JP2000243810A - 対象物を連続処理する方法及び装置 - Google Patents
対象物を連続処理する方法及び装置Info
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- 238000003672 processing method Methods 0.000 title abstract description 3
- 230000033001 locomotion Effects 0.000 claims abstract description 29
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 13
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 7
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 238000003825 pressing Methods 0.000 claims description 6
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 6
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 5
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 claims description 5
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 claims description 3
- 210000000078 claw Anatomy 0.000 claims description 2
- 229910000859 α-Fe Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 230000003071 parasitic effect Effects 0.000 abstract description 5
- 230000002411 adverse Effects 0.000 abstract description 2
- 230000000452 restraining effect Effects 0.000 abstract 1
- 230000032258 transport Effects 0.000 description 62
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 16
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 12
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 8
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 7
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 5
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 5
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 4
- 230000007723 transport mechanism Effects 0.000 description 4
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 3
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 3
- 238000004518 low pressure chemical vapour deposition Methods 0.000 description 3
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 3
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 3
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 2
- 230000002452 interceptive effect Effects 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 2
- 241001091564 Bauera Species 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 238000010924 continuous production Methods 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 230000003111 delayed effect Effects 0.000 description 1
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 1
- 238000005265 energy consumption Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 1
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 238000013021 overheating Methods 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 半導体ウエーハ等の処理対象物を連続処理す
る方法及び装置に関し、寄生的付着や高温が一連の処理
に悪い影響を及ぼすことなく連続処理を可能とした構造
の簡単な処理装置及び処理方法を提供すること。 【解決手段】 処理対象物は、直線的往復運動を行う第
１の搬送装置（３６，３８；４０，４２）により搬送装
置（１６）に沿って処理装置（１０）に搬送される。対
象物は受渡し装置（２２，２４；６０，６２）によって
該搬送路上へ送り込まれるとともに搬送路から取り出さ
れる。対象物はワークピース支持体（１８，２０，２
６，５２）上に載置され、その支持体が少なくとも２つ
の第１の搬送装置によって搬送路上に列装され、次いで
処理装置へと連続して搬送される。支持体の列装及び連
続搬送は、第１の搬送装置の一方が１つの支持体をすで
に搬送路上にある支持体に対して列装させるように搬送
するとともに他方の第１の搬送装置が列装された支持体
を連続搬送する態様で遂行される。
る方法及び装置に関し、寄生的付着や高温が一連の処理
に悪い影響を及ぼすことなく連続処理を可能とした構造
の簡単な処理装置及び処理方法を提供すること。 【解決手段】 処理対象物は、直線的往復運動を行う第
１の搬送装置（３６，３８；４０，４２）により搬送装
置（１６）に沿って処理装置（１０）に搬送される。対
象物は受渡し装置（２２，２４；６０，６２）によって
該搬送路上へ送り込まれるとともに搬送路から取り出さ
れる。対象物はワークピース支持体（１８，２０，２
６，５２）上に載置され、その支持体が少なくとも２つ
の第１の搬送装置によって搬送路上に列装され、次いで
処理装置へと連続して搬送される。支持体の列装及び連
続搬送は、第１の搬送装置の一方が１つの支持体をすで
に搬送路上にある支持体に対して列装させるように搬送
するとともに他方の第１の搬送装置が列装された支持体
を連続搬送する態様で遂行される。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、シリコンウエーハ
の半導体ウエーハ等の扁平な処理すべき対象物の、特に
表面処理等のために、処理装置内において該対象物を連
続処理する方法に関する。ここにおいて、該対象物は直
線的往復運動を行わせる第１の搬送装置によって、該処
理装置を通して配置された搬送路に沿って移動させられ
るとともに該対象物は受渡し装置を介して該搬送路上に
受渡し、あるいは該搬送路から取り出される。更に、本
発明は、シリコンウエーハの半導体ウエーハ等の扁平な
処理すべき対象物であって支持体上に配置された対象物
の表面処理等の連続処理を行う装置であって、処理装置
を通して配置された搬送路と、該支持体を該搬送路上に
受渡し、あるいは該搬送路から取り出すための受渡し装
置とを有する装置に関する。
の半導体ウエーハ等の扁平な処理すべき対象物の、特に
表面処理等のために、処理装置内において該対象物を連
続処理する方法に関する。ここにおいて、該対象物は直
線的往復運動を行わせる第１の搬送装置によって、該処
理装置を通して配置された搬送路に沿って移動させられ
るとともに該対象物は受渡し装置を介して該搬送路上に
受渡し、あるいは該搬送路から取り出される。更に、本
発明は、シリコンウエーハの半導体ウエーハ等の扁平な
処理すべき対象物であって支持体上に配置された対象物
の表面処理等の連続処理を行う装置であって、処理装置
を通して配置された搬送路と、該支持体を該搬送路上に
受渡し、あるいは該搬送路から取り出すための受渡し装
置とを有する装置に関する。
【０００２】
【従来の技術と発明が解決しようとする課題】処理すべ
き対象物の表面処理は工業技術の多くの領域において種
々の製品を製造する上で不可欠の要件である。特に、薄
い表面層を有する対象物のコーティング等の処理は、所
望の製品品質を維持し耐久性を保証するために、広く普
及している。例えば、摩耗を減少させるためにスチール
工具の表面に薄い耐摩耗性層をコーティングで形成した
り、あるいは、反射効果を減少させるために薄い光学的
にアクティブな層をメガネ用ガラス表面にコーティング
で形成する場合である。光電池産業においては、太陽電
池に、例えば厚さ８０mmの薄い表面層を形成する。これ
によって、種々の物理的効果に基づいて、太陽電池のエ
ネルギ効率は３０％程度にまで向上する。
き対象物の表面処理は工業技術の多くの領域において種
々の製品を製造する上で不可欠の要件である。特に、薄
い表面層を有する対象物のコーティング等の処理は、所
望の製品品質を維持し耐久性を保証するために、広く普
及している。例えば、摩耗を減少させるためにスチール
工具の表面に薄い耐摩耗性層をコーティングで形成した
り、あるいは、反射効果を減少させるために薄い光学的
にアクティブな層をメガネ用ガラス表面にコーティング
で形成する場合である。光電池産業においては、太陽電
池に、例えば厚さ８０mmの薄い表面層を形成する。これ
によって、種々の物理的効果に基づいて、太陽電池のエ
ネルギ効率は３０％程度にまで向上する。
【０００３】上記のようなコーティング層の形成等の処
理は、一部においては、大気圧状態で行われるが、多く
の場合、負圧状態で行われる。この場合の負圧は、例え
ば処理対象物の表面全体にわたってコーティング層が十
分に均一になるようにするために必要である。又、一定
の付着（デポジション）技術もしばしば負圧状態におい
て可能となる。公知のコーティング処理として、低圧化
学蒸着が挙げられる。この場合、表面層はプラズマ励起
の形態で熱的又は電気的に活性化するガスの反応によっ
て成長する。
理は、一部においては、大気圧状態で行われるが、多く
の場合、負圧状態で行われる。この場合の負圧は、例え
ば処理対象物の表面全体にわたってコーティング層が十
分に均一になるようにするために必要である。又、一定
の付着（デポジション）技術もしばしば負圧状態におい
て可能となる。公知のコーティング処理として、低圧化
学蒸着が挙げられる。この場合、表面層はプラズマ励起
の形態で熱的又は電気的に活性化するガスの反応によっ
て成長する。
【０００４】移動する対象物上に連続したコーティング
処理を施すことは、層の薄板状の均一性を改善するため
に行われる。ここにおいて、コーティング装置によって
１つの次元において、すなわち、対象物の搬送方向に対
して横方向について均一に付着していれば十分である。
これに対して、静止状態におかれた対象物のコーティン
グ処理の場合には、対象物の全表面にわたって２次元の
均一な付着が必要である。従って、技術的に、より多く
の出費をもたらす。
処理を施すことは、層の薄板状の均一性を改善するため
に行われる。ここにおいて、コーティング装置によって
１つの次元において、すなわち、対象物の搬送方向に対
して横方向について均一に付着していれば十分である。
これに対して、静止状態におかれた対象物のコーティン
グ処理の場合には、対象物の全表面にわたって２次元の
均一な付着が必要である。従って、技術的に、より多く
の出費をもたらす。
【０００５】コーティング処理のための供給源に対し
て、連続処理に必要な対象物の一定の運動は搬送機構に
より行われる。この機構により、コーティング処理すべ
き対象物自体が直接動かされるか、あるいはその対象物
を支持するワークピース支持体が動かされる。
て、連続処理に必要な対象物の一定の運動は搬送機構に
より行われる。この機構により、コーティング処理すべ
き対象物自体が直接動かされるか、あるいはその対象物
を支持するワークピース支持体が動かされる。
【０００６】ワークピース支持体が設置されるのは、対
象物が扁平でない場合や破損し易い場合、あるいは該対
象物が搬送機構の構成材料と接触するのが望ましくない
場合、更には該支持体によって大気と負圧領域との間の
封止機能を果たす必要がある場合である。
象物が扁平でない場合や破損し易い場合、あるいは該対
象物が搬送機構の構成材料と接触するのが望ましくない
場合、更には該支持体によって大気と負圧領域との間の
封止機能を果たす必要がある場合である。
【０００７】搬送機構としては、ローラ形、チェーン形
及び押出ロッド形等の駆動装置を用い得る。ここにおい
て、ローラ形駆動装置の場合には、プレート形状の対象
物ないしは支持体が、回転駆動されるローラ機構上で走
行する態様が望ましい。
及び押出ロッド形等の駆動装置を用い得る。ここにおい
て、ローラ形駆動装置の場合には、プレート形状の対象
物ないしは支持体が、回転駆動されるローラ機構上で走
行する態様が望ましい。
【０００８】チェーン形駆動装置の場合には、対象物が
係合部材を介して搬送チェーン上で駆動される。対象物
ないし支持体が軽量の場合には、チェーン上に直接載置
されるが、ある一定の重量を越える場合には荷重支承用
の追加した従動ローラを設置すべきである。
係合部材を介して搬送チェーン上で駆動される。対象物
ないし支持体が軽量の場合には、チェーン上に直接載置
されるが、ある一定の重量を越える場合には荷重支承用
の追加した従動ローラを設置すべきである。
【０００９】押出ロッド形駆動装置の場合には、対象物
ないし支持体は隙間がないエンドレス列において作動装
置によって押される。ここにおいて、押される対象物な
いし支持体は、最も後部にあるもののみであり、この運
動が、順次前列の全ての対象物ないし支持体に伝達され
る。但し、押出ロッド形駆動装置では、連続した運動は
不可能である。これは、押出ロッドが戻る間において
は、対象物ないし支持体の列は全て静止状態になるから
である。しかし、押出ロッド形駆動装置は寄生的（para
sitic）付着及び高温に関しては不感である。
ないし支持体は隙間がないエンドレス列において作動装
置によって押される。ここにおいて、押される対象物な
いし支持体は、最も後部にあるもののみであり、この運
動が、順次前列の全ての対象物ないし支持体に伝達され
る。但し、押出ロッド形駆動装置では、連続した運動は
不可能である。これは、押出ロッドが戻る間において
は、対象物ないし支持体の列は全て静止状態になるから
である。しかし、押出ロッド形駆動装置は寄生的（para
sitic）付着及び高温に関しては不感である。
【００１０】ローラ形又はチェーン形の駆動装置では規
則的な時間サイクルの運動状態から連続した運動状態へ
の受渡し動作が可能であり、この間においてローラない
しチェーン部材は種々異なる速度で走行し得る。従っ
て、このシステムを負圧利用の装置に適用可能である。
この負圧利用の装置はエアーロック（airlock）を介し
て対象物ないしワークピース支持体を規則的時間サイク
ルで送り込んだり、送出したりすることができる。
則的な時間サイクルの運動状態から連続した運動状態へ
の受渡し動作が可能であり、この間においてローラない
しチェーン部材は種々異なる速度で走行し得る。従っ
て、このシステムを負圧利用の装置に適用可能である。
この負圧利用の装置はエアーロック（airlock）を介し
て対象物ないしワークピース支持体を規則的時間サイク
ルで送り込んだり、送出したりすることができる。
【００１１】連続搬送に適した駆動システムであるロー
ラ形ないしチェーン形の駆動装置は、寄生的（parasiti
c）付着及び高温下での適用には問題がある。寄生的付
着は、例えば気相からのプラズマによる低圧化学蒸着の
場合に生じる。ここにおいて、相当に大きな出費なしで
はローラベアリングやチェーンがコーティングされるこ
とを阻止することができず、又、短時間での移動が困難
となる。対象物を処理している間に高温を適用する場合
に駆動するローラ又はチェーンは過熱しないように十分
保護されねばならない。しかし、このためには費用のか
かる措置が必要となる。
ラ形ないしチェーン形の駆動装置は、寄生的（parasiti
c）付着及び高温下での適用には問題がある。寄生的付
着は、例えば気相からのプラズマによる低圧化学蒸着の
場合に生じる。ここにおいて、相当に大きな出費なしで
はローラベアリングやチェーンがコーティングされるこ
とを阻止することができず、又、短時間での移動が困難
となる。対象物を処理している間に高温を適用する場合
に駆動するローラ又はチェーンは過熱しないように十分
保護されねばならない。しかし、このためには費用のか
かる措置が必要となる。
【００１２】現今において見られる公知のワークピース
支持体では、高温及び高い処理速度で動作する装置にお
いては種々の問題がある。高温の場合に十分な曲がりに
対する抵抗力を得るために、ワークピース支持体は、頑
丈に設計されねばならない。これにより高い熱容量を有
するので、より大きなエネルギ消費を導く。それは特
に、支持体が短時間で加熱されるとともにコーティング
領域外で再び冷却されねばならない場合である。負圧を
用いた装置において、より高い処理速度を得るために
は、支持体が内部にあるエアーロック室は出来るだけ早
く負圧状態に脱気されねばならない。しかし、エアーロ
ック室が、例えば技術的理由により単に１つの排出ポン
プ口しか備えていない場合には、これが難しい。そし
て、この場合には、流出するエアーが支持体のまわりに
流れるので、脱気処理が遅れることとなる。複数の流通
開口を設けることは、強度安定の条件の下においてのみ
可能である。又、対象物が扁平形状のものの場合には、
個々の対象物の間隔が増大することとなる。しかし、こ
れは処理速度の観点から望ましくない。
支持体では、高温及び高い処理速度で動作する装置にお
いては種々の問題がある。高温の場合に十分な曲がりに
対する抵抗力を得るために、ワークピース支持体は、頑
丈に設計されねばならない。これにより高い熱容量を有
するので、より大きなエネルギ消費を導く。それは特
に、支持体が短時間で加熱されるとともにコーティング
領域外で再び冷却されねばならない場合である。負圧を
用いた装置において、より高い処理速度を得るために
は、支持体が内部にあるエアーロック室は出来るだけ早
く負圧状態に脱気されねばならない。しかし、エアーロ
ック室が、例えば技術的理由により単に１つの排出ポン
プ口しか備えていない場合には、これが難しい。そし
て、この場合には、流出するエアーが支持体のまわりに
流れるので、脱気処理が遅れることとなる。複数の流通
開口を設けることは、強度安定の条件の下においてのみ
可能である。又、対象物が扁平形状のものの場合には、
個々の対象物の間隔が増大することとなる。しかし、こ
れは処理速度の観点から望ましくない。
【００１３】ドイツ特許第４３０３４６２号には、多室
形のコーティング装置が開示されている。ここにおい
て、基板は平坦なガラスのように取扱われる。ここにお
いて基板はコーティング装置によって、支持体に対して
離間した状態に配置される。これに対し、ローラ等の滑
動部材が設けられ、これは複数のコーティング室を通し
て一定速度での搬送を可能とする。
形のコーティング装置が開示されている。ここにおい
て、基板は平坦なガラスのように取扱われる。ここにお
いて基板はコーティング装置によって、支持体に対して
離間した状態に配置される。これに対し、ローラ等の滑
動部材が設けられ、これは複数のコーティング室を通し
て一定速度での搬送を可能とする。
【００１４】米国特許第３，９７３，６６５号には、例
えばスパッタリングによって半導体基板を処理するため
の搬送装置が開示されている。処理対象物を送るために
該対象物は支持体により支持され、該支持体は互いに離
間した状態で規則的時間サイクルで搬送される。ここに
おいて、支持体を処理ステーションの一方から他方へ送
るために、送りバーが設けられている。又、該バーの戻
り運動の際に該支持体を該バーに係合させるために、該
支持体をバーの運動に対して垂直に動作可能なリフトに
把持させる必要がある。エアーロックによる搬送は不可
能である。
えばスパッタリングによって半導体基板を処理するため
の搬送装置が開示されている。処理対象物を送るために
該対象物は支持体により支持され、該支持体は互いに離
間した状態で規則的時間サイクルで搬送される。ここに
おいて、支持体を処理ステーションの一方から他方へ送
るために、送りバーが設けられている。又、該バーの戻
り運動の際に該支持体を該バーに係合させるために、該
支持体をバーの運動に対して垂直に動作可能なリフトに
把持させる必要がある。エアーロックによる搬送は不可
能である。
【００１５】英国特許公開第２１４３９１０号には、対
象物を支持するために互いに隣接して配列された支持体
を備えたシステムが開示されている。そして、この対象
物は、負圧室内で処理し得る。該支持体自体は幾何学的
に対応して相互に係合する端縁を有し、該端縁は負圧室
への導入の際に封止機能を果たす。この支持体の封止効
果は、温度を一定にするには十分でないので、当該シス
テムは高温には向かない。
象物を支持するために互いに隣接して配列された支持体
を備えたシステムが開示されている。そして、この対象
物は、負圧室内で処理し得る。該支持体自体は幾何学的
に対応して相互に係合する端縁を有し、該端縁は負圧室
への導入の際に封止機能を果たす。この支持体の封止効
果は、温度を一定にするには十分でないので、当該シス
テムは高温には向かない。
【００１６】日本特許公開、特開平１０−６７４２９号
から基板搬送装置が公知である。該搬送装置は支持体上
に配置可能であり、その支持体はスピンドルによってレ
ールに沿って移動可能となっている。処理すべきウエー
ハを搬送するためのスピンドル駆動装置は米国特許第
４，９４７，７８４号にも開示されている。支持体を受
けるスライドにはスピンドルが通っている。又、ドイツ
特許公開第１９７４５６４６号からは、半導体を検査ス
テーションに通すためのシャトルコンベア及び支持体リ
フト機構を有する搬送装置が公知である。
から基板搬送装置が公知である。該搬送装置は支持体上
に配置可能であり、その支持体はスピンドルによってレ
ールに沿って移動可能となっている。処理すべきウエー
ハを搬送するためのスピンドル駆動装置は米国特許第
４，９４７，７８４号にも開示されている。支持体を受
けるスライドにはスピンドルが通っている。又、ドイツ
特許公開第１９７４５６４６号からは、半導体を検査ス
テーションに通すためのシャトルコンベア及び支持体リ
フト機構を有する搬送装置が公知である。
【００１７】本発明は、上記従来構成における種々の問
題点に鑑みなされたものであり、その目的は寄生的（pa
rasitic）付着（デポジション）も高温度も一連の処理
工程に悪い影響を与えることなく、特に扁平な２次元的
対象物のコーティング等の連続処理を行う構造が簡単な
処理装置及び処理方法を提供するにある。
題点に鑑みなされたものであり、その目的は寄生的（pa
rasitic）付着（デポジション）も高温度も一連の処理
工程に悪い影響を与えることなく、特に扁平な２次元的
対象物のコーティング等の連続処理を行う構造が簡単な
処理装置及び処理方法を提供するにある。
【００１８】
【課題を解決するための手段及び発明の効果】上記目的
を達成するために、本発明における方法において処理す
べき対象物が支持体上に配置され、該支持体が直線的往
復運動を行う少なくとも２つの第１の搬送装置によって
搬送路上に列装（ラインアップ）されるとともに処理装
置に連続して搬送され、該支持体の列装及び連続搬送
は、前記一方の第１の搬送装置が該搬送路上に受け渡さ
れた１つの支持体を該搬送路上にすでにある支持体に対
して列装させるとともに他方の第１の搬送装置が該列装
された複数の支持体を連続して搬送するようにして遂行
されるのである。対象物又は支持体は、おおむね一定の
速度で処理装置を通して搬送される。
を達成するために、本発明における方法において処理す
べき対象物が支持体上に配置され、該支持体が直線的往
復運動を行う少なくとも２つの第１の搬送装置によって
搬送路上に列装（ラインアップ）されるとともに処理装
置に連続して搬送され、該支持体の列装及び連続搬送
は、前記一方の第１の搬送装置が該搬送路上に受け渡さ
れた１つの支持体を該搬送路上にすでにある支持体に対
して列装させるとともに他方の第１の搬送装置が該列装
された複数の支持体を連続して搬送するようにして遂行
されるのである。対象物又は支持体は、おおむね一定の
速度で処理装置を通して搬送される。
【００１９】本発明の具体例において、処理装置から出
た対象物ないし該対象物を支持する支持体は、第２の搬
送装置によって残っている列装された対象物ないし支持
板から分離されるとともに該搬送路から対象物ないし支
持板を取り出す受渡し装置上に向けられる。
た対象物ないし該対象物を支持する支持体は、第２の搬
送装置によって残っている列装された対象物ないし支持
板から分離されるとともに該搬送路から対象物ないし支
持板を取り出す受渡し装置上に向けられる。
【００２０】直線的運動を行う前記第１の搬送装置とし
て、一対の押出しロッドが望ましい。又、第２の搬送装
置としては、一対の引張りロッドが望ましい。
て、一対の押出しロッドが望ましい。又、第２の搬送装
置としては、一対の引張りロッドが望ましい。
【００２１】本発明における装置においては、直線的往
復運動を行う少なくとも２つの第１の搬送装置が処理装
置の前側において、対象物を受ける支持体を搬送するた
めの搬送路に対して対応配置され、個々の支持体を該搬
送路上で規則的に順次列装（ラインアップ）するととも
に、これら列装された支持体を処理装置へと連続して搬
送する構成であり、又、処理された対象物を受ける支持
体の搬送のために第２の搬送装置が搬送路に対応配置さ
れ、該第２の搬送装置が搬送路から支持体を取り出すた
めの受渡し装置に向けて列装された支持体を分離する構
成である。
復運動を行う少なくとも２つの第１の搬送装置が処理装
置の前側において、対象物を受ける支持体を搬送するた
めの搬送路に対して対応配置され、個々の支持体を該搬
送路上で規則的に順次列装（ラインアップ）するととも
に、これら列装された支持体を処理装置へと連続して搬
送する構成であり、又、処理された対象物を受ける支持
体の搬送のために第２の搬送装置が搬送路に対応配置さ
れ、該第２の搬送装置が搬送路から支持体を取り出すた
めの受渡し装置に向けて列装された支持体を分離する構
成である。
【００２２】各支持体は搬送路を構成するガイドレール
上に設けられたフレームを有する。
上に設けられたフレームを有する。
【００２３】特に、本発明においては、搬送路上に連続
して列装された支持体に第１の搬送装置と係合する係合
受部が設けられ、該第１の搬送装置は支持体と整合し
て、該支持体が一方の第１の搬送装置によって把持され
ると他方の第１の搬送装置によっては把持されない状態
を維持し、又、逆に他方の第１の搬送装置が該支持体を
把持すると、一方の第１の搬送装置はこれを把持しない
状態となる。このように、第１の搬送装置は支持体に対
して選択的に対応ないし非対応となる構成である。
して列装された支持体に第１の搬送装置と係合する係合
受部が設けられ、該第１の搬送装置は支持体と整合し
て、該支持体が一方の第１の搬送装置によって把持され
ると他方の第１の搬送装置によっては把持されない状態
を維持し、又、逆に他方の第１の搬送装置が該支持体を
把持すると、一方の第１の搬送装置はこれを把持しない
状態となる。このように、第１の搬送装置は支持体に対
して選択的に対応ないし非対応となる構成である。
【００２４】第１の搬送装置は、プランジャー又はロッ
ド等よりなる押圧体をなす押出し部材により構成される
のが望ましく、又、これら押出し部材はその前側の自由
端部において支持体の係合受部と係合する構成が望まし
い。
ド等よりなる押圧体をなす押出し部材により構成される
のが望ましく、又、これら押出し部材はその前側の自由
端部において支持体の係合受部と係合する構成が望まし
い。
【００２５】特に、搬送方向に沿って見て、連続した支
持体の内の最初の第１の支持体は、搬送方向に対して平
行をなす溝等で形成された開口ないし凹所を有し、これ
に対して第１の搬送装置が挿通可能に構成される。又、
該開口ないし凹所は搬送方向において前側の支持体の係
合受部に整合する構成となっている。
持体の内の最初の第１の支持体は、搬送方向に対して平
行をなす溝等で形成された開口ないし凹所を有し、これ
に対して第１の搬送装置が挿通可能に構成される。又、
該開口ないし凹所は搬送方向において前側の支持体の係
合受部に整合する構成となっている。
【００２６】本発明の更なる具体例において、第２の搬
送装置は、プランジャー又はロッド等よりなる引張り部
材で構成される。ここにおいて、第２の搬送装置は、例
えば、つめ部片や掛け金等で構成された機械的連結部材
あるいはマグネットなどの磁気的連結部材を用いて支持
体を把持する。
送装置は、プランジャー又はロッド等よりなる引張り部
材で構成される。ここにおいて、第２の搬送装置は、例
えば、つめ部片や掛け金等で構成された機械的連結部材
あるいはマグネットなどの磁気的連結部材を用いて支持
体を把持する。
【００２７】第１ないし第２の搬送装置は、スピンドル
駆動体を介してスライド移動可能なスライダを有する。
又、第１ないし第２の搬送装置は、負圧領域において調
整可能なロッド又はプランジャー等の部材を有する。該
部材は真空シールを介してシリンダ又はスピンドルで構
成された駆動体に連結される構成である。
駆動体を介してスライド移動可能なスライダを有する。
又、第１ないし第２の搬送装置は、負圧領域において調
整可能なロッド又はプランジャー等の部材を有する。該
部材は真空シールを介してシリンダ又はスピンドルで構
成された駆動体に連結される構成である。
【００２８】又、本発明においては、対象物を受ける支
持体はフレームを有し、該フレームは複数の角隅部片と
これらを連結するフレーム部材を有し、相互に対角線を
なす角隅部片どうしが張設部材によって連結される構成
である。
持体はフレームを有し、該フレームは複数の角隅部片と
これらを連結するフレーム部材を有し、相互に対角線を
なす角隅部片どうしが張設部材によって連結される構成
である。
【００２９】前記フレーム部材自体は搬送路を構成する
レール上で滑動自在にスライドするように支持される。
レール上で滑動自在にスライドするように支持される。
【００３０】少なくとも１つの対象物のための支持体と
して、バネによって付勢されたワイヤ等よりなる互いに
平行をなす張設部材がフレーム自体から延出した構成と
なっている。この構成において、対象物の位置ずれを防
止するために、プレス加工された金属球等よりなる固定
部材が張設部材に設けられる。
して、バネによって付勢されたワイヤ等よりなる互いに
平行をなす張設部材がフレーム自体から延出した構成と
なっている。この構成において、対象物の位置ずれを防
止するために、プレス加工された金属球等よりなる固定
部材が張設部材に設けられる。
【００３１】対象物を搬送路に対して配置又は取り出す
ための受渡し装置は、例えば押出しロッドや引張りロッ
ド等よりなる直線移動の往復運動をなすコンベア装置で
構成し得る。
ための受渡し装置は、例えば押出しロッドや引張りロッ
ド等よりなる直線移動の往復運動をなすコンベア装置で
構成し得る。
【００３２】すなわち、本発明における装置において
は、特に、３組の押出しロッドと、２組の引張りロッド
と複数のワークピース支持体とよりなり、押出しロッド
と引張りロッドを介して、規則的な時間サイクルで搬入
されたワークピース支持体を連続した運動に変換すると
ともに、該連続した運動から規則的な時間サイクルの受
渡しの動作に変換することができる。この場合、ワーク
ピース支持体は一対の引張りロッドによって搬送セクシ
ョンへ横方向に取り出すことができ、２対の互いに平行
に動作する押出しロッドによって少なくとも２つのワー
クピース支持体を搬送路上において隙間のない列状態で
連続的に移動させることができる。そして、該支持体は
処理装置におおむね一定の速度で通される。そして、該
支持体は処理装置を通過した後、一対の引張りロッドに
よって搬送路の終端位置まで引き出され、その位置から
該搬送路の横方向に取り出される。
は、特に、３組の押出しロッドと、２組の引張りロッド
と複数のワークピース支持体とよりなり、押出しロッド
と引張りロッドを介して、規則的な時間サイクルで搬入
されたワークピース支持体を連続した運動に変換すると
ともに、該連続した運動から規則的な時間サイクルの受
渡しの動作に変換することができる。この場合、ワーク
ピース支持体は一対の引張りロッドによって搬送セクシ
ョンへ横方向に取り出すことができ、２対の互いに平行
に動作する押出しロッドによって少なくとも２つのワー
クピース支持体を搬送路上において隙間のない列状態で
連続的に移動させることができる。そして、該支持体は
処理装置におおむね一定の速度で通される。そして、該
支持体は処理装置を通過した後、一対の引張りロッドに
よって搬送路の終端位置まで引き出され、その位置から
該搬送路の横方向に取り出される。
【００３３】ワークピース支持体はスライドフレームを
有し、該フレームは交互に搬送される２つの異なる形状
のスライドフレームよりなる。
有し、該フレームは交互に搬送される２つの異なる形状
のスライドフレームよりなる。
【００３４】搬送路はガイドレール機構を有し、該機構
はスライドフレームとともにスライド機構を構成する。
はスライドフレームとともにスライド機構を構成する。
【００３５】ワークピース支持体のスライドフレームの
内側には、互いに平行をなすワイヤがバネによって張設
されるとともにウエーハ等の処理対象物を支持する機能
を果たす。このワイヤに対して金属球がプレスによって
押圧固定され、これが板状の対象物をワイヤ平面内で位
置決めするとともに該対象物の不用意な移動を防止す
る。
内側には、互いに平行をなすワイヤがバネによって張設
されるとともにウエーハ等の処理対象物を支持する機能
を果たす。このワイヤに対して金属球がプレスによって
押圧固定され、これが板状の対象物をワイヤ平面内で位
置決めするとともに該対象物の不用意な移動を防止す
る。
【００３６】本発明においては、極めて簡単な構造の搬
送システムが得られ、これによって、複数のワークピー
ス支持体を隙間なく連続した、ギャップフリー状態で搬
送路上で処理装置に一定の速度で送り込むことができ
る。該搬送路はガイドレール機構により構成される。か
かる搬送システムは高温度に対しても、又、寄生的（pa
rasitic）付着（デポジション）に対しても影響がな
い。これは、コーティング領域において、搬送機構の可
動部分がないからである。直線的往復運動を行う押出し
ロッドよりなる２つの搬送装置と２つの異なる形状のワ
ークピース支持体との共働によって、例えば、真空エア
ロックシステムに通すために必要な規則的なワークピー
ス支持体の運動が対象物の処理のための一定の搬入速度
での連続運動に変換される。
送システムが得られ、これによって、複数のワークピー
ス支持体を隙間なく連続した、ギャップフリー状態で搬
送路上で処理装置に一定の速度で送り込むことができ
る。該搬送路はガイドレール機構により構成される。か
かる搬送システムは高温度に対しても、又、寄生的（pa
rasitic）付着（デポジション）に対しても影響がな
い。これは、コーティング領域において、搬送機構の可
動部分がないからである。直線的往復運動を行う押出し
ロッドよりなる２つの搬送装置と２つの異なる形状のワ
ークピース支持体との共働によって、例えば、真空エア
ロックシステムに通すために必要な規則的なワークピー
ス支持体の運動が対象物の処理のための一定の搬入速度
での連続運動に変換される。
【００３７】更に、本発明においては、ワークピース支
持体は最小の熱キャパシティ及び該支持体に対して垂直
方向に流れるガスに対する最大のコンダクタンスを有す
る。スライドフレーム内で張設されたワイヤは、その径
が小さいので、最小の質量を有する。従って、ワークピ
ース支持体の質量を通して放出される熱エネルギ損失は
最小となる。バネ手段を用いたワイヤの張設によって、
高温においてもワイヤ部分に全く捻じれが生じない。ガ
スは配置された対象物の側部にワイヤ間の隙間を通して
流れる。このガス流の流通（コンダクション）値は殆ど
配置された対象物のスペースにより決まり、どの設定さ
れたスペースについても最大となる。これによって、ワ
ークピース支持体は一側でポンプ給送されるエアーロッ
ク室における使用に最適であり、高い処理能率を得るこ
とができる。扁平な対象物の不用意な位置ずれは、例え
ばワイヤ上にプレス固定した金属球による簡単な手段で
阻止することができる。
持体は最小の熱キャパシティ及び該支持体に対して垂直
方向に流れるガスに対する最大のコンダクタンスを有す
る。スライドフレーム内で張設されたワイヤは、その径
が小さいので、最小の質量を有する。従って、ワークピ
ース支持体の質量を通して放出される熱エネルギ損失は
最小となる。バネ手段を用いたワイヤの張設によって、
高温においてもワイヤ部分に全く捻じれが生じない。ガ
スは配置された対象物の側部にワイヤ間の隙間を通して
流れる。このガス流の流通（コンダクション）値は殆ど
配置された対象物のスペースにより決まり、どの設定さ
れたスペースについても最大となる。これによって、ワ
ークピース支持体は一側でポンプ給送されるエアーロッ
ク室における使用に最適であり、高い処理能率を得るこ
とができる。扁平な対象物の不用意な位置ずれは、例え
ばワイヤ上にプレス固定した金属球による簡単な手段で
阻止することができる。
【００３８】本発明の更なる詳細、利点及び特徴は、特
許請求の範囲の記載のみならず、以下、図面を参照して
説明する本発明の実施形態からも理解される。
許請求の範囲の記載のみならず、以下、図面を参照して
説明する本発明の実施形態からも理解される。
【００３９】
【発明の実施の形態】図１は、特にシリコンウエーハな
どの処理すべき扁平な対象物を搬送する装置が示されて
いる。この対象物は処理装置１０において、例えばコー
ティング等の処理が施される。処理装置１０は、例え
ば、低圧化学蒸着装置により構成され、ここにコーティ
ング領域が形成されている。本発明の装置は、搬送用ガ
イドレール１２，１４によって構成された搬送路１６を
有し、該搬送路１６は処理装置１０を貫通して配置され
るとともにワークピース支持体１８，２０に沿って搬送
動作可能となっている。これによって、処理装置１０内
で連続的な搬送が行われる。ワークピース支持体１８，
２０上には、シリコンウエーハ等の処理すべき扁平な対
象物が少なくとも１つ、好ましくは複数個、取り付けら
れコーティング領域を形成する処理装置１０内において
コーティング処理が施される。
どの処理すべき扁平な対象物を搬送する装置が示されて
いる。この対象物は処理装置１０において、例えばコー
ティング等の処理が施される。処理装置１０は、例え
ば、低圧化学蒸着装置により構成され、ここにコーティ
ング領域が形成されている。本発明の装置は、搬送用ガ
イドレール１２，１４によって構成された搬送路１６を
有し、該搬送路１６は処理装置１０を貫通して配置され
るとともにワークピース支持体１８，２０に沿って搬送
動作可能となっている。これによって、処理装置１０内
で連続的な搬送が行われる。ワークピース支持体１８，
２０上には、シリコンウエーハ等の処理すべき扁平な対
象物が少なくとも１つ、好ましくは複数個、取り付けら
れコーティング領域を形成する処理装置１０内において
コーティング処理が施される。
【００４０】更に本発明の装置は、引張りロッド２２，
２４により構成された受渡し装置を有し、これを用いて
支持体２６は、１つの搬送位置２８から搬送路１６上に
受渡され、該搬送路１６上の位置（スタート位置）３０
を占める。このために、支持体２６はガイドレール３
２，３４上で移動し、その結果、搬送路１６、すなわち
ガイドレール１２，１４との整合が確実に行われる。こ
れにより、ガイドレール１２，１４，３２，３４は支持
体１８，２０，２６を側方においても、又、上下方向に
沿う必要な範囲においても支持することとなる。
２４により構成された受渡し装置を有し、これを用いて
支持体２６は、１つの搬送位置２８から搬送路１６上に
受渡され、該搬送路１６上の位置（スタート位置）３０
を占める。このために、支持体２６はガイドレール３
２，３４上で移動し、その結果、搬送路１６、すなわち
ガイドレール１２，１４との整合が確実に行われる。こ
れにより、ガイドレール１２，１４，３２，３４は支持
体１８，２０，２６を側方においても、又、上下方向に
沿う必要な範囲においても支持することとなる。
【００４１】ワークピース支持体２６がスタート位置３
０に達するや否や、２つの第１の搬送装置の内の一方の
搬送装置によって把持される。これら２つの第１の搬送
装置は、対をなす押出しロッド３６，３８；４０，４２
で押圧体として構成され直線的往復運動を行う。そし
て、支持体２６は搬送路１６上にすでに配置された支持
体１８，２０と該搬送路１６に沿って列装（ラインアッ
プ）状態に置かれる。このために、押出しロッド３６，
３８；４０，４２は、最初、短い時間急速な搬入動作を
行うとともに、次いで長い時間低速で一定の搬入速度を
維持する。これにより、全ての支持体２６，１８，２０
が互いに隣接した列装状態で処理装置１０へと搬入され
る。対をなす押出しロッド３６，３８；４０，４２の低
速搬入動作の間、搬送方向に沿って最も後位置の支持体
２６がその前側の支持体１８，２０を押す態様で搬送路
１６上を移動する。
０に達するや否や、２つの第１の搬送装置の内の一方の
搬送装置によって把持される。これら２つの第１の搬送
装置は、対をなす押出しロッド３６，３８；４０，４２
で押圧体として構成され直線的往復運動を行う。そし
て、支持体２６は搬送路１６上にすでに配置された支持
体１８，２０と該搬送路１６に沿って列装（ラインアッ
プ）状態に置かれる。このために、押出しロッド３６，
３８；４０，４２は、最初、短い時間急速な搬入動作を
行うとともに、次いで長い時間低速で一定の搬入速度を
維持する。これにより、全ての支持体２６，１８，２０
が互いに隣接した列装状態で処理装置１０へと搬入され
る。対をなす押出しロッド３６，３８；４０，４２の低
速搬入動作の間、搬送方向に沿って最も後位置の支持体
２６がその前側の支持体１８，２０を押す態様で搬送路
１６上を移動する。
【００４２】対をなす押出しロッド３６，３８；４０，
４２の一方がスタート位置にある支持体２６をすでに搬
送路１６上で列装された状態にある支持体１８，２０に
合わせて列装する前に、他方の対をなす押出しロッド４
０，４２；３６，３８がそれ以前に係合していた最後の
支持体、すなわち本実施形態では支持体１８を一定速度
で移動させる。しかし、支持体２６が支持体１８に接触
し、対をなす押出しロッド３６，３８；４０，４２の一
方によって更なる搬送が遂行されるや否や、対をなす他
方の押出しロッド４０，４２；３６，３８が引き込ま
れ、前述したように引張りロッド２２，２４により搬送
路１６上に移動された次位の支持体を押し出すために準
備される。
４２の一方がスタート位置にある支持体２６をすでに搬
送路１６上で列装された状態にある支持体１８，２０に
合わせて列装する前に、他方の対をなす押出しロッド４
０，４２；３６，３８がそれ以前に係合していた最後の
支持体、すなわち本実施形態では支持体１８を一定速度
で移動させる。しかし、支持体２６が支持体１８に接触
し、対をなす押出しロッド３６，３８；４０，４２の一
方によって更なる搬送が遂行されるや否や、対をなす他
方の押出しロッド４０，４２；３６，３８が引き込ま
れ、前述したように引張りロッド２２，２４により搬送
路１６上に移動された次位の支持体を押し出すために準
備される。
【００４３】図２により明確に示すように、押出しロッ
ド３６，３８；４０，４２はワークピース支持体２６の
位置する面よりも下方に位置し、これにより、ワークピ
ース支持体が搬送路１６に沿って移動する動作に支障を
与えないので、支持体はスタート位置３０に動かされる
とともに搬送路１６に沿って所定の範囲を確実に移動す
ることができる。
ド３６，３８；４０，４２はワークピース支持体２６の
位置する面よりも下方に位置し、これにより、ワークピ
ース支持体が搬送路１６に沿って移動する動作に支障を
与えないので、支持体はスタート位置３０に動かされる
とともに搬送路１６に沿って所定の範囲を確実に移動す
ることができる。
【００４４】図２及び図３に示すように、尖端係合部と
して尖端部片で形成された作動部材４４，４６；４８，
５０は対をなす押出しロッド３６，３８；４０，４２の
自由端から一体に延出した態様をなし、図２に示すよう
に、ワークピース支持体によって形成された面内に突出
しており、該支持体の下面に形成された係合受部に係合
可能となっている。これにより支持体には作動部材４
４，４６；４８，５０と係合受部との係合により、押出
しロッド３６，３８；４０，４２からの搬送力が伝達さ
れる。この係合受部は凹陥状あるいは貫通孔状等、適宜
選択可能である。
して尖端部片で形成された作動部材４４，４６；４８，
５０は対をなす押出しロッド３６，３８；４０，４２の
自由端から一体に延出した態様をなし、図２に示すよう
に、ワークピース支持体によって形成された面内に突出
しており、該支持体の下面に形成された係合受部に係合
可能となっている。これにより支持体には作動部材４
４，４６；４８，５０と係合受部との係合により、押出
しロッド３６，３８；４０，４２からの搬送力が伝達さ
れる。この係合受部は凹陥状あるいは貫通孔状等、適宜
選択可能である。
【００４５】本発明においては、搬送路１６に沿って交
互に移動する２つの異なるワークピース支持体が用いら
れる。例として、ワークピース支持体２６は孔を有し、
この孔に対をなす押出しロッド３６，３８の作動部材４
４，４６が係合可能となっている。これにより、対をな
す一方の押出しロッド３６，３８が処理装置１０の方向
へ移動中、支持体２６が把持されて搬送路１６に沿って
動かされる。これと同時に対をなす他方の押出しロッド
４０，４２は該支持体２６の下方をこれに対して干渉す
ることなく移動して支持体２８が支持体１８と整合した
ときに引き戻される。すなわち、他方の押出しロッド４
０，４２は、一方の押出しロッド３６，３８による支持
体２６の規則的な時間サイクルでの搬入動作の間、相互
に列装された支持体１８，２０を一定の速度で搬送路１
６に沿って移動させる。支持体２６は作動部材４８，５
０の作動軌跡内に、溝等で形成された対応する凹所ない
し凹陥部を有する。この凹陥部は、前方の支持体、すな
わち、本実施形態における支持体１８に関して、押出し
ロッド４０，４２の作動部材４８，５０のための対応す
る係合受部に移行する。
互に移動する２つの異なるワークピース支持体が用いら
れる。例として、ワークピース支持体２６は孔を有し、
この孔に対をなす押出しロッド３６，３８の作動部材４
４，４６が係合可能となっている。これにより、対をな
す一方の押出しロッド３６，３８が処理装置１０の方向
へ移動中、支持体２６が把持されて搬送路１６に沿って
動かされる。これと同時に対をなす他方の押出しロッド
４０，４２は該支持体２６の下方をこれに対して干渉す
ることなく移動して支持体２８が支持体１８と整合した
ときに引き戻される。すなわち、他方の押出しロッド４
０，４２は、一方の押出しロッド３６，３８による支持
体２６の規則的な時間サイクルでの搬入動作の間、相互
に列装された支持体１８，２０を一定の速度で搬送路１
６に沿って移動させる。支持体２６は作動部材４８，５
０の作動軌跡内に、溝等で形成された対応する凹所ない
し凹陥部を有する。この凹陥部は、前方の支持体、すな
わち、本実施形態における支持体１８に関して、押出し
ロッド４０，４２の作動部材４８，５０のための対応す
る係合受部に移行する。
【００４６】ワークピース支持体２６，１８，２０の適
切な構成により、上述したように搬送路１６に沿ってこ
れら支持体２６，１８，２０を、まず、スタート位置３
０から比較的、高速度で搬送路１６上を移動させてすで
に列装された支持体と隣接するように列装させ、次い
で、これら支持体を一定の速度で移動させることが可能
である。そして、一定の搬送速度を生じさせた対をなす
押出しロッドは、搬送方向において最後の支持体に干渉
することなく通過することができる。そして、勿論、定
速運動の間の速度は、規則的な時間サイクルでの搬入動
作時の速度よりも低い。
切な構成により、上述したように搬送路１６に沿ってこ
れら支持体２６，１８，２０を、まず、スタート位置３
０から比較的、高速度で搬送路１６上を移動させてすで
に列装された支持体と隣接するように列装させ、次い
で、これら支持体を一定の速度で移動させることが可能
である。そして、一定の搬送速度を生じさせた対をなす
押出しロッドは、搬送方向において最後の支持体に干渉
することなく通過することができる。そして、勿論、定
速運動の間の速度は、規則的な時間サイクルでの搬入動
作時の速度よりも低い。
【００４７】この実施形態においては、対をなす押出し
ロッド３６，３８；４０，４２に尖端部片で形成された
作動部材４４，４６；４８，５０を設けた態様を示した
が、これと同じ機能を果たす他の構成も可能である。例
えば、上述のように支持体に対して所定範囲で係脱させ
るために搬送方向に沿って折りたたみ可能なつめ部片又
は回転可能な作動部片を設けてもよい。
ロッド３６，３８；４０，４２に尖端部片で形成された
作動部材４４，４６；４８，５０を設けた態様を示した
が、これと同じ機能を果たす他の構成も可能である。例
えば、上述のように支持体に対して所定範囲で係脱させ
るために搬送方向に沿って折りたたみ可能なつめ部片又
は回転可能な作動部片を設けてもよい。
【００４８】ワークピース支持体５２が処理装置１０を
完全に通過するや否や、第２の搬送装置を構成する引張
りロッド５６，５８の手段によって取出し位置５４へ移
動させられるために、この引張り動作によって他の列装
した支持体１８，２０から分離される。そして、受渡し
装置を構成する押出しロッド６０，６２によって支持体
５２は搬送路１６から真空エアーロックを配置し得る位
置６４へと取出される。これによって取り出された支持
体上の対象物を更に他の処理に向けることができる。
完全に通過するや否や、第２の搬送装置を構成する引張
りロッド５６，５８の手段によって取出し位置５４へ移
動させられるために、この引張り動作によって他の列装
した支持体１８，２０から分離される。そして、受渡し
装置を構成する押出しロッド６０，６２によって支持体
５２は搬送路１６から真空エアーロックを配置し得る位
置６４へと取出される。これによって取り出された支持
体上の対象物を更に他の処理に向けることができる。
【００４９】第２の搬送装置をなす引張りロッド５６，
５８は、支持体５２を把持するために、例えば、マグネ
ット又はつめ部片等の機械的カップリング５７，５９に
よって、該支持体により形成された面内で移動し得る。
これと同様の連結方法は、受渡し装置をなす引張りロッ
ド２２，２４にも適用し得、これにより、支持体２６を
位置２８で示したエアーロックから搬送路１６上のスタ
ート位置３０へ受渡すことができる。
５８は、支持体５２を把持するために、例えば、マグネ
ット又はつめ部片等の機械的カップリング５７，５９に
よって、該支持体により形成された面内で移動し得る。
これと同様の連結方法は、受渡し装置をなす引張りロッ
ド２２，２４にも適用し得、これにより、支持体２６を
位置２８で示したエアーロックから搬送路１６上のスタ
ート位置３０へ受渡すことができる。
【００５０】引張りロッド５６，５８は、その前端部に
電磁石を有し、これに対し、支持体５２の対応フレーム
側に埋設したフエライトが対応する。
電磁石を有し、これに対し、支持体５２の対応フレーム
側に埋設したフエライトが対応する。
【００５１】図１に示す実施形態において押出しロッド
及び引張りロッド３６，３８，４０，４２はスピンドル
駆動体７４，７６，７８，８０とともに直動スライダ６
６，６８，７０，７２上に設けられている。スピンドル
駆動体７４，７６，７８，８０は、電動モータ（図示せ
ず）により駆動し得る。押出しロッド６０，７２及び引
張りロッド２２，２４，５６，５８は直動スライダ（図
示せず）によって必要な直線往復運動可能に作動する。
及び引張りロッド３６，３８，４０，４２はスピンドル
駆動体７４，７６，７８，８０とともに直動スライダ６
６，６８，７０，７２上に設けられている。スピンドル
駆動体７４，７６，７８，８０は、電動モータ（図示せ
ず）により駆動し得る。押出しロッド６０，７２及び引
張りロッド２２，２４，５６，５８は直動スライダ（図
示せず）によって必要な直線往復運動可能に作動する。
【００５２】もしワークピース支持体１８，２０，２
６，５２の運動が低圧システムを介してなされる場合、
直動駆動装置も低圧で動作しなければならない。この場
合、スピンドル駆動体７４，７６，７８，８０は筒状ハ
ウジング８２内に収容される。スピンドル駆動体７４，
７６，７８，８０は更に真空型回転リードスルー８４，
８６に連結されているので、駆動モータは大気圧状態で
動作可能である。
６，５２の運動が低圧システムを介してなされる場合、
直動駆動装置も低圧で動作しなければならない。この場
合、スピンドル駆動体７４，７６，７８，８０は筒状ハ
ウジング８２内に収容される。スピンドル駆動体７４，
７６，７８，８０は更に真空型回転リードスルー８４，
８６に連結されているので、駆動モータは大気圧状態で
動作可能である。
【００５３】電動モータによってスピンドル駆動体７
４，７６，７８，８０を駆動する構成に代えて、ポジシ
ョンコントロール空気圧又は油圧シリンダを押出しロッ
ド及び引張りロッド３６，３８，４０，４２，６０，６
２，２２，２４，５６，５８を駆動するために用いるこ
ともできる。
４，７６，７８，８０を駆動する構成に代えて、ポジシ
ョンコントロール空気圧又は油圧シリンダを押出しロッ
ド及び引張りロッド３６，３８，４０，４２，６０，６
２，２２，２４，５６，５８を駆動するために用いるこ
ともできる。
【００５４】ワークピース支持体は、図２，３に例とし
て支持体２６を示してある通り、ブロック状の角隅部材
８８，９０，９２，９４を有し、これら角隅部材は前述
したように対をなす押出しロッド３６，３８，４０，４
２の作動部材４４，４６，４８，５０と係合する溝等で
構成された凹陥部などの係合受部を有する。各角隅部材
８８，９０，９２，９４からスパイク９６，９８が延出
し、セラミックのロッド１００，１０２，１０４，１０
６を含むフレーム部材を支承し、角隅部材とともにワー
クピース支持体３８のフレームを構成する。フレーム自
体は張設部材１０８，１１０によって保持され、該張設
部材は、対角線上に対向する両角隅部材８８，９２；９
０，９４に連結されている。
て支持体２６を示してある通り、ブロック状の角隅部材
８８，９０，９２，９４を有し、これら角隅部材は前述
したように対をなす押出しロッド３６，３８，４０，４
２の作動部材４４，４６，４８，５０と係合する溝等で
構成された凹陥部などの係合受部を有する。各角隅部材
８８，９０，９２，９４からスパイク９６，９８が延出
し、セラミックのロッド１００，１０２，１０４，１０
６を含むフレーム部材を支承し、角隅部材とともにワー
クピース支持体３８のフレームを構成する。フレーム自
体は張設部材１０８，１１０によって保持され、該張設
部材は、対角線上に対向する両角隅部材８８，９２；９
０，９４に連結されている。
【００５５】フレーム部材をなすセラミックのロッド１
００，１０２，１０４，１０６は、角隅部材８８，９
０，９２，９４を越えて、少なくとも外方、下側及び上
側に突出した形状及び直径を有しているので、これらの
ロッドよりなるフレームは、図１に示すごとき構成の搬
入／搬出用の軌道を形成するガイドレール上でスライド
自在に支持される。上記ロッドの材質としてセラミック
以外の材質のものも用い得る。
００，１０２，１０４，１０６は、角隅部材８８，９
０，９２，９４を越えて、少なくとも外方、下側及び上
側に突出した形状及び直径を有しているので、これらの
ロッドよりなるフレームは、図１に示すごとき構成の搬
入／搬出用の軌道を形成するガイドレール上でスライド
自在に支持される。上記ロッドの材質としてセラミック
以外の材質のものも用い得る。
【００５６】図３に示すワークピース支持体２６の平面
図からわかるように、該支持体２６上には多数の扁平な
対象物１１を載置することができ、これら対象物は処理
装置１０内で同時にコーティング等の処理が施される。
図からわかるように、該支持体２６上には多数の扁平な
対象物１１を載置することができ、これら対象物は処理
装置１０内で同時にコーティング等の処理が施される。
【００５７】図４には図３に示したワークピース支持体
２６の一部を拡大し、同じ構成部分に同一の参照番号を
付して示してある。
２６の一部を拡大し、同じ構成部分に同一の参照番号を
付して示してある。
【００５８】バネ１１２によって付勢されたワイヤ１１
４は、支持体のための支承手段として、両フレーム部材
１０２，１０４の間に張設され、張設部材を構成する。
バネ１１２は角隅部片８８，９４；９０，９２に連結さ
れたロッド１１６から延出している。ワイヤ１１４上に
は金属球よりなる点状の固定部材１２０，１２２が所定
の間隔をおいてプレス加工により取り付け固定されてい
る。これによって、対象物１１１，１２４の位置が決め
られる。従って、扁平な対象物１１１，１２４がワイヤ
１１４によって形成された支持体２６の載置面上で、不
用意にずれることが阻止され各対象物どうしの間隔が維
持される。
４は、支持体のための支承手段として、両フレーム部材
１０２，１０４の間に張設され、張設部材を構成する。
バネ１１２は角隅部片８８，９４；９０，９２に連結さ
れたロッド１１６から延出している。ワイヤ１１４上に
は金属球よりなる点状の固定部材１２０，１２２が所定
の間隔をおいてプレス加工により取り付け固定されてい
る。これによって、対象物１１１，１２４の位置が決め
られる。従って、扁平な対象物１１１，１２４がワイヤ
１１４によって形成された支持体２６の載置面上で、不
用意にずれることが阻止され各対象物どうしの間隔が維
持される。
【００５９】ワークピース支持体は、上記実施形態のご
とく、２つの異なる支持体を用いる代わりに、単一の支
持体でも可能である。この場合、押出しロッドには、折
りたたみ可能なつめ部材あるいは回転型の作動部材を備
えるようにすればよい。これによって解放され、復帰す
る押出しロッドと対をなす第２の押出しロッドによって
押し出された後端の支持体との相互干渉を回避すること
ができる。
とく、２つの異なる支持体を用いる代わりに、単一の支
持体でも可能である。この場合、押出しロッドには、折
りたたみ可能なつめ部材あるいは回転型の作動部材を備
えるようにすればよい。これによって解放され、復帰す
る押出しロッドと対をなす第２の押出しロッドによって
押し出された後端の支持体との相互干渉を回避すること
ができる。
【００６０】以上、本発明の一実施形態について説明し
たが、本発明はこの構成に限定されるものではなく、種
々の変形構成を含み得るものである。
たが、本発明はこの構成に限定されるものではなく、種
々の変形構成を含み得るものである。
【図１】扁平な処理対象物を処理する本発明の装置の原
理的構成を示す平面図である。
理的構成を示す平面図である。
【図２】ワークピース支持体を前側から見た側面図であ
る。
る。
【図３】ワークピース支持体を上面より見た平面図であ
る。
る。
【図４】図３に示すワークピース支持体の要部拡大図で
ある。
ある。
１０ 処理装置 １６ 搬送路 １８，２０，２６，５２ ワークピース支持体 ２２，２４ 引張りロッド（受渡し装置） ３６，３８，４０，４２ 押出しロッド（第１の搬送装
置） ４４，４６，４８，５０ 作動部材 ５６，５８ 引張りロッド（第２の搬送装置） ６０，６２ 押出しロッド（受渡し装置） ７４，７６，７８，８０ スピンドル駆動体 ８８，９０，９２，９４ 角隅部材 １１１，１２４ 処理対象物
置） ４４，４６，４８，５０ 作動部材 ５６，５８ 引張りロッド（第２の搬送装置） ６０，６２ 押出しロッド（受渡し装置） ７４，７６，７８，８０ スピンドル駆動体 ８８，９０，９２，９４ 角隅部材 １１１，１２４ 処理対象物
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 アルミン・アベール オーストラリア、ボタニー・エヌエスダブ リュー 2019、フアブリー・ストリート ８／10 (72)発明者 リヒアルト・アウアー ドイツ連邦共和国、91074 ヘルツオーゲ ン−アウラッハ、ベルンハルト−デイーツ −ベーク 25 (72)発明者 グイド・ハルバッハ ドイツ連邦共和国、30167 ハノーフアー、 ネルケンシュトラーセ 30 (72)発明者 マヌエル・カネ ドイツ連邦共和国、32689 カレタール、 テーフエンハウザーシュトラーセ 19 (72)発明者 ハノ・パシュケ ドイツ連邦共和国、30451 ハノーフアー、 コメニウスシュトラーセ ８ (72)発明者 イエンス・モシュナー ドイツ連邦共和国、27404 ツエーフエン、 バウエラー・ベーク 19
Claims (23)
- 【請求項１】シリコンウエーハの半導体ウエーハ等の扁
平な対象物の表面処理のために、処理装置内において該
対象物を連続処理する方法であって、該対象物を直線的
往復運動を行わせる第１の搬送装置によって、該処理装
置を通して配置された搬送路に沿って移動させるととも
に、該対象物を受渡し装置を介して該搬送路上に受渡
し、あるいは該搬送路から取り出してなる方法におい
て、前記対象物を支持体上に配置し、該支持体を前記少
なくとも２つの直線的往復運動を行わせる第１の搬送装
置によって、該搬送路上に列装するとともに、次いで処
理装置に連続して搬送し、前記支持体の列装及び連続し
た搬送によって、該第１の搬送装置の１つが該搬送路上
に受け渡された支持体を該搬送路上にある支持体に対し
て列装させる一方、該第１の搬送装置の他方の搬送装置
が、その前に列装された支持体を連続して搬送するよう
にしてなることを特徴とする方法。 - 【請求項２】該処理装置から離れた支持体を、第２の搬
送装置によって、列装状態で残されている他の支持体か
ら分離するとともに該搬送路から該支持体を取り出す受
渡し装置上に向けてなることを特徴とする請求項１に記
載の方法。 - 【請求項３】該支持体を該処理装置を通して、おおむね
一定の速度で搬送することを特徴とする請求項１に記載
の方法。 - 【請求項４】前記直線的往復運動を行わせる第１の搬送
装置として、対をなす押出しロッド等の押圧体を用いて
なる請求項１に記載の方法。 - 【請求項５】前記第２の搬送装置として、対をなす押出
しロッド等の押圧体で構成され直線的往復運動を行わせ
る搬送装置を用いてなることを特徴とする請求項２に記
載の方法。 - 【請求項６】複数の対象物を１つの支持体上に配置して
搬送路に沿って搬送することを特徴とする請求項１に記
載の方法。 - 【請求項７】シリコンウエーハの半導体ウエーハ等の扁
平な対象物（１１１，１２４）であって支持体（１８，
２０，２６，５２）上に配置された処理対象物の表面処
理等の連続処理を行う装置であって、処理装置（１０）
を通して配置された搬送路（１６）と、該支持体を該搬
送路上に受渡し、あるいは該搬送路から取り出すための
受渡し装置（２２，２４，６０，６２）とを有するもの
において、対象物を支持する支持体（２６）を搬送する
ために、搬送路（１６）に対して、前記処理装置（１
０）の前側において、直線的往復運動を行わせる少なく
とも２つの第１の搬送装置（３６，３８；４０，４２）
が対応配置され、該第１の搬送装置は個々の支持体（２
６）を搬送路上に列装された支持体（１８，２０）に対
して順次規則的に列装させるとともに、列装されたこれ
ら支持体を処理装置に連続して搬送し、処理された対象
物を支持する支持体（５２）の搬送のために、該搬送路
に対して少なくとも１つの第２の搬送装置（５６，５
８）が対応配置され、該第２の搬送装置は該支持体を搬
送路から取り出して前記受渡し装置（６０，６２）に対
して向けるために列装された支持体を分離してなること
を特徴とする装置。 - 【請求項８】すでに列装された支持体（５２）を分離す
るために該搬送路（１６）に対して対応配置された第２
の搬送装置は、直線的往復運動を行う搬送装置（５６，
５８）よりなることを特徴とする請求項７に記載の装
置。 - 【請求項９】前記第１の搬送装置は、スピンドル駆動体
又は空気圧ないし油圧作動のシリンダ等を介して駆動さ
れる対をなす押出しロッド（３６，３８；４０，４２）
を含んでなることを特徴とする請求項７に記載の装置。 - 【請求項１０】前記第２の搬送装置は、スピンドル駆動
体又は空気圧ないし油圧作動のシリンダ等を介して駆動
される対をなす引張りロッド（５６，５８）を含んでな
ることを特徴とする請求項８に記載の装置。 - 【請求項１１】搬送路（１６）上に支持体（２６）を受
渡し、ないしは該搬送路から支持体を取り出すために、
前記受渡し装置は、押出しロッド又は引張りロッド等の
直線的往復運動を行わせる搬送装置（２２，２４，６
０，６２）よりなることを特徴とする請求項７に記載の
装置。 - 【請求項１２】前記支持体（２６）は、該搬送路（１
６）を構成するガイドレール（１２，１４）によって支
承されるフレームを備えることを特徴とする請求項７に
記載の装置。 - 【請求項１３】前記フレームは、角隅部材（８８，９
０，９２，９４）と、これら部材を連結するフレーム部
材（１００，１０２，１０４，１０６）を含み、対角線
上に対向配置された角隅部材が張設部材（１０８，１１
０）を介して相互に連結されてなることを特徴とする請
求項１２に記載の装置。 - 【請求項１４】前記フレーム部材（１００，１０２，１
０４，１０６）は、搬送路（１６）を構成するガイドレ
ール（１２，１４）上で滑動自在に支承されてなること
を特徴とする請求項１３に記載の装置。 - 【請求項１５】対象物（１１１，１２４）の支承手段と
して、互いに平行をなすとともにバネ（１１２）を介し
て張設された複数のワイヤ（１１４）等よりなる張設部
材が前記フレームから延出してなることを特徴とする請
求項１２に記載の装置。 - 【請求項１６】対象物（１２４）を固定するためにプレ
ス加工で取り付けられた金属球等よりなる固定部材（１
２０，１２２）が張設部材（１１４）から突出してなる
ことを特徴とする請求項１５に記載の装置。 - 【請求項１７】前記搬送路（１６）上で列装された支持
体（１８，２０）は、前記第１の搬送装置（３６，３
８；４０，４２）と係合するために対応した係合受部を
備えてなることを特徴とする請求項７に記載の装置。 - 【請求項１８】前記一方の第１の搬送装置により把持さ
れた支持体が、該他方の第１の搬送装置によっては把持
されない状態を維持するとともに、該他方の第１の搬送
装置により把持された場合には該一方の第１の搬送装置
により把持されない状態を維持するように、該第１の搬
送装置（３６，３８；４０，４２）が支持体（１８，２
０）に対して対応ないし非対応となるように構成されて
なることを特徴とする請求項７に記載の装置。 - 【請求項１９】前記第１の搬送装置は、プランジャー又
はロッド等で構成された少なくとも１つの押圧体（３
６，３８；４０，４２）を備え、該押圧体は係合部材を
有し、該係合部材はその自由端に尖端係合部を有し、該
尖端係合部は支持体の係合受部に係合してなることを特
徴とする請求項７に記載の装置。 - 【請求項２０】互いに列をなす支持体（１８，２０）の
内、搬送方向に沿って見て第１の支持体は、搬送方向に
対して平行で前記第１の搬送装置（３６，３８；４０，
４２）の１つによって、貫挿可能な溝等で構成された凹
所を有し、該凹所は搬送方向において先行した支持体の
係合受部に整合してなることを特徴とする請求項７に記
載の装置。 - 【請求項２１】前記第２の搬送装置（５６，５８）は、
つめ部片等で構成された磁気的又は機械的連結部材を介
して支持体（５２）と解離可能に連結し得ることを特徴
とする請求項７に記載の装置。 - 【請求項２２】前記第２の搬送装置（５６，５８）は、
支持体（５２）と共働する領域において電磁石を備え、
該電磁石は、支持体側に設けられたフエライト部材と共
働してなることを特徴とする請求項７に記載の装置。 - 【請求項２３】前記複数の支持体は同一に構成され、押
圧体として構成された第１の搬送装置は、順次列装され
た複数の支持体を交互に把持するために、可動のつめ部
片又は回転可能な係合部材を備えてなることを特徴とす
る請求項７に記載の装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19907601A DE19907601A1 (de) | 1999-02-22 | 1999-02-22 | Verfahren sowie Anordnung zum kontinuierlichen Behandeln von Gegenständen |
| DE19907601.4 | 1999-02-22 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000243810A true JP2000243810A (ja) | 2000-09-08 |
| JP4502443B2 JP4502443B2 (ja) | 2010-07-14 |
Family
ID=7898457
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000044811A Expired - Fee Related JP4502443B2 (ja) | 1999-02-22 | 2000-02-22 | 対象物を連続処理する方法及び装置 |
Country Status (8)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6422798B1 (ja) |
| EP (1) | EP1032023B1 (ja) |
| JP (1) | JP4502443B2 (ja) |
| AT (1) | ATE372589T1 (ja) |
| DE (2) | DE19907601A1 (ja) |
| DK (1) | DK1032023T3 (ja) |
| ES (1) | ES2292385T3 (ja) |
| PT (1) | PT1032023E (ja) |
Families Citing this family (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE50200399D1 (de) * | 2002-04-15 | 2004-06-03 | Rena Sondermaschinen Gmbh | Transportrollen, Niederhalter und Transportsystem für flaches Transportgut |
| US7789660B2 (en) * | 2005-12-07 | 2010-09-07 | Ajax Tocco Magnethermic Corporation | Furnace alignment system |
| US7507087B2 (en) * | 2005-12-07 | 2009-03-24 | Ajax Tocco Manethermic Corporation | Method and apparatus to provide continuous movement through a furnace |
| DE102006034492B4 (de) * | 2006-07-21 | 2014-06-26 | Teamtechnik Maschinen Und Anlagen Gmbh | Solarzellen-Verbindungsanlage |
| DE602007006147D1 (de) | 2007-02-02 | 2010-06-10 | Applied Materials Inc | Prozesskammer, Inline-Beschichtungsanlage und Verfahren zur Behandlung eines Substrats |
| TWI333930B (en) * | 2007-06-15 | 2010-12-01 | King Yuan Electronics Co Ltd | Tray transportation device |
| DE102009003393A1 (de) * | 2009-01-27 | 2010-07-29 | Schott Solar Ag | Verfahren zur Temperaturbehandlung von Halbleiterbauelementen |
| DE102009008371A1 (de) * | 2009-02-11 | 2010-08-12 | Schott Solar Ag | Integraler Prozeß von Waferherstellung bis Modulfertigung zur Herstellung von Wafern, Solarzellen und Solarmodulen |
| CN117443852B (zh) * | 2023-12-22 | 2024-03-12 | 山东欧创电气有限公司 | 一种纤维墙板的吸尘装置 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6322422A (ja) * | 1986-07-15 | 1988-01-29 | Tsubakimoto Chain Co | 複数連接台枠の連続押送装置 |
Family Cites Families (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3973665A (en) * | 1975-03-07 | 1976-08-10 | Gca Corporation | Article delivery and transport apparatus for evacuated processing equipment |
| JPS6026662A (ja) * | 1983-07-21 | 1985-02-09 | バルツエルス・アクチエンゲゼルシヤフト | 材料担体を使用する真空スライド装置 |
| KR0133676B1 (ko) * | 1987-12-07 | 1998-04-23 | 후세 노보루 | 웨이퍼 이동 교체 장치 및 방법 |
| DE4303462C2 (de) * | 1992-03-30 | 1994-03-31 | Leybold Ag | Mehrkammerbeschichtungsanlage |
| US5382126A (en) | 1992-03-30 | 1995-01-17 | Leybold Ag | Multichamber coating apparatus |
| JPH1067429A (ja) * | 1996-08-27 | 1998-03-10 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板搬送装置 |
| JP3689215B2 (ja) * | 1997-02-20 | 2005-08-31 | 株式会社ルネサステクノロジ | 半導体デバイスのテスト用搬送装置 |
| US6235634B1 (en) * | 1997-10-08 | 2001-05-22 | Applied Komatsu Technology, Inc. | Modular substrate processing system |
| US6213704B1 (en) * | 1998-05-20 | 2001-04-10 | Applied Komatsu Technology, Inc. | Method and apparatus for substrate transfer and processing |
| US6206176B1 (en) * | 1998-05-20 | 2001-03-27 | Applied Komatsu Technology, Inc. | Substrate transfer shuttle having a magnetic drive |
-
1999
- 1999-02-22 DE DE19907601A patent/DE19907601A1/de not_active Withdrawn
-
2000
- 2000-02-10 EP EP00102733A patent/EP1032023B1/de not_active Expired - Lifetime
- 2000-02-10 ES ES00102733T patent/ES2292385T3/es not_active Expired - Lifetime
- 2000-02-10 PT PT00102733T patent/PT1032023E/pt unknown
- 2000-02-10 DK DK00102733T patent/DK1032023T3/da active
- 2000-02-10 AT AT00102733T patent/ATE372589T1/de not_active IP Right Cessation
- 2000-02-10 DE DE50014616T patent/DE50014616D1/de not_active Expired - Lifetime
- 2000-02-22 US US09/507,899 patent/US6422798B1/en not_active Expired - Fee Related
- 2000-02-22 JP JP2000044811A patent/JP4502443B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6322422A (ja) * | 1986-07-15 | 1988-01-29 | Tsubakimoto Chain Co | 複数連接台枠の連続押送装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP4502443B2 (ja) | 2010-07-14 |
| PT1032023E (pt) | 2007-12-11 |
| ES2292385T3 (es) | 2008-03-16 |
| EP1032023A2 (de) | 2000-08-30 |
| US6422798B1 (en) | 2002-07-23 |
| EP1032023B1 (de) | 2007-09-05 |
| DE19907601A1 (de) | 2000-08-31 |
| ATE372589T1 (de) | 2007-09-15 |
| DE50014616D1 (de) | 2007-10-18 |
| EP1032023A3 (de) | 2004-05-19 |
| DK1032023T3 (da) | 2008-01-07 |
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| Date | Code | Title | Description |
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| A621 | Written request for application examination |
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| A131 | Notification of reasons for refusal |
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| A601 | Written request for extension of time |
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|
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| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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