JP2000246851A - 化粧シート - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】本発明は、耐傷付き性に優れ、しかもＶカツト
加工時に破断や白化等が発生することのない化粧シート
を提供することにある。 【解決手段】高結晶性ポリプロピレン９５〜１００重量
％とポリエチレン０〜５重量％とから構成される樹脂組
成物からなり、曲げ初期弾性率が１００００ｋｇｆ／ｃ
ｍ² 以上２５０００ｋｇｆ／ｃｍ² 以下であり、引張破
断伸びが２００％以上である高結晶性ポリプロピレン系
透明樹脂層を少なくとも具備し、かつ総厚が８０μｍ以
上２５０μｍ以下の化粧シートである。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、建築内装材、建具
の表面、家電品の表面材等に用いられる化粧シートに関
するもので、木質ボード類、無機系ボード類、金属板等
に貼り合わせて化粧板として用いられるものである。

【０００２】

【従来の技術】従来より、建築内装材、建具の表面、家
電品の表面材等に用いられる化粧シートとしては塩化ビ
ニル製のシートが多く用いられてきた。しかし、塩化ビ
ニル樹脂は焼却時に塩化水素ガスが発生し、酸性雨やダ
イオキシンの要因になるとも言われており、さらにはシ
ートに添加された可塑剤のブリードアウト問題も浮上し
ており、近年環境問題の観点から塩化ビニル樹脂を用い
ない化粧シートが要求されつつある。

【０００３】上記理由により近年、塩化ビニル製化粧シ
ートに替わる化粧シートとしてオレフィン系樹脂を使用
した化粧シートが数多く提案されている。例えば、特開
平２−１２８８４３号、特開平５−２７８１３７号、特
開平６−１８８１号、特開平６−１９８８３１号、特開
平９−３２８５６２号等が挙げられる。しかし、これら
の方法では塩化ビニル樹脂を使用しないことにより、焼
却時の有毒ガス等の発生は無くなるが、一般的なポリプ
ロピレンシートもしくは軟質ポリプロピレンシートを使
用しているため表面の耐傷付き性が悪く、従来の塩化ビ
ニル化粧シートの表面傷付き性と比較すると遙に劣って
いるものであった。

【０００４】これに対して本発明者らは既に、曲げ初期
弾性率が１００００ｋｇｆ／ｃｍ²以上である高結晶性
ポリプロピレンを検討し傷付き性で優れた利点を見いだ
したが、後加工でＶカット等を行った場合、フィルムの
破断や外周部に割れが生じることがあった。また、検討
においてはシートの生産性を重視し、樹脂の製膜性の向
上（ネックイン及び引取ムラの抑制）を目的として、５
〜１５％程度のポリエチレンを添加していたが、ポリエ
チレンの過度の添加はポリプロピレンとの相溶性を悪化
させ、Ｖカット加工時に白化を生じる原因となることが
判明した。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】本発明の課題とすると
ころは、耐傷付き性に優れ、しかもＶカット加工時に破
断や白化等が発生することのない化粧シートを提供する
ことにある。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明は上記課題を解決
するためになされたもので、高結晶性ポリプロピレン９
５〜１００重量％とポリエチレン０〜５重量％とから構
成される樹脂組成物からなり、曲げ初期弾性率が１００
００ｋｇｆ／ｃｍ² 以上２５０００ｋｇｆ／ｃｍ² 以下
であり、引張破断伸びが２００％以上である高結晶性ポ
リプロピレン系透明樹脂層を少なくとも具備し、かつ総
厚が８０μｍ以上２５０μｍ以下の化粧シートである。
なお、本発明において、前記「高結晶性ポリプロピレン
系透明樹脂層」の透明とは、半透明をも包含するものと
する。

【０００７】

【発明の実施の形態】本発明の化粧シートは透明樹脂層
を少なくとも具備する化粧シートであって、この透明樹
脂層を構成する樹脂組成物が、高結晶性ポリプロピレン
９５〜１００重量％とポリエチレン０〜５重量％、より
好ましくは高結晶性ポリプロピレン１００％から構成さ
れ、透明樹脂層の曲げ初期弾性率が１００００ｋｇｆ／
ｃｍ²以上、より好ましくは１２０００ｋｇｆ／ｃｍ²
以上、２５０００ｋｇｆ／ｃｍ ² 以下であり、引張破断
伸びが２００％以上、より好ましくは３００％以上１０
００％以下であり、なお且つ、化粧シートの総厚が８０
μｍ以上２５０μｍ以下、より好ましくは１００μｍ以
上１６０μｍ以下であることが重要である。

【０００８】すなわち、曲げ初期弾性率が低いと耐傷付
き性が低下し、高結晶性ポリプロピレンを使用する目的
が達せられなくなる。また、曲げ初期弾性率が高すぎる
とＶカット時にフィルム破断が起き易くなる傾向が見ら
れる。また、引張破断伸度が２００％未満であるとＶカ
ット時にフィルムの破れや破断が起こり易くなり、１０
００％超であるとルーター等を用いた切削加工時のバリ
が多くなる。また、フィルムの総厚が８０μｍ未満であ
ると木質ボード等に貼り合わせた際に、表面の凹凸や糊
の凹凸をひろって意匠上好ましくないことが多く、フィ
ルム総厚が２５０μｍ超であるとＶカット時のフィルム
の外周部での伸びが大きくなり、白化や破断する傾向が
強くなる。さらには、ポリエチレンの添加量が５％を越
えると、高結晶性ポリプロピレンを用いたときは特に低
温時のＶカットの白化が顕著である。

【０００９】上記の高結晶性ポリプロピレンは、プロピ
レンの単独重合体すなわちホモポリマーでも良いし、エ
チレン、ブテン等と共重合した二元、三元のランダム共
重合体でも良い。なお、本発明において高結晶性ポリプ
ロピレンとは、沸騰ヘプタン可溶残分が９５％以上のポ
リプロピレンを指す。

【００１０】以下、本発明の化粧シートの具体例を図に
基づき詳細に説明する。

【００１１】図１は、本発明の一実施例における単層化
粧シートであり、高結晶性ポリプロピレン９５〜１００
重量％とポリエチレン０〜５重量％とから構成される樹
脂組成物からなり、曲げ初期弾性率が１００００ｋｇｆ
／ｃｍ² 以上２５０００ｋｇｆ／ｃｍ² 以下であり、引
張破断伸びが２００％以上である高結晶性ポリプロピレ
ン系透明樹脂層１に、必要に応じて片面又は両面にコロ
ナ放電処理、プラズマ処理、電子線処理、紫外線処理、
重クロム酸処理等の活性化のための処理を施した後、一
方の面に絵柄層２を、反対側の面にトップコート層４を
設けた構成の化粧シートである。一般に化粧シートには
被貼着基材の表面に対する隠蔽性が必要とされる場合が
多いので、通常は絵柄層２の裏側に隠蔽層３が設けられ
る。また、隠蔽層３の被貼着基材に対する接着性に問題
があれば重ねてプライマー層５を適宜設けても構わな
い。さらに、意匠性を向上させるためにトップコート層
４側にエンボス模様（図示はしない）を適宜設けても良
い。

【００１２】上記の構成のエンボス模様は、高結晶性ポ
リプロピレン系透明樹脂層１に直接付与されるもので、
その方法は製膜されたシートを凹凸模様を有するエンボ
ス版を用いて熱及び圧力によりエンボス模様を付与する
方法や、押出機を用いて製膜する際に凹凸模様を有する
冷却ロールを用いて冷却と同時にエンボスを設ける方法
などがある。ここではエンボス部にインキを埋め込みさ
らに意匠性を向上させることも可能である。

【００１３】高結晶性ポリプロピレン系透明樹脂層１の
成形方法は特に製膜できれば問題なく、限定されるもの
ではないが、押出機を用いる方法が最も一般的である。

【００１４】図１において絵柄層２、隠蔽層３を設ける
方法は高結晶性ポリプロピレン系透明樹脂層１に直接グ
ラビア印刷、オフセット印刷、スクリーン印刷、フレキ
ソ印刷、静電印刷、インキジェット印刷等がある。ま
た、特に隠蔽層３を施す場合はコンマコーター、ナイフ
コーター、リップコーター、金属蒸着或いはスパツタ法
等を用いても良い。

【００１５】トップコート層４を設ける方法も隠蔽層３
や絵柄層２等を設ける方法と同様で何ら限定されるもの
ではない。

【００１６】ここで使用される高結晶性ポリプロピレン
系透明樹脂層１には必要に応じて熱安定剤、難燃剤、紫
外線吸収剤、光安定剤、ブロッキング防止剤、触媒捕捉
剤、透明性を維持する範囲での着色剤、半透明化のため
の光散乱剤、艶調整剤等を添加することもできる。熱安
定剤としてはヒンダーフェノール系、硫黄系、ヒドラジ
ン系等があり、難燃剤としては水酸化アルミニューム、
水酸化マグネシューム等、紫外線吸収剤としてはベンゾ
トリアゾール系、ベンゾエート系、ベンゾフェノン系、
トリアジン系等、光安定剤としてはヒンダートアミン系
等を任意の組み合わせで添加するのが一般的である。特
に本用途に用いる場合は、耐候性を考慮する必要があ
り、紫外線吸収剤と光安定剤は必須となり添加量はそれ
ぞれ０．１〜１．０％が適量である。

【００１７】絵柄層２にインキを使用する場合はバイン
ダーとしては硝化綿、セルロース、塩化ビニル−酢酸ビ
ニル共重合体、ポリビニルブチラール、ポリウレタン、
アクリル、ポリエステル系等の単独若しくは各変性物の
中から適宜選定すれば良い。これらは水性、溶剤系、エ
マルジョンタイプのいずれでも問題なく、また一液タイ
プでも硬化剤を使用した二液タイプでも任意に選定可能
である。さらに紫外線や電子線等の照射によりインキを
硬化させることも可能である。なかでも最も一般的な方
法はウレタン系のインキでイソシアネートで硬化させる
方法である。これらバインダー以外には通常のインキに
含まれている顔料、染料等の着色剤、体質顔料、溶剤、
各種添加剤が添加されている。特によく用いられる顔料
には縮合アゾ、不溶性アゾ、キナクリドン、イソインド
リン、アンスラキノン、イミダゾロン、コバルト、フタ
ロシアニン、カーボン、酸化チタン、酸化鉄、雲母等の
パール顔料等がある。また、インキの塗布とは別に各種
金属の蒸着やスパッタリングで意匠を施すことも可能で
ある。

【００１８】隠蔽層３に使用される材料も基本的には絵
柄層２と同じものでよいが、目的として隠蔽性を持たせ
る必要があるために顔料としては不透明な顔料、酸化チ
タン、酸化鉄等を使用する。また、隠蔽性を上げるため
に金、銀、銅、アルミ等の金属を添加することも可能で
ある。一般的にはフレーク状のアルミを添加させること
が多い。塗布の厚みは２μｍ以下では隠蔽性が低く、１
０μｍ以上では樹脂層の凝集力が弱くなるため２μｍ〜
１０μｍが妥当である。

【００１９】トップコート層４に使用される材料も特に
限定されるものではないがポリウレタン系、アクリル
系、アクリルシリコン系、フッソ系、エポキシ系、ビニ
ル系、ポリエステル系、メラミン系、アミノアルキッド
系、尿素系等から適宜選択できる。形態も水性、エマル
ジョン、溶剤系のいずれでも可能で、かつ一液タイプで
も硬化剤を用いた二液タイプでもよい。中でもイソシア
反応は利用したウレタン系のトツプコートが作業性、価
格、樹脂自体の凝集力等の観点からも望ましい。イソシ
アネートにはトリレンジイソシアネート（ＴＤＩ）、キ
シリレンジイソシアネート（ＸＤＩ）、ヘキサメチレン
ジイソシアネート（ＨＭＤＩ）、メタジイソシアネート
（ＭＤＩ）、リジンジイソシアネート（ＬＤＩ）、イソ
ホロジイソシアネート（ＩＰＤＩ）、メチルヘキサンジ
イソシアネート（ＨＴＤＩ）、メチルシクロヘキサノン
ジイソシアネート（ＨＸＤＩ）、トリメチルヘキサメチ
レンジイソシアネート（ＴＭＤＩ）等から適宜選定でき
るが耐候性を考慮すると二重結合を持つタイプよりも直
鎖状の構造を持つタイプ、特にヘキサメチレンジイソシ
アネート（ＨＭＤＩ）が最適である。なお、表面の硬度
をさらに向上させるためには紫外線や電子線照射で硬化
する樹脂の使用も可能である。さらに耐候性を向上させ
るために紫外線吸収材及び光安定材を適宜添加してもよ
い。また、各種機能を付与するために抗菌材、防カビ材
等の機能性添加材の添加も任意に行うことができる。さ
らに、表面の意匠性から艶の調整のため或いはさらに耐
磨耗性を付与するためにアルミナ、シリカ、窒化珪素、
炭化珪素、ガラスビーズ等の添加も任意に行える。塗布
厚みは通常２μｍ〜１０μｍが妥当である。

【００２０】プライマー層５に使用される材料も基本的
には絵柄層２ね隠蔽層３と同じものでよいが、シート裏
面にほどこされるためにウエブ状で巻き取りを行うこと
を考慮するとブロッキングを避け、かつ接着剤との密着
を高めるためにシリカ、アルミナ、マグネシア、酸化チ
タン、硫酸バリウム等の無機充填剤を添加させてもよ
い。塗布厚みは基材との密着を確保することを目的とし
ているので０．１μｍ〜３．０μｍが妥当である。

【００２１】図２には絵柄が施された適宜の基材シート
７と高結晶性ポリプロピレン系透明樹脂層１との積層に
より構成された積層化粧シートの一例を示す。ここで積
層方法及び透明層の層数は任意に選択できる。重要なこ
とは複数の合成樹脂シートを積層した多層構成の化粧シ
ートの内、少なくとも最表面の合成樹脂シートを本発明
において規定した高結晶性ポリプロピレン系透明樹脂層
１で構成することである。

【００２２】以下に図に基づき詳細に説明する。図２は
上から順にトッププコート層４、高結晶性ポリプロピレ
ン系透明樹脂層１、接着層６（感熱接着層、アンカーコ
ート層、ドライラミ接着剤層等）、絵柄層２、基材シー
ト７、プライマー層５と積層された化粧シートの構成の
一例である。ここでトップコート層４、エンボスは必要
であれば設ければよく、プライマー層５も基材シート７
がオレフィン系樹脂のように表面不活性な場合には設け
ておくことが好ましいが、表面が活性な基材シート７を
使用する場合は特に設けなくてもよい。また、基材シー
ト７にオレフィン系樹脂のように表面が不活性な基材を
用いる場合は、基材の表裏にコロナ処理、プラズマ処
理、オゾン処理、電子線処理、紫外線処理、重クロム酸
処理等の表面処理を施しておくことがのぞましい。ま
た、化粧シートに隠蔽性を付与したい場合には、基材シ
ート７として隠蔽性の着色シートを使用してもよいし、
基材シート７と絵柄層２との間に隠蔽層（図示はせず）
を設けても良い。さらに基材シート７と絵柄層２等との
間の密着性を確保するために、基材シート７と絵柄層２
又は隠蔽層との間にプライマー層（図示はせず）を設け
ることもできる。

【００２３】図２で基材シート７としては薄葉紙、チタ
ン紙、樹脂含浸紙等の紙や、ポリエチレン、ポリプロピ
レン、ポリブチレン、ポリスチレン、ポリカーボネー
ト、ポリエステル、ポリアミド、エチレン−酢酸ビニル
共重合体、ポリビニルアルコール、アクリル等の合成樹
脂、或いはこれら合成樹脂の発泡体、エチレン−プロピ
レン共重合ゴム、エチレン−プロピレン−ジェン共重合
ゴム、スチレン−ブタジエン共重合ゴム、スチレン−イ
ソプレン−スチレンブロック共重合ゴム、スチレン−ブ
タジエン−スチレンブロック共重合ゴム、ポリウレタン
等のゴム、有機若しくは無機系の不織布、合成紙、アル
ミニウム、鉄、金、銀等の金属箔等から任意に選定可能
である。また、基材シート７は高結晶性ポリプロピレン
系透明樹脂層１と同一の樹脂組成物からなるシートであ
つてもかまわない。

【００２４】図２の構成で、高結晶性ポリプロピレン系
透明樹脂層１、絵柄層２、トップコート層４、プライマ
ー層５は、図１の構成の場合と同様の材料から構成する
ことができる。

【００２５】接着層６は、絵柄層２等が設けられた基材
シート７とその表面上に設けられる高結晶性ポリプロピ
レン系透明樹脂層１との層間密着性の確保を目的として
必要に応じて設けられるもので、その接着剤の種類は接
着方法に応じて任意の材料選択が可能であり、例えばア
クリル系、ポリエステル系、ポリウレタン系等の材料か
ら選択できる。通常はその凝集力からイソシアネートを
用いたポリオールとの反応の二液硬化タイプのウレタン
系が望ましい。

【００２６】積層方法にも特に規制はないが熱圧を応用
した方法（熱ラミネート）、押し出しラミネート法及び
ドライラミネート法等が一般的である。またエンボス模
様を施す場合には、一旦各種方法でラミネートした後か
ら熱圧によりエンボスを入れる方法、冷却ロールに凹凸
模様を設け押し出しラミネートと同時にエンボスを施す
方法、押し出しと同時にエンボスを施した高結晶性ポリ
プロピレン系透明樹脂層１と基材シート７とを熱ラミネ
ートする方法或いはドライラミネート法で貼り合わせる
方法等がある。絵柄層２及び接着層６は、基材シート７
側に予め設けておくのが一般的であるが、高結晶性ポリ
プロピレン系透明樹脂層１側に設けておいてもよい。

【００２７】さらに、エンボスの中にワイピング法等に
より着色インキを埋め込んで意匠性を向上させることも
可能である（図示はせず）。

【００２８】図３には図２と異なる積層タイプの化粧シ
ート構成の一例を示す。プライマー層５、基材シート
７、絵柄層２、高結晶性ポリプロピレン系透明樹脂層
１、トップコート層４、接着剤層６等は図２の場合と全
く同様であるが、異なる所は接着剤層６と高結晶性ポリ
プロピレン系透明樹脂層１の間に接着性樹脂層８が設け
られているところである。この接着性樹脂層８は、特に
押し出しラミネート方法でさらなるラミネート強度を求
める場合に設けるものであり、高結晶性ポリプロピレン
系透明樹脂層１と接着性樹脂８との共押し出し法でラミ
ネートを行う。

【００２９】上記接着性樹脂層８はポリプロピレン、ポ
リエチレン、アクリル系樹脂等に酸変性を施したもの
で、厚みは接着力向上の目的から２μｍ以上が望まし
く、厚すぎるとせっかく高結晶性ポリプロピレン系透明
樹脂層１によつて向上させた表面硬度が接着性樹脂層８
の具有する柔軟性によつて相殺されてしまうので、２０
μｍ以下が望ましい。

【００３０】耐候性の面から絵柄及び基材を守るため、
前記のようにトップコート層４及び高結晶性ポリプロピ
レン系透明樹脂層１に耐候性処方を施すだけでなく、接
着剤層６に紫外線吸収剤及び／又は光安定剤を添加して
もよい。

【００３１】図２及び図３の例に示した積層タイプの厚
みは、基材シート７としては印刷作業性、コストを考慮
して３０μｍ〜１５０μｍ、高結晶性ポリプロピレン系
透明樹脂層１としては意匠性、後加工性、コスト等を考
慮して３０μｍ〜１５０μｍとすることが望ましい。な
おかつ、積層化粧シート全体の総厚は８０μｍ〜２５０
μｍの範囲とすることが望ましい。

【００３２】

【作用】以上のように、本発明おける化粧シートに使用
する樹脂には塩化ビニル樹脂を使用しないため、焼却等
の際に有毒ガスの発生もなく環境に優しいだけでなく、
塩ビ製化粧シート同等以上の耐傷付き性を持ち、Ｖカツ
ト加工が可能な優れた化粧シートとなつた。

【００３３】

【実施例】以下、具体的実施例を説明する。

【００３４】＜実施例１＞曲げ初期弾性率２００００ｋ
ｇｆ／ｃｍ² 、引張破断伸び５００％の高結晶性ポリプ
ロピレン樹脂（沸騰ヘプタン可溶残分９８％）にヒンダ
ードフェノール系酸化防止剤（イルガノックス１０１
０．チバスペシャリティケミカルズ社製）を５００PPM
、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤（チヌビン３２
８．チバスペシャリティケミカルズ社製）を２０００PP
M 、ヒンダートアミン系光安定剤（キマソープ９４４．
チバスペシャリティケミカルズ社製）２０００PPM を添
加した樹脂を押し出し機を用いて溶融押し出しを行い、
厚さ８０μｍの高結晶性透明樹脂シートを製膜し、シー
トの両面にコロナ処理を施し、表面の濡れを４０ｄｙｎ
／ｃｍ以上とした。一方、隠蔽性のある７０μｍのシー
トに二液型ウレタンインキ（Ｖ１８０．東洋インキ社
製）にて柄印刷を施し、また、裏面にプライマーコート
を施した基材シートを用意した。しかる後、前記基材シ
ートの柄印刷面に前記高結晶性透明樹脂シートをドライ
ラミネート用接着剤（タケラツクＡ５４０．武田薬品工
業製、塗布量２ｇ／ｍ² ）を介してドライラミネート法
にて貼り合わせた。このシートの高結晶性透明樹脂シー
トの面にエンボスを施し後、二液型ウレタントップコー
ト（Ｗ１８４．大日本インキ社製）を３ｇ／ｍ² 塗布し
て総厚１５４μｍの図２に示す化粧シートを得た。

【００３５】＜実施例２＞曲げ初期弾性率２００００ｋ
ｇｆ／ｃｍ² 、引張破断伸び５００％の高結晶性ポリプ
ロピレン樹脂（沸騰ヘプタン可溶残分９８％）にヒンダ
ードフェノール系酸化防止剤（イルガノックス１０１
０．チバスペシャリティケミカルズ社製）を５００PPM
、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤（チヌビン３２
８．チバスペシャリティケミカルズ社製）を２０００PP
M 、ヒンダートアミン系光安定剤（キマソープ９４４．
チバスペシャリティケミカルズ社製）２０００PPM を添
加した樹脂をポリエチレン系の易接着樹脂と押し出し機
を用いて共押出しにて、８０μｍの厚みで、隠蔽性のあ
る７０μｍのシートに二液型ウレタンインキ（Ｖ１８
０．東洋インキ社製）にて柄印刷を施し、また、裏面に
プライマーコートを施した基材シートとエクストルージ
ョンラミネートにて貼り合わせ、このシートの高結晶性
透明樹脂シートの面にエンボスを施した後、二液型ウレ
タントップコート（Ｗ１８４．大日本インキ社製）を３
ｇ／ｍ² 塗布して総厚１５５μｍの図３に示す化粧シー
トを得た。

【００３６】＜実施例３＞曲げ初期弾性率２００００ｋ
ｇｆ／ｃｍ² 、引張破断伸び５００％の高結晶性ポリプ
ロピレン樹脂（沸騰ヘプタン可溶残分９８％）にヒンダ
ードフェノール系酸化防止剤（イルガノックス１０１
０．チバスペシャリティケミカルズ社製）を５００PPM
、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤（チヌビン３２
８．チバスペシャリティケミカルズ社製）を２０００PP
M 、ヒンダートアミン系光安定剤（キマソープ９４４．
チバスペシャリティケミカルズ社製）２０００PPM を添
加した樹脂を押し出し機を用いて溶融押し出し行い、厚
さ１００μｍの透明な高結晶性ポリプロピレンシートを
得た。得られたシートの両面にコロナ処理を施し、表面
の濡れを４０ｄｙｎ／ｃｍ以上に保ち、二液型ウレタン
インキ（Ｖ１８０．東洋インキ社製）にて柄印刷を施
し、重ねて二液型ウレタンインキ（Ｖ１８０．東洋イン
キ社製）の隠蔽層を６ｇ／ｍ² 塗布し、またこれに重ね
てプライマーとして二液型ウレタンインキ（ＰＥＴ−Ｅ
レジウサー．大日精化製）を１ｇ／ｍ² 塗布した。この
シートの高結晶性ポリプロピレンシートの面にエンボス
を施した後、二液型ウレタントップコート（Ｗ１８４．
大日本インキ社製）を３ｇ／ｍ² 塗布して総厚１１０μ
ｍの図１の化粧シートを得た。

【００３７】＜比較例１＞上記実施例２において、曲げ
初期弾性率２００００ｋｇｆ／ｃｍ² 、引張破断伸び５
００％の高結晶性ポリプロピレン樹脂の代わりに、曲げ
初期弾性率８０００ｋｇｆ／ｃｍ² 、引張破断伸び８０
０％のランダムポリプロピレン樹脂（沸騰ヘプタン可溶
残分８３％）を使用し、その他は同様の方法で比較例１
の化粧シートを得た。

【００３８】＜比較例２＞上記実施例２において、曲げ
初期弾性率２００００ｋｇｆ／ｃｍ² 、引張破断伸び５
００％の高結晶性ポリプロピレン樹脂（沸騰ヘプタン可
溶残分９８％）にポリエチレンを１０％添加して、その
他は同様の方法で比較例２の化粧シートを得た。

【００３９】＜比較例３＞上記実施例２において、曲げ
初期弾性率２００００ｋｇｆ／ｃｍ² 、引張破断伸び５
００％の高結晶性ポリプロピレン樹脂の代わりに、曲げ
初期弾性率２００００ｋｇｆ／ｃｍ² 、引張破断伸び２
５％の高結晶性ポリプロピレン樹脂（沸騰ヘプタン可溶
残分９８％）を使用し、その他は同様の方法で比較例３
の化粧シートを得た。

【００４０】＜比較例４＞上記実施例２において、共押
出しを行う樹脂の厚みを２００μｍとして、このシート
総厚を２７５μｍとし、その他は同様の方法で比較例４
の化粧シートを得た。

【００４１】上記の実施例、比較例で得られた化粧シー
トをウレタン系の接着剤を用いて木質基材に貼り合わせ
た後、鉛筆硬度試験にて表面硬度を、Ｖカット試験にて
Ｖカット適性の有無を評価した。結果を表１に示す。

【００４２】

【表１】

【００４３】表１に示すように、本発明による高結晶ポ
リプロピレンを使用した化粧シートは、従来の化粧シー
トに比べて表面の耐傷付き性に優れ、かつＶカット加工
が可能な化粧シートであると言える。

【００４４】

【発明の効果】本発明は以上の構成であるから、下記に
示す如き効果がある。すなわち、本発明の化粧シート
は、塩化ビニル樹脂を一切使用していないために環境に
優しいだけでなく、表面の耐傷付き性に優れ、かつＶカ
ット加工が可能な化粧シートを提供することができる等
の、種々の優れた効果を奏する。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例を示す、化粧シートの側断面
図である。

【図２】本発明の他の実施例を示す、化粧シートの側断
面図である。

【図３】本発明の他の実施例を示す、化粧シートの側断
面図である。

【符号の説明】

１ ……高結晶性ポリプロピレン系透明樹脂層 ２ ……絵柄層 ３ ……隠蔽層 ４ ……トップコート層 ５ ……プライマー層 ６ ……接着層 ７ ……基材シート ８ ……接着性樹脂層

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 4F100 AK04A AK07A AK51B AL05A AR00B AT00C BA03 BA07 BA10A BA10C CB02 GB08 GB48 GB81 HB31 HB31B JA11A JK01 JK08A JK14 YY00A

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】高結晶性ポリプロピレン９５〜１００重量
   ％とポリエチレン０〜５重量％とから構成される樹脂組
   成物からなり、曲げ初期弾性率が１００００ｋｇｆ／ｃ
   ｍ²以上２５０００ｋｇｆ／ｃｍ² 以下であり、引張破
   断伸びが２００％以上である高結晶性ポリプロピレン系
   透明樹脂層を少なくとも具備し、かつ総厚が８０μｍ以
   上２５０μｍ以下であることを特徴とする化粧シート。
2. 【請求項２】基材シート上に、絵柄層と前記高結晶性ポ
   リプロピレン系透明樹脂層とを少なくともこの順に具備
   することを特徴とする請求項１に記載の化粧シート。