の無転位化を図る、いわゆる種絞
りが実施される。種絞り部の直径は無転位化の点から5
mm以下が必要とされ、3mm以下が望ましいとされて
いる。
【0004】一方、CZ法によって製造されるシリコン
単結晶は、これまでは直径が8インチで重量が100k
g前後のものが主流であった。しかし、最近になって単
結晶の更なる大径化が進み、直径が12インチのシリコ
ン単結晶の試験製造も始まっている。
【0005】単結晶の直径が大きくなると、その重量は
飛躍的に増え、直径が12インチの場合で重量は200
〜300kgに達する。この重量は、単結晶の上端部に
位置し且つ最小径部である種絞り部に最も集中すること
になるが、シリコンの破壊強度は20kg/mm2 程度
であるため、200kgのシリコン単結晶でさえこれを
確実に保持するためには少なく見積もっても5mmを超
える直径が種絞り部に必要になる。従って、結晶保持の
点からは、12インチ単結晶の安定な引上げは不可能と
いうことなる。
【0006】この矛盾を解消するとりわけ有効な技術の
一つとして、種絞り部に依存しない結晶保持引上げがあ
る。特公平5−65477号公報等に記載されているこ
の技術では、図5に示すように、単結晶10の種絞り部
11の下に、種絞り部11より大径で且つ機械的な保持
が可能な被係止部12を形成し、その下に従来どおりの
本体部13を形成する。被係止部12が形成されると、
保持器6により被係止部12を把持して単結晶10を機
械的に保持する。
【0007】被係止部12は、チャック機構等による機
械的な保持のために、通常は上部が太く、下部が細い形
状とされ、下の細い部分でも、その外径は種絞り径より
十分に大きく設定される。上の太い部分は、ノブ形状に
類似し、その下の部分はくびれていることから、この被
係止部12はノブ部或いはくびれ部と呼ばれている。以
下の説明では、この被係止部をノブ部と称する。
【0008】ところで、保持器6の具体的な構造は、例
えば特開平10−81581号公報、特開平10−81
583号公報等に記載されている。特開平10−815
83号公報に記載された保持器6は、ワイヤにより吊り
下げられ内側を引上げ軸が通る環状の保持器本体6a
と、保持器本体6a内の定位置に取付けられた複数の爪
部材6b,6bとを備えている。複数の爪部材6b,6
bは上方へ回動可能であり、その内側をノブ部12の最
大外径部分が通過した後、保持器本体6aを引き上げる
ことにより、単結晶10の自重を利用してノブ部12を
周囲から把持する。把持後は、保持器本体6aを引上げ
軸1と同期して回転させながら引上げることにより、単
結晶10が保持され続ける。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】種絞り部に依存しない
結晶保持技術によれば、12インチ単結晶の育成も可能
となる。
【0010】しかし、単結晶10の育成では、結晶形状
が本質的に不安定である。このため、ノブ部12は引上
げ軸に対して点対称な形状にならず、周方向で変形す
る。しかも、その変形程度は一定しない。また、保持器
6の引上げ軸に対する位置関係も、機械的な誤差等のた
めに、完全な点対称にはならない。
【0011】種絞り部に依存しない結晶保持引上げで
は、保持器6の爪部材6b,6bは、保持器6及びノブ
部12が共に引上げ軸に対して点対称であることを前提
として設計されているが、実際の育成では、上述した非
対称による不安定なズレが重なるため、保持器6の爪部
材6b,6bがノブ部12に片当たりし、爪部材6b,
6bによる把持が不確実になり、結晶保持に失敗する事
態も少なからず発生することが、本発明者らによる実験
操業から判明した。
【0012】本発明の目的は、単結晶の上端部に形成さ
れたノブ部で単結晶を機械的に保持しつつ引上げる場合
に、その結晶保持を確実に行うことができる、生産性に
優れた単結晶製造装置を提供することにある。
【0013】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の単結晶製造装置は、CZ法により坩堝内の
原料融液から単結晶を引上げる際に育成結晶の上端部に
形成されたノブ部で育成結晶を機械的に保持して引上げ
る単結晶製造装置において、育成結晶の機械的な保持の
ために上昇及び回転を行う保持器本体内に、前記ノブ部
を周囲から把持する複数の爪部材をユニット化して取付
け、そのユニットを保持器本体に対して水平方向へ移動
自在としたものである。
【0014】これによれば、保持器やノブ部が引上げ軸
に対して点対称でない場合にも、複数の爪部材でノブ部
を把持することにより、ユニット化された爪部材は、互
いの位置関係を維持しつつ、ノブ部に追従して水平方向
に移動する。つまり、複数の爪部材は、保持器やノブ部
の絶対的な位置関係に影響されることなく、ノブ部に対
して自動的に芯合わせされ、水平方向位置の自己調整機
能を有することになる。このため、ノブ部は複数の爪部
材により常に確実に把持され、結晶保持は確実なものと
なる。
【0015】
【発明の実施の形態】以下に本発明の実施形態を図面に
基づいて説明する。図1は本発明の実施形態を示す単結
晶製造装置の概略構成図、図2は保持器の斜視図、図3
は保持器の縦断面図である。
【0016】本単結晶製造装置は、図1に示すように、
メインチャンバ1とその上に連結されたプルチャンバ2
とを備えている。メインチャンバ1内の中心部には坩堝
3が配置されている。坩堝3は内側の石英坩堝を外側の
黒鉛坩堝で保持する2重構造である。この坩堝3は、ペ
ディスタルと呼ばれる支持軸の上に支持されている。支
持軸は、坩堝3の回転及び昇降のために、軸方向及び周
方向に駆動される。
【0017】坩堝3の外側には環状のヒータなどが配置
されている。一方、プルチャンバ2の上方には、引上げ
軸5及び保持器6の回転及び引上げを行う回転引上げ機
構4が設けられている。
【0018】保持器6は、図2及び図3に示すように、
2本のワイヤ7,7によってプルチャンバ2内に吊り下
げられた保持器本体8と、保持器本体8内に設けられた
把持ユニット9とを備えている。
【0019】保持器本体8は、円筒状の周壁部8aと、
円板状の天板部8bと、鍔状の底板部8cとを有してい
る。ワイヤ7,7の下端部に結合された円板状の天板部
8bは、周壁部8aの上端部内に隙間をあけて収容さ
れ、その上端部とは一対の軸体8e,8eにより回動自
在に連結されている。軸体8e,8eは、ワイヤ7,7
の配列方向に直角な線上に位置している。これにより、
保持器本体8の周壁部8a及び底板部8cは、ワイヤ
7,7の配列方向に直角な方向だけでなく、ワイヤ7,
7の配列方向にも自由に傾動し得る。
【0020】天板部8bの中心部分には、引上げ軸5が
通る開口部8dが設けられている。鍔状の底板部8c
は、周壁部8aの下端部に固着されている。
【0021】保持器本体8内に設けられた把持ユニット
9は、保持器本体8の底板部8c上に載置された環状の
スライド板9aと、スライド板9aの上面複数位置に取
付けられた複数の爪部材9b,9bとを有している。ス
ライド板9aは、保持器本体8の底板部8c上を周囲全
方向へ自由に移動し得る。
【0022】複数の爪部材9b,9b・・は、スライド
板9aの中心回りに周方向に等間隔で点対称的に配置さ
れている。各爪部材9bは、スライド板9a上からその
中心に向かって突出しており、その基部は、スライド板
9a上のブラケットに水平な軸体9cにより回動自在に
連結されている。これにより、各爪部材9bは、ほぼ水
平な初期位置から上方へ自由に回動し得る。また、上方
へ回動した状態で単結晶10の自重を受けて下方へ同期
的に回動することにより、単結晶10のノブ部12を把
持する。
【0023】保持器本体8の底板部8cの内径及び把持
ユニット9のスライド板9aの内径は、単結晶10の上
端部に形成されるノブ部12を通過させるために、その
ノブ部12の最大外径より十分に大きく設定されてい
る。
【0024】回転引上げ機構4は、引上げ軸5の回転及
び引上げを行うと共に、保持器6を懸吊するワイヤ7,
7を巻き上げながら引上げ軸5の周囲を回転させること
により、保持器6の回転及び引上げを行う。
【0025】次に、本単結晶製造装置を使用して単結晶
10を育成する方法について説明する。
【0026】インチャンバ1内及びプルチャンバ2内を
所定の雰囲気に保持した状態で、坩堝3内にシリコンの
原料融液10′を形成する。次いで、引上げ軸5の下端
部に連結された種結晶を原料融液10′に漬け、この状
態から引上げ軸5を上昇させつつ回転させることにより
種結晶の下方にシリコンの単結晶10を育成する。単結
晶10の育成中は、坩堝3を引上げ軸5と逆方向に回転
させる。また、原料融液10′の液面レベルを一定に維
持するために、坩堝3を徐々に上昇させる。
【0027】単結晶10の育成では、先ず、種絞りを行
うべく、引上げ軸5の上昇速度等を制御する。種絞りが
終わると、その種絞り部11の下にノブ部12を形成す
る。ノブ部12の形成が終わると、引上げ速度を十分に
遅くし、ノブ部12の下に本体部13を形成する。この
とき、保持器6はプルチャンバ2内の上部に待機してい
る。
【0028】本体部13の形成がある程度進行すると、
保持器6を降下させる。この降下に伴って、保持器6内
にノブ部12が下方から挿入される。即ち、ノブ部12
は、下降する保持器本体8の底板部8cの内側及び把持
ユニット9のスライド板9aの内側を順に通過し、更に
複数の爪部材9b,9b・・を上方へ押し上げてその内
側に挿入される。
【0029】ノブ部12の最大外径部が爪部材9b,9
b・・の内側を通過し、爪部材9b,9b・・がノブ部
12の所定位置に当接すると、保持器6の下降を停止
し、保持器6の回転及び引上げを開始する。保持器6の
回転及び引上げは、引上げ軸5の回転及び引上げと同期
して行われる。
【0030】これにより、単結晶10は保持器6により
ノブ部12で把持され、育成終了まで機械的に保持され
続ける。かくして、12インチの単結晶10の育成も可
能になる。
【0031】ここで、保持器本体8の周壁部8a及び底
板部8cは、2方向に傾動し得る。加えて、爪部材9
b,9b・・は、スライド板9aと共に、保持器本体8
から独立した把持ユニット9を形成し、保持器本体8内
で周囲全方向に移動自在である。このため、引上げ軸5
に対してノブ部12が点対称でない場合、或いは引上げ
軸5に対して保持器本体8が点対称でない場合、更には
これらが重なった場合も、爪部材9b,9b・・はノブ
部12の把持に伴い、そのノブ部12に自動的に芯合わ
せされ、両者の位置関係は常にほぼ点対称となる。この
ため、ノブ部12は爪部材9b,9b・・によって確実
に把持され、保持器6による単結晶10の保持は確実な
ものになる。
【0032】このような方法により、直径が12イン
チ、長さが約2mのシリコン単結晶を製造した。使用し
た坩堝は直径30インチ、多結晶シリコン原料は300
kgである。このときの結晶保持成功率を、従来例と比
較して図4に示す。
【0033】複数の爪部材が保持器本体内の定位置に固
定された従来例(図5参照)では、結晶保持成功率は約
70%であったが、複数の爪部材をユニット化して周囲
全方向に移動自在とした本発明例では、この結晶保持成
功率はほぼ100%にまで向上した。即ち、保持器やノ
ブ部の非対称性に起因する結晶保持の失敗はほぼ完全に
回避された。
【0034】なお、上記実施形態では、複数の爪部材は
回動形式とされているが、特開平10−81581号公
報に記載されているようなリンク利用の平行移動形式で
もよく、その形式は限定されない。同様に、爪部材の個
数等についても適宜選択することが可能である。
【0035】
【発明の効果】以上に説明した通り、本発明の単結晶製
造装置は、育成結晶を機械的に保持するために上昇及び
回転を行う保持器本体に、ノブ部を周囲から把持する複
数の爪部材をユニット化して取付け、そのユニットを保
持器本体に対して水平方向へ移動自在としたことによ
り、保持器やノブ部の絶対的な位置関係に影響されるこ
となく、複数の爪部材をノブ部に対して自動的に芯合わ
せすることができる。従って、保持器による結晶保持が
確実なものとなり、結晶保持の失敗による生産性の低下
が回避されることにより、生産性が著しく向上する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施形態を示す単結晶製造装置の概略
構成図である。
【図2】同単結晶製造装置に装備されている保持器の斜
視図である。
【図3】同保持器の縦断面図である。る。
【図4】結晶保持の成功率を本発明例と従来例について
示すグラフである。
【図5】従来の単結晶製造装置に装備されている保持器
の縦断面図である。
【符号の説明】
3 坩堝 4 回転引上げ機構 5 引上げ軸 6 保持器 7 ワイヤ 8 保持器本体 9 把持ユニット 9a スライド板 9b 爪部材 10 単結晶 12 ノブ部(被係止部) 10′ 原料融液
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 4G077 AA02 BA04 CF10 EG12 EG13 EG14 EG27 PA01

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 CZ法により坩堝内の原料融液から単結
    晶を引上げる際に、育成結晶の上端部に、種絞り部より
    大径で且つ機械的な保持が可能な被係止部を形成し、こ
    の被係止部で育成結晶を機械的に保持して引上げる単結
    晶製造装置において、育成結晶の機械的な保持のために
    上昇及び回転を行う保持器本体内に、前記被係止部を周
    囲から把持する複数の爪部材をユニット化して取付け、
    そのユニットを保持器本体に対して水平方向へ移動自在
    としたことを特徴とする単結晶製造装置。
JP11153458A 1999-06-01 1999-06-01 単結晶製造装置 Pending JP2000344591A (ja)

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Effective date: 20040722