JPS6026662A - 材料担体を使用する真空スライド装置 - Google Patents
材料担体を使用する真空スライド装置Info
- Publication number
- JPS6026662A JPS6026662A JP9441284A JP9441284A JPS6026662A JP S6026662 A JPS6026662 A JP S6026662A JP 9441284 A JP9441284 A JP 9441284A JP 9441284 A JP9441284 A JP 9441284A JP S6026662 A JPS6026662 A JP S6026662A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- material carrier
- backing
- vacuum
- carrier
- slide
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/18—Vacuum locks ; Means for obtaining or maintaining the desired pressure within the vessel
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
- C23C14/564—Means for minimising impurities in the coating chamber such as dust, moisture, residual gases
- C23C14/566—Means for minimising impurities in the coating chamber such as dust, moisture, residual gases using a load-lock chamber
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
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- Materials Engineering (AREA)
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- Organic Chemistry (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、材料担体の形状に合致した断面形状を有する
スライド・チャンネルと、材料担体とスライド・チャン
ネルの壁面との間を封止するバッキングとを備えた、材
料を真空室に搬入するとともに、真空管から材料を搬出
する材料担体を使用するタイプの真空スライド装置に関
する。このような真空スライド装置の構成例がすでに米
国特許第３．４８６．３６５号に開示されている。この
特許ではスライド・チャンネルとしてトンネルが使用さ
れていて、被検査材料（たとえば、トランジスター）を
収容する円筒状容器として設計された材料担体が前記ト
ンネルを通って移動するようになっている。この構成例
の場合、トンネルの内壁に取り付けられたリング・バッ
キングにより真空封止を行なうようにされている。２つ
のリング・バッキングの間にトンネルを通過する材料担
体と協働して密閉された室が作られ、該室にそれぞれ専
用の真空ポンプが接続されているので、圧力段が形成さ
れる。この装置を使用すれば、材料担体と該材料担体に
より担持されている真空雰囲気内で処理すべき材料とを
複数の圧力段を通って真空処理チャンバーに搬入すると
ともに、該真空処理チャンバーから搬出することが可能
である。
スライド・チャンネルと、材料担体とスライド・チャン
ネルの壁面との間を封止するバッキングとを備えた、材
料を真空室に搬入するとともに、真空管から材料を搬出
する材料担体を使用するタイプの真空スライド装置に関
する。このような真空スライド装置の構成例がすでに米
国特許第３．４８６．３６５号に開示されている。この
特許ではスライド・チャンネルとしてトンネルが使用さ
れていて、被検査材料（たとえば、トランジスター）を
収容する円筒状容器として設計された材料担体が前記ト
ンネルを通って移動するようになっている。この構成例
の場合、トンネルの内壁に取り付けられたリング・バッ
キングにより真空封止を行なうようにされている。２つ
のリング・バッキングの間にトンネルを通過する材料担
体と協働して密閉された室が作られ、該室にそれぞれ専
用の真空ポンプが接続されているので、圧力段が形成さ
れる。この装置を使用すれば、材料担体と該材料担体に
より担持されている真空雰囲気内で処理すべき材料とを
複数の圧力段を通って真空処理チャンバーに搬入すると
ともに、該真空処理チャンバーから搬出することが可能
である。
一方、バッキングにより互に遮断された複数の圧力段を
有する真空スライド装置も公知である。
有する真空スライド装置も公知である。
しかし、このような公知の真空スライド装置の欠点は、
材料担体がバッキングに接触して摺動する間、はこりや
その他よごれた異物がノくツキングに付着し、徐々にバ
ッキングに堆積するとともに、堆積したほこりやその他
よごれた異物のため材料担体と材料をよごすおそれがあ
ることである。従来の真空コーティング技術ではノくン
キングから被覆すべき基材上にごみが落下し、このため
のちほど実施されるコーティング作業のさい欠陥が生じ
るおそれがあった。従来の真空スライド装置の別の欠点
は、バッキングの比較的小さい損傷のため生じる漏洩が
別の異なった要因により生じたものと判断されるおそれ
があるため、このような小さいバンキングの損傷を容易
に検知することができず、このため不具合の原因をつき
とめるのに非常に時間を要することがしばしばであるこ
とである。
材料担体がバッキングに接触して摺動する間、はこりや
その他よごれた異物がノくツキングに付着し、徐々にバ
ッキングに堆積するとともに、堆積したほこりやその他
よごれた異物のため材料担体と材料をよごすおそれがあ
ることである。従来の真空コーティング技術ではノくン
キングから被覆すべき基材上にごみが落下し、このため
のちほど実施されるコーティング作業のさい欠陥が生じ
るおそれがあった。従来の真空スライド装置の別の欠点
は、バッキングの比較的小さい損傷のため生じる漏洩が
別の異なった要因により生じたものと判断されるおそれ
があるため、このような小さいバンキングの損傷を容易
に検知することができず、このため不具合の原因をつき
とめるのに非常に時間を要することがしばしばであるこ
とである。
いずれにせよ、スライド・チャンネル内に取り付けられ
たバンキングを掃除したり検査するため、バッキングを
ひんばんに取り付け、取りはずすことが必要である。こ
のようなバンキングの取り付け、取りはずしはめんどう
であるだけでなく、生産活動を停止させるので、経済的
な損失を招く。
たバンキングを掃除したり検査するため、バッキングを
ひんばんに取り付け、取りはずすことが必要である。こ
のようなバンキングの取り付け、取りはずしはめんどう
であるだけでなく、生産活動を停止させるので、経済的
な損失を招く。
したがって、本発明の目的は、当初に挙げたタイプの真
空スライド装置であって、スライド・チャンネルとバッ
キングを容易に監視することができるとともに、クリー
ンに保持することができるよう構成された真空スライド
装置を提供することである。上記の目的を達成するため
、バッキングが材料担体に固定されていて、材料担体と
いっしょにスライド・チャンネルを通過することができ
るよう構成されていることを特徴とする真空スライド装
置が本発明に従がって提案されたのである。
空スライド装置であって、スライド・チャンネルとバッ
キングを容易に監視することができるとともに、クリー
ンに保持することができるよう構成された真空スライド
装置を提供することである。上記の目的を達成するため
、バッキングが材料担体に固定されていて、材料担体と
いっしょにスライド・チャンネルを通過することができ
るよう構成されていることを特徴とする真空スライド装
置が本発明に従がって提案されたのである。
利料担体といっしょにバッキングがスライド・チャンネ
ルを通過するようにされているので、バンキングを付設
せしめた材料担体をスライド・チャンネルの中に導びぎ
入れるまえに簡単に観察することにより各バンキングが
クリーンであるかどうかまた劣化していないかどうかを
検査することが可能である。生産活動が継続して℃・る
間に上述の観察を行なうことができ、しかも生産活動を
中断することをいっさい必要としない。必要な場合、材
料担体をスライド・チャンネルの中に挿入するまえにバ
ッキングの掃除を容易に行なうことかできる。本発明に
係るスライド・チャンネルの場合、スライド・チャンネ
ルの内壁面にノくノキングを取り付けるようになってい
す、したがってスライド・チャンネルの内壁面に溝また
は保持装置を用意することを必要としないから、本発明
装置の（・ま１つの特長は、スライド・チャンネルの内
壁面が完全にフラツトに作られているので、はこりやよ
ごれた異物が堆積するおそれがないことであるＱそのほ
か、スライド・チャンネルの内壁面は該内壁面に接面し
て摺動するバンキングにより継続的に掃除され、ポリッ
シュされるので、運転の間、内壁面をつねにクリーンな
状態に保持することができる。
ルを通過するようにされているので、バンキングを付設
せしめた材料担体をスライド・チャンネルの中に導びぎ
入れるまえに簡単に観察することにより各バンキングが
クリーンであるかどうかまた劣化していないかどうかを
検査することが可能である。生産活動が継続して℃・る
間に上述の観察を行なうことができ、しかも生産活動を
中断することをいっさい必要としない。必要な場合、材
料担体をスライド・チャンネルの中に挿入するまえにバ
ッキングの掃除を容易に行なうことかできる。本発明に
係るスライド・チャンネルの場合、スライド・チャンネ
ルの内壁面にノくノキングを取り付けるようになってい
す、したがってスライド・チャンネルの内壁面に溝また
は保持装置を用意することを必要としないから、本発明
装置の（・ま１つの特長は、スライド・チャンネルの内
壁面が完全にフラツトに作られているので、はこりやよ
ごれた異物が堆積するおそれがないことであるＱそのほ
か、スライド・チャンネルの内壁面は該内壁面に接面し
て摺動するバンキングにより継続的に掃除され、ポリッ
シュされるので、運転の間、内壁面をつねにクリーンな
状態に保持することができる。
材料担体に固定されていて、該羽村担体といつしよにス
ライド・チャンネルを通過するバッキングとして従来公
知のリップ・バンキングがとくに効果的であることが実
証されている。
ライド・チャンネルを通過するバッキングとして従来公
知のリップ・バンキングがとくに効果的であることが実
証されている。
以下、本発明の実施例を図解した添付図面を参照しなが
ら本発明の詳細な説明する。
ら本発明の詳細な説明する。
第１図において、参照数字１は真空コーティング・チャ
ンバーを示し、この真空コーティング・チャンバーの中
で材料担体２により担体された材料、たとえば、ガラス
板が蒸気源３から放出された蒸気ｉ４によりコーティン
グされる。蒸気源３は熱的な蒸気源でもよく、あるいは
、たとえば、上から下に向かってコーティングを行なう
のにとくに適した従来公知のカソード・アトマイジング
装置であってもよい。真空コーティング・チャンノ５−
１は、被覆工程を実施するに必要な真空を発生する高真
空ポンプ６と前段真空ポンプ７より成る真空装置に管路
５をへて接続されている。
ンバーを示し、この真空コーティング・チャンバーの中
で材料担体２により担体された材料、たとえば、ガラス
板が蒸気源３から放出された蒸気ｉ４によりコーティン
グされる。蒸気源３は熱的な蒸気源でもよく、あるいは
、たとえば、上から下に向かってコーティングを行なう
のにとくに適した従来公知のカソード・アトマイジング
装置であってもよい。真空コーティング・チャンノ５−
１は、被覆工程を実施するに必要な真空を発生する高真
空ポンプ６と前段真空ポンプ７より成る真空装置に管路
５をへて接続されている。
材料担体２α、２１）、’；ｌｃ等を搬入するためにス
ライド・チャンネル８が用意されており、図示の実施例
では管路１１と１２が２つの位置９と１０でスライド・
チャンネル８に開口している。なお、前記管路１１と１
２は高真空ポンプ１３α、１３ｈと前段真空ポンプ１４
α、１４ｈより成る補助ポンプ・スタンドに接続されて
いる。この補助ポンプ・スタンドは入口１５かも真空コ
ーティング・チャンバー１に向かって圧力が下がるよう
従来公知の要領でスライド・チャンネル８内に圧力段を
形成している。
ライド・チャンネル８が用意されており、図示の実施例
では管路１１と１２が２つの位置９と１０でスライド・
チャンネル８に開口している。なお、前記管路１１と１
２は高真空ポンプ１３α、１３ｈと前段真空ポンプ１４
α、１４ｈより成る補助ポンプ・スタンドに接続されて
いる。この補助ポンプ・スタンドは入口１５かも真空コ
ーティング・チャンバー１に向かって圧力が下がるよう
従来公知の要領でスライド・チャンネル８内に圧力段を
形成している。
被処理材料を搬出するため同じ要領でスライド・チャン
ネルが作られている。搬出側でも圧力段を作るため２つ
のポンプ管路１７αと１７ ｂが設けられていて、この
うちポンプ管路１７αは高真空ポンプ１８と前段真空ポ
ンプ１９より成る補助ポンプ・スタンドと接続されてお
り、一方、管路１７Ａは、図示のごとく、高真空ポンプ
１．３ ｂと前段真空ポンプ１４Ａより成る補助ポンプ
・スタンドに導びがれている。
ネルが作られている。搬出側でも圧力段を作るため２つ
のポンプ管路１７αと１７ ｂが設けられていて、この
うちポンプ管路１７αは高真空ポンプ１８と前段真空ポ
ンプ１９より成る補助ポンプ・スタンドと接続されてお
り、一方、管路１７Ａは、図示のごとく、高真空ポンプ
１．３ ｂと前段真空ポンプ１４Ａより成る補助ポンプ
・スタンドに導びがれている。
第２図に示されている材料担体は搬出すべきプレート状
の材料２３を収容するへこみ２２を備えたプレート２１
より成り、材料がプレート２１の上面より上に突出しな
いようへこみ２３は材料の形状にあわせて寸法ぎめされ
ている。プレート２１のうち（移動方向に見て）前縁部
に先細に傾斜した案内面２４が形成されていて、プレー
ト２１がスライド・チャンネルを通過する間、プレート
２１にごくわずかでも張りひろがりが生じることを防止
するようになっている。一方、材料担体とスライド・チ
ャンネルの壁面との間で封止状態を確保するため、プレ
ート２１の後縁部にバッキング２５が設けられている。
の材料２３を収容するへこみ２２を備えたプレート２１
より成り、材料がプレート２１の上面より上に突出しな
いようへこみ２３は材料の形状にあわせて寸法ぎめされ
ている。プレート２１のうち（移動方向に見て）前縁部
に先細に傾斜した案内面２４が形成されていて、プレー
ト２１がスライド・チャンネルを通過する間、プレート
２１にごくわずかでも張りひろがりが生じることを防止
するようになっている。一方、材料担体とスライド・チ
ャンネルの壁面との間で封止状態を確保するため、プレ
ート２１の後縁部にバッキング２５が設けられている。
材料担体に取り付けられていて、材料担体といっしょに
スライド・チャンネルを通って移動するようにされたバ
ッキング２５は、図示の実施例では、リップ・バッキン
グとして設計されているので、（断面が矩形を呈してい
る）ス、ライド・チャンネルの４つの側面ずべてに接面
して封止を行なうことができる。図面を見ればよく判る
ように、リップ・バッキングの４つの封止エツジにより
円錐体状の空所が凹設されているので、入１コ１５をへ
て多数の材料担体がスライド・チャンネルの中に順々に
挿入されると、後続の羽村担体の先細に傾斜した前部の
案内面が前記円錐体状の空所に係合し、これに伴なって
リップ・バッキングのエツジがスライド・チャンネルの
壁面に押圧されるようになるから、比較的大きい封止力
が作用した状態で封止を行なうことができる。
スライド・チャンネルを通って移動するようにされたバ
ッキング２５は、図示の実施例では、リップ・バッキン
グとして設計されているので、（断面が矩形を呈してい
る）ス、ライド・チャンネルの４つの側面ずべてに接面
して封止を行なうことができる。図面を見ればよく判る
ように、リップ・バッキングの４つの封止エツジにより
円錐体状の空所が凹設されているので、入１コ１５をへ
て多数の材料担体がスライド・チャンネルの中に順々に
挿入されると、後続の羽村担体の先細に傾斜した前部の
案内面が前記円錐体状の空所に係合し、これに伴なって
リップ・バッキングのエツジがスライド・チャンネルの
壁面に押圧されるようになるから、比較的大きい封止力
が作用した状態で封止を行なうことができる。
本発明の別の実施態様として、スライド・チャンネルの
適所に補助ガスを導入するようにされている。第１図に
参照すれば、補助ガス導管２６と２７が設けられている
。補助ガスを導入する目的は、スライド・チャンネルを
通って処理チャンバーの中に空気が侵入することをさら
に困難に・させることである。大気圧を若干上回わった
圧力で入口の近傍で補助ガスを導びき入れると、補助ガ
スは両側、すなわち、（入口１５と出口２０から）外部
の大気の方に向かって流れるとともに、真空チャンバー
の方に向かっても流れる。この場合、圧力段を形成する
ために使用される補助真空ポンプの排気能力と材料担体
に付設されたバッキングの封止能力により決定される非
常に低いレベルの補助ガス圧力が真空チャンバー内に現
われるだけである。処理チャンバー内で実施される工程
に不利な影響を及ぼさないよう補助ガスが選択される。
適所に補助ガスを導入するようにされている。第１図に
参照すれば、補助ガス導管２６と２７が設けられている
。補助ガスを導入する目的は、スライド・チャンネルを
通って処理チャンバーの中に空気が侵入することをさら
に困難に・させることである。大気圧を若干上回わった
圧力で入口の近傍で補助ガスを導びき入れると、補助ガ
スは両側、すなわち、（入口１５と出口２０から）外部
の大気の方に向かって流れるとともに、真空チャンバー
の方に向かっても流れる。この場合、圧力段を形成する
ために使用される補助真空ポンプの排気能力と材料担体
に付設されたバッキングの封止能力により決定される非
常に低いレベルの補助ガス圧力が真空チャンバー内に現
われるだけである。処理チャンバー内で実施される工程
に不利な影響を及ぼさないよう補助ガスが選択される。
補助ガスとしてアルゴンのごとき不活性ガスが使用され
るが、真空コーチイン１グ技術により材料の表面層を若
干酸化させなければならない場合、酸素のごとき活性ガ
スも使用される。反応性を有する蒸気を作る技術は公知
であるが、本発明の対象をなすものではない。容器の中
に大気中の空気が侵入することを阻止するため、上述の
ように補助ガスを使用することは米国特許第３．ＯＯＯ
，３４６号からも公知である。
るが、真空コーチイン１グ技術により材料の表面層を若
干酸化させなければならない場合、酸素のごとき活性ガ
スも使用される。反応性を有する蒸気を作る技術は公知
であるが、本発明の対象をなすものではない。容器の中
に大気中の空気が侵入することを阻止するため、上述の
ように補助ガスを使用することは米国特許第３．ＯＯＯ
，３４６号からも公知である。
第１図で真空ポンプに付記されている符号は一般に使用
されているものである。さらに詳しく言えば、参照数字
６と１３（Ｚと１８は拡散ポンプを示し、参照数字７と
１４αと１４ｂと１９はロータリ・ディスク式真空ポン
プのごとき機械的な前段真空ポンプを示す。図面に示さ
れているタイプのポンプの代わりに、所要レベルの真空
を発生させることかできる他のタイプの真空ポンプを使
用してもよいことは言うまでもない。
されているものである。さらに詳しく言えば、参照数字
６と１３（Ｚと１８は拡散ポンプを示し、参照数字７と
１４αと１４ｂと１９はロータリ・ディスク式真空ポン
プのごとき機械的な前段真空ポンプを示す。図面に示さ
れているタイプのポンプの代わりに、所要レベルの真空
を発生させることかできる他のタイプの真空ポンプを使
用してもよいことは言うまでもない。
図示の断面形状と異なった材料担体を使用する場合、バ
クキングをこの材料担体の形状に適合させなければなら
ないことは当然のことである。断面が円形または橢円形
を呈している材料担体にあわせてバッキングを構成する
ことは非常に簡単なことである。
クキングをこの材料担体の形状に適合させなければなら
ないことは当然のことである。断面が円形または橢円形
を呈している材料担体にあわせてバッキングを構成する
ことは非常に簡単なことである。
第１図は、コーティングすべき材料を搬入、搬出するた
め特許請求の範囲の第１項に従がって構成されたスライ
ド・チャンネルを使用するタイプの真空コーティング装
置の構成を概念的に図解した断面図。第２図は、第１図
に示されている実施例に係るスライド・チャンネルに適
した材料担体の拡大斜視図。 １・・・真空コーティング・チャンバー、２・・・材料
担体、 ３・・・蒸気源、 ４・・・蒸気流、５・・・
管路、 ６・・・高真空ポンプ、７・・・前段真空ポン
プ、８・・・スライド・チャンネル、９．１０・・・開
口位置、 １１．１２・・・管路、１３α、１３ｂ・・
・高真空ポンプ、 １４ａ、１４Ａ・・・前段真空ポンプ、１５・・・入口
、１７α、１７ｈ・・・ポンプ管路、 １８・・・高真空ポンプ、１９・・・前段真空ポンプ、
２０・・・出口、２１・・・グレート、２２・・・へこ
み、２３・・・プレート状の材料、２４・・・先細に傾
斜した案内図、 ２５・・・バッキング、 ２６．２７・・・補助ガス導
管。 特許出願人ハルツエルス・アクチェンゲゼルシャフト代
理人 弁理士 湯浅恭三ｉ；、−，ｊ（外５名）Ｊ
め特許請求の範囲の第１項に従がって構成されたスライ
ド・チャンネルを使用するタイプの真空コーティング装
置の構成を概念的に図解した断面図。第２図は、第１図
に示されている実施例に係るスライド・チャンネルに適
した材料担体の拡大斜視図。 １・・・真空コーティング・チャンバー、２・・・材料
担体、 ３・・・蒸気源、 ４・・・蒸気流、５・・・
管路、 ６・・・高真空ポンプ、７・・・前段真空ポン
プ、８・・・スライド・チャンネル、９．１０・・・開
口位置、 １１．１２・・・管路、１３α、１３ｂ・・
・高真空ポンプ、 １４ａ、１４Ａ・・・前段真空ポンプ、１５・・・入口
、１７α、１７ｈ・・・ポンプ管路、 １８・・・高真空ポンプ、１９・・・前段真空ポンプ、
２０・・・出口、２１・・・グレート、２２・・・へこ
み、２３・・・プレート状の材料、２４・・・先細に傾
斜した案内図、 ２５・・・バッキング、 ２６．２７・・・補助ガス導
管。 特許出願人ハルツエルス・アクチェンゲゼルシャフト代
理人 弁理士 湯浅恭三ｉ；、−，ｊ（外５名）Ｊ
Claims (5)
- （１）材料担体の形状に合致した断面形状を有するスラ
イド・チャンネルと、材料担体とスライド・チャンネル
の壁面との間を封止するバッキングとを備えた、材料を
真空室に搬入するとともに、真空室から材料を搬出する
羽村担体を使用するタイプの真空スライド装置であって
、バッキングが材料担体に固定されていて、羽村担体と
いっしょにスライド・チャンネルを通過することができ
るよう構成されていることを特徴とする真空スライド装
置。 - （２）バッキングが材料担体に固定され、材料担体とい
っしょに移動するリップ・バッキングとして構成してい
ることを特徴とする特許請求の範囲の第１項記載の真空
スライド装置。 - （３）材料担体がスライド・チャンネルを通過する方向
に見て前部側に先細に傾斜した案内面を備えている一方
、リップ・バッキングが羽村担体の後部側に固定されて
いて、スライド・チャンネルを通過するさい、後続の材
料担体の先細の案内面が係合する円錐体状の空所がリッ
プ・バッキングに凹設されていることを特徴とする特許
請求の範囲の第２項記載の真空スライド装置。 - （４）スライド・チャンネルを通過するさい、後続の材
料担体の前部側が先行の材料担体の後部側に当接して押
し動かすよう、リップ・バッキングと材料担体の前部の
案内面が寸法ぎめされていることを特徴とする特許請求
の範囲の第２項記載の真空スライド装置。 - （５）スライド・チャンネルが少なくとも２つの圧力段
を備えており、スライド・チャンネルに開口している導
管が補助ガスを供給するために設けられていることを特
徴とする特許請求の範囲の第１項記載の真空スライド装
置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CH3994/832 | 1983-07-21 | ||
| CH399483 | 1983-07-21 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6026662A true JPS6026662A (ja) | 1985-02-09 |
Family
ID=4267830
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9441284A Pending JPS6026662A (ja) | 1983-07-21 | 1984-05-11 | 材料担体を使用する真空スライド装置 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6026662A (ja) |
| FR (1) | FR2549452A1 (ja) |
| GB (1) | GB2143910A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011511156A (ja) * | 2008-02-04 | 2011-04-07 | クロネス アクティェンゲゼルシャフト | 真空処理チャンバに容器を送り込み、該チャンバから容器を取り出すためのロック装置 |
Families Citing this family (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0339132A3 (de) * | 1988-02-24 | 1990-07-04 | Balzers Aktiengesellschaft | Vorrichtung zum Speichern von Objekten unter Vakuum |
| FR2697003B1 (fr) * | 1992-10-16 | 1994-11-18 | Commissariat Energie Atomique | Système de manipulation et de confinement d'objets plats dans des boîtes individuelles. |
| ATE129360T1 (de) * | 1992-08-04 | 1995-11-15 | Ibm | Unter druck stehende koppelsysteme zum transferieren von einem halbleiterwafer zwischen einem tragbaren abdichtbaren unter druckstehenden behälter und einer bearbeitungsanlage. |
| DE19824040C1 (de) * | 1998-05-29 | 1999-10-07 | Angew Solarenergie Ase Gmbh | Anordnung sowie Verfahren zum Beschichten von Gegenständen |
| DE19907601A1 (de) | 1999-02-22 | 2000-08-31 | Angew Solarenergie Ase Gmbh | Verfahren sowie Anordnung zum kontinuierlichen Behandeln von Gegenständen |
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|---|---|
| FR2549452A1 (fr) | 1985-01-25 |
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